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JP2008275721A - Liquid crystal device, method for manufacturing the same and electronic equipment - Google Patents

Liquid crystal device, method for manufacturing the same and electronic equipment Download PDF

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JP2008275721A
JP2008275721A JP2007116506A JP2007116506A JP2008275721A JP 2008275721 A JP2008275721 A JP 2008275721A JP 2007116506 A JP2007116506 A JP 2007116506A JP 2007116506 A JP2007116506 A JP 2007116506A JP 2008275721 A JP2008275721 A JP 2008275721A
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injection hole
sealing material
crystal device
width
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JP2007116506A
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Hiroyuki Hosogaya
裕之 細萱
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Epson Imaging Devices Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal device which has image display characteristics hardly influenced by shrinkage on curing of a sealing material, a method for manufacturing the liquid crystal device, and electronic equipment equipped with the liquid crystal device. <P>SOLUTION: The liquid crystal device etc. are equipped with a liquid crystal panel having a pair of substrates bonded to each other via a frame-like sealing material to hold a liquid crystal material by means of the pair of substrates and the sealing material. The liquid crystal panel has an injection hole to inject the liquid crystal material thereinto, extending and opening on the frame-like sealing material on an end side of the pair of substrates. When an inside dimension of the opening of the injection hole along a direction of extension of the sealing material is represented by L1, and a width of the injection hole vertically intersecting the direction of extension of the sealing material near the injection port is represented by L2, the ratio L1/L2 is set to 1.2-6. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶装置、液晶装置の製造方法及び電子機器に関する。特に、画像表示特性に対する封止剤の硬化収縮の影響が少ない液晶装置、そのような液晶装置の製造方法、及びそのような液晶装置を備えた電子機器に関する。   The present invention relates to a liquid crystal device, a method for manufacturing the liquid crystal device, and an electronic apparatus. In particular, the present invention relates to a liquid crystal device in which the effect of curing shrinkage of a sealant on image display characteristics is small, a method for manufacturing such a liquid crystal device, and an electronic apparatus including such a liquid crystal device.

従来、電気光学装置の一態様である液晶装置は、それぞれ着色層や保護膜、電極等を備えた一対の基板を対向配置するとともに、当該一対の基板の間に液晶材料を注入して構成されている。
例えば、三端子型の非線形素子であるTFT素子(Thin Film Transistor)を備えた液晶装置の場合、素子基板は、ガラス基板等の上に、電気配線、TFT素子、層間絶縁膜、画素電極、配向膜等が積層されて構成されている。また、素子基板と対向する対向基板上には、着色層、遮光膜、対向電極、配向膜等が積層されて構成されている。そして、これらの素子基板及び対向基板を、導電性シール材により貼り合わせてセル構造を形成するとともに、形成されたセル内に液晶材料が注入された後、封止剤で注入孔を封止することにより液晶パネルが構成されている。
Conventionally, a liquid crystal device which is an embodiment of an electro-optical device is configured by disposing a pair of substrates each having a colored layer, a protective film, and an electrode, and injecting a liquid crystal material between the pair of substrates. ing.
For example, in the case of a liquid crystal device provided with a TFT element (Thin Film Transistor) which is a three-terminal type non-linear element, the element substrate is an electric wiring, TFT element, interlayer insulating film, pixel electrode, orientation on a glass substrate or the like. A film or the like is laminated. Further, a colored layer, a light shielding film, a counter electrode, an alignment film, and the like are laminated on the counter substrate facing the element substrate. Then, the element substrate and the counter substrate are bonded together with a conductive sealing material to form a cell structure, and after the liquid crystal material is injected into the formed cell, the injection hole is sealed with a sealant. Thus, a liquid crystal panel is configured.

ところで、このような液晶パネルを製造するに際して、封止剤で注入孔を封止する際の硬化収縮が問題となっている。
すなわち、紫外線硬化樹脂もしくは熱硬化性樹脂からなる封止剤を用いて、注入孔を封止硬化させる際に、かかる封止剤が硬化収縮し、注入孔近傍において、歪を生じさせるという問題が見られた。
By the way, when manufacturing such a liquid crystal panel, hardening shrinkage at the time of sealing an injection hole with a sealing agent becomes a problem.
That is, when the injection hole is sealed and cured using a sealant made of an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin, there is a problem that the sealant is cured and contracted to cause distortion in the vicinity of the injection hole. It was seen.

そこで、図12(a)〜(b)に示すように、シール材110を介して対向配置された一対の第1基板140および第2基板(図示せず)と、第1基板140、第2基板およびシール材110によって囲まれた空間に封入された液晶材料122と、を備える液晶パネル100が提案されている(特許文献1参照)。
より具体的には、シール材110には液晶材料122が注入される液晶注入口128が設けられ、この液晶注入口128が設けられた液晶注入口領域128aには、少なくとも一部が液晶注入口領域128aに平面的に重なる位置に一対の基板のうち少なくとも一方の基板140から他方の基板に向けて突出させた、一対の基板間隔を規制するための凸部114aが設けられた液晶パネル100である。
Therefore, as shown in FIGS. 12A to 12B, a pair of first substrate 140 and second substrate (not shown) disposed opposite to each other with the sealant 110 interposed therebetween, the first substrate 140, and the second substrate. There has been proposed a liquid crystal panel 100 including a liquid crystal material 122 enclosed in a space surrounded by a substrate and a sealing material 110 (see Patent Document 1).
More specifically, the sealing material 110 is provided with a liquid crystal inlet 128 into which the liquid crystal material 122 is injected, and at least a part of the liquid crystal inlet region 128a in which the liquid crystal inlet 128 is provided is a liquid crystal inlet. The liquid crystal panel 100 is provided with a convex portion 114a that protrudes from at least one of the pair of substrates 140 toward the other substrate at a position that overlaps the region 128a in a plane, and that regulates the distance between the pair of substrates. is there.

また、図13に示すように、液晶装置を構成する基板の表面に形成される配線パターン231に、並列してダミーパターン234を設けることにより、基板間隔の不均一性を低減して、液晶パネル200のセル厚ムラを低減することが提案されている(特許文献2参照)。
さらに、液晶パネルにおける積層スペーサの形成に際して、高さのばらつきが少なくなるように、2層以上の積層構造を有するカラーフィルタ基板を用い、図14に示すように、飽和領域となるように、カラーフィルタ基板におけるRドットサイズを調整した液晶装置が提案されている(特許文献3)。
特開2007−47239号公報 (特許請求の範囲) 特開2003−149660号公報 (特許請求の範囲) 特開2006−30906号公報 (特許請求の範囲)
Further, as shown in FIG. 13, by providing a dummy pattern 234 in parallel with the wiring pattern 231 formed on the surface of the substrate constituting the liquid crystal device, the non-uniformity of the substrate interval is reduced, and the liquid crystal panel It has been proposed to reduce cell thickness unevenness of 200 (see Patent Document 2).
Further, when forming the laminated spacers in the liquid crystal panel, a color filter substrate having a laminated structure of two or more layers is used so that the variation in height is reduced, and a color is formed so as to become a saturated region as shown in FIG. A liquid crystal device with an adjusted R dot size on a filter substrate has been proposed (Patent Document 3).
JP 2007-47239 A (Claims) JP 2003-149660 A (Claims) JP 2006-30906 A (Claims)

しかしながら、特許文献1〜3における液晶装置は、いずれも液晶材料を注入するための注入孔におけるシール材の延在方向に沿った開口内寸幅(L1)と、注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅(L2)の比率を何ら考慮しておらず、通常、L1/L2の比率が1以下であるため、注入孔の封止剤の硬化収縮に起因して、セル厚さが部分的にばらつき、画像表示特性の劣化が生じやすいという問題が見られた。
すなわち、図15に示すように、注入孔の封止剤25の硬化収縮に起因して、注入孔付近30が持ち上がり、それに伴いセル厚さむらが生じて、注入孔の近傍における画像表示特性が劣化しやすいという問題が見られた。特に、STN液晶材料等を用いた場合には、セル厚さむらに起因した画像表示特性の劣化が生じやすいという問題が見られた。
However, all of the liquid crystal devices in Patent Documents 1 to 3 have an opening inner dimension width (L1) along the extending direction of the sealing material in the injection hole for injecting the liquid crystal material, and the sealing material in the vicinity of the injection hole. The ratio of the width (L2) orthogonal to the extending direction is not considered at all, and since the ratio of L1 / L2 is usually 1 or less, the cell thickness is caused by the curing shrinkage of the sealing agent of the injection hole. There was a problem that the image display characteristics were partially varied and image display characteristics were likely to deteriorate.
That is, as shown in FIG. 15, due to the hardening shrinkage of the sealing agent 25 of the injection hole, the vicinity of the injection hole 30 is lifted, and as a result, the cell thickness is uneven, and the image display characteristics in the vicinity of the injection hole are There was a problem that it was easy to deteriorate. In particular, when an STN liquid crystal material or the like is used, there has been a problem that image display characteristics are easily deteriorated due to uneven cell thickness.

一方、液晶パネルを組み立てた状態のシール材の幅は、シール材の種類等にもよるが、組み立て時(貼り合わせ時)の加圧工程により広げられて、シールマスクあるいは圧着前のシール材の幅よりも数倍以上変化して、広くなるため、通常、シール材の幅を考慮することが困難であるという問題が見られた。   On the other hand, the width of the sealing material in the assembled state of the liquid crystal panel depends on the type of the sealing material, etc., but is widened by the pressurizing process at the time of assembling (bonding), so that the seal mask or the sealing material before pressure bonding Since the width is changed by several times or more than the width, the problem is that it is usually difficult to consider the width of the sealing material.

そこで、本発明の発明者らは、液晶材料を注入するための注入孔の開口内寸幅(L1:mm)と、注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅(L2:mm)の比率を考慮することによって、セル厚さが均一になって、STN液晶材料等を用いた場合であっても、液晶パネルを組み立てる際の注入孔における封止剤の硬化収縮の悪影響を著しく低減できることを見出した。   Accordingly, the inventors of the present invention have determined that the in-hole width (L1: mm) of the injection hole for injecting the liquid crystal material and the width (L2: mm) orthogonal to the extending direction of the seal material in the vicinity of the injection hole. ), The cell thickness becomes uniform, and even when STN liquid crystal material or the like is used, the adverse effect of curing shrinkage of the sealant in the injection hole when assembling the liquid crystal panel is remarkably reduced. We found that it can be reduced.

すなわち、本発明は、注入孔における封止剤の硬化収縮の影響が少なく、セル厚さが均一であって、注入孔の近傍における画像表示特性に優れた液晶装置を提供することを目的とする。
また、本発明の別の目的は、そのような液晶装置を効率的に製造する方法を提供することである。
さらに、本発明の別の目的は、そのような液晶装置を備えた電子機器を提供することである。
That is, an object of the present invention is to provide a liquid crystal device which is less affected by the curing shrinkage of the sealant in the injection hole, has a uniform cell thickness, and has excellent image display characteristics in the vicinity of the injection hole. .
Another object of the present invention is to provide a method for efficiently manufacturing such a liquid crystal device.
Furthermore, another object of the present invention is to provide an electronic apparatus provided with such a liquid crystal device.

本発明によれば、一対の基板を、枠状のシール材を介して貼り合せ、一対の基板と、シール材とにより液晶材料を保持する液晶パネルを備えた液晶装置であって、液晶パネルは、枠状のシール材から、一対の基板の端辺側に延在して開口し、液晶材料を注入するための注入孔を有しており、当該注入孔のシール材の延在方向に沿った開口内寸幅をL1とし、当該注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅をL2としたときに、L1/L2の比率を1.2〜6の範囲内の値とした液晶装置が提供され、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、液晶材料を注入するための注入孔の開口内寸幅(L1)と、注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅(L2、以下、単に、シール材の幅と称する場合がある。)の比率を考慮することによって、注入孔における封止剤の硬化収縮の影響を低減させることができる。したがって、セル厚さが均一であって、注入孔の近傍における画像表示特性に優れた液晶装置とすることができる。
According to the present invention, there is provided a liquid crystal device including a liquid crystal panel in which a pair of substrates are bonded via a frame-shaped sealing material, and the liquid crystal material is held by the pair of substrates and the sealing material, And an opening extending from the frame-shaped sealing material to the end sides of the pair of substrates, and having an injection hole for injecting a liquid crystal material, along the extending direction of the sealing material of the injection hole When the inner dimension width of the opening is L1, and the width orthogonal to the extending direction of the sealing material in the vicinity of the injection hole is L2, the ratio of L1 / L2 is set to a value in the range of 1.2 to 6. A liquid crystal device is provided to solve the above-described problems.
That is, the opening width (L1) of the injection hole for injecting the liquid crystal material and the width orthogonal to the extending direction of the seal material in the vicinity of the injection hole (L2, hereinafter referred to simply as the width of the seal material) The ratio of curing shrinkage of the sealing agent in the injection hole can be reduced. Therefore, a liquid crystal device having a uniform cell thickness and excellent image display characteristics in the vicinity of the injection hole can be obtained.

なお、前述したように、液晶パネルを構成した状態のシール材の幅は、硬化させる際の加圧条件や加熱条件等により変化しやすいという特徴がある。そのため、L1/L2の比率が調整しやすくなるように、液晶パネルの組み立て時の硬化条件(例えば、150℃、10〜50kgf/cm2)において、シールマスクあるいは圧着前のシール材の幅の1.7〜2倍になるようなシール材を用いることが好ましい。 As described above, the width of the sealing material in the state in which the liquid crystal panel is configured has a feature that it easily changes depending on the pressurizing condition and the heating condition at the time of curing. Therefore, in order to facilitate the adjustment of the L1 / L2 ratio, under the curing conditions (for example, 150 ° C., 10-50 kgf / cm 2 ) at the time of assembling the liquid crystal panel, the width of the seal mask or the width of the seal material before pressure bonding is 1 It is preferable to use a sealing material that is 7 to 2 times larger.

また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、注入孔の開口内寸幅(L1)を1〜2mmの範囲内の値とすることが好ましい。
このように注入孔の開口内寸幅(L1)を所定範囲に制限することにより、シール材による液晶装置(液晶パネル)のシール性と、封止剤の硬化収縮と、画像表示における有効面積の確保との関係で、さらに良好なバランスをとることができる。
Further, in configuring the liquid crystal device of the present invention, it is preferable to set the opening width (L1) of the injection hole to a value within the range of 1 to 2 mm.
In this way, by limiting the inner width (L1) of the injection hole to a predetermined range, the sealing property of the liquid crystal device (liquid crystal panel) by the sealing material, the curing shrinkage of the sealant, and the effective area for image display A better balance can be achieved in relation to securing.

また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅(L2)を0.34〜0.8mmの範囲内の値とすることが好ましい。
このようにシール材の幅(L2)を所定範囲に制限することにより、液晶装置(液晶パネル)のシール性と、封止剤の硬化収縮と、画像表示における有効面積の確保との関係で、さらに良好なバランスをとることができる。
In configuring the liquid crystal device of the present invention, the width (L2) perpendicular to the extending direction of the sealing material in the vicinity of the injection hole is preferably set to a value within the range of 0.34 to 0.8 mm.
Thus, by limiting the width (L2) of the sealing material to a predetermined range, the sealing property of the liquid crystal device (liquid crystal panel), the curing shrinkage of the sealant, and the securing of the effective area in the image display, Furthermore, a good balance can be achieved.

また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、シール材が、熱硬化性樹脂から構成されているとともに、注入孔を、紫外線硬化モノマと、紫外線硬化オリゴマと、の混合物から構成された紫外線硬化樹脂を用いて封止してあることが好ましい。
このようにシール材と、注入孔の封止剤とを、それぞれ異なる硬化性樹脂から構成することにより、安定的かつ優れたシール性が得られるとともに、注入孔については、迅速かつ強固に封止することができる。
また、注入孔に使用する封止剤を、紫外線硬化モノマと、紫外線硬化オリゴマと、の混合物から構成してあることから、所定の紫外線硬化性を維持したまま、注入孔の近傍における封止剤の硬化収縮の影響を効果的に低減することができる。
In forming the liquid crystal device of the present invention, the sealing material is made of a thermosetting resin, and the injection hole is made of a mixture of an ultraviolet curable monomer and an ultraviolet curable oligomer. It is preferable to be sealed using.
As described above, the sealing material and the sealing agent for the injection hole are made of different curable resins, so that stable and excellent sealing properties can be obtained, and the injection hole is quickly and firmly sealed. can do.
Further, since the sealing agent used for the injection hole is composed of a mixture of an ultraviolet curable monomer and an ultraviolet curable oligomer, the sealing agent in the vicinity of the injection hole while maintaining a predetermined ultraviolet curable property. It is possible to effectively reduce the influence of curing shrinkage.

また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅を、注入孔の非近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅よりも太くすることが好ましい。
このように、所定位置におけるシール材の幅を変化させて構成することにより、液晶装置(液晶パネル)のシール性と、封止剤の硬化収縮と、画像表示における有効面積の確保との関係で、さらに良好なバランスをとることができる。
Further, in configuring the liquid crystal device of the present invention, the width orthogonal to the extending direction of the sealing material in the vicinity of the injection hole is made larger than the width orthogonal to the extending direction of the sealing material in the vicinity of the injection hole. Is preferred.
In this way, by changing the width of the sealing material at a predetermined position, the sealing property of the liquid crystal device (liquid crystal panel), the curing shrinkage of the sealant, and the securing of the effective area in image display A better balance can be achieved.

また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、注入孔の内側に、液晶材料の逆流防止用領域を設けることが好ましい。
このように構成することにより、液晶材料の逆流を有効に防止しながら、液晶材料の所定の注入性と、液晶装置(液晶パネル)のシール性と、封止剤の硬化収縮と、の間で、さらに良好なバランスをとることができる。
In configuring the liquid crystal device of the present invention, it is preferable to provide a region for preventing a backflow of the liquid crystal material inside the injection hole.
By comprising in this way, while preventing back flow of a liquid crystal material effectively, between the predetermined injection property of a liquid crystal material, the sealing performance of a liquid crystal device (liquid crystal panel), and the cure shrinkage of a sealing agent A better balance can be achieved.

また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、注入孔におけるシール材の延在方向の外側に、液晶材料の漏れ防止用領域が、設けてあることが好ましい。
このように注入孔に向かってシール材が延在した箇所の外側領域に、漏れ防止用領域を形成することにより、液晶材料が所定箇所以外に漏れることを防止しながら、液晶材料の所定の注入性と、液晶装置(液晶パネル)のシール性と、封止剤の硬化収縮と、の間で、さらに良好なバランスをとることができる。
なお、液晶材料の漏れ防止用領域は、注入孔のシール材の延在方向の外側であれば、片側であっても良いが、両側に設けることも好ましい。
Further, in configuring the liquid crystal device of the present invention, it is preferable that an area for preventing leakage of the liquid crystal material is provided outside the injection hole in the injection hole extending direction.
In this way, by forming the leakage prevention region in the outer region of the portion where the sealant extends toward the injection hole, the liquid crystal material is injected in a predetermined manner while preventing the liquid crystal material from leaking to other than the predetermined portion. A better balance can be achieved between the property, the sealing property of the liquid crystal device (liquid crystal panel), and the curing shrinkage of the sealant.
The region for preventing leakage of the liquid crystal material may be provided on one side as long as it is outside in the extending direction of the sealing material of the injection hole, but is preferably provided on both sides.

また、本発明の別の態様は、一対の基板を、枠状のシール材を介して貼り合せ、一対の基板と、シール材とにより液晶材料を保持する液晶パネルを備えた液晶装置の製造方法であって、
一対の基板の端辺側に延在して開口し、液晶材料を注入するための注入孔を有しており、当該注入孔のシール材の延在方向に沿った開口内寸幅をL1とし、当該注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅をL2としたときに、L1/L2の比率を1.2〜6の範囲内の値とした空セルを準備する工程と、
当該空セルに、前記液晶材料を真空注入する工程と、
注入孔を、封止して、液晶パネルとする工程と、
を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法である。
このように液晶装置を製造するにあたり、液晶材料を注入するための注入孔の開口内寸幅(L1)と、注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅(L2)の比率を考慮することによって、封止剤の硬化収縮の影響を低減させ、セル厚さが均一であって、注入孔の近傍における画像表示特性に優れた液晶装置を効率的に得ることができる。
なお、空セルを形成した段階において、シール材は既に硬化しているため、上述した液晶装置と同様に、L1/L2の比率を所定範囲に制御することにより、封止剤の硬化収縮の影響を低減させ、セル厚さを均一化することができる。
Another embodiment of the present invention is a method for manufacturing a liquid crystal device including a liquid crystal panel in which a pair of substrates are bonded via a frame-shaped sealing material, and the liquid crystal material is held by the pair of substrates and the sealing material. Because
An opening extending to the end sides of the pair of substrates has an injection hole for injecting a liquid crystal material, and the inner width of the opening along the extending direction of the sealing material of the injection hole is L1. A step of preparing an empty cell having a ratio of L1 / L2 within a range of 1.2 to 6 when the width orthogonal to the extending direction of the sealing material in the vicinity of the injection hole is L2.
Vacuum injection of the liquid crystal material into the empty cell;
Sealing the injection hole into a liquid crystal panel;
A method for manufacturing a liquid crystal device.
In manufacturing the liquid crystal device in this way, the ratio between the opening width (L1) of the injection hole for injecting the liquid crystal material and the width (L2) perpendicular to the extending direction of the sealing material in the vicinity of the injection hole is set as follows. By taking into consideration, it is possible to efficiently obtain a liquid crystal device in which the influence of curing shrinkage of the sealant is reduced, the cell thickness is uniform, and the image display characteristics in the vicinity of the injection hole are excellent.
In addition, since the sealing material has already been cured at the stage of forming the empty cell, the influence of the curing shrinkage of the sealant is controlled by controlling the ratio of L1 / L2 to a predetermined range as in the liquid crystal device described above. And the cell thickness can be made uniform.

また、本発明のさらに別の態様は、上述したいずれかに記載された液晶装置を備えることを特徴とする電子機器である。
このように構成することにより、封止剤の硬化収縮の影響が少なく、セル厚さが均一であって、注入孔の近傍における画像表示特性に優れた液晶パネルを備えた電子機器とすることができる。
Still another embodiment of the present invention is an electronic apparatus including the liquid crystal device described above.
By configuring in this way, an electronic device having a liquid crystal panel that is less affected by the curing shrinkage of the sealant, has a uniform cell thickness, and has excellent image display characteristics in the vicinity of the injection hole. it can.

[第1実施形態]
第1実施形態は、一対の基板を、枠状のシール材を介して貼り合せ、一対の基板と、シール材とにより液晶材料を保持する液晶パネルを備えた液晶装置であって、液晶パネルは、枠状のシール材から、一対の基板の端辺側に延在して開口し、液晶材料を注入するための注入孔を有しており、当該注入孔のシール材延在方向に沿った開口内寸幅をL1とし、当該注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅をL2としたときに、L1/L2の比率を1.2〜6の範囲内の値とした液晶装置である。
また、図1に、注入孔23aの開口内寸幅(L1)と、注入孔23aの近傍におけるシール材23の延在方向と直交する幅(L2)との関係を説明すべく、液晶パネル20の一部を示す。また、図1においては、シール材23の内側領域に設ける遮光膜23bについても、併せて示してある。
[First Embodiment]
1st Embodiment is a liquid crystal device provided with the liquid crystal panel which bonds a pair of board | substrate through a frame-shaped sealing material, and hold | maintains a liquid crystal material with a pair of board | substrate and a sealing material, And an opening extending from the frame-shaped sealing material to the end sides of the pair of substrates, and having an injection hole for injecting a liquid crystal material, along the sealing material extending direction of the injection hole A liquid crystal in which the ratio of L1 / L2 is a value in the range of 1.2 to 6, where L1 is the width inside the opening and L2 is the width orthogonal to the extending direction of the sealing material in the vicinity of the injection hole. Device.
Further, in FIG. 1, the liquid crystal panel 20 is described in order to explain the relationship between the inner dimension width (L1) of the injection hole 23a and the width (L2) perpendicular to the extending direction of the sealing material 23 in the vicinity of the injection hole 23a. A part of In FIG. 1, the light shielding film 23 b provided in the inner region of the sealing material 23 is also shown.

すなわち、このようにL1/L2の比率を考慮することにより、液晶パネルに液晶材料を封入する際の封止剤の硬化収縮の影響を著しく低減させて、注入孔の近傍を含めて、全体的に、セル厚さを均一にすることができる。したがって、STN液晶材料等を用いた場合であっても、図1における注入孔23aの近傍に複数の点線で示すように、液晶材料21の乱れ等が発生せず、広い有効面積(A)において、優れた画像表示特性を得ることができる。   That is, by considering the ratio of L1 / L2 in this way, the influence of curing shrinkage of the sealant when the liquid crystal material is sealed in the liquid crystal panel is remarkably reduced, and the entire area including the vicinity of the injection hole is included. In addition, the cell thickness can be made uniform. Therefore, even when the STN liquid crystal material or the like is used, the liquid crystal material 21 is not disturbed or the like in the vicinity of the injection hole 23a in FIG. Excellent image display characteristics can be obtained.

以下、第1実施形態の液晶装置として、所定構造の三端子型非線型素子及び画素電極を有する素子基板と、対向基板としての着色層及び対向電極を有するカラーフィルタ基板と、を備えた液晶装置を例に採って説明する。
ただし、かかる実施形態の説明は、本発明の一態様を示すものであって、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。例えば、本実施形態においては、三端子型非線形素子であるTFT素子を備えたアクティブマトリクス構造の液晶装置を例に採って説明するが、これに限定されるものではなく、二端子型非線型素子であるTFD素子(Thin Film Diode)を備えたアクティブマトリクス構造の液晶装置であってもよく、さらには、スイッチング素子を備えていないパッシブマトリクス構造の液晶装置であっても構わない。
Hereinafter, as the liquid crystal device of the first embodiment, a liquid crystal device including an element substrate having a three-terminal nonlinear element and a pixel electrode having a predetermined structure, and a color filter substrate having a colored layer and a counter electrode as a counter substrate. Will be described as an example.
However, the description of the embodiment shows one aspect of the present invention and can be arbitrarily changed within the scope of the present invention. For example, in the present embodiment, an active matrix structure liquid crystal device including a TFT element which is a three-terminal nonlinear element will be described as an example. However, the present invention is not limited thereto, and the two-terminal nonlinear element is not limited thereto. An active matrix liquid crystal device including a TFD element (Thin Film Diode) may be used, or a passive matrix liquid crystal device including no switching element may be used.

1.基本構造
(1)構成
まず、図2(a)〜(b)および図3を参照しながら、液晶装置10の構成について、具体的に説明する。
ここで、図2(a)は、液晶装置10の断面図を示し、図2(b)は、図2(a)の液晶装置における素子基板60の平面図を示しており、図3は、液晶装置10の外観に対応した斜視図を示している。
そして、かかる液晶装置10における液晶パネル(電気光学パネル)は、対向基板30と、素子基板60とが、それらの周辺部においてシール材(図示せず)によって貼り合せられ、さらに、対向基板30、素子基板60及びシール材によって囲まれる間隙内に液晶材料21を封入して、基本的に構成されている。
1. Basic Structure (1) Configuration First, the configuration of the liquid crystal device 10 will be specifically described with reference to FIGS. 2 (a) to 2 (b) and FIG.
2A is a cross-sectional view of the liquid crystal device 10, FIG. 2B is a plan view of the element substrate 60 in the liquid crystal device of FIG. 2A, and FIG. 2 is a perspective view corresponding to the appearance of the liquid crystal device 10. FIG.
In the liquid crystal panel (electro-optical panel) in the liquid crystal device 10, the counter substrate 30 and the element substrate 60 are bonded to each other at a peripheral portion thereof with a sealing material (not shown). The liquid crystal material 21 is basically enclosed in a gap surrounded by the element substrate 60 and the sealing material.

また、対向基板30は、ガラス、プラスチック等によって形成され、当該対向基板30上には、カラーフィルタすなわち着色層37r、37g、37bと、その着色層37r、37g、37bの上に形成された対向電極33と、その対向電極33の上に形成された配向膜45とを備えている。また、反射領域Rにおける、着色層37r、37g、37bと対向電極33との間には、リタデーションを最適化するための絶縁層41を備えている。   The counter substrate 30 is formed of glass, plastic, or the like, and on the counter substrate 30, a color filter, that is, colored layers 37r, 37g, and 37b, and a counter layer formed on the colored layers 37r, 37g, and 37b. An electrode 33 and an alignment film 45 formed on the counter electrode 33 are provided. In addition, an insulating layer 41 for optimizing retardation is provided between the colored layers 37r, 37g, and 37b and the counter electrode 33 in the reflective region R.

ここで、対向電極33は、ITO(インジウムスズ酸化物)等によって対向基板30の表面全域に形成された面状電極である。また、着色層37r、37g、37bは、素子基板60側の画素電極63に対向する位置にR(赤)、G(緑)、B(青)またはC(シアン)、M(マゼンタ)、Y(イエロー)等といった各色のいずれかの色フィルタエレメントを備えている。そして、着色層37r、37g、37bの隣であって、画素電極63に対向しない位置にブラックマスクまたはブラックマトリクスすなわち遮光膜39が設けられている。   Here, the counter electrode 33 is a planar electrode formed over the entire surface of the counter substrate 30 with ITO (indium tin oxide) or the like. The colored layers 37r, 37g, and 37b are disposed at positions facing the pixel electrode 63 on the element substrate 60 side, such as R (red), G (green), B (blue), or C (cyan), M (magenta), and Y. A color filter element of any color such as (yellow) is provided. A black mask or black matrix, that is, a light shielding film 39 is provided next to the colored layers 37 r, 37 g, and 37 b and at a position that does not face the pixel electrode 63.

また、対向基板30に対向する素子基板60は、ガラス、プラスチック等によって形成され、当該素子基板60上には、スイッチング素子として機能するアクティブ素子としてのTFT素子69と、透明な絶縁膜81を挟んでTFT素子69の上層に形成された画素電極63と、を備えている。
そして、TFT素子69は、素子基板60上に形成されたゲート電極71と、このゲート電極71の上で素子基板60の全域に形成されたゲート絶縁膜72と、このゲート絶縁膜72を挟んでゲート電極71の上方位置に形成された半導体層70と、その半導体層70の一方の側にコンタクト電極77を介して形成されたソース電極73と、さらに半導体層70の他方の側にコンタクト電極77を介して形成されたドレイン電極66と、を備えている。
The element substrate 60 facing the counter substrate 30 is formed of glass, plastic, or the like. On the element substrate 60, a TFT element 69 as an active element functioning as a switching element and a transparent insulating film 81 are sandwiched. And a pixel electrode 63 formed in the upper layer of the TFT element 69.
The TFT element 69 includes a gate electrode 71 formed on the element substrate 60, a gate insulating film 72 formed on the entire area of the element substrate 60 on the gate electrode 71, and the gate insulating film 72 interposed therebetween. A semiconductor layer 70 formed above the gate electrode 71, a source electrode 73 formed on one side of the semiconductor layer 70 via a contact electrode 77, and a contact electrode 77 on the other side of the semiconductor layer 70. And a drain electrode 66 formed through the.

また、画素電極63は、反射領域Rにおいては反射表示を行うための光反射膜79(63a)を兼ねて形成されるとともに、透過領域Tにおいては、ITO(インジウムスズ酸化物)などから、透明電極63bとして形成される。
そして、画素電極63aとしての光反射膜79は、例えばAl(アルミニウム)、Ag(銀)等といった光反射性材料によって形成される。そして、画素電極63の上には、ポリイミド系の高分子樹脂からなる配向膜85が形成されるとともに、この配向膜85に対して、配向処理としてのラビング処理が施されている。
The pixel electrode 63 is also formed in the reflective region R as a light reflecting film 79 (63a) for performing reflective display. In the transmissive region T, the pixel electrode 63 is transparent from ITO (indium tin oxide) or the like. It is formed as an electrode 63b.
The light reflecting film 79 as the pixel electrode 63a is formed of a light reflecting material such as Al (aluminum), Ag (silver), or the like. An alignment film 85 made of a polyimide polymer resin is formed on the pixel electrode 63, and the alignment film 85 is subjected to a rubbing process as an alignment process.

また、対向基板30の外側(すなわち、図2(a)の上側)表面には、位相差板47が形成され、さらにその上に偏光板49が形成されている。同様に、素子基板60の外側(すなわち、図2(a)の下側)表面には、位相差板87が形成され、さらにその下に偏光板89が形成されている。さらに、素子基板60の下方にはバックライトユニット(図示せず)が配置される。   Further, a phase difference plate 47 is formed on the surface of the counter substrate 30 outside (that is, the upper side in FIG. 2A), and a polarizing plate 49 is further formed thereon. Similarly, a phase difference plate 87 is formed on the surface of the element substrate 60 (that is, the lower side of FIG. 2A), and a polarizing plate 89 is formed therebelow. Further, a backlight unit (not shown) is disposed below the element substrate 60.

(2)動作
以上のような構成を有する液晶装置10において、反射表示の際には、太陽光や室内照明光などの外光が、対向基板30側から液晶装置10の反射領域(R)に入射するとともに、着色層37(37r、37g、37b)や液晶材料21などを通過して光反射膜79に至る。そこで、光反射されて、再度液晶材料21や着色層37(37r、37g、37b)などを通過して、液晶装置10の外部で認識されることにより、反射表示が行われる。
(2) Operation In the liquid crystal device 10 having the above-described configuration, external light such as sunlight and indoor illumination light is reflected from the counter substrate 30 side to the reflective region (R) of the liquid crystal device 10 during reflective display. While entering, it passes through the colored layer 37 (37r, 37g, 37b), the liquid crystal material 21, etc., and reaches the light reflecting film 79. Therefore, the light is reflected, passes through the liquid crystal material 21 and the colored layer 37 (37r, 37g, 37b) and the like again, and is recognized outside the liquid crystal device 10, whereby a reflective display is performed.

一方、透過表示の際にはバックライトユニット(図示せず)が点灯されるとともに、バックライトユニットから出射された光が、透過領域(T)としての透光性の透明電極63b部分を通過し、着色層37(37r、37g、37b)、液晶材料21などを通過して、液晶装置10の外部で認識されることにより、透過表示が行われる。
そして、後述するように、封止剤で液晶材料を封止する注入孔の開口内寸幅(L1)と、注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅(L2)の比率を考慮することによって、封止剤の硬化収縮の悪影響を著しく低減でき、注入孔の近傍のみならず、全体として、画像表示特性に優れた液晶装置を提供することができる。
On the other hand, at the time of transmissive display, a backlight unit (not shown) is turned on, and light emitted from the backlight unit passes through a translucent transparent electrode 63b portion as a transmissive region (T). Through the colored layer 37 (37r, 37g, 37b), the liquid crystal material 21 and the like and recognized outside the liquid crystal device 10, transmissive display is performed.
As will be described later, the ratio of the opening width (L1) of the injection hole for sealing the liquid crystal material with the sealant and the width (L2) perpendicular to the extending direction of the sealing material in the vicinity of the injection hole By taking into consideration, the adverse effect of curing shrinkage of the sealant can be remarkably reduced, and a liquid crystal device excellent in image display characteristics as a whole can be provided not only in the vicinity of the injection hole.

2.シール材
(1)スペーサ粒子
図4(a)に示すように、スペーサ粒子として、導電粒子(DEB)、繊維(PF)、ポリマー粒子、ガラス粒子、フォトスペーサ、カーボンブラック等を、例えば、シール材の全体量に対して、0.1〜30重量%の範囲で含むことが好ましい。
したがって、図4(b)に示すように、スペーサ粒子が、対向基板としてのカラーフィルタ基板(CFガラス)と、素子基板との間で、所定の圧縮率になるように変形し、液晶パネルにおけるセル厚さを調整することができる。
2. Sealing material (1) Spacer particles As shown in FIG. 4A, conductive particles (DEB), fibers (PF), polymer particles, glass particles, photo spacers, carbon black, etc. are used as the spacer particles. It is preferable to contain in the range of 0.1-30 weight% with respect to the whole quantity.
Therefore, as shown in FIG. 4B, the spacer particles are deformed so as to have a predetermined compression ratio between the color filter substrate (CF glass) as the counter substrate and the element substrate, and in the liquid crystal panel. The cell thickness can be adjusted.

(2)熱硬化性樹脂
また、シール材の一部を構成する熱硬化性樹脂の種類としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、尿素樹脂、シアネート樹脂、グアナミン樹脂、熱硬化性ポリエステル樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、SGA、熱硬化性ウレタン樹脂等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
特に、エポキシ樹脂を用いる場合には、主剤として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂やビスフェノールF型エポキシ樹脂、あるいは脂環族エポキシ樹脂等を用いることが好ましい。そして、硬化剤として、アミン化合物、カルボン酸化合物、イミダゾール化合物、アミド化合物等を、例えば、主剤100重量部に対して、10〜50重量部の範囲で使用することが好ましい。
(2) Thermosetting resin The types of thermosetting resins that constitute part of the sealing material include epoxy resins, phenol resins, silicone resins, urea resins, cyanate resins, guanamine resins, thermosetting polyester resins, One kind alone or a combination of two or more kinds such as a thermosetting acrylic resin, SGA, and a thermosetting urethane resin can be used.
In particular, when an epoxy resin is used, it is preferable to use a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, or the like as the main agent. And as a hardening | curing agent, it is preferable to use an amine compound, a carboxylic acid compound, an imidazole compound, an amide compound etc. in the range of 10-50 weight part with respect to 100 weight part of main agents, for example.

また、シール材を硬化させる際の粘度調整や硬化速度の調整のために、ジオール化合物、トリオール化合物、可塑剤、硬化触媒等を、例えば、主剤100重量部に対して、0.1〜30重量部の範囲で添加することが好ましい。
さらに、シール材のガラス基板等への密着性等が良好となる一方、硬化収縮の値が調整できることから、各種フィラー、カップリング剤、ゴム成分等を、例えば、主剤100重量部に対して、0.1〜50重量部の範囲で使用することが好ましい。
In addition, in order to adjust the viscosity and cure speed when curing the sealing material, diol compound, triol compound, plasticizer, curing catalyst, etc., for example, 0.1 to 30 wt. It is preferable to add in the range of parts.
Furthermore, since the adhesiveness to the glass substrate or the like of the sealing material is good, since the value of cure shrinkage can be adjusted, various fillers, coupling agents, rubber components, etc., for example, 100 parts by weight of the main agent, It is preferable to use in the range of 0.1 to 50 parts by weight.

なお、上述した熱硬化性樹脂とともに、光硬化性樹脂(紫外線硬化型接着剤)を組み合わせることも好ましい。すなわち、光硬化性樹脂を主成分としたシール材を用いて、光照射により仮固定した後、次いで、上述した熱硬化性樹脂を主成分としたシール材を熱硬化させることにより封止することが好ましい。   In addition, it is also preferable to combine a photocurable resin (ultraviolet curable adhesive) with the thermosetting resin mentioned above. That is, after temporarily fixing by light irradiation using a sealant mainly composed of a photocurable resin, sealing is then performed by thermally curing the sealant mainly composed of the thermosetting resin described above. Is preferred.

また、シール材が、熱硬化性樹脂から構成されているとともに、注入孔を、紫外線硬化モノマと、紫外線硬化オリゴマと、の混合物としての紫外線硬化樹脂から構成してあることが好ましい。
この理由は、このようにシール材と、注入孔の封止剤とを、それぞれ異なる硬化性樹脂から構成することにより、熱硬化性樹脂からなるシール材によって、安定的かつ優れたシール性が得られるとともに、注入孔については、紫外線硬化樹脂からなる封止剤によって、迅速かつ強固に封止することができるためである。
Moreover, it is preferable that the sealing material is made of a thermosetting resin and the injection hole is made of an ultraviolet curable resin as a mixture of an ultraviolet curable monomer and an ultraviolet curable oligomer.
The reason for this is that the sealing material and the sealing agent for the injection hole are made of different curable resins, so that a stable and excellent sealing performance can be obtained by the sealing material made of thermosetting resin. In addition, the injection hole can be quickly and firmly sealed with a sealant made of an ultraviolet curable resin.

また、注入孔に使用する封止剤を、紫外線硬化モノマと、紫外線硬化オリゴマと、の混合物から構成してあることから、所定の紫外線硬化性を維持したまま、注入孔の近傍における封止剤の硬化収縮の影響を効果的に低減することができるためである。
すなわち、封止剤に関して言えば、主として、紫外線硬化モノマの働きにより、所定の紫外線特性を維持したまま、短時間で所定のシール性が得られるとともに、主として、紫外線硬化オリゴマの働きにより、封止剤の硬化収縮をさらに低減することができる。
したがって、シール材が、紫外線硬化モノマ100重量部に対して、10〜500重量部の紫外線硬化オリゴマを含む紫外線硬化樹脂から構成してあることが好ましく、30〜300重量部の紫外線硬化オリゴマを含む紫外線硬化樹脂から構成してあることがより好ましく、50〜200重量部の紫外線硬化オリゴマを含む紫外線硬化樹脂から構成してあることがさらに好ましい。
Further, since the sealing agent used for the injection hole is composed of a mixture of an ultraviolet curable monomer and an ultraviolet curable oligomer, the sealing agent in the vicinity of the injection hole while maintaining a predetermined ultraviolet curable property. This is because the influence of curing shrinkage can be effectively reduced.
That is, with regard to the sealant, a predetermined sealing property can be obtained in a short time while maintaining a predetermined ultraviolet characteristic mainly by the action of the ultraviolet curable monomer, and the sealing is mainly performed by the action of the ultraviolet curable oligomer. The curing shrinkage of the agent can be further reduced.
Therefore, the sealing material is preferably composed of an ultraviolet curable resin containing 10 to 500 parts by weight of an ultraviolet curable oligomer with respect to 100 parts by weight of the ultraviolet curable monomer, and includes 30 to 300 parts by weight of an ultraviolet curable oligomer. It is more preferably composed of an ultraviolet curable resin, and further preferably an ultraviolet curable resin containing 50 to 200 parts by weight of an ultraviolet curable oligomer.

なお、紫外線硬化モノマは、通常、硬化反応によって、硬化物を生成する場合の最小単位としての原料物質である。
一方、紫外線硬化オリゴマは、最小単位としての原料物質である紫外線硬化モノマが、複数個重合した段階の化合物であって、通常、紫外線硬化モノマが、2〜20個重合した段階の化合物である。
The ultraviolet curable monomer is usually a raw material material as a minimum unit when a cured product is produced by a curing reaction.
On the other hand, the UV curable oligomer is a compound at a stage where a plurality of UV curable monomers, which are raw materials as a minimum unit, are polymerized, and is usually a compound at a stage where 2 to 20 UV curable monomers are polymerized.

(3)L1/L2の比率
液晶パネルに、液晶材料を注入するための注入孔の開口内寸幅をL1とし、当該注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅をL2としたときに、L1/L2の比率を1.2〜6の範囲内の値とすることを特徴とする。
この理由は、かかるL1/L2の比率が1.2未満の値になると、注入孔の開口内寸幅が小さくなって、液晶材料の注入性が著しく低下したり、あるいは、シール材の幅が過度に太くなって、所定面積内での画像表示における有効面積の確保が困難になったりするためである。
一方、かかるL1/L2の比率が6を超えると、注入孔の開口内寸幅が過度に大きくなって、硬化収縮の影響を受けやすくなったり、あるいは、シール材の幅が過度に細くなって、シール性が低下したりするためである。
したがって、L1/L2の比率を1.5〜5の範囲内の値とすることがより好ましく、2〜4の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、シール材の幅は、液晶パネル、あるいは、後述する液晶パネルの空セルを組み立てた状態での幅を意味する。
(3) Ratio of L1 / L2 The inside dimension width of the injection hole for injecting the liquid crystal material into the liquid crystal panel is L1, and the width perpendicular to the extending direction of the sealing material in the vicinity of the injection hole is L2. Sometimes, the ratio of L1 / L2 is set to a value in the range of 1.2-6.
The reason for this is that when the ratio of L1 / L2 is less than 1.2, the opening width of the injection hole becomes small, the injection property of the liquid crystal material is remarkably lowered, or the width of the sealing material is reduced. This is because it becomes excessively thick and it becomes difficult to secure an effective area for image display within a predetermined area.
On the other hand, when the ratio of L1 / L2 exceeds 6, the opening width of the injection hole becomes excessively large, and it becomes susceptible to curing shrinkage, or the width of the sealing material becomes excessively thin. This is because the sealing performance is lowered.
Therefore, the ratio of L1 / L2 is more preferably set to a value within the range of 1.5 to 5, and further preferably set to a value within the range of 2 to 4.
In addition, the width | variety of a sealing material means the width | variety in the state which assembled the liquid crystal panel or the empty cell of the liquid crystal panel mentioned later.

また、液晶パネルの大きさ(外形寸法の対角の長さ)が比較的小さい場合、例えば、1〜3インチの場合には、L1/L2の比率を1.7〜5の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、このように液晶パネルの大きさを考慮してL1/L2の比率を定めることにより、さらに有効に画像表示特性に対する封止剤の硬化収縮の影響を低減することができるためである。
すなわち、液晶パネルの大きさが比較的小さい場合であっても、封止剤の硬化収縮の影響を有効に低減することができる。
したがって、液晶パネルの大きさが1〜3インチの場合には、L1/L2の比率を2.0〜4.8の範囲内の値とすることがより好ましく、2.5〜4.0の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、液晶パネルの大きさ(外形寸法の対角の長さ)が比較的大きい場合、例えば、20インチ以上の場合には、上述したように、L1/L2の比率を1.2〜6の範囲内の値とすることが好ましい。
Further, when the size of the liquid crystal panel (diagonal length of the outer dimension) is relatively small, for example, in the case of 1 to 3 inches, the ratio of L1 / L2 is a value within the range of 1.7 to 5. It is preferable that
This is because the influence of the curing shrinkage of the sealant on the image display characteristics can be more effectively reduced by determining the ratio of L1 / L2 in consideration of the size of the liquid crystal panel. .
That is, even when the size of the liquid crystal panel is relatively small, the influence of curing shrinkage of the sealant can be effectively reduced.
Therefore, when the size of the liquid crystal panel is 1 to 3 inches, the ratio of L1 / L2 is more preferably set to a value within the range of 2.0 to 4.8, and 2.5 to 4.0. More preferably, the value is within the range.
When the size of the liquid crystal panel (diagonal length of the outer dimensions) is relatively large, for example, 20 inches or more, the ratio of L1 / L2 is 1.2 to 6 as described above. A value within the range is preferable.

また、L1/L2の比率を調整するにあたり、通常、注入孔の開口内寸幅(L1)を1〜2mmの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、液晶装置(液晶パネル)のシール性と、封止剤の硬化収縮と、画像表示における有効面積の確保との関係で、さらに良好なバランスをとることができるためである。
すなわち、このように構成することにより、L1/L2の比率を調整が容易になるとともに、注入孔の開口内寸幅(L1)を過度に狭くすることを制限して、液晶材料の良好な注入性を確保することができるためである。また、このように構成することにより、注入孔の開口内寸幅(L1)を過度に広くすることを制限して、注入孔の近傍におけるシール性の低下を防止することができるためである。
したがって、L1/L2の比率を調整するにあたり、注入孔の開口内寸幅(L1)を1.1〜1.8mmの範囲内の値とすることがより好ましく、1.2〜1.7mmの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
Moreover, when adjusting the ratio of L1 / L2, it is usually preferable to set the opening width (L1) of the injection hole to a value within the range of 1 to 2 mm.
The reason for this is that, by configuring in this way, there is a better balance between the sealing properties of the liquid crystal device (liquid crystal panel), the curing shrinkage of the sealant, and the securing of an effective area for image display. It is because it can do.
That is, this configuration makes it easy to adjust the ratio of L1 / L2, and restricts the inner dimension width (L1) of the injection hole from being excessively narrow, so that good injection of the liquid crystal material can be achieved. This is because the property can be secured. In addition, by configuring in this way, it is possible to restrict an excessively wide opening inside dimension (L1) of the injection hole, and to prevent deterioration of the sealing performance in the vicinity of the injection hole.
Therefore, in adjusting the ratio of L1 / L2, it is more preferable to set the opening width (L1) of the injection hole to a value in the range of 1.1 to 1.8 mm, and 1.2 to 1.7 mm. More preferably, the value is within the range.

また、L1/L2の比率を調整するにあたり、通常、注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅(L2)を0.34〜0.8mmの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、液晶装置(液晶パネル)のシール性と、封止剤の硬化収縮と、画像表示における有効面積の確保との関係で、さらに良好なバランスをとることができるためである。
すなわち、このように構成することにより、L1/L2の比率を調整が容易になるとともに、所定位置におけるシール材の幅(L2)を過度に狭くすることを制限して、注入孔の近傍におけるシール性の低下を防止することができるためである。また、このように構成することにより、所定位置におけるシール材の幅(L2)を過度に広くすることを制限して、画像表示における有効面積の確保が容易になるためである。
したがって、L1/L2の比率を調整するにあたり、所定位置におけるシール材の幅(L2)を0.40〜0.75mmの範囲内の値とすることがより好ましく、0.45〜0.7mmの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
In adjusting the ratio of L1 / L2, it is usually preferable to set the width (L2) perpendicular to the extending direction of the sealing material in the vicinity of the injection hole to a value within the range of 0.34 to 0.8 mm. .
The reason for this is that, by configuring in this way, there is a better balance between the sealing properties of the liquid crystal device (liquid crystal panel), the curing shrinkage of the sealant, and the securing of an effective area for image display. It is because it can do.
That is, with this configuration, the ratio of L1 / L2 can be easily adjusted, and the seal material in the vicinity of the injection hole is restricted by excessively narrowing the width (L2) of the seal material at a predetermined position. This is because deterioration of the property can be prevented. In addition, this configuration is because it is easy to secure an effective area for image display by restricting the width (L2) of the sealing material at a predetermined position to be excessively wide.
Therefore, in adjusting the ratio of L1 / L2, it is more preferable to set the width (L2) of the sealing material at a predetermined position to a value within the range of 0.40 to 0.75 mm, and 0.45 to 0.7 mm. More preferably, the value is within the range.

また、L1/L2の比率を調整するにあたり、図5(a)〜(b)に示すように、注入孔の近傍におけるシール材の幅(L2´)を、注入孔の非近傍における幅(L2´´)よりも太くすることが好ましい。
すなわち、図5(a)に示すように、注入孔の近傍におけるシール材の幅(L2´)を、注入孔の非近傍、例えば、液晶パネルの端部付近から、注入孔の近傍に向かってテーパ状に太くしたり、図5(b)に示すように、階段状に段階的に太くしたりすることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、液晶装置(液晶パネル)のシール性と、封止剤の硬化収縮と、画像表示における有効面積の確保との関係で、さらに良好なバランスをとることができるためである。
すなわち、所定位置におけるシール材の幅(L2)が比較的細いまま、所定のシール性を得ることができる一方、封止剤の硬化収縮の影響を排除することができる。
なお、注入孔の近傍におけるシール材の幅(L2´)としては、シール材の幅の最大値とすれば良い。また、注入孔の非近傍におけるシール材の幅(L2´´)としては、シール材の幅の最小値とすれば良い。
Further, in adjusting the ratio of L1 / L2, as shown in FIGS. 5A to 5B, the width (L2 ′) of the sealing material in the vicinity of the injection hole is changed to the width (L2 in the vicinity of the injection hole). ″) Is preferably thicker.
That is, as shown in FIG. 5A, the width (L2 ′) of the sealing material in the vicinity of the injection hole is changed from the vicinity of the injection hole, for example, from the end of the liquid crystal panel toward the vicinity of the injection hole. It is preferable to increase the thickness in a tapered shape, or increase the thickness in a stepwise manner as shown in FIG.
The reason for this is that, by configuring in this way, there is a better balance between the sealing properties of the liquid crystal device (liquid crystal panel), the curing shrinkage of the sealant, and the securing of an effective area for image display. It is because it can do.
That is, a predetermined sealing property can be obtained while the width (L2) of the sealing material at a predetermined position is relatively thin, while the influence of curing shrinkage of the sealant can be eliminated.
In addition, what is necessary is just to let it be the maximum value of the width | variety of a sealing material as the width | variety (L2 ') of the sealing material in the vicinity of an injection hole. Moreover, what is necessary is just to let the minimum value of the width | variety of a sealing material as the width | variety (L2 '') of the sealing material in the non-near vicinity of an injection hole.

(4)逆流防止用領域
また、L1/L2の比率を調整するにあたり、図6(a)〜(d)に示すように、注入孔23aの内側に、液晶材料の逆流防止用領域23dを設けることが好ましい。
この理由は、このように逆流防止用領域を設けて、液晶材料の逆流を防止することにより、液晶材料の所定の注入性と、液晶装置(液晶パネル)のシール性と、封止剤の硬化収縮と、の間で、さらに良好なバランスをとることができるためである。
すなわち、このように構成することにより、逆流防止用領域に、注入孔の近傍のスペーサとしての機能を発揮させることができ、その結果、注入孔の開口内寸幅(L1)を、比較的広く設計したり、あるいは比較的狭く設計したりすることができる。したがって、注入孔の開口内寸幅(L1)を、比較的広く設計した場合には、優れた液晶材料の注入性や、封止剤の硬化収縮を得ることができる。また、注入孔の開口内寸幅(L1)を、比較的狭く設計した場合には、逆流防止用領域により、液晶装置(液晶パネル)の優れたシール性を得ることができる。
(4) Backflow prevention region As shown in FIGS. 6A to 6D, when adjusting the ratio of L1 / L2, a backflow prevention region 23d for the liquid crystal material is provided inside the injection hole 23a. It is preferable.
The reason for this is that by providing a backflow prevention region in this way to prevent the backflow of the liquid crystal material, the predetermined injection property of the liquid crystal material, the sealability of the liquid crystal device (liquid crystal panel), and the curing of the sealant This is because a better balance can be achieved between the contraction and the shrinkage.
That is, with this configuration, the backflow prevention region can function as a spacer in the vicinity of the injection hole, and as a result, the opening inner dimension width (L1) of the injection hole is relatively wide. It can be designed or designed relatively narrowly. Therefore, when the opening size (L1) of the injection hole is designed to be relatively wide, excellent liquid crystal material injection property and curing shrinkage of the sealant can be obtained. In addition, when the opening width (L1) of the injection hole is designed to be relatively narrow, an excellent sealing property of the liquid crystal device (liquid crystal panel) can be obtained by the backflow prevention region.

なお、典型的な逆流防止用領域としては、フォトスペーサの態様とすることができる。したがって、例えば、図6(a)に示すように、平面形状が円形のフォトスペーサからなる逆流防止用領域23dであっても良く、図6(b)に示すように、液晶材料の流入方向に対して横長の長方形のフォトスペーサからなる逆流防止用領域23dであっても良い。
また、図6(c)に示すように、逆流防止用領域23dとして、液晶材料の流入方向に対して縦長の長方形のフォトスペーサを複数配置しても良く、図6(d)に示すように、液晶材料の流入方向に対してひし形のフォトスペーサからなる逆流防止用領域23dを複数配置しても良い。
Note that a typical backflow prevention region can be a photo spacer mode. Therefore, for example, as shown in FIG. 6A, the planar shape may be a backflow prevention region 23d made of a photo spacer having a circular shape, and in the inflow direction of the liquid crystal material as shown in FIG. 6B. On the other hand, it may be a backflow prevention region 23d made of a horizontally long rectangular photo spacer.
Further, as shown in FIG. 6C, a plurality of rectangular photo spacers that are vertically long with respect to the inflow direction of the liquid crystal material may be arranged as the backflow prevention region 23d, as shown in FIG. A plurality of backflow prevention regions 23d made of rhombus-shaped photo spacers may be disposed in the inflow direction of the liquid crystal material.

(5)漏れ防止用領域
また、L1/L2の比率を調整するにあたり、図7(a)〜(d)に示すように、注入孔23aの両外側に、液晶材料の漏れ防止用領域23cが、それぞれ設けてあることが好ましい。
すなわち、図7(a)に示すように、注入孔23aを構成するシール材23の両側に、並列させてライン状のシール材からなる漏れ防止用領域23cを形成したり、図7(b)に示すように、注入孔23aを構成するシール材23の両側に、並列させて複数のライン状のシール材からなる漏れ防止用領域23cを形成したりすることができる。
また、図7(c)に示すように、注入孔23aを構成するシール材23の両側に、隣接させてライン状のシール材からなる漏れ防止用領域23cを形成したり、図7(d)に示すように、注入孔23aを構成するシール材23の両側に、隣接させて半円形状のシール材からなる漏れ防止用領域23cを形成したりすることができる。
この理由は、このような液晶材料の漏れ防止用領域を形成することにより、所定箇所以外への液晶材料の漏れ防止を図ることができるためである。したがって、液晶材料の注入性と、液晶装置(液晶パネル)のシール性と、封止剤の硬化収縮と、の間で、さらに良好なバランスをとることができる。
なお、典型的な液晶材料の漏れ防止用領域としては、シール材と同一材料から構成することにより、シール材と同一プロセスで、同一時期に形成することができるが、異種材料から構成することも好ましい。
(5) Leakage prevention region Further, in adjusting the ratio of L1 / L2, as shown in FIGS. 7A to 7D, the leakage prevention region 23c of the liquid crystal material is provided on both outer sides of the injection hole 23a. Are preferably provided.
That is, as shown in FIG. 7A, leakage prevention regions 23c made of a line-shaped seal material are formed in parallel on both sides of the seal material 23 constituting the injection hole 23a. As shown in FIG. 5, the leakage preventing regions 23c made of a plurality of line-shaped sealing materials can be formed in parallel on both sides of the sealing material 23 constituting the injection hole 23a.
Further, as shown in FIG. 7C, a leakage preventing region 23c made of a line-shaped sealing material is formed adjacent to both sides of the sealing material 23 constituting the injection hole 23a. As shown in FIG. 5, the leakage prevention regions 23c made of a semicircular sealing material can be formed adjacent to both sides of the sealing material 23 constituting the injection hole 23a.
The reason for this is that by forming such a liquid crystal material leakage prevention region, it is possible to prevent the liquid crystal material from leaking to other than a predetermined location. Therefore, a better balance can be achieved between the injection property of the liquid crystal material, the sealing property of the liquid crystal device (liquid crystal panel), and the curing shrinkage of the sealant.
In addition, as a region for preventing leakage of a typical liquid crystal material, it can be formed at the same time in the same process as the sealing material by forming it from the same material as the sealing material, but it can also be formed from different materials. preferable.

[第2実施形態]
本発明の第2実施形態は、一対の基板を、枠状のシール材を介して貼り合せ、一対の基板と、シール材とにより液晶材料を保持する液晶パネルを備えた液晶装置の製造方法であって、
一対の基板の端辺側に延在して開口し、液晶材料を注入するための注入孔を有しており、当該注入孔のシール材の延在方向に沿った開口内寸幅をL1とし、当該注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅をL2としたときに、L1/L2の比率を1.2〜6の範囲内の値とした空セルを準備する工程と、
当該空セルに、液晶材料を真空注入する工程と、
注入孔を、封止して、液晶パネルとする工程と、
を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法である。
以下、図8〜図10を適宜参照し、液晶装置の製造方法につき、第1実施形態で説明したTFT素子を備えた液晶装置を例に採って説明する。
[Second Embodiment]
2nd Embodiment of this invention is a manufacturing method of the liquid crystal device provided with the liquid crystal panel which bonds a pair of board | substrate through a frame-shaped sealing material, and hold | maintains a liquid crystal material with a pair of board | substrate and a sealing material. There,
An opening extending to the end sides of the pair of substrates has an injection hole for injecting a liquid crystal material, and the inner width of the opening along the extending direction of the sealing material of the injection hole is L1. A step of preparing an empty cell having a ratio of L1 / L2 within a range of 1.2 to 6 when the width orthogonal to the extending direction of the sealing material in the vicinity of the injection hole is L2.
A step of vacuum-injecting a liquid crystal material into the empty cell;
Sealing the injection hole into a liquid crystal panel;
A method for manufacturing a liquid crystal device.
Hereinafter, the manufacturing method of the liquid crystal device will be described by taking the liquid crystal device including the TFT element described in the first embodiment as an example with reference to FIGS. 8 to 10 as appropriate.

1.TFT素子の形成工程
まず、TFT素子の形成工程を実施する。かかるTFT素子の形成工程は、素子基板の基体上に金属膜および絶縁膜を形成し、パターニングすることによって、図8(a)に示すように、TFT素子69等のスイッチング素子を形成する工程である。
このようなスイッチング素子69を形成するにあたり、ガラス基板等からなる基体61上に、ゲート電極71を形成する。このゲート電極71は、例えば、クロム、タンタル、モリブデン等の低抵抗材料から構成されており、スパッタリング法や電子ビーム蒸着法を用いて形成することができる。
1. TFT Element Formation Step First, a TFT element formation step is performed. The TFT element forming step is a step of forming a switching element such as the TFT element 69 as shown in FIG. 8A by forming a metal film and an insulating film on the base of the element substrate and patterning. is there.
In forming such a switching element 69, a gate electrode 71 is formed on a base 61 made of a glass substrate or the like. The gate electrode 71 is made of a low resistance material such as chromium, tantalum, or molybdenum, and can be formed using a sputtering method or an electron beam evaporation method.

次いで、このゲート電極71上に、絶縁層としてのゲート絶縁膜72を形成する。このゲート絶縁膜72は、窒化シリコン(SiNx)や酸化シリコン(SiOx)等の半導体材料からなる電気絶縁材料を積層させて形成することができる。
次いで、このゲート絶縁膜72上に、アモルファスシリコン(a−Si)、多結晶シリコン、CdSe等の半導体材料を積層させて半導体層70を形成する。さらに、この半導体層70の両端部分に、ドープされたアモルファスシリコン等によりコンタクト電極77を形成する。
Next, a gate insulating film 72 as an insulating layer is formed on the gate electrode 71. The gate insulating film 72 can be formed by laminating an electrical insulating material made of a semiconductor material such as silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx).
Next, a semiconductor layer 70 is formed on the gate insulating film 72 by stacking semiconductor materials such as amorphous silicon (a-Si), polycrystalline silicon, and CdSe. Further, contact electrodes 77 are formed at both ends of the semiconductor layer 70 from doped amorphous silicon or the like.

最後に、このコンタクト電極77と接触するように、ソース電極73及びそれと一体をなすドレイン電極66やソースバス配線75を形成する。このとき、ソース電極73、ソースバス配線75及びドレイン電極66は、例えばチタン、モリブデン、アルミニウム等の低抵抗材料を、スパッタリング法や電子ビーム蒸着法を用いることで形成することができる。一方、TFT素子69をスイッチングさせるための信号線(電気配線)65を電気接続する。   Finally, the source electrode 73 and the drain electrode 66 and the source bus wiring 75 integrated therewith are formed so as to come into contact with the contact electrode 77. At this time, the source electrode 73, the source bus wiring 75, and the drain electrode 66 can be formed by using a low-resistance material such as titanium, molybdenum, or aluminum, for example, by a sputtering method or an electron beam evaporation method. On the other hand, a signal line (electric wiring) 65 for switching the TFT element 69 is electrically connected.

2.画素電極等の形成工程
次いで、画素電極等の形成工程を実施する。かかる画素電極等の形成工程は、図8(b)〜(c)に示すように、TFT素子69が形成された基体61上に、有機絶縁膜からなる保護膜81と、透明導電膜からなる画素電極63と、を順次形成する工程である。
より具体的には、TFT素子69が形成してある基体61上に、光硬化性樹脂等の樹脂材料を塗布するとともに、この樹脂層に対して所定のパターニングを施すことにより有機絶縁膜からなる保護膜81を形成する。
2. Step of forming pixel electrode etc. Next, a step of forming pixel electrode etc. is carried out. As shown in FIGS. 8B to 8C, the formation process of the pixel electrode and the like includes a protective film 81 made of an organic insulating film and a transparent conductive film on the base 61 on which the TFT element 69 is formed. In this step, the pixel electrodes 63 are sequentially formed.
More specifically, a resin material such as a photocurable resin is applied onto the base 61 on which the TFT element 69 is formed, and the resin layer is subjected to predetermined patterning to form an organic insulating film. A protective film 81 is formed.

次いで、この有機絶縁膜からなる保護膜81内に設けられたコンタクトホール83の周辺部であって、反射領域(R)に相当する領域に対して、アルミニウム等の金属を蒸着した後、この膜に対して、フォトリソグラフィ及びエッチング法を施すことで、表示領域にマトリクス状の光反射膜79を形成する。
一方、透過領域(T)に相当する領域に対して、スパッタリング法等により透明導電膜を形成することにより、画素電極63を形成し、素子基板60の基本形態とする。
Next, after depositing a metal such as aluminum on the periphery of the contact hole 83 provided in the protective film 81 made of the organic insulating film and corresponding to the reflective region (R), this film On the other hand, a matrix-like light reflecting film 79 is formed in the display region by performing photolithography and etching.
On the other hand, a pixel electrode 63 is formed by forming a transparent conductive film by a sputtering method or the like in a region corresponding to the transmissive region (T), which is a basic form of the element substrate 60.

次いで、このようにして得られた素子基板60に対して、ポリイミド樹脂等からなる配向膜85を形成するとともに、この配向膜85にラビング処理を施すことにより、配向制御機能を持たせることができる。
最後に、TFT素子や画素電極が形成された基体上に、フォトリソグラフィ法等を用いて、感光性樹脂材料からなる樹脂膜としての柱状スペーサ(フォトスペーサ)を形成する。この柱状スペーサにより、素子基板60と、対向基板30との間隙幅(セルギャップ)を正確に規定して、所望の表示特性を得ることができる。
Next, an orientation film 85 made of polyimide resin or the like is formed on the element substrate 60 obtained as described above, and the orientation control function can be provided by performing a rubbing process on the orientation film 85. .
Finally, columnar spacers (photospacers) as a resin film made of a photosensitive resin material are formed on the substrate on which the TFT elements and pixel electrodes are formed by using a photolithography method or the like. With this columnar spacer, the gap width (cell gap) between the element substrate 60 and the counter substrate 30 can be accurately defined, and desired display characteristics can be obtained.

3.着色層の形成工程
次いで、対向基板の製造工程について説明する。まず、着色層の形成工程を実施する。かかる着色層の形成工程は、図9(a)〜(b)に示すように、対向基板30の基体31上に着色層37(37r、37g、37b)、遮光膜39及び層厚調整層41等を順次形成する工程である。
より具体的には、基体31上に、顔料や染料等の着色材を分散させた樹脂材料からなる感光性樹脂を塗布し、この感光性樹脂に対してパターン露光及び現像処理を順次施すことにより、着色層37(37r、37g、37b)を形成することができる。
なお、かかる露光及び現像処理は、R(赤)、G(緑)、B(青)それぞれの色毎に繰り返すことで、3色に対応した着色層37r、37g、37bをそれぞれ形成することができる。
3. Step of forming colored layer Next, a step of manufacturing the counter substrate will be described. First, a colored layer forming step is performed. As shown in FIGS. 9A to 9B, the colored layer forming process includes a colored layer 37 (37 r, 37 g, 37 b), a light shielding film 39, and a layer thickness adjusting layer 41 on the base 31 of the counter substrate 30. And the like are sequentially formed.
More specifically, a photosensitive resin made of a resin material in which a coloring material such as a pigment or a dye is dispersed is applied on the substrate 31, and pattern exposure and development processing are sequentially performed on the photosensitive resin. The colored layer 37 (37r, 37g, 37b) can be formed.
The exposure and development processes are repeated for each color of R (red), G (green), and B (blue), thereby forming colored layers 37r, 37g, and 37b corresponding to the three colors, respectively. it can.

次いで、それぞれの画素領域の境界領域に遮光膜39を形成する。この遮光膜39に用いられる材料としては、例えば、クロム(Cr)やモリブテン(Mo)等の金属膜を使用したり、あるいは、R、G、Bの3色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたりしたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたりしたものなどを用いることができる。
したがって、かかる遮光膜39を金属膜から形成するに際しては、例えば、クロム(Cr)等の金属材料をスパッタリング法等により基体31上に積層した後、所定パターンに合せて、エッチング処理を施すことによって形成することになる。
Next, a light shielding film 39 is formed in the boundary region between the respective pixel regions. As a material used for the light shielding film 39, for example, a metal film such as chromium (Cr) or molybdenum (Mo) is used, or a coloring material of three colors of R, G, B is used as a resin or other base material. What was disperse | distributed in the material, what disperse | distributed coloring materials, such as a black pigment and dye, in resin and another base material, etc. can be used.
Therefore, when forming the light shielding film 39 from a metal film, for example, a metal material such as chromium (Cr) is laminated on the substrate 31 by a sputtering method or the like, and then subjected to an etching process according to a predetermined pattern. Will form.

最後に、着色層37(37r、37g、37b)や、遮光膜39等が形成された対向基板の基体31上に、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂等を用いて、全面的に層厚調整層41を形成する。
この層厚調整層41は、透過領域(T)と反射領域(R)とのリタデーション調整のための層であって、光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等の樹脂材料に対して所定のパターニングを施すことにより形成される。
Finally, on the substrate 31 of the counter substrate on which the colored layer 37 (37r, 37g, 37b), the light-shielding film 39, and the like are formed, for example, an acrylic resin, an epoxy resin, a polyimide resin, a fluorine resin, or the like is used. Thus, the layer thickness adjusting layer 41 is formed.
The layer thickness adjusting layer 41 is a layer for adjusting the retardation of the transmission region (T) and the reflection region (R), and has a predetermined patterning with respect to a resin material such as a photocurable resin or a thermosetting resin. It is formed by applying.

4.対向電極等の形成工程
次いで、対向電極の形成工程を実施する。かかる対向電極の形成工程は、図9(c)に示すように、対向基板に形成された着色層37(37r、37g、37b)、遮光膜39及び層厚調整層41に、透明導電材料等からなる対向電極33を形成する工程である。
より具体的には、着色層37(37r、37g、37b)及び遮光膜39が形成された対向基板の基体31上に、スパッタリング法等により透明導電膜を積層した後、フォトリソグラフィ法及びエッチング法により、表示領域全面に所定パターンを有する対向電極33を形成する。
さらに、この対向電極33の表面に、ポリイミド樹脂等からなる配向膜45を形成することで、対向基板30の基本形態とすることができる。
ここで、上述した素子基板60に用いられるスイッチング素子が、TFT素子(Thin
Film Transistor)69の場合には、この対向電極33は、それぞれのセル領域に対応した面状電極としてパターニングされる。
4). Step of forming counter electrode, etc. Next, a step of forming the counter electrode is performed. As shown in FIG. 9C, such a counter electrode forming process includes a transparent conductive material or the like on the colored layer 37 (37r, 37g, 37b), the light shielding film 39, and the layer thickness adjusting layer 41 formed on the counter substrate. This is a step of forming the counter electrode 33 made of
More specifically, a transparent conductive film is laminated by sputtering or the like on the substrate 31 of the counter substrate on which the colored layer 37 (37r, 37g, 37b) and the light shielding film 39 are formed, and then a photolithography method and an etching method. Thus, the counter electrode 33 having a predetermined pattern is formed on the entire display area.
Furthermore, by forming an alignment film 45 made of polyimide resin or the like on the surface of the counter electrode 33, the basic form of the counter substrate 30 can be obtained.
Here, the switching element used for the element substrate 60 described above is a TFT element (Thin
In the case of a film transistor 69, the counter electrode 33 is patterned as a planar electrode corresponding to each cell region.

5.組立工程
次いで、組立工程は、図10(a)〜(b)に示すように、素子基板60と、対向基板30とを、シール材23を介して貼り合わせ、その間隙に液晶材料21を注入する工程である。より具体的には、対向基板30と、シール材23が形成された素子基板60と、をアライメントして貼り合わせ位置を確定する。
その後、両基板を重ね合わせて接合させた後、加熱しながら加圧保持して、シール材23を硬化させながら対向基板30と、素子基板60とを貼合せることにより、図10(b)に示すように、内部に間隙21aを備えた空セルが形成される。
5. Assembling Step Next, as shown in FIGS. 10A to 10B, the assembling step is performed by bonding the element substrate 60 and the counter substrate 30 through the sealing material 23 and injecting the liquid crystal material 21 into the gap. It is a process to do. More specifically, the counter substrate 30 and the element substrate 60 on which the sealing material 23 is formed are aligned to determine the bonding position.
Thereafter, the two substrates are overlapped and bonded, and then heated and pressurized, and the counter substrate 30 and the element substrate 60 are bonded to each other while curing the sealing material 23, whereby FIG. 10B is obtained. As shown, an empty cell having a gap 21a therein is formed.

次いで、かかる空セルの間隙21aに対して、真空吸引法等の公知の方法により液晶材料21を注入した後、その注入口を、紫外線硬化型樹脂等の封止樹脂を用いて封止する。
そして、このように、液晶材料を注入するための注入孔の開口幅をL1とし、当該注入孔の近傍におけるシール材の幅をL2としたときに、L1/L2の比率を1.2〜6の範囲内の値とした空セルを準備する工程と、当該空セルに、液晶材料を真空注入する工程と、注入孔を、封止して、液晶パネルとする工程と、を含むことにより、液晶パネルに液晶材料を封入する際の封止剤の硬化収縮の影響を著しく低減させることができる。
したがって、注入孔の近傍を含めて、全体的に、セル厚さを均一にすることができ、それにより、STN液晶材料等を用いた場合であっても、優れた画像表示特性を有する液晶パネルを効率的に得ることができる。
Next, after the liquid crystal material 21 is injected into the gap 21a of the empty cell by a known method such as a vacuum suction method, the injection port is sealed using a sealing resin such as an ultraviolet curable resin.
Thus, when the opening width of the injection hole for injecting the liquid crystal material is L1, and the width of the sealing material in the vicinity of the injection hole is L2, the ratio of L1 / L2 is 1.2-6. A step of preparing an empty cell having a value within the range of, a step of vacuum-injecting a liquid crystal material into the empty cell, and a step of sealing the injection hole to form a liquid crystal panel, The influence of curing shrinkage of the sealant when the liquid crystal material is sealed in the liquid crystal panel can be significantly reduced.
Therefore, the cell thickness can be made uniform as a whole, including the vicinity of the injection hole, so that a liquid crystal panel having excellent image display characteristics even when STN liquid crystal material or the like is used. Can be obtained efficiently.

最後に、素子基板60の外表面に位相差板87と、偏光板89と、を貼り付けるとともに、対向基板30の外表面に位相差板47と、偏光板49とを貼り付けることにより、図10(b)に示すように、液晶パネル20の組立を終了することができる。
なお、液晶パネル20の組立てた後、図示しないが、通常、電気配線の一部に設けてある同電位ラインを切断し、電圧印加等によって、点灯検査を行うことが好ましい。
Finally, the retardation plate 87 and the polarizing plate 89 are attached to the outer surface of the element substrate 60, and the retardation plate 47 and the polarizing plate 49 are attached to the outer surface of the counter substrate 30. As shown in FIG. 10B, the assembly of the liquid crystal panel 20 can be completed.
Although not shown in the drawings after the liquid crystal panel 20 is assembled, it is usually preferable to perform a lighting inspection by cutting the same potential line provided in a part of the electrical wiring and applying a voltage or the like.

6.実装工程等
そして、図3に示すように、組立てられた液晶パネル20の基板張り出し部60Tに対して、半導体素子91等の電子部品を実装したり、フレキシブル回路基板93を接続したりするとともに、バックライト(図示せず)等の照明部材を所定位置に配置した上で、これらを筐体(図示せず)に組み込むことにより、液晶装置10を製造することができる。
6). As shown in FIG. 3, the electronic component such as the semiconductor element 91 is mounted on the substrate projecting portion 60T of the assembled liquid crystal panel 20, and the flexible circuit board 93 is connected. The liquid crystal device 10 can be manufactured by disposing illumination members such as a backlight (not shown) at predetermined positions and incorporating them into a casing (not shown).

[第3実施形態]
本発明の第3実施形態として、第1実施形態の液晶装置を備えた電子機器について具体的に説明する。
[Third Embodiment]
As a third embodiment of the present invention, an electronic apparatus including the liquid crystal device according to the first embodiment will be specifically described.

図11は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶パネル20と、これを制御するための制御手段200とを有している。また、図11中では、液晶パネル20を、パネル構造体20Aと、半導体素子(IC)等で構成される駆動回路20Bと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段200は、表示情報出力源201と、表示処理回路202と、電源回路203と、タイミングジェネレータ204とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源201は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ1240によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示処理回路202に供給するように構成されていることが好ましい。
FIG. 11 is a schematic configuration diagram showing the overall configuration of the electronic apparatus of the present embodiment. This electronic device has a liquid crystal panel 20 and a control means 200 for controlling the liquid crystal panel 20. In FIG. 11, the liquid crystal panel 20 is conceptually divided into a panel structure 20 </ b> A and a drive circuit 20 </ b> B composed of a semiconductor element (IC) or the like. The control means 200 preferably includes a display information output source 201, a display processing circuit 202, a power supply circuit 203, and a timing generator 204.
The display information output source 201 includes a memory composed of a ROM (Read Only Memory), a RAM (Random Access Memory), etc., a storage unit composed of a magnetic recording disk, an optical recording disk, etc., and a tuning that outputs a digital image signal in a synchronized manner. It is preferable that the display information is supplied to the display processing circuit 202 in the form of an image signal or the like of a predetermined format based on various clock signals generated by the timing generator 1240.

また、表示処理回路202は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号CLKと共に駆動回路20Bへ供給することが好ましい。さらに、駆動回路20Bは、第1の配線パターン駆動回路、第2の配線パターン駆動回路及び検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路203は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。   The display processing circuit 202 includes various well-known circuits such as a serial-parallel conversion circuit, an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, and a clamp circuit, and executes processing of input display information to display the image. Information is preferably supplied to the drive circuit 20B together with the clock signal CLK. Further, the drive circuit 20B preferably includes a first wiring pattern drive circuit, a second wiring pattern drive circuit, and an inspection circuit. Further, the power supply circuit 203 has a function of supplying a predetermined voltage to each of the above-described components.

そして、本実施形態の電子機器であれば、液晶パネルを組み立てる際の封止剤の硬化収縮の悪影響を著しく低減させることができる。したがって、セル厚さが均一であって、優れた画像表示特性を有する液晶パネルを備えていることから、携帯電話等の電子機器として、優れた画像表示特性を発揮することができる。   And if it is the electronic device of this embodiment, the bad influence of hardening shrinkage | contraction of the sealing agent at the time of assembling a liquid crystal panel can be reduced significantly. Therefore, since the cell thickness is uniform and the liquid crystal panel having excellent image display characteristics is provided, excellent image display characteristics can be exhibited as an electronic device such as a mobile phone.

本発明の液晶装置及び液晶装置の製造方法等によれば、液晶パネルを組み立てる際の封止剤の硬化収縮の悪影響を著しく低減させることができるようになった。
したがって、全体的なセル厚さを均一にすることができ、STN液晶材料等を用いた場合であっても、優れた画像表示特性を有する液晶パネルを提供できるようになった。
よって、液晶装置の画像表示特性を向上させることができるばかりか、製造する際の歩留まりについても向上させることができる。それにより、液晶装置を備えた電子機器、例えば、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた電子機器、電子放出素子を備えた装置(FED:Field Emission DisplayやSCED:Surface-Conduction Electron-Emitter Display)などを安価に提供することができる。
According to the liquid crystal device and the manufacturing method of the liquid crystal device of the present invention, the adverse effect of curing shrinkage of the sealing agent when assembling the liquid crystal panel can be significantly reduced.
Therefore, the overall cell thickness can be made uniform, and a liquid crystal panel having excellent image display characteristics can be provided even when an STN liquid crystal material or the like is used.
Therefore, not only the image display characteristics of the liquid crystal device can be improved, but also the yield in manufacturing can be improved. As a result, electronic devices equipped with liquid crystal devices, such as mobile phones and personal computers, liquid crystal televisions, viewfinder type / monitor direct view type video tape recorders, car navigation devices, pagers, electrophoresis devices, electronic notebooks. , Calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, electronic devices with touch panels, devices with electron-emitting devices (FED: Field Emission Display and SCED: Surface-Conduction Electron-Emitter Display) can do.

液晶装置におけるシール材を説明するために供する概略図である。It is the schematic provided in order to demonstrate the sealing material in a liquid crystal device. (a)〜(b)は、それぞれ第1実施形態の液晶装置を示す断面図及び平面図である。(A)-(b) is sectional drawing and a top view which show the liquid crystal device of 1st Embodiment, respectively. 第1実施形態の液晶装置を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the liquid crystal device of 1st Embodiment. (a)〜(b)は、それぞれスペーサ粒子を説明するために供する図である。(A)-(b) is a figure provided in order to demonstrate spacer particle | grains, respectively. (a)〜(b)は、それぞれシール材の一態様を説明するために供する図である。(A)-(b) is a figure provided in order to demonstrate the one aspect | mode of a sealing material, respectively. (a)〜(d)は、それぞれ逆流防止用領域を説明するために供する図である。(A)-(d) is a figure provided in order to demonstrate the area | region for backflow prevention, respectively. (a)〜(d)は、それぞれ漏れ防止用領域を説明するために供する図である。(A)-(d) is a figure provided in order to demonstrate the area | region for leak prevention, respectively. (a)〜(c)は、素子基板を形成するための製造工程を示す図である。(A)-(c) is a figure which shows the manufacturing process for forming an element substrate. (a)〜(c)は、対向基板を形成するための製造工程を示す図である。(A)-(c) is a figure which shows the manufacturing process for forming a counter substrate. (a)〜(c)は、液晶装置の製造工程を示す図である。(A)-(c) is a figure which shows the manufacturing process of a liquid crystal device. 電子機器を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate an electronic device. (a)〜(b)は、それぞれ従来の液晶装置を説明するために供する図である。(A)-(b) is a figure provided in order to demonstrate the conventional liquid crystal device, respectively. 従来の液晶装置を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the conventional liquid crystal device. 従来の液晶装置におけるRドットサイズの影響を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the influence of R dot size in the conventional liquid crystal device. 液晶パネルにおいてセルむらが生じるメカニズムを説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the mechanism which a cell nonuniformity produces in a liquid crystal panel.

符号の説明Explanation of symbols

10:液晶装置、11:外部端子、20:液晶パネル、23:シール材、23a:注入孔、23b:遮光膜、23c:漏れ防止用領域、23d:逆流防止用領域、24:スペーサ粒子、25:封止剤、30:対向基板、37(37r、37g、37b):カラーフィルタ、60:素子基板、63:画素電極、65::電気配線、69:非線形素子(TFT素子)、75:電気配線、79:光反射膜、85:配向膜、93:フレキシブル回路基板 10: Liquid crystal device, 11: External terminal, 20: Liquid crystal panel, 23: Sealing material, 23a: Injection hole, 23b: Light shielding film, 23c: Leakage prevention region, 23d: Backflow prevention region, 24: Spacer particles, 25 : Sealant, 30: Counter substrate, 37 (37r, 37g, 37b): Color filter, 60: Element substrate, 63: Pixel electrode, 65 :: Electrical wiring, 69: Non-linear element (TFT element), 75: Electricity Wiring, 79: Light reflecting film, 85: Alignment film, 93: Flexible circuit board

Claims (9)

一対の基板を、枠状のシール材を介して貼り合せ、前記一対の基板と、シール材とにより液晶材料を保持する液晶パネルを備えた液晶装置であって、
前記液晶パネルは、前記枠状のシール材から、前記一対の基板の端辺側に延在して開口し、前記液晶材料を注入するための注入孔を有しており、
当該注入孔のシール材の延在方向に沿った開口内寸幅をL1とし、当該注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅をL2としたときに、L1/L2の比率を1.2〜6の範囲内の値とすることを特徴とする液晶装置。
A pair of substrates are bonded together via a frame-shaped sealing material, and the liquid crystal device includes a liquid crystal panel that holds a liquid crystal material by the pair of substrates and the sealing material,
The liquid crystal panel extends from the frame-shaped sealing material to the end sides of the pair of substrates and has an injection hole for injecting the liquid crystal material.
When the inner dimension width of the opening along the extending direction of the sealing material of the injection hole is L1, and the width orthogonal to the extending direction of the sealing material in the vicinity of the injection hole is L2, the ratio of L1 / L2 is 1. A liquid crystal device having a value in the range of 1.2 to 6.
前記注入孔のシール材の延在方向に沿った開口内寸幅L1を1〜2mmの範囲内の値とすることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。   2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein an inside dimension L <b> 1 of the opening along the extending direction of the sealing material of the injection hole is set to a value within a range of 1 to 2 mm. 前記注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅L2を0.34〜0.8mmの範囲内の値とすることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶装置。   3. The liquid crystal device according to claim 1, wherein a width L <b> 2 orthogonal to the extending direction of the sealing material in the vicinity of the injection hole is set to a value within a range of 0.34 to 0.8 mm. 前記シール材が、熱硬化性樹脂から構成されているとともに、前記注入孔を、紫外線硬化モノマと、紫外線硬化オリゴマと、の混合物から構成された紫外線硬化樹脂を用いて封止してあることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の液晶装置。   The sealing material is made of a thermosetting resin, and the injection hole is sealed with an ultraviolet curable resin made of a mixture of an ultraviolet curable monomer and an ultraviolet curable oligomer. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the liquid crystal device is a liquid crystal device. 前記注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅を、前記注入孔の非近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅よりも太くすることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の液晶装置。   The width perpendicular to the extending direction of the sealing material in the vicinity of the injection hole is made thicker than the width orthogonal to the extending direction of the sealing material in the non-near vicinity of the injection hole. The liquid crystal device according to any one of the above. 前記注入孔の内側に、液晶材料の逆流防止用領域を設けることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein a region for preventing a backflow of liquid crystal material is provided inside the injection hole. 前記注入孔におけるシール材の延在方向の外側に、前記液晶材料の漏れ防止用領域が設けてあることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein an area for preventing leakage of the liquid crystal material is provided outside the injection hole in the extending direction of the sealing material. 一対の基板を、枠状のシール材を介して貼り合せ、前記一対の基板と、シール材とにより液晶材料を保持する液晶パネルを備えた液晶装置の製造方法であって、
前記一対の基板の端辺側に延在して開口し、液晶材料を注入するための注入孔を有しており、当該注入孔のシール材の延在方向に沿った開口内寸幅をL1とし、当該注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅をL2としたときに、L1/L2の比率を1.2〜6の範囲内の値とした空セルを準備する工程と、
当該空セルに、前記液晶材料を真空注入する工程と、
前記注入孔を、封止して、液晶パネルとする工程と、
を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
A method of manufacturing a liquid crystal device including a liquid crystal panel that holds a liquid crystal material by bonding a pair of substrates via a frame-shaped sealing material, and holding the liquid crystal material by the pair of substrates and the sealing material,
An opening extending to the end sides of the pair of substrates and having an injection hole for injecting a liquid crystal material, and the inner width of the opening along the extending direction of the sealing material of the injection hole is L1. And a step of preparing empty cells in which the ratio of L1 / L2 is a value in the range of 1.2 to 6 when the width orthogonal to the extending direction of the sealing material in the vicinity of the injection hole is L2. ,
Vacuum injection of the liquid crystal material into the empty cell;
Sealing the injection hole to form a liquid crystal panel;
A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising:
請求項1〜7のいずれかに記載された液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1.
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