JP2007223968A - 光解裂性環状化合物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の、環状構造に光解裂性部位が組み込まれた環状化合物を主成分とする光アミン発生剤を調整することで、上記副生成物が遊離しないUV硬化材料やフォトレジストの提供が可能になる。
【選択図】なし
Description
J.Lalevee,X.Allonas,J.P.Fouassier,H.Tachi,A.Izumitani,M.Shirai and M.Tsunooka,J.Photochem.Photobiol.A:Chem.,Vol.151,27(2002).
[環状O−アシルオキシムの合成]
(実験例1)
5−ベンゾイルペンタン酸(東京化成)7.5g (36.3mol)、ヒドロキシルアンモニウムクロライド(和光純薬)3.75g、メタノール30mlをフラスコに入れ、ここにKOH5.6gを含む水溶液15mlを加えた。一旦加熱したあと室温に冷却し、氷浴下1.2N塩酸水溶液で中和した。析出した白色固体をトルエンで再結晶し、5.40g(24.4mmol)の6−ヒドロキシイミノ−6−フェニルヘプタン酸を無色結晶として得た。
収率:67%
融点:116〜116.5℃
IR(KBr):1704cm-1(C=O)、2800−3500cm-1(OH)
フラスコ中に3.06g(13.6mmol)の6−ヒドロキシイミノ−6−フェニルヘキサン酸とピリジン45ml、ジエチルエーテル60mlを入れ、−20〜−30℃に保ちながら塩化チオニル1.20ml(16.4mmol)を含むジエチルエーテル120mlを滴下した。室温で一晩撹拌した後、溶媒をエバポレーターで留去した。析出物に50mlのクロロホルムを加え、このクロロホルム溶液を1.2N HCl水溶液、飽和NaHCO3水溶液、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、クロロホルムを留去し、得られた淡黄色固体をカラムクロマトグラフィーで分離すると、式3:
収率:41 %
融点:135.5−136.5 ℃
熱分解温度(TGA):214 ℃
UV(CH3CN): λmax248nm(ε1.4×104L・mol-1・cm-1)
IR(KBr):1755 cm-1(C=O)、1125cm-1(C−O−C)
元素分析:計算値 C12H13NO2; C: 70.92,H:6.45,N:6.89. 実測値 C:71.19,H:6.53,N:6.82.
(実験例3)
ポリメタクリロニトリルと8H−1,2−オキサゾシン−8−オン−4,5,6,7−テトラヒドロ−3−フェニルをシクロヘキサノンに溶解しシリコン基板または石英板上にスピンコートした。この基板をホットプレート上80℃で5分間プレベークし、膜厚約2.0μmの薄膜を得た。できた薄膜を低圧水銀灯を用いて光照射し、スペクトル変化を測定した。赤外スペクトルのC=O伸縮バンドから光分解率を算出し、既に知られている光解裂性環状化合物である、式4:
(実験例4)
ポリグリシジルメタクリレート(数平均分子量17,000)とグリシジル基に対して5モル%の光アミン発生剤をシクロヘキサノンに溶解させ、シリコン基板上にスピンコートした。この基板を80℃で5分間プレベークすると膜厚は0.3μmの薄膜が得られた。この薄膜を低圧水銀灯で光照射し、その後120℃で5分間ホットプレートで加熱した。加熱後の膜をテトラヒドロフラン(THF)に室温で10分間浸漬し溶解性変化を調べた。THF浸漬前後の膜厚比を不溶化率とした(図2)。
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007249017A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 感光性樹脂組成物、物品、及びネガ型パターン形成方法 |
JP2007249013A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 感光性樹脂組成物、物品、及びネガ型パターン形成方法 |
JP2008003581A (ja) * | 2006-05-22 | 2008-01-10 | Osaka Prefecture Univ | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた回路基板 |
JP2010185010A (ja) * | 2009-02-12 | 2010-08-26 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 光塩基発生剤、感光性樹脂組成物及びそれを用いた回路基板 |
JP2010185036A (ja) * | 2009-02-13 | 2010-08-26 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 光塩基発生剤、感光性樹脂組成物及びそれを用いた回路基板 |
JP2010186134A (ja) * | 2009-02-13 | 2010-08-26 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた回路基板 |
JP2010186054A (ja) * | 2009-02-12 | 2010-08-26 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた回路基板 |
JP2010186055A (ja) * | 2009-02-12 | 2010-08-26 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた回路基板 |
JP2011107199A (ja) * | 2009-11-12 | 2011-06-02 | Asahi Kasei Corp | 光塩基発生剤、感光性樹脂組成物、及び層間絶縁膜の製造方法 |
JP2012036117A (ja) * | 2010-08-05 | 2012-02-23 | Hitachi Chem Co Ltd | 光重合性化合物、光アミン発生剤、感光性樹脂組成物及び感光性フィルム |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3152145A (en) * | 1962-05-23 | 1964-10-06 | American Home Prod | 5-aryl-3, 1, 4-benzoxadiazepine-2 (1h)-ones |
GB1025904A (en) * | 1963-03-20 | 1966-04-14 | Ici Ltd | Pharmaceutical compositions containing phthalimidine derivatives |
DE1695907A1 (de) * | 1966-10-28 | 1971-05-06 | R L Franw Chimie Sa | Von Oxazinon sich ableitende Hypnotica und Verfahren zu deren Herstellung |
JPS57106661A (en) * | 1980-10-31 | 1982-07-02 | Usv Pharma Corp | Intermediates for phthalimidines synthesis |
JPH10139640A (ja) * | 1996-11-07 | 1998-05-26 | Kao Corp | 発毛抑制剤 |
JP2002514179A (ja) * | 1996-09-04 | 2002-05-14 | ワーナー―ランバート・コンパニー | マトリックスメタロプロテイナーゼの阻害剤としてのビフェニル酪酸およびその誘導体 |
-
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3152145A (en) * | 1962-05-23 | 1964-10-06 | American Home Prod | 5-aryl-3, 1, 4-benzoxadiazepine-2 (1h)-ones |
GB1025904A (en) * | 1963-03-20 | 1966-04-14 | Ici Ltd | Pharmaceutical compositions containing phthalimidine derivatives |
DE1695907A1 (de) * | 1966-10-28 | 1971-05-06 | R L Franw Chimie Sa | Von Oxazinon sich ableitende Hypnotica und Verfahren zu deren Herstellung |
JPS57106661A (en) * | 1980-10-31 | 1982-07-02 | Usv Pharma Corp | Intermediates for phthalimidines synthesis |
JP2002514179A (ja) * | 1996-09-04 | 2002-05-14 | ワーナー―ランバート・コンパニー | マトリックスメタロプロテイナーゼの阻害剤としてのビフェニル酪酸およびその誘導体 |
JPH10139640A (ja) * | 1996-11-07 | 1998-05-26 | Kao Corp | 発毛抑制剤 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007249017A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 感光性樹脂組成物、物品、及びネガ型パターン形成方法 |
JP2007249013A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 感光性樹脂組成物、物品、及びネガ型パターン形成方法 |
JP2008003581A (ja) * | 2006-05-22 | 2008-01-10 | Osaka Prefecture Univ | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた回路基板 |
JP2010185010A (ja) * | 2009-02-12 | 2010-08-26 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 光塩基発生剤、感光性樹脂組成物及びそれを用いた回路基板 |
JP2010186054A (ja) * | 2009-02-12 | 2010-08-26 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた回路基板 |
JP2010186055A (ja) * | 2009-02-12 | 2010-08-26 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた回路基板 |
JP2010185036A (ja) * | 2009-02-13 | 2010-08-26 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 光塩基発生剤、感光性樹脂組成物及びそれを用いた回路基板 |
JP2010186134A (ja) * | 2009-02-13 | 2010-08-26 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた回路基板 |
JP2011107199A (ja) * | 2009-11-12 | 2011-06-02 | Asahi Kasei Corp | 光塩基発生剤、感光性樹脂組成物、及び層間絶縁膜の製造方法 |
JP2012036117A (ja) * | 2010-08-05 | 2012-02-23 | Hitachi Chem Co Ltd | 光重合性化合物、光アミン発生剤、感光性樹脂組成物及び感光性フィルム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4936512B2 (ja) | 2012-05-23 |
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