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JP2007220512A - Connector, conductive connection structure and probe member - Google Patents

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JP2007220512A
JP2007220512A JP2006040443A JP2006040443A JP2007220512A JP 2007220512 A JP2007220512 A JP 2007220512A JP 2006040443 A JP2006040443 A JP 2006040443A JP 2006040443 A JP2006040443 A JP 2006040443A JP 2007220512 A JP2007220512 A JP 2007220512A
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JP
Japan
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connector
electrode
porous resin
inspection
circuit board
Prior art date
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Pending
Application number
JP2006040443A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuichi Idomoto
祐一 井戸本
Yasuhiro Okuda
泰弘 奥田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

【課題】多孔質樹脂膜に電極及び/または回路を有する機能部が設けられた多孔質樹脂基材からなり、該多孔質基材が有する弾性、応力緩和機能、導通機能などを損なうことなく、電子部品や回路基板、検査装置の検査用基板に、電気的に接続可能な状態で貼付することができるコネクタを提供すること。
【解決手段】多孔質樹脂膜に電極及び/または回路を有する機能部が設けられた多孔質樹脂基材からなるコネクタであって、該多孔質樹脂膜の前記機能部を取り巻く周辺部に該機能部の高さより低い高さの段差部が形成され、かつ、該段差部の面上に段差の高さより小さい厚みを有する粘着剤層が設けられた構造を有するコネクタ;該コネクタを電子部品または回路装置に固定してなる導電接続構造体;及び該コネクタを検査装置の検査用基板に固定してなるプローブ部材。
【選択図】図1
An object of the present invention is to provide a porous resin base material in which a functional part having an electrode and / or a circuit is provided on a porous resin film, without impairing the elasticity, stress relaxation function, conduction function, etc. of the porous base material. To provide a connector that can be attached in an electrically connectable state to an electronic component, a circuit board, or an inspection board of an inspection apparatus.
A connector comprising a porous resin base material provided with a functional part having an electrode and / or a circuit in a porous resin film, wherein the function is provided in a peripheral part surrounding the functional part of the porous resin film. A connector having a structure in which a stepped portion having a height lower than the height of the portion is formed, and an adhesive layer having a thickness smaller than the height of the stepped portion is provided on the surface of the stepped portion; A conductive connection structure fixed to the apparatus; and a probe member formed by fixing the connector to an inspection substrate of the inspection apparatus.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、電極及び/または回路が形成された機能部を有し、該機能部周辺の段差部に粘着剤層が設けられた多孔質樹脂基材からなるコネクタに関する。ここで、「電極及び/または回路」とは、「電極もしくは回路または電極及び回路」を意味する。本発明のコネクタは、弾性と応力緩和機能を有し、多孔質樹脂膜を貫通する複数の筒状電極を設けることによって、膜厚方向に導通機能を付与することができる。   The present invention relates to a connector comprising a porous resin base material having a functional part in which electrodes and / or circuits are formed, and having an adhesive layer provided on a step part around the functional part. Here, “electrode and / or circuit” means “electrode or circuit or electrode and circuit”. The connector of the present invention has elasticity and stress relaxation function, and can provide a conduction function in the film thickness direction by providing a plurality of cylindrical electrodes penetrating the porous resin film.

本発明のコネクタは、電子部品(ICチップ、LSIチップなど)または回路基板(プリント回路基板など)に、電気的に接続可能な状態で貼付して導電接続構造体を形成することができる。また、本発明のコネクタは、電子部品等の電気的検査に用いられる検査装置の検査用基板に、電気的に接続可能な状態で貼付することにより、検査用プローブ部材を形成することができる。   The connector of the present invention can be attached to an electronic component (IC chip, LSI chip, etc.) or circuit board (printed circuit board, etc.) in an electrically connectable state to form a conductive connection structure. Moreover, the connector of this invention can form the probe member for a test | inspection by affixing on the test | inspection board | substrate of the test | inspection apparatus used for electrical test | inspection of an electronic component etc. in the state which can be electrically connected.

特開2004−265844号公報(特許文献1)には、電気絶縁性の多孔質樹脂膜を基膜とし、該基膜の複数箇所に、第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する複数の貫通孔を設け、次いで、各貫通孔内壁面の樹脂部に導電性金属を付着させて導通部を形成した異方性導電膜が開示されている。   In Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-265844 (Patent Document 1), an electrically insulating porous resin film is used as a base film, and a plurality of parts penetrating in a thickness direction from a first surface to a second surface at a plurality of locations of the base film. An anisotropic conductive film is disclosed in which a conductive portion is formed by attaching a conductive metal to a resin portion on the inner wall surface of each through hole.

特許文献1に記載の異方性導電膜は、電気的絶縁性の多孔質樹脂膜の厚み方向に複数の導通部がそれぞれ独立して形成されており、膜厚方向に導通可能であるが、各導通部間は導通または短絡することがない。   In the anisotropic conductive film described in Patent Document 1, a plurality of conductive portions are independently formed in the thickness direction of the electrically insulating porous resin film, and can be conducted in the film thickness direction. There is no conduction or short circuit between the conductive parts.

該導通部は、貫通孔内壁面の多孔質構造を構成する樹脂部に、無電解めっきなどにより導電性金属を付着させたものであり、その形状から「筒状電極」と呼ぶことができる。導電性金属の付着量を調節することにより、筒状電極の膜厚方向における導電性を制御することができる。通常は、該異方性導電膜に膜厚方向の荷重を加えて、筒状電極を含む異方性導電膜全体を圧縮することにより、筒状電極の導電性金属間の接触状態を密にして導通させている。   The conducting portion is obtained by attaching a conductive metal to the resin portion constituting the porous structure of the inner wall surface of the through hole by electroless plating or the like, and can be called a “tubular electrode” because of its shape. By adjusting the adhesion amount of the conductive metal, the conductivity in the film thickness direction of the cylindrical electrode can be controlled. Normally, a load in the film thickness direction is applied to the anisotropic conductive film to compress the entire anisotropic conductive film including the cylindrical electrode, thereby making the contact state between the conductive metals of the cylindrical electrode dense. Is conducting.

この異方性導電膜は、膜厚方向に弾力性があり、低圧縮荷重で膜厚方向の導通が可能である。また、該異方性導電膜は、各導通部の大きさやピッチなどをファイン化することができる。該異方性導電膜は、例えば、半導体集積回路装置などの電子部品の検査用異方性導電膜として、低圧縮荷重で膜厚方向の電気的導通が得られ、しかも繰り返し荷重負荷を加えても、弾性により膜厚が復帰し、検査に繰り返し使用することが可能である。さらに、該異方性導電膜は、耐熱性に優れるため、バーンイン試験やヒートサイクル試験における温度条件に耐えることができる。   This anisotropic conductive film is elastic in the film thickness direction and can conduct in the film thickness direction with a low compressive load. In addition, the anisotropic conductive film can refine the size and pitch of each conductive portion. The anisotropic conductive film is, for example, an anisotropic conductive film for inspection of electronic components such as semiconductor integrated circuit devices, and can provide electrical conduction in the film thickness direction with a low compressive load. However, the film thickness is restored by elasticity, and can be used repeatedly for inspection. Furthermore, since the anisotropic conductive film is excellent in heat resistance, it can withstand temperature conditions in a burn-in test or a heat cycle test.

より具体的に、電子部品(半導体集積回路装置など)や回路基板(プリント回路基板など)などの回路装置の電気的検査を行うには、これらの回路装置の各電極と検査装置の各電極とをそれぞれ対応させて正確に接続する必要がある。しかし、検査装置の各電極がリジッドな基板上に配置されているため、回路装置の各電極と検査装置の各電極とをそれぞれ対応させて正確に接続することが困難であったり、温度変化によって接続にミスマッチが生じたり、それぞれの電極が電極同士の接触による損傷を受け易くなったりするという問題があった。   More specifically, in order to perform electrical inspection of circuit devices such as electronic components (semiconductor integrated circuit devices, etc.) and circuit boards (printed circuit boards, etc.), each electrode of these circuit devices, each electrode of the inspection device, It is necessary to connect each correctly. However, since each electrode of the inspection device is arranged on a rigid substrate, it is difficult to accurately connect each electrode of the circuit device and each electrode of the inspection device, or due to temperature change There has been a problem that mismatching occurs in connection, and that each electrode is easily damaged by contact between the electrodes.

そこで、回路装置の電極領域と検査装置の電極領域との間に弾性のある異方性導電膜を介在させて、各電極間を異方性導電膜を介して電気的に接続させる方法が採用されている。例えば、特開2002−324600号公報(特許文献2)には、磁性導電性粒子を所定間隔で厚み方向に配向させることにより複数の導電部を形成した異方導電性エラストマーシートを、電子部品と回路基板との間に異方導電性コネクタとして配置することが開示されている。   Therefore, a method is adopted in which an elastic anisotropic conductive film is interposed between the electrode region of the circuit device and the electrode region of the inspection device, and the electrodes are electrically connected through the anisotropic conductive film. Has been. For example, JP 2002-324600 A (Patent Document 2) discloses an anisotropic conductive elastomer sheet in which a plurality of conductive portions are formed by orienting magnetic conductive particles in a thickness direction at predetermined intervals, and an electronic component. It is disclosed that an anisotropic conductive connector is disposed between the circuit board and the circuit board.

特許文献1に開示されている異方性導電膜は、例えば、回路装置の電気的検査を行うための異方性導電膜として使用することができる。この場合、異方性導電膜は、回路装置の各電極と検査装置の検査用回路基板の各電極に対して正確に電気的接続がなされるように、該異方性導電膜の位置関係を設定しかつ固定する必要がある。   The anisotropic conductive film disclosed in Patent Document 1 can be used, for example, as an anisotropic conductive film for electrical inspection of a circuit device. In this case, the anisotropic conductive film has a positional relationship of the anisotropic conductive film so that the electrical connection is accurately made to each electrode of the circuit device and each electrode of the inspection circuit board of the inspection device. Must be set and fixed.

該異方性導電膜は、電子部品(例えば、半導体チップ)と回路基板(例えば、プリント回路基板)との間に配置すると、応力緩和機能と導通機能とを有する一種のコネクタとしての役割を果たすことができる。このような用途に使用する場合にも、異方性導電膜を所定の位置関係で固定する必要がある。   When the anisotropic conductive film is disposed between an electronic component (for example, a semiconductor chip) and a circuit board (for example, a printed circuit board), it functions as a kind of connector having a stress relaxation function and a conduction function. be able to. Even when used in such applications, it is necessary to fix the anisotropic conductive film in a predetermined positional relationship.

該異方性導電膜を固定する方法としては、電子部品と回路基板との間に挟み込む方法があるが、そのための構造が複雑であり、操作も煩雑で、しかも安定した固定を行うことが困難である。他の方法として、例えば、ピン留めなどの機械的方法や接着剤による接着が考えられる。ピン留めするには、該異方性導電膜の周辺部に複数のピン穴を設け、該ピン穴を通して、ピンにより異方性導電膜を回路基板(検査用回路基板を含む)などの所定箇所に固定する。   As a method of fixing the anisotropic conductive film, there is a method of sandwiching it between an electronic component and a circuit board, but the structure for that is complicated, the operation is complicated, and stable fixing is difficult. It is. As other methods, for example, a mechanical method such as pinning or adhesion by an adhesive is conceivable. For pinning, a plurality of pin holes are provided in the peripheral portion of the anisotropic conductive film, and the anisotropic conductive film is passed through the pin holes by a pin to a predetermined location such as a circuit board (including a circuit board for inspection). Secure to.

しかし、多孔質樹脂膜を基膜とする異方性導電膜は、柔軟性に富むため、ピン留めしただけでは、使用中に変形したり、ピン穴周辺から破損したりして、最初に固定した位置を保持することができなくなることがある。また、異方性導電膜を接着剤を用いて回路基板に固定すると、異方性導電膜を交換することが困難になる。   However, an anisotropic conductive film based on a porous resin film is very flexible, so if it is pinned, it deforms during use or breaks from the periphery of the pin hole and is fixed first. It may become impossible to hold the position. Further, when the anisotropic conductive film is fixed to the circuit board using an adhesive, it is difficult to replace the anisotropic conductive film.

他方、異方性導電膜を電子部品や回路基板等に粘着剤を用いて固定する方法が考えられるが、粘着剤を用いて安定して固定するには、ある程度の厚みの粘着剤層を設ける必要がある。しかし、異方性導電膜の表面に厚みのある粘着剤層を形成すると、導通部の導通が困難になったり、導通のための荷重を大きくしたりする必要が生じる。   On the other hand, a method of fixing an anisotropic conductive film to an electronic component or a circuit board using an adhesive is conceivable, but in order to stably fix an adhesive using an adhesive, an adhesive layer having a certain thickness is provided. There is a need. However, when a thick pressure-sensitive adhesive layer is formed on the surface of the anisotropic conductive film, it becomes difficult to conduct the conduction part or it is necessary to increase the load for conduction.

特許文献2には、異方導電性エラストマーシートの周縁部にフレーム板を埋設し、該フレーム板に設けた穴を用いて、固定部材により電子部品や回路基板に固定する方法が開示されている。しかし、多孔質樹脂膜を基膜とする異方性導電膜は、フレーム板を埋設することができない。該異方性導電膜の表面にフレーム板を固定すると、該フレーム板の厚みによって、導通部の導通が困難になったり、導通のための荷重を大きくしたりする必要が生じる。   Patent Document 2 discloses a method in which a frame plate is embedded in a peripheral portion of an anisotropic conductive elastomer sheet and is fixed to an electronic component or a circuit board by a fixing member using a hole provided in the frame plate. . However, an anisotropic conductive film having a porous resin film as a base film cannot embed a frame plate. When the frame plate is fixed to the surface of the anisotropic conductive film, it becomes difficult to conduct the conduction portion or increase the load for conduction depending on the thickness of the frame plate.

上記の如き問題は、一般に、多孔質樹脂膜に電極及び/または回路を有する機能部が設けられた多孔質樹脂基材を、コネクタとして、電子部品(ICチップ、LSIチップなど)や回路基板(プリント回路基板など)、検査装置の検査用回路基板などに、電気的に接続可能な状態で固定する場合に生じる。   In general, the above problems are caused by using as a connector a porous resin base material in which a functional part having an electrode and / or a circuit is provided on a porous resin film, and an electronic component (IC chip, LSI chip, etc.) or circuit board ( Such as a printed circuit board) and a circuit board for inspection of an inspection apparatus.

特開2004−265844号公報JP 2004-265844 A 特開2002−324600号公報JP 2002-324600 A

本発明の課題は、多孔質樹脂膜に電極及び/または回路を有する機能部が設けられた多孔質樹脂基材をコネクタとして用いる場合に、該多孔質基材が有する弾性、応力緩和機能、導通機能などを損なうことなく、電子部品や回路基板、検査装置の検査用基板に、電気的に接続可能な状態で貼付することができる新規な構造を有する前記多孔質基材からなるコネクタを提供することにある。   An object of the present invention is to use, when a porous resin base material provided with a functional part having an electrode and / or circuit on a porous resin film is used as a connector, the elasticity, stress relaxation function, and electrical conductivity of the porous base material. Provided is a connector comprising a porous base material having a novel structure that can be attached in an electrically connectable state to an electronic component, a circuit board, or an inspection board of an inspection apparatus without impairing the function or the like. There is.

本発明の他の課題は、該コネクタを電子部品または回路基板と電気的に接続可能な状態で貼付して固定した導電接続構造体を提供することにある。さらに、本発明の課題は、該コネクタを電子部品等の電気的検査に用いられる検査装置の検査用基板に、電気的に接続可能な状態で貼付したプローブ部材を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a conductive connection structure in which the connector is attached and fixed in an electrically connectable state with an electronic component or a circuit board. Furthermore, the subject of this invention is providing the probe member which affixed this connector on the test | inspection board | substrate of the test | inspection apparatus used for electrical test | inspection of an electronic component etc. in the state which can be electrically connected.

本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究した結果、電極及び/または回路を有する機能部が形成された多孔質樹脂基材の該機能部を取り巻く周辺部に、該機能部の高さより低い高さを有する段差部を形成し、該段差部の面上に、段差の高さより小さい厚みを有する粘着剤層を形成した構造を有するコネクタに想到した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the peripheral portion surrounding the functional portion of the porous resin base material on which the functional portion having electrodes and / or circuits is formed, The inventors have conceived a connector having a structure in which a step portion having a height lower than the height is formed, and an adhesive layer having a thickness smaller than the height of the step is formed on the surface of the step portion.

多孔質樹脂基材に段差部を形成するには、例えば、加熱プレスする方法を採用することができる。多孔質樹脂基材は、異方導電性エラストマーシートとは異なり、加熱プレスすることにより、容易に段差を形成することができる。異方導電性エラストマーシートは、その周辺部を加熱プレスすると、該周辺部に存在するエラストマーが中央部に異動するため、機能部の厚みが変動したり、変形が生じやすくなる。これに対して、多孔質樹脂基材は、加熱プレスした箇所の多孔質構造が密になるものの、加熱プレスによる段差の形成によって、電極及び/または回路が形成された機能部の厚みを変化させたり、形状を変形させたりすることがない。また、加熱プレス条件を制御することによって、所望の段差を有する段差部を設けることができる。   In order to form the stepped portion on the porous resin base material, for example, a heat pressing method can be employed. Unlike the anisotropic conductive elastomer sheet, the porous resin base material can easily form a step by heating and pressing. When the peripheral part of the anisotropic conductive elastomer sheet is hot-pressed, the elastomer present in the peripheral part is moved to the central part, so that the thickness of the functional part is likely to fluctuate or deform easily. On the other hand, the porous resin base material has a dense porous structure at the place where the heat pressing is performed, but the thickness of the functional part where the electrode and / or the circuit is formed is changed by forming a step by the heat pressing. Or deforming the shape. Moreover, the step part which has a desired level | step difference can be provided by controlling heating press conditions.

多孔質樹脂基材の上記段差部上に粘着剤層を設けるが、粘着剤層の厚みを段差の高さより小さくすることにより、機能部の上面が粘着剤層の上面より上方に位置することになるため、機能部における弾性や導通が損なわれることがない。電極及び/または回路を形成した機能部が上方に突き出しているため、該機能部の電極及び/または回路と、回路装置や検査装置の電極または回路との接触が阻害されることがない。   The pressure-sensitive adhesive layer is provided on the stepped portion of the porous resin base material. By making the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer smaller than the height of the step, the upper surface of the functional unit is positioned above the upper surface of the pressure-sensitive adhesive layer. Therefore, the elasticity and continuity in the functional part are not impaired. Since the functional part in which the electrode and / or the circuit are formed protrudes upward, the contact between the electrode and / or the circuit of the functional part and the electrode or the circuit of the circuit device or the inspection device is not hindered.

本発明のコネクタは、粘着剤層側で回路基板等の上に載置し、加圧することにより、該回路基板等に貼付して固定することができる。この際、突出した機能部が圧縮されるため、粘着剤層の表面と機能部の表面が実質的に同一面を形成することになる。コネクタが膜厚方向に貫通する複数の導通部(筒状電極)を備えたものである場合、機能部の圧縮により、導通が容易となる。粘着剤層を用いることにより、コネクタに不具合が生じた場合に、該コネクタを剥がして新しいコネクタに容易に交換することができる。本発明は、これらの知見に基づいて完成するに至ったものである。   The connector of the present invention can be fixed on a circuit board or the like by placing it on the circuit board or the like on the pressure-sensitive adhesive layer side and applying pressure. At this time, since the protruding functional part is compressed, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer and the surface of the functional part form substantially the same surface. When the connector includes a plurality of conducting portions (cylindrical electrodes) penetrating in the film thickness direction, conduction is facilitated by compression of the functional portion. By using the adhesive layer, when a problem occurs in the connector, the connector can be peeled off and easily replaced with a new connector. The present invention has been completed based on these findings.

本発明によれば、多孔質樹脂膜に電極及び/または回路を有する機能部が設けられた多孔質樹脂基材からなるコネクタであって、該多孔質樹脂膜の前記機能部を取り巻く周辺部に該機能部の高さより低い高さの段差部が形成され、かつ、該段差部の面上に段差の高さより小さい厚みを有する粘着剤層が設けられた構造を有することを特徴とするコネクタが提供される。   According to the present invention, there is provided a connector comprising a porous resin base material in which a functional part having an electrode and / or a circuit is provided on a porous resin film, and the peripheral part surrounding the functional part of the porous resin film. A connector having a structure in which a step portion having a height lower than the height of the functional portion is formed and an adhesive layer having a thickness smaller than the height of the step is provided on the surface of the step portion. Provided.

また、本発明によれば、前記コネクタが、表面に電極が配置された電子部品または回路基板に、該コネクタの電極及び/または回路と該電子部品もしくは回路基板の電極とが電気的に接続可能な状態で、前記粘着剤層によって固定されている導電接続構造体が提供される。   Further, according to the present invention, the connector can be electrically connected to an electronic component or circuit board having electrodes disposed on the surface thereof, and the electrode and / or circuit of the connector and the electrode of the electronic component or circuit board. In such a state, a conductive connection structure fixed by the pressure-sensitive adhesive layer is provided.

さらに、本発明によれば、前記コネクタが、電子部品または回路基板の電気的検査に用いられる検査装置の検査用回路基板に、該コネクタの電極及び/または回路と該検査用回路基板の表面に配置された検査用電極とが電気的に接続可能な状態で、前記粘着剤層によって固定されているプローブ部材が提供される。   Further, according to the present invention, the connector is provided on an inspection circuit board of an inspection apparatus used for electrical inspection of an electronic component or a circuit board, and on the electrode and / or circuit of the connector and the surface of the inspection circuit board. A probe member fixed by the pressure-sensitive adhesive layer is provided in a state where it can be electrically connected to the arranged inspection electrode.

本発明によれば、電極及び/または回路が形成された多孔質樹脂基材に、該多孔質樹脂基材の弾性や応力緩和機能、導通などの性能を損なうことなく、回路基板等に固定することができる粘着剤層を設けたコネクタが提供される。本発明のコネクタは、電子部品や回路基板等に貼付することにより簡単に固定することができることに加えて、該コネクタに不具合が生じた場合に、該コネクタを剥がして新しいコネクタに容易に交換することができる。   According to the present invention, a porous resin base material on which electrodes and / or circuits are formed is fixed to a circuit board or the like without impairing the performance of the porous resin base material such as elasticity, stress relaxation function, and conduction. A connector provided with a pressure-sensitive adhesive layer is provided. The connector of the present invention can be easily fixed by being affixed to an electronic component, a circuit board or the like. In addition, when a failure occurs in the connector, the connector is peeled off and easily replaced with a new connector. be able to.

本発明のコネクタは、例えば、電子部品と回路基板との間に配置すれば、応力緩和機能と導通機能とを有するコネクタとして機能する。また、本発明のコネクタは、回路基板等に貼付して固定すれば、コンパクトな導電接続構造体を得ることができる。同様に、本発明のコネクタは、電子部品等の電気的検査に用いる検査装置の検査用回路基板に貼付して固定すれば、応力緩和機能と導通機能とを有するプローブ部材を得ることができる。   For example, when the connector of the present invention is disposed between an electronic component and a circuit board, the connector functions as a connector having a stress relaxation function and a conduction function. Moreover, if the connector of this invention sticks and fixes to a circuit board etc., a compact conductive connection structure can be obtained. Similarly, the connector of the present invention can provide a probe member having a stress relaxation function and a conduction function if it is stuck and fixed to an inspection circuit board of an inspection device used for electrical inspection of electronic components and the like.

1.多孔質樹脂膜(基膜):
本発明では、電気絶縁性の剛性樹脂から形成された多孔質樹脂膜を基膜として使用する。本発明のコネクタを、電子部品や回路基板の電気的検査(例えば、導通検査)に使用する検査装置の検査用回路基板に固定して用いる場合、多孔質樹脂膜には、バーンイン試験の条件に耐えるだけの耐熱性を有することが求められる。
1. Porous resin membrane (base membrane):
In the present invention, a porous resin film formed from an electrically insulating rigid resin is used as a base film. When the connector of the present invention is used by being fixed to an inspection circuit board of an inspection device used for electrical inspection (for example, continuity inspection) of an electronic component or a circuit board, the porous resin film has a burn-in test condition. It is required to have heat resistance enough to withstand.

多孔質樹脂膜を形成する好ましい合成樹脂材料としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、テトラフルオロエチレン/パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、ポリふっ化ビニリデン(PVDF)、ポリふっ化ビニリデン共重合体、エチレン/テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE樹脂)などのフッ素樹脂;ポリイミド(PI)、ポリアミドイミド(PAI)、ポリアミド(PA)、変性ポリフェニレンエーテル(mPPE)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリスルホン(PSU)、ポリエーテルスルホン(PES)、液晶ポリマー(LCP)などのエンジニアリングプラスチック;などが挙げられる。   As a preferable synthetic resin material for forming the porous resin film, for example, polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer ( Fluororesin such as PFA), polyvinylidene fluoride (PVDF), polyvinylidene fluoride copolymer, ethylene / tetrafluoroethylene copolymer (ETFE resin); polyimide (PI), polyamideimide (PAI), polyamide (PA ), Modified polyphenylene ether (mPPE), polyphenylene sulfide (PPS), polyetheretherketone (PEEK), polysulfone (PSU), polyethersulfone (PES), and engineering engineers such as liquid crystal polymer (LCP) Plastic; and the like.

これらの合成樹脂材料の中でも、耐熱性、加工性、機械的特性、誘電特性などの観点から、フッ素樹脂がより好ましく、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)が特に好ましい。   Among these synthetic resin materials, fluororesins are more preferable, and polytetrafluoroethylene (PTFE) is particularly preferable from the viewpoints of heat resistance, processability, mechanical properties, dielectric properties, and the like.

合成樹脂からなる多孔質樹脂膜を作製する方法としては、造孔法、相分離法、溶媒抽出法、延伸法、レーザ照射法などが挙げられる。これらの中でも、平均孔径や気孔率の制御が容易である点で、延伸法が好ましい。合成樹脂を用いて多孔質樹脂膜を形成することにより、膜厚方向に弾性を持たせることができるとともに、誘電率を更に下げることができる。   Examples of a method for producing a porous resin film made of a synthetic resin include a pore making method, a phase separation method, a solvent extraction method, a stretching method, and a laser irradiation method. Among these, the stretching method is preferable in that the average pore diameter and the porosity can be easily controlled. By forming a porous resin film using a synthetic resin, elasticity can be given in the film thickness direction, and the dielectric constant can be further lowered.

基膜として使用する多孔質樹脂膜は、気孔率が20〜80%程度であることが好ましい。多孔質樹脂膜は、平均孔径が10μm以下あるいはバブルポイントが2kPa以上であることが好ましく、導通部のファインピッチ化の観点からは、平均孔径が5μm以下、さらには1μm以下であることが好ましい。平均孔径の下限値は、0.05μm程度である。多孔質樹脂膜のバブルポイントは、好ましくは5kPa以上、より好ましくは10kPa以上である。バブルポイントの上限値は、300kPa程度であるが、これに限定されない。   The porous resin film used as the base film preferably has a porosity of about 20 to 80%. The porous resin film preferably has an average pore diameter of 10 μm or less or a bubble point of 2 kPa or more. From the viewpoint of fine pitching of the conducting part, the average pore diameter is preferably 5 μm or less, and more preferably 1 μm or less. The lower limit value of the average pore diameter is about 0.05 μm. The bubble point of the porous resin film is preferably 5 kPa or more, more preferably 10 kPa or more. The upper limit of the bubble point is about 300 kPa, but is not limited to this.

多孔質樹脂膜の膜厚は、使用目的や使用箇所に応じて適宜選択することができるが、通常、20〜3000μm、好ましくは25〜2000μm、より好ましくは30〜1000μmである。したがって、多孔質樹脂膜の厚みは、フィルム(250μm未満)及びシート(250μm以上)の領域を含んでいる。多孔質樹脂膜の膜厚が薄すぎると、粘着剤層を配置できるだけの段差を有する段差部を形成することが困難になる。   Although the film thickness of a porous resin film can be suitably selected according to a use purpose or a use location, it is 20-3000 micrometers normally, Preferably it is 25-2000 micrometers, More preferably, it is 30-1000 micrometers. Therefore, the thickness of the porous resin film includes regions of a film (less than 250 μm) and a sheet (250 μm or more). If the thickness of the porous resin film is too thin, it becomes difficult to form a stepped portion having a step enough to dispose the pressure-sensitive adhesive layer.

多孔質樹脂膜の中でも、延伸法により得られた多孔質ポリテトラフルオロエチレン膜(延伸多孔質PTFE膜)は、耐熱性、加工性、機械的特性、誘電特性などに優れ、しかも均一な孔径分布を有する多孔質樹脂膜が得られ易いため、基膜として最も優れた材料である。また、延伸多孔質PTFE膜は、多数のフィブリルとノードからなる微細網目状組織を有しており、該フィブリルにめっき粒子などの導電性金属を付着させやすい。   Among the porous resin membranes, porous polytetrafluoroethylene membranes (stretched porous PTFE membranes) obtained by the stretching method are excellent in heat resistance, workability, mechanical properties, dielectric properties, etc. and have a uniform pore size distribution Since it is easy to obtain a porous resin film having the above, it is the most excellent material as a base film. In addition, the stretched porous PTFE membrane has a fine network structure composed of a large number of fibrils and nodes, and a conductive metal such as plating particles is easily attached to the fibrils.

本発明で使用する延伸多孔質PTFE膜は、例えば、特公昭42−13560号公報に記載の方法により製造することができる。先ず、PTFEの未焼結粉末に液体潤滑剤を混合し、ラム押し出しによって、チューブ状または板状に押し出す。厚みの薄いシートが所望な場合には、圧延ロールによって板状体の圧延を行う。押出圧延工程の後、必要に応じて、押出品または圧延品から液体潤滑剤を除去する。こうして得られた押出品または圧延品を少なくとも一軸方向に延伸すると、未焼結の延伸多孔質PTFEが膜状で得られる。未焼結の延伸多孔質PTFE膜は、収縮が起こらないように固定しながら、PTFEの融点である327℃以上の温度に加熱して、延伸した構造を焼結・固定すると、強度の高い延伸多孔質PTFE膜が得られる。延伸多孔質PTFE膜がチューブ状である場合には、チューブを切り開くことにより、平らな膜にすることができる。   The expanded porous PTFE membrane used in the present invention can be produced, for example, by the method described in Japanese Examined Patent Publication No. 42-13560. First, a liquid lubricant is mixed with the unsintered powder of PTFE and extruded into a tube shape or a plate shape by ram extrusion. When a thin sheet is desired, the plate is rolled by a rolling roll. After the extrusion rolling process, the liquid lubricant is removed from the extruded product or the rolled product as necessary. When the extruded product or rolled product thus obtained is stretched at least in a uniaxial direction, unsintered stretched porous PTFE is obtained in the form of a film. An unsintered stretched porous PTFE membrane is heated to a temperature of 327 ° C. or higher, which is the melting point of PTFE, while being fixed so that shrinkage does not occur. A porous PTFE membrane is obtained. When the stretched porous PTFE membrane has a tube shape, a flat membrane can be obtained by cutting the tube.

延伸多孔質PTFE膜は、それぞれPTFEにより形成された非常に細いフィブリルと該フィブリルによって互いに連結されたノードとからなる微細網目状組織を有している。延伸多孔質PTFE膜は、この微細網目状組織が多孔質構造を形成している。   The stretched porous PTFE membrane has a fine network composed of very thin fibrils formed by PTFE and nodes connected to each other by the fibrils. In the stretched porous PTFE membrane, this fine network structure forms a porous structure.

2.電極及び/または回路を形成した多孔質樹脂基材:
電極を形成した多孔質樹脂基材を異方性導電膜として使用する場合は、合成樹脂から形成された電気絶縁性の多孔質樹脂膜からなる基膜の複数箇所に、第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する貫通孔を形成し、次いで、各貫通孔内壁面における多孔質構造の樹脂部(例えば、フィブリル)に導電性金属を付着させて、膜厚方向に導電性を付与することが可能な複数の導通部(筒状電極)をそれぞれ独立して形成することが好ましい。導電性金属の付着は、一般に、無電解めっきまたは無電解めっきと電気めっきとの組み合わせにより、各貫通孔の内壁面の多孔質構造の樹脂部にめっき粒子を付着させる方法により行うことができる。
2. Porous resin substrate with electrodes and / or circuits formed:
When the porous resin base material on which the electrode is formed is used as an anisotropic conductive film, the second surface from the first surface to the second portion of the base film made of an electrically insulating porous resin film formed from a synthetic resin. A through-hole penetrating in the thickness direction is formed over the surface, and then a conductive metal is attached to a porous resin portion (for example, fibril) on the inner wall surface of each through-hole to impart conductivity in the film thickness direction. It is preferable that a plurality of conductive portions (cylindrical electrodes) that can be formed are formed independently. In general, the conductive metal can be attached by a method in which plating particles are attached to the resin portion of the porous structure on the inner wall surface of each through hole by electroless plating or a combination of electroless plating and electroplating.

多孔質樹脂膜の厚み方向に複数の貫通孔を設ける方法、及び該貫通孔の内壁面に導電性金属の付着による導通部(筒状電極)を形成する方法は、特に限定されないが、例えば、以下に述べる方法を例示することができる。   The method of providing a plurality of through holes in the thickness direction of the porous resin film and the method of forming a conductive portion (cylindrical electrode) by adhesion of conductive metal on the inner wall surface of the through holes are not particularly limited. The method described below can be illustrated.

例えば、下記の工程1乃至5:
(a)多孔質樹脂膜の両面に、マスク層として樹脂層を積層して、3層構成の積層体を形成する工程1;
(b)積層体に、その厚み方向に貫通する複数の貫通孔を形成する工程2;
(c)貫通孔の内壁面を含む積層体の表面に、金属イオンの還元反応を促進する触媒を付着させる工程3;
(d)多孔質樹脂膜からマスク層を剥離する工程4;及び
(e)前記触媒を利用して、貫通孔の内壁面の樹脂部に導電性金属を付着させる工程5;
を含む多孔質樹脂基材の製造方法を挙げることができる。
For example, the following steps 1 to 5:
(A) Step 1 of laminating a resin layer as a mask layer on both surfaces of the porous resin film to form a three-layer laminate;
(B) Step 2 of forming a plurality of through holes penetrating in the thickness direction in the laminate;
(C) Step 3 of attaching a catalyst that promotes a reduction reaction of metal ions to the surface of the laminate including the inner wall surface of the through hole;
(D) Step 4 of peeling the mask layer from the porous resin film; and (e) Step 5 of attaching a conductive metal to the resin portion of the inner wall surface of the through hole using the catalyst.
The manufacturing method of the porous resin base material containing this can be mentioned.

マスク層の材料としては、樹脂材料が好ましく用いられる。多孔質樹脂膜として多孔質フッ素樹脂膜を用いる場合には、マスク層として、同種の多孔質フッ素樹脂膜を用いることが好ましいが、フッ素樹脂無孔質膜や、フッ素樹脂以外の樹脂材料からなる無孔質樹脂膜または多孔質樹脂膜を使用することもできる。各層間の融着性と剥離性とのバランスの観点から、マスク層の材料としては、多孔質樹脂膜と同質の多孔質樹脂膜を用いることが好ましい。   A resin material is preferably used as the material of the mask layer. When a porous fluororesin film is used as the porous resin film, it is preferable to use the same type of porous fluororesin film as the mask layer, but it is made of a fluororesin nonporous film or a resin material other than fluororesin. A non-porous resin film or a porous resin film can also be used. From the viewpoint of the balance between fusibility between layers and peelability, it is preferable to use a porous resin film having the same quality as the porous resin film as the material of the mask layer.

多孔質樹脂膜の両面にマスク層を配置して、一般に、融着により3層を一体化させる。多孔質樹脂膜として延伸多孔質PTFE膜を用いる場合は、マスク層としても同質の延伸多孔質PTFE膜を用いることが好ましい。これら3層は、加熱圧着することにより、各層間が融着した積層体とすることができる。この積層体は、後の工程で容易に剥離することができる。   Mask layers are arranged on both sides of the porous resin film, and generally the three layers are integrated by fusion. When an expanded porous PTFE film is used as the porous resin film, it is preferable to use the same expanded porous PTFE film as the mask layer. These three layers can be formed into a laminate in which the respective layers are fused by thermocompression bonding. This laminate can be easily peeled off in a later step.

この積層体に、その厚み方向に複数の貫通孔を形成する。貫通孔を形成する方法としては、i)機械的に穿孔する方法、ii)光アブレーション法によりエッチングする方法、iii)先端部に少なくとも1本の振動子を備えた超音波ヘッドを用い、該振動子の先端を押し付けて超音波エネルギーを加えて穿孔する方法などが挙げられる。   A plurality of through holes are formed in the laminated body in the thickness direction. As a method of forming the through hole, i) a mechanical drilling method, ii) a method of etching by a photoablation method, iii) an ultrasonic head having at least one vibrator at the tip, and the vibration For example, a method of punching by applying ultrasonic energy by pressing the tip of the child is used.

機械的に穿孔するには、例えば、プレス加工、パンチング法、ドリル法などの機械加工法を採用することができる。機械加工法によれば、例えば、100μm以上、多くの場合200μm以上、さらには300μm以上の比較的大きな直径を有する貫通孔を安価に形成することができる。機械加工により、これより小さな直径の貫通孔を形成することもできる。   For mechanical drilling, for example, a machining method such as pressing, punching, or drilling can be employed. According to the machining method, for example, a through hole having a relatively large diameter of 100 μm or more, in many cases 200 μm or more, and further 300 μm or more can be formed at low cost. Through holes with smaller diameters can also be formed by machining.

光アブレーション法により貫通孔を形成する場合は、所定のパターン状にそれぞれ独立した複数の光透過部(開口部)を有する光遮蔽シート(マスク)を介して、積層体の表面に光を照射することにより、パターン状の貫通孔を形成する方法を採用することが好ましい。光遮蔽シートの複数の開口部より光が透過して、積層体の被照射箇所は、エッチングされて貫通孔が形成される。この方法によれば、例えば、10〜200μm、多くの場合15〜150μm、さらには20〜100μmの比較的小さな直径を有する貫通孔を形成することができる。光アブレーション法の照射光としては、シンクロトロン放射光、レーザー光などが挙げられる。   When the through-hole is formed by the light ablation method, light is applied to the surface of the laminate through a light shielding sheet (mask) having a plurality of light transmission parts (openings) that are independent in a predetermined pattern. Therefore, it is preferable to employ a method of forming a patterned through hole. Light is transmitted through a plurality of openings of the light shielding sheet, and the irradiated portion of the laminate is etched to form a through hole. According to this method, for example, a through hole having a relatively small diameter of 10 to 200 μm, in many cases 15 to 150 μm, and further 20 to 100 μm can be formed. Examples of irradiation light in the photoablation method include synchrotron radiation light and laser light.

超音波法では、先端部に少なくとも1本の振動子を有する超音波ヘッドを用いて、積層体に超音波エネルギーを加えることにより、パターン状の貫通孔を形成する。振動子の先端が接触した近傍のみに超音波エネルギーが加えられ、超音波による振動エネルギーによって局所的に温度が上昇し、容易に樹脂が切断され除去されて、貫通孔が形成される。   In the ultrasonic method, a patterned through-hole is formed by applying ultrasonic energy to the laminate using an ultrasonic head having at least one vibrator at the tip. Ultrasonic energy is applied only to the vicinity where the tip of the vibrator contacts, and the temperature rises locally due to the vibrational energy generated by the ultrasonic wave, and the resin is easily cut and removed to form a through hole.

貫通孔の形状は、円形、楕円形、星型、八角形、六角形、四角形、三角形など任意である。貫通孔の直径は、小径の貫通孔が適した用途分野では、通常5〜100μm、さらには5〜30μmにまで小さくすることができる。他方、比較的大径の貫通孔が適した分野では、貫通孔の直径を通常100〜3000μm、多くの場合150〜2000μm、さらには200〜1500μmにまで大きくすることができる。貫通孔は、例えば、半導体集積回路装置やプリント回路基板などの回路装置の電極の分布に合わせて、所定のパターン状に複数個形成することが好ましい。   The shape of the through hole is arbitrary such as a circle, an ellipse, a star, an octagon, a hexagon, a quadrangle, and a triangle. The diameter of the through hole can be reduced to 5 to 100 μm, and further to 5 to 30 μm in an application field where a small diameter through hole is suitable. On the other hand, in a field where a relatively large through-hole is suitable, the diameter of the through-hole can be increased to usually 100 to 3000 μm, in many cases 150 to 2000 μm, and further to 200 to 1500 μm. A plurality of through holes are preferably formed in a predetermined pattern according to the distribution of electrodes of a circuit device such as a semiconductor integrated circuit device or a printed circuit board.

貫通孔の内壁面を含む積層体の表面に、金属イオンの還元反応を促進する触媒(「めっき触媒」ともいう)を付着させるには、積層体を、例えばパラジウム−スズコロイド触媒付与液に十分に撹拌しながら浸漬すればよい。貫通孔の内壁面に付着して残留する触媒を利用して、該内壁面に選択的に導電性金属を付着させる。導電性金属を付着させる方法としては、無電解めっき法が好適である。   In order to attach a catalyst that promotes the reduction reaction of metal ions (also referred to as “plating catalyst”) to the surface of the laminate including the inner wall surface of the through-hole, the laminate is sufficiently applied to, for example, a palladium-tin colloid catalyst application liquid. What is necessary is just to immerse, stirring. A conductive metal is selectively attached to the inner wall surface by utilizing the catalyst remaining on the inner wall surface of the through hole. An electroless plating method is suitable as a method for attaching the conductive metal.

無電解めっきを行う前に貫通孔の内壁面に残留した触媒(例えば、パラジウム−スズ)を活性化する。具体的には、めっき触媒活性化用として市販されている有機酸塩等に浸漬することで、スズを溶解し、触媒を活性化する。貫通孔の内壁面に触媒を付与した多孔質樹脂膜を無電解めっき液に浸漬することにより、触媒が付着した貫通孔の内壁面のみに導電性金属(めっき粒子)を析出させることができる。この方法によって、筒状電極が形成される。導電性金属としては、銅、ニッケル、銀、金、ニッケル合金などが挙げられるが、高導電性が必要な場合には、銅を使用することが好ましい。   Before performing electroless plating, the catalyst (for example, palladium-tin) remaining on the inner wall surface of the through hole is activated. Specifically, by immersing in a commercially available organic acid salt or the like for activating the plating catalyst, tin is dissolved and the catalyst is activated. By immersing the porous resin film provided with the catalyst on the inner wall surface of the through hole in the electroless plating solution, the conductive metal (plating particles) can be deposited only on the inner wall surface of the through hole to which the catalyst is attached. By this method, a cylindrical electrode is formed. Examples of the conductive metal include copper, nickel, silver, gold, and a nickel alloy. However, when high conductivity is required, it is preferable to use copper.

延伸多孔質PTFE膜を使用する場合、めっき粒子は、初め延伸多孔質PTFE膜の貫通孔の内壁面に露出した樹脂部(主としてフィブリル)に絡むように析出するので、めっき時間をコントロールすることにより、導電性金属の付着状態をコントロールすることができる。適度なめっき量とすることにより、多孔質構造を維持した状態で導電性金属層が形成され、弾力性と同時に膜厚方向への導電性も与えることが可能となる。   When using the stretched porous PTFE membrane, the plating particles are deposited so as to be entangled with the resin portion (mainly fibrils) exposed on the inner wall surface of the through-hole of the stretched porous PTFE membrane at first, so that the plating time is controlled. It is possible to control the adhesion state of the conductive metal. By setting an appropriate plating amount, a conductive metal layer is formed while maintaining a porous structure, and it is possible to provide elasticity in the film thickness direction as well as elasticity.

多孔質構造における樹脂部の太さ(例えば、延伸多孔質PTFE膜のフィブリルの太さ)は、50μm以下であることが好ましい。導電性金属の粒子径は、0.001〜5μm程度であることが好ましい。導電性金属の付着量は、多孔質構造と弾力性を維持するために、0.01〜4.0g/ml程度とすることが好ましい。   The thickness of the resin portion in the porous structure (for example, the thickness of the fibril of the stretched porous PTFE membrane) is preferably 50 μm or less. The particle diameter of the conductive metal is preferably about 0.001 to 5 μm. The amount of conductive metal deposited is preferably about 0.01 to 4.0 g / ml in order to maintain the porous structure and elasticity.

上記で作製された導通部(筒状電極)は、酸化防止及び電気的接触性を高めるため、酸化防止剤を使用するか、貴金属または貴金属の合金で被覆しておくことが好ましい。貴金属としては、電気抵抗の小さい点で、パラジウム、ロジウム、金が好ましい。被覆層の厚さは、好ましくは0.005〜0.5μm、より好ましくは0.01〜0.1μmである。例えば、導通部を金で被覆する場合、8nm程度のニッケルで導電性金属層を被覆した後、置換金めっきを行う方法が効果的である。   The conductive part (cylindrical electrode) produced as described above preferably uses an antioxidant or is coated with a noble metal or an alloy of noble metal in order to improve oxidation prevention and electrical contact. As the noble metal, palladium, rhodium, and gold are preferable from the viewpoint of low electric resistance. The thickness of the coating layer is preferably 0.005 to 0.5 μm, more preferably 0.01 to 0.1 μm. For example, when the conductive part is coated with gold, a method of performing displacement gold plating after coating the conductive metal layer with nickel of about 8 nm is effective.

多孔質樹脂膜として延伸多孔質PTFE膜を使用すると、貫通孔の内壁面で、フィブリルに導電性金属粒子が付着した構造の筒状電極が形成される。この多孔質フッ素樹脂基材に厚み方向の応力が加わると、フィブリル間の距離が縮むことにより、応力が緩和され、筒状電極の構造も破壊されることなく維持される。したがって、延伸多孔質PTFE基材に繰り返し圧縮力が加えられても、筒状電極の劣化が起こり難い。   When an expanded porous PTFE membrane is used as the porous resin membrane, a cylindrical electrode having a structure in which conductive metal particles adhere to fibrils is formed on the inner wall surface of the through hole. When a stress in the thickness direction is applied to the porous fluororesin substrate, the distance between the fibrils is reduced, so that the stress is relaxed and the structure of the cylindrical electrode is maintained without being destroyed. Therefore, even if a compressive force is repeatedly applied to the stretched porous PTFE base material, the cylindrical electrode is unlikely to deteriorate.

筒状電極は、通常、多孔質フッ素樹脂膜の厚み方向に設けられた貫通孔の内壁面のみに導電性金属が付着した構造を有するものであるが、無電解めっき量を調節するか、無電解めっきに加えて電気めっきを行うことにより、該筒状電極の2つの開口端部の一方または両方を閉塞させて、導電性金属からなる蓋体を形成させてもよい。めっき量を増やすと、開口端部の縁からめっき粒子が成長し、配向端部を閉塞させる。また、貫通孔の内壁面に付着させる導電性金属の量を増やすことなく、開口端部を閉塞させる方法として、導電性金属粒子を含有する高粘度のペーストを開口端部に塗布する方法がある。このような方法により、筒状電極の開口端部を導電性材料により閉塞して蓋体を形成すると、多孔質フッ素樹脂基材の筒状電極と、電子部品や回路基板、検査用回路基板などの電極との接触面積を増やすことができる。   The cylindrical electrode usually has a structure in which a conductive metal adheres only to the inner wall surface of a through-hole provided in the thickness direction of the porous fluororesin film. By performing electroplating in addition to electrolytic plating, one or both of the two open ends of the cylindrical electrode may be closed to form a lid made of a conductive metal. When the amount of plating is increased, plating particles grow from the edge of the opening end, and the alignment end is closed. Further, as a method for closing the opening end without increasing the amount of conductive metal attached to the inner wall surface of the through hole, there is a method of applying a high-viscosity paste containing conductive metal particles to the opening end. . By such a method, when the lid is formed by closing the opening end of the cylindrical electrode with a conductive material, the cylindrical electrode of the porous fluororesin base material, the electronic component, the circuit board, the circuit board for inspection, etc. The contact area with the electrode can be increased.

本発明で使用する多孔質樹脂基材には、上記の如き筒状電極以外に、各種構造の電極や回路を形成することができる。例えば、多孔質樹脂膜の表面に銅箔を貼り合わせた基板を作製し、銅箔層に、フォトリソグラフィ技術を用いて、電極及び/または回路を形成する方法が挙げられる。また、多孔質樹脂膜に電極または回路の形状と同じパターンでめっき触媒を付与し、該めっき触媒を利用して、無電解めっきまたは無電解めっきと電解めっきとの組み合わせにより電極または回路を形成する方法がある。さらに、多孔質樹脂基材の片面または両面に導電性金属のめっき層を形成し、フォトリソグラフィ技術を用いて、電極及び/または回路を形成する方法がある。   In addition to the cylindrical electrode as described above, various structures of electrodes and circuits can be formed on the porous resin substrate used in the present invention. For example, there is a method in which a substrate in which a copper foil is bonded to the surface of a porous resin film is prepared, and electrodes and / or circuits are formed on the copper foil layer using a photolithography technique. Also, a plating catalyst is applied to the porous resin film in the same pattern as the electrode or circuit shape, and the electrode or circuit is formed by using the plating catalyst by electroless plating or a combination of electroless plating and electrolytic plating. There is a way. Furthermore, there is a method in which a conductive metal plating layer is formed on one surface or both surfaces of a porous resin substrate, and electrodes and / or circuits are formed using a photolithography technique.

多孔質樹脂基材は、電極及び/または回路を有する機能部が設けられたものであるが、粘着剤層を設けるために、該機能部の周辺部に電極及び/または回路が形成されていない箇所を有している。   The porous resin base material is provided with a functional part having an electrode and / or a circuit, but in order to provide an adhesive layer, no electrode and / or circuit is formed in the peripheral part of the functional part. Has a place.

3.コネクタ:
本発明のコネクタは、多孔質樹脂基膜に電極及び/または回路を有する機能部が設けられた多孔質樹脂基材に段差部を形成し、該段差部の面上に粘着剤層を設けた構造を有するものである。
3. connector:
In the connector of the present invention, a step portion is formed on a porous resin base material in which a functional portion having electrodes and / or circuits is provided on a porous resin base film, and an adhesive layer is provided on the surface of the step portion. It has a structure.

本発明のコネクタの一例について、その製造工程を図1に示す。図1に示す多孔質樹脂基材1は、多孔質樹脂膜101に複数の貫通孔102を形成し、該貫通孔の内壁面の樹脂部に導電性金属を付着させて導通部(筒状電極)103を形成した構造を有している。この多孔質樹脂基材1は、膜厚方向には、導通部103により導通可能であり、横方向には、各導通部間が多孔質樹脂によって絶縁されているため、異方性導電膜として使用することができる。   A manufacturing process of an example of the connector of the present invention is shown in FIG. A porous resin substrate 1 shown in FIG. 1 has a plurality of through-holes 102 formed in a porous resin film 101, and a conductive portion is attached to a resin portion on the inner wall surface of the through-hole. ) 103 is formed. This porous resin base material 1 can be conducted by the conducting portion 103 in the film thickness direction, and in the lateral direction, each conducting portion is insulated by the porous resin. Can be used.

前記多孔質樹脂基材1の導通部103,103・・・は、機能部を構成している。該多孔質樹脂膜の前記機能部を取り巻く周辺部に、該機能部の高さより低い高さの段差部を形成する。段差部を形成する方法は、特に限定されないが、加熱プレスする方法が好ましい。加熱プレス時の加熱温度は、多孔質樹脂基材を構成する樹脂材料の熱分解温度未満の温度であり、樹脂材料の種類によって適宜設定することができる。基膜が延伸多孔質PTFE膜の場合には、通常、200〜320℃である。圧力及び加圧時間は、段差部の形状が固定される条件で、樹脂材料の種類に応じて適宜設定することができる。   The conducting portions 103, 103... Of the porous resin base material 1 constitute a functional portion. A step portion having a height lower than the height of the functional portion is formed in a peripheral portion surrounding the functional portion of the porous resin film. A method for forming the stepped portion is not particularly limited, but a method of hot pressing is preferable. The heating temperature at the time of hot pressing is a temperature lower than the thermal decomposition temperature of the resin material constituting the porous resin substrate, and can be appropriately set depending on the type of the resin material. When the base membrane is an expanded porous PTFE membrane, it is usually 200 to 320 ° C. The pressure and pressurizing time can be appropriately set according to the type of the resin material under the condition that the shape of the stepped portion is fixed.

段差部を形成するには、加熱プレス法以外の他の方法を採用してもよい。他の方法としては、例えば、切削加工などの機械加工を挙げることができるが、一般に、薄い多孔質樹脂基材を正確な膜厚で切削することは困難であり、効率的ではない。また、光アブレーション法により、段差部を形成することもできるが、広い領域を効率よくエッチングするには必ずしも適していない。   In order to form the step portion, a method other than the hot press method may be employed. Examples of other methods include machining such as cutting, but generally, it is difficult to cut a thin porous resin substrate with an accurate film thickness, which is not efficient. Further, although the step portion can be formed by the photoablation method, it is not necessarily suitable for efficiently etching a wide region.

多孔質樹脂基材1に段差部を形成することにより、突出した機能部105と、該機能部105の周辺部に段差部104を有する多孔質樹脂基材2が得られる。次に、多孔質樹脂基材2の段差部の面上に、粘着剤層106を形成する。   By forming the stepped portion in the porous resin base material 1, the protruding functional portion 105 and the porous resin base material 2 having the stepped portion 104 in the peripheral portion of the functional portion 105 are obtained. Next, the pressure-sensitive adhesive layer 106 is formed on the surface of the step portion of the porous resin substrate 2.

粘着剤としては、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤などが挙げられる。ゴム系粘着剤としては、天然ゴム系、スチレン−ブタジエン系、ポリイソブチレン系、イソプレン系などの溶剤型粘着剤;スチレン−イソプレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレンブロック共重合体、エチレン−酢酸ビニル熱可塑性エラストマーなどのホットメルト型粘着剤;などが挙げられる。アクリル系粘着剤には、溶液型とエマルジョン型とがある。   Examples of the pressure sensitive adhesive include rubber pressure sensitive adhesive, acrylic pressure sensitive adhesive, and silicone pressure sensitive adhesive. Rubber-based adhesives include solvent-based adhesives such as natural rubber, styrene-butadiene, polyisobutylene, and isoprene; styrene-isoprene block copolymers, styrene-butadiene block copolymers, and styrene-ethylene-butylene. And hot-melt adhesives such as block copolymers and ethylene-vinyl acetate thermoplastic elastomers. Acrylic adhesives include a solution type and an emulsion type.

段差部の面上に粘着剤層を設けるには、例えば、粘着剤を段差部の面上に塗付する方法、剥離ライナーを片面に配置した粘着テープを段差部の面上に貼り合わせてから剥離ライナーを除去する方法、粘着剤のドライフィルムを段差部の面上に貼り合わせる方法、両面粘着テープの一方の粘着剤層により段差部の面上に貼り合わせる方法などを採用すればよい。これらの中でも、粘着剤を塗布する方法は、粘着剤の一部が多孔質樹脂膜の多孔質構造内にまで入り込むため、アンカー効果により粘着剤層を段差部に固着させることができるため好ましい。粘着剤を塗布する方法としては、粘着剤の溶液やエマルジョンを塗布する方法が挙げられる。   In order to provide a pressure-sensitive adhesive layer on the surface of the stepped portion, for example, a method of applying a pressure-sensitive adhesive on the surface of the stepped portion, and after sticking an adhesive tape having a release liner disposed on one side on the surface of the stepped portion. A method of removing the release liner, a method of bonding a dry film of an adhesive onto the surface of the stepped portion, a method of bonding onto the surface of the stepped portion with one pressure-sensitive adhesive layer of the double-sided adhesive tape, etc. may be adopted. Among these, the method of applying the pressure-sensitive adhesive is preferable because a part of the pressure-sensitive adhesive enters the porous structure of the porous resin film, so that the pressure-sensitive adhesive layer can be fixed to the step portion by the anchor effect. Examples of the method for applying the pressure-sensitive adhesive include a method for applying a solution or an emulsion of the pressure-sensitive adhesive.

図2に、本発明のコネクタの断面図を示す。多孔質樹脂基材の機能部105の高さをaとし、段差部104の高さをbとすると、a>bであり、その差c(a−b=c)が段差の高さを表す。粘着剤層106の厚みをdとすると、c>dであり、その差e(c−d=e)が粘着剤層106の上面と機能部105の上面との高さの差を示す。   FIG. 2 shows a cross-sectional view of the connector of the present invention. If the height of the functional part 105 of the porous resin substrate is a and the height of the step part 104 is b, then a> b, and the difference c (ab = c) represents the height of the step. . When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 106 is d, c> d, and the difference e (cd = e) indicates the difference in height between the upper surface of the pressure-sensitive adhesive layer 106 and the upper surface of the functional part 105.

段差部の高さbは、多孔質樹脂基材の厚みaの通常20〜90%、好ましくは30〜85%、より好ましくは40〜80%である。段差部の高さbが高すぎると、粘着剤層の厚みdを十分に厚くすることができない。段差部の高さbが低すぎると、多孔質樹脂基材全体の弾性が損なわれたり、加熱プレス時に変形が生じたりするおそれがある。   The height b of the stepped portion is usually 20 to 90%, preferably 30 to 85%, more preferably 40 to 80% of the thickness a of the porous resin substrate. If the height b of the step portion is too high, the thickness d of the pressure-sensitive adhesive layer cannot be sufficiently increased. If the height b of the stepped portion is too low, the elasticity of the entire porous resin substrate may be impaired, or deformation may occur during hot pressing.

機能部105の上面と粘着剤層106の上面との高さの差eは、多孔質樹脂基材の厚みにもよるが、通常2〜500μm、好ましくは3〜450μm、より好ましくは5〜400μmである。この差eが短すぎると、機能部105の弾性が損なわれたり、電子部品や回路基板の電極などとの接続が困難になったりする。この差eが長すぎると、機能部105に過重な圧縮力が加えられることがある。機能部105が適度に突出していることにより、低荷重で電子部品や回路基板などとの導通を達成することができる。   The height difference e between the upper surface of the functional part 105 and the upper surface of the pressure-sensitive adhesive layer 106 depends on the thickness of the porous resin substrate, but is usually 2 to 500 μm, preferably 3 to 450 μm, more preferably 5 to 400 μm. It is. If the difference e is too short, the elasticity of the functional unit 105 is impaired, or connection with an electronic component or an electrode of a circuit board becomes difficult. If this difference e is too long, an excessive compressive force may be applied to the function unit 105. Since the functional part 105 protrudes moderately, electrical connection with an electronic component, a circuit board, etc. can be achieved with a low load.

多孔質樹脂基材の厚みが大きい場合には、その両面に段差部を設けて、各段差部に粘着剤層を設けてもよい。多孔質樹脂基材の厚みが300μm以上、好ましくは400μm以上と厚い場合には、両面から加熱プレスして、その両面に段差部を形成し、各段差部の面上に段差の高さより小さい厚みを有する粘着剤層を設けることができる。両面に粘着剤層を形成したコネクタは、例えば、電子部品と回路基板との間に配置し、これらを粘着剤層によって同時に固定することができる。   When the thickness of the porous resin substrate is large, step portions may be provided on both surfaces, and an adhesive layer may be provided on each step portion. When the thickness of the porous resin substrate is 300 μm or more, preferably 400 μm or more, heat press from both sides to form stepped portions on both sides, and a thickness smaller than the step height on the surface of each stepped portion. It is possible to provide an adhesive layer having A connector in which an adhesive layer is formed on both sides can be disposed, for example, between an electronic component and a circuit board, and these can be simultaneously fixed by the adhesive layer.

4.導電接続構造体:
本発明のコネクタは、表面に電極が配置された電子部品または回路基板に、該コネクタの電極及び/または回路と該電子部品もしくは回路基板の電極とが電気的に接続可能な状態で、前記粘着剤層によって固定することにより、導電接続構造体を作製することができる。
4). Conductive connection structure:
The connector of the present invention is an electronic component or circuit board having an electrode disposed on the surface thereof, in a state where the electrode and / or circuit of the connector and the electrode of the electronic component or circuit board can be electrically connected. By fixing with an agent layer, a conductive connection structure can be produced.

電子部品としては、ICチップ、LSIチップ、ICチップまたはLSIチップを含むパッケージ、トランジスタ、ダイオード、マルチチップモジュールなどの半導体装置からなる能動部品;抵抗、コンデンサ、水晶振動子などの受動部品;などが挙げられる。これらの中でも、半導体装置が好ましく、半導体集積回路装置がより好ましい。   Electronic components include IC chips, LSI chips, IC chips or packages containing LSI chips, active components made of semiconductor devices such as transistors, diodes, and multichip modules; passive components such as resistors, capacitors, and crystal units; Can be mentioned. Among these, a semiconductor device is preferable, and a semiconductor integrated circuit device is more preferable.

回路基板としては、例えば、片面または両面プリント回路基板、多層プリント回路基板などが挙げられる。回路基板には、フレキシブル基板、リジッド基板、これらを組み合わせたフレックス・リジッド基板などがある。   Examples of the circuit board include a single-sided or double-sided printed circuit board and a multilayer printed circuit board. The circuit board includes a flexible board, a rigid board, and a flex / rigid board obtained by combining these.

図3及び4に、本発明のコネクタを回路基板に固定した導電接続構造体の一例の断面図を示す。図3に示すように、本発明のコネクタ3を回路基板4の上に配置する。回路基板4は、回路基板本体301の片面に電極302が配置され、他面には、ハンダボールなどの外部端子(外部電極)304が配置されており、電極302と外部端子304とは、回路303により接続されている。   3 and 4 are sectional views showing an example of a conductive connection structure in which the connector of the present invention is fixed to a circuit board. As shown in FIG. 3, the connector 3 of the present invention is disposed on a circuit board 4. The circuit board 4 has an electrode 302 disposed on one surface of a circuit board body 301 and an external terminal (external electrode) 304 such as a solder ball disposed on the other surface. 303 is connected.

回路基板4を固定しておき、コネクタ3上面から加圧または加熱加圧すると、図4に示すように、コネクタの突出した機能部105が圧縮されて、回路基板の電極領域に密着するとともに、コネクタの粘着剤層106により該コネクタが回路基板の表面に固定される。コネクタの導通部(筒状電極)は、機能部の圧縮により、回路基板の電極と強く接触し、確実な電気的接続が達成される。つまり、コネクタと回路基板とが粘着剤層により固定された構造の導電接続構造体5が得られる。この導電接続構造体は、コネクタ部の表面に、例えば、電子部品を載置することができる。コネクタの各導通部(電極)と電子部品の各電極とが導通可能なように、位置関係を調整して両者を配置する。電子部品は、コネクタの有する弾性と応力緩和機能によって、衝撃等から保護されるとともに、コネクタの有する導通機能によって回路基板と電気的に接続される。   When the circuit board 4 is fixed and pressurized or heated and pressurized from the upper surface of the connector 3, as shown in FIG. 4, the protruding functional portion 105 of the connector is compressed and closely contacts the electrode area of the circuit board. The connector is fixed to the surface of the circuit board by the adhesive layer 106 of the connector. The conductive portion (cylindrical electrode) of the connector is brought into strong contact with the electrode of the circuit board by the compression of the functional portion, so that reliable electrical connection is achieved. That is, the conductive connection structure 5 having a structure in which the connector and the circuit board are fixed by the adhesive layer is obtained. For example, an electronic component can be placed on the surface of the connector portion of the conductive connection structure. Both are arranged by adjusting the positional relationship so that each conductive portion (electrode) of the connector and each electrode of the electronic component can conduct. The electronic component is protected from impact and the like by the elasticity and stress relaxation function of the connector, and is electrically connected to the circuit board by the conduction function of the connector.

コネクタは、ICチップなどの電子部品に、該コネクタの電極及び/または回路と該電子部品の電極とが電気的に接続可能な状態で、前記粘着剤層によって固定することにより、導電接続構造体を作製することもできる。   The connector is fixed to the electronic component such as an IC chip by the adhesive layer in a state where the electrode and / or circuit of the connector and the electrode of the electronic component can be electrically connected to each other. Can also be produced.

5.プローブ部材:
本発明のコネクタは、電子部品または回路基板の電気的検査に用いられる検査装置の検査用回路基板に、該コネクタの電極及び/または回路と該検査用回路基板の表面に配置された検査用電極とが電気的に接続可能な状態で、前記粘着剤層によって固定することにより、プローブ部材を作製することができる。
5). Probe member:
The connector of the present invention is provided on an inspection circuit board of an inspection apparatus used for electrical inspection of an electronic component or a circuit board, and an electrode for the connector and / or a circuit and an inspection electrode disposed on the surface of the inspection circuit board. And the probe member can be manufactured by fixing with the pressure-sensitive adhesive layer in a state where can be electrically connected.

検査装置は、通常、検査対象である電子部品(例えば、ICチップなどの半導体集積回路装置)または回路基板(例えば、プリント回路基板)の被検査電極のパターンに対応するパターンに従って、検査用電極が表面に形成された検査用回路基板を有している。ただし、電子部品の電極がファインピッチ化するのに対応して、検査用回路基板との間にピッチ変換ボードを配置する場合があるが、このような場合には、検査溶解炉基板の電極のパターンは、検査対象である電子部品または回路基板の被検査電極のパターンとはピッチが異なることがある。   In general, an inspection apparatus has an inspection electrode according to a pattern corresponding to a pattern of an inspection target electrode of an electronic component to be inspected (for example, a semiconductor integrated circuit device such as an IC chip) or a circuit board (for example, a printed circuit board). An inspection circuit board is formed on the surface. However, there is a case where a pitch conversion board is arranged between the electronic component electrode and the circuit board for inspection corresponding to the fine pitch of the electrode. In such a case, the electrode of the inspection melting furnace substrate is arranged. The pattern may have a pitch different from the pattern of the electronic component to be inspected or the inspected electrode of the circuit board.

図5は、本発明のプローブ部材の一例を示す断面図である。電子部品などの電気的試験に用いる検査装置504は、検査用回路基板501を備えている。検査用回路基板501の表面には、検査用電極502が配置されており、該検査用電極502は、リード線やボンディングワイヤ503によって検査装置に電気的に接続されている。この検査用回路基板501の電極が存在する表面に、本発明のコネクタを配置して加圧または加熱加圧すると、コネクタの突出した機能部105が圧縮されるとともに、粘着剤層106によってコネクタが検査用回路基板の表面に固定される。これによって、本発明のプローブ部材6が得られる。該プローブ部材6は、検査装置504に電気的に接続される。   FIG. 5 is a cross-sectional view showing an example of the probe member of the present invention. An inspection device 504 used for an electrical test of electronic components or the like includes an inspection circuit board 501. An inspection electrode 502 is disposed on the surface of the inspection circuit board 501, and the inspection electrode 502 is electrically connected to an inspection apparatus by a lead wire or a bonding wire 503. When the connector of the present invention is placed on the surface of the circuit board 501 for inspection and the connector of the present invention is pressed or heated and pressed, the protruding functional portion 105 of the connector is compressed and the adhesive layer 106 causes the connector to be connected. Fixed to the surface of the circuit board for inspection. Thereby, the probe member 6 of the present invention is obtained. The probe member 6 is electrically connected to the inspection device 504.

以下に実施例を挙げて、本発明についてより具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例のみに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

[実施例1]
気孔率(ASTM−D−792)60%、平均孔径0.1μm、バブルポイント(イソプロピルアルコールを使用し、ASTM−F−316−76に従って測定)が150kPa、厚み600μmの延伸多孔質PTFE膜からなる基膜の両面に、気孔率60%、平均孔径0.1μm、厚み30μmの延伸多孔質PTFEシートを重ね合わせて、厚さ3mmのステンレス板2枚の間に挟み、ステンレス板による荷重を負荷するとともに、350℃で30分間加熱処理した。加熱後、ステンレス板の上から水にて急冷し、3層に融着された多孔質PTFE膜の積層体を得た。
[Example 1]
It consists of an expanded porous PTFE membrane having a porosity (ASTM-D-792) of 60%, an average pore diameter of 0.1 μm, a bubble point (measured in accordance with ASTM-F-316-76 using isopropyl alcohol) of 150 kPa and a thickness of 600 μm. A stretched porous PTFE sheet having a porosity of 60%, an average pore diameter of 0.1 μm, and a thickness of 30 μm is superposed on both surfaces of the base film, and sandwiched between two 3 mm thick stainless steel plates, and a load from the stainless steel plate is applied. At the same time, heat treatment was performed at 350 ° C. for 30 minutes. After heating, it was quenched with water from the top of the stainless steel plate to obtain a laminate of porous PTFE membranes fused in three layers.

上記のようにして得られた多孔質PTFE基材を10mm角に切り取った。予め、複数の導通部が10mm角に切り取った試料の中央部に配置されるように設計した。この試料を加熱プレス(加熱温度250℃、圧力5MPa、プレス時間10分)して、高さが400μmで幅が2mmの段差部を形成した。   The porous PTFE substrate obtained as described above was cut into a 10 mm square. A plurality of conducting portions were designed in advance so as to be arranged at the center of a sample cut into a 10 mm square. This sample was heated and pressed (heating temperature 250 ° C., pressure 5 MPa, pressing time 10 minutes) to form a step portion having a height of 400 μm and a width of 2 mm.

次いで、開口率9%、開口径15μmφ、ピッチ80μmで均等配列に開口したタングステンシート(マスク)を積層体の片面に重ねて、シンクロトロン放射光を照射して、膜厚さ方向へ孔径15μmφ、80μmピッチで均等に配置された複数の貫通孔を形成した。   Next, a tungsten sheet (mask) having an aperture ratio of 9%, an aperture diameter of 15 μmφ, and a pitch of 80 μm, arranged in a uniform arrangement is stacked on one side of the laminate, and irradiated with synchrotron radiation to have a hole diameter of 15 μmφ in the film thickness direction. A plurality of through holes arranged uniformly at a pitch of 80 μm were formed.

15μmφの貫通孔を形成した積層体をエタノールに1分間浸漬して親水化した後、100ml/Lに希釈したメルテックス(株)製メルプレートPC−321に、60℃の温度で4分間浸漬し脱脂処理を行った。さらに、積層体を10%硫酸に1分間浸漬した後、プレディップとして、0.8%塩酸にメルテックス(株)製エンプレートPC−236を180g/Lの割合で溶解した液に2分間浸漬した。   The laminate with 15 μmφ through-holes made hydrophilic by immersing in ethanol for 1 minute, and then immersed in Melplate PC-321 made by Meltex for 4 minutes at a temperature of 60 ° C. diluted to 100 ml / L. Degreasing treatment was performed. Further, after immersing the laminate in 10% sulfuric acid for 1 minute, as a pre-dip, immersed in 0.8% hydrochloric acid for 2 minutes in a solution of Meltex Co., Ltd. Enplate PC-236 dissolved at a rate of 180 g / L. did.

さらに、積層体を、メルテックス(株)製エンプレートアクチベータ444を3%、エンプレートアクチベータアディティブを1%、塩酸を3%溶解した水溶液にメルテックス(株)製エンプレートPC−236を150g/Lの割含で溶解した液に5分間浸漬して、触媒粒子を積層体の表面及び貫通孔の壁面に付着させた。次に、積層体をメルテックス(株)製エンプレートPA−360の5%溶液に5分間浸漬し、パラジウム触媒核の活性化を行った。その後、第1層と第3層のマスク層を剥離して、貫通孔の内壁面のみに触媒パラジウム粒子が付着した多孔質PTFE膜を得た。   Further, the laminate was prepared by adding 150% of Enplate PC-236 manufactured by Meltex Co., Ltd. in an aqueous solution prepared by dissolving 3% of Enplate Activator 444 manufactured by Meltex Co., Ltd., 1% of Enplate Activator Additive, and 3% of hydrochloric acid. The catalyst particles were adhered to the surface of the laminate and the wall surface of the through hole by immersing in a solution dissolved with the inclusion of L for 5 minutes. Next, the laminate was immersed in a 5% solution of Enplate PA-360 manufactured by Meltex Co., Ltd. for 5 minutes to activate the palladium catalyst nucleus. Thereafter, the first and third mask layers were peeled off to obtain a porous PTFE membrane having catalytic palladium particles attached only to the inner wall surface of the through hole.

メルテックス(株)製メルプレートCu−3000A、メルプレートCu−3000B、メルプレートCu−3000C、メルプレートCu−3000Dをそれぞれ5%、メルプレートCu−3000スタビライザーを0.1%で建浴した無電解銅めっき液に、十分エアー撹拌を行いながら、上記多孔質PTFE膜を20分間浸漬して、15μmφの貫通孔の壁面のみを銅粒子にて導電化した(電極の外径=25μm)。さらに、5ml/Lで建浴したメルテックス(株)製エンテックCu−56に30秒間浸漬して、防錆処理して、多孔質PTFE膜を基膜とし、膜厚方向に貫通する導電部(筒状電極)を形成した多孔質PTFE基材を得た。   Meltex Co., Ltd. Melplate Cu-3000A, Melplate Cu-3000B, Melplate Cu-3000C, Melplate Cu-3000D are each 5%, and Melplate Cu-3000 Stabilizer is 0.1%. The porous PTFE membrane was immersed in an electrolytic copper plating solution for 20 minutes with sufficient air stirring, and only the wall surface of the 15 μmφ through hole was made conductive with copper particles (electrode outer diameter = 25 μm). Furthermore, it was immersed in Entex Cu-56 manufactured by Meltex Co., Ltd., which was built at 5 ml / L for 30 seconds, treated to prevent rust, and a conductive part (through a porous PTFE film as a base film) penetrating in the film thickness direction ( A porous PTFE base material on which a cylindrical electrode) was formed was obtained.

めっき工程において、無電解鋼めっきのプレディップ工程と触媒付与工程の間以外の各液浸漬後は、蒸留水にて30秒間から1分間程度水洗を行った。各液の温度は、脱脂処理を除いて全て常温(20〜30℃)で行った。   In the plating process, after immersion in each liquid other than between the pre-dip process and the catalyst application process of electroless steel plating, the plate was washed with distilled water for about 30 seconds to 1 minute. The temperature of each solution was all normal temperature (20-30 degreeC) except the degreasing process.

段差部に、アクリル系粘着剤(アクリル酸2−エチルヘキシル/アクリル酸メチル/無水マレイン酸共重合体=78/20/2重量比)の酢酸エチル溶液(溶剤70%)を100μm厚になるよう塗布し、乾燥して、厚み20〜30μmの粘着剤層を形成した。   Applying an ethyl acetate solution (70% solvent) of acrylic pressure-sensitive adhesive (2-ethylhexyl acrylate / methyl acrylate / maleic anhydride copolymer = 78/20/2 weight ratio) to the stepped part to a thickness of 100 μm And dried to form an adhesive layer having a thickness of 20 to 30 μm.

このようにして得られた延伸多孔質PTFE基材からなるコネクタは、機能部に荷重を加えると圧縮し、荷重を除去すると元の形状に弾性回復することが確認された。このコネクタを、検査装置の検査用回路基板表面に形成した検査用電極領域の上に載置し、各検査用電極とコネクタの各導通部(筒状電極)とが接続するように位置関係を調整して、加圧し圧着した。   It was confirmed that the connector made of the stretched porous PTFE base material thus obtained was compressed when a load was applied to the functional part, and elastically recovered to the original shape when the load was removed. This connector is placed on the inspection electrode area formed on the surface of the inspection circuit board of the inspection apparatus, and the positional relationship is established so that each inspection electrode and each conductive portion (tubular electrode) of the connector are connected. Adjust, pressurize and crimp.

このようにして得られたプローブ部材を有する検査装置により、半導体チップの導通検査を50回以上繰り返したが、コネクタの脱落や破損、変形が認められなかった。また、プローブ部材からコネクタを剥がしたところ、下層の検査用回路基板に損傷などの不具合は認められなかった。   With the inspection apparatus having the probe member thus obtained, the semiconductor chip continuity inspection was repeated 50 times or more, but no dropout, breakage, or deformation of the connector was observed. Further, when the connector was peeled off from the probe member, no problems such as damage were found in the underlying circuit board for inspection.

本発明のコネクタは、応力緩和機能と電気的接続機能(例えば、異方導電性)を有しているため、例えば、電子部品と回路装置との間に配置して使用することができる。また、本発明のコネクタは、電子部品等の検査装置の検査用回路基板に固定することにより、応力緩和機能と電気的接続機能を有するプローブ部材を構成することができる。   Since the connector of the present invention has a stress relaxation function and an electrical connection function (for example, anisotropic conductivity), it can be used by being disposed between an electronic component and a circuit device, for example. Moreover, the connector of this invention can comprise the probe member which has a stress relaxation function and an electrical connection function by fixing to the circuit board for a test | inspection of test | inspection apparatuses, such as an electronic component.

本発明のコネクタの一例の製造工程を示すフロー図である。It is a flowchart which shows the manufacturing process of an example of the connector of this invention. 本発明のコネクタにおける機能部の高さと段差部の高さと粘着剤層の厚みとの関係を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the relationship between the height of the function part in the connector of this invention, the height of a level | step-difference part, and the thickness of an adhesive layer. 本発明のコネクタの回路基板への固定方法を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the fixing method to the circuit board of the connector of this invention. 本発明のコネクタを回路基板に固定した導電接続構造体の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the conductive connection structure which fixed the connector of this invention to the circuit board. 本発明のコネクタを検査装置の検査用回路基板に固定したプローブ部材の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the probe member which fixed the connector of this invention to the circuit board for an inspection of an inspection apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1 多孔質樹脂基材
2 段差部を有する多孔質樹脂基材
3 段差部の面上に粘着剤層が設けられた多孔質樹脂基材(コネクタ)
4 回路基板
5 コネクタと回路基板とからなる導電接続構造体
6 コネクタと検査用回路基板とからなるプローブ部材
101 多孔質樹脂膜
102 貫通孔
103 導通部(筒状電極)
104 段差部
105 機能部
106 粘着剤層
301 回路基板
302 外部電極
303 回路
304 外部端子(外部電極)
501 検査用回路基板
502 検査用電極
503 リード線
504 検査装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Porous resin base material 2 Porous resin base material which has a level difference part 3 Porous resin base material (connector) by which the adhesive layer was provided on the surface of the level difference part
DESCRIPTION OF SYMBOLS 4 Circuit board 5 Conductive connection structure which consists of connector and circuit board 6 Probe member which consists of connector and circuit board for a test | inspection 101 Porous resin film 102 Through-hole 103 Conducting part (tubular electrode)
104 Step part 105 Function part 106 Adhesive layer 301 Circuit board 302 External electrode 303 Circuit 304 External terminal (external electrode)
501 Circuit board for inspection 502 Electrode for inspection 503 Lead wire 504 Inspection device

Claims (5)

多孔質樹脂膜に電極及び/または回路を有する機能部が設けられた多孔質樹脂基材からなるコネクタであって、該多孔質樹脂膜の前記機能部を取り巻く周辺部に該機能部の高さより低い高さの段差部が形成され、かつ、該段差部の面上に段差の高さより小さい厚みを有する粘着剤層が設けられた構造を有することを特徴とするコネクタ。   A connector comprising a porous resin base material in which a functional part having an electrode and / or a circuit is provided on a porous resin film, wherein the peripheral part surrounding the functional part of the porous resin film has a height higher than the functional part. A connector having a structure in which a step portion having a low height is formed and an adhesive layer having a thickness smaller than the height of the step is provided on the surface of the step portion. 該多孔質樹脂基材が、多孔質フッ素樹脂膜に電極及び/または回路を有する機能部が設けられた多孔質フッ素樹脂基材である請求項1記載のコネクタ。   The connector according to claim 1, wherein the porous resin base material is a porous fluororesin base material in which a functional part having an electrode and / or a circuit is provided on a porous fluororesin film. 該多孔質フッ素樹脂基材が、多孔質フッ素樹脂膜の厚み方向に複数の貫通孔が設けられ、該貫通孔の内壁面に導電性金属の付着による筒状電極が形成された異方性導電膜である請求項2記載のコネクタ。   The porous fluororesin base material is provided with a plurality of through holes in the thickness direction of the porous fluororesin film, and an anisotropic conductive material in which a cylindrical electrode is formed on the inner wall surface of the through holes by adhesion of a conductive metal. The connector according to claim 2, wherein the connector is a membrane. 請求項1乃至3のいずれか1項に記載のコネクタが、表面に電極が配置された電子部品または回路基板に、該コネクタの電極及び/または回路と該電子部品もしくは回路基板の電極とが電気的に接続可能な状態で、前記粘着剤層によって固定されている導電接続構造体。   The connector according to any one of claims 1 to 3, wherein an electrode and / or circuit of the connector and an electrode of the electronic component or circuit board are electrically connected to an electronic component or circuit board having electrodes disposed on the surface. The conductive connection structure fixed by the pressure-sensitive adhesive layer in a state in which connection is possible. 請求項1乃至3のいずれか1項に記載のコネクタが、電子部品または回路基板の電気的検査に用いられる検査装置の検査用回路基板に、該コネクタの電極及び/または回路と該検査用回路基板の表面に配置された検査用電極とが電気的に接続可能な状態で、前記粘着剤層によって固定されているプローブ部材。   The connector according to any one of claims 1 to 3, wherein an electrode and / or circuit of the connector and a circuit for inspection are provided on a circuit board for inspection of an inspection device used for electrical inspection of an electronic component or a circuit board. A probe member fixed by the pressure-sensitive adhesive layer in a state where it can be electrically connected to an inspection electrode disposed on the surface of the substrate.
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