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JP2008031304A - Film, polarizing plate, liquid crystal display device using norbornene copolymer, norbornene copolymer - Google Patents

Film, polarizing plate, liquid crystal display device using norbornene copolymer, norbornene copolymer Download PDF

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Publication number
JP2008031304A
JP2008031304A JP2006206414A JP2006206414A JP2008031304A JP 2008031304 A JP2008031304 A JP 2008031304A JP 2006206414 A JP2006206414 A JP 2006206414A JP 2006206414 A JP2006206414 A JP 2006206414A JP 2008031304 A JP2008031304 A JP 2008031304A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
general formula
norbornene
polarizing plate
rth
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Abandoned
Application number
JP2006206414A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tadasuke Watanabe
宰輔 渡辺
Osamu Uchida
内田  修
Akira Suzuki
亮 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
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Publication of JP2008031304A publication Critical patent/JP2008031304A/en
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  • Polarising Elements (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

【課題】湿度変化に対する光学特性変化が小さく、かつ光弾性が小さく、適当な透湿度を有するフィルムを提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表されるノルボルネン系共重合体を含有するフィルムである。式中、Lは炭素原子数10以下のアルキレン又は単結合を表し;R'は炭素原子数3以下のアルキル基を表し;Rは炭素原子数3以下のアルキル基又は水素原子を表し;X及び100−Xは、共重合の組成比率を表し、0<X<100である。
一般式(1)

Figure 2008031304

【選択図】なしDisclosed is a film having a small optical property change with respect to a humidity change, a small photoelasticity, and an appropriate moisture permeability.
A film containing a norbornene copolymer represented by the following general formula (1). Wherein L represents an alkylene having 10 or less carbon atoms or a single bond; R ′ represents an alkyl group having 3 or less carbon atoms; R represents an alkyl group having 3 or less carbon atoms or a hydrogen atom; 100-X represents a composition ratio of copolymerization, and 0 <X <100.
General formula (1)
Figure 2008031304

[Selection figure] None

Description

本発明は、ノルボルネン系共重合体を用いた光学フィルム(特に位相差フィルム、視野角拡大フィルム、プラズマディスプレイに用いられる反射防止フィルム等の各種機能フィルム、偏光板保護フィルム)、偏光板、液晶表示装置、ノルボルネン系共重合体に関するものである。   The present invention relates to an optical film using a norbornene copolymer (in particular, various functional films such as retardation film, viewing angle widening film, antireflection film used in plasma display, polarizing plate protective film), polarizing plate, liquid crystal display The apparatus relates to a norbornene copolymer.

液晶表示装置に用いられる偏光板は、通常、ヨウ素もしくは二色性染料をポリビニルアルコールに配向吸着させた偏光子の両側に、保護フィルム(保護フィルムに位相差をもたせ、保護フィルム兼位相差フィルムとなることもある))を水溶性粘着剤で貼り合わせることで製造されている。保護フィルムには、この製造プロセスに適した特性が第一に求められる。すなわち、上記の粘着剤の水を保護フィルムを通して抜きとる必要があるため、保護フィルムには適度な透湿性が求められる。   A polarizing plate used in a liquid crystal display device is usually provided with a protective film (with a protective film having a retardation, a protective film and a retardation film) on both sides of a polarizer obtained by aligning and adsorbing iodine or a dichroic dye to polyvinyl alcohol. In some cases))) with a water-soluble adhesive. The protective film is first required to have characteristics suitable for this manufacturing process. That is, since it is necessary to drain the water of the above-mentioned pressure-sensitive adhesive through the protective film, the protective film is required to have appropriate moisture permeability.

一方で、偏光板の光漏れ現象(額縁故障)防止のためのフィルム特性も求められる。偏光子を構成するポリビニルアルコールは、外環境の湿度変化により、寸法変化を起こす。偏光板の漏れ光現象は、このポリビニルアルコールの寸法変化により、保護フィルムに応力がかかり、光弾性による位相差が生じることに起因すると考えられている。したがって、保護フィルムの光弾性は小さいことが好ましい。さらに、保護フィルム自体の外環境の湿度変化に対する光学特性の変化が小さいことが求められる。湿度変化に対する光学特性の変化が大きいと、これを用いた偏光板を組み込んだ液晶表示装置の画質が低下するためである。   On the other hand, film characteristics for preventing light leakage of the polarizing plate (frame failure) are also required. The polyvinyl alcohol constituting the polarizer undergoes a dimensional change due to a humidity change in the external environment. It is considered that the leakage light phenomenon of the polarizing plate is caused by a stress applied to the protective film due to the dimensional change of the polyvinyl alcohol and a phase difference caused by photoelasticity. Therefore, the photoelasticity of the protective film is preferably small. Furthermore, it is required that the change in optical characteristics with respect to the humidity change in the external environment of the protective film itself is small. This is because when the change in the optical characteristics with respect to the change in humidity is large, the image quality of a liquid crystal display device incorporating a polarizing plate using the same deteriorates.

セルロースアセテートフィルムは、適度な透湿性を有することから、保護フィルムとして用いられている。しかしながら、湿度変化に対する光学特性変化が大きく、光弾性も比較的大きいという問題を抱えている。   A cellulose acetate film is used as a protective film because it has an appropriate moisture permeability. However, there is a problem that the optical characteristic change with respect to the humidity change is large and the photoelasticity is relatively large.

一方、親水性基を含有するノルボルネン系化合物重合体が光学フィルムとして提案されている(特許文献1〜4)。この重合体は剛直な炭化水素の主鎖を有することから、そのフィルムの環境湿度変化に対する光学特性変化が小さいことが期待される。特に、親水性基としてアセチル基を含有するノルボルネン系化合物重合体は、セルロースアセテートと同様の偏光子への貼り付け特性も期待される。しかしながら、この特許文献1に上記のフィルム物性に関する詳細な記述はない。
WO2004/007564 WO2004/007587 WO2004/049011 WO2004/070463
On the other hand, norbornene-based compound polymers containing hydrophilic groups have been proposed as optical films (Patent Documents 1 to 4). Since this polymer has a rigid hydrocarbon main chain, it is expected that the change in optical properties of the film with respect to environmental humidity changes is small. In particular, the norbornene-based compound polymer containing an acetyl group as a hydrophilic group is expected to have the same sticking property to a polarizer as cellulose acetate. However, there is no detailed description of the above film properties in Patent Document 1.
WO2004 / 007564 WO2004 / 007587 WO2004 / 049011 WO2004 / 070463

前述の特許文献1〜4において、アセチル基含有ノルボルネン重合体として、アセトキシとアセトキシメチルノルボルネン重合体がある。発明者らが行った検討で、これらのフィルムの湿度変化に対する光学特性変化(特にRth)はいずれも小さいものであった。しかしながら、前者はセルロースアセテートフィルムの数倍の透湿度を有するため、保護フィルムとして不適当であった。これにヘキシルノルボルネンもしくはブチルノルボルネンと共重合した共重合体は、透湿度は好ましくコントロールできるものの、光弾性が大きくなった。一方、後者の透湿度は適当であるものの、光弾性が大きいという結果であった。   In the aforementioned Patent Documents 1 to 4, there are acetoxy and acetoxymethylnorbornene polymers as acetyl group-containing norbornene polymers. According to the studies conducted by the inventors, the change in optical properties (particularly Rth) of these films with respect to the change in humidity was small. However, since the former has a water vapor permeability several times that of the cellulose acetate film, it is not suitable as a protective film. The copolymer copolymerized with hexyl norbornene or butyl norbornene has a high photoelasticity, although the moisture permeability can be preferably controlled. On the other hand, although the latter moisture permeability was appropriate, it was a result that photoelasticity was large.

以上のように、特許文献1のアセチル基含有ノルボルネン重合体フィルムは、湿度変化に対する光学特性変化が小さいものの、光弾性と透湿度を同時に満足させることができていない。本発明の課題は、湿度変化に対する光学特性変化が小さく、かつ光弾性が小さく、適当な透湿度を有するフィルムを提供することである。また、本発明は、湿度変化に対する光学特性変化が小さく、かつ光弾性が小さく、適当な透湿度を有する光学フィルム等の作製に有用な新規なノルボルネン系共重合体を提供することを課題とする。さらに、本発明は、高湿度等の条件化で使用された場合にも、性能の変化が少ない偏光板及び液晶表示装置を提供することを課題とする。   As described above, the acetyl group-containing norbornene polymer film of Patent Document 1 has a small change in optical characteristics with respect to a change in humidity, but cannot simultaneously satisfy photoelasticity and moisture permeability. An object of the present invention is to provide a film that has a small change in optical properties with respect to a change in humidity, a small photoelasticity, and an appropriate moisture permeability. Another object of the present invention is to provide a novel norbornene copolymer useful for producing an optical film or the like having a small change in optical characteristics with respect to a change in humidity, a small photoelasticity, and an appropriate moisture permeability. . Furthermore, an object of the present invention is to provide a polarizing plate and a liquid crystal display device that have little change in performance even when used under conditions such as high humidity.

本発明者は、上記の課題を解決すべく、以下のように重合体の分子設計の工夫を行った。まず適度な透湿度は、アセチル基を親水性基、アルキル基を疎水性基とする共重合体フィルムで達成可能と考え、この光弾性を低くする設計を目指した。本発明者らは、光弾性の要因は、応力により側鎖の中のカルボニルが変動するためと仮定した。すなわち、結合分極率の大きなカルボニルが変動することで、ポリマー全体の分極率が変動し、屈折率が変化するものと仮定した。したがって、光弾性を低減するには、1)側鎖の長さを短くする、2)カルボニルの数を少なくする、3)1)と2)を両方とりいれる設計が好ましいと考えた。この考えに基づき、光弾性が低く、かつポリマーの透湿度をコントロールできるポリマー設計に取り組んだ。その結果、アセトキシを含有するノルボルネンを親水性モノマーとして、側鎖の炭素原子数が3以下のアルキルノルボルネンを疎水性モノマーとして、組み合わせたノルボルネン系共重合体が、適当な透湿度にコントロールできかつ光弾性を小さくできることを見出し、本発明に至った。また、本発明のノルボルネン系共重合体フィルムを延伸等の加工を行うことで、位相差フィルムとして好適に用いることができることを見出した。さらに本発明のノルボルネン系共重合体フィルムを組み込むことで、品質の高い偏光板と液晶表示装置が得られることを見出した。   In order to solve the above problems, the present inventor has devised the molecular design of the polymer as follows. First, it was considered that moderate moisture permeability could be achieved with a copolymer film having an acetyl group as a hydrophilic group and an alkyl group as a hydrophobic group. The inventors hypothesized that the photoelastic factor is due to fluctuation of carbonyl in the side chain due to stress. That is, it was assumed that carbonyl having a large bond polarizability fluctuates, whereby the polarizability of the entire polymer fluctuates and the refractive index changes. Therefore, in order to reduce photoelasticity, it was considered preferable to design 1) to shorten the side chain length, 2) to reduce the number of carbonyls, and 3) to incorporate both 1) and 2). Based on this idea, we worked on a polymer design that has low photoelasticity and can control the moisture permeability of the polymer. As a result, a combined norbornene copolymer using a norbornene containing acetoxy as a hydrophilic monomer and an alkyl norbornene having 3 or less carbon atoms in the side chain as a hydrophobic monomer can be controlled to an appropriate moisture permeability and light. The inventors have found that the elasticity can be reduced and have arrived at the present invention. Moreover, it discovered that the norbornene-type copolymer film of this invention can be used suitably as a phase difference film by processing, such as extending | stretching. Furthermore, it has been found that a high-quality polarizing plate and a liquid crystal display device can be obtained by incorporating the norbornene copolymer film of the present invention.

上記課題を解決するための手段は以下の通りである。
[1] 下記一般式(1)で表されるノルボルネン系共重合体を含有するフィルム。
Means for solving the above problems are as follows.
[1] A film containing a norbornene copolymer represented by the following general formula (1).

一般式(1)

Figure 2008031304
Lは炭素原子数10以下のアルキレン又は単結合を表し;R'は炭素原子数3以下のアルキル基を表し;Rは炭素原子数3以下のアルキル基又は水素原子を表し;X及び100−Xは、共重合の組成比率を表し、0<X<100である。 General formula (1)
Figure 2008031304
L represents an alkylene having 10 or less carbon atoms or a single bond; R ′ represents an alkyl group having 3 or less carbon atoms; R represents an alkyl group having 3 or less carbon atoms or a hydrogen atom; X and 100-X Represents a composition ratio of copolymerization, and 0 <X <100.

[2] 前記一般式(1)中、R'がメチル基である[1]のフィルム。
[3] 前記一般式(1)中、Lがメチレン又は単結合である[2]のフィルム。
[4] 前記一般式(1)中、Rが水素原子である[3]のフィルム。
[5] 前記一般式(1)中、Xが20≦X≦70である[4]のフィルム。
[6] 光弾性の値が0.5×10-13〜9.0×10-13[cm2/dyn]であり、且つ透湿度の値(但し、フィルムの厚みを80μmとして換算した値)が180〜435[g/cm224h]であるフィルム。
[7] 厚み80μmとして換算したReとRthが、それぞれ下記関係式(1)及び(2)を満足する[1]〜[6]のいずれかのフィルム;
(1) 0≦Re≦100nm
(2) 0≦Rth≦400nm
Re及びRthはそれぞれ、波長590nmにおける面内のリターデーション(Re)及び厚さ方向のリターデーション(Rth)を表す。
[8] 偏光膜と、[1]〜[7]のいずれかのフィルムを有する偏光板。
[9] [8]の偏光板を有する液晶表示装置。
[2] The film of [1], wherein R ′ is a methyl group in the general formula (1).
[3] The film of [2], wherein L in the general formula (1) is methylene or a single bond.
[4] The film according to [3], wherein R in the general formula (1) is a hydrogen atom.
[5] The film according to [4], wherein in the general formula (1), X is 20 ≦ X ≦ 70.
[6] The value of photoelasticity is 0.5 × 10 −13 to 9.0 × 10 −13 [cm 2 / dyn], and the value of moisture permeability (however, the film thickness is converted to 80 μm) Is 180-435 [g / cm 2 24h].
[7] The film according to any one of [1] to [6], wherein Re and Rth converted to a thickness of 80 μm satisfy the following relational expressions (1) and (2), respectively:
(1) 0 ≦ Re ≦ 100 nm
(2) 0 ≦ Rth ≦ 400 nm
Re and Rth represent in-plane retardation (Re) and retardation in the thickness direction (Rth) at a wavelength of 590 nm, respectively.
[8] A polarizing plate having a polarizing film and the film of any one of [1] to [7].
[9] A liquid crystal display device having the polarizing plate of [8].

[10] 下記一般式(2)で表されるノルボルネン系共重合体; [10] A norbornene-based copolymer represented by the following general formula (2);

一般式(2)

Figure 2008031304
nは0または1を表し;Rは炭素原子数3以下のアルキル基又は水素原子を表し;X及び100−Xは、共重合の組成比率を表し、0<X<100である。 General formula (2)
Figure 2008031304
n represents 0 or 1; R represents an alkyl group having 3 or less carbon atoms or a hydrogen atom; X and 100-X represent a composition ratio of copolymerization, and 0 <X <100.

[11] 前記一般式(2)中、nが0である[10]のノルボルネン系共重合体。
[12] 前記一般式(2)中、Rが水素原子である[10]又は[11]のノルボルネン系共重合体。
[13] 前記一般式(2)中、Xが20≦X≦70である[10]〜[12]のいずれかのノルボルネン系共重合体。
[11] The norbornene copolymer of [10], wherein n is 0 in the general formula (2).
[12] The norbornene copolymer according to [10] or [11], wherein R in the general formula (2) is a hydrogen atom.
[13] The norbornene-based copolymer according to any one of [10] to [12], wherein X in the general formula (2) is 20 ≦ X ≦ 70.

発明の実施の形態BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、本明細書において、「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In the present specification, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.

[フィルム]
本発明のフィルムは、下記一般式(1)で表されるノルボルネン系共重合体を含有することを特徴とする。
[the film]
The film of the present invention is characterized by containing a norbornene copolymer represented by the following general formula (1).

一般式(1)

Figure 2008031304
General formula (1)
Figure 2008031304

一般式(1)中、Lは炭素原子数10以下のアルキレン又は単結合を表し;R'は炭素原子数3以下のアルキル基を表し;Rは炭素原子数3以下のアルキル基又は水素原子を表し;X及び100−Xは、共重合の組成比率を表し、0<X<100である。   In general formula (1), L represents an alkylene or a single bond having 10 or less carbon atoms; R ′ represents an alkyl group having 3 or less carbon atoms; R represents an alkyl group or hydrogen atom having 3 or less carbon atoms; X and 100-X represent the composition ratio of copolymerization, and 0 <X <100.

前記ノルボルネン系共重合体は、下記一般式(2)で表される共重合体から選択されるのが好ましい。   The norbornene-based copolymer is preferably selected from copolymers represented by the following general formula (2).

一般式(2)

Figure 2008031304
General formula (2)
Figure 2008031304

一般式(2)中、nは0または1を表し;Rは炭素原子数3以下のアルキル基又は水素原子を表し;X及び100−Xは、共重合の組成比率を表し、0<X<100である。 In general formula (2), n represents 0 or 1; R represents an alkyl group having 3 or less carbon atoms or a hydrogen atom; X and 100-X represent a composition ratio of copolymerization, and 0 <X < 100.

Rの好ましい具体例には、水素原子、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基などが含まれる。Rに含まれる炭素原子数が少ないほど、フィルムの光弾性が小さくなる傾向があるので、Rは、水素原子、メチル基、又はエチル基であるのがより好ましく、水素原子又はメチル基であるのがさらに好ましく、水素原子であるのが最も好ましい。   Preferred specific examples of R include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, and an isopropyl group. Since the photoelasticity of the film tends to decrease as the number of carbon atoms contained in R decreases, R is more preferably a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, and is a hydrogen atom or a methyl group. Is more preferable, and a hydrogen atom is most preferable.

'の好ましい具体例には、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基などが含まれる。R'に含まれる炭素原子数が少ないほど、フィルムの光弾性が小さくなる傾向があるので、R'は、メチル基、又はエチル基であるのがより好ましく、メチル基であるのが最も好ましい。 Preferable specific examples of R include a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group and the like. Since the photoelasticity of the film tends to decrease as the number of carbon atoms contained in R decreases, R is more preferably a methyl group or an ethyl group, and most preferably a methyl group.

Lの好ましい具体例には、単結合、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、などが含まれる。側鎖はできるだけ短いほうが好ましいことから、Lは単結合又はメチレンであるのがより好ましく、単結合、即ち、環状基に直接アセトキシキ基が置換しているのが最も好ましい。同様の観点から、一般式(2)中のnは0であるのが好ましい。   Preferred examples of L include a single bond, methylene, ethylene, propylene, butylene and the like. Since the side chain is preferably as short as possible, L is more preferably a single bond or methylene, and most preferably a single bond, that is, a cyclic group directly substituted with an acetoxy group. From the same viewpoint, n in the general formula (2) is preferably 0.

Xは、0<X<100である。Xが小さいと共重合体の疎水性が高くなり、溶媒に対する溶解性が低下する傾向、及びフィルムの透湿度が小さくなる傾向がある。一方、Xが大きいと共重合体が親水性となり、透湿度が高くなる傾向がある。Xの値を調整することで、適当な透湿度のフィルムを作製することができる。以下にフィルムの透湿度とXについて述べる。   X is 0 <X <100. When X is small, the hydrophobicity of the copolymer increases, the solubility in a solvent tends to decrease, and the moisture permeability of the film tends to decrease. On the other hand, when X is large, the copolymer becomes hydrophilic and moisture permeability tends to increase. By adjusting the value of X, a film having an appropriate moisture permeability can be produced. The film moisture permeability and X will be described below.

フィルムの透湿度とは単位時間単位面積単位厚みあたりでフィルムを通過する水の量であり、本発明のフィルムの透湿度は24時間1m2あたりで厚み80μmのフィルムを通過する水の量をいう。
測定は以下のように行う。厚みdμm面積70mmφのフィルムを40℃、90%RHでそれぞれ24時間調湿し、透湿試験装置(KK−709007、東洋精機(株))にて、JIS Z−0208に従って、単位面積あたりの水分量を算出する。そして、透湿度を調湿後重量−調湿前重量により求める。これによって得られた透湿度H(実測)を以下の換算式で厚み80μmの透湿度H(80μm)とする。
H(80μm)=H(実測)/厚み×80
The moisture permeability of the film is the amount of water that passes through the film per unit time, unit area, and unit thickness, and the moisture permeability of the film of the present invention refers to the amount of water that passes through the film of 80 μm thickness per 1 m 2 for 24 hours. .
The measurement is performed as follows. Moisture per unit area was measured in accordance with JIS Z-0208 according to JIS Z-0208 using a moisture permeation test apparatus (KK-70907, Toyo Seiki Co., Ltd.). Calculate the amount. And moisture permeability is calculated | required from the weight after humidity control-weight before humidity control. The moisture permeability H (actual measurement) obtained in this way is defined as a moisture permeability H (80 μm) having a thickness of 80 μm by the following conversion formula.
H (80 μm) = H (actual measurement) / thickness × 80

偏光板の保護フィルムの好ましい透湿度H(80μm)は、200[g/m224h]以上400[g/m224h]以下である。この範囲よりも透湿度が低い場合、偏光板加工時に偏光子からの水分放出が妨げられ、偏光子内部が高湿のまま保持されることとなり、偏光子の劣化が急速に進み、偏光板性能の低下をもたらす。また、ポリビニルアルコールを代表とする親水性の偏光子と保護フィルムの密着性が悪いことから、偏光子とフィルムの剥離が生じ、偏光板の耐久性悪化と打ち抜き加工での歩留まり低下を引き起こす。逆に上記の範囲よりも透湿度が高い場合には、親水性の偏光子とフィルムの密着性は十分であり、剥離に起因する問題はないものの、湿度などの外部環境変化の影響を内部の偏光子も受けやすくなるために、内部の偏光子の劣化を防止することは難しく、保護フィルムとして十分に機能しない。 The moisture permeability H (80 μm) of the protective film for the polarizing plate is preferably 200 [g / m 2 24h] or more and 400 [g / m 2 24h] or less. If the moisture permeability is lower than this range, moisture release from the polarizer will be hindered during polarizing plate processing, the inside of the polarizer will be kept at high humidity, and the deterioration of the polarizer will proceed rapidly, polarizing plate performance Bring about a decline. Further, since the adhesion between the hydrophilic polarizer represented by polyvinyl alcohol and the protective film is poor, the polarizer and the film are peeled off, resulting in deterioration of the durability of the polarizing plate and a decrease in the yield in the punching process. On the other hand, if the moisture permeability is higher than the above range, the hydrophilic polarizer and the film have sufficient adhesion, and there is no problem due to peeling, but the influence of external environmental changes such as humidity is Since it becomes easy to receive a polarizer, it is difficult to prevent deterioration of an internal polarizer, and it does not function sufficiently as a protective film.

上記のようにフィルムの透湿度を好ましい範囲とするには、Xは10≦X≦90が好ましく、15≦X≦90がより好ましく、20≦X≦80がさらに好ましく、20≦X≦70がよりさらに好ましい。なお、このXの値は、粉末状もしくはフィルム状の共重合体を適当な重溶媒に溶解させ、1HNMRを測定し、その積分値を計算することで算出できる。具体的な例は実施例の項に記述される。 In order to make the moisture permeability of the film within a preferable range as described above, X is preferably 10 ≦ X ≦ 90, more preferably 15 ≦ X ≦ 90, further preferably 20 ≦ X ≦ 80, and 20 ≦ X ≦ 70. Even more preferred. The value of X can be calculated by dissolving a powdery or film-like copolymer in an appropriate heavy solvent, measuring 1 HNMR, and calculating its integral value. Specific examples are described in the Examples section.

前記一般式(1)で表されるノルボルネン系共重合体は、テトラヒドロフランを溶媒とするゲル・パーミエションクロマトグラムで測定されるポリスチレン換算の数平均分子量が10,000〜1,000,000であるのが好ましく、50,000〜500,000であるのがより好ましい。また、ポリスチレン換算の重量平均分子量は15,000〜1,500,000が好ましく、70,000〜700,000がより好ましい。ポリスチレン換算の数平均分子量が10,000未満、重量平均分子量が15,000未満であると、破壊強度が不十分となることがあり、ポリスチレン換算の数平均分子量が1,000,000を超え、重量平均分子量が1,500,000を超えると、シートとしての成形加工性が低下し、またキャストフィルム等とするときに溶液粘度が高くなり、扱い難くなることがある。分子量分布(重量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜5.0が好ましく、1.1〜4.0がより好ましく、1.1〜3.5がさらに好ましい。ノルボルネン系共重合体の分子量分布が大きいと、ノルボルネン系共重合体溶液(ドープ)が均一になりにくいため、良好なフィルムが作製しにくくなる。   The norbornene copolymer represented by the general formula (1) has a polystyrene-equivalent number average molecular weight of 10,000 to 1,000,000 as measured by gel permeation chromatogram using tetrahydrofuran as a solvent. It is preferable that it is 50,000 to 500,000. The weight average molecular weight in terms of polystyrene is preferably 15,000 to 1,500,000, more preferably 70,000 to 700,000. When the number average molecular weight in terms of polystyrene is less than 10,000 and the weight average molecular weight is less than 15,000, the breaking strength may be insufficient, the number average molecular weight in terms of polystyrene exceeds 1,000,000, When the weight average molecular weight exceeds 1,500,000, the molding processability as a sheet is lowered, and when a cast film or the like is used, the solution viscosity becomes high and it may be difficult to handle. The molecular weight distribution (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 5.0, more preferably 1.1 to 4.0, and still more preferably 1.1 to 3.5. When the molecular weight distribution of the norbornene-based copolymer is large, the norbornene-based copolymer solution (dope) is difficult to be uniform, so that it is difficult to produce a good film.

前記一般式(1)で表されるノルボルネン系共重合体は、以下の製造方法で得ることができる。[Pd(CH3CN)4][BF42、ジ−μ−クロロ−ビス−(6−メトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン−エンド−5σ,2π)−Pd(以下、「I」と略す)とメチルアルモキサン(MAO)、IとAgBF4、IとAgSbF6、[(η3−アリル)PdCl]2とAgSbF6、[(η3−アリル)PdCl]2とAgBF4、[(η3−クロチル)Pd(シクロオクタジエン)][PF6]、[(η3−アリル)Pd(η5−シクロペンタジエニル)]2とトリシクロヘキシルホスフィンとジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレートもしくはトリチルテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、パラジウムビスアセチルアセトナートとトリシクロヘキシルホスフィンとジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、[(η3−アリル)PdCl]2とトリシクロヘキシルホスフィンとトリブチルアリルスズもしくはアリルマグネシウムクロライドとジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、[(η5−シクロペンタジエニル)Ni(メチル)(トリフェニルホスフィン)]とトリスペンタフルオロフェニルボラン、[(η3−クロチル)Ni(シクロオクタジエン)][B((CF32644]、[NiBr(NPMe3)]4とMAO、Ni(オクトエート)2とMAO、Ni(オクトエート)2とB(C653とAlEt3、Ni(オクトエート)2と[ph3C][B(C654]とAli−Bu3、Co(ネオデカノエート)とMAO等の周期律表8族のNi、Pd、Co等のカチオン錯体又はカチオン錯体を形成する触媒を用いて、溶媒中で20〜150℃の範囲で、5−ノルボルネン−2−イルアセテートとアルキルノルボルネンの二つのモノマーを共重合することにより得ることができる。溶媒としては、シクロヘキサン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン等の脂環式炭化水素溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素溶媒;トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;ジクロロメタン、1,2−ジクロロエチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールジメチルエーテル、ニトロメタン等の極性溶媒;から選択することができる。また、他の合成方法として、マクロモレキュールス(Macromolecules)、1996年、29巻、2755ページ、マクロモレキュールス(Macromolecules)、2002年、35巻、8969ページ、国際特許公開WO2004/7564号に記載の方法も好適に用いられる。 The norbornene-based copolymer represented by the general formula (1) can be obtained by the following production method. [Pd (CH 3 CN) 4 ] [BF 4 ] 2 , di-μ-chloro-bis- (6-methoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene-endo-5σ, 2π) -Pd ( Hereinafter abbreviated as “I”) and methylalumoxane (MAO), I and AgBF 4 , I and AgSbF 6 , [(η 3 -allyl) PdCl] 2 and AgSbF 6 , [(η 3 -allyl) PdCl] 2 And AgBF 4 , [(η 3 -crotyl) Pd (cyclooctadiene)] [PF 6 ], [(η 3 -allyl) Pd (η 5 -cyclopentadienyl)] 2 , tricyclohexylphosphine and dimethylanilinium Tetrakispentafluorophenylborate or trityltetrakispentafluorophenylborate, palladium bisacetylacetonate, tricyclohexylphosphine and dimethylanilinium teto Lakispentafluorophenylborate, [(η 3 -allyl) PdCl] 2 and tricyclohexylphosphine and tributylallyltin or allylmagnesium chloride and dimethylanilinium tetrakispentafluorophenylborate, [(η 5 -cyclopentadienyl) Ni ( Methyl) (triphenylphosphine)] and trispentafluorophenylborane, [(η 3 -crotyl) Ni (cyclooctadiene)] [B ((CF 3 ) 2 C 6 H 4 ) 4 ], [NiBr (NPMe 3 )] 4 and MAO, Ni (Octoate) 2 and MAO, Ni (Octoate) 2 and B (C 6 F 5 ) 3 and AlEt 3 , Ni (Octoate) 2 and [ph 3 C] [B (C 6 F 5 ) 4] and Ali-Bu 3, Co (neodecanoate) and the periodic table group 8 of Ni MAO like, Pd Obtained by copolymerizing two monomers of 5-norbornen-2-yl acetate and alkylnorbornene in a solvent at a temperature of 20 to 150 ° C. using a cation complex such as Co or a catalyst that forms a cation complex. Can do. Solvents include cycloaliphatic hydrocarbon solvents such as cyclohexane, cyclopentane and methylcyclopentane; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane and octane; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, benzene and xylene; dichloromethane Halogenated hydrocarbon solvents such as 1,2-dichloroethylene and chlorobenzene; polar solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, γ-butyrolactone, propylene glycol dimethyl ether and nitromethane. As other synthesis methods, Macromolecules, 1996, 29, 2755, Macromolecules, 2002, 35, 8969, International Patent Publication No. WO2004 / 7564 The described method is also preferably used.

[ノルボルネン系共重合体フィルムの用途]
前記一般式(1)で表されるノルボルネン系共重合体は、フィルムの材料として有用である。特に、該共重合体を用いて作製されたフィルムは、液晶表示素子の基板、導光板、偏光フィルム、位相差フィルム、液晶バックライト、液晶パネル、OHP用フィルム、透明導電性フィルム等をはじめとする光学用途のフィルムに適する。また、前記一般式(1)で表されるノルボルネン系共重合体は、光ディスク、光ファイバー、レンズ、プリズム等の光学材料、電子部品さらに医療機器、容器等に好適に用いられる。
[Use of norbornene copolymer film]
The norbornene-based copolymer represented by the general formula (1) is useful as a film material. In particular, films prepared using the copolymer include substrates for liquid crystal display elements, light guide plates, polarizing films, retardation films, liquid crystal backlights, liquid crystal panels, OHP films, transparent conductive films and the like. Suitable for optical use film. The norbornene-based copolymer represented by the general formula (1) is suitably used for optical materials such as optical discs, optical fibers, lenses, and prisms, electronic components, medical devices, containers, and the like.

[ノルボルネン系共重合体フィルム製造方法]
本発明のフィルムは、前記一般式(1)で表されるノルボルネン系共重合体を含有し、該共重合体を原料として製膜することで作製することができる。製膜は、熱溶融製膜の方法と溶液製膜の方法があり、いずれも適応可能であるが、本発明においては面状の優れたフィルムを得ることのできる溶液製膜方法を用いることが好ましい。以下に溶液製膜方法について記述する。
[Norbornene copolymer film production method]
The film of this invention contains the norbornene-type copolymer represented by the said General formula (1), and can be produced by forming into a film from this copolymer as a raw material. There are two methods for film formation: hot melt film formation and solution film formation, and both are applicable, but in the present invention, a solution film formation method capable of obtaining an excellent surface film is used. preferable. The solution casting method is described below.

(溶液製膜方法)
(ドープの調製)
まず、製膜に用いる前記ノルボルネン系共重合体の溶液(ドープ)を調製する。ドープの調製に用いられる有機溶剤については、溶解、流延、製膜でき、その目的が達成できる限りは、特に限定されない。例えばジクロロメタン、クロロホルムに代表される塩素系溶剤、炭素原子数が3〜12の鎖状炭化水素(ヘキサン、オクタン、イソオクタン、デカンなど)、環状炭化水素(シクロペンタン、シクロヘキサン、デカリンなど)、芳香族炭化水素(ベンゼン、トルエン、キシレンなど)、エステル(エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート及びペンチルアセテートなど)、ケトン(アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノンなど)、エーテル(ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトールなど)から選ばれる溶剤が好ましい。二種類以上の官能基を有する有機溶剤の例には、2−エトキシエチルアセテート、2−メトキシエタノール及び2−ブトキシエタノールが挙げられる。有機溶剤の好ましい沸点は35℃〜200℃以下である。前記溶液の調製に用いる溶剤は、乾燥性、粘度等の溶液物性調節のために2種以上の溶剤を混合して用いることができ、さらに、混合溶媒で溶解する限りは、貧溶媒を添加することも可能である。
(Solution casting method)
(Preparation of dope)
First, a solution (dope) of the norbornene copolymer used for film formation is prepared. The organic solvent used for the preparation of the dope is not particularly limited as long as it can be dissolved, cast, and formed into a film, and the purpose can be achieved. For example, chlorinated solvents such as dichloromethane and chloroform, chain hydrocarbons having 3 to 12 carbon atoms (hexane, octane, isooctane, decane, etc.), cyclic hydrocarbons (cyclopentane, cyclohexane, decalin, etc.), aromatic Hydrocarbon (benzene, toluene, xylene, etc.), ester (ethyl formate, propyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, pentyl acetate, etc.), ketone (acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopenta) Non, cyclohexanone and methylcyclohexanone), ether (diisopropyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, tetrahydrofuran, anion Preferably the solvent selected from over like Le and phenetole). Examples of the organic solvent having two or more kinds of functional groups include 2-ethoxyethyl acetate, 2-methoxyethanol and 2-butoxyethanol. The preferable boiling point of the organic solvent is 35 ° C to 200 ° C. The solvent used for the preparation of the solution can be used by mixing two or more kinds of solvents in order to adjust the solution properties such as drying property and viscosity. Further, as long as the solvent is dissolved in the mixed solvent, a poor solvent is added. It is also possible.

好ましい貧溶媒は適宜選択することができる。良溶媒として塩素系有機溶剤を使用する場合は、アルコール類を好適に使用することができる。アルコール類としては、好ましくは直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。また、アルコールとしては、フッ素系アルコールも用いられる。例えば、2−フルオロエタノール、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノールなども挙げられる。貧溶媒の中でも特に1価のアルコール類は、剥離抵抗低減効果があり、好ましく使用することができる。選択する良溶剤によって特に好ましいアルコール類は変化するが、乾燥負荷を考慮すると、沸点が120℃以下のアルコールが好ましく、炭素原子数1〜6の1価アルコールがさらに好ましく、炭素原子数1〜4のアルコールが特に好ましく使用することができる。   A preferred poor solvent can be appropriately selected. When a chlorinated organic solvent is used as the good solvent, alcohols can be preferably used. Alcohols may preferably be linear, branched or cyclic, and among them, saturated aliphatic hydrocarbons are preferred. The hydroxyl group of the alcohol may be any of primary to tertiary. As the alcohol, fluorine-based alcohol is also used. Examples thereof include 2-fluoroethanol, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol and the like. Among the poor solvents, particularly monovalent alcohols have an effect of reducing the peeling resistance and can be preferably used. Particularly preferred alcohols vary depending on the good solvent to be selected, but considering the drying load, alcohols having a boiling point of 120 ° C. or lower are preferred, monohydric alcohols having 1 to 6 carbon atoms are more preferred, and carbon atoms having 1 to 4 carbon atoms are preferred. Alcohols can be used particularly preferably.

ドープを調製する上で特に好ましい混合溶剤は、ジクロロメタンを主溶剤とし、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールあるいはブタノールから選ばれる1種以上のアルコール類を貧溶媒にする組み合わせである。   A particularly preferred mixed solvent for preparing the dope is a combination in which dichloromethane is the main solvent and one or more alcohols selected from methanol, ethanol, propanol, isopropanol, or butanol are poor solvents.

前記ドープの調製については、室温攪拌溶解による方法、室温で攪拌してポリマーを膨潤させた後、−20〜−100℃まで冷却し、再度20〜100℃に加熱して溶解する冷却溶解法、密閉容器中で主溶剤の沸点以上の温度にして溶解する高温溶解方法、さらには溶剤の臨界点まで高温高圧にして溶解する方法などがある。ドープの粘度は25℃で1〜500Pa・sの範囲であることが好ましい。さらに好ましくは5〜200Pa・sの範囲である。粘度の測定は次のようにして行う。試料溶液1mLをレオメーター(CLS 500)に直径 4cm/2°のSteel Cone(共にTA Instrumennts社製)をる。試料溶液は予め測定開始温度にて液温一定となるまで保温した後に測定を開始する。   For the preparation of the dope, a method by stirring and dissolving at room temperature, after stirring the polymer at room temperature to swell the polymer, cooling to −20 to −100 ° C., heating to 20 to 100 ° C. and dissolving again, There are a high-temperature dissolution method that dissolves at a temperature higher than the boiling point of the main solvent in a sealed container, and a method that dissolves at a high temperature and high pressure up to the critical point of the solvent. The viscosity of the dope is preferably in the range of 1 to 500 Pa · s at 25 ° C. More preferably, it is the range of 5-200 Pa.s. The viscosity is measured as follows. Place 1 mL of the sample solution on a rheometer (CLS 500) with Steel Cone (both manufactured by TA Instruments) having a diameter of 4 cm / 2 °. Measurement is started after the sample solution is kept warm at the measurement start temperature until the liquid temperature becomes constant.

溶液は流延に先だって金網やネルなどの適当な濾材を用いて、未溶解物やゴミ、不純物などの異物を濾過除去しておくのが好ましい。製膜直前の粘度は、製膜の際に流延可能な範囲であればよく、通常5Pa・s〜1000Pa・sの範囲に調製されることが好ましく、15Pa・s〜500Pa・sがより好ましく、30Pa・s〜200Pa・sがさらに好ましい。なお、この時の温度はその流延時の温度であれば特に限定されないが、好ましくは−5〜70℃であり、より好ましくは−5〜35℃である。   Prior to casting, it is preferable to filter off foreign matters such as undissolved matter, dust, and impurities using a suitable filter medium such as a wire mesh or flannel. The viscosity immediately before film formation may be within a range that can be cast during film formation, and is usually preferably adjusted to a range of 5 Pa · s to 1000 Pa · s, more preferably 15 Pa · s to 500 Pa · s. 30 Pa · s to 200 Pa · s is more preferable. In addition, although the temperature at this time will not be specifically limited if it is the temperature at the time of the casting, Preferably it is -5-70 degreeC, More preferably, it is -5-35 degreeC.

(添加剤)
本発明のフィルムは、前記ノルボルネン系共重合体以外の添加剤を含有していてもよく、かかる添加剤は、フィルムを作製する工程のいずれの段階で添加されてもよい。添加剤は、用途に応じて選択することができ、例えば、劣化防止剤、紫外線防止剤、レターデーション(光学異方性)調節剤、微粒子、剥離促進剤、赤外吸収剤、など)などが挙げられる。これらの添加剤は、固体でもよく油状物でもよい。添加する時期は溶液流延法によるフィルム作製の場合、ドープ調製工程中のいずれかの時期に添加してもよいし、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。溶融法によるフィルム作製の場合、樹脂ペレット作製時に添加していてもよいし、フィルム作製時に混練してもよい。各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、フィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。
(Additive)
The film of the present invention may contain an additive other than the norbornene-based copolymer, and such an additive may be added at any stage of the process for producing the film. Additives can be selected depending on the application, such as deterioration inhibitors, UV inhibitors, retardation (optical anisotropy) regulators, fine particles, peeling accelerators, infrared absorbers, etc. Can be mentioned. These additives may be solid or oily. In the case of film production by the solution casting method, the addition time may be added at any time during the dope preparation process, or an additive is added to the final preparation process of the dope preparation process. You may go. In the case of film production by the melting method, it may be added at the time of resin pellet production, or may be kneaded at the time of film production. The amount of each material added is not particularly limited as long as the function is manifested. Moreover, when a film is formed from a multilayer, the kind and addition amount of the additive of each layer may differ.

フィルム劣化防止の観点から、劣化(酸化)防止剤が好ましく用いられる。例えば、2,6−ジ−t−ブチル,4−メチルフェノール、4,4’−チオビス−(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)、ペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートなどのフェノール系あるいはヒドロキノン系酸化防止剤を添加することができる。さらに、トリス(4−メトキシ−3,5−ジフェニル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイトなどのリン系酸化防止剤をすることが好ましい。酸化防止剤の添加量は、ノルボルネン系共重合体100質量部に対して、0.05〜5.0質量部を添加する。   From the viewpoint of preventing film deterioration, a deterioration (oxidation) inhibitor is preferably used. For example, 2,6-di-tert-butyl, 4-methylphenol, 4,4′-thiobis- (6-tert-butyl-3-methylphenol), pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5- Phenolic or hydroquinone antioxidants such as di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate can be added. Furthermore, phosphorus antioxidants such as tris (4-methoxy-3,5-diphenyl) phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite It is preferable to The addition amount of the antioxidant is 0.05 to 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the norbornene copolymer.

偏光板又は液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばヒンダードフェノール系化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。これらの紫外線防止剤の添加量は、ノルボルネン系共重合体に対して質量割合で1ppm〜1.0%が好ましく、10〜1000ppmがさらに好ましい。   From the viewpoint of preventing deterioration of a polarizing plate or liquid crystal, an ultraviolet absorber is preferably used. As the ultraviolet absorber, those excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and having little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display properties. Specific examples of UV absorbers preferably used in the present invention include, for example, hindered phenol compounds, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds Etc. The addition amount of these ultraviolet light inhibitors is preferably 1 ppm to 1.0%, more preferably 10 to 1000 ppm in terms of mass ratio with respect to the norbornene copolymer.

フィルム面のすべり性を改良するためには、微粒子(マット剤)が好ましく用いられる。これを用いることで、フィルム表面に凹凸を付与し、すなわちフィルム表面の粗さを増加させることで(マット化)、フィルム同士のブロッキングを減少させることができる。フィルム中、又はフィルムの少なくとも片方の面上に微粒子が存在することにより、偏光板加工時の偏光子とフィルム間の密着性が著しく向上する。本発明に使用するマット剤は、無機微粒子であれば、平均粒径0.05μm〜0.5μmの微粒子であり、好ましくは0.08μm〜0.3μm、より好ましくは0.1μm〜0.25μmである。微粒子は、無機化合物としては二酸化ケイ素、シリコーン及び二酸化チタンが好ましく、高分子化合物としてはフッ素樹脂、ナイロン、ポリプロピレン及び塩素化ポリエーテルが好ましいが、さらに好ましくは二酸化ケイ素であり、特に好ましくは有機物により表面処理されている二酸化ケイ素である。   In order to improve the slipperiness of the film surface, fine particles (mat agent) are preferably used. By using this, unevenness is imparted to the film surface, that is, by increasing the roughness of the film surface (matization), the blocking between the films can be reduced. The presence of fine particles in the film or on at least one surface of the film significantly improves the adhesion between the polarizer and the film during polarizing plate processing. If the matting agent used in the present invention is an inorganic fine particle, it is a fine particle having an average particle diameter of 0.05 μm to 0.5 μm, preferably 0.08 μm to 0.3 μm, more preferably 0.1 μm to 0.25 μm. It is. The fine particles are preferably silicon dioxide, silicone and titanium dioxide as the inorganic compound, and the polymer compound is preferably fluororesin, nylon, polypropylene and chlorinated polyether, more preferably silicon dioxide, and particularly preferably organic matter. It is silicon dioxide that is surface treated.

フィルムの剥離抵抗を小さくするため、剥離促進剤が好ましく用いられる。好ましい剥離剤としては燐酸エステル系の界面活性剤、カルボン酸あるいはカルボン酸塩系の界面活性剤、スルホン酸あるいはスルホン酸塩系の界面活性剤、硫酸エステル系の界面活性剤が効果的である。また上記界面活性剤の炭化水素鎖に結合している水素原子の一部をフッ素原子に置換したフッ素系界面活性剤も有効である。剥離剤の添加量はノルボルネン系共重合体に対して0.05〜5質量%が好ましく、0.1〜2質量%がさらに好ましく、0.1〜0.5質量%が最も好ましい。   In order to reduce the peeling resistance of the film, a peeling accelerator is preferably used. As preferred release agents, phosphate ester surfactants, carboxylic acid or carboxylate surfactants, sulfonic acid or sulfonate surfactants, and sulfate ester surfactants are effective. A fluorine-based surfactant in which part of the hydrogen atoms bonded to the hydrocarbon chain of the surfactant is substituted with fluorine atoms is also effective. The addition amount of the release agent is preferably 0.05 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 2% by mass, and most preferably 0.1 to 0.5% by mass with respect to the norbornene-based copolymer.

(フィルム製造)
本発明のフィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供するのと同様の溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機(釜)から調製されたドープを貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。
(Film production)
As the method and equipment for producing the film of the present invention, the same solution casting film forming method and solution casting film forming apparatus as those conventionally used for producing cellulose triacetate films are used. The dope prepared from the dissolving machine (kettle) is temporarily stored in a storage kettle, and the foam contained in the dope is defoamed for final preparation.

特開2000−301555号、特開2000−301558号、特開平7−032391号、特開平3−193316号、特開平5−086212号、特開昭62−037113号、特開平2−276607号、特開昭55−014201号、特開平2−111511号、及び特開平2−208650号の各公報に記載のセルロースアシレート製膜技術を本発明では応用できる。   JP 2000-301555, JP 2000-301558, JP 7-032391, JP 3-193316, JP 5-086212, JP 62-037113, JP 2-276607, The cellulose acylate film forming techniques described in JP-A-55-014201, JP-A-2-111511, and JP-A-2-208650 can be applied in the present invention.

(重層流延)
ドープを、金属支持体としての平滑なバンド上或いはドラム上に単層液として流延してもよいし、2層以上の複数のドープを流延してもよい。重層流延の場合、内側と外側の厚さは特に限定されないが、好ましくは外側が全膜厚の1〜50%であることが好ましく、より好ましくは2〜30%の厚さである。
(Multilayer casting)
The dope may be cast as a single layer liquid on a smooth band or a drum as a metal support, or a plurality of dopes of two or more layers may be cast. In the case of multilayer casting, the inner and outer thicknesses are not particularly limited, but preferably the outer side is preferably 1 to 50% of the total film thickness, more preferably 2 to 30%.

(流延)
溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、或いは逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。流延に用いられるドープの温度は、−10〜55℃が好ましくより好ましくは25〜50℃である。その場合、工程のすべてが同一でもよく、あるいは工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で所望の温度であればよい。
(Casting)
As a solution casting method, a method in which the prepared dope is uniformly extruded from a pressure die onto a metal support, and a method using a doctor blade in which the film thickness of the dope once cast on the metal support is adjusted with a blade. Alternatively, there is a method using a reverse roll coater that adjusts with a reverse rotating roll, and a method using a pressure die is preferable. The temperature of the dope used for casting is preferably −10 to 55 ° C., more preferably 25 to 50 ° C. In that case, all of the processes may be the same, or may be different at various points in the process. If they are different, the temperature may be a desired temperature just before casting.

(乾燥)
フィルムの製造に係わる金属支持体上におけるドープの乾燥は、一般的には金属支持体(例えばドラム或いはバンド)の表面側、つまり金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラム或いはバンドの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロールした液体をバンドやドラムのドープ流延面の反対側である裏面から接触させて、伝熱によりドラム或いはバンドを加熱し表面温度をコントロールする液体伝熱方法などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の金属支持体の表面温度はドープに用いられている溶剤の沸点以下であれば何度でもよい。しかし乾燥を促進するためには、また金属支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶剤の内の最も沸点の低い溶剤の沸点より1〜10度低い温度に設定することが好ましい。尚、流延ドープを冷却して乾燥することなく剥ぎ取る場合はこの限りではない。
(Dry)
The drying of the dope on the metal support involved in the production of the film is generally performed by applying hot air from the surface side of the metal support (for example, drum or band), that is, the surface of the web on the metal support, Method of applying hot air from the back side of the band, contacting the temperature controlled liquid from the back side opposite to the band or drum dope casting surface, and heating the drum or band by heat transfer to control the surface temperature Although there are methods, the back surface liquid heat transfer method is preferable. The surface temperature of the metal support before casting may be any number as long as it is not higher than the boiling point of the solvent used for the dope. However, in order to promote drying and to lose fluidity on the metal support, the temperature should be set to 1 to 10 degrees lower than the boiling point of the lowest boiling solvent used. Is preferred. This is not the case when the casting dope is cooled and peeled off without drying.

(剥離)
生乾きのフィルムを金属支持体から剥離するとき、剥離抵抗(剥離荷重)が大きいと、製膜方向にフィルムが不規則に伸ばされて光学的な異方性むらを生じる。特に剥離荷重が大きいときは、製膜方向に段状に伸ばされたところと伸ばされていないところが交互に生じて、レターデーションに分布を生じる。液晶表示装置に装填すると線状あるいは帯状にむらが見えるようになる。このような問題を発生させないためには、フィルムの剥離荷重をフィルム剥離幅1cmあたり0.25N以下にすることが好ましい。剥離荷重はより好ましくは0.2N/cm以下、さらに好ましくは0.15N以下、特に好ましくは0.10N以下である。剥離荷重0.2N/cm以下のときはむらが現れやすい液晶表示装置においても剥離起因のむらは全く認められず、特に好ましい。剥離荷重を小さくする方法としては、前述のように剥離剤を添加する方法と、使用する溶剤組成の選択による方法がある。剥離時の好ましい残留揮発分濃度は5〜60質量%である。10〜50質量%がさらに好ましく、20〜40質量%が特に好ましい。高揮発分で剥離すると乾燥速度が稼げて、生産性が向上して好ましい。一方、高揮発分ではフィルムの強度や弾性が小さく、剥離力に負けて切断したり伸びたりしてしまう。また剥離後の自己保持力が乏しく、変形、しわ、クニックを生じやすくなる。またレターデーションに分布を生じる原因になる。
(Peeling)
When peeling a raw dry film from a metal support, if the peeling resistance (peeling load) is large, the film is irregularly stretched in the film forming direction, resulting in uneven optical anisotropy. In particular, when the peeling load is large, a portion stretched stepwise in the film forming direction and a portion unstretched are alternately generated, resulting in a distribution in retardation. When loaded in a liquid crystal display device, the line or strip becomes uneven. In order not to cause such a problem, it is preferable to set the peeling load of the film to 0.25 N or less per 1 cm of the film peeling width. The peeling load is more preferably 0.2 N / cm or less, further preferably 0.15 N or less, and particularly preferably 0.10 N or less. When the peeling load is 0.2 N / cm or less, even in a liquid crystal display device in which unevenness is likely to appear, no unevenness due to peeling is observed, which is particularly preferable. As a method for reducing the peeling load, there are a method of adding a release agent as described above and a method of selecting a solvent composition to be used. The preferable residual volatile content at the time of peeling is 5 to 60% by mass. 10-50 mass% is further more preferable, and 20-40 mass% is especially preferable. Peeling with a high volatile content is preferable because the drying rate can be increased and the productivity is improved. On the other hand, when the volatile content is high, the strength and elasticity of the film are small, and the film is cut or stretched against the peeling force. Further, the self-holding force after peeling is poor, and deformation, wrinkles and nicks are likely to occur. It also causes distribution in the retardation.

(延伸)
前記溶液製膜法にて作製したフィルムを、さらに延伸処理する場合は、剥離のすぐ後の未だフィルム中に溶剤が十分に残留している状態で行うのが好ましい。延伸の目的は、(1)しわや変形のない平面性に優れたフィルムを得るため及び、(2)フィルムの面内レターデーションを大きくするために行う。(1)の目的で延伸を行うときは、比較的高い温度で延伸を行い、延伸倍率も1%からせいぜい10%までの低倍率の延伸を行う。2から5%の延伸が特に好ましい。(1)と(2)の両方の目的、あるいは(2)だけの目的で延伸する場合は、比較的低い温度で、延伸倍率も5から150%で延伸する。
(Stretching)
When the film produced by the solution casting method is further stretched, it is preferably carried out in a state where the solvent still remains in the film immediately after peeling. The purpose of stretching is (1) to obtain a film having excellent flatness without wrinkles and deformation, and (2) to increase the in-plane retardation of the film. When stretching is performed for the purpose of (1), stretching is performed at a relatively high temperature, and stretching is performed at a low magnification from 1% to 10% at most. A stretch of 2 to 5% is particularly preferred. When stretching for the purposes of both (1) and (2) or only for the purpose of (2), stretching is performed at a relatively low temperature and a stretching ratio of 5 to 150%.

フィルムの延伸は、縦あるいは横だけの一軸延伸でもよく同時あるいは逐次2軸延伸でもよい。VA液晶セルやOCB液晶セル用位相差フィルムの複屈折は、幅方向の屈折率が長さ方向の屈折率よりも大きくなることが好ましい。従って幅方向により多く延伸することが好ましい。   The stretching of the film may be uniaxial stretching only in the longitudinal or lateral direction, or may be simultaneous or sequential biaxial stretching. The birefringence of the retardation film for a VA liquid crystal cell or OCB liquid crystal cell is preferably such that the refractive index in the width direction is larger than the refractive index in the length direction. Therefore, it is preferable to stretch more in the width direction.

本発明のでき上がり(乾燥後)のフィルムの厚さは、使用目的によって異なるが、通常20から500μmの範囲であり、30〜150μmの範囲が好ましく、特に液晶表示装置用には40〜110μmであることが好ましい。   The thickness of the finished film (after drying) of the present invention varies depending on the purpose of use, but is usually in the range of 20 to 500 μm, preferably in the range of 30 to 150 μm, particularly 40 to 110 μm for liquid crystal display devices. It is preferable.

[フィルムの特性]
本発明のフィルムの好ましい光学特性は、フィルムの用途により異なる。以下に、フィルムの厚みを80μmとして換算した、面内レターデーション(Re)及び厚さ方向レターデーション(Rth)の、各用途における好ましい範囲を示す。
偏光板保護フィルムとして使用する場合:Reは、0nm≦Re≦5nmが好ましく、0nm≦Re≦3nmがさらに好ましい。Rthは、0nm≦Rth≦50nmが好ましく、0nm≦Rth≦35nmがさらに好ましく、0nm≦Rth≦10nmが特に好ましい。
位相差フィルムとして使用する場合:位相差フィルムの種類によってReやRthの範囲は異なり、多様なニーズがあるが、0nm≦Re≦100nm、0nm≦Rth≦400nmであることが好ましい。TNモードなら0nm≦Re≦20nm、40nm≦Rth≦80nm、VAモードなら20nm≦Re≦80nm、80nm≦Rth≦400nmがより好ましく、特にVAモードで好ましい範囲は、30nm≦Re≦75nm、120nm≦Rth≦250nmであり、一枚の位相差膜で補償する場合は、50nm≦Re≦75nm、180nm≦Rth≦250nm、2枚の位相差膜で補償する場合は、30nm≦Re≦50nm、80nm≦Rth≦140nmである。これらはVAモードの補償膜として黒表示時のカラーシフト、コントラストの視野角依存性の点で好ましい態様である。
[Characteristics of film]
The preferred optical properties of the film of the present invention vary depending on the application of the film. Below, the preferable range in each use of in-plane retardation (Re) and thickness direction retardation (Rth) which converted the thickness of the film into 80 micrometers is shown.
When used as a polarizing plate protective film: Re is preferably 0 nm ≦ Re ≦ 5 nm, and more preferably 0 nm ≦ Re ≦ 3 nm. Rth is preferably 0 nm ≦ Rth ≦ 50 nm, more preferably 0 nm ≦ Rth ≦ 35 nm, and particularly preferably 0 nm ≦ Rth ≦ 10 nm.
When used as a retardation film: The range of Re and Rth varies depending on the type of retardation film and there are various needs, but 0 nm ≦ Re ≦ 100 nm and 0 nm ≦ Rth ≦ 400 nm are preferable. In the TN mode, 0 nm ≦ Re ≦ 20 nm, 40 nm ≦ Rth ≦ 80 nm, and in the VA mode, 20 nm ≦ Re ≦ 80 nm and 80 nm ≦ Rth ≦ 400 nm are more preferable. In particular, the preferable range in the VA mode is 30 nm ≦ Re ≦ 75 nm, 120 nm ≦ Rth. ≦ 250 nm, when compensating with one retardation film, 50 nm ≦ Re ≦ 75 nm, 180 nm ≦ Rth ≦ 250 nm, when compensating with two retardation films, 30 nm ≦ Re ≦ 50 nm, 80 nm ≦ Rth ≦ 140 nm. These are preferred embodiments as a VA mode compensation film in terms of color shift at the time of black display and the viewing angle dependency of contrast.

本発明のフィルムは、共重合比率、添加剤の種類及び添加量、延伸倍率、剥離時の残留揮発分などの工程条件を適宜調節することで所望の光学特性を実現することができる。   The film of the present invention can achieve desired optical characteristics by appropriately adjusting process conditions such as copolymerization ratio, additive type and amount, stretch ratio, residual volatile content at the time of peeling.

本明細書において、Re(λ)、Rth(λ)は各々、波長λにおける面内のリターデーションおよび厚さ方向のリターデーションを表す。Re(λ)はKOBRA 21ADHまたはWR(王子計測機器(株)製)において波長λnmの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
測定されるフィルムが1軸または2軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりRth(λ)は算出される。Rth(λ)は前記Re(λ)を、面内の遅相軸(KOBRA 21ADHまたはWRにより判断される)を傾斜軸(回転軸)として(遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする)のフィルム法線方向に対して法線方向から片側50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて全部で6点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHまたはWRが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、KOBRA 21ADHまたはWRが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸(回転軸)として(遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする)、任意の傾斜した2方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式(1)及び式(2)よりRthを算出することもできる。
In the present specification, Re (λ) and Rth (λ) respectively represent in-plane retardation and retardation in the thickness direction at a wavelength λ. Re (λ) is measured by making light having a wavelength of λ nm incident in the normal direction of the film in KOBRA 21ADH or WR (manufactured by Oji Scientific Instruments).
When the film to be measured is represented by a uniaxial or biaxial refractive index ellipsoid, Rth (λ) is calculated by the following method. Rth (λ) is Re (λ), with the in-plane slow axis (determined by KOBRA 21ADH or WR) as the tilt axis (rotation axis) (in the absence of the slow axis, any in-plane value) The light of wavelength λ nm is incident from each of the inclined directions in steps of 10 degrees from the normal direction to 50 degrees on one side with respect to the film normal direction (with the direction of the rotation axis as the rotation axis). KOBRA 21ADH or WR is calculated based on the measured retardation value, the assumed value of the average refractive index, and the input film thickness value.
In the above case, in the case of a film having a direction in which the retardation value is zero at a certain tilt angle with the in-plane slow axis from the normal direction as the rotation axis, retardation at a tilt angle larger than the tilt angle. The value is calculated by KOBRA 21ADH or WR after changing its sign to negative.
In addition, the retardation value is measured from the two inclined directions, with the slow axis as the tilt axis (rotation axis) (in the absence of the slow axis, the arbitrary direction in the film plane is the rotation axis), Based on the value, the assumed value of the average refractive index, and the input film thickness value, Rth can also be calculated from the following equations (1) and (2).

Figure 2008031304
注記:上記指揮中、Re(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
また、上記式中、nxは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、nyは面内においてnxに直交する方向の屈折率を表し、nzはnx及びnyに直交する方向の屈折率を表す。
Figure 2008031304
Note: During the above command, Re (θ) represents the retardation value in the direction inclined at an angle θ from the normal direction.
In the above formula, nx represents the refractive index in the slow axis direction in the plane, ny represents the refractive index in the direction orthogonal to nx in the plane, and nz represents the refractive index in the direction orthogonal to nx and ny. To express.

測定されるフィルムが1軸や2軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸(optic axis)がないフィルムの場合には、以下の方法によりRth(λ)は算出される。
Rth(λ)は前記Re(λ)を、面内の遅相軸(KOBRA 21ADHまたはWRにより判断される)を傾斜軸(回転軸)としてフィルム法線方向に対して−50度から+50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて11点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHまたはWRが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック(JOHN WILEY&SONS,INC)、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する:
セルロースアシレート(1.48)、シクロオレフィンポリマー(1.52)、ポリカーボネート(1.59)、ポリメチルメタクリレート(1.49)、ポリスチレン(1.59)である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA 21ADHまたはWRはnx、ny、nzを算出する。この算出されたnx,ny,nzよりNz=(nx−nz)/(nx−ny)が更に算出される。
なお、フィルムの厚みを80μmとして換算したRe及びRthは、以下の式によって求めることができる。
Re(80μm換算値)=Re(実測値)/厚み[μm]×80[μm]
Rth(80μm換算値)=Rth(実測値)/厚み[μm]×80[μm]
In the case where the film to be measured cannot be expressed by a uniaxial or biaxial refractive index ellipsoid, that is, a film having no so-called optical axis, Rth (λ) is calculated by the following method.
Rth (λ) is the above-mentioned Re (λ), and the in-plane slow axis (determined by KOBRA 21ADH or WR) is the tilt axis (rotation axis) from −50 degrees to +50 degrees with respect to the film normal direction. The light of wavelength λ nm is incident from each inclined direction in 10 degree steps and measured at 11 points. Based on the measured retardation value, the assumed average refractive index, and the input film thickness value, KOBRA 21ADH or WR is calculated.
In the above measurement, the assumed value of the average refractive index may be a value in a polymer handbook (John Wiley & Sons, Inc.) or a catalog of various optical films. Those whose average refractive index is not known can be measured with an Abbe refractometer. Examples of the average refractive index values of main optical films are given below:
Cellulose acylate (1.48), cycloolefin polymer (1.52), polycarbonate (1.59), polymethyl methacrylate (1.49), and polystyrene (1.59).
By inputting these assumed values of average refractive index and film thickness, KOBRA 21ADH or WR calculates nx, ny, and nz. Nz = (nx−nz) / (nx−ny) is further calculated from the calculated nx, ny, and nz.
In addition, Re and Rth converted to a film thickness of 80 μm can be obtained by the following equations.
Re (80 μm equivalent) = Re (actual value) / thickness [μm] × 80 [μm]
Rth (80 μm equivalent) = Rth (actual measurement) / thickness [μm] × 80 [μm]

また、本発明のフィルムを偏光板の保護フィルムとして用いる場合は、光弾性の値が0.5×10-13〜9.0×10-13[cm2/dyn]であり、且つ透湿度の値(但し、フィルムの厚みを80μmとして換算した値)が180〜435[g/cm224h]であるのが好ましい。光弾性の値は、0.5×10-13〜7.0×10-13[cm2/dyn]であるのがより好ましく、0.5×10-13〜5.0×10-13[cm2/dyn]であるのがさらに好ましい。また、透湿度の値(但し、フィルムの厚みを80μmとして換算した値)は、180〜400[g/cm224h]であるのがより好ましく、180〜350[g/cm224h]であるのがさらに好ましい。本発明のフィルムが上記特性を有すると、偏光板の保護フィルムとして用いた場合に、湿度の影響による性能の低下を軽減することができる。 When the film of the present invention is used as a protective film for a polarizing plate, the photoelasticity value is 0.5 × 10 −13 to 9.0 × 10 −13 [cm 2 / dyn] and the moisture permeability is low. It is preferable that the value (however, converted to a film thickness of 80 μm) is 180 to 435 [g / cm 2 24h]. The value of photoelasticity is more preferably 0.5 × 10 −13 to 7.0 × 10 −13 [cm 2 / dyn], and 0.5 × 10 −13 to 5.0 × 10 −13 [ More preferably, it is cm 2 / dyn]. In addition, the value of moisture permeability (however, the value obtained by converting the film thickness to 80 μm) is more preferably 180 to 400 [g / cm 2 24h], and 180 to 350 [g / cm 2 24h]. Is more preferable. When the film of this invention has the said characteristic, when it uses as a protective film of a polarizing plate, the fall of the performance by the influence of humidity can be reduced.

[偏光板]
本発明の偏光板は、本発明のフィルムと偏光子とを少なくとも有する。通常、偏光板は、偏光子及びその両側に配置された二枚の透明保護膜(「保護フィルム」という場合もある)を有する。両方又は一方の保護膜として、本発明のフィルムを用いることができる。他方の保護膜は、通常のセルロースアセテートフィルム等を用いてもよい。偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子及び染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。本発明のフィルムを偏光板保護膜として用いる場合、フィルムは後述の如き表面処理を行い、しかる後にフィルム処理面と偏光子を接着剤を用いて貼り合わせる。使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス、ゼラチン等が挙げられる。偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護膜で構成されており、さらに該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。本発明のフィルムの偏光子への貼り合せ方は、偏光子の透過軸とフィルムの遅相軸を一致させるように貼り合せることが好ましい。
[Polarizer]
The polarizing plate of the present invention has at least the film of the present invention and a polarizer. Usually, a polarizing plate has a polarizer and two transparent protective films (it may be called a "protective film") arrange | positioned at the both sides. The film of the present invention can be used as both or one protective film. A normal cellulose acetate film or the like may be used for the other protective film. Examples of the polarizer include an iodine polarizer, a dye polarizer using a dichroic dye, and a polyene polarizer. The iodine polarizer and the dye polarizer are generally produced using a polyvinyl alcohol film. When the film of the present invention is used as a polarizing plate protective film, the film is subjected to a surface treatment as described later, and then the film-treated surface and a polarizer are bonded together using an adhesive. Examples of the adhesive used include polyvinyl alcohol adhesives such as polyvinyl alcohol and polyvinyl butyral, vinyl latexes such as butyl acrylate, and gelatin. The polarizing plate is composed of a polarizer and a protective film that protects both surfaces of the polarizer, and is further constructed by laminating a protective film on one surface of the polarizing plate and a separate film on the opposite surface. The protective film and the separate film are used for the purpose of protecting the polarizing plate at the time of shipping the polarizing plate and at the time of product inspection. In this case, the protect film is bonded for the purpose of protecting the surface of the polarizing plate, and is used on the side opposite to the surface where the polarizing plate is bonded to the liquid crystal plate. Moreover, a separate film is used in order to cover the contact bonding layer bonded to a liquid crystal plate, and is used for the surface side which bonds a polarizing plate to a liquid crystal plate. The film is preferably bonded so that the transmission axis of the polarizer and the slow axis of the film coincide with each other.

(フィルムの表面処理)
本発明では、偏光子と保護フィルムとの接着性を改良するため、フィルムの表面を表面処理することが好ましい。表面処理については、接着性を改善できる限りいかなる方法を利用してもよいが、好ましい表面処理としては、例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理及び火炎処理が挙げられる。ここでいうグロー放電処理とは、低圧ガス下でおこる、いわゆる低温プラズマのことである。本発明では大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。その他、グロー放電処理の詳細については、米国特許第3462335号、米国特許第3761299号、米国特許第4072769号及び英国特許第891469号明細書に記載されている。放電雰囲気ガス組成を放電開始後にポリエステル支持体自身が放電処理を受けることにより容器内に発生する気体種のみにした特表昭59−556430号公報に記載された方法も用いられる。また真空グロー放電処理する際に、フィルムの表面温度を80℃以上180℃以下にして放電処理を行う特公昭60−16614号公報に記載された方法も適用できる。
(Film surface treatment)
In this invention, in order to improve the adhesiveness of a polarizer and a protective film, it is preferable to surface-treat the surface of a film. As for the surface treatment, any method may be used as long as the adhesiveness can be improved. Preferred examples of the surface treatment include glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, and flame treatment. The glow discharge treatment here refers to so-called low temperature plasma that occurs under low pressure gas. In the present invention, plasma treatment under atmospheric pressure is also preferable. The details of the glow discharge treatment are described in US Pat. No. 3,462,335, US Pat. No. 3,761,299, US Pat. No. 4,072,769, and British Patent No. 891469. A method described in JP-A-59-556430 in which the discharge atmosphere gas composition is changed to only the gas species generated in the container by subjecting the polyester support itself to a discharge treatment after the start of discharge is also used. In addition, the method described in Japanese Patent Publication No. 60-16614, in which the surface temperature of the film is set to 80 ° C. or higher and 180 ° C. or lower when the vacuum glow discharge treatment is performed, can also be applied.

表面処理の程度については、表面処理の種類によって好ましい範囲も異なるが、表面処理の結果、表面処理を施された保護フィルムの表面の純水との接触角が、50°未満となるのが好ましい。前記接触角は、25°以上45°未満であるのがより好ましい。保護フィルム表面の純水との接触角が上記範囲にあると、保護フィルムと偏光膜との接着強度が良好となる。   As for the degree of the surface treatment, the preferable range varies depending on the type of the surface treatment, but as a result of the surface treatment, the contact angle with the pure water on the surface of the protective film subjected to the surface treatment is preferably less than 50 °. . The contact angle is more preferably 25 ° or more and less than 45 °. When the contact angle with the pure water on the surface of the protective film is in the above range, the adhesive strength between the protective film and the polarizing film becomes good.

(接着剤)
ポリビニルアルコールからなる偏光子と、表面処理された本発明のフィルムとを貼合する際には、水溶性ポリマーを含有する接着剤を用いることが好ましい。前記接着剤に好ましく使用される水溶性ポリマーとしては、N−ビニルピロリドン、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、アクリル酸β−ヒドロキシエチル、メタクリル酸β−ヒドロキシエチル、ビニルアルコール、メチルビニルエーテル、酢酸ビニル、アクリルアミド、メタクリルアミド,ジアセトンアクリルアミド、ビニルイミダゾールなどエチレン性不飽和モノマーを構成要素として有する単独重合体もしくは共重合体、またポリオキシエチレン、ボリオキシプロピレン、ポリ−2−メチルオキサゾリン、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースゼラチン、などが挙げられる。本発明では、この中でもPVA及びゼラチンが好ましい。接着剤層厚みは、乾燥後に0.01〜5μmが好ましく、0.05〜3μmが特に好ましい。
(adhesive)
When laminating a polarizer made of polyvinyl alcohol and the surface-treated film of the present invention, it is preferable to use an adhesive containing a water-soluble polymer. Water-soluble polymers preferably used for the adhesive include N-vinyl pyrrolidone, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, β-hydroxyethyl acrylate, β-hydroxyethyl methacrylate, vinyl alcohol, methyl vinyl ether, vinyl acetate. , Acrylamide, methacrylamide, diacetone acrylamide, vinyl imidazole and other homopolymers or copolymers having ethylenically unsaturated monomers as constituents, polyoxyethylene, polyoxypropylene, poly-2-methyloxazoline, methylcellulose, hydroxy Examples thereof include ethyl cellulose and hydroxypropyl cellulose gelatin. Of these, PVA and gelatin are preferred in the present invention. The thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 5 μm, and particularly preferably 0.05 to 3 μm after drying.

(反射防止層)
偏光板の、液晶セルと反対側に配置される透明保護膜には反射防止層などの機能性膜を設けることが好ましい。特に、本発明では透明保護膜上に少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層した反射防止層又は透明保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層が好適に用いられる。
(Antireflection layer)
It is preferable to provide a functional film such as an antireflection layer on the transparent protective film disposed on the opposite side of the polarizing plate from the liquid crystal cell. In particular, in the present invention, at least the light scattering layer and the low refractive index layer are laminated in this order on the transparent protective film, or the medium refractive index layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer are formed on the transparent protective film. An antireflection layer laminated in order is preferably used.

(光散乱層)
光散乱層は、表面散乱及び/又は内部散乱による光拡散性と、フィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。従って、ハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒子、及び必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含んで形成される。光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する観点並びにカールの発生及び脆性の悪化抑制の観点から、1〜10μmが好ましく、1.2〜6μmがより好ましい。
(Light scattering layer)
The light scattering layer is formed for the purpose of contributing to the film light diffusibility due to surface scattering and / or internal scattering and hard coat properties for improving the scratch resistance of the film. Therefore, it is formed including a binder for imparting hard coat properties, matte particles for imparting light diffusibility, and inorganic fillers for increasing the refractive index, preventing crosslinking shrinkage, and increasing the strength as necessary. The The thickness of the light scattering layer is preferably from 1 to 10 μm, more preferably from 1.2 to 6 μm, from the viewpoint of imparting hard coat properties and from the viewpoint of curling and suppressing deterioration of brittleness.

(反射防止層の他の層)
さらに、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
(Other layers of antireflection layer)
Further, a hard coat layer, a forward scattering layer, a primer layer, an antistatic layer, an undercoat layer, a protective layer, and the like may be provided.

(ハードコート層)
ハードコート層は、反射防止層を設けた透明保護膜に物理強度を付与するために、透明支持体の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。ハードコート層は、光及び/又は熱の硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
(Hard coat layer)
The hard coat layer is provided on the surface of the transparent support in order to impart physical strength to the transparent protective film provided with the antireflection layer. In particular, it is preferably provided between the transparent support and the high refractive index layer. The hard coat layer is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of a light and / or heat curable compound. As the curable functional group, a photopolymerizable functional group is preferable, and the organometallic compound containing a hydrolyzable functional group is preferably an organic alkoxysilyl compound.

(帯電防止層)
帯電防止層を設ける場合には体積抵抗率が10-8(Ωcm-3)以下の導電性を付与することが好ましい。吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、カチオンポリマー、アニオンポリマー、コロイダルシリカ等の使用により10-8(Ωcm-3)の体積抵抗率の付与は可能であるが、温湿度依存性が大きく、低湿では十分な導電性を確保できない問題がある。そのため、導電性層素材としては金属酸化物が好ましい。
(Antistatic layer)
In the case of providing an antistatic layer, it is preferable to impart conductivity with a volume resistivity of 10 −8 (Ωcm −3 ) or less. The use of hygroscopic substances, water-soluble inorganic salts, certain surfactants, cationic polymers, anionic polymers, colloidal silica, etc. can give a volume resistivity of 10 −8 (Ωcm −3 ). There is a problem that dependency is large, and sufficient conductivity cannot be secured at low humidity. Therefore, a metal oxide is preferable as the conductive layer material.

[液晶表示装置]
本発明のフィルム、該フィルムからなる位相差フィルム、該フィルムを用いた偏光板は、様々な表示モードの液晶セル、液晶表示装置に用いることができる。TN(Twisted Nematic)、IPS(In−Plane Switching)、FLC(Ferroelectric Liquid Crystal)、AFLC(Anti−ferroelectric Liquid Crystal)、OCB(Optically Compensatory Bend)、STN(Supper Twisted Nematic)、VA(Vertically Aligned)及びHAN(Hybrid Aligned Nematic)のような様々な表示モードが提案されている。このうち、OCBモード又はVAモードに好ましく用いることができる。
[Liquid Crystal Display]
The film of the present invention, a retardation film comprising the film, and a polarizing plate using the film can be used for liquid crystal cells and liquid crystal display devices in various display modes. TN (Twisted Nematic), IPS (In-Plane Switching), FLC (Ferroelectric Liquid Crystal), AFLC (Anti-Ferroelectric Liquid Nyst) Various display modes such as HAN (Hybrid Aligned Nematic) have been proposed. Among these, it can be preferably used for the OCB mode or the VA mode.

[ノルボルネン系共重合体]
また、本発明は、新規なノルボルネン系共重合体に関する。本発明のノルボルネン系共重合体は、下記一般式(2)で表される。
[Norbornene copolymer]
The present invention also relates to a novel norbornene copolymer. The norbornene-based copolymer of the present invention is represented by the following general formula (2).

一般式(2)

Figure 2008031304
General formula (2)
Figure 2008031304

nは0または1を表し;Rは炭素原子数3以下のアルキル基又は水素原子を表し;X及び100−Xは、共重合の組成比率を表し、0<X<100である。n及びXの好ましい範囲については、上述の通りである。   n represents 0 or 1; R represents an alkyl group having 3 or less carbon atoms or a hydrogen atom; X and 100-X represent a composition ratio of copolymerization, and 0 <X <100. The preferable ranges of n and X are as described above.

本発明のノルボルネン系共重合体の一態様として、前記式(2)中のnが0であるノルボルネン系共重合体;前記式(2)中のR1が水素原子であるノルボルネン系共重合体;及び前記式(2)中の、Xが20≦X≦70である前記ノルボルネン系共重合体;ゲル・パーミエションクロマトグラムで測定されるポリスチレン換算の数平均分子量が10,000〜1,000,000(好ましくは50,000〜500,000)である前記ノルボルネン系共重合体;ポリスチレン換算の重量平均分子量が15,000〜1,500,000(好ましくは、70,000〜700,000)の前記ノルボルネン系共重合体;分子量分布(重量平均分子量/数平均分子量)が、1.1〜5.0(好ましくは1.1〜4.0、より好ましくは1.1〜3.5)の前記ノルボルネン系共重合体;が挙げられる。 As one aspect of the norbornene copolymer of the present invention, a norbornene copolymer in which n in the formula (2) is 0; a norbornene copolymer in which R 1 in the formula (2) is a hydrogen atom And in the formula (2), the norbornene-based copolymer in which X is 20 ≦ X ≦ 70; the polystyrene-reduced number average molecular weight measured by gel permeation chromatogram is 10,000 to 1, The norbornene-based copolymer that is 1,000,000 (preferably 50,000 to 500,000); the polystyrene-equivalent weight average molecular weight is 15,000 to 1,500,000 (preferably 70,000 to 700,000) The norbornene-based copolymer; and a molecular weight distribution (weight average molecular weight / number average molecular weight) of 1.1 to 5.0 (preferably 1.1 to 4.0, more preferably 1.1). The norbornene copolymer 3.5); and the like.

前記一般式(2)で表されるノルボルネン系共重合体は、以下の方法に従って合成できる。   The norbornene-based copolymer represented by the general formula (2) can be synthesized according to the following method.

Figure 2008031304
Figure 2008031304

具体的には、対応するオレフィンとシクロペンタジエン(ジシクロペンタジエンを熱分解して得られる)をディールスアルダー反応によって、対応するノルボルネン化合物を得、得られたこれらのノルボルネン系化合物を、上記重合方法に従って共重合することで、共重合体を得ることができる。なお、共重合体の組成比率(Xと100−X)は、ノルボルネン系化合物の混合比率をかえることで適宜調整することができる。   Specifically, a corresponding norbornene compound is obtained by Diels-Alder reaction of the corresponding olefin and cyclopentadiene (obtained by thermally decomposing dicyclopentadiene), and the obtained norbornene compounds are obtained according to the above polymerization method. A copolymer can be obtained by copolymerization. In addition, the composition ratio (X and 100-X) of a copolymer can be suitably adjusted by changing the mixing ratio of a norbornene-type compound.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
[ノルボルネン系化合物]
本発明で用いるノルボルネン共重合体の原料のうち、5−ノルボルネン−2−イルアセテート(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルアセテート):NBOAc及びノルボルネン:NB(ノルボルニレン又はビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン)は、アルドリッチ社から購入できる。その他のノルボルネン系化合物は、以下の合成例のように製造した。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below.
[Norbornene compounds]
Among the raw materials of the norbornene copolymer used in the present invention, 5-norbornen-2-yl acetate (bicyclo [2.2.1] hept-5-en-2-yl acetate): NBOAc and norbornene: NB (norbornylene or Bicyclo [2.2.1] hept-5-ene) can be purchased from Aldrich. Other norbornene compounds were produced as in the following synthesis examples.

(合成例1: 5−ヘキシル−2−ノルボルネン:HexNBの合成)
ジシクロペンタジエン(和光純薬社製)158.2gと、1−オクテン(和光純薬社製)313.3gと、ヒドロキノン(和光純薬社製)2.5gとを、1Lオートクレーブ中に入れ、空隙を窒素置換した。密閉系で内温200℃で4時間攪拌した(回転速度=300rpm)。反応混合物をろ過し、揮発成分を蒸発させた。残存物を精密蒸留(カラム長さ=70cm、カラム充填物=DixonPacking(SUS−304,φ6×6mm)、還流比=10/1、圧力=7mmHg、トップ温度=89〜90℃)に付して、無色透明なHexNB111.0gを得た。得られた無色透明な液体をガスクロマトグラフィーにかけて、そのピーク純度を測定したところ、純度99.8%、endo/exo比率79/21であった。
(Synthesis Example 1: Synthesis of 5-hexyl-2-norbornene: HexNB)
Dicyclopentadiene (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 158.2 g, 1-octene (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 313.3 g, and hydroquinone (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 2.5 g were put in a 1 L autoclave. The void was replaced with nitrogen. The mixture was stirred for 4 hours at an internal temperature of 200 ° C. in a closed system (rotational speed = 300 rpm). The reaction mixture was filtered and the volatile components were evaporated. The residue was subjected to precision distillation (column length = 70 cm, column packing = DixonPacking (SUS-304, φ6 × 6 mm), reflux ratio = 10/1, pressure = 7 mmHg, top temperature = 89 to 90 ° C.) Thus, 111.0 g of colorless and transparent HexNB was obtained. The obtained colorless and transparent liquid was subjected to gas chromatography to measure its peak purity. As a result, the purity was 99.8% and the endo / exo ratio was 79/21.

(合成例2: 5−ブチル−2−ノルボルネン:BuNBの合成)
ジシクロペンタジエン(和光純薬社製)と1−ヘキセン(和光純薬社製)を原料とし、合成例1と同様に反応混合物を得た。精密蒸留に付して、純度98.0%、endo/exo比率81/19のBuNBを得た。
(Synthesis Example 2: Synthesis of 5-butyl-2-norbornene: BuNB)
A reaction mixture was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 using dicyclopentadiene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 1-hexene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as raw materials. It was subjected to precision distillation to obtain BuNB having a purity of 98.0% and an endo / exo ratio of 81/19.

(合成例3: 5−エチル−2−ノルボルネン:EtNBの合成)
ジシクロペンタジエン(和光純薬社製)と1−ブテン(和光純薬社製)を原料とし、合成例1と同様に反応混合物を得た。精密蒸留に付して、純度99.0%、endo/exo比率80/20のEtNBを得た。
(Synthesis Example 3: Synthesis of 5-ethyl-2-norbornene: EtNB)
A reaction mixture was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 using dicyclopentadiene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 1-butene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as raw materials. Precision distillation gave EtNB with a purity of 99.0% and an endo / exo ratio of 80/20.

(合成例4: 5−アセトキシメチル−2−ノルボルネン(5−アセトキシメチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプテン):NBCH2OAcの合成)
ジシクロペンタジエン(和光純薬社製)と酢酸アリル(和光純薬社製)を原料とし、合成例1と同様に反応混合物を得た。精密蒸留に付して、純度99.0%、endo/exo比率79/21のNBCH2OAcを得た。
(Synthesis Example 4: 5-acetoxymethyl-2-norbornene (5-acetoxymethyl-bicyclo [2.2.1] heptene): Synthesis of NBCH 2 OAc)
Using dicyclopentadiene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and allyl acetate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as raw materials, a reaction mixture was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1. Fine distillation was performed to obtain NBCH 2 OAc having a purity of 99.0% and an endo / exo ratio of 79/21.

[ノルボルネン系共重合体の合成]
(合成例5: NBOAc/NB共重合体の合成)
精製トルエン150質量部とNBOAc 152質量部とを反応容器に入れた。次いでトルエン10質量部中に溶解したアリルパラジウムクロライドダイマー(東京化成社製)0.018質量部とトリシクロヘキシルホスフィン(ストレム社製)0.028質量部、塩化メチレン5質量部中に溶解したジメチルアニリニウム・テトラキスペンタフルオロフェニルボレート(ストレム社製)0.12質量部、さらにトルエン10質量部に溶解したアリルトリブチルスズ(アルドリッチ社製)0.33質量部を反応容器に投入した。加熱を開始し90℃に到達した時、トルエン20質量部に溶解したNB8質量部を1時間かけて滴下した。この混合物を90〜100℃で6時間反応させた。なお、この間反応溶液の粘度の上昇とともに、トルエンを適宜追加した。1−ヘキセン(和光純薬社製)10質量部を滴下し、さらに1時間反応させた。得られた反応溶液を、過剰のメタノール中に投入し、重合物P−1を沈殿させた。沈殿を採取し、メタノールで洗浄した。得られた重合体を110℃で6時間真空乾燥した。
[Synthesis of norbornene copolymer]
(Synthesis Example 5: Synthesis of NBOAc / NB copolymer)
150 parts by mass of purified toluene and 152 parts by mass of NBOAc were placed in a reaction vessel. Next, 0.018 parts by mass of allyl palladium chloride dimer (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) dissolved in 10 parts by mass of toluene, 0.028 parts by mass of tricyclohexylphosphine (manufactured by Strem Co.), and dimethylaniline dissolved in 5 parts by mass of methylene chloride. A reaction vessel was charged with 0.12 parts by mass of nium tetrakispentafluorophenylborate (manufactured by Strem) and 0.33 parts by mass of allyltributyltin (manufactured by Aldrich) dissolved in 10 parts by mass of toluene. When heating was started and the temperature reached 90 ° C., 8 parts by mass of NB dissolved in 20 parts by mass of toluene was added dropwise over 1 hour. The mixture was reacted at 90-100 ° C. for 6 hours. During this time, toluene was added as appropriate with an increase in the viscosity of the reaction solution. 10 parts by mass of 1-hexene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added dropwise, and further reacted for 1 hour. The obtained reaction solution was put into excess methanol to precipitate a polymer P-1. The precipitate was collected and washed with methanol. The resulting polymer was vacuum dried at 110 ° C. for 6 hours.

得られた重合体をテトラヒドロフランに溶解し、ゲルパーミエーションクロマトグラフによる分子量を測定した。結果は、表1に示す。   The obtained polymer was dissolved in tetrahydrofuran, and the molecular weight was measured by gel permeation chromatography. The results are shown in Table 1.

重クロロホルムに溶解させ、1HNMRを測定した。この場合、4.3〜5.3ppmに現われるピーク(アセトキシ基に結合した炭素に結合した水素)の積分値をA、0.3〜3.3ppmに現われるピーク(残りの全てのプロトン)の積分値をBとすると、以下の関係式が成り立つ。
A:B=X:11X+10(100−X)
この関係式を解けば、Xの値を算出できる。これにしたがって、Xの値を求めた。結果は、表1に示す。
It was dissolved in deuterated chloroform and 1 HNMR was measured. In this case, the integrated value of the peak appearing at 4.3 to 5.3 ppm (hydrogen bonded to carbon bonded to the acetoxy group) is A, and the integrated value of the peak appearing at 0.3 to 3.3 ppm (all remaining protons) is integrated. When the value is B, the following relational expression is established.
A: B = X: 11X + 10 (100-X)
By solving this relational expression, the value of X can be calculated. According to this, the value of X was obtained. The results are shown in Table 1.

(合成例6〜10)
合成例5で用いたノルボルネン(NB)の量をそれぞれ25、77、130、181、366、604質量部とした以外は、合成例5と同様に合成し、P−2〜6を得た。分子量とXの値を同様に求めた。結果を表1に示す。
(Synthesis Examples 6 to 10)
P-2 to 6 were obtained in the same manner as in Synthesis Example 5 except that the amount of norbornene (NB) used in Synthesis Example 5 was 25, 77, 130, 181, 366, and 604 parts by mass, respectively. The molecular weight and X value were determined in the same manner. The results are shown in Table 1.

(合成例11〜13)
合成例5で用いたノルボルネン(NB)8質量部を、それぞれEtNB135質量部、BuNB77質量部、HexNB50質量部とした以外は、合成例5と同様に合成し、P−7〜9を得た。分子量を同様に求めた。Xの値については、前述の手法に加え、BuとHexの水素を考慮して求めた。結果を表1に示す。
(Synthesis Examples 11-13)
Synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 5 except that 8 parts by mass of norbornene (NB) used in Synthesis Example 5 were changed to EtNB 135 parts by mass, BuNB 77 parts by mass, and HexNB 50 parts by mass, and P-7 to 9 were obtained. The molecular weight was determined similarly. The value of X was obtained in consideration of Bu and Hex hydrogen in addition to the above-described method. The results are shown in Table 1.

(合成例14)
合成例8でNBOAc152質量部をNBCH2OAc166質量部に代えた以外は、合成例8と同様に合成し、P−10を得た。分子量を同様に求めた。Xの値については以下のように求めることができる。重クロロホルム中に溶解させたサンプルを測定した場合、3.2〜4.8ppmに現われるピーク(アセトキシ基に結合したメチレン水素)の積分値をC、0.3〜3.2ppmに現われるピーク(残りの全てのプロトン)の積分値をDとすると、(m=0、1、2、3)以下の関係式が成り立つ。
C:D=2X:12X+10(100−X)
この関係式を解けば、Xの値を算出できる。これに従い、Xの値を求めた。結果を表1に示す。
(Synthesis Example 14)
Synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 8 except that 152 parts by mass of NBOAc was changed to 166 parts by mass of NBCH 2 OAc in Synthesis Example 8, and P-10 was obtained. The molecular weight was determined similarly. The value of X can be obtained as follows. When the sample dissolved in deuterated chloroform was measured, the integrated value of the peak appearing at 3.2 to 4.8 ppm (methylene hydrogen bonded to the acetoxy group) was C, and the peak appearing at 0.3 to 3.2 ppm (remaining) If the integral value of all protons of D is D, the following relational expression holds (m = 0, 1, 2, 3).
C: D = 2X: 12X + 10 (100-X)
By solving this relational expression, the value of X can be calculated. According to this, the value of X was obtained. The results are shown in Table 1.

(合成例15)
合成例5でノルボルネン(NB)を添加しなかった以外は、合成例5と同様に合成し、P−11を得た。分子量を同様に求めた。結果を表1に示す。
(Synthesis Example 15)
P-11 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 5 except that norbornene (NB) was not added in Synthesis Example 5. The molecular weight was determined similarly. The results are shown in Table 1.

(合成例16)
合成例14でNBOAc152質量部をNBCH2OAc166質量部に代えた以外は、合成例14と同様に合成し、P−12を得た。分子量を同様に求めた。結果を表1に示す。
(Synthesis Example 16)
Synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 14 except that 152 parts by mass of NBOAc was changed to 166 parts by mass of NBCH 2 OAc in Synthesis Example 14, and P-12 was obtained. The molecular weight was determined similarly. The results are shown in Table 1.

Figure 2008031304
Figure 2008031304

[実施例1:共重合体フィルムの作製とフィルム特性の測定]
(製膜)
共重合体P−1 50gを塩化メチレン200gに溶解し、これを加圧ろ過した。得られたドープをA3大の疎水性ガラス板上でアプリケーターを用いて、流延製膜した(クリアランス0.6)。これを25℃密閉系で5分間乾燥し、続いて40℃の送風乾燥機中で10分間乾燥した。ガラス板からフィルムを剥ぎ取り、ステンレス製の枠に挟み、これを100℃の乾燥機中で30分間、133℃の乾燥機中で30分間乾燥を行い、透明なフィルムを得た。
[Example 1: Preparation of copolymer film and measurement of film properties]
(Film formation)
50 g of copolymer P-1 was dissolved in 200 g of methylene chloride, and this was filtered under pressure. The obtained dope was cast on an A3 large hydrophobic glass plate using an applicator (clearance 0.6). This was dried for 5 minutes in a 25 ° C. closed system, and then dried for 10 minutes in a blast dryer at 40 ° C. The film was peeled off from the glass plate and sandwiched between stainless steel frames, which were dried in a dryer at 100 ° C. for 30 minutes and in a dryer at 133 ° C. for 30 minutes to obtain a transparent film.

(物性測定)
波長590nmにおけるRe及びRthは前述のように測定した。フィルムの厚みは、デジタルマイクロメーターで任意の部分を3点測定し、その平均値をとった。Re、Rth、湿度変化に対するRth変化(ΔRth)、透湿度と光弾性は以下のように測定した。
(Physical property measurement)
Re and Rth at a wavelength of 590 nm were measured as described above. The thickness of the film was measured at three points on an arbitrary portion with a digital micrometer, and the average value was taken. Re, Rth, Rth change (ΔRth) with respect to humidity change, moisture permeability and photoelasticity were measured as follows.

Re、Rth: 25℃60%RHに調整された部屋で、前述の手法に基づき測定し、80μmの換算値を求めた。
ΔRth : 25℃10%RH及び25℃80%RH条件下で、フィルムを2時間調湿し、前述の手法に基づき測定し、80μmの換算値を求めた。そのRthの変化量ΔRthを求めた。
透湿度 : 前述の手法で透湿度を求め、厚み80μmの透湿度に換算した。
光弾性 : フィルムを1cm幅×10cm長に切り出した。これをエリプソ測定装置(日本分光製 M−150)にセットし、長手方向(10cm長)に沿って100g、400g、700g、1000g、1300g、1600g、1900gの荷重を掛けながら、順次25℃60%において632.8nmの光でReを測定した。横軸に応力(荷重をフィルム断面積で割った値(dyn/cm2))、縦軸にRe変化(nm)をプロットし、この傾きから光弾性(cm2/dyn)を求めた。
Re, Rth: In a room adjusted to 25 ° C. and 60% RH, measurement was performed based on the above-described method, and a converted value of 80 μm was obtained.
ΔRth: The film was conditioned for 2 hours under the conditions of 25 ° C., 10% RH and 25 ° C., 80% RH, and measured based on the above-described method to obtain a converted value of 80 μm. The amount of change ΔRth of Rth was obtained.
Moisture permeability: The moisture permeability was determined by the method described above and converted to a moisture permeability of 80 μm thickness.
Photoelasticity: The film was cut into 1 cm width × 10 cm length. This was set in an ellipsometer (M-150 manufactured by JASCO Corporation), and sequentially applied at 25 ° C. and 60% while applying a load of 100 g, 400 g, 700 g, 1000 g, 1300 g, 1600 g, 1900 g along the longitudinal direction (10 cm length). The Re was measured with 632.8 nm light. Stress on the horizontal axis (a value obtained by dividing the load in the film cross-sectional area (dyn / cm 2)), plotted on the vertical axis Re change (nm), was determined photoelastic (cm 2 / dyn) from the slope.

フィルムF−1の作製において用いた重合体P−1を、重合体P−2〜12のそれぞれに代えた以外は、同様にして製膜し、フィルムF−2〜12をそれぞれ得た。得られたフィルムの厚み、Re、Rth、ΔRth、透湿度、及び光弾性をそれぞれ上記と同様に測定した。   Films F-2 to 12 were obtained in the same manner except that the polymer P-1 used in the production of the film F-1 was replaced with each of the polymers P-2 to P-12. The thickness, Re, Rth, ΔRth, moisture permeability, and photoelasticity of the obtained film were measured in the same manner as described above.

[延伸共重合体フィルムの作製]
重合体P−4を塩化メチレン/メタノール(95/5重量比)の混合溶媒に溶解し、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が約25質量%でバンドから剥ぎ取ったフィルムを、テンターを用いて10%の延伸率で幅方向に延伸して、フィルムにしわが入らないように保持しながら、熱風を当てて乾燥した。その後テンター搬送からロール搬送に移行し、更に120℃〜140℃で乾燥し巻き取って、フィルムF−13を作製した。重合体P−4を重合体P−8に代えた以外は、フィルムF−13と同様に延伸処理等を行い、フィルムF−14を得た。
得られたフィルムF−13およびF−14の厚み、Re、Rth、ΔRth、透湿度、及び光弾性をそれぞれ上記と同様に測定した。
[Production of stretched copolymer film]
The polymer P-4 was dissolved in a mixed solvent of methylene chloride / methanol (95/5 weight ratio) and cast using a band casting machine. A film peeled off from the band with a residual solvent amount of about 25% by mass is stretched in the width direction at a stretch rate of 10% using a tenter and dried by applying hot air while keeping the film from wrinkling. did. Thereafter, the film was transferred from the tenter conveyance to the roll conveyance, and further dried and wound at 120 ° C. to 140 ° C. to produce a film F-13. Except having replaced the polymer P-4 with the polymer P-8, the film F-14 was obtained in the same manner as in the film F-13.
The thickness, Re, Rth, ΔRth, moisture permeability, and photoelasticity of the obtained films F-13 and F-14 were measured in the same manner as described above.

以上で作製したフィルムF−1〜14とフジTAC(富士写真フイルム社製)のフィルムの評価結果を表2にまとめた。   The evaluation results of the films F-1 to 14 and Fuji TAC (Fuji Photo Film Co., Ltd.) produced above are summarized in Table 2.

Figure 2008031304
Figure 2008031304

表2に示した結果から、本発明のフィルムは、湿度変化に対する光学特性変化(ΔRth)が小さく、かつ適度な透湿度と小さな光弾性を有することが理解できる。さらに本発明のフィルムを延伸処理することで、適当なReとRthが発現する。   From the results shown in Table 2, it can be understood that the film of the present invention has a small change in optical characteristics (ΔRth) with respect to a change in humidity, an appropriate moisture permeability, and a small photoelasticity. Furthermore, appropriate Re and Rth are expressed by stretching the film of the present invention.

[実施例15:偏光板の作製と評価]
上記作製したフィルムF−13とフジTAC(富士写真フイルム社製)を60℃の水酸化ナトリウム1.5N水溶液中で2分間浸漬した。この後、0.1Nの硫酸水溶液に30秒浸漬した後、水洗浴を通し、鹸化処理したF−13とフジTACを得た。
[Example 15: Production and evaluation of polarizing plate]
The produced film F-13 and Fuji TAC (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) were immersed in a 1.5N aqueous solution of sodium hydroxide at 60 ° C. for 2 minutes. Thereafter, it was immersed in a 0.1N aqueous sulfuric acid solution for 30 seconds, and then passed through a water washing bath to obtain saponified F-13 and Fuji TAC.

特開平2001−141926号公報の実施例1に従い、2対のニップロール間に周速差を与えて、厚さ75μmのポリビニルアルコールフィルム“9X75RS”{(株)クラレ製}を、長手方向に延伸し、偏光膜を得た。   According to Example 1 of Japanese Patent Laid-Open No. 2001-141926, a peripheral speed difference is given between two pairs of nip rolls, and a 75 μm thick polyvinyl alcohol film “9X75RS” {manufactured by Kuraray Co., Ltd.} is stretched in the longitudinal direction. A polarizing film was obtained.

このようにして得た偏光膜と、鹸化処理したフィルムF−13を、PVA“PVA−117H”(クラレ社製)3質量%水溶液を接着剤として、フィルムの長手方向が45゜となるように、『鹸化処理したF−13/偏光膜/鹸化処理したフジTAC』の層構成で貼り合わせて偏光板Pol−1を作製した。   The polarizing film thus obtained and the saponified film F-13 were bonded to a PVA “PVA-117H” (Kuraray Co., Ltd.) 3% by weight aqueous solution so that the longitudinal direction of the film would be 45 °. The polarizing plate Pol-1 was prepared by laminating with a layer configuration of “saponified F-13 / polarizing film / saponified Fuji TAC”.

フィルムF−13をフィルムF−14に代えた以外は、偏光板Pol−1と同様にして、偏光板Pol−2を作製した。   A polarizing plate Pol-2 was produced in the same manner as the polarizing plate Pol-1, except that the film F-13 was replaced with the film F-14.

[実施例16:液晶表示装置の作製と評価]
VA型液晶セルを使用した26インチ及び40インチの液晶表示装置(シャープ(株)製)に液晶層を挟んで設置されている2対の偏光板のうち、観察者側の片面の偏光板を剥がし、粘着剤を用い、代わりに上記偏光板Pol−1を貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸とバックライト側の偏光板の透過軸とが直交するように配置して、液晶表示装置を作製した。得られた液晶表示装置が、黒表示状態で発生する光漏れと色ムラ、面内の均一性を観察した。本発明の偏光板Pol−1を組み込んだ液晶表示装置は色調変化が観察されず、非常に優れたものであった。
[Example 16: Production and evaluation of liquid crystal display device]
Of two pairs of polarizing plates installed with a liquid crystal layer sandwiched between 26-inch and 40-inch liquid crystal display devices (manufactured by Sharp Corporation) using VA type liquid crystal cells, a polarizing plate on one side on the viewer side is used. It peeled off and the said polarizing plate Pol-1 was affixed instead using the adhesive. A liquid crystal display device was manufactured by arranging the transmission axis of the polarizing plate on the observer side and the transmission axis of the polarizing plate on the backlight side to be orthogonal to each other. The obtained liquid crystal display device was observed for light leakage and color unevenness generated in the black display state, and in-plane uniformity. The liquid crystal display device incorporating the polarizing plate Pol-1 of the present invention was very excellent with no change in color tone observed.

偏光板Pol−1の代わりに偏光板Pol−2を用いた同様の構成の液晶表示装置は、上記の液晶表示装置に比べ、色調変化が観察された。
In the liquid crystal display device having the same configuration using the polarizing plate Pol-2 instead of the polarizing plate Pol-1, a change in color tone was observed as compared with the liquid crystal display device.

Claims (13)

下記一般式(1)で表されるノルボルネン系共重合体を含有するフィルム。
一般式(1)
Figure 2008031304
Lは炭素原子数10以下のアルキレン又は単結合を表し;R'は炭素原子数3以下のアルキル基を表し;Rは炭素原子数3以下のアルキル基又は水素原子を表し;X及び100−Xは、共重合の組成比率を表し、0<X<100である。
A film containing a norbornene copolymer represented by the following general formula (1).
General formula (1)
Figure 2008031304
L represents an alkylene having 10 or less carbon atoms or a single bond; R ′ represents an alkyl group having 3 or less carbon atoms; R represents an alkyl group having 3 or less carbon atoms or a hydrogen atom; X and 100-X Represents a composition ratio of copolymerization, and 0 <X <100.
前記一般式(1)中、R'がメチル基である請求項1に記載のフィルム。 The film according to claim 1, wherein R ′ in the general formula (1) is a methyl group. 前記一般式(1)中、Lがメチレン又は単結合である請求項2に記載のフィルム。 The film according to claim 2, wherein L in the general formula (1) is methylene or a single bond. 前記一般式(1)中、Rが水素原子である請求項3に記載のフィルム。 The film according to claim 3, wherein R in the general formula (1) is a hydrogen atom. 前記一般式(1)中、Xが20≦X≦70である請求項4に記載のフィルム。 The film according to claim 4, wherein in the general formula (1), X is 20 ≦ X ≦ 70. 光弾性の値が0.5×10-13〜9.0×10-13[cm2/dyn]であり、且つ透湿度の値(但し、フィルムの厚みを80μmとして換算した値)が180〜435[g/cm224h]であるフィルム。 The value of photoelasticity is 0.5 × 10 −13 to 9.0 × 10 −13 [cm 2 / dyn], and the value of moisture permeability (however, the value converted to a film thickness of 80 μm) is 180 to A film having a thickness of 435 [g / cm 2 24 h]. 厚み80μmとして換算したReとRthが、それぞれ下記関係式(1)及び(2)を満足する請求項1〜6のいずれか1項に記載のフィルム;
(1) 0≦Re≦100nm
(2) 0≦Rth≦400nm
Re及びRthはそれぞれ、波長590nmにおける面内のリターデーション(Re)及び厚さ方向のリターデーション(Rth)を表す。
The film according to any one of claims 1 to 6, wherein Re and Rth converted to a thickness of 80 µm satisfy the following relational expressions (1) and (2), respectively:
(1) 0 ≦ Re ≦ 100 nm
(2) 0 ≦ Rth ≦ 400 nm
Re and Rth represent in-plane retardation (Re) and retardation in the thickness direction (Rth) at a wavelength of 590 nm, respectively.
偏光膜と、請求項1〜7のいずれか1項に記載のフィルムとを有する偏光板。 The polarizing plate which has a polarizing film and the film of any one of Claims 1-7. 請求項8に記載の偏光板を有する液晶表示装置。 A liquid crystal display device comprising the polarizing plate according to claim 8. 下記一般式(2)で表されるノルボルネン系共重合体;
一般式(2)
Figure 2008031304
nは0または1を表し;Rは炭素原子数3以下のアルキル基又は水素原子を表し;X及び100−Xは、共重合の組成比率を表し、0<X<100である。
A norbornene-based copolymer represented by the following general formula (2);
General formula (2)
Figure 2008031304
n represents 0 or 1; R represents an alkyl group having 3 or less carbon atoms or a hydrogen atom; X and 100-X represent a composition ratio of copolymerization, and 0 <X <100.
前記一般式(2)中、nが0である請求項10に記載のノルボルネン系共重合体。 The norbornene copolymer according to claim 10, wherein n is 0 in the general formula (2). 前記一般式(2)中、Rが水素原子である請求項10又は11に記載のノルボルネン系共重合体。 The norbornene-based copolymer according to claim 10 or 11, wherein R in the general formula (2) is a hydrogen atom. 前記一般式(2)中、Xが20≦X≦70である請求項10〜12のいずれか1項に記載のノルボルネン系共重合体。 X is 20 <= X <= 70 in the said General formula (2), The norbornene-type copolymer of any one of Claims 10-12.
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