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JP2008019402A - Curable resin composition and antireflection film - Google Patents

Curable resin composition and antireflection film Download PDF

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JP2008019402A
JP2008019402A JP2006194835A JP2006194835A JP2008019402A JP 2008019402 A JP2008019402 A JP 2008019402A JP 2006194835 A JP2006194835 A JP 2006194835A JP 2006194835 A JP2006194835 A JP 2006194835A JP 2008019402 A JP2008019402 A JP 2008019402A
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meth
group
resin composition
curable resin
compound
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Application number
JP2006194835A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideaki Takase
英明 高瀬
Takao Yashiro
隆郎 八代
Kunpei Kobayashi
薫平 小林
Takahiro Kawai
高弘 川合
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JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable resin composition excellent in scratch resistance, stainproofing properties and especially wiping properties of an oily dye, and to provide an antireflection film. <P>SOLUTION: The curable resin composition comprises (A) a fluorine-containing polymer containing an ethylenically unsaturated group, (B) a silicone compound having a siloxane skeleton and three or more (meth)acryloyl groups and having a number average molecular weight of 7,000 or more and (C) a (meth)acrylate compound other than the compounds (A) and (B). A cured film produced by curing the curable resin composition is provided. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、硬化性樹脂組成物及び反射防止膜に関する。   The present invention relates to a curable resin composition and an antireflection film.

液晶表示パネル、冷陰極線管パネル、プラズマディスプレー等の各種表示パネルにおいて、外光の映りを防止し、画質を向上させるために、低屈折率性、耐擦傷性、塗工性、及び耐久性に優れた硬化膜からなる低屈折率層を含む反射防止膜が求められている。
これら表示パネルにおいては、付着した指紋、埃等を容易に除去できる(防汚性)表面特性が求められると共に、埃等を除去するため表面をエタノール等を含侵したガーゼで拭くことが多く、耐擦傷性が求められている。
In various display panels such as liquid crystal display panels, cold cathode ray tube panels, plasma displays, etc., in order to prevent reflection of external light and improve image quality, it has low refractive index, scratch resistance, coatability, and durability. There is a demand for an antireflection film including a low refractive index layer made of an excellent cured film.
In these display panels, surface characteristics that can easily remove attached fingerprints, dust, etc. (antifouling properties) are required, and the surface is often wiped with gauze impregnated with ethanol, etc. to remove dust, Scratch resistance is required.

反射防止膜の低屈折率層用材料として、例えば、水酸基含有含フッ素重合体を含むフッ素樹脂系塗料が知られている(例えば、特許文献1〜3)。しかし、このようなフッ素樹脂系塗料は、防汚性、耐擦傷性や耐久性に乏しいという問題があった。   As a material for a low refractive index layer of an antireflection film, for example, a fluororesin-based paint containing a hydroxyl group-containing fluoropolymer is known (for example, Patent Documents 1 to 3). However, such a fluororesin-based paint has a problem that it is poor in antifouling property, scratch resistance and durability.

そこで、(特許文献4)には、フッ素系共重合体の主鎖に特定量のポリシロキサン骨格を導入することによって、塗膜表面と布との摩擦が低減され耐布擦り性が向上することが記載されている。   Therefore, in (Patent Document 4), by introducing a specific amount of polysiloxane skeleton into the main chain of the fluorine-based copolymer, the friction between the coating film surface and the cloth is reduced and the cloth abrasion resistance is improved. Is described.

特開昭57−34107号公報JP 57-34107 A 特開昭59−189108号公報JP 59-189108 A 特開昭60−67518号公報JP 60-67518 A 特開2005−290119号公報JP 2005-290119 A

しかしながら、上記従来の樹脂組成物では、得られる耐擦傷性、防汚性、特に油性染料の拭き取り性が十分ではなかった。
そこで、本発明は、耐擦傷性、防汚性、特に油性染料の拭き取り性に優れる硬化性樹脂組成物及び反射防止膜を提供することを目的とする。
However, the above-described conventional resin compositions have not been sufficient in the obtained scratch resistance and antifouling properties, particularly the wipeability of oily dyes.
Then, an object of this invention is to provide the curable resin composition and antireflection film which are excellent in abrasion resistance and antifouling property, especially the wipeability of an oil-based dye.

本発明によれば、以下の硬化性樹脂組成物、硬化膜及び反射防止膜が提供される。
[1] (A)エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、(B)シロキサン骨格を有するとともに、(メタ)アクリロイル基を3個以上有し、数平均分子量が7000以上であるシリコーン化合物、(C)(A)、(B)を除く(メタ)アクリレート化合物、
を含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。
[2] [1]記載の硬化性樹脂組成物において、シリコーン化合物が、その末端に(メタ)アクリロイル基を有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。
[3] [2]の硬化性樹脂組成物において、シリコーン化合物が、その両末端に(メタ)アクリロイル基を有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。
[4] [1]〜[3]のいずれか記載の硬化性樹脂組成物において、シリコーン化合物が、シロキサン骨格の側鎖に(メタ)アクリロイル基を有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。
[5] [1]〜[4]のいずれか記載の硬化性樹脂組成物において、(メタ)アクリレート化合物が2個以上の(メタ)アクリロイル基を有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。
[6] [1]〜[5]のいずれか記載の硬化性樹脂組成物において、さらに(D)シリカを主成分とする数平均粒子径が1〜100nmの粒子を含有する硬化性樹脂組成物。
[7] [1]〜[6]のいずれか記載の硬化性樹脂組成物において、反射防止膜用であることを特徴とする硬化性樹脂組成物。
[8] [1]〜[7]のいずれか記載の硬化性樹脂組成物を硬化させて得られることを特徴とする硬化膜。
[9] [8]記載の膜からなる層を有することを特徴とする反射防止膜。
According to the present invention, the following curable resin composition, cured film and antireflection film are provided.
[1] (A) Ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer, (B) A silicone compound having a siloxane skeleton, having 3 or more (meth) acryloyl groups, and having a number average molecular weight of 7000 or more, ( C) (meth) acrylate compounds excluding (A) and (B),
A curable resin composition comprising:
[2] The curable resin composition according to [1], wherein the silicone compound has a (meth) acryloyl group at a terminal thereof.
[3] The curable resin composition according to [2], wherein the silicone compound has (meth) acryloyl groups at both ends thereof.
[4] The curable resin composition according to any one of [1] to [3], wherein the silicone compound has a (meth) acryloyl group in a side chain of the siloxane skeleton.
[5] The curable resin composition according to any one of [1] to [4], wherein the (meth) acrylate compound has two or more (meth) acryloyl groups.
[6] The curable resin composition according to any one of [1] to [5], further comprising (D) a particle having a number average particle diameter of 1 to 100 nm mainly composed of silica. .
[7] The curable resin composition according to any one of [1] to [6], wherein the curable resin composition is for an antireflection film.
[8] A cured film obtained by curing the curable resin composition according to any one of [1] to [7].
[9] An antireflection film comprising a layer comprising the film according to [8].

本発明の硬化性樹脂組成物によれば、優れた防汚性、耐擦傷性を有する硬化膜及びそれを含む反射防止膜が得られる。
また、本発明の硬化膜は、シリコーン化合物を含有しているにもかかわらず、塗膜をロール巻きにした際にも、塗膜フィルムの裏側にシリコーン化合物が付着することが少ないため、例えば、ディスプレイ製造工程での不具合が生じることがない。
According to the curable resin composition of the present invention, a cured film having excellent antifouling properties and scratch resistance and an antireflection film containing the cured film can be obtained.
In addition, the cured film of the present invention contains a silicone compound, but when the coating film is rolled, the silicone compound is less likely to adhere to the back side of the coating film. There is no problem in the display manufacturing process.

本発明の硬化性樹脂組成物、硬化膜及び反射防止膜の実施形態について以下説明する。   Embodiments of the curable resin composition, the cured film and the antireflection film of the present invention will be described below.

1.硬化性樹脂組成物
本発明の硬化性樹脂組成物(以下、本発明の組成物という)は、下記の成分(A)〜(G)を含み得る。これらの成分のうち、(A)〜(C)は必須成分であり、(D)〜(G)は適宜含むことのできる任意成分である。
(A)エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、
(B)シロキサン骨格を有するとともに、(メタ)アクリロイル基を3個以上有し、数平均分子量が4,000以上であるシリコーン化合物
(C)(A)、(B)を除く(メタ)アクリレート化合物、
(D)シリカを主成分とする数平均粒径1〜100nmの粒子、
(E)放射線の照射又は熱により活性種を発生する化合物
(F)有機溶媒
(G)その他の添加剤
これらの成分について以下説明する。
1. Curable resin composition The curable resin composition of this invention (henceforth the composition of this invention) may contain the following component (A)-(G). Among these components, (A) to (C) are essential components, and (D) to (G) are optional components that can be appropriately contained.
(A) an ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer,
(B) Silicone compounds having a siloxane skeleton, having at least 3 (meth) acryloyl groups, and having a number average molecular weight of 4,000 or more (C) (A), (Meth) acrylate compounds excluding (B) ,
(D) Particles having a number average particle size of 1 to 100 nm mainly composed of silica,
(E) Compound that generates active species by irradiation of radiation or heat (F) Organic solvent (G) Other additives These components will be described below.

(A)エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体
エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体(A)は、フッ素系オレフィンの重合物である。(A)成分により本発明の組成物は低屈折率、防汚性、耐薬品性、耐水性等の反射防止膜用低屈折率材料としての基本性能を発現する。
(A)成分は、側鎖に(メタ)アクリル基を有することが好ましい。これにより、ラジカル重合性(メタ)アクリル化合物と共架橋化することができ、耐擦傷性が向上する。
(A) Ethylenically unsaturated group-containing fluorinated polymer The ethylenically unsaturated group-containing fluorinated polymer (A) is a polymer of a fluorinated olefin. By the component (A), the composition of the present invention exhibits basic performance as a low refractive index material for an antireflection film such as low refractive index, antifouling property, chemical resistance, and water resistance.
The component (A) preferably has a (meth) acryl group in the side chain. Thereby, it can co-crosslink with a radically polymerizable (meth) acryl compound, and abrasion resistance improves.

エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体は、エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物と、水酸基含有含フッ素重合体とを反応させて得られる。すなわち、水酸基含有含フッ素重合体の水酸基が、エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物により変性されたものである。   The ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer is obtained by reacting an ethylenically unsaturated group-containing isocyanate compound with a hydroxyl group-containing fluoropolymer. That is, the hydroxyl group of the hydroxyl group-containing fluoropolymer is modified with an ethylenically unsaturated group-containing isocyanate compound.

(1)エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物
エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物としては、分子内に、1個のイソシアネート基と、少なくとも1個のエチレン性不飽和基を含有している化合物であれば特に制限されるものではない。
尚、イソシアネート基を2個以上含有すると、水酸基含有含フッ素重合体と反応させる際にゲル化を起こす可能性がある。
また、上記エチレン性不飽和基として、後述する硬化性樹脂組成物をより容易に硬化させることができることから、(メタ)アクリロイル基を有する化合物がより好ましい。
エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物としては、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルイソシアネートの一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
(1) Ethylenically unsaturated group-containing isocyanate compound The ethylenically unsaturated group-containing isocyanate compound may be a compound containing one isocyanate group and at least one ethylenically unsaturated group in the molecule. There is no particular limitation.
In addition, when two or more isocyanate groups are contained, there is a possibility of causing gelation when reacting with a hydroxyl group-containing fluoropolymer.
Moreover, since the curable resin composition mentioned later can be hardened more easily as said ethylenically unsaturated group, the compound which has a (meth) acryloyl group is more preferable.
Examples of the ethylenically unsaturated group-containing isocyanate compound include one kind of 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate and 2- (meth) acryloyloxypropyl isocyanate, or a combination of two or more kinds.

尚、エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物は、ジイソシアネート及び水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させて合成することもできる。
ジイソシアネートの例としては、2,4−トリレンジイソシアネ−ト、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネア−ト)、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサンが好ましい。
The ethylenically unsaturated group-containing isocyanate compound can also be synthesized by reacting diisocyanate and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate.
As examples of diisocyanates, 2,4-tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), and 1,3-bis (isocyanate methyl) cyclohexane are preferred.

水酸基含有(メタ)アクリレートの例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートが好ましい。
尚、水酸基含有多官能(メタ)アクリレートの市販品としては、例えば、大阪有機化学(株)製 商品名 HEA、日本化薬(株)製 商品名 KAYARAD DPHA、PET−30、東亞合成(株)製 商品名 アロニックス M−215、M−233、M−305、M−400等として入手することができる。
As examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and pentaerythritol tri (meth) acrylate are preferable.
In addition, as a commercial item of a hydroxyl-containing polyfunctional (meth) acrylate, for example, Osaka Organic Chemical Co., Ltd. product name HEA, Nippon Kayaku Co., Ltd. product name KAYARAD DPHA, PET-30, Toagosei Co., Ltd. Product name Aronix M-215, M-233, M-305, M-400 and the like can be obtained.

(2)水酸基含有含フッ素重合体
水酸基含有含フッ素重合体は、好ましくは、下記構造単位(a)、(b)及び(c)を含んでなる。
(a)下記式(1)で表される構造単位。
(b)下記式(2)で表される構造単位。
(c)下記式(3)で表される構造単位。
(2) Hydroxyl group-containing fluoropolymer The hydroxyl group-containing fluoropolymer preferably comprises the following structural units (a), (b) and (c).
(A) A structural unit represented by the following formula (1).
(B) A structural unit represented by the following formula (2).
(C) A structural unit represented by the following formula (3).

Figure 2008019402
[式(1)中、R1はフッ素原子、フルオロアルキル基又は−OR2で表される基(R2はアルキル基又はフルオロアルキル基を示す)を示す]
Figure 2008019402
[In formula (1), R 1 represents a fluorine atom, a fluoroalkyl group or a group represented by —OR 2 (R 2 represents an alkyl group or a fluoroalkyl group)]

Figure 2008019402
[式(2)中、R3は水素原子又はメチル基を、R4はアルキル基、−(CH2)x−OR5若しくは−OCOR5で表される基(R5はアルキル基又はグリシジル基を、xは0又は1の数を示す)、カルボキシル基又はアルコキシカルボニル基を示す]
Figure 2008019402
[In the formula (2), R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 4 represents an alkyl group, and a group represented by — (CH 2 ) x —OR 5 or —OCOR 5 (R 5 represents an alkyl group or a glycidyl group. , X represents a number of 0 or 1, and represents a carboxyl group or an alkoxycarbonyl group]

Figure 2008019402
[式(3)中、R6は水素原子又はメチル基を、R7は水素原子又はヒドロキシアルキル基を、vは0又は1の数を示す]
Figure 2008019402
[In formula (3), R 6 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 7 represents a hydrogen atom or a hydroxyalkyl group, and v represents a number of 0 or 1]

(i)構造単位(a)
上記式(1)において、R1及びR2のフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロシクロヘキシル基等の炭素数1〜6のフルオロアルキル基が挙げられる。また、R2のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等の炭素数1〜6のアルキル基が挙げられる。
(I) Structural unit (a)
In the above formula (1), examples of the fluoroalkyl group represented by R 1 and R 2 include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorohexyl group, a perfluorocyclohexyl group, and the like. A C1-C6 fluoroalkyl group is mentioned. The alkyl group R 2, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a cyclohexyl group.

構造単位(a)は、含フッ素ビニル単量体を重合成分として用いることにより導入することができる。このような含フッ素ビニル単量体としては、少なくとも1個の重合性不飽和二重結合と、少なくとも1個のフッ素原子とを有する化合物であれば特に制限されるものではない。このような例としてはテトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、3,3,3−トリフルオロプロピレン等のフルオロレフィン類;アルキルパーフルオロビニルエーテル又はアルコキシアルキルパーフルオロビニルエーテル類;パーフルオロ(メチルビニルエーテル)、パーフルオロ(エチルビニルエーテル)、(プロピルビニルエーテル)、パーフルオロ(ブチルビニルエーテル)、パーフルオロ(イソブチルビニルエーテル)等のパーフルオロ(アルキルビニルエーテル)類;パーフルオロ(プロポキシプロピルビニルエーテル)等のパーフルオロ(アルコキシアルキルビニルエーテル)類の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
これらの中でも、ヘキサフルオロプロピレンとパーフルオロ(アルキルビニルエーテル)又はパーフルオロ(アルコキシアルキルビニルエーテル)がより好ましく、これらを組み合わせて用いることがさらに好ましい。
The structural unit (a) can be introduced by using a fluorine-containing vinyl monomer as a polymerization component. Such a fluorine-containing vinyl monomer is not particularly limited as long as it is a compound having at least one polymerizable unsaturated double bond and at least one fluorine atom. Examples thereof include fluororefines such as tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene and 3,3,3-trifluoropropylene; alkyl perfluorovinyl ethers or alkoxyalkyl perfluorovinyl ethers; perfluoro (methyl vinyl ether), perfluoro Perfluoro (alkyl vinyl ethers) such as (ethyl vinyl ether), (propyl vinyl ether), perfluoro (butyl vinyl ether), perfluoro (isobutyl vinyl ether); Perfluoro (alkoxyalkyl vinyl ether) s such as perfluoro (propoxypropyl vinyl ether) These may be used alone or in combination of two or more.
Among these, hexafluoropropylene and perfluoro (alkyl vinyl ether) or perfluoro (alkoxyalkyl vinyl ether) are more preferable, and it is more preferable to use these in combination.

尚、構造単位(a)の含有率は、水酸基含有含フッ素重合体の全体量を100モル%としたときに、20〜70モル%である。この理由は、含有率が20モル%未満になると、本発明が意図するところのフッ素含有材料の光学的特徴である、低屈折率の発現が困難となる場合があるためであり、一方、含有率が70モル%を超えると、水酸基含有含フッ素重合体の有機溶剤への溶解性、透明性、又は基材への密着性が低下する場合があるためである。
また、このような理由により、構造単位(a)の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体の全体量に対して、25〜65モル%とするのがより好ましく、30〜60モル%とするのがさらに好ましい。
In addition, the content rate of a structural unit (a) is 20-70 mol% when the whole quantity of a hydroxyl-containing fluoropolymer is 100 mol%. The reason for this is that when the content is less than 20 mol%, it is sometimes difficult to develop a low refractive index, which is an optical characteristic of the fluorine-containing material intended by the present invention, while the content is contained. This is because when the ratio exceeds 70 mol%, the solubility of the hydroxyl group-containing fluoropolymer in an organic solvent, transparency, or adhesion to a substrate may be lowered.
For these reasons, the content of the structural unit (a) is more preferably 25 to 65 mol%, and more preferably 30 to 60 mol%, based on the total amount of the hydroxyl group-containing fluoropolymer. Is more preferable.

(ii)構造単位(b)
式(2)において、R4又はR5のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ラウリル基等の炭素数1〜12のアルキル基が挙げられ、アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられる。
(Ii) Structural unit (b)
In the formula (2), examples of the alkyl group represented by R 4 or R 5 include alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, propyl group, hexyl group, cyclohexyl group, and lauryl group. Examples of the group include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group.

構造単位(b)は、上述の置換基を有するビニル単量体を重合成分として用いることにより導入することができる。このようなビニル単量体の例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、tert−ブチルビニルエーテル、n−ペンチルビニルエーテル、n−ヘキシルビニルエーテル、n−オクチルビニルエーテル、n−ドデシルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテルもしくはシクロアルキルビニルエーテル類;エチルアリルエーテル、ブチルアリルエーテル等のアリルエーテル類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、バーサチッ
ク酸ビニル、ステアリン酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−(n−プロポキシ)エチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル類;(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸類等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
The structural unit (b) can be introduced by using the above-mentioned vinyl monomer having a substituent as a polymerization component. Examples of such vinyl monomers include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, tert-butyl vinyl ether, n-pentyl vinyl ether, n-hexyl vinyl ether, n -Alkyl vinyl ethers or cycloalkyl vinyl ethers such as octyl vinyl ether, n-dodecyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether; allyl ethers such as ethyl allyl ether, butyl allyl ether; vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, pivalin Carboxylic acid vinyl ester such as vinyl acid vinyl, vinyl caproate, vinyl vinyl versatate, vinyl stearate Tellurium; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2- ( (Meth) acrylic acid esters such as n-propoxy) ethyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and other unsaturated carboxylic acids, etc. The combination of is mentioned.

尚、構造単位(b)の含有率は、水酸基含有含フッ素重合体の全体量を100モル%としたときに、10〜70モル%である。この理由は、含有率が10モル%未満になると、水酸基含有含フッ素重合体の有機溶剤への溶解性が低下する場合があるためであり、一方、含有率が70モル%を超えると、水酸基含有含フッ素重合体の透明性、及び低反射率性等の光学特性が低下する場合があるためである。
また、このような理由により、構造単位(b)の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体の全体量に対して、20〜60モル%とするのがより好ましく、30〜60モル%とするのがさらに好ましい。
In addition, the content rate of a structural unit (b) is 10-70 mol% when the whole quantity of a hydroxyl-containing fluoropolymer is 100 mol%. This is because if the content is less than 10 mol%, the solubility of the hydroxyl group-containing fluoropolymer in the organic solvent may be reduced. On the other hand, if the content exceeds 70 mol%, the hydroxyl group This is because optical properties such as transparency and low reflectivity of the fluorinated polymer may be deteriorated.
For such reasons, the content of the structural unit (b) is more preferably 20 to 60 mol%, and more preferably 30 to 60 mol%, based on the total amount of the hydroxyl group-containing fluoropolymer. Is more preferable.

(iii)構造単位(c)
式(3)において、R7のヒドロキシアルキル基としては、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピル基、4−ヒドロキシブチル基、3−ヒドロキシブチル基、5−ヒドロキシペンチル基、6−ヒドロキシヘキシル基が挙げられる。
(Iii) Structural unit (c)
In the formula (3), as the hydroxyalkyl group of R 7 , 2-hydroxyethyl group, 2-hydroxypropyl group, 3-hydroxypropyl group, 4-hydroxybutyl group, 3-hydroxybutyl group, 5-hydroxypentyl group , 6-hydroxyhexyl group.

構造単位(c)は、水酸基含有ビニル単量体を重合成分として用いることにより導入することができる。このような水酸基含有ビニル単量体の例としては、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシブチルビニルエーテル、5−ヒドロキシペンチルビニルエーテル、6−ヒドロキシヘキシルビニルエーテル等の水酸基含有ビニルエーテル類、2−ヒドロキシエチルアリルエーテル、4−ヒドロキシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリルエーテル等の水酸基含有アリルエーテル類、アリルアルコール等が挙げられる。
また、水酸基含有ビニル単量体としては、上記以外にも、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、カプロラクトン(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート等を用いることができる。
The structural unit (c) can be introduced by using a hydroxyl group-containing vinyl monomer as a polymerization component. Examples of such hydroxyl group-containing vinyl monomers include 2-hydroxyethyl vinyl ether, 3-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxybutyl vinyl ether, 5-hydroxypentyl vinyl ether, Examples include hydroxyl group-containing vinyl ethers such as 6-hydroxyhexyl vinyl ether, hydroxyl group-containing allyl ethers such as 2-hydroxyethyl allyl ether, 4-hydroxybutyl allyl ether, and glycerol monoallyl ether, allyl alcohol, and the like.
Moreover, as a hydroxyl-containing vinyl monomer, in addition to the above, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, caprolactone (meth) acrylate, polypropylene Glycol (meth) acrylate or the like can be used.

尚、構造単位(c)の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体の全体量を100モル%としたときに、5〜70モル%とすることが好ましい。この理由は、含有率が5モル%未満になると、水酸基含有含フッ素重合体の有機溶剤への溶解性が低下する場合があるためであり、一方、含有率が70モル%を超えると、水酸基含有含フッ素重合体の透明性、及び低反射率性等の光学特性が低下する場合があるためである。
また、このような理由により、構造単位(c)の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体の全体量に対して、5〜40モル%とするのがより好ましく、5〜30モル%とするのがさらに好ましい。
In addition, it is preferable that the content rate of a structural unit (c) shall be 5-70 mol% when the whole quantity of a hydroxyl-containing fluoropolymer is 100 mol%. This is because if the content is less than 5 mol%, the solubility of the hydroxyl group-containing fluoropolymer in the organic solvent may be reduced. On the other hand, if the content exceeds 70 mol%, the hydroxyl group This is because optical properties such as transparency and low reflectivity of the fluorinated polymer may be deteriorated.
For such reasons, the content of the structural unit (c) is more preferably 5 to 40 mol%, and more preferably 5 to 30 mol%, based on the total amount of the hydroxyl group-containing fluoropolymer. Is more preferable.

(iv)構造単位(d)及び構造単位(e)
水酸基含有含フッ素重合体は、さらに下記構造単位(d)を含んで構成することも好ましい。
(d)下記式(4)で表される構造単位。
(Iv) Structural unit (d) and structural unit (e)
The hydroxyl group-containing fluoropolymer preferably further comprises the following structural unit (d).
(D) A structural unit represented by the following formula (4).

Figure 2008019402
[式(4)中、R8及びR9は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基又はアリール基を示す]
Figure 2008019402
[In formula (4), R 8 and R 9 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, a halogenated alkyl group or an aryl group]

式(4)において、R8又はR9のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基が、ハロゲン化アルキル基としてはトリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基等の炭素数1〜4のフルオロアルキル基等が、アリール基としてはフェニル基、ベンジル基、ナフチル基等がそれぞれ挙げられる。 In the formula (4), the alkyl group of R 8 or R 9 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group or a propyl group, and the halogenated alkyl group is a trifluoromethyl group or perfluoro group. C1-C4 fluoroalkyl groups, such as an ethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, etc., A phenyl group, a benzyl group, a naphthyl group etc. are each mentioned as an aryl group.

構造単位(d)は、前記式(4)で表されるポリシロキサンセグメントを有するアゾ基含有ポリシロキサン化合物を用いることにより導入することができる。このようなアゾ基含有ポリシロキサン化合物の例としては、下記式(5)で表される化合物が挙げられる。   The structural unit (d) can be introduced by using an azo group-containing polysiloxane compound having a polysiloxane segment represented by the formula (4). Examples of such azo group-containing polysiloxane compounds include compounds represented by the following formula (5).

Figure 2008019402
[式(5)中、R10〜R13は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基又はシアノ基を示し、R14〜R17は、同一でも異なっていてもよく、水素原子又はアルキル基を示し、p、qは1〜6の数、s、tは0〜6の数、yは1〜200の数、zは1〜20の数を示す。]
Figure 2008019402
[In the formula (5), R 10 to R 13 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group or a cyano group, and R 14 to R 17 may be the same or different and represent a hydrogen atom. Alternatively, it represents an alkyl group, p and q are numbers 1 to 6, s and t are numbers 0 to 6, y is a number 1 to 200, and z is a number 1 to 20. ]

式(5)で表される化合物を用いた場合には、構造単位(d)は、構造単位(e)の一部として水酸基含有含フッ素重合体に含まれる。   When the compound represented by the formula (5) is used, the structural unit (d) is included in the hydroxyl group-containing fluoropolymer as a part of the structural unit (e).

(e)下記式(6)で表される構造単位。   (E) A structural unit represented by the following formula (6).

Figure 2008019402
[式(6)中、R10〜R13、R14〜R17、p、q、s、t及びyは、上記式(5)と同じである。]
Figure 2008019402
[In the formula (6), R 10 to R 13 , R 14 to R 17 , p, q, s, t, and y are the same as in the above formula (5). ]

式(5),(6)において、R10〜R13のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等の炭素数1〜12のアルキル基が挙げられ
、R14〜R17のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基が挙げられる。
In the formulas (5) and (6), examples of the alkyl group represented by R 10 to R 13 include alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hexyl group, and a cyclohexyl group. Examples of the alkyl group of 14 to R 17 include an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, and a propyl group.

本発明において、上記式(5)で表されるアゾ基含有ポリシロキサン化合物としては、下記式(7)で表される化合物が特に好ましい。   In the present invention, the azo group-containing polysiloxane compound represented by the above formula (5) is particularly preferably a compound represented by the following formula (7).

Figure 2008019402
[式(7)中、y及びzは、上記式(5)と同じである。]
Figure 2008019402
[In Formula (7), y and z are the same as the said Formula (5). ]

尚、構造単位(d)の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体の全体量を100モル%としたときに、0.1〜10モル%とすることが好ましい。この理由は、含有率が0.1モル%未満になると、硬化後の塗膜の表面滑り性が低下し、塗膜の耐擦傷性が低下する場合があるためであり、一方、含有率が10モル%を超えると、水酸基含有含フッ素重合体の透明性に劣り、コート材として使用する際に、塗布時にハジキ等が発生し易くなる場合があるためである。
また、このような理由により、構造単位(d)の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体の全体量に対して、0.1〜5モル%とするのがより好ましく、0.1〜3モル%とするのがさらに好ましい。同じ理由により、構造単位(e)の含有率は、その中に含まれる構造単位(d)の含有率を上記範囲にするよう決定することが望ましい。
In addition, it is preferable that the content rate of a structural unit (d) shall be 0.1-10 mol% when the whole quantity of a hydroxyl-containing fluoropolymer is 100 mol%. The reason for this is that when the content is less than 0.1 mol%, the surface slipperiness of the cured coating film is lowered, and the scratch resistance of the coating film may be lowered. If the amount exceeds 10 mol%, the transparency of the hydroxyl group-containing fluoropolymer is inferior, and when used as a coating material, repelling and the like are likely to occur during coating.
For these reasons, the content of the structural unit (d) is more preferably 0.1 to 5 mol% with respect to the total amount of the hydroxyl group-containing fluoropolymer, More preferably, it is mol%. For the same reason, the content of the structural unit (e) is desirably determined so that the content of the structural unit (d) contained therein is in the above range.

(v)構造単位(f)
水酸基含有含フッ素重合体は、さらに下記構造単位(f)を含んで構成することも好ましい。
(V) Structural unit (f)
It is also preferred that the hydroxyl group-containing fluoropolymer further comprises the following structural unit (f).

(f)下記式(8)で表される構造単位。   (F) A structural unit represented by the following formula (8).

Figure 2008019402
[式(8)中、R18は乳化作用を有する基を示す]
Figure 2008019402
[In formula (8), R 18 represents a group having an emulsifying action]

式(8)において、R18の乳化作用を有する基としては、疎水性基及び親水性基の双方を有し、かつ、親水性基がポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド等のポリエーテル構造である基が好ましい。 In the formula (8), the group having an emulsifying action of R 18 includes a group having both a hydrophobic group and a hydrophilic group, and the hydrophilic group having a polyether structure such as polyethylene oxide and polypropylene oxide. preferable.

このような乳化作用を有する基の例としては下記式(9)で表される基が挙げられる。   Examples of the group having such an emulsifying action include a group represented by the following formula (9).

Figure 2008019402
[式(9)中、nは1〜20の数、mは0〜4の数、uは3〜50の数を示す]
Figure 2008019402
[In Formula (9), n is a number from 1 to 20, m is a number from 0 to 4, and u is a number from 3 to 50]

構造単位(f)は、反応性乳化剤を重合成分として用いることにより導入することができる。このような反応性乳化剤としては、下記式(10)で表される化合物が挙げられる。   The structural unit (f) can be introduced by using a reactive emulsifier as a polymerization component. Examples of such reactive emulsifiers include compounds represented by the following formula (10).

Figure 2008019402
[式(10)中、n、m及びuは、上記式(9)と同様である]
Figure 2008019402
[In Formula (10), n, m, and u are the same as those in Formula (9) above]

尚、構造単位(f)の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体の全体量を100モル%としたときに、0.1〜5モル%とすることが好ましい。この理由は、含有率が0.1モル%以上になると、水酸基含有含フッ素重合体の溶剤への溶解性が向上し、一方、含有率が5モル%以内であれば、硬化性樹脂組成物の粘着性が過度に増加せず、取り扱いが容易になり、コート材等に用いても耐湿性が低下しないためである。
また、このような理由により、構造単位(f)の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体の全体量に対して、0.1〜3モル%とするのがより好ましく、0.2〜3モル%とするのがさらに好ましい。
In addition, it is preferable that the content rate of a structural unit (f) shall be 0.1-5 mol% when the whole quantity of a hydroxyl-containing fluoropolymer is 100 mol%. This is because, when the content is 0.1 mol% or more, the solubility of the hydroxyl group-containing fluoropolymer in the solvent is improved. On the other hand, if the content is within 5 mol%, the curable resin composition This is because the adhesiveness of the film does not increase excessively, handling becomes easy, and moisture resistance does not decrease even when used as a coating material.
For such reasons, the content of the structural unit (f) is more preferably 0.1 to 3 mol% based on the total amount of the hydroxyl group-containing fluoropolymer, and 0.2 to 3 More preferably, it is mol%.

(vi)分子量
水酸基含有含フッ素重合体は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで、テトラヒドロフランを溶剤として測定したポリスチレン換算数平均分子量が5,000〜500,000であることが好ましい。この理由は、数平均分子量が5,000未満になると、水酸基含有含フッ素重合体の機械的強度が低下する場合があるためであり、一方、数平均分子量が500,000を超えると、後述する硬化性樹脂組成物の粘度が高くなり、薄膜コーティングが困難となる場合があるためである。
また、このような理由により、水酸基含有含フッ素重合体のポリスチレン換算数平均分子量を10,000〜300,000とするのがより好ましく、10,000〜100,000とするのがさらに好ましい。
(Vi) Molecular Weight The hydroxyl group-containing fluoropolymer preferably has a polystyrene-equivalent number average molecular weight of 5,000 to 500,000 measured by gel permeation chromatography using tetrahydrofuran as a solvent. The reason for this is that when the number average molecular weight is less than 5,000, the mechanical strength of the hydroxyl group-containing fluoropolymer may be lowered. On the other hand, when the number average molecular weight exceeds 500,000, it will be described later. This is because the viscosity of the curable resin composition becomes high and thin film coating may be difficult.
For these reasons, the number average molecular weight in terms of polystyrene of the hydroxyl group-containing fluoropolymer is more preferably 10,000 to 300,000, and even more preferably 10,000 to 100,000.

(3)反応モル比
エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体は、好ましくは、上述した、エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物と、水酸基含有含フッ素重合体とを、イソシアネート基/水酸基のモル比が1.1〜1.9の割合で反応させて得られる。この理由は、モル比が1.1未満になると耐擦傷性及び耐久性が低下する場合があるためであり、一方、モル比が1.9を超えると、硬化性樹脂組成物の塗膜のアルカリ水溶液浸漬後の耐擦傷性が低下する場合があるためである。
また、このような理由により、イソシアネート基/水酸基のモル比を、1.1〜1.5とするのが好ましく、1.2〜1.5とするのがより好ましい。
(3) Reaction molar ratio The ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer is preferably an isocyanate group / hydroxyl group molar ratio of the above-described ethylenically unsaturated group-containing isocyanate compound and a hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer. Is obtained at a ratio of 1.1 to 1.9. The reason for this is that if the molar ratio is less than 1.1, the scratch resistance and durability may be reduced. On the other hand, if the molar ratio exceeds 1.9, the coating film of the curable resin composition may be deteriorated. This is because the scratch resistance after immersion in an alkaline aqueous solution may be lowered.
For this reason, the molar ratio of isocyanate group / hydroxyl group is preferably 1.1 to 1.5, and more preferably 1.2 to 1.5.

(A)成分の添加量については、特に制限されるものではないが、有機溶剤以外の組成物全量に対して通常10〜60重量%である。この理由は、添加量が10重量%未満となると、放射線硬化性樹脂組成物の硬化塗膜の屈折率が高くなり、十分な反射防止効果が得られない場合があるためであり、一方、添加量が60重量%を超えると、放射線硬化性樹脂組成物の硬化塗膜の耐擦傷性が得られない場合があるためである。
また、このような理由から、(A)成分の添加量を15〜55重量%とするのがより好ましく、20〜50重量%の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
The amount of component (A) added is not particularly limited, but is usually 10 to 60% by weight based on the total amount of the composition other than the organic solvent. The reason for this is that when the addition amount is less than 10% by weight, the refractive index of the cured coating film of the radiation curable resin composition increases, and a sufficient antireflection effect may not be obtained. This is because if the amount exceeds 60% by weight, the scratch resistance of the cured coating film of the radiation curable resin composition may not be obtained.
For this reason, the amount of component (A) added is more preferably 15 to 55% by weight, and still more preferably 20 to 50% by weight.

(B)シリコーン化合物
本発明の組成物には、シリコーン化合物としてシロキサン骨格を有するとともに、(メタ)アクリロイル基を少なくとも3つ以上有し、数平均分子量が4,000以上である化合物を配合する。このようなシリコーン化合物を配合することで、硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化膜及びそれを用いた反射防止膜の耐擦傷性、防汚性、特に油性染料の拭き取り性が向上する。
シリコーン化合物としては、その末端に(メタ)アクリロイル基を有する化合物、その両末端に(メタ)アクリロイル基を有する化合物、又はシロキサン骨格の側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する化合物を挙げることができる。
(B) Silicone Compound A compound having a siloxane skeleton as the silicone compound, at least three (meth) acryloyl groups, and a number average molecular weight of 4,000 or more is blended in the composition of the present invention. By blending such a silicone compound, the scratch resistance and antifouling properties of the cured film obtained by curing the curable resin composition and the antireflection film using the cured resin composition, in particular, the wiping property of oily dyes is improved. .
Examples of the silicone compound include a compound having a (meth) acryloyl group at its terminal, a compound having a (meth) acryloyl group at both terminals, or a compound having a (meth) acryloyl group in the side chain of the siloxane skeleton. .

シロキサン骨格の末端あるいは両末端に(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、下記式(11)で示されるシリコーン化合物(B)が挙げられる。   Examples of the compound having a (meth) acryloyl group at the terminal or both terminals of the siloxane skeleton include a silicone compound (B) represented by the following formula (11).

Figure 2008019402
式(11)において、R32及びR33は、それぞれ独立に、炭素数1〜3のアルキル基であり、メチル基が好ましい。また、R31、R34のいずれか1以上は(メタ)アクリロイル基を有する基である。式(11)で表されるシリコーン化合物として3以上の(メタ)アクリロイル基を有することが好ましい。aは、シリコーン化合物(B)の数平均分子量が4,000以上となる1以上の整数であり、通常は、40〜500の整数である。尚、シリコーン化合物(B)の数平均分子量は4,000以上であるが、大きい方が滑りが良く防汚性が高くなるが、7,000以上であることが好ましく、9,000以上であることがさらに好ましい。ここで、シリコーン化合物(B)の数平均分子量は、ポリスチレンを分子量標準とするゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によって測定したものである。bは1〜4の整数であり、3が好ましい。
Figure 2008019402
In the formula (11), R 32 and R 33 are each independently an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a methyl group. One or more of R 31 and R 34 is a group having a (meth) acryloyl group. The silicone compound represented by the formula (11) preferably has 3 or more (meth) acryloyl groups. a is an integer greater than or equal to 1 where the number average molecular weight of the silicone compound (B) is 4,000 or more, and is usually an integer of 40 to 500. The number average molecular weight of the silicone compound (B) is 4,000 or more, but the larger one has better slipping and higher antifouling properties, but it is preferably 7,000 or more and 9,000 or more. More preferably. Here, the number average molecular weight of the silicone compound (B) is measured by a gel permeation chromatography method using polystyrene as a molecular weight standard. b is an integer of 1-4, and 3 is preferable.

シロキサン骨格の側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、下記式(12)で表される構造単位と、下記式(13)で表される構造単位を含んでなり、下記式(13)で表される構造単位を少なくとも3個以上有する化合物が挙げられる。   The compound having a (meth) acryloyl group in the side chain of the siloxane skeleton includes a structural unit represented by the following formula (12) and a structural unit represented by the following formula (13). And a compound having at least 3 structural units represented by

Figure 2008019402
式(12)において、R36、R37は、それぞれ独立に、炭素数1〜3のアルキル基であり、メチル基が好ましい。
Figure 2008019402
In Formula (12), R <36> , R <37 > is a C1-C3 alkyl group each independently, and a methyl group is preferable.

Figure 2008019402
式(13)において、R38は炭素数1〜3のアルキル基であり、メチル基が好ましい。また、R39は少なくとも1以上の(メタ)アクリロイル基を有する基である。
Figure 2008019402
In the formula (13), R 38 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a methyl group. R 39 is a group having at least one (meth) acryloyl group.

(B)成分の添加量については、特に制限されるものではないが、有機溶剤以外の組成物全量に対して通常0.1〜20重量%である。この理由は、添加量が0.1重量%未満となると、放射線硬化性樹脂組成物の硬化塗膜の防汚性が不十分となる場合があるためであり、一方、添加量が20重量%を超えると、硬化塗膜表面からのシリコン化合物剥離等の不都合がある場合があるためである。
また、このような理由から、(B)成分の添加量を0.5〜10重量%とするのがより好ましく、1〜10重量%の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
The amount of the component (B) added is not particularly limited, but is usually 0.1 to 20% by weight with respect to the total amount of the composition other than the organic solvent. The reason for this is that if the addition amount is less than 0.1% by weight, the antifouling property of the cured coating film of the radiation curable resin composition may be insufficient, while the addition amount is 20% by weight. This is because there may be inconveniences such as peeling of the silicon compound from the surface of the cured coating film.
For this reason, the amount of component (B) added is more preferably 0.5 to 10% by weight, and even more preferably 1 to 10% by weight.

(C)(メタ)アクリレート化合物
(メタ)アクリレート化合物は、エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体(A)、シリコーン化合物(B)を除く化合物であり、硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化膜及びそれを用いた反射防止膜の耐擦傷性を高めるために用いられる。
(C) (Meth) acrylate compound The (meth) acrylate compound is a compound excluding the ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer (A) and the silicone compound (B), and is obtained by curing the curable resin composition. It is used to enhance the scratch resistance of the cured film and the antireflection film using the cured film.

この化合物については、分子内に少なくとも1個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する化合物であれば特に制限されるものではない。
(メタ)アクリロイル基を1個有するモノマーとしては、例えばアクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルホリン、7−アミノ−3,7−ジメチルオクチル(メタ)アクリレート、イソブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、イソボルニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、エチルジエチレングリコール(メタ)アクリレート、t−オクチル(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエン(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミドテトラクロロフェニル(メタ)アクリレート、2−テトラクロロフェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、テトラブロモフェニル(メタ)アクリレート、2−テトラブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−トリクロロフェノキシエチル(メタ)アクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、2−トリブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ビニルカプロラクタム、N−ビニルピロリドン、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ペンタクロロフェニル(メタ)アクリレート、ペンタブロモフェニル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、メチルトリエチレンジグリコール(メタ)アクリレートで表される化合物を例示することができる。これらの単官能性モノマーうち、イソボルニル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレートが特に好ましい。
The compound is not particularly limited as long as it is a compound containing at least one (meth) acryloyl group in the molecule.
Examples of the monomer having one (meth) acryloyl group include acrylamide, (meth) acryloylmorpholine, 7-amino-3,7-dimethyloctyl (meth) acrylate, isobutoxymethyl (meth) acrylamide, and isobornyloxyethyl. (Meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, ethyldiethylene glycol (meth) acrylate, t-octyl (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (Meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, dicyclopentadiene (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, dicyclopente (Meth) acrylate, N, N-dimethyl (meth) acrylamide tetrachlorophenyl (meth) acrylate, 2-tetrachlorophenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, tetrabromophenyl (meth) acrylate, 2 -Tetrabromophenoxyethyl (meth) acrylate, 2-trichlorophenoxyethyl (meth) acrylate, tribromophenyl (meth) acrylate, 2-tribromophenoxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2- Hydroxypropyl (meth) acrylate, vinylcaprolactam, N-vinylpyrrolidone, phenoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, pentachloropheny Compounds represented by (meth) acrylate, pentabromophenyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, methyltriethylenediglycol (meth) acrylate It can be illustrated. Of these monofunctional monomers, isobornyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and phenoxyethyl (meth) acrylate are particularly preferable.

これらの単官能性モノマーの市販品としては、例えばアロニックスM−101、M−102、M−111、M−113、M−117、M−152、TO−1210(以上、東亞合成(株)製)、KAYARAD TC−110S、R−564、R−128H(以上、日本化薬(株))、ビスコート192、ビスコート220、ビスコート2311HP、ビスコート2000、ビスコート2100、ビスコート2150、ビスコート8F、ビスコート17F(以上、大阪有機化学工業(株)製)等を挙げることができる。   As a commercial item of these monofunctional monomers, for example, Aronix M-101, M-102, M-111, M-113, M-117, M-152, TO-1210 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) ), KAYARAD TC-110S, R-564, R-128H (Nippon Kayaku Co., Ltd.), Biscoat 192, Biscoat 220, Biscoat 2311HP, Biscoat 2000, Biscoat 2100, Biscoat 2150, Biscoat 8F, Biscoat 17F (above , Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.).

また、(メタ)アクリロイル基が2個以上のモノマーとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン(「トリシクロデカンジイルジメチレンジ(メタ)アクリレート」ともいう。)、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド(以下「EO」という。)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド(以下「PO」という。)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルの両末端(メタ)アクリル酸付加物、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ポリエステルジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、EO変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、PO変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、EO変性水添ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、PO変性水添ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、EO変性ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、フェノールノボラックポリグリシジルエーテルの(メタ)アクリレート等の他、下記式(14)で示される化合物等を例示することができる。 Examples of the monomer having two or more (meth) acryloyl groups include ethylene glycol di (meth) acrylate, dicyclopentenyl di (meth) acrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, Bis ((meth) acryloyloxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane (also referred to as “tricyclodecanediyldimethylene di (meth) acrylate”), tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate Di (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, caprolactone-modified tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate Ethylene oxide (hereinafter referred to as “EO”) modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide (hereinafter referred to as “PO”) modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, Neopentyl glycol di (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether end (meth) acrylic acid adduct, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, penta Erythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, polyester di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acryl Rate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate , EO modified bisphenol A di (meth) acrylate, PO modified bisphenol A di (meth) acrylate, EO modified hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, PO modified hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, EO modified bisphenol F di In addition to (meth) acrylate, (meth) acrylate of phenol novolac polyglycidyl ether, etc., the compound represented by the following formula (14) can be exemplified. That.

Figure 2008019402

[式(14)中、「Acryl」は、アクリロイル基を示す。]
Figure 2008019402

[In the formula (14), “Acryl” represents an acryloyl group. ]

これらの多官能性モノマーの市販品としては、例えば、SA1002(以上、三菱化学(株)製)、ビスコート195、ビスコート230、ビスコート260、ビスコート215、ビスコート310、ビスコート214HP、ビスコート295、ビスコート300、ビスコート360、ビスコートGPT、ビスコート400、ビスコート700、ビスコート540、ビスコート3000、ビスコート3700(以上、大阪有機化学工業(株)製)、カヤラッドR−526、HDDA、NPGDA、TPGDA、MANDA、R−551、R−712、R−604、R−684、PET−30、GPO−303、TMPTA、THE−330、DPHA、DPHA−2H、DPHA−2C、DPHA−2I、D−310、D−330、DPCA−20、DPCA−30、DPCA−60、DPCA−120、DN−0075、DN−2475、T−1420、T−2020、T−2040、TPA−320、TPA−330、RP−1040、RP−2040、R−011、R−300、R−205(以上、日本化薬(株)製)、アロニックスM−210、M−220、M−233、M−240、M−215、M−305、M−309、M−310、M−315、M−325、M−400、M−6200、M−6400(以上、東亞合成(株)製)、ライトアクリレートBP−4EA、BP−4PA、BP−2EA、BP−2PA、DCP−A(以上、共栄社化学(株)製)、ニューフロンティアBPE−4、BR−42M、GX−8345(以上、第一工業製薬(株)製)、ASF−400(以上、新日鐵化学(株)製)、リポキシSP−1506、SP−1507、SP−1509、VR−77、SP−4010、SP−4060(以上、昭和高分子(株)製)、NKエステルA−BPE−4(以上、新中村化学工業(株)製)等を挙げることができる。   Examples of commercially available products of these multifunctional monomers include SA1002 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), biscoat 195, biscoat 230, biscoat 260, biscoat 215, biscoat 310, biscoat 214HP, biscoat 295, biscoat 300, Biscoat 360, Biscoat GPT, Biscoat 400, Biscoat 700, Biscoat 540, Biscoat 3000, Biscoat 3700 (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), Kayarad R-526, HDDA, NPGDA, TPGDA, MANDA, R-551, R-712, R-604, R-684, PET-30, GPO-303, TMPTA, THE-330, DPHA, DPHA-2H, DPHA-2C, DPHA-2I, D-310, D-330, DPCA 20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, DN-0075, DN-2475, T-1420, T-2020, T-2040, TPA-320, TPA-330, RP-1040, RP-2040, R-011, R-300, R-205 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Aronix M-210, M-220, M-233, M-240, M-215, M-305, M- 309, M-310, M-315, M-325, M-400, M-6200, M-6400 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), light acrylate BP-4EA, BP-4PA, BP-2EA, BP-2PA, DCP-A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), New Frontier BPE-4, BR-42M, GX-8345 (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), ASF 400 (above, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), Lipoxy SP-1506, SP-1507, SP-1509, VR-77, SP-4010, SP-4060 (above, Showa Polymer Co., Ltd.), NK ester A-BPE-4 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.).

尚、本発明の組成物には、これらのうち、分子内に少なくとも2個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する化合物を含有することが好ましい。さらに好ましくは、分子内に少なくとも3個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する化合物が特に好ましい。かかる3個以上の化合物としては、上記に例示されたトリ(メタ)アクリレート化合物、テトラ(メタ)アクリレート化合物、ペンタ(メタ)アクリレート化合物、ヘキサ(メタ)アクリレート化合物等の中から選択することができ、これらのうち、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレートが特に好ましい。上記の化合物は、各々1種単独で又は2種以上組み合わせを用いることができる。   Of these, the composition of the present invention preferably contains a compound containing at least two (meth) acryloyl groups in the molecule. More preferably, a compound containing at least 3 (meth) acryloyl groups in the molecule is particularly preferable. The three or more compounds can be selected from the tri (meth) acrylate compounds exemplified above, tetra (meth) acrylate compounds, penta (meth) acrylate compounds, hexa (meth) acrylate compounds, and the like. Of these, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) Acrylate is particularly preferred. Each of the above compounds may be used alone or in combination of two or more.

また、(メタ)アクリレート化合物はフッ素を含んでいてもよい。このような化合物の例として、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、下記一般式(15)で表される多官能(メタ)アクリレート化合物等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。フッ素を含む(メタ)アクリレート化合物は、硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物及びそれを用いた反射防止膜の反射率低減と耐擦傷性を高めるために用いられる。   Further, the (meth) acrylate compound may contain fluorine. Examples of such compounds include perfluorooctylethyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, and polyfunctional (meth) acrylate compounds represented by the following general formula (15) Or a combination of two or more. The (meth) acrylate compound containing fluorine is used for reducing the reflectance and improving the scratch resistance of a cured product obtained by curing a curable resin composition and an antireflection film using the cured product.

Figure 2008019402
一般式(15)で表される化合物の市販品としては、共栄社化学株式会社製LINC−3A(一般式(15)で表される化合物の含有量:65重量%、ペンタエリスリトールテトラアクリレート:35重量%)が挙げられる。
Figure 2008019402
As a commercial item of the compound represented by the general formula (15), Kyoeisha Chemical Co., Ltd. LINC-3A (content of the compound represented by the general formula (15): 65 wt%, pentaerythritol tetraacrylate: 35 wt% %).

(メタ)アクリレート化合物の添加量については、特に制限されるものではないが、有機溶剤以外の組成物全量に対して通常1〜88重量%である。この理由は、添加量が1重量%未満となると、放射線硬化性樹脂組成物の硬化塗膜の耐擦傷性が得られない場合があるためであり、一方、添加量が88重量%を超えると、放射線硬化性樹脂組成物の硬化塗膜の屈折率が高くなり、十分な反射防止効果が得られない場合があるためである。
また、このような理由から、(C)成分の添加量を1〜60重量%とするのがより好ましく、1〜40重量%の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
The addition amount of the (meth) acrylate compound is not particularly limited, but is usually 1 to 88% by weight with respect to the total amount of the composition other than the organic solvent. The reason for this is that if the addition amount is less than 1% by weight, the scratch resistance of the cured coating film of the radiation curable resin composition may not be obtained, whereas if the addition amount exceeds 88% by weight. This is because the refractive index of the cured coating film of the radiation curable resin composition becomes high and a sufficient antireflection effect may not be obtained.
For this reason, the amount of component (C) added is more preferably 1 to 60% by weight, and even more preferably 1 to 40% by weight.

(D)シリカを主成分とする数平均粒子径1〜100nmの粒子
本発明の硬化性樹脂組成物には、本発明の硬化性樹脂組成物を硬化させて得られる硬化膜の耐擦傷性、特にスチールウール耐性を改善するためにシリカを主成分とする数平均粒子径1〜100nmの粒子(D)を配合することができる。数平均粒子径は、透過型電子顕微鏡により測定する。(D)成分の数平均粒子径は、5〜80nmが好ましく、10〜60nmがさらに好ましい。
これらシリカを主成分とする粒子としては、公知のものを使用することができ、また、その形状も特に限定されない。球状であれば通常のコロイダルシリカに限らず中空粒子、多孔質粒子、コア・シェル型粒子等であっても構わない。また、球状に限らず、不定形の粒子であってもよい。固形分が10〜40重量%のコロイダルシリカが好ましい。
(D) Particles having a number average particle diameter of 1 to 100 nm mainly composed of silica. In the curable resin composition of the present invention, the scratch resistance of a cured film obtained by curing the curable resin composition of the present invention, In particular, in order to improve steel wool resistance, particles (D) having a number average particle diameter of 1 to 100 nm mainly composed of silica can be blended. The number average particle diameter is measured with a transmission electron microscope. The number average particle diameter of the component (D) is preferably 5 to 80 nm, and more preferably 10 to 60 nm.
As these particles containing silica as a main component, known particles can be used, and the shape is not particularly limited. As long as it is spherical, it is not limited to ordinary colloidal silica, and may be hollow particles, porous particles, core-shell type particles, or the like. Moreover, it is not limited to a spherical shape, and may be an irregularly shaped particle. Colloidal silica having a solid content of 10 to 40% by weight is preferred.

また、分散媒は、水あるいは有機溶媒が好ましい。有機溶媒としては、メタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、ブタノール、エチレングリコールモノプロピルエーテル等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類;酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトン等のエステル類;テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエ−テル類等の有機溶剤を挙げることができ、これらの中で、アルコール類及びケトン類が好ましい。これら有機溶剤は、単独で、又は2種以上混合して分散媒として使用することができる。
シリカを主成分とする粒子の市販品としては、例えば、コロイダルシリカとして、日産化学工業(株)製 商品名:メタノールシリカゾル、IPA−ST、MEK−ST、MEK−ST−S、MEK−ST−L、IPA−ZL、NBA−ST、XBA−ST、DMAC−ST、ST−UP、ST−OUP、ST−20、ST−40、ST−C、ST−N、ST−O、ST−50、ST−OL等を挙げることができる。
The dispersion medium is preferably water or an organic solvent. Examples of organic solvents include alcohols such as methanol, isopropyl alcohol, ethylene glycol, butanol and ethylene glycol monopropyl ether; ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; dimethylformamide and dimethyl Examples include amides such as acetamide and N-methylpyrrolidone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate and γ-butyrolactone; and organic solvents such as ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane. Of these, alcohols and ketones are preferred. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more as a dispersion medium.
As a commercial item of the particle | grains which have a silica as a main component, as a colloidal silica, for example, Nissan Chemical Industries Ltd. brand name: Methanol silica sol, IPA-ST, MEK-ST, MEK-ST-S, MEK-ST- L, IPA-ZL, NBA-ST, XBA-ST, DMAC-ST, ST-UP, ST-OUP, ST-20, ST-40, ST-C, ST-N, ST-O, ST-50, ST-OL etc. can be mentioned.

また、コロイダルシリカ表面に化学修飾等の表面処理を行ったものを使用することができ、例えば分子中に1以上のアルキル基を有する加水分解性ケイ素化合物又はその加水分解物を含有するもの等を反応させることができる。このような加水分解性ケイ素化合物としては、トリメチルメトキシシラン、トリブチルメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジブチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、1,1,1―トリメトキシ−2,2,2−トリメチル−ジシラン、ヘキサメチル−1,3−ジシロキサン、1,1,1―トリメトキシ−3,3,3−トリメチル−1,3−ジシロキサン、α−トリメチルシリル−ω−ジメチルメトキシシリル−ポリジメチルシロキサン、α−トリメチルシリル−ω−トリメトキシシリル−ポリジメチルシロキサンヘキサメチル−1,3−ジシラザン等を挙げることができる。また、分子中に1以上の反応性基を有する加水分解性ケイ素化合物を使用することもできる。分子中に1以上の反応性基を有する加水分解性ケイ素化合物は、例えば反応性基としてNH2基を有するものとして、尿素プロピルトリメトキシシラン、N―(2−アミノエチル)―3―アミノプロピルトリメトキシシラン等、OH基を有するものとして、ビス(2−ヒドロキシエチル)―3アミノトリプロピルメトキシシラン等、イソシアネート基を有するものとして3−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン等、チオシアネート基を有するものとして3−チオシアネートプロピルトリメトキシシラン等、エポキシ基を有するものとして(3−グリシドキシプロピル)トリメトキシシラン、2−(3,4―エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等、チオール基を有するものとして、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。好ましい化合物として、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランを挙げることができる。   Moreover, what carried out surface treatments, such as chemical modification, on the colloidal silica surface can be used, for example, a hydrolyzable silicon compound having one or more alkyl groups in the molecule or one containing a hydrolyzate thereof. Can be reacted. Such hydrolyzable silicon compounds include trimethylmethoxysilane, tributylmethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dibutyldimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, butyltrimethoxysilane, octyltrimethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, 1,1. , 1-trimethoxy-2,2,2-trimethyl-disilane, hexamethyl-1,3-disiloxane, 1,1,1-trimethoxy-3,3,3-trimethyl-1,3-disiloxane, α-trimethylsilyl -Ω-dimethylmethoxysilyl-polydimethylsiloxane, α-trimethylsilyl-ω-trimethoxysilyl-polydimethylsiloxane hexamethyl-1,3-disilazane, and the like. A hydrolyzable silicon compound having one or more reactive groups in the molecule can also be used. Hydrolyzable silicon compounds having one or more reactive groups in the molecule are, for example, those having NH2 groups as reactive groups, such as urea propyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltri Methoxysilane and the like having an OH group, bis (2-hydroxyethyl) -3aminotripropylmethoxysilane and the like having an isocyanate group, 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane and the like having a thiocyanate group 3- As those having an thiol group, such as (3-glycidoxypropyl) trimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, etc. having an epoxy group such as thiocyanate propyltrimethoxysilane, Mercaptopropyltrimethoxy Silane, and the like can be given. A preferred compound is 3-mercaptopropyltrimethoxysilane.

また、シリカを主成分とする粒子(D)は、重合性不飽和基を含む有機化合物によって表面処理がなされたものであることが好ましい。かかる表面処理により、UV硬化系アクリルモノマーと共架橋化することができ、耐擦傷性が向上する。   Moreover, it is preferable that the particle | grains (D) which have a silica as a main component are surface-treated by the organic compound containing a polymerizable unsaturated group. Such surface treatment enables co-crosslinking with the UV curable acrylic monomer and improves the scratch resistance.

シリカを主成分とする粒子(D)の樹脂組成物中における配合量は、表面処理の有無を問わず、有機溶剤以外の組成物全量に対して通常1〜40重量%配合され、1〜30重量%が好ましく、1〜10重量%がさらに好ましい。尚、粒子の量は、固形分を意味し、粒子が溶剤分散ゾルの形態で用いられるときは、その配合量には溶剤の量を含まない。   The amount of the silica-based particles (D) in the resin composition is usually 1 to 40% by weight based on the total amount of the composition other than the organic solvent, regardless of whether or not the surface treatment is performed. % By weight is preferred, and 1 to 10% by weight is more preferred. The amount of particles means solid content, and when the particles are used in the form of a solvent-dispersed sol, the amount of the solvent does not include the amount of solvent.

(E)放射線の照射又は熱により活性種を発生する化合物
放射線の照射又は熱により活性種を発生する化合物は、硬化性樹脂組成物を硬化させるために用いられる。
(E) Compound that generates active species by irradiation or heat of radiation A compound that generates active species by irradiation or heat of radiation is used to cure the curable resin composition.

(1)放射線の照射により活性種を発生する化合物
放射線の照射により活性種を発生する化合物(以下「光重合開始剤」という。)としては、活性種として、ラジカルを発生する光ラジカル発生剤等が挙げられる。尚、放射線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。このような放射線としては、可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線等の光エネルギー線が挙げられる。ただし、一定のエネルギーレベルを有し、硬化速度が速く、しかも照射装置が比較的安価で、小型な観点から、紫外線を使用することが好ましい。
(1) Compound that generates active species upon irradiation with radiation As a compound that generates active species upon irradiation with radiation (hereinafter referred to as “photopolymerization initiator”), a photo radical generator that generates radicals as active species, etc. Is mentioned. Radiation is defined as energy rays that can decompose active compounds to generate active species. Examples of such radiation include optical energy rays such as visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, α rays, β rays, and γ rays. However, it is preferable to use ultraviolet rays from the viewpoint of having a certain energy level, a high curing speed, and a relatively inexpensive irradiation apparatus, and a small size.

光ラジカル発生剤の例としては、例えばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、アントラキノン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、カルバゾール、キサントン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、1,1−ジメトキシデオキシベンゾイン、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、チオキサントン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、トリフェニルアミン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、フルオレノン、フルオレン、ベンズアルデヒド、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、3−メチルアセトフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(tert−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン(BTTB)、2−(ジメチルアミノ)−1−〔4−(モルフォリニル)フェニル〕−2−フェニルメチル)−1−ブタノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、ベンジル、又はBTTBとキサンテン、チオキサンテン、クマリン、ケトクマリン、式(16)で示される化合物、その他の色素増感剤との組み合わせ等を挙げることができる。   Examples of the photo radical generator include acetophenone, acetophenone benzyl ketal, anthraquinone, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, carbazole, xanthone, 4-chlorobenzophenone, 4 , 4′-diaminobenzophenone, 1,1-dimethoxydeoxybenzoin, 3,3′-dimethyl-4-methoxybenzophenone, thioxanthone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1- (4-dodecylphenyl) -2 -Hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, triphenylamine, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenyl Phosphine oxide, 1-H Roxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, fluorenone, fluorene, benzaldehyde, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzophenone, Michler ketone, 3-methylacetophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone (BTTB), 2- (dimethylamino) -1- [4- (morpholinyl) phenyl] -2-phenylmethyl) -1-butanone, 4-benzoyl -4′-methyldiphenyl sulfide, benzyl, or a combination of BTTB and xanthene, thioxanthene, coumarin, ketocoumarin, a compound represented by formula (16), and other dye sensitizers.

Figure 2008019402
Figure 2008019402

これらの光重合開始剤のうち、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−(ジメチルアミノ)−1−〔4−(モルフォリニル)フェニル〕−2−フェニルメチル)−1−ブタノン、式(16)で示される化合物等が好ましく、さらに好ましくは、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−(ジメチルアミノ)−1−〔4−(モルフォリニル)フェニル〕−2−フェニルメチル)−1−ブタノン、式(16)で示される化合物等を挙げることができる。
式(16)で示される光重合開始剤は、チバ・スペシャリティーケミカルズ製Irgacure127である。この開始剤は単独で用いた場合でも、又は他の重合開始剤と併用した場合でも、0.2J/cm以下の低照射光量で、本発明の組成物を硬化させてなる硬化物に優れた耐擦傷性を発現させることができる。
Among these photopolymerization initiators, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,4,6- Trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2- (dimethylamino) -1- [4- (morpholinyl) phenyl] -2 -Phenylmethyl) -1-butanone, a compound represented by the formula (16), and the like are preferable, and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholine are more preferable. Linopropan-1-one, 2- (dimethylamino) -1- [4- (morpholinyl) Eniru] -2-phenyl-methyl) -1-butanone, can be exemplified compounds represented by the formula (16).
The photopolymerization initiator represented by the formula (16) is Irgacure 127 manufactured by Ciba Specialty Chemicals. Even when this initiator is used alone or in combination with another polymerization initiator, it is excellent in a cured product obtained by curing the composition of the present invention with a low irradiation light amount of 0.2 J / cm 2 or less. High scratch resistance can be exhibited.

光重合開始剤の添加量は特に制限されるものではないが、有機溶剤以外の組成物全量に対して0.1〜10重量%とするのが好ましい。この理由は、添加量が0.1重量%未満となると、硬化反応が不十分となり耐擦傷性、アルカリ水溶液浸漬後の耐擦傷性が低下する場合があるためである。一方、光重合開始剤の添加量が10重量%を超えると、硬化膜の屈折率が増加し反射防止効果が低下する場合があるためである。 また、このような理由から、光重合開始剤の添加量を、有機溶剤以外の組成物全量に対して1〜5重量%とすることがより好ましい。   The addition amount of the photopolymerization initiator is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 10% by weight based on the total amount of the composition other than the organic solvent. This is because when the amount added is less than 0.1% by weight, the curing reaction becomes insufficient, and the scratch resistance and the scratch resistance after immersion in an alkaline aqueous solution may be lowered. On the other hand, when the addition amount of the photopolymerization initiator exceeds 10% by weight, the refractive index of the cured film increases and the antireflection effect may be lowered. For this reason, the amount of photopolymerization initiator added is more preferably 1 to 5% by weight based on the total amount of the composition other than the organic solvent.

(2)熱により活性種を発生する化合物
熱により活性種を発生する化合物(以下「熱重合開始剤」という。)としては、活性種として、ラジカルを発生する熱ラジカル発生剤等が挙げられる。
(2) Compound that generates active species by heat Examples of the compound that generates active species by heat (hereinafter referred to as “thermal polymerization initiator”) include a thermal radical generator that generates radicals as the active species.

熱ラジカル発生剤の例としては、ベンゾイルパーオキサイド、tert−ブチル−オキシベンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル、アセチルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、tert−ブチルパーアセテート、クミルパーオキサイド、tert−ブチルパーオキサイド、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)等の一種単独又は二種以上の組み合わせを挙げることができる。   Examples of thermal radical generators include benzoyl peroxide, tert-butyl-oxybenzoate, azobisisobutyronitrile, acetyl peroxide, lauryl peroxide, tert-butyl peracetate, cumyl peroxide, tert-butyl peroxide , Tert-butyl hydroperoxide, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), etc. The combination of the above can be mentioned.

熱重合開始剤の添加量についても特に制限されるものではないが、有機溶剤以外の組成物全量に対して0.1〜10重量%とするのが好ましい。この理由は、添加量が0.1重量%未満となると、硬化反応が不十分となり耐擦傷性、アルカリ水溶液浸漬後の耐擦傷性が低下する場合があるためである。一方、光重合開始剤の添加量が10重量%を超えると、硬化膜の屈折率が増加し反射防止効果が低下する場合があるためである。また、このような理由から、有機溶剤以外の組成物全量に対して熱重合開始剤の添加量を1〜5重量%とするのがより好ましい。   The addition amount of the thermal polymerization initiator is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 10% by weight based on the total amount of the composition other than the organic solvent. This is because when the amount added is less than 0.1% by weight, the curing reaction becomes insufficient, and the scratch resistance and the scratch resistance after immersion in an alkaline aqueous solution may be lowered. On the other hand, when the addition amount of the photopolymerization initiator exceeds 10% by weight, the refractive index of the cured film increases and the antireflection effect may be lowered. For this reason, it is more preferable to add 1 to 5% by weight of the thermal polymerization initiator based on the total amount of the composition other than the organic solvent.

(F)有機溶媒
硬化性樹脂組成物には、さらに有機溶媒を添加することが好ましい。このように有機溶媒を添加することにより、薄膜である反射防止膜の低屈折率層を均一に形成することができ、ひいては反射防止膜の厚さも均一に形成することができる。このような有機溶媒としては、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、t−ブタノール、イソプロパノール等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
(F) Organic solvent It is preferable to add an organic solvent to the curable resin composition. Thus, by adding an organic solvent, the low-refractive-index layer of the antireflection film which is a thin film can be formed uniformly, and as a result, the thickness of the antireflection film can also be formed uniformly. Examples of such an organic solvent include one kind or a combination of two or more kinds such as methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, t-butanol, and isopropanol.

有機溶媒の添加量についても特に制限されるものではないが、エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体100重量部に対し、100〜100,000重量部とするのが好ましい。この理由は、添加量が100重量部未満となると、硬化性樹脂組成物の粘度調整が困難となる場合があるためであり、一方、添加量が100,000重量部を超えると、硬化性樹脂組成物の保存安定性が低下したり、あるいは粘度が低下しすぎて取り扱いが困難となる場合があるためである。   The addition amount of the organic solvent is not particularly limited, but is preferably 100 to 100,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer. This is because when the addition amount is less than 100 parts by weight, it may be difficult to adjust the viscosity of the curable resin composition. On the other hand, when the addition amount exceeds 100,000 parts by weight, the curable resin may be difficult to adjust. This is because the storage stability of the composition may decrease, or the viscosity may decrease excessively, making handling difficult.

(G)添加剤
硬化性樹脂組成物には、本発明の目的や効果を損なわない範囲において、光増感剤、重合禁止剤、重合開始助剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、(D)成分以外の無機充填剤若しくは顔料、染料等の添加剤をさらに含有させることも好ましい。
(G) Additive The curable resin composition has a photosensitizer, a polymerization inhibitor, a polymerization initiator, an ultraviolet absorber, an antioxidant, and an antistatic agent as long as the objects and effects of the present invention are not impaired. It is also preferable to further contain additives such as inorganic fillers or pigments and dyes other than the component (D).

2.反射防止膜
本発明の反射防止膜は、上記硬化性樹脂組成物を硬化させた硬化膜からなる低屈折率層を含む。さらに、本発明の反射防止膜は、低屈折率層の下に、高屈折率層、ハードコート層及び/又は基材等を含むことができる。
図1に、かかる反射防止膜10を示す。図1に示すように、基材12の上に、ハードコート層14、高屈折率層16及び低屈折率層18が積層されている。このとき、基材12の上に、ハードコート層14を設けずに、直接、高屈折率層16を形成してもよい。また、高屈折率層16と低屈折率層18の間、又は高屈折率層16とハードコート層14の間に、さらに、中屈折率層(図示せず。)を設けてもよい。
2. Antireflective film The antireflective film of this invention contains the low refractive index layer which consists of a cured film which hardened | cured the said curable resin composition. Furthermore, the antireflection film of the present invention can contain a high refractive index layer, a hard coat layer, and / or a substrate under the low refractive index layer.
FIG. 1 shows such an antireflection film 10. As shown in FIG. 1, a hard coat layer 14, a high refractive index layer 16, and a low refractive index layer 18 are laminated on a substrate 12. At this time, the high refractive index layer 16 may be formed directly on the substrate 12 without providing the hard coat layer 14. Further, an intermediate refractive index layer (not shown) may be further provided between the high refractive index layer 16 and the low refractive index layer 18 or between the high refractive index layer 16 and the hard coat layer 14.

(1)低屈折率層
低屈折率層は、本発明の硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化膜から構成される。硬化性樹脂組成物の構成等については、上述の通りであるため、ここでの具体的な説明は省略するものとし、以下、低屈折率層の屈折率及び厚さについて説明する。
(1) Low refractive index layer A low refractive index layer is comprised from the cured film obtained by hardening | curing the curable resin composition of this invention. Since the configuration and the like of the curable resin composition are as described above, a specific description thereof will be omitted, and the refractive index and thickness of the low refractive index layer will be described below.

硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化膜の屈折率(Na−D線の屈折率、測定温度25℃)、即ち、低屈折率膜の屈折率を1.47以下とすることが好ましい。この理由は、低屈折率膜の屈折率が1.47を超えると、高屈折率膜と組み合わせた場合に、反射防止効果が著しく低下する場合があるためである。さらに、低屈折率膜の屈折率を1.46以下とするのがより好ましい。
尚、低屈折率膜を複数層設ける場合には、そのうちの少なくとも一層が上述した範囲内の屈折率の値を有していればよく、従って、その他の低屈折率膜は1.47を超えた値であってもよい。
The refractive index of the cured film obtained by curing the curable resin composition (the refractive index of Na-D line, measurement temperature 25 ° C.), that is, the refractive index of the low refractive index film is preferably 1.47 or less. . This is because when the refractive index of the low refractive index film exceeds 1.47, the antireflection effect may be significantly reduced when combined with the high refractive index film. Further, the refractive index of the low refractive index film is more preferably 1.46 or less.
When a plurality of low refractive index films are provided, at least one of the low refractive index films only needs to have a refractive index value within the above-described range. Therefore, the other low refractive index films exceed 1.47. It may be a value.

また、低屈折率層を設ける場合、より優れた反射防止効果が得られることから、高屈折率層との間の屈折率差を0.05以上の値とするのが好ましい。この理由は、低屈折率層と、高屈折率層との間の屈折率差が0.05未満の値となると、これらの反射防止膜層での相乗効果が得られず、却って反射防止効果が低下する場合があるためである。
従って、低屈折率層と、高屈折率層との間の屈折率差を0.1〜0.5の範囲内の値とするのがより好ましく、0.15〜0.5の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
Moreover, when providing a low refractive index layer, since the more excellent antireflection effect is acquired, it is preferable to make the refractive index difference between high refractive index layers into 0.05 or more values. The reason for this is that when the refractive index difference between the low refractive index layer and the high refractive index layer is less than 0.05, a synergistic effect in these antireflective film layers cannot be obtained. This is because there is a case in which the lowering may occur.
Therefore, it is more preferable to set the refractive index difference between the low refractive index layer and the high refractive index layer to a value within the range of 0.1 to 0.5, and within the range of 0.15 to 0.5. More preferably, it is a value.

低屈折率層の厚さについても特に制限されるものではないが、例えば、50〜300nmであることが好ましい。この理由は、低屈折率層の厚さが50nm未満となると、下地としての高屈折率膜に対する密着力が低下する場合があるためであり、一方、厚さが300nmを超えると、光干渉が生じて反射防止効果が低下する場合があるためである。
従って、低屈折率層の厚さを50〜250nmとするのがより好ましく、60〜200nmとするのがさらに好ましい。尚、より高い反射防止性を得るために、低屈折率層を複数層設けて多層構造とする場合には、その合計した厚さを50〜300nmとすればよい。
The thickness of the low refractive index layer is not particularly limited, but is preferably 50 to 300 nm, for example. The reason for this is that when the thickness of the low refractive index layer is less than 50 nm, the adhesion to the high refractive index film as the base may be reduced. On the other hand, when the thickness exceeds 300 nm, optical interference occurs. This is because the antireflection effect may be reduced.
Therefore, the thickness of the low refractive index layer is more preferably 50 to 250 nm, and further preferably 60 to 200 nm. In order to obtain higher antireflection properties, when a plurality of low refractive index layers are provided to form a multilayer structure, the total thickness may be set to 50 to 300 nm.

(2)高屈折率層
高屈折率層を形成するための硬化性組成物としては、特に制限されるものでないが、被膜形成成分として、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、メラミン系樹脂、アルキド系樹脂、シアネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、シロキサン樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせを含むことが好ましい。これらの樹脂であれば、高屈折率層として、強固な薄膜を形成することができ、結果として、反射防止膜の耐擦傷性を著しく向上させることができるためである。
しかしながら、通常、これらの樹脂単独での屈折率は1.45〜1.62であり、高い反射防止性能を得るには十分で無い場合がある。そのため、高屈折率の無機粒子、例えば金属酸化物粒子を配合することがより好ましい。また、硬化形態としては、熱硬化、紫外線硬化、電子線硬化できる硬化性組成物を用いることができるが、より好適には生産性の良好な紫外線硬化性組成物が用いられる。
(2) High refractive index layer Although it does not restrict | limit especially as a curable composition for forming a high refractive index layer, As a film formation component, epoxy-type resin, phenol-type resin, melamine-type resin, It is preferable to include one kind or a combination of two or more kinds of alkyd resins, cyanate resins, acrylic resins, polyester resins, urethane resins, siloxane resins and the like. If these resins are used, a strong thin film can be formed as the high refractive index layer, and as a result, the scratch resistance of the antireflection film can be remarkably improved.
However, the refractive index of these resins alone is usually 1.45 to 1.62, which may not be sufficient to obtain high antireflection performance. Therefore, it is more preferable to blend high refractive index inorganic particles, for example, metal oxide particles. Moreover, as a hardening form, although the curable composition which can be thermosetting, ultraviolet curing, and electron beam curing can be used, the ultraviolet curable composition with favorable productivity is used more suitably.

高屈折率層の厚さは特に制限されるものではないが、例えば、50〜30,000nmであることが好ましい。この理由は、高屈折率層の厚さが50nm未満となると、低屈折率層と組み合わせた場合に、反射防止効果や基材に対する密着力が低下する場合があるためであり、一方、厚さが30,000nmを超えると、光干渉が生じて逆に反射防止効果が低下する場合があるためである。
従って、高屈折率層の厚さを50〜1,000nmとするのがより好ましく、60〜500nmとするのがさらに好ましい。また、より高い反射防止性を得るために、高屈折率層を複数層設けて多層構造とする場合には、その合計した厚さを50〜30,000nmとすればよい。
尚、高屈折率層と基材との間にハードコート層を設ける場合には、高屈折率層の厚さを50〜300nmとすることができる。
The thickness of the high refractive index layer is not particularly limited, but is preferably 50 to 30,000 nm, for example. The reason for this is that when the thickness of the high refractive index layer is less than 50 nm, the antireflection effect and adhesion to the substrate may be reduced when combined with the low refractive index layer, while the thickness is If the thickness exceeds 30,000 nm, optical interference may occur, and the antireflection effect may be reduced.
Therefore, the thickness of the high refractive index layer is more preferably 50 to 1,000 nm, and further preferably 60 to 500 nm. Further, in order to obtain higher antireflection properties, when a plurality of high refractive index layers are provided to form a multilayer structure, the total thickness may be set to 50 to 30,000 nm.
In addition, when providing a hard-coat layer between a high refractive index layer and a base material, the thickness of a high refractive index layer can be 50-300 nm.

(3)ハードコート層
本発明の反射防止膜に用いるハードコート層の構成材料については特に制限されるものでない。このような材料としては、シロキサン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせを挙げることができる。
(3) Hard coat layer The constituent material of the hard coat layer used in the antireflection film of the present invention is not particularly limited. Examples of such a material include one kind of siloxane resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy resin, or a combination of two or more kinds.

また、ハードコート層の厚さについても特に制限されるものではないが、1〜50μmとするのが好ましく、5〜10μmとするのがより好ましい。この理由は、ハードコート層の厚さが1μm未満となると、反射防止膜の基材に対する密着力を向上させることができない場合があるためであり、一方、厚さが50μmを超えると、均一に形成するのが困難となる場合があるためである。   Moreover, although it does not restrict | limit especially also about the thickness of a hard-coat layer, it is preferable to set it as 1-50 micrometers, and it is more preferable to set it as 5-10 micrometers. The reason for this is that when the thickness of the hard coat layer is less than 1 μm, the adhesion of the antireflection film to the substrate may not be improved. On the other hand, when the thickness exceeds 50 μm, it is uniform. This is because it may be difficult to form.

(4)基材
本発明の反射防止膜に用いる基材の種類は特に制限されるものではないが、例えば、ガラス、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、トリアセチルセルロース樹脂(TAC)等からなる基材を挙げることができる。これらの基材を含む反射防止膜とすることにより、カメラのレンズ部、テレビ(CRT)の画面表示部、あるいは液晶表示装置におけるカラーフィルター等の広範な反射防止膜の利用分野において、優れた反射防止効果を得ることができる。
(4) Substrate The type of the substrate used for the antireflection film of the present invention is not particularly limited. For example, glass, polycarbonate resin, polyester resin, acrylic resin, triacetyl cellulose resin (TAC) The base material which consists of etc. can be mentioned. By using an antireflection film containing these base materials, excellent reflection can be achieved in a wide range of application areas of antireflection films such as camera lens parts, television (CRT) screen display parts, and color filters in liquid crystal display devices. The prevention effect can be obtained.

以下、本発明の実施例を詳細に説明するが、本発明の範囲はこれら実施例の記載に限定されるものではない。   Examples of the present invention will be described in detail below, but the scope of the present invention is not limited to the description of these examples.

(エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体A(メタアクリル変性フッ素重合体)の合成)
まず、水酸基含有含フッ素重合体の合成を行った。内容積2.0リットルの電磁攪拌機付きステンレス製オートクレーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル400g、パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)53.2g、エチルビニルエーテル36.1g、ヒドロキシエチルビニルエーテル44.0g、過酸化ラウロイル1.00g、上記式(7)で表されるアゾ基含有ポリジメチルシロキサン(VPS1001(商品名)、和光純薬工業(株)製)6.0g及びノニオン性反応性乳化剤(NE−30(商品名)、旭電化工業(株)製)20.0gを仕込み、ドライアイス−メタノールで−50℃まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。
(Synthesis of ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer A (methacryl-modified fluoropolymer))
First, a hydroxyl group-containing fluoropolymer was synthesized. A 2.0-liter stainless steel autoclave with a magnetic stirrer was sufficiently replaced with nitrogen gas, and then 400 g of ethyl acetate, 53.2 g of perfluoro (propyl vinyl ether), 36.1 g of ethyl vinyl ether, 44.0 g of hydroxyethyl vinyl ether, Lauroyl oxide 1.00 g, azo group-containing polydimethylsiloxane represented by the above formula (7) (VPS1001 (trade name), manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 6.0 g and nonionic reactive emulsifier (NE-30) 20.0 g (trade name) manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. was charged, cooled to −50 ° C. with dry ice-methanol, and then oxygen in the system was removed again with nitrogen gas.

次いでヘキサフルオロプロピレン120.0gを仕込み、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が60℃に達した時点での圧力は5.3×105Paを示した。その後、70℃で20時間攪拌下に反応を継続し、圧力が1.7×105Paに低下した時点でオートクレーブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放出してオートクレーブを開放し、固形分濃度26.4%のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液をメタノールに投入しポリマーを析出させた後、メタノールにて洗浄し、50℃にて真空乾燥を行い220gの水酸基含有含フッ素重合体を得た。これを水酸基含有含フッ素重合体とする。使用した単量体と溶剤を表1に示す。 Next, 120.0 g of hexafluoropropylene was charged, and the temperature increase was started. The pressure when the temperature in the autoclave reached 60 ° C. was 5.3 × 10 5 Pa. Thereafter, the reaction was continued with stirring at 70 ° C. for 20 hours. When the pressure dropped to 1.7 × 10 5 Pa, the autoclave was cooled with water to stop the reaction. After reaching room temperature, unreacted monomers were released and the autoclave was opened to obtain a polymer solution having a solid content concentration of 26.4%. The obtained polymer solution was put into methanol to precipitate a polymer, washed with methanol, and vacuum dried at 50 ° C. to obtain 220 g of a hydroxyl group-containing fluoropolymer. This is referred to as a hydroxyl group-containing fluoropolymer. Table 1 shows the monomers and solvents used.

Figure 2008019402
Figure 2008019402

得られた水酸基含有含フッ素重合体に付き、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算数平均分子量及びアリザリンコンプレクソン法によるフッ素含量をそれぞれ測定した。また、1H−NMR、13C−NMRの両NMR分析結果、元素分析結果及びフッ素含量から、水酸基含有含フッ素重合体を構成する各単量体成分の割合を決定した。結果を表2に示す。 Attached to the obtained hydroxyl group-containing fluoropolymer, the number average molecular weight in terms of polystyrene by gel permeation chromatography and the fluorine content by the alizarin complexone method were measured. Further, 1 H-NMR, 13 C -NMR both results of NMR analysis, elemental analysis and fluorine content to determine the percentage of each monomer component constituting the hydroxyl group-containing fluoropolymer. The results are shown in Table 2.

Figure 2008019402
Figure 2008019402

尚、VPS1001は、数平均分子量が7〜9万、ポリシロキサン部分の分子量が約10,000の、上記式(7)で表されるアゾ基含有ポリジメチルシロキサンである。NE−30は、上記式(10)において、nが9、mが1、uが30であるノニオン性反応性乳化剤である。
さらに、表2において、単量体と構造単位との対応関係は以下の通りである。
単量体 構造単位
ヘキサフルオロプロピレン (a)
パーフルオロ(プロピルビニルエーテル) (a)
エチルビニルエーテル (b)
ヒドロキシエチルビニルエーテル (c)
NE−30 (f)
ポリジメチルシロキサン骨格 (d)
VPS1001 is an azo group-containing polydimethylsiloxane represented by the above formula (7) having a number average molecular weight of 70 to 90,000 and a polysiloxane moiety having a molecular weight of about 10,000. NE-30 is a nonionic reactive emulsifier wherein n is 9, m is 1 and u is 30 in the above formula (10).
Furthermore, in Table 2, the correspondence between the monomer and the structural unit is as follows.
Monomer Structural unit Hexafluoropropylene (a)
Perfluoro (propyl vinyl ether) (a)
Ethyl vinyl ether (b)
Hydroxyethyl vinyl ether (c)
NE-30 (f)
Polydimethylsiloxane skeleton (d)

続いて、得られた水酸基含有含フッ素重合体を用いてエチレン性不飽和基含有フッ素重合体を合成した。電磁攪拌機、ガラス製冷却管及び温度計を備えた容量1リットルのセパラブルフラスコに、製造例1で得られた水酸基含有含フッ素重合体を50.0g、重合禁止剤として2,6−ジ−t−ブチルメチルフェノール0.01g及びメチルイソブチルケトン(MIBK)370gを仕込み、20℃で水酸基含有含フッ素重合体1がMIBKに溶解して、溶液が透明、均一になるまで攪拌を行った。
次いで、この系に、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを15.1g添加し、溶液が均一になるまで攪拌した後、ジブチルチンジラウレート0.1gを添加して反応を開始し、系の温度を55〜65℃に保持し5時間攪拌を継続することにより、エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体AのMIBK溶液を得た。
この溶液をアルミ皿に2g秤量後、150℃のホットプレート上で5分間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、15.2重量%であった。使用した化合物、溶剤及び固形分含量を表3に示す。
Subsequently, an ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer was synthesized using the obtained hydroxyl group-containing fluoropolymer. In a 1-liter separable flask equipped with a magnetic stirrer, a glass cooling tube and a thermometer, 50.0 g of the hydroxyl group-containing fluoropolymer obtained in Production Example 1 was used as a polymerization inhibitor and 2,6-di- 0.01 g of t-butylmethylphenol and 370 g of methyl isobutyl ketone (MIBK) were charged and stirred at 20 ° C. until the hydroxyl group-containing fluoropolymer 1 was dissolved in MIBK and the solution became transparent and uniform.
Next, 15.1 g of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was added to this system and stirred until the solution became homogeneous, then 0.1 g of dibutyltin dilaurate was added to start the reaction, and the temperature of the system was changed to 55 to 55. A MIBK solution of the ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer A was obtained by maintaining the temperature at 65 ° C. and continuing stirring for 5 hours.
2 g of this solution was weighed in an aluminum dish, dried on a hot plate at 150 ° C. for 5 minutes, and weighed to determine the solid content, which was 15.2% by weight. The compounds used, solvent and solid content are shown in Table 3.

Figure 2008019402
Figure 2008019402

(シリカを主成分とする粒子Bについて)
シリカを主成分とする粒子Bとしては、メチルエチルケトン中空シリカゾル(触媒化成工業(株)製、商品名:JX−1009SIV(数平均粒子径30〜40nm、シリカ濃度30%))を用いた。
(Regarding particle B containing silica as a main component)
As the particle B containing silica as a main component, methyl ethyl ketone hollow silica sol (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd., trade name: JX-1009 SIV (number average particle diameter 30 to 40 nm, silica concentration 30%)) was used.

(化合物C−1)
化合物C−1の化合物は、Rad2600:Tego社製、数平均分子量:16,000であり、下記式(17)で表される構造単位と、下記式(18)で表される構造単位を含んでなり、下記式(18)で表される構造単位を6個有する。
(Compound C-1)
The compound C-1 has a number average molecular weight of 16,000, manufactured by Rad2600: Tego, and includes a structural unit represented by the following formula (17) and a structural unit represented by the following formula (18). And has six structural units represented by the following formula (18).

Figure 2008019402
Figure 2008019402

Figure 2008019402
Figure 2008019402

(化合物C−2)
下記式(19)に示すような化合物C−2を次のように合成した。乾燥空気中、α,ω−(3−プロピルヒドロキシ)−ポリジメチルシロキサン(チッソ(株)製、商品名:サイラプレーンFM−4425、数平均分子量:10,000)を95.26部、ジブチルスズラウリレート0.08部、メチルイソブチルケトン(MIBK)100部の溶液に対し、1.1−ビス(アクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート(昭和電工製、商品名:カレンズBEI)4.74部を60℃で撹拌しながら1時間かけて滴下後、60℃で3時間加熱撹拌した。得られた化合物をC−2とする。
(Compound C-2)
Compound C-2 as shown in the following formula (19) was synthesized as follows. 95.26 parts of α, ω- (3-propylhydroxy) -polydimethylsiloxane (manufactured by Chisso Corporation, trade name: Silaplane FM-4425, number average molecular weight: 10,000) in dry air, dibutyltin lauryl For a solution of 0.08 part of the rate and 100 parts of methyl isobutyl ketone (MIBK), 4.74 parts of 1.1-bis (acryloyloxymethyl) ethyl isocyanate (manufactured by Showa Denko, trade name: Karenz BEI) at 60 ° C. After dropwise addition over 1 hour with stirring, the mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 3 hours. Let the obtained compound be C-2.

Figure 2008019402
[式(19)中、aは、化合物(C−2)の数平均分子量が10,000となる整数である。]
Figure 2008019402
[In Formula (19), a is an integer with which the number average molecular weight of a compound (C-2) will be 10,000. ]

(化合物C−3)
下記式(20)に示すような化合物C−3を次のように合成した。乾燥空気中、α−ブチル−ω−(3−プロピルヒドロキシ)−ポリジメチルシロキサン(チッソ(株)製、商品名:サイラプレーンFM−0425、数平均分子量:10,000)を69.48部、ジブチルスズラウリレート0.08部、イソホロンジイソシアネート3.54部を60℃で撹拌しながら1時間かけて滴下後、60℃で3時間加熱撹拌した。その後ペンタエリストールトリアクリレート8.15部を1時間かけて滴下後、60℃で3時間加熱攪拌した。得られた化合物をC−3とする。
(Compound C-3)
Compound C-3 as shown in the following formula (20) was synthesized as follows. In dry air, 69.48 parts α-butyl-ω- (3-propylhydroxy) -polydimethylsiloxane (manufactured by Chisso Corporation, trade name: Silaplane FM-0425, number average molecular weight: 10,000), 0.08 parts of dibutyltin laurate and 3.54 parts of isophorone diisocyanate were added dropwise over 1 hour while stirring at 60 ° C., followed by heating and stirring at 60 ° C. for 3 hours. Thereafter, 8.15 parts of pentaerythritol triacrylate was added dropwise over 1 hour, followed by stirring with heating at 60 ° C. for 3 hours. Let the obtained compound be C-3.

Figure 2008019402
[式(20)中、bは、化合物(C−3)の数平均分子量が10,000となる整数である。]
Figure 2008019402
[In Formula (20), b is an integer from which the number average molecular weight of a compound (C-3) becomes 10,000. ]

(化合物C−4)
下記式(21)に示すような化合物C−4は次のように合成した。乾燥空気中、α,ω−(3−プロピルヒドロキシ)−ポリジメチルシロキサン(チッソ(株)製、商品名:サイラプレーンFM−4425、数平均分子量:10,000)を76.62部、ジブチルスズラウリレート0.08部、イソホロンジイソシアネート7.08部を60℃で撹拌しながら1時間かけて滴下後、60℃で3時間加熱撹拌した。その後ペンタエリストールトリアクリレート16.30部を1時間かけて滴下後、60℃で3時間加熱攪拌した。得られた化合物をC−4とする。
(Compound C-4)
Compound C-4 represented by the following formula (21) was synthesized as follows. In dry air, α, ω- (3-propylhydroxy) -polydimethylsiloxane (manufactured by Chisso Corporation, trade name: Silaplane FM-4425, number average molecular weight: 10,000), 76.62 parts, dibutyltin lauri 0.08 parts of the rate and 7.08 parts of isophorone diisocyanate were added dropwise over 1 hour while stirring at 60 ° C., followed by heating and stirring at 60 ° C. for 3 hours. Thereafter, 16.30 parts of pentaerythritol triacrylate was added dropwise over 1 hour, followed by stirring with heating at 60 ° C. for 3 hours. The obtained compound is designated as C-4.

Figure 2008019402
[式(21)中、cは、化合物(C−4)の数平均分子量が10,000となる整数である。]
Figure 2008019402
[In formula (21), c is an integer with which the number average molecular weight of a compound (C-4) becomes 10,000. ]

(化合物C−5)
下記式(22)に示すような化合物C−5を次のように合成した。乾燥空気中、α−ブチル−ω−(3−プロピルヒドロキシ)−ポリジメチルシロキサン(チッソ(株)製、商品名:サイラプレーンFM−0425、数平均分子量:5,000)を69.48部、ジブチルスズラウリレート0.16部、イソホロンジイソシアネート7.08部を60℃で撹拌しながら1時間かけて滴下後、60℃で3時間加熱撹拌した。その後ペンタエリストールトリアクリレート16.30部を1時間かけて滴下後、60℃で3時間加熱攪拌した。得られた化合物をC−5とする。
(Compound C-5)
Compound C-5 as shown in the following formula (22) was synthesized as follows. In dry air, 69.48 parts α-butyl-ω- (3-propylhydroxy) -polydimethylsiloxane (manufactured by Chisso Corporation, trade name: Silaplane FM-0425, number average molecular weight: 5,000), 0.16 parts of dibutyltin laurate and 7.08 parts of isophorone diisocyanate were added dropwise with stirring at 60 ° C. over 1 hour, followed by heating and stirring at 60 ° C. for 3 hours. Thereafter, 16.30 parts of pentaerythritol triacrylate was added dropwise over 1 hour, followed by stirring with heating at 60 ° C. for 3 hours. Let the obtained compound be C-5.

Figure 2008019402
[式(22)中、dは、化合物(C−5)の数平均分子量が5,000となる整数である。]
Figure 2008019402
[In Formula (22), d is an integer from which the number average molecular weight of a compound (C-5) becomes 5,000. ]

(化合物C−6)
化合物C−6の構造式及び数平均分子量を下記に示す。式(23)で表されるアゾ基含有ポリジメチルシロキサン(4,4'−アゾビス(4−シアノ吉草酸)とα,ω−ビス(3−アミノプロピル)ポリジメチルシロキサンの重縮合物)(VPS1001:和光純薬社製、数平均分子量:60,000)
(Compound C-6)
The structural formula and number average molecular weight of Compound C-6 are shown below. Azo group-containing polydimethylsiloxane represented by formula (23) (polycondensation product of 4,4′-azobis (4-cyanovaleric acid) and α, ω-bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane) (VPS1001) : Wako Pure Chemical Industries, number average molecular weight: 60,000)

Figure 2008019402

[式(23)中、e及びfは、化合物(C−6)の数平均分子量が10,000となる整数である。]
Figure 2008019402

[In formula (23), e and f are integers with which the number average molecular weight of the compound (C-6) is 10,000. ]

(化合物C−7)
化合物C−7の化合物の構造式及び数平均分子量を下記に示す。
サイラプレーンFM−0725:チッソ社製、数平均分子量:10,000
(Compound C-7)
The structural formula and number average molecular weight of the compound of compound C-7 are shown below.
Silaplane FM-0725: manufactured by Chisso Corporation, number average molecular weight: 10,000

Figure 2008019402
[式(24)中、gは、化合物(C−7)の数平均分子量が10,000となる整数である。]
Figure 2008019402
[In Formula (24), g is an integer from which the number average molecular weight of a compound (C-7) will be 10,000. ]

(化合物C−8)
化合物C−8の化合物の構造式及び数平均分子量を下記に示す。
サイラプレーンFM−7725:チッソ社製、数平均分子量:10,000
(Compound C-8)
The structural formula and number average molecular weight of the compound C-8 are shown below.
Silaplane FM-7725: manufactured by Chisso Corporation, number average molecular weight: 10,000

Figure 2008019402

[式(25)中、hは、化合物(C−8)の数平均分子量が10,000となる整数である。]
Figure 2008019402

[In Formula (25), h is an integer with which the number average molecular weight of a compound (C-8) becomes 10,000. ]

(化合物C−9)
化合物C−9の化合物の構造式及び数平均分子量を下記に示す。
サイラプレーンFM0425:チッソ社製、数平均分子量:10,000
(Compound C-9)
The structural formula and number average molecular weight of the compound of Compound C-9 are shown below.
Silaplane FM0425: manufactured by Chisso Corporation, number average molecular weight: 10,000

Figure 2008019402
[式(26)中、iは、化合物(C−9)の数平均分子量が10,000となる整数である。]
Figure 2008019402
[In Formula (26), i is an integer with which the number average molecular weight of a compound (C-9) becomes 10,000. ]

(化合物C−10)
下記式(27)に示すような化合物C−10は次のように合成した。乾燥空気中、α−ブチル−ω−(3−プロピルヒドロキシ)−ポリジメチルシロキサン(チッソ(株)製、商品名:サイラプレーンFM−0411、数平均分子量:1,000)を69.48部、ジブチルスズラウリレート0.08部、イソホロンジイソシアネート13.18部を60℃で撹拌しながら1時間かけて滴下後、60℃で3時間加熱撹拌した。その後ペンタエリストールトリアクリレート17.34部を1時間かけて滴下後、60℃で3時間加熱攪拌した。得られた化合物をC−10とする。
(Compound C-10)
Compound C-10 represented by the following formula (27) was synthesized as follows. In dry air, 69.48 parts α-butyl-ω- (3-propylhydroxy) -polydimethylsiloxane (manufactured by Chisso Corporation, trade name: Silaplane FM-0411, number average molecular weight: 1,000), 0.08 parts of dibutyltin laurate and 13.18 parts of isophorone diisocyanate were added dropwise with stirring at 60 ° C. over 1 hour, followed by heating and stirring at 60 ° C. for 3 hours. Thereafter, 17.34 parts of pentaerythritol triacrylate was added dropwise over 1 hour, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 3 hours. Let the obtained compound be C-10.

Figure 2008019402
[式(27)中、jは化合物(C−10)の数平均分子量が1,000となる数である。]
Figure 2008019402
[In the formula (27), j is a number such that the number average molecular weight of the compound (C-10) is 1,000. ]

(化合物C−11)
化合物C−11の化合物は、Rad2100:Tego社製、数平均分子量:2,500であり、上記式(17)で表される構造単位と、上記式(18)で表される構造単位を含んでなり、上記式(18)で表される構造単位を5個有する。
(Compound C-11)
The compound of compound C-11 has a number average molecular weight of 2,500, manufactured by Rad2100: Tego, and includes a structural unit represented by the above formula (17) and a structural unit represented by the above formula (18). And has 5 structural units represented by the above formula (18).

(化合物C−12)
下記式(28)に示すような化合物C−12は次のように合成した。乾燥空気中、α−ブチル−ω−(3−プロピルヒドロキシ)−ポリジメチルシロキサン(チッソ(株)製、商品名:サイラプレーンFM−0425、数平均分子量:10,000)を95.26部、ジブチルスズラウリレート0.08部、メチルイソブチルケトン(MIBK)100部の溶液に対し、1.1−ビス(アクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート(昭和電工製、商品名:カレンズBEI)2.37部を60℃で撹拌しながら1時間かけて滴下後、60℃で3時間加熱撹拌した。得られた化合物をC−12とする。
(Compound C-12)
Compound C-12 represented by the following formula (28) was synthesized as follows. 95.26 parts of α-butyl-ω- (3-propylhydroxy) -polydimethylsiloxane (manufactured by Chisso Corporation, trade name: Silaplane FM-0425, number average molecular weight: 10,000) in dry air; 60 parts of 1.37 parts of 1.1-bis (acryloyloxymethyl) ethyl isocyanate (made by Showa Denko, trade name: Karenz BEI) with respect to a solution of 0.08 parts of dibutyltin laurate and 100 parts of methyl isobutyl ketone (MIBK) The mixture was added dropwise over 1 hour while stirring at 0 ° C., and then heated and stirred at 60 ° C. for 3 hours. Let the obtained compound be C-12.

Figure 2008019402
[式(28)中、kは化合物C−12数平均分子量が10,000となる数である。]
Figure 2008019402
[In formula (28), k is a number which becomes the compound C-12 number average molecular weight 10,000. ]

(シリカ粒子含有ハードコート層用組成物の調製)
紫外線を遮蔽した容器中において、シリカを主成分とする粒子を固形分として30部)、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート65部、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン5部、MIBK44部を50℃で2時間攪拌することで均一な溶液のハードコート層用組成物を得た。この組成物をアルミ皿に2g秤量後、120℃のホットプレート上で1時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、50重量%であった。
(Preparation of silica particle-containing composition for hard coat layer)
In a container shielded from ultraviolet rays, particles containing silica as a main component are 30 parts as solids), 65 parts of dipentaerythritol hexaacrylate, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopro By stirring 5 parts of pan-1-one and 44 parts of MIBK at 50 ° C. for 2 hours, a composition for a hard coat layer having a uniform solution was obtained. 2 g of this composition was weighed in an aluminum dish, dried on a hot plate at 120 ° C. for 1 hour, and weighed to determine the solid content, which was 50% by weight.

(硬化性樹脂組成物塗工用基材の作製)
TACフィルム(厚さ50μm)に、調製したシリカ粒子含有ハードコート層用組成物をワイヤーバーコーターで膜厚3μmとなるように塗工し、オーブン中、80℃で1分間乾燥し、塗膜を形成した。次いで、空気下、高圧水銀ランプを用いて、0.9mJ/cm2の光照射条件で紫外線を照射し、硬化性樹脂組成物塗工用基材を作製した。
(Preparation of substrate for coating curable resin composition)
On the TAC film (thickness: 50 μm), the prepared silica particle-containing composition for hard coat layer was applied with a wire bar coater to a thickness of 3 μm, and dried in an oven at 80 ° C. for 1 minute to form a coating film. Formed. Next, ultraviolet rays were irradiated under a light irradiation condition of 0.9 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp in the air to prepare a substrate for coating a curable resin composition.

(実施例1)
表4に示すように、合成して得られたエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体AのMIBK溶液を固形分として14重量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PET−30、日本化薬(株)製)5重量部、式(15)で示される多官能アクリレート15重量部、シリカを主成分とする粒子Bを固形分として60重量部、光重合開始剤として式(16)で示される化合物(Irgacure127、チバ・スペシャリティーケミカルズ製)3重量部、化合物C−1を3重量部、及びMIBK100重量部を、攪拌機をつけたガラス製セパラブルフラスコに仕込み、室温にて1時間攪拌し均一な硬化性樹脂組成物を得た。
(Example 1)
As shown in Table 4, the MIBK solution of the ethylenically unsaturated group-containing fluorinated polymer A obtained by synthesis was 14 parts by weight, pentaerythritol triacrylate (PET-30, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 5 parts by weight, 15 parts by weight of a polyfunctional acrylate represented by formula (15), 60 parts by weight of particles B containing silica as a main component, and a compound represented by formula (16) as a photopolymerization initiator ( Irgacure 127 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 3 parts by weight, 3 parts by weight of compound C-1 and 100 parts by weight of MIBK were charged into a glass separable flask equipped with a stirrer and stirred at room temperature for 1 hour for uniform curing. A functional resin composition was obtained.

(実施例2〜11、比較例1〜7)
表4の組成に従った他は、実施例1と同様にして各硬化性組成物を得た。表中の各成分の組成の単位は重量部である。
(Examples 2-11, Comparative Examples 1-7)
Each curable composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition in Table 4 was followed. The unit of composition of each component in the table is parts by weight.

Figure 2008019402
Figure 2008019402

(評価例1) 硬化膜の屈折率測定
各硬化性樹脂組成物をスピンコーターによりシリコンウェハー上に、乾燥後の厚さが約0.1μmとなるように塗布後、窒素下、高圧水銀ランプを用いて、0.3mJ/cmの光照射条件で紫外線を照射して硬化させた。得られた硬化膜について、エリプソメーターを用いて25℃での波長539nmにおける屈折率(nD25)を測定した。結果を表1に示す。
(Evaluation Example 1) Refractive Index Measurement of Cured Film Each curable resin composition was applied onto a silicon wafer with a spin coater so that the thickness after drying was about 0.1 μm, and then a high-pressure mercury lamp was placed under nitrogen. It was cured by irradiating with ultraviolet rays under light irradiation conditions of 0.3 mJ / cm 2 . About the obtained cured film, the refractive index (nD25) in wavelength 539nm in 25 degreeC was measured using the ellipsometer. The results are shown in Table 1.

(評価例2) 硬化膜の濁度の評価
得られた硬化膜について、スガ試験株式会社製カラーヘーズメーター・SC−3Hによる透過式の測定の方法で濁度を評価した。評価基準は以下の通りである。結果を表1に示す。
○:0.39以下
×:0.40以上
(Evaluation example 2) Evaluation of the turbidity of a cured film About the obtained cured film, turbidity was evaluated by the permeation | transmission type | mold measurement method by Suga Test Co., Ltd. color haze meter * SC-3H. The evaluation criteria are as follows. The results are shown in Table 1.
○: 0.39 or less ×: 0.40 or more

(評価例3) 反射防止膜の耐擦傷性テスト(スチールウール耐性テスト)
評価例1で得られた反射防止膜を、スチールウール(ボンスターNo.0000、日本スチールウール(株)製)を学振型摩擦堅牢度試験機(AB-301、テスター産業(株)製)に取りつけ、硬化膜の表面を荷重500gの条件で10回繰り返し擦過し、当該硬化膜の表面における傷の発生の有無を、以下の基準により目視で確認した。結果を表1に示す。
◎:硬化膜の剥離や傷の発生がほとんど認められない。
○:硬化膜にわずかな細い傷が認められる。
△:硬化膜全面に筋状の傷が認められる。
×:硬化膜の剥離が生じる。
(Evaluation example 3) Scratch resistance test of antireflection film (steel wool resistance test)
For the antireflection film obtained in Evaluation Example 1, steel wool (Bonster No. 0000, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) is used as a Gakushin type friction fastness tester (AB-301, manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.). The surface of the cured film was repeatedly rubbed 10 times under the condition of a load of 500 g, and the presence or absence of scratches on the surface of the cured film was visually confirmed according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
A: Hardened film peeling or scratches are hardly observed.
○: Slight thin scratches are observed on the cured film.
Δ: Streaky scratches are observed on the entire surface of the cured film.
X: Peeling of the cured film occurs.

(評価例4) 反射防止膜のマジック繰り返し拭き取り性の評価方法
評価例1で得られた反射防止膜表面の約0.25cm(0.5cm×0.5cm)を油性染料インキタイプのマーキングペン(ゼブラ(株)製、商品名:マッキー)で隙間なく塗りこむ。30秒間自然乾燥させた後、マーカーで塗りこんだ箇所を不織布(ベンコット)で拭き取る(1回目)。さらに同じ箇所を油性マーカーで塗り込み、同様に拭き取りを繰り返し行い、油性インキが拭き取れなくなるまで行った。油性インキを拭き取ることができた繰り返し回数を表1に示す。
(Evaluation Example 4) Evaluation Method of Repeated Magic Wipe of Antireflection Film About 0.25 cm 2 (0.5 cm × 0.5 cm) of the antireflection film surface obtained in Evaluation Example 1 is an oil-based dye ink type marking pen (Zebra Co., Ltd., trade name: Mackey). After naturally drying for 30 seconds, the area coated with the marker is wiped off with a non-woven fabric (Bencot) (first time). Further, the same portion was coated with an oil marker, and wiping was repeated in the same manner until the oil ink could not be wiped off. Table 1 shows the number of repetitions in which the oil-based ink could be wiped off.

(評価例5) 硬化膜表面からのSi非剥離性の評価方法
各硬化性樹脂組成物をワイヤーバーコーターを用いて膜厚が約200nmとなるようにPETフィルム上に塗工し、80℃で1分乾燥して、塗膜を形成した。次いで窒素雰囲気下、高圧水銀ランプを用いて、0.3mJ/cmの光照射条件で紫外線を照射し塗工フィルムを作製した。
次に塗工フィルムを縦15cm、横5cmに裁断した後、同じ大きさに裁断したTACフィルムと対にして、塗工面とTACとが接するように重ね合わせたサンプルを作製した。このサンプルの中央部に3kg/cmの荷重をかけ、恒温室(温度23℃、湿度50%)で24時間放置した。24時間後、サンプルの荷重をかけた部位を剥がし、TACフィルムの表面をX線光電子分光法(ESCA;Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)測定(アルバック−ファイ株式会社製、PHI Model 5400)する。
測定条件は以下のとおりである。
測定角度:45度
測定元素:Si、C
積算回数:Siを10回、Cは1回
(Evaluation example 5) Evaluation method of Si non-peelability from cured film surface Each curable resin composition was coated on a PET film using a wire bar coater so that the film thickness was about 200 nm, and at 80 ° C. It was dried for 1 minute to form a coating film. Next, using a high-pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere, ultraviolet rays were irradiated under a light irradiation condition of 0.3 mJ / cm 2 to prepare a coated film.
Next, the coated film was cut into a length of 15 cm and a width of 5 cm, and then a sample that was overlapped so that the coated surface and the TAC were in contact with the TAC film cut into the same size was produced. A load of 3 kg / cm 2 was applied to the center of this sample, and the sample was left in a constant temperature room (temperature 23 ° C., humidity 50%) for 24 hours. After 24 hours, the portion to which the sample was applied was peeled off, and the surface of the TAC film was subjected to X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA) measurement (manufactured by ULVAC-PHI Co., Ltd., PHI Model 5400).
The measurement conditions are as follows.
Measuring angle: 45 degrees Measuring element: Si, C
Integration count: Si 10 times, C 1 time

1サンプルあたり3点で測定を行い、その平均値を下記評価基準に従って評価した。
◎:C量に対するSi量が3%以下。
○:C量に対するSi量が5%以下
△:C量に対するSi量が15%以下
Measurement was performed at three points per sample, and the average value was evaluated according to the following evaluation criteria.
A: Si amount with respect to C amount is 3% or less.
○: Si amount relative to C amount is 5% or less Δ: Si amount relative to C amount is 15% or less

本発明の硬化性樹脂組成物は、防汚性、耐擦傷性、塗工性及び耐久性に優れ、特に反射防止膜として有用である。
また、本発明の硬化膜は、シロキサン化合物を含有しているにもかかわらず、塗膜をロール巻きにした際にも、塗膜フィルムの裏側にSi成分が付着することが少ないため、例えば、ディスプレイ製造工程で不具合が生じることがない。
The curable resin composition of the present invention is excellent in antifouling property, scratch resistance, coating property and durability, and is particularly useful as an antireflection film.
In addition, the cured film of the present invention contains a siloxane compound, but when the coating film is rolled, the Si component is less likely to adhere to the back side of the coating film. There is no problem in the display manufacturing process.

本発明の一実施形態による反射防止膜の断面図である。It is sectional drawing of the antireflection film by one Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 反射防止膜
12 基材
14 ハードコート層
16 高屈折率層
18 低屈折率層


DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Antireflection film 12 Base material 14 Hard-coat layer 16 High refractive index layer 18 Low refractive index layer


Claims (9)

(A)エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、
(B)シロキサン骨格を有するとともに、(メタ)アクリロイル基を3個以上有し、数平均分子量が4,000以上であるシリコーン化合物
(C)(A)、(B)を除く(メタ)アクリレート化合物、
を含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。
(A) an ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer,
(B) A silicone compound having a siloxane skeleton and having at least three (meth) acryloyl groups and a number average molecular weight of 4,000 or more (C) (Meth) acrylate compounds excluding (A) and (B) ,
A curable resin composition comprising:
請求項1記載の硬化性樹脂組成物において、シリコーン化合物が、その末端に(メタ)アクリロイル基を有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition according to claim 1, wherein the silicone compound has a (meth) acryloyl group at a terminal thereof. 請求項2記載の硬化性樹脂組成物において、シリコーン化合物が、その両末端に(メタ)アクリロイル基を有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。   3. The curable resin composition according to claim 2, wherein the silicone compound has (meth) acryloyl groups at both ends thereof. 請求項1〜3のいずれか記載の硬化性樹脂組成物において、シリコーン化合物が、シロキサン骨格の側鎖に(メタ)アクリロイル基を有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the silicone compound has a (meth) acryloyl group in a side chain of the siloxane skeleton. 請求項1〜4のいずれか記載の硬化性樹脂組成物において、(メタ)アクリレート化合物が2個以上の(メタ)アクリロイル基を有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。   Curable resin composition in any one of Claims 1-4 WHEREIN: The (meth) acrylate compound has a 2 or more (meth) acryloyl group, The curable resin composition characterized by the above-mentioned. 請求項1〜5のいずれか記載の硬化性樹脂組成物において、さらに(D)シリカを主成分とする数平均粒子径が1〜100nmの粒子を含有する硬化性樹脂組成物。   Curable resin composition in any one of Claims 1-5 WHEREIN: Furthermore, (D) Curable resin composition containing the particle | grains whose number average particle diameters which have a silica as a main component are 1-100 nm. 請求項1〜6のいずれか記載の硬化性樹脂組成物において、反射防止膜用であることを特徴とする硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the curable resin composition is used for an antireflection film. 請求項1〜7のいずれか記載の硬化性樹脂組成物を硬化させて得られることを特徴とする硬化膜。   A cured film obtained by curing the curable resin composition according to claim 1. 請求項8記載の膜からなる層を有することを特徴とする反射防止膜。


An antireflection film comprising a layer comprising the film according to claim 8.


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