JP2007300015A - Optical unit - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、高出力の要求される用途に好適に用いられる光学装置に関する。 The present invention relates to an optical device that is suitably used for applications requiring high output.
現在、数十W程度の高出力の半導体レーザ素子が実用化されており、固体レーザを励起するための光源や、融点の比較的低い材料、例えば、プラスチックなどを加工・溶接するためのものとして用いられている。最近では、この高出力の半導体レーザ素子を1次元に配列したバー・レーザ(Bar Laser)や、バー・レーザを素子配列方向と直交する方向に多段化したスタック・レーザ(Stack Laser) が登場しており、このように発光スポットの数を増やすことで、数kW程度の高出力を実現している。 Currently, high-power semiconductor laser elements of about several tens of watts have been put into practical use as light sources for exciting solid-state lasers and for processing and welding materials with relatively low melting points, such as plastics. It is used. Recently, a bar laser (Bar Laser) in which this high-power semiconductor laser device is arranged in one dimension and a stack laser (Stack Laser) in which the bar laser is multi-staged in the direction perpendicular to the device arrangement direction have appeared. In this way, by increasing the number of light emitting spots, a high output of about several kW is realized.
高出力型の半導体レーザ素子は、一般にブロードエリア型のチップ構造を有している。ブロードエリア型の半導体レーザ素子としては、例えば、図7に示したように、基板110の表面に、n型半導体層、活性層、および複数のリッジを有するp型半導体層からなる半導体積層構造111とp側電極112とを備え、さらに基板110の裏面にn側電極113を備えたものがある。このような構成の半導体レーザ素子では、各リッジに対応して端面に形成される単一の発光スポット114は通常、等方的な形状とはならず、半導体の積層方向と垂直な方向(横方向)に延在する偏平な形状となっている。ここで、複数の発光スポット114は、巨視的に見ると、横方向の幅の極めて広い1つの発光スポット(疑似発光スポット115)と等価であるので、半導体レーザ素子から出力される光は、横方向に、発光幅Ws、発散角θsのビーム形状を有していると言うことができる。
A high-power semiconductor laser element generally has a broad area type chip structure. As a broad area type semiconductor laser element, for example, as shown in FIG. 7, a
このような偏平な発光スポット115から出力される光を、通常の光学系を用いて像変換すると、発光スポット115の縦横比と等しい縦横比の像が形成される。つまり、通常の光学系を用いた場合には、変換後のビーム形状は発光スポット115の形状に依存し、等方的にはならない。そこで、偏平な発光スポット115から出力された光を像変換することにより得られるビーム形状を等方的にするための方策が種々提案されている。
When the light output from such a flat
例えば、特許文献1では、半導体レーザ素子の光を、光軸に対して斜めの反射面を有する階段状のミラーを用いて2回反射させ、それにより像の偏平な方向を90°回転させて、ビーム形状を等方的にする技術が開示されている。 For example, in Patent Document 1, the light of the semiconductor laser element is reflected twice using a step-like mirror having a reflective surface oblique to the optical axis, thereby rotating the flat direction of the image by 90 °. A technique for making the beam shape isotropic is disclosed.
しかし、このように2回の反射を利用すると、反射による光損失が必ず発生するので、高効率にビーム形状を等方的にすることができない。 However, when two reflections are used in this way, a light loss due to reflection always occurs, so that the beam shape cannot be made isotropic with high efficiency.
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、高効率にビーム形状を等方的にすることの可能な光学装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide an optical apparatus capable of making a beam shape isotropic with high efficiency.
本発明の光学装置は、半導体レーザ素子と、1または複数の外部共振器とを備えたものである。半導体レーザ素子は、1または複数の発光スポットを少なくとも一の端面側に有している。外部共振器は、各発光スポットから出力される光が到達し得る個々の領域の一部分に設けられている。 The optical device of the present invention includes a semiconductor laser element and one or more external resonators. The semiconductor laser element has one or a plurality of light emission spots on at least one end face side. The external resonator is provided in a part of each region where the light output from each light emitting spot can reach.
本発明の光学装置では、各発光スポットから出力される光が到達し得る個々の領域の一部分に外部共振器が設けられているので、半導体レーザ素子に電流を注入して各発光スポットから光が出力されると、外部共振器の設けられている部分に入射した光の一部が各発光スポットにフィードバックされ、増幅される。これにより、各発光スポットから出力される光は、光損失を発生させることなく、外部共振器の設けられている部分にだけ出力されるようになる。 In the optical device according to the present invention, an external resonator is provided in a part of each region where the light output from each light emitting spot can reach. Therefore, a current is injected into the semiconductor laser element so that light is emitted from each light emitting spot. When output, a part of the light incident on the portion where the external resonator is provided is fed back to each light emitting spot and amplified. As a result, the light output from each light emitting spot is output only to the portion where the external resonator is provided without causing optical loss.
本発明の光学装置によれば、各発光スポットから出力される光が到達し得る個々の領域の一部分に、外部共振器を設けるようにしたので、各発光スポットから出力される光は、光損失を発生させることなく、外部共振器の設けられている部分にだけ出力されるようになる。このとき、各発光スポットから出力される光の発散角は、各発光スポットから出力される光が到達し得る全ての領域に外部共振器を設けた場合のそれと比べて小さくなっている。これにより、半導体レーザ素子の発光スポットが偏平な形状となっている場合であっても、高効率にビーム形状を等方的にすることができる。 According to the optical device of the present invention, since the external resonator is provided in a part of each region where the light output from each light emission spot can reach, the light output from each light emission spot is light loss. Without being generated, the signal is output only to the portion where the external resonator is provided. At this time, the divergence angle of the light output from each light emission spot is smaller than that when the external resonator is provided in all regions where the light output from each light emission spot can reach. Thereby, even when the light emission spot of the semiconductor laser element has a flat shape, the beam shape can be made isotropic with high efficiency.
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図1は、本発明の一実施の形態に係る発光装置の断面構成を表すものである。この発光装置は、半導体レーザ素子10、縦方向コリメートレンズ20、横方向コリメートレンズ30、フィードバック素子40、集光レンズ50および光ファイバ60を光軸方向にこの順に配列して構成したものである。図2は、図1の半導体レーザ素子10を斜視的に表すものである。なお、図1の半導体レーザ素子10は、図2の半導体レーザ素子10のA−A矢視方向の断面構成を表すものである。また、図1および図2は、模式的に表したものであり、実際の寸法、形状とは異なっている。
FIG. 1 illustrates a cross-sectional configuration of a light emitting device according to an embodiment of the present invention. This light emitting device is configured by arranging a
この発光装置は、端面の各発光スポット16(後述)を半導体の積層方向と垂直な方向(横方向)に一列に配列してなるアレイ型の半導体レーザ素子10から出力される光のビーム形状を縦方向コリメートレンズ20、横方向コリメートレンズ30およびフィードバック素子40により補正して、補正後の光を集光レンズ50により光ファイバ60と結合させたものである。
This light emitting device has a beam shape of light output from an array type
この半導体レーザ素子10は、基板11の一面側に半導体積層構造12を成長させたものであり、半導体積層構造12は、基板11側から順に、第1導電型半導体層(図示せず)、活性層13、第2導電型半導体層(図示せず)を有している。第2導電型半導体層の上部には、互いに所定の間隔で複数のリッジ14が形成されている。このリッジ14の底部の幅は典型的には数10μm以上500μm以下となっており、半導体積層構造12は、ブロードエリア型のチップ構造を有している。
The
また、半導体レーザ素子10を駆動することにより、活性層13のうち各リッジ14の底部に対応する部分には発光領域15が形成され、半導体レーザ素子10の一方の端面のうち各発光領域14に対応する部分には発光スポット16が形成されるようになっている。つまり、各発光スポット16は、端面において、互いに所定の間隔で横方向に一列に配列されることとなる。また、各発光スポット16は、上記したように半導体積層構造12がブロードエリア型のチップ構造を有していることから、等方的な形状とはならず、横方向に延在する偏平な形状となる。さらに、このような偏平な形状を有する複数の発光スポット16は、巨視的に見ると、横方向の幅の極めて広い1つの発光スポット(疑似発光スポット17)と等価であるので、半導体レーザ素子10から出力される光は、横方向に、発光幅Ws、発散角θsのビーム形状を有していると言うことができる。
Further, by driving the
この半導体レーザ素子10はまた、各リッジ14の表面からその周辺部分の表面に渡ってp側電極18を有しており、基板11の裏面側のうちp側電極15と対向する部分にn側電極19を有している。
The
縦方向コリメートレンズ20は、例えば、半導体の積層方向と平行な方向(縦方向)に凸形状を有するレンズであり、縦方向のビームの発散を抑えて、ビームの縦方向成分を平行光化するようになっている。他方、横方向コリメートレンズ30は、例えば、横方向に凸形状を有するレンズであり、横方向のビームの発散を抑えて、ビームの横方向成分を平行光化するようになっている。従って、縦方向コリメートレンズ20および横方向コリメートレンズ30を組み合わせることにより、半導体レーザ素子10の光を平行光化するようになっている。
The longitudinal
フィードバック素子40は、各発光スポット16に対応して外部共振器41を有している。各外部共振器41は、各発光スポット16から出力される光が到達し得る全ての領域に何らかの外部共振器を設けた場合に、各発光スポット16から出力される光が縦方向コリメートレンズ20および横方向コリメートレンズ30を介して到達し得る個々の領域の一部分に設けられている。なお、「一部分」の意義については、発光装置の作用において説明する。
The
外部共振器41は、例えば、光軸方向に周期的に屈折率の変化するグレーティング構造を有する光学素子により構成されている。そのような光学素子としては例えばVBG(Volume Brrag Grating)がある。VBGは、屈折率の互いに異なる材料からなる厚さλ/4(λ:発振波長)の層を交互に配列して構成されたものであり、例えば、光照射により屈折率の変化する材料に対して紫外光などをλ/4間隔で照射することにより形成されている。ここで、光照射により屈折率の変化する材料としては、例えば、AgやCeなどを含有する、SiO2 、Al2 O3 またはNa2 Oなどが挙げられる。また、紫外光などを等間隔で材料に照射する方法としては、例えば、2つのレーザ光を照射し、それらレーザ光の干渉により周期的に光の強弱を作り出したり、回折格子を有するマスクにレーザ光を照射し、回折効果により周期的に光の強弱を作り出したり、単純にレーザ光をスポット照射することが挙げられる。
The
集光レンズ50は、例えば、1枚の球面レンズまたは複数のシリンドリカルレンズで構成されており、この集光レンズ50の焦点距離は、光ファイバ60のコア部61(後述)に結像させるように選ばれている。
The
光ファイバ60は、その中央部分にコア部61を、コア部61の外周部分にクラッド部62をそれぞれ有している。コア部61は、縦方向コリメートレンズ20、横方向コリメートレンズ30、フィードバック素子40および集光レンズ50によって像変換されたレーザ光を伝播させる芯線としての役割を有するものである。クラッド部62は、コア部61内を伝播するレーザ光をコア部61に閉じ込めるための外皮としての役割を有する。
The
次に、このような構成を備えた発光装置の作用・効果について説明する。なお、図1は、各発光スポット16から出力された光のうち、各発光スポット16の中央部分から出力された光だけを抽出して、その光が縦方向コリメートレンズ20、横方向コリメートレンズ30、フィードバック素子40および集光レンズ50に向かう様子を模式的に表したものである。図1の破線は、半導体レーザ素子10に電流を注入した初期の段階における光束を表したものであり、図1の一点鎖線は、半導体レーザ素子1に電流を注入したのち定常状態に落ち着いた段階における光束を表したものである。
Next, functions and effects of the light emitting device having such a configuration will be described. In FIG. 1, only the light output from the central portion of each light emitting
半導体レーザ素子10に電流を注入すると、各リッジ14により電流狭窄されたのち、活性層13の発光領域15に電流が注入され、これにより電子と正孔の再結合による発光が生じる。この光のうち各発光スポット16から外部共振器41側に出力された光は、各外部共振器41の設けられている部分よりも広い領域に入射し(図1破線参照)、その入射した光のうち各外部共振器41の設けられている部分に入射した光だけが各発光スポット16にフィードバックされる。また、発光領域15で発生した光のうち外部共振器41とは反対側に向かった光は、半導体レーザ素子10の後側の端面で反射される。このようにして、半導体レーザ素子10の後側の端面および外部共振器41からなる一対の反射鏡により反射を繰り返すことによりレーザ発振が生じるが、このとき、各発光スポット16から外部共振器41側に出力された光は、次第に各外部共振器41の設けられている部分に収斂し、その収斂した光は集光レンズ50を透過し、光ファイバ60へ結合される(図1一点鎖線参照)。
When a current is injected into the
つまり、上記した「外部共振器41が〜一部分に設けられている」とは、半導体レーザ素子10に電流を注入した初期の段階において、各発光スポット16から外部共振器41側に出力された光がフィードバック素子40に入射する領域の一部分に、各外部共振器41の入射窓41Aが設けられている、ということと同義である。
That is, “the
従って、本実施の形態では、各発光スポット16から出力された光を、フィードバック素子40において光損失を発生させることなく、図1の一点鎖線に示したように、各外部共振器41から出力させることができる。
Accordingly, in the present embodiment, the light output from each light emitting
次に、各発光スポット16を巨視的に1つの疑似発光スポット17と捉えた場合の疑似発光スポット17から出力される光のビーム品質と、疑似発光スポット17から出力される光を縦方向コリメートレンズ20、横方向コリメートレンズ30、外部共振器41および集光レンズ50によって像変換した後のビーム品質について説明する。
Next, when each light emitting
半導体レーザ素子から出力される光のビーム形状は、一般的に、単一の発光スポットの発光幅と発散角との積で表されるビーム品質という指標を用いて評価される。ブロードエリア型の半導体レーザ素子では、発光スポットが横方向に偏平な形状となっていることから、以下の式に示したように、発光スポットの発光幅と発散角を、横方向および縦方向に分けて考えるのが一般的である。
Ws×θs=(λ/π)×Ms2 …(1)
Wf×θf=(λ/π)×Mf2 …(2)
λ:発振波長
Ws:横方向の発光幅、θs:横方向の発散角
Wf:縦方向の発光幅、θf:縦方向の発散角
The beam shape of light output from a semiconductor laser element is generally evaluated using an index of beam quality represented by the product of the light emission width and divergence angle of a single light emission spot. In the broad area type semiconductor laser device, since the light emission spot is flat in the horizontal direction, as shown in the following formula, the light emission width and the divergence angle of the light emission spot are set in the horizontal and vertical directions. It is common to think separately.
Ws × θs = (λ / π) × Ms 2 (1)
Wf × θf = (λ / π) × Mf 2 (2)
λ: oscillation wavelength Ws: horizontal emission width, θs: horizontal divergence angle Wf: vertical emission width, θf: vertical divergence angle
このビーム品質という指標には、式(1),(2)の右辺にあるMs2 ,Mf2 (エム・スクエア)が用いられる。なお、半導体レーザ素子の全体のビーム品質を評価する際には、以下の式に示したように、Ms2 とMf2 との積(M2 )を用いる。
M2 =Ms2 ×Mf2 …(3)
Ms 2 and Mf 2 (M square) on the right side of the equations (1) and (2) are used as an index of the beam quality. When evaluating the overall beam quality of the semiconductor laser element, the product (M 2 ) of Ms 2 and Mf 2 is used as shown in the following equation.
M 2 = Ms 2 × Mf 2 (3)
ここで、M2 が小さいほど、微小なスポットに容易に集光することができるのでビーム品質が良いと言え、その値が1のとき、最良のビーム品質であるといえる。他方、M2 が大きいほど、微小なスポットに集光することが困難であるのでビーム品質が悪いと言える。また、Ms2 およびMf2 のいずれか一方だけが小さく、他方が極めて大きい場合にも、等方的に微小なスポットに集光することが困難であるのでビーム品質が悪いと言える。エム・スクエアは通常の光学レンズ等による像変換においては保存量であり、レンズの収差等により大きくなることはあるが、小さくすることはできない。 Here, it can be said that the smaller the M 2 , the easier it is to focus on a minute spot, so that the beam quality is good. When the value is 1, it can be said that the beam quality is the best. On the other hand, it can be said that the higher the M 2 , the worse the beam quality because it is difficult to focus on a minute spot. Also, when only one of Ms 2 and Mf 2 is small and the other is extremely large, it can be said that the beam quality is poor because it is difficult to focus on an isotropically small spot. M square is a storage amount in image conversion by a normal optical lens or the like, and may increase due to lens aberration or the like, but cannot be reduced.
ところで、半導体レーザ素子10は、一般的な半導体レーザ素子と同様、縦方向のMf2 が1となるように設計されているので、縦方向のビーム品質は極めて良い。しかし、横方向のMs2 は、疑似発光スポット17が横方向に偏平な形状となっていることから、一般的な半導体レーザ素子と同様、縦方向のMf2 よりも著しく悪い。そのため、上記したように、半導体レーザ素子10の光を通常の光学系を用いて像変換しても、微小なスポットに集光することは困難である。
By the way, since the
そこで、従来では、特許文献1で開示されていたように、半導体レーザ素子の光を、光軸に対して斜めの反射面を有する階段状のミラーを用いて2回反射させ、それにより像の偏平な方向を90°回転させて、横方向のMs2 と、縦方向のMf2 とを等方化することが考えられる。しかし、このようにして等方化すると、もともとビーム品質の良かった縦方向のMf2 、特に縦方向の発散角θfを悪くしてしまうので、例えば、図3に示したように、バー状の半導体レーザ素子10を縦方向にスタックした場合には、巨視的な疑似発光スポット27の縦方向のMf2 が極めて悪くなってしまい、光ファイバのコア径を大きくしない限り、縦方向にスタックする数が大幅に制限されてしまう。また、階段状のミラーを用いた後のM2 は、それを用いなかったときのM2 よりも確実に悪くなってしまうので、微小なスポットに集光することが困難になる。そのため、縦方向にスタックする数を増やしても思ったほど輝度が上がらず、極めて高い出力の要求される用途にはあまり向かない。
Therefore, conventionally, as disclosed in Patent Document 1, the light of the semiconductor laser element is reflected twice by using a step-like mirror having a reflecting surface oblique to the optical axis, whereby the image It is conceivable to rotate the flat direction by 90 ° to make the Ms 2 in the horizontal direction and the Mf 2 in the vertical direction isotropic. However, if isotropic in this way, the vertical Mf 2 , which was originally good in beam quality, in particular, the vertical divergence angle θf is deteriorated. For example, as shown in FIG. When the
一方、本実施の形態では、各発光スポット16から出力される光が到達し得る個々の領域の一部分に各外部共振器41を設けて、各発光スポット16から出力される光を各外部共振器41の設けられている部分にだけ出力されるようにしたので、疑似発光スポット17から出力される光の横方向の発散角θsは、疑似発光スポット17から出力される光が到達し得る全ての領域に何らかの外部共振器を設けた場合の横方向の発散角θoと比べて小さくなっている(図1参照)。つまり、疑似発光スポット17から出力される光の横方向の発光幅Ws、縦方向の発光幅Wfおよび縦方向の発散角θfの値を変えることなく、つまりこれらの値とは独立に発散角θsを小さくすることができ、M2 を1にすることも可能である。
On the other hand, in the present embodiment, each
これにより、半導体レーザ素子10の疑似発光スポット17が偏平な形状となっている場合であっても、M2 (ビーム品質)を小さくしつつ、横方向のMs2 と、縦方向のMf2 とを等方化することができる。従って、本実施の形態では、高効率にビーム形状を等方的にすることができ、さらに、微小なスポットに集光することが可能となる。その結果、光ファイバ60のコア部61の径を従来の径よりも小さくすることができる。
Thereby, even if the pseudo
また、図3に示したように、バー状の半導体レーザ素子10を縦方向にスタックした場合には、巨視的な疑似発光スポット27の縦方向の発散角θfはバー状の半導体レーザ素子10が1つの場合のそれと全く同一であるから、発光スポット27の縦方向のMf2 は縦方向にスタックする数に応じてわずかに大きくなるだけであり、微小なスポットに集光することができる。これにより、コア部61の径を従来の径と同等とした場合に、縦方向にスタックすることの可能なバー状の半導体レーザ素子10の数を従来よりも大幅に増やすことができる。また、微小なスポットに集光することが可能であることから、縦方向にスタックする数に応じて輝度を上げることができ、極めて高い出力の要求される用途に適している。
As shown in FIG. 3, when the bar-shaped
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではなく、種々変形可能である。 While the present invention has been described with reference to the embodiment, the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made.
例えば、上記実施の形態では、フィードバック素子40を、半導体レーザ素子10と光ファイバ60との間の光路上に配置するようにしていたが、図4に示したように、半導体レーザ素子10の背面側の光路上に配置するようにしてもよい。ただし、この場合には、上記実施の形態の場合とは逆に、半導体レーザ素子10の背面側の端面の反射率を低くする。また、半導体レーザ素子1の背面側と、フィードバック素子40との間の光路上に、縦方向コリメートレンズ20および横方向コリメートレンズ30を配置することが好ましい。
For example, in the above embodiment, the
また、上記実施の形態では、フィードバック素子40の内部に複数の外部共振器41を所定の間隔で配列するようにしていたが、例えば、図5に示したように、支持部71の表面に外部共振器72を所定の間隔で配列してフィードバック素子70を形成するようにしてもよい。この場合には、外部共振器72を、例えば、AuまたはAlなどからなる金属膜や、Ta2 O5 、TiO2 またはSiO2 などからなる誘電体多層膜により構成することも可能となるので、フィードバック素子40よりも構造を簡易にすることができる。
In the above embodiment, a plurality of
このフィードバック素子70は、例えば、図6(A)〜(D)に示したようにして、製造することができる。まず、支持部71上にフォトレジストR1を塗布したのち、リソグラフィー処理を行うことにより、外部共振器72を形成することとなる領域上に開口部を有するマスクR2を形成する。続いて、表面全体に渡って、外部共振器72に用いられる材料72Aを成膜したのち、リフトオフを行うことにより、支持部71上に外部共振器72を形成する。このようにしてフィードバック素子70を製造することができる。
This
10…半導体レーザ素子、11…基板、12…半導体積層構造、13…活性層、14…リッジ、15…発光領域、16…発光スポット、17,27…疑似発光スポット、18…p側電極、19…n側電極、20…縦方向コリメートレンズ、30…横方向コリメートレンズ、40,70…フィードバック素子、41,72…外部共振器、41A…入射窓、50…集光レンズ、60……光ファイバ、61…コア部、62…クラッド部、71…支持部、θo,θs…発散角、Ws…発光幅。
DESCRIPTION OF
Claims (9)
各発光スポットから出力される光が到達し得る個々の領域の一部分に設けられた1または複数の外部共振器と
を備えたことを特徴とする光学装置。 A semiconductor laser device having at least one light emitting spot on at least one end face side;
An optical device comprising: one or a plurality of external resonators provided in a part of an individual region where light output from each light emitting spot can reach.
ことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。 The optical device according to claim 1, wherein the external resonator is made of a metal film or a dielectric multilayer film.
ことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。 The optical device according to claim 1, wherein the external resonator has a grating structure whose refractive index changes periodically.
ことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。 The optical apparatus according to claim 1, wherein the external resonator is provided on an optical path on a side of emitting the light of the semiconductor laser element to the outside.
ことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。 The optical apparatus according to claim 1, wherein the external resonator is provided on an optical path opposite to a side that emits light of the semiconductor laser element to the outside.
を備える
ことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。 On the optical path between the semiconductor laser element and the external resonator, a vertical collimating element that collimates vertical light out of the light output from each light emitting spot, and output from each light emitting spot The optical device according to claim 1, further comprising: a horizontal collimating element that collimates the light in the horizontal direction among the light to be emitted.
前記複数の発光スポットは、横方向に並列に配列されている
ことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。 The semiconductor laser element has a plurality of light emission spots,
The optical device according to claim 1, wherein the plurality of light emission spots are arranged in parallel in a horizontal direction.
ことを特徴とする請求項7に記載の光学装置。 The optical device according to claim 7, wherein the plurality of light emission spots are arranged in parallel in the vertical direction.
ことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。
The optical apparatus according to claim 1, further comprising an optical fiber at an end on an optical path on a side of emitting light of the semiconductor laser element to the outside.
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Cited By (5)
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