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JP2007223992A - シクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンの製造方法 - Google Patents

シクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンの製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】シクロアルカンを良好な転化率で酸化して、シクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを良好な選択率で製造する。
【解決手段】シクロアルカノンを酸素で酸化する際、触媒として、周期表5族〜10族の金属が担体に担持されてなり、かつ該担体が有機ケイ素化合物で接触処理されたものを使用する。金属はバナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ルテニウム又はパラジウムであるのがよく、担体はマグネシウム、アルミニウム、ケイ素、チタン又はジルコニウムの酸化物であるのがよい。
【選択図】なし

Description

本発明は、シクロアルカンを酸素で酸化して、シクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを製造する方法に関する。
シクロアルカンを酸素で酸化してシクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを製造する方法としては、カルボン酸コバルトの如き可溶性の金属化合物を触媒に用いて、均一系で上記酸化を行うことが古くから知られている。また、固体触媒を用いて、不均一系で上記酸化を行うことも種々検討されており、該固体触媒としては、各種金属酸化物触媒や金属担持触媒等、数多くのものが提案されている(例えば特許文献1〜3及び非特許文献1〜5参照)。
特開平11−128743号公報 特表2003−524579号公報(WO99/040055) 特開2003−261484号公報 ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイアティー(Journal of American Chemical Society)、(米国)、1999年、第121巻、p.11926−11927 ケミカル・コミュニケーションズ(Chemical Communications)、(英国)、2004年、p.904−905 ケミストリー・レターズ(Chemistry Letters)、2005年、第34巻、p.162−163 アプライド・キャタリシス・A:ジェネラル(Applied Catalysis A: General)、(オランダ)、2005年、第280巻、p.175−180 アプライド・キャタリシス・A:ジェネラル(Applied Catalysis A: General)、(オランダ)、2005年、第292巻、p.223−228
従来の方法では、触媒の活性や選択性、すなわちシクロアルカンの転化率やシクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンの選択率の点で、満足できないことがある。そこで、本発明の目的は、シクロアルカンを良好な転化率で酸化して、シクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを良好な選択率で製造しうる方法を提供することにある。
本発明者は鋭意研究を行った結果、特定の金属担持触媒を用いてシクロアルカンの酸素酸化を行うことにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、触媒の存在下にシクロアルカノンを酸素で酸化してシクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを製造する方法であって、上記触媒は、周期表5族〜10族の金属が担体に担持されてなり、かつ該担体が有機ケイ素化合物で接触処理されたものであることを特徴とする、シクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンの製造方法を提供するものである。
本発明によれば、シクロアルカンを良好な転化率で酸化して、シクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを良好な選択率で製造することができる。
以下、本発明を詳細に説明する。本発明ではシクロアルカンを原料に用い、これを触媒の存在下に酸素(分子状酸素)で酸化して、対応するシクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを製造する。
原料のシクロアルカンとしては、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、シクロオクタデカンのような、単環式で環上に置換基を有しないシクロアルカンの他、デカリンやアダマンタンのような多環式のシクロアルカン、メチルシクロペンタンやメチルシクロヘキサンのような環上に置換基を有するシクロアルカン等が挙げられ、必要に応じてそれらの2種以上を用いることもできる。
酸素源には通常、酸素含有ガスが用いられる。この酸素含有ガスは、例えば、空気であってもよいし、純酸素であってもよいし、空気又は純酸素を、窒素、アルゴン、ヘリウムのような不活性ガスで希釈したものであってもよい。また、空気に純酸素を添加した酸素富化空気を使用することもできる。
本発明では、シクロアルカンの酸素酸化用の触媒として、周期表5族〜10族の金属が担体に担持されてなり、かつ該担体が有機ケイ素化合物で接触処理されたものを使用する。かかる触媒を用いることにより、シクロアルカンを良好な転化率で酸化して、シクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを良好な選択率で製造することができる。
担体に担持される金属の好ましい例としては、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ルテニウム、パラジウムが挙げられ、中でもコバルトが好ましく用いられる。金属は必要に応じて2種類以上を使用してもよい。金属の担持率は、担体に対する重量比で表して、通常0.01〜20%であり、好ましくは0.05〜10%であり、さらに好ましくは0.1〜5%である。
金属を担持する担体は、酸化物担体であるのが好ましく、具体的にはマグネシウム、アルミニウム、ケイ素、チタン、ジルコニウムから選ばれる少なくとも1種の元素を含む酸化物であるのが好ましい。中でも二酸化ケイ素すなわちシリカが好ましく用いられる。
担体に金属を担持する方法としては、例えば、担体に金属のハロゲン化物やカルボン酸塩、オキソ酸塩の如き金属化合物の溶液を含浸させる方法や、担体を金属のハロゲン化物やカルボン酸塩、オキソ酸塩の如き金属化合物の溶液に浸漬して、金属化合物を担体に吸着させたり、金属化合物の金属カチオンを担体のカチオンとイオン交換したりする方法等が挙げられる。
担体の接触処理に用いられる有機ケイ素化合物は、担体と反応してその表面に結合可能なものであるのが好ましく、典型的には次の式(1)で示すことができる。
Si(R1)x(R2)4-x (1)
(式中、R1はアルコキシ基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子を表し、R2はアルコキシ基、アルキル基、アリル基、アリール基又はアラルキル基を表し、xは1〜3の数を表す。)
ここで、R1及びR2で表されるアルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられ、R2で表されるアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。また、R2で表されるアリール基の例としては、フェニル基、ナフチル基、トリル基等が挙げられ、R2で表されるアラルキル基の例としては、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
式(1)で示される有機ケイ素化合物としては、R1及びR2が全てアルコキシ基であるもの、すなわちオルトケイ酸のアルキルエステルが好ましく用いられる。
担体を有機ケイ素化合物で接触処理する方法としては、例えば、有機ケイ素化合物を含む液体に担体を浸漬する方法や、有機ケイ素化合物を含む気体を担体に接触させる方法等が挙げられる。
有機ケイ素化合物の使用量は、担体100重量部に対し、通常1〜10000重量部、好ましくは5〜1000重量部、さらに好ましくは10〜500重量部である。
接触処理の温度は、通常0〜300℃、好ましくは30〜250℃である。また、接触処理の時間は、通常0.1〜50時間、好ましくは1〜20時間である。
なお、担体の有機ケイ素化合物による接触処理は、金属を担持する前に行っておいてもよいし、金属を担持した後に行ってもよく、金属の担持と同時に行うことも可能であるが、通常は金属を担持した後に行うのがよい。
シクロアルカンの酸化反応は、以上のようにして得られる金属担持触媒の存在下に、シクロアルカンを酸素と接触させることにより行うことができる。触媒の使用量は、シクロアルカン100重量部に対し、通常0.01〜50重量部、好ましくは0.1〜10重量部である。
反応温度は通常0〜200℃、好ましくは50〜170℃であり、反応圧力は通常0.01〜10MPa、好ましくは0.1〜2MPaである。反応溶媒は必要に応じて用いることができ、例えば、アセトニトリルやベンゾニトリルのようなニトリル溶媒、酢酸やプロピオン酸のようなカルボン酸溶媒等を用いることができる。
酸化反応後の後処理操作については、特に限定されないが、例えば、反応混合物を濾過して触媒を分離した後、水洗し、次いで蒸留する方法等が挙げられる。反応混合物中に原料のシクロアルカンに対応するシクロアルキルヒドロペルオキシドが含まれる場合、アルカリ処理や還元処理等により、目的とするシクロアルカノールやシクロアルカノンに変換することができる。
以下、本発明の実施例を示すが、本発明はこれによって限定されるものではない。なお、反応液中のシクロヘキサン、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール及びシクロヘキシルヒドロペルオキシドの分析はガスクロマトグラフィーにより行い、この分析結果から、シクロヘキサンの転化率、並びにシクロヘキサノン、シクロヘキサノール及びシクロヘキシルヒドロペルオキシドの各選択率を算出した。
参考例1
フュームドシリカ(ALDRICH社)2.51g、酢酸コバルト(II)四水和物(和光純薬株式会社)4.18g及び水37.27gを300mlフラスコに入れ、47℃で3時間攪拌した。得られた混合物を室温まで冷却した後、濾過した。濾残を水で洗浄した後、100℃で乾燥し、コバルト担持シリカを得た。このコバルト担持シリカの赤外線吸収スペクトルを次の方法で測定し、結果を図1に示した。
〔赤外線吸収スペクトルの測定〕
コバルト担持シリカを触媒セル(SPECTRA−TECH社製のDiffuse Reflectance Heat Chamber/Model HC900)に入れ、赤外線吸収スペクトル測定装置(NICOLET社製のMagna 760−ESP)にセットし、0.1Torr(13Pa)にて200℃で1時間脱気した後、赤外線吸収スペクトルを測定した。測定条件は、測定温度が200℃、測定圧力が0.1Torr(13Pa)、測定範囲が400〜4000cm-1、分解能が4cm-1である。得られたデータは、臭化カリウムの赤外線吸収スペクトルを同様に測定して得られたデータをバックグラウンドとし、Kubelka−Munk補正した。
参考例2
参考例1で得られたコバルト担持シリカ0.2g及びオルトケイ酸エチル(和光純薬株式会社)2.0gをフラスコに入れ、窒素雰囲気下、90℃で7時間半攪拌した。得られた混合物を室温まで冷却した後、エタノールを加えて攪拌し、次いで濾過した。濾残をアセトンで洗浄した後、0.1Torr(13Pa)にて40℃で2時間乾燥し、さらに60℃で乾燥した。こうして得られたコバルト担持シリカのオルトケイ酸エチル接触処理品の赤外線吸収スペクトルを、参考例1と同様に測定し、結果を図2に示した。
図1に示すように、参考例1で得られたコバルト担持シリカでは、3740cm-1付近にいわゆる末端(terminal)シラノール基に帰属されるピークが観察されるが、参考例2で得られたコバルト担持シリカのオルトケイ酸エチル接触処理品では、同ピークが観察されず、末端シラノール基がオルトケイ酸エチルでシリル化されていると考えられる。
実施例1
300mlオートクレーブに、シクロヘキサン100g(1.2モル)及び参考例2で得られたコバルト担持シリカのオルトケイ酸エチル接触処理品0.1gを入れ、室温にて系内を窒素で0.93MPaまで昇圧した後、130℃に昇温し、次いで、酸素濃度5容量%のガスの流通下、8時間反応を行った。
反応開始から5時間の時点で、シクロヘキサンの転化率は5.4%であり、シクロヘキサノンの選択率は26.6%、シクロヘキサノールの選択率は46.6%、シクロヘキシルヒドロペルオキシド選択率は13.7%であった(合計選択率86.9%)。また、反応開始から8時間の時点(終了時)で、シクロヘキサンの転化率は9.3%であり、シクロヘキサノンの選択率は35.1%、シクロヘキサノールの選択率は43.0%、シクロヘキシルヒドロペルオキシド選択率は5.9%であった(合計選択率84.0%)。
比較例1
参考例2で得られたコバルト担持シリカのオルトケイ酸エチル接触処理品に代えて、参考例1で得られたコバルト担持シリカを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行った。
反応開始から5時間の時点で、シクロヘキサンの転化率は5.9%であり、シクロヘキサノンの選択率は30.2%、シクロヘキサノールの選択率は48.7%、シクロヘキシルヒドロペルオキシド選択率は3.4%であった(合計選択率82.3%)。また、反応開始から8時間の時点(終了時)で、シクロヘキサンの転化率は9.4%であり、シクロヘキサノンの選択率は36.6%、シクロヘキサノールの選択率は42.9%、シクロヘキシルヒドロペルオキシド選択率は1.9%であった(合計選択率81.4%)。
参考例1で得られたコバルト担持シリカの赤外線吸収スペクトルである。 参考例2で得られたコバルト担持シリカのオルトケイ酸エチル接触処理品の赤外線吸収スペクトルである。

Claims (8)

  1. 触媒の存在下にシクロアルカノンを酸素で酸化してシクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを製造する方法であって、上記触媒は、周期表5族〜10族の金属が担体に担持されてなり、かつ該担体が有機ケイ素化合物で接触処理されたものであることを特徴とする、シクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンの製造方法。
  2. 金属がバナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ルテニウム及びパラジウムから選ばれる請求項1に記載の方法。
  3. 金属がコバルトである請求項1に記載の方法。
  4. 担体がマグネシウム、アルミニウム、ケイ素、チタン及びジルコニウムから選ばれる元素を含む酸化物である請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
  5. 担体がシリカである請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
  6. 有機ケイ素化合物が次の式(1)
    Si(R1)x(R2)4-x (1)
    (式中、R1はアルコキシ基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子を表し、R2はアルコキシ基、アルキル基、アリル基、アリール基又はアラルキル基を表し、xは1〜3の数を表す。)
    で示される請求項1〜5のいずれかに記載の方法。
  7. 有機ケイ素化合物がオルトケイ酸アルキルである請求項1〜5のいずれかに記載の方法。
  8. シクロアルカンがシクロヘキサンである請求項1〜7のいずれかに記載の方法。
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