JP2008158310A - 積層体、液晶パネル、および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】厚みムラが低減されたｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を満足する複屈折層を有する積層体を提供すること。
【解決手段】基材と、該基材上に形成され、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を満足する複屈折層とを有し、該複屈折層がアクリレート重合体を含む、積層体；該積層体と液晶セルとを含む、液晶パネル；および該液晶パネルを含む、液晶表示装置。
【選択図】図１

Description

本発明は、薄く、かつ厚みムラが非常に小さい複屈折層を有する積層体、ならびに該積層体を用いた液晶パネルおよび液晶表示装置に関する。

液晶表示装置において、電界が存在しない状態でホモジニアス配向させた液晶分子を含む液晶層（液晶セル）を備える駆動モードの代表例としては、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モード、フリンジフィールドスイッチング（ＦＦＳ）モードおよび強誘電性液晶（ＦＬＣ）モード等が挙げられる。例えば、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）方式の液晶セルを備えた液晶表示装置は、電界無印加時において、略水平な一方向に配向した液晶分子が、横方向の電界印加によって、約４５°回転して光の透過（白表示）・遮蔽（黒表示）を制御するものである。従来のＩＰＳ方式の液晶セルを備えた液晶表示装置は、偏光板の吸収軸に対して４５°の角度（方位角４５°、１３５°、２２５°、３１５°）において斜め方向から画面を見た場合に、コントラスト比が低下し、また、表示色が見る角度によって異なる現象（カラーシフトともいう）が大きくなるという問題があった。そこで、斜め方向のコントラスト比と斜め方向のカラーシフト量の改善を目的として、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を満足する複屈折層を有する積層体の使用が提案されている（特許文献１参照）。

しかし、上記ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を満足する複屈折層が、塗工処理を含む形成方法によって形成される場合、塗工厚みムラに起因する複屈折層の厚みムラが生じ、その結果、黒表示を斜め方向から見たときに表示がざらつくという問題がある。
特開２００６−１７８４０１号

本発明は上記の問題を解決するためになされたもので、その目的は、厚みムラが低減されたｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を満足する複屈折層を有する積層体を提供することである。

本発明の積層体は、基材と、該基材上に形成され、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を満足する複屈折層とを有し、該複屈折層がアクリレート重合体を含む。

好ましい実施形態においては、上記アクリレート重合体が、ブチルアクリレート・エチルアクリレート共重合体である。

好ましい実施形態においては、上記アクリレート重合体の重量平均分子量が、５０００〜３００００である。

好ましい実施形態においては、上記複屈折層中のアクリレート重合体の含有量が、該複屈折層を形成する材料の合計１００重量部に対して０．１〜１０重量部である。

好ましい実施形態においては、上記複屈折層の前記基材と反対側の水接触角が２０〜５５°である。

好ましい実施形態においては、上記複屈折層のヘイズ値が、０〜１．０％である。

好ましい実施形態においては、上記基材が、主成分として熱可塑性樹脂を含む。

好ましい実施形態においては、上記熱可塑性樹脂が、シクロオレフィン系樹脂である。

好ましい実施形態においては、上記基材が、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係を満足する。

好ましい実施形態においては、上記積層体が、さらに偏光子を有する。

好ましい実施形態においては、上記基材が、前記偏光子の保護層として機能する。

好ましい実施形態においては、上記基材が、剥離フィルムである。

本発明の別の局面によれば、液晶パネルが提供される。該液晶パネルは、上記積層体と液晶セルとを含む。

好ましい実施形態においては、上記液晶パネルが、上記積層体から転写されたｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を満足する複屈折層と液晶セルとを含む。

好ましい実施形態においては、上記液晶セルが、電界が存在しない状態でホモジニアス配向させた液晶分子を含む液晶層を備える。

好ましい実施形態においては、上記液晶セルが、ＩＰＳモード、ＦＦＳモード、またはＦＬＣモードである。

本発明のさらに別の局面によれば、液晶表示装置が提供される。該液晶表示装置は、上記液晶パネルを含む。

本発明の積層体は、基材と、該基材上に形成され、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を満足する複屈折層とを有し、該複屈折層は、特定のレベリング剤、すなわち、アクリレート重合体を含む。これにより、該複屈折層の厚みムラが顕著に低減されるという効果が奏される。

（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである：
（１）「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸に垂直な方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。また、例えば「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。本明細書において「実質的に等しい」とは、積層体の全体的な偏光特性に実用上の影響を与えない範囲でｎｘとｎｙが異なる場合も包含する趣旨である。同様に、「ｎｙ＝ｎｚ」もまた、ｎｙとｎｚが厳密に等しい場合のみならず、ｎｙとｎｚが実質的に等しい場合も包含する。
（２）「面内位相差Ｒｅ」は、２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定したフィルム（層）面内の位相差値をいう。Ｒｅは、波長５９０ｎｍにおけるフィルム（層）の遅相軸方向、進相軸方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｙとし、ｄ（ｎｍ）をフィルム（層）の厚みとしたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差Ｒｔｈは、２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差値をいう。Ｒｔｈは、波長５９０ｎｍにおけるフィルム（層）の遅相軸方向、厚み方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｚとし、ｄ（ｎｍ）をフィルム（層）の厚みとしたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。

Ａ．積層体の全体構成
図１（ａ）は、本発明の好ましい実施形態による積層体の概略断面図である。図１（ａ）に示すように、本発明の積層体１０は、基材１１と基材１１上に形成された複屈折層１２とを有する。

図１（ｂ）は、本発明の別の好ましい実施形態による積層体の概略断面図である。図１（ｂ）に示すように、本発明の積層体１０は、必要に応じて、基材１１の複屈折層１２と反対側に偏光子１３をさらに有し得る。

図１（ｃ）は、本発明のさらに別の好ましい実施形態による積層体の概略断面図である。図１（ｃ）に示すように、本発明の積層体１０は、必要に応じて、複屈折層１２の基材１１と反対側に偏光子１３をさらに有し得る。

積層体１０が偏光子１３を有する実施形態においては、必要に応じて、偏光子１３の少なくとも片面に任意の適切な保護層（図示せず）が設けられてもよい。積層体１０を構成する各層は、それぞれ任意の適切な粘着剤層または接着剤層（図示せず）を介して配置されている。

Ｂ．複屈折層
上記複屈折層は、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を満足する、いわゆるポジティブＣプレートである。該複屈折層は、アクリレート重合体を含む。

上記のように、本明細書においては「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙとが厳密に等しい場合のみならず、実質的に等しい場合も包含するので、上記複屈折層は面内位相差を有し得、また、遅相軸を有し得る。この場合、上記複屈折層の面内位相差Ｒｅは、好ましくは０〜１０ｎｍであり、より好ましくは０〜７ｎｍ、さらに好ましくは０〜５ｎｍである。面内位相差Ｒｅを上記の範囲とすることによって、本発明の積層体を液晶表示装置に用いた場合に、液晶表示装置の斜め方向のコントラスト比を高めることができる。

上記複屈折層の厚み方向の位相差Ｒｔｈは、好ましくは−２００〜−３０ｎｍであり、より好ましくは−１８０〜−５０ｎｍであり、さらに好ましくは−１７０〜−７０ｎｍである。厚み方向の位相差Ｒｔｈを上記の範囲とすることによって、本発明の積層体を液晶表示装置に用いた場合に、液晶表示装置の斜め方向のコントラスト比を高めることができる。

上記複屈折層としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性などに優れ、歪によって光学的なムラの生じにくい層が好ましく用いられる。このような複屈折層は、好ましくはホメオトロピック配列に配向させた液晶性組成物の固化層または硬化層である。

なお、本明細書において、「ホメオトロピック配列」とは、液晶性組成物に含まれる液晶化合物がフィルム法線方向に対し、平行かつ一様に配向した状態をいう。また、「固化層」とは、軟化、溶融または溶液状態の液晶性組成物が冷却されて、固まった状態のものをいう。「硬化層」とは、上記液晶性組成物が、熱、触媒、光および／または放射線により架橋されて、不溶不融または難溶難融の安定した状態となったものをいう。なお、上記「硬化層」には、液晶性組成物の固化層を経由して、硬化層となったものも包含する。

本明細書において、「液晶性組成物」とは、液晶相を呈し液晶性を示すものをいう。上記液晶相としては、ネマチック液晶相、スメクチック液晶相、コレステリック液晶相などが挙げられる。本発明に用いられる液晶性組成物として好ましくは、ネマチック液晶相を呈するものである。透明性の高い位相差フィルムが得られるからである。

上記液晶性組成物は、液晶化合物とアクリレート重合体とを含む。アクリレート重合体を含むことにより、塗工ムラに起因する上記複屈折層の厚みムラが顕著に低減され得る。その結果、本発明の積層体を用いた液晶表示装置では、黒表示を斜め方向から見たときの表示のざらつきが顕著に低減され得る。

上記液晶化合物の環状単位等からなるメソゲン基としては、例えば、ビフェニル基、フェニルベンゾエート基、フェニルシクロヘキサン基、アゾキシベンゼン基、アゾメチン基、アゾベンゼン基、フェニルピリミジン基、ジフェニルアセチレン基、ジフェニルベンゾエート基、ビシクロヘキサン基、シクロヘキシルベンゼン基、ターフェニル基等が挙げられる。なお、これらの環状単位の末端は、例えば、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基等の置換基を有していてもよい。なかでも、環状単位等からなるメソゲン基としては、ビフェニル基、フェニルベンゾエート基を有するものが好ましく用いられる。

上記液晶化合物としては、分子の一部分に少なくとも１つ以上の重合性官能基を有するものが好ましく用いられる。上記重合性官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基等が挙げられる。なかでも、アクリロイル基、メタクリロイル基が好ましく用いられる。また、上記液晶化合物は、重合性官能基を分子の一部分に２つ以上有するものが好ましい。重合反応によって生じる架橋構造によって、耐久性を向上させることができるからである。重合性官能基を分子の一部分に２つ有する液晶化合物の具体例としては、ＢＡＳＦ社製 商品名「ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２」が挙げられる。

また、ポジティブＣプレートに用いられる複屈折層として更に好ましくは、特開２００２−１７４７２５号公報に記載の液晶化合物を含む液晶性組成物であって、該液晶性組成物をホメオトロピック配列させた固化層又は硬化層である。特に好ましくは、液晶化合物として下記一般式（１）で表される液晶ポリマーを含む液晶性組成物であって、該液晶性組成物をホメオトロピック配列させた固化層又は硬化層である。最も好ましくは、下記一般式（１）で表される液晶ポリマーと、分子の一部分に少なくとも１つ以上の重合性官能基を有する液晶化合物とを含む液晶性組成物であって、該液晶性組成物をホメオトロピック配列させた硬化層である。このような液晶性組成物であれば、光学的均一性に優れ、透明性の高い複屈折層を得ることができる。

式中、ｈは１４〜２０の整数であり、ｍとｎとの和を１００とした場合に、ｍは５０〜７０であり、ｎは３０〜５０である。

上記液晶性組成物中の液晶化合物の含有量は、全固形分（上記複屈折層を形成する材料の合計）１００重量部に対して、好ましくは、４０〜９９．９重量部であり、より好ましくは５０〜９９．５重量部であり、さらに好ましくは６０〜９９重量部である。

上記アクリレート重合体としては、本発明の目的を損なわない範囲で任意の適切なものが用いられ得る。

上記アクリレート重合体を構成するモノマー単位としては、本発明の目的を損なわない範囲で任意の適切なアクリレートが用いられ得る。具体的には、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ブチルアクリレート、ペンチルアクリレート、ヘキシルアクリレート等のアルキルアクリレート；シクロペンタニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート等のシクロアルキルアクリレートが挙げられる。中でも、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ブチルアクリレート、ペンチルアクリレート、またはヘキシルアクリレートが好適に用いられ得る。

上記モノマー単位は単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。好ましくは２種以上のモノマー単位の組み合わせが用いられる。この場合、好ましいモノマー単位の組み合わせとしては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ブチルアクリレート、ペンチルアクリレート、およびヘキシルアクリレートからなる群より選択される２種以上のアクリレートの組み合わせ、より好ましくはブチルアクリレートとエチルアクリレートとの組み合わせが挙げられる。中でも、ブチルアクリレートとエチルアクリレートとを、好ましくは７０：３０〜３０：７０（ブチルアクリレート：エチルアクリレート）、より好ましくは６５：３５〜３５：６５、さらに好ましくは６０：４０〜４０：６０のモル比で含むアクリレート重合体が好適に用いられ得る。

上記アクリレート重合体は、本発明の目的を損なわない範囲で、アクリレート以外の任意の適切なモノマー単位を含み得る。

２種以上のモノマー単位が用いられる場合、上記アクリレート重合体の構造はランダムでもブロックでも良い。好ましくは、上記アクリレート重合体はブロック重合体である。

上記アクリレート重合体は、テトラヒドロフランを溶離液とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフ法（ＧＰＣ装置：東ソー（株）製 商品名「ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ」、カラム：ＧＭＨ_ＸＬ／ＧＭＨ_ＸＬ／Ｇ３０００Ｈ_ＸＬ）で測定した重量平均分子量Ｍｗが、好ましくは５０００〜３００００、より好ましくは６０００〜２５０００、さらに好ましくは８０００〜２００００である。

上記液晶性組成物中のアクリレート重合体の含有量は、全固形分（上記複屈折層を形成する材料の合計）１００重量部に対して、好ましくは０．１〜１０重量部、より好ましくは０．３〜５重量部、さらに好ましくは０．５〜３重量部である。

さらに、上記液晶性組成物は、本発明の目的を損なわない範囲で、重合開始剤、配向剤、熱安定剤、滑剤、潤滑剤、可塑剤、帯電防止剤などの各種添加剤を含んでもよい。

上記液晶性組成物を、基材上でホメオトロピック配列に配向させ、その状態で固化または硬化させることにより、当該液晶化合物の配向が固定される。これにより、上記の光学特性を有する複屈折層として、液晶性組成物の固化層または硬化層が形成され得る。

ホメオトロピック配列に配向させた液晶性組成物を得る方法としては、例えば、上記液晶性組成物の溶融物または溶液を、配向処理された基材（基材については後述する）上に塗工する方法が挙げられる。好ましくは、上記液晶性組成物を任意の適切な溶剤に溶解した溶液（塗工溶液ともいう）を、配向処理された基材上に塗工する方法である。上記の方法であれば、液晶性組成物の配向欠陥（ディスクリネーションともいう）が少ない複屈折層を得ることができる。

上記塗工溶液の全固形分濃度は、溶解性、塗工粘度、基材上へのぬれ性、塗工後の厚みなどによって異なる。該濃度は、通常、溶剤１００重量部に対して固形分を２〜１００重量部、好ましくは３〜５０重量部、より好ましくは５〜４０重量部である。該濃度が上記の範囲であれば、表面均一性の高い複屈折層を得ることができる。

上記溶剤としては、液晶性組成物を均一に溶解して溶液とする液体物質が好ましく用いられる。上記溶剤は、ベンゼンやヘキサンなどの非極性溶媒であってもよいし、水やアルコールなどの極性溶媒であってもよい。また、上記溶剤は、水などの無機溶剤であってもよいし、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、脂肪族および芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アミド類、セロソルブ類などの有機溶剤であってもよい。好ましくは、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、トルエン、酢酸エチルおよびテトラヒドロフランから選ばれる少なくとも１種の溶剤である。これらの溶剤は、基材に対して実用上悪影響を及ぼすような侵食をせず、上記組成物を十分に溶解することができるため好ましい。

上記塗工溶液の基材への塗工方法については、任意の適切なコータを用いた塗工方式を用いることができる。具体的には、例えば、バーコータ、リバースロールコータ、正回転ロールコータ、グラビアコータ、ナイフコータ、ロッドコータ、スロットオリフィスコータ、カーテンコータ、ファウンテンコータ、エアドクタコータ、キスコータ、ディップコータ、ビードコータ、ブレードコータ、キャストコータ、スプレイコータ、スピンコータ、押出コータ、ホットメルトコータが用いられ得る。

上記塗工溶液の塗工厚みは、複屈折層に所望される厚み等に応じて、適宜選択され得る。該厚みは、通常、０．１〜１０μｍ、好ましくは０．３〜５μｍ、より好ましくは０．５〜３μｍである。

ホメオトロピック配列に配向させた液晶性組成物を固定化する方法としては、用いる液晶化合物の種類に応じて、固化および／または硬化のいずれかの方法が採用され得る。例えば、液晶性組成物中に液晶化合物として、液晶ポリマーを含む場合には、液晶ポリマーを含む溶融物または溶液を固化することにより実用上十分な機械的強度を得ることができる。一方、液晶性組成物中に液晶化合物として、液晶モノマーを含む場合には、液晶モノマーの溶液を固化するだけでは機械的強度を十分に得ることができない場合がある。このような場合は、例えば、分子の一部分に少なくとも１つ以上の重合性官能基を有する重合性液晶モノマーを用い、紫外線を照射して硬化させることによって、実用上十分な機械的強度を得ることができる。紫外線の照射条件としては、例えば、特開２００６−１７８４０１号（段落０１０７〜０１１２）記載の条件が用いられ得る。

本発明において、塗工溶液を塗工した基材は、紫外線照射を行う前および／または後に乾燥処理に供されてもよい。上記乾燥処理における温度（乾燥温度）としては、特に制限はないが、前記液晶性組成物の液晶相を示す温度範囲で行うことが好ましい。また、基材のガラス転移温度（Ｔｇ）以下であることが好ましい。乾燥温度の好ましい範囲としては、５０〜１３０℃である。更に好ましくは、８０〜１００℃である。上記の温度範囲であれば、均一性の高い複屈折層を作製することができる。

前記乾燥処理する時間（乾燥時間）は、特に制限されるものではないが、良好な光学的均一性を有する複屈折層を得るためには、例えば１〜２０分であり、好ましくは１〜１５分、より好ましくは、２〜１０分である。

上記のようにして形成された複屈折層の基材と反対側と、純水との接触角は、好ましくは２０〜５５°であり、より好ましくは２５〜５３°、さらに好ましくは３０〜５０°である。該接触角が上記の範囲であれば、複屈折層表面のぬれ性が増し、他の光学素子との接着性が向上し得る。

必要に応じて、上記複屈折層に対して各種表面処理を行ってもよい。表面処理は目的に応じて任意の適切な方法が採用される。例えば、低圧プラズマ処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理が挙げられる。適切な表面処理を行うことにより、上記水接触角を所望の範囲に制御することができる。

上記複屈折層の２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定した透過率としては、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。

上記複屈折層のヘイズ値としては、好ましくは０〜１．０％であり、より好ましくは０〜０．８％であり、さらに好ましくは０〜０．５％である。該ヘイズ値が上記の範囲内であれば、透明性に優れた複屈折層を得ることができる。

上記複屈折層の２３℃における波長５８９ｎｍの光で測定した厚み方向の複屈折率（ｎｘ−ｎｚ）は、−０．２〜−０．０３であることが好ましい。より好ましくは、−０．１５〜−０．０５であり、さらに好ましくは、−０．１３〜−０．０７である。上記の範囲であれば、面内で位相差値のバラツキが小さい薄型の複屈折層を得ることができる。

上記複屈折層の厚みは、用途に応じて適宜選択され得る。具体的には、該厚みは、好ましくは０．１〜１０μｍであり、より好ましくは０．３〜５μｍであり、さらに好ましくは０．５〜３μｍである。該厚みが上記の範囲であれば、機械的強度や表示均一性に優れる複屈折層を得ることができる。

Ｃ．基材
基材は、上記複屈折層を支持し得る限り、任意の適切なものが用いられ得る。具体的には、例えば、フィルムやプラスチックス基板などの高分子基材が好ましく用いられる。基材表面の平滑性や、液晶性組成物のぬれ性に優れるほか、ロールによる連続生産が可能で、生産性を大幅に向上させ得るからである。

上記基材は、代表的には熱可塑性樹脂を主成分とする高分子フィルムの延伸フィルム（位相差フィルム）である。熱可塑性樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリノルボルネン、ポリ塩化ビニル、セルロースエステル、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン等の汎用プラスチック；ポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート等の汎用エンジニアリングプラスチック；ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリテトラフルオロエチレン等のスーパーエンジニアリングプラスチック等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂は、単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。好ましくは、上記熱可塑性樹脂は、ポリノルボルネン等のシクロオレフィン系樹脂またはポリカーボネートである。透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性などに優れるほか、位相差値の発現性、位相差値の制御のし易さ、偏光子との接着性等に優れるからである。したがって、上記の好ましい熱可塑性樹脂を主成分とする基材は、上記複屈折層（ポジティブＣプレート）から剥離することなく、そのまま液晶パネルに用いることができる。この場合、当該基材は、例えば、位相差フィルムまたは偏光子の保護層として機能し得る。

上記ポリノルボルネンとは、出発原料（モノマー）の一部または全部に、ノルボルネン環を有するノルボルネン系モノマーを用いて得られる（共）重合体をいう。上記ノルボルネン系モノマーとしては、例えば、ノルボルネン、およびそのアルキルおよび／またはアルキリデン置換体、例えば、５−メチル−２−ノルボルネン、５−ジメチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−ブチル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−２−ノルボルネン等、およびハロゲン等の極性基置換体；ジシクロペンタジエン、２，３−ジヒドロジシクロペンタジエン等；ジメタノオクタヒドロナフタレン、そのアルキルおよび／またはアルキリデン置換体、およびハロゲン等の極性基置換体、シクロペンタジエンの３〜４量体、例えば、４，９：５，８−ジメタノ−３ａ，４，４ａ，５，８，８ａ，９，９ａ−オクタヒドロ−１Ｈ−ベンゾインデン、４，１１：５，１０：６，９−トリメタノ−３ａ，４，４ａ，５，５ａ，６，９，９ａ，１０，１０ａ，１１，１１ａ−ドデカヒドロ−１Ｈ−シクロペンタアントラセン等が挙げられる。

上記ポリノルボルネンの重量平均分子量（Ｍｗ）は、トルエン溶媒によるゲル・パーミエーション・クロマトグラフ（ＧＰＣ）法で測定した値が、好ましくは２０，０００〜４００，０００、さらに好ましくは３０，０００〜３００，０００、特に好ましくは４０，０００〜２００，０００、最も好ましくは４０，０００〜８０，０００である。重量平均分子量が上記の範囲であれば、機械的強度に優れ、溶解性、成形性、流延の操作性が良いものができる。

上記ポリノルボルネンとしては、種々の製品が市販されている。具体例としては、日本ゼオン社製の商品名「ゼオネックス」、「ゼオノア」、ＪＳＲ社製の商品名「アートン（Ａｒｔｏｎ）」、ＴＩＣＯＮＡ社製の商品名「トーパス」、三井化学社製の商品名「ＡＰＥＬ」が挙げられる。

上記ポリカーボネートとしては、芳香族２価フェノール成分とカーボネート成分とからなる芳香族ポリカーボネートが好ましく用いられる。芳香族ポリカーボネートは、通常、芳香族２価フェノール化合物とカーボネート前駆物質との反応によって得ることができる。すなわち、芳香族２価フェノール化合物を苛性アルカリおよび溶剤の存在下でホスゲンを吹き込むホスゲン法、あるいは芳香族２価フェノール化合物とビスアリールカーボネートとを触媒の存在下でエステル交換させるエステル交換法により得ることができる。

上記芳香族２価フェノール化合物の具体例としては、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、４，４’−ビフェノール、４，４’−ジヒドロキシビフェニルエーテル、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、
ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジプロピルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等が挙げられる。なお、これらは単独で用いてもよく、２種以上のものを併用してもよい。

上記カーボネート前駆物質としては、ホスゲン、上記２価フェノール類のビスクロロホーメート、ジフェニルカーボネート、ジ−ｐ−トリルカーボネート、フェニル−ｐ−トリルカーボネート、ジ−ｐ−クロロフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネート等が挙げられ、なかでもホスゲン、ジフェニルカーボネートが好ましい。

上記ポリカーボネートは、テトラヒドロフラン溶媒によるゲル・パーミエーション・クロマトグラフ（ＧＰＣ）法で測定した重量平均分子量（Ｍｗ）が好ましくは２５，０００〜２５０，０００、更に好ましくは３０，０００〜２００，０００、特に好ましくは４０，０００〜１００，０００の範囲のものである。重量平均分子量が上記の範囲であれば、機械的強度に優れ、溶解性、成形性、流延の操作性が良いものができる。

上記基材は、必要に応じて任意の適切な添加剤をさらに含み得る。添加剤の具体例としては、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、滑剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、難燃剤、着色剤、帯電防止剤、相溶化剤、架橋剤、および増粘剤等が挙げられる。使用される添加剤の種類および量は、目的に応じて適宜設定され得る。添加剤の使用量は、代表的には、該基材の全固形分１００重量部に対して、０．１〜１０重量部以下である。

上記基材を得る方法としては、任意の適切な成形加工法が用いられ、例えば、圧縮成形法、トランスファー成形法、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法、粉末成形法、ＦＲＰ成形法、およびソルベントキャスティング法等から適宜、適切なものが選択され得る。これらの製法の中でも好ましくは、押出成形法またはソルベントキャスティング法が用いられる。得られる基材フィルムの平滑性を高め、良好な光学的均一性を得ることができるからである。成形条件は、使用される樹脂の組成や種類等に応じて適宜設定され得る。なお、上記シクロオレフィン系樹脂（例えば、ポリノルボルネン）は、多くのフィルム製品が市販されているので、当該市販フィルムをそのまま用いてもよい。

上記基材の厚みは、例えば、５〜５００μｍ、好ましくは１０〜２００μｍ、より好ましくは１５〜１５０μｍである。

上記基材には、上記複屈折層を形成するための配向処理がなされる。上記配向処理は、液晶化合物の種類や基材の材質等によって、適宜、適切なものが選択され得る。具体例としては、（Ａ）基材面直接配向処理法、（Ｂ）基材面間接配向処理法、および（Ｃ）基材面変形配向処理法などが挙げられる。なお、本明細書において、（Ａ）「基材面直接配向処理法」とは、配向剤を溶液塗工（湿式処理）またはプラズマ重合もしくはスパッタリング（乾式処理）などの方法により、基材表面に配向剤を薄層状に形成させ、配向剤と液晶化合物との相互作用を利用して、液晶化合物の配列方位を一定に揃える方法をいう。（Ｂ）「基材面間接配向処理法」とは、予め配向剤を溶解した液晶性組成物を基材表面に塗工し、液晶性組成物から浸みだした配向剤が基材表面に吸着する現象を利用して、配向剤と液晶化合物との相互作用を利用して、液晶化合物の配列方位を一定に揃える方法をいう。（Ｃ）「基材面変形配向処理法」とは、基材表面を形状的に変形して非平滑面化し、この非平滑面と液晶化合物との相互作用を利用して、液晶化合物の配列方位を一定に揃える方法をいう。本発明には、これらのなかでも、（Ａ）基材面直接配向処理法が好ましく用いられる。液晶化合物の配向性に優れるため、結果として、光学的均一性に優れ、透明性の高い複屈折層が得られるからである。

上記配向剤として、基材表面に溶液塗工されるものの具体例としては、レシチン、ステアリン酸、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、オクタデシルアミンハイドロクロライド、一塩基性カルボン酸クロム錯体（例：ミリスチン酸クロム錯体、パーフルオロノナン酸クロム錯体等）、有機シラン（例：シランカップリング剤、シロキサン等）等が挙げられる。また、基材表面にプラズマ重合されるものの具体例としては、パーフルオロジメチルシクロヘキサン、テトラフルオロエチレン等が挙げられる。また、基材表面にスパッタリングされるものの具体例としては、ポリテトラフルオロエチレン等が挙げられる。上記配向剤として特に好ましくは、有機シランである。作業性、製品の品質、液晶化合物の配向能に優れるからである。有機シランの配向剤の具体例としては、テトラエトキシシランを主成分とする配向剤［コルコート（株） 商品名「エチルシリケート」］が挙げられる。

上記配向剤を調製する方法としては、上記のほかにも、市販の配向剤または配向剤を含む市販の溶液もしくは分散液を用いても良く、市販の配向剤または配向剤を含む市販の溶液もしくは分散液にさらに溶剤を添加して用いてもよく、固形分を各種溶剤に溶解または分散して用いてもよい。

１つの実施形態において、上記基材は、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係を満足する、いわゆるポジティブＡプレートであり得る。基材がポジティブＡプレートである場合、上記光学特性を有する複屈折層と共に用いられることにより、液晶表示装置の斜め方向のコントラスト比を高めることができ、かつ、液晶パネルの薄型化に大きく寄与し得る。

ポジティブＡプレートである基材の面内位相差Ｒｅは、好ましくは６０〜２００ｎｍであり、より好ましくは８０〜１８０ｎｍであり、さらに好ましくは１００〜１５０ｎｍである。

本明細書において「ｎｙ＝ｎｚ」は、ｎｙとｎｚが厳密に等しい場合のみならず、ｎｙとｎｚが実質的に等しい場合も包含するので、ポジティブＡプレートである基材のＮｚ係数は１以外の値であり得る。該Ｎｚ係数は、好ましくは１〜２、より好ましくは１〜１．７、さらに好ましくは１〜１．５である。Ｎｚ係数が上記範囲内にある場合、液晶表示装置の斜め方向のコントラスト比を高めることができる。なお、Ｎｚ係数は、以下の式（２）から求められる。
Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ） （２）

基材がポジティブＡプレートである場合、その厚みは、所望の面内位相差Ｒｅが得られるように設定され得る。好ましくは６０〜２００μｍ、より好ましくは８０〜１８０μｍ、さらに好ましくは１００〜１５０μｍである。

基材がポジティブＡプレートである場合、その面内位相差Ｒｅは、上記の熱可塑性樹脂を主成分とする高分子フィルムを、必要に応じて延伸することにより制御され得る。

延伸方法は、使用される樹脂の種類等に応じて選択され得る。例えば、縦一軸延伸法、横一軸延伸法、同時二軸延伸法、逐次二軸延伸法等が使用され得る。

延伸倍率は、基材に所望される面内位相差Ｒｅ、厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸温度などに応じて、適宜変化し得る。例えば、シクロオレフィン系樹脂を使用する場合、延伸倍率は、好ましくは１．２〜６倍、より好ましくは１．５〜５倍、さらに好ましくは１．８〜４倍である。このような延伸倍率で延伸を行うことによって、上記光学特性を有する基材を得ることが可能となる。

延伸温度は、基材に所望される面内位相差Ｒｅ、厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸倍率などに応じて、適宜変化し得る。例えば、シクロオレフィン系樹脂を使用する場合、延伸温度は、好ましくは１２０〜１８０℃、より好ましくは１３０〜１７０℃、さらに好ましくは１４０〜１６０℃である。このような延伸温度で延伸を行うことによって、上記光学特性を有する基材を得ることが可能となる。

別の実施形態において、上記基材は、その上でホメオトロピック配列させた液晶性組成物を固化または硬化させた後に該固化層または硬化層（複屈折層）から剥離され得る。すなわち、上記基材は、剥離フィルムであり得る。

Ｄ．偏光子
上記偏光子としては、目的に応じて任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらのなかでも、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素などの二色性物質を吸着させて一軸延伸した偏光子が、偏光二色比が高く特に好ましい。これら偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、１〜８０μｍ程度である。

ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいても良いし、ヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗しても良い。

ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸しても良いし、また延伸してからヨウ素で染色しても良い。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。

Ｅ．保護層
上記保護層としては、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムが採用され得る。このようなフィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。上記ポリマーフィルムは、例えば、前記樹脂組成物の押出成形物であり得る。ＴＡＣ、ポリイミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ガラス質系ポリマーが好ましく、ＴＡＣがさらに好ましい。

上記保護層の厚みとしては、任意の適切な厚みが採用され得る。具体的には、保護層の厚みは、好ましくは５ｍｍ以下であり、より好ましくは１ｍｍ以下であり、さらに好ましくは１〜５００μｍであり、特に好ましくは５〜１５０μｍである。

上記保護層は、透明で、色付きが無いことが好ましい。１つの実施形態において、上記基材を保護層として用いることができる。この場合、別途保護層を設ける必要がないため、液晶パネルの薄型化に大きく寄与し得る。

Ｆ．粘着剤層
粘着剤層を形成する粘着剤としては、任意の適切な粘着剤が採用され得る。具体例としては、溶剤型粘着剤、非水系エマルジョン型粘着剤、水系粘着剤、ホットメルト粘着剤等が挙げられる。これらの中でも、アクリル系ポリマーをベースポリマーとする溶剤型粘着剤が好ましく用いられる。

上記粘着剤層の厚みは、使用目的や接着力等に応じて適宜設定され得る。具体的には、粘着剤層の厚みは、好ましくは１〜１００μｍ、より好ましくは５〜５０μｍ、さらに好ましくは１０〜３０μｍである。

Ｇ．接着剤層
接着剤層を形成する接着剤としては、代表的には、硬化型接着剤が挙げられる。硬化型接着剤の代表例としては、紫外線硬化型等の光硬化型接着剤、湿気硬化型接着剤、熱硬化型接着剤が挙げられる。

各層間への接着剤の塗工量は、目的に応じて適宜設定され得る。例えば、塗工量は、各層の主面に対して面積（ｃｍ^２）あたり、好ましくは０．３〜３ｍｌ、より好ましくは０．５〜２ｍｌ、さらに好ましくは１〜２ｍｌである。

塗工後、必要に応じて、接着剤に含まれる溶媒は、自然乾燥や加熱乾燥によって揮発させられる。このようにして得られる接着剤層の厚みは、好ましくは０．１〜２０μｍ、より好ましくは０．５〜１５μｍ、さらに好ましくは１〜１０μｍである。

上記粘着剤または接着剤は、被着体（光学素子）の種類に応じて適切に選択され得る。

Ｈ．その他の光学素子
本発明の積層体は、さらに他の光学素子を備えていてもよい。このような他の光学素子としては、用途に応じて任意の適切な光学素子が採用される。具体例としては、液晶フィルム、光散乱フィルム、回折フィルム、さらに別の位相差フィルム等が挙げられる。

Ｉ．液晶パネル
図２は、本発明の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。液晶パネル１００は、液晶セル２０と、液晶セル２０の片側に配置された積層体１０と、積層体１０の液晶セル２０の反対側に配置された偏光子３０とを備える。積層体１０は、本発明の積層体である。積層体１０が偏光子を有する場合、偏光子３０は省略される。１つの実施形態において、積層体１０は、上記基材が剥離されている。図示しないが、実用的には、液晶セル２０の他方の側には、偏光子および必要に応じて任意の光学補償層が配置される。

上記液晶パネル１００は、任意の適切な粘着剤層または接着剤層（図示せず）を介して液晶セル２０と積層体１０とを積層することにより作製され得る。当該粘着剤層および接着剤層はそれぞれ、上記Ｆ項およびＧ項で説明したとおりである。また、上記基材が剥離フィルムである場合、上記複屈折層を積層体から液晶セルに転写することにより、上記複屈折層と液晶セルとを含む液晶パネルが作製され得る。

本発明の液晶パネルに用いられる液晶セル２０は、一対の基板２１、２１’と、基板２１、２１’間に挟持された表示媒体としての液晶層２２とを有する。一方の基板（カラーフィルター基板）には、カラーフィルターおよびブラックマトリクス（いずれも図示せず）が設けられている。他方の基板（アクティブマトリクス基板）には、液晶の電気光学特性を制御するスイッチング素子（代表的にはＴＦＴ）と、このスイッチング素子にゲート信号を与える走査線およびソース信号を与える信号線と、画素電極および対向電極とが設けられている（いずれも図示せず）。なお、カラーフィルターは、アクティブマトリクス基板側に設けてもよい。上記基板２１、２１’の間隔（セルギャップ）は、スペーサー２３によって制御されている。上記基板２１、２１’の液晶層２２と接する側には、例えば、ポリイミドからなる配向膜（図示せず）が設けられている。

上記液晶層２２は、好ましくは、電界が存在しない状態でホモジニアス配向させた液晶分子を含む。このような液晶層（結果として、液晶セル）は、代表的には、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を示す（ただし、液晶層の遅相軸方向、進相軸方向および厚さ方向の屈折率をそれぞれｎｘ、ｎｙ、ｎｚとする）。なお、上記のとおり、本明細書において、ｎｙ＝ｎｚとは、ｎｙとｎｚとが完全に同一である場合だけでなく、ｎｙとｎｚとが実質的に同一である場合も包含する。また、「液晶セルの初期配向方向」とは、電界が存在しない状態で、液晶層に含まれる液晶分子が配向した結果生じる液晶層の面内屈折率が最大となる方向をいう。このような屈折率分布を示す液晶層を用いる駆動モードの代表例としては、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モード、フリンジフィールドスイッチング（ＦＦＳ）モードおよび強誘電性液晶（ＦＬＣ）モード等が挙げられる。このような駆動モードに用いられる液晶の具体例としては、ネマチック液晶、スメクチック液晶が挙げられる。例えば、ＩＰＳモードおよびＦＦＳモードにはネマチック液晶が用いられ、ＦＬＣモードにはスメクチック液晶が用いられる。

上記ＩＰＳモードは、電圧制御複屈折（ＥＣＢ：Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｎｅｎｃｅ）効果を利用し、電界が存在しない状態でホモジニアス配向させた液晶分子を、例えば、金属で形成された対向電極と画素電極とで発生させた基板に平行な電界（横電界ともいう）で応答させる。より具体的には、例えば、テクノタイムズ社出版「月刊ディスプレイ７月号」ｐ．８３〜ｐ．８８（１９９７年版）や、日本液晶学会出版「液晶ｖｏｌ．２ Ｎｏ．４」ｐ．３０３〜ｐ．３１６（１９９８年版）に記載されているように、ノーマリブラック方式では、液晶セルの電界無印加時の配向方向と一方の側の偏光子の吸収軸とを一致させて、上下の偏光板を直交配置させると、電界のない状態で完全に黒表示になる。電界があるときは、液晶分子が基板に平行を保ちながら回転動作することによって、回転角に応じた透過率を得ることができる。なお、上記のＩＰＳモードは、Ｖ字型電極またはジグザグ電極等を採用した、スーパー・インプレーンスイッチング（Ｓ−ＩＰＳ）モードや、アドバンスド・スーパー・インプレーンスイッチング（ＡＳ−ＩＰＳ）モードを包含する。上記のようなＩＰＳモードを採用した市販の液晶表示装置としては、例えば、日立製作所（株）２０Ｖ型ワイド液晶テレビ 商品名「Ｗｏｏｏ」、イーヤマ（株）１９型液晶ディスプレイ 商品名「ＰｒｏＬｉｔｅ Ｅ４８１Ｓ−１」、（株）ナナオ製 １７型ＴＦＴ液晶ディスプレイ 商品名「ＦｌｅｘＳｃａｎ Ｌ５６５」等が挙げられる。

上記ＦＦＳモードは、電圧制御複屈折効果を利用し、電界が存在しない状態でホモジニアス分子配列に配向させた液晶分子を、例えば、透明導電体で形成された対向電極と画素電極とで発生させた基板に平行な電界（横電界ともいう）で応答させるものをいう。なお、ＦＦＳモードにおける横電界は、フリンジ電界ともいう。このフリンジ電界は、透明導電体で形成された対向電極と画素電極との間隔を、セルギャップより狭く設定することによって発生させることができる。より具体的には、ＳＩＤ（Ｓｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）２００１ Ｄｉｇｅｓｔ，ｐ．４８４−ｐ．４８７や、特開２００２−０３１８１２号公報に記載されているように、ノーマリーブラック方式では、液晶セルの電界無印加時の配向方向と、一方の側の偏光子の吸収軸とを一致させて、上下の偏光板を直交配置させると、電界のない状態で完全に黒表示になる。電界があるときは、液晶分子が基板に平行を保ちながら回転動作することによって、回転角に応じた透過率を得ることができる。なお、上記のＦＦＳモードは、Ｖ字型電極またはジグザグ電極等を採用した、アドバンスド・フリンジフィールドスイッチング（Ａ−ＦＦＳ）モードや、ウルトラ・フリンジフィールドスイッチング（Ｕ−ＦＦＳ）モードを包含する。上記のようなＦＦＳモードを採用した市販の液晶表示装置としては、例えば、Ｍｏｔｉｏｎ Ｃｏｍｐｕｔｉｎｇ社 タブレットＰＣ 商品名「Ｍ１４００」が挙げられる。

上記ＦＬＣモードは、例えば、強誘電性のカイラルスメクチック液晶を、厚さ１μｍ〜２μｍ程度の電極基板間に封入した場合に、２つの安定な分子配向状態を示すという性質を利用する。より具体的には、印加電圧によって、上記強誘電性カイラルスメクチック液晶分子を基板に平行な面内で回転させて応答させる。このＦＬＣモードは、上記ＩＰＳモードや上記ＦＦＳモードと同様の原理で、黒白表示を得ることができる。さらに、上記ＦＬＣモードは、他の駆動モードと比較して、応答速度が速いという特徴を有する。なお、本明細書において、上記ＦＬＣモードは、表面安定化（ＳＳ−ＦＬＣ）モード、反強誘電性（ＡＦＬＣ）モード、高分子安定化（ＰＳ−ＦＬＣ）モード、およびＶ字特性（Ｖ−ＦＬＣ）モードを包含する。

上記ホモジニアス配向させた液晶分子とは、配向処理された基板と液晶分子の相互作用の結果として、上記液晶分子の配向ベクトルが基板平面に対し、平行かつ一様に配向した状態のものをいう。なお、本明細書においては、上記配向ベクトルが基板平面に対し、わずかに傾いている場合、すなわち上記液晶分子がプレチルトをもつ場合も、ホモジニアス配向に包含される。液晶分子がプレチルトをもつ場合は、そのプレチルト角は、２０°以下であるほうが、コントラスト比を高く保ち、良好な表示特性が得られる点で好ましい。

上記ネマチック液晶としては、目的に応じて任意の適切なネマチック液晶が採用され得る。例えば、ネマチック液晶は、誘電率異方性が正のものであっても、負のものであっても良い。誘電率異方性が正のネマチック液晶の具体例としては、メルク社製 商品名「ＺＬＩ−４５３５」が挙げられる。誘電率異方性が負のネマチック液晶の具体例としては、メルク社製 商品名「ＺＬＩ−２８０６」が挙げられる。また、上記ネマチック液晶の常光屈折率(ｎｏ)と異常光屈折率(ｎｅ)との差、すなわち複屈折率（Δｎ_ＬＣ）は、上記液晶の応答速度や透過率等によって任意に設定できるが、通常０．０５〜０．３０であることが好ましい。

上記スメクチック液晶としては、目的に応じて任意の適切なスメクチック液晶が採用され得る。好ましくは、スメクチック液晶は、分子構造の一部に不斉炭素原子を有し、強誘電性を示すもの（強誘電液晶ともいう）が用いられる。強誘電性を示すスメクチック液晶の具体例としては、ｐ-デシロキシベンジリデン−ｐ’−アミノ−２−メチルブチルシンナメート、ｐ-ヘキシルオキシベンジリデン−ｐ’−アミノ−２−クロロプロピルシンナメート、４−ｏ−（２−メチル）ブチルレゾルシリデン−４’−オクチルアニリンが挙げられる。また、市販の強誘電性液晶としては、メルク社製 商品名ＺＬＩ−５０１４−０００（電気容量２．８８ｎＦ、自発分極−２．８Ｃ／ｃｍ^２）、メルク社製 商品名ＺＬＩ−５０１４−１００（電気容量３．１９ｎＦ、自発分極−２０．０Ｃ／ｃｍ^２）、ヘキスト社製商品名ＦＥＬＩＸ−００８（電気容量２．２６ｎＦ、自発分極−９．６Ｃ／ｃｍ^２）等が挙げられる。

上記液晶セルのセルギャップ（基板間隔）としては、目的に応じて任意の適切なセルギャップが採用され得る。セルギャップは、好ましくは１．０μｍ〜７．０μｍである。上記の範囲内であれば、応答時間を短くすることができ、良好な表示特性を得ることができる。

Ｊ．液晶表示装置
本発明の液晶パネルは、パーソナルコンピューター、液晶テレビ、携帯電話、携帯情報端末（ＰＤＡ）等の液晶表示装置に用いることができる。なかでも、本発明の液晶パネルは、液晶テレビに好適に用いられる。

本発明について、以下の実施例および比較例を用いて更に説明する。なお、本発明は、これらの実施例のみに限定されるものではない。なお、実施例で用いた各分析方法は、以下の通りである。
（１）厚みの測定方法：
干渉型厚み測定装置［大塚電子（株）製 製品名「瞬間マルチ測光システム ＭＣＰＤ−２０００」］を用いて測定した。当該装置を用いてフィルムの幅方向に、２ｍｍ間隔、長さ１０ｃｍの範囲で測定したときの厚みの標準偏差を「厚みのばらつき」とした。
（２）位相差値（Ｒｅ、Ｒｔｈ）の測定方法：
平行ニコル回転法を原理とする位相差計［王子計測機器（株）製 製品名「ＫＯＢＲＡ２１−ＡＤＨ」］を用いて、２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定した。
（３）ヘイズ値の測定方法：
ヘイズメーター［（株）村上色彩研究所製 商品名「ＨＭ−１５０」］を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（２０００）記載の試験方法にしたがって測定した。
（４）水接触角の測定方法：
接触角計［協和界面科学（株）製 ＣＡ−Ｘ型］を用い、純水に対する接触角を測定した。

≪実施例１≫
１．塗工溶液の調製
表１に記載される配合比で、下記式（３）で表される液晶ポリマー（重量平均分子量：５，０００）、メソゲン基としてフェニルベンゾエート基を有し、分子構造中に２つの重合性官能基を有する市販の液晶化合物［ＢＳＡＦ社製、商品名「ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２」］、光重合開始剤［チバスペシャリティケミカルズ（株）製、商品名「イルガキュア１２７」］、およびレベリング剤（アクリレート重合体（モル比が５０：５０のブチルアクリレート・エチルアクリレートブロックオリゴマー 重量平均分子量：１６０００））を混合して液晶性組成物を調製した。得られた液晶性組成物を、シクロペンタノンと混合して４０℃、３０分振とうすることにより溶解し、塗工溶液を得た。

２．積層体の作製
得られた塗工溶液を、バーコータ［ＢＵＳＣＨＭＡＮ社製 商品名「ｍａｙｅｒ ｒｏｔ ＨＳ１．５ ♯４」］を用いて、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係を満足するノルボルネン系樹脂フィルム［日本ゼオン（株）製 商品名「ゼオノア（品番ＺＦ１４−１００）」 厚み：１００μｍ Ｒｅ：１２０ｎｍ Ｎｚ係数：１．３５］上に塗工した。次いで、８０℃の空気循環式恒温オーブン内で３分間乾燥して、ノルボルネン系樹脂フィルム（基材）上に、ホメオトロピック配列に配向した液晶性組成物を固化させた。次いで、ＵＶ照射機［ウシオ電機（株）製 商品名「ＵＶＣ−３２１ＡＭ１」］で、２．７ｃｍ／ｍｉｎの速度で搬送しながら、上記塗工溶液を塗工した側から紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ^２照射して、基材上の液晶性組成物の固化層をさらに硬化させた。これにより、基材と、基材上に形成され、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を満足する複屈折層（Ｒｅ：０．５ｎｍ、Ｒｔｈ：−１００ｎｍ）とを有する積層体を得た。

３．評価
得られた積層体について、その複屈折層の厚み、厚みのばらつき、およびヘイズ値を測定した。なお、厚みのばらつきは、０．００７以下が実用可能なレベルである。また、ヘイズ値は、０〜１％が実用可能なレベルである。結果を表２に示す。

≪比較例１〜３≫
表１に記載される配合比で調製した塗工溶液を用いて、実施例１と同様にして積層体を得た。得られた積層体について、その複屈折層の厚み、厚みのばらつき、およびヘイズ値を測定した。結果を表２に示す。

表２に示されるとおり、アクリレート重合体をレベリング剤として用いた実施例１の積層体の複屈折層は、厚みのばらつき（厚みムラ）が顕著に低減されている。これに対し、レベリング剤を用いない比較例１は、厚みのばらつきが大きく、実用できるレベルではない。また、一般的なレベリング剤であるシリコーン系のレベリング剤を全固形分１００重量部に対して約０．２重量部用いた比較例２は、厚みのばらつきが十分に低減されておらず、実用できるレベルではない。シリコーン系レベリング剤を全固形分１００重量部に対して約１．５重量部用いた比較例３は、ヘイズ値が高く、透明性が不十分であるため、実用できない。なお、シリコーン系レベリング剤を多く用いた場合にヘイズ値が上昇する理由としては、シリコーン系レベリング剤が複屈折層内でミクロドメインを形成するためと推測される。

≪参考例１≫
実施例１で得られた積層体の複屈折層の基材と反対側に、バッチコロナ処理機［ＫＡＧＵＧＡ ＤＥＮＫＩ製 商品名「ＣＯＲＯＮＡ ＧＥＮＥＲＡＴＯＲ ＣＴ−０２１２」］を用いて、１１６Ｗ／ｍ^２・ｍｉｎの条件でコロナ処理を行った。処理後の該複屈折層の純水との接触角は４６°であり、良好なぬれ性を有することが確認された。同様に、比較例２で得られた積層体の複屈折層の基材と反対側にコロナ処理を行ったところ、純水との接触角は５７°であった。実施例１で得られた積層体が良好なぬれ性を示す理由としては、アクリレート重合体の非シリコーン系部位（例えば、ブチルアクリレートのブチル基）が親油基として塗膜の界面に被膜を形成するため、コロナ処理によって容易に親水化し得ると考えられる。

≪実施例２≫
実施例１で得られた積層体の基材側にアクリル系粘着剤（厚み：２０μｍ）を介して偏光板［日東電工社製 商品名「ＳＩＧ１４２３」］を貼り合せることにより、偏光子を有する積層体を得た。このとき、偏光板の偏光子の吸収軸とポジティブＡプレートである基材の遅相軸とが直交するように配置した。次いで、液晶テレビ［（株）日立製作所製、商品名「Ｗ３７Ｌ−Ｈ９０００」）に内蔵された液晶セルのバックライト側に配置された偏光板を取り除いた。取り除いた偏光板の替わりとして上記の偏光子を有する積層体を、その複屈折層が液晶セルに対向するようにアクリル系粘着剤（厚み：２０μｍ）を介して貼り付けることにより、液晶表示装置を作製した。このとき、液晶セルの視認側の偏光子の吸収軸と、上記積層体が有する偏光子の吸収軸が直交するように貼り付けた。

実施例１で得られた積層体は、厚みムラが顕著に低減されているため、粘着剤層との粘着性が良好であった。また、実施例２で得られた液晶表示装置では、斜め方向から黒表示を見た場合の表示のざらつきが顕著に低減された。

本発明の積層体は、液晶セル、中でもＩＰＳモード、ＦＦＳモード、およびＦＬＣモードの液晶セルの液晶層の複屈折を補償するために好適に使用され得る。

（ａ）、（ｂ）、および（ｃ）は、それぞれ、本発明の好ましい実施形態による積層体の概略断面図である。 本発明の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。

符号の説明

１０ 積層体
１１ 基材
１２ 複屈折層
１３ 偏光子
２０ 液晶セル
２１ 基板
２１’ 基板
２２ 液晶層
２３ スペーサー
３０ 偏光子
１００ 液晶パネル

Claims (17)

1. 基材と、該基材上に形成され、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を満足する複屈折層とを有し、該複屈折層がアクリレート重合体を含む、積層体。
2. 前記アクリレート重合体が、ブチルアクリレート・エチルアクリレート共重合体である、請求項１に記載の積層体。
3. 前記アクリレート重合体の重量平均分子量が、５０００〜３００００である、請求項１または２に記載の積層体。
4. 前記複屈折層中のアクリレート重合体の含有量が、該複屈折層を形成する材料の合計１００重量部に対して０．１〜１０重量部である、請求項１〜３のいずれかに記載の積層体。
5. 前記複屈折層の前記基材と反対側の水接触角が２０〜５５°である、請求項１〜４のいずれかに記載の積層体。
6. 前記複屈折層のヘイズ値が、０〜１．０％である、請求項１〜５のいずれかに記載の積層体。
7. 前記基材が、主成分として熱可塑性樹脂を含む、請求項１〜６のいずれかに記載の積層体。
8. 前記熱可塑性樹脂が、シクロオレフィン系樹脂である、請求項７に記載の積層体。
9. 前記基材が、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係を満足する、請求項１〜８のいずれかに記載の積層体。
10. さらに偏光子を有する、請求項１〜９のいずれかに記載の積層体。
11. 前記基材が、前記偏光子の保護層として機能する、請求項１０に記載の積層体。
12. 前記基材が、剥離フィルムである、請求項１〜１０のいずれかに記載の積層体。
13. 請求項１〜１１のいずれかに記載の積層体と液晶セルとを含む、液晶パネル。
14. 請求項１２に記載の積層体から転写されたｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を満足する複屈折層と液晶セルとを含む、液晶パネル。
15. 前記液晶セルが、電界が存在しない状態でホモジニアス配向させた液晶分子を含む液晶層を備える、請求項１３または１４に記載の液晶パネル。
16. 前記液晶セルが、ＩＰＳモード、ＦＦＳモード、またはＦＬＣモードである、請求項１５に記載の液晶パネル。
17. 請求項１３〜１６のいずれかに記載の液晶パネルを含む、液晶表示装置。