JP2008239423A - 光学素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】溶融ガラスを受ける受け面を有する下型と、下型と協働して溶融ガラスを加圧成形する凹形状の成形面を有する上型とで溶融ガラスを加圧成形する。下型の上に溶融ガラスを供給した後、中央部の曲率半径が上型の成形面の中央部の曲率半径よりも小さい凹面を有する変形用上型によって溶融ガラスを変形させ、変形した溶融ガラスの上面の中央部から先に上型の成形面に接触させて加圧成形する。
【選択図】図5
Description
(成形金型)
図1は、本実施形態で用いる成形金型10の断面図である。成形金型10は、溶融ガラスを受ける受け面14を有する下型11、下型11と協働して溶融ガラスを加圧成形する凹形状の成形面15を有する上型12を備えている。成形金型10は、更に、下型11の上で溶融ガラスの広がりを規制する側壁13を備えている。下型11は加圧手段32によって上下に駆動可能に構成されている。また、側壁13は、上下方向への移動と回転移動の可能な回転軸33に接続され、下型11に対して相対的に移動して溶融ガラスと接触しない位置に退避することが可能となっている。
図2は、本実施形態における光学素子の製造方法を示すフローチャートである。本実施形態における光学素子の製造方法は、(S1)下型11の上に溶融ガラスを供給する溶融ガラス供給工程、(S2)側壁13を溶融ガラスと接触しない位置に退避させる側壁退避工程、(S3)変形用上型によって前記溶融ガラスの上面を所定の凸形状に変形させる変形工程、(S4)変形した溶融ガラスを加圧成形する加圧成形工程の各工程を順に行うことによって光学素子を製造する方法である。
側壁退避工程は、側壁13と下型11とを相対的に移動させて側壁13を溶融ガラス40と接触しない位置に退避させる工程である。本実施形態では、側壁13が接続された回転軸33を上昇させた後所定の角度だけ回転させることで側壁13を退避させている。図4は、側壁13が退避した後の状態の下型11と溶融ガラス40を示す模式図である。
変形工程は、溶融ガラス40の供給から所定時間後に、変形用上型によって溶融ガラス40の上面を所定の凸形状に変形させる工程である。図5は、変形工程における溶融ガラスの状態を示す模式図である。図5(a)は変形用上型16によって溶融ガラス40を変形させている状態を、図5(b)は変形が完了し、変形用上型16を退避させた後の状態をそれぞれ示している。
変形工程で溶融ガラス40を変形させた後、変形した溶融ガラス40を、下型11と上型12とで加圧成形し、成形面15の転写面である第1の光学面を形成する。図6は、加圧成形工程における溶融ガラスの状態を示す模式図である。図6(a)は加圧成形の開始時点において溶融ガラス40の上面41の中央部が上型12の成形面15に接触した状態を、図6(b)は加圧成形中の状態をそれぞれ示している。
本実施形態では、上述の実施形態1と同様に加圧成形によって上型12の成形面15の転写による第1の光学面を有する光学素子を作製し、その後更に第1の光学面に対向する第2の光学面を研磨加工によって形成することで最終的な光学素子を製造する。
本実施形態では、上述の実施形態1と同様に加圧成形によって上型12の成形面15の転写による第1の光学面を有する光学素子を作製し、その後第1の光学面の上に反射膜を形成することで高精度な反射面を有する光学素子を製造する。
11 下型
12 上型
13 側壁
14 受け面
15 成形面
16 変形用上型
17 凹面
40 溶融ガラス
41 溶融ガラス40の上面
42 溶融ガラス40の側面
44 第2の光学面
45、46、50、51 光学素子
47、52 第1の光学面(転写面)
53 反射膜
Claims (4)
- 溶融ガラスを成形金型で加圧成形して、少なくとも1つの光学面を有する光学素子を製造する光学素子の製造方法において、
前記成形金型は、前記溶融ガラスを受ける受け面を有する下型と、前記下型と協働して前記溶融ガラスを加圧成形する凹形状の成形面を有する上型とを備え、
前記下型の受け面に前記溶融ガラスを供給する溶融ガラス供給工程と、
前記溶融ガラスの供給から所定時間後に、中央部の曲率半径が前記成形面の中央部の曲率半径よりも小さい凹面を有する変形用上型によって、前記溶融ガラスの上面を所定の凸形状に変形させる変形工程と、
変形した前記溶融ガラスを前記下型と前記上型とで加圧成形し、前記成形面の転写面である第1の光学面を形成する加圧成形工程と、を有することを特徴とする光学素子の製造方法。 - 前記成形金型は、更に、前記下型の上で前記溶融ガラスの広がりを規制する側壁を有し、
前記変形工程の前に、前記側壁を前記溶融ガラスと接触しない位置に退避させる側壁退避工程を有することを特徴とする請求項1に記載の光学素子の製造方法。 - 前記第1の光学面に対向する第2の光学面を研磨加工によって形成する工程を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の光学素子の製造方法。
- 前記第1の光学面に反射膜を形成する工程を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の光学素子の製造方法。
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2007
- 2007-03-28 JP JP2007084007A patent/JP2008239423A/ja active Pending
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