JP2007243086A - 露光マスク、基板ホルダーおよび近接露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 盛り上がった周縁部のレジスト膜（１９ｆ，１９ｇ）が、露光マスク（３０）にも水晶ウエハ（１０）自体にも影響を与えないような近接露光装置（１００）を提供する。
【解決手段】 近接露光装置（１００）は、露光マスク（３０）のパターンを、レジスト（１９）が塗布され周縁部を有する水晶ウエハ（１０）に対して近接露光する。そして近接露光装置（１００）は、水晶ウエハ（１０）の周縁部に対応する位置に遮光部（３２）で覆われた露光マスク（３０）の溝部（３５）と、水晶ウエハ（１０）を保持し外周部が水晶ウエハ（１０）の周縁部より内側にある基板ホルダー（１１４）とを備える。
【選択図】 図８

Description

本発明は、圧電振動デバイスまたはマイクロマシンなどに用いる露光用マスク、水晶ウエハなどの基板を保持する基板ホルダー、並びに露光用マスクおよび基板ホルダーを用いた近接露光装置に関する。

近年、各種通信機器の高周波数化、またはパーソナルコンピュータなどの電子機器の動作周波数の高周波数化にともなって、圧電振動デバイス、例えば、角速度センサ用音叉、水晶振動子または水晶フィルタ等も高周波数化への対応が求められている。

このような圧電振動デバイスを製造する際には、露光マスクのパターンを水晶ウエハ上に近接（プロキシミティ）露光転写する近接露光装置を用いたフォトリソグラフィー技術及びウェットエッチング技術を利用している。例えば、特許文献１では、圧電振動デバイス用の水晶ウエハに電極を形成する時には、圧電振動デバイス用の水晶片に設けた金属薄膜にポジ又はネガのフォトレジスト膜（以下、レジスト膜とする）を塗布し露光する。そして現像後に金属膜の不要部分をウェットエッチングして各電極パターンを形成している。

圧電振動デバイスの高周波数化に伴って加工寸法の精度が高くなって来つつある。加工精度の要求に応じるため、露光マスクと水晶ウエハとをできるだけ近接させる傾向にある。マスクと水晶ウエハとを近接させた方が、照明光による光線がボケないため解像度が上がるからである。しかし、次のような問題が生じる。

まず、水晶ウエハに塗布されたレジスト膜がマスクに付いて、露光マスクが汚れてしまう。特に水晶ウエハの周縁部のレジスト膜が盛り上がって厚くなりがちであり、水晶ウエハの周縁部の対応するマスクの領域が汚れやすい。ウェットエッチングを行わないウエハであれば、通常特許文献２に記載されるような周辺露光が行われて、周縁部のレジスト膜を剥離することができるが、ウェットエッチングを行う水晶ウエハでは周辺露光を行うことができない。

また、周縁部のレジスト膜が盛り上がった水晶ウエハがマスクに接触すると、水晶ウエハの周縁部にクラックが生じてしまうことがある。水晶ウエハにクラックが生じると圧電振動デバイスが不良となる問題がある。さらに、一旦、真空チャックなどにレジスト膜が付着すると、次に載置される水晶ウエハと真空チャックとの間にレジスト膜が入り込み、水晶ウエハの平面度が確保できず、水晶ウエハの周縁部が反ってしまう。この状態で露光すると、露光精度が悪くなってしまうため、真空チャックなどにレジスト膜が付着する毎に露光作業を中止して、清掃作業をしなければならないという問題が生じていた。
特開２００５−１３４３６４号公報 特開平１１−２１９８９４号公報

そこで、本発明は上記事情に鑑みて創案されたもので、盛り上がった周縁部のレジスト膜が、露光マスクにもウエハ自体にも影響を与えないようにする。具体的には、盛り上がった周縁部のレジスト膜に対して影響を与えない露光マスクおよびウエハホルダー、さらにはこれらを備える近接露光装置を提供することを目的としている。

第一の観点の露光マスクは、感光剤が塗布され周縁部を有する露光基板に対して、近接露光する際に用いられる。そして露光マスクは、露光基板の周縁部に対応する位置に遮光部で覆われた溝部を有する。
この構成により、露光マスクと露光基板とを近接させても、盛り上がった周縁部のレジスト膜が、露光マスクに付着しない。したがって、レジスト膜を介して露光マスクが露光基板に接触して、露光基板にクラックが生じることがない。また、作業効率が良く高解像で露光することができる。

第二の観点の基板ホルダーは、裏面に感光剤が塗布され周縁部を有する露光基板を保持する。そして基板ホルダーの外周部は、露光基板の周縁部より内側にある。
この構成により、露光基板の第一面と第二面とにレジスト膜を塗布する両面露光においても、盛り上がった周縁部のレジスト膜が、基板ホルダーに付着しない。したがって、作業効率が良く高解像で露光することができる。

第三の観点の近接露光装置は、露光マスクのパターンを、感光剤が塗布され周縁部を有する露光基板に対して近接露光する。そして近接露光装置は、露光基板の周縁部に対応する位置に遮光部で覆われた露光マスクの溝部と、露光基板を保持し外周部が露光基板の周縁部より内側にある基板ホルダーとを備える。
この構成により、露光マスクと露光基板とを近接させても、盛り上がった周縁部のレジスト膜が露光マスクに付着せず、且つ露光基板の第一面と第二面とにレジスト膜を塗布する両面露光においても、盛り上がった周縁部のレジスト膜が基板ホルダーに付着しない。したがって、露光基板にクラックが生じることがなく、また作業効率が良く高解像で露光することができる。

第四の観点の近接露光装置は、溝部の角は、遮光部の剥離を防止するように、丸みを帯びていることを特徴とする請求項６に記載の近接露光装置。
このため、遮光部の剥離により、露光基板が不要な照明光で露光されてしまうことを防止できる。

第五の観点の近接露光装置は、基板ホルダーは、露光基板の直径に応じて伸縮する。
このため、多くのサイズの露光基板に対応することができる。

第六の観点の近接露光装置は、第五の観点において、基板ホルダーが中央部に配置される中央チャック部と、該中央チャック部の外側に配置される外側チャック部とからなっている。
このため、露光基板の直径に応じて外側チャック部が伸びても、中央チャックが露光基板を支えるため、真空吸着時に露光基板の中央部がへこんだりすることはない。

第七の観点において、露光基板は、水晶ウエハを含む。特に水晶ウエハはドライエッチングができず、また割れやすいので、効果が大きい。

本発明に係る露光マスク、基板ホルダーおよびそれらを使った近接露光装置は、露光マスクと露光基板とを近接させても、盛り上がった周縁部のレジスト膜が露光マスクに付着せず、且つ盛り上がった周縁部のレジスト膜が基板ホルダーに付着しない。このため、近接露光において、正確な露光が可能となっている。

以下、水晶ウエハ１０を使って本発明の実施形態を説明する。なお、以下の実施形態では説明の便宜上、感光剤であるポジ又はネガのフォトレジスト膜（以下、レジスト膜という。）が塗布されている基板を水晶ウエハ１０といい、レジスト膜が塗布されていない状態の基板を水晶基板１１という。

＜近接露光装置１００の構成＞
図１は、原板である露光マスク３０の所定のパターンを露光基板である水晶ウエハ１０に露光する際に用いられる近接（プロキシミティ）露光装置１００の構成例を示す側断面図である。この近接露光装置１００は、短波長の光線、例えば３００ｎｍの照明光ＩＬを照射する露光光源１０１と、露光光源１０１から照射された照明光ＩＬを露光マスク３０に対して平行光を導く、コンデンサーレンズ１０３Ｌ１および１０３Ｌ２からなる照明光学系１０３を有している。さらに、近接露光装置１００は、露光マスク３０を保持しＸＹ平面で移動可能なマスクステージ１０５と、水晶ウエハ１０を真空吸着する真空チャック１１４、この真空チャック１１４を備えるウエハステージ１１２とを有している。ウエハステージ１１２は、使用者の操作によって、ベース１１０上のＸＹ平面でＸ軸方向、Ｙ軸方向およびＺ軸を中心とした回転方向に移動することが可能である。ウエハステージ１１２は、Ｚ方向にも移動可能であり、水晶ウエハ１０と露光マスク３０との間隔Ｌを、微調整できる。具体的には、１ミクロンから十数ミクロンにまで近接できるように調整可能である。

真空チャック１１４には、真空チャック駆動制御装置１２６が接続されている。真空チャック駆動制御装置１２６は、水晶ウエハ１０を真空チャック１１４に真空吸着したり真空開放したりして水晶ウエハ１０を保持したり取り外しが可能なようにする。また、真空チャック駆動制御装置１２６は、水晶ウエハ１０の直径に応じて、真空チャック１１４の直径が変更できるようになっている。これについては図５および図６を使って後述する。

近接露光装置１００には、照明光学系１０３に隣接してアライメント用カメラ１２０が設けられている。アライメント用カメラ１２０は、アライメント用対物レンズ１２２（１２２Ａ，１２２Ｂ）、いわゆる顕微鏡を有している。使用者は、アライメント用対物レンズ１２２Ａおよび１２２Ｂからの画像を観察して水晶ウエハ１０と露光マスク３０とをアライメントする。アライメント用カメラ１２０には、アライメント用対物レンズ１２２からの光を分光して、光を電気に変換する光電変換素子であるＣＣＤ１２３（１２３Ａ，１２３Ｂ）が取り付けられている。矢印１２９に示すように、アライメント用カメラ１２０は、水晶ウエハ１０と露光マスク３０とをアライメントする際には、露光マスク３０の上方に配置されるようになっており、露光マスク３０の所定のパターンを水晶ウエハ１０に露光する際には、露光マスク３０の上方から退避する。

＜水晶ウエハ１０の構成＞
図２Ａおよび図２Ｂは、本実施形態に用いる水晶ウエハ１０の構成を示す斜視図である。この水晶ウエハ１０は、厚さ０．３６mmの人工水晶からなる水晶基板１１からなり、その水晶基板１１の直径は３インチまたは４インチである。また、図２Ａに示すように、水晶基板１１の一部には、水晶の結晶方向を特定するオリエンテーションフラット１１Ｃが形成されている。また、図２Ｂに示すように、オリエンテーションフラット１１Ｃではなく、水晶の結晶方向を特定するため水晶基板１１の一部にノッチ１１Ｄを形成してもよい。以下の実施形態では、図２Ａに示すオリエンテーションフラット１１Ｃを有する水晶ウエハ１０で説明する。

図３に、本実施形態に用いる水晶ウエハ１０の断面図を示す。図３Ａは、表面および裏面の両面を露光および加工する水晶ウエハ１０Ａの断面図である。図３Ｂは、表面の一面のみを露光および加工する水晶ウエハ１０Ｂの断面図である。なお、いずれの図も誇張して描かれており、実際の寸法比率とは異なっている。

図３Ａの水晶ウエハ１０Ａは、圧電振動デバイスの電極などを形成するために、水晶基板１１の両面には金属薄膜が形成される。例えば図３Ａにおいて、水晶基板１１の表面および裏面には、クロム１７の薄膜がスパッタによって成膜して形成されている。その上面には、さらに金１５の薄膜がスパッタによって形成されている。そして、照明光ＩＬで水晶ウエハ１０を露光するために、水晶ウエハ１０の金１５の薄膜の外側に、レジスト膜１９が塗布される。

図３Ｂの水晶ウエハ１０Ｂは、圧電振動デバイスの電極などを形成するために、水晶基板１１の片面には金属薄膜が形成されている。水晶基板１１の表面のみに、クロム１７の薄膜がスパッタによって成膜して形成され、その上面には、さらに金１５の薄膜がスパッタによって形成されている。そして、照明光ＩＬで水晶ウエハ１０を露光するために、水晶ウエハ１０の金１５の薄膜の外側に、レジスト膜１９が塗布されている。

レジスト膜１９の塗布の方法には、塗布に適した粘度に調整されたレジストインキを、スプレーガンにて霧化し水晶基板１１に吹き付け皮膜を得るスプレーコート方法、回転する水晶基板１１上にレジストインキを数滴落として、その遠心力でディスク全面に色素塗料を広げて塗布するというスピンコート方法などがある。さらに、低粘度のレジストインキをカーテン状に落下させ、その中に水晶基板１１を通過させることによって基板全面にレジストインキを塗布するカーテンコート方法、また、レジストインキのタンクに水晶基板１１をいったん浸してそして引き上げるディップコート方法などもある。

水晶ウエハ１０Ａおよび水晶ウエハ１０Ｂに対して、これらのいずれのコート方法でレジスト膜１９を塗布してもよい。しかし、いずれの方法であっても、水晶基板１１の周縁部でレジスト膜１９が厚く塗布される（盛り上がる）傾向がある。具体的には、図３Ａの水晶ウエハ１０Ａの盛り上がった厚いレジスト膜部１９ｆおよびレジスト膜部１９ｇであり、図３Ｂの水晶ウエハ１０Ｂの盛り上がった厚いレジスト膜部１９ｈが該当する。

＜露光マスク３０の構成＞
図４Ａは、正方形の露光マスク３０の構成例を示す平面図である。この露光マスク３０は、合成石英ガラスからなる透明な露光マスク用ガラス基板３１の上面に、クロムからなる露光マスク用遮光膜３２がスパッタによって成膜して形成され、またアライメントマーク３３および圧電振動デバイス用パターン３４が形成されている。露光マスク用遮光膜３２の中央領域には、３８個の５mm×１０mmの長方形形状の圧電振動デバイス用パターン３４が、露光マスク３０の各辺に平行にパターニングされている。さらに、圧電振動デバイス用パターン３４の両側には、十字型のアライメントマーク３３Ｓ，３３Ｔがパターニングされている。なお、アライメントマーク３３Ｓを基準として、個々の圧電振動デバイス用パターン３４が位置決めされている。

圧電振動デバイス用パターン３４の周りには、水晶ウエハ１０の周縁部の形状に合った溝３５が形成されている。水晶基板１１の直径が３インチのときはその３インチの大きさに合わせて、水晶基板１１の直径が４インチのときはその４インチの大きさに合わせて、マスク側に凹んだ溝３５が形成されている。また、図２Ａに示すようなオリエンテーションフラット１１Ｃまたは、図２Ｂに示すようなノッチ１１Ｄが形成されている水晶ウエハ１０に合わせて、溝３５が形成されている。なお、溝の深さは一番深いところで１ｍｍほどであり、溝幅は約４ｍｍから約５ｍｍである。

図４Ｂおよび図４Ｃは、露光マスク３０の溝部３５の断面図である。構成例を示す平面図である。ガラス基板３１の溝部にも、露光マスク用遮光膜３２を形成する必要があるが、溝３５の角部が直角であったりすると露光マスク用遮光膜３２が角部に形成されないことがあったり、形成されていても露光マスク３０を使用している最中に角部の露光マスク用遮光膜３２が剥がれることがある。このため、図４Ｂの溝３５−１の角部は直線状の面取りがなされており、図４Ｃの溝３５−２の角部は曲線上の面取りがなされ、いずれも丸みを帯びている。

＜真空チャック１１４の構成＞
図５Ａは、真空チャック１１４およびウエハステージ１１２を上から見た平面図であり、図５Ｂは、その真空チャック１１４に水晶ウエハ１０を載置した平面図である。真空チャック１１４は、中央の円状の一つのチャック部材１１４ｄ、その周りに配置された扇状の三つのチャック部材１１４ａおよびオリエンテーションフラット１１Ｃに合わせた台形状の一つのチャック部材１１４ｃから構成されている。

個々のチャック部材１１４ａ、１１４ｃおよび１１４ｄは、ステンレスなどの金属製またはアルミナなどからなる多孔質セラミック製であり、それぞれの表面の平面平行度２μｍ以内で形成されている。また、チャック部材１１４ａ、１１４ｃおよび１１４ｄ全体として平面平行度５μｍ以内で形成されている。中央の円状の一つのチャック部材１１４ｄを除き、チャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃは、ガイド部材１１４ｂに沿って移動可能になっている。チャック部材１１４ａおよび１１４ｃは、エアシリンガーまたは駆動モータ１２８（図８参照）によって駆動される。チャック部材１１４ａおよび１１４ｃの位置は、位置センサー１２７（図８参照）で確認される。

図５Ａは、チャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃが一番外周側に伸びた状態である。このとき、図５Ｂのように直径が４インチの水晶ウエハ１０が載置されても、水晶ウエハ１０の周縁部より、チャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃの外周部は内側（中央より）になっている。具体的には、水晶ウエハ１０の周縁部より約４ｍｍから約５ｍｍ内側にチャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃの外周部がある状態である。

図６Ａは、チャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃが一番中央側に縮んだ状態である。このとき、図６Ｂのように直径が３インチの水晶ウエハ１０が載置されても、水晶ウエハ１０の周縁部より、チャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃの外周部は内側（中央より）になっている。上記と同様に、水晶ウエハ１０の周縁部より約４ｍｍから約５ｍｍ内側にチャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃの外周部がある状態である。

なお、チャック部材１１４ａ、１１４ｃおよび１１４ｄは、真空溝付きの金属製またはセラミック製であってもよい。また、図５および図６には図示していないが、水晶ウエハ１０の搬入搬出用にリフトピンが、移動するチャック部材１１４ａ、１１４ｃおよび１１４ｄ以外の箇所に設けられている。

＜近接露光の動作＞
図７は、本実施形態の近接露光装置１００を使って露光を行うフローチャートである。図８は、露光マスク３０と、水晶ウエハ１０を真空チャック１１４で吸着したウエハステージ１１２とを横から見た断面図である。以下、図８を参照しながら、図７のフローチャートを説明する。

図７のステップＳ５１では、水晶ウエハ１０の直径に応じた露光マスク３０を、遮光部３２をウエハステージ１１２側に向けてマスクステージ１０５に載置する。図８に示すように、水晶ウエハ１０の盛り上がったレジスト膜部１９ｆと接触しないように、水晶ウエハ１０の周縁部に対応して溝３５が形成されている。

次に、ステップＳ５２では、水晶ウエハ１０の直径を確認する。図示していないウエハローダから自動的に搬送される場合には、ウエハローダ周辺に、水晶ウエハ１０のオリエンテーションフラット１０Ｃを確認するとともに、水晶ウエハ１０の直径を確認する検出部などからの信号を受けて、水晶ウエハ１０の直径を確認する。露光マスク３０をマスクステージ１０５に載置する際には、水晶ウエハ１０の直径がわかっているので、近接露光装置１００に対して手動で、水晶ウエハ１０の直径が３インチであるかの４インチであるかをセットしてもよい。水晶ウエハ１０の直径が３インチである場合には、ステップＳ５３およびステップＳ５４に進み、水晶ウエハ１０の直径が４インチである場合には、ステップＳ５５およびステップＳ５６に進む。

ステップＳ５３では、真空チャック１１４が３インチ用に縮んでいるか否かを、図８に示す位置センサー１２７で確認する。すなわち、位置センサー１２７はチャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃが３インチのウエハ位置に来ているか否かの信号を真空チャック駆動制御装置１２６に送る。チャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃが３インチのウエハ位置にあれば、真空チャック駆動制御装置１２６は、図示していないウエハローダに許可信号を送る。チャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃが３インチのウエハ位置になければ、ステップＳ５４で、真空チャック駆動制御装置１２６は、駆動モータ１２８に指令を出して、チャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃを３インチのウエハ位置に移動させる。

ステップＳ５５では、真空チャック１１４が４インチ用に縮んでいるか否かを、図８に示す位置センサー１２７で確認する。位置センサー１２７はチャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃが４インチのウエハ位置に来ているか否かの信号を真空チャック駆動制御装置１２６に送る。チャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃが３インチのウエハ位置にあれば、ステップ５７に進む。チャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃが４インチのウエハ位置になければ、ステップＳ５６で、真空チャック駆動制御装置１２６は、駆動モータ１２８に指令を出して、チャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃを４インチのウエハ位置に移動させる。

水晶ウエハ１０の直径と真空チャック１１４の外周部との関係が適切であれば、ステップＳ５７で、水晶ウエハ１０が真空チャック１１４上に載置される。すると、図８において、真空ポンプと接続された真空パイプ１１４ｖを経由して真空吸着を開始する。真空パイプ１１４ｖとチャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃとは、柔軟性あるパイプで接続されており、チャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃが移動しても真空もれがないように構成されている。

水晶ウエハ１０の真空吸着の際、水晶ウエハ１０の周縁部より約４ｍｍから約５ｍｍ内側にチャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃの外周部がある状態である。このため、水晶ウエハ１０の盛り上がったレジスト膜部１９ｇがチャック部材１１４ａおよびチャック部材１１４ｃに付着しない。一旦、真空チャックなどにレジスト膜が付着するとレジスト膜を取り除かなくては、次の水晶ウエハ１０を載置することができない。水晶ウエハ１０と真空チャックとの間にレジスト膜が入り込み、水晶ウエハ１０の平面度が確保できないからである。本実施形態ではこのような問題が生じない。

ステップＳ５８では、ウエハステージ１１２をマスクステージ１０５側（Ｚ方向に）移動させて、間隔Ｌをできるだけ水晶ウエハ１０と露光マスク３０とを近接させる。従来以上に、水晶ウエハ１０を露光マスク３０に近接させても、レジスト膜１９が露光マスク３０に付着することはない。マスクステージ１０５がＺ方向に移動する機構を有していれば、ウエハステージ１１２をＺ方向に移動させる代わりに、マスクステージ１０５を水晶ウエハ１０側（Ｚ方向）に移動させてもよい。

ステップＳ５８では、水晶ウエハ１０を露光マスク３０をアライメント用カメラ１２０を使ってアライメントする。次に、露光光源１０１から照射された照明光ＩＬを露光マスク３０に対して照射する。そして、露光マスク３０の遮光部３２で覆われていない箇所から平行光が水晶ウエハに照射され、レジスト膜１９を露光する。露光が完了すれば、真空パイプ１１４ｖと大気との間に配置された弁が開いて、水晶ウエハ１０を真空チャック１１４から取り外すことができる。

以上説明してきたように、本実施形態によれば、露光マスク３０を汚すことなく解像度の高い近接露光を行うことができる。また、水晶ウエハ１０の両面を露光する際にも真空チャック１１４の表面が汚れない。このため、次に水晶ウエハ１０が真空チャック１１４に載置された際にも、レジスト膜が付いていないため、平面度を保って水晶ウエハ１０を吸着することができる。このような露光マスク３０および真空チャック１１４を有している近接露光装置は、水晶ウエハ１０の高い平面度を維持して、高解像度で露光することができる。

上記実施形態では、円形状の水晶ウエハ１０で説明してきたがこの形状に限られない。たとえば矩形形状のウエハに対しても適用できる。この場合には、図９に示すように露光マスク３０の溝３６を形成すればよく、矩形形状のウエハに対しては、真空チャック１１４も矩形形状で伸縮できるようにしておけばよい。また、３インチまたは４インチの水晶ウエハで説明したが、他のサイズでも適用できることはいうまでもない。さらに、水晶ウエハ１０を吸着する真空チャック１１４の代わりに、内部金属電極に電圧を印加して、ウエハとの表面に正負の電荷を発生させてウエハを固定する静電チャックを適用することも可能である。

上記実施形態では、圧電振動デバイス用の水晶ウエハで説明してきたが、本発明は圧電振動デバイス用に限られない。さらに、ＤＮＡチップまたはマイクロマシンの製造においては、ガラス基板またはシリコンウエハの表裏両面にパターンを形成する必要がある場合がある。このように、水晶ウエハではなく、ガラス基板またはシリコンウエハなどの透過性または不透過性ウエハに対しても本発明を適用することができる。

露光マスク３０のパターンを水晶ウエハ１０に露光する際に用いられる近接露光装置１００の構成例を示す概念図である。 Ａは、オリエンテーションフラットを有する水晶ウエハ１０の構成を示す斜視図であり、Ｂは、ノッチを有する水晶ウエハ１０の構成を示す斜視図である。 Ａは表面および裏面の両面を露光および加工する水晶ウエハ１０Ａの断面図であり、Ｂは表面の一面のみを露光および加工する水晶ウエハ１０Ｂの断面図である。 Ａは、正方形の露光マスク３０の構成例を示す平面図であり、ＢおよびＣは、露光マスク３０の溝部３５の断面拡大図である。 Ａは、真空チャック１１４およびウエハステージ１１２を上から見た平面図であり、Ｂは、その真空チャック１１４に直径４インチの水晶ウエハ１０を載置した平面図である。 Ａは、真空チャック１１４およびウエハステージ１１２を上から見た平面図であり、Ｂは、その真空チャック１１４に直径３インチの水晶ウエハ１０を載置した平面図である。 本実施形態の近接露光装置１００を使って露光を行うフローチャートである。 露光マスク３０および、水晶ウエハ１０を真空チャック１１４で吸着したウエハステージ１１２を横から見た断面図である。 矩形状のウエハを露光する際のマスクの溝構造を示した図である。

符号の説明

１０ …… 水晶ウエハ
１９ …… フォトレジスト膜
３０ …… マスク
３２ …… クロム遮光膜
３５ …… マスクの溝部
３４ …… 圧電振動デバイス用パターン
１００ …… 近接露光装置
１０３ …… 照明光学系
１０５ …… マスクステージ
１１２ …… ウエハステージ
１１４ …… 真空チャック
１２６ …… 真空チャック駆動制御装置
１２７ …… 位置センサー
１２８ …… 駆動モータ

Claims (10)

1. 感光剤が塗布され、周縁部を有する露光基板に対して、近接露光で用いられる露光マスクにおいて、
   前記露光マスクは、前記露光基板の周縁部に対応する位置に遮光部で覆われた溝部を有することを特徴とする露光マスク。
2. 前記溝部の角は、前記遮光部の剥離を防止するように、丸みを帯びていることを特徴とする請求項１に記載の露光マスク。
3. 裏面に感光剤が塗布され周縁部を有する露光基板を保持する基板ホルダーにおいて、
   前記基板ホルダーの外周部は、前記露光基板の周縁部より内側にあることを特徴とする基板ホルダー。
4. 前記基板ホルダーは、前記露光基板の直径に応じて伸縮することを特徴とする請求項３に記載の基板ホルダー。
5. 前記基板ホルダーは、中央部に配置される中央チャック部と、該中央チャック部の外側に配置される外側チャック部とからなり、前記外側チャック部が前記露光基板の直径に応じて伸縮することを特徴とする請求項４に記載の基板ホルダー。
6. 露光マスクのパターンを、感光剤が塗布され周縁部を有する露光基板に対して近接露光する近接露光装置において、
   前記露光基板の周縁部に対応する位置に遮光部で覆われた前記露光マスクの溝部と、
   前記露光基板を保持し、外周部が前記露光基板の周縁部より内側にある基板ホルダーと
   を備えることを特徴とする近接露光装置。
7. 前記溝部の角は、前記遮光部の剥離を防止するように、丸みを帯びていることを特徴とする請求項６に記載の近接露光装置。
8. 前記基板ホルダーは、前記露光基板の直径に応じて伸縮することを特徴とする請求項６または請求項７に記載の近接露光装置。
9. 前記基板ホルダーは、中央部に配置される中央チャック部と、該中央チャック部の外側に配置される外側チャック部とからなり、前記外側チャック部が前記露光基板の直径に応じて伸縮することを特徴とする請求項６ないし請求項８のいずれか一項に記載の近接露光装置。
10. 前記露光基板は、水晶ウエハを含むことを特徴とする請求項６ないし請求項９のいずれか一項に記載の近接露光装置。