JP2008119574A - 塗布装置および塗布方法 - Google Patents

Abstract

【課題】塗布領域に塗布液を精度良く塗布する。
【解決手段】Ｘ方向にノズルヘッド５を移動させながらノズル４から塗布液をステージ２に載置された基板１に向けて吐出させて基板１上の溝１１に塗布液を塗布する塗布動作と、ステージ２をＹ方向にステップ状に移動させて基板１を位置決めするステップ移動を交互に繰り返す。制御部３は、ステージ２の各ステップ移動後に、該ステップ移動に続く塗布動作の実行前に該ステップ移動により生じたヨーイング誤差に対応した補正回転量を求めた上で該補正回転量だけ、ステージ移動機構２１を制御してＸ方向およびＹ方向に直交する直交軸Ｚ回りに（θ方向に）ステージ２を回転させる。
【選択図】図３

Description

この発明は、基板とノズルとを相対的に移動させながらノズルから塗布液を基板に向けて吐出して基板上の塗布領域に塗布する塗布技術に関するものである。

従来、ステージの載置面上に基板を載置して、ステージとノズルとを相対的に移動させながらノズルから塗布液を基板に向けて吐出して基板上の塗布領域に塗布するようにした塗布装置が提案されている（例えば特許文献１参照）。この特許文献１記載の塗布装置では、ノズルをＸ方向に移動可能に構成するとともに、ステージをＸ方向に直交するＹ方向に移動可能に構成している。そして、ライン状の溝（塗布領域）を有する基板に対して、次のようにして塗布液を塗布している。すなわち、ノズルをＸ方向に移動させながら該ノズルから塗布液を基板に向けて吐出させて塗布領域に塗布する塗布動作と、基板をＹ方向にステップ状に移動させるステップ動作とを交互に繰り返して基板上に配設された複数の塗布領域に塗布液を塗布している。

このような塗布装置では、塗布領域から塗布液がはみ出してしまうと、製品不良を引き起こしてしまうため、ノズルから塗布領域に向けて塗布液を精度良く吐出することが求められる。そこで、特許文献１記載の装置では、試し塗りとして形成した塗布軌跡が塗布領域に一致するように基板とノズルとの相対的な位置関係を調整した後で、塗布領域への塗布液の塗布を実行している。

特開２００４−０７４０５０号公報（段落「００２０」）

ところで、ノズルをＸ方向に移動可能に構成するとともに、ステージをＸ方向に直交するＹ方向に移動可能に構成した装置では、ステージをＹ方向にステップ移動させる際に次のような問題が発生することがあった。すなわち、ステージをＹ方向にステップ移動させる移動機構（ステージ移動手段）の機構上、ステージをＹ方向にステップ移動させる際に、ステージが該ステージの載置面の面法線回りに回転して面法線回りにおいて位置誤差（以下「ヨーイング誤差」という）が発生することがあった。そして、このようなヨーイング誤差が発生した場合には、ノズルの移動方向（Ｘ方向）に対してライン状の塗布領域が延びる方向が傾斜することとなる。その結果、塗布液を塗布領域に正確に塗布することができなくなってしまう。しかしながら、上記特許文献１記載の装置では、ステージをＹ方向に移動させる際にヨーイング誤差が発生することについては全く考慮されておらず、塗布領域に塗布液を精度良く塗布することが困難となる場合があった。

この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、ノズルから塗布液を吐出させながら該ノズルをＸ方向に移動させるとともに、基板をＹ方向に移動させて基板上の塗布領域に塗布液の塗布を行う技術において、塗布領域に塗布液を精度良く塗布することを目的とする。

この発明にかかる塗布装置は、Ｙ方向において位置決めされた基板の上方位置でＹ方向とほぼ直交するＸ方向にノズルを移動させながら該ノズルから塗布液を基板に向けて吐出させて予め基板に設定されたライン状の塗布領域に塗布する塗布動作と、基板をＹ方向にステップ状に移動させて位置決めするステップ移動とを交互に繰り返す塗布装置であって、上記目的を達成するため、基板が載置される載置面を有するステージと、ステージをＹ方向にステップ移動させるステージ移動手段と、Ｘ方向およびＹ方向に直交する直交軸回りにステージを回転させるステージ回転手段と、各ステップ移動後において、該ステップ移動に続く塗布動作の実行前に該ステップ移動によりステージが載置面の面法線回りに回転して生じる面法線回りにおける位置誤差に対応した補正回転量を求めた上で該補正回転量だけステージを直交軸回りに回転させる制御手段とを備えたことを特徴としている。

また、この発明にかかる塗布方法は、上記目的を達成するため、ステージの載置面上に基板を載置する基板載置工程と、基板が載置されたステージをＹ方向において位置決めした状態で、基板の上方位置でＹ方向とほぼ直交するＸ方向にノズルを移動させながら該ノズルから塗布液を基板に向けて吐出させて予め基板に設定されたライン状の塗布領域に塗布する塗布工程と、基板が載置されたステージをＹ方向にステップ状に移動させて基板をＹ方向に位置決めするステップ移動工程とを備え、基板載置工程後に、塗布工程とステップ移動工程とを交互に繰り返す一方、各ステップ移動工程後に、該ステップ移動工程に続く塗布工程を実行するのに先立って、該ステップ移動工程により載置面の面法線回りにステージが回転して生じる面法線回りにおける位置誤差に対応した補正回転量を求めた上で該補正回転量だけ、Ｘ方向およびＹ方向に直交する直交軸回りにステージを回転させることを特徴としている。

このように構成された発明（塗布装置および塗布方法）によれば、ライン状の塗布領域（以下、単に「塗布領域」という）が予め設定された基板がステージの載置面上に載置され、塗布領域に対して次のように塗布液が塗布される。すなわち、Ｙ方向において位置決めされた基板の上方位置で、Ｙ方向とほぼ直交するＸ方向にノズルを移動させながら該ノズルから塗布液が基板に向けて吐出されて塗布領域に塗布（塗布動作が実行）される。そして、このような塗布動作（塗布工程）と、ステージをＹ方向にステップ状に移動させて基板をＹ方向に位置決めするステップ移動（ステップ移動工程）とが交互に繰り返されて基板上の塗布領域に塗布液が塗布されていく。ここで、ステージがＹ方向にステップ移動される際に、ヨーイング誤差が発生することがある。しかしながら、この発明によれば、各ステップ移動後、該ステップ移動に続く塗布動作の実行前にヨーイング誤差に対応した補正回転量を求めた上で補正回転量だけステージをＸ方向およびＹ方向に直交する直交軸回りに回転させている。したがって、ステップ移動によりヨーイング誤差が発生した場合であっても、ノズルの移動方向（Ｘ方向）と塗布領域が延びる方向とを一致させることができ、塗布領域に塗布液を精度良く塗布することができる。

ここで、ステージの各ステップ移動後に生じたヨーイング誤差を補正する具体的な手段として、Ｙ方向における複数のステージの位置情報と、各位置情報に対応する位置に位置決めされたステージの位置誤差を補正するために用いられる補正値とを関連付けた補正テーブルを記憶する記憶手段をさらに設け、制御手段は、ステップ移動後のステージの位置情報と補正値とに基づき補正回転量を求めてもよい。そして、このように求められた補正回転量だけステージを回転させることで、ステップ移動により生じたヨーイング誤差を検出することなく、該ヨーイング誤差を補正することができる。このため、ステップ移動により生じたヨーイング誤差を検出できない場合であっても、塗布領域に塗布液を精度良く塗布することができる。

また、補正値を設定入力する操作手段をさらに備え、制御手段は、複数の位置情報に対応する位置にステージを順番に位置決めする毎に、操作手段により設定入力される補正値を該位置情報と対応付けて記憶手段に記憶して補正テーブルを形成してもよい。この場合、Ｘ方向に沿って、しかもノズル移動経路の上方に配置された第１および第２撮像部をさらに備え、操作手段は第１撮像部に撮像される塗布領域の第１画像と第２撮像部に撮像される塗布領域の第２画像とに基づき操作されて補正値が設定入力されるようにするのが好ましい。この構成によれば、操作手段を操作するオペレーターが第１および第２撮像部に撮像される塗布領域を視覚的に捉えることができ、操作手段により補正値を比較的容易に設定入力することができる。

また、ステージの位置誤差に関連する誤差情報を検出する検出手段をさらに備え、制御手段は、複数の位置情報に対応する位置にステージを順番に位置決めする毎に、検出手段により検出された誤差情報に基づき補正値を求めるとともに該位置情報と対応付けて記憶手段に記憶して補正テーブルを形成してもよい。この構成によれば、複数の位置情報に対応する位置にステージを順番に位置決めする毎に、操作手段により補正値が設定入力されなくとも、補正テーブルを自動で形成することができる。なお、このような検出手段としては、例えばＸ方向に沿って、しかもノズル移動経路の上方に配置された第１および第２撮像部を有し、第１撮像部に撮像される塗布領域の第１画像と第２撮像部に撮像される塗布領域の第２画像とを誤差情報として出力するものを採用することができる。

また、各ステップ移動後に生じたヨーイング誤差を補正する、他の具体的な手段として、ステージの位置誤差に関連する誤差情報を検出する検出手段をさらに設け、制御手段は、各ステップ移動後において該ステップ移動に続く塗布動作の実行前に、検出手段により検出された誤差情報に基づき補正回転量を求めた上で該補正回転量だけステージを回転させてもよい。この構成によれば、ステージをＹ方向にステップ移動する際にヨーイング誤差が発生した場合であっても、補正テーブルを用いることなく、リアルタイムで該ヨーイング誤差を補正することができる。なお、このような検出手段としては、例えばＸ方向に沿って、しかもノズル移動経路の上方に配置された第１および第２撮像部を有し、第１撮像部に撮像される塗布領域の第１画像と第２撮像部に撮像される塗布領域の第２画像とを誤差情報として出力するものを採用することができる。

また、ノズルは塗布動作の前後において塗布領域からＸ方向に外れた非塗布領域の上方を移動するとともに、制御手段は、ノズルが非塗布領域の上方に位置している間にステージの回転動作を完了させるのが好ましい。この構成によれば、塗布動作中にステージの回転動作が行われることなく、ノズルが非塗布領域の上方に位置している間にステップ移動により生じたヨーイング誤差が補正される。したがって、塗布領域に塗布液を精度良く塗布することができる。

この発明にかかる塗布装置および塗布方法によれば、ステージの各ステップ移動後において、該ステップ移動に続く塗布動作（塗布工程）の実行前にヨーイング誤差に対応した補正回転量を求めた上で補正回転量だけステージをＸ方向およびＹ方向に直交する直交軸回りに回転させている。したがって、ステップ移動によりヨーイング誤差が発生した場合であっても、ノズルの移動方向（Ｘ方向）と塗布領域が延びる方向とを一致させることができ、塗布領域に塗布液を精度良く塗布することができる。

＜第１実施形態＞
図１はこの発明にかかる塗布装置の第１実施形態を示す図である。また、図２は図１の塗布装置に装備されたノズル移動機構の概略構成を示す図で、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＢ矢視図である。また、図３は図１の塗布装置の電気的構成を示すブロック図である。この塗布装置は、基板１上に形成されたバンク１２間の溝１１に液体状の有機層（正孔輸送層や有機ＥＬ層）を形成するための材料を含む塗布液（以下、単に「塗布液」という）を塗布する塗布装置である。溝１１は、幅寸法Ｌ１でライン状に延設されるとともに、延設方向に直交する方向にピッチＰで並んで基板１上に配設されている。各溝１１が本発明の「塗布領域」に相当する。基板１は溝１１が延びる方向とＸ方向とが一致するように後述するステージ２に載置される。

この塗布装置では、基板１が載置される載置面２ａを有するステージ２が設けられている。このステージ２はＹ方向にスライド自在で、しかもＸ方向およびＹ方向に直交する直交軸（垂直軸）Ｚに対して直交軸Ｚ回りに（θ方向に）回動自在となっている。また、ステージ２にはステージ移動機構２１が接続されており、装置全体を制御する制御部３（本発明の「制御手段」に相当）からの動作指令に応じてステージ移動機構２１が作動することでステージ２をＹ方向にステップ状に移動させたり、θ方向に回転させてステージ２上の基板１を位置決めすることができる。このように、この実施形態では、ステージ移動機構２１が本発明の「ステージ移動手段」および「ステージ回転手段」として機能する。

また、このステージ２の上方にはノズル４が配設されている。このノズル４は、ノズルヘッド５に保持されており、このノズルヘッド５は、ノズル移動機構５０に接続されている。ノズル移動機構５０は、ガイド棒５１，５１と、ローラ５２，５３に掛け渡された無端ベルト５４と、ローラ５３を駆動するモータ５５とを備えている。ガイド棒５１，５１はノズル台５６に固定されており、ノズルヘッド５を貫通し、ノズルヘッド５を支持するとともにその移動方向を案内するものである。無端ベルト５４は、その外周面がノズルヘッド５の側面５ａに固定されている。そして、制御部３からの動作指令に応じてモータ５５が駆動されると、ローラ５３の回転により無端ベルト５４が回転することでノズルヘッド５（ノズル４）が移動する。

ノズルヘッド５は、ノズル移動機構５０によって、静止状態から高加速度（この実施形態では例えば、５Ｇ〜２０Ｇ（Ｇは重力加速度）程度）で加速され、高速（この実施形態では例えば、１ｍ／ｓ〜１０ｍ／ｓ）で等速運動するようになっており、これによってスループットの向上が図られている。また、モータ５５は正転および反転が可能になっており、これによって、ノズルヘッド５（ノズル４）はＸ方向に往復移動可能となっている。したがって、ノズル４を基板１上の溝１１に対向させた状態でＸ方向に移動させると、ノズル４は溝１１に沿って移動することとなる。

このノズル４は塗布液の供給源たる液供給部４１と配管接続されており、制御部３からの動作指令に応じて液供給部４１が駆動されると、液供給部４１から圧送されてくる塗布液を基板１に向けて連続的に吐出可能となっている。このときの吐出流量は、溝１１の幅寸法などに応じて予め設定されている。ここで、ノズル４の等速運動中にノズル４から塗布液が吐出されるようになっており、これによって溝１１に塗布液が均一に塗布されるようになっている。また、ノズル４の（＋Ｘ）方向の移動（往動）時においても（−Ｘ）方向の移動（復動）時においても、ノズル４から塗布液が吐出されて基板１上の溝１１に塗布液を塗布するようになっている。すなわち、ノズル４の往動時にノズル４から塗布液を連続吐出させて基板１上の溝１１に塗布液を塗布する塗布動作と、ノズル４の復動時にノズル４から塗布液を連続吐出させて基板１上の溝１１に塗布液を塗布する塗布動作とを実行可能となっている。そして、ノズル４の移動（往動または復動）時の塗布動作と、基板１をＹ方向にステップ移動させて位置決めするステップ移動とを交互に繰り返すことで、Ｙ方向に並んで配設された複数の溝１１に塗布液を塗布している。なお、この実施形態では、ステップ移動時も、ノズル４から塗布液を途切れることなく連続して吐出している。ただし、基板１の溝１１の左右両側に位置する非塗布領域１３にはテープなどでマスキングを施しており、連続吐出されても溝１１の左右両側のテープに塗布液が付着するため、基板１に対して支障を来たすことがないようにしている。

また、ノズル４はノズルヘッド５に対して着脱自在となっている。すなわち、この塗布装置ではノズル４が交換可能になっている。これによって、ノズル４として、基板１に設けられた溝１１の幅寸法Ｌ１の大きさに対応する直径の吐出口を有するノズルを装着することで、種々の溝幅の基板１に適用可能になっている。

さらに、基板１上の溝１１やノズル４からの塗布軌跡を撮像するための２つのＣＣＤカメラ６１，６２がそれぞれ本発明の「第１撮像部」および「第２撮像部」として設けられている。ＣＣＤカメラ６１，６２は、ＣＣＤカメラ６１，６２の撮像領域の中心を結ぶ線がＸ方向に一致するようにノズル台５６に固定されている。ただし、ＣＣＤカメラ６１，６２は、ノズルヘッド５の往復移動を妨げないようにノズル移動経路ＮＲの上方に配置されている。また、各ＣＣＤカメラ６１，６２からの出力信号を画像処理部６３に出力するように構成されている。そして、この画像処理部６３はＣＣＤカメラ６１，６２からの画像信号に対して所定の画像処理を施した後、画像処理後の画像データを制御部３に出力している。

また、この塗布装置は、例えばデータなどを一時的に記憶するＲＡＭや制御プログラムなどを記憶するＲＯＭなどを有する記憶部６４（本発明の「記憶手段」に相当）を備えるとともに、ユーザインターフェースとして、例えばキーボードなどからなる操作部６５およびＣＣＤカメラ６１，６２により撮像された画像等を表示する表示部６６を備えている。

次に、上記のような装置構成において、ステージ２をＹ方向にステップ移動させた際に発生するヨーイング誤差について説明する。図４はステージをステップ移動させた際に発生するヨーイング誤差を説明する図である。

制御部３からの動作指令に応じてステージ移動機構２１がステージ２を同図（ａ）から同図（ｂ）に示すようにＹ方向にステップ移動させたときに、該ステップ移動によりステージ２が載置面２ａの面法線（紙面に直交する方向に延びる線）回りに回転して面法線回りにおいて位置誤差（ヨーイング誤差）が発生する場合がある。このヨーイング誤差は、例えばステージ移動機構２１が有する構成部材の組み付け状態のずれや該構成部材の変形等に起因して発生する。そして、このようにステージ２のステップ移動によりヨーイング誤差が発生すると、ノズルの移動方向（Ｘ方向）に対して溝１１が延びる方向が傾斜することとなる。その結果、塗布液を溝１１に正確に塗布することができなくなってしまう。そこで、この実施形態では、ステージ２の各ステップ移動後において、該ステップ移動に続く塗布動作の実行前に、ヨーイング誤差に対応した補正回転量を求めた上で該補正回転量だけステージ２を直交軸Ｚ回りに（θ方向に）回転させることで、ヨーイング誤差を補正するようにしている。

次に、上記のように構成された第１実施形態にかかる塗布装置の動作について、図５〜図１０を参照しつつ説明する。図５は第１実施形態にかかる塗布装置の動作を示すフローチャートである。この塗布装置では、塗布処理される被処理基板のローディングを行う前に補正テーブルを作成する（ステップＳ１）。すなわち、Ｙ方向におけるステージ２の位置情報を複数個記憶部６４に記憶するとともに、各位置情報に対応する位置に位置決めされたステージ２のヨーイング誤差を補正するために用いられる補正値を上記位置情報と関連付けながら記憶部６４に記憶している。こうして作成されたものが補正テーブルである。

図６は補正テーブルの作成の手順を示すフローチャートである。また、図７は補正テーブルの作成時における動作を模式的に示す図である。先ず、図示を省略する搬送ロボットにより、補正テーブルを作成するための基板１（基準基板）がステージ２に載置される（ステップＳ２１）と、制御部３からの動作指令に応じてステージ移動機構２１が作動してステージ２が基準位置（Ｔ＝０）に移動される（ステップＳ２２）。なお、このような基準基板は、補正テーブルの作成に専用に用意された較正用基板であってもよいし、被処理基板、例えば複数枚の被処理基板を一単位とするロットの最初の被処理基板であってもよい。また、ステージ２の基準位置として、例えば次のようなステージ位置が設定される。すなわち、補正テーブルの作成（ステップＳ１）後、ステップＳ２でローディングされる被処理基板１上の最初の塗布対象となる溝１１がＹ方向においてノズル移動経路ＮＲに一致する、ステージ位置が基準位置として設定される。

続いて、ＣＣＤカメラ６１，６２により基板１上の溝１１が撮像され、例えば図７中の左画像Ｉ61（本発明の「第１画像」に相当），右画像Ｉ62（本発明の「第２画像」に相当）に示すような光学像が表示部６６に表示される。そして、オペレータは表示部６６に表示された光学像を観察しながら画像が一致するか否か（Ｘ方向、つまりノズル移動経路ＮＲが延びる方向と溝１１が延びる方向とが平行であるか否か）を判断する（ステップＳ２３）。ここで、画像が一致しなければ（Ｘ方向と溝１１が延びる方向とが平行でない場合；ステップＳ２３でＮＯの場合）には、オペレータは操作部６５を操作することでステージ移動機構２１を駆動させて、画像が一致する（Ｘ方向と溝１１が延びる方向とが平行になる）ようにステージ２をθ方向に回転調整する（ステップＳ２４）。そして、オペレータは操作部６５を操作することで現在の角度θを０度に設定する（ステップＳ２５）。その一方で、ステップＳ２３において、画像が一致していれば（ステップＳ２３でＹＥＳの場合）、基板１の回転調整を実行することなく、オペレータは操作部６５を操作することで現在の角度θを０°に設定する（ステップＳ２５）。

次に、制御部３はステージ移動機構２１の駆動により、基板１を所定のステップ送り量Ｔａだけ（＋Ｙ）方向にステップ送りする（ステップＳ２６）。そして、オペレータは表示部６６に表示された光学像を観察しながら画像が一致するか否か（Ｘ方向と溝１１が延びる方向とが平行であるか否か）を判断する（ステップＳ２７）。ここで、画像が一致しなければ（すなわち、ステップ送りによりヨーイング誤差が発生していれば；ステップＳ２７でＮＯの場合）には、オペレータは操作部６５を操作することでステージ移動機構２１を駆動させて、画像が一致するようにステージ２をθ方向に回転調整する（ステップＳ２８）。その結果、回転角θａだけ基板１を回転調整した場合には、回転角θａに対応するパルス数（ステージ移動機構２１をθ方向に回転駆動するための駆動パルス数）が補正値として操作部６５により設定入力され、記憶部６４に記憶される（ステップＳ２９）。その一方で、ステップＳ２７において、画像が一致していれば（ステップＳ２７でＹＥＳの場合）、ステージ２の回転調整を実行することなく、現在の角度θに対応するパルス数が補正値として操作部６５により設定入力され、記憶部６４に記憶される（ステップＳ２９）。このように、この実施形態では、オペレーターが左画像Ｉ61および右画像Ｉ62に撮像される溝１１を視覚的に捉えることができ、操作部６５により補正値を比較的容易に設定入力することができる。

次に、制御部３は予め規定された所定回数だけステップ送りされたか否かを判断する。（ステップＳ３０）。このようなステップ送り回数は、例えば被処理基板１をＹ方向にステップ移動して塗布処理を完了するために必要な移動距離（必要移動距離）に対応して予め規定される。具体的には、少なくとも基準位置から必要移動距離内にあるステージ位置に対応する補正値が得られるように、基準位置からのステップ送り回数が予め規定される。そして、規定された回数だけステップ送りされていない場合（ステップ送りが完了していない場合；ステップＳ３０でＮＯの場合）には、現在のステージ位置からさらにステップ送り量Ｔａだけ（＋Ｙ）方向にステップ送りする（ステップＳ２６）。そして、規定された回数だけステップ送りされるまで、ステップＳ２６からステップＳ２９までの動作が繰り返し行われる。

つまり、Ｙ方向における基準位置を基準とする、複数の絶対距離（以下、単に「絶対距離」という）に対応するステージ位置、つまりＹ方向において基準位置からの距離が互いにステップ送り量Ｔａだけ異なる、複数のステージ位置にステージ２が順番に位置決めされる毎に、操作部６５により設定入力される補正値が絶対距離と対応付けて記憶部６４に記憶される。その結果、図８に示すように、複数の絶対距離と、各絶対距離に対応する位置に位置決めされたステージ２のヨーイング誤差を補正するために用いられる補正値（パルス数）とを関連付けた補正テーブルが作成される。図８に示す補正テーブルの例では、ステップ送り量Ｔａを１０ｍｍとし、基準位置から７０ｍｍまでの各絶対距離に対応する位置に位置決めされたステージ２のヨーイング誤差を補正するために用いられる補正値（パルス数）を得ている。このように、この実施形態では、絶対距離が本発明の「ステージの位置情報」に相当する。

こうして、補正テーブルが作成されると、基板１（基準基板）をアンロードし（ステップＳ３１）、図５のステップＳ２に進んで被処理基板１をロード（被処理基板１をステージ２に載置）する（ステップＳ２；基板載置工程）。なお、基準基板として被処理基板１を用いている場合には、該被処理基板１をアンロードすることなく、被処理基板１に対して以下に示す塗布処理が実行される。

図９は塗布動作およびヨーイング誤差の補正動作を模式的に示す図である。先ず、制御部３からの動作指令に応じてステージ移動機構２１が作動してステージ２が基準位置（Ｔ＝０）に移動される（ステップＳ３）。続いて、ノズルヘッド５をスタートポイント、つまり最初の塗布対象となる溝１１ａの一方端部（図９中、左端）から（−Ｘ）方向に所定距離だけ離れた位置に位置決めし、ノズルヘッド５から基板１に向けて塗布液の吐出を開始する（ステップＳ４）。そして、ノズルヘッド５から塗布液を吐出させながらノズルヘッド５を（＋Ｘ）方向へ移動（塗布動作を実行）させる（ステップＳ５：塗布工程）。これにより、最初の塗布対象となる溝１１ａに塗布液が塗布される。

次に、制御部３は塗布対象となる全ての溝１１に塗布液が塗布されているか否かを判断し（ステップＳ６）、未塗布の溝がある場合には（ステップＳ６でＮＯ）、ステージ２をＹ方向にステップ移動する（ステップＳ７；ステップ移動工程）。このとき、例えば次の塗布対象となる溝が上から３番目の溝１１ｃ（図９）である場合には、ステージ２はピッチＰの２倍だけステップ移動され、ピッチＰの２倍の距離だけ基準位置から離れた位置（Ｔ＝Ｔ１）に位置決めされる。続いて、制御部３はステップ移動に続く次の塗布動作の実行前に以下に示す一連の動作（ステップＳ８〜Ｓ１０）を実行する。つまり、ノズルヘッド５が溝１１からＸ方向に外れた非塗布領域１３の上方に位置している間にステップＳ８〜Ｓ１０に示す動作が実行される。なお、本実施形態では、ノズルヘッド５が非塗布領域１３の上方に位置している間も、ノズル４からの塗布液の吐出は継続されている。

ステップ移動後、制御部３は基準位置からのステージ２の移動量、つまり絶対距離を算出する（ステップＳ８）。そして、制御部３はステップ移動後の絶対距離と、記憶部６４に記憶された補正テーブルに基づき、ステップ移動後の絶対距離に対応した補正値を用いて補正回転量を求める（ステップＳ９）。ここで、ステップ移動後の絶対距離に対応した補正値が補正テーブルに規定されていれば、制御部３は補正テーブルに規定された補正値を記憶部６４から読み出す。その一方で、ステップ移動後の絶対距離に対応した補正値が補正テーブルに規定されていない場合には、制御部３は次のようにしてステップ移動後の絶対距離に対応した補正値を求める。すなわち、この場合には、制御部３は補正テーブルに規定された各補正値の間を直線補間してステップ移動後の絶対距離に対応した補正値を求める。

図１０は直線補間による補正値および該補正値からの補正回転量の導出を説明するための図である。例えば、図１０に示すように、１０ｍｍおきに絶対距離に対応した補正値が補正テーブルに規定されている場合では、次のようにして補正テーブルに規定されていない絶対距離に対応した補正値を求める。ステップＳ８において例えば絶対距離が２４ｍｍと算出された場合には、制御部３は絶対距離が２０ｍｍのときの補正値（パルス数：２０）と絶対距離が３０ｍｍのときの補正値（パルス数：１０）との間を直線補間する。その結果、絶対距離が２４ｍｍのときの補正値（パルス数：１６）が求められる。したがって、補正テーブル作成時のステップ送り量Ｔａを、塗布処理時のステップ移動量（この実施形態では、ピッチＰの２倍）に一致させる必要がなく、補正テーブルに規定する補正値の数を低減することができる。このため、補正テーブルを短時間で作成することが可能になるとともに、記憶部６４における補正テーブルが占有する記憶容量を削減することができる。

こうして、ステップ移動後の絶対距離に対応した補正値が求められると、制御部３は該補正値を用いて補正回転量を導出する。すなわち、例えばステージ２が絶対距離２０ｍｍｍに対応する位置から絶対距離２４ｍｍｍに対応する位置までステップ移動された場合には、制御部３は絶対距離１０ｍｍｍのときの補正値（パルス数：２０）と絶対距離が２４ｍｍのときの補正値（パルス数：１６）とに基づいて両補正値の相対値（パルス数：４）を算出し、該相対値を補正回転量として導出する（図１０）。そして、制御部３はステージ移動機構２１を駆動させて、ステップ移動後の補正回転量に基づきステージ２をθ方向に回転させて位置補正を行う（ステップＳ１０）。したがって、例えばステップ移動によりヨーイング誤差が生じてステージ２が（−θ１）だけ回転したとしても、該ヨーイング誤差に対応した補正回転量（θ１）だけステージ２を回転させることで、Ｘ方向と溝１１が延びる方向とを一致させることができる。制御部３は、ステージ２の回転補正動作をノズルヘッド５が溝１１からＸ方向に外れた非塗布領域１３の上方に位置している間に完了する。

続いて、ステージ２の回転補正動作が完了すると、制御部３は、次の塗布対象である溝１１ｃに対して塗布動作を実行する（ステップＳ５；塗布工程）。すなわち、ノズルヘッド５から塗布液を吐出させながらノズルヘッド５を（−Ｘ）方向へ移動させる。これにより、塗布対象となる溝１１ｃに塗布液が塗布される。そして、塗布対象となる全ての溝１１に塗布液が塗布されるまで、ステップＳ５からステップＳ１０までの動作が繰り返し行われ、塗布対象となる溝１１に順次、塗布液が塗布されていく。

こうして、塗布対象となる全ての溝１１に塗布液が塗布されると（ステップＳ６でＹＥＳ）、塗布液の吐出を停止する（ステップＳ１１）。その後、被処理基板（処理済基板）をアンロードし（ステップＳ１２）、次の被処理基板（未処理基板）をローディングする（ステップＳ２）。

以上のように、この実施形態によれば、ステージ２の各ステップ移動後、該ステップ移動に続く塗布動作の実行前にヨーイング誤差に対応した補正回転量を求めた上で補正回転量だけステージ２を直交軸Ｚ回りに（θ方向に）回転させている。したがって、ステージ２のステップ移動によりヨーイング誤差が発生した場合であっても、ノズルの移動方向（Ｘ方向）と基板１上の溝１１が延びる方向とを一致させることができ、溝１１に塗布液を精度良く塗布することができる。また、このように各ステップ移動後に生じたヨーイング誤差を補正することができるので、ステージをＹ方向にステップ移動させる移動機構（ステージ移動機構）の位置決め精度に関して過度に精度が要求されることがない。このため、装置構成を簡素化して装置のコスト低減を図ることができる。

また、この実施形態によれば、複数の絶対距離と、各絶対距離に対応する位置に位置決めされたステージ２のヨーイング誤差を補正するために用いられる補正値（パルス数）とを関連付けた補正テーブルに基づいて、被処理基板１が載置されたステージ２のステップ移動により生じたヨーイング誤差に対応した補正回転量を求めている。このため、被処理基板１に対して塗布処理を実行する際に、ステージ２のステップ移動により生じたヨーイング誤差を検出することなく、該ヨーイング誤差を補正することができる。このため、ステップ移動により生じたヨーイング誤差を検出できない場合であっても、溝１１に塗布液を精度良く塗布することができる。例えば、被処理基板１を撮像した画像からヨーイング誤差を検出できない場合であっても、溝１１に塗布液を精度良く塗布することができる。

また、この実施形態によれば、塗布動作中にステージ２の回転動作が行われることなく、ノズルヘッド５が非塗布領域１３の上方に位置している間にステップ移動により生じたヨーイング誤差を補正している。したがって、溝１１に塗布液を精度良く塗布することができる。

＜第２実施形態＞
図１１はこの発明の第２実施形態にかかる塗布装置の動作を示すフローチャートである。この第２実施形態にかかる塗布装置の動作が第１実施形態と異なる点は、補正テーブルを作成することなく、ステージ２のステップ移動により生じたヨーイング誤差を補正している点である。なお、塗布装置の構成および図９に示す塗布装置の動作は基本的に第１実施形態と同様であり、ここでは相違点を中心に説明する。

被処理基板１がローディングされると（被処理基板１がステージ２に載置されると）（ステップＳ５１；基板載置工程）、制御部３はステージ２を基準位置（Ｔ＝０）に移動させる（ステップＳ５２）。また、ステージ２の移動後、ＣＣＤカメラ６１，６２（本発明の「検出手段」に相当）により最初の塗布対象となる溝１１ａ（図９中、上から１番目の溝）が撮像される（ステップＳ５３）。そして、制御部３は画像が一致するか否か（Ｘ方向、つまりノズル移動経路ＮＲが延びる方向と溝１１ａが延びる方向とが平行であるか否か）を判断し（ステップＳ５４）、画像が一致しなければ（Ｘ方向と溝１１ａが延びる方向とが平行でない場合；ステップＳ５４でＮＯの場合）、補正回転量（Ｘ方向に対する溝１１ａが延びる方向の傾斜角）を導出する（ステップＳ５５）。なお、補正回転量の導出方法については後で詳述する。次のステップＳ５６では、制御部３はステージ移動機構２１を作動させてステージ２を補正回転量だけθ方向に回転して位置補正を行う。

続いて、ノズルヘッド５から基板１に向けて塗布液の吐出を開始する（ステップＳ５７）。そして、ノズルヘッド５から塗布液を吐出させながらノズルヘッド５を（＋Ｘ）方向へ移動（塗布動作を実行）させる（ステップＳ５８；塗布工程）。これにより、最初の塗布対象となる溝１１ａに塗布液が塗布される。

次に、制御部３は塗布対象となる全ての溝１１に塗布液が塗布されているか否かを判断し（ステップＳ５９）、未塗布の溝がある場合には（ステップＳ５９でＮＯ）、ステージ２をＹ方向にステップ移動させる（ステップＳ６０；ステップ移動工程）。ステージ２のＹ方向へのステップ移動後、ＣＣＤカメラ６１，６２により次の塗布対象となる溝１１（この実施形態では、図９中、上から３番目の溝１１ｃ）が撮像される（ステップＳ６１）。そして、制御部３は画像が一致するか否か（Ｘ方向と溝１１ｃが延びる方向とが平行であるか否か）を判断し（ステップＳ６２）、画像が一致しなければ（すなわち、ヨーイング誤差が発生していれば；ステップＳ６２でＮＯ）、補正回転量（Ｘ方向に対する溝１１ｃが延びる方向の傾斜角）を導出する（ステップＳ６３）。

ここで、図１２を用いて補正回転量の導出方法について説明する。図１２に示すように、ＣＣＤカメラ６１，６２により撮像された左画像Ｉ61，右画像Ｉ62には、塗布対象となる溝１１ｃを含む複数の溝１１が捉えられている。これらＣＣＤカメラ６１，６２からの画像信号（左画像Ｉ61からの画像信号と右画像Ｉ62からの画像信号）は画像処理部６３に出力される。そして、画像処理部６３では、ＣＣＤカメラ６１，６２からの画像信号のうち、溝１１ｃのみの光学像を含む中央部の特定の画像領域からの画像信号に対して所定の画像処理が施される。これにより、左画像Ｉ61において捉えられた溝１１ｃの重心位置（Ｘ１，Ｙ１）と、右画像Ｉ62において捉えられた溝１１ｃの重心位置（Ｘ２，Ｙ２）とが求められる。その結果、画像処理部６３から出力された画像データに基づいて制御部３は、以下の計算式から補正回転量θｃ（Ｘ方向に対する溝１１ａが延びる方向の傾斜角）を導出する。
θｃ＝ｔａｎ^−１（Ｙ２−Ｙ１）／（Ｘ２−Ｘ１）

したがって、次のステップＳ６４では、制御部３はステージ２を補正回転量θｃだけ回転させることで、ステップ移動により生じたヨーイング誤差を補正することができる。制御部３は、ステージ２の回転補正動作をノズルヘッド５が溝１１からＸ方向に外れた非塗布領域１３の上方に位置している間に完了する。このように、この実施形態では、ＣＣＤカメラ６１，６２により撮像された左画像Ｉ61，右画像Ｉ62が、本発明の「ステージの位置誤差に関連する誤差情報」に相当している。

続いて、制御部３はこのようにＸ方向と溝１１ｃが延びる方向とが一致するように回転補正された状態で、ノズルヘッド５を（−Ｘ）方向に移動（塗布動作を実行）させる（ステップＳ５８；塗布工程）。一方で、画像が一致していれば（すなわち、ヨーイング誤差が発生していなければ；ステップＳ６２でＹＥＳ）、ステージ２の回転補正動作を行うことなく、ノズルヘッド５を（−Ｘ）方向に移動（塗布動作を実行）させる（ステップＳ５８；塗布工程）。これにより、塗布対象となる溝１１ｃに塗布液が塗布される。

そして、塗布対象となる全ての溝に塗布液が塗布されるまで、ステップＳ５８からステップＳ６４までの動作が繰り返し行われ、塗布対象となる溝１１に順次、塗布液が塗布されていく。こうして、塗布対象となる全ての溝に塗布液が塗布されると（ステップＳ５９でＹＥＳ）、塗布液の吐出を停止する（ステップＳ６５）。その後、被処理基板１（処理済基板）をアンロードし（ステップＳ６６）、次の被処理基板１（未処理基板）をローディングする。

以上のように、この実施形態によれば、ステージ２の各ステップ移動後において該ステップ移動に続く塗布動作の実行前に、ＣＣＤカメラ６１，６２により検出された画像情報（画像信号）に基づき補正回転量を求めた上で該補正回転量だけステージ２を回転させている。したがって、ステージ２をＹ方向にステップ移動する際にヨーイング誤差が発生した場合であっても、補正テーブルを用いることなく、リアルタイムで該ヨーイング誤差を補正することができる。

＜その他＞
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記第１実施形態では、操作部６５により設定入力される補正値を記憶部６４に記憶して補正テーブルを形成しているが、補正テーブルの形成方法はこれに限定されない。例えば、制御部３は複数の絶対距離に対応するステージ位置、つまりＹ方向において基準位置からの距離が互いにステップ送り量Ｔａだけ異なる、複数のステージ位置にステージ２が順番に位置決めされる毎に、ＣＣＤカメラ６１，６２により撮像された画像に基づき補正値を求める。そして、制御部３は補正値を絶対距離と対応付けて記憶部６４に記憶することで補正テーブルを形成してもよい（第３実施形態）。この実施形態によれば、ステージを順番に位置決めする毎に、操作部６５により各絶対距離に対応した補正値が設定入力されなくとも、補正テーブルを自動で形成することができる。なお、複数の絶対距離に対応した補正値は、第２実施形態で説明でした補正回転量の導出方法（図１２）と同様の方法で求めることができる。すなわち、各絶対距離に対応した補正値は基準位置を基準とするステージ２のθ方向における回転角に対応しており、基準位置ではＸ方向と溝１１が延びる方向とが一致している。このため、図１２に示すように、各絶対距離に対応する位置におけるＸ方向に対する溝１１が延びる方向の傾斜角を算出することにより、各絶対距離に対応した補正値を求めることができる。

また、上記第１実施形態では、補正テーブルを形成する際に、ステージ２に基準基板１（較正用基板または被処理基板）を載置して、基準基板１上に配設された溝１１が延びる方向とＸ方向とが平行であるか否かをオペレータが判断しながら、操作部６５（操作手段）により補正値を設定入力しているが、補正テーブルを形成する際に基準基板１をステージ２に載置することは必須ではない。例えば、ステージ２の載置面２ａにＸ方向に延びるライン状のマーキングを付しておき、オペレータはマーキングとＸ方向とが平行であるか否かを判断しながら、操作部６５により補正値を設定入力するようにしてもよい。同様にして、上記第３実施形態でも、ＣＣＤカメラ６１，６２によりマーキングを撮像し、制御部３は撮像された画像Ｉ61，Ｉ62に基づき補正回転量を求めるようにしてもよい。

また、上記第１および第３実施形態では、Ｙ方向における複数の絶対距離に対応する位置は互いに一定間隔（ステップ送り量Ｔａ）だけ離れているが、各絶対距離に対応する位置の設定間隔は任意である。例えばステージ２を基準位置からステップ送り量Ｔａだけ互いに離れた位置にＹ方向に順番に位置決めして補正値を求めた後に、補正値の変化が比較的大きな特定の区間に対して、ステップ送り量Ｔａよりも小さなステップ送り量でステージ２をステップ送りして補正値を求めるようにしてもよい。

また、上記実施形態では、塗布液を吐出するノズルとして、ノズルヘッド５は１個のノズル４のみを備えるているが、ノズルヘッド５に保持させるノズルの個数はこれに限定されず、２個または４個以上でもよい。例えば３個のノズルを溝１１のピッチＰと同一の間隔でＹ方向に並んでノズルヘッド５に保持させるようにしてもよい。この構成によれば、Ｘ方向にノズルヘッド５を移動させながら各ノズル４からそれぞれ塗布液（例えば、Ｒ，Ｇ，Ｂ用塗布液）を同時に吐出（塗布動作を実行）させることで、３本の溝１１に対して同時に塗布液を塗布することが可能となる。この場合であっても、ステージ２の各ステップ移動（ステップ移動量：ピッチＰの３倍）後、該ステップ移動に続く塗布動作の実行前にヨーイング誤差に対応した補正回転量を求めた上で補正回転量だけステージ２を直交軸Ｚ回りに（θ方向に）回転させることで、ノズル移動方向（Ｘ方向）と溝１１が延びる方向とを一致させることができる。したがって、ステージ２のステップ移動によりヨーイング誤差が発生した場合であっても、溝１１に塗布液を精度良く塗布することができる。

また、ノズルヘッド５は複数の吐出口が設けられた１個のノズルを備えるようにしてもよい。

また、上記実施形態では、本発明の「検出手段」として２つのＣＣＤカメラ６１，６２を用いてステージ２の位置誤差（ヨーイング誤差）に関連する誤差情報を検出するようにしているが、ＣＣＤカメラ６１，６２の個数や配設位置などは任意である。また、検出手段はＣＣＤカメラに限定されず、例えばレーザ測長器など測長器を用いて誤差情報を検出するようにしてもよい。この場合、ステージ２のθ方向の回転に応じて変化する、ステージ２までの距離を検出可能な位置に測長器を配設すればよい。

また、上記実施形態では、ノズルヘッド５が非塗布領域１３の上方に位置している間も、ノズル４からの塗布液の吐出を継続させているが、ノズルヘッド５が非塗布領域１３の上方に位置している間はノズル４からの塗布液の吐出を停止するようにしてもよい。これにより、基板１の溝１１の左右両側に施されるマスキングが不要となる。

また、上記実施形態では、ノズル４の（＋Ｘ）方向の移動（往動）時においても（−Ｘ）方向の移動（復動）時においても、ノズル４から塗布液を吐出させて基板１上の溝１１に塗布液を塗布（塗布動作を実行）しているが、往動時のみまたは復動時のみ、ノズル４から塗布液を吐出させて基板１上の溝１１に塗布液を塗布するようにしてもよい。

また、上記実施形態では、基板１上にライン状に配設された溝１１に対して塗布液を塗布しているが、塗布領域は溝１１に限定されず、予め基板１にライン状に設定された所定の表面領域であればよい。

さらに、本発明は、半導体ウエハ、ガラス基板、液晶表示用ガラス基板、プラズマ表示用ガラス基板、光ディスク用基板などの各種基板に、液体状の有機ＥＬ材料や蛍光体、フォトレジスト液、現像液、エッチング液などの塗布液を塗布する塗布装置および塗布方法に対して適用することができる。

本発明は、塗布液を基板上の塗布領域に塗布する塗布装置および塗布方法全般に適用される。

この発明にかかる塗布装置の第１実施形態を示す図である。 図１の塗布装置に装備されたノズル移動機構の概略構成を示す図である。 図１の塗布装置の電気的構成を示すブロック図である。 ステージをステップ移動させた際に発生するヨーイング誤差を説明する図である。 第１実施形態にかかる塗布装置の動作を示すフローチャートである。 補正テーブルの作成の手順を示すフローチャートである。 補正テーブルの作成時における動作を模式的に示す図である。 補正テーブルの一例を示す図である。 塗布動作およびヨーイング誤差の補正動作を模式的に示す図である。 直線補間による補正値および該補正値からの補正回転量の導出を説明するための図である。 この発明の第２実施形態にかかる塗布装置の動作を示すフローチャートである。 補正回転量の導出方法を説明するための図である。

符号の説明

１…基板、２…ステージ、２ａ…載置面、３…制御部（制御手段）、４…ノズル、１１…溝（塗布領域）、１３…非塗布領域、２１…ステージ移動機構（ステージ移動手段、ステージ回転手段）、６１，６２…ＣＣＤカメラ（第１撮像部、第２撮像部、検出手段）、６４…記憶部（記憶手段）、６５…操作部（操作手段）、６６…表示部、Ｉ61…左画像（第１画像），Ｉ62…右画像（第２画像），ＮＲ…ノズル移動経路、Ｚ…直交軸

Claims (9)

1. Ｙ方向において位置決めされた基板の上方位置で前記Ｙ方向とほぼ直交するＸ方向にノズルを移動させながら該ノズルから塗布液を前記基板に向けて吐出させて予め前記基板に設定されたライン状の塗布領域に塗布する塗布動作と、前記基板を前記Ｙ方向にステップ状に移動させて位置決めするステップ移動とを交互に繰り返す塗布装置において、
   前記基板が載置される載置面を有するステージと、
   前記ステージを前記Ｙ方向にステップ移動させるステージ移動手段と、
   前記Ｘ方向および前記Ｙ方向に直交する直交軸回りに前記ステージを回転させるステージ回転手段と、
   各ステップ移動後において、該ステップ移動に続く塗布動作の実行前に該ステップ移動により前記ステージが前記載置面の面法線回りに回転して生じる前記面法線回りにおける位置誤差に対応した補正回転量を求めた上で該補正回転量だけ前記ステージを前記直交軸回りに回転させる制御手段と
   を備えたことを特徴とする塗布装置。
2. 前記Ｙ方向における複数の前記ステージの位置情報と、各位置情報に対応する位置に位置決めされた前記ステージの位置誤差を補正するために用いられる補正値とを関連付けた補正テーブルを記憶する記憶手段をさらに備え、
   前記制御手段は、ステップ移動後の前記ステージの位置情報と前記補正値とに基づき前記補正回転量を求める請求項１記載の塗布装置。
3. 補正値を設定入力する操作手段をさらに備え、
   前記制御手段は、前記複数の位置情報に対応する位置に前記ステージを順番に位置決めする毎に、前記操作手段により設定入力される補正値を該位置情報と対応付けて前記記憶手段に記憶して前記補正テーブルを形成する請求項２記載の塗布装置。
4. 前記Ｘ方向に沿って、しかも前記ノズル移動経路の上方に配置された第１および第２撮像部をさらに備え、
   前記操作手段は前記第１撮像部に撮像される前記塗布領域の第１画像と前記第２撮像部に撮像される前記塗布領域の第２画像とに基づき操作されて前記補正値が設定入力される請求項３記載の塗布装置。
5. 前記ステージの位置誤差に関連する誤差情報を検出する検出手段をさらに備え、
   前記制御手段は、前記複数の位置情報に対応する位置に前記ステージを順番に位置決めする毎に、前記検出手段により検出された誤差情報に基づき前記補正値を求めるとともに該位置情報と対応付けて前記記憶手段に記憶して前記補正テーブルを形成する請求項２記載の塗布装置。
6. 前記ステージの位置誤差に関連する誤差情報を検出する検出手段をさらに備え、
   前記制御手段は、各ステップ移動後において該ステップ移動に続く塗布動作の実行前に、前記検出手段により検出された誤差情報に基づき前記補正回転量を求めた上で該補正回転量だけ前記ステージを回転させる請求項１記載の塗布装置。
7. 前記検出手段は、前記Ｘ方向に沿って、しかも前記ノズル移動経路の上方に配置された第１および第２撮像部を有し、前記第１撮像部に撮像される前記塗布領域の第１画像と前記第２撮像部に撮像される前記塗布領域の第２画像とを前記誤差情報として出力する請求項５または６記載の塗布装置。
8. 前記ノズルは前記塗布動作の前後において前記塗布領域から前記Ｘ方向に外れた非塗布領域の上方を移動するとともに、
   前記制御手段は、前記ノズルが前記非塗布領域の上方に位置している間に前記ステージの回転動作を完了させる請求項１ないし７のいずれかに記載の塗布装置。
9. ステージの載置面上に基板を載置する基板載置工程と、
   前記基板が載置された前記ステージをＹ方向において位置決めした状態で、前記基板の上方位置で前記Ｙ方向とほぼ直交するＸ方向にノズルを移動させながら該ノズルから塗布液を前記基板に向けて吐出させて予め前記基板に設定されたライン状の塗布領域に塗布する塗布工程と、
   前記基板が載置された前記ステージを前記Ｙ方向にステップ状に移動させて前記基板をＹ方向に位置決めするステップ移動工程とを備え、
   前記基板載置工程後に、前記塗布工程と前記ステップ移動工程とを交互に繰り返す一方、
   各ステップ移動工程後に、該ステップ移動工程に続く塗布工程を実行するのに先立って、該ステップ移動工程により前記載置面の面法線回りに前記ステージが回転して生じる前記面法線回りにおける位置誤差に対応した補正回転量を求めた上で該補正回転量だけ、前記Ｘ方向および前記Ｙ方向に直交する直交軸回りに前記ステージを回転させることを特徴とする塗布方法。

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