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JP2007250459A - Electroluminescent display and manufacturing method thereof - Google Patents

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JP2007250459A
JP2007250459A JP2006075149A JP2006075149A JP2007250459A JP 2007250459 A JP2007250459 A JP 2007250459A JP 2006075149 A JP2006075149 A JP 2006075149A JP 2006075149 A JP2006075149 A JP 2006075149A JP 2007250459 A JP2007250459 A JP 2007250459A
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JP
Japan
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desiccant
display device
desiccant layer
layer
support substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP2006075149A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuji Komura
哲司 小村
Teruyoshi Shibata
晃佳 柴田
Norihiro Ikeda
典弘 池田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP2006075149A priority Critical patent/JP2007250459A/en
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the rupture of a sealing resin, when bonding a support substrate and a sealing substrate in an electroluminescent (EL) display. <P>SOLUTION: The support substrate 100 in which an EL element 101 is arranged, and the sealing substrate 200 in which a recess (pocket section 201) is formed are bonded via the sealing resin 150. A desiccating agent layer 210 is formed at the bottom of the pocket section 201 so that it opposes the EL element 101. When the volume of the pocket section 201 is set to V1 (=L1×L2×H1) and that of the desiccating agent 210 is set to V2 (=M1×M2×H2), the pocket section 201 and the desiccating agent layer 210 are formed so that a relationship of 0<V2/V1≤0.8 is established. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法に関し、特にエレクトロルミネッセンス表示装置の封止構造及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an electroluminescence display device and a manufacturing method thereof, and more particularly to a sealing structure of an electroluminescence display device and a manufacturing method thereof.

近年、エレクトロルミネッセンス(Electro Luminescence:以下、「EL」と称する。)素子を用いたEL表示装置が、CRTやLCDに代わる表示装置として注目されている。   In recent years, an EL display device using an electroluminescence (hereinafter referred to as “EL”) element has attracted attention as a display device that replaces a CRT or LCD.

このEL素子は水分に弱いため、EL表示装置では、乾燥剤が塗布された金属キャップやガラスキャップで蓋をする構造が知られている。図8はそのような従来のEL表示装置の構造を示す断面図である。   Since this EL element is sensitive to moisture, an EL display device has a structure in which a lid is covered with a metal cap or a glass cap coated with a desiccant. FIG. 8 is a cross-sectional view showing the structure of such a conventional EL display device.

図8に示すように、支持基板70は、その表面に多数のEL素子71が形成された表示領域を有している。この支持基板70は、エポキシ樹脂等から成るシール樹脂75(接着剤)を介して、キャップ用の封止基板80と貼り合わされている。封止基板80には、上記表示領域に対応した領域に凹部81(以下、ポケット部81と称する)がエッチングによって形成されており、このポケット部81の内側表面に水分等の湿気を吸収するための乾燥剤層82が塗布されている。ここで、ポケット部81を設けている理由は、乾燥剤層82とEL素子71との間のスペースを確保して、乾燥剤層82がEL素子71に接触しEL素子71に損傷を与えるのを防止するためである。   As shown in FIG. 8, the support substrate 70 has a display area in which a number of EL elements 71 are formed on the surface thereof. The support substrate 70 is bonded to a cap sealing substrate 80 via a seal resin 75 (adhesive) made of epoxy resin or the like. In the sealing substrate 80, a recess 81 (hereinafter referred to as a pocket portion 81) is formed by etching in a region corresponding to the display region, and moisture such as moisture is absorbed on the inner surface of the pocket portion 81. The desiccant layer 82 is applied. Here, the reason why the pocket portion 81 is provided is that the space between the desiccant layer 82 and the EL element 71 is secured, and the desiccant layer 82 contacts the EL element 71 and damages the EL element 71. It is for preventing.

次に、図9を参照して、支持基板70と封止基板80とを貼りあわせる工程を説明する。図9は、支持基板70と封止基板80とを貼り合せる直前の断面図であり、図8はその後の断面図である。図9に示すように、支持基板70と封止基板80とを貼り合わせる際には、まず、封止基板80側(あるいは支持基板70側)の接触面に沿ってシール樹脂75を所定量(例えば、高さ50μm程度)塗布する。次に、支持基板70と封止基板80とを押し圧によって接着させ、その後シール樹脂75を加熱硬化することで、図8に示すようなEL表示装置が完成する。この貼りあわせによって、シール樹脂75は圧縮されて、最終的には10μm程度の高さになる。
特開2003−317936号公報
Next, with reference to FIG. 9, the process of bonding the support substrate 70 and the sealing substrate 80 is demonstrated. FIG. 9 is a cross-sectional view immediately before the support substrate 70 and the sealing substrate 80 are bonded together, and FIG. 8 is a subsequent cross-sectional view. As shown in FIG. 9, when the support substrate 70 and the sealing substrate 80 are bonded together, first, a predetermined amount of the sealing resin 75 is provided along the contact surface on the sealing substrate 80 side (or the support substrate 70 side) ( For example, the height is about 50 μm). Next, the support substrate 70 and the sealing substrate 80 are bonded together by pressing pressure, and then the sealing resin 75 is heat-cured to complete the EL display device as shown in FIG. By this bonding, the sealing resin 75 is compressed and finally has a height of about 10 μm.
JP 2003-317936 A

上述のとおり支持基板70と封止基板80とを張り合わせる際に、シール樹脂75の高さが必ず減少するので、これによって支持基板70と封止基板80との間に形成される空間(以下、内部空間と称する)の体積が減少する。そして、これに伴って内部空間の圧力が変化(上昇)することになる。従って、貼りあわせ工程の際に、当該上昇する圧力によってシール樹脂75の一部が破裂するという問題があった。そして、当該破裂部分から水分が内部空間に過剰に浸入し、EL表示装置の動作特性が劣化するという問題があった。   As described above, when the support substrate 70 and the sealing substrate 80 are attached to each other, the height of the sealing resin 75 is necessarily reduced, so that a space formed between the support substrate 70 and the sealing substrate 80 (hereinafter referred to as “the sealing resin 80”). , Referred to as internal space). Along with this, the pressure in the internal space changes (rises). Accordingly, there has been a problem that a part of the sealing resin 75 is ruptured by the rising pressure during the bonding process. Then, there is a problem that moisture permeates into the internal space excessively from the ruptured portion and the operating characteristics of the EL display device deteriorate.

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、主としてシール樹脂の破裂を防止したEL表示装置の封止構造を提供するものである。主な特徴は以下のとおりである。すなわち、本発明にかかるEL表示装置は、表面にエレクトロルミネッセンス素子を備えた支持基板と、前記エレクトロルミネッセンス素子と対向する面に凹部が形成され、接着剤を介して前記支持基板と貼り合わされた封止基板と、前記凹部の内側表面に形成された乾燥剤層とを備え、前記凹部の容積をV1とし、前記乾燥剤層の体積をV2とした場合に、0<V2/V1≦0.8の関係が成立することを特徴とする。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and provides an EL display device sealing structure that mainly prevents the sealing resin from being ruptured. The main features are as follows. That is, the EL display device according to the present invention includes a support substrate having an electroluminescence element on a surface thereof, a recess formed on a surface facing the electroluminescence element, and bonded to the support substrate via an adhesive. When a stop substrate and a desiccant layer formed on the inner surface of the recess are provided, the volume of the recess is V1, and the volume of the desiccant layer is V2, 0 <V2 / V1 ≦ 0.8 The relationship is established.

また、本発明に係るEL表示装置は、前記エレクトロルミネッセンス素子の内側に前記乾燥剤が形成され、前記エレクトロルミネッセンス素子の端部と前記乾燥剤層の端部との水平距離が3cm以下であることを特徴とする。   In the EL display device according to the present invention, the desiccant is formed inside the electroluminescent element, and a horizontal distance between an end of the electroluminescent element and an end of the desiccant layer is 3 cm or less. It is characterized by.

また、乾燥剤層がマトリクス状に分割して形成されていることを特徴とする。さらにまた、乾燥剤層がシート状の乾燥剤から成ることを特徴とする。さらにまた、前記接着剤を介して貼り合せる前の前記支持基板と前記封止基板との間の空間の圧力から、前記接着剤を介して貼り合せた後の前記空間の圧力への変化が1.0倍以上2.0倍未満であることを特徴とする。   Further, the desiccant layer is formed by being divided into a matrix. Furthermore, the desiccant layer is made of a sheet-like desiccant. Furthermore, the change from the pressure in the space between the support substrate and the sealing substrate before bonding through the adhesive to the pressure in the space after bonding through the adhesive is 1. 0.0 times or more and less than 2.0 times.

また、本発明に係るEL表示装置の製造方法は、表面にエレクトロルミネッセンス素子を備えた支持基板と、表面に凹部が形成された封止基板とを準備し、前記凹部の内側表面に乾燥剤層を形成する工程と、前記エレクトロルミネッセンス素子と前記凹部が対向するようにして、前記支持基板と前記封止基板とを接着剤を介して貼り合わせる工程とを有し、前記凹部の容積をV1とし、前記乾燥剤層の体積をV2とした場合に、0<V2/V1≦0.8の関係が成立するように前記乾燥剤を形成することを特徴とする
また、前記エレクトロルミネッセンス素子の内側に前記乾燥剤を形成し、前記エレクトロルミネッセンス素子の端部と前記乾燥剤層の端部との水平距離が3cm以下となるように、前記エレクトロルミネッセンス素子及び前記乾燥剤層を形成したことを特徴とする。
In addition, a method for manufacturing an EL display device according to the present invention includes preparing a support substrate having an electroluminescence element on the surface and a sealing substrate having a recess formed on the surface, and a desiccant layer on the inner surface of the recess. And the step of bonding the support substrate and the sealing substrate with an adhesive so that the electroluminescent element and the recess face each other, and the volume of the recess is V1. The desiccant is formed so that the relationship of 0 <V2 / V1 ≦ 0.8 is satisfied when the volume of the desiccant layer is V2, and the inside of the electroluminescent device is characterized in that The desiccant is formed, and the electroluminescent element and the horizontal distance between the end of the electroluminescent element and the end of the desiccant layer are 3 cm or less. A desiccant layer is formed.

さらにまた、乾燥剤層を、マトリクス状に分割して形成することを特徴とする。また、前記乾燥剤層がシート状の乾燥剤から成ることを特徴とする。   Furthermore, the desiccant layer is formed by being divided into a matrix. The desiccant layer is made of a sheet-like desiccant.

また、前記凹部に乾燥剤層を形成する工程は、裏面に接着剤が塗布された複数のシート状の乾燥剤の表面をヘッドで吸着固定し、その後、前記ヘッドの押し圧によって前記凹部と前記シート型乾燥剤の裏面とを貼り合わせる工程から成ることを特徴とする。   Further, the step of forming a desiccant layer in the recess includes adsorbing and fixing the surfaces of a plurality of sheet-like desiccants having an adhesive applied to the back surface with a head, and then pressing the head and pressing the recess and the It consists of the process of bonding together the back surface of a sheet type desiccant.

また、前記支持基板と前記封止基板とを接着剤を介して貼り合せる工程は、貼り合せる前の前記支持基板と前記封止基板との間の空間の圧力から、貼り合せた後の前記空間の圧力への変化が1.0倍以上2.0倍未満となるように行うことを特徴とする。   Further, the step of bonding the support substrate and the sealing substrate through an adhesive includes the space after bonding from the pressure of the space between the support substrate and the sealing substrate before bonding. It is characterized in that it is performed so that the change to the pressure becomes 1.0 times or more and less than 2.0 times.

本発明によれば、EL素子が形成された支持基板と、EL素子を封止するための封止基板とを貼り合わせる際に生じる内部空間の圧力変化を低く抑えることができるため、シール樹脂の破裂という問題を解消することができる。   According to the present invention, the pressure change in the internal space generated when the supporting substrate on which the EL element is formed and the sealing substrate for sealing the EL element can be suppressed can be kept low. The problem of rupture can be solved.

また、EL素子の端部と乾燥剤の端部との距離を一定以下にした場合は、シール樹脂の破裂を防止すると同時に、耐湿効果の高いEL表示装置を提供することができる。   Further, when the distance between the end portion of the EL element and the end portion of the desiccant is set to a certain value or less, it is possible to provide an EL display device having a high moisture resistance effect while preventing the sealing resin from bursting.

さらにまた、乾燥剤層をマトリクス状に分割して形成する場合には、各乾燥剤層の接着面への気体の巻き込みが低減されるため、乾燥剤層の不良発生を防止することができる。その上、乾燥剤を配置する工程の作業性が上がり、製造コストを低く抑えることが可能となる。   Furthermore, when the desiccant layer is divided and formed in a matrix, the entrainment of gas on the bonding surface of each desiccant layer is reduced, so that the occurrence of defects in the desiccant layer can be prevented. In addition, the workability of the step of arranging the desiccant is improved, and the manufacturing cost can be kept low.

次に、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。   Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は本発明の第1の実施形態に係るEL表示装置を示す平面図である。図2は、図1におけるA−A’線における断面図である。   FIG. 1 is a plan view showing an EL display device according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line A-A ′ in FIG. 1.

ガラスなどから成る支持基板100は、その主表面に多数のEL素子101が形成された表示領域を有している。支持基板100の厚みは、例えば0.7mm程度である。表示領域は、複数の画素がマトリクス状に配置され、各画素毎にEL素子101が配置されている。EL素子の詳細な構造については後述する。   A support substrate 100 made of glass or the like has a display region in which a large number of EL elements 101 are formed on the main surface. The thickness of the support substrate 100 is about 0.7 mm, for example. In the display area, a plurality of pixels are arranged in a matrix, and an EL element 101 is arranged for each pixel. The detailed structure of the EL element will be described later.

ガラスなどから成る封止基板200は、上記支持基板100に蓋をするための基板であり、その厚みは例えば0.7mm程度である。この封止基板200には、あらかじめ上記表示領域と対向した領域に凹部201(以下、ポケット部201と称する)がエッチング等によって形成されている。ポケット部201の深さ(高さ)H1は例えば0.3mm程度である。ここで、ポケット部210の横の長さをL1,縦の長さをL2とした場合、ポケット部201の容積はVp(=L1×L2×H1)である。   The sealing substrate 200 made of glass or the like is a substrate for covering the support substrate 100 and has a thickness of about 0.7 mm, for example. In the sealing substrate 200, a recess 201 (hereinafter referred to as a pocket portion 201) is formed in advance in an area facing the display area by etching or the like. The depth (height) H1 of the pocket part 201 is, for example, about 0.3 mm. Here, when the horizontal length of the pocket portion 210 is L1 and the vertical length is L2, the volume of the pocket portion 201 is Vp (= L1 × L2 × H1).

このポケット部201の底部には、水分等の湿気を吸収するための乾燥剤層210がEL素子101に対向して形成されている。乾燥剤層210は、例えば粉末状の酸化カルシウムや酸化バリウム等、及び接着剤として樹脂を溶剤に溶かした状態にし、ポケット部201の底部に塗布し、更にUV照射や加熱処理を行うことで硬化させてある。   A desiccant layer 210 for absorbing moisture such as moisture is formed on the bottom of the pocket portion 201 so as to face the EL element 101. The desiccant layer 210 is cured by, for example, powdered calcium oxide, barium oxide, or the like, and a resin dissolved in a solvent as an adhesive, applied to the bottom of the pocket portion 201, and further subjected to UV irradiation or heat treatment. I'm allowed.

乾燥剤層210は表面積を増大させるために例えば渦巻状に塗布することもでき、その形状は任意であるが、本実施形態では一例としてその平面が四角形状となるように形成している。例えば、ポケット部201の高さH1が0.3mm程度であるとすると、乾燥剤層210の高さH2は0.2〜0.25mm程度である。そして、乾燥剤層210の横の長さをM1,縦の長さをM2とした場合、乾燥剤層210の体積はVd(=M1×M2×H2)である。なお、ポケット部201の底部に乾燥剤層210を形成するのは、乾燥剤層210とEL素子101との間隔を広く確保し、乾燥剤層210がEL素子101に接触してEL素子101に損傷を与えることを防止するためである。   In order to increase the surface area, the desiccant layer 210 can be applied, for example, in a spiral shape. The shape of the desiccant layer 210 is arbitrary, but in this embodiment, as an example, the plane is formed in a square shape. For example, if the height H1 of the pocket part 201 is about 0.3 mm, the height H2 of the desiccant layer 210 is about 0.2 to 0.25 mm. When the horizontal length of the desiccant layer 210 is M1 and the vertical length is M2, the volume of the desiccant layer 210 is Vd (= M1 × M2 × H2). Note that the desiccant layer 210 is formed on the bottom of the pocket portion 201 because a wide interval between the desiccant layer 210 and the EL element 101 is secured, and the desiccant layer 210 contacts the EL element 101 to form the EL element 101. This is to prevent damage.

また、支持基板100と封止基板200との接触面には、エポキシ樹脂等から成るシール樹脂150が接着剤として塗布されている。なお、支持基板100と封止基板200とを貼り合わせる際には、Nガスのような不活性ガス雰囲気のチャンバー内で貼り合わされるため、支持基板100と封止基板200の間の内部空間には不活性ガスが充填されている。 Further, a sealing resin 150 made of an epoxy resin or the like is applied as an adhesive to the contact surface between the support substrate 100 and the sealing substrate 200. Note that when the support substrate 100 and the sealing substrate 200 are bonded to each other, the internal space between the support substrate 100 and the sealing substrate 200 is bonded to each other in a chamber having an inert gas atmosphere such as N 2 gas. Is filled with an inert gas.

このように、支持基板100に形成されたEL素子101は、封止基板200によって外部の水分から保護される。   As described above, the EL element 101 formed on the support substrate 100 is protected from external moisture by the sealing substrate 200.

本実施形態では、ポケット部201の容積Vpと乾燥剤層210の体積Vdとの間で、0<Vd/Vp≦0.8の関係を維持するようにポケット部201及び乾燥剤層210を配置している。これによって、支持基板100と封止基板200とを貼り合わせる際の内部空間全体に対する体積変化の割合を少なくできる。この体積変化の割合が小さいということは、内部空間の圧力変化の割合が小さいという意味でもある。   In the present embodiment, the pocket portion 201 and the desiccant layer 210 are disposed so as to maintain a relationship of 0 <Vd / Vp ≦ 0.8 between the volume Vp of the pocket portion 201 and the volume Vd of the desiccant layer 210. is doing. Thereby, the volume change ratio with respect to the entire internal space when the support substrate 100 and the sealing substrate 200 are bonded together can be reduced. The small volume change rate also means that the pressure change rate in the internal space is small.

具体的には例えば従来Vd/Vp=0.9であり、シール樹脂が塗布時に50μmの高さであり,支持基板と封止基板との貼り合わせ時の押し圧によって10μmの高さになるとすると、内部空間の圧力が当初約0.7atmであったものが、貼り合わせ時には2倍近く(約1.4atm)となる。これに対して、本実施形態のように例えばVd/Vp=0.8であり、シール樹脂の高さの変化が上記と同じであるとすると、内部空間の圧力が当初約0.7atmであったものが、貼り合わせ時に約1.05atmとなる。つまり、Vd/Vpを0.8にすることによって圧力変化は1.5倍程度に抑えられる。なお、Vd/Vpを0.8よりも小さくすることによって内部空間の圧力変化をさらに小さくすることも当然可能である。   Specifically, for example, if Vd / Vp = 0.9 in the past, the seal resin is 50 μm in height when applied, and 10 μm in height due to the pressing force when the support substrate and the sealing substrate are bonded together. The pressure in the internal space that was initially about 0.7 atm is nearly doubled (about 1.4 atm) at the time of bonding. On the other hand, if, for example, Vd / Vp = 0.8 as in this embodiment and the change in the height of the sealing resin is the same as described above, the pressure in the internal space is initially about 0.7 atm. Is about 1.05 atm at the time of bonding. That is, the pressure change can be suppressed to about 1.5 times by setting Vd / Vp to 0.8. Of course, it is possible to further reduce the pressure change in the internal space by making Vd / Vp smaller than 0.8.

このように、本実施形態では、従来に比して支持基板100と封止基板200とを貼り合せる際の内部空間の圧力の上昇が小さくなるため、シール樹脂150の破裂の問題が低減される。   As described above, in this embodiment, since the increase in pressure in the internal space when the support substrate 100 and the sealing substrate 200 are bonded to each other is smaller than the conventional case, the problem of bursting of the seal resin 150 is reduced. .

また、本実施形態では、図1及び図2に示すように、EL素子101の内側に乾燥剤層210が形成され、乾燥剤層210の端部とEL素子101の端部との水平距離Nが3cm以下となるように乾燥剤層210とEL素子101とが配置されている。なお、後述するように有機EL素子101の外側は通常、陰極層で被覆されているため(図7参照)、乾燥剤層210の端部と陰極層の端部との水平距離Nが3cm以下となるように配置したということもできる。これによって、シール樹脂150の破裂を防止することができると同時に、シール樹脂150などを介して浸入してきた僅かな水分であってもEL素子101の端部に到達する前に効果的に吸収除去することができ、EL素子101全体の耐湿向上を図ることができる。   In the present embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, a desiccant layer 210 is formed inside the EL element 101, and a horizontal distance N between the end of the desiccant layer 210 and the end of the EL element 101. The desiccant layer 210 and the EL element 101 are disposed so that the thickness is 3 cm or less. As will be described later, since the outside of the organic EL element 101 is usually covered with the cathode layer (see FIG. 7), the horizontal distance N between the end of the desiccant layer 210 and the end of the cathode layer is 3 cm or less. It can also be said that they are arranged as follows. As a result, the sealing resin 150 can be prevented from rupturing, and at the same time, even a small amount of moisture that has entered through the sealing resin 150 or the like can be effectively absorbed and removed before reaching the end of the EL element 101. Thus, the moisture resistance of the entire EL element 101 can be improved.

なお、上記0<Vd/Vp≦0.8の関係を満たす範囲であるならば、EL素子101の外側に乾燥剤層210の端部が形成されていても良い。   Note that the end of the desiccant layer 210 may be formed outside the EL element 101 as long as the range satisfies the relationship of 0 <Vd / Vp ≦ 0.8.

次に、本発明の第2の実施形態に係るEL表示装置について説明する。図3は本発明の第2の実施形態に係るEL表示装置を示す平面図であり、図4は図3におけるB−B´線における断面図である。なお、図3において、図1,2と同一の構成部分については同一の符号を付し、説明を省略するか簡略している。   Next, an EL display device according to a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is a plan view showing an EL display device according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a sectional view taken along line BB ′ in FIG. In FIG. 3, the same components as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted or simplified.

上記第1の実施形態では、乾燥剤層210は単一領域に構成されているものであるが、本実施形態では、乾燥剤層220がマトリクス状に分割して形成されている。   In the first embodiment, the desiccant layer 210 is formed in a single region, but in the present embodiment, the desiccant layer 220 is divided into a matrix.

ポケット部201の容積Vpと複数の乾燥剤層220の合計の体積Vmとの間で、0<Vm/Vp≦0.8の関係を維持すようにポケット部201と乾燥剤層220を配置している点、及び、EL素子101の内側に乾燥剤層220が形成されている場合に各乾燥剤層220の端部からEL素子101の端部との水平距離Nを3cm以下となるように配置している点は上記第1の実施形態と同様である。   The pocket portion 201 and the desiccant layer 220 are arranged so as to maintain a relationship of 0 <Vm / Vp ≦ 0.8 between the volume Vp of the pocket portion 201 and the total volume Vm of the plurality of desiccant layers 220. When the desiccant layer 220 is formed inside the EL element 101, the horizontal distance N from the end of each desiccant layer 220 to the end of the EL element 101 is 3 cm or less. The arrangement is the same as in the first embodiment.

上記のように構成されたEL表示装置では、前記第1の実施形態と同様にシール樹脂150の破裂を防止することができるとともに、個々の乾燥剤層220をムラなく形成することができ、乾燥剤層の不良発生を防止するというメリットがある。また、乾燥剤を配置する工程の作業性が向上し、製造コストを低く抑えることができるというメリットがある。これらの点について図5を参照して説明する。   In the EL display device configured as described above, the sealing resin 150 can be prevented from being ruptured as in the first embodiment, and the individual desiccant layers 220 can be formed without unevenness. There is an advantage of preventing the occurrence of defects in the agent layer. In addition, there is a merit that the workability of the step of arranging the desiccant is improved and the manufacturing cost can be kept low. These points will be described with reference to FIG.

図5は、封止基板200上に乾燥剤層220を形成する工程について説明する図である。乾燥剤層220を塗布する方法としては、一般にディスペンサによる注入法が採用されるが、本実施形態では、ヘッド230を用いてシート状の乾燥剤220a,220bを封止基板200上に形成している。   FIG. 5 is a diagram illustrating a process of forming the desiccant layer 220 on the sealing substrate 200. As a method for applying the desiccant layer 220, an injection method using a dispenser is generally employed. In this embodiment, sheet-like desiccants 220 a and 220 b are formed on the sealing substrate 200 using the head 230. Yes.

シート状の乾燥剤220a,220bは、その内部に酸化カルシウムや酸化バリウム等を含み、その裏面には接着層が予め塗布されている。まず、図5(a)に示すように、ヘッド230による吸引でシート状の乾燥剤層220bを一つ吸着固定させ、図5(b)に示すようにポケット部(凹部)201上の所望の位置に移動したら、ヘッド230による押し圧で封止基板200上に貼り付ける。以上の工程を、機械的に連続して行うことで、マトリクス形状に分割した乾燥剤層220が完成する。   The sheet-like desiccants 220a and 220b contain calcium oxide, barium oxide, or the like inside, and an adhesive layer is applied in advance to the back surface thereof. First, as shown in FIG. 5A, one sheet-like desiccant layer 220b is adsorbed and fixed by suction by the head 230, and a desired portion on the pocket (recessed portion) 201 as shown in FIG. 5B. After moving to the position, it is affixed on the sealing substrate 200 with a pressing force by the head 230. By performing the above steps mechanically continuously, the desiccant layer 220 divided into a matrix shape is completed.

本実施形態では、乾燥剤層をマトリクス状に分割しているため、個々の乾燥剤層の接着面の面積は当然小さくなる。そのため、貼り付け時に気体をその接着面に巻き込むことが少なくなるので、各乾燥剤層をムラなく形成することができ、不良発生(例えば、乾燥剤層とEL素子との接触によるEL素子の損傷)が低減される。また、常に一定のサイズのヘッド230を用いればよいため、EL素子101や封止基板200のサイズを変えたとしても、そのことによるヘッドの交換工程が不要となる。従って、ヘッドにかかるコストを低く抑えるとともに、工程を単純化し、生産スピードを向上させることができる。さらに乾燥剤層をマトリクス状に分割しているため乾燥剤層の表面積が大きくなって吸湿しやすくなる。   In this embodiment, since the desiccant layer is divided into a matrix, the area of the bonding surface of each desiccant layer is naturally reduced. As a result, gas is less likely to be caught on the adhesive surface during pasting, so that each desiccant layer can be formed evenly and defects (for example, damage to the EL element due to contact between the desiccant layer and the EL element) ) Is reduced. In addition, since it is sufficient to always use the head 230 having a constant size, even if the size of the EL element 101 or the sealing substrate 200 is changed, the head replacement step due to this is not necessary. Therefore, the cost for the head can be kept low, the process can be simplified, and the production speed can be improved. Furthermore, since the desiccant layer is divided into a matrix, the surface area of the desiccant layer is increased and moisture absorption is facilitated.

なお、0<Vd/Vp≦0.8の関係を満たす範囲であるならば、EL素子101の外側に乾燥剤層220の端部が形成されていても良い点も第1の実施形態と同様である。   Note that the end of the desiccant layer 220 may be formed outside the EL element 101 as long as the relationship satisfying the relationship of 0 <Vd / Vp ≦ 0.8 is satisfied as in the first embodiment. It is.

次に、上記第1及び第2の実施形態に共通に適用されるEL表示装置の表示画素の構成例について説明する。なお、EL表示装置には、有機EL素子からなるものと無機EL素子からなるものがあるが、以下では例として有機EL素子から成るEL表示装置について説明している。   Next, a configuration example of a display pixel of an EL display device applied in common to the first and second embodiments will be described. In addition, although there exist what consists of an organic EL element and what consists of an inorganic EL element in an EL display apparatus, below, the EL display apparatus which consists of an organic EL element is demonstrated as an example.

図6にEL表示装置の表示画素付近を示す平面図を示し、図7(a)に図6中のC−C線に沿った断面図を示し、図7(b)に図6中のD−D線に沿った断面図を示す。   FIG. 6 is a plan view showing the vicinity of the display pixel of the EL display device, FIG. 7A shows a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. 6, and FIG. 7B shows D in FIG. A cross-sectional view along the line -D is shown.

図6に示すように、ゲート信号線51とドレイン信号線52とに囲まれた領域に表示画素115が形成されており、マトリクス状に配置されている。   As shown in FIG. 6, display pixels 115 are formed in a region surrounded by the gate signal lines 51 and the drain signal lines 52, and are arranged in a matrix.

この表示画素115には、自発光素子である有機EL素子60と、この有機EL素子60に電流を供給するタイミングを制御するスイッチング用TFT30と、有機EL素子60に電流を供給する駆動用TFT40と、保持容量とが配置されている。なお、有機EL素子60は、第1の電極である陽極61と発光材料からなる発光素子層と、第2の電極である陰極65とから成っている。   The display pixel 115 includes an organic EL element 60 that is a self-luminous element, a switching TFT 30 that controls the timing of supplying current to the organic EL element 60, and a driving TFT 40 that supplies current to the organic EL element 60. A storage capacitor is arranged. The organic EL element 60 includes an anode 61 as a first electrode, a light emitting element layer made of a light emitting material, and a cathode 65 as a second electrode.

即ち、両信号線51,52の交点付近にはスイッチング用TFT30が備えられており、そのスイッチング用TFT30のソース33sは保持容量電極線54との間で容量をなす容量電極55を兼ねるとともに、駆動用TFT40のゲート電極41に接続されており、駆動用TFT40のソース43sは有機EL素子60の陽極61に接続され、ドレイン43dは有機EL素子60に供給される電流源である駆動電源線53に接続されている。   That is, a switching TFT 30 is provided in the vicinity of the intersection of both signal lines 51 and 52, and the source 33s of the switching TFT 30 also serves as a capacitor electrode 55 that forms a capacitance with the storage capacitor electrode line 54 and is driven. Is connected to the gate electrode 41 of the driving TFT 40, the source 43 s of the driving TFT 40 is connected to the anode 61 of the organic EL element 60, and the drain 43 d is connected to the driving power supply line 53 that is a current source supplied to the organic EL element 60. It is connected.

また、ゲート信号線51と並行に保持容量電極線54が配置されている。この保持容量電極線54はクロム等から成っており、ゲート絶縁膜12を介してスイッチング用TFT30のソース33sと接続された容量電極55との間で電荷を蓄積して容量を成している。この保持容量は、駆動用TFT40のゲート電極41に印加される電圧を保持するために設けられている。   A storage capacitor electrode line 54 is arranged in parallel with the gate signal line 51. The storage capacitor electrode line 54 is made of chromium or the like, and forms a capacitance by accumulating electric charges between the capacitor electrode 55 connected to the source 33 s of the switching TFT 30 via the gate insulating film 12. This storage capacitor is provided to hold a voltage applied to the gate electrode 41 of the driving TFT 40.

図7に示すように、EL表示装置は、ガラスや合成樹脂などから成る基板又は導電性を有する基板あるいは半導体基板等の基板10上に、スイッチング用TFT30,駆動用TFT40及び有機EL素子60を順に積層形成して成る。ただし、基板10として導電性を有する基板及び半導体基板を用いる場合には、これらの基板10上にSiO2やSiNなどの絶縁膜を形成した上にスイッチング用TFT30,駆動用TFT40及び有機EL素子60を形成する。いずれのTFTともに、ゲート電極がゲート絶縁膜を介して能動層の上方にあるいわゆるトップゲート構造である。 As shown in FIG. 7, the EL display device includes a switching TFT 30, a driving TFT 40, and an organic EL element 60 in this order on a substrate 10 made of glass, synthetic resin, or the like, or a substrate 10 such as a semiconductor substrate. It is formed by stacking. However, when a conductive substrate and a semiconductor substrate are used as the substrate 10, an insulating film such as SiO 2 or SiN is formed on the substrate 10, and then the switching TFT 30, the driving TFT 40, and the organic EL element 60 are formed. Form. Both TFTs have a so-called top gate structure in which the gate electrode is above the active layer via the gate insulating film.

まず、スイッチング用TFT30について説明する。図7(a)に示すように、石英ガラス、無アルカリガラス等からなる絶縁性の基板10上に、非晶質シリコン膜(以下、「a−Si膜」と称する。)をCVD法等にて成膜し、そのa−Si膜にレーザ光を照射して溶融再結晶化させて多結晶シリコン膜(以下、「p−Si膜」と称する。)とし、これを能動層33とする。その上に、SiO2膜、SiN膜の単層あるいは積層体をゲート絶縁膜32として形成する。更にその上に、Cr、Moなどの高融点金属からなるゲート電極31を兼ねたゲート信号線51及びAlから成るドレイン信号線52を備えており、EL素子の駆動電源でありAlから成る駆動電源線53が配置されている。 First, the switching TFT 30 will be described. As shown in FIG. 7A, an amorphous silicon film (hereinafter referred to as “a-Si film”) is formed on an insulating substrate 10 made of quartz glass, non-alkali glass or the like by a CVD method or the like. The a-Si film is irradiated with laser light to be melted and recrystallized to form a polycrystalline silicon film (hereinafter referred to as “p-Si film”), which is used as the active layer 33. On top of this, a single layer or a laminate of SiO 2 film and SiN film is formed as the gate insulating film 32. In addition, a gate signal line 51 also serving as a gate electrode 31 made of a refractory metal such as Cr or Mo and a drain signal line 52 made of Al are provided, which is a drive power supply for the EL element and a drive power supply made of Al. A line 53 is arranged.

そして、ゲート絶縁膜32及び能動層33上の全面には、SiO2膜、SiN膜及びSiO2膜の順に積層された層間絶縁膜15が形成されており、ドレイン33dに対応して設けたコンタクトホールにAl等の金属を充填したドレイン電極36が設けられ、更に全面に有機樹脂から成り表面を平坦にする平坦化絶縁膜17が形成されている。 An interlayer insulating film 15 in which an SiO 2 film, an SiN film, and an SiO 2 film are stacked in this order is formed on the entire surface of the gate insulating film 32 and the active layer 33, and a contact provided corresponding to the drain 33d. A drain electrode 36 in which a metal such as Al is filled in the hole is provided, and a planarization insulating film 17 made of an organic resin and flattening the surface is formed on the entire surface.

次に、駆動用TFT40について説明する。図7(b)に示すように、石英ガラス、無アルカリガラス等からなる絶縁性基板10上に、a−Si膜にレーザ光を照射して多結晶化してなる能動層43、ゲート絶縁膜12、及びCr、Moなどの高融点金属からなるゲート電極41が順に形成されており、その能動層43には、チャネル43cと、このチャネル43cの両側にソース43s及びドレイン43dが設けられている。そして、ゲート絶縁膜12及び能動層43上の全面に、SiO2膜、SiN膜及びSiO2膜の順に積層された層間絶縁膜15を形成し、ドレイン43dに対応して設けたコンタクトホールにAl等の金属を充填して駆動電源に接続された駆動電源線53が配置されている。更に全面に例えば有機樹脂から成り表面を平坦にする平坦化絶縁膜17を備えている。そして、その平坦化絶縁膜17のソース43sに対応した位置にコンタクトホールを形成し、このコンタクトホールを介してソース43sとコンタクトしたITOから成る透明電極、即ち有機EL素子60の陽極61を平坦化絶縁膜17上に設けている。この陽極61は各表示画素ごとに島状に分離形成されている。 Next, the driving TFT 40 will be described. As shown in FIG. 7B, on the insulating substrate 10 made of quartz glass, non-alkali glass or the like, the active layer 43 formed by polycrystallizing the a-Si film by irradiating a laser beam, the gate insulating film 12. , And a gate electrode 41 made of a refractory metal such as Cr or Mo is formed in this order. The active layer 43 is provided with a channel 43c, and a source 43s and a drain 43d on both sides of the channel 43c. Then, an interlayer insulating film 15 in which an SiO 2 film, an SiN film, and an SiO 2 film are stacked in this order is formed on the entire surface of the gate insulating film 12 and the active layer 43, and Al is formed in the contact hole provided corresponding to the drain 43d. A drive power supply line 53 filled with metal such as is connected to the drive power supply is disposed. Further, a flattening insulating film 17 made of, for example, an organic resin and flattening the surface is provided over the entire surface. Then, a contact hole is formed at a position corresponding to the source 43s of the planarization insulating film 17, and the transparent electrode made of ITO that is in contact with the source 43s through this contact hole, that is, the anode 61 of the organic EL element 60 is planarized. It is provided on the insulating film 17. The anode 61 is separately formed in an island shape for each display pixel.

有機EL素子60は、ITO(Indium Tin Oxide)等の透明電極から成る陽極61、MTDATA(4,4-bis(3-methylphenylphenylamino)biphenyl)から成る第1ホール輸送層と、TPD(4,4,4-tris(3-methylphenylphenylamino)triphenylanine)からなる第2ホール輸送層とから成るホール輸送層62、キナクリドン(Quinacridone)誘導体を含むBebq2(10-ベンゾ〔h〕キノリノール−ベリリウム錯体)から成る発光層63、及びBebq2から成る電子輸送層64、マグネシウム・インジウム合金もしくはアルミニウム、もしくはアルミニウム合金から成る陰極65が、この順番で積層形成された構造である。   The organic EL element 60 includes an anode 61 made of a transparent electrode such as ITO (Indium Tin Oxide), a first hole transport layer made of MTDATA (4,4-bis (3-methylphenylphenylamino) biphenyl), a TPD (4,4, A hole transport layer 62 composed of a second hole transport layer composed of 4-tris (3-methylphenylphenylamino) triphenylanine), and a light emitting layer 63 composed of Bebq2 (10-benzo [h] quinolinol-beryllium complex) containing a quinacridone derivative. , And an electron transport layer 64 made of Bebq 2 and a cathode 65 made of a magnesium-indium alloy or aluminum, or an aluminum alloy.

なお、平坦化絶縁膜17上にはさらに第2の平坦化絶縁膜66が形成されている。そして、陽極61の端部は当該第2の平坦化絶縁膜66で被覆され、陽極61上の発光領域については、第2の平坦化絶縁膜66が除去された構造となっている。   Note that a second planarization insulating film 66 is further formed on the planarization insulating film 17. The end portion of the anode 61 is covered with the second planarization insulating film 66, and the light emitting region on the anode 61 has a structure in which the second planarization insulating film 66 is removed.

有機EL素子60では、陽極61から注入されたホールと、陰極65から注入された電子とが発光層の内部で再結合し、発光層を形成する有機分子を励起して励起子が生じる。この励起子が放射失活する過程で発光層から光が放たれ、この光が透明な陽極61から透明絶縁基板を介して外部へ放出されて発光する。   In the organic EL element 60, holes injected from the anode 61 and electrons injected from the cathode 65 are recombined inside the light emitting layer, and excitons are generated by exciting organic molecules forming the light emitting layer. Light is emitted from the light emitting layer in the process of radiation deactivation of the excitons, and the light is emitted from the transparent anode 61 to the outside through the transparent insulating substrate to emit light.

本発明の第1の実施形態に係るEL表示装置を説明する平面図である。1 is a plan view illustrating an EL display device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態に係るEL表示装置を説明する断面図である。1 is a cross-sectional view illustrating an EL display device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第2の実施形態に係るEL表示装置を説明する平面図である。It is a top view explaining the EL display device concerning a 2nd embodiment of the present invention. 本発明の第2の実施形態に係るEL表示装置を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the EL display apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係るEL表示装置を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the EL display apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. EL表示装置の画素を説明する平面図である。FIG. 11 is a plan view illustrating a pixel of an EL display device. EL表示装置の画素を説明する断面図である。It is a cross-sectional view illustrating a pixel of an EL display device. 従来例に係るEL表示装置を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the EL display apparatus which concerns on a prior art example. 従来例に係るEL表示装置を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the EL display apparatus which concerns on a prior art example.

符号の説明Explanation of symbols

10 基板 12 ゲート絶縁膜 15 層間絶縁膜 17 平坦化絶縁膜
30 スイッチング用TFT 31 ゲート電極 32 ゲート絶縁膜
33s ソース 33 能動層 40 駆動用TFT 41 ゲート
43 能動層43c チャネル 43d ドレイン 43s ソース
51 ゲート信号線 52 ドレイン信号線 53 駆動電源線
54 保持容量電極線 55 容量電極 60 有機EL素子 61 陽極
62 発光素子層 63 発光層 64 電子輸送層 65 陰極
66 平坦化絶縁膜 100 支持基板101 EL素子 115 画素
150 シール樹脂 200 封止基板 201 凹部(ポケット部)
210 乾燥剤層220 乾燥剤層220a,220b 乾燥剤層
230 ヘッド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Substrate 12 Gate insulating film 15 Interlayer insulating film 17 Flattening insulating film 30 Switching TFT 31 Gate electrode 32 Gate insulating film
33s source 33 active layer 40 driving TFT 41 gate 43 active layer 43c channel 43d drain 43s source 51 gate signal line 52 drain signal line 53 drive power supply line
54 holding capacitor electrode line 55 capacitive electrode 60 organic EL element 61 anode 62 light emitting element layer 63 light emitting layer 64 electron transport layer 65 cathode 66 planarizing insulating film 100 support substrate 101 EL element 115 pixel 150 sealing resin 200 sealing substrate 201 recess ( Pocket part)
210 Desiccant Layer 220 Desiccant Layer 220a, 220b Desiccant Layer 230 Head

Claims (11)

表面にエレクトロルミネッセンス素子を備えた支持基板と、
前記エレクトロルミネッセンス素子と対向する面に凹部が形成され、接着剤を介して前記支持基板と貼り合わされた封止基板と、
前記凹部の内側表面に形成された乾燥剤層と、を備え、
前記凹部の容積をV1とし、
前記乾燥剤層の体積をV2とした場合に、
0<V2/V1≦0.8の関係が成立することを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置。
A support substrate having an electroluminescence element on its surface;
A sealing substrate in which a concave portion is formed on a surface facing the electroluminescence element, and is bonded to the support substrate via an adhesive,
A desiccant layer formed on the inner surface of the recess,
The volume of the recess is V1,
When the volume of the desiccant layer is V2,
An electroluminescence display device, wherein the relationship of 0 <V2 / V1 ≦ 0.8 is established.
前記エレクトロルミネッセンス素子の内側に前記乾燥剤が形成され、前記エレクトロルミネッセンス素子の端部と前記乾燥剤層の端部との水平距離が3cm以下であることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロルミネッセンス表示装置。 2. The electro according to claim 1, wherein the desiccant is formed inside the electroluminescent element, and a horizontal distance between an end of the electroluminescent element and an end of the desiccant layer is 3 cm or less. Luminescence display device. 前記乾燥剤層は、マトリクス状に分割して形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のエレクトロルミネッセンス表示装置。 The electroluminescent display device according to claim 1, wherein the desiccant layer is divided into a matrix. 前記乾燥剤層がシート状の乾燥剤から成ることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンス表示装置。 The electroluminescent display device according to any one of claims 1 to 3, wherein the desiccant layer is made of a sheet-like desiccant. 前記接着剤を介して貼り合せる前の前記支持基板と前記封止基板との間の空間の圧力から、前記接着剤を介して貼り合せた後の前記空間の圧力への変化が1.0倍以上2.0倍未満であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンス表示装置。 The change from the pressure in the space between the support substrate and the sealing substrate before bonding through the adhesive to the pressure in the space after bonding through the adhesive is 1.0 times. The electroluminescence display device according to claim 1, wherein the electroluminescence display device is less than 2.0 times. 表面にエレクトロルミネッセンス素子を備えた支持基板と、
表面に凹部が形成された封止基板とを準備し、
前記凹部の内側表面に乾燥剤層を形成する工程と、
前記エレクトロルミネッセンス素子と前記凹部が対向するようにして、前記支持基板と前記封止基板とを接着剤を介して貼り合わせる工程とを有し、
前記凹部の容積をV1とし、
前記乾燥剤層の体積をV2とした場合に、
0<V2/V1≦0.8の関係が成立するように前記乾燥剤を形成することを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
A support substrate having an electroluminescence element on its surface;
Prepare a sealing substrate with a recess formed on the surface,
Forming a desiccant layer on the inner surface of the recess;
Bonding the support substrate and the sealing substrate through an adhesive so that the electroluminescent element and the concave portion face each other,
The volume of the recess is V1,
When the volume of the desiccant layer is V2,
The desiccant is formed so that the relationship of 0 <V2 / V1 ≦ 0.8 is satisfied. A method for manufacturing an electroluminescent display device, comprising:
前記エレクトロルミネッセンス素子の内側に前記乾燥剤を形成し、前記エレクトロルミネッセンス素子の端部と前記乾燥剤層の端部との水平距離が3cm以下となるように、前記エレクトロルミネッセンス素子及び前記乾燥剤層を形成したことを特徴とする請求項6に記載のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。 The desiccant is formed inside the electroluminescent element, and the electroluminescent element and the desiccant layer are formed such that a horizontal distance between an end of the electroluminescent element and an end of the desiccant layer is 3 cm or less. The method of manufacturing an electroluminescence display device according to claim 6, wherein: 前記乾燥剤層を、マトリクス状に分割して形成することを特徴とする請求項6または請求項7に記載のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。 The method for manufacturing an electroluminescent display device according to claim 6, wherein the desiccant layer is formed by being divided into a matrix. 前記乾燥剤層がシート状の乾燥剤から成ることを特徴とする請求項6乃至請求項8のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。 9. The method for manufacturing an electroluminescent display device according to claim 6, wherein the desiccant layer is made of a sheet-like desiccant. 前記凹部に乾燥剤層を形成する工程は、
裏面に接着剤が塗布された複数のシート状の乾燥剤の表面をヘッドで吸着固定し、
その後、前記ヘッドの押し圧によって前記凹部と前記シート型乾燥剤の裏面とを貼り合わせる工程から成ることを特徴とする請求項6乃至請求項9のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
The step of forming a desiccant layer in the recess is as follows:
Adsorbing and fixing the surface of a plurality of sheet-shaped desiccants with adhesive applied on the back,
The method for manufacturing an electroluminescent display device according to claim 6, further comprising a step of bonding the concave portion and the back surface of the sheet-type desiccant with a pressing force of the head. .
前記支持基板と前記封止基板とを接着剤を介して貼り合せる工程は、貼り合せる前の前記支持基板と前記封止基板との間の空間の圧力から、貼り合せた後の前記空間の圧力への変化が1.0倍以上2.0倍未満となるように行うことを特徴とする請求項6乃至請求項10のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
The step of bonding the support substrate and the sealing substrate through an adhesive includes the pressure of the space after bonding from the pressure of the space between the support substrate and the sealing substrate before bonding. The method for manufacturing an electroluminescent display device according to claim 6, wherein the change is made to 1.0 times or more and less than 2.0 times.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017130600A1 (en) * 2016-01-26 2017-08-03 住友化学株式会社 Light-emitting device
JP2020021558A (en) * 2018-07-30 2020-02-06 双葉電子工業株式会社 Organic el element and manufacturing method thereof
JP2021516413A (en) * 2018-04-09 2021-07-01 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Boe Technology Group Co.,Ltd. Encapsulation structure, display device and display device
JP2021170434A (en) * 2020-04-14 2021-10-28 双葉電子工業株式会社 Organic EL device

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017130600A1 (en) * 2016-01-26 2017-08-03 住友化学株式会社 Light-emitting device
JP2017134942A (en) * 2016-01-26 2017-08-03 住友化学株式会社 Light emitting device
CN108605392A (en) * 2016-01-26 2018-09-28 住友化学株式会社 light emitting device
JP2021516413A (en) * 2018-04-09 2021-07-01 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Boe Technology Group Co.,Ltd. Encapsulation structure, display device and display device
US11322723B2 (en) 2018-04-09 2022-05-03 Boe Technology Group Co., Ltd. Packaging structure including water-absorbing layer, display component and display device
JP7274102B2 (en) 2018-04-09 2023-05-16 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司 Sealing structure, display device and display apparatus
JP2020021558A (en) * 2018-07-30 2020-02-06 双葉電子工業株式会社 Organic el element and manufacturing method thereof
CN110784950A (en) * 2018-07-30 2020-02-11 双叶电子工业株式会社 Organic EL element and method for manufacturing the same
JP2021170434A (en) * 2020-04-14 2021-10-28 双葉電子工業株式会社 Organic EL device

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