JP2007522668A - 製造物の位置決めシステム - Google Patents

Abstract

製造物の位置決めシステムであって、製造物を支持するチャック(71)、当該チャックを支持する中間台(79)及び当該中間台(79)を支持する固定ベース(72)を有するシステム。チャック(71)は中間台(79)に対して第1方向X(80)を移動することが可能で、中間台(79)は当該固定ベース(72)に対して第2方向Y(81)を移動することが可能である。システムはさらに固定ベース(72)に対するチャック(71)の位置を測定する少なくとも1つのレーザー干渉計(73,74,75,76,77,78)を有する。当該レーザー干渉計の主部(73,74,75,76,77,78)は、チャック(71)上の反射体(83,84,85)と固定ベース(72)上の反射体(82,87)との距離を測定することが可能なように、当該中間台(79)に取り付けられている。

Description

本発明は製造物の位置決めシステムに関する。当該システムは製造物を支持するチャック、当該チャックを支持する中間台及び、当該中間台を支持する固定ベースを有する。ここでチャックは中間台に対して第1方向Xに移動することが可能であり、中間台は当該固定ベースに対して第2方向Yに移動することが可能である。当該システムはさらに固定ベースに対するチャックの位置を測定する少なくとも1つのレーザー干渉計を有する。

特許文献1は、半導体製造においてフォトリソグラフィ又はマイクロリソグラフィで使用されるウエハの正確な位置決め及び整合を行うそのようなシステムについて開示している。システムは複数の干渉レーザーゲージを有し、各レーザーゲージはレーザー干渉計の主部をなし、チャック（可動ウエハ台）及び、固定ベースに取り付けられている少なくとも1つの細長い平面ミラー反射体に取り付けられている。チャックの位置を決定するため、当該レーザーゲージと固定反射体との距離はレーザー干渉計の手段によって計測される。

本明細書で言及されているレーザー干渉計は一般的に既知となっているものであり、主部又はレーザーゲージを有し、その主部はレーザービームを1つ以上の従来型反射体へ導光する。従来型反射体はレーザービームを反射させて当該主部へ戻し、主部は反射されたレーザービームを受光する。レーザービームの光路長はレーザー干渉計によって決定され、従って当該主部と当該従来型反射体との距離の測定が可能となる。レーザー干渉計の当該主部は偏光ビームスプリッタ、1/4波長板及びコーナーキューブ反射体のような既知の構成要素を有して良い。

偏光ビームスプリッタは2つ以上の偏光方向を有するレーザービームを2つの偏光ビームに分割し、各分割された偏光ビームはある偏光方向を有する。それにより、第1レーザービームはスプリッタをまっすぐな光路で通過し、もう一方のビームはある方向、特に元のビームに対して90°の方向に導光される。

偏光レーザービームが1/4波長板を通過するとき、その1/4波長板はそのような偏光レーザービームの偏光方向を45°回転させる。

コーナーキューブ反射体は、正方形の隅部のように互いが90°の角をなす3つの平面ミラーとともに供される従来型反射体である。レーザービームはコーナーキューブ反射体によって、入射レーザービームと平行の方向に、しかし、当該入射レーザービームに対してある距離では反対方向に反射される。
米国特許公開第5757160号明細書

特許文献1で開示されているように、既知の製造物位置決めシステムでは、チャックのかなり正確な位置決定が可能なように、チャック上のある位置とそれに対応する固定ベース上の位置との距離が測定される。しかし既知のシステムでは、各レーザー干渉計の主部はチャックに取り付けられているため、システム構成にはかなり大きくかつ重いチャックが必要となる。それはさらに電気ワイヤがチャックと固定ベースとの間になくてはならないためである。代替システムとして、各レーザー干渉計の主部を固定ベースに取り付けることが可能である。しかし、その場合にはチャックは比較的大きな細長い平面ミラー反射体とともに供されなくてはならない。その反射体は、レーザービームがチャックの各位置で反射体によって捉えられることを保証するため、チャックの移動範囲よりも長くなくてはならない。

本発明の目的はレーザー干渉計の手段による製造物の位置決めシステムの提供である。そのシステムでは、チャックはレーザー干渉計の比較的小さな構成部品とともに供され、レーザー干渉計はチャック上のある位置とそれに対応する固定ベース上の位置との距離を測定する。

その目的を達成するため、レーザー干渉計の主部は、レーザー干渉計がチャック上の反射体と固定ベース上と反射体との距離を測定することが可能なように、中間台に取り付けられている。干渉計主部の両側にある2つの反射体間の距離を測定するレーザー干渉計は既知である。そのようなレーザー干渉計主部が中間台に取り付けられていて、測定するレーザービームが当該第1方向Xに平行な場合、レーザービームは常にチャック上の同一位置を照射し、従ってチャックの位置を比較的小さな従来型反射体で与えることが可能である。

固定ベース上の当該反射体は細長い平面ミラー反射体であって、干渉計からのレーザービームが中間台の各位置で反射体に当たるように、その長さは当該第2方向Yでの中間台の最大変位よりも長いことが好ましい。そのような長い平面ミラー反射体が使用される場合、そのような大きな反射体は固定ベースに取り付けられ、システムの如何なる可動部分にも取り付けられていないことが利点である。

1つの好適実施例では、2つのレーザー干渉計の主部は当該中間台に取り付けられ、各主部はチャック上の各対応する反射体と固定ベース上で同一の細長い平面ミラー反射体との距離を測定する。それによって、第1方向Xの位置同様に第3方向Z軸に対する角度位置が測定されるように、測定はチャックの1つの側面で第1方向Xについて行われる。当然のことだが、当該2つのレーザー干渉計とは別に、他のレーザー干渉計の主部を中間台に取り付けることもまた可能である。

3つのレーザー干渉計の主部は当該中間台に取り付けられ、第1方向Xについて、チャック上の1つ以上の反射体と固定ベース中の1つ以上の平面ミラー反射体との間の距離を測定するのが好ましい。1つの大きな平面ミラー反射体は固定ベース及び/又はチャックに対して取り付けられて良い。しかし、チャックは3つのコーナーキューブ反射体とともに供されるのが好ましい。その理由はそのような従来型反射体は位置の角度変化に敏感ではないからである。同一平面上に存在しない3つの位置で測定を行うとき、XY平面でのチャックの角度位置（つまり第3方向Zの軸周り）同様にXZ平面でのチャックの角度位置（つまり第2方向Yの軸周り）を決定することが可能である。

チャック上の当該反射体はコーナーキューブ反射体であって、多くのコーナーキューブ反射体をチャックに取り付けることが可能であることが好ましい。コーナーキューブ反射体の利点は、レーザービームがチャックの位置の角度変化には独立に、常に入射レーザービームに対して平行に反射されるように、小さな角度変化に影響しない(insensitivity)ことである。

1つの好適実施例では、レーザー干渉計の主部は当該中間台に取り付けられ、第3方向Zについて、チャック上の反射体と固定ベース上の反射体との距離を測定する。方向Zは第1方向X及び第2方向Yに垂直である。それにより、固定ベースは、第1方向X及び第2方向Yに平行な面内で延在する平面ミラー反射体と共に供される。平面ミラー反射体は第2方向Yに細長い。チャックは第1方向X及び第2方向Yに平行な面内で延在する平面ミラー反射体と共に供される。反射体は第1方向Xに細長い。細長い反射体はチャックの下側面に取り付けられ、その面は位置決定される製造物がある面ではない。従って平面ミラー反射体を取り付けるのにチャックを拡張させる必要がない。

平面ミラー反射体とコーナーキューブ反射体との距離又は2つのコーナーキューブ反射体間の距離を測定するレーザー干渉計の手段によって距離を測定するシステムはまた、2つの物体間の距離が測定されなくてはならないようなものであって、物体の1つ又は両物体の角度位置が変化可能な測定である他の測定に適用することも可能である。従ってこの測定システムは分離した発明と見なすことができる。本発明は本明細書に記載されている他の発明の出願とは独立して出願可能である。

そのような独立した発明はレーザー干渉計によって2つの物体間距離の測定システムとして説明されて良い。レーザービームスプリッタ、コーナーキューブ反射体及び2つの1/4波長板を有するレーザー干渉計の一部は2つの物体間に位置し、従来型反射体は各物体に取り付けられる。物体の1つは平面ミラー反射体と共に供され、かつもう一方の物体はコーナーキューブ反射体とともに供される。又は、両物体がコーナーキューブ反射体とともに供されている。

本発明はさらに、製造物を支持するチャック、当該チャックを支持する中間台及び当該中間台を支持する固定ベースを有し、さらに固定ベースに対するチャックの位置を測定する少なくとも1つのレーザー干渉計を有するシステムによる製造物の位置決め方法に関する。チャックは中間台に対して第1方向Xに移動することが可能で、中間台は当該固定ベースに対して第2方向Yに移動することが可能である。チャック上の反射体と固定ベース上の反射体との距離はレーザー干渉計によって測定され、そのレーザー干渉計の主部は当該中間台に取り付けられている。

本発明を明らかにするため、図を参照しながらレーザー干渉計による製造物の位置決めシステムの実施例及び一部を説明する。

図は非常に概略的に表現されており、レーザー干渉計による製造物位置決めシステムの関連部のみを図示している。

図1はレーザービームスプリッタ1、コーナーキューブ反射体2、λ/4板とも呼ばれる、1/4波長板3及び1/4波長板4を有するレーザー干渉計を図示している。レーザー干渉計のこれらの構成要素は製造物の位置決めシステムの中間台5に取り付けられている。中間台5は矢印6で図示されているように第2方向Yに移動することが可能である。レーザー干渉計は固定ベース7と、位置決めしたい製造物を取り付けることが可能なチャック8との間に位置する。チャック8は矢印9で図示されているように中間台5に対して第1方向Xに移動することが可能である。平面ミラー反射体10はチャック8に取り付けられ、細長い平面ミラー反射体11は固定ベース7に取り付けられている。

以下のようにして固定ベース7とチャック8との距離はレーザー干渉計による測定が可能である。互いに垂直な2つの偏光方向を有する偏光レーザービーム12は干渉計の主部へ導光される。レーザービーム12の第1成分は平面ミラー反射体10と平面ミラー反射体11との間の距離の4倍の距離を有する光路を進み、レーザービーム12のもう一方の成分はレーザー干渉計を介して固定された光路を進む。平面ミラー反射体10と平面ミラー反射体11との距離及び、それとともにチャック8と固定ベース7との距離はレーザービームの2つの成分が進む当該2つの光路長の差異に基づいて決定することが可能である。干渉計は長さの差異を測定することが可能である。

ビームスプリッタ1では、入射レーザービーム12の第1成分は90°曲げられる（矢印13）ことで1/4波長板3へ向かい、そこを通過して平面ミラー反射体10（矢印14）へ向かう。反射レーザービーム（矢印15）は、レーザービーム（矢印16）の偏光方向は矢印13で図示されたレーザービームと比較して90°回転（2度45°回転する）するように、再度1/4波長板3を通過する。従ってレーザービーム（矢印16）は1/4波長板4へ向かってビームスプリッタ1をまっすぐな光路で通過する。偏光方向は45°回転する。そのとき、レーザービーム（矢印17）は平面ミラー反射体11で反射され、1/4波長板4（矢印18）へ戻る。偏光方向は、ビーム（矢印19）は矢印16で図示されるビームと比較して90°回転するように、再度45°回転する。従ってビーム（矢印19）はレーザービームスプリッタ1によって90°曲げられ（矢印20）、コーナーキューブ反射体2へ向かう。

コーナーキューブ反射体2では、ビーム20は反射され（矢印21）、入射ビーム20とは反対方向に進行して反射体2から離れる（矢印22）。反射ビーム22は入射ビーム20と平行でかつ入射ビーム20から離れている。反射ビーム22はビームスプリッタ1によって90°曲げられる（矢印23）ことで1/4波長板4へ向かう。1/4波長板4を通過するときレーザービームの偏光方向は45°回転し、平面ミラー反射体11での反射後（矢印24及び矢印25）、偏光方向は、レーザービーム（矢印26）が1/4波長板3へ向かってビームスプリッタ1をまっすぐな光路で通過することができるように、1/4波長板4によって再度45°回転する。ビームの偏光方向は45°回転し、ビーム（矢印27）は平面ミラー反射体へ向かって導光される。平面ミラー反射体による反射後、レーザービーム（矢印28）は再度1/4波長板3へ到達する。偏光方向は、矢印26で図示されるビームと比較した全回転が90°になるように、再度45°回転する。従ってビーム（矢印29）はビームスプリッタ1によって90°曲げられる。ビームは再度元のレーザービーム12の当該もう一方の成分と結合することで、干渉計の有意な成分を残すレーザービーム30を生成する。レーザービーム12のもう一方の成分はレーザービームスプリッタ1をまっすぐな光路で通過することの可能な偏光方向を有する。コーナーキューブ2によって反射された後（矢印32）、レーザービームのもう一方の成分はビームスプリッタ1へ向かって導光される（矢印33）。レーザービーム（矢印33）は、矢印33のレーザービームがレーザー干渉計の有意な成分を残すレーザービームの一部を生成するように、再度ビームスプリッタ1をまっすぐな光路で通過する。

レーザービームの2つの成分が進む2つの光路長の差異を測定するレーザー干渉計の一部は図示されていない。干渉計のその部分は、干渉計のその部分と、中間台5に取り付けられている主部との距離が変化するように、固定ベース7に対して固定した位置にある。しかし、そのような変化は当該2つの光路差には影響しない。従って測定結果には影響しない。

図2は固定ベース41に対して第2方向Y（矢印43）を移動することが可能な中間台42を支持する固定ベース41を表す位置決めシステムの上面図である。中間台42はチャック44を支持する。チャック44は位置決めされる製造物を支持することが可能である。チャック44は中間台42に対して第1方向X（矢印45）を移動することが可能である。図2は固定ベース41に対して第1方向Xを移動するチャック44の位置を測定するレーザー干渉計の主部を図示している。従って距離46は図1を参照した上述の説明のようにレーザー干渉計によって測定される。

干渉計の主部47はビームスプリッタ、コーナーキューブ反射体及び2つの1/4波長板を有し、中間台42に取り付けられている。第2方向Yに平行なレーザービーム48は当該主部47へ導光される。上述のように、レーザービーム48の第1成分は当該主部47とチャック上の平面ミラー反射体の距離の4倍を有する光路を進み、当該主部47と固定ベース41上の細長い平面ミラー反射体50との間の距離の4倍を有する。ビーム51、ビーム52、ビーム53及びビーム54の各々は、平面ミラー反射体49へ向かうレーザービーム48の当該第1成分の前進光路、及び平面ミラー反射体50へ向かう後退光路を表す。

レーザービーム48のもう一方の成分は図1を参照した上述の説明のように固定長を有するさらに短い光路を進む。レーザービーム48の2つの成分は再度、干渉計の当該主部47を残すレーザービーム55で結合する。当該2つの光路長差は干渉計によって決定されることで、距離46が測定される。

図3は、レーザー干渉計によって固定ベースに対して第3方向Z軸での位置を測定する例を図示している。固定ベース61は中間台62を支持し、中間台は第2方向Y（矢印63）を移動することが可能である。中間台62はチャック64を支持し、チャック64は中間台62に対して第1方向X（矢印65）を移動することが可能である。位置決めされる製造物はチャック64に取り付け可能である。

固定ベース61は第2方向に延在する細長い平面ミラー反射体66とともに供され、チャック64の下部側面は第1方向Xに延在する細長い平面ミラー反射体67とともに供される。平面ミラー反射体66及び平面ミラー反射体67は両方とも第1方向X及び第2方向Yに平行である。固定ベース61に対するチャック64の位置を測定するため、干渉計の主部68はレーザービームを平面ミラー反射体66及び平面ミラー反射体67へ導光する。それにより、干渉計は図2を参照した上述の説明と同様の方法で機能する。レーザービーム69は当該主部68へ導光され、レーザービーム70はそこから戻る。レーザービーム69及びレーザービーム70の1つの成分は、平面ミラー反射体66と平面ミラー反射体67との間の距離を有する光路を進み、レーザービーム69及びレーザービーム70のもう一方の成分は固定長を有する光路を進む。干渉計は2つの光路長差を決定することが可能であり、それとともに平面ミラー反射体66と平面ミラー反射体67との間の距離を測定する。

図4は多くのレーザー干渉計による製造物の位置決めシステムの上面図である。それによって、チャック71は実質的に固定ベース72に取り囲まれ、固定ベース72に対するチャック71の位置はレーザー干渉計73、レーザー干渉計74、レーザー干渉計75、レーザー干渉計76、レーザー干渉計77及びレーザー干渉計78によって測定される。その際、チャック71の完全な位置（つまり場所及び回転位置）の決定が可能である。

チャック71は中間台79によって支持され、矢印80に図示されているように中間台79に対して第1方向Xの移動が可能である。中間台79は固定ベース72によって支持され、図81に図示されているように固定ベース72に対して第2方向Yの移動が可能である。位置決めされる製造物はチャック71に対して取り付け可能で、チャック71は変位させることが可能である。それによりチャックの各位置はレーザー干渉計73、レーザー干渉計74、レーザー干渉計75、レーザー干渉計76、レーザー干渉計77及びレーザー干渉計78の各々による測定によって決定することが可能である。

レーザー干渉計73、レーザー干渉計74及びレーザー干渉計75は中間台79に取り付けられ、固定ベース72に取り付けられている細長い平面ミラー反射体82と3つのレーザー干渉計に各対応するチャック上の平面ミラー反射体83、平面ミラー反射体84及び平面ミラー反射体85との間の距離を測定することが可能である。干渉計73、干渉計74及び干渉計75は図1で図示された上述の型の干渉計である。各3つの干渉計へ向かうビーム及び各3つの干渉計から出るビームを有する各レーザービームは参照番号86で図示されている。干渉計73、干渉計74及び干渉計75の測定は図2を参照した上述の測定と同様である。干渉計74は、平面ミラー反射体83、平面ミラー反射体84及び平面ミラー反射体85が三角形の頂点に位置するように、干渉計73及び干渉計75よりも低い位置にある。このとき反射体84は反射体83及び反射体85よりも低い位置にある。従って干渉計73、干渉計74及び干渉計75は第1方向Xでのチャック71の位置、第2方向Y軸周りの角度位置及び第3方向Z軸周りの角度位置を測定することが可能である。

レーザー干渉計76及びレーザー干渉計77の2つもまた中間台79に取り付けられ、固定ベース72に取り付けられている細長い平面ミラー反射体87とチャック71の下部側面で第1方向Xに延在する2つの細長い平面ミラー反射体（図示していない）との間の距離を測定することが可能である。干渉計76及び干渉計77の両方は図1で図示された上述の型の干渉計である。干渉計76及び干渉計77の測定は図3を参照した上述の測定と同様である。レーザービーム88は干渉計77へ向かうレーザービーム及び干渉計77から出るレーザービームを有し、レーザービーム89は干渉計76へ向かうレーザービーム及び干渉計76から出るレーザービームを有する。干渉計76からのビーム及び干渉計76へ向かうビームは光路中にミラー90によって反射される。干渉計76及び干渉計77は第3方向Zでのチャック71の位置及び第1方向X軸周りでの角度位置を測定することが可能である。

レーザー干渉計78は固定ベース72に取り付けられ、チャック上の細長い平面ミラー反射体91への距離を測定することが可能である。干渉計78は従来の型である。矢印92は測定レーザービームの光路及びその測定光路長を示す。ビーム93は干渉計78へ向かうレーザービーム及び干渉計78からのレーザービームを図示する。

上述の説明では、干渉計の表現はその装置の主部、つまり測定レーザービームを従来型反射体へ導光する部分、に使用される。測定レーザービームの光路長と参照レーザービームの固定光路長との差を測定する各干渉計の部分は図で表されていない。

図5は図1で図示した干渉計と同様のレーザー干渉計を図示する。しかし2つの従来型反射体のうちの1つは平面ミラー反射体ではなく、コーナーキューブ反射体110である。コーナーキューブ反射体の利点は角度位置に対する影響が小さいことである。チャックが平面ミラー反射体の代わりにコーナーキューブ反射体とともに供される場合、測定はチャックの角度位置変化に対して影響されにくくなる。その理由はコーナーキューブ反射体の反射レーザービームはつねに入射レーザービームに平行だからである。

図5で図示されているレーザー干渉計はレーザービームスプリッタ101、コーナーキューブ反射体102、1/4波長板103及び1/4波長板104を有する。レーザー干渉計のこれらの構成要素は製造物の位置決めシステムの中間台105に取り付けられている。中間台105は矢印106で示されているように第2方向Yでの移動が可能である。レーザー干渉計は固定ベース107と、位置決めされる製造物を取り付けることが可能なチャック108との間に位置する。チャック108は矢印109で示されているように中間台105に対して第1方向Xに移動することが可能である。コーナーキューブ反射体110はチャック108に取り付けられ、細長い平面ミラー反射体111は固定ベース107に取り付けられている。

固定ベース107とチャック108との間の距離は以下のようにしてレーザー干渉計によって測定可能である。互いに垂直な2つの偏光方向を有する偏光レーザービーム112は干渉計の主部へ導光される。レーザービーム112の第1成分は従来型反射体110と従来型反射体111との距離の4倍の距離を有する光路を進み、レーザービーム112のもう一方の成分はレーザー干渉計を介した固定光路を進む。従来型反射体110と従来型反射体111との距離及び固定ベース107に対する第1方向Xでのチャック108の位置は、レーザービーム112の2成分が進む当該2つの光路長差に基づいて決定することが可能である。

ビームスプリッタ101では、入射レーザービーム112の第1成分は90°曲げられる（矢印113）ことで1/4波長板3へ向かい、そこを通過してコーナーキューブ反射体110（矢印114）へ向かう。レーザービームはコーナーキューブ反射体110（矢印115）を通過し、1/4波長板103へ向かって反射される（矢印116）。1/4波長板103通過後、レーザービーム（矢印117）の偏光方向は矢印113で示されたレーザービームと比較して90°回転する（2度45°回転）。従ってレーザービーム（矢印117）は1/4波長板104へ向かってまっすぐな光路でビームスプリッタ101を通過することが可能である。ここで偏光方向は45°回転する。そのとき、レーザービーム（矢印118）は平面ミラー反射体111で反射され、1/4波長板104（矢印119）へ戻る。このとき偏光方向は、ビーム（矢印120）は矢印117で図示されるビームと比較して90°回転するように、再度45°回転する。従ってビーム（矢印120）はレーザービームスプリッタ101によってコーナーキューブ反射体102の方向へ90°曲げられる（矢印121）。

コーナーキューブ反射体102では、ビーム121は反射され（矢印122）、入射ビーム121とは反対方向に進行して反射体102から離れる（矢印123）。反射ビーム123は入射ビーム121と平行でかつ入射ビーム121から離れている。反射ビーム123はビームスプリッタ101によって90°曲げられる（矢印124）ことで1/4波長板104へ向かう。1/4波長板104を通過するときレーザービームの偏光方向は45°回転する。ビーム（矢印125）は平面ミラー反射体111に到達し、1/4波長板104へ反射される（矢印126）。ここで偏光方向は、ビーム（矢印127）がまっすぐな光路でビームスプリッタ101を通過するように、再度45°回転する。1/4波長板103通過後、ビーム（矢印128）はコーナーキューブ反射体110中で反射され（矢印129及び矢印130）、1/4波長板103に到達する。ここで、偏光方向は、矢印127で示されるビームと比較した全回転が90°になるように再度45°回転する。従ってビーム（矢印131）はビームスプリッタ101によって90°曲げられる。ここでビームは再度元のレーザービーム112の当該もう一方の成分と結合することで、干渉計の有意な成分を残すレーザービーム132を生成する。

レーザービーム112のもう一方の成分はレーザービームスプリッタ101をまっすぐな光路で通過することの可能な偏光方向を有する。コーナーキューブ102によって反射された後（矢印134）、レーザービームのもう一方の成分はビームスプリッタ101へ向かって導光される（矢印135）。レーザービーム（矢印135）は、矢印135のレーザービームがレーザー干渉計の有意な成分を残すレーザービーム132の一部を生成するように、再度ビームスプリッタ101をまっすぐな光路で通過する。

上で図1を参照して述べたように、レーザービームの2つの成分が進む2つの光路長差を測定するレーザー干渉計の一部は図示されていない。この部分は、干渉計のその部分と中間台105に取り付けられている主部との距離が変化するように、固定ベース107に対して固定された位置にある。しかし、そのような変化は当該2つの光路差には影響しない。従って測定結果には影響しない。

上述の実施例はレーザー干渉計による製造物位置決めシステムに関する単なる例示である。他に多数の実施例が可能である。

距離を測定するレーザー干渉計を図示する。 干渉計測定の第1例の上面図を図示する。 干渉計測定の第2例の斜視図を図示する。 干渉計測定の第3例の上面図を図示する。 距離を測定する代替レーザー干渉計を図示する。

符号の説明

1 レーザービームスプリッタ
2 正方形の隅部反射体
3 1/4波長板
4 1/4波長板
5 中間台
6 矢印
7 固定ベース
8 チャック
9 矢印
10 平面ミラー反射体
11 平面ミラー反射体
12 レーザービーム
13-29 矢印
30 レーザービーム
31-33 矢印
34-40…
41 固定ベース
42 中間台
43 矢印
44 チャック
45 矢印
46 距離
47 干渉計の主要部分
48 レーザービーム
49 平面ミラー反射体
50 平面ミラー反射体
51-55 レーザービーム(4X)
56-60…
61 固定ベース
62 中間台
63 矢印
64 チャック
65 矢印
66 平面ミラー反射体
67 平面ミラー反射体
68 干渉計の主要部分
69 レーザービーム
70 レーザービーム
71 チャック
72 固定ベース
73-78 レーザー干渉計
79 中間台
80-81 矢印
82-85 平面ミラー反射体
86 レーザービーム(3X)
87 平面ミラー反射体
88-89 レーザービーム
90 ミラー
91 平面ミラー反射体
92 矢印
93 レーザービーム
94-100…
101 ビームスプリッタ
102 正方形の隅部反射体
103-104 1/4波長板
105 中間台
106 矢印
107 固定ベース
108 チャック
109 矢印
110 正方形の隅部反射体
111 平面ミラー反射体
112 レーザービーム
113-131 矢印
132 レーザービーム
133-135 矢印

Claims (7)

1. 製造物の位置決めシステムであって、
   前記製造物を支持するチャック；
   前記チャックを支持する中間台；及び、
   前記中間台を支持する固定ベース；
   を有し、
   前記チャックは前記中間台に対して第1方向に移動することが可能で、かつ、
   前記中間台は前記固定ベースに対して第2方向に移動することが可能である、
   ことを特徴とし、
   前記固定ベースに対する前記チャックの位置を測定する少なくとも1つのレーザー干渉計をさらに有し、
   前記レーザー干渉計の主部は、前記チャック上の反射体と前記固定ベース上の反射体との距離を測定することが可能なように、前記中間台に取り付けられている、
   ことを特徴とするシステム。
2. 前記固定ベース上の前記反射体は細長い平面ミラー反射体であって、
   前記平面ミラー反射体の長さは前記第2方向での前記中間台の最大変位よりも長いことを特徴とする、請求項1に記載のシステム。
3. 2つのレーザー干渉計主部は前記中間台に取り付けられ、
   各干渉計は前記チャック上の各対応する反射体と固定ベース中の同一の細長い平面ミラー反射体との間の距離を測定する、
   ことを特徴とする、上記請求項のうちのいずれか1つに記載のシステム。
4. 3つのレーザー干渉計主部は前記中間台に取り付けられることを特徴とし、
   前記第1方向における前記チャック上の1つ以上の反射体と前記固定ベース中の1つ以上の平面ミラー反射体との間の距離を測定する、上記請求項のうちのいずれか1つに記載のシステム。
5. 前記チャック上の前記反射体はコーナーキューブ反射体であることを特徴とする、上記請求項のうちのいずれか1つに記載のシステム。
6. レーザー干渉計の主部は前記中間台に取り付けられ、
   前記第3軸における前記チャック上の反射体と前記固定ベース上の反射体との距離を測定し、
   前記第3方向は前記第1方向及び前記第2方向に垂直である、
   ことを特徴とする、上記請求項のうちのいずれか1つに記載のシステム。
7. システムによる製造物の位置決め方法であって、
   前記システムは、
   前記製造物を支持するチャック；
   前記チャックを支持する中間台；及び、
   前記中間台を支持する固定ベース；
   を有し、
   前記チャックは前記中間台に対して第1方向に移動することが可能で、かつ、
   前記中間台は前記固定ベースに対して第2方向に移動することが可能である、
   ことを特徴とし、
   前記固定ベースに対する前記チャックの位置を測定する少なくとも1つのレーザー干渉計をさらに有し、
   前記レーザー干渉計の主部は、前記チャック上の反射体と前記固定ベース上の反射体との距離を測定することが可能なように、前記中間台に取り付けられている、
   ことを特徴とする方法。

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