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JP2008134513A - Resin letterpress and manufacturing method of element panel for organic EL display - Google Patents

Resin letterpress and manufacturing method of element panel for organic EL display Download PDF

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JP2008134513A
JP2008134513A JP2006321448A JP2006321448A JP2008134513A JP 2008134513 A JP2008134513 A JP 2008134513A JP 2006321448 A JP2006321448 A JP 2006321448A JP 2006321448 A JP2006321448 A JP 2006321448A JP 2008134513 A JP2008134513 A JP 2008134513A
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relief
layer
resin
organic
plate
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JP2006321448A
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Japanese (ja)
Inventor
Koji Takeshita
耕二 竹下
Takahisa Shimizu
貴央 清水
Hironori Kawakami
宏典 川上
Nahoko Inoguchi
奈歩子 猪口
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Abstract

【課題】一定のレリーフ深度を確保し、レリーフ凸部のエッジのシャープ性を維持しながら、レリーフ強度も低下することのない、高精細印刷用の樹脂凸版を提供すること、或いは、この樹脂凸版を用いて、有機EL素子の発光層の高精細なパターンを均一に安定して形成できる有機ELディスプレイ用素子パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】基材(1)の上に積層された感光性樹脂層(30)を露光して現像することでレリーフを形成した樹脂凸版であって、前記感光性樹脂層(30)が光散乱性の異なる2層(31、32)から成り、基材に近い側の層(32)が表層に近い側の層(31)よりも光散乱性の高い層であることを特徴とする樹脂凸版。
【選択図】図2
The present invention provides a resin relief plate for high-definition printing that secures a certain relief depth and maintains the sharpness of the edges of relief projections without causing a reduction in relief strength, or the resin relief plate. The manufacturing method of the element panel for organic electroluminescent displays which can form the high-definition pattern of the light emitting layer of an organic electroluminescent element uniformly uniformly stably can be provided.
A resin relief plate having a relief formed by exposing and developing a photosensitive resin layer (30) laminated on a substrate (1), wherein the photosensitive resin layer (30) is light-sensitive. Resin comprising two layers (31, 32) having different scattering properties, wherein the layer (32) closer to the substrate is a layer having higher light scattering properties than the layer (31) closer to the surface layer Letterpress.
[Selection] Figure 2

Description

本発明は、樹脂凸版と、それを用いて、有機EL(Electro Luminescence:エレクトロルミネッセンス)素子の発光層を高精細にパターニングすることにより、有機ELディスプレイ用素子パネルを製造する方法とに関する。   The present invention relates to a resin relief plate and a method for producing an element panel for an organic EL display by patterning a light emitting layer of an organic EL (Electro Luminescence) element with high definition using the resin letterpress.

有機EL素子は、ふたつの対向する電極の間に有機発光材料からなる発光層が形成され、発光層に電流を流すことで発光させるものであるが、効率よく発光させるには発光層の膜厚が重要であり、100nm程度の薄膜にする必要がある。さらに、これをディスプレイ化するには高精細にパターニングする必要がある。   In an organic EL element, a light emitting layer made of an organic light emitting material is formed between two opposing electrodes, and light is emitted by passing a current through the light emitting layer. Is important, and a thin film of about 100 nm is required. Further, in order to make this a display, it is necessary to pattern it with high definition.

発光層を形成する有機発光材料には、低分子材料と高分子材料があり、一般に低分子材料は抵抗加熱蒸着法等により薄膜形成し、このときに微細パターンのマスクを用いてパターニングするが、この方法では基板が大型化すればするほどパターニング精度が出難いという問題がある。   The organic light emitting material for forming the light emitting layer includes a low molecular material and a high molecular material. Generally, a low molecular material is formed into a thin film by a resistance heating vapor deposition method or the like, and is patterned using a fine pattern mask at this time. This method has a problem that the larger the substrate is, the more difficult patterning accuracy is.

そこで、最近では有機発光材料に高分子材料を用い、有機発光材料を溶剤に分散または溶解させて塗工液にし、これをウェットコーティング法で薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。薄膜形成するためのウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等があるが、高精細にパターニングしたりRGB3色に塗り分けしたりするためには、これらのウェットコーティング法では難しく、塗り分け・パターニングを得意とする印刷法による薄膜形成が最も有効であると考えられる。   Therefore, recently, a method of using a polymer material as an organic light emitting material, dispersing or dissolving the organic light emitting material in a solvent to form a coating solution, and forming a thin film by a wet coating method has been tried. As the wet coating method for forming a thin film, there are a spin coating method, a bar coating method, a protruding coating method, a dip coating method, and the like. However, it is considered difficult to form a thin film by a printing method that is good at coating and patterning.

さらに、各種印刷法のなかでも、ガラスを基板とする有機EL素子やディスプレイでは、グラビア印刷法等のように金属製の印刷版等の硬い版を用いる方法は不向きであり、弾性を有するゴムブランケットを用いるオフセット印刷法や同じく弾性を有するゴム版や樹脂版を用いる凸版印刷法が適正である。実際にこれらの印刷法による試みとして、オフセット印刷による方法(例えば特許文献1参照)、凸版印刷による方法(例えば特許文献2参照)などが提唱されている。   Further, among various printing methods, in organic EL elements and displays using glass as a substrate, a method using a hard plate such as a metal printing plate such as a gravure printing method is unsuitable, and an elastic rubber blanket. An offset printing method using, and a relief printing method using an elastic rubber plate or resin plate are also suitable. Actually, as an attempt by these printing methods, a method by offset printing (for example, see Patent Document 1), a method by letterpress printing (for example, see Patent Document 2), and the like have been proposed.

一方、高分子有機発光材料は、水、アルコール系の溶剤に対する溶解性が悪く、塗工液(以下インキと記す)化するには、有機溶剤を用いて溶解、分散させる必要があり、中でも、トルエンやキシレンその他の芳香族系有機溶剤が好適である。したがって、有機発光材料のインキ(以下有機ELインキと記す)は芳香族系有機溶剤のインキとなっている。   On the other hand, the polymer organic light-emitting material has poor solubility in water and alcohol solvents, and in order to form a coating liquid (hereinafter referred to as ink), it is necessary to dissolve and disperse using an organic solvent. Toluene, xylene and other aromatic organic solvents are preferred. Therefore, the ink of the organic light emitting material (hereinafter referred to as organic EL ink) is an ink of an aromatic organic solvent.

ところが、オフセット印刷に用いるゴムブランケットはトルエンやキシレン等の有機溶剤によって膨潤や変形を起こしやすいという問題がある。ブランケットに使用されるゴムの種類はオレフィン系のゴムからシリコーン系のゴムまで多様であるが、いずれのゴムもトルエン、キシレンその他の溶剤に対して耐性がなく、膨潤や変形が起こりやすく、よって有機ELインキの印刷には不適切である。   However, a rubber blanket used for offset printing has a problem that it is easily swollen or deformed by an organic solvent such as toluene or xylene. The types of rubber used in blankets vary from olefin rubber to silicone rubber, but none of these rubbers are resistant to toluene, xylene or other solvents and are prone to swelling and deformation. It is inappropriate for EL ink printing.

また、弾性を有する凸版を使用する凸版印刷方式にも、ゴム製の版を用いるフレキソ印刷方式と樹脂性の版を用いる樹脂凸版方式があるが、このうち水現像タイプの感光性樹脂凸版を用いる方式であれば、トルエン、キシレン、その他の有機溶剤に対する耐性も高く、有機ELインキの印刷に使用可能である。   In addition, a relief printing method using an elastic relief plate includes a flexographic printing method using a rubber plate and a resin relief printing method using a resinous plate. Among these, a water development type photosensitive resin relief plate is used. If it is a system, the tolerance with respect to toluene, xylene, and other organic solvents is also high, and it can be used for printing of organic EL ink.

以上に述べた理由から、ガラス基板のような硬い基材の上に、トルエン、キシレン等の芳香族溶剤を含む有機ELインキを印刷する方式としては、水現像タイプの感光性樹脂凸版を用いる凸版印刷方式が最適である。   For the reasons described above, as a method for printing organic EL ink containing an aromatic solvent such as toluene and xylene on a hard base material such as a glass substrate, a relief printing using a water-development type photosensitive resin relief printing is used. The printing method is optimal.

水現像タイプの感光性樹脂凸版は、基材に光硬化型の感光性樹脂層を積層させた版材から作成されるものであって、この版材の光硬化型の感光性樹脂層を、遮光部と光透過部でパターニングされたフォトマスクを用いて露光することで、露光部を硬化させた後、水現像して未硬化部を取り除くことでレリーフを形成したものである。また、一般的に感光性樹脂凸版の露光に使用する露光機では拡散光を使用しており、フォトマスクの光線透過部分を経て版材の樹脂層に進入した光線は、光線自体が拡散光であることと、樹脂層自身の光散乱性により、樹脂層内を拡散して進行するため、露光側から非露光側に向けて硬化部分が広がる傾向にある。よって、図1に示すように、出来上がったレリーフ凸部10は、順テーパー形状になるが、これによりレリーフの強度が向上するといった利点がある。   The water-developable photosensitive resin relief plate is prepared from a plate material in which a photocurable photosensitive resin layer is laminated on a base material, and the photocurable photosensitive resin layer of this plate material is By exposing using the photomask patterned by the light-shielding part and the light transmissive part, after hardening an exposed part, it develops with water and removes an unhardened part, and formed the relief. In general, an exposure machine used for exposure of a photosensitive resin relief printing plate uses diffused light, and the light entering the resin layer of the plate material through the light transmitting portion of the photomask is itself diffused light. Due to the light scattering property of the resin layer itself, the resin layer itself diffuses and proceeds, so that the cured portion tends to spread from the exposed side toward the non-exposed side. Therefore, as shown in FIG. 1, the completed relief convex part 10 becomes a forward taper shape, but there exists an advantage that the intensity | strength of a relief improves by this.

しかし、印刷が高精細になればなるほど、レリーフ凹部の間隔が狭くなるため、凸部が順テーパー形状の場合、レリーフの深度が浅くなるといった問題が生じる。レリーフのピッチが狭くなり、レリーフ深度が浅くなれば、凸版にインキを供給する際にレリーフ凹部にインキが大量に進入しやすくなり、凹部に進入したインキは版から基板へのインキ転写時に凹部から流れ出す場合があり、印刷画像が乱れてしまうといった問題も生じてしまう。よって、樹脂凸版のレリーフ形成においては、一定以上のレリーフ深度を確保することが必要となる。   However, the higher the printing is, the narrower the interval between the relief recesses, so that when the projections are forward tapered, the depth of the relief becomes shallow. If the relief pitch is narrowed and the relief depth is shallow, a large amount of ink tends to enter the relief recess when supplying ink to the relief plate, and the ink that has entered the recess will be removed from the recess during ink transfer from the plate to the substrate. In some cases, the printed image may flow out, resulting in a problem that the printed image is disturbed. Therefore, in the relief formation of the resin relief printing, it is necessary to ensure a relief depth of a certain level or more.

一方、光散乱性の低い感光性樹脂からなる版材を用いることで、レリーフ深度を確保し、さらにレリーフ凸部のエッジをシャープにした感光性樹脂凸版を得ることができるが、この場合、露光装置も平行光を使用した装置を使う必要がある。すなわち、光散乱性の低い感光性樹脂版材を平行光線露光装置で露光して製版することで、レリーフ凸部がテーパー状にならず、レリーフ凸部側面の基材に対する傾斜角度が90度に近い樹脂凸版を形成することは可能である。しかし、非テーパー状のレリーフを有する樹脂凸版では、レリーフの強度が弱く、現像時にレリーフに現像ムラを生じたり、印刷時にレリーフが変形したり、また耐刷性も弱くなるなどの問題生じる。
特開2001−93668号公報 特開2001−155858号公報
On the other hand, by using a plate material made of a photosensitive resin having a low light scattering property, a relief resin depth can be secured, and a photosensitive resin relief plate with sharpened relief protrusions can be obtained. It is necessary to use a device that uses parallel light. That is, by exposing a photosensitive resin plate material having a low light scattering property to a plate by exposing it with a parallel light exposure apparatus, the relief convex portion is not tapered, and the inclination angle of the side surface of the relief convex portion with respect to the substrate is 90 degrees. It is possible to form a close resin relief. However, in the resin relief printing plate having a non-tapered relief, the strength of the relief is weak, causing problems such as uneven development in the relief during development, deformation of the relief during printing, and poor printing durability.
JP 2001-93668 A JP 2001-155858 A

前述したように、光散乱性を持つ感光性樹脂版材を拡散光で露光し、その後現像して得られる感光性樹脂凸版は、レリーフ凸部が順テーパー形状となり、高精細化したときにレリーフ深度が浅くなるという問題がある。一方光散乱性を低くした感光性樹脂版材を、平行光を用いて露光し、現像して得た感光性樹脂凸版は、レリーフが非テーパー形状となり、高精細化してもレリーフ深度は確保できるが、レリーフの強度が低下するといった問題が生じる。   As described above, the photosensitive resin relief plate obtained by exposing a photosensitive resin plate material having light scattering properties with diffused light and then developing the relief resin relief plate has a relief taper shape with a forward taper shape, so that the relief is enhanced when the definition is increased. There is a problem that the depth becomes shallow. On the other hand, the photosensitive resin relief printing plate obtained by exposing and developing a photosensitive resin plate material with reduced light scattering property using parallel light has a non-tapered relief, and the relief depth can be ensured even if the definition is increased. However, the problem that the intensity | strength of a relief falls arises.

そこで本発明では、一定のレリーフ深度を確保し、レリーフ凸部のエッジのシャープ性を維持しながら、レリーフ強度も低下することのない、高精細印刷用の樹脂凸版を提供すること、或いは、この樹脂凸版を用いて、有機EL素子の発光層の高精細なパターンを均一に安定して形成できる有機ELディスプレイ用素子パネルの製造方法を提供することを課題とする。   Therefore, the present invention provides a resin relief printing plate for high-definition printing that ensures a certain relief depth and maintains the sharpness of the edges of the relief projections, while not reducing the relief strength, or this It is an object of the present invention to provide a method for producing an element panel for an organic EL display capable of uniformly and stably forming a high-definition pattern of a light emitting layer of an organic EL element using a resin relief plate.

上記課題を解決するためには、図2に示すように、レリーフ凸部20を、ボトムに近い部分22は順テーパー形状であり、トップに近い部分21は非テーパー形状である二段テーパー形状で形成した感光性樹脂凸版にすれば良いと考え、本発明は、そのような形状にするためになされたものである。   In order to solve the above-mentioned problem, as shown in FIG. 2, the relief protrusion 20 has a two-step taper shape in which a portion 22 near the bottom has a forward taper shape and a portion 21 near the top has a non-taper shape. It is thought that the formed photosensitive resin relief plate may be used, and the present invention has been made to obtain such a shape.

すなわち請求項1に係る発明は、基材の上に積層された感光性樹脂層を露光して現像することでレリーフを形成した樹脂凸版であって、前記感光性樹脂層が光散乱性の異なる2層から成り、基材に近い側の層が表層に近い側の層よりも光散乱性の高い層であることを特徴とする樹脂凸版である。   That is, the invention according to claim 1 is a resin relief plate in which a relief is formed by exposing and developing a photosensitive resin layer laminated on a substrate, and the photosensitive resin layer has different light scattering properties. A resin relief printing plate comprising two layers, wherein the layer closer to the substrate is a layer having higher light scattering properties than the layer closer to the surface layer.

また請求項2に係る発明は、前記感光性樹脂層の光散乱性の高い方の層は、光散乱率が、波長360nmの光の場合に、10%以上30%以下であることを特徴とする請求項1項記載の樹脂凸版である。   The invention according to claim 2 is characterized in that the light-scattering layer of the photosensitive resin layer has a light scattering rate of 10% to 30% in the case of light having a wavelength of 360 nm. The resin relief printing plate according to claim 1.

また請求項3に係る発明は、前記感光性樹脂層の光散乱性の低い方の層は、光散乱率が、波長360nmの光の場合に、5%以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の樹脂凸版である。   The invention according to claim 3 is characterized in that the light-scattering layer of the photosensitive resin layer has a light scattering rate of 5% or less in the case of light having a wavelength of 360 nm. The resin letterpress described in 1 or 2.

また請求項4に係る発明は、レリーフ凸部のトップに近い部分が前記感光性樹脂層の光散乱性の低い方の層で形成され、レリーフ凸部のボトムに近い部分が前記感光性樹脂層の光散乱性の高い方の層で形成されており、レリーフ凸部のトップに近い部分の基材面に対する傾斜角度が85度から90度の間であり、レリーフ凸部のボトムに近い部分の基材面に対する傾斜角度が50度から80度の間であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項記載の樹脂凸版である。   Further, in the invention according to claim 4, a portion near the top of the relief convex portion is formed by a layer having a lower light scattering property of the photosensitive resin layer, and a portion near the bottom of the relief convex portion is the photosensitive resin layer. Of the light-scattering layer, the inclination angle of the portion near the top of the relief convex portion with respect to the substrate surface is between 85 degrees and 90 degrees, and the portion near the bottom of the relief convex portion The resin relief printing plate according to any one of claims 1 to 3, wherein an inclination angle with respect to the substrate surface is between 50 degrees and 80 degrees.

また請求項5に係る発明は、請求項1乃至請求項4の何れか1項記載の樹脂凸版を用いて、凸版印刷法により有機EL素子の発光層をパターン形成することを特徴とする有機ELディスプレイ用素子パネルの製造方法である。   Further, the invention according to claim 5 is an organic EL characterized in that the light emitting layer of the organic EL element is patterned by a relief printing method using the resin relief plate according to any one of claims 1 to 4. It is a manufacturing method of the element panel for a display.

本発明では、基材の上に感光性樹脂層を設けた樹脂版材において、この感光性樹脂層を光散乱性の異なる二種の樹脂層で構成し、基材に近い側の層の光散乱性を高くしたことで、この樹脂版材を、フォトマスクを用いて平行光線の露光機でパターン露光、現像したときに、レリーフ凸部のトップに近い部分は非テーパー形状であり、レリーフ凸部のボトムに近い部分は順テーパー形状である樹脂凸版を形成することができた。   In the present invention, in the resin plate material in which the photosensitive resin layer is provided on the base material, the photosensitive resin layer is composed of two types of resin layers having different light scattering properties, and the light of the layer closer to the base material is formed. By increasing the scattering property, when this resin plate material was subjected to pattern exposure and development using a photomask with a parallel light exposure machine, the portion close to the top of the relief projection was non-tapered, and the relief projection The portion near the bottom of the portion could form a resin relief plate having a forward taper shape.

有機ELディスプレイ用素子パネルにおける高精細の範疇である1インチ当たり200ピクセルの精細度でパネルの印刷を行う場合、ピッチ120μm、線幅20μmのレリーフ形状の凸版が必要となるが、この製版を行っても、100μm以上のレリーフ深度を確保することができた。   When printing a panel with a definition of 200 pixels per inch, which is a high-definition category in an element panel for organic EL displays, a relief-shaped relief plate with a pitch of 120 μm and a line width of 20 μm is required. However, a relief depth of 100 μm or more could be secured.

また、この版を用いて有機ELインキの印刷を行っても、版が変形して印刷ラインがみだれたり、版がかけたりということはなく、レリーフのパターンに対応した鮮明な印刷パターンを得ることができた。   In addition, even if organic EL ink is printed using this plate, the plate will not be deformed and print lines will not be found or the plate will not be applied, and a clear print pattern corresponding to the relief pattern can be obtained. I was able to.

従って、請求項1〜4に係る発明は、一定のレリーフ深度を確保し、レリーフ凸部のエッジのシャープ性を維持しながら、レリーフ強度も低下することのない、高精細印刷用の樹脂凸版を提供できるという効果がある。   Therefore, the invention according to claims 1 to 4 is a resin relief printing plate for high-definition printing that ensures a certain relief depth and maintains the sharpness of the edges of the relief projections, while not reducing the relief strength. There is an effect that it can be provided.

また請求項5に係る発明は、請求項1〜4に係る何れか発明が提供する樹脂凸版を用いて、有機EL素子の発光層の高精細なパターンを均一に安定して形成できる有機ELディスプレイ用素子パネルの製造方法を提供できるという効果がある。   The invention according to claim 5 is an organic EL display capable of uniformly and stably forming a high-definition pattern of a light emitting layer of an organic EL element, using the resin relief plate provided by any of the inventions according to claims 1 to 4. There is an effect that it is possible to provide a method for manufacturing an element panel.

まず、本発明の樹脂凸版の一実施形態を説明する。   First, an embodiment of the resin relief plate of the present invention will be described.

有機EL素子の発光層を高精細にパターニングするのに用いる樹脂凸版は、上述したように、有機ELインキの溶剤である有機溶剤とくに芳香族系の有機溶剤に対する耐性が高いもの、すなわち水現像タイプの感光性樹脂凸版が好ましいが、樹脂凸版を構成する水現像タイプの感光性樹脂としては、例えば親水性のポリマーと不飽和結合を含むモノマーいわゆる架橋性モノマー及び光重合開始剤を構成要素とするタイプが挙げられる。このタイプでは、親水性ポリマーとしてポリアミド、ポリビニルアルコール、セルロース誘導体等が用いられる。また、架橋性モノマーとしては、例えばビニル結合を有するメタクリレート類が挙げられ、光重合開始剤としては例えば芳香族カルボニル化合物が挙げられる。中でも、印刷適正の面からポリアミド系の水現像タイプの感光性樹脂が好適である。   As described above, the resin relief printing used for patterning the light emitting layer of the organic EL element with high definition has high resistance to the organic solvent that is a solvent of the organic EL ink, particularly an aromatic organic solvent, that is, a water developing type. However, the water-developing type photosensitive resin constituting the resin relief printing plate is composed of, for example, a monomer containing a hydrophilic polymer and an unsaturated bond, a so-called crosslinkable monomer and a photopolymerization initiator. Type. In this type, polyamide, polyvinyl alcohol, cellulose derivatives and the like are used as hydrophilic polymers. Examples of the crosslinkable monomer include methacrylates having a vinyl bond, and examples of the photopolymerization initiator include aromatic carbonyl compounds. Of these, a polyamide-based water-developable photosensitive resin is preferable from the viewpoint of printing suitability.

また、ポリアミド系の水現像タイプの感光性樹脂は、その光散乱性が低く、粒径2μm程度のアクリル酸エステル系の球状有機微粒子を添加することで、その光散乱性を高めるようにコントロールすることができる。   In addition, the polyamide-based water-developable photosensitive resin has a low light scattering property, and is controlled to increase its light scattering property by adding spherical organic fine particles of an acrylate ester having a particle size of about 2 μm. be able to.

従って、基材に、アクリル酸エステル系の球状有機粒子の濃度を2段階に変えて、ポリアミド系の水現像タイプの感光性樹脂を積層することで、図3に示すような、光散乱性の異なる2層(31、32)からなる感光性樹脂層30を基材1の上に積層した樹脂版材を得ることができる。このとき、必ず、基材に近い側の層32には体積濃度で数%から10%程度の球状微粒子を添加して、基材に近い側の層32の光散乱性が高くなるようにし、他方、表層に近い側の層31には球状有機微粒子を添加しないか或いは極少量の球状有機微粒子を添加するにとどめて、表層に近い側の層31の光散乱性を低いままにする。   Therefore, by changing the concentration of the acrylic ester-based spherical organic particles in two stages and laminating a polyamide-based water-developable photosensitive resin, a light scattering property as shown in FIG. A resin plate material in which a photosensitive resin layer 30 composed of two different layers (31, 32) is laminated on the substrate 1 can be obtained. At this time, be sure to add spherical fine particles having a volume concentration of several percent to 10% to the layer 32 on the side close to the base material so that the light scattering property of the layer 32 on the side close to the base material becomes high, On the other hand, the spherical organic fine particles are not added to the layer 31 on the side close to the surface layer or only a small amount of the spherical organic fine particles are added, and the light scattering property of the layer 31 on the side close to the surface layer is kept low.

この結果、波長360nmの光の場合に、基材に近い側の層32の光散乱率は、10%以上30%以下となり、他方、表層に近い側の層31の光散乱率は、5%以下に収まる。   As a result, in the case of light having a wavelength of 360 nm, the light scattering rate of the layer 32 closer to the substrate is 10% or more and 30% or less, while the light scattering rate of the layer 31 closer to the surface layer is 5%. Fits below.

本発明の樹脂凸版の作成は、ネガのフォトマスクを用いて樹脂版材の感光性樹脂層を平行光の露光機でパターン露光し、次に30℃の温水でブラシ現像して未露光樹脂を洗い出し、70℃のオーブンで乾燥後、後露光を行って、所定パターンのレリーフを形成する方法で行った。   The resin relief printing plate of the present invention is produced by pattern exposure of the photosensitive resin layer of the resin plate material using a negative photomask with a parallel light exposure machine, and then brush development with hot water at 30 ° C. to form the unexposed resin. After washing out and drying in an oven at 70 ° C., post-exposure was performed to form a relief having a predetermined pattern.

樹脂版材の2層からなる感光性樹脂層において、表層に近い側の層にはアクリル酸エステル系の球状有機微粒子が添加されていないか或いは極少量の添加され、基材に近い側の層には体積濃度で数%から10%程度のアクリル酸エステル系の球状微粒子を添加されているために、本発明の樹脂凸版は、図2に示すように、レリーフ凸部20のトップに近い部分21は、その傾斜角度が基本的には基材底面に対して85度から90度になり、他方、レリーフ凸部20のボトムに近い部分20の傾斜角度を50度から80度程度にコントロールすることが可能である。   In the photosensitive resin layer composed of two layers of the resin plate material, the layer on the side close to the substrate is not added with the acrylate-based spherical organic fine particles or a very small amount is added to the layer close to the surface layer. Since acrylate-based spherical fine particles having a volume concentration of several percent to about 10% are added, the resin relief printing plate of the present invention is a portion close to the top of the relief projection 20 as shown in FIG. 21, the inclination angle is basically 85 to 90 degrees with respect to the bottom surface of the substrate, and on the other hand, the inclination angle of the portion 20 near the bottom of the relief projection 20 is controlled to about 50 to 80 degrees. It is possible.

次に、本発明の樹脂凸版を用いて、発光層印刷を行うことで、有機ELディスプレイ用素子パネルを作成したので、その一実施形態を説明する。   Next, since the element panel for organic EL displays was created by performing light emitting layer printing using the resin relief printing plate of this invention, the one Embodiment is described.

有機ELディスプレイ用素子パネルを構成する有機EL素子は、ガラス基板の上に形成される。ガラス基板の上には陽極としてパターニングされた画素電極が設けられ、画素電
極の材料としては、ITO(インジウムスズ複合酸化物)、IZO(インジウム亜鉛複合酸化物)、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、亜鉛アルミニウム複合酸化物等の透明電極材料が使用できる。なお、低抵抗であること、溶剤耐性があること、透明性が高いことなどからITOが好ましい。ITOはスパッタ法によりガラス基板上に形成され、フォトリソ法によりパターニングされてライン状の画素電極となる。
The organic EL element which comprises the element panel for organic EL displays is formed on a glass substrate. A pixel electrode patterned as an anode is provided on a glass substrate. The material of the pixel electrode is ITO (indium tin composite oxide), IZO (indium zinc composite oxide), tin oxide, zinc oxide, indium oxide. Transparent electrode materials such as zinc aluminum composite oxide can be used. ITO is preferred because of its low resistance, solvent resistance, and high transparency. ITO is formed on a glass substrate by a sputtering method and patterned by a photolithographic method to form a line-shaped pixel electrode.

ライン状の画素電極を形成後、隣接する画素電極の間に感光性材料を用いてフォトリソ法により絶縁層が形成される。絶縁層の形成は、まず絶縁性のフォトレジスト材料をスリットコート法で全面コーティングしたあと、フォトリソ法を用いて、画素電極のスペース部にライン状に絶縁層がパターン形成されるよう行った。   After the line-shaped pixel electrode is formed, an insulating layer is formed by photolithography using a photosensitive material between adjacent pixel electrodes. The insulating layer was formed by first coating the entire surface with an insulating photoresist material by a slit coating method and then patterning the insulating layer in a line shape in the space portion of the pixel electrode using the photolithography method.

絶縁層形成後に、正孔輸送層を形成する。正孔輸送層を形成する正孔輸送材料としては、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール(PVK)誘導体、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)等が挙げらる。これらの材料は溶媒に溶解または分散させて正孔輸送材料インキとし、スピンコート法やダイコート法を用いて、画素電極および絶縁層が形成された基板に全面塗布して正孔輸送層を形成することもでき、また凸版印刷法を用いて、画素電極パターンに合わせてパターン形成することもできる。   After forming the insulating layer, a hole transport layer is formed. Examples of the hole transport material for forming the hole transport layer include polyaniline derivatives, polythiophene derivatives, polyvinylcarbazole (PVK) derivatives, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT), and the like. These materials are dissolved or dispersed in a solvent to form a hole transport material ink, and are applied onto the entire surface of the substrate on which the pixel electrode and the insulating layer are formed by using a spin coat method or a die coat method to form a hole transport layer. It is also possible to form a pattern in accordance with the pixel electrode pattern using a relief printing method.

正孔輸送層形成後に、有機発光層を形成する。有機発光層を形成する有機発光材料は、例えばクマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクドリン系、N,N’−ジアルキル置換キナクドリン系、ナフタルイミド系、N,N’−ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系等の発光性色素を、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に分散させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリオレフィン系の高分子材料が挙げられる。   After forming the hole transport layer, an organic light emitting layer is formed. Organic light-emitting materials forming the organic light-emitting layer are, for example, coumarin-based, perylene-based, pyran-based, anthrone-based, porphyrene-based, quinacridin-based, N, N′-dialkyl-substituted quinacdolin-based, naphthalimide-based, N, N′-diaryl. Dispersed luminescent dyes such as substituted pyrrolopyrrole and iridium complexes in polymers such as polystyrene, polymethylmethacrylate, and polyvinylcarbazole, and polyarylene, polyarylene vinylene, and polyolefin polymer materials Is mentioned.

これらの有機発光材料は溶媒に溶解または分散させて有機ELインキとなる。有機発光材料を溶解または分散させる溶媒としては、トルエン、キシレン、アセトン、アニソール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の単独またはこれらの混合溶媒が挙げられる。中でもトルエン、キシレン、アニソールといった芳香族有機溶媒が有機発光材料の溶解性の面から好適である。   These organic light emitting materials are dissolved or dispersed in a solvent to form an organic EL ink. Examples of the solvent for dissolving or dispersing the organic light emitting material include toluene, xylene, acetone, anisole, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, or a mixed solvent thereof. Among them, aromatic organic solvents such as toluene, xylene, and anisole are preferable from the viewpoint of the solubility of the organic light emitting material.

有機発光層の形成方法は、本発明の樹脂凸版を用いて凸版印刷法で行う。有機発光層の形成に用いる印刷機は、平板に印刷する方式の凸版印刷機であれば使用可能であるが、以下に示すような印刷機が望ましい。   The organic light emitting layer is formed by a relief printing method using the resin relief plate of the present invention. The printing machine used for forming the organic light emitting layer can be any letterpress printing machine that prints on a flat plate, but a printing machine as shown below is desirable.

本印刷機は、インクタンクと、インキチャンバーと、アニロックスロールと、本発明の樹脂凸版を取り付けした版胴とを有している。インクタンクには、溶剤で希釈された有機ELインキが収容されており、インキチャンバーにはインクタンクより有機ELインキが送り込まれるようになっている。アニロックスロールは、インキチャンバーのインキ供給部及び版胴に接して回転するようになっている。   This printing machine has an ink tank, an ink chamber, an anilox roll, and a plate cylinder to which the resin relief plate of the present invention is attached. The ink tank contains organic EL ink diluted with a solvent, and the organic EL ink is fed into the ink chamber from the ink tank. The anilox roll rotates in contact with the ink supply part of the ink chamber and the plate cylinder.

アニロックスロールの回転にともない、インキチャンバーから供給された有機ELインキはアニロクスロール表面に均一に保持されたあと、版胴に取り付けされた本発明の樹脂凸版のレリーフ凸部に均一な膜厚で転移する。さらに、被印刷基板は摺動可能な基板固定台上に固定され、本発明の樹脂凸版のパターンと基板のパターンの位置調整機構により、位置調整しながら印刷開始位置まで移動して、版胴の回転に合わせて本発明の樹脂凸版のレリーフ凸部が基板に接しながらさらに移動し、基板の所定位置にパターニングして有機ELインキを転移する。   With the rotation of the anilox roll, the organic EL ink supplied from the ink chamber is uniformly held on the anilox roll surface, and then the film thickness is uniform on the relief convex portion of the resin relief plate of the present invention attached to the plate cylinder. Metastasize. Further, the substrate to be printed is fixed on a slidable substrate fixing base, and is moved to the printing start position while adjusting the position by the position adjustment mechanism of the resin relief printing pattern and the substrate pattern of the present invention. The relief convex portion of the resin relief printing plate of the present invention further moves while contacting the substrate in accordance with the rotation, and the organic EL ink is transferred by patterning to a predetermined position on the substrate.

有機発光層の形成後、陰極層を画素電極のラインパターンと直交するラインパターンで形成する。陰極層の材料としては、有機発光層の発光特性に応じたものを使用でき、例えば、リチウム、マグネシウム、カルシウム、イッテルビウム、アルミニウム等の金属単体やこれらと金、銀などの安定な金属との合金などが挙げられる。また、インジウム、亜鉛、錫などの導電性酸化物を用いることもできる。陰極層の形成方法としては、マスクを用いた真空蒸着法による形成方法が挙げられる。   After the organic light emitting layer is formed, the cathode layer is formed in a line pattern orthogonal to the pixel electrode line pattern. As the material for the cathode layer, materials according to the light emitting characteristics of the organic light emitting layer can be used. For example, simple metals such as lithium, magnesium, calcium, ytterbium and aluminum and alloys of these with stable metals such as gold and silver Etc. Alternatively, a conductive oxide such as indium, zinc, or tin can be used. As a formation method of a cathode layer, the formation method by the vacuum evaporation method using a mask is mentioned.

最後にこれらの有機EL素子構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤を用いて密封封止し、有機ELディスプレイ用素子パネルを得ることができる。   Finally, in order to protect these organic EL element structural bodies from external oxygen and moisture, the element panel for organic EL display can be obtained by sealing and sealing with a glass cap and an adhesive.

以下、本発明の実施例について具体的に説明する。   Examples of the present invention will be specifically described below.

本実施例では、レリーフのパターンが、ピッチ120μm、線幅20μmのラインパターンになっており、レリーフ凸部がトップに近い部分の傾斜角度は、基材面に対して85度から90度の範囲にあり、ボトムに近い部分の傾斜角度は、基材面に対して50度から80度の範囲にある樹脂凸版の作成例と、その凸版を用いて発光層形成を行った、精細度が1インチあたり200ピクセル(以下200PPIという)のパッシブマトリック型有機ELディスプレイ用素子パネルの作成例とについて示す。   In this embodiment, the relief pattern is a line pattern having a pitch of 120 μm and a line width of 20 μm, and the inclination angle of the portion where the relief convex portion is close to the top is in the range of 85 degrees to 90 degrees with respect to the substrate surface. The inclination angle of the portion close to the bottom is an example of producing a resin relief plate in the range of 50 to 80 degrees with respect to the substrate surface, and the light emission layer is formed using the relief plate, and the definition is 1 An example of producing an element panel for a passive matrix type organic EL display having 200 pixels per inch (hereinafter referred to as 200 PPI) will be described.

<実施例1>
実施例1の樹脂凸版は、トップに近い部分の傾斜角度が基材面に対して90度であり、ボトムに近い部分の傾斜角度が基材面に対して50度である二段テーパー形状の凸部を持つレリーフを形成したものである。この実施例1の樹脂凸版は以下のようにして作成した。
<Example 1>
The resin relief printing plate of Example 1 has a two-step tapered shape in which the inclination angle of the portion close to the top is 90 degrees with respect to the substrate surface and the inclination angle of the portion close to the bottom is 50 degrees with respect to the substrate surface. A relief having a convex portion is formed. The resin relief printing plate of Example 1 was prepared as follows.

まず、樹脂版材として、厚さ200μmのスチール製の基材上に総厚150μmの感光性樹脂層が形成されており、この感光性樹脂層は、基材に近い側100μmがアクリル酸エステル系の球状有機微粒子を体積濃度で10%含む層になっており、表層に近い側50μmがアクリル酸エステル系の球状有機微粒子を全く含まない層になっているものを用いた。   First, as a resin plate material, a photosensitive resin layer having a total thickness of 150 μm is formed on a steel substrate having a thickness of 200 μm, and this photosensitive resin layer has an acrylic ester-based side 100 μm on the side close to the substrate. The spherical organic fine particles were used in a layer containing 10% by volume, and the side close to the surface layer of 50 μm was a layer containing no acrylate-based spherical organic fine particles.

次に、発光層の印刷パターンに対応するネガパターンのフォトマスクを、この樹脂版材の感光性樹脂層の露光面に対して、25μmのギャップを持たせて配置し、40mJの露光エネルギーで平行光線露光し、その後30℃の温水でブラシ現像機を用いて、未硬化の樹脂を洗い出すことで実施例1の樹脂凸版を形成した。この実施例1の樹脂凸版のレリーフ深度は100μm以上を確保できていた。   Next, a negative pattern photomask corresponding to the printed pattern of the light emitting layer is arranged with a gap of 25 μm with respect to the exposed surface of the photosensitive resin layer of the resin plate material, and parallel with an exposure energy of 40 mJ. The resin relief printing plate of Example 1 was formed by exposing to light and then washing out the uncured resin with warm water at 30 ° C. using a brush developing machine. The relief depth of the resin relief printing plate of Example 1 was 100 μm or more.

次いで、実施例1の樹脂凸版を用いて発光層を印刷形成する方法で、以下のようにして実施例1の有機ELディスプレイ用素子パネルを作成した。   Subsequently, the element panel for organic EL displays of Example 1 was produced as follows by the method of printing and forming a light emitting layer using the resin relief printing plate of Example 1.

まず、200mm角のガラス基板の上に、スパッタ法を用いてITO(インジウム−錫酸化物)薄膜を形成し、フォトリソ法と酸溶液によるエッチングでITO膜をパターニングして、対角3インチサイズのディスプレイが4面取れるように画素電極を形成した。ディスプレイを構成する画素電極のラインパターンは、線幅20μm、スペース20μmで形成されるパターンとした。   First, an ITO (indium-tin oxide) thin film is formed on a 200 mm square glass substrate by sputtering, and the ITO film is patterned by photolithography and etching with an acid solution. Pixel electrodes were formed so that four displays could be taken. The line pattern of the pixel electrodes constituting the display was a pattern formed with a line width of 20 μm and a space of 20 μm.

次に、この画素電極ラインの端部をカバーするように、画素電極間にフォトレジスト材料を用いて絶縁層を形成した。   Next, an insulating layer was formed using a photoresist material between the pixel electrodes so as to cover the end portions of the pixel electrode lines.

次に、その絶縁層の上に正孔輸送層として、PEDOTから成る高分子膜をスピンコート法で形成した。   Next, a polymer film made of PEDOT was formed on the insulating layer as a hole transport layer by a spin coating method.

さらに、有機発光材料であるポリフェニレンビニレン誘導体を濃度1%になるようにトルエンに溶解させた有機ELインキを用い、画素電極の上にそのラインパターンにあわせて有機発光層を凸版印刷法で印刷行った。このとき、150線/インチのアニロックスロールおよび実施例1の樹脂凸版を使用した。印刷、乾燥後の有機発光層の膜厚は100nmとなった。   Furthermore, using organic EL ink in which polyphenylene vinylene derivative, an organic light emitting material, is dissolved in toluene to a concentration of 1%, the organic light emitting layer is printed on the pixel electrode according to the line pattern by letterpress printing. It was. At this time, an anilox roll of 150 lines / inch and the resin relief printing plate of Example 1 were used. The thickness of the organic light emitting layer after printing and drying was 100 nm.

次に、その有機発光層の上にCa、Alからなる陰極層を画素電極のラインパターンと直交するようなラインパターンで抵抗過熱蒸着法によりマスク蒸着して形成した。   Next, a cathode layer made of Ca and Al was formed on the organic light emitting layer by mask vapor deposition by a resistance overheating vapor deposition method in a line pattern orthogonal to the pixel electrode line pattern.

最後にこれらの有機EL素子構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤を用いて密閉封止し、実施例1の有機ELディスプレイ用素子パネルを作成した。   Finally, in order to protect these organic EL element structural bodies from external oxygen and moisture, a glass cap and an adhesive were hermetically sealed to produce an element panel for an organic EL display of Example 1.

得られたパネルの表示部の周縁部には、各画素電極に接続されている陽極側および陰極側それぞれの取り出し電極があり、これらを電源に接続することでパネルの点灯表示確認を行い、発光状態のチェックを行った。   In the peripheral part of the display part of the obtained panel, there are the extraction electrodes on the anode side and the cathode side connected to each pixel electrode, and the lighting display confirmation of the panel is performed by connecting these to the power source, and the light emission The state was checked.

<実施例2>
実施例2の樹脂凸版は、トップに近い部分の傾斜角度が基材面に対して85度であり、ボトムに近い部分の傾斜角度が基材面に対して50度である二段テーパー形状の凸部を持つレリーフを形成したものである。この実施例2の樹脂凸版は以下のようにして作成した。
<Example 2>
The resin relief printing plate of Example 2 has a two-step tapered shape in which the inclination angle of the portion close to the top is 85 degrees with respect to the substrate surface, and the inclination angle of the portion close to the bottom is 50 degrees with respect to the substrate surface. A relief having a convex portion is formed. The resin relief printing plate of Example 2 was prepared as follows.

樹脂版材は、厚さ200μmのスチール製の基材上に総厚150μmの感光性樹脂層が形成されており、この感光性樹脂層は、基材に近い側100μmがアクリル酸エステル系の球状有機微粒子を体積濃度で10%含む層に、表層に近い側50μmはアクリル酸エステル系の球状有機微粒子を全く含まない層になっている実施例1と同じものを用いた。   In the resin plate material, a photosensitive resin layer having a total thickness of 150 μm is formed on a steel substrate having a thickness of 200 μm. The photosensitive resin layer has a spherical shape of 100 μm on the side close to the substrate and is an acrylate ester type. A layer containing 10% by volume of organic fine particles and the same 50 μm on the side close to the surface layer were used as in Example 1 in which no spherical organic fine particles of an acrylate ester were used.

この樹脂版材から実施例2の樹脂凸版を形成することは、露光時のギャップを50μmにし、露光量を50mJにした以外は実施例1と同様に行った。この実施例2の樹脂凸版のレリーフ深度は100μm以上を確保できていた。   The resin relief printing plate of Example 2 was formed from this resin plate material in the same manner as in Example 1 except that the gap during exposure was set to 50 μm and the exposure amount was set to 50 mJ. The relief depth of the resin relief printing plate of Example 2 was 100 μm or more.

この実施例2の樹脂凸版を用いて、実施例1と同様にして、実施例2の有機ELディスプレイ用素子パネルを作成した。   Using the resin relief printing plate of Example 2, an element panel for organic EL display of Example 2 was prepared in the same manner as Example 1.

<実施例3>
実施例3の樹脂凸版は、トップに近い部分の傾斜角度が基材面に対して90度であり、ボトムに近い部分の傾斜角度が基材面に対して80度である二段テーパー形状の凸部を持つレリーフを形成したものである。この実施例3の樹脂凸版は以下のようにして作成した。
<Example 3>
The resin relief printing plate of Example 3 has a two-step tapered shape in which the inclination angle of the portion close to the top is 90 degrees with respect to the substrate surface, and the inclination angle of the portion close to the bottom is 80 degrees with respect to the substrate surface. A relief having a convex portion is formed. The resin relief printing plate of Example 3 was prepared as follows.

樹脂版材は、厚さ200μmのスチール製の基材上に総厚150μmの感光性樹脂層が形成されており、この感光性樹脂層は、基材に近い側100μmがアクリル酸エステル系の球状有機微粒子を体積濃度で3%含む層に、表層に近い側50μmがアクリル酸エステル系の球状有機微粒子を全く含まない層になっているものを用いた。   In the resin plate material, a photosensitive resin layer having a total thickness of 150 μm is formed on a steel substrate having a thickness of 200 μm. The photosensitive resin layer has a spherical shape of 100 μm on the side close to the substrate and is an acrylate ester type. A layer containing 3% of organic fine particles by volume and a layer having 50 μm on the side close to the surface layer containing no acrylate-based spherical organic fine particles was used.

この樹脂版材から実施例3の樹脂凸版を形成することは、実施例1と同様に行った。この実施例3の樹脂凸版のレリーフ深度は100μm以上を確保できていた。   Forming the resin relief plate of Example 3 from this resin plate material was performed in the same manner as in Example 1. The relief depth of the resin relief printing plate of Example 3 was 100 μm or more.

この実施例3の樹脂凸版を用いて、実施例1と同様にして、実施例3の有機ELディスプレイ用素子パネルを作成した。   Using the resin relief printing plate of Example 3, an element panel for an organic EL display of Example 3 was produced in the same manner as in Example 1.

<比較例1>
比較例1の樹脂凸版は、光散乱性が均質な一層からなる感光性樹脂層を有する樹脂版材から、傾斜角度が基材に対して70度である順テーパー形状の凸部を持つレリーフを形成したものである。この比較例1の樹脂凸版は以下のようにして作成した。
<Comparative Example 1>
The resin relief printing plate of Comparative Example 1 has a relief having a forward taper shaped projection having an inclination angle of 70 degrees with respect to the substrate from a resin plate material having a photosensitive resin layer consisting of a single layer having a uniform light scattering property. Formed. The resin relief printing of Comparative Example 1 was prepared as follows.

まず、樹脂版材は、厚さ200μmのスチール製の基材上に総厚150μmの感光性樹脂層が形成されており、この感光性樹脂層は、アクリル酸エステル系の球状有機微粒子を全く含まない一層のみからなっているものを用いた。   First, the resin plate material has a photosensitive resin layer having a total thickness of 150 μm formed on a steel substrate having a thickness of 200 μm, and this photosensitive resin layer does not contain acrylate-based spherical organic fine particles at all. The one consisting only of one layer was used.

この樹脂版材から比較例1の樹脂凸版を形成することは、発光層の印刷パターンに対応するネガパターンのフィルムフォトマスクを、この樹脂版材の感光性樹脂層の露光面に密着させて、40mJの露光量で散乱光露光を行った他は、実施例1と同様に行った。この比較例1の樹脂凸版のレリーフ深度は50μm程度であった。   To form the resin relief plate of Comparative Example 1 from this resin plate material, the film photomask of the negative pattern corresponding to the print pattern of the light emitting layer is brought into close contact with the exposed surface of the photosensitive resin layer of this resin plate material, The same procedure as in Example 1 was performed except that the scattered light exposure was performed with an exposure amount of 40 mJ. The relief depth of the resin relief printing plate of Comparative Example 1 was about 50 μm.

この比較例1の樹脂凸版を用いて、実施例1と同様にして、比較例1の有機ELディスプレイ用素子パネルを作成した。   Using the resin relief printing plate of Comparative Example 1, an element panel for organic EL display of Comparative Example 1 was prepared in the same manner as in Example 1.

<比較例2>
比較例2の樹脂凸版は、光散乱性が均質な一層からなる感光性樹脂層を有する樹脂版材から、傾斜角度が基材に対して90度である非テーパー形状の凸部を持つレリーフを形成したものである。この比較例2の樹脂凸版は以下のようにして作成した。
<Comparative example 2>
The resin relief printing plate of Comparative Example 2 is a relief from a resin plate material having a photosensitive resin layer consisting of a single layer having a uniform light scattering property and having a non-tapered projection having an inclination angle of 90 degrees with respect to the substrate. Formed. The resin letterpress of Comparative Example 2 was prepared as follows.

まず、樹脂版材は、厚さ200μmのスチール製の基材上に総厚150μmの感光性樹脂層が形成されており、この感光性樹脂層は、アクリル酸エステル系の球状有機微粒子を全く含まない一層のみからなっているものを用いた。   First, the resin plate material has a photosensitive resin layer having a total thickness of 150 μm formed on a steel substrate having a thickness of 200 μm, and this photosensitive resin layer does not contain acrylate-based spherical organic fine particles at all. The one consisting only of one layer was used.

この樹脂版材から比較例2の樹脂凸版を形成することは、実施例1と同様に行った。この比較例2の樹脂凸版のレリーフ深度は100μm以上を確保できていた。   Forming the resin relief plate of Comparative Example 2 from this resin plate material was performed in the same manner as in Example 1. The relief depth of the resin relief printing plate of Comparative Example 2 was 100 μm or more.

この比較例2の樹脂凸版を用いて、実施例1と同様にして、比較例2の有機ELディスプレイ用素子パネルを作成した。   Using the resin relief printing plate of Comparative Example 2, an element panel for organic EL display of Comparative Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1.

<比較例3>
比較例3の樹脂凸版は、光散乱性が異なる2層からなる感光性樹脂層を有する樹脂版材から、表層に近い側の層のみ、傾斜角度が基材に対して90度である非テーパー形状の凸部を持つレリーフを形成し、基材に近い側の層には全くレリーフを形成しなかったものである。この比較例3の樹脂凸版は、以下のように作成した。
<Comparative Example 3>
The resin relief printing plate of Comparative Example 3 is a non-tapered tape having an inclination angle of 90 degrees with respect to the substrate only from the resin plate material having a photosensitive resin layer composed of two layers having different light scattering properties. A relief having a shape-shaped convex part was formed, and no relief was formed on the layer on the side close to the substrate. The resin relief printing plate of Comparative Example 3 was prepared as follows.

まず、樹脂版材は、厚さ200μmのスチール製の基材上に総厚150μmの感光性樹脂層が形成されており、この感光性樹脂層は、基材に近い側100μmがアクリル酸エステル系の球状有機微粒子を体積濃度で15%含む層に、表層に近い側50μmがアクリル酸エステル系の球状有機微粒子を全く含まない層になっているものを用いた。   First, the resin plate material has a photosensitive resin layer having a total thickness of 150 μm formed on a steel substrate having a thickness of 200 μm. The photosensitive resin layer has an acrylic ester-based side 100 μm on the side close to the substrate. A layer containing 15% of the spherical organic fine particles in a volume concentration and a layer having 50 μm on the side close to the surface layer containing no acrylate-based spherical organic fine particles were used.

この樹脂版材から比較例3の樹脂凸版を形成することは、実施例1と同様に行った。こ
の比較例3の樹脂凸版のレリーフ深度は50μm程度であった。すなわち、基材に近い側の層では全くレリーフが形成されていなかった。
Forming the resin relief plate of Comparative Example 3 from this resin plate material was performed in the same manner as in Example 1. The relief depth of the resin relief printing plate of Comparative Example 3 was about 50 μm. That is, no relief was formed in the layer on the side close to the substrate.

この比較例3の樹脂凸版を用いて、実施例1と同様にして、比較例3の有機ELディスプレイ用素子パネルを作成した。   Using the resin relief printing plate of Comparative Example 3, an element panel for organic EL display of Comparative Example 3 was produced in the same manner as in Example 1.

(樹脂凸版の評価)
以下の表1に、実施例1乃至3及び比較例1乃至3の樹脂凸版について、レリーフ凸部の傾斜角度、レリーフ深度、レリーフ深度評価、ラインの直線性評価を示す。
(Evaluation of resin letterpress)
Table 1 below shows the inclination angle of the relief protrusion, the relief depth, the relief depth evaluation, and the linearity evaluation of the lines for the resin relief plates of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3.

レリーフ深度が浅すぎると、レリーフ凹部内にインキが溜り、印刷性が悪化するが、各実施例及び各比較例のレリーフのパターンでは、100μm以上のレリーフ深度が確保できていれば良好と判断した。また、ラインの直線性は、当然印刷物の直線性に直結するが、レリーフ凸部の傾斜角度が基材に近い側の部分まで垂直であると、そのレリーフ凸部の強度が弱く、現像時に樹脂凸版がよれ易い。 If the relief depth is too shallow, ink accumulates in the relief recesses and printability deteriorates. However, in the relief pattern of each example and each comparative example, it was judged that the relief depth of 100 μm or more could be secured. . Naturally, the linearity of the line is directly linked to the linearity of the printed matter. However, if the inclination angle of the relief convex part is perpendicular to the part close to the substrate, the strength of the relief convex part is weak, and resin is developed during development. The letterpress is easy to twist.

表1からわかる通り、レリーフ深度については、実施例1から3及び比較例2は100μm以上確保されており良好であったが、比較例1及び3は50μmと浅く、不良と判断した。また、ラインの直線性については、比較例2のみが現像上がりでレリーフラインのよれが見られ、不良であった。   As can be seen from Table 1, with respect to the relief depth, Examples 1 to 3 and Comparative Example 2 were 100 μm or more, which was satisfactory, but Comparative Examples 1 and 3 were shallow at 50 μm and judged to be defective. Further, with respect to the linearity of the line, only Comparative Example 2 was unsatisfactory because the development was finished and a relief line was observed.

(有機ELディスプレイ用素子パネルの評価)
以下の表2に、実施例1乃至3及び比較例1乃至3の有機ELディスプレイ用素子パネルについて、発光層の膜厚ムラ、パネルの発光状態を示す。
(Evaluation of element panel for organic EL display)
Table 2 below shows the film thickness unevenness of the light emitting layer and the light emitting state of the panel for the organic EL display element panels of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3.

表2から分かるように、樹脂凸版の評価結果のとおり、有機ELディスプレイ用素子パネルについても、実施例1乃至3はいずれも発光層の膜厚ムラ、パネルの発光状態とも良好であったが、比較例1乃至3はいずれも不良であった。 As can be seen from Table 2, according to the evaluation results of the resin relief printing, for the organic EL display element panel, each of Examples 1 to 3 was good in both the uneven thickness of the light emitting layer and the light emission state of the panel. Comparative Examples 1 to 3 were all poor.

従来の樹脂凸版を例示する図。The figure which illustrates the conventional resin letterpress. 本発明の樹脂凸版を例示する図。The figure which illustrates the resin letterpress of this invention. 本発明の樹脂凸版を作成するための樹脂版材を例示する図。The figure which illustrates the resin plate material for creating the resin relief plate of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…基材
10…レリーフ凸部
20…レリーフ凸部
21…トップに近い部分
22…ボトムに近い部分
30…感光性樹脂層
31…表層に近い側の層
32…基材に近い側の層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base material 10 ... Relief convex part 20 ... Relief convex part 21 ... Part near the top 22 ... Part near the bottom 30 ... Photosensitive resin layer 31 ... Layer 32 near the surface layer ... Layer near the base material

Claims (5)

基材の上に積層された感光性樹脂層を露光して現像することでレリーフを形成した樹脂凸版であって、前記感光性樹脂層が光散乱性の異なる2層から成り、基材に近い側の層が表層に近い側の層よりも光散乱性の高い層であることを特徴とする樹脂凸版。   A resin relief plate having a relief formed by exposing and developing a photosensitive resin layer laminated on a base material, the photosensitive resin layer comprising two layers having different light scattering properties, and close to the base material A resin relief printing plate, wherein the side layer is a layer having higher light scattering properties than the side layer close to the surface layer. 前記感光性樹脂層の光散乱性の高い方の層は、光散乱率が、波長360nmの光の場合に、10%以上30%以下であることを特徴とする請求項1項記載の樹脂凸版。   The resin relief printing plate according to claim 1, wherein the light-scattering layer of the photosensitive resin layer has a light scattering rate of 10% or more and 30% or less in the case of light having a wavelength of 360 nm. . 前記感光性樹脂層の光散乱性の低い方の層は、光散乱率が、波長360nmの光の場合に、5%以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の樹脂凸版。   3. The resin relief printing plate according to claim 1, wherein the light-scattering layer of the photosensitive resin layer has a light scattering rate of 5% or less in the case of light having a wavelength of 360 nm. レリーフ凸部のトップに近い部分が前記感光性樹脂層の光散乱性の低い方の層で形成され、レリーフ凸部のボトムに近い部分が前記感光性樹脂層の光散乱性の高い方の層で形成されており、レリーフ凸部のトップに近い部分の基材面に対する傾斜角度が85度から90度の間であり、レリーフ凸部のボトムに近い部分の基材面に対する傾斜角度が50度から80度の間であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項記載の樹脂凸版。   The portion close to the top of the relief convex portion is formed of the layer having the lower light scattering property of the photosensitive resin layer, and the portion closer to the bottom of the relief convex portion is the layer having the higher light scattering property of the photosensitive resin layer. The inclination angle with respect to the base material surface of the portion near the top of the relief convex portion is between 85 degrees and 90 degrees, and the inclination angle with respect to the base material surface of the portion near the bottom of the relief convex portion is 50 degrees. The resin letterpress according to any one of claims 1 to 3, wherein the angle is between 80 and 80 degrees. 請求項1乃至請求項4の何れか1項記載の樹脂凸版を用いて、凸版印刷法により有機EL素子の発光層をパターン形成することを特徴とする有機ELディスプレイ用素子パネルの製造方法。   A method for producing an element panel for an organic EL display, comprising: patterning a light emitting layer of an organic EL element by a letterpress printing method using the resin letterpress according to any one of claims 1 to 4;
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