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JP2007248573A - Microlens substrate, microlens substrate manufacturing method, electro-optical device, and electronic apparatus - Google Patents

Microlens substrate, microlens substrate manufacturing method, electro-optical device, and electronic apparatus Download PDF

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JP2007248573A
JP2007248573A JP2006068814A JP2006068814A JP2007248573A JP 2007248573 A JP2007248573 A JP 2007248573A JP 2006068814 A JP2006068814 A JP 2006068814A JP 2006068814 A JP2006068814 A JP 2006068814A JP 2007248573 A JP2007248573 A JP 2007248573A
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Japan
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light
substrate
microlens
shielding member
light shielding
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JP2006068814A
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Tsuguyo Okayama
貢世 岡山
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Seiko Epson Corp
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Seiko Epson Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microlens substrate which improves use efficiency of light, method for manufacturing the microlens substrate, an electrooptical device and electronic equipment. <P>SOLUTION: The microlens substrate is constituted by providing a recessed part 38 on the surface of a cover glass 37 constituting the microlens substrate 3a and providing a light shielding member 39 which shields light inside the recessed part 38, distance between a curved surface 35a constituting a microlens and the light shielding member 39 is reduced in comparison with the case of polishing the cover glass 37 by adjusting depth of the recessed part 38. Thus, the use efficiency of the light is improved. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、マイクロレンズ基板、マイクロレンズ基板の製造方法、電気光学装置及び電子機器に関するものである。   The present invention relates to a microlens substrate, a method for manufacturing a microlens substrate, an electro-optical device, and an electronic apparatus.

液晶装置や有機EL装置などの電気光学装置は、画素領域が設けられた基板によって電気光学材料を保持した構成になっている。これらの電気光学装置は、明るい表示、コントラストの高い表示が求められている。電気光学装置における光の利用効率を向上させることは、この要請に応える有効な方策の一つである。   An electro-optical device such as a liquid crystal device or an organic EL device has a configuration in which an electro-optical material is held by a substrate provided with a pixel region. These electro-optical devices are required to have bright display and high contrast display. Improving the light use efficiency in the electro-optical device is one of effective measures for meeting this demand.

光の利用効率を向上させる技術の一例として、基板にマイクロレンズを組み込んだマイクロレンズ基板を有する電気光学装置が知られている。マイクロレンズ基板は、基板の画素領域に平面視で重なるように曲面が形成されている基板である。この曲面が画素領域を透過する光を集光し、マイクロレンズとして機能する。これにより、射出される光の利用効率の向上が実現される。   As an example of a technique for improving the light use efficiency, an electro-optical device having a microlens substrate in which a microlens is incorporated in a substrate is known. The microlens substrate is a substrate in which a curved surface is formed so as to overlap with a pixel region of the substrate in plan view. This curved surface collects light that passes through the pixel region and functions as a microlens. Thereby, the utilization efficiency of the emitted light is improved.

マイクロレンズ基板を形成する際には、まず、基板の表面にマイクロレンズを構成する曲面を形成し、当該基板の表面及び曲面を覆うように樹脂層を形成し、樹脂層上にカバーガラスを貼り付ける。次に、カバーガラスを研磨し、当該カバーガラス上に遮光部材を配置する。このような手順で、マイクロレンズ基板を形成するのが一般的である。   When forming a microlens substrate, first, a curved surface constituting the microlens is formed on the surface of the substrate, a resin layer is formed so as to cover the surface and the curved surface of the substrate, and a cover glass is pasted on the resin layer. wear. Next, the cover glass is polished, and a light shielding member is disposed on the cover glass. In general, a microlens substrate is formed by such a procedure.

上記の構成では、マイクロレンズから遮光部材までの間に、カバーガラスの厚さ分の距離が設けられることになる。この距離が大きいと、マイクロレンズによって集光された光の一部が遮光部材によって吸収されてしまい、光の利用効率が低下してしまう虞がある。したがって、マイクロレンズと遮光部材との距離はできるだけ小さい方が好ましく、従来では、カバーガラスをできるだけ薄く研磨することによってこの距離が小さくなるようにしている(例えば、特許文献1参照。)。特に、近年では、電気光学装置の画素領域のピッチが小さくなっており、マイクロレンズと遮光部材との距離をさらに小さくすることが求められている。
特開2005−283621号公報
In the above configuration, a distance corresponding to the thickness of the cover glass is provided between the microlens and the light shielding member. When this distance is large, a part of the light condensed by the microlens is absorbed by the light shielding member, which may reduce the light use efficiency. Therefore, the distance between the microlens and the light shielding member is preferably as small as possible. Conventionally, this distance is reduced by polishing the cover glass as thinly as possible (see, for example, Patent Document 1). In particular, in recent years, the pitch of the pixel region of the electro-optical device has been reduced, and it is required to further reduce the distance between the microlens and the light shielding member.
JP 2005-283621 A

しかしながら、研磨によって薄くできるカバーガラスの厚さには限界がある。カバーガラスの研磨だけではマイクロレンズと遮光部材との距離を一定以上に小さくすることは困難であり、したがって、光の利用効率を向上させるのは困難である。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、光の利用効率を向上させることができるマイクロレンズ基板、マイクロレンズ基板の製造方法、電気光学装置及び電子機器を提供することを目的とする。
However, there is a limit to the thickness of the cover glass that can be thinned by polishing. It is difficult to reduce the distance between the microlens and the light-shielding member beyond a certain level only by polishing the cover glass, and therefore it is difficult to improve the light utilization efficiency.
SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is that it provides a microlens substrate, a method of manufacturing the microlens substrate, an electro-optical device, and an electronic apparatus that can improve light utilization efficiency.

上記の課題を解決するため、本発明に係るマイクロレンズ基板は、表面にマイクロレンズを構成する曲面が設けられた第1透明基板と、前記第1透明基板の表面側に設けられ、前記第1透明基板の表面及び前記曲面を覆う樹脂層と、前記樹脂層上に設けられた第2透明基板とを具備し、前記第2透明基板の表面に凹部が設けられており、前記凹部の内部に遮光部材が設けられていることを特徴とする。   In order to solve the above problems, a microlens substrate according to the present invention is provided on the surface side of the first transparent substrate, the first transparent substrate having a curved surface constituting a microlens on the surface, and the first transparent substrate. A resin layer covering the surface of the transparent substrate and the curved surface, and a second transparent substrate provided on the resin layer, and a recess is provided on the surface of the second transparent substrate; A light shielding member is provided.

本発明によれば、第2透明基板の表面に凹部が設けられており、この凹部の内部に光を遮光する遮光部材が設けられている構成にしたので、当該凹部の深さを調節することによって、第2透明基板を研磨する場合に比べてマイクロレンズを構成する曲面と遮光部材との間の距離を小さくすることができる。これにより、光の利用効率を向上させることができる。   According to the present invention, since the concave portion is provided on the surface of the second transparent substrate, and the light shielding member that shields light is provided inside the concave portion, the depth of the concave portion is adjusted. Thus, the distance between the curved surface constituting the microlens and the light shielding member can be reduced as compared with the case where the second transparent substrate is polished. Thereby, the utilization efficiency of light can be improved.

また、前記遮光部材が、光反射材料を含んでいることが好ましい。
本発明によれば、遮光部材が、光反射材料を含んでいるので、例えば第1透明基板及び樹脂層を透過してきた光が遮光部材によって吸収されるのではなく、遮光部材によって反射されるため、反射された光を利用することができる。これにより、光の利用効率をさらに向上させることができる。
Moreover, it is preferable that the said light shielding member contains the light reflection material.
According to the present invention, since the light blocking member includes the light reflecting material, for example, light transmitted through the first transparent substrate and the resin layer is not absorbed by the light blocking member but reflected by the light blocking member. The reflected light can be used. Thereby, the utilization efficiency of light can further be improved.

また、前記遮光部材が、金属材料を含んでいることが好ましい。
金属材料は、高い光反射性及び熱伝導率を有している。本発明によれば、遮光部材が、金属材料を含んでいるので、遮光部材に照射される光を高い反射率で反射することができる。また、本発明では遮光部材が熱伝導率の高い金属材料を含んでいるので、例えば当該マイクロレンズ基板をプロジェクタ等の高熱下において用いる際に、マイクロレンズ基板の放熱性が高くなるため、熱によるマイクロレンズ基板の破損を防ぐこと、またパネル、パネルを構成する部材の劣化を防ぐ事ができるという利点もある。
Moreover, it is preferable that the said light shielding member contains the metal material.
The metal material has high light reflectivity and thermal conductivity. According to the present invention, since the light shielding member contains the metal material, the light irradiated to the light shielding member can be reflected with a high reflectance. In the present invention, since the light shielding member includes a metal material having high thermal conductivity, for example, when the microlens substrate is used under high heat such as a projector, the heat dissipation of the microlens substrate is increased. There is also an advantage that the microlens substrate can be prevented from being damaged and the panel and the members constituting the panel can be prevented from being deteriorated.

また、前記凹部が、前記第1透明基板の基板面から離れるにつれて凹部の幅が小さくなるように設けられていることが好ましい。
第1透明基板から樹脂層を透過してきた光が基板面の法線方向に対して傾いていると、この光は凹部の内部の遮光部材に入射し当該遮光部材に照射される可能性が高くなる。遮光部材が光反射材料を含んでいる場合、この光は反射されて利用されることになるが、全反射することは不可能であり、光の損失が生じる。また、遮光部材が光反射材料を含んでいない場合、照射された光は遮光部材によって吸収されてしまうことになり、これも光の損失となる。いずれにしろ、遮光部材に照射されることで光の損失が生じるため、当該遮光部材に照射される光は少ないほど好ましい。
Moreover, it is preferable that the said recessed part is provided so that the width | variety of a recessed part may become small as it leaves | separates from the board | substrate surface of a said 1st transparent substrate.
If the light transmitted through the resin layer from the first transparent substrate is inclined with respect to the normal direction of the substrate surface, the light is likely to enter the light shielding member inside the recess and be irradiated to the light shielding member. Become. When the light shielding member includes a light reflecting material, this light is reflected and used, but cannot be totally reflected, resulting in light loss. Further, when the light shielding member does not include a light reflecting material, the irradiated light is absorbed by the light shielding member, which also causes light loss. In any case, since light loss is caused by irradiating the light shielding member, it is preferable that the amount of light irradiated to the light shielding member is smaller.

これを踏まえて、本発明では、凹部が、第1透明基板の基板面から離れるにつれて凹部の幅が小さくなるように設けられているので、基板面の法線方向に対して傾いて入射した光の一部は当該凹部の側面に沿って進むことになり、凹部の内部の遮光部材に照射される可能性が低くなる。これにより、遮光部材での光の損失を防ぐことができるので、光の利用効率をより向上させることが可能となる。   Based on this, in the present invention, since the concave portion is provided so that the width of the concave portion decreases as the distance from the substrate surface of the first transparent substrate decreases, the incident light is inclined with respect to the normal direction of the substrate surface. A part of the light travels along the side surface of the concave portion, and the possibility that the light shielding member inside the concave portion is irradiated becomes low. As a result, it is possible to prevent the loss of light in the light shielding member, and it is possible to further improve the light utilization efficiency.

また、前記遮光部材が、前記凹部の内部の全体に設けられていることが好ましい。
本発明によれば、遮光部材が、凹部の内部の全体に設けられている、すなわち、遮光部材が凹部の内部に隙間無く設けられているので、遮光部材が光反射材料を含む場合、確実に光を反射することができる。また、例えば遮光部材が金属材料を含む場合、熱伝導率が一層向上することになる。
Moreover, it is preferable that the said light shielding member is provided in the whole inside of the said recessed part.
According to the present invention, since the light shielding member is provided in the entire interior of the recess, that is, the light shielding member is provided in the interior of the recess without a gap, it is ensured that the light shielding member includes a light reflecting material. It can reflect light. For example, when the light shielding member includes a metal material, the thermal conductivity is further improved.

また、前記遮光部材が、前記凹部の側面及び前記凹部の底面を覆うように設けられていることが好ましい。
本発明によれば、遮光部材が、少なくとも凹部の側面及び凹部の底面を覆うように設けられているので、例えば遮光部材を凹部の内部に薄膜状に形成することが可能となる。これにより、遮光部材の形成が容易になる。また、例えば遮光部材が光反射材料を含む場合、凹部の側面及び凹部の底面が当該光反射材料を含む遮光部材に覆われているので、光を確実に反射することができる。
Moreover, it is preferable that the said light shielding member is provided so that the side surface of the said recessed part and the bottom face of the said recessed part may be covered.
According to the present invention, since the light shielding member is provided so as to cover at least the side surface of the recess and the bottom surface of the recess, for example, the light shielding member can be formed in a thin film inside the recess. Thereby, formation of a light shielding member becomes easy. For example, when the light shielding member includes a light reflecting material, the side surface of the concave portion and the bottom surface of the concave portion are covered with the light shielding member including the light reflecting material, so that light can be reliably reflected.

本発明に係るマイクロレンズ基板の製造方法は、第1透明基板の表面にマイクロレンズを構成する曲面を形成する工程と、前記第1透明基板の表面及び前記曲面を覆うように樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層上に第2透明基板を配置する工程と、前記第2透明基板に凹部を形成する工程と、前記凹部の内部に遮光部材を配置する工程とを具備することを特徴とする。   The method for manufacturing a microlens substrate according to the present invention includes a step of forming a curved surface constituting the microlens on the surface of the first transparent substrate, and a resin layer is formed so as to cover the surface of the first transparent substrate and the curved surface. And a step of disposing a second transparent substrate on the resin layer, a step of forming a recess in the second transparent substrate, and a step of disposing a light shielding member inside the recess. To do.

本発明によれば、第1透明基板の表面にマイクロレンズを構成する曲面を形成する工程と、第1透明基板の表面及び曲面を覆うように樹脂層を形成する工程と、樹脂層上に第2透明基板を配置する工程と、第2透明基板に凹部を形成する工程と、凹部の内部に遮光部材を配置する工程とを具備するので、第2透明基板を研磨しなくても、光の利用効率を向上させることができるマイクロレンズ基板を製造することができる。これにより、製造が容易になると共に製造に要するコストを抑えることができる。   According to the present invention, the step of forming a curved surface constituting the microlens on the surface of the first transparent substrate, the step of forming a resin layer so as to cover the surface and the curved surface of the first transparent substrate, 2 The step of disposing a transparent substrate, the step of forming a recess in the second transparent substrate, and the step of disposing a light-shielding member inside the recess, so that the light can be transmitted without polishing the second transparent substrate. A microlens substrate capable of improving the utilization efficiency can be manufactured. Thereby, manufacture becomes easy and the cost which manufacture requires can be held down.

本発明に係る電気光学装置は、上記のマイクロレンズ基板を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、光の利用効率を向上させることができるマイクロレンズ基板を備えているので、明度が高く、コントラストの高い表示が可能な電気光学装置を得ることができる。
An electro-optical device according to the present invention includes the above microlens substrate.
According to the present invention, since the microlens substrate capable of improving the light utilization efficiency is provided, it is possible to obtain an electro-optical device capable of displaying with high brightness and high contrast.

ここで、「電気光学装置」とは、電界により物質の屈折率が変化して光の透過率を変化させる電気光学効果を有するものの他、電気エネルギーを光学エネルギーに変換するもの等も含んで総称している。具体的には、電気光学物質として液晶を用いる液晶表示装置、有機EL(Electro-Luminescence)を用いる有機EL装置、無機ELを用いる無機EL装置、電気光学物質としてプラズマ用ガスを用いるプラズマディスプレイ装置等がある。さらには、電気泳動ディスプレイ装置(EPD:Electrophoretic Display)、フィールドエミッションディスプレイ装置(FED:電界放出表示装置:Field Emission Display)等がある。   Here, “electro-optical device” is a generic term that includes an electro-optical effect that changes the light transmittance by changing the refractive index of a substance by an electric field, and also includes devices that convert electric energy into optical energy. is doing. Specifically, a liquid crystal display device using liquid crystal as an electro-optical material, an organic EL device using organic EL (Electro-Luminescence), an inorganic EL device using inorganic EL, a plasma display device using plasma gas as an electro-optical material, etc. There is. Furthermore, there are an electrophoretic display device (EPD), a field emission display device (FED: Field Emission Display device), and the like.

また、前記第1透明基板に電気光学装置の画素領域が複数マトリクス状に設けられており、前記凹部が前記画素領域の間の領域に設けられていることが好ましい。
本発明によれば、凹部が画素領域の間の領域に設けられているので、画素領域内において光の進行を妨げられることなく光を有効に利用することができる。
In addition, it is preferable that a plurality of pixel regions of the electro-optical device are provided in a matrix on the first transparent substrate, and the concave portions are provided in regions between the pixel regions.
According to the present invention, since the concave portion is provided in the region between the pixel regions, the light can be used effectively without being disturbed in the pixel region.

本発明に係る電子機器は、上記の電気光学装置を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、明度が高く、コントラストの高い表示が可能な表示部を有する電子機器を得ることができる。
An electronic apparatus according to the present invention includes the electro-optical device described above.
According to the present invention, it is possible to obtain an electronic apparatus having a display unit that can display with high brightness and high contrast.

[第1実施形態]
以下、図面をもとにして、本発明の第1実施形態を説明する。本実施形態では、TFT(Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ)を画素スイッチング素子として用いたTFTアクティブマトリクス方式の液晶装置を例に挙げて説明する。以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。
[First embodiment]
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present embodiment, a TFT active matrix type liquid crystal device using a TFT (Thin Film Transistor) as a pixel switching element will be described as an example. In the following drawings, the scale is appropriately changed to make each member a recognizable size.

(液晶装置)
図1は、液晶装置1の全体構成を示す図である。
図1に示すように、液晶装置1は、対向して配置されたTFTアレイ基板2と対向基板3とがシール材4によって貼り合わされていると共に、これらTFTアレイ基板2、対向基板3及びシール材4によって区画された領域内に液晶層5が形成された構成になっている。
(Liquid crystal device)
FIG. 1 is a diagram illustrating an overall configuration of the liquid crystal device 1.
As shown in FIG. 1, the liquid crystal device 1 includes a TFT array substrate 2 and a counter substrate 3 that are arranged to face each other and are bonded together by a sealing material 4, and the TFT array substrate 2, the counter substrate 3, and the sealing material. The liquid crystal layer 5 is formed in the region partitioned by 4.

シール材4の一部には液晶を注入する注入口4aが設けられており、当該注入口4aは封止材4bにより封止されている。シール材4の内側の領域には、遮光性材料からなる遮光膜(周辺見切り)6が形成されている。周辺見切り6の内側の領域は、光を変調する光変調領域7になっている。光変調領域7には、複数の画素領域8がマトリクス状に設けられている。   A part of the sealing material 4 is provided with an inlet 4a for injecting liquid crystal, and the inlet 4a is sealed with a sealing material 4b. A light-shielding film (peripheral parting) 6 made of a light-shielding material is formed in a region inside the sealing material 4. The area inside the peripheral parting 6 is a light modulation area 7 for modulating light. In the light modulation region 7, a plurality of pixel regions 8 are provided in a matrix.

TFTアレイ基板2の周縁部は、対向基板3から張り出した張出領域になっている。この張出領域のうち図中左辺側及び右辺側には、走査信号を生成する走査線駆動回路11が形成されている。図中上辺側には、左右の走査線駆動回路11の間を接続する配線13が引き回されている。図中下辺側には、データ信号を生成するデータ線駆動回路12と、外部の回路等に接続するための接続端子14とが形成されている。走査線駆動回路11と接続端子14との間の領域には、両者を接続する配線15が形成されている。対向基板3の各角部には、TFTアレイ基板2と対向基板3との間で電気的に接続するための基板間導通材17が設けられている。   The peripheral portion of the TFT array substrate 2 is an overhanging region that protrudes from the counter substrate 3. A scanning line driving circuit 11 for generating a scanning signal is formed on the left side and the right side in the drawing in the overhang region. On the upper side in the figure, a wiring 13 that connects the left and right scanning line driving circuits 11 is routed. On the lower side in the figure, a data line driving circuit 12 for generating a data signal and a connection terminal 14 for connecting to an external circuit or the like are formed. In a region between the scanning line driving circuit 11 and the connection terminal 14, a wiring 15 that connects them is formed. At each corner of the counter substrate 3, an inter-substrate conductive material 17 for electrical connection between the TFT array substrate 2 and the counter substrate 3 is provided.

図2は、図1のA−A断面に沿った構成を示す図である。
TFTアレイ基板2は、例えばガラスや石英等の透光性の高い材料から形成された基材2aと、この基材2aの液晶側に形成された画素電極21と、当該画素電極21に電気信号を供給するTFT(図示せず)と、これら画素電極21及びTFTを覆うように形成された配向膜22とを主体として構成されている。
FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration along the AA cross section of FIG. 1.
The TFT array substrate 2 includes, for example, a base material 2a formed of a material having high translucency such as glass and quartz, a pixel electrode 21 formed on the liquid crystal side of the base material 2a, and an electric signal to the pixel electrode 21. The TFT is mainly composed of a TFT (not shown) for supplying the pixel electrode 21 and an alignment film 22 formed so as to cover the pixel electrode 21 and the TFT.

画素電極21は、例えばITO(Indium Tin Oxide)等の透明な導電材料によって形成されている。TFTは、画素電極21に電気的に接続されており、図示しない走査線及びデータ線が接続されている。TFTアレイ基板2の外側(液晶層5とは反対側)の面には、偏光板24が貼付されている。   The pixel electrode 21 is formed of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide). The TFT is electrically connected to the pixel electrode 21 and is connected to a scanning line and a data line (not shown). A polarizing plate 24 is affixed to the outer surface of the TFT array substrate 2 (the side opposite to the liquid crystal layer 5).

対向基板3は、マイクロレンズを構成する曲面35aを内部に有するマイクロレンズ基板3aを主体として構成されている。マイクロレンズ基板3aの内側(液晶層5側)表面には共通電極31が形成されており、共通電極31上には配向膜33が形成されている。共通電極31は、画素電極21と同様、例えばITO等の透明な導電材料によって形成されている。また、マイクロレンズ基板3aの外側には、偏光板34が貼り付けられている。   The counter substrate 3 is mainly composed of a microlens substrate 3a having a curved surface 35a constituting a microlens inside. A common electrode 31 is formed on the inner surface (the liquid crystal layer 5 side) surface of the microlens substrate 3 a, and an alignment film 33 is formed on the common electrode 31. Similar to the pixel electrode 21, the common electrode 31 is formed of a transparent conductive material such as ITO. A polarizing plate 34 is attached to the outside of the microlens substrate 3a.

液晶層5は、例えばフッ素系液晶化合物や非フッ素系液晶化合物等の液晶分子によって構成されており、TFTアレイ基板2側の配向膜23と対向基板3側の配向膜33との双方に接するように両基板に挟持されている。液晶分子の配向は、非選択電圧を印加したときに所定の方向に向くように、配向膜23及び配向膜33によって規制されている。   The liquid crystal layer 5 is composed of, for example, liquid crystal molecules such as a fluorine-based liquid crystal compound and a non-fluorine-based liquid crystal compound, and is in contact with both the alignment film 23 on the TFT array substrate 2 side and the alignment film 33 on the counter substrate 3 side. Between the two substrates. The alignment of the liquid crystal molecules is regulated by the alignment film 23 and the alignment film 33 so as to be oriented in a predetermined direction when a non-selection voltage is applied.

(マイクロレンズ基板)
次に、上述したマイクロレンズ基板3aの構成について説明する。
図3は、マイクロレンズ基板3aの平面構成を示す図である。図4は、図3におけるB−B断面に沿った構成を示す図であり、マイクロレンズ基板3aの断面構成を示す図である。
(Micro lens substrate)
Next, the configuration of the above-described microlens substrate 3a will be described.
FIG. 3 is a diagram showing a planar configuration of the microlens substrate 3a. FIG. 4 is a diagram showing a configuration along the BB cross section in FIG. 3, and is a diagram showing a cross-sectional configuration of the microlens substrate 3a.

図4に示すように、マイクロレンズ基板3aは、基板35と、樹脂層36と、カバーガラス37とを主体とした3層構造になっている。
基板35は、例えばガラスなどの透明な材料からなる矩形の基板である。図3及び図4に示すように、画素領域8に対応する領域には、マイクロレンズを構成する曲面35aが設けられている。図4に示すように、基板35の表面35bから曲面35aの先端部までの深さt1は、約10μm程度になっている。この深さt1については、10μm以下に形成することが好ましい。
As shown in FIG. 4, the microlens substrate 3 a has a three-layer structure mainly composed of a substrate 35, a resin layer 36, and a cover glass 37.
The substrate 35 is a rectangular substrate made of a transparent material such as glass. As shown in FIGS. 3 and 4, a curved surface 35 a constituting a microlens is provided in a region corresponding to the pixel region 8. As shown in FIG. 4, the depth t1 from the surface 35b of the board | substrate 35 to the front-end | tip part of the curved surface 35a is about 10 micrometers. The depth t1 is preferably 10 μm or less.

また、図4に示すように、樹脂層36は、例えばアクリルなどの透明な樹脂材料からなる層であり、基板35の表面35b及び曲面35aを覆うように設けられている。基板35の表面35bを覆う樹脂層36の厚さt2は、10μm程度に設けられている。当該樹脂層36の光屈折率は、基板35の光屈折率よりも大きくなっている。   As shown in FIG. 4, the resin layer 36 is a layer made of a transparent resin material such as acrylic, and is provided so as to cover the surface 35b and the curved surface 35a of the substrate 35. The resin layer 36 covering the surface 35b of the substrate 35 has a thickness t2 of about 10 μm. The light refractive index of the resin layer 36 is larger than the light refractive index of the substrate 35.

カバーガラス37は、ガラスからなる矩形の基板であり、樹脂層36上に貼り付けられている。カバーガラス37の厚さt3は、20μm程度に設けられている。カバーガラス37の表面には、断面形状が矩形の凹部38が形成されており、凹部38の内部には、遮光部材39が設けられている。凹部38の深さt4は、例えば10μm程度に設けられている。   The cover glass 37 is a rectangular substrate made of glass, and is attached on the resin layer 36. The cover glass 37 has a thickness t3 of about 20 μm. A concave portion 38 having a rectangular cross section is formed on the surface of the cover glass 37, and a light shielding member 39 is provided inside the concave portion 38. The depth t4 of the recess 38 is set to about 10 μm, for example.

遮光部材39は、例えばアルミニウムなどの光反射率の高い金属からなり、凹部38の内部を隙間無く埋めるように設けられている。マイクロレンズを構成する曲面35aの先端部から遮光部材39の底面39aまでの距離は、30μm程度になっている。また、カバーガラス37の表面37aと、遮光部材39の上面39bとは面一状態になっている。   The light shielding member 39 is made of a metal having a high light reflectance such as aluminum, for example, and is provided so as to fill the inside of the recess 38 without a gap. The distance from the tip of the curved surface 35a constituting the microlens to the bottom surface 39a of the light shielding member 39 is about 30 μm. Further, the surface 37a of the cover glass 37 and the upper surface 39b of the light shielding member 39 are flush with each other.

なお、図3に示すように、凹部38及び当該凹部38内の遮光部材39は、画素領域8の間の領域(画素間領域)に平面視で縦横に格子状に設けられている。この凹部38及び遮光部材39は、格子の縦横で幅d(図4にも表示)がほぼ等しくなるように設けられている。当該幅dについては、3μm程度に設けられている。   As shown in FIG. 3, the recesses 38 and the light shielding members 39 in the recesses 38 are provided in an area between the pixel areas 8 (inter-pixel areas) in a grid pattern in the vertical and horizontal directions in plan view. The concave portions 38 and the light shielding members 39 are provided so that the widths d (also shown in FIG. 4) are substantially equal in the vertical and horizontal directions of the lattice. The width d is about 3 μm.

図4に示すように、マイクロレンズ基板3aに入射した光の一部(光L0)は、基板35を透過し、マイクロレンズを構成する曲面35aによって画素領域8の内側へ集光される。この光L0は、樹脂層36及びカバーガラス37を透過して、マイクロレンズ基板3aの外部へと射出される。   As shown in FIG. 4, a part of the light (light L0) incident on the microlens substrate 3a is transmitted through the substrate 35 and condensed inside the pixel region 8 by the curved surface 35a constituting the microlens. The light L0 passes through the resin layer 36 and the cover glass 37 and is emitted to the outside of the microlens substrate 3a.

また、マイクロレンズ基板3aに入射した別の光(光L1)は、基板35を透過し、マイクロレンズを構成する曲面35aによって画素領域8の内側へ集光される。この光L1は、樹脂層36を透過してカバーガラス37内へと入射し、遮光部材39によって反射されてカバーガラス37の外部へ射出される。   Further, another light (light L1) incident on the microlens substrate 3a passes through the substrate 35 and is condensed inside the pixel region 8 by the curved surface 35a constituting the microlens. The light L1 passes through the resin layer 36, enters the cover glass 37, is reflected by the light shielding member 39, and is emitted to the outside of the cover glass 37.

(マイクロレンズ基板の製造方法)
次に、図5〜図10をもとにして、上記のように構成されたマイクロレンズ基板3aの製造方法を説明する。
まず、図5に示すように、基板35の表面35bに、曲面35aを形成する領域(画素領域8に相当する領域)に開口部40aを有するように、例えばフォトエッチング法などによってハードマスク40をパターン形成する。次に、図6に示すように基板35のうち開口部40aが形成された部分をウェットエッチングしてマイクロレンズを構成する曲面35aを形成し、その後ハードマスク40を除去する。次に、図7に示すように曲面35a及び基板35の表面35bを覆うように樹脂層36を形成する。次に、図8に示すように樹脂層36上にカバーガラス37を貼り付ける。
(Manufacturing method of microlens substrate)
Next, a method for manufacturing the microlens substrate 3a configured as described above will be described with reference to FIGS.
First, as shown in FIG. 5, a hard mask 40 is formed on the surface 35b of the substrate 35 by, for example, a photoetching method so as to have an opening 40a in a region where the curved surface 35a is formed (a region corresponding to the pixel region 8). Form a pattern. Next, as shown in FIG. 6, a portion of the substrate 35 where the opening 40a is formed is wet-etched to form a curved surface 35a constituting a microlens, and then the hard mask 40 is removed. Next, as shown in FIG. 7, a resin layer 36 is formed so as to cover the curved surface 35 a and the surface 35 b of the substrate 35. Next, as shown in FIG. 8, a cover glass 37 is pasted on the resin layer 36.

次に、図9に示すように、カバーガラス37の表面に凹部38を形成する。本工程では、例えばカバーガラス37の表面にフォトリソグラフィ法によってレジストをパターニングし、レジストで覆われない部分(画素領域間に相当する部分)を高さ方向に合成エッチング又はドライエッチングして除去することで、凹部38を形成する。   Next, as shown in FIG. 9, a recess 38 is formed on the surface of the cover glass 37. In this step, for example, a resist is patterned on the surface of the cover glass 37 by a photolithography method, and a portion not covered with the resist (a portion corresponding to between pixel regions) is removed by synthetic etching or dry etching in the height direction. Thus, the recess 38 is formed.

次に、図10に示すように、凹部38の内部に遮光部材39を配置する。本工程では、例えば遮光部材39を構成するアルミニウムの粒子を溶媒に溶解させた液状組成物を予め作製しておき、当該液状組成物を凹部38の内部に流し込み、溶媒を蒸発させることによって遮光部材39を凹部38の内部に形成する。このようにして、マイクロレンズ基板3aが完成する。なお、この後マイクロレンズ基板3aの表面に共通電極31を形成し、配向膜33を形成することで、上記の液晶装置1の対向基板3が形成される。   Next, as shown in FIG. 10, a light shielding member 39 is disposed inside the recess 38. In this step, for example, a liquid composition in which aluminum particles constituting the light shielding member 39 are dissolved in a solvent is prepared in advance, and the liquid composition is poured into the recess 38 to evaporate the solvent, thereby shielding the light shielding member. 39 is formed inside the recess 38. In this way, the microlens substrate 3a is completed. Thereafter, the common substrate 31 is formed on the surface of the microlens substrate 3a, and the alignment film 33 is formed, whereby the counter substrate 3 of the liquid crystal device 1 is formed.

ここで、上記方法によらず、従来のようにカバーガラスを樹脂層に貼り付けた後、当該カバーガラスを研磨して厚さを薄くして遮光部材を配置する方法でマイクロレンズ基板を形成した場合、カバーガラスの厚さは通常数十μm程度(例えば20μm程度)になる。したがって、マイクロレンズを構成する曲面の先端部と遮光部材との距離は、40μm以上になる。   Here, regardless of the above method, after the cover glass was pasted to the resin layer as in the past, the cover lens was polished to reduce the thickness, and the microlens substrate was formed by the method of arranging the light shielding member. In this case, the thickness of the cover glass is usually about several tens μm (for example, about 20 μm). Therefore, the distance between the front end of the curved surface constituting the microlens and the light shielding member is 40 μm or more.

これに対して、本実施形態によれば、マイクロレンズ基板3aを構成するカバーガラス37の表面に凹部38が設けられており、この凹部38の内部に光を遮光する遮光部材39が設けられている構成になっているので、当該凹部38の深さを調節することによって、カバーガラス37を研磨する場合に比べてマイクロレンズを構成する曲面35aと遮光部材39との間の距離を小さくすることができる。これにより、光の利用効率を向上させることができる。   On the other hand, according to the present embodiment, the concave portion 38 is provided on the surface of the cover glass 37 constituting the microlens substrate 3 a, and the light shielding member 39 that shields light is provided inside the concave portion 38. Therefore, by adjusting the depth of the concave portion 38, the distance between the curved surface 35a constituting the microlens and the light shielding member 39 can be reduced as compared with the case where the cover glass 37 is polished. Can do. Thereby, the utilization efficiency of light can be improved.

また、本実施形態では、カバーガラス37を研磨しなくても、光の利用効率を向上させることができるマイクロレンズ基板3aを製造することができる。これにより、製造が容易になると共に製造に要するコストを抑えることができる。   Further, in the present embodiment, the microlens substrate 3a that can improve the light use efficiency without polishing the cover glass 37 can be manufactured. Thereby, manufacture becomes easy and the cost which manufacture requires can be held down.

また、本発明によれば、遮光部材39が、光を反射する金属材料(アルミニウム)を含んでいるので、例えば基板35及び樹脂層36を透過してきた光が遮光部材39によって吸収されるのではなく、遮光部材39によって反射されるため、反射された光を利用することができる。これにより、光の利用効率をさらに向上させることができる。   Further, according to the present invention, since the light shielding member 39 includes a metal material (aluminum) that reflects light, for example, the light transmitted through the substrate 35 and the resin layer 36 is not absorbed by the light shielding member 39. Since the light is reflected by the light shielding member 39, the reflected light can be used. Thereby, the utilization efficiency of light can further be improved.

[第2実施形態]
次に、図11をもとにして、本発明の第2実施形態を説明する。本実施形態では、マイクロレンズ基板の構成及び製造方法の一部が第1実施形態とは異なっているので、この点を中心に説明する。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the present invention will be described based on FIG. In this embodiment, the configuration of the microlens substrate and a part of the manufacturing method thereof are different from those of the first embodiment, and this point will be mainly described.

図11は、本実施形態に係るマイクロレンズ基板103aの構成を示す断面図であり、第1実施形態の図4に対応している。同図に示すように、マイクロレンズ基板103aは、基板135と、樹脂層136と、カバーガラス137とを主体とした3層構造になっている。基板135及び樹脂層136の構成については、第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。   FIG. 11 is a cross-sectional view showing the configuration of the microlens substrate 103a according to the present embodiment, and corresponds to FIG. 4 of the first embodiment. As shown in the figure, the microlens substrate 103a has a three-layer structure mainly including a substrate 135, a resin layer 136, and a cover glass 137. Since the configurations of the substrate 135 and the resin layer 136 are the same as those in the first embodiment, the description thereof is omitted here.

本実施形態では、カバーガラス137の内側表面137aに凹部138が形成されている点で、第1実施形態とは異なっている。この凹部138の内部には、遮光部材139が隙間無く設けられている。したがって、マイクロレンズを構成する曲面135aの先端部と遮光部材139の底面139aとの距離が第1実施形態と比べて小さくなっている。
なお、他の構成、例えば各部材の寸法や材質、配置については、第1実施形態と同様である。
This embodiment is different from the first embodiment in that a recess 138 is formed on the inner surface 137a of the cover glass 137. A light shielding member 139 is provided in the recess 138 without a gap. Therefore, the distance between the tip of the curved surface 135a constituting the microlens and the bottom surface 139a of the light shielding member 139 is smaller than that of the first embodiment.
In addition, about another structure, for example, the dimension of each member, material, and arrangement | positioning, it is the same as that of 1st Embodiment.

図11に示すように、マイクロレンズ基板103aに入射した光の一部(光L2)は、基板135を透過し、マイクロレンズを構成する曲面135aによって画素領域108の内側へ集光される。この光L2は、樹脂層136を透過してカバーガラス137内へと入射し、遮光部材139によって反射されてカバーガラス137の外部へ射出される。   As shown in FIG. 11, a part of the light (light L2) incident on the microlens substrate 103a passes through the substrate 135 and is condensed inside the pixel region 108 by the curved surface 135a constituting the microlens. The light L2 passes through the resin layer 136, enters the cover glass 137, is reflected by the light shielding member 139, and is emitted to the outside of the cover glass 137.

なお、本実施形態に係るマイクロレンズ基板103aを製造する際には、予めカバーガラス137に凹部138及び遮光部材139を形成しておき、基板135に曲面135aを形成し、樹脂層136を形成した後、凹部138及び遮光部材139を有するカバーガラス137を樹脂層136に貼り付けるようにする。   When manufacturing the microlens substrate 103a according to the present embodiment, the concave portion 138 and the light shielding member 139 are formed in the cover glass 137 in advance, the curved surface 135a is formed in the substrate 135, and the resin layer 136 is formed. Thereafter, a cover glass 137 having a recess 138 and a light shielding member 139 is attached to the resin layer 136.

本実施形態のように、凹部138及び遮光部材139をカバーガラス137の内側表面137aに設けることによって、第1実施形態と構成よりも曲面135aの先端部と遮光部材139の底面139aとの距離が小さくなるため、第1実施形態に比べて一層光の利用効率を向上させることができる。   By providing the concave portion 138 and the light shielding member 139 on the inner surface 137a of the cover glass 137 as in the present embodiment, the distance between the tip of the curved surface 135a and the bottom surface 139a of the light shielding member 139 is greater than that in the first embodiment. Therefore, the light utilization efficiency can be further improved as compared with the first embodiment.

[第3実施形態]
次に、図12をもとにして、本発明の第3実施形態を説明する。本実施形態においては、マイクロレンズ基板の構成が第1実施形態とは異なっているので、この点を中心に説明する。
[Third Embodiment]
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, since the configuration of the microlens substrate is different from that of the first embodiment, this point will be mainly described.

図12は、本実施形態に係るマイクロレンズ基板203aの構成を示す断面図であり、第1実施形態の図4に対応している。同図に示すように、マイクロレンズ基板203aは、基板235と、樹脂層236と、カバーガラス237とを主体とした3層構造になっている。基板235及び樹脂層236の構成については、第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。   FIG. 12 is a cross-sectional view showing the configuration of the microlens substrate 203a according to the present embodiment, and corresponds to FIG. 4 of the first embodiment. As shown in the drawing, the microlens substrate 203a has a three-layer structure mainly including a substrate 235, a resin layer 236, and a cover glass 237. Since the configurations of the substrate 235 and the resin layer 236 are the same as those in the first embodiment, the description thereof is omitted here.

本実施形態では、カバーガラス237の表面237aに設けられた凹部238及び当該凹部238の内部に設けられた遮光部材239が、断面形状で台形になっている点で、第1実施形態とは異なっている。   This embodiment is different from the first embodiment in that the recess 238 provided on the surface 237a of the cover glass 237 and the light shielding member 239 provided inside the recess 238 are trapezoidal in cross-sectional shape. ing.

具体的に説明すると、凹部238は、基板235の表面235bからの距離が大きくなるにつれて、凹部の幅d2が小さくなっている。すなわち、凹部238の側面238aが凹部238の中央部(図中一点鎖線で示す)に向けて傾斜する構成になっている。また、当該凹部238の内部には遮光部材239が隙間無く配置されている。したがって、凹部238及び遮光部材239の断面形状は、上辺239bが下辺239aよりも短い台形に形成されている。
なお、その他の構成、例えば各部材の寸法や材質、配置については、第1実施形態と同様である。
More specifically, in the recess 238, the width d2 of the recess decreases as the distance from the surface 235b of the substrate 235 increases. That is, the side surface 238a of the recess 238 is inclined toward the center of the recess 238 (shown by a one-dot chain line in the figure). In addition, a light shielding member 239 is disposed in the recess 238 without any gap. Accordingly, the cross-sectional shapes of the recess 238 and the light shielding member 239 are formed in a trapezoidal shape in which the upper side 239b is shorter than the lower side 239a.
In addition, about another structure, for example, the dimension of each member, material, and arrangement | positioning, it is the same as that of 1st Embodiment.

図12に示すように、マイクロレンズ基板203aに入射した光の一部(光L3)は、基板235を透過し、マイクロレンズを構成する曲面235aによって画素領域208の内側へ集光される。この光L3は、樹脂層236を透過してカバーガラス237内へと入射し、凹部238の側面238aに沿ってカバーガラス237を透過し、カバーガラス237の外部へ射出される。   As shown in FIG. 12, a part of the light (light L3) incident on the microlens substrate 203a passes through the substrate 235 and is condensed inside the pixel region 208 by the curved surface 235a constituting the microlens. The light L3 passes through the resin layer 236 and enters the cover glass 237, passes through the cover glass 237 along the side surface 238a of the recess 238, and is emitted to the outside of the cover glass 237.

また、マイクロレンズ基板203aに入射した別の光(光L4)は、基板235を透過し、マイクロレンズを構成する曲面235aによって画素領域208の内側へ集光される。この光L4は、樹脂層236を透過してカバーガラス237内へと入射し、遮光部材239によって反射されてカバーガラス237の外部へ射出される。このときの射出角度は、カバーガラス237の表面に対してほぼ垂直に射出されることになる。   Further, another light (light L4) incident on the microlens substrate 203a passes through the substrate 235 and is condensed inside the pixel region 208 by the curved surface 235a constituting the microlens. The light L4 passes through the resin layer 236, enters the cover glass 237, is reflected by the light shielding member 239, and is emitted to the outside of the cover glass 237. The injection angle at this time is injected substantially perpendicular to the surface of the cover glass 237.

本実施形態によれば、基板235の表面235bから高さ方向に離れるにつれて凹部の幅d2が小さくなるように凹部238が設けられているので、凹部238の側面238aが当該凹部238の中央部に向けて傾斜するように設けられることになる。   According to the present embodiment, since the recess 238 is provided so that the width d2 of the recess becomes smaller from the surface 235b of the substrate 235 in the height direction, the side surface 238a of the recess 238 is formed at the center of the recess 238. It will be provided to incline toward.

凹部238の側面が傾斜せずに設けられている場合、基板235から樹脂層236を透過してきた光が基板面の法線方向に対して傾いていると、この光は凹部238の内部の遮光部材239に照射される可能性が高くなる。遮光部材239が光反射材料を含んでいる場合、この光は反射されて利用されることになるが、全反射することは不可能であり、光の損失が生じる。遮光部材239が光反射材料を含んでいない場合、照射された光は遮光部材239によって吸収されてしまうことになり、この場合も光の損失が生じる。いずれにしろ、光が遮光部材239に照射されることで光の損失が生じるため、当該遮光部材239に照射される光は少ないほど好ましい。   When the side surface of the recess 238 is provided without being inclined, if the light transmitted through the resin layer 236 from the substrate 235 is tilted with respect to the normal direction of the substrate surface, the light is blocked within the recess 238. The possibility that the member 239 is irradiated is increased. When the light shielding member 239 includes a light reflecting material, this light is reflected and used, but cannot be totally reflected, resulting in light loss. When the light shielding member 239 does not include a light reflecting material, the irradiated light is absorbed by the light shielding member 239, and in this case, light loss occurs. In any case, since light loss occurs when the light shielding member 239 is irradiated with light, it is preferable that the light irradiated to the light shielding member 239 is as small as possible.

これを踏まえて、本実施形態では、凹部238の側面238aが傾斜しているため、光は当該凹部238の側面238aに沿って進むことになり、凹部238の内部の遮光部材に照射される可能性が低くなる。これにより、遮光部材239での光の損失をできるだけ防ぐことができるので、光の利用効率をより向上させることが可能となる。   Based on this, in this embodiment, since the side surface 238a of the recess 238 is inclined, the light travels along the side surface 238a of the recess 238 and can be irradiated to the light shielding member inside the recess 238. Low. Thereby, the loss of light in the light shielding member 239 can be prevented as much as possible, so that the light utilization efficiency can be further improved.

また、遮光部材239に照射された場合であっても、本実施形態のように側面238aが傾いていると、光の入射角度によっては、例えば上述した光L4のように、カバーガラス237の表面に対してほぼ垂直に射出されることになる。このため、光強度の大きい光を得ることが可能となる。
なお、変形例として、凹部238の幅が基板235から離れるほど広くなるように、側面238の傾斜を形成することでも、凹部による集光作用を強くすることが可能となる。
Further, even when the light shielding member 239 is irradiated, if the side surface 238a is inclined as in the present embodiment, depending on the incident angle of light, for example, the surface of the cover glass 237 like the light L4 described above. Will be emitted almost perpendicularly to. For this reason, it becomes possible to obtain light with high light intensity.
As a modification, the condensing effect of the concave portion can be strengthened by forming the slope of the side surface 238 so that the width of the concave portion 238 increases as the distance from the substrate 235 increases.

[第4実施形態]
次に、図13をもとにして、本発明の第4実施形態を説明する。本実施形態においては、マイクロレンズ基板の構成が第1実施形態とは異なっているので、この点を中心に説明する。
[Fourth Embodiment]
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, since the configuration of the microlens substrate is different from that of the first embodiment, this point will be mainly described.

図13は、本実施形態に係るマイクロレンズ基板303aの構成を示す断面図であり、第1実施形態の図4に対応している。同図に示すように、マイクロレンズ基板303aは、基板335と、樹脂層336と、カバーガラス337とを主体とした3層構造になっている。基板335及び樹脂層336の構成については、第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。   FIG. 13 is a cross-sectional view showing the configuration of the microlens substrate 303a according to the present embodiment, and corresponds to FIG. 4 of the first embodiment. As shown in the figure, the microlens substrate 303a has a three-layer structure mainly including a substrate 335, a resin layer 336, and a cover glass 337. Since the configurations of the substrate 335 and the resin layer 336 are the same as those in the first embodiment, the description thereof is omitted here.

本実施形態では、カバーガラス337の表面337aに設けられた凹部338及び当該凹部338の内部に設けられた遮光部材239が、断面形状で二等辺三角形になっている点で、第1実施形態及び第3実施形態とは異なっている。より具体的に説明すると、凹部338は、基板335の表面335bからの距離が大きくなるにつれて凹部の幅d3が小さくなり、カバーガラス337内で凹部の幅d3がゼロになっている。すなわち、凹部338の側面338aが凹部338の中心部分(図中一点鎖線で示す)に向けて傾斜し、頂点Pを有する構成になっている。   In the present embodiment, the concave portion 338 provided on the surface 337a of the cover glass 337 and the light shielding member 239 provided inside the concave portion 338 are in the shape of an isosceles triangle in cross section, and the first embodiment and This is different from the third embodiment. More specifically, in the recess 338, the width d3 of the recess decreases as the distance from the surface 335b of the substrate 335 increases, and the width d3 of the recess in the cover glass 337 becomes zero. That is, the side surface 338a of the concave portion 338 is inclined toward the center portion of the concave portion 338 (indicated by a one-dot chain line in the figure), and has a vertex P.

また、本実施形態では、カバーガラス337の内側表面337aに凹部338が形成されている。したがって、マイクロレンズを構成する曲面335aの先端部と遮光部材339の底面339aとの間が第1実施形態、第3実施形態と比べて小さくなっている。なお、他の構成、例えば各部材の寸法や材質、配置については、第1実施形態と同様である。   In the present embodiment, a recess 338 is formed on the inner surface 337 a of the cover glass 337. Therefore, the space between the tip of the curved surface 335a constituting the microlens and the bottom surface 339a of the light shielding member 339 is smaller than in the first and third embodiments. In addition, about another structure, for example, the dimension of each member, a material, and arrangement | positioning, it is the same as that of 1st Embodiment.

図13に示すように、マイクロレンズ基板303aに入射した光の一部(光L5)は、基板335を透過し、マイクロレンズを構成する曲面335aによって画素領域308の内側へ集光される。この光L5は、樹脂層336を透過してカバーガラス337内へと入射し、凹部338の側面338aに沿ってカバーガラス337を透過し、カバーガラス337の外部へ射出される。   As shown in FIG. 13, a part of the light (light L5) incident on the microlens substrate 303a passes through the substrate 335 and is condensed inside the pixel region 308 by the curved surface 335a constituting the microlens. The light L5 passes through the resin layer 336 and enters the cover glass 337, passes through the cover glass 337 along the side surface 338a of the recess 338, and is emitted to the outside of the cover glass 337.

また、マイクロレンズ基板303aに入射した別の光の一部(光L6)は、基板335を透過し、マイクロレンズを構成する曲面335aによって画素領域308の内側へ集光される。この光L6は、樹脂層336を透過してカバーガラス337内へと入射し、遮光部材339によって反射されてカバーガラス337の外部へ射出される。このときの射出角度は、カバーガラス337の表面に対してほぼ垂直に射出されることになる。   Further, part of the other light (light L6) incident on the microlens substrate 303a passes through the substrate 335 and is condensed inside the pixel region 308 by the curved surface 335a constituting the microlens. The light L6 passes through the resin layer 336, enters the cover glass 337, is reflected by the light shielding member 339, and is emitted to the outside of the cover glass 337. The injection angle at this time is injected substantially perpendicular to the surface of the cover glass 337.

なお、本実施形態に係るマイクロレンズ基板303aを製造する際には、予めカバーガラス337に凹部338及び遮光部材339を形成しておき、基板335に曲面335aを形成し、樹脂層336を形成した後、凹部338及び遮光部材339を有するカバーガラス337を樹脂層336に貼り付けるようにする。また、凹部338を形成する際には、カバーガラス337の深さ方向に徐々に凹部の幅が狭くなるように、例えばカバーガラスの温度を変化させながらエッチングする。   When manufacturing the microlens substrate 303a according to this embodiment, the concave portion 338 and the light shielding member 339 are formed in advance on the cover glass 337, the curved surface 335a is formed on the substrate 335, and the resin layer 336 is formed. Thereafter, a cover glass 337 having a recess 338 and a light shielding member 339 is attached to the resin layer 336. Further, when forming the recess 338, etching is performed while changing the temperature of the cover glass, for example, so that the width of the recess gradually becomes narrower in the depth direction of the cover glass 337.

本実施形態では、凹部338の側面338aが傾斜しているため、光は当該凹部338の側面338aに沿って進むことになり、凹部338の内部の遮光部材に照射される可能性が低くなる。これにより、遮光部材339での光の損失をできるだけ防ぐことができるので、光の利用効率をより向上させることが可能となる。   In the present embodiment, since the side surface 338a of the recess 338 is inclined, the light travels along the side surface 338a of the recess 338, and the possibility that the light shielding member inside the recess 338 is irradiated is reduced. Thereby, the loss of light in the light shielding member 339 can be prevented as much as possible, so that the light use efficiency can be further improved.

また、遮光部材339に照射された場合であっても、本実施形態のように側面338aが傾いていると、光の入射角度によっては、例えば上述した光L6のように、カバーガラス337の表面に対してほぼ垂直に射出されることになる。このため、光強度の大きい光を得ることが可能となる。   Even when the light shielding member 339 is irradiated, if the side surface 338a is inclined as in the present embodiment, depending on the incident angle of light, for example, the surface of the cover glass 337 as in the light L6 described above. Will be emitted almost perpendicularly to. For this reason, it becomes possible to obtain light with high light intensity.

また、本実施形態では、カバーガラス337の内側表面337aに凹部338を形成する構成にしたので、凹部338の幅d3がカバーガラス337の深さ方向に小さくなっている。エッチングによって凹部338を形成する場合、カバーガラス337の深さ方向に凹部の幅を大きくするのに比べて、本実施形態のように深さ方向に凹部の幅を小さくする方が容易にエッチングすることができる。したがって、第3実施形態の構成に比べて、本実施形態の構成の方が製造が容易である。   In the present embodiment, since the recess 338 is formed on the inner surface 337a of the cover glass 337, the width d3 of the recess 338 is reduced in the depth direction of the cover glass 337. When the recess 338 is formed by etching, etching is easier when the width of the recess is reduced in the depth direction as in the present embodiment than when the width of the recess is increased in the depth direction of the cover glass 337. be able to. Therefore, the configuration of this embodiment is easier to manufacture than the configuration of the third embodiment.

さらに、本実施形態のように、凹部338及び遮光部材339をカバーガラス337の内側表面337aに設けることによって、第1実施形態及び第3実施形態の構成よりも曲面335aの先端部と遮光部材339の底面339aとの距離が小さくなるため、第1実施形態及び第3実施形態に比べて一層光の利用効率を向上させることができる。   Further, by providing the concave portion 338 and the light shielding member 339 on the inner surface 337a of the cover glass 337 as in the present embodiment, the distal end portion of the curved surface 335a and the light shielding member 339 are more than the configuration of the first embodiment and the third embodiment. Since the distance from the bottom surface 339a is reduced, the light utilization efficiency can be further improved as compared with the first and third embodiments.

[第5実施形態]
次に、図14をもとにして、本発明の第5実施形態を説明する。本実施形態においては、マイクロレンズ基板の構成が第1実施形態とは異なっているので、この点を中心に説明する。
[Fifth Embodiment]
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, since the configuration of the microlens substrate is different from that of the first embodiment, this point will be mainly described.

図14は、本実施形態に係るマイクロレンズ基板403aの構成を示す断面図であり、第1実施形態の図4に対応している。図14に示すように、マイクロレンズ基板403aは、基板435と、樹脂層436と、カバーガラス437とを主体とした3層構造になっている。基板435及び樹脂層436の構成については、第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。   FIG. 14 is a cross-sectional view showing the configuration of the microlens substrate 403a according to the present embodiment, and corresponds to FIG. 4 of the first embodiment. As shown in FIG. 14, the microlens substrate 403a has a three-layer structure mainly including a substrate 435, a resin layer 436, and a cover glass 437. Since the configurations of the substrate 435 and the resin layer 436 are the same as those in the first embodiment, the description thereof is omitted here.

本実施形態では、カバーガラス437の表面437aに形成された凹部438の内部に設けられる遮光部材439の構成が、第1実施形態とは異なっている。より具体的に説明すると、遮光部材439は、凹部438の側面438a及び凹部438の底面438bを覆うように薄膜状に設けられている。また、遮光部材439で覆われた凹部438の内部は空洞になっている。   In this embodiment, the structure of the light shielding member 439 provided in the inside of the recessed part 438 formed in the surface 437a of the cover glass 437 differs from 1st Embodiment. More specifically, the light shielding member 439 is provided in a thin film shape so as to cover the side surface 438 a of the recess 438 and the bottom surface 438 b of the recess 438. Further, the inside of the recess 438 covered with the light shielding member 439 is hollow.

図14に示すように、マイクロレンズ基板403aに入射した光の一部(光L7)は、基板435を透過し、マイクロレンズを構成する曲面435aによって画素領域408の内側へ集光される。この光L7は、樹脂層436を透過してカバーガラス437内へと入射し、凹部438の側面438aを覆う遮光部材439によって反射されてカバーガラス437の外部へ射出される。   As shown in FIG. 14, a part of the light (light L7) incident on the microlens substrate 403a passes through the substrate 435 and is condensed inside the pixel region 408 by the curved surface 435a constituting the microlens. The light L7 passes through the resin layer 436, enters the cover glass 437, is reflected by the light shielding member 439 that covers the side surface 438a of the recess 438, and is emitted to the outside of the cover glass 437.

本実施形態によれば、遮光部材439が、凹部438の側面438a及び凹部438の底面438bを覆うように設けられているので、例えば遮光部材439を凹部438の内部に薄膜状に形成することが可能となる。これにより、遮光部材439の形成が容易になる。また、本実施形態のように遮光部材439が光反射材料(アルミニウム)を含む場合、凹部438の側面438a及び凹部438の底面438bが当該光反射材料を含む遮光部材439に覆われることになるので、光を確実に反射することができる。   According to the present embodiment, since the light shielding member 439 is provided so as to cover the side surface 438a of the recess 438 and the bottom surface 438b of the recess 438, for example, the light shielding member 439 can be formed in a thin film inside the recess 438. It becomes possible. Thereby, formation of the light shielding member 439 is facilitated. Further, when the light shielding member 439 includes a light reflecting material (aluminum) as in the present embodiment, the side surface 438a of the concave portion 438 and the bottom surface 438b of the concave portion 438 are covered with the light shielding member 439 including the light reflecting material. , Can reliably reflect light.

[プロジェクタ]
次に、各実施形態の液晶装置を光変調装置として用いたプロジェクタの実施形態を説明する。
図15は、投射型表示装置の一例としてのプロジェクタ502の内部の構成を概略的に示す図である。
プロジェクタ502は、光源507と、フライアイレンズ508、509と、ダイクロイックミラー510、511と、反射ミラー512、513、514と、液晶ライトバルブ515、516、517と、クロスダイクロイックプリズム518と、投射レンズ519とを主体として構成されており、例えばR(赤)、G(緑)、B(青)の異なる色毎に透過型液晶ライトバルブを備えたカラー液晶プロジェクタである。
[projector]
Next, an embodiment of a projector using the liquid crystal device of each embodiment as a light modulation device will be described.
FIG. 15 is a diagram schematically showing an internal configuration of a projector 502 as an example of a projection display device.
The projector 502 includes a light source 507, fly-eye lenses 508 and 509, dichroic mirrors 510 and 511, reflection mirrors 512, 513 and 514, liquid crystal light valves 515, 516 and 517, a cross dichroic prism 518, and a projection lens. 519, for example, a color liquid crystal projector provided with a transmissive liquid crystal light valve for each different color of R (red), G (green), and B (blue).

光源507は、例えば白色光を射出する高圧水銀ランプ等のランプ507aと、当該ランプ507aからの光を反射するリフレクタ507bとを有している。フライアイレンズ508、509は、光源507からの光の照度分布を均一化する光学部品である。光源507側のフライアイレンズ508には複数の2次光源像を形成する働きがあり、スクリーン503側のフライアイレンズ509にはフライアイレンズ508で形成された2次光源像を重畳する働きがある。   The light source 507 includes a lamp 507a such as a high-pressure mercury lamp that emits white light, and a reflector 507b that reflects light from the lamp 507a. The fly-eye lenses 508 and 509 are optical components that make the illuminance distribution of light from the light source 507 uniform. The fly eye lens 508 on the light source 507 side has a function of forming a plurality of secondary light source images, and the fly eye lens 509 on the screen 503 side has a function of superimposing the secondary light source images formed by the fly eye lens 508. is there.

ダイクロイックミラー510は、光源507から射出される白色光のうち、赤色光LRを透過させると共に、緑色光LG及び青色光LBを反射する光学部品である。ダイクロイックミラー511は、光源507から射出される白色光のうち、緑色光LGを反射し、青色光LBを透過する光学部品である。   The dichroic mirror 510 is an optical component that transmits the red light LR of the white light emitted from the light source 507 and reflects the green light LG and the blue light LB. The dichroic mirror 511 is an optical component that reflects green light LG among white light emitted from the light source 507 and transmits blue light LB.

液晶ライトバルブ515、516、517は、それぞれ照射された赤色光、緑色光、青色光を所定の画像信号に基づいて変調する変調素子である。液晶ライトバルブ515、516、517として、ここでは上述の液晶装置1が用いられている。   The liquid crystal light valves 515, 516, and 517 are modulation elements that modulate the irradiated red light, green light, and blue light, respectively, based on a predetermined image signal. Here, the liquid crystal device 1 described above is used as the liquid crystal light valves 515, 516, and 517.

クロスダイクロイックプリズム518は、4つの直角プリズムが貼り合わされた光学素子である。クロスダイクロイックプリズム518の内面には、赤色光を反射する誘電体多層膜518aと、青色光を反射する誘電体多層膜518bとが十字状に形成されている。各誘電体多層膜518a、518bによって3つの色光が合成され、カラー画像を表す光(映像光)が形成されるようになっている。
投射レンズ519は、映像光をスクリーン503に向けて投射する光学部品である。
The cross dichroic prism 518 is an optical element in which four right-angle prisms are bonded. On the inner surface of the cross dichroic prism 518, a dielectric multilayer film 518a that reflects red light and a dielectric multilayer film 518b that reflects blue light are formed in a cross shape. Three color lights are synthesized by the dielectric multilayer films 518a and 518b, and light (image light) representing a color image is formed.
The projection lens 519 is an optical component that projects image light toward the screen 503.

次に、上記のように構成されたプロジェクタ502の動作を説明する。
プロジェクタ502を駆動させると、ランプ507aから白色光が射出される。ランプ507aから直接射出された白色光及びリフレクタ507bで反射された白色光がコリメータレンズ507cにより平行光にされる。この平行光は、フライアイレンズ508、509によりその照度分布が均一化される。
Next, the operation of the projector 502 configured as described above will be described.
When the projector 502 is driven, white light is emitted from the lamp 507a. White light directly emitted from the lamp 507a and white light reflected by the reflector 507b are collimated by the collimator lens 507c. The illuminance distribution of the parallel light is made uniform by the fly-eye lenses 508 and 509.

照度分布が均一化された光は、ダイクロイックミラー510、511に到達し、赤色光、緑色光及び青色光の色光に分光される。各色光は、それぞれ反射ミラー512、513、514を介して液晶ライトバルブ515、516、517に到達し、液晶ライトバルブ515、516、517により所望のパターンに変調される。このように変調された各色光が、投射レンズ519によりスクリーン503上に投射される。   The light whose illuminance distribution is made uniform reaches the dichroic mirrors 510 and 511, and is split into red, green and blue light. Each color light reaches the liquid crystal light valves 515, 516, and 517 via the reflection mirrors 512, 513, and 514, respectively, and is modulated into a desired pattern by the liquid crystal light valves 515, 516, and 517, respectively. Each color light modulated in this way is projected onto the screen 503 by the projection lens 519.

このように、本実施形態によれば、画素領域の開口率を高めることができ、光の利用効率を高めることができる液晶装置1を備えているので、明るく、コントラストの高い表示が可能なプロジェクタ502を得ることができる。   As described above, according to the present embodiment, since the liquid crystal device 1 that can increase the aperture ratio of the pixel region and increase the light use efficiency is provided, the projector can display a bright image with high contrast. 502 can be obtained.

さらに、本実施形態によれば、上記遮光部材が熱伝導率の高い金属材料(アルミニウムなど)を含んでいるので、例えばマイクロレンズ基板をプロジェクタ502の高熱下において用いる際に、マイクロレンズ基板の熱伝導率が高くなるため、熱によるマイクロレンズ基板の破損を防ぐことができるという利点もある。   Further, according to the present embodiment, since the light shielding member includes a metal material (aluminum or the like) having a high thermal conductivity, for example, when the microlens substrate is used under the high heat of the projector 502, the heat of the microlens substrate is used. Since the conductivity is increased, there is also an advantage that damage to the microlens substrate due to heat can be prevented.

[電子機器]
次に、本発明に係る電子機器について、携帯電話を例に挙げて説明する。
図16は、携帯電話600の全体構成を示す斜視図である。
携帯電話600は、筺体601、複数の操作ボタンが設けられた操作部602、画像や動画、文字等を表示する表示部603を有する。表示部603には、本発明に係る液晶装置1が搭載される。
このように、光の利用効率を高めることができる液晶装置1を備えているので、明るく、コントラストの高い表示部を有する電子機器(携帯電話)600を得ることができる。
[Electronics]
Next, an electronic apparatus according to the present invention will be described using a mobile phone as an example.
FIG. 16 is a perspective view showing the overall configuration of the mobile phone 600.
The mobile phone 600 includes a housing 601, an operation unit 602 provided with a plurality of operation buttons, and a display unit 603 that displays images, moving images, characters, and the like. The display unit 603 is equipped with the liquid crystal device 1 according to the present invention.
As described above, since the liquid crystal device 1 capable of increasing the light use efficiency is provided, an electronic device (mobile phone) 600 having a bright and high-contrast display unit can be obtained.

本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
例えば、上記各実施形態では、遮光部材として、光反射性の高い金属材料、すなわち、アルミニウムを例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、例えば、クロムなどの金属や、シリコン酸化物などの無機系材料を用いても勿論構わない。カバーガラスの材料としては、ガラスに限られず、石英などを用いても良い。
The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and appropriate modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
For example, in each of the above embodiments, the light shielding member has been described by taking a metal material having high light reflectivity, that is, aluminum as an example. However, the present invention is not limited to this, and for example, a metal such as chromium, silicon oxide, or the like. Of course, inorganic materials such as materials may be used. The material of the cover glass is not limited to glass, and quartz or the like may be used.

また、上記各実施形態では、電気光学装置として液晶装置(液晶パネル)を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、他の電気光学装置、例えば有機EL装置や、無機EL装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、フィールドエミッションディスプレイ装置等においても、本発明の適用が可能である。   In each of the above embodiments, the liquid crystal device (liquid crystal panel) has been described as an example of the electro-optical device. However, the present invention is not limited to this, and other electro-optical devices such as an organic EL device and an inorganic EL device. The present invention can also be applied to plasma display devices, electrophoretic display devices, field emission display devices, and the like.

本発明の第1実施形態に係る液晶装置の構成を示す平面図。1 is a plan view showing a configuration of a liquid crystal device according to a first embodiment of the present invention. 本実施形態に係る液晶装置の構成を示す断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal device according to the embodiment. 本実施形態に係るマイクロレンズ基板の構成を示す平面図。The top view which shows the structure of the micro lens board | substrate which concerns on this embodiment. 本実施形態に係るマイクロレンズ基板の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the micro lens board | substrate which concerns on this embodiment. 本実施形態に係るマイクロレンズ基板の製造方法を示す工程図。Process drawing which shows the manufacturing method of the micro lens board | substrate which concerns on this embodiment. 同、工程図。The process drawing. 同、工程図。The process drawing. 同、工程図。The process drawing. 同、工程図。The process drawing. 同、工程図。The process drawing. 本発明の第2実施形態に係るマイクロレンズ基板の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the microlens board | substrate which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態に係るマイクロレンズ基板の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the microlens board | substrate which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態に係るマイクロレンズ基板の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the microlens board | substrate which concerns on 4th Embodiment of this invention. 本発明の第5実施形態に係るマイクロレンズ基板の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the microlens board | substrate which concerns on 5th Embodiment of this invention. 本発明に係るプロジェクタの構成を示す図。1 is a diagram showing a configuration of a projector according to the present invention. 本発明に係る携帯電話の構成を示す図。The figure which shows the structure of the mobile telephone which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…液晶装置 3…対向基板 3a…マイクロレンズ基板 4…シール材 4a…注入口 4b…封止材 5…液晶層 6…遮光膜 7…表示領域 8…画素領域 35…基板(第1透明基板) 35a…曲面 36…樹脂層 37…カバーガラス(第2透明基板) 38…凹部 39…遮光部材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal device 3 ... Opposite board | substrate 3a ... Micro lens board | substrate 4 ... Sealing material 4a ... Injection port 4b ... Sealing material 5 ... Liquid crystal layer 6 ... Light-shielding film 7 ... Display area 8 ... Pixel area 35 ... Substrate (1st transparent substrate) 35a ... curved surface 36 ... resin layer 37 ... cover glass (second transparent substrate) 38 ... concave portion 39 ... light shielding member

Claims (10)

表面にマイクロレンズを構成する曲面が設けられた第1透明基板と、
前記第1透明基板の表面側に設けられ、前記第1透明基板の表面及び前記曲面を覆う樹脂層と、
前記樹脂層上に設けられた第2透明基板と
を具備し、
前記第2透明基板の表面に凹部が設けられており、
前記凹部の内部に遮光部材が設けられている
ことを特徴とするマイクロレンズ基板。
A first transparent substrate provided with a curved surface constituting a microlens on the surface;
A resin layer provided on the surface side of the first transparent substrate and covering the surface of the first transparent substrate and the curved surface;
A second transparent substrate provided on the resin layer,
A recess is provided on the surface of the second transparent substrate,
A microlens substrate, wherein a light shielding member is provided inside the recess.
前記遮光部材が、光反射材料を含んでいる
ことを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズ基板。
The microlens substrate according to claim 1, wherein the light shielding member includes a light reflecting material.
前記遮光部材が、金属材料を含んでいる
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のマイクロレンズ基板。
The microlens substrate according to claim 1, wherein the light shielding member includes a metal material.
前記凹部が、前記第1透明基板の基板面から離れるにつれて前記凹部の幅が小さくなるように設けられている
ことを特徴とする請求項2又は請求項3に記載のマイクロレンズ基板。
4. The microlens substrate according to claim 2, wherein the concave portion is provided so that the width of the concave portion decreases as the distance from the substrate surface of the first transparent substrate increases.
前記遮光部材が、前記凹部の内部の全体に設けられている
ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のうちいずれか一項に記載のマイクロレンズ基板。
The microlens substrate according to any one of claims 1 to 4, wherein the light shielding member is provided in the entire interior of the recess.
前記遮光部材が、前記凹部の側面及び前記凹部の底面を覆うように設けられている
ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のうちいずれか一項に記載のマイクロレンズ基板。
The microlens substrate according to any one of claims 1 to 4, wherein the light shielding member is provided so as to cover a side surface of the concave portion and a bottom surface of the concave portion.
第1透明基板の表面にマイクロレンズを構成する曲面を形成する工程と、
前記第1透明基板の表面及び前記曲面を覆うように樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層上に第2透明基板を配置する工程と、
前記第2透明基板に凹部を形成する工程と、
前記凹部の内部に遮光部材を配置する工程と
を具備することを特徴とするマイクロレンズ基板の製造方法。
Forming a curved surface constituting a microlens on the surface of the first transparent substrate;
Forming a resin layer so as to cover the surface of the first transparent substrate and the curved surface;
Disposing a second transparent substrate on the resin layer;
Forming a recess in the second transparent substrate;
And a step of arranging a light shielding member inside the recess. A method of manufacturing a microlens substrate.
請求項1乃至請求項6のうちいずれか一項に記載のマイクロレンズ基板を備えたことを特徴とする電気光学装置。   An electro-optical device comprising the microlens substrate according to claim 1. 前記第1透明基板に電気光学装置の画素領域が複数マトリクス状に設けられており、
前記凹部が前記画素領域の間の領域に設けられている
ことを特徴とする請求項8に記載の電気光学装置。
A plurality of pixel regions of an electro-optical device are provided in a matrix on the first transparent substrate,
The electro-optical device according to claim 8, wherein the concave portion is provided in a region between the pixel regions.
請求項8又は請求項9に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。

An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 8.

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102376742A (en) * 2010-08-09 2012-03-14 佳能株式会社 Organic electroluminescence display apparatus
CN113703183A (en) * 2020-05-22 2021-11-26 北京芯海视界三维科技有限公司 Lens grating, display module, display screen and display
CN118859383A (en) * 2024-09-26 2024-10-29 天府兴隆湖实验室 A double-layer nested random single-sided microlens array and its manufacturing method

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102376742A (en) * 2010-08-09 2012-03-14 佳能株式会社 Organic electroluminescence display apparatus
CN113703183A (en) * 2020-05-22 2021-11-26 北京芯海视界三维科技有限公司 Lens grating, display module, display screen and display
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