JP2007207655A - 有機ｅｌディスプレイ - Google Patents

Abstract

【課題】 ディスプレイ内部での光の反射を抑制し、光の利用効率が高い有機ＥＬディスプレイを提供する。
【解決手段】 有機ＥＬディスプレイを、電極間に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子と、この有機ＥＬ素子の一方の面側に配設された透明基材と、この透明基材の光取出し面側に位置する低屈折率膜とを備えたものとし、この低屈折率膜の屈折率を、透明基材の屈折率よりも小さく、空気の屈折率よりも大きいものとする。
【選択図】 図１

Description

本発明は、有機発光ディスプレイに係り、特に有機ＥＬディスプレイに関する。

有機のエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子を用いた有機ＥＬディスプレイは、自発光により視認性が高いこと、液晶ディスプレイと異なり全固体ディスプレイであること、温度変化の影響をあまり受けないこと、視野角が大きいこと等の利点をもっており、近年、フルカラー表示装置、エリアカラー表示装置、照明等の有機発光ディスプレイとして実用化が進んでいる。
有機ＥＬディスプレイとしては、例えば、（１）三原色の有機ＥＬ素子を各発光色毎に所定のパターンで配列する方式、（２）白色発光の有機ＥＬ素子を使用し、三原色のカラーフィルタ層を介して表示する方式、（３）青色発光の有機ＥＬ素子を使用し、蛍光色素を利用した色変換蛍光体層（ＣＣＭ層）を設置して、青色光を緑色蛍光や赤色蛍光に変換して三原色表示をするＣＣＭ方式等が提案されている。

このような有機ＥＬディスプレイでは、有機ＥＬ素子から出た光が、例えば、カラーフィルタ層や、色変換蛍光体層（ＣＣＭ層）、透明基材等の積層構造を透過して、観察者に表示光として認識される。
しかし、透明基材と空気との界面に、大きな入射角（臨界角以上の入射角）で透明基材側から入射した光は、上記の界面で全反射され、有機ＥＬ素子を構成する積層構造内を伝搬してしまい表示に供されないものとなる。すなわち、有機ＥＬ素子から出た光の利用効率が低いという問題があった。
上記のようなディスプレイ内部での反射を防止するために、カラーフィルタ層や色変換蛍光体層の表面を粗面化することが行われている。（特許文献１）

また、光の波長以下のピッチで複数の微細凹凸が形成された凹凸部を有する反射防止フィルムが開発されており、この反射防止フィルムを各種ディスプレイの表面に配置することにより、外光の反射を防止できることが知られている（特許文献２）。
特開２００４−２５８５８６号公報 特開２００１−２６４５２０号公報

しかし、上記の粗面化を目的として、微粒子を配合した層を塗布等によりカラーフィルタ層や色変換蛍光体層の表面に積層すると、入射光の乱反射が生じ、有機ＥＬ素子から出た光の一部が失われて、有機ＥＬ素子から出た光の利用効率（カラーフィルタ層や色変換蛍光体層への光の入射効率）が低下することになる。また、一定の粗面を形成するための工程管理が難しいという問題もあった。
一方、上述のような凹凸部を有する反射防止フィルムをディスプレイの表面に配設した場合、外光反射が防止されて、ディスプレイからの映像光を明瞭に認識することは可能である。しかし、ディスプレイ内部での反射を防止して、有機ＥＬ素子から出た光の利用効率を向上させることは困難であった。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、ディスプレイ内部での光の反射を抑制し、光の利用効率が高い有機ＥＬディスプレイを提供することを目的とする。

このような目的を達成するために、本発明は、電極間に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子と、該有機ＥＬ素子の一方の面側に配設された透明基材と、該透明基材の光取出し面側に位置する低屈折率膜とを備え、該低屈折率膜の屈折率は前記透明基材の屈折率よりも小さく、空気の屈折率よりも大きいものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記低屈折率膜は、前記透明基材側から外側に向けて屈折率が小さくなるような多層構造であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記透明基材の前記有機ＥＬ素子側にカラーフィルタ層を有するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記透明基材の前記有機ＥＬ素子側に色変換蛍光体層を有するような構成とした。

本発明の他の態様として、前記透明基材と前記色変換蛍光体層との間にカラーフィルタ層を有するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記発光層は三原色の各発光層が所望のパターンで配列されたものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記発光層は白色の発光層であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記発光層は青色の発光層であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記低屈折率膜は、真空成膜法により成膜したものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記有機ＥＬ素子がアクティブマトリックス駆動方式のものであるような構成とした。

本発明の他の態様として、前記アクティブマトリックス駆動方式を構成する対向した電極のうち、駆動素子を備えた電極側に前記透明基材が位置するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記アクティブマトリックス駆動方式を構成する対向した電極のうち、駆動素子を備えていない電極側に前記透明基材が位置するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記有機ＥＬ素子がパッシブマトリックス駆動方式のものであるような構成とした。

本発明の有機ＥＬディスプレイでは、透明基材の光取り出し面に低屈折率膜が存在するので、透明基材と空気との界面に対して大きな入射角で入射した光の全反射が抑制され、有機ＥＬ素子から出た光のディスプレイ内部での損失が大幅に低減され、光の利用効率が極めて高いものとなり、かつ、外光反射も防止されて、明瞭な表示が可能である。

以下、本発明について図面を参照しながら説明する。
［第１の形態］
図１は、本発明の有機ＥＬディスプレイの一実施形態を示す概略構成図である。図１に示されるように、本発明の有機ＥＬディスプレイ１は、有機ＥＬ素子２と、この有機ＥＬ素子２の一方の面側に配設された透明基材３と、この透明基材３の光取出し面３ａ側に配設された低屈折率膜４とを備えている。
有機ＥＬディスプレイ１を構成する有機ＥＬ素子２は、三原色の有機ＥＬ素子２Ｒ，２Ｇ，２Ｂが所定のパターンで配列したものである。
有機ＥＬディスプレイ１を構成する低屈折率膜４は、その屈折率が透明基材３の屈折率よりも小さく、空気の屈折率よりも大きいものである。

このような有機ＥＬディスプレイ１では、透明基材３と空気との間に低屈折率膜４が存在するので、透明基材３の光取出し面３ａが直接空気と接している場合に比べ、透明基材３の光取出し面３ａで全反射が生じる臨界角は大きなものとなる。したがって、有機ＥＬ素子２から出た光の有機ＥＬディスプレイ１内部での損失が大幅に低減され、光の利用効率が極めて高いものとなる。
尚、透明基材３は、三原色の有機ＥＬ素子２Ｒ，２Ｇ，２Ｂの境界部位に対応したパターン形状のブラックマトリックスを有機ＥＬ素子２側に備えたものであってもよい。

［第２の形態］
図２は、本発明の有機ＥＬディスプレイの他の実施形態を示す概略構成図である。図２に示される有機ＥＬディスプレイ１′は、有機ＥＬ素子２と、この有機ＥＬ素子２の一方の面側に配設されたカラーフィルタ層５、透明基材３と、この透明基材３の光取出し面３ａ側に配設された低屈折率膜４とを備えている。
この有機ＥＬディスプレイ１′は、有機ＥＬ素子２Ｒ，２Ｇ，２Ｂに対応した三原色の着色層５Ｒ，５Ｇ，５Ｂからなるカラーフィルタ層５と、着色層５Ｒ，５Ｇ，５Ｂの境界部位に対応したパターン形状のブラックマトリックス７を備えている他は、上述の有機ＥＬディスプレイ１と同様である。尚、有機ＥＬディスプレイ１と同様の部材には、同じ部材番号を付している。

このような有機ＥＬディスプレイ１′においても、透明基材３と空気との間に低屈折率膜４が存在するので、透明基材３の光取出し面３ａが直接空気と接している場合に比べ、透明基材３の光取出し面３ａで全反射が生じる臨界角は大きなものとなり、これにより、有機ＥＬ素子２から出た光の有機ＥＬディスプレイ１内部での損失が大幅に低減され、光の利用効率が極めて高いものとなる。

［第３の形態］
図３は、本発明の有機ＥＬディスプレイの他の実施形態を示す概略構成図である。図３に示される有機ＥＬディスプレイ１１は、有機ＥＬ素子１２と、この有機ＥＬ素子１２の一方の面側に配設されたカラーフィルタ層１５、透明基材１３と、この透明基材１３の光取出し面１３ａ側に配設された低屈折率膜１４とを備えている。
有機ＥＬディスプレイ１１を構成する有機ＥＬ素子１２は、白色発光の有機ＥＬ素子である。
有機ＥＬディスプレイ１１を構成する低屈折率膜１４は、上述の有機ＥＬディスプレイ１を構成する低屈折率膜４と同様に、その屈折率が透明基材１３の屈折率よりも小さく、空気の屈折率よりも大きいものである。

有機ＥＬディスプレイ１１を構成するカラーフィルタ層１５は、三原色の着色層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂが所望のパターンで配列されたものであり、着色層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの境界部位にはブラックマトリックス１７が配設されている。
このような有機ＥＬディスプレイ１１では、透明基材１３と空気との間に低屈折率膜１４が存在するので、透明基材１３の光取出し面１３ａが直接空気と接している場合に比べ、透明基材１３の光取出し面１３ａで全反射が生じる臨界角は大きなものとなる。したがって、有機ＥＬ素子１２から出た光の有機ＥＬディスプレイ１１内部での損失が大幅に低減され、光の利用効率が極めて高いものとなる。

［第４の形態］
図４は、本発明の有機ＥＬディスプレイの他の実施形態を示す概略構成図である。図４に示される有機ＥＬディスプレイ２１は、有機ＥＬ素子２２と、この有機ＥＬ素子２２の一方の面側に配設された色変換蛍光体層２６、透明基材２３と、この透明基材２３の光取出し面２３ａ側に配設された低屈折率膜２４とを備えている。
有機ＥＬディスプレイ２１を構成する有機ＥＬ素子２２は、青色発光の有機ＥＬ素子である。
有機ＥＬディスプレイ２１を構成する低屈折率膜２４は、上述の有機ＥＬディスプレイ１を構成する低屈折率膜４と同様に、その屈折率が透明基材２３の屈折率よりも小さく、空気の屈折率よりも大きいものである。

有機ＥＬディスプレイ２１を構成する色変換蛍光体層２６は、青色光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層２６Ｒ、青色光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層２６Ｇ、青色光をそのまま透過する青色変換ダミー層２６Ｂが所望のパターンで配列されたものであり、各層２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂの境界部位には、ブラックマトリックス２７を備えている。
このような有機ＥＬディスプレイ２１では、透明基材２３と空気との間に低屈折率膜４が存在するので、透明基材２３の光取出し面２３ａが直接空気と接している場合に比べ、透明基材２３の光取出し面２３ａで全反射が生じる臨界角は大きなものとなる。したがって、有機ＥＬ素子２２から出た光の有機ＥＬディスプレイ２１内部での損失が大幅に低減され、光の利用効率が極めて高いものとなる。

［第５の形態］
図５は、本発明の有機ＥＬディスプレイの他の実施形態を示す概略構成図である。図５に示される有機ＥＬディスプレイ２１′は、有機ＥＬ素子２２と、この有機ＥＬ素子２２の一方の面側に配設された色変換蛍光体層２６、カラーフィルタ層２５、透明基材２３と、この透明基材２３の光取出し面２３ａ側に配設された低屈折率膜２４とを備えている。
この有機ＥＬディスプレイ２１′は、色変換蛍光体層２６を構成する各層２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂに対応した三原色の着色層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂからなるカラーフィルタ層２５を備えている他は、上述の有機ＥＬディスプレイ２１と同様である。尚、有機ＥＬディスプレイ２１と同様の部材には、同じ部材番号を付している。

このような有機ＥＬディスプレイ２１′においても、透明基材２３と空気との間に低屈折率膜４が存在するので、透明基材２３の光取出し面２３ａが直接空気と接している場合に比べ、透明基材２３の光取出し面２３ａで全反射が生じる臨界角は大きなものとなり、これにより、有機ＥＬ素子２２から出た光の有機ＥＬディスプレイ２１内部での損失が大幅に低減され、光の利用効率が極めて高いものとなる。
本発明の有機ＥＬディスプレイは、上述の実施形態に限定されるものではない。例えば、有機ＥＬ素子２，１２，２２と他の層との間にガスバリアー層を有するものであってもよい。

次に、本発明の有機ＥＬディスプレイの各構成部材について説明する。
［低屈折率膜］
本発明の有機ＥＬディスプレイを構成する低屈折率膜４，１４，２４は、上述のように、その屈折率が透明基材３，１３，２３の屈折率よりも小さく、空気の屈折率よりも大きいものである。このような低屈折率膜としては、例えば、ＳｉＯ、ＳｉＯ_x（ｘは１＜ｘ≦２の範囲）、ＳｉＯＮ等の酸化ケイ素系（屈折率は１．４〜１．５程度）、ＣａＦ₂（屈折率１．４）、ＮａＦ（屈折率１．３２）、ＬｉＦ（屈折率１．３９）、ＭｇＦ₂（屈折率１．３７）等の無機材料からなる低屈折率膜、シリコン系樹脂（屈折率１．４〜１．５）、フッ素樹脂（屈折率１．３０〜１．４５）等の有機材料からなる低屈折率膜とすることができる。低屈折率膜４，１４，２４の屈折率と透明基材３，１３，２３の屈折率との差は、０．０５〜０．８程度、低屈折率膜４，１４，２４の屈折率と空気の屈折率との差は、０．１〜０．５程度とすることができる。

また、低屈折率膜は、上記の材料を２種以上用いた多層構造であってもよく、この場合、透明基材側から外側（光取出し方向）に向けて屈折率が小さくなるように設定する。
このような低屈折率膜４，１４，２４は、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等の真空成膜法により形成することができる。低屈折率膜４，１４，２４の厚みは特に制限がなく、例えば、５０〜５０００Åの範囲で設定することができる。

［有機ＥＬ素子］
本発明の有機ＥＬディスプレイを構成する有機ＥＬ素子２，１２，２２は、基本的に、１対の電極と、この電極間に位置する発光層とを少なくとも有している。また、有機ＥＬ素子の駆動方式は、パッシブマトリックス、アクティブマトリックスのいずれであってもよい。
図６は、アクティブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ素子２の例を示す概略構成図である。図６において、有機ＥＬ素子２は、透明基材３１と、１対の電極３２，３４と、この電極３２，３４間に挟持された有機ＥＬ発光層３３を備えている。尚、有機ＥＬ素子１２，２２についても同様である。

透明基材３１は、有機ＥＬ発光層３３からの光を図６の矢印ａ方向に取り出すボトム・エミッションの場合には、有機ＥＬ発光層３３からの光を観察者が容易に視認することができる程度の透明性を有するものである。また、有機ＥＬ発光層３３からの光を図６の矢印ｂ方向に取り出すトップ・エミッションの場合には、透明基材３１に替えて不透明な基材を使用してもよい。いずれの場合も、有機ＥＬ素子２の両面のうち、有機ＥＬ発光層３３からの光の取り出し方向の面に、上述の透明基材３等が配設される。
透明基材３１（これに替わる不透明な基材も含む）としては、ガラス材料、樹脂材料、または、これらの複合材料からなるもの、例えば、ガラス板に保護プラスチックフィルムもしくは保護プラスチック層を設けたもの等が用いられる。

上記の樹脂材料、保護プラスチック材料としては、例えば、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエステル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、液晶性ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオキシメチレン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアクリレート、アクリロニトリル−スチレン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂、非晶質ポリオレフィン等が挙げられる。この他の樹脂材料であっても、有機ＥＬディスプレイ用として使用できる高分子材料であれば、使用可能である。
透明基材３１の厚さは、通常、５０μｍ〜２．０ｍｍ程度である。

このような透明基材３１は、有機ＥＬディスプレイの用途にもよるが、水蒸気や酸素等のガスバリアー性の良好なものであれば更に好ましい。また、透明基材３１に、水蒸気や酸素等のガスバリアー層を形成してもよい。このようなガスバリアー層としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機酸化物をスパッタリング法や真空蒸着法等の物理蒸着法により形成したものであってよい。
電極３２は画素電極であり、透明基材３１上に形成された図示しない信号線、走査線、と、駆動素子であるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）４１とともに、電極配線パターンを構成するものである。そして、この電極３２は、有機ＥＬ発光層３３からの光を図６の矢印ａ方向に取り出すボトム・エミッションの場合には、透明電極（画素電極）となり、図６の矢印ｂ方向に取り出すトップ・エミッションの場合には、透明、不透明いずれの電極（画素電極）であってもよい。

このような電極３２は、通常の有機ＥＬディスプレイに使用されるものであれば特に限定されず、金属、合金、これらの混合物等を使用することができ、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料を挙げることができる。この電極３２が正孔を注入するための電極である場合、正孔が注入し易いように、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）透明、または半透明材料であるＩＴＯ、ＩＺＯ、酸化インジウム、金が好ましい。また、電極３２は、シート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、材質にもよるが、その厚みは、例えば、０．００５〜１μｍ程度とすることができる。
一方、電極３４は、共通電極であり、有機ＥＬ発光層３３からの光を、図６の矢印ａ方向に取り出すボトム・エミッションの場合には、透明、不透明いずれであってもよく、図６の矢印ｂ方向に取り出すトップ・エミッションの場合には、透明電極とする。

このような電極３４の材料としては、通常の有機ＥＬディスプレイに使用されるものであれば特に限定されず、上述の電極層３２と同様に、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料、さらに、マグネシウム合金（例えば、ＭｇＡｇ等）、アルミニウムまたはその合金（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等）、銀等を挙げることができる。この電極３４が電子を注入するための電極である場合、電子が注入し易いように仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）マグネシウム合金、アルミニウム、銀等が好ましい。このような電極層３４はシート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、このため、電極層３４の厚みは、例えば、０．００５〜０．５μｍ程度とすることができる。

有機ＥＬ素子２を構成する有機ＥＬ発光層３３は、例えば、電極層３２側から正孔注入層、発光層、および電子注入層が積層された構造、発光層単独からなる構造、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
また、発光波長を調整したり、発光効率を向上させる等の目的で、上記の各層に適当な材料をドーピングすることもできる。
有機ＥＬ発光層３３を構成する発光層は、図１、図２に示す有機ＥＬ素子２では、赤色発光、緑色発光、青色発光の三原色の有機ＥＬ素子２Ｒ，２Ｇ，２Ｂからなっているが、有機ＥＬディスプレイの使用目的等に応じて、所望の発光色（例えば、黄色、水色、オレンジ色）である発光層を単独で、また、赤色発光、緑色発光、青色発光以外の他の複数の発光色の所望の組み合わせ等、いずれであってもよい。また、図３に示す有機ＥＬ素子１２では白色発光、図４、図５に示される有機ＥＬ素子２２では青色発光とする。

有機ＥＬ発光層３３を構成する発光層に用いる有機発光材料としては、例えば、下記のような色素系、金属錯体系、高分子系のものを挙げることができる。
（１）色素系発光材料
シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等が挙げられる。

（２）金属錯体系発光材料
アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポリフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属にＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等、または、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体が挙げられる。

（３）高分子系発光材料
ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリフルオレン誘導体等が挙げられる。
特に、図４、図５に示される有機ＥＬ素子２２において、有機ＥＬ発光層３３に使用する青色発光である有機発光材料としては、例えば、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物、ジスチリルピラジン誘導体、芳香族ジメチリディン系化合物等を挙げることができる。

具体的には、２−２′−（ｐ−フェニレンジビニレン）−ビスヘンゾチアゾール等のベンゾチアゾール系； ２−［２−［４−（２−ベンゾイミダゾリル）フェニル］ビニル］ベンゾイミダゾール、２−［２−（４−カルボキシフェニル）ビニル］ベンゾイミダゾール等のベンゾイミダゾール系； ２，５−ビス（５，７−ジ−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）−１，３，４−チアジアゾール、４，４′−ビス（５，７−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）スチルベン、２−［２−（４−クロロフェニル）ビニル］ナフト［１，２−ｄ］オキサゾール等のベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤を挙げることができる。
また、上記の金属キレート化オキシノイド化合物としては、トリス（８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）マグネシウム、ビス（ベンゾ［ｆ］−８−キノリノール）亜鉛等の８−ヒドロキシキノリン系金属錯体やジリチウムエピントリジオン等を挙げることができる。

また、上記のスチリルベンゼン系化合物としては、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（４−メチルスチリル）ベンゼン、ジスチリルベンゼン、１，４−ビス（２−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−メチルベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−エチルベンゼン等を挙げることができる。
また、上記のジスチリルピラジン誘導体としては、２，５−ビス（４−メチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス（４−エチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ナフチル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス（４−メトキシスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（４−ビフェニル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ピレニル）ビニル］ピラジン等を挙げることができる。

また、上記の芳香族ジメチリディン系化合物としては、１，４−フェニレンジメチリディン、４，４−フェニレンジメチリディン、２，５−キシレンジメチリディン、２，６−ナフチレンジメチリディン、１，４−ビフェニレンジメチリディン、１，４−ｐ−テレフェニレンジメチリディン、９，１０−アントラセンジイルジルメチリディン、４，４′−ビス（２，２−ジ−ｔ−ブチルフェニルビニル）ビフェニル、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル等、およびその誘導体を挙げることができる。
さらに、発光層の材料として、一般式（Ｒｓ−Ｑ）２−ＡＬ−Ｏ−Ｌで表される化合物も挙げることができる（上記式中、ＡＬはベンゼン環を含む炭素原子６〜２４個の炭化水素であり、Ｏ−Ｌはフェニラート配位子であり、Ｑは置換８−キノリノラート配位子であり、Ｒｓはアルミニウム原子に置換８−キノリノラート配位子が２個以上結合するのを立体的に妨害するように選ばれた８−キノリノラート置換基を表す）。具体的には、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（パラーフェニルフェノラート）アルミニウム（III）、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（１−ナフトラート）アルミニウム（III）等が挙げられる。

有機ＥＬ発光層３３の各層に用いるドーピング材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子注入材料等は、下記に例示するような無機材料、有機材料いずれでもよい。有機ＥＬ発光層３３の各層の厚みは特に制限はなく、例えば、１０〜１０００ｎｍ程度とすることができる。
（ドーピング材料）
ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポリフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等が挙げられる。

（正孔輸送材料）
オキサジアゾール系、オキサゾール系、トリアゾール系、チアゾール系、トリフェニルメタン系、スチリル系、ピラゾリン系、ヒドラゾン系、芳香族アミン系、カルバゾール系、ポリビニルカルバゾール系、スチルベン系、エナミン系、アジン系、トリフェニルアミン系、ブタジエン系、多環芳香族化合物系、スチルベン二量体等が挙げられる。
また、π共役系高分子として、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（Ｐ−フェニレン）、ポリ（Ｐ−フェニレンスルフィド）、ポリ（Ｐ−フェニレンオキシド）、ポリ（１，６−ヘプタジエン）、ポリ（Ｐ−フェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレン）、ポリ（２，５−ピロール）、ポリ（ｍ−フェニレンスルフィド）、ポリ（４，４′−ビフェニレン）等が挙げられる。

また、電荷移動高分子錯体として、ポリスチレン・ＡｇＣ１０４、ポリビニルナフタレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルナフタレン・Ｐ−ＣＡ、ポリビニルナフタレン・ＤＤＱ、ポリビニルメシチレン・ＴＣＮＥ、ポリナフタアセチレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルアントラセン・Ｂｒ２、ポリビニルアントラセン・Ｉ２、ポリビニルアントラセン・ＴＮＢ、ポリジメチルアミノスチレン・ＣＡ、ポリビニルイミダゾール・ＣＱ、ポリ−Ｐ−フェニレン・Ｉ２、ポリ−１−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−４−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−Ｐ−１−フェニレン・Ｉ２、ポリビニルピリジウム・ＴＣＮＱ等が挙げられ、さらに、電荷移動低分子錯体として、ＴＣＮＱ−ＴＴＦ等が、高分子金属錯体としては、ポリ銅フタロシアニン等が挙げられる。
正孔輸送材料としては、イオン化ポテンシャルの小さい材料が好ましく、特に、ブタジエン系、エナミン系、ヒドラゾン系、トリフェニルアミン系が好ましい。

（正孔注入材料）
フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー等の誘電性高分子オリゴマー等、を挙げることができる。

さらに、正孔注入材料として、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物を挙げることもできる。上記のポリフィリン化合物としては、ポリフィン、１，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ、２３Ｈ−ポリフィン銅（II）、アルミニウムフタロシアニンクロリド、銅オクタメチルフタロシアニン等を挙げることができる。また、芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］スチルベン、３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン等を挙げることができる。

（電子注入材料）
カルシウム、バリウム、アルミリチウム、フッ化リチウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム、酸化カルシウム、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、上記のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ジスチリルピラジン誘導体等を挙げることができる。

有機ＥＬ発光層３３を構成する各層の形成は、グラビアオフセット印刷やスクリーン印刷法等の印刷方法、フォトマスクを介した真空蒸着法等により成膜して形成することができる。
また、パッシブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ素子の場合には、例えば、上述のＴＦＴ４１や信号線、走査線を設けずに、電極３２を所定方向にストライプ形状に形成し、電極３４を電極３２に直交する方向でストライプ形状に形成することができる。また、パッシブマトリックス駆動方式においても、有機ＥＬ発光層３３からの光の取り出し方向は、上述のボトム・エミッション、トップ・エミッションのいずれであってもよい。
本発明の有機ＥＬディスプレイを構成する有機ＥＬ素子２，１２，２２は、上述の形態に限定されるものではなく、例えば、透明基材３１を備えていないものであってもよい。この場合、例えば、図１に示される例では、透明基材３上に、１対の電極３２，３４と、この電極３２，３４間に挟持された有機ＥＬ発光層３３を、ボトム・エミッション、トップ・エミッションを考慮して積層形成することができる。また、ガスバリアー層を介して有機ＥＬ素子を積層形成してもよい。ガスバリアー層としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機酸化物をスパッタリング法や真空蒸着法等の物理蒸着法により形成したものであってよい。

［透明基材］
透明基材３，１３，２３は、観察者側に設けられ、有機ＥＬ素子からの光を観察者が容易に視認することができる程度の透明性を有するものである。このような透明基材としては、上述の透明基材３１として挙げた透明材料の中から、屈折率を考慮して選択することができる。

［カラーフィルタ層］
カラーフィルタ層５，１５，２５は、有機ＥＬ素子２，１２，２２からの光を色補正したり、色純度を高めるものである。カラーフィルタ層５，１５，２５を構成する赤色着色層５Ｒ，１５Ｒ，２５Ｒ、緑色着色層５Ｇ，１５Ｇ，２５Ｇ、青色着色層５Ｂ，１５Ｂ，２５Ｂは、有機ＥＬ素子２，１２，２２の発光特性に応じて適宜材料を選択することができ、例えば、顔料、顔料分散剤、バインダー樹脂、反応性化合物および溶媒を含有する顔料分散組成物で形成することができる。このようなカラーフィルタ層５，１５，２５の厚みは、各着色層の材料、有機ＥＬ素子２，１２，２２の発光特性等に応じて適宜設定することができ、例えば、１〜３μｍ程度の範囲で設定することができる。

［色変換蛍光体層］
色変換蛍光体層２６は、有機ＥＬ素子２２で発光された青色光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層２６Ｒ、青色光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層２６Ｇ、青色光をそのまま透過する青色変換ダミー層２６Ｂが所望のパターンで配列されたものである。

上記の赤色変換蛍光体層２６Ｒおよび緑色変換蛍光体層２６Ｇは、蛍光色素単体からなる層、あるいは、樹脂中に蛍光色素を含有した層である。青色発光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層２６Ｒに使用する蛍光色素としては、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン等のシアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジウム−パークロレート等のピリジン色素、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、オキサジン系色素等が挙げられる。また、青色発光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層２６Ｇに使用する蛍光色素としては、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジノ（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン、３−（２′−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２′−ベンズイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン等のクマリン色素、ベーシックイエロー５１等のクマリン色素系染料、ソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６等のナフタルイミド色素等が挙げられる。さらに、直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料等の各種染料も蛍光性があれば使用することができる。上述のような蛍光色素は単独、あるいは、２種以上の組み合わせで使用することができる。赤色変換蛍光体層２６Ｒおよび緑色変換蛍光体層２６Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、蛍光色素の含有量は、使用する蛍光色素、色変換蛍光体層の厚み等を考慮して適宜設定することができるが、例えば、使用する樹脂１００重量部に対し０．１〜１重量部程度とすることができる。

また、青色変換ダミー層２６Ｂは、有機ＥＬ素子２２で発光された青色光をそのまま透過するものであり、赤色変換蛍光体層２６Ｒ、緑色変換蛍光体層２６Ｇとほぼ同じ厚みの透明樹脂層とすることができる。
赤色変換蛍光体層２６Ｒおよび緑色変換蛍光体層２６Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明（可視光透過率５０％以上）樹脂を使用することができる。また、色変換蛍光体層２６のパターン形成をフォトリソグラフィー法により行う場合、例えば、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応性ビニル基を有する光硬化型レジスト樹脂を使用することができる。さらに、これらの樹脂は、上述の青色変換ダミー層２６Ｂに使用することができる。

色変換蛍光体層２６を構成する赤色変換蛍光体層２６Ｒと緑色変換蛍光体層２６Ｇは、蛍光色素単体で形成する場合、例えば、所望のパターンマスクを介して真空蒸着法、スパッタリング法により帯状に形成することができる。また、樹脂中に蛍光色素を含有した層として形成する場合、例えば、蛍光色素と樹脂とを分散、または可溶化させた塗布液をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、上記の塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により赤色変換蛍光体層２６Ｒや緑色変換蛍光体層２６Ｇを形成することができる。また、青色変換ダミー層２６Ｂは、所望の感光性樹脂塗料をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、所望の樹脂塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により形成することができる。

このような色変換蛍光体層２６の厚みは、赤色変換蛍光体層２６Ｒおよび緑色変換蛍光体層２６Ｇが有機ＥＬ素子２２で発光された青色光を十分に吸収し蛍光を発生する機能が発現できるものとする必要があり、使用する蛍光色素、蛍光色素濃度等を考慮して適宜設定することができ、例えば、１０〜２０μｍ程度とすることができ、赤色変換蛍光体層２６Ｒと緑色変換蛍光体層２６Ｇとの厚みが異なる場合があってもよい。
上述の実施形態は例示であり、本発明はこれらに限定されるものではない。例えば、ブラックマトリックス７，１７，２７を備えないものであってもよい。

次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
［実施例１］
（透明基材への低屈折率膜の形成）
透明基材として、１５０ｍｍ×１５０ｍｍ、厚み０．７ｍｍのガラス基板（セントラル硝子（株）製 ソーダライム、屈折率ｎ₀＝１．５７）を準備した。このガラス基板の一方の面に、スパッタリング法によりＳｉＯ膜（厚み１５００Å）を成膜し、低屈折率膜とした。この低屈折率膜の屈折率は１．４５であった。尚、屈折率の測定は分光エリプソメーター（（株）堀場製作所製）を用いて行った。以下の実施例においても同様である。

（有機ＥＬ素子の形成と有機ＥＬディスプレイの作製）
上述のように低屈折率膜を形成したガラス基板の反対面に、イオンプレーティング法により膜厚２００ｎｍの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）電極膜を形成し、このＩＴＯ電極膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ＩＴＯ電極膜のエッチングを行って、幅２．２ｍｍのストライプ形状の透明電極層を４ｍｍピッチで２０本形成した。
各透明電極層上に２ｍｍ×２ｍｍの発光エリアが４ｍｍピッチで存在するように、このような発光エリアに対応した開口部を備えたマスクを介して、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミンを２００ｎｍ厚まで蒸着して成膜し、その後、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニルを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することによって、透明電極層上に正孔注入層を形成した。

次に、下記組成の赤色発光層用のインキをスピンコート法で塗布し、１２０℃に設定したホットプレート上で３０分間乾燥して、厚み３００ｎｍの赤色発光層を形成した。
（赤色発光層用のインキ組成）
・ポリフルオレン誘導体系の赤色発光材料 … ２．５重量％
・溶媒（メシチレン：テトラリン＝５０：５０の混合溶媒）… ９７．５重量％

赤色発光層を形成した面側に、２．２ｍｍ幅のストライプ状の開口部を４ｍｍピッチで備えたメタルマスクを、この開口部が上記のストライプ形状の透明電極層と直交し、かつ、上記の正孔注入層の形成エリア上に位置するように配置した。次に、このマスクを介して真空蒸着法によりカルシウムを蒸着して成膜し、電子注入層（厚み１０ｎｍ）を４ｍｍピッチで２０本形成した。
次に、電子注入層の形成に用いたメタルマスクをそのまま使用して、真空蒸着法によりアルミニウムを蒸着して成膜した。これにより、電子注入層上に、アルミニウムからなる幅２．２ｍｍのストライプ形状の電極層（厚み３００ｎｍ）を形成した。

最後に、電極層を形成した面側に、紫外線硬化型接着剤を介して封止板を貼り合わせた。これにより、図１に示されるような構造（ただし、発光は赤色発光のみ）の本発明の有機ＥＬディスプレイを得た。
この有機ＥＬディスプレイについて、発光輝度が１０００ｃｄ／ｍ²となるときの印加電流値を測定し、結果を下記の表１に示した。尚、輝度測定は分光放射計（（株）トプコンテクノハウス製 ＳＲ−２）用いて行った。以下の実施例においても同様である。

［実施例２］
（透明基材への集光層の形成）
透明基材として、実施例１と同様のガラス基板を準備した。このガラス基板の一方の面に、スパッタリング法によりＣａＦ膜（厚み１５００Å）を成膜し、低屈折率膜とした。この低屈折率膜の屈折率は１．４０であった。

（有機ＥＬ素子の形成と有機ＥＬディスプレイの作製）
上述のように低屈折率膜を形成したガラス基板を用いて、実施例１と同様にして、透明電極層、正孔注入層、赤色発光層、電子注入層、アルミニウム電極層を積層形成し、その後、封止板を貼り合わせて、図１に示されるような構造（ただし、発光は赤色発光のみ）の本発明の有機ＥＬディスプレイを得た。
この有機ＥＬディスプレイについて、実施例１と同様に、発光輝度が１０００ｃｄ／ｍ²となるときの印加電流値を測定し、結果を下記の表１に示した。

［実施例３］
（透明基材への集光層の形成）
透明基材として、実施例１と同様のガラス基板を準備した。このガラス基板の一方の面に、スピン塗布法によりメタクリル酸メチル系樹脂膜（厚み１．０μｍ、屈折率１．５０）を塗布し、次いで、スパッタリング法によりＣａＦ₂膜（厚み１５００Å、屈折率１．４０）を成膜して、２層構造の低屈折率膜とした。

（有機ＥＬ素子の形成と有機ＥＬディスプレイの作製）
上述のように低屈折率膜を形成したガラス基板を用いて、実施例１と同様にして、透明電極層、正孔注入層、赤色発光層、電子注入層、アルミニウム電極層を積層形成し、その後、封止板を貼り合わせて、図１に示されるような構造（ただし、発光は赤色発光のみ）の本発明の有機ＥＬディスプレイを得た。
この有機ＥＬディスプレイについて、実施例１と同様に、発光輝度が１０００ｃｄ／ｍ²となるときの印加電流値を測定し、結果を下記の表１に示した。

［比較例］
低屈折率膜を形成しない他は、実施例１と同様にして、有機ＥＬディスプレイを得た。
この有機ＥＬディスプレイについて、実施例１と同様に、発光輝度が１０００ｃｄ／ｍ²となるときの印加電流値を測定し、結果を下記の表１に示した。

表１に示されるように、実施例１〜３の有機ＥＬディスプレイは、発光輝度が１０００ｃｄ／ｍ²となるときの印加電流値が、比較例に比べて小さく、有機ＥＬ素子で発光した光の利用効率が高いことが確認された。

フルカラー表示装置、エリアカラー表示装置、照明等の種々の有機発光ディスプレイの製造において有用である。

本発明の有機ＥＬディスプレイの一実施形態を示す概略構成図である。 本発明の有機ＥＬディスプレイの他の実施形態を示す概略構成図である。 本発明の有機ＥＬディスプレイの他の実施形態を示す概略構成図である。 本発明の有機ＥＬディスプレイの他の実施形態を示す概略構成図である。 本発明の有機ＥＬディスプレイの他の実施形態を示す概略構成図である。 本発明の有機ＥＬディスプレイを構成する有機ＥＬ素子の一例を示す概略構成図である。

符号の説明

１，１′，１１，２１，２１′…有機ＥＬディスプレイ
２，１２，２２…有機ＥＬ素子
３，１３，２３…透明基材
４，１４，２４…低屈折率膜
５，１５，２５…カラーフィルタ層
７，１７，２７…ブラックマトリックス
２６…色変換蛍光体層
３１…透明基材
３２，３４…電極
３３…有機ＥＬ発光層
４１…ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）

Claims (13)

1. 電極間に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子と、該有機ＥＬ素子の一方の面側に配設された透明基材と、該透明基材の光取出し面側に位置する低屈折率膜とを備え、該低屈折率膜の屈折率は前記透明基材の屈折率よりも小さく、空気の屈折率よりも大きいものであることを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。
2. 前記低屈折率膜は、前記透明基材側から外側に向けて屈折率が小さくなるような多層構造であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイ。
3. 前記透明基材の前記有機ＥＬ素子側にカラーフィルタ層を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の有機ＥＬディスプレイ。
4. 前記透明基材の前記有機ＥＬ素子側に色変換蛍光体層を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の有機ＥＬディスプレイ。
5. 前記透明基材と前記色変換蛍光体層との間にカラーフィルタ層を有することを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬディスプレイ。
6. 前記発光層は三原色の各発光層が所望のパターンで配列されたものであることを特徴とする請求項１乃至請求項３に記載の有機ＥＬディスプレイ。
7. 前記発光層は白色の発光層であることを特徴とする請求項３に記載の有機ＥＬディスプレイ。
8. 前記発光層は青色の発光層であることを特徴とする請求項４または請求項５に記載の有機ＥＬディスプレイ。
9. 前記低屈折率膜は、真空成膜法により成膜したものであることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイ。
10. 前記有機ＥＬ素子がアクティブマトリックス駆動方式のものであることを特徴とする請求項１乃至請求項９のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイ。
11. 前記アクティブマトリックス駆動方式を構成する対向した電極のうち、駆動素子を備えた電極側に前記透明基材が位置することを特徴とする請求項１０に記載の有機ＥＬディスプレイ。
12. 前記アクティブマトリックス駆動方式を構成する対向した電極のうち、駆動素子を備えていない電極側に前記透明基材が位置することを特徴とする請求項１０に記載の有機ＥＬディスプレイ。
13. 前記有機ＥＬ素子がパッシブマトリックス駆動方式のものであることを特徴とする請求項１乃至請求項９のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイ。

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