JP2008238634A - Molding method and microlens manufacturing method - Google Patents
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- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
【課題】離型性に優れ、また所定の表面形状を得ることができる成型方法を提供する。
【解決手段】所定形状の成形面16を有する成形型1に成形材料Mを密着させて成形物を形成する成形工程と、成形物を成形型1から離型させる離型工程とを有する。成形工程前に、成形型1の成形面16に剥離膜18を成膜する成膜工程と、離型工程前に、成形型1に設けられ成形面16に通じる導入路を介してエッチング液Eを導入し剥離膜18を除去する除去工程とを有する。
【選択図】図5An object of the present invention is to provide a molding method which is excellent in releasability and can obtain a predetermined surface shape.
SOLUTION: A molding step in which a molding material M is brought into close contact with a molding die 1 having a molding surface 16 having a predetermined shape to form a molding, and a mold releasing step in which the molding is released from the molding die 1. Before the molding step, the etching solution E is formed through a film forming step for forming the release film 18 on the molding surface 16 of the molding die 1 and an introduction path provided in the molding die 1 and leading to the molding surface 16 before the releasing step. And a removal step of removing the release film 18.
[Selection] Figure 5
Description
本発明は、成型方法及びマイクロレンズの製造方法に関するものである。 The present invention relates to a molding method and a microlens manufacturing method.
CD−ROM、その他の情報記録媒体、平板マイクロレンズ(多数の微小レンズを基板上に平行あるいは千鳥配列したレンズ列)、フレネルレンズ、回折格子素子、光導波路素子などの光学部品を製造するために用いられるゾルゲル法は、所定の基板上に一定厚みで塗布したゾルゲル材料に対して、所定の表面形状を有する成形型を一定時間押圧させながら加熱し、次いでゾルゲル材料から成形型を離型させてから再度ゾルゲル材料を焼結して溶媒を蒸発させ、これにより所望の表面形状および膜厚を有する物品を得るものである。 For manufacturing optical components such as CD-ROMs, other information recording media, flat microlenses (a lens array in which a large number of microlenses are arranged in parallel or staggered on a substrate), Fresnel lenses, diffraction grating elements, optical waveguide elements, etc. The sol-gel method to be used is to heat a sol-gel material coated with a predetermined thickness on a predetermined substrate while pressing a mold having a predetermined surface shape for a predetermined time, and then release the mold from the sol-gel material. The sol-gel material is again sintered to evaporate the solvent, thereby obtaining an article having a desired surface shape and film thickness.
前述したゾルゲル法において、所定表面形状を有する物品の製造工程を高速化するとともに不良率を低下させ、かつ、所定表面形状を有する物品の寸法精度を向上させるためには、ゾルゲル材料に対して成形型が良好な離型性を有している事が必須となっている。このため、ゾルゲル法に用いられる成形型への離型膜の検討がされてきた。
ところが、膜厚みが1μm以上の厚膜のゲル化膜を製造する場合、成形型表面の離型膜が剥がれたり、ゲル化膜の一部が成形型に付着して残ったりして、十分な離型性が得られないことであるため、特許文献1には成形物に対する離型性が良好で機械的強度及び耐腐食性に優れたAu(金)スパッタ膜を成形型の表面に成膜する技術が開示されている。
However, in the case of producing a thick gelled film having a film thickness of 1 μm or more, the release film on the surface of the mold is peeled off or a part of the gelled film remains attached to the mold. Since the releasability is not obtained, in
しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
一般に、Au膜は、ゾルゲル材料や2P成形材料に対しては密着力が低く離型性に優れているが、成形材料によっては接着助剤等に改良が加えられ、離型性が低下することがある。また、Au膜の他に、フッ素樹脂等の離型性を高める材料を成形型の表面に成膜することも考えられるが、これらの材料は成形材料に対する濡れ性が低いため、成形材料が成形型に濡れ広がらずに未充填等の問題が生じる可能性もある。
However, the following problems exist in the conventional technology as described above.
In general, the Au film has low adhesion to sol-gel materials and 2P molding materials and is excellent in releasability. However, depending on the molding material, the adhesion aid etc. may be improved and the releasability will be reduced. There is. In addition to the Au film, it may be possible to form a material that enhances mold release properties, such as fluororesin, on the surface of the mold, but these materials have low wettability to the molding material, so the molding material is molded. There is a possibility that problems such as unfilling may occur without the mold getting wet and spreading.
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、離型性に優れ、また所定の表面形状を得ることができる成型方法及びマイクロレンズの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of the above points, and an object thereof is to provide a molding method and a microlens manufacturing method that are excellent in releasability and can obtain a predetermined surface shape. .
上記の目的を達成するために本発明は、以下の構成を採用している。
本発明の成型方法は、所定形状の成形面を有する成形型に成形材料を密着させて成形物を形成する成形工程と、前記成形物を前記成形型から離型させる離型工程とを有する成型方法であって、前記成形工程前に、前記成形型の前記成形面に剥離膜を成膜する成膜工程と、前記離型工程前に、前記成形型に設けられ前記成形面に通じる導入路を介してエッチング液を導入し前記剥離膜を除去する除去工程と、を有することを特徴とするものである。
従って、本発明の成型方法では、剥離膜は離型膜と異なり、成形材料の濡れ性に悪影響を与えない材料で成膜することにより、未充填を生じさせることなく成形型の成形面に応じた成形物を得ることができる。また、本発明では、成形物と成形型との間に介在する剥離層をエッチング液で溶解して除去するため、成形物と成形型との密着部がなくなり容易に成形物を成形型から離型させることが可能になるとともに、成形物に傷を付けることも回避でき、高品質の成形物を得ることが可能になる。
In order to achieve the above object, the present invention employs the following configuration.
The molding method of the present invention includes a molding step in which a molding material is brought into close contact with a molding die having a molding surface having a predetermined shape, and a mold release step in which the molding is released from the molding die. A film forming step of forming a release film on the molding surface of the mold before the molding step, and an introduction path provided in the molding die and leading to the molding surface before the mold releasing step. And a removal step of removing the release film by introducing an etchant through the substrate.
Therefore, in the molding method of the present invention, unlike the release film, the release film is formed of a material that does not adversely affect the wettability of the molding material, so that it can be applied to the molding surface of the mold without causing unfilling. A molded product can be obtained. Further, in the present invention, since the peeling layer interposed between the molded product and the mold is removed by dissolving with an etching solution, there is no adhesion between the molded product and the mold, and the molded product is easily separated from the mold. It becomes possible to mold, and it is also possible to avoid scratching the molded product, and it becomes possible to obtain a high-quality molded product.
また、本発明では、前記成形型を多孔質材で形成し、前記エッチング液を前記成形型に浸透させて前記成形面に導入する手順も好適に採用できる。
これにより、本発明では、別途成形面に通じるエッチング液の導入路を形成する必要がなくなり、成形型の製造効率の向上及び製造コスト削減に寄与できる。さらに、本発明では、成形面の全面に亘ってエッチング液を導入できるため、剥離工程時間の短縮化に寄与できるとともに、部分的に剥離膜が残って成形物の離型性が低下することも防止できる。
なお、導入路を部分的に形成してエッチング液を導入しても、剥離膜を徐々に溶解して除去することが可能である。
In the present invention, it is also possible to suitably employ a procedure in which the mold is formed of a porous material, and the etching solution is introduced into the mold surface by penetrating the mold.
Thereby, in this invention, it becomes unnecessary to form the introduction path | route of the etching liquid which leads to a shaping | molding surface separately, and it can contribute to the improvement of the manufacturing efficiency of a shaping | molding die, and manufacturing cost reduction. Furthermore, in the present invention, since the etching solution can be introduced over the entire molding surface, it can contribute to shortening of the peeling process time, and the release film may partially remain and the mold release property of the molded product may deteriorate. Can be prevented.
Note that even if the introduction path is partially formed and the etching solution is introduced, the release film can be gradually dissolved and removed.
また、本発明では、前記成形型を粉末焼結法で形成する構成も好適に採用できる。
これにより、本発明では、容易に100μm以下の微細気孔径で平滑性を有し、且つエッチング液が浸透可能な成形型を製造することが可能になる。
Moreover, in this invention, the structure which forms the said shaping | molding die by a powder sintering method can also be employ | adopted suitably.
Thereby, in this invention, it becomes possible to manufacture the shaping | molding die which has smoothness with the fine pore diameter of 100 micrometers or less, and can permeate | transmit an etching liquid.
前記成膜工程としては、前記成形面に平滑化膜を成膜する工程と、前記平滑化膜上に前記剥離膜を成膜する工程とを有し、前記除去工程では、前記平滑化膜及び前記剥離膜を除去する手順も好適に採用できる。
これにより、本発明では、成形面が多孔質材で形成されて平滑性に劣る場合でも、剥離膜は平滑化膜上に成膜されるため、当該平滑化膜及び剥離膜を介して成形面の形状が転写される成形物の表面を平滑化することが可能になる。
The film forming step includes a step of forming a smoothing film on the molding surface and a step of forming the release film on the smoothing film. In the removing step, the smoothing film and A procedure for removing the release film can also be suitably employed.
As a result, in the present invention, even when the molding surface is formed of a porous material and is inferior in smoothness, the release film is formed on the smoothing film, so the molding surface is interposed through the smoothing film and the release film. It becomes possible to smooth the surface of the molded product to which the shape of the material is transferred.
また、本発明では、前記剥離膜としては銅で形成され、前記エッチング液としては塩化第2鉄で形成される構成を好適に採用できる。
これにより、本発明では、スパッタ等により容易に剥離膜としての銅膜を成膜することができるとともに、当該銅膜を塩化第2鉄により溶解して、成形物を成形型から離型させることが可能になる。
Moreover, in this invention, the structure formed with copper as said peeling film and ferric chloride as said etching liquid can be employ | adopted suitably.
Thereby, in this invention, while being able to form the copper film as a peeling film easily by sputtering etc., the said copper film is melt | dissolved with ferric chloride, and a molded object is released from a shaping | molding die. Is possible.
そして、本発明のマイクロレンズの製造方法は、先に記載の成型方法によりレンズ部を成形することを特徴とするものである。
これにより、本発明では、容易に成形物を成形型から離型させることが可能になるとともに、成形物に傷を付けることも回避でき、所定形状を有する高品質のマイクロレンズを得ることが可能になる。
And the manufacturing method of the microlens of this invention is characterized by shape | molding a lens part with the shaping | molding method as described above.
As a result, according to the present invention, the molded product can be easily released from the mold, and the molded product can be prevented from being damaged, and a high-quality microlens having a predetermined shape can be obtained. become.
以下、本発明の成型方法及びマイクロレンズの製造方法の実施の形態を、図1ないし図12を参照して説明する。
なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。
Embodiments of the molding method and the microlens manufacturing method of the present invention will be described below with reference to FIGS.
In each drawing used for the following description, the scale of each member is appropriately changed to make each member a recognizable size.
図1(a)は、本発明の成型方法に用いられるレンズアレイ用成形型の全体構成を示す平面図である。図1(b)は、図1(a)に示すIB−IB線断面図であって、図1(c)は図1(b)の要部を拡大した断面図である。レンズアレイ用成形型1の平面形状は、特に限定されず、円形であっても、矩形などの多角形であってもよい。
Fig.1 (a) is a top view which shows the whole structure of the shaping | molding die for lens arrays used for the shaping | molding method of this invention. 1B is a cross-sectional view taken along the line IB-IB shown in FIG. 1A, and FIG. 1C is an enlarged cross-sectional view of the main part of FIG. The planar shape of the
レンズアレイ用成形型(成形型)1には、型本体10の一方の面側に、転写用形状12と平坦面14とが形成されている。転写用形状12は、マイクロレンズアレイの複数のレンズ部を形成するためのもので、中央部(端部を避けた部分)に形成されている。この転写用形状12は、型本体10の厚さ方向に凹む半球形状の曲面部(成形面)16を複数有してなり所定位置に配列されている。
In the lens array molding die (molding die) 1, a
型本体10は、粉末金属を焼結させる粉末焼結法により多孔質に形成されている。この粉末金属としては、ニッケル、ステンレス、チタン及びチタン合金、銅及び銅合金、アルミニウム等を粉末にしたものを用いることができる。そして、この金属粉末を、気孔形成材としての例えば微細径の樹脂、およびワックスなどからなるバインダと混合・混練して、金型内に射出成形し、バインダを脱脂したあと焼結することにより、気孔形成材が抜けた多孔質金属体を形成することができる。
この気孔径としては、マイクロレンズアレイにおけるレンズ部の平滑性を確保するためには、100μm以下の微細径とすることが好ましく、また、後述するエッチング液が円滑に浸透して曲面部16に到達可能とするために気孔率は40%以上(強度上80%以下)とすることが好ましい。
The
The pore diameter is preferably a fine diameter of 100 μm or less in order to ensure the smoothness of the lens portion in the microlens array, and the etching solution described later smoothly penetrates and reaches the
各曲面部16は、マイクロレンズアレイの個々のレンズの形状に対応した形状をなしている。レンズアレイ用成形型1から直接マイクロレンズアレイを形成するときには、曲面部16はレンズの反転形状である。すなわち、凸レンズを形成するときには曲面部16は、凹部である。また、レンズアレイ用成形型1の形状を転写して複製型を製造し、複製型の形状を転写してマイクロレンズアレイを製造するときには、レンズアレイ用成形型1の曲面部16の少なくとも一部の形状がレンズの形状に等しい。
Each
複数の曲面部16は、図1(a)に示すように複数のグループに区画されており、例えば平坦面14の一部によって複 数の領域(例えば、略矩形の領域)に区画され、各領域に複数の曲面部16が配列されている。区画されたそれぞれの領域に形成された複数の曲面部16によって、個々のマイクロレンズアレイのチップ(以下、単にマイクロレンズアレイと呼ぶことがある)が形成される。すなわち、図1(a)に示すレンズアレイ用成形型1は、複数のチップが一体的に集合したマイクロレンズアレイ基板を製造するためのものであり、このマイクロレンズアレイ基板を切断して、個々のチップが得られる。
The plurality of
なお、本実施形態においては、平面視において複数の曲面部16が隣りあう曲面部16との中心を一致させた状態で配列されているが、必ずしも一致していなくてもよい。例えば、隣り合う列の曲面部16に対して所定ピッチずれた配列としてもよい。
また、区画する曲面部16の個数や配置間隔はマイクロレンズアレイの用途に応じて適宜設定されるものとする。
In the present embodiment, the plurality of
Further, the number and arrangement interval of the
[マイクロレンズアレイの製造方法]
続いて、上述したレンズアレイ用成形型1を使用して、複数のレンズを有するマイクロレンズアレイを成型する方法について、図2乃至図7を参照して説明する。
まず、図2に示すように、上述した多孔質材で形成された型本体10に対して、切削加工を施して曲面部16を形成する。
[Microlens array manufacturing method]
Next, a method of molding a microlens array having a plurality of lenses using the
First, as shown in FIG. 2, the
次に、型本体10の曲面部16を含む表面に対してスパッタにより、図3に示すように、例えば厚さ500nmの銅膜からなる剥離膜18を成膜する(成膜工程)。
続いて、図4に示すように、型本体10に対して液状の成形材料Mを注入した後、ガラス転写基板Pを載せ、当該ガラス転写基板Pを介してUV光(紫外光)Lを照射することにより硬化させる(成形工程)。
Next, as shown in FIG. 3, a
Subsequently, as shown in FIG. 4, after injecting a liquid molding material M into the
成形材料Mとしては、光、熱等のエネルギを付与することで硬化するエネルギー硬化性樹脂を好適に用いることができる。熱や光により硬化する樹脂を用いることにより、汎用の露光装置、ベイク炉やヒーター等の加熱装置を利用することができるので、設備コストの低減を図ることができる。エネルギー硬化性樹脂としては、ゾルゲル材、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられ、本実施形態では、光硬化性樹脂を用いている。 As the molding material M, an energy curable resin that is cured by applying energy such as light and heat can be suitably used. By using a resin that is cured by heat or light, a general-purpose exposure apparatus, a heating apparatus such as a baking furnace or a heater can be used, and thus the equipment cost can be reduced. Examples of the energy curable resin include a sol-gel material, an acrylic resin, and an epoxy resin. In this embodiment, a photocurable resin is used.
続いて、図5に示すように、型本体10の曲面部16と逆側の裏面からエッチング液Eを浸透させ、型本体10の気孔を介して曲面部16に導入する。エッチング液Eとしては、型本体10を溶解・腐食させず、且つ剥離膜18を溶解させるものであり、ここでは塩化第2鉄を用いている。
Subsequently, as shown in FIG. 5, the etching solution E is permeated from the back surface opposite to the
そして、図6に示すように、曲面部16に導入されたエッチング液Eにより剥離膜18が溶解して除去されることにより(除去工程)、硬化した成形材料Mと型本体10(アレイ用成形型1)とが分離される。そのため、図7に示すように、硬化した成形材料Mを傷つけることなく型本体10から容易に離型させることができ(離型工程)、曲面部16の形状が転写されたレンズ部を有するマイクロレンズ(成形物)MLが得られる。
Then, as shown in FIG. 6, the
以上のように、本実施の形態では、曲面部16に剥離膜18を成膜し、成形材料Mで成形後に剥離膜18を溶解して除去するため、マイクロレンズMLと型本体10との密着部がなくなり、マイクロレンズMLを容易に離型させることが可能になるとともに、マイクロレンズMLに傷を付けることも回避でき、高品質のマイクロレンズMLを得ることが可能になる。また、本実施形態では、成形材料Mに対して離型性を考慮して剥離膜18を選択する必要がないことから、成形材料Mに対する濡れ性に優れた剥離膜18を選択することにより、成形材料Mを曲面部16に沿って濡れ広がらせることが可能となり、未充填を生じさせることなく、曲面部16の形状を高精度に転写成形することができる。
As described above, in the present embodiment, the
また、本実施形態では、型本体10(レンズアレイ用成形型1)を多孔質材としているため、エッチング液Eを容易に曲面部16に導入して剥離膜18を溶解・除去することが可能になるとともに、剥離膜18に対して全面的に溶解することが可能であり、型本体10からのマイクロレンズMLの離型性をより高めることができる。
さらに、本実施形態では、上記型本体10を粉末焼結法により多孔質に形成しているため、気孔を微細化することが可能であり、平滑なレンズ部を有するマイクロレンズMLを容易に成形することができる。
In this embodiment, since the mold body 10 (lens array mold 1) is a porous material, the etchant E can be easily introduced into the
Furthermore, in the present embodiment, since the
[表示装置]
図8は、本発明に係る成型方法で製造荒されたマイクロレンズアレイを適用した表示装置の一例として、液晶プロジェクタの一部を示す図である。
この液晶プロジェクタ40は、上述した各実施形態に係る成型方法により製造されたマイクロレンズアレイ(成形物)11を組み込んだライトバルブ20と、光源としてのランプ30とを有する。
[Display device]
FIG. 8 is a diagram showing a part of a liquid crystal projector as an example of a display device to which a microlens array manufactured and roughened by the molding method according to the present invention is applied.
The
マイクロレンズアレイ11は、レンズ6bをランプ30から見て凹状になるように配置されている。マイクロレンズアレイ11上には、光透過層22、保護層23,ブラックマトリクス24,電極25,配向膜26がこの順で形成されている。また、配向膜26からギャップをあけて、TFT基板32が設けられている。TFT基板32には、透明な個別電極34および薄膜トランジスタ36が設けられており、これらの上に配向膜38が形成されている。また、TFT基板32は、配向膜38を配向膜26に対向させて配置されている。
The
配向膜26,38間には、液晶31が封入されており、薄膜トランジスタ36によって制御される電圧によって、液晶31が駆動されるようになっている。
この液晶プロジェクタ40によれば、ランプ30から照射された光33が、各画素毎にレンズ6bにて集光するので、明るい画面を生じさせることができる。
A
According to the
なお、その前提として、光透過層22の光屈折率naと、マイクロレンズアレイ11の光屈折率nbとは、na<nbの関係にあることが必要である。この条件を満たすことで、屈折率の大きい媒質から屈折率の小さい媒質に光が入射することになり、光33は両媒質の界面の法線から離れるように屈折して集光する。そして、画面を明るくすることができる。
As a premise, it is necessary that the light refractive index na of the
本実施形態では、上述した成型方法により成型時に傷が付かず、またレンズ形状が高精度に転写されたマイクロレンズアレイ11を有しているため、高品質の液晶プロジェクタ40を得ることができる。
なお、本発明の製造方法で製造されたマイクロレンズアレイ11は、表示装置以外の光学装置にも応用することができ、例えば、撮像装置に応用することができる。撮像装置は、撮像素子(イメージセンサ)を有する。マイクロレンズアレイによって集光した光が撮像素子に入射する。撮像素子として、CCD(Charge Coupled Device)型が挙げられる。
In the present embodiment, since the
Note that the
[表示装置の実施形態]
以上詳述した表示装置の実施形態として、複板式カラープロジェクタについてその全体構成、特に光学的な構成について説明する。図9は、複板式カラープロジェクタの図式的断面図である。
[Embodiment of Display Device]
As an embodiment of the display device described in detail above, the overall configuration, particularly the optical configuration, of a double-plate color projector will be described. FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of a double-plate color projector.
図9において、本実施形態における複板式カラープロジェクタの一例である、液晶プロジェクタ1100は、駆動回路がTFTアレイ基板上に搭載された電気光学装置を含む上記ライトバルブを3個用意し、夫々RGB用のライトバルブ100R、100Gおよび100Bとして用いたプロジェクタとして構成されている。液晶プロジェクタ1100では、メタルハライドランプ等の白色光源のランプユニット1102から投射光が発せられると、3枚のミラー1106および2枚のダイクロイックミラー1108によって、RGBの3原色に対応する光成分R、G、Bに分けられ、各色に対応するライトバルブ100R、100Gおよび100Bに夫々導かれる。この際特にB光は、長い光路による光損失を防ぐために、入射レンズ1122、リレーレンズ1123および出射レンズ1124からなるリレーレンズ系1121を介して導かれる。そして、ライトバルブ100R、100Gおよび100Bにより夫々変調された3原色に対応する光成分は、ダイクロイックプリズム1112により再度合成された後、投射レンズ1114を介してスクリーン1120にカラー画像として投射される。
In FIG. 9, a
[スクリーン]
次に、上述したスクリーンの詳細について説明する。
図10は、本発明のマイクロレンズアレイをレンチキュラ板として適用したスクリーンの構成を示す図である。
このスクリーン70は、図10(a)に示すように、入射した光の角度を変換するフレネル板71と、光透過性を有するレンチキュラ板73と、フレネル板71とレンチキュラ板73との間に配置され、入射した光を拡散させる拡散板72(光拡散板)とを備えている。また、スクリーン70は、図10(b)に示すように、拡散板72を振動させる振動供給部74を備えている。また、筐体の前面には、開口部77aが形成されており、この開口部77aにスクリーン70が嵌め込まれている。
[screen]
Next, the details of the above-described screen will be described.
FIG. 10 is a diagram showing a configuration of a screen to which the microlens array of the present invention is applied as a lenticular plate.
As shown in FIG. 10A, the
レンチキュラ板73は、入射面73aに複数の蒲鉾状のマイクロレンズ素子73cが光の入射側に設けられている。この複数のマイクロレンズ素子73cは、光軸Oに垂直な平面(xy平面)において、y方向(スクリーン70を設置した状態における垂直方向に長手方向)を有し、x方向に並列に配置されている。
このレンチキュラ板73は、入射面73aから入射した光を所定の角度範囲に拡散させ、射出面73bから射出させるものであり、画像の視野角を広くし、スクリーン70を正面から水平方向にずれた位置で観察しても良好な画像を視察可能にするものである。
本実施形態では、上述した成型方法により成型時に傷が付かず、またレンズ形状が高精度に転写されたフレネル板71とレンチキュラ板73を有しているため、高品質のスクリーン70を得ることができる。
The
The
In the present embodiment, since there is a
[ラインヘッド]
図11は、本発明に係るマイクロレンズアレイを適用した画像形成装置用ラインヘッド(露光手段)を示す図であって、(a)は平面図、(b)は側面図である。このラインヘッド81は感光体ドラム320に対向配置されている。
[Line head]
11A and 11B are diagrams showing a line head (exposure means) for an image forming apparatus to which the microlens array according to the present invention is applied, wherein FIG. 11A is a plan view and FIG. 11B is a side view. The
ラインヘッド81は、長細い矩形状の素子基板82上に、複数の有機EL素子83を配列してなる発光素子列83Aと、有機EL素子83を駆動させる駆動素子84からなる駆動素子群と、これら駆動素子84(駆動素子群)の駆動を制御する制御回路群85とを一体形成したものである。なお、図11(a)では、有機EL素子83が1列に配列されているが、2列に配置して千鳥状(隣り合う列の有機EL素子83に対して所定ピッチずれた状態)にしてもよい。この場合には、ラインヘッド81の長手方向における有機EL素子83のピッチを小さくすることが可能になり、画像形成装置の解像度を向上させることができる。
The
図11(b)に示すように、ラインヘッド81の底部には、複数のレンズ86を有したマイクロレンズアレイ87が設けられている。マイクロレンズアレイ87は、有機EL素子と同数のレンズ86を備えており、有機EL素子からの光を集光してSL素子に入射させるため、レンズ86の各々は有機EL素子夫々と1対1に対応している。マイクロレンズアレイ87(レンズ86)の配置位置は、有機EL素子の光出射側であればよく、素子基板82の下面に限られない。特に、有機EL素子からできるだけ多くの光をマイクロレンズに入射させるには、有機EL素子とマイクロレンズアレイ87(レンズ86)との距離をできるだけ小さくすることが望ましい。
As shown in FIG. 11B, a
本実施形態では、上述した成型方法により成型時に傷が付かず、またレンズ形状が高精度に転写されたマイクロレンズアレイ87を有しているため、高品質のラインヘッド81を得ることができる。
In the present embodiment, since the
[画像形成装置]
次に、上記ラインヘッドを備えた画像形成装置について説明する。
図12は、上記ラインヘッドを備えた画像形成装置を示す図であり、図12中、符号80は画像形成装置である。この画像形成装置80は、上記したラインヘッドの一例となる有機ELアレイラインヘッド101K、101C、101M、101Yを、対応する同様な構成である4個の感光体ドラム(像担持体)41K、41C、41M、41Yの露光装置にそれぞれ配置したもので、タンデム方式のものとして構成されたものである。
[Image forming equipment]
Next, an image forming apparatus including the line head will be described.
FIG. 12 is a view showing an image forming apparatus provided with the line head. In FIG. 12,
この画像形成装置80は、駆動ローラ91と従動ローラ92とテンションローラ93とを備え、これら各ローラに中間転写ベルト90を、図12中矢印方向(反時計方向)に循環駆動するよう張架したものである。この中間転写ベルト90に対して、感光体ドラム41K、41C、41M、41Yが所定間隔で配置されている。これら感光体ドラム41K、41C、41M、41Yは、その外周面が像担持体としての感光層となっている。
The
ここで、符号中のK、C、M、Yは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエロー用の感光体であることを示している。
なお、これら符号(K、C、M、Y)の意味は、他の部材についても同様である。感光体ドラム41K、41C、41M、41Yは、中間転写ベルト90の駆動と同期して、図12中、矢印方向(時計方向)に回転駆動するようになっている。
Here, K, C, M, and Y in the symbols mean black, cyan, magenta, and yellow, respectively, and indicate that the photoconductors are for black, cyan, magenta, and yellow, respectively.
The meanings of these symbols (K, C, M, Y) are the same for the other members. The
各感光体ドラム41(K、C、M、Y)の周囲には、それぞれ感光体ドラム41(K、C、M、Y)の外周面を一様に帯電させる帯電手段(コロナ帯電器)42(K、C、M、Y)と、この帯電手段42(K、C、M、Y)によって一様に帯電させられた外周面を感光体ドラム41(K、C、M、Y)の回転に同期して順次ライン走査する本発明の有機ELアレイラインヘッド101(K、C、M、Y)とが設けられている。 Around each photosensitive drum 41 (K, C, M, Y), charging means (corona charger) 42 for uniformly charging the outer peripheral surface of the photosensitive drum 41 (K, C, M, Y), respectively. (K, C, M, Y) and rotation of the photosensitive drum 41 (K, C, M, Y) on the outer peripheral surface uniformly charged by the charging means 42 (K, C, M, Y) The organic EL array line head 101 (K, C, M, Y) of the present invention that sequentially scans the line in synchronization with each other is provided.
また、この有機ELアレイラインヘッド101(K、C、M、Y)で形成された静電潜像に現像剤であるトナーを付与して可視像(トナー像)とする現像装置44(K、C、M、Y)と、この現像装置44(K、C、M、Y)で現像されたトナー像を一次転写対象である中間転写ベルト90に順次転写する転写手段としての一次転写ローラ45(K、C、M、Y)と、転写された後に感光体ドラム41(K、C、M、Y)の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング装置46(K、C、M、Y)とが設けられている。
Further, a developing device 44 (K) that applies toner as a developer to the electrostatic latent image formed by the organic EL array line head 101 (K, C, M, Y) to form a visible image (toner image). , C, M, Y) and a primary transfer roller 45 as transfer means for sequentially transferring the toner image developed by the developing device 44 (K, C, M, Y) to the
ここで、各有機ELアレイラインヘッド101(K、C、M、Y)は、それぞれのアレイ方向が感光体ドラム41(K、C、M、Y)の母線に沿うように設置されている。そして、各有機ELアレイラインヘッド101(K、C、M、Y)の発光エネルギーピーク波長と、感光体ドラム41(K、C、M、Y)の感度ピーク波長とが略一致するように設定されている。 Here, each organic EL array line head 101 (K, C, M, Y) is installed such that each array direction is along the bus line of the photosensitive drum 41 (K, C, M, Y). Then, the emission energy peak wavelength of each organic EL array line head 101 (K, C, M, Y) and the sensitivity peak wavelength of the photosensitive drum 41 (K, C, M, Y) are set to substantially coincide with each other. Has been.
現像装置44(K、C、M、Y)は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いるもので、その一成分現像剤を例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラを感光体ドラム41(K、C、M、Y)に接触させあるいは押圧せしめることにより、感光体ドラム41(K、C、M、Y)の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像するものである。 The developing device 44 (K, C, M, Y) uses, for example, a non-magnetic one-component toner as a developer. The film thickness of the developed developer is regulated by a regulating blade, and the developing roller is brought into contact with or pressed against the photosensitive drum 41 (K, C, M, Y), whereby the photosensitive drum 41 (K, C, M, A developer is attached in accordance with the potential level of Y) and developed as a toner image.
このような4色の単色トナー像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエローの各トナー像は、一次転写ローラ45(K、C、M、Y)に印加される一次転写バイアスによって中間転写ベルト90上に順次一次転写される。そして、中間転写ベルト90上で順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二次転写ローラ56において用紙等の記録媒体Pに二次転写され、さらに定着部である定着ローラ対51を通ることで記録媒体P上に定着され、その後、排紙ローラ対52によって装置上部に形成された排紙トレイ58上に排出される。
The black, cyan, magenta, and yellow toner images formed by the four-color single-color toner image forming station are intermediated by the primary transfer bias applied to the primary transfer roller 45 (K, C, M, Y). Primary transfer is sequentially performed on the
なお、図12中の符号53は多数枚の記録媒体Pが積層保持されている給紙カセット、54は給紙カセット53から記録媒体Pを一枚ずつ給送するピックアップローラ、55は二次転写ローラ56の二次転写部への記録媒体Pの供給タイミングを規定するゲートローラ対、56は中間転写ベルト90との間で二次転写部を形成する二次転写手段としての二次転写ローラ、57は二次転写後に中間転写ベルト90の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニングブレードである。
In FIG. 12, reference numeral 53 denotes a paper feed cassette in which a large number of recording media P are stacked and held, 54 denotes a pickup roller for feeding the recording media P from the paper feed cassette 53 one by one, and 55 denotes secondary transfer. A pair of gate rollers for defining the supply timing of the recording medium P to the secondary transfer portion of the roller 56; a secondary transfer roller 56 as a secondary transfer means for forming a secondary transfer portion with the
本実施形態では、上述した成型方法により成型時に傷が付かず、またレンズ形状が高精度に転写されたマイクロレンズアレイを有する高品質のラインヘッドを備えているため、高品質の画像形成装置80を得ることができる。
In the present embodiment, the
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。 As described above, the preferred embodiments according to the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to the examples. Various shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described examples are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.
例えば、上記実施形態では、型本体10を多孔質材で形成し、多孔質材の気孔をエッチング液Eの導入路とする構成としたが、これに限定されるものではなく、型本体10の開閉可能な貫通孔を導入路として形成しておき、成形材料Mを供給して曲面部16の形状を転写する際には貫通孔を閉塞しておき、エッチング液Eを導入する際には貫通孔を開いて曲面部16に供給し剥離膜18を溶解する構成としてもよい。
For example, in the above embodiment, the
また、上記実施形態では、粉末焼結法でレンズアレイ用成形型1(型本体10)を製造する構成として説明したが、これ以外にも、例えば発泡剤を混合した溶融金属を射出成形する発泡成形で製造する構成としてもよい。 Moreover, although the said embodiment demonstrated as a structure which manufactures the lens array shaping | molding die 1 (mold | die main body 10) with a powder sintering method, it is the foaming which carries out injection molding of the molten metal which mixed the foaming agent other than this, for example. It is good also as a structure manufactured by shaping | molding.
また、上記実施形態では、曲面部16上に剥離膜18を成膜した後に、成形材料Mを型本体10に密着させる手順としたが、より高い平滑性が求められるマイクロレンズ11を成形する場合には、曲面部16にスパッタ等により平滑化膜を成膜し、この平滑化膜上に剥離膜18を成膜する構成としてもよい。
この場合、曲面部16の表面が平滑化膜により平滑化されるため、剥離膜18の平滑性も向上する。従って、この剥離膜18に密着する成形材料Mの平滑性も向上させることが可能になる。平滑化膜を用いる場合には、上記除去工程において、まず平滑化膜を溶解させるエッチング液を型本体10に浸透させて平坦化膜を除去し、次いで剥離膜18を溶解させるエッチング液を型本体10に浸透させて剥離膜18を除去すればよい。
Moreover, in the said embodiment, after forming the peeling
In this case, since the surface of the
M…成形材料、 ML、11…マイクロレンズ(マイクロレンズアレイ、成形物)、 1…レンズアレイ用成形型(成形型)、 16…曲面部(成形面) M ... molding material, ML, 11 ... microlens (microlens array, molded product), 1 ... lens array molding die (molding die), 16 ... curved surface (molding surface)
Claims (6)
前記成形工程前に、前記成形型の前記成形面に剥離膜を成膜する成膜工程と、
前記離型工程前に、前記成形型に設けられ前記成形面に通じる導入路を介してエッチング液を導入し前記剥離膜を除去する除去工程と、
を有することを特徴とする成型方法。 A molding method comprising a molding step of forming a molded product by closely adhering a molding material to a molding die having a molding surface of a predetermined shape, and a mold releasing step of releasing the molded product from the molding die,
A film forming step of forming a release film on the molding surface of the mold before the molding step;
Before the mold release step, a removal step of removing the release film by introducing an etching solution through an introduction path provided in the mold and leading to the molding surface;
A molding method characterized by comprising:
前記成形型を多孔質材で形成し、
前記エッチング液を前記成形型に浸透させて前記成形面に導入することを特徴とする成型方法。 The molding method according to claim 1,
Forming the mold with a porous material;
A molding method comprising introducing the etching solution into the molding surface by penetrating into the molding die.
前記成形型を粉末焼結法で形成することを特徴とする成型方法。 The molding method according to claim 2,
A molding method, wherein the molding die is formed by a powder sintering method.
前記成膜工程は、前記成形面に平滑化膜を成膜する工程と、
前記平滑化膜上に前記剥離膜を成膜する工程とを有し、
前記除去工程では、前記平滑化膜及び前記剥離膜を除去することを特徴とする成型方法。 The molding method according to claim 2 or 3,
The film forming step includes a step of forming a smoothing film on the molding surface;
Forming the release film on the smoothing film,
In the removing step, the smoothing film and the release film are removed.
前記剥離膜は銅で形成され、
前記エッチング液は塩化第2鉄で形成されることを特徴とする成型方法。 In the molding method according to any one of claims 1 to 4,
The release film is made of copper,
A molding method, wherein the etchant is formed of ferric chloride.
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