JP2007163971A - Antireflection film, and polarizing plate and liquid crystal display device using the same - Google Patents
Antireflection film, and polarizing plate and liquid crystal display device using the same Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007163971A JP2007163971A JP2005362053A JP2005362053A JP2007163971A JP 2007163971 A JP2007163971 A JP 2007163971A JP 2005362053 A JP2005362053 A JP 2005362053A JP 2005362053 A JP2005362053 A JP 2005362053A JP 2007163971 A JP2007163971 A JP 2007163971A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- group
- layer
- antireflection film
- refractive index
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims description 80
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 461
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 188
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 112
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 75
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 65
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 52
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 40
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 36
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 36
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 32
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 claims description 32
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 32
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 31
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 21
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 13
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 10
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims description 6
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 claims description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 abstract description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 496
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 193
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 177
- 238000000034 method Methods 0.000 description 135
- -1 alkylene glycols Chemical class 0.000 description 130
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 127
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 80
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 58
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 58
- ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N (n-propan-2-yloxycarbonylanilino) acetate Chemical compound CC(C)OC(=O)N(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 55
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 51
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 47
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 43
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 40
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 40
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 39
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 38
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 34
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 33
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 33
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 33
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 33
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 32
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 30
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 29
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 27
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 27
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 26
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 26
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 26
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 25
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 25
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 25
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 25
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 24
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 24
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 24
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 24
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 23
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 23
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 23
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 22
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 22
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 21
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 description 21
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 20
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 20
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 20
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 20
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 20
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 19
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 19
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 19
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 18
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 18
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 18
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 18
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 18
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 18
- 230000006870 function Effects 0.000 description 17
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 16
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 16
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 15
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 15
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 15
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 15
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 15
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 15
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 15
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 14
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 14
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 14
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 14
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 14
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 14
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 14
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 14
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 13
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 13
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 13
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 13
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 13
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical class OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 12
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 12
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 12
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 12
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 11
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 11
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 11
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 11
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 11
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 10
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 10
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 10
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 9
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 9
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 9
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 9
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 9
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 9
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 9
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- XDRLAGOBLZATBG-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpenta-1,4-dien-3-one Chemical compound C=CC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 XDRLAGOBLZATBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 8
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 8
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 8
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N diiodomethane Chemical compound ICI NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000011978 dissolution method Methods 0.000 description 8
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 8
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 8
- 125000006162 fluoroaliphatic group Chemical group 0.000 description 8
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 8
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 7
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 7
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 7
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 7
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 7
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 7
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 7
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 7
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 7
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 7
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 7
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N Dimethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 6
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 6
- 230000021736 acetylation Effects 0.000 description 6
- 238000006640 acetylation reaction Methods 0.000 description 6
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 6
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 6
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 6
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 6
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 6
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 6
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 6
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 6
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 6
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 6
- CTRPRMNBTVRDFH-UHFFFAOYSA-N 2-n-methyl-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CNC1=NC(N)=NC(N)=N1 CTRPRMNBTVRDFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 5
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 5
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 5
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 5
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 5
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 5
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 5
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 5
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 5
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 5
- VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethanol Chemical compound OCCOC=C VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 208000006650 Overbite Diseases 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 4
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 4
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 4
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 4
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 4
- DWNAQMUDCDVSLT-UHFFFAOYSA-N diphenyl phthalate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OC=2C=CC=CC=2)C=1C(=O)OC1=CC=CC=C1 DWNAQMUDCDVSLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 4
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 4
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 4
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 4
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 4
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 4
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 4
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 description 4
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 4
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 4
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 4
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 4
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 4
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 4
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 3
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical class C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BJQHLKABXJIVAM-BGYRXZFFSA-N 1-o-[(2r)-2-ethylhexyl] 2-o-[(2s)-2-ethylhexyl] benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound CCCC[C@H](CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC[C@H](CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-BGYRXZFFSA-N 0.000 description 3
- AMUZLNGQQFNPTQ-UHFFFAOYSA-J 3-oxohexanoate zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O AMUZLNGQQFNPTQ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010061274 Malocclusion Diseases 0.000 description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XQAVYBWWWZMURF-UHFFFAOYSA-N OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO XQAVYBWWWZMURF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 3
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 3
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 3
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- MQPPCKJJFDNPHJ-UHFFFAOYSA-K aluminum;3-oxohexanoate Chemical compound [Al+3].CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O MQPPCKJJFDNPHJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000002519 antifouling agent Substances 0.000 description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 3
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 3
- 125000000332 coumarinyl group Chemical group O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N dimethyl phthalate Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(C)=O FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N dimethylmethane Natural products CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960001826 dimethylphthalate Drugs 0.000 description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 3
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 3
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 3
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 3
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 3
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 3
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 3
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 3
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 description 3
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 3
- 239000005268 rod-like liquid crystal Substances 0.000 description 3
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 3
- 238000000807 solvent casting Methods 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IZUBVNGHMOTZBX-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tributoxyethyl 3-oxobutanoate;zirconium Chemical compound [Zr].CCCCOC(OCCCC)(OCCCC)COC(=O)CC(C)=O IZUBVNGHMOTZBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-3-pentanone Chemical compound CC(C)C(=O)C(C)C HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 2-(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC=NC=N1 QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxybutan-1-ol Chemical compound OCCCCOC=C HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 4-heptanone Chemical compound CCCC(=O)CCC HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCC(=O)CC1 VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IZSHZLKNFQAAKX-UHFFFAOYSA-N 5-cyclopenta-2,4-dien-1-ylcyclopenta-1,3-diene Chemical group C1=CC=CC1C1C=CC=C1 IZSHZLKNFQAAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical class NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004322 Butylated hydroxytoluene Substances 0.000 description 2
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 2
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N N-[1-oxo-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propan-2-yl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(C(C)NC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011101 absolute filtration Methods 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 2
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M acetoacetate Chemical compound CC(=O)CC([O-])=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 2
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 2
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N benzo-alpha-pyrone Natural products C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 2
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 2
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- NMJJFJNHVMGPGM-UHFFFAOYSA-N butyl formate Chemical compound CCCCOC=O NMJJFJNHVMGPGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 2
- 229940095259 butylated hydroxytoluene Drugs 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 2
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N diacetyl peroxide Chemical compound CC(=O)OOC(C)=O ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 2
- 238000010556 emulsion polymerization method Methods 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940093858 ethyl acetoacetate Drugs 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical group 0.000 description 2
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JARKCYVAAOWBJS-UHFFFAOYSA-N hexanal Chemical compound CCCCCC=O JARKCYVAAOWBJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 2
- 150000007975 iminium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 229910021432 inorganic complex Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- MXHTZQSKTCCMFG-UHFFFAOYSA-N n,n-dibenzyl-1-phenylmethanamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 MXHTZQSKTCCMFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 2
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N pentyl acetate Chemical compound CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 description 2
- 150000003021 phthalic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N pyridine Substances C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 239000012260 resinous material Substances 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- VLTYTTRXESKBKI-UHFFFAOYSA-N (2,4-dichlorophenyl)-phenylmethanone Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 VLTYTTRXESKBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRIKSZXJKCQQFT-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2-dimethylpropyl) prop-2-enoate Chemical compound OCC(C)(C)COC(=O)C=C MRIKSZXJKCQQFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLECMSNCZUMKLM-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)methanol Chemical compound OCC1=CC=C(C=C)C=C1 CLECMSNCZUMKLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N (9Z,12Z)-9,10,12,13-tetratritiooctadeca-9,12-dienoic acid Chemical compound C(CCCCCCC\C(=C(/C\C(=C(/CCCCC)\[3H])\[3H])\[3H])\[3H])(=O)O OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N 0.000 description 1
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGUHFDPGDQDVGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-thiadiazole Chemical group C1=CSN=N1 UGUHFDPGDQDVGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trifluoro-5-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC(F)=C(F)C=C1F SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZLWSRCQCPAUDP-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4,6-triamine;urea Chemical compound NC(N)=O.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JZLWSRCQCPAUDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUOPYOGQBUMALK-UHFFFAOYSA-N 1,5-dioxacycloundecane-6,11-dione Chemical compound O=C1CCCCC(=O)OCCCO1 BUOPYOGQBUMALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIXHTWIRKKUMTP-UHFFFAOYSA-N 1,6-dioxacycloundecane-7,11-dione Chemical compound O=C1CCCC(=O)OCCCCO1 MIXHTWIRKKUMTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAOHAQSLJSMLAT-UHFFFAOYSA-N 1-butylperoxybutane Chemical compound CCCCOOCCCC PAOHAQSLJSMLAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKUNSTOMHUXJOZ-UHFFFAOYSA-N 1-hydroperoxybutane Chemical compound CCCCOO AKUNSTOMHUXJOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- YUBBHLUEJPLYOZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-4-(4-phenylphenyl)benzene phosphoric acid Chemical compound P(=O)(O)(O)O.C1(=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)C1=CC=CC=C1 YUBBHLUEJPLYOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERJZAHSUZVMCH-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1-phenylethanone Chemical compound ClC(Cl)C(=O)C1=CC=CC=C1 CERJZAHSUZVMCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNBMZFHIYRDKNS-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-1-phenylethanone Chemical compound COC(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 LNBMZFHIYRDKNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNIPJYFZGXJSDD-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-triphenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 RNIPJYFZGXJSDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFBXUKHERGLHLG-UHFFFAOYSA-N 2,4-Nonanedione Chemical compound CCCCCC(=O)CC(C)=O KFBXUKHERGLHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound C1CN(CC2=NNN=C21)CC(=O)N3CCN(CC3)C4=CN=C(N=C4)NCC5=CC(=CC=C5)OC(F)(F)F LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIAWAXVRXKIUQB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethenyl)pyridine Chemical group C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=N1 BIAWAXVRXKIUQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJRUAPNVLBABCN-UHFFFAOYSA-N 2-(ethenoxymethyl)oxirane Chemical compound C=COCC1CO1 JJRUAPNVLBABCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWMGONWXQSKRMH-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-phenylethenyl)phenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=CC(C=CC=3C=CC=CC=3)=CC=2)=N1 TWMGONWXQSKRMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONIKNECPXCLUHT-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1Cl ONIKNECPXCLUHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCABPJBWOSCPN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylethanone;phenylmethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCABPJBWOSCPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 2-octanone Chemical compound CCCCCCC(C)=O ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 2-oxooctanal Chemical compound CCCCCCC(=O)C=O MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPSJGADGUYYRKE-UHFFFAOYSA-N 2H-pyran-2-one Chemical group O=C1C=CC=CO1 ZPSJGADGUYYRKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCJXRLHGBZEQIB-UHFFFAOYSA-J 3,5-dioxohexanoate zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC(=O)CC(=O)CC([O-])=O.CC(=O)CC(=O)CC([O-])=O.CC(=O)CC(=O)CC([O-])=O.CC(=O)CC(=O)CC([O-])=O CCJXRLHGBZEQIB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- WSQZNZLOZXSBHA-UHFFFAOYSA-N 3,8-dioxabicyclo[8.2.2]tetradeca-1(12),10,13-triene-2,9-dione Chemical compound O=C1OCCCCOC(=O)C2=CC=C1C=C2 WSQZNZLOZXSBHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C=C MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAXGGGOODQWKDU-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1,5-dioxacycloundecane-6,11-dione Chemical compound CC1COC(=O)CCCCC(=O)OC1 FAXGGGOODQWKDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHOOBRPEYVVPIF-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1,5-dioxecane-6,10-dione Chemical compound CC1COC(=O)CCCC(=O)OC1 KHOOBRPEYVVPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYMZEPRSPLASMS-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical group O=C1NC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 IYMZEPRSPLASMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWIVRAVCZJXOQC-UHFFFAOYSA-N 3h-oxathiazole Chemical class N1SOC=C1 KWIVRAVCZJXOQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dichlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICMFHHGKLRTCBM-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzenediazonium Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C([N+]#N)C=C1 ICMFHHGKLRTCBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 4h-chromene-2,3-dione Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C(=O)CC2=C1 CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQCLJXVUAWLNSV-UHFFFAOYSA-N 5-Methyl-2,3-hexanedione Chemical compound CC(C)CC(=O)C(C)=O PQCLJXVUAWLNSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSMYOQKNHMTIP-UHFFFAOYSA-N 5-[dimethoxy(methyl)silyl]pentane-1,3-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCC(N)CCN OSSMYOQKNHMTIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHLRJDNGHBXOSV-UHFFFAOYSA-N 5-trimethoxysilylpentane-1,3-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(N)CCN KHLRJDNGHBXOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 6-[3-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-3-oxopropyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)C(CCC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)=O DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QZCLKYGREBVARF-UHFFFAOYSA-N Acetyl tributyl citrate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(C(=O)OCCCC)(OC(C)=O)CC(=O)OCCCC QZCLKYGREBVARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical group C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020599 Co 3 O 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018871 CoO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N Diazomethane Chemical class C=[N+]=[N-] YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYGXAGIECVVIOZ-UHFFFAOYSA-N Dibutyl decanedioate Chemical compound CCCCOC(=O)CCCCCCCCC(=O)OCCCC PYGXAGIECVVIOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGFPUTOTEJOSAY-UHFFFAOYSA-N FC1=C([Ti])C(F)=CC=C1N1C=CC=C1 Chemical compound FC1=C([Ti])C(F)=CC=C1N1C=CC=C1 ZGFPUTOTEJOSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGEGHDBEHXKFPX-UHFFFAOYSA-N N-methylthiourea Natural products CNC(N)=O XGEGHDBEHXKFPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000238633 Odonata Species 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 241000282376 Panthera tigris Species 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMPDOIGGGXSAPL-UHFFFAOYSA-N Phenyl vinyl sulfide Chemical compound C=CSC1=CC=CC=C1 GMPDOIGGGXSAPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 229920000612 Poly(1,3-propylene glutarate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000616 Poly(1,4-butylene adipate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000621 Poly(1,4-butylene succinate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000562 Poly(ethylene adipate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical class CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000220317 Rosa Species 0.000 description 1
- UAKWLVYMKBWHMX-UHFFFAOYSA-N SU4312 Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C=C1C2=CC=CC=C2NC1=O UAKWLVYMKBWHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHKPLLOSJHHKNU-INIZCTEOSA-N [(3S)-3-[8-(1-ethyl-5-methylpyrazol-4-yl)-9-methylpurin-6-yl]oxypyrrolidin-1-yl]-(oxan-4-yl)methanone Chemical compound C(C)N1N=CC(=C1C)C=1N(C2=NC=NC(=C2N=1)O[C@@H]1CN(CC1)C(=O)C1CCOCC1)C FHKPLLOSJHHKNU-INIZCTEOSA-N 0.000 description 1
- MBHRHUJRKGNOKX-UHFFFAOYSA-N [(4,6-diamino-1,3,5-triazin-2-yl)amino]methanol Chemical compound NC1=NC(N)=NC(NCO)=N1 MBHRHUJRKGNOKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N [4-(4-methylphenyl)sulfanylphenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1SC1=CC=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1 DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC(=O)C=C RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N abcn Chemical compound C1CCCCC1(C#N)N=NC1(C#N)CCCCC1 KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L adipate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC([O-])=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000006524 alkoxy alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005011 alkyl ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 1
- DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N alpha-linolenic acid Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N 0.000 description 1
- 235000020661 alpha-linolenic acid Nutrition 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N aminothiocarboxamide Natural products NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N arsonium Chemical class [AsH4+] VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005013 aryl ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBTOVELVJLGISG-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid;2-hydroxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 RBTOVELVJLGISG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- LALVGZNJKANQKT-UHFFFAOYSA-N bis(1-hydroxy-5,6-dimethyl-4-propan-2-ylcyclohexa-2,4-dien-1-yl)methanone Chemical compound C1=CC(C(C)C)=C(C)C(C)C1(O)C(=O)C1(O)C(C)C(C)=C(C(C)C)C=C1 LALVGZNJKANQKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRHPSIAOZILDQN-UHFFFAOYSA-N bis(1-hydroxy-5,6-dimethylcyclohexa-2,4-dien-1-yl)methanone Chemical compound CC1C(C)=CC=CC1(O)C(=O)C1(O)C(C)C(C)=CC=C1 LRHPSIAOZILDQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXTBYXIZCDULQI-UHFFFAOYSA-N bis[4-(methylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(NC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(NC)C=C1 HXTBYXIZCDULQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N buta-1,2-diene Chemical compound CC=C=C QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJBJYADRWINLAO-UHFFFAOYSA-N butan-2-one 2,4-dimethylpentan-3-one Chemical class CC(C)C(=O)C(C)C.C(C)C(=O)C KJBJYADRWINLAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOKKGFZWZZLHEK-UHFFFAOYSA-N butoxy(dimethyl)silane Chemical compound CCCCO[SiH](C)C SOKKGFZWZZLHEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N captafol Chemical class C1C=CC[C@H]2C(=O)N(SC(Cl)(Cl)C(Cl)Cl)C(=O)[C@H]21 JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N carbamodithioic acid Chemical group NC(S)=S DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- VQXINLNPICQTLR-UHFFFAOYSA-N carbonyl diazide Chemical group [N-]=[N+]=NC(=O)N=[N+]=[N-] VQXINLNPICQTLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920006265 cellulose acetate-butyrate film Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001860 citric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 238000010549 co-Evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000002301 combined effect Effects 0.000 description 1
- 230000001447 compensatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 235000009508 confectionery Nutrition 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- ARUKYTASOALXFG-UHFFFAOYSA-N cycloheptylcycloheptane Chemical group C1CCCCCC1C1CCCCCC1 ARUKYTASOALXFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVPWNLKBGNMZRI-UHFFFAOYSA-N decanedioic acid;2,2-dimethylpropane-1,3-diol Chemical compound OCC(C)(C)CO.OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O BVPWNLKBGNMZRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000412 dendrimer Substances 0.000 description 1
- 229920000736 dendritic polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethane Chemical compound COCOC NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEHPKGIJAWBJMV-UHFFFAOYSA-N dimethyl(propoxy)silane Chemical compound CCCO[SiH](C)C BEHPKGIJAWBJMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFMFXQNYPNYGG-UHFFFAOYSA-M dimethyl-octadecyl-(3-trimethoxysilylpropyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCC[Si](OC)(OC)OC WSFMFXQNYPNYGG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDNQRCVBPNOTNV-UHFFFAOYSA-N dinonylnaphthylsulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(O)(=O)=O)=C(CCCCCCCCC)C(CCCCCCCCC)=CC2=C1 WDNQRCVBPNOTNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012674 dispersion polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000010130 dispersion processing Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 1
- KGGOIDKBHYYNIC-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl 4-[3,4-bis(tert-butylperoxycarbonyl)benzoyl]benzene-1,2-dicarboperoxoate Chemical compound C1=C(C(=O)OOC(C)(C)C)C(C(=O)OOC(C)(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(=O)OOC(C)(C)C)C(C(=O)OOC(C)(C)C)=C1 KGGOIDKBHYYNIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGGDRACWOICIIC-KVVVOXFISA-N dodecanoic acid;(z)-octadec-9-enoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O BGGDRACWOICIIC-KVVVOXFISA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000572 ellipsometry Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N ethanol;titanium Chemical compound [Ti].CCO.CCO.CCO.CCO XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N ethenyl (e)-3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=COC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N ethoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)C DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N ethoxymethanedithioic acid Chemical group CCOC(S)=S ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- MDQRDWAGHRLBPA-UHFFFAOYSA-N fluoroamine Chemical class FN MDQRDWAGHRLBPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical group FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 108010025899 gelatin film Proteins 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001046 glycoluril group Chemical class [H]C12N(*)C(=O)N(*)C1([H])N(*)C(=O)N2* 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- ILPNRWUGFSPGAA-UHFFFAOYSA-N heptane-2,4-dione Chemical compound CCCC(=O)CC(C)=O ILPNRWUGFSPGAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGCTVLNZTFDPDJ-UHFFFAOYSA-N heptane-3,5-dione Chemical compound CCC(=O)CC(=O)CC DGCTVLNZTFDPDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDOGLIPWGGRQCO-UHFFFAOYSA-N hexane-2,4-dione Chemical compound CCC(=O)CC(C)=O NDOGLIPWGGRQCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005191 hydroxyalkylamino group Chemical group 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M isovalerate Chemical compound CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 229960004488 linolenic acid Drugs 0.000 description 1
- KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N linolenic acid Natural products CC=CCCC=CCC=CCCCCCCCC(O)=O KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012669 liquid formulation Substances 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000006078 metal deactivator Substances 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N methanol;titanium Chemical compound [Ti].OC.OC.OC.OC ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDLRQEHNDJOFQN-UHFFFAOYSA-N methoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)C MDLRQEHNDJOFQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N methyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)OCCC RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGEGHDBEHXKFPX-NJFSPNSNSA-N methylurea Chemical compound [14CH3]NC(N)=O XGEGHDBEHXKFPX-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001471 micro-filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QRWZCJXEAOZAAW-UHFFFAOYSA-N n,n,2-trimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C(C)=C QRWZCJXEAOZAAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940088644 n,n-dimethylacrylamide Drugs 0.000 description 1
- YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C=C YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N n-[2-(2-hydroxyethylamino)ethyl]-2-[[1-[2-(2-hydroxyethylamino)ethylamino]-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound OCCNCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCNCCO QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- WIBFFTLQMKKBLZ-SEYXRHQNSA-N n-butyl oleate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCCCC WIBFFTLQMKKBLZ-SEYXRHQNSA-N 0.000 description 1
- PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1CCCCC1 PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ALIFPGGMJDWMJH-UHFFFAOYSA-N n-phenyldiazenylaniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1NN=NC1=CC=CC=C1 ALIFPGGMJDWMJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- XFHJDMUEHUHAJW-UHFFFAOYSA-N n-tert-butylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)(C)NC(=O)C=C XFHJDMUEHUHAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 229920005615 natural polymer Polymers 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117969 neopentyl glycol Drugs 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- VKCYHJWLYTUGCC-UHFFFAOYSA-N nonan-2-one Chemical compound CCCCCCCC(C)=O VKCYHJWLYTUGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- NOUWNNABOUGTDQ-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCC[CH2+] NOUWNNABOUGTDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJYXGIIWJFZCLN-UHFFFAOYSA-N octane-2,4-dione Chemical compound CCCCC(=O)CC(C)=O GJYXGIIWJFZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011242 organic-inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005459 perfluorocyclohexyl group Chemical group 0.000 description 1
- DLRJIFUOBPOJNS-UHFFFAOYSA-N phenetole Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1 DLRJIFUOBPOJNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- CTRLRINCMYICJO-UHFFFAOYSA-N phenyl azide Chemical group [N-]=[N+]=NC1=CC=CC=C1 CTRLRINCMYICJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920000191 poly(N-vinyl pyrrolidone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000636 poly(norbornene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004291 polyenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl prop-2-enoate Chemical compound C=CCOC(=O)C=C QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLJWTAURUFQFJP-UHFFFAOYSA-N propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(C)O.CC(C)O.CC(C)O RLJWTAURUFQFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLIOMJUVNTYUMC-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 3-oxobutaneperoxoate;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)OOC(=O)CC(C)=O.CC(C)OOC(=O)CC(C)=O QLIOMJUVNTYUMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNKIIBQOKMXIGH-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 3-oxohexaneperoxoate;titanium Chemical compound [Ti].CCCC(=O)CC(=O)OOC(C)C.CCCC(=O)CC(=O)OOC(C)C YNKIIBQOKMXIGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WREHAFOLOOKAOW-UHFFFAOYSA-N propane-1,2,3-triol prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(O)CO.OCC(O)CO.OCC(O)CO.OCC(O)CO.OCC(O)CO WREHAFOLOOKAOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPJZKLBPJBMLQG-KWRJMZDGSA-N propanoyl (z,12r)-12-hydroxyoctadec-9-enoate Chemical compound CCCCCC[C@@H](O)C\C=C/CCCCCCCC(=O)OC(=O)CC BPJZKLBPJBMLQG-KWRJMZDGSA-N 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 238000004439 roughness measurement Methods 0.000 description 1
- SPNAQSNLZHHUIJ-UHFFFAOYSA-N s-[4-[4-(2-methylprop-2-enoylsulfanyl)phenyl]sulfanylphenyl] 2-methylprop-2-enethioate Chemical compound C1=CC(SC(=O)C(=C)C)=CC=C1SC1=CC=C(SC(=O)C(C)=C)C=C1 SPNAQSNLZHHUIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-O selenonium Chemical class [SeH3+] SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- GRJISGHXMUQUMC-UHFFFAOYSA-N silyl prop-2-enoate Chemical class [SiH3]OC(=O)C=C GRJISGHXMUQUMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 description 1
- 229910021647 smectite Inorganic materials 0.000 description 1
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical group C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- HSVFKFNNMLUVEY-UHFFFAOYSA-N sulfuryl diazide Chemical compound [N-]=[N+]=NS(=O)(=O)N=[N+]=[N-] HSVFKFNNMLUVEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000010558 suspension polymerization method Methods 0.000 description 1
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- OQTSOKXAWXRIAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutan-2-yl silicate Chemical compound CCC(C)O[Si](OC(C)CC)(OC(C)CC)OC(C)CC OQTSOKXAWXRIAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N trans-chalcone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N tributoxy(methyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)OCCCC GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEAPVABOECTMGR-UHFFFAOYSA-N triethyl 2-acetyloxypropane-1,2,3-tricarboxylate Chemical compound CCOC(=O)CC(C(=O)OCC)(OC(C)=O)CC(=O)OCC WEAPVABOECTMGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 238000010947 wet-dispersion method Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
【課題】高い防眩性と画像ボケ、白ボケの改善とを両立した反射防止フィルム及び該反射防止フィルムを用いた偏光板を高い生産性で提供すること。また該反射防止フィルム、偏光板を用いることで周囲の明るさに対して安定した表示性能を示す高品位なディスプレイを提供すること。
【解決手段】透明支持体上に少なくとも防眩層と低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、該フィルム表面への入射光に対し、該フィルムの表面凹凸に起因する特定の反射強度プロファイルを有する反射防止フィルム。
【選択図】図2An object of the present invention is to provide an antireflection film having both high antiglare property and improvement of image blur and white blur and a polarizing plate using the antireflection film with high productivity. In addition, the present invention provides a high-quality display that exhibits stable display performance with respect to ambient brightness by using the antireflection film and the polarizing plate.
An antireflection film having at least an antiglare layer and a low refractive index layer on a transparent support, and having a specific reflection intensity profile caused by surface irregularities of the film with respect to incident light on the film surface An antireflection film having
[Selection] Figure 2
Description
本発明は、反射防止フィルム、並びにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。 The present invention relates to an antireflection film, and a polarizing plate and a liquid crystal display device using the same.
反射防止フィルムは、一般に、CRT、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や液晶表示装置(LCD)のようなディスプレイ装置において、外光の反射による像の映り込みを防止するために、ディスプレイの最表面に配置される。 In general, an antireflection film is used in a display device such as a CRT, a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), or a liquid crystal display (LCD) to prevent reflection of an image due to reflection of external light. Arranged on the top surface of the display.
外光反射の影響を低減するためには表示装置表面の反射率を下げる方法と、表面凹凸などにより反射光を散乱させる方法がある。 In order to reduce the influence of external light reflection, there are a method of lowering the reflectance of the display device surface and a method of scattering reflected light by surface irregularities.
反射光の散乱性を有する防眩性フィルムは、大きくは実質的に表面散乱性だけを有する防眩性フィルムと、表面散乱性と内部散乱性の両方を有する防眩性フィルムとに大別することができる。 Anti-glare films having a scattering property of reflected light are roughly classified into an anti-glare film having substantially only surface scattering property and an anti-glare film having both surface scattering property and internal scattering property. be able to.
また、特に近年表示装置の高精細化に伴い、防眩性フィルムによる微小な輝度ムラ(ギラツキと呼称する)の改良手段として、表面散乱に加えて従来以上に高い内部散乱性を有する防眩性フィルムに関する技術が開示されている(特許文献1〜4)。 In addition, in recent years, with the increase in the definition of display devices, as a means of improving minute luminance unevenness (called glare) with an anti-glare film, anti-glare property having higher internal scattering than surface scattering in addition to surface scattering. The technique regarding a film is disclosed (patent documents 1-4).
外光の反射による像の映り込みを防止するために、フィルム表面に凹凸形状をつけ反射像の輪郭をぼかす手段が一般的であり、外光の正反射方向からの視認性は向上する。一方で、正反射以外の方向にまで散乱光が回り込むため、その方向では黒が白味がかって(白ボケと呼称する)見えてしまう。この課題に対して、フィルム表面に光線を照射し反射光の散乱分布(プロファイル)を制御する提案(特許文献5)がなされており、ここでは−10°の入射光に対する反射光プロファイルにおいて、半値幅を7°以上且つ30°方向と正反射方向(10°)の反射強度比を0.2以下である防眩フィルムが開示されている。
上記したように、外光反射の影響を低減するためには表示装置表面の反射率を下げる方法と、表面凹凸などにより反射光を散乱させる方法があるが、どちらかの方法のみを考慮しただけでは視認性の更なる向上は困難である。例えば反射率を現在の常識より大幅に低減させたとしても防眩性がない表面であれば、反射物の形は依然として認識され、目障りに見えることが容易に推察できる。特許文献6、7等で光散乱性フィルムが表示装置の最表面に用いられる場合には、明室にて外光の表面反射を抑制する効果を有する反射防止機能を併せ持つフィルムが好ましいことが記載されている。また、特許文献7では、内部散乱性を制御することにより、LCDの視野角特性を向上する散乱性フィルムに関する技術が開示されている。 As described above, in order to reduce the influence of external light reflection, there are a method of reducing the reflectance of the display device surface and a method of scattering the reflected light by surface irregularities, etc., but only one of these methods is considered. Then, it is difficult to further improve the visibility. For example, if the surface has no anti-glare property even if the reflectance is significantly reduced from the current common sense, it can be easily guessed that the shape of the reflector is still recognized and looks unsightly. Patent Documents 6 and 7 describe that when a light-scattering film is used on the outermost surface of a display device, a film having an antireflection function having an effect of suppressing surface reflection of external light in a bright room is preferable. Has been. Patent Document 7 discloses a technique related to a scattering film that improves the viewing angle characteristics of an LCD by controlling internal scattering.
さらに、液晶表示装置など表示装置そのものの視野角依存性を考慮した上で、反射防止フィルムの性能を最適化することが、表示装置のトータル性能向上には極めて重要である。 Furthermore, in view of the viewing angle dependency of the display device itself such as a liquid crystal display device, optimizing the performance of the antireflection film is extremely important for improving the total performance of the display device.
しかしながら、防眩性と画像ボケ、白ぼけの改善を同時に満足する反射防止フィルムは提案されていないのが現状である。 However, the present situation is that no antireflection film satisfying both the antiglare property and the improvement of image blur and white blur has not been proposed.
従って、本発明の目的は、高い防眩性と画像ボケ、白ボケの改善とを両立した反射防止フィルム及び該反射防止フィルムを用いた偏光板を高い生産性で提供することにある。さらには、該反射防止フィルム、偏光板を用いることで周囲の明るさに対して安定した表示性能を示す高品位なディスプレイを提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide an antireflection film that achieves both high antiglare properties and improvement in image blur and white blur and a polarizing plate using the antireflection film with high productivity. Furthermore, it is providing the high quality display which shows the stable display performance with respect to ambient brightness by using this antireflection film and a polarizing plate.
本発明者らは、上述の課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記構成とすることにより、前記課題を解決し目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above-described problems, the present inventors have found that the above-described problems can be solved and the object can be achieved, and the present invention has been completed.
すなわち本発明は、下記の構成により前記目的を達成したものである。 That is, the present invention achieves the object by the following configuration.
1. 透明支持体上に、少なくとも防眩層と低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、略平行な光を該フィルム表面に入射し、フィルム法線と入射方向とを含む面内で、該フィルムの表面凹凸に起因する反射強度を測定した際、反射角度θに対する反射率の変化量|dR(θ)/dθ|の最大値が0.005以上0.03未満であることを特徴とする反射防止フィルム。
[ここで、R(θ)は反射角度θにおける反射率である。]
2. 透明支持体上に、少なくとも防眩層と低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、略平行な光を該フィルム表面に入射し、フィルム法線と入射方向とを含む面内で、該フィルムの表面凹凸に起因する反射強度を測定した際、反射角度θに対する相対反射率Rrel(θ)の変化量|dRrel(θ)/dθ|の最大値が0.35以上1.0未満であることを特徴とする反射防止フィルム。
[ここで、Rrel(θ)は正反射方向の反射率Rsで規格化した相対反射率であり、Rrel(θ)=R(θ)/Rsであり、R(θ)は反射角度θにおける反射率である。]
3. 5°入射での鏡面反射率が0.5%以上3%未満である前記1項又は前記2項に記載の反射防止フィルム。
4. 反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値が0〜35%であり、且つ、表面散乱に起因するヘイズ値が5〜15%である前記1〜3項のいずれかに記載の反射防止フィルム。
5. 反射防止フィルムの中心線平均粗さRaが0.08〜0.30μmである前記1〜4項のいずれかに記載の反射防止フィルム。
6. JIS K−7105に準じた反射防止フィルムの像鮮明性が、光学くし幅0.5mmで測定したときに5〜60%である前記1〜5項のいずれかに記載の反射防止フィルム。
7. 防眩層が、透光性樹脂と透光性粒子とを少なくとも含有する前記1〜6項のいずれかに記載の反射防止フィルム。
8. 透光性樹脂が少なくとも3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分としてなり、透光性粒子がアクリル含率50〜100質量%である架橋ポリ(メタ)アクリレート系重合体粒子である前記7項記載の反射防止フィルム。
9. 透光性樹脂が少なくとも3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分としてなり、透光性粒子がアクリル含率50〜100質量%である架橋ポリアクリル(−スチレン)(共)重合体粒子である前記7項または8項に記載の反射防止フィルム。
10. 偏光膜と、該偏光膜の両側に設けられた保護フィルムとを有する偏光板において、該保護フィルムの少なくとも一方が、前記1〜9項のいずれかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
11. 2枚の保護フィルムの少なくとも一方が、光学異方性を有する光学補償フィルムである前記10項に記載の偏光板。
12. 2枚の保護フィルムのうち、反射防止フィルムとは反対に配置される保護フィルムが、液晶性化合物の配向を固定した光学異方性層を少なくとも有する光学補償フィルムである前記10項又は前記11項に記載の偏光板。
13. 2枚の保護フィルムのうち、反射防止フィルムとは反対に配置される保護フィルムが、偏光膜と貼り合せる面とは反対側の面にディスコティック構造単位を有する化合物を含有してなる光学異方性層を有する光学補償フィルムである前記10〜12項のいずれかに記載の偏光板。
14. 少なくとも1枚の光学補償フィルムと、偏光板とを粘着層を介して貼り合せた複合偏光板であって、該偏光板が前記10〜13項のいずれかに記載の偏光板である積層偏光板。
15. 前記10〜14項のいずれかに記載の偏光板を少なくとも1枚有することを特徴とする液晶表示装置。
16. 偏光板、表示用液晶セル及びバックライトを少なくとも含み、最大輝度が300cd/m2以上、白/黒表示における暗室コントラスト比が、液晶セル法線方向において500以上、該法線に対して30°以内の角度範囲で150以上、該法線に対して60°以内の角度範囲で15以上である液晶表示装置であって、前記10〜15項のいずれかに記載の偏光板が、表示装置の観察者側最表面に配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
17. 表示画面の対角が20インチ以上である前記15項又は16項に記載の液晶表示装置。
1. An antireflection film having at least an antiglare layer and a low refractive index layer on a transparent support, wherein substantially parallel light is incident on the film surface, and the film includes a normal line and an incident direction, When the reflection intensity due to the surface unevenness of the film is measured, the maximum value of the change amount of reflectance | dR (θ) / dθ | with respect to the reflection angle θ is 0.005 or more and less than 0.03. Antireflection film.
[Where R (θ) is the reflectance at the reflection angle θ. ]
2. An antireflection film having at least an antiglare layer and a low refractive index layer on a transparent support, wherein substantially parallel light is incident on the film surface, and the film includes a normal line and an incident direction, When the reflection intensity due to the surface irregularities of the film was measured, the maximum amount of change of relative reflectance R rel (θ) with respect to the reflection angle θ | dR rel (θ) / dθ | An antireflective film characterized by being
[Where R rel (θ) is the relative reflectance normalized by the reflectance R s in the regular reflection direction, R rel (θ) = R (θ) / R s , and R (θ) is the reflection It is a reflectance at an angle θ. ]
3. 3. The antireflection film as described in 1 or 2 above, wherein the specular reflectance at 5 ° incidence is 0.5% or more and less than 3%.
4). 4. The antireflection film according to any one of 1 to 3, wherein the antireflection film has a haze value of 0 to 35% due to internal scattering and a haze value of 5 to 15% due to surface scattering.
5. 5. The antireflection film as described in any one of 1 to 4 above, wherein the antireflection film has a center line average roughness Ra of 0.08 to 0.30 μm.
6). 6. The antireflection film according to any one of 1 to 5 above, wherein the image clarity of the antireflection film according to JIS K-7105 is 5 to 60% when measured at an optical comb width of 0.5 mm.
7). 7. The antireflection film according to any one of 1 to 6, wherein the antiglare layer contains at least a translucent resin and translucent particles.
8). The above-mentioned 7 wherein the translucent resin is a crosslinked poly (meth) acrylate-based polymer particle comprising a (meth) acrylate monomer having at least trifunctional or higher functionality and the translucent particle having an acrylic content of 50 to 100% by mass. The antireflection film according to Item.
9. Cross-linked polyacrylic (-styrene) (co) polymer particles in which the translucent resin contains at least a trifunctional or higher functional (meth) acrylate monomer as the main component, and the translucent particles have an acrylic content of 50 to 100% by mass. Item 9. The antireflection film according to Item 7 or Item 8.
10. In the polarizing plate having a polarizing film and protective films provided on both sides of the polarizing film, at least one of the protective films is the antireflection film according to any one of 1 to 9 above. Polarizing plate.
11. 11. The polarizing plate according to 10 above, wherein at least one of the two protective films is an optical compensation film having optical anisotropy.
12
13. Of the two protective films, an optical anisotropic film comprising a compound having a discotic structural unit on the surface opposite to the surface to be bonded to the polarizing film, the protective film disposed opposite to the
14 A laminated polarizing plate comprising at least one optical compensation film and a polarizing plate bonded via an adhesive layer, wherein the polarizing plate is the polarizing plate according to any one of 10 to 13 above. .
15. 15. A liquid crystal display device comprising at least one polarizing plate according to any one of
16. It includes at least a polarizing plate, a liquid crystal cell for display, and a backlight. The maximum luminance is 300 cd / m 2 or more, and the darkroom contrast ratio in white / black display is 500 or more in the normal direction of the liquid crystal cell, 30 ° to the normal. A liquid crystal display device having an angle range of 150 or more and an angle range of 60 ° or less with respect to the normal line of 15 or more, wherein the polarizing plate according to any one of 10 to 15 above is a display device. A liquid crystal display device arranged on the outermost surface of the observer side.
17.
本発明のフィルムにより、高い防眩性と画像ボケ、白ボケの改善とを両立した反射防止フィルム及び該反射防止フィルムを用いた偏光板、液晶表示装置を提供することができた。 With the film of the present invention, it was possible to provide an antireflection film that achieves both high antiglare property and improvement in image blur and white blur, a polarizing plate using the antireflection film, and a liquid crystal display device.
以下、本発明について更に詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「(数値1)〜(数値2)」という記載は「(数値1)以上(数値2)以下」の意味を表す。また、本明細書において、「(メタ)アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「(メタ)アクリル酸」等も同様である。さらに、本発明でいう「支持体上」には、該支持体の直接の表面をいう場合と、該支持体の上に何らかの層(膜)を設けた表面をいう場合の両方を含む趣旨である。「ハードコート層上」等も同様である。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail. In the present specification, when a numerical value represents a physical property value, a characteristic value, etc., the description “(numerical value 1) to (numerical value 2)” means “(numerical value 1) or more and (numerical value 2) or less”. . In the present specification, the description “(meth) acrylate” means “at least one of acrylate and methacrylate”. The same applies to “(meth) acrylic acid” and the like. Furthermore, the term “on the support” in the present invention includes both the case where the surface directly refers to the support and the case where the surface includes a layer (film) provided on the support. is there. The same applies to “on the hard coat layer” and the like.
0.反射強度の角度依存性
本発明の反射防止フィルムは、少なくとも表面に微細凹凸構造を有するものであり、この凹凸構造に起因する光の散乱により反射像を散らして輪郭をぼかすことで防眩性を発揮する。フィルム表面に、ある角度で光が入射したときの表面凹凸による反射強度の角度依存性が、本発明の特定の関係式における数値範囲を満たすものが、本発明における好適な反射防止性能を取りうる。
0. Angle dependency of reflection intensity The antireflection film of the present invention has a fine concavo-convex structure on at least the surface, and the anti-glare property is obtained by scattering the reflected image due to light scattering caused by the concavo-convex structure and blurring the outline. Demonstrate. When the angle dependency of the reflection intensity due to the surface irregularities when light is incident on the film surface at a certain angle satisfies the numerical range in the specific relational expression of the present invention, the preferred antireflection performance in the present invention can be obtained. .
具体的には図1に示す。図1の(a)は、本発明の反射防止フィルムの、表面凹凸による反射光強度の角度依存性を測定する方法を示す模式図である。また図1の(b)は、フィルムの法線方向Dと光の入射方向Eを含む面Cを示す模式図である。図1(a)及び(b)に示されるように、表面に凹凸を有する反射防止フィルムAの表面Bに、光源Fから略平行な光を入射し、フィルムの法線方向Dと光の入射方向Eを含む面C内で、受光部Gの角度を連続的に変化させ、それぞれの反射角、例えば反射角θにおける反射光の強度を測定して、フィルムの表面凹凸に起因する反射光強度の反射角度依存性(以下、反射光強度プロファイルともいう)を測定する。 Specifically, it is shown in FIG. (A) of FIG. 1 is a schematic diagram showing a method of measuring the angle dependency of the reflected light intensity due to surface irregularities of the antireflection film of the present invention. FIG. 1B is a schematic diagram showing a surface C including the normal direction D of the film and the incident direction E of light. As shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b), light substantially parallel from the light source F is incident on the surface B of the antireflection film A having irregularities on the surface, and the normal direction D of the film and the incidence of light. In the plane C including the direction E, the angle of the light receiving part G is continuously changed, and the intensity of the reflected light at each reflection angle, for example, the reflection angle θ, is measured. The reflection angle dependency (hereinafter also referred to as reflected light intensity profile) is measured.
フィルムに入射させる光は略平行光が望ましく、具体的に白色光源をコリメートし、拡散又は収斂角度を1°以内とすることが好ましい。また表面凹凸のサイズにもよるが、測定範囲は1mm2以上あることが好ましい。入射角度は特に限定はないが、正反射付近の角度依存性を測定することが目的であり、正反射が観察できない0°付近や、プロファイルの両側が観察できないような広角からの入射は好ましくない。おおよそ5°から45°の範囲であることが好ましい。測定する方法としては、例えば(株)村上色彩技術研究所製自動変角光度計「GP−5型」を用いることで、約5mmφの白色平行光を試料表面に照射して、入射光方向とフィルムの法線方向を含む面内での反射光強度の角度依存性を反射角度0.1°刻みで連続的に測定することができる。 The light incident on the film is preferably substantially parallel light. Specifically, it is preferable to collimate a white light source and set the diffusion or convergence angle to within 1 °. Although it depends on the size of the surface irregularities, the measurement range is preferably 1 mm 2 or more. Although the incident angle is not particularly limited, the purpose is to measure the angular dependence near specular reflection, and incidence from around 0 ° where specular reflection cannot be observed or from a wide angle where both sides of the profile cannot be observed is not preferable. . A range of approximately 5 ° to 45 ° is preferred. As a measuring method, for example, by using an automatic variable angle photometer “GP-5 type” manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd., the sample surface is irradiated with white parallel light of about 5 mmφ, and the incident light direction and The angle dependency of the reflected light intensity in the plane including the normal line direction of the film can be continuously measured at a reflection angle unit of 0.1 °.
実際のディスプレイに用いられた際、反射防止フィルムの防眩性反射防止層を施した面とは反対の面(裏面と呼称する)は、偏光膜やディスプレイ表面に密着貼合されている。このため、裏面反射の影響は無視できる程度に小さくなる。本発明で取り扱う反射光強度プロファイルも、実態に近づけるべく裏面反射の影響をなくした状態で考察することが望ましく、具体的には、測定の際に反射防止フィルムの裏面を黒く塗ったり、粘着剤を介して黒色の樹脂フィルムやクロスニコル配置の偏光板と密着貼合したりすることにより測定できる。ここ用いている「表面凹凸に起因する反射強度」とは、これらの方法を用いて測定した反射強度のことを意味し、塗設層間の界面反射や内部粒子による散乱などの影響を少なからず含んでいる。すなわち、フィルム最表面と空気との界面に起因する反射強度のみに限定したものではない。 When used in an actual display, the surface (referred to as the back surface) opposite to the surface provided with the antiglare antireflection layer of the antireflection film is closely bonded to the polarizing film or the display surface. For this reason, the influence of back surface reflection becomes so small that it can be ignored. It is desirable to consider the reflected light intensity profile handled in the present invention in a state in which the influence of the back surface reflection is eliminated so as to be closer to the actual state. Specifically, the back surface of the antireflection film is painted black during the measurement, or an adhesive. It can measure by sticking and sticking to a black resin film or a polarizing plate with a crossed Nicol arrangement. As used herein, “reflection intensity due to surface irregularities” means the reflection intensity measured using these methods, and includes not only the effects of interface reflection between coating layers and scattering by internal particles. It is out. That is, it is not limited only to the reflection intensity resulting from the interface between the film outermost surface and air.
仮に、光量によらない反射像のボケかたを防眩性とすると、防眩性は反射光プロファイルの角度依存性と直接相関させて考えることができる。防眩性のない平滑な表面では、正反射から角度がつくと急激に強度が低下し、計算上|dRrel(θ)/dθ|の最大値は無限大になる。逆に|dRrel(θ)/dθ|の最大値が小さくなれば、光があらゆる角度に拡散し反射像のボケ、防眩性が大きくなることを意味する。dは微分記号であり、dRrel(θ)/dθは関数Rrel(θ)の接線の傾きを表している。実験的には観察角度θの測定刻みを小さくした時の光量変化を求めれば良く、本発明においてはθの測定刻みを0.1°として測定している。θの刻み値が1°を超えると(本来あるべき)反射光プロファイルとの誤差が大きくなり、本発明の規定範囲とずれを生じる可能性があるため、1°以下とすることが好ましい。測定手段としては例えば前述のような一般的な市販装置で測定可能である。 If the blur of the reflected image that does not depend on the amount of light is assumed to be anti-glare, the anti-glare can be considered in direct correlation with the angle dependence of the reflected light profile. On a smooth surface having no antiglare property, the strength rapidly decreases when the angle is changed from regular reflection, and the maximum value of | dR rel (θ) / dθ | Conversely, if the maximum value of | dR rel (θ) / dθ | is reduced, it means that light is diffused at all angles and the reflected image is more blurred and anti-glare. d is a differential symbol, and dR rel (θ) / dθ represents the slope of the tangent line of the function R rel (θ). Experimentally, it is only necessary to obtain a change in the light amount when the measurement step of the observation angle θ is reduced. In the present invention, the measurement step of θ is measured at 0.1 °. If the step value of θ exceeds 1 °, an error from the reflected light profile (which should be originally) increases, and there is a possibility of deviation from the specified range of the present invention. As a measuring means, for example, it can be measured with a general commercially available apparatus as described above.
実際に人が認識する反射像とは、この防眩性に反射強度の絶対値が掛け合わされた物理量であるということができ、すなわち表面の反射率が高くても反射像のボケが大きければ、反射率が低い平滑な表面と同等な視認性を示すと考えることができる。
しかしながら、表面の反射率が高いまま防眩性を強くすると、広い角度範囲まで反射光が散乱するために「白ボケ」といわれる問題が生じてしまう。本発明者らは、このような弊害がなく反射像の映り込みを低減するためには、反射光プロファイルを適値に制御することが非常に重要であるものと考えた。このように、本発明の反射プロファイルの関係を満たすことで、高価な多層反射防止膜などを用いずとも、画像ぼけ、白ボケのない高品位な反射防止フィルムを得ることができる。
The reflection image actually recognized by a person can be said to be a physical quantity obtained by multiplying the anti-glare property by the absolute value of the reflection intensity, that is, if the reflection image has a large blur even if the reflectance of the surface is high, It can be considered that the same visibility as a smooth surface with low reflectance is exhibited.
However, if the antiglare property is increased while the surface reflectance is high, the reflected light is scattered over a wide angle range, which causes a problem called “white blur”. The present inventors considered that it is very important to control the reflected light profile to an appropriate value in order to reduce the reflection of the reflected image without such a harmful effect. Thus, by satisfying the relationship of the reflection profile of the present invention, a high-quality antireflection film free from image blur and white blur can be obtained without using an expensive multilayer antireflection film.
反射光強度の角度依存性の一例を図2に示す。横軸はフィルム法線に対する反射角度(
受光部の角度θ)であり、フィルム法線方向が0°である。−5°の方向から平行光を入射しており、従って正反射方向である5°にピークがある。縦軸はピーク強度で規格化した相対反射強度Rrel(θ)である。
An example of the angle dependence of the reflected light intensity is shown in FIG. The horizontal axis is the reflection angle relative to the film normal (
Angle θ) of the light receiving portion, and the normal direction of the film is 0 °. Parallel light is incident from the direction of −5 °, and therefore has a peak at 5 °, which is the regular reflection direction. The vertical axis represents the relative reflection intensity R rel (θ) normalized by the peak intensity.
反射角度θに対する相対反射率R(θ)の最大変化量|dRrel(θ)/dθ|は、図中破線Aの傾きとして表現できる。この傾きが大きいほど防眩性は小さく、小さいほど防眩性は大きくなる。本発明では|dRrel(θ)/dθ|が0.35以上1.0未満、好ましくは0.40以上0.85未満とすることで、防眩性と画像ボケ、白ぼけの改善を同時に満足する反射防止フィルムを得ることができる。また、反射角度θに対する反射率の最大変化量|dR(θ)/dθ|(防眩性と反射率のトータル性能と考えることができる)は、本発明では0.005以上0.03未満、好ましくは0.008以上0.025未満とすることでも、防眩性と画像ボケ、白ぼけの改善を同時に満足する反射防止フィルムを得ることができる。
所望のプロファイルとなるように、透光性粒子の量、大きさを選択するとともに、塗布膜の乾燥及び硬化の条件を変更することにより、粒子の膜中での凝集の程度、凝集粒子の分布を変更する。
さらに上記いずれかの関係式を満たす反射防止フィルムにおいて、5°入射での鏡面反射率が0.5%以上3%未満であることが好ましく、0.5%以上2%未満がより好ましい。
The maximum change amount | dR rel (θ) / dθ | of the relative reflectance R (θ) with respect to the reflection angle θ can be expressed as the slope of the broken line A in the figure. The greater the inclination, the smaller the antiglare property, and the smaller, the greater the antiglare property. In the present invention, when | dR rel (θ) / dθ | is 0.35 or more and less than 1.0, preferably 0.40 or more and less than 0.85, the antiglare property, the image blur and the white blur are improved at the same time. A satisfactory antireflection film can be obtained. Further, in the present invention, the maximum change amount of reflectivity with respect to the reflection angle θ | dR (θ) / dθ | (which can be considered as the total performance of antiglare property and reflectivity) is 0.005 or more and less than 0.03. An antireflection film that satisfies both the antiglare property and the improvement of image blur and white blur can be obtained also by setting the content to preferably 0.008 or more and less than 0.025.
By selecting the amount and size of the light-transmitting particles so as to obtain a desired profile and changing the drying and curing conditions of the coating film, the degree of aggregation of the particles in the film and the distribution of the aggregated particles To change.
Further, in the antireflection film satisfying any one of the above relational expressions, the specular reflectance at 5 ° incidence is preferably 0.5% or more and less than 3%, and more preferably 0.5% or more and less than 2%.
1.本発明の構成物
まず、本発明のフィルムに使用することのできる各種化合物および支持体について記載する。
1. First, the various compounds and the support that can be used for the film of the present invention will be described.
1−(1)バインダー
本発明の反射防止フィルムは、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される少なくとも1層を含んで構成されることができる。すなわち、バインダーとして電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物(以下、硬化性組成物ともいう)を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより、該支持体上に反射防止機能に寄与する少なくとも1層の機能層を形成することができる。
1- (1) Binder The antireflection film of the present invention can comprise at least one layer formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound. That is, a coating composition containing an ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer as a binder (hereinafter also referred to as a curable composition) is coated on a transparent support, and the polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer is crosslinked. Alternatively, at least one functional layer contributing to the antireflection function can be formed on the support by a polymerization reaction.
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。 The functional group of the ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer is preferably a light, electron beam, or radiation polymerizable group, and among them, a photopolymerizable functional group is preferable. Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable.
[光重合性多官能モノマー]
光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、1,6−ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート等の多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;2,2−ビス{4−(アクリロキシ・ジエトキシ)フェニル}プロパン、2−2−ビス{4−(アクリロキシ・ポリプロポキシ)フェニル}プロパン等のエチレンオキシド又はプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類;等を挙げることができる。
[Photopolymerizable polyfunctional monomer]
Specific examples of the photopolymerizable polyfunctional monomer having a photopolymerizable functional group include (meth) alkylene glycols such as neopentyl glycol acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate, and propylene glycol di (meth) acrylate. Acrylic acid diesters; (Meth) acrylic acid of polyoxyalkylene glycols such as triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate Diesters; (meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohols such as pentaerythritol di (meth) acrylate; 2,2-bis {4- (acryloxy-diethoxy) phenyl} propane, 2--2-bi {4- (acryloxy · polypropoxy) phenyl} (meth) diesters acrylate of ethylene oxide or propylene oxide adducts such as propane; and the like.
さらにはエポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。 Furthermore, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, and polyester (meth) acrylates are also preferably used as the photopolymerizable polyfunctional monomer.
中でも、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、1,2,4−シクロヘキサンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールトリアクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールペンタアクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。 Among these, esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable. More preferably, a polyfunctional monomer having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule is preferable. Specifically, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, 1,2,4-cyclohexanetetra (meth) acrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, penta Erythritol tri (meth) acrylate, (di) pentaerythritol triacrylate, (di) pentaerythritol pentaacrylate, (di) pentaerythritol tetra (meth) acrylate, (di) pentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol triacrylate , Tripentaerythritol hexatriacrylate and the like.
モノマーバインダーとしては、各層の屈折率を制御するために、屈折率の異なるモノマーを用いることができる。特に高屈折率モノマーの例としては、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、4−メタクリロキシフェニル−4’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。また、例えば特開2005−76005号公報、同2005−36105号公報に記載されたデンドリマーや、例えば特開2005−60425号公報記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。
多官能モノマーは、2種類以上を併用してもよい。
As the monomer binder, monomers having different refractive indexes can be used to control the refractive index of each layer. Examples of particularly high refractive index monomers include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinyl naphthalene, vinyl phenyl sulfide, 4-methacryloxyphenyl-4′-methoxyphenyl thioether, and the like. Further, for example, dendrimers described in JP-A-2005-76005 and JP-A-2005-36105, and norbornene ring-containing monomers as described in JP-A-2005-60425 can also be used.
Two or more polyfunctional monomers may be used in combination.
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤又は熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。 Polymerization of these monomers having an ethylenically unsaturated group can be performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photo radical initiator or a thermal radical initiator.
光重合性多官能モノマーの重合反応には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。 It is preferable to use a photopolymerization initiator for the polymerization reaction of the photopolymerizable polyfunctional monomer. As the photopolymerization initiator, a photoradical polymerization initiator and a photocationic polymerization initiator are preferable, and a photoradical polymerization initiator is particularly preferable.
〔ポリマーバインダー〕
本発明にはバインダーとして、無架橋のポリマー又は架橋しているポリマーを用いることができる。架橋しているポリマーはアニオン性基を有するのが好ましい。架橋しているアニオン性基を有するポリマーは、アニオン性基を有するポリマーの主鎖が架橋している構造を有する。
[Polymer binder]
In the present invention, an uncrosslinked polymer or a crosslinked polymer can be used as the binder. The crosslinked polymer preferably has an anionic group. The polymer having a crosslinked anionic group has a structure in which the main chain of the polymer having an anionic group is crosslinked.
ポリマーの主鎖の例には、ポリオレフィン(飽和炭化水素)、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミド及びメラミン樹脂が含まれる。ポリオレフィン主鎖、ポリエーテル主鎖及びポリウレア主鎖が好ましく、ポリオレフィン主鎖及びポリエーテル主鎖がさらに好ましく、ポリオレフィン主鎖が最も好ましい。 Examples of the polymer main chain include polyolefin (saturated hydrocarbon), polyether, polyurea, polyurethane, polyester, polyamine, polyamide and melamine resin. A polyolefin main chain, a polyether main chain and a polyurea main chain are preferable, a polyolefin main chain and a polyether main chain are more preferable, and a polyolefin main chain is most preferable.
ポリオレフィン主鎖は飽和炭化水素からなる。ポリオレフィン主鎖は、例えば、不飽和重合性基の付加重合反応により得られる。ポリエーテル主鎖は、エーテル結合(−O−)によって繰り返し単位が結合している。ポリエーテル主鎖は、例えば、エポキシ基の開環重合反応により得られる。ポリウレア主鎖は、ウレア結合(−NH−CO−NH−)によって、繰り返し単位が結合している。ポリウレア主鎖は、例えば、イソシアネート基とアミノ基との縮重合反応により得られる。ポリウレタン主鎖はウレタン結合(−NH−CO−O−)によって、繰り返し単位が結合している。ポリウレタン主鎖は、例えば、イソシアネート基と、水酸基(N−メチロール基を含む)との縮重合反応により得られる。 The polyolefin main chain consists of saturated hydrocarbons. The polyolefin main chain is obtained, for example, by an addition polymerization reaction of an unsaturated polymerizable group. The polyether main chain has repeating units bonded by an ether bond (—O—). The polyether main chain is obtained, for example, by a ring-opening polymerization reaction of an epoxy group. In the polyurea main chain, repeating units are bonded by a urea bond (—NH—CO—NH—). The polyurea main chain is obtained, for example, by a condensation polymerization reaction between an isocyanate group and an amino group. The polyurethane main chain has repeating units bonded by urethane bonds (—NH—CO—O—). The polyurethane main chain is obtained, for example, by a polycondensation reaction between an isocyanate group and a hydroxyl group (including an N-methylol group).
ポリエステル主鎖は、エステル結合(−CO−O−)によって繰り返し単位が結合している。ポリエステル主鎖は、例えば、カルボキシル基(酸ハライド基を含む)と水酸基(N−メチロール基を含む)との縮重合反応により得られる。ポリアミン主鎖はイミノ結合(−NH−)によって、繰り返し単位が結合している。ポリアミン主鎖は、例えば、エチレンイミン基の開環重合反応により得られる。ポリアミド主鎖は、アミド結合(−NH−CO−)によって、繰り返し単位が結合している。ポリアミド主鎖は、例えば、イソシアネート基とカルボキシル基(酸ハライド基を含む)との反応により得られる。メラミン樹脂主鎖は、例えば、トリアジン基(例えばメラミン)とアルデヒド(例えばホルムアルデヒド)との縮重合反応により得られる。なお、メラミン樹脂は、主鎖そのものが架橋構造を有する。 The polyester main chain has repeating units bonded by an ester bond (—CO—O—). The polyester main chain is obtained, for example, by a polycondensation reaction between a carboxyl group (including an acid halide group) and a hydroxyl group (including an N-methylol group). The polyamine main chain has repeating units bonded by imino bonds (—NH—). The polyamine main chain is obtained, for example, by a ring-opening polymerization reaction of an ethyleneimine group. The polyamide main chain has repeating units bonded by an amide bond (—NH—CO—). The polyamide main chain is obtained, for example, by a reaction between an isocyanate group and a carboxyl group (including an acid halide group). The melamine resin main chain is obtained, for example, by a condensation polymerization reaction between a triazine group (for example, melamine) and an aldehyde (for example, formaldehyde). In the melamine resin, the main chain itself has a crosslinked structure.
アニオン性基は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、又は連結基を介して主鎖に結合させる。アニオン性基は、連結基を介して側鎖として主鎖に結合させることが好ましい。アニオン性基の例としては、カルボン酸基(カルボキシル基)、スルホン酸基(スルホ基)及びリン酸基(ホスホノ基)などが挙げられ、スルホン酸基及びリン酸基が好ましい。アニオン性基は塩の状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成するカチオンは、アルカリ金属イオンであることが好ましい。また、アニオン性基のプロトンは解離していてもよい。 The anionic group is bonded directly to the main chain of the polymer or bonded to the main chain via a linking group. The anionic group is preferably bonded to the main chain as a side chain via a linking group. Examples of the anionic group include a carboxylic acid group (carboxyl group), a sulfonic acid group (sulfo group), and a phosphoric acid group (phosphono group), and a sulfonic acid group and a phosphoric acid group are preferable. The anionic group may be in a salt state. The cation that forms a salt with the anionic group is preferably an alkali metal ion. Moreover, the proton of the anionic group may be dissociated.
アニオン性基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、−CO−、−O−、アルキレン基、アリーレン基、及びこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。 The linking group that binds the anionic group and the polymer main chain is preferably a divalent group selected from —CO—, —O—, an alkylene group, an arylene group, and combinations thereof.
架橋構造は2つ以上の主鎖を化学的に結合(好ましくは共有結合)するものであるが、3つ以上の主鎖を共有結合することが好ましい。架橋構造は、−CO−、−O−、−S−、窒素原子、リン原子、脂肪族残基、芳香族残基及びこれらの組み合わせから選ばれる二価以上の基からなることが好ましい。 The crosslinked structure is a structure in which two or more main chains are chemically bonded (preferably covalent bonds), but it is preferable to covalently bond three or more main chains. The crosslinked structure is preferably composed of a divalent or higher valent group selected from —CO—, —O—, —S—, a nitrogen atom, a phosphorus atom, an aliphatic residue, an aromatic residue, and combinations thereof.
架橋しているアニオン性基を有するポリマーは、アニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好ましい。コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、2〜96質量%であることが好ましく、4〜94質量%であることがさらに好ましく、6〜92質量%であることが最も好ましい。繰り返し単位は、2つ以上のアニオン性基を有していてもよい。コポリマー中の架橋構造を有する繰り返し単位の割合は、4〜98質量%であることが好ましく、6〜96質量%であることがさらに好ましく、8〜94質量%であることが最も好ましい。 The crosslinked polymer having an anionic group is preferably a copolymer having a repeating unit having an anionic group and a repeating unit having a crosslinked structure. The proportion of the repeating unit having an anionic group in the copolymer is preferably 2 to 96% by mass, more preferably 4 to 94% by mass, and most preferably 6 to 92% by mass. The repeating unit may have two or more anionic groups. The proportion of the repeating unit having a crosslinked structure in the copolymer is preferably 4 to 98% by mass, more preferably 6 to 96% by mass, and most preferably 8 to 94% by mass.
架橋しているアニオン性基を有するポリマーの繰り返し単位は、アニオン性基と架橋構造の双方を有していてもよい。また、その他の繰り返し単位(アニオン性基も架橋構造もない繰り返し単位)が含まれていてもよい。 The repeating unit of the polymer having a crosslinked anionic group may have both an anionic group and a crosslinked structure. Further, other repeating units (repeating units having neither an anionic group nor a crosslinked structure) may be contained.
その他の繰り返し単位としては、アミノ基又は四級アンモニウム基を有する繰り返し単位及びベンゼン環を有する繰り返し単位が好ましい。アミノ基又は四級アンモニウム基は、アニオン性基と同様に無機粒子の分散状態を維持する機能を有する。なお、アミノ基、四級アンモニウム基及びベンゼン環は、アニオン性基を有する繰り返し単位、又は架橋構造を有する繰り返し単位に含まれていても同様の効果が得られる。 Other repeating units are preferably a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group and a repeating unit having a benzene ring. The amino group or quaternary ammonium group has a function of maintaining the dispersed state of the inorganic particles in the same manner as the anionic group. In addition, even if the amino group, the quaternary ammonium group and the benzene ring are contained in a repeating unit having an anionic group or a repeating unit having a crosslinked structure, the same effect can be obtained.
アミノ基又は四級アンモニウム基を有する繰り返し単位では、アミノ基又は四級アンモニウム基は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、又は連結基を介して主鎖に結合させる。アミノ基又は四級アンモニウム基は、連結基を介して側鎖として、主鎖に結合させるこ
とが好ましい。アミノ基又は四級アンモニウム基は、二級アミノ基、三級アミノ基又は四級アンモニウム基であることが好ましく、三級アミノ基又は四級アンモニウム基であることがさらに好ましい。二級アミノ基、三級アミノ基又は四級アンモニウム基の窒素原子に結合する基は、アルキル基であることが好ましく、炭素数が1〜12のアルキル基であることが好ましく、炭素数が1〜6のアルキル基であることがさらに好ましい。
四級アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオンであることが好ましい。
In a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group, the amino group or quaternary ammonium group is bonded directly to the main chain of the polymer or bonded to the main chain via a linking group. The amino group or quaternary ammonium group is preferably bonded to the main chain as a side chain via a linking group. The amino group or quaternary ammonium group is preferably a secondary amino group, a tertiary amino group or a quaternary ammonium group, and more preferably a tertiary amino group or a quaternary ammonium group. The group bonded to the nitrogen atom of the secondary amino group, tertiary amino group or quaternary ammonium group is preferably an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and 1 carbon atom. More preferably, it is an alkyl group of ˜6.
The counter ion of the quaternary ammonium group is preferably a halide ion.
アミノ基又は四級アンモニウム基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、−CO−、−NH−、−O−、アルキレン基、アリーレン基、及びこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。架橋しているアニオン性基を有するポリマーが、アミノ基又は四級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は0.06〜32質量%であることが好ましく、0.08〜30質量%であることがさらに好ましく、0.1〜28質量%であることが最も好ましい。 The linking group that connects the amino group or quaternary ammonium group to the polymer main chain is a divalent group selected from -CO-, -NH-, -O-, an alkylene group, an arylene group, and combinations thereof. Preferably there is. When the polymer having a crosslinked anionic group contains a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group, the ratio is preferably 0.06 to 32% by mass, and 0.08 to 30% by mass. It is more preferable that it is 0.1 to 28% by mass.
[含フッ素ポリマー]
本発明にはポリマーのバインダーのうち、特に低屈折率層には含フッ素ポリマーを好ましく用いることができる。
[Fluoropolymer]
Of the polymer binders in the present invention, a fluorine-containing polymer can be preferably used particularly for the low refractive index layer.
(含フッ素ビニルモノマー重合単位)
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等)、(メタ)アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(商品名、大阪有機化学製)やR−2020(商品名、ダイキン製)等)、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはペルフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。これらの含フッ素ビニルモノマーの組成比を上げれば屈折率を下げることができるが、皮膜強度は低下する。本発明では共重合体のフッ素含率が20〜60質量%となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは25〜55質量%の場合であり、特に好ましくは30〜50質量%の場合である。
(Fluorine-containing vinyl monomer polymerization unit)
Examples of the fluorine-containing vinyl monomer include fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, etc.), (meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, biscoat 6FM (trade name) , Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) and R-2020 (trade name, manufactured by Daikin Co., Ltd.), fully or partially fluorinated vinyl ethers, and the like, preferably perfluoroolefins, refractive index, solubility, transparency, From the viewpoint of availability and the like, hexafluoropropylene is particularly preferable. Increasing the composition ratio of these fluorinated vinyl monomers can lower the refractive index but lowers the film strength. In the present invention, the fluorine-containing vinyl monomer is preferably introduced so that the fluorine content of the copolymer is 20 to 60% by mass, more preferably 25 to 55% by mass, and particularly preferably 30 to 50%. This is a case of mass%.
架橋反応性付与のための構成単位としては、主として以下の(A)、(B)、(C)で示される単位が挙げられる。
(A):グリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内に予め自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、
(B):カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等)の重合によって得られる構成単位、
(C):分子内に上記(A)、(B)の官能基と反応する基とそれとは別に架橋性官能基を有する化合物を、上記(A)、(B)の構成単位と反応させて得られる構成単位、(例えばヒドロキシル基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で合成できる構成単位)が挙げられる。
Examples of the structural unit for imparting crosslinking reactivity mainly include units represented by the following (A), (B), and (C).
(A): a structural unit obtained by polymerization of a monomer having a self-crosslinkable functional group in the molecule in advance such as glycidyl (meth) acrylate and glycidyl vinyl ether,
(B): a monomer having a carboxyl group, a hydroxy group, an amino group, a sulfo group, etc. (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether) , Maleic acid, crotonic acid, etc.)
(C): a group having a crosslinkable functional group separately from a group that reacts with the functional group of (A) or (B) in the molecule and a structural unit of (A) or (B) above. Examples of the structural unit to be obtained include (for example, a structural unit that can be synthesized by a technique such as allowing acrylic acid chloride to act on a hydroxyl group).
上記(C)の構成単位は該架橋性官能基が光重合性基であることが好ましい。ここに、光重合性基としては、例えば(メタ)アクリロイル基、アルケニル基、シンナモイル基、シンナミリデンアセチル基、ベンザルアセトフェノン基、スチリルピリジン基、α−フェニルマレイミド基、フェニルアジド基、スルフォニルアジド基、カルボニルアジド基、ジアゾ基、o−キノンジアジド基、フリルアクリロイル基、クマリン基、ピロン基、アントラセン基、ベンゾフェノン基、スチルベン基、ジチオカルバメート基、キサンテート基、1,2,3−チアジアゾール基、シクロプロペン基、アザジオキサビシクロ基などを挙げ
ることができ、これらは1種のみでなく2種以上であってもよい。これらのうち、(メタ)アクリロイル基及びシンナモイル基が好ましく、特に好ましくは(メタ)アクリロイル基である。
In the structural unit (C), the crosslinkable functional group is preferably a photopolymerizable group. Here, examples of the photopolymerizable group include (meth) acryloyl group, alkenyl group, cinnamoyl group, cinnamylideneacetyl group, benzalacetophenone group, styrylpyridine group, α-phenylmaleimide group, phenylazide group, sulfonylazide. Group, carbonyl azide group, diazo group, o-quinonediazide group, furylacryloyl group, coumarin group, pyrone group, anthracene group, benzophenone group, stilbene group, dithiocarbamate group, xanthate group, 1,2,3-thiadiazole group, cyclo A propene group, an azadioxabicyclo group, etc. can be mentioned, These may be not only 1 type but 2 or more types. Of these, a (meth) acryloyl group and a cinnamoyl group are preferable, and a (meth) acryloyl group is particularly preferable.
光重合性基含有共重合体を調製するための具体的な方法としては、下記の方法を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
a.水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、(メタ)アクリル酸クロリドを反応させてエステル化する方法、
b.水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、イソシアネート基を含有する(メタ)アクリル酸エステルを反応させてウレタン化する方法、
c.エポキシ基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、(メタ)アクリル酸を反応させてエステル化する方法、
d.カルボキシル基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、エポキシ基を含有する含有(メタ)アクリル酸エステルを反応させてエステル化する方法。
Specific methods for preparing the photopolymerizable group-containing copolymer include, but are not limited to, the following methods.
a. A method of esterifying by reacting a (meth) acrylic acid chloride with a crosslinkable functional group-containing copolymer containing a hydroxyl group,
b. A method of urethanization by reacting an isocyanate group-containing (meth) acrylic ester with a crosslinkable functional group-containing copolymer containing a hydroxyl group,
c. A method of reacting (meth) acrylic acid with a crosslinkable functional group-containing copolymer containing an epoxy group,
d. A method in which a crosslinkable functional group-containing copolymer containing a carboxyl group is reacted with a containing (meth) acrylic acid ester containing an epoxy group for esterification.
なお、上記光重合性基の導入量は任意に調節することができ、塗膜面状安定性・無機粒子共存時の面状故障低下・膜強度向上などの点からカルボキシル基やヒドロキシル基等を一定量残すことも好ましい。 The amount of the photopolymerizable group introduced can be arbitrarily adjusted, and the carboxyl group, hydroxyl group, etc. can be controlled from the viewpoints of surface stability of the coating film, reduction of surface failure when coexisting with inorganic particles, and improvement of film strength. It is also preferable to leave a certain amount.
本発明に有用な共重合体では、上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位、及び側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、基材への密着性、ポリマーのTg(皮膜硬度に寄与する)、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の0〜65モル%の範囲で導入されていることが好ましく、0〜40モル%の範囲であることがより好ましく、0〜30モル%の範囲であることが特に好ましい。 In the copolymer useful for the present invention, in addition to the repeating unit derived from the above-mentioned fluorine-containing vinyl monomer and the repeating unit having a (meth) acryloyl group in the side chain, the adhesion to the substrate, the Tg of the polymer (film hardness) Other vinyl monomers can be copolymerized as appropriate from various viewpoints such as solubility in solvents, transparency, slipperiness, dust resistance and antifouling properties. A plurality of these vinyl monomers may be combined depending on the purpose, and are preferably introduced in the range of 0 to 65 mol% in the copolymer in total, and in the range of 0 to 40 mol%. More preferably, it is particularly preferably in the range of 0 to 30 mol%.
併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸2‐ヒドロキシエチル等)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル等)、スチレン誘導体(スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン、p−メトキシスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、不飽和カルボン酸類(アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等)、アクリルアミド類(N,N−ジメチルアクリルアミド、N−tert−ブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類(N,N−ジメチルメタクリルアミド)、アクリロニトリル等を挙げることができる。 The vinyl monomer unit that can be used in combination is not particularly limited. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid) 2-ethylhexyl, 2-hydroxyethyl acrylate, etc.), methacrylic acid esters (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, p-hydroxymethylstyrene, p-methoxystyrene, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate) , Vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), unsaturated carboxylic acids (acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid, etc.), acrylamides (N, N-dimethylacrylamide, N-tert-butylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, etc.), methacrylamides (N, N-dimethylmethacrylamide), acrylonitrile and the like.
本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、ペルフルオロオレフィンとビニルエーテル類又はビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基{(メタ)アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等}を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の5〜70モル%を占めていることが好ましく、特に好ましくは30〜60モル%の場合である。好ましいポリマーについては、特開2002−243907号、特開2002−372601号、特開2003−26732号、特開2003−222702号、特開2003−294911号、特開2003−329804号、特開2004−4444、特開2004−45462号の各公報に記載のものを挙げることができる。 The fluorine-containing polymer particularly useful in the present invention is a random copolymer of perfluoroolefin and vinyl ethers or vinyl esters. In particular, it preferably has a group capable of undergoing crosslinking reaction alone {a radical reactive group such as a (meth) acryloyl group, a ring-opening polymerizable group such as an epoxy group or an oxetanyl group}. These cross-linking reactive group-containing polymer units preferably occupy 5 to 70 mol%, particularly preferably 30 to 60 mol%, of the total polymerized units of the polymer. Regarding preferred polymers, JP-A-2002-243907, JP-A-2002-372601, JP-A-2003-26732, JP-A-2003-222702, JP-A-2003-294911, JP-A-2003-329804, JP-A-2004. -4444 and JP-A-2004-45462.
また本発明の含フッ素ポリマーには、防汚性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていることが好ましい。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが例えば特開平6−93100号、特開平11−189621号、同11−228631号、特開2000−313709号の各公報に記載のごとく、シリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法及び、特開平2−251555号、同2−308806号の各公報に記載のごとく、シリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。特に好ましい化合物としては、特開平11−189621号公報の実施例1、2及び3のポリマー、又は特開平2−251555号公報の共重合体A−2及びA−3を挙げることができる。これらのポリシロキサン成分はポリマー中の0.5〜10質量%であることが好ましく、特に好ましくは1〜5質量%である。 Moreover, it is preferable that the polysiloxane structure is introduce | transduced into the fluorine-containing polymer of this invention for the purpose of providing antifouling property. There is no limitation on the method of introducing the polysiloxane structure, but for example, as described in JP-A-6-93100, JP-A-11-189621, JP-A-11-228631 and JP-A-2000-313709, the initiation of silicone macroazo Introducing a polysiloxane graft copolymer component using a silicone macromer as described in JP-A-2-251555 and JP-A-2-308806 The method is preferred. Particularly preferred compounds include the polymers of Examples 1, 2 and 3 of JP-A-11-189621, and copolymers A-2 and A-3 of JP-A-2-251555. These polysiloxane components are preferably 0.5 to 10% by mass in the polymer, and particularly preferably 1 to 5% by mass.
本発明に好ましく用いることのできるポリマーの好ましい分子量は、質量平均分子量が5000以上、好ましくは10000〜500000、最も好ましくは15000〜200000である。平均分子量の異なるポリマーを併用することで塗膜面状の改良や耐傷性の改良を行うこともできる。 The preferred molecular weight of the polymer that can be preferably used in the present invention is a mass average molecular weight of 5,000 or more, preferably 10,000 to 500,000, most preferably 15,000 to 200,000. By using polymers having different average molecular weights in combination, it is possible to improve the surface state of the coating film and the scratch resistance.
上記のポリマーに対しては、特開平10−25388号公報及び特開2000−17028号公報に記載のごとく適宜重合性不飽和基を有する硬化剤を併用してもよい。また、特開2002−145952号公報に記載のごとく、含フッ素の多官能の重合性不飽和基を有する化合物との併用も好ましい。多官能の重合性不飽和基を有する化合物の例としては、前記ハードコート層で述べた多官能モノマーを挙げることができる。これら化合物は、特にポリマー本体に重合性不飽和基を有する化合物を用いた場合に耐擦傷性改良に対する併用効果が大きく好ましい。 As described in JP-A-10-25388 and JP-A-2000-17028, a curing agent having a polymerizable unsaturated group may be used in combination with the above polymer. Further, as described in JP-A-2002-145952, combined use with a compound having a fluorine-containing polyfunctional polymerizable unsaturated group is also preferable. Examples of the compound having a polyfunctional polymerizable unsaturated group include the polyfunctional monomers described in the hard coat layer. These compounds are particularly preferred because they have a large combined effect for improving scratch resistance, particularly when a compound having a polymerizable unsaturated group is used in the polymer body.
〔オルガノシラン化合物〕
本発明の反射防止フィルムにおける機能層には、オルガノシラン化合物の加水分解物及び/又はその部分縮合物等(以下、得られた反応溶液を「ゾル成分」とも称する)を含有させることが、耐擦傷性の点で好ましい。
[Organosilane compound]
The functional layer in the antireflection film of the present invention contains a hydrolyzate of an organosilane compound and / or a partial condensate thereof (hereinafter, the obtained reaction solution is also referred to as “sol component”). It is preferable in terms of scratch resistance.
このゾル成分は、前記硬化性組成物を塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成することによりバインダーとして機能する。また、多官能アクリレートポリマーを有する場合、活性光線の照射により3次元構造を有するバインダーが形成される。 This sol component functions as a binder by applying the curable composition and then condensing in a drying and heating process to form a cured product. Moreover, when it has a polyfunctional acrylate polymer, the binder which has a three-dimensional structure is formed by irradiation of actinic light.
上記オルガノシラン化合物は、下記一般式(1)で表されるものが好ましい。
一般式(1):(R10)m1−Si(X11)4-m1
上記一般式(1)において、R10は置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜6のものである。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
The organosilane compound is preferably represented by the following general formula (1).
Formula (1) :( R 10) m1 -Si (X 11) 4-m1
In the general formula (1), R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, hexyl, decyl, hexadecyl and the like. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 6 carbon atoms. Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl, and a phenyl group is preferable.
X11は、水酸基又は加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基(炭素数1〜5のアルコキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる)、ハロゲン原子(例えばCl、Br、I等)、及びR11COO(R11は水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基が好ましく、例えばCH3COO、C2H5COO等が挙げられる)で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。
m1は1〜3の整数を表し、好ましくは1又は2であり、特に好ましくは1である。
X 11 represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, for example, an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, such as a methoxy group or an ethoxy group), a halogen atom (for example, Cl, Br, I Etc.), and R 11 COO (R 11 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, such as CH 3 COO, C 2 H 5 COO, etc.). Is an alkoxy group, particularly preferably a methoxy group or an ethoxy group.
m1 represents an integer of 1 to 3, preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.
R10又はX11が複数存在するとき、複数のR10又はX11はそれぞれ同じであっても、異なっていてもよい。 When R 10 or the X 11 there are a plurality, even more R 10 or X 11 is the same, respectively, may be different.
R10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素等)、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基(メチル、エチル、i−プロピル、プロピル、t−ブチル等)、アリール基(フェニル、ナフチル等)、芳香族ヘテロ環基(フリル、ピラゾリル、ピリジル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、i−プロポキシ、ヘキシルオキシ等)、アリールオキシ(フェノキシ等)、アルキルチオ基(メチルチオ、エチルチオ等)、アリールチオ基(フェニルチオ等)、アルケニル基(ビニル、1−プロペニル等)、アシルオキシ基(アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−メチル−N−オクチルカルバモイル等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等)等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。 The substituent contained in R 10 is not particularly limited, but a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, etc.), hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, epoxy group, alkyl group (methyl, ethyl, i-propyl, propyl, t-butyl etc.), aryl groups (phenyl, naphthyl etc.), aromatic heterocyclic groups (furyl, pyrazolyl, pyridyl etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, i-propoxy, hexyloxy etc.), aryloxy (phenoxy etc.) ), Alkylthio groups (methylthio, ethylthio, etc.), arylthio groups (phenylthio, etc.), alkenyl groups (vinyl, 1-propenyl, etc.), acyloxy groups (acetoxy, acryloyloxy, methacryloyloxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (methoxycarbonyl, ethoxy) Carbonyl, etc.), aryloxy Carbonyl groups (phenoxycarbonyl, etc.), carbamoyl groups (carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-methyl-N-octylcarbamoyl, etc.), acylamino groups (acetylamino, benzoylamino, acrylicamino, methacrylamino) Etc.), and these substituents may be further substituted.
R10が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。 When there are a plurality of R 10 s , at least one is preferably a substituted alkyl group or a substituted aryl group.
上記一般式(1)で表されるオルガノシラン化合物の中でも、下記一般式(1−1)で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。
一般式(1−1):
Among the organosilane compounds represented by the general formula (1), an organosilane compound having a vinyl polymerizable substituent represented by the following general formula (1-1) is preferable.
General formula (1-1):
上記一般式(1−1)において、R12は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、又は塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、及び塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、及び塩素原子が更に好ましく、水素原子及びメチル基が特に好ましい。 In the general formula (1-1), R 12 represents a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, an alkoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom, or a chlorine atom. Examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group. A hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, a methoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom, and a chlorine atom are preferable, a hydrogen atom, a methyl group, a methoxycarbonyl group, a fluorine atom, and a chlorine atom are more preferable, and a hydrogen atom and a methyl group Is particularly preferred.
Y11は単結合又は、*−COO−**、*−CONH−**もしくは*−O−**を表し、単結合、*−COO−**及び*−CONH−**が好ましく、単結合及び*−COO−**が更に好ましく、*−COO−**が特に好ましい。*は=C(R12)−に結合する位置を、**はL11に結合する位置を表す。 Y 11 represents a single bond or * -COO-**, * -CONH-** or * -O-**, preferably a single bond, * -COO-** or * -CONH-**. Bonds and * -COO-** are more preferred, and * -COO-** is particularly preferred. * Represents a position bonded to ═C (R 12 ) —, and ** represents a position bonded to L 11 .
L11は2価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基(例えば、エーテル、エステル、アミドなど)を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテル又はエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテル又はエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。 L 11 represents a divalent linking chain. Specifically, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted alkylene group having a linking group (for example, ether, ester, amide, etc.) inside, and a linking group inside. A substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, an alkylene group having a linking group therein is preferred, an unsubstituted alkylene group, an unsubstituted arylene group Further, an alkylene group having an ether or ester linking group inside is more preferred, an unsubstituted alkylene group, and an alkylene group having an ether or ester linking group inside is particularly preferred. Examples of the substituent include a halogen, a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, and an aryl group, and these substituents may be further substituted.
m2は0又は1を表し、好ましくは0である。
R10は一般式(1)におけるR10と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、又は無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、又は無置換のアリール基が更に好ましい。
m2 represents 0 or 1, and is preferably 0.
R 10 has the same meaning as R 10 in formula (1), and is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group or an unsubstituted aryl group, more preferably an unsubstituted alkyl group or an unsubstituted aryl group.
X11は一般式(1)におけるX11と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数1〜6のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数1〜3のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。X11が複数存在するとき、複数のX11はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。 X 11 has the same meaning as X 11 in formula (1), preferably a halogen atom, a hydroxyl group or an unsubstituted alkoxy group, more preferably a chlorine atom, a hydroxyl group or an unsubstituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. Further, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms is more preferable, and a methoxy group is particularly preferable. When X 11 there are a plurality, it may be different even multiple X 11 is the same, respectively.
一般式(1)、一般式(1−1)の化合物は2種類以上を併用してもよい。 Two or more compounds of the general formula (1) and the general formula (1-1) may be used in combination.
以下に一般式(1)、一般式(1−1)で表される化合物の具体例を示すが、限定されるものではない。 Although the specific example of a compound represented by General formula (1) and General formula (1-1) below is shown, it is not limited.
これらのうち、(M−1)、(M−2)、及び(M−5)が特に好ましい。 Of these, (M-1), (M-2), and (M-5) are particularly preferable.
[触媒]
そして、前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び/又は部分縮合物は、一般に、前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で処理して製造されるものである。
[catalyst]
The hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound is generally produced by treating the organosilane compound in the presence of a catalyst.
触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類;蓚酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類;トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類;トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類;Zr、Ti又はAlなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられる。本発明においては、金属キレート化合物、無機酸類及び有機酸類の酸触媒を用いるのが好ましい。無機酸では塩酸、硫酸が好ましく、有機酸では、水中での酸解離定数{pKa値(25℃)}が4.5以下のものが好ましく、更には、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が3.0以下の有機酸が好ましく、特に、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が好ましく、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が更に好ましく、具体的には、メタンスルホン酸、蓚酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、蓚酸が特に好ましい。 Catalysts include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid; organic acids such as oxalic acid, acetic acid, formic acid, methanesulfonic acid and toluenesulfonic acid; inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonia; triethylamine and pyridine Organic bases such as: metal alkoxides such as triisopropoxyaluminum and tetrabutoxyzirconium; metal chelate compounds having a metal such as Zr, Ti or Al as a central metal. In the present invention, it is preferable to use a metal chelate compound, an acid catalyst of inorganic acids and organic acids. Inorganic acids are preferably hydrochloric acid and sulfuric acid, and organic acids are preferably those having an acid dissociation constant {pKa value (25 ° C.)} of 4.5 or less in water, and further, acid dissociation constants in hydrochloric acid, sulfuric acid and water. Is preferably an organic acid having an acid dissociation constant of 2.5 or less in hydrochloric acid, sulfuric acid or water, more preferably an organic acid having an acid dissociation constant of 2.5 or less in water. Specifically, methanesulfonic acid, oxalic acid, phthalic acid, and malonic acid are more preferable, and oxalic acid is particularly preferable.
(金属キレート化合物)
金属キレート化合物としては、一般式R01OH(式中、R01は炭素数1〜10のアルキル基を示す)で表されるアルコールと、R02COCH2COR03(式中、R02は炭素数1〜10のアルキル基、R03は炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数1〜10のアルコキシ基を示す)で表される化合物とを配位子とした、Zr、Ti、Alから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、2種以上の金属キレート化合物を併用してもよい。
(Metal chelate compound)
Examples of the metal chelate compound include an alcohol represented by a general formula R 01 OH (where R 01 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms), and R 02 COCH 2 COR 03 (where R 02 represents carbon. From Zr, Ti, and Al having a ligand represented by a compound represented by an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 03 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms) Any metal having a selected metal as a central metal can be suitably used without particular limitation. Within this category, two or more metal chelate compounds may be used in combination.
本発明に用いられる金属キレート化合物は、一般式Zr(OR01)p1(R02COCHCOR03)p2、Ti(OR01)q1(R02COCHCOR03)q2、及びAl(OR01)r1(R02COCHCOR03)r2で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノ
シラン化合物の加水分解物及び/又は部分縮合物の縮合反応を促進する作用をなす。
The metal chelate compound used in the present invention is represented by the general formula Zr (OR 01 ) p1 (R 02 COCHCOR 03 ) p2 , Ti (OR 01 ) q1 (R 02 COCHCOR 03 ) q2 , and Al (OR 01 ) r1 (R 02 Those selected from the group of compounds represented by COCHCOR 03 ) r2 are preferred, and they serve to promote the condensation reaction of the hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound.
金属キレート化合物中のR01及びR02は、同一又は異なってもよく、炭素数1〜10のアルキル基、具体的にはエチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、又はフェニル基などである。また、R03は、前記と同様の炭素数1〜10のアルキル基のほか、炭素数1〜10のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のp1、p2、q1、q2、r1、及びr2は、それぞれp1+p2=4、q1+q2=4、r1+r2=3となる様に決定される整数を表す。 R 01 and R 02 in the metal chelate compound may be the same or different, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, specifically, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, An s-butyl group, a t-butyl group, an n-pentyl group, or a phenyl group. R 03 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms as described above, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an i-propoxy group, and n-butoxy. Group, s-butoxy group, t-butoxy group and the like. Moreover, p1, p2, q1, q2, r1, and r2 in the metal chelate compound represent integers determined so as to be p1 + p2 = 4, q1 + q2 = 4, and r1 + r2 = 3, respectively.
これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−n−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−n−ブトキシビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、n−ブトキシトリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(n−プロピルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(アセチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(エチルアセトアセテート)ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物;ジイソプロポキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセトナート)チタニウムなどのチタニウムキレート化合物;ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、イソプロポキシビス(アセチルアセトナート)アルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(アセチルアセトナート)アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス(エチルアセトアセテート)アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。 Specific examples of these metal chelate compounds include tri-n-butoxyethylacetoacetate zirconium, di-n-butoxybis (ethylacetoacetate) zirconium, n-butoxytris (ethylacetoacetate) zirconium, tetrakis (n-propylacetate). Zirconium chelate compounds such as acetate) zirconium, tetrakis (acetylacetoacetate) zirconium, tetrakis (ethylacetoacetate) zirconium; diisopropoxy bis (ethylacetoacetate) titanium, diisopropoxy bis (acetylacetate) titanium, diiso Titanium chelate compounds such as propoxy bis (acetylacetonate) titanium; diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, dii Propoxyacetylacetonate aluminum, isopropoxybis (ethylacetoacetate) aluminum, isopropoxybis (acetylacetonate) aluminum, tris (ethylacetoacetate) aluminum, tris (acetylacetonate) aluminum, monoacetylacetonate bis (ethyl) An aluminum chelate compound such as acetoacetate) aluminum.
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−n−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセトナート)チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、1種単独で又は2種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。 Among these metal chelate compounds, tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, diisopropoxy bis (acetylacetonate) titanium, diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, and tris (ethyl acetoacetate) aluminum are preferable. . These metal chelate compounds can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Moreover, the partial hydrolyzate of these metal chelate compounds can also be used.
(β−ジケトン化合物及びβ−ケトエステル化合物)
また、本発明においては、前記硬化性組成物に、更にβ−ジケトン化合物及び/又はβ−ケトエステル化合物が添加されることが好ましい。以下にさらに説明する。
(Β-diketone compound and β-ketoester compound)
In the present invention, it is preferable that a β-diketone compound and / or a β-ketoester compound is further added to the curable composition. This will be further described below.
本発明で使用されるのは、一般式R02COCH2COR03で表されるβ−ジケトン化合物及び/又はβ−ケトエステル化合物であり、本発明に用いられる硬化性組成物の安定性向上剤として作用するものである。ここで、R02は炭素数1〜10のアルキル基、R03は炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数1〜10のアルコキシ基を表す。すなわち、上記金属キレート化合物(ジルコニウム、チタニウム及び/又はアルミニウム化合物)中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の加水分解物及び/又は部分縮合物の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。β−ジケトン化合物及び/又はβ−ケトエステル化合物を構成するR02及びR03は、上記金属キレート化合物を構成するR02及びR03と同様である。 The β-diketone compound and / or β-ketoester compound represented by the general formula R 02 COCH 2 COR 03 is used in the present invention, and is used as a stability improver for the curable composition used in the present invention. It works. Here, R 02 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 03 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. That is, by coordinating with the metal atom in the metal chelate compound (zirconium, titanium and / or aluminum compound), the condensation reaction of the hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound by these metal chelate compounds is performed. It is considered that the promoting action is suppressed and the storage stability of the resulting composition is improved. R 02 and R 03 constitute a β- diketone compound and / or β- ketoester compound are the same as R 02 and R 03 constituting the metal chelate compound.
このβ−ジケトン化合物及び/又はβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−n−プロピル、アセト酢酸−i−プロピル、アセト酢酸−n−ブチル、アセト酢酸−s−ブチル、アセト酢酸−
t−ブチル、2,4−ヘキサン−ジオン、2,4−ヘプタン−ジオン、3,5−ヘプタン−ジオン、2,4−オクタン−ジオン、2,4−ノナン−ジオン、5−メチルヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチル及びアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物及び/又はβ−ケトエステル化合物は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物及び/又はβ−ケトエステル化合物は、金属キレート化合物1モルに対し好ましくは2モル以上、より好ましくは3〜20モル用いられる。2モル以上用いることにより、得られる組成物の保存安定性の低下を防止することができるので好ましい。
Specific examples of the β-diketone compound and / or β-ketoester compound include acetylacetone, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, acetoacetate-n-propyl, acetoacetate-i-propyl, acetoacetate-n-butyl, acetoacetate. Acetic acid-s-butyl, acetoacetic acid-
t-butyl, 2,4-hexane-dione, 2,4-heptane-dione, 3,5-heptane-dione, 2,4-octane-dione, 2,4-nonane-dione, 5-methylhexane-dione And so on. Of these, ethyl acetoacetate and acetylacetone are preferred, and acetylacetone is particularly preferred. These β-diketone compounds and / or β-ketoester compounds may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the β-diketone compound and / or β-ketoester compound is preferably used in an amount of 2 mol or more, more preferably 3 to 20 mol, per 1 mol of the metal chelate compound. The use of 2 mol or more is preferable because it can prevent a decrease in storage stability of the resulting composition.
前記オルガノシラン化合物の配合量は、低屈折率層の全固形分の0.1〜50質量%が好ましく、0.5〜20質量%がより好ましく、1〜10質量%が最も好ましい。 The compounding amount of the organosilane compound is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 20% by mass, and most preferably 1 to 10% by mass based on the total solid content of the low refractive index layer.
前記オルガノシラン化合物は、硬化性組成物(防眩層用、低屈折率層用等の塗布液)に直接添加してもよいが、前記オルガノシラン化合物を、予め触媒の存在下に処理して前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び/又は部分縮合物を調製し、得られた反応溶液(ゾル液)を用いて前記硬化性組成物を調製するのが好ましく、本発明においてはまず前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び/又は部分縮合物及び金属キレート化合物を含有する組成物を調製し、これにβ−ジケトン化合物及び/又はβ−ケトエステル化合物を添加した液を、防眩層又は低屈折率層の少なくとも1層の塗布液に含有せしめて塗設することが好ましい。 The organosilane compound may be added directly to the curable composition (coating liquid for antiglare layer, low refractive index layer, etc.), but the organosilane compound is treated in the presence of a catalyst in advance. It is preferable to prepare a hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound and prepare the curable composition using the resulting reaction solution (sol solution). In the present invention, first, the organosilane is prepared. A composition containing a hydrolyzate and / or partial condensate of a compound and a metal chelate compound, and a liquid obtained by adding a β-diketone compound and / or a β-ketoester compound thereto, an antiglare layer or a low refractive index It is preferable that the coating liquid is contained in at least one layer of the coating solution.
〔その他のバインダー化合物〕
本発明の硬化性樹脂組成物に対しては、例えば特開2003−39586号公報に記載の以下の反応性有機珪素化合物を併用することもできる。反応性有機珪素化合物は、電離放射線硬化性化合物と反応性有機珪素化合物の合計に対して10〜100質量%の範囲で使用される。特に下記の電離放射線硬化性有機珪素化合物を使用する場合には、これだけを樹脂成分として硬化性樹脂組成物を形成することが可能である。
[Other binder compounds]
For the curable resin composition of the present invention, for example, the following reactive organosilicon compounds described in JP-A No. 2003-39586 can be used in combination. The reactive organosilicon compound is used in the range of 10 to 100% by mass with respect to the total of the ionizing radiation curable compound and the reactive organosilicon compound. In particular, when the following ionizing radiation curable organosilicon compound is used, it is possible to form a curable resin composition using only this as a resin component.
[反応性有機珪素化合物]
(珪素アルコキシド)
珪素アルコキシドは、前記一般式(1)で表される化合物のうち、X11がアルコキシ基(OR13)であって、R10、R13が炭素数1〜10のアルキル基を表す化合物に該当する。これらの化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−i−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−s−ブトキシシラン、テトラ−t−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−i−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−s−ブトキシシラン、テトラペンタ−t−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。
[Reactive organosilicon compounds]
(Silicon alkoxide)
Silicon alkoxide corresponds to the compound represented by the general formula (1), wherein X 11 is an alkoxy group (OR 13 ), and R 10 and R 13 represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. To do. Examples of these compounds include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-i-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-s-butoxysilane, and tetra-t-butoxysilane. Tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-i-propoxysilane, tetrapenta-n-proxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-s-butoxysilane, tetrapenta-t-butoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane , Methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane, dimethylbutoxy Silane, methyl dimethoxy silane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane and the like.
(シランカップリング剤)
シランカップリング剤としては、例えば、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメチル[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロリド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。
(Silane coupling agent)
Examples of the silane coupling agent include γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxy. Silane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane hydrochloride, γ-glycidoxypropyltrimethoxy Silane, aminosilane, methyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [ 3- (trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane and the like.
(電離放射線硬化性珪素化合物)
電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量5,000以下の有機珪素化合物が挙げられる。このような反応性有機珪素化合物は、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、或いはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。
(Ionizing radiation curable silicon compound)
A plurality of groups that undergo reactive crosslinking by ionizing radiation, for example, an organosilicon compound having a polymerizable double bond group and having a molecular weight of 5,000 or less. Such reactive organosilicon compounds may be one end vinyl functional polysilane, both end vinyl functional polysilane, one end vinyl functional polysiloxane, both end vinyl functional polysiloxane, or a vinyl functionality obtained by reacting these compounds. Examples include polysilane, vinyl functional polysiloxane, and the like.
(その他の化合物)
その他の化合物としては、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の(メタ)アクリロキシシラン化合物等が挙げられる。
(Other compounds)
Examples of other compounds include (meth) acryloxysilane compounds such as 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane.
1−(2)ラジカル重合開始剤
本発明で用いられるエチレン性不飽和基を有する各種モノマーの重合は、光ラジカル重合開始剤又は熱ラジカル重合開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。本発明の反射防止フィルムを作製するに際しては、光ラジカル重合開始剤及び熱ラジカル重合開始剤を併用することもできる。
1- (2) Radical Polymerization Initiator Polymerization of various monomers having an ethylenically unsaturated group used in the present invention is performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photo radical polymerization initiator or a thermal radical polymerization initiator. be able to. In producing the antireflection film of the present invention, a photoradical polymerization initiator and a thermal radical polymerization initiator can be used in combination.
〔光ラジカル重合開始剤〕
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類(特開2001−139663号公報記載のもの等)、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
[Photo radical polymerization initiator]
Photo radical polymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides (such as those described in JP-A-2001-139663) 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, lophine dimers, onium salts, borate salts, active esters, active halogens, inorganic complexes, coumarins, etc. It is done.
アセトフェノン類の例には、2,2−ジメトキシアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシ−ジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシジメチル−p−イソプロピルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルホリノプロピオフェノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン、4−フェノキシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノンなどが含まれる。 Examples of acetophenones include 2,2-dimethoxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxy-dimethylphenylketone, 1-hydroxydimethyl-p-isopropylphenylketone, 1-hydroxycyclohexyl Phenylketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl- Examples include dichloroacetophenone.
ベンゾイン類の例には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルなどが含まれる。 Examples of benzoins include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyl dimethyl ketal, benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. included.
ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4'−メチルジフェニルスルフィド、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン及びp−クロロベンゾフェノン、4,4'−ジメチルアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、3,3',4,4'−テトラ(t−ブチルペルオキシカル
ボニル)ベンゾフェノンなどが含まれる。
Examples of benzophenones include benzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone (Michler ketone), 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone and the like are included.
ボレート塩としては、例えば、特許第2764769号、特開2002−116539号等の各公報、及び、Kunz,Martin“Rad Tech’98.Proceeding April 19〜22頁,1998年,Chicago”等に記載される有機ホウ酸塩記載される化合物があげられる。例えば、前記特開2002−116539号明細書の段落番号[0022]〜[0027]記載の化合物が挙げられる。またその他の有機ホウ素化合物としては、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−306527号公報、特開平7−292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられ、具体例にはカチオン性色素とのイオンコンプレックス類が挙げられる。 Examples of the borate salt are described in Japanese Patent Nos. 2764769 and 2002-116539, and in Kunz, Martin “Rad Tech'98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago”. And the organic borate compounds described. For example, the compounds described in JP-A-2002-116539, paragraph numbers [0022] to [0027] can be mentioned. Examples of other organic boron compounds include JP-A-6-348011, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, JP-A-7-306527, and JP-A-7-292014. Specific examples include organoboron transition metal coordination complexes and the like, and specific examples include ion complexes with cationic dyes.
ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドなどが含まれる。 Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyl diphenylphosphine oxide.
活性エステル類の例には1,2−オクタンジオン、1−[4−(フェニルチオ)−2−(O−ベンゾイルオキシム)]、スルホン酸エステル類、環状活性エステル化合物などが含まれる。具体的には特開2000−80068号公報の実施例記載化合物1〜21が特に好ましい。 Examples of active esters include 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio) -2- (O-benzoyloxime)], sulfonic acid esters, cyclic active ester compounds, and the like. Specifically, compounds described in Examples in JP-A No. 2000-80068 are particularly preferable.
オニウム塩類の例には、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩が挙げられる。 Examples of the onium salts include aromatic diazonium salts, aromatic iodonium salts, and aromatic sulfonium salts.
活性ハロゲン類としては、具体的には、若林らの“Bull.Chem.Soc.Japan”42巻、2924頁(1969年)、米国特許第3,905,815号明細書、特開平5−27830号公報、M.P.Huttの“Jurnal of Heterocyclic Chemistry”1巻(3号),(1970年)等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物:s−トリアジン化合物が挙げられる。より好適には、少なくとも一つのモノ−、ジ−又はトリ−ハロゲン置換メチル基がs−トリアジン環に結合したs−トリアジン誘導体が挙げられる。 Specific examples of the active halogens include Wakabayashi et al., “Bull. Chem. Soc. Japan”, 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, and JP-A-5-27830. No., M.C. P. The compounds described in Hutt's “Journal of Heterocyclic Chemistry”, Vol. 1 (No. 3), (1970), and the like, particularly, an oxazole compound substituted with a trihalomethyl group: an s-triazine compound. More preferred are s-triazine derivatives in which at least one mono-, di- or tri-halogen substituted methyl group is bonded to the s-triazine ring.
具体的な例には、s−トリアジンやオキサチアゾール化合物が知られており、例えば2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−(p−スチリルフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−(3−Br−4−ジ(エチル酢酸エステル)アミノ)フェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−トリハロメチル−5−(p−メトキシフェニル)−1,3,4−オキサジアゾールが含まれる。具体的には特開昭58−15503号公報のp14〜p30、特開昭55−77742号公報のp6〜p10、特公昭60−27673号公報のp287記載のNo.1〜No.8、特開昭60−239736号公報のp443〜p444のNo.1〜No.17、米国特許第4701399号明細書のNo.1〜19などの化合物が特に好ましい。 Specific examples include s-triazine and oxathiazole compounds, such as 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxy). Phenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-styrylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3-Br-4-di) (Ethyl acetate) amino) phenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-trihalomethyl-5- (p-methoxyphenyl) -1,3,4-oxadiazole . Specifically, Nos. In p14 to p30 in JP-A-58-15503, p6-p10 in JP-A-55-77742, and p287 in JP-B-60-27673. 1-No. 8, No. pp. 443 to p444 of JP-A-60-239736. 1-No. 17, U.S. Pat. No. 4,701,399. Compounds such as 1-19 are particularly preferred.
無機錯体の例には、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス[2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル]チタニウムが挙げられる。クマリン類の例には3−ケトクマリンが挙げられる。
これらの開始剤は単独でも混合して用いてもよい。
Examples of inorganic complexes include bis (η 5 -2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis [2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl] titanium. . Examples of coumarins include 3-ketocoumarin.
These initiators may be used alone or in combination.
光ラジカル重合開始剤としては、上記のほか、「最新UV硬化技術」{(株)技術情報協会}(1991年)、p.159及び、加藤清視著「紫外線硬化システム」{総合技術
センター発行}(平成元年)、p.65〜148にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
As the photo radical polymerization initiator, in addition to the above, “Latest UV Curing Technology” {Technical Information Association, Inc.} (1991), p. 159 and Kiyotsugu Kato, “Ultraviolet Curing System” {published by General Technology Center} (1989), p. Various examples are also described in 65-148 and are useful in the present invention.
市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬(株)製の「カヤキュアーDETX−S」、「カヤキュアーBP−100」、「カヤキュアーBDMK」、「カヤキュアーCTX」、「カヤキュアーBMS」、「カヤキュアー2−EAQ」、「カヤキュアーABQ」、「カヤキュアーCPTX」、「カヤキュアーEPD」、「カヤキュアーITX」、「カヤキュアーQTX」、「カヤキュアーBTC」、「カヤキュアーMCA」など;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製の「イルガキュア651」、「イルガキュア184」、「イルガキュア500」、「イルガキュア819」、「イルガキュア907」、「イルガキュア369」、「イルガキュア1173」、「イルガキュア1870」、「イルガキュア2959」、「イルガキュア4265」、「イルガキュア4263」など;サートマー社製の“Esacure(KIP100F,KB1,EB3,BP,X33,KTO46,KT37,KIP150,TZT)”等、及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。
Commercially available photo radical polymerization initiators include “Kaya Cure DETX-S”, “Kaya Cure BP-100”, “Kaya Cure BDK”, “Kaya Cure CTX”, “Kaya Cure BMS”, “
光ラジカル重合開始剤は、多官能モノマー100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。 The radical photopolymerization initiator is preferably used in the range of 0.1 to 15 parts by mass, more preferably in the range of 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyfunctional monomer.
[光増感剤]
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーケトン及びチオキサントン、などを挙げることができる。
更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を1種以上組み合わせて用いてもよい。
市販の光増感剤としては、日本化薬(株)製の「カヤキュアー(DMBI,EPA)」などが挙げられる。
[Photosensitizer]
In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone.
Further, one or more auxiliary agents such as an azide compound, a thiourea compound, and a mercapto compound may be used in combination.
Examples of commercially available photosensitizers include “Kaya Cure (DMBI, EPA)” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
〔熱ラジカル重合開始剤〕
熱ラジカル開始剤としては、有機又は無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
[Thermal radical polymerization initiator]
As the thermal radical initiator, organic or inorganic peroxides, organic azo, diazo compounds, and the like can be used.
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(プロピオニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。 Specifically, benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, butyl hydroperoxide as organic peroxides, hydrogen peroxide, peroxides as inorganic peroxides. Diazo compounds such as 2,2′-azobis (isobutyronitrile), 2,2′-azobis (propionitrile), 1,1′-azobis (cyclohexanecarbonitrile) as azo compounds such as ammonium sulfate and potassium persulfate And diazoaminobenzene, p-nitrobenzenediazonium and the like.
1−(3)架橋性化合物
本発明を構成するモノマー又はポリマーバインダ−が単独で十分な硬化性を有しない場合には、架橋性化合物を配合することにより、必要な硬化性を付与することができる。
1- (3) Crosslinkable compound When the monomer or polymer binder constituting the present invention alone does not have sufficient curability, the necessary curability may be imparted by blending the crosslinkable compound. it can.
〔アミノ化合物〕
例えばポリマー本体に水酸基含有する場合には、各種アミノ化合物を架橋性化合物として用いることが好ましい。架橋性化合物として用いられるアミノ化合物は、例えば、ヒドロキシアルキルアミノ基及びアルコキシアルキルアミノ基のいずれか一方又は両方を合計で2個以上含有する化合物であり、具体的には、例えば、メラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物等を挙げることができる。
[Amino compound]
For example, when the polymer main body contains a hydroxyl group, various amino compounds are preferably used as the crosslinkable compound. The amino compound used as the crosslinkable compound is, for example, a compound containing a total of two or more of any one or both of a hydroxyalkylamino group and an alkoxyalkylamino group. Specifically, for example, a melamine compound, Examples include urea compounds, benzoguanamine compounds, glycoluril compounds, and the like.
メラミン系化合物は、一般にトリアジン環に窒素原子が結合した骨格を有する化合物として知られているものであり、具体的にはメラミン、アルキル化メラミン、メチロールメラミン、アルコキシ化メチルメラミン等を挙げることができるが、1分子中にメチロール基及びアルコキシ化メチル基のいずれか一方又は両方を合計で2個以上有するものが好ましい。具体的には、メラミンとホルムアルデヒドとを塩基性条件下で反応させて得られるメチロール化メラミン、アルコキシ化メチルメラミン、又はそれらの誘導体が好ましく、特に硬化性樹脂組成物に良好な保存安定性が得られる点、及び良好な反応性が得られる点で、アルコキシ化メチルメラミンが好ましい。架橋性化合物として用いられるメチロール化メラミン及びアルコシ化メチルメラミンには特に制約はなく、例えば、文献「プラスチック材料講座[8]ユリア・メラミン樹脂」(日刊工業新聞社)に記載されている方法で得られる各種の樹脂状物の使用も可能である。 Melamine compounds are generally known as compounds having a skeleton in which a nitrogen atom is bonded to a triazine ring, and specific examples include melamine, alkylated melamine, methylol melamine, and alkoxylated methyl melamine. However, those having one or both of a methylol group and an alkoxylated methyl group in one molecule in total are preferably 2 or more. Specifically, methylolated melamine, alkoxylated methylmelamine, or a derivative thereof obtained by reacting melamine and formaldehyde under basic conditions is preferable, and good storage stability is obtained particularly for the curable resin composition. Alkoxylated methyl melamine is preferable in that it can be obtained and good reactivity can be obtained. There are no particular restrictions on the methylolated melamine and the alkoxylated methylmelamine used as the crosslinkable compound. For example, the methylolated melamine and the alkoxylated methylmelamine can be obtained by the method described in the document “Plastic Materials Course [8] Urea Melamine Resin” (Nikkan Kogyo Shimbun). Various resinous materials can be used.
また、尿素系化合物としては、尿素の他、ポリメチロール化尿素その誘導体であるアルコキシ化メチル尿素、ウロン環を有するメチロール化ウロン及びアルコキシ化メチルウロン等を挙げることができる。そして、尿素誘導体等の化合物についても、上記の文献に記載されている各種樹脂状物の使用が可能である。 In addition to urea, examples of the urea compound include polymethylolated urea, alkoxylated methylurea which is a derivative thereof, methylolated uron having a uron ring, and alkoxylated methyluron. And also about compounds, such as a urea derivative, the use of the various resinous materials described in said literature is possible.
〔硬化触媒〕
本発明の反射防止フィルムには、硬化を促進する硬化触媒として電離放射線又は熱の照射によりラジカルや酸を発生する化合物を使用することができる。
[Curing catalyst]
In the antireflection film of the present invention, a compound capable of generating radicals and acids upon irradiation with ionizing radiation or heat can be used as a curing catalyst for promoting curing.
[熱酸発生剤]
熱酸発生剤の具体例としては、例えば、各種脂肪族スルホン酸とその塩、クエン酸、酢酸、マレイン酸等の各種脂肪族カルボン酸とその塩、安息香酸、フタル酸等の各種芳香族カルボン酸とその塩、アルキルベンゼンスルホン酸とそのアンモニウム塩、アミン塩、各種金属塩、リン酸や有機酸のリン酸エステル等を挙げることができる。
[Thermal acid generator]
Specific examples of the thermal acid generator include various aliphatic sulfonic acids and salts thereof, various aliphatic carboxylic acids and salts thereof such as citric acid, acetic acid and maleic acid, and various aromatic carboxylic acids such as benzoic acid and phthalic acid. Examples thereof include acids and salts thereof, alkylbenzenesulfonic acids and ammonium salts thereof, amine salts, various metal salts, phosphoric acid and phosphoric acid esters of organic acids, and the like.
市販されている材料としては、「キャタリスト4040」、「キャタリスト4050」、「キャタリスト600」、「キャタリスト602」、「キャタリスト500」、「キャタリスト296−9」{以上、日本サイテックインダストリーズ(株)製}や、「NACUREシリーズ155、1051、5076、4054J」やそのブロックタイプの「NACUREシリーズ2500、5225、X49−110、3525、4167」{以上、キング社製}などが挙げられる。 Commercially available materials include “Catalyst 4040”, “Catalyst 4050”, “Catalyst 600”, “Catalyst 602”, “Catalyst 500”, “Catalyst 296-9” {and above, Nippon Cytec Industries Co., Ltd.}, “NACURE series 155, 1051, 5076, 4054J” and its block type “NACURE series 2500, 5225, X49-110, 3525, 4167” {manufactured by King, Inc.} and the like. .
この熱酸発生剤の使用割合は、硬化性樹脂組成物100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、さらに好ましくは0.1〜5質量部である。添加量がこの範囲であると、硬化性樹脂組成物の保存安定性が良好で塗膜の耐擦傷性も良好なものとなる。 The use ratio of the thermal acid generator is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable resin composition. When the addition amount is within this range, the storage stability of the curable resin composition is good and the scratch resistance of the coating film is also good.
[感光性酸発生剤、光酸発生剤]
更に光重合開始剤として用いることができる感光性酸発生剤について詳述する。
感光性酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、又はマイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。以下さらに説明する。
[Photosensitive acid generator, photoacid generator]
Furthermore, the photosensitive acid generator which can be used as a photoinitiator is explained in full detail.
Photosensitive acid generators include known compounds such as photoinitiators for photocationic polymerization, photodecolorants for dyes, photochromic agents, known acid generators used in microresists, and the like, and their compounds. A mixture etc. are mentioned. This will be further described below.
感光性酸発生剤としては、例えば、(1)ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩等の各種オニウム塩;(2)β−ケトエステル、β−スルホニルスルホンとこれらのα−ジアゾ化合物等のスルホン化合物;(3)アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等のスルホン酸エステル類;(4)スルホンイ
ミド化合物類;(5)ジアゾメタン化合物類;を挙げることができる。
Examples of the photosensitive acid generator include (1) various onium salts such as iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts, diazonium salts, ammonium salts, pyridinium salts; (2) β-ketoesters, β-sulfonylsulfones and these. sulfone compounds such as α-diazo compounds; (3) sulfonic acid esters such as alkyl sulfonic acid esters, haloalkyl sulfonic acid esters, aryl sulfonic acid esters, and imino sulfonates; (4) sulfonimide compounds; and (5) diazomethane compounds. Can be mentioned.
オニウム化合物としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、イミニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アルソニウム塩、セレノニウム塩等が挙げられる。中でも、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が、光重合開始の光感度、化合物の素材安定性等の点から好ましい。例えば特開2002−29162号明細書の段落番号[0058]〜[0059]に記載の化合物等が挙げられる。 Examples of the onium compounds include diazonium salts, ammonium salts, iminium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, arsonium salts, and selenonium salts. Of these, diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, and iminium salts are preferable from the viewpoint of photosensitivity at the start of photopolymerization, material stability of the compound, and the like. Examples thereof include compounds described in paragraph numbers [0058] to [0059] of JP-A-2002-29162.
感光性酸発生剤の使用割合は、硬化性樹脂組成物100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、さらに好ましくは0.1〜5質量部である。
その他、具体的な化合物や使用法として、例えば特開2005−43876号記載の内容などを用いることができる。
The use ratio of the photosensitive acid generator is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable resin composition.
In addition, as specific compounds and methods of use, for example, the contents described in JP-A-2005-43876 can be used.
1−(4)透光性粒子
本発明の反射防止フィルム、特に防眩層には、表面散乱性や内部散乱性を付与するため、各種の透光性粒子を用いることができる。
これらの透光性粒子は、ハードコート層に用いることもできる。
1- (4) Translucent Particles Various translucent particles can be used for the antireflection film of the present invention, particularly the antiglare layer, in order to impart surface scattering properties and internal scattering properties.
These translucent particles can also be used for the hard coat layer.
透光性粒子は有機粒子であっても、無機粒子であってもよい。粒径にばらつきがないほど、散乱特性にばらつきが少なくなり、ヘイズ値の設計が容易となる。透光性粒子としては、プラスチックビーズが好適であり、特に透明度が高く、バインダーとの屈折率差が後記のような数値範囲になるものが好ましい。 The translucent particles may be organic particles or inorganic particles. As the particle size is not varied, the scattering characteristics are less varied, and the design of the haze value is facilitated. As the translucent particles, plastic beads are preferable, and those having particularly high transparency and having a refractive index difference from the binder within a numerical range as described below are preferable.
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート粒子(屈折率1.49)、架橋ポリ(アクリル−スチレン)共重合体粒子(屈折率1.54)、メラミン樹脂粒子(屈折率1.57)、ポリカーボネート粒子(屈折率1.57)、ポリスチレン粒子(屈折率1.60)、架橋ポリスチレン粒子(屈折率1.61)、ポリ塩化ビニル粒子(屈折率1.60)、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子(屈折率1.68)等が用いられる。
As organic particles, polymethyl methacrylate particles (refractive index 1.49), crosslinked poly (acryl-styrene) copolymer particles (refractive index 1.54), melamine resin particles (refractive index 1.57), polycarbonate particles ( Refractive index 1.57), polystyrene particles (refractive index 1.60), crosslinked polystyrene particles (refractive index 1.61), polyvinyl chloride particles (refractive index 1.60), benzoguanamine-melamine formaldehyde particles (
無機粒子としては、シリカ粒子(屈折率1.44)、アルミナ粒子(屈折率1.63)、ジルコニア粒子、チタニア粒子、また中空や細孔を有する無機粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ粒子(屈折率1.44)、アルミナ粒子(屈折率1.63)、ジルコニア粒子、チタニア粒子、また中空や細孔を有する無機粒子が挙げられる。 Examples of the inorganic particles include silica particles (refractive index: 1.44), alumina particles (refractive index: 1.63), zirconia particles, titania particles, and inorganic particles having hollows and pores. Examples of the inorganic particles include silica particles (refractive index: 1.44), alumina particles (refractive index: 1.63), zirconia particles, titania particles, and inorganic particles having hollows and pores.
なかでも架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ((メタ)アクリレート)粒子、架橋ポリアクリル(−スチレン)(共)重合体粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせてバインダーの屈折率を調整することにより、本発明における内部ヘイズ、表面ヘイズ、中心線平均粗さを達成することができる。 Among these, crosslinked polystyrene particles, crosslinked poly ((meth) acrylate) particles, and crosslinked polyacrylic (-styrene) (co) polymer particles are preferably used, and refraction of each light-transmitting particle selected from these particles is used. By adjusting the refractive index of the binder in accordance with the rate, the internal haze, surface haze, and centerline average roughness in the present invention can be achieved.
さらに、本発明において防眩層は、透光性樹脂と透光性粒子とを含有することが好ましく、3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分としたバインダーとアクリル含率50〜100質量パーセントである架橋ポリ(メタ)アクリレート重合体からなる透光性粒子とを組合せて用いて形成されることが好ましく、特に該バインダーとアクリル含率50〜100質量パーセントである架橋ポリアクリル(−スチレン)(共)重合体からなる透光性粒子との組合せが好ましい。アクリル含率は60〜100質量%がより好ましく、更に好ましくはアクリル100質量%または、アクリル含率60〜95質量%が更に好ましい。アクリル100質量%の粒子または、アクリル含率が60〜95質量%の粒子をそれぞれ単独で用いても良いし、両者を併用しても良い。併用する場合の配合率は、所望の屈折率となるように調整することができる。
また、3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分としたバインダーとしては
、硬化後の屈折率が1.50〜1.53の範囲であることが好ましい。架橋ポリアクリル(−スチレン)(共)重合体からなる透光性粒子としては、屈折率が1.48〜1.54の範囲であることが好ましい。
Furthermore, in the present invention, the antiglare layer preferably contains a translucent resin and translucent particles, and a binder mainly composed of a tri- or higher functional (meth) acrylate monomer and an acrylic content of 50 to 100 mass. It is preferably formed using a combination of light-transmitting particles composed of a cross-linked poly (meth) acrylate polymer that is a percentage, and in particular, the cross-linked polyacryl (-styrene) having the binder and an acrylic content of 50 to 100 mass percent A combination with translucent particles comprising a (co) polymer is preferred. The acrylic content is more preferably 60 to 100% by mass, still more preferably 100% by mass of acrylic or 60 to 95% by mass of acrylic. Particles of 100% by mass of acrylic or particles having an acrylic content of 60 to 95% by mass may be used alone, or both may be used in combination. The compounding rate in the case of using together can be adjusted so that it may become a desired refractive index.
Moreover, it is preferable that the refractive index after hardening is the range of 1.50-1.53 as a binder which has a trifunctional or more than trifunctional (meth) acrylate monomer as a main component. The translucent particles made of a crosslinked polyacrylic (-styrene) (co) polymer preferably have a refractive index in the range of 1.48 to 1.54.
本発明におけるバインダー(透光性樹脂)と透光性粒子との屈折率は、1.45〜1.70であることが好ましく、より好ましくは1.48〜1.65である。屈折率を前記範囲とするには、バインダー及び透光性粒子の種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。 The refractive index of the binder (translucent resin) and translucent particles in the present invention is preferably 1.45 to 1.70, more preferably 1.48 to 1.65. In order to make the refractive index within the above range, the type and amount ratio of the binder and translucent particles may be appropriately selected. How to select can be easily known experimentally in advance.
また、本発明においては、バインダーと透光性粒子との屈折率の差(透光性粒子の屈折率−バインダーの屈折率)は、絶対値として好ましくは0.001〜0.030であり、より好ましくは0.001〜0.020、更に好ましくは0.001〜0.015である。この差が0.030以下であれば、フィルム文字ボケ、暗室コントラストの低下、表面の白濁等の問題が生じず、好ましい。 In the present invention, the difference in refractive index between the binder and the translucent particles (the refractive index of the translucent particles−the refractive index of the binder) is preferably 0.001 to 0.030 as an absolute value, More preferably, it is 0.001-0.020, More preferably, it is 0.001-0.015. If this difference is 0.030 or less, problems such as film character blurring, dark room contrast reduction, and surface turbidity do not occur, which is preferable.
ここで、バインダーの屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。上記透光性粒子の屈折率は、屈折率の異なる2種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。 Here, the refractive index of the binder can be quantitatively evaluated by directly measuring it with an Abbe refractometer or by measuring a spectral reflection spectrum or a spectral ellipsometry. The refractive index of the translucent particles is measured by measuring the turbidity by dispersing an equal amount of the translucent particles in the solvent in which the refractive index is changed by changing the mixing ratio of two types of solvents having different refractive indexes. It is measured by measuring the refractive index of the solvent when the turbidity is minimized with an Abbe refractometer.
上記のような透光性粒子の場合には、バインダー中で透光性粒子が沈降し易いので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、透光性粒子の沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径0.5μm以下の無機フィラーを、バインダーに対して塗膜の透明性を損なわない程度に、0.1質量%未満程度含有させるとよい。 In the case of the above translucent particles, the translucent particles easily settle in the binder, and therefore an inorganic filler such as silica may be added to prevent sedimentation. As the amount of the inorganic filler added increases, it is more effective in preventing the translucent particles from settling, but adversely affects the transparency of the coating film. Therefore, preferably, an inorganic filler having a particle size of 0.5 μm or less is contained in an amount of less than 0.1% by mass so as not to impair the transparency of the coating film with respect to the binder.
透光性粒子の平均粒径は0.5〜10μmが好ましく、より好ましくは2.0〜6.0μmである。平均粒径が0.5μm以上であれば、光の散乱角度分布が広角に広がりすぎることがないので、ディスプレイの文字ボケを引き起こすことがなく好ましい。一方、10μm以下であれば、透光性粒子を添加する層の膜厚をあえて厚くする必要がなく、カールやコスト上昇といった問題が生じることもないので好ましい。 The average particle size of the translucent particles is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 2.0 to 6.0 μm. If the average particle size is 0.5 μm or more, the light scattering angle distribution does not spread over a wide angle, which is preferable without causing character blur on the display. On the other hand, the thickness of 10 μm or less is preferable because it is not necessary to increase the thickness of the layer to which the light-transmitting particles are added, and problems such as curling and cost increase do not occur.
また透光性粒子は、粒子径の異なる2種以上のものを併用して用いてもよい。このことにより、より大きな粒子径の透光性粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で表面のザラツキ感を低減することが可能である。 Further, the translucent particles may be used in combination of two or more kinds having different particle diameters. Accordingly, it is possible to impart an antiglare property with the light-transmitting particles having a larger particle diameter, and to reduce the roughness of the surface with the light-transmitting particles having a smaller particle diameter.
上記透光性粒子は、それが添加される層の全固形分中に3〜30質量%含有されるように配合されることが好ましい。より好ましくは5〜20質量%である。3質量%以上含有させることにより、十分な添加効果を発揮させることができ、30質量%以下であれば、画像ボケや表面の白濁やギラツキ等の問題が生じることがない。 The translucent particles are preferably blended so as to be contained in an amount of 3 to 30% by mass in the total solid content of the layer to which they are added. More preferably, it is 5-20 mass%. By containing 3% by mass or more, a sufficient addition effect can be exhibited. If it is 30% by mass or less, problems such as image blurring, surface turbidity and glare do not occur.
また、透光性粒子の密度は、好ましくは10〜1000mg/m2、より好ましくは100〜700mg/m2である。 Moreover, the density of the translucent particles is preferably 10 to 1000 mg / m 2 , more preferably 100 to 700 mg / m 2 .
〔透光性粒子調製、分級法〕
本発明に係る透光性粒子の製造法は、懸濁重合法、乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、分散重合法、シード重合法等を挙げることができ、いずれの方法で製造されてもよい。これらの製造法は、例えば「高分子合成の実験法」(大津隆行、木下雅悦共著、化学同人社)130頁及び146頁から147頁の記載、「合成高分子」1巻、p.246〜2
90、同3巻、p.1〜108等に記載の方法、及び特許第2543503号明細書、同第3508304号明細書、同第2746275号明細書、同第3521560号明細書、同第3580320号明細書、特開平10−1561号公報、特開平7−2908号公報、特開平5−297506号公報、特開2002−145919号公報等に記載の方法を参考にすることができる。
[Translucent particle preparation, classification method]
Examples of the method for producing translucent particles according to the present invention include suspension polymerization method, emulsion polymerization method, soap-free emulsion polymerization method, dispersion polymerization method, seed polymerization method and the like. Good. These production methods are described in, for example, “Experimental Methods for Polymer Synthesis” (Takayuki Otsu and Masaaki Kinoshita, Kagaku Dojinsha), pages 130 and 146 to 147, “Synthetic Polymers” Vol. 1, p. 246-2
90, 3 volumes, p. 1 to 108, etc., and Japanese Patent Nos. 2543503, 3508304, 2746275, 3521560, 3580320, Japanese Patent Laid-Open No. 10-1561. Reference can be made to methods described in JP-A No. 7-2908, JP-A No. 5-297506, JP-A No. 2002-145919, and the like.
透光性粒子の粒度分布はヘイズ値と拡散性の制御、塗布面状の均質性から単分散性粒子が好ましい。例えば平均粒子径よりも20%以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の1%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1%以下であり、さらに好ましくは0.01%以下である。このような粒度分布を持つ粒子は、調製又は合成反応後に、分級することも有力な手段であり、分級の回数を上げることやその程度を強くすることで、望ましい分布の粒子を得ることができる。
分級には風力分級法、遠心分級法、沈降分級法、濾過分級法、静電分級法等の方法を用いることが好ましい。
The particle size distribution of the translucent particles is preferably monodisperse particles in terms of haze value and control of diffusibility, and uniformity of the coated surface. For example, when particles having a particle size of 20% or more than the average particle size are defined as coarse particles, the proportion of the coarse particles is preferably 1% or less of the total number of particles, more preferably 0.1% or less. Yes, more preferably 0.01% or less. Particles having such a particle size distribution are also effective means of classification after preparation or synthesis reaction, and particles having a desired distribution can be obtained by increasing the number of classifications or increasing the degree of classification. .
It is preferable to use a method such as an air classification method, a centrifugal classification method, a sedimentation classification method, a filtration classification method, or an electrostatic classification method for classification.
1−(5)無機粒子
本発明には硬度などの物理特性、反射率、散乱性などの光学特性などの向上のため、各種無機粒子を用いることができる。
無機粒子としては、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つ金属の酸化物、具体例としては、ZrO2、TiO2、Al2O3、In2O3、ZnO、SnO2、Sb2O3、ITO等が挙げられる。その他BaSO4、CaCO3、タルク及びカオリンなどが含まれる。
1- (5) Inorganic particles Various inorganic particles can be used in the present invention in order to improve physical properties such as hardness, optical properties such as reflectance, and scattering properties.
As the inorganic particles, an oxide of at least one metal selected from silicon, zirconium, titanium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony, specific examples include ZrO 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , ZnO, SnO 2 , Sb 2 O 3 , ITO and the like can be mentioned. Others include BaSO 4 , CaCO 3 , talc and kaolin.
本発明に使用する無機粒子の粒径は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、質量平均径は1〜200nmである。好ましくは5〜150nmであり、さらに好ましくは10〜100nm、特に好ましくは10〜80nmである。無機粒子を100nm以下に微細化することで透明性を損なわないフィルムを形成できる。無機粒子の粒子径は、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。 The particle diameter of the inorganic particles used in the present invention is preferably as fine as possible in the dispersion medium, and the mass average diameter is 1 to 200 nm. Preferably it is 5-150 nm, More preferably, it is 10-100 nm, Most preferably, it is 10-80 nm. A film that does not impair the transparency can be formed by refining the inorganic particles to 100 nm or less. The particle diameter of the inorganic particles can be measured by a light scattering method or an electron micrograph.
無機粒子の比表面積は、10〜400m2/gであることが好ましく、20〜200m2/gであることがさらに好ましく、30〜150m2/gであることが最も好ましい。 The specific surface area of the inorganic particles is preferably from 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, and most preferably from 30 to 150 m 2 / g.
本発明に使用する無機粒子は分散媒体中に分散物として使用する層の塗布液に添加することが好ましい。 The inorganic particles used in the present invention are preferably added to a coating solution for a layer used as a dispersion in a dispersion medium.
無機粒子の分散媒体は、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。このような分散媒体の例には、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等)、ケトン(例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル(例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル等)、脂肪族炭化水素(例えば、ヘキサン、シクロヘキサン等)、ハロゲン化炭化水素(例えば、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素等)、芳香族炭化水素(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等)、アミド(例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等)、エーテル(例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン等)、エーテルアルコール(例えば、1−メトキシ−2−プロパノール等)が含まれる。トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールがより好ましく、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが特に好ましい。 As the dispersion medium for the inorganic particles, a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. is preferably used. Examples of such dispersion media include water, alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol, etc.), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (eg, acetic acid). Methyl, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate, etc.), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane, etc.), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, Carbon tetrachloride etc.), aromatic hydrocarbons (eg benzene, toluene, xylene etc.), amides (eg dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone etc.), ethers (eg diethyl ether, dioxane, Tiger hydrofuran, etc.), ether alcohols (e.g., 1-methoxy-2-propanol, etc.). Toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are more preferred, and methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone are particularly preferred.
無機粒子は、分散機を用いて分散する。分散機の例には、サンドグラインダーミル(例
えばピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが含まれる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが含まれる。
The inorganic particles are dispersed using a disperser. Examples of dispersers include sand grinder mills (eg, pinned bead mills), high speed impeller mills, pebble mills, roller mills, attritors and colloid mills. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.
[高屈折率粒子]
本発明を構成する層を高屈折率化する目的に対しては、屈折率の高い無機粒子をモノマーと開始剤、有機置換された珪素化合物中に分散した組成物の硬化物が好ましく用いられる。
[High refractive index particles]
For the purpose of increasing the refractive index of the layer constituting the present invention, a cured product of a composition in which inorganic particles having a high refractive index are dispersed in a monomer, an initiator, and an organically substituted silicon compound is preferably used.
この場合の無機粒子としては、屈折率の観点から、特にZrO2、TiO2好ましく用いられる。ハードコート層の高屈折率化に対してはZrO2が、高屈折率層、中屈折率層用の粒子としてはTiO2の微粒子が最も好ましい。 As the inorganic particles in this case, ZrO 2 and TiO 2 are particularly preferably used from the viewpoint of refractive index. ZrO 2 is most preferable for increasing the refractive index of the hard coat layer, and TiO 2 fine particles are most preferable as the particles for the high refractive index layer and the medium refractive index layer.
上記TiO2の粒子としては、コバルト、アルミニウム、ジルコニウムから選ばれる少なくとも1つの元素を含有するTiO2を主成分とする無機粒子が特に好ましい。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。 As the TiO 2 particles, inorganic particles mainly containing TiO 2 containing at least one element selected from cobalt, aluminum, and zirconium are particularly preferable. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles.
本発明におけるTiO2を主成分とする粒子は、屈折率が1.90〜2.80であることが好ましく、2.10〜2.80であることがさらに好ましく、2.20〜2.80であることが最も好ましい。 The particles mainly composed of TiO 2 in the present invention preferably have a refractive index of 1.90 to 2.80, more preferably 2.10 to 2.80, and 2.20 to 2.80. Most preferably.
TiO2を主成分とする粒子の一次粒子の質量平均径は1〜200nmであることが好ましく、より好ましくは1〜150nm、さらに好ましくは1〜100nm、特に好ましくは1〜80nmである。 The mass average diameter of primary particles of TiO 2 as a main component is preferably 1 to 200 nm, more preferably 1 to 150 nm, still more preferably 1 to 100 nm, and particularly preferably 1 to 80 nm.
TiO2を主成分とする粒子の結晶構造は、ルチル、ルチル/アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造が主成分であることが好ましく、特にルチル構造が主成分であることが好ましい。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。 The crystal structure of the particles containing TiO 2 as a main component is preferably a rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase or amorphous structure, and particularly preferably a rutile structure. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles.
TiO2を主成分とする粒子に、Co(コバルト)、Al(アルミニウム)及びZr(ジルコニウム)から選ばれる少なくとも1つの元素を含有することで、TiO2が有する光触媒活性を抑えることができ、本発明の反射防止フィルムの耐候性を改良することができる。特に、好ましい元素はCo(コバルト)である。また、2種類以上を併用することも好ましい。 By containing at least one element selected from Co (cobalt), Al (aluminum) and Zr (zirconium) in the particles containing TiO 2 as a main component, the photocatalytic activity of TiO 2 can be suppressed. The weather resistance of the antireflection film of the invention can be improved. A particularly preferable element is Co (cobalt). It is also preferable to use two or more types in combination.
本発明で用いられるTiO2を主成分とする無機粒子は、表面処理により特開2001−166104号公報記載のごとく、コア/シェル構造を有していてもよい。 The inorganic particles mainly composed of TiO 2 used in the present invention may have a core / shell structure as described in JP-A-2001-166104 by surface treatment.
層中の無機粒子の添加量は、バインダーの全質量の10〜90質量%であることが好ましく、20〜80質量%であると更に好ましい。無機粒子は層内で2種類以上用いてもよい。 The addition amount of the inorganic particles in the layer is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, based on the total mass of the binder. Two or more kinds of inorganic particles may be used in the layer.
[低屈折率粒子]
低屈折率層に含有させる無機粒子は、低屈折率であることが望ましく、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点でシリカ微粒子が好ましい。
[Low refractive index particles]
The inorganic particles contained in the low refractive index layer desirably have a low refractive index, and examples thereof include fine particles of magnesium fluoride and silica. In particular, silica fine particles are preferable in terms of refractive index, dispersion stability, and cost.
シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上150%以下が好ましく、
より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。すなわち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、シリカ微粒子の粒径は30nm以上150nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上80nm以下、更に好ましくは、40nm以上60nm以下である。
ここで、無機粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
The average particle diameter of the silica fine particles is preferably 30% to 150% of the thickness of the low refractive index layer,
More preferably, they are 35% or more and 80% or less, More preferably, they are 40% or more and 60% or less. That is, when the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle diameter of the silica fine particles is preferably 30 nm to 150 nm, more preferably 35 nm to 80 nm, and still more preferably 40 nm to 60 nm.
Here, the average particle diameter of the inorganic particles is measured by a Coulter counter.
シリカ微粒子の粒径が上記下限値以上であれば、耐擦傷性の改良効果が大きくなり、上記上限値以下であれば、低屈折率層表面に微細な凹凸ができて黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化するなどの不都合が生じないので好ましい。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよく、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題ない。 If the particle size of the silica fine particles is not less than the above lower limit, the effect of improving the scratch resistance is increased, and if it is not more than the above upper limit, the appearance of fine irregularities on the surface of the low refractive index layer and black tightening, This is preferable because there is no inconvenience such as deterioration of the integrated reflectance. The silica fine particles may be either crystalline or amorphous, and may be monodispersed particles or aggregated particles as long as a predetermined particle size is satisfied. The shape is most preferably a spherical diameter, but there is no problem even if the shape is indefinite.
(小サイズ粒径のシリカ微粒子)
また、平均粒径が低屈折率層の厚みの25%未満であるシリカ微粒子(「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)の少なくとも1種を上記の粒径のシリカ微粒子(「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)と併用することが好ましい。小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。
(Silica fine particles with small size)
Further, at least one kind of silica fine particles having an average particle size of less than 25% of the thickness of the low refractive index layer (referred to as “small size particle size silica particles”) is used as silica fine particles having the above particle size (“large size particles”). It is preferably used in combination with “silica fine particles having a diameter”. Since the fine silica particles having a small particle size can exist in the gaps between the fine silica particles having a large particle size, they can contribute as a retaining agent for the fine silica particles having a large particle size.
小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層が100nmの場合、1nm以上20nm以下が好ましく、5nm以上15nm以下が更に好ましく、10nm以上15nm以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コスト及び保持剤効果の点で好ましい。 When the low refractive index layer is 100 nm, the average particle size of the silica fine particles having a small size is preferably from 1 nm to 20 nm, more preferably from 5 nm to 15 nm, and particularly preferably from 10 nm to 15 nm. Use of such silica fine particles is preferable in terms of raw material costs and a retaining agent effect.
低屈折率のシリカ微粒子の塗設量は、1mg/m2〜100mg/m2が好ましく、より好ましくは5mg/m2〜80mg/m2、更に好ましくは10mg/m2〜60mg/m2である。該下限値以上であれば、良好な耐擦傷性の改良効果が発揮でき、該上限値以下であれば、低屈折率層表面に微細な凹凸ができて黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化するなどの不都合が生じないので好ましい。 The coated amount of the silica fine particles having a low refractive index is preferably from 1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 5mg / m 2 ~80mg / m 2 , further preferably 10mg / m 2 ~60mg / m 2 is there. If it is at least the lower limit value, a good effect of improving scratch resistance can be exhibited. If it is not more than the upper limit value, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance such as black tightening and the integrated reflectance This is preferable because there is no inconvenience such as deterioration.
(中空シリカ粒子)
屈折率をより低下させる目的のためには、中空のシリカ微粒子を用いることが好ましい。
(Hollow silica particles)
For the purpose of further reducing the refractive index, it is preferable to use hollow silica fine particles.
中空のシリカ微粒子は、その屈折率が1.15〜1.40であることが好ましく、更に好ましくは1.17〜1.35、最も好ましくは1.17〜1.30である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をri、粒子外殻の半径をroとすると、空隙率x(%)は下記数式(1)で表される。中空シリカ粒子の空隙率xは、好ましくは10〜60%、更に好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。
数式(1):x={(4πri 3/3)/(4πro 3/3)}×100
The hollow silica fine particles preferably have a refractive index of 1.15 to 1.40, more preferably 1.17 to 1.35, and most preferably 1.17 to 1.30. The refractive index here represents the refractive index of the entire particle, and does not represent the refractive index of only the outer shell silica forming the hollow silica particles. At this time, the radius of the cavity inside the particle r i, if the radius of the outer shell of the particle r o, the porosity x (%) is expressed by the following equation (1). The porosity x of the hollow silica particles is preferably 10 to 60%, more preferably 20 to 60%, and most preferably 30 to 60%.
Equation (1): x = {( 4πr i 3/3) / (4πr o 3/3)} × 100
中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から、中空のシリカ粒子の屈折率は、通常、1.15以上である。 If hollow silica particles are made to have a lower refractive index and a higher porosity, the thickness of the outer shell becomes thinner and the strength of the particles becomes weaker. From the viewpoint of scratch resistance, the refractive index of hollow silica particles The rate is usually 1.15 or higher.
中空シリカ粒子の製造方法は、例えば特開2001−233611号公報や特開2002−79616号公報に記載されている。本発明において好ましく用いられる中空シリカ粒子としては、特に外殻の内部に空洞を有している粒子で、その外殻の細孔が閉塞されて
いる粒子が特に好ましい。なお、これら中空シリカ粒子の屈折率は特開2002−79616号公報に記載の方法で算出することができる。
A method for producing hollow silica particles is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-233611 and 2002-79616. The hollow silica particles that are preferably used in the present invention are particularly preferably particles that have cavities inside the outer shell and in which the pores of the outer shell are closed. The refractive index of these hollow silica particles can be calculated by the method described in JP-A No. 2002-79616.
中空シリカ粒子の塗設量は、1mg/m2〜100mg/m2が好ましく、より好ましくは5mg/m2〜80mg/m2、更に好ましくは10mg/m2〜60mg/m2である。塗設量が該下限値以上であれば、良好な低屈折率化の効果や耐擦傷性の改良効果が発現するので好ましく、該上限値以下であれば、低屈折率層表面に微細な凹凸ができて黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化するなどの不都合が生じないので好ましい。 The coating amount of the hollow silica particles is preferably from 1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 5mg / m 2 ~80mg / m 2 , more preferably from 10mg / m 2 ~60mg / m 2 . If the coating amount is not less than the lower limit value, it is preferable because a good effect of lowering the refractive index and an effect of improving scratch resistance are exhibited. If the coating amount is not more than the upper limit value, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer. This is preferable because there is no inconvenience such as black appearance and deterioration of the integrated reflectance.
中空シリカ粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上150%以下が好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。すなわち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、中空シリカの粒径は30nm以上150nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上100nm以下、更に好ましくは、40nm以上65nm以下である。 The average particle diameter of the hollow silica particles is preferably 30% or more and 150% or less of the thickness of the low refractive index layer, more preferably 35% or more and 80% or less, and further preferably 40% or more and 60% or less. That is, if the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle size of the hollow silica is preferably 30 nm to 150 nm, more preferably 35 nm to 100 nm, and still more preferably 40 nm to 65 nm.
中空シリカ粒子の粒径が該下限値以上であれば、空腔部の割合が十分で屈折率の低下が見込めるので好ましく、該上限値以下であれば、低屈折率層表面に微細な凹凸ができて、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化するなどの不都合が生じることがないので好ましい。中空シリカ粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよく、また単分散粒子が好ましい。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題ない。 If the particle size of the hollow silica particles is equal to or greater than the lower limit, the ratio of the cavities is sufficient and a decrease in the refractive index can be expected, and if it is equal to or less than the upper limit, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer. This is preferable because there is no inconvenience such as an appearance such as black tightening and deterioration of the integrated reflectance. The hollow silica particles may be either crystalline or amorphous, and monodisperse particles are preferred. The shape is most preferably a spherical diameter, but there is no problem even if the shape is indefinite.
また、中空シリカ粒子は粒子平均粒子サイズの異なるものを2種以上併用して用いることができる。ここで、中空シリカ粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。 Moreover, two or more types of hollow silica particles having different particle average particle sizes can be used in combination. Here, the average particle diameter of the hollow silica particles can be determined from an electron micrograph.
本発明において中空シリカ粒子の比表面積は、20〜300m2/gが好ましく、更に好ましくは30〜120m2/g、最も好ましくは40〜90m2/gである。表面積は窒素を用いBET法で求めることができる。 The specific surface area of the hollow silica particles in the present invention is preferably from 20 to 300 m 2 / g, more preferably 30~120m 2 / g, most preferably 40~90m 2 / g. The surface area can be determined by the BET method using nitrogen.
1−(6)導電性粒子
本発明の反射防止フィルムには導電性を付与するために、各種の導電性粒子を用いることができる。導電性粒子は、金属の酸化物又は窒化物から形成することが好ましい。金属の酸化物又は窒化物の例には、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛及び窒化チタンが含まれる。酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。
1- (6) Conductive Particles Various conductive particles can be used for imparting conductivity to the antireflection film of the present invention. The conductive particles are preferably formed from a metal oxide or nitride. Examples of metal oxides or nitrides include tin oxide, indium oxide, zinc oxide and titanium nitride. Tin oxide and indium oxide are particularly preferred.
導電性無機粒子は、これらの金属の酸化物又は窒化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。他の元素の例には、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P、S、B、Nb、In、V及びハロゲン原子が含まれる。酸化錫及び酸化インジウムの導電性を高めるために、Sb、P、B、Nb、In、V及びハロゲン原子を添加することが好ましい。Sbを含有する酸化錫(ATO)及びSnを含有する酸化インジウム(ITO)が特に好ましい。ATO中のSbの割合は、3〜20質量%であることが好ましい。ITO中のSnの割合は、5〜20質量%であることが好ましい。 The conductive inorganic particles are mainly composed of these metal oxides or nitrides, and may further contain other elements. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, S, B, Nb, In, V and halogen atoms are included. In order to increase the conductivity of tin oxide and indium oxide, it is preferable to add Sb, P, B, Nb, In, V and a halogen atom. Particularly preferred are tin oxide (ATO) containing Sb and indium oxide (ITO) containing Sn. The ratio of Sb in ATO is preferably 3 to 20% by mass. The ratio of Sn in ITO is preferably 5 to 20% by mass.
帯電防止層に用いる導電性無機粒子の一次粒子の平均粒子径は、1〜150nmであることが好ましく、5〜100nmであることがさらに好ましく、5〜70nmであることが最も好ましい。形成される帯電防止層中の導電性無機粒子の平均粒子径は、1〜200nmであり、5〜150nmであることが好ましく、10〜100nmであることがさらに好ましく、10〜80nmであることが最も好ましい。導電性無機粒子の平均粒子径は
、粒子の質量を重みとした平均径であり、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。
The average particle diameter of the primary particles of the conductive inorganic particles used for the antistatic layer is preferably 1 to 150 nm, more preferably 5 to 100 nm, and most preferably 5 to 70 nm. The average particle diameter of the conductive inorganic particles in the antistatic layer to be formed is 1 to 200 nm, preferably 5 to 150 nm, more preferably 10 to 100 nm, and more preferably 10 to 80 nm. Most preferred. The average particle diameter of the conductive inorganic particles is an average diameter weighted by the mass of the particles and can be measured by a light scattering method or an electron micrograph.
導電性無機粒子の比表面積は、10〜400m2/gであることが好ましく、20〜200m2/gであることがさらに好ましく、30〜150m2/gであることが最も好ましい。 The specific surface area of the conductive inorganic particles is preferably from 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, and most preferably from 30 to 150 m 2 / g.
導電性無機粒子を表面処理してもよい。表面処理は、無機化合物又は有機化合物を用いて実施する。表面処理に用いる無機化合物の例には、アルミナ及びシリカが含まれる。シリカ処理が特に好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。2種類以上の表面処理を組み合わせて実施してもよい。 The conductive inorganic particles may be surface treated. The surface treatment is performed using an inorganic compound or an organic compound. Examples of inorganic compounds used for the surface treatment include alumina and silica. Silica treatment is particularly preferred. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Silane coupling agents are most preferred. Two or more types of surface treatments may be combined.
導電性無機粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状又は不定形状であることが好ましい。 The shape of the conductive inorganic particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape, or an indefinite shape.
導電性無機粒子は、特定の層内にその2種類以上を併用してもよく、また反射防止フィルムの複数の層に、それぞれ別の種類の導電性無機粒子を用いてもよい。 Two or more types of conductive inorganic particles may be used in combination in a specific layer, and different types of conductive inorganic particles may be used for a plurality of layers of the antireflection film.
帯電防止層中の導電性無機粒子の割合は、20〜90質量%であることが好ましく、25〜85質量%であることが好ましく、30〜80質量%であることがさらに好ましい。 The proportion of the conductive inorganic particles in the antistatic layer is preferably 20 to 90% by mass, preferably 25 to 85% by mass, and more preferably 30 to 80% by mass.
導電性無機粒子は、分散物の状態で帯電防止層の形成に使用することができる。 The conductive inorganic particles can be used for forming an antistatic layer in the form of a dispersion.
1−(7)表面処理剤
本発明で使用する無機粒子は、分散液中又は塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていてもよい。
1- (7) Surface Treatment Agent Inorganic particles used in the present invention are plasma in order to stabilize dispersion in a dispersion or coating solution, or to increase affinity and binding properties with a binder component. A physical surface treatment such as a discharge treatment or a corona discharge treatment, or a chemical surface treatment with a surfactant or a coupling agent may be performed.
表面処理は、無機化合物又は有機化合物の表面処理剤を用いて実施することができる。表面処理に用いる無機化合物の例には、コバルトを含有する無機化合物(CoO2、Co2O3、Co3O4など)、アルミニウムを含有する無機化合物{Al2O3、Al(OH)3など}、ジルコニウムを含有する無機化合物(ZrO2、Zr(OH)4など)、ケイ素を含有する無機化合物(SiO2など)、鉄を含有する無機化合物(Fe2O3など)などが含まれる。 The surface treatment can be carried out using a surface treatment agent of an inorganic compound or an organic compound. Examples of inorganic compounds used for the surface treatment include inorganic compounds containing cobalt (CoO 2 , Co 2 O 3 , Co 3 O 4, etc.), inorganic compounds containing aluminum {Al 2 O 3 , Al (OH) 3 }, Inorganic compounds containing zirconium (such as ZrO 2 and Zr (OH) 4 ), inorganic compounds containing silicon (such as SiO 2 ), inorganic compounds containing iron (such as Fe 2 O 3 ), etc. .
コバルトを含有する無機化合物、アルミニウムを含有する無機化合物、ジルコニウムを含有する無機化合物が特に好ましく、コバルトを含有する無機化合物、Al(OH)3、Zr(OH)4が最も好ましい。 Inorganic compounds containing cobalt, inorganic compounds containing aluminum, and inorganic compounds containing zirconium are particularly preferred, and inorganic compounds containing cobalt, Al (OH) 3 , and Zr (OH) 4 are most preferred.
表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、アニオン性基を有する有機化合物(好ましくは、カルボキシル基、スルホン酸基、又はリン酸基を有する有機化合物であり、ステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸などが特に好ましい)、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。これらのうちシランカップリング剤が最も好ましい。特にシランカップリング剤(オルガノシラン化合物)、その部分加水分解物、及びその縮合物の少なくとも一種で表面処理されていることが好ましい。 Examples of organic compounds used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, organic compounds having an anionic group (preferably organic compounds having a carboxyl group, a sulfonic acid group, or a phosphoric acid group, stearic acid, lauric acid Oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, etc. are particularly preferred), silane coupling agents and titanate coupling agents. Of these, silane coupling agents are most preferred. In particular, the surface treatment is preferably performed with at least one of a silane coupling agent (organosilane compound), a partial hydrolyzate thereof, and a condensate thereof.
チタネートカップリング剤としては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシ
チタン、テトライソプロポキシチタンなどの金属アルコキシド、「プレンアクト(KR−TTS、KR−46B、KR−55、KR−41B)」等{味の素(株)製}などが挙げられる。
Examples of titanate coupling agents include metal alkoxides such as tetramethoxytitanium, tetraethoxytitanium, and tetraisopropoxytitanium, “preneact (KR-TTS, KR-46B, KR-55, KR-41B)”, etc. {Ajinomoto ( Etc.}.
表面処理に用いる有機化合物は、さらに、架橋性又は重合性官能基を有することが好ましい。架橋性又は重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基{例えば(メタ)アクリル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等}、カチオン重合性基(例えばエポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等)、重縮合反応性基(例えば加水分解性シリル基、N−メチロール基等)などが挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する基である。 The organic compound used for the surface treatment preferably further has a crosslinkable or polymerizable functional group. Examples of the crosslinkable or polymerizable functional group include an ethylenically unsaturated group {for example, a (meth) acryl group, an allyl group, a styryl group, a vinyloxy group, etc.} capable of an addition reaction / polymerization reaction with a radical species, a cationic polymerizable group ( For example, an epoxy group, an oxatanyl group, a vinyloxy group, etc.), a polycondensation reactive group (for example, a hydrolyzable silyl group, an N-methylol group, etc.) etc. are mentioned, Preferably it is group which has an ethylenically unsaturated group.
これらの表面処理は2種類以上を併用することもでき、アルミニウムを含有する無機化合物とジルコニウムを含有する無機化合物を併用することが、特に好ましい。 Two or more types of these surface treatments can be used in combination, and it is particularly preferable to use an inorganic compound containing aluminum and an inorganic compound containing zirconium.
無機粒子がシリカである場合、カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物(例えば、チタンカップリング剤、シランカップリング剤等)が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。 When the inorganic particles are silica, the use of a coupling agent is particularly preferred. As the coupling agent, an alkoxy metal compound (for example, a titanium coupling agent, a silane coupling agent, etc.) is preferably used. Of these, silane coupling treatment is particularly effective.
上記カップリング剤は、例えば低屈折率層の無機フィラーの表面処理剤として該層塗布液調製以前に、予め表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。特にシリカ微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。 The above coupling agent is used, for example, as a surface treatment agent for an inorganic filler of a low refractive index layer in advance for surface treatment prior to the preparation of the layer coating solution, but is further added as an additive during the preparation of the layer coating solution. It is preferably contained in the layer. In particular, the silica fine particles are preferably dispersed in the medium before the surface treatment in order to reduce the load of the surface treatment.
本発明に好ましく用いることのできる表面処理剤及び表面処理用の触媒の具体的化合物は、例えば、国際公開第2004/017105号パンフレットに記載のオルガノシラン化合物及び触媒を挙げることができる。 Specific examples of the surface treatment agent and the surface treatment catalyst that can be preferably used in the present invention include organosilane compounds and catalysts described in International Publication No. 2004/017105 pamphlet.
1−(8)分散剤
本発明に使用する粒子の分散には各種の分散剤を使用することができる。
分散剤は、さらに架橋又は重合性官能基を含有することが好ましい。架橋又は重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基{例えば(メタ)アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等}、カチオン重合性基(エポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等)、重縮合反応性基(加水分解性シリル基等、N−メチロール基)等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する官能基である。
1- (8) Dispersant Various dispersants can be used for dispersing the particles used in the present invention.
The dispersant preferably further contains a crosslinkable or polymerizable functional group. Examples of the crosslinkable or polymerizable functional group include an ethylenically unsaturated group {for example, a (meth) acryloyl group, an allyl group, a styryl group, a vinyloxy group, etc.} capable of an addition reaction / polymerization reaction with a radical species, a cationic polymerizable group (epoxy Groups, oxatanyl groups, vinyloxy groups, etc.), polycondensation reactive groups (hydrolyzable silyl groups, etc., N-methylol groups), and the like. Preferred are functional groups having an ethylenically unsaturated group.
無機粒子の分散、特にTiO2を主成分とする無機粒子の分散にはアニオン性基を有する分散剤を用いることが好ましく、アニオン性基、及び架橋又は重合性官能基を有することがより好ましく、該架橋又は重合性官能基を側鎖に有する分散剤であることが特に好ましい。 It is preferable to use a dispersant having an anionic group for the dispersion of inorganic particles, particularly for the dispersion of inorganic particles containing TiO 2 as a main component, more preferably having an anionic group and a crosslinkable or polymerizable functional group, It is particularly preferable that the dispersant has the cross-linked or polymerizable functional group in the side chain.
アニオン性基としては、カルボキシル基、スルホン酸基(スルホ基)、リン酸基(ホスホノ基)、スルホンアミド基等の酸性プロトンを有する基、又はその塩が有効であり、特にカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基又はその塩が好ましく、カルボキシル基、リン酸基が特に好ましい。1分子当たりの分散剤に含有されるアニオン性基の数は、1分子中に複数種類が含有されていてもよいが、平均で2個以上であることが好ましく、より好ましくは5個以上、特に好ましくは10個以上である。また、分散剤に含有されるアニオン性基は、1分子中に複数種類が含有されていてもよい。 As the anionic group, a group having an acidic proton such as a carboxyl group, a sulfonic acid group (sulfo group), a phosphoric acid group (phosphono group), a sulfonamide group, or a salt thereof is effective. Group, phosphoric acid group or a salt thereof are preferred, and carboxyl group and phosphoric acid group are particularly preferred. The number of anionic groups contained in the dispersing agent per molecule may be plural, but is preferably 2 or more on average, more preferably 5 or more, Particularly preferred is 10 or more. Moreover, the anionic group contained in a dispersing agent may contain multiple types in 1 molecule.
側鎖にアニオン性基を有する分散剤において、アニオン性基含有繰返し単位の組成は、
全繰返し単位のうちの10-4〜100モル%の範囲であり、好ましくは1〜50モル%、特に好ましくは5〜20モル%である。
In the dispersant having an anionic group in the side chain, the composition of the anionic group-containing repeating unit is:
It is in the range of 10 −4 to 100 mol% of all repeating units, preferably 1 to 50 mol%, particularly preferably 5 to 20 mol%.
分散剤は、さらに架橋又は重合性官能基を含有することが好ましい。架橋又は重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基{例えば(メタ)アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等}、カチオン重合性基(エポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等)、重縮合反応性基(加水分解性シリル基等、N−メチロール基)等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する官能基である。 The dispersant preferably further contains a crosslinkable or polymerizable functional group. Examples of the crosslinkable or polymerizable functional group include an ethylenically unsaturated group {for example, a (meth) acryloyl group, an allyl group, a styryl group, a vinyloxy group, etc.} capable of an addition reaction / polymerization reaction with a radical species, a cationic polymerizable group (epoxy Groups, oxatanyl groups, vinyloxy groups, etc.), polycondensation reactive groups (hydrolyzable silyl groups, etc., N-methylol groups) and the like, and functional groups having an ethylenically unsaturated group are preferred.
1分子当たりの分散剤に含有される架橋又は重合性官能基の数は、平均で2個以上であることが好ましく、より好ましくは5個以上、特に好ましくは10個以上である。また、分散剤に含有される架橋又は重合性官能基は、1分子中に複数種類が含有されていてもよい。 The average number of cross-linkable or polymerizable functional groups contained in the dispersant per molecule is preferably 2 or more, more preferably 5 or more, and particularly preferably 10 or more. Moreover, the crosslinking or polymerizable functional group contained in the dispersant may contain a plurality of types in one molecule.
本発明に用いる好ましい分散剤において、側鎖にエチレン性不飽和基を有する繰返し単位の例としては、ポリ−1,2−ブタジエン及びポリ−1,2−イソプレン構造、又は(メタ)アクリル酸のエステル又はアミドの繰返し単位であって、それに特定の残基(−COOR04又はCONHR04のR04基)が結合しているものが利用できる。 In the preferred dispersant used in the present invention, examples of the repeating unit having an ethylenically unsaturated group in the side chain include poly-1,2-butadiene and poly-1,2-isoprene structures, or (meth) acrylic acid. An ester or amide repeating unit to which a specific residue (the R 04 group of —COOR 04 or CONHR 04 ) is bonded can be used.
上記特定の残基(R04基)の例としては、−(CH2)n−CR05=CR06R07、−(CH2O)n−CH2CR05=CR06R07、−(CH2CH2O)n−CH2CR05=CR06R07、−(CH2)n−NH−CO−O−CH2CR05=CR06R07、−(CH2)n−O−CO−CR05=CR06R07及び(CH2CH2O)2−X01)を挙げることができ、ここで、R05〜R07はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、炭素数が1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、R05とR06又はR07は互いに結合して環を形成してもよく、nは1〜10の整数であり、そしてX01はジシクロペンタジエニル残基である。
Examples of the specific residue (R 04 group) include — (CH 2 ) n—CR 05 ═CR 06 R 07 , — (CH 2 O) n—CH 2 CR 05 ═CR 06 R 07 , — ( CH 2 CH 2 O) n-
エステル残基のR04の具体例には、−CH2CH=CH2{特開昭64−17047号公報記載のアリル(メタ)アクリレートのポリマーに相当}、−CH2CH2O−CH2CH=CH2、−CH2CH2OCOCH=CH2、−CH2CH2OCOC(CH3)=CH2、−CH2C(CH3)=CH2、−CH2CH=CH−C6H5、−CH2CH2OCOCH=CH−C6H5、−CH2CH2−NHCOO−CH2CH=CH2及びCH2CH2O−X01(X01はジシクロペンタジエニル残基)が含まれる。アミド残基のR04の具体例には、−CH2CH=CH2、−CH2CH2−X02(X02は1−シクロヘキセニル残基)及びCH2CH2−OCO−CH=CH2、−CH2CH2−OCO−C(CH3)=CH2が含まれる。
Specific examples of R 04 of the ester residue include —CH 2 CH═CH 2 (corresponding to an allyl (meth) acrylate polymer described in JP-A No. 64-17047), —CH 2 CH 2 O—
上記のエチレン性不飽和基を有する分散剤においては、その不飽和結合基に遊離ラジカル(重合開始ラジカル又は重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、分子間で直接、又は重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、分子間に架橋が形成されて硬化する。あるいは、分子中の原子(例えば不飽和結合基に隣接する炭素原子上の水素原子)が遊離ラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、分子間に架橋が形成されて硬化する。 In the above dispersant having an ethylenically unsaturated group, a free radical (polymerization initiation radical or a growth radical in the polymerization process of the polymerizable compound) is added to the unsaturated bond group, and the polymerizable compound directly or between the molecules. Addition polymerization is carried out through the polymerization chain, and a crosslink is formed between the molecules to cure. Alternatively, atoms in the molecule (for example, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the unsaturated bond group) are extracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded together to form a bridge between the molecules. Harden.
アニオン性基、及び架橋又は重合性官能基を有し、且つ該架橋又は重合性官能基を側鎖に有する分散剤の質量平均分子量(Mw)は、特に限定されないが1000以上であることが好ましい。分散剤のより好ましい質量平均分子量(Mw)は2000〜1000000であり、さらに好ましくは5000〜200000、特に好ましくは10000〜100000である。 The weight average molecular weight (Mw) of the dispersant having an anionic group and a crosslinkable or polymerizable functional group and having the crosslinkable or polymerizable functional group in the side chain is not particularly limited but is preferably 1000 or more. . The more preferable mass average molecular weight (Mw) of the dispersant is 2000 to 1000000, more preferably 5000 to 200000, and particularly preferably 10000 to 100000.
架橋又は重合性官能基の含有単位は、アニオン性基含有繰返し単位以外の全ての繰返し単位を構成していてもよいが、好ましくは全架橋又は繰返し単位のうちの5〜50モル%であり、特に好ましくは5〜30モル%である。 The cross-linked or polymerizable functional group-containing unit may constitute all repeating units other than the anionic group-containing repeating unit, preferably 5 to 50 mol% of all the crosslinking or repeating units, Most preferably, it is 5-30 mol%.
分散剤は、架橋又は重合性官能基、アニオン性基を有するモノマー以外の適当なモノマーとの共重合体であってもよい。共重合成分に関しては特に限定はされないが、分散安定性、他のモノマー成分との相溶性、形成皮膜の強度等種々の観点から選択される。好ましい例としては、メチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、t‐ブチル(メタ)アクリレート、シクロへキシル(メタ)アクリレート、スチレン等が挙げられる。 The dispersant may be a copolymer with a suitable monomer other than a monomer having a crosslinkable or polymerizable functional group or an anionic group. Although it does not specifically limit regarding a copolymerization component, It selects from various viewpoints, such as dispersion stability, compatibility with another monomer component, and the intensity | strength of a formed film. Preferable examples include methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, styrene and the like.
分散剤の形態は特に制限はないが、ブロック共重合体又はランダム共重合体であることが好ましくコスト及び合成的な容易さからランダム共重合体であることが特に好ましい。 The form of the dispersant is not particularly limited, but is preferably a block copolymer or a random copolymer, and particularly preferably a random copolymer from the viewpoint of cost and ease of synthesis.
分散剤の無機粒子に対する使用量は、1〜50質量%の範囲であることが好ましく、5〜30質量%の範囲であることがより好ましく、5〜20質量%であることが最も好ましい。また、分散剤は2種類以上を併用してもよい。 The amount of the dispersant used relative to the inorganic particles is preferably in the range of 1 to 50% by mass, more preferably in the range of 5 to 30% by mass, and most preferably 5 to 20% by mass. Two or more dispersants may be used in combination.
以下に本発明に好ましく用いられる分散剤の具体例を示すが、本発明用の分散剤はこれらに限定されるものではない。なお特に記載のない場合はランダム共重合体を表す。 Specific examples of the dispersant preferably used in the present invention are shown below, but the dispersant for the present invention is not limited thereto. Unless otherwise specified, a random copolymer is represented.
1−(9)防汚剤
本発明の反射防止フィルム、特にその最上層には防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系又はフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することが好ましい。
1- (9) Antifouling agent For the purpose of imparting antifouling properties, water resistance, chemical resistance, slipping properties and the like to the antireflection film of the present invention, particularly the uppermost layer thereof, known silicone type or fluorine type It is preferable to add an antifouling agent, a slip agent and the like as appropriate.
これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の0.01〜20質量%の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは0.05〜10質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは0.1〜5質量%の場合である。 When these additives are added, it is preferably added in the range of 0.01 to 20% by mass of the total solid content of the low refractive index layer, more preferably in the range of 0.05 to 10% by mass. Particularly preferred is 0.1 to 5% by mass.
シリコーン系化合物の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む、化合物鎖の末端及び/又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中には、ジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。 Preferable examples of the silicone compound include those having a substituent at the end of the compound chain and / or the side chain, containing a plurality of dimethylsilyloxy units as repeating units. The compound chain containing dimethylsilyloxy as a repeating unit may contain a structural unit other than dimethylsilyloxy.
置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。 The substituents may be the same or different, and a plurality of substituents are preferable. Examples of preferred substituents include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, fluoroalkyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group, amino group and the like. It is done.
シリコーン系化合物の分子量に特に制限はないが、10万以下であることが好ましく、5万以下であることがより好ましく、3000〜30000であることが特に好ましく、10000〜20000であることが最も好ましい。 Although there is no restriction | limiting in particular in the molecular weight of a silicone type compound, It is preferable that it is 100,000 or less, It is more preferable that it is 50,000 or less, It is especially preferable that it is 3000-30000, It is most preferable that it is 10,000-20000. .
またシリコーン系化合物の珪素原子含有量には特に制限はないが18.0質量%以上であることが好ましく、25.0〜37.8質量%であることが特に好ましく、30.0〜37.0質量%であることが最も好ましい。 Moreover, although there is no restriction | limiting in particular in silicon atom content of a silicone type compound, it is preferable that it is 18.0 mass% or more, it is especially preferable that it is 25.0-37.8 mass%, and 30.0-37. Most preferably, it is 0 mass%.
好ましいシリコーン系化合物の例としては、信越化学工業(株)製の“X−22−174DX”、“X−22−2426”、“X−22−164B”、“X22−164C”、“X−22−170DX”、“X−22−176D”、“X−22−1821”(以上商品名);チッソ(株)製の「サイラプレーンFM−0725」、「サイラプレーンFM−7725」、「サイラプレーンFM−4421」、「サイラプレーンFM−5521」、「サイラプレーンFM−6621」、「サイラプレーンFM−1121」;Gelest社製の“DMS−U22”、“RMS−033”、“RMS−083”、“UMS−182”、“DMS−H21”、“DMS−H31”、“HMS−301”、“FMS121”、“FMS123”、“FMS131”、“FMS141”、“FMS221”(以上商品名)などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Examples of preferable silicone compounds include “X-22-174DX”, “X-22-2426”, “X-22-164B”, “X22-164C”, “X-” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. “22-170DX”, “X-22-176D”, “X-22-1821” (named above); “Silaplane FM-0725”, “Silaplane FM-7725”, “Sila” manufactured by Chisso Corporation "Plain FM-4421", "Silaplane FM-5521", "Silaplane FM-6621", "Silaplane FM-1121"; "DMS-U22", "RMS-033", "RMS-083" manufactured by Gelest "," UMS-182 "," DMS-H21 "," DMS-H31 "," HMS-301 "," FMS121 "," FMS123 "," FM 131 "," FMS141 "," FMS221 "(trade names), but the like, but is not limited thereto.
フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数1〜20であることが好ましく、より好ましくは1〜10であり、直鎖{例えば−CF2CF3、−CH2(CF2)4H、−CH2(CF2)8CF3、−CH2CH2(CF2)4H等}であっても、分岐構造{例えばCH(CF3)2、CH2CF(CF3)2、CH(CH3)CF2CF3、CH(CH3)(CF2)5CF2H等}であっても、脂環式構造(好ましくは5員環又は6員環、例えばペルフルオロシクロへキシル基、ペルフルオロシクロペンチル基又はこれらで置換されたアルキル基等)であってもよく、エーテル結合を有していてもよい(例えばCH2OCH2CF2CF3、CH2CH2OCH2C4F8H、CH2CH2OCH2CH2C8F17、CH2CH2OCF2CF2OCF2CF2H等)。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。 As the fluorine compound, a compound having a fluoroalkyl group is preferable. The fluoroalkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and a straight chain {for example, —CF 2 CF 3 , —CH 2 (CF 2 ) 4 H, —CH 2 (CF 2 ) 8 CF 3 , —CH 2 CH 2 (CF 2 ) 4 H, etc.}, but branched structures {eg, CH (CF 3 ) 2 , CH 2 CF (CF 3 ) 2 , CH (CH 3 ) CF 2 CF 3 , CH (CH 3 ) (CF 2 ) 5 CF 2 H, etc.}, an alicyclic structure (preferably a 5- or 6-membered ring such as a perfluorocyclohexyl group, a perfluorocyclopentyl group, or Alkyl groups substituted with these, etc., and may have an ether bond (for example, CH 2 OCH 2 CF 2 CF 3 , CH 2 CH 2 OCH 2 C 4 F 8 H, CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 C 8 F 17 , CH 2 CH 2 OCF 2 CF 2 O CF 2 CF 2 H, etc.). A plurality of the fluoroalkyl groups may be contained in the same molecule.
フッ素系化合物は、さらに低屈折率層皮膜との結合形成に、あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。 The fluorine-based compound preferably further has a substituent that contributes to the formation of a bond with the low refractive index layer film or compatibility. The substituents may be the same or different, and a plurality of substituents are preferable. Examples of preferred substituents include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group, amino group and the like.
フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのコポリマーであっても、コオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。 The fluorine-based compound may be a copolymer with a compound containing no fluorine atom or a co-oligomer, and the molecular weight is not particularly limited.
フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが20質量%以上であることが好ましく、30〜70質量%であることが特に好ましく、40〜70質量%であることが最も好ましい。 Although there is no restriction | limiting in particular in fluorine atom content of a fluorine-type compound, It is preferable that it is 20 mass% or more, It is especially preferable that it is 30-70 mass%, It is most preferable that it is 40-70 mass%.
好ましいフッ素系化合物の例としては、ダイキン化学工業(株)製の“R−2020”、“M−2020”、“R−3833”、“M−3833”(以上商品名);大日本インキ(株)製の「メガファックF−171」、「メガファックF−172」、「メガファックF−179A」、「ディフェンサMCF−300」(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。 Examples of preferred fluorine-based compounds include “R-2020”, “M-2020”, “R-3833”, “M-3833” (all trade names) manufactured by Daikin Chemical Industries, Ltd .; "Megafuck F-171", "Megafuck F-172", "Megafuck F-179A", "Defenser MCF-300" (above product names), etc. manufactured by Co., Ltd., etc. are mentioned, but are not limited to these is not.
防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤又はポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。 For the purpose of imparting properties such as dust resistance and antistatic property, a known cationic surfactant or a dustproof agent such as a polyoxyalkylene compound, an antistatic agent, or the like can be appropriately added. These dustproofing agent and antistatic agent may contain the structural unit as a part of the function in the above-mentioned silicone compound or fluorine compound.
好ましい化合物の例としては大日本インキ(株)製の「メガファックF−150」(商品名)、東レダウコーニング(株)製の“SH−3748”(商品名)などが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。 Examples of preferred compounds include “Megafac F-150” (trade name) manufactured by Dainippon Ink and “SH-3748” (trade name) manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. It is not limited to.
1−(10)界面活性剤
本発明の反射防止フィルムには、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、又はその両者を光拡散層形成用の塗布組成物中に含有することが好ましい。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いることができる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることができる。
1- (10) Surfactant In the antireflection film of the present invention, in order to ensure surface uniformity such as coating unevenness, drying unevenness, point defect, etc., any one of fluorine-based and silicone-based surfactants may be used. It is preferable to contain both of them in the coating composition for forming the light diffusion layer. In particular, a fluorine-based surfactant can be preferably used because an effect of improving surface defects such as coating unevenness, drying unevenness, and point defects appears at a smaller addition amount. Productivity can be improved by giving high-speed coating suitability while improving surface uniformity.
フッ素系の界面活性剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基含有共重合体(「フッ素系高分子界面活性剤」と略記することもある)が挙げられ、該フッ素系高分子界面活性剤は、下記(i)のモノマーに相当する繰り返し単位を含むアクリル系(共)重合体、メタアクリル系(共)重合体か、又は下記(i)のモノマーに相当する繰り返し単位と下記(ii)のモノマーに相当する繰り返し単位を含むアクリル系共重合体、メタアクリル系共重合体、さらにこれらと共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が有用である。 Preferable examples of the fluorosurfactant include fluoroaliphatic group-containing copolymers (sometimes abbreviated as “fluoropolymer surfactant”). An acrylic (co) polymer, a methacrylic (co) polymer containing a repeating unit corresponding to the monomer (i) below, or a repeating unit corresponding to the monomer (i) below and the following (ii) Acrylic copolymers and methacrylic copolymers containing repeating units corresponding to the monomers, and copolymers with vinyl monomers copolymerizable therewith are useful.
(i)下記一般式(2)で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
一般式(2):
(I) Fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the following general formula (2) General formula (2):
一般式(2)において、R21は水素原子又はメチル基を表し、L21は酸素原子、硫黄原子又はN(R22)−を表し、酸素原子が好ましい。s1は1以上6以下の整数、t1は2〜4の整数を表す。R22は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子又はメチル基である。 In general formula (2), R 21 represents a hydrogen atom or a methyl group, L 21 represents an oxygen atom, a sulfur atom or N (R 22) - represents a oxygen atom are preferred. s1 represents an integer of 1 to 6, and t1 represents an integer of 2 to 4. R 22 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, specifically a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group.
(ii)前記(i)と共重合可能な下記一般式(3)で示されるモノマー
一般式(3):
(Ii) Monomer represented by the following general formula (3) copolymerizable with the above (i) General formula (3):
一般式(3)において、R31は水素原子又はメチル基を表し、L31は酸素原子、硫黄原
子又はN(R33)−を表し、R33は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子又はメチル基である。L31は酸素原子、−N(H)−、及びN(CH3)−が好ましい。
In the general formula (3), R 31 represents a hydrogen atom or a methyl group, L 31 represents an oxygen atom, a sulfur atom or N (R 33 ) —, and R 33 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Specifically, it represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group. L 31 is preferably an oxygen atom, —N (H) —, and N (CH 3 ) —.
R32は置換基を有してもよい炭素数4以上20以下の直鎖、分岐又は環状のアルキル基を表す。R32のアルキル基の置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等があげられるがこの限りではない。炭素数4以上20以下の直鎖、分岐又は環状のアルキル基としては、直鎖及び分岐してもよいブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、また、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基、等の多環シクロアルキル基が好適に用いられる。 R 32 represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 4 to 20 carbon atoms which may have a substituent. Examples of the substituent for the alkyl group of R 32 include a hydroxyl group, an alkylcarbonyl group, an arylcarbonyl group, a carboxyl group, an alkyl ether group, an aryl ether group, a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom, a nitro group, and a cyano group. , Amino groups and the like, but not limited thereto. Examples of the linear, branched or cyclic alkyl group having 4 to 20 carbon atoms include a butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group and undecyl group which may be linear or branched. , Dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, octadecyl group, eicosanyl group, etc., and monocyclic cycloalkyl groups such as cyclohexyl group, cycloheptyl group and bicycloheptyl group, bicyclodecyl group, tricycloundecyl group, A polycyclic cycloalkyl group such as a tetracyclododecyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, a tetracyclodecyl group, or the like is preferably used.
本発明で用いることができるフッ素系高分子界面活性剤中に用いられる、これらの一般式(2)で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該フッ素系高分子界面活性剤の各単量体に基づいて10モル%以上であり、好ましくは15〜70モル%であり、より好ましくは20〜60モル%の範囲である。 The amount of the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the general formula (2) used in the fluoropolymer surfactant that can be used in the present invention is determined according to each unit of the fluoropolymer surfactant. It is 10 mol% or more based on a monomer, Preferably it is 15-70 mol%, More preferably, it is the range of 20-60 mol%.
本発明で用いられるフッ素系高分子界面活性剤の好ましい質量平均分子量は、3000〜100,000が好ましく、5,000〜80,000がより好ましい。 The preferred mass average molecular weight of the fluoropolymer surfactant used in the present invention is preferably 3000 to 100,000, more preferably 5,000 to 80,000.
更に、本発明で用いられるフッ素系高分子界面活性剤の好ましい添加量は、塗布液に対して0.001〜5質量%の範囲であり、好ましくは0.005〜3質量%の範囲であり、更に好ましくは0.01〜1質量%の範囲である。フッ素系高分子界面活性剤の添加量が0.001質量%以上であれば、効果が十分に発揮されるので好ましく、また5質量%以下であれば、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、塗膜としての性能(例えば反射率、耐擦傷性)に悪影響を及ぼしたりするなどの不具合が生じないので好ましい。 Furthermore, the preferable addition amount of the fluoropolymer surfactant used in the present invention is in the range of 0.001 to 5% by mass, preferably in the range of 0.005 to 3% by mass with respect to the coating solution. More preferably, it is the range of 0.01-1 mass%. If the addition amount of the fluorine-based polymer surfactant is 0.001% by mass or more, the effect is sufficiently exhibited, which is preferable, and if it is 5% by mass or less, the coating film is not sufficiently dried. Or adverse effects on the performance as a coating film (for example, reflectivity, scratch resistance), and the like.
以下、一般式(2)で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位を含むフッ素系高分子界面活性剤の具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Mwは質量平均分子量を表す。 Hereinafter, although the example of the specific structure of the fluoropolymer surfactant containing the repeating unit corresponding to the fluoro aliphatic group containing monomer represented by General formula (2) is shown, it is not this limitation. In addition, the number in a formula shows the molar ratio of each monomer component. Mw represents a mass average molecular weight.
しかしながら、上記のようなフッ素系高分子界面活性剤を防眩層に使用すると、防眩層表面にF原子を含有する官能基が偏析して防眩層の表面エネルギーが低下し、該防眩層上に低屈折率層をオーバーコートしたとき反射防止性能が悪化するという問題が生じることがある。これは、低屈折率層を形成するために用いられる硬化性組成物の濡れ性が悪化するために、低屈折率層に目視では検知できない微小なムラが悪化するためと推定される。このような問題を解決するためには、フッ素系ポリマーの構造と添加量を調整することにより、防眩層の表面エネルギーを、好ましくは20mN・m-1〜50mN・m-1に、より好ましくは30mN・m-1〜40mN・m-1に制御することが効果的であることを見出した。このような表面エネルギーを実現するためには、X線光電子分光法で測定したフッ素原子由来のピークと、炭素原子由来のピークの比であるF/Cが0.1〜1.5であることが好ましい。 However, when the above fluoropolymer surfactant is used for the antiglare layer, functional groups containing F atoms are segregated on the surface of the antiglare layer, and the surface energy of the antiglare layer is lowered. When the low refractive index layer is overcoated on the layer, there may be a problem that the antireflection performance deteriorates. This is presumably because the wettability of the curable composition used for forming the low refractive index layer is deteriorated, so that minute unevenness that cannot be visually detected in the low refractive index layer is deteriorated. To solve such problems, by adjusting the structure and amount of the fluorine-based polymer, the surface energy of the antiglare layer, preferably 20mN · m -1 ~50mN · m -1 , more preferably We have found that it is effective to control the 30mN · m -1 ~40mN · m -1 . In order to realize such surface energy, F / C, which is a ratio of a peak derived from a fluorine atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy and a peak derived from a carbon atom, is 0.1 to 1.5. Is preferred.
あるいは、上層を塗布する時には、上層を形成する溶媒に抽出されるようなフッ素系高分子界面活性剤を選択することで、下層表面(=界面)に偏在することがなくなり、上層と下層の密着性を持たせることができ、高速塗布においても面状の均一性を保ち、且つ耐擦傷性の強い反射防止フィルムを提供することができる。また表面自由エネルギーの低下を防ぐことにより、低屈折率層塗布前の防眩層の表面エネルギーを上記範囲に制御することでも目的を達成することができる。そのようなフッ素系高分子界面活性剤の例は、下記(iii)のモノマーに相当する繰り返し単位を含む、アクリル系(共)重合体、メタアクリル(共)重合体か、又は下記(iii)のモノマーに相当する繰り返し単位と下記(iv)のモノマーに相当する繰り返し単位とを含むアクリル系共重合体、メタアクリル系共重合体、さらにこれらと共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体である。 Alternatively, when the upper layer is applied, by selecting a fluoropolymer surfactant that can be extracted into the solvent that forms the upper layer, it is not unevenly distributed on the lower layer surface (= interface), and the upper layer and the lower layer are in close contact with each other. Thus, it is possible to provide an antireflection film that maintains surface uniformity even during high-speed application and has high scratch resistance. Further, by preventing the surface free energy from decreasing, the object can be achieved by controlling the surface energy of the antiglare layer before application of the low refractive index layer to the above range. Examples of such fluoropolymer surfactants are acrylic (co) polymers, methacrylic (co) polymers containing repeating units corresponding to the monomer (iii) below, or the following (iii) An acrylic copolymer, a methacrylic copolymer, and a copolymer of a vinyl monomer copolymerizable therewith, and a repeating unit corresponding to the monomer (iv) and a repeating unit corresponding to the monomer (iv) It is.
(iii)下記一般式(4)で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
一般式(4)
(Iii) Fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the following general formula (4) General formula (4)
一般式(4)において、R41は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。L41は酸素原子、硫黄原子又は−N(R42)−を表し、酸素原子又は−N(R42)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。s2は1以上6以下の整数(1〜3がより好ましく、1であることが更に好ましい)、t2は1以上18以下の整数(4〜12がより好ましく、6〜8が更に好ましい)を表す。R42は水素原子又は置換基を有してもよい炭素数1〜8のアルキル基を表し、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましい。 In the general formula (4), R 41 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, and more preferably a hydrogen atom or a methyl group. L 41 represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 42 ) —, more preferably an oxygen atom or —N (R 42 ) —, and still more preferably an oxygen atom. s2 represents an integer of 1 to 6 (more preferably 1 to 3, more preferably 1), and t2 represents an integer of 1 to 18 (more preferably 4 to 12 and even more preferably 6 to 8). . R 42 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and further preferably a hydrogen atom or a methyl group.
またフッ素系高分子界面活性剤中に、一般式(4)で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位が2種類以上構成成分として含まれていてもよい。 Further, in the fluoropolymer surfactant, two or more kinds of repeating units corresponding to the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the general formula (4) may be contained as a constituent component.
(iv)前記(iii)と共重合可能な下記一般式(5)で示されるモノマー
一般式(5)
(Iv) Monomer represented by the following general formula (5) copolymerizable with the above (iii) General formula (5)
一般式(5)において、R51は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。L51は酸素原子、硫黄原子又は−N(R53)−を表し、酸素原子又は−N(R53)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。R53は水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表し、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましい。 In the general formula (5), R 51 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group. L 51 represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 53 ) —, more preferably an oxygen atom or —N (R 53 ) —, and still more preferably an oxygen atom. R 53 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and still more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
R52は置換基を有してもよい炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、ポリ(アルキレンオキシ)基を含むアルキル基、又は置換基を有していてもよい芳香族基(例えば、フェニル基又はナフチル基)を表す。炭素数1〜12の直鎖、分岐、もしくは環状のアルキル基、又は総炭素数6〜18の芳香族がより好ましく、炭素数1〜8の直鎖、分岐、又は環状のアルキル基が更に好ましい。 R 52 is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an alkyl group containing a poly (alkyleneoxy) group, or an aromatic which may have a substituent. Represents a group (for example, a phenyl group or a naphthyl group). A linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 18 carbon atoms is more preferable, and a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is still more preferable. .
本発明で用いることができるフッ素系高分子界面活性剤中に用いられる、これらの一般式(4)で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの好ましい量は、該フッ素系高分子界面活性剤の各単量体に基づいて10〜100モル%であり、好ましくは20〜100モル%であり、より好ましくは40〜100モル%の範囲である。 The preferred amount of the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the general formula (4) used in the fluoropolymer surfactant that can be used in the present invention is each of the fluoropolymer surfactant. It is 10-100 mol% based on a monomer, Preferably it is 20-100 mol%, More preferably, it is the range of 40-100 mol%.
以下、一般式(4)で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位を含む、フッ素系高分子界面活性剤の具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお、式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Mwは質量平均分子量を表す。 Hereinafter, although the example of the specific structure of a fluoropolymer surfactant containing the repeating unit corresponding to the fluoro aliphatic group containing monomer represented by General formula (4) is shown, it is not this limitation. In addition, the number in a formula shows the molar ratio of each monomer component. Mw represents a mass average molecular weight.
1−(11)増粘剤
本発明の反射防止フィルムは、機能層形成用の塗布液の粘度を調整するために増粘剤を用いてもよい。
ここでいう増粘剤とは、それを添加することにより液の粘度が増大するものを意味し、添加することにより塗布液の粘度が上昇する大きさとして、好ましくは0.05〜50cPであり、さらに好ましくは0.10〜20cPであり、最も好ましくは0.10〜10cPである。
1- (11) Thickener The antireflection film of the present invention may use a thickener in order to adjust the viscosity of the coating liquid for forming the functional layer.
The term “thickener” as used herein means that the viscosity of the liquid is increased by adding the thickener, and the amount by which the viscosity of the coating liquid is increased by addition is preferably 0.05 to 50 cP. More preferably, it is 0.10-20 cP, Most preferably, it is 0.10-10 cP.
このような増粘剤としては以下のものが挙げられるが、これに限定されない。
ポリ−ε−カプロラクトン、
ポリ−ε−カプロラクトンジオール、
ポリ−ε−カプロラクトントリオール、
ポリビニルアセテート、
ポリ(エチレンアジペート)、
ポリ(1,4−ブチレンアジペート)、
ポリ(1,4−ブチレングルタレート)、
ポリ(1,4−ブチレンスクシネート)、
ポリ(1,4−ブチレンテレフタレート)、
ポリ(エチレンテレフタレート)、
ポリ(2−メチル−1,3−プロピレンアジペート)、
ポリ(2−メチル−1,3−プロピレングルタレート)、
ポリ(ネオペンチルグリコールアジペート)、
ポリ(ネオペンチルグリコールセバケート)、
ポリ(1,3−プロピレンアジペート)、
ポリ(1,3−プロピレングルタレート)、
ポリビニルブチラール、
ポリビニルホルマール、
ポリビニルアセタール、
ポリビニルプロパナール、
ポリビニルヘキサナール、
ポリビニルピロリドン、
ポリ(メタ)アクリル酸エステル、
セルロースアセテート、
セルロースプロピオネート、
セルロースアセテートブチレート。
Examples of such thickeners include, but are not limited to:
Poly-ε-caprolactone,
Poly-ε-caprolactone diol,
Poly-ε-caprolactone triol,
Polyvinyl acetate,
Poly (ethylene adipate),
Poly (1,4-butylene adipate),
Poly (1,4-butylene glutarate),
Poly (1,4-butylene succinate),
Poly (1,4-butylene terephthalate),
polyethylene terephthalate),
Poly (2-methyl-1,3-propylene adipate),
Poly (2-methyl-1,3-propylene glutarate),
Poly (neopentylglycol adipate),
Poly (neopentyl glycol sebacate),
Poly (1,3-propylene adipate),
Poly (1,3-propylene glutarate),
Polyvinyl butyral,
Polyvinyl formal,
Polyvinyl acetal,
Polyvinylpropanal,
Polyvinyl hexanal,
Polyvinylpyrrolidone,
Poly (meth) acrylic acid ester,
Cellulose acetate,
Cellulose propionate,
Cellulose acetate butyrate.
この他にも、特開平8−325491号公報記載のスメクタイト、フッ素四珪素雲母、ベントナイト、シリカ、モンモリロナイト及びポリアクリル酸ナトリウム、特開平10−219136号公報記載のエチルセルロース、ポリアクリル酸、有機粘土など、公知の粘度調整剤やチキソトロピー性付与剤を使用することができる。 In addition, smectite, tetrasilica mica, bentonite, silica, montmorillonite and sodium polyacrylate described in JP-A-8-325491, ethylcellulose, polyacrylic acid, organic clay described in JP-A-10-219136, etc. Well-known viscosity modifiers and thixotropic agents can be used.
1−(12)塗布溶媒
本発明において、各層を形成するための塗布組成物に用いられる溶媒としては、各成分を溶解又は分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶媒が使用できる。
1- (12) Coating solvent In the present invention, as the solvent used in the coating composition for forming each layer, each component can be dissolved or dispersed, and a uniform surface is likely to be formed in the coating process and the drying process. In addition, various solvents selected from the viewpoints of ensuring liquid storage stability and having an appropriate saturated vapor pressure can be used.
溶媒は2種類以上のものを混合して用いることができる。特に、乾燥負荷の観点から、常圧室温における沸点が100℃以下の溶媒を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が100℃以上の溶媒を少量含有することが好ましい。 Two or more kinds of solvents can be mixed and used. In particular, from the viewpoint of drying load, it is preferable that a solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower at normal pressure and room temperature as a main component and a small amount of solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher for adjusting the drying speed.
沸点が100℃以下の溶媒としては、例えば、ヘキサン(沸点68.7℃)、ヘプタン(98.4℃)、シクロヘキサン(80.7℃)、ベンゼン(80.1℃)などの炭化水素類、ジクロロメタン(39.8℃)、クロロホルム(61.2℃)、四塩化炭素(76.8℃)、1,2−ジクロロエタン(83.5℃)、トリクロロエチレン(87.2℃)などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル(34.6℃)、ジイソプロピルエーテル(68.5℃)、ジプロピルエーテル(90.5℃)、テトラヒドロフラン(66℃)などのエーテル類、ギ酸エチル(54.2℃)、酢酸メチル(57.8℃)、酢酸エチル(77.1℃)、酢酸イソプロピル(89℃)などのエステル類、アセトン(56.1℃)、2−ブタノン(メチルエチルケトンと同じ、79.6℃)などのケトン類、メタノール(64.5℃)、エタノール(78.3℃)、2−プロパノール(82.4℃)、1−プロパノール(97.2℃)などのアルコール類、アセトニトリル(81.6℃)、プロピオニトリル(97.4℃)などのシアノ化合物類、二硫化炭素(46.2℃)などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では2−ブタノンが特に好ましい。 Examples of the solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower include hydrocarbons such as hexane (boiling point 68.7 ° C.), heptane (98.4 ° C.), cyclohexane (80.7 ° C.), benzene (80.1 ° C.), Halogenated carbonization such as dichloromethane (39.8 ° C), chloroform (61.2 ° C), carbon tetrachloride (76.8 ° C), 1,2-dichloroethane (83.5 ° C), trichloroethylene (87.2 ° C) Hydrogens, diethyl ether (34.6 ° C), diisopropyl ether (68.5 ° C), dipropyl ether (90.5 ° C), tetrahydrofuran (66 ° C) and other ethers, ethyl formate (54.2 ° C), Esters such as methyl acetate (57.8 ° C.), ethyl acetate (77.1 ° C.), isopropyl acetate (89 ° C.), acetone (56.1 ° C.), 2-butanone (methyl ethyl) Ketones such as 79.6 ° C, the same as ketone, methanol (64.5 ° C), ethanol (78.3 ° C), 2-propanol (82.4 ° C), 1-propanol (97.2 ° C), etc. Alcohols, cyano compounds such as acetonitrile (81.6 ° C.), propionitrile (97.4 ° C.), carbon disulfide (46.2 ° C.), and the like. Of these, ketones and esters are preferable, and ketones are particularly preferable. Among the ketones, 2-butanone is particularly preferable.
沸点が100℃を以上の溶媒としては、例えば、オクタン(125.7℃)、トルエン(110.6℃)、キシレン(138℃)、テトラクロロエチレン(121.2℃)、クロロベンゼン(131.7℃)、ジオキサン(101.3℃)、ジブチルエーテル(142.4℃)、酢酸イソブチル(118℃)、シクロヘキサノン(155.7℃)、2−メチル−4−ペンタノン(MIBKと同じ、115.9℃)、1−ブタノール(117.7℃)、N,N−ジメチルホルムアミド(153℃)、N,N−ジメチルアセトアミド(166℃)、ジメチルスルホキシド(189℃)などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、2−メチル−4−ペンタノンである。 Examples of the solvent having a boiling point of 100 ° C. or more include, for example, octane (125.7 ° C.), toluene (110.6 ° C.), xylene (138 ° C.), tetrachloroethylene (121.2 ° C.), and chlorobenzene (131.7 ° C.). , Dioxane (101.3 ° C), dibutyl ether (142.4 ° C), isobutyl acetate (118 ° C), cyclohexanone (155.7 ° C), 2-methyl-4-pentanone (same as MIBK, 115.9 ° C) 1-butanol (117.7 ° C.), N, N-dimethylformamide (153 ° C.), N, N-dimethylacetamide (166 ° C.), dimethyl sulfoxide (189 ° C.) and the like. Cyclohexanone and 2-methyl-4-pentanone are preferable.
1−(13)その他
本発明の反射防止フィルムには、前記の成分以外に、樹脂、カップリング剤、着色防止剤、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収
剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤などを添加することもできる。
1- (13) Others In addition to the above components, the antireflection film of the present invention includes a resin, a coupling agent, a coloring inhibitor, a coloring agent (pigment, dye), an antifoaming agent, a leveling agent, a flame retardant, and an ultraviolet ray. Absorbers, infrared absorbers, adhesion-imparting agents, polymerization inhibitors, antioxidants, surface modifiers, and the like can also be added.
1−(14)支持体
本発明の反射防止フィルムの支持体としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シート、透明ガラスなど、特に限定はない。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム(例えば、セルローストリアセテートフィルム(屈折率1.48)、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム等)、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリルニトリルフィルム、ポリノルボルネン系樹脂フィルム{例えば「アートン」(商品名)JSR(株)製、及び「ゼオネックス」(商品名)日本ゼオン(株)製}等が使用できる。
1- (14) Support The support for the antireflection film of the present invention is not particularly limited, such as a transparent resin film, a transparent resin plate, a transparent resin sheet, and transparent glass. Transparent resin films include cellulose acylate films (for example, cellulose triacetate film (refractive index 1.48), cellulose diacetate film, cellulose acetate butyrate film, cellulose acetate propionate film, etc.), polyethylene terephthalate film, polyether Sulfone film, polyacrylic resin film, polyurethane resin film, polyester film, polycarbonate film, polysulfone film, polyether film, polymethylpentene film, polyetherketone film, (meth) acrylonitrile film, polynorbornene resin film { For example, “Arton” (trade name) manufactured by JSR Corporation, and “Zeonex” (trade name) manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.} There can be used.
〔セルロースアシレートフィルム〕
その中でも、透明性が高く、光学的に複屈折が少なく、製造が容易であり、偏光板の保護フィルムとして一般に用いられているセルロースアシレートフィルムが好ましく、セルローストリアセテートフィルムが特に好ましい。又、透明支持体の厚さは通常25μm〜1000μm程度とする。
[Cellulose acylate film]
Among them, a cellulose acylate film having high transparency, optically low birefringence, easy production, and generally used as a protective film for a polarizing plate is preferable, and a cellulose triacetate film is particularly preferable. The thickness of the transparent support is usually about 25 μm to 1000 μm.
[セルロースアセテート]
本発明ではセルロースアシレートフィルムに、酢化度が59.0〜61.5%であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。
酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ASTM
D−817−91(セルロースアセテート等の試験法)におけるアセチル化度の測定及び計算に従う。
[Cellulose acetate]
In the present invention, it is preferable to use cellulose acetate having an acetylation degree of 59.0 to 61.5% for the cellulose acylate film.
The degree of acetylation means the amount of bound acetic acid per unit mass of cellulose. The degree of acetylation is ASTM
It follows the measurement and calculation of the degree of acetylation in D-817-91 (test method for cellulose acetate and the like).
セルロースアシレートの粘度平均重合度(DP)は、250以上であることが好ましく、290以上であることがさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるMw/Mn(Mwは質量平均分子量、Mnは数平均分子量)の値が1.0に近いこと、換言すれば分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なMw/Mnの値としては、1.0〜1.7であることが好ましく、1.3〜1.65であることがさらに好ましく、1.4〜1.6であることが最も好ましい。 The viscosity average degree of polymerization (DP) of cellulose acylate is preferably 250 or more, and more preferably 290 or more. In addition, the cellulose acylate used in the present invention has a value of Mw / Mn (Mw is a mass average molecular weight, Mn is a number average molecular weight) by gel permeation chromatography (GPC) close to 1.0. A narrow molecular weight distribution is preferred. The specific value of Mw / Mn is preferably 1.0 to 1.7, more preferably 1.3 to 1.65, and most preferably 1.4 to 1.6. preferable.
一般に、セルロースアシレートの2,3,6位の水酸基は、全体の置換度の1/3ずつに均等に分配されるわけではなく、6位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの6位水酸基の置換度が、2,3位に比べて多いほうが好ましい。全体の置換度に対して6位の水酸基が32%以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には33%以上、特に34%以上であることが好ましい。さらにセルロースアシレートの6位アシル基の置換度が0.88以上であることが好ましい。6位水酸基は、アセチル基以外に炭素数3以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、NMRによって求めることができる。 In general, the hydroxyl groups at the 2, 3, and 6 positions of cellulose acylate are not evenly distributed by 1/3 of the total substitution degree, and the substitution degree of the 6 position hydroxyl group tends to be small. In the present invention, it is preferable that the substitution degree of the 6-position hydroxyl group of cellulose acylate is larger than that of the 2- and 3-positions. The hydroxyl group at the 6-position with respect to the total substitution degree is preferably substituted with 32% or more of an acyl group, more preferably 33% or more, and particularly preferably 34% or more. Furthermore, the substitution degree of the 6-position acyl group of cellulose acylate is preferably 0.88 or more. The 6-position hydroxyl group may be substituted with a propionyl group, butyroyl group, valeroyl group, benzoyl group, acryloyl group or the like, which is an acyl group having 3 or more carbon atoms, in addition to the acetyl group. The degree of substitution at each position can be determined by NMR.
本発明ではセルロースアシレートとして、特開平11−5851号公報の段落「0043」〜「0044」[実施例][合成例1]、段落「0048」〜「0049」[合成例2]、段落「0051」〜「0052」[合成例3]に記載の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。 In the present invention, as cellulose acylate, paragraphs “0043” to “0044” [Example] [Synthesis Example 1], paragraphs “0048” to “0049” [Synthesis Example 2], and paragraph “ Cellulose acetate obtained by the method described in “0051” to “0052” [Synthesis Example 3] can be used.
[セルロースアシレートフィルムの製造]
本発明で用いられるセルロースアシレートフィルムは、溶液製膜法(ソルベントキャスト法)により製造することができる。ソルベントキャスト法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液(ドープ)を用いてフィルムを製造する。
[Manufacture of cellulose acylate film]
The cellulose acylate film used in the present invention can be produced by a solution casting method (solvent casting method). In the solvent cast method, a film is produced using a solution (dope) in which cellulose acylate is dissolved in an organic solvent.
有機溶媒は、炭素数が3〜12のエーテル、炭素数が3〜12のケトン、炭素数が3〜12のエステル及び炭素数が1〜6のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。2種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。 The organic solvent includes a solvent selected from ether having 3 to 12 carbon atoms, ketone having 3 to 12 carbon atoms, ester having 3 to 12 carbon atoms, and halogenated hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms. preferable. Two or more organic solvents may be mixed and used.
エーテル、ケトン及びエステルは環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトン及びエステルの官能基(すなわち、−O−、−CO−及び−COO−)のいずれか2つ以上を有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。2種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その好ましい炭素数は、いずれかの官能基を有する化合物の、上記で特定した好ましい炭素数の範囲内であればよい。 Ethers, ketones and esters may have a cyclic structure. A compound having any two or more functional groups of ether, ketone and ester (that is, —O—, —CO— and —COO—) can also be used as the organic solvent. The organic solvent may have another functional group such as an alcoholic hydroxyl group. In the case of an organic solvent having two or more types of functional groups, the preferred carbon number thereof may be within the range of the preferred carbon number specified above for the compound having any functional group.
炭素数が3〜12のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトールが含まれる。炭素数が3〜12のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノンが含まれる。炭素数が3〜12のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート及びペンチルアセテートが含まれる。 Examples of the ether having 3 to 12 carbon atoms include diisopropyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, tetrahydrofuran, anisole and phenetole. Examples of ketones having 3 to 12 carbon atoms include acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone and methylcyclohexanone. Examples of the ester having 3 to 12 carbon atoms include ethyl formate, propyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate and pentyl acetate.
2種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、2−エトキシエチルアセテート、2−メトキシエタノール及び2−ブトキシエタノールが含まれる。 Examples of the organic solvent having two or more kinds of functional groups include 2-ethoxyethyl acetate, 2-methoxyethanol and 2-butoxyethanol.
ハロゲン化炭化水素の炭素数は1又は2であることが好ましく、1であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、25〜75モル%であることが好ましく、30〜70モル%であることがより好ましく、35〜65モル%であることがさらに好ましく、40〜60モル%であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。 The number of carbon atoms of the halogenated hydrocarbon is preferably 1 or 2, and most preferably 1. The halogen of the halogenated hydrocarbon is preferably chlorine. The proportion of halogenated hydrocarbon hydrogen atoms replaced with halogen is preferably 25 to 75 mol%, more preferably 30 to 70 mol%, and more preferably 35 to 65 mol%. More preferably, it is most preferable that it is 40-60 mol%. Methylene chloride is a representative halogenated hydrocarbon.
セルロースアシレート溶液(ドープ)の調整は一般的な方法で行える。一般的な方法とは、0℃以上の温度(常温又は高温)で処理することを意味する。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法及び装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素(特にメチレンクロリド)を用いることが好ましい。非塩素系溶媒を用いることもでき、それについては発明協会公開技報公技番号2001−1745号に記載されているものが挙げられる。 The cellulose acylate solution (dope) can be adjusted by a general method. A general method means processing at a temperature of 0 ° C. or higher (room temperature or high temperature). The solution can be prepared by using a dope preparation method and apparatus in a normal solvent cast method. In the case of a general method, it is preferable to use a halogenated hydrocarbon (particularly methylene chloride) as the organic solvent. A non-chlorinated solvent can also be used, and examples thereof include those described in JIII Journal of Technical Disclosure No. 2001-1745.
セルロースアシレートの量は、得られる溶液中に10〜40質量%含まれるように調整する。セルロースアシレートの量は、10〜30質量%であることがさらに好ましい。有機溶媒(主溶媒)中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。 The amount of cellulose acylate is adjusted so as to be contained in the obtained solution in an amount of 10 to 40% by mass. The amount of cellulose acylate is more preferably 10 to 30% by mass. Arbitrary additives described later may be added to the organic solvent (main solvent).
溶液は、常温(0〜40℃)で、セルロースアシレートと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧及び加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、セルロースアシレートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、且つ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加
熱温度は、通常は40℃以上であり、好ましくは60〜200℃であり、さらに好ましくは80〜110℃である。
The solution can be prepared by stirring cellulose acylate and an organic solvent at room temperature (0 to 40 ° C.). The high concentration solution may be stirred under pressure and heating conditions. Specifically, cellulose acylate and an organic solvent are placed in a pressure vessel and sealed, and stirred while heating to a temperature not lower than the boiling point of the solvent at normal temperature and in a range where the solvent does not boil. The heating temperature is usually 40 ° C. or higher, preferably 60 to 200 ° C., more preferably 80 to 110 ° C.
各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。 Each component may be coarsely mixed in advance and then placed in a container. Moreover, you may put into a container sequentially.
容器は攪拌できるように構成されているものを用いる。窒素ガス等の不活性な気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。 A container configured to be stirred is used. The container can be pressurized by injecting an inert gas such as nitrogen gas. Moreover, you may utilize the raise of the vapor pressure of the solvent by heating. Or after sealing a container, you may add each component under pressure. When heating, it is preferable to heat from the outside of the container. For example, a jacket type heating device can be used. The entire container can also be heated by providing a plate heater outside the container and piping to circulate the liquid.
容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。 It is preferable to provide a stirring blade inside the container and stir using this. The stirring blade preferably has a length that reaches the vicinity of the wall of the container. A scraping blade is preferably provided at the end of the stirring blade in order to renew the liquid film on the vessel wall.
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、又は取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。 Instruments such as a pressure gauge and a thermometer may be installed in the container. Each component is dissolved in a solvent in the container. The prepared dope is taken out of the container after cooling, or is taken out and then cooled using a heat exchanger or the like.
冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもセルロースアシレートを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセルロースアセテートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。 A solution can also be prepared by a cooling dissolution method. In the cooling dissolution method, cellulose acylate can be dissolved in an organic solvent that is difficult to dissolve by a normal dissolution method. In addition, even if it is a solvent which can melt | dissolve a cellulose acetate with a normal melt | dissolution method, there exists an effect that a uniform solution can be obtained rapidly according to a cooling melt | dissolution method.
冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロースアシレートを撹拌しながら徐々に添加する。セルロースアシレートの量は、この混合物中に10〜40質量%含まれるように調整することが好ましい。セルロースアシレートの量は、10〜30質量%であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。 In the cooling dissolution method, first, cellulose acylate is gradually added to an organic solvent at room temperature while stirring. The amount of cellulose acylate is preferably adjusted so as to be contained in the mixture in an amount of 10 to 40% by mass. The amount of cellulose acylate is more preferably 10 to 30% by mass. Furthermore, you may add the arbitrary additive mentioned later in a mixture.
次に、混合物を−100〜−10℃(好ましくは−80〜−10℃、さらに好ましくは−50〜−20℃、最も好ましくは−50〜−30℃)に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴(−75℃)や冷却したジエチレングリコール溶液(−30〜−20℃)中で実施できる。このように冷却すると、セルロースアセテートと有機溶媒の混合物は固化する。冷却速度は、4℃/分以上であることが好ましく、8℃/分以上であることがさらに好ましく、12℃/分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、10000℃/秒が理論的な上限であり、1000℃/秒が技術的な上限であり、そして100℃/秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。 The mixture is then cooled to -100 to -10 ° C (preferably -80 to -10 ° C, more preferably -50 to -20 ° C, most preferably -50 to -30 ° C). The cooling can be performed, for example, in a dry ice / methanol bath (−75 ° C.) or a cooled diethylene glycol solution (−30 to −20 ° C.). When cooled in this way, the mixture of cellulose acetate and organic solvent solidifies. The cooling rate is preferably 4 ° C./min or more, more preferably 8 ° C./min or more, and most preferably 12 ° C./min or more. The faster the cooling rate, the better. However, 10,000 ° C./second is the theoretical upper limit, 1000 ° C./second is the technical upper limit, and 100 ° C./second is the practical upper limit. The cooling rate is a value obtained by dividing the difference between the temperature at the start of cooling and the final cooling temperature by the time from the start of cooling to the final cooling temperature.
さらに、これを0〜200℃(好ましくは0〜150℃、さらに好ましくは0〜120℃、最も好ましくは0〜50℃)に加温すると、有機溶媒中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。加温速度は、4℃/分以上であることが好ましく、8℃/分以上であることがさらに好ましく、12℃/分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、10000℃/秒が理論的な上限であり、1000℃/秒が技術的な上限であり、そして100℃/秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。 Further, when this is heated to 0 to 200 ° C. (preferably 0 to 150 ° C., more preferably 0 to 120 ° C., most preferably 0 to 50 ° C.), cellulose acetate is dissolved in the organic solvent. The temperature can be raised by simply leaving it at room temperature or in a warm bath. The heating rate is preferably 4 ° C./min or more, more preferably 8 ° C./min or more, and most preferably 12 ° C./min or more. The higher the heating rate, the better. However, 10,000 ° C./second is the theoretical upper limit, 1000 ° C./second is the technical upper limit, and 100 ° C./second is the practical upper limit. The heating rate is a value obtained by dividing the difference between the temperature at the start of heating and the final heating temperature by the time from the start of heating until the final heating temperature is reached. .
以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。 A uniform solution is obtained as described above. If the dissolution is insufficient, the cooling and heating operations may be repeated. Whether or not the dissolution is sufficient can be determined by merely observing the appearance of the solution with the naked eye.
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧及び減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。 In the cooling dissolution method, it is desirable to use a sealed container in order to avoid moisture mixing due to condensation during cooling. In the cooling and heating operation, when the pressure is applied during cooling and the pressure is reduced during heating, the dissolution time can be shortened. In order to perform pressurization and decompression, it is desirable to use a pressure-resistant container.
なお、セルロースアセテート(酢化度:60.9%、粘度平均重合度:299)を、冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した20質量%の溶液は、示差走査熱量測定(DSC)によると、33℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度+10℃程度の温度で保持する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。 In addition, according to differential scanning calorimetry (DSC), a 20% by mass solution of cellulose acetate (acetylation degree: 60.9%, viscosity average polymerization degree: 299) dissolved in methyl acetate by the cooling dissolution method is There is a quasi-phase transition point between a sol state and a gel state in the vicinity of 33 ° C., and a uniform gel state is obtained below this temperature. Therefore, this solution needs to be maintained at a temperature equal to or higher than the pseudo phase transition temperature, preferably about the gel phase transition temperature + 10 ° C. However, this pseudo phase transition temperature varies depending on the degree of acetylation of cellulose acetate, the degree of viscosity average polymerization, the concentration of the solution, and the organic solvent used.
調製したセルロースアシレート溶液(ドープ)から、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造する。 A cellulose acylate film is produced from the prepared cellulose acylate solution (dope) by a solvent cast method.
ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が18〜35質量%となるように濃度を調整することが好ましい。 The dope is cast on a drum or band and the solvent is evaporated to form a film. The concentration of the dope before casting is preferably adjusted so that the solid content is 18 to 35% by mass.
ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延及び乾燥方法については、米国特許第2336310号、同2367603号、同2492078号、同2492977号、同2492978号、同2607704号、同2739069号、同2739070号、英国特許第640731号、同736892号の各明細書、特公昭45−4554号、同49−5614号、同62−115035号の各公報に記載がある。 The surface of the drum or band is preferably finished in a mirror state. The casting and drying methods in the solvent casting method are described in U.S. Pat. Nos. 736892, JP-B 45-4554, 49-5614, and 62-1115035.
ドープは、表面温度が10℃以下のドラム又はバンド上に流延することが好ましい。 The dope is preferably cast on a drum or band having a surface temperature of 10 ° C. or less.
流延してから2秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフィルムをドラム又はバンドから剥ぎ取り、さらに100から160℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平5−17844号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラム又はバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。 After casting, it is preferable to dry it by applying air for 2 seconds or more. The obtained film can be peeled off from the drum or band, and further dried by high-temperature air whose temperature is successively changed from 100 to 160 ° C. to evaporate the residual solvent. The above method is described in Japanese Patent Publication No. 5-17844. According to this method, it is possible to shorten the time from casting to stripping. In order to carry out this method, it is necessary for the dope to gel at the surface temperature of the drum or band during casting.
複数の調製したセルロースアシレート溶液(ドープ)を用い、ソルベントキャスト法により2層以上を同時に流延してフィルムを作製することもできる。この場合、ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が10〜40質量%となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。 A film can also be produced by casting two or more layers simultaneously by a solvent casting method using a plurality of prepared cellulose acylate solutions (dope). In this case, the dope is cast on a drum or band, and the solvent is evaporated to form a film. It is preferable to adjust the concentration of the dope before casting so that the solid content is 10 to 40% by mass. The surface of the drum or band is preferably finished in a mirror state.
2層以上の複数のセルロースアシレート液を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流延することが可能で、支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製
してもよく、例えば特開昭61−158414号、特開平1−122419号、特開平11−198285号などの各公報に記載の方法が適応できる。また、2つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによってもフィルム化することでもよく、例えば特公昭60−27562号、特開昭61−94724号、特開昭61−104813号、特開昭61−158413号、特開平6−134933号の各公報に記載の方法で実施できる。また、特開昭56−162617号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高・低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押出すセルロースアシレートフィルム流延方法でもよい。
When casting a plurality of cellulose acylate liquids of two or more layers, it is possible to cast a plurality of cellulose acylate solutions, and cellulose is supplied from a plurality of casting openings provided at intervals in the traveling direction of the support. A film may be produced while casting and laminating a solution containing an acylate, for example, as described in JP-A Nos. 61-158414, 1-122419, 11-198285, and the like. This method can be applied. Further, it may be formed into a film by casting a cellulose acylate solution from two casting ports. For example, JP-B-60-27562, JP-A-61-94724, JP-A-61-104813, It can be carried out by the methods described in JP-A-61-158413 and JP-A-6-134933. Further, a cellulose acylate film in which a flow of a high-viscosity cellulose acylate solution described in JP-A-56-162617 is wrapped with a low-viscosity cellulose acylate solution and the high-low viscosity cellulose acylate solution is simultaneously extruded. A casting method may be used.
あるいは、また2個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成型したフィルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行なうことでより、フィルムを作製することでもよく、例えば特公昭44−20235号公報に記載されている方法である。流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液でもよいし、異なるセルロースアシレート溶液でもよく、特に限定されない。複数のセルロースアシレート層に機能を持たせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。 Alternatively, by using two casting ports, the film cast on the support is peeled off by the first casting port, and the second casting is performed on the side that is in contact with the support surface. For example, it is a method described in Japanese Patent Publication No. 44-20235. The cellulose acylate solutions to be cast may be the same solution or different cellulose acylate solutions, and are not particularly limited. In order to give a function to a plurality of cellulose acylate layers, a cellulose acylate solution corresponding to the function may be extruded from each casting port.
さらに本発明では、セルロースアシレート溶液を、他の機能層(例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、UV吸収層、偏光層など)形成用溶液と同時に流延し、機能層とフィルム形成を同時形成することも実施しうる。 Furthermore, in the present invention, the cellulose acylate solution is cast simultaneously with a solution for forming other functional layers (for example, an adhesive layer, a dye layer, an antistatic layer, an antihalation layer, a UV absorbing layer, a polarizing layer, etc.) Simultaneous formation of the layer and film formation can also be carried out.
単層液では、必要なフィルム厚さにするためには、高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押出すことが必要であり、その場合セルロースアシレート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良であったりして問題となることが多い。この解決法として、複数のセルロースアシレート溶液を流延口から流延する。これにより、高粘度の溶液を同時に支持体上に押出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができる。 In the case of a single-layer liquid, it is necessary to extrude a cellulose acylate solution having a high concentration and a high viscosity in order to obtain a required film thickness. It often occurs and causes problems, such as a failure or flatness. As this solution, a plurality of cellulose acylate solutions are cast from a casting port. As a result, it is possible to extrude a highly viscous solution onto the support at the same time, not only can the flatness be improved and an excellent planar film can be produced, but also a concentrated cellulose acylate solution can be used to reduce the drying load. Reduction can be achieved and film production speed can be increased.
[可塑剤]
セルロースアシレートフィルムには、機械的物性を改良するため、又はフィルム製造の際における流延後の乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。
[Plasticizer]
A plasticizer can be added to the cellulose acylate film in order to improve the mechanical properties or to improve the drying speed after casting in the production of the film.
可塑剤としては、リン酸エステル又はカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート(TPP)、ジフェニルビフェニルホスフェート、及びトリクレジルホスフェート(TCP)が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル及びクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート(DMP)、ジエチルフタレート(DEP)、ジブチルフタレート(DBP)、ジオクチルフタレート(DOP)、ジフェニルフタレート(DPP)及びジエチルヘキシルフタレート(DEHP)が含まれる。クエン酸エステルの例には、O−アセチルクエン酸トリエチル(OACTE)及びO−アセチルクエン酸トリブチル(OACTB)が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤(DMP、DEP、DBP、DOP、DPP、DEHP)が好ましく用いられる。DEP及びDPPが特に好ましい。 As the plasticizer, phosphoric acid ester or carboxylic acid ester is used. Examples of phosphate esters include triphenyl phosphate (TPP), diphenyl biphenyl phosphate, and tricresyl phosphate (TCP). Representative examples of the carboxylic acid ester include phthalic acid esters and citric acid esters. Examples of phthalic acid esters include dimethyl phthalate (DMP), diethyl phthalate (DEP), dibutyl phthalate (DBP), dioctyl phthalate (DOP), diphenyl phthalate (DPP) and diethyl hexyl phthalate (DEHP). Examples of citrate esters include triethyl O-acetylcitrate (OACTE) and tributyl O-acetylcitrate (OACTB). Examples of other carboxylic acid esters include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, dibutyl sebacate, and various trimellitic acid esters. Phthalate plasticizers (DMP, DEP, DBP, DOP, DPP, DEHP) are preferably used. DEP and DPP are particularly preferred.
可塑剤の添加量は、セルロースアシレートの量の0.1〜25質量%であることが好ましく、1〜20質量%であることがさらに好ましく、3〜15質量%であることが最も好ましい。 The addition amount of the plasticizer is preferably 0.1 to 25% by mass of the amount of cellulose acylate, more preferably 1 to 20% by mass, and most preferably 3 to 15% by mass.
[劣化防止剤]
セルロースアシレートフィルムには、劣化防止剤(例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン)を添加してもよい。
[Deterioration inhibitor]
A degradation inhibitor (eg, antioxidant, peroxide decomposer, radical inhibitor, metal deactivator, acid scavenger, amine) may be added to the cellulose acylate film.
劣化防止剤については、特開平3−199201号、同5−197073号、同5−194789号、同5−271471号、同6−107854号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、劣化防止剤の効果及びフィルム表面へのブリードアウト(滲み出し)を考慮して、調製する溶液(ドープ)の0.01〜1質量%であることが好ましく、0.01〜0.2質量%であることがさらに好ましい。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン(BHT)、トリベンジルアミン(TBA)を挙げることができる。 The deterioration inhibitors are described in JP-A-3-199201, JP-A-597073, JP-A-5-194789, JP-A-5-271471, and JP-A-6-107854. The addition amount of the deterioration preventing agent is preferably 0.01 to 1% by mass of the solution (dope) to be prepared in consideration of the effect of the deterioration preventing agent and bleeding out (bleeding out) to the film surface. More preferably, the content is 0.01 to 0.2% by mass. Examples of particularly preferred deterioration inhibitors include butylated hydroxytoluene (BHT) and tribenzylamine (TBA).
[レターデーション調整剤]
セルロースアシレートフィルムには、フィルムのレターデーションを調整するため、必要に応じてレターデーション調整剤を使用することができる。フィルムのレターデーションとしては、膜厚方向には0〜300nm、面内方向には0〜1000nmが好ましい。
[Retardation adjuster]
In order to adjust the retardation of the film, a retardation adjusting agent can be used as necessary for the cellulose acylate film. The retardation of the film is preferably 0 to 300 nm in the film thickness direction and 0 to 1000 nm in the in-plane direction.
レターデーション上昇剤としては、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物が好ましく、芳香族化合物は、セルロースアシレート100質量部に対して、0.01〜20質量部の範囲で使用する。芳香族化合物は、セルロースアセテート100質量部に対して、0.05〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、0.1〜10質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。2種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。 As the retardation increasing agent, an aromatic compound having at least two aromatic rings is preferable, and the aromatic compound is used in the range of 0.01 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of cellulose acylate. The aromatic compound is preferably used in the range of 0.05 to 15 parts by mass, and more preferably in the range of 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of cellulose acetate. Two or more aromatic compounds may be used in combination.
詳しくは、特開2000−111914号公報、同2000−275434号公報、同2002−236215号公報、国際公開第00/065384号パンフレット等に記載されている。 Details are described in JP-A Nos. 2000-1111914, 2000-275434, 2002-236215, WO 00/065384, and the like.
[セルロースアシレートフィルムの延伸処理]
作製されたセルロースアシレートフィルムは、さらに延伸処理により乾燥ムラや乾燥収縮で発生する膜厚ムラ、表面凹凸を改善することができる。また、延伸処理はレターデーションを調整することにも用いられる。
[Stretching treatment of cellulose acylate film]
The produced cellulose acylate film can further improve drying unevenness, film thickness unevenness caused by drying shrinkage, and surface unevenness by stretching treatment. The stretching treatment is also used for adjusting the retardation.
巾方向延伸処理の方法に特に限定はないが、その例としてテンターによる延伸方法が挙げられる。また、更に好ましくは、ロールの長手方向に縦延伸を行うことであり、ロールフィルムを搬送するパスロール間にて、それぞれのパスロールのドロー比(パスロール同士の回転比)を調節することにより、縦延伸が可能となる。 Although there is no limitation in particular in the method of the width direction extending | stretching process, the extending method by a tenter is mentioned as the example. More preferably, the longitudinal stretching is performed in the longitudinal direction of the roll, and the longitudinal stretching is performed by adjusting the draw ratio of each pass roll (rotational ratio between the pass rolls) between the pass rolls that transport the roll film. Is possible.
〔ポリエチレンテレフタレートフィルム〕
本発明では、ポリエチレンテレフタレートフィルムも、透明性、機械的強度、平面性、耐薬品性及び耐湿性共に優れており、その上安価であり好ましく用いられる。
[Polyethylene terephthalate film]
In the present invention, the polyethylene terephthalate film is also excellent in transparency, mechanical strength, planarity, chemical resistance and moisture resistance, and is preferably used because it is inexpensive.
[易接着処理]
透明プラスチックフィルムと、その上に設けられるハードコート層との密着強度をより向上させるため、透明プラスチックフィルムは、易接着処理が施されたされたものであることが更に好ましい。市販されている光学用易接着層付きPETフィルムとしては、東洋紡績(株)製「コスモシャインA4100、A4300」等が挙げられる。
[Easy adhesion treatment]
In order to further improve the adhesion strength between the transparent plastic film and the hard coat layer provided thereon, the transparent plastic film is more preferably subjected to an easy adhesion treatment. Examples of the commercially available PET film with an easily adhesive layer for optics include “Cosmo Shine A4100, A4300” manufactured by Toyobo Co., Ltd.
2.反射防止フィルムを構成する層
本発明の反射防止フィルムは、以上述べた各種化合物を含む組成物を混合、透明支持体上に塗設して各種の機能層を形成することによって得られるものである。本発明の反射防
止フィルムは、透明支持体上に少なくとも防眩層と低屈折率層を有する。また、目的に合わせてさらに他の機能層を有することもできる。次に、本発明の反射防止フィルムを構成する各機能層について記載する。
2. Layers Constructing Antireflection Film The antireflection film of the present invention is obtained by mixing the composition containing the various compounds described above and coating the composition on a transparent support to form various functional layers. . The antireflection film of the present invention has at least an antiglare layer and a low refractive index layer on a transparent support. Moreover, it can also have another functional layer according to the objective. Next, each functional layer constituting the antireflection film of the present invention will be described.
2−(1)ハードコート層
本発明の反射防止フィルムには、該フィルムの物理的強度を付与するために、好ましくは透明支持体の一方の面にハードコート層が設けられ、そのハードコート層の上に防眩層および低屈折率層が設けられる。好ましくはハードコート層と低屈折率層の間に、中屈折率層、高屈折率層が設けられて、反射防止フィルムを構成する。
ハードコート層は、2層以上の積層から構成されても良い。またハードコート層に防眩性を付与し防眩性ハードコート層とすることで層数を減らす構成としても良い。
2- (1) Hard Coat Layer The antireflection film of the present invention is preferably provided with a hard coat layer on one surface of the transparent support in order to impart the physical strength of the film. An antiglare layer and a low refractive index layer are provided on the substrate. Preferably, an intermediate refractive index layer and a high refractive index layer are provided between the hard coat layer and the low refractive index layer to constitute an antireflection film.
The hard coat layer may be composed of two or more layers. Moreover, it is good also as a structure which reduces the number of layers by providing an anti-glare property to a hard-coat layer and setting it as an anti-glare hard-coat layer.
本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が1.48〜2.00の範囲にあることが好ましく、より好ましくは1.52〜1.90であり、更に好ましくは1.55〜1.80である。本発明の態様では、ハードコート層の上に低屈折率層が少なくとも1層あるので、ハードコート層の屈折率が該下限値以上であれば、反射防止性が良好となり、該上限値以下であれば、反射光の色味が強くなりすぎるなどの傾向が生じないので好ましい。 The refractive index of the hard coat layer in the present invention is preferably in the range of 1.48 to 2.00, more preferably 1.52 to 1, from the optical design for obtaining an antireflection film. .90, more preferably 1.55 to 1.80. In the aspect of the present invention, since there is at least one low refractive index layer on the hard coat layer, if the refractive index of the hard coat layer is equal to or higher than the lower limit value, the antireflection property becomes good, and the lower limit value or lower. If it exists, since the tendency that the color of reflected light becomes strong too much does not arise, it is preferable.
ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、ハードコート層の厚さは通常0.5〜50μm程度とし、好ましくは1〜20μm、さらに好ましくは2〜10μm、最も好ましくは3〜7μmである。 The thickness of the hard coat layer is usually about 0.5 to 50 μm, preferably 1 to 20 μm, more preferably 2 from the viewpoint of imparting sufficient durability and impact resistance to the film. 10 μm, most preferably 3 to 7 μm.
又、ハードコート層の硬度は、鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
さらに、JIS K−5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
Further, the hardness of the hard coat layer is preferably H or more, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more in the pencil hardness test.
Furthermore, in the Taber test according to JIS K-5400, the smaller the wear amount of the test piece before and after the test, the better.
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。 The hard coat layer is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound. For example, it may be formed by applying a coating composition containing an ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer on a transparent support and subjecting the polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer to a crosslinking reaction or a polymerization reaction. it can.
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。 The functional group of the ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer is preferably a light, electron beam, or radiation polymerizable group, and among them, a photopolymerizable functional group is preferable. Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable.
ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が1.0〜10.0μm、好ましくは1.5〜7.0μmの透光性粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子を含有してもよい。 The hard coat layer is provided with translucent particles having an average particle diameter of 1.0 to 10.0 μm, preferably 1.5 to 7.0 μm, such as inorganic compound particles or resin particles, for the purpose of imparting internal scattering properties. You may contain.
ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、高屈折率モノマーもしくは無機粒子、又はその両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び/又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。 For the purpose of controlling the refractive index of the hard coat layer, a high refractive index monomer and / or inorganic particles can be added to the binder of the hard coat layer. In addition to the effect of controlling the refractive index, the inorganic particles also have the effect of suppressing cure shrinkage due to the crosslinking reaction. In the present invention, a polymer formed by polymerizing the polyfunctional monomer and / or the high refractive index monomer after the formation of the hard coat layer, and the inorganic particles dispersed therein are referred to as a binder.
2−(2)防眩層
防眩層は、表面散乱による防眩性と共に、好ましくは得られる反射防止フィルムの耐擦
傷性を向上させるためのハードコート性を該フィルムに寄与する目的で形成される。
2- (2) Antiglare layer The antiglare layer is formed for the purpose of contributing to the film an antiglare property due to surface scattering, and preferably a hard coat property for improving the scratch resistance of the obtained antireflection film. The
防眩性を形成する方法としては、特開平6−16851号公報に記載のような、表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートして形成する方法;特開2000−206317号公報に記載のように、電離放射線照射量の差による電離放射線硬化型樹脂の硬化収縮により形成する方法;特開2000−338310号公報に記載のように、乾燥にて透光性樹脂に対する良溶媒の質量比が減少することにより、透光性微粒子及び透光性樹脂をゲル化させつつ固化させて塗膜表面に凹凸を形成する方法;特開2000−275404号公報に記載のように、外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法;などが知られており、本発明においてもこれら公知の方法を利用することができる。 As a method for forming the antiglare property, a method of laminating and forming a mat-shaped shaping film having fine irregularities on the surface as described in JP-A-6-16851; JP-A 2000-206317 A method of forming by curing shrinkage of an ionizing radiation curable resin due to a difference in ionizing radiation dose as described in the gazette; a good solvent for the translucent resin by drying as described in JP-A-2000-338310 A method in which the light-transmitting fine particles and the light-transmitting resin are solidified while being gelled to reduce the mass ratio, thereby forming irregularities on the surface of the coating film; as described in JP-A-2000-275404, And the like are known, and these known methods can also be used in the present invention.
本発明で用いることができる防眩層は、透光性樹脂と、防眩性を付与するための透光性粒子を含有する。防眩層は、好ましくはハードコート性を付与することのできるバインダーポリマー、透光性粒子及び溶媒を含有する塗布液を用いて形成され、透光性粒子自体の突起又は複数の粒子の集合体で形成される突起によって表面の凹凸を形成されるものであることが好ましい。 The antiglare layer that can be used in the present invention contains a translucent resin and translucent particles for imparting antiglare properties. The antiglare layer is preferably formed using a coating solution containing a binder polymer capable of imparting hard coat properties, translucent particles and a solvent, and the projections of the translucent particles themselves or an aggregate of a plurality of particles It is preferable that irregularities on the surface be formed by the protrusions formed in step (b).
透光性粒子の分散によって形成される防眩層は、透光性樹脂と該透光性樹脂中に分散された透光性粒子を含有する。防眩性を有する防眩層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えていることが好ましい。透光性樹脂は、1−(1)バインダーの項に前記した化合物を用いて形成されることが好ましく、中でも[光重合性多官能モノマー]の項に挙げた化合物を用いることが好ましく、少なくとも3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分として形成されることが最も好ましい。ここで主成分とは、透光性樹脂で過半数の重量分率を占める事を意味し、具体的には透光性樹脂中に含まれる3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーの重量分率の総和が50%を超えることが好ましい。 The antiglare layer formed by the dispersion of the translucent particles contains a translucent resin and the translucent particles dispersed in the translucent resin. The antiglare layer having antiglare properties preferably has both antiglare properties and hard coat properties. The translucent resin is preferably formed by using the compound described in the section 1- (1) Binder, and among them, the compound listed in the section [Photopolymerizable polyfunctional monomer] is preferably used. Most preferably, the main component is a tri- or higher functional (meth) acrylate monomer. Here, the main component means that the translucent resin occupies a majority of the weight fraction, and specifically, the weight fraction of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate monomer contained in the translucent resin. It is preferable that the sum exceeds 50%.
上記透光性粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、TiO2粒子等の無機化合物の粒子;アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋ポリ(メタ)アクリル系粒子、架橋ポリアクリル(−スチレン)(共)重合体粒子が好ましい。 Specific examples of the translucent particles include inorganic compound particles such as silica particles and TiO 2 particles; resin particles such as acrylic particles, crosslinked acrylic particles, polystyrene particles, crosslinked styrene particles, melamine resin particles, and benzoguanamine resin particles. Is preferred. Of these, crosslinked poly (meth) acrylic particles and crosslinked polyacrylic (-styrene) (co) polymer particles are preferred.
透光性粒子の形状は、球形又は不定形のいずれも使用できる。
また、粒子径の異なる2種以上の透光性粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径の透光性粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、133ppi以上の高精細ディスプレイに防眩性反射防止フィルムを貼り付けた場合に、「ギラツキ」と呼ばれる表示画像品位上の不具合が発生する場合がある。「ギラツキ」は、防眩性反射防止フィルム表面に存在する凹凸により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与する透光性粒子よりも小さな粒子径で、バインダーの屈折率と異なる透光性粒子を併用することにより大きく改善することができる。
Either a spherical shape or an indefinite shape can be used as the shape of the translucent particles.
Moreover, you may use together and
上記透光性粒子は、形成された防眩層中の透光性粒子量が好ましくは10〜1000mg/m2、より好ましくは100〜700mg/m2となるように防眩層に含有される。 The translucent particles are contained in the antiglare layer so that the amount of the translucent particles in the formed antiglare layer is preferably 10 to 1000 mg / m 2 , more preferably 100 to 700 mg / m 2. .
透光性粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。 The particle size distribution of the translucent particles is measured by a Coulter counter method, and the measured distribution is converted into a particle number distribution.
防眩層の膜厚は、1〜15μmの範囲であることが好ましく、1.2〜8μmの範囲であることがより好ましい。該下限値以上であればハード性が不足することがなく、該上限
値以下であればカールの発生や脆性の低下により加工適性が低下するなどの問題が生じないので、該膜厚範囲内とするのが好ましい。
The film thickness of the antiglare layer is preferably in the range of 1 to 15 μm, and more preferably in the range of 1.2 to 8 μm. If it is not less than the lower limit, the hard property will not be insufficient, and if it is not more than the upper limit, problems such as curling and deterioration of workability due to a decrease in brittleness will not occur. It is preferable to do this.
一方、防眩層の中心線平均粗さ(Ra)は0.08〜0.30μmの範囲であることが好ましい。Raが該上限値以下であれば、ギラツキや外光が反射した際の表面の白化等の問題が発生しない。また、透過画像鮮明度の値は5〜60%とするのが好ましい。 On the other hand, the center line average roughness (Ra) of the antiglare layer is preferably in the range of 0.08 to 0.30 μm. If Ra is less than or equal to the upper limit, problems such as glare and whitening of the surface when external light is reflected do not occur. Further, the value of the transmitted image definition is preferably 5 to 60%.
防眩層の硬度は、鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。 The hardness of the antiglare layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in the pencil hardness test.
2−(3)高屈折率層、中屈折率層
本発明の反射防止フィルムには、さらに好適には、高屈折率層、中屈折率層を設け、反射防止性をより高めることができる。
2- (3) High Refractive Index Layer, Medium Refractive Index Layer The antireflective film of the present invention is more preferably provided with a high refractive index layer and a medium refractive index layer to further improve the antireflection property.
以下の本明細書では、この高屈折率層と中屈折率層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。なお、本発明において、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層の「高」、「中」、「低」とは層相互の相対的な屈折率の大小関係を表す。また、透明支持体との関係で言えば屈性率は、透明支持体>低屈折率層、高屈折率層>透明支持体の関係を満たすことが好ましい。
また、本明細書では高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を総称して反射防止層と総称して呼ぶことがある。
In the following specification, the high refractive index layer and the medium refractive index layer may be collectively referred to as a high refractive index layer. In the present invention, “high”, “medium”, and “low” in the high refractive index layer, the medium refractive index layer, and the low refractive index layer represent the relative refractive index relationship between the layers. In terms of the relationship with the transparent support, the refractive index preferably satisfies the relationship of transparent support> low refractive index layer, high refractive index layer> transparent support.
In the present specification, the high refractive index layer, the middle refractive index layer, and the low refractive index layer may be collectively referred to as an antireflection layer.
高屈折率層の上に低屈折率層を構築して、反射防止フィルムを作製するためには、高屈折率層の屈折率は1.55〜2.40であることが好ましく、より好ましくは1.60〜2.20、更に好ましくは、1.65〜2.10、最も好ましくは1.80〜2.00である。 In order to construct an antireflection film by constructing a low refractive index layer on a high refractive index layer, the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 to 2.40, more preferably 1.60 to 2.20, more preferably 1.65 to 2.10, and most preferably 1.80 to 2.00.
支持体から近い順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を塗設し、反射防止フィルムを作製する場合、高屈折率層の屈折率は、1.65〜2.40であることが好ましく、1.70〜2.20であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55〜1.80であることが好ましい。 When an antireflective film is prepared by coating a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer in order from the support, the refractive index of the high refractive index layer is 1.65 to 2.40. Preferably, it is 1.70-2.20. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be a value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.55-1.80.
高屈折率層及び中屈折率層に用いるTiO2を主成分とする無機粒子は、分散物の状態で高屈折率層及び中屈折率層の形成に使用する。
無機粒子は、分散剤の存在下で分散媒体中に分散するのがよい。
The inorganic particles mainly composed of TiO 2 used for the high refractive index layer and the medium refractive index layer are used for forming the high refractive index layer and the medium refractive index layer in the state of dispersion.
The inorganic particles are preferably dispersed in the dispersion medium in the presence of a dispersant.
本発明に用いる高屈折率層及び中屈折率層は、分散媒体中に無機粒子を分散した分散液に、好ましくは、さらにマトリックス形成に必要なバインダー前駆体(例えば、前記の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど)、光重合開始剤等を加えて高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布組成物とし、透明支持体上に高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布組成物を塗布して、電離放射線硬化性化合物(例えば、多官能モノマーや多官能オリゴマーなど)の架橋反応又は重合反応により硬化させて形成することが好ましい。 The high refractive index layer and medium refractive index layer used in the present invention are preferably used in a dispersion liquid in which inorganic particles are dispersed in a dispersion medium, preferably a binder precursor necessary for matrix formation (for example, the ionizing radiation curable composition described above). Polyfunctional monomer, polyfunctional oligomer, etc.), photopolymerization initiator, etc. are added to form a coating composition for forming a high refractive index layer and a medium refractive index layer. It is preferable that the coating composition is applied and cured by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound (for example, a polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer).
さらに、高屈折率層及び中屈折率層のバインダーを層の塗布と同時又は塗布後に、分散剤と架橋反応又は重合反応させることが好ましい。 Furthermore, it is preferable to cause the binder of the high refractive index layer and the medium refractive index layer to undergo a crosslinking reaction or a polymerization reaction with the dispersant simultaneously with or after the coating of the layer.
このようにして作製した高屈折率層及び中屈折率層のバインダーは、例えば、前記の好ましい分散剤と電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重
合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。さらに高屈折率層及び中屈折率層のバインダーは、アニオン性基が無機粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、無機粒子を含有する高屈折率層及び中屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良する。
The binder of the high refractive index layer and the medium refractive index layer thus prepared is, for example, a binder or ionizing radiation curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer cross-linked or polymerized to form a binder. The anionic group of the dispersant is incorporated. Furthermore, the binder of the high refractive index layer and the medium refractive index layer has a function of maintaining the dispersion state of the inorganic particles by the anionic group, and the crosslinked or polymerized structure imparts a film forming ability to the binder and contains inorganic particles. To improve the physical strength, chemical resistance and weather resistance of the high refractive index layer and medium refractive index layer.
高屈折率層のバインダーは、該層の塗布組成物の固形分量に対して、5〜80質量%添加する。 The binder of the high refractive index layer is added in an amount of 5 to 80% by mass based on the solid content of the coating composition of the layer.
高屈折率層における無機粒子の含有量は、高屈折率層の質量に対し10〜90質量%であることが好ましく、より好ましくは15〜80質量%、特に好ましくは15〜75質量%である。無機粒子は高屈折率層内で2種類以上を併用してもよい。 The content of the inorganic particles in the high refractive index layer is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 15 to 80% by mass, and particularly preferably 15 to 75% by mass with respect to the mass of the high refractive index layer. . Two or more kinds of inorganic particles may be used in combination in the high refractive index layer.
高屈折率層の上に低屈折率層を有する場合、高屈折率層の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましい。 When the low refractive index layer is provided on the high refractive index layer, the refractive index of the high refractive index layer is preferably higher than the refractive index of the transparent support.
高屈折率層に、芳香環を含む電離放射線硬化性化合物、フッ素以外のハロゲン化元素(例えば、Br,I,Cl等)を含む電離放射線硬化性化合物、S,N,P等の原子を含む電離放射線硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。 The high refractive index layer contains an ionizing radiation curable compound containing an aromatic ring, an ionizing radiation curable compound containing a halogenated element other than fluorine (for example, Br, I, Cl, etc.), and atoms such as S, N, P, etc. A binder obtained by a crosslinking or polymerization reaction such as an ionizing radiation curable compound can also be preferably used.
高屈折率層の膜厚は用途により適切に設計することができる。高屈折率層を後述する光学干渉層として用いる場合、30〜200nmが好ましく、より好ましくは50〜170nm、特に好ましくは60〜150nmである。 The film thickness of the high refractive index layer can be appropriately designed depending on the application. When using a high refractive index layer as an optical interference layer described later, the thickness is preferably 30 to 200 nm, more preferably 50 to 170 nm, and particularly preferably 60 to 150 nm.
高屈折率層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、さらに好ましくは3%以下、特に好ましくは1%以下である。 The haze of the high refractive index layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and particularly preferably 1% or less.
2−(4)低屈折率層
本発明の反射防止フィルムの反射率を低減するため、低屈折率層を用いる必要がある。
2- (4) Low Refractive Index Layer In order to reduce the reflectance of the antireflection film of the present invention, it is necessary to use a low refractive index layer.
低屈折率層の屈折率は、1.20〜1.46であることが好ましく、1.25〜1.46であることがより好ましく、1.30〜1.46であることが特に好ましい。 The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.20 to 1.46, more preferably 1.25 to 1.46, and particularly preferably 1.30 to 1.46.
低屈折率層の厚さは、50〜200nmであることが好ましく、70〜100nmであることがさらに好ましい。低屈折率層のヘイズは、3%以下であることが好ましく、2%以下であることがさらに好ましく、1%以下であることが最も好ましい。具体的な低屈折率層の硬度は、500g荷重の鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。 The thickness of the low refractive index layer is preferably 50 to 200 nm, and more preferably 70 to 100 nm. The haze of the low refractive index layer is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and most preferably 1% or less. The specific hardness of the low refractive index layer is preferably H or more, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more in a pencil hardness test under a 500 g load.
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が90゜以上であることが好ましい。更に好ましくは95゜以上であり、特に好ましくは100゜以上である。 In order to improve the antifouling performance of the antireflection film, it is preferable that the contact angle of the surface with respect to water is 90 ° or more. More preferably, it is 95 ° or more, and particularly preferably 100 ° or more.
低屈折率層の形成に特に好ましく用いられる前記硬化性組成物は、(A)前記含フッ素ポリマー、(B)無機粒子、(C)オルガノシラン化合物を含有してなることが好ましい。 The curable composition particularly preferably used for forming the low refractive index layer preferably comprises (A) the fluoropolymer, (B) inorganic particles, and (C) an organosilane compound.
低屈折率層には、本発明における微粒子を分散・固定するためにバインダーが用いられる。バインダーとしては、1−(1)バインダーの項で前記したものを用いることができるが、バインダー自身の屈折率の低い前記含フッ素ポリマー、又は含フッ素ゾル/ゲル素
材などを用いることが好ましい。含フッ素ポリマー又は含フッ素ゾル/ゲルとしては、熱又は電離放射線により架橋し、形成される低屈折率層表面の動摩擦係数0.03〜0.30であり、水に対する接触角85〜120°となる素材が好ましい。
In the low refractive index layer, a binder is used for dispersing and fixing the fine particles in the present invention. As the binder, those described in the section 1- (1) Binder can be used, and it is preferable to use the above-mentioned fluoropolymer having a low refractive index of the binder itself or a fluorosol / gel material. The fluorine-containing polymer or fluorine-containing sol / gel is crosslinked by heat or ionizing radiation, has a dynamic friction coefficient of 0.03 to 0.30 on the surface of the formed low refractive index layer, and has a contact angle with water of 85 to 120 °. The material which becomes is preferable.
2−(5)帯電防止層、導電性層
本発明においては、帯電防止層を設けることが反射防止フィルム表面での静電気防止の点で好ましい。帯電防止層を形成する方法は、例えば、導電性微粒子と反応性硬化樹脂を含む導電性塗工液を塗工する方法、又は透明膜を形成する金属や金属酸化物等を蒸着やスパッタリングして導電性薄膜を形成する方法等の従来公知の方法を挙げることができる。導電性層は、支持体に直接又は、支持体との接着を強固にするプライマー層を介して形成することができる。また、帯電防止層を反射防止膜の一部として使用することもできる。この場合、最表層から近い層で使用する場合には、膜の厚さが薄くても十分に帯電防止性を得ることができる。
2- (5) Antistatic Layer, Conductive Layer In the present invention, it is preferable to provide an antistatic layer in terms of preventing static electricity on the surface of the antireflection film. The antistatic layer can be formed by, for example, applying a conductive coating solution containing conductive fine particles and a reactive curable resin, or depositing or sputtering a metal or metal oxide that forms a transparent film. Conventionally known methods such as a method of forming a conductive thin film can be listed. The conductive layer can be formed directly on the support or via a primer layer that strengthens adhesion to the support. Further, the antistatic layer can be used as a part of the antireflection film. In this case, when used in a layer close to the outermost layer, sufficient antistatic properties can be obtained even if the film is thin.
帯電防止層の厚さは、0.01〜10μmが好ましく、0.03〜7μmであることがより好ましく、0.05〜5μmであることがさらに好ましい。帯電防止層の表面抵抗は、105〜1012Ω/□であることが好ましく、105〜109Ω/□であることがさらに好ましく、105〜108Ω/□であることが最も好ましい。帯電防止層の表面抵抗は、四探針法により測定することができる。 The thickness of the antistatic layer is preferably from 0.01 to 10 μm, more preferably from 0.03 to 7 μm, and even more preferably from 0.05 to 5 μm. The surface resistance of the antistatic layer is preferably from 10 5 to 10 is 12 Omega / □, more preferably 10 5 to 10 9 Omega / □ is the most be 10 5 to 10 8 Omega / □ is preferable. The surface resistance of the antistatic layer can be measured by a four probe method.
帯電防止層は、実質的に透明であることが好ましい。具体的には、帯電防止層のヘイズは10%以下であることが好ましく、5%以下であることがより好ましく、3%以下であることがさらに好ましく、1%以下であることが最も好ましい。また波長550nmの光の透過率は、50%以上であることが好ましく、60%以上であることがより好ましく、65%以上であることがさらに好ましく、70%以上であることが最も好ましい。 The antistatic layer is preferably substantially transparent. Specifically, the haze of the antistatic layer is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, further preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. Further, the transmittance of light having a wavelength of 550 nm is preferably 50% or more, more preferably 60% or more, further preferably 65% or more, and most preferably 70% or more.
本発明における帯電防止層は、その硬度が優れていることが好ましく、具体的な帯電防止層の硬度は、1kg荷重の鉛筆硬度で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがより好ましく、3H以上であることがさらに好ましく、4H以上であることが最も好ましい。 The antistatic layer in the present invention preferably has excellent hardness, and the specific antistatic layer has a pencil hardness of 1 kg load, preferably H or higher, more preferably 2H or higher. Preferably, it is 3H or more, more preferably 4H or more.
2−(6)防汚層
本発明の反射防止フィルムの最表面には防汚層を設けることができる。防汚層は反射防止層の表面エネルギーを下げ、親水性又は親油性の汚れを付きにくくするものである。
防汚層には含フッ素ポリマーや防汚剤を用いて形成することができる。
防汚層の厚さは2〜100nmであることが好ましく、5〜30nmであることがさらに好ましい。
2- (6) Antifouling Layer An antifouling layer can be provided on the outermost surface of the antireflection film of the present invention. The antifouling layer lowers the surface energy of the antireflection layer and makes it difficult to attach hydrophilic or lipophilic stains.
The antifouling layer can be formed using a fluorine-containing polymer or an antifouling agent.
The thickness of the antifouling layer is preferably 2 to 100 nm, and more preferably 5 to 30 nm.
2−(7)干渉ムラ(虹ムラ)防止層
本発明の反射防止フィルムにおける透明支持体とハードコート層、又は透明支持体と防眩層に実質的な屈折率差(屈折率差が0.03以上)がある場合、透明支持体/ハードコート層、又は透明支持体/防眩層界面で反射光が生じる。この反射光は反射防止層表面での反射光と干渉し、ハードコート層(又は防眩層)の微妙な膜厚ムラに起因した干渉ムラを生じることがある。
2- (7) Interference nonuniformity (rainbow nonuniformity) prevention layer A substantial refractive index difference (refractive index difference is 0. 0) between the transparent support and the hard coat layer or the transparent support and the antiglare layer in the antireflection film of the present invention. 03 or more), reflected light is generated at the transparent support / hard coat layer or the transparent support / antiglare layer interface. This reflected light interferes with the reflected light on the surface of the antireflection layer, and may cause interference unevenness due to subtle film thickness unevenness of the hard coat layer (or antiglare layer).
この様な干渉ムラを防止するために、例えば透明支持体とハードコート層(又は防眩層)の間に中間の屈折率nPを有し、膜厚dPが下記数式(2)を満たす様な干渉ムラ防止層を設けることもできる。
数式(2):dP=(2N−1)×λ/(4nP)
但し、λは可視光の波長で450〜650nmの範囲の何れかの値、Nは自然数。
In order to prevent such interference unevenness, for example, an intermediate refractive index n P is provided between the transparent support and the hard coat layer (or antiglare layer), and the film thickness d P satisfies the following formula (2). Such an interference non-uniformity prevention layer can also be provided.
Formula (2): d P = (2N−1) × λ / (4n P )
Where λ is the wavelength of visible light and any value in the range of 450 to 650 nm, and N is a natural number.
また、反射防止フィルムを画像表示等に貼合する場合、透明支持体の反射防止層を積層していない側に粘着剤層(又は接着剤層)を積層する場合がある。この様な態様で、透明支持体と粘着剤層(又は接着剤層)の間に実質的な屈折率差(0.03以上)がある場合、透明支持体/粘着剤層(又は接着剤層)の反射光が生じ、この反射光が、反射防止層表面の反射光などと干渉し、上記と同様に支持体やハードコート層の膜厚ムラに起因した干渉ムラを生じることがある。この様な干渉ムラを防止する目的で透明支持体の反射防止層を積層していない側に上記と同様の干渉ムラ防止層を設けることもできる。 Moreover, when bonding an antireflection film to an image display etc., an adhesive layer (or adhesive layer) may be laminated | stacked on the side which has not laminated | stacked the antireflection layer of a transparent support body. In this manner, when there is a substantial refractive index difference (0.03 or more) between the transparent support and the pressure-sensitive adhesive layer (or adhesive layer), the transparent support / pressure-sensitive adhesive layer (or adhesive layer) The reflected light interferes with the reflected light on the surface of the antireflection layer, and the interference unevenness due to the film thickness unevenness of the support or the hard coat layer may occur as described above. For the purpose of preventing such interference unevenness, an interference unevenness preventing layer similar to the above can be provided on the side of the transparent support on which the antireflection layer is not laminated.
なお、この様な干渉ムラ防止層に関しては特開2004−345333号公報に詳しく記載されており、本発明ではここで紹介されている干渉ムラ防止層を用いることもできる。 Such an interference non-uniformity prevention layer is described in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-345333, and the interference non-uniformity prevention layer introduced here can also be used in the present invention.
2−(8)易接着層
本発明の反射防止フィルムには易接着層を塗設することもできる。易接着層とは、例えば、本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いるときの、該保護フィルムとその隣接層、又はハードコート層と支持体とを接着し易くする機能を付与する層のことをいう。
2- (8) Easy-Adhesion Layer An easy-adhesion layer can be applied to the antireflection film of the present invention. The easy-adhesion layer, for example, provides a function that facilitates adhesion of the protective film and its adjacent layer, or the hard coat layer and the support when the antireflection film of the present invention is used as a protective film for polarizing plates. It refers to the layer.
易接着処理としては、ポリエステル、アクリル酸エステル、ポリウレタン、ポリエチレンイミン、シランカップリング剤等からなる易接着剤により透明プラスチックフィルム上に易接着層を設ける処理が挙げられる。 Examples of the easy adhesion treatment include a treatment of providing an easy adhesion layer on a transparent plastic film with an easy adhesive composed of polyester, acrylic acid ester, polyurethane, polyethyleneimine, silane coupling agent and the like.
本発明において好ましく用いられる易接着層の例としては、−COOM(Mは水素原子又はカチオンを表す)基を有する高分子化合物を含有する層を含むものであり、さらに好ましい態様は、反射防止フィルムの支持体側に−COOM基を有する高分子化合物を含有する層を設け、それに隣接させて偏光膜側に親水性高分子化合物を主たる成分として含む層を設けたものである。 Examples of the easy adhesion layer preferably used in the present invention include a layer containing a polymer compound having a -COOM (M represents a hydrogen atom or a cation) group, and a more preferable embodiment is an antireflection film. A layer containing a polymer compound having a -COOM group is provided on the support side, and a layer containing a hydrophilic polymer compound as a main component is provided on the polarizing film side adjacent to the layer.
ここでいう−COOM基を有する高分子化合物としては例えば−COOM基を有するスチレン−マレイン酸共重合体や−COOM基を有する酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸−無水マレイン酸共重合体などであり、特に−COOM基を有する酢酸ビニル−マレイン酸共重合体を用いると好ましい。このような高分子化合物を単独で又は2種以上併用して用いることができる。 Examples of the polymer compound having -COOM group herein include styrene-maleic acid copolymer having -COOM group, vinyl acetate-maleic acid copolymer having -COOM group, and vinyl acetate-maleic acid-maleic anhydride. For example, a vinyl acetate-maleic acid copolymer having a -COOM group is preferably used. Such polymer compounds can be used alone or in combination of two or more.
上記高分子化合物の好ましい質量平均分子量としては、500〜500,000程度のものであるとよい。−COOM基を有する高分子化合物の特に好ましい例は特開平6−094915号、特開平7−333436号などの各公報に記載のものが好ましく用いられる。 A preferable mass average molecular weight of the polymer compound is about 500 to 500,000. Particularly preferred examples of the polymer compound having a —COOM group include those described in JP-A-6-094915 and JP-A-7-333436.
また親水性高分子化合物として好ましくは、親水性セルロース誘導体(例えば、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシセルロース等)、ポリビニルアルコール誘導体(例えば、ポリビニルアルコール、酢酸ビニルービニルアルコール共重合体、ポリビニルアセタール、ポリビニルホルマール、ポリビニルベンザール等)、天然高分子化合物(例えば、ゼラチン、カゼイン、アラビアゴム等)、親水性ポリエステル誘導体(例えば、部分的にスルホン化されたポリエチレンテレフタレート等)、親水性ポリビニル誘導体(例えば、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリビニルインダゾール、ポリビニルピラゾール等)が挙げられ、単独で又は2種以上併用して用いられる。 The hydrophilic polymer compound is preferably a hydrophilic cellulose derivative (eg, methyl cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxy cellulose, etc.), a polyvinyl alcohol derivative (eg, polyvinyl alcohol, vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, polyvinyl acetal, polyvinyl formal). , Polyvinyl benzal, etc.), natural polymer compounds (eg, gelatin, casein, gum arabic, etc.), hydrophilic polyester derivatives (eg, partially sulfonated polyethylene terephthalate), hydrophilic polyvinyl derivatives (eg, poly -N-vinylpyrrolidone, polyacrylamide, polyvinylindazole, polyvinylpyrazole and the like), and may be used alone or in combination of two or more.
易接着層の厚みとしては0.05〜1.0μmの範囲が好ましい。0.05μm以上であれば十分な接着性が得られ、また、1.0μmより厚くても接着性の効果はそれ以上あまり向上しないので、易接着層は該厚み範囲とすることが好ましい。 The thickness of the easy adhesion layer is preferably in the range of 0.05 to 1.0 μm. If it is 0.05 μm or more, sufficient adhesiveness can be obtained, and even if it is thicker than 1.0 μm, the effect of adhesiveness is not improved so much. Therefore, it is preferable that the easy-adhesion layer is in this thickness range.
2−(9)カール防止層
本発明の反射防止フィルムには、カール防止加工を施すこともできる。カール防止加工とは、これを施した面を内側にして丸まろうとする機能を付与するものであり、具体的にはカール防止層を設ける態様が挙げられる。反射防止フィルムなど、透明樹脂フィルムの片面にのみ前記の各種機能層などを形成した際には、その各種機能層などを形成した側の面を内側にしてカールしようとする傾向を生じる。カール防止層はこうしたカールの発生を防止する働きをするものである。
2- (9) Anti-curl Layer The anti-reflection film of the present invention can be subjected to anti-curl processing. The anti-curl process is a process for imparting a function of curling with the surface to which the anti-curl process is applied, and specifically includes an anti-curl layer. When the above-mentioned various functional layers are formed only on one side of a transparent resin film such as an antireflection film, there is a tendency to curl with the surface on which the various functional layers are formed inside. The curl prevention layer functions to prevent the occurrence of such curling.
カール防止層は、反射防止フィルムの背面、すなわち支持体の、防眩層又は反射防止層を有する側と反対側の表面に設ける態様を挙げることができるが、本発明では、例えば反射防止フィルムの背面にも易接着層を塗設する場合もあり、カール発生の状況によっては、逆面、すなわち防眩層又は反射防止層を有する側にカール防止層を塗設するような態様も挙げることができる。 The anti-curl layer can include an embodiment provided on the back surface of the anti-reflection film, that is, on the surface of the support opposite to the side having the anti-glare layer or the anti-reflection layer. In some cases, an easy-adhesion layer is coated on the back surface, and depending on the state of curling, an aspect in which an anti-curl layer is coated on the opposite side, that is, the side having the antiglare layer or the antireflection layer may be mentioned. it can.
カール防止加工の具体的方法としては、溶媒塗布によるもの、溶媒とセルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートプロピオネート等の透明樹脂層を塗設するもの等が挙げられる。 Specific examples of the anti-curl processing include solvent coating, and a method of coating a solvent and a transparent resin layer such as cellulose triacetate, cellulose diacetate, and cellulose acetate propionate.
溶媒塗布による方法とは、具体的には、反射防止フィルムの支持体として用いるセルロースアシレートフィルムを溶解させる溶媒、又は膨潤させる溶媒を含む組成物を塗布することによって行われる。これらのカールを防止する機能を有する層の塗布液は、従ってケトン系、エステル系の有機溶媒を含有するものが好ましい。 Specifically, the solvent coating method is performed by coating a solvent that dissolves a cellulose acylate film used as a support for an antireflection film or a composition containing a solvent that swells. Accordingly, the coating solution for the layer having a function of preventing curling preferably contains a ketone-based or ester-based organic solvent.
好ましいケトン系の有機溶媒の例としてはアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、イソホロン、エチル−n−ブチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジエチルケトン、ジ−n−プロピルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチル−n−ブチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチル−n−ヘキシルケトン、メチル−n−へプチルケトン等であり、好ましいエステル系の有機溶媒の例としては酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。 Examples of preferable ketone-based organic solvents include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, acetyl acetone, diacetone alcohol, isophorone, ethyl-n-butyl ketone, diisopropyl ketone, diethyl ketone, di-n-propyl ketone, methylcyclohexanone, Methyl-n-butylketone, methyl-n-propylketone, methyl-n-hexylketone, methyl-n-heptylketone, and the like. Examples of preferable ester organic solvents include methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, and lactic acid. Examples include methyl and ethyl lactate.
しかしながら、用いる溶媒としては、セルロースアシレートフィルムを溶解させる溶媒及び/又は膨潤させる溶媒の他、さらに該フィルムを溶解させない溶媒を含む場合もあり、これらを透明樹脂フィルムのカール度合や樹脂の種類によって適宜の割合で混合した組成物及び塗布量を用いて行う。この他にも、透明ハード加工や帯電防止加工を施してもカール防止機能を発揮する。 However, the solvent to be used may include a solvent that dissolves the cellulose acylate film and / or a solvent that swells, and further includes a solvent that does not dissolve the film, depending on the curl degree of the transparent resin film and the type of resin. The composition and the coating amount mixed at an appropriate ratio are used. In addition, the anti-curl function is exhibited even if transparent hard processing or antistatic processing is applied.
2−(10)水吸収層
本発明の反射防止フィルムには水吸収剤を含む層を設けることができる。水吸収剤は、アルカリ土類金属を中心に、水吸収機能を有する化合物から選択することができる。例えば、BaO、SrO、CaO、及びMgOなどが挙げられる。さらに、Ti、Mg、Ba、Caの様な金属元素から選択することもできる。これらの吸収剤粒子の粒子サイズは、好ましくは100nm以下であり、50nm以下で使用されるのがさらに好ましい。
2- (10) Water Absorption Layer The antireflection film of the present invention can be provided with a layer containing a water absorbent. The water absorbent can be selected from compounds having a water absorption function, mainly alkaline earth metals. For example, BaO, SrO, CaO, MgO, etc. are mentioned. Further, it can be selected from metal elements such as Ti, Mg, Ba, and Ca. The particle size of these absorbent particles is preferably 100 nm or less, and more preferably 50 nm or less.
これらの水吸収剤を含む層は、前記の帯電防止層と同様に真空蒸着法等を使って作製してもよいし、ナノ粒子を各種方法で作成して用いてもよい。層の厚みは1〜100nmが
好ましく、1〜10nmがより好ましい。
The layer containing these water absorbents may be prepared using a vacuum deposition method or the like as in the antistatic layer, or nanoparticles may be prepared by various methods. The thickness of the layer is preferably 1 to 100 nm, and more preferably 1 to 10 nm.
水吸収剤を含む層は、支持体と積層体(反射防止層を含む各種機能層)の間、積層体の最上層、積層体の間に設けられていてもよく、又は積層体中の有機層もしくは帯電防止層中に水吸収材が添加されていてもよい。帯電防止層に添加する場合には共蒸着法を用いることが好ましい。 The layer containing the water absorbent may be provided between the support and the laminate (various functional layers including the antireflection layer), the uppermost layer of the laminate, or between the laminates, or the organic in the laminate A water absorbent may be added to the layer or the antistatic layer. When added to the antistatic layer, it is preferable to use a co-evaporation method.
2−(11)プライマー層・無機薄膜層
本発明の反射防止フィルムでは、支持体と積層体との間に、公知のプライマー層又は無機薄膜層を設置することで、ガスバリアー性を高めたりすることができる。
2- (11) Primer layer / inorganic thin film layer In the antireflection film of the present invention, a known primer layer or inorganic thin film layer is placed between the support and the laminate to enhance gas barrier properties. be able to.
プライマー層としては、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を用いることが可能であるが、本発明においては、このプライマー層として、これらの樹脂の層と無機薄膜層とを組み合わせた有機/無機ハイブリッド層を設けることが好ましい。無機薄膜層としては、無機蒸着層又はゾルーゲル法による緻密な無機コーティング薄膜が好ましい。無機蒸着層としては、シリカ、ジルコニア、アルミナ等の蒸着層が好ましい。無機蒸着層は真空蒸着法、スパッタリング法等により形成することができる。 As the primer layer, for example, an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, a silicone resin, or the like can be used. In the present invention, these primer layers and inorganic thin film layers are combined as the primer layer. It is preferable to provide an organic / inorganic hybrid layer. As the inorganic thin film layer, an inorganic vapor deposition layer or a dense inorganic coating thin film by a sol-gel method is preferable. As an inorganic vapor deposition layer, vapor deposition layers, such as a silica, a zirconia, an alumina, are preferable. The inorganic vapor deposition layer can be formed by a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or the like.
3.反射防止フィルムの層構成
本発明の反射防止フィルムについては、上記のような層を用い、公知の層構成を使用することができる。たとえば、代表的な例としては以下のようなものがある。
a.支持体/ハードコート層
b.支持体/ハードコート層/低屈折率層(図3)
c.支持体/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層(図4)
d.支持体/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層(図5)
3. Layer structure of antireflection film About the antireflection film of this invention, the above layers can be used and a well-known layer structure can be used. For example, the following are typical examples.
a. Support / hard coat layer b. Support / hard coat layer / low refractive index layer (FIG. 3)
c. Support / hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer (FIG. 4)
d. Support / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer (FIG. 5)
上記b(図3)のように、支持体上にハードコート層を塗布した上に、低屈折率層を積層すると、反射防止フィルムとして好適に用いることができる。低屈折率層はハードコート層の上に低屈折率層4を光の波長の1/4前後の膜厚で形成することにより、薄膜干渉の原理により表面反射を低減することができる。 As shown in the above b (FIG. 3), when a hard coat layer is applied on a support and a low refractive index layer is laminated, it can be suitably used as an antireflection film. The low refractive index layer can reduce surface reflection by the principle of thin film interference by forming the low refractive index layer 4 on the hard coat layer with a film thickness of about 1/4 of the wavelength of light.
また、c(図4)のように支持体上にハードコート層を塗布した上に、高屈折率層、低屈折率層を積層しても反射防止フィルムとして好適に用いることができる。さらに、d(図5)のように支持体、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、そして低屈折率層の順序の層構成を設置することにより、反射率を1%以下とすることができる。 Moreover, even if a high-refractive index layer and a low-refractive index layer are laminated after applying a hard coat layer on a support as shown in FIG. 4 (c), it can be suitably used as an antireflection film. Furthermore, by installing a layer structure in the order of a support, a hard coat layer, a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer as shown in d (FIG. 5), the reflectance is 1% or less. can do.
上記反射防止フィルムa〜dの層構成において、ハードコート層(2)は防眩性を有する防眩層とすることができる。防眩性は図6に示されるような透光性粒子の分散によるものでも、図7に示されるようなエンボス加工などの方法による表面の賦形によって形成されてもよい。透光性粒子の分散によって形成される防眩層は、透光性樹脂と該透光性樹脂中に分散された透光性粒子を含有してなる。防眩性を有する防眩層は、好ましくは防眩性とハードコート性を兼ね備えており、複数層、例えば2層〜4層で構成されていてもよい。 In the layer configuration of the antireflection films a to d, the hard coat layer (2) can be an antiglare layer having antiglare properties. The antiglare property may be formed by dispersion of translucent particles as shown in FIG. 6 or may be formed by surface shaping by a method such as embossing as shown in FIG. The antiglare layer formed by the dispersion of the translucent particles contains a translucent resin and the translucent particles dispersed in the translucent resin. The antiglare layer having antiglare properties preferably has both antiglare properties and hard coat properties, and may be composed of a plurality of layers, for example, 2 to 4 layers.
また支持体とそれよりも表面側の層の間、あるいは最表面に設けてもよい層として、干渉ムラ(虹ムラ)防止層、帯電防止層(ディスプレイ側からの表面抵抗値を下げる等の要求がある場合、表面等へのゴミつきが問題となる場合)、別のハードコート層(1層のハードコート層又は防眩層だけで硬度が不足する場合)、ガスバリアー層、水吸収層(防湿層)、密着改良層、防汚層(汚染防止層)、等が挙げられる。 In addition, interference unevenness (rainbow unevenness) prevention layer, antistatic layer (reduction of surface resistance value from the display side, etc.) may be provided between the support and the surface side layer or the outermost layer. If there is a dust on the surface, there is a problem), another hard coat layer (if one hard coat layer or antiglare layer is insufficient in hardness), gas barrier layer, water absorption layer ( Moisture-proof layer), adhesion improving layer, antifouling layer (contamination preventing layer), and the like.
本発明における反射防止層を有する防眩性反射防止フィルムを構成する各層の屈折率は以下の関係を満たすことが好ましい。
ハードコート層の屈折率>透明支持体の屈折率>低屈折率層の屈折率
The refractive index of each layer constituting the antiglare antireflection film having the antireflection layer in the invention preferably satisfies the following relationship.
Refractive index of hard coat layer> refractive index of transparent support> refractive index of low refractive index layer
4.反射防止フィルムの製造方法
本発明の反射防止フィルムは、以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
4). Method for Producing Antireflection Film The antireflection film of the present invention can be formed by the following method, but is not limited to this method.
4−(1)塗布液の調製
[各層形成用塗布液の調製]
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。その際、溶媒の揮発量を最小限に抑制することにより、塗布液中の含水率の上昇を抑制できる。塗布液中の含水率は5質量%以下が好ましく、2質量%以下がより好ましい。溶媒の揮発量の抑制は、各素材をタンクに投入後の攪拌時の密閉性を向上すること、移液作業時の塗布液の空気接触面積を最小化すること等で達成される。また、塗布中、又はその前後に塗布液中の含水率を低減する手段を設けてもよい。
4- (1) Preparation of coating solution [Preparation of coating solution for forming each layer]
First, a coating solution containing components for forming each layer is prepared. In that case, the raise of the moisture content in a coating liquid can be suppressed by suppressing the volatilization amount of a solvent to the minimum. The water content in the coating solution is preferably 5% by mass or less, and more preferably 2% by mass or less. The suppression of the volatilization amount of the solvent is achieved by improving the sealing property at the time of stirring after putting each material into the tank, minimizing the air contact area of the coating liquid at the time of liquid transfer operation, and the like. Moreover, you may provide the means to reduce the moisture content in a coating liquid during application | coating, or before and after that.
[塗布液の物性]
本発明における塗布方式は、液物性により塗布可能な上限の速度が大きく影響を受けるため、塗布する瞬間の液物性、特に粘度及び表面張力を制御する必要がある。
[Physical properties of coating solution]
In the coating method of the present invention, the upper limit speed at which coating can be performed is greatly affected by the liquid physical properties, so it is necessary to control the liquid physical properties, particularly the viscosity and surface tension, at the moment of coating.
粘度については2.0mPa・sec以下であることが好ましく、更に好ましくは1.5mPa・sec以下、最も好ましくは1.0mPa・sec以下である。塗布液によっては剪断速度により粘度が変化するものもあるため、上記の値は塗布される瞬間の剪断速度における粘度を示している。塗布液にチキソトロピー剤を添加して、高剪断のかかる塗布時は粘度が低く、塗布液に剪断が殆どかからない乾燥時は粘度が高くなると乾燥時のムラが発生しにくくなり、好ましい。 The viscosity is preferably 2.0 mPa · sec or less, more preferably 1.5 mPa · sec or less, and most preferably 1.0 mPa · sec or less. Since some coating solutions change in viscosity depending on the shear rate, the above values indicate the viscosity at the shear rate at the moment of application. When a thixotropic agent is added to the coating solution and the application is highly sheared, the viscosity is low, and when the coating solution is hardly sheared, if the viscosity is high, unevenness during drying is less likely to occur.
また、液物性ではないが、透明支持体に塗り付けられる塗布液の量も塗布可能な上限の速度に影響を与える。透明支持体に塗り付けられる塗布液の量は2.0〜5.0cc/m2の範囲であることが好ましい。透明支持体に塗り付けられる塗布液の量を増やすと塗布可能な上限の速度が上がるため好ましいが、透明支持体に塗り付けられる塗布液の量を増やしすぎると乾燥にかかる負荷が大きくなるため、液処方・工程条件によって最適な透明支持体に塗り付けられる塗布液の量を決めることが好ましい。 Moreover, although it is not a liquid physical property, the quantity of the coating liquid apply | coated to a transparent support body also affects the upper limit speed | rate which can be apply | coated. The amount of the coating solution applied to the transparent support is preferably in the range of 2.0 to 5.0 cc / m 2 . Increasing the amount of the coating liquid applied to the transparent support is preferable because the upper limit of the application rate can be increased, but if the amount of the coating liquid applied to the transparent support is increased too much, the load on drying increases. It is preferable to determine the optimal amount of coating liquid to be applied to the transparent support depending on the liquid formulation and process conditions.
表面張力については、15〜36mN/mの範囲にあることが好ましい。レベリング剤を添加するなどして表面張力を低下させることは乾燥時のムラが抑止されるため好ましい。一方、表面張力が下がりすぎると塗布可能な上限の速度が低下してしまうため、17mN/m〜32mN/mの範囲がより好まく、19mN/m〜26mN/mの範囲が更に好ましい。 The surface tension is preferably in the range of 15 to 36 mN / m. It is preferable to reduce the surface tension by adding a leveling agent or the like because unevenness during drying is suppressed. On the other hand, if the surface tension is too low, the upper limit speed at which application is possible is reduced, and therefore the range of 17 mN / m to 32 mN / m is more preferable, and the range of 19 mN / m to 26 mN / m is more preferable.
[濾過]
塗布に用いる塗布液は、塗布前に濾過することが好ましい。濾過のフィルターは、塗布液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には絶対濾過精度が0.1〜10μmのフィルターが用いられ、さらには絶対濾過精度が0.1〜5μmであるフィルターを用いることが好ましく用いられる。フィルターの厚さは、0.1〜10mmが好ましく、更には0.2〜2mmが好ましい。その場合、濾過圧力は1.5MPa以下、より好ましくは1.0MPa以下、更には0.2MPa以下で濾過することが好ましい。
[filtration]
The coating solution used for coating is preferably filtered before coating. As a filter for filtration, it is preferable to use a filter having a pore diameter as small as possible within a range in which components in the coating solution are not removed. For filtration, a filter having an absolute filtration accuracy of 0.1 to 10 μm is used, and a filter having an absolute filtration accuracy of 0.1 to 5 μm is preferably used. The thickness of the filter is preferably 0.1 to 10 mm, and more preferably 0.2 to 2 mm. In that case, the filtration pressure is preferably 1.5 MPa or less, more preferably 1.0 MPa or less, and further preferably 0.2 MPa or less.
濾過フィルター部材は、塗布液に影響を及ぼさなければ特に限定されない。具体的には、前記した無機化合物の湿式分散物のろ過部材と同様のものが挙げられる。また、濾過した塗布液を、塗布直前に超音波分散して、脱泡、分散物の分散保持を補助することも好ましい。 The filtration filter member is not particularly limited as long as it does not affect the coating solution. Specifically, the same thing as the filtration member of the wet dispersion of an inorganic compound mentioned above is mentioned. Further, it is also preferable that the filtered coating solution is ultrasonically dispersed immediately before coating to assist defoaming and dispersion holding of the dispersion.
4−(2)塗布前の処理
本発明で使用する支持体は、塗布前に表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理又は紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平7−333433号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。
4- (2) Treatment before coating The support used in the present invention is preferably subjected to a surface treatment before coating. Specific examples include corona discharge treatment, glow discharge treatment, flame treatment, acid treatment, alkali treatment, and ultraviolet irradiation treatment. In addition, as described in JP-A-7-333433, it is preferable to provide an undercoat layer.
さらに、塗布が行われる前工程としての除塵工程に用いられる除塵方法として、特開昭59−150571号公報に記載のフィルム表面に不織布や、ブレード等を押しつける方法;特開平10−309553号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法;特開平7−333613号公報に記載される超音波振動する圧縮空気を吹き付けて付着物を剥離させ、吸引する方法(伸興社製、「ニューウルトラクリーナー」等)等の乾式除塵法が挙げられる。 Further, as a dust removing method used in the dust removing process as a pre-process for coating, a method of pressing a nonwoven fabric, a blade or the like against the film surface described in JP-A-59-150571; JP-A-10-309553 A method in which air with high cleanliness is blown at a high speed to peel off deposits from the film surface and sucked by a close suction port; compressed air which is ultrasonically vibrated as described in JP-A-7-333613 is blown Examples thereof include dry dust removal methods such as a method of peeling off and adhering deposits (manufactured by Shinkosha, “New Ultra Cleaner”, etc.).
また、洗浄槽中にフィルムを導入し、超音波振動子により付着物を剥離させる方法;特公昭49−13020号公報に記載されているフィルムに洗浄液を供給したあと、高速空気の吹き付け、吸い込みを行う方法;特開2001−38306号に記載のように、ウェブを液体でぬらしたロールで連続的に擦った後、擦った面に液体を噴射して洗浄する方法等の湿式除塵法を用いることができる。このような除塵方法の内、超音波除塵による方法もしくは湿式除塵による方法が、除塵効果の点で特に好ましい。 In addition, a method of introducing a film into a cleaning tank and peeling off the deposits with an ultrasonic vibrator; after supplying a cleaning solution to the film described in Japanese Patent Publication No. 49-13020, spraying and sucking high-speed air Method to perform; as described in JP-A-2001-38306, use a wet dust removing method such as a method in which a web is continuously rubbed with a roll wetted with a liquid and then the liquid is sprayed onto the rubbed surface for cleaning. Can do. Among such dust removal methods, a method using ultrasonic dust removal or a method using wet dust removal is particularly preferable in terms of dust removal effect.
また、このような除塵工程を行う前に、フィルム支持体上の静電気を除電しておくことは、除塵効率を上げ、ゴミの付着を抑える点で特に好ましい。このような除電方法としては、コロナ放電式のイオナイザ、UV、軟X線等の光照射式のイオナイザ等を用いることができる。除塵、塗布前後のフィルム支持体の帯電圧は、1000V以下が望ましく、好ましくは300V以下、特に好ましくは、100V以下である。 In addition, it is particularly preferable to remove static electricity on the film support before performing such a dust removal step from the viewpoint of increasing dust removal efficiency and suppressing adhesion of dust. As such a static elimination method, a corona discharge ionizer, a light irradiation ionizer such as UV or soft X-ray, or the like can be used. The charged voltage of the film support before and after dust removal and coating is desirably 1000 V or less, preferably 300 V or less, and particularly preferably 100 V or less.
フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアシレートフィルムの温度をTg以下、具体的には150℃以下とすることが好ましい。 From the viewpoint of maintaining the flatness of the film, the temperature of the cellulose acylate film in these treatments is preferably Tg or less, specifically 150 ° C. or less.
本発明の反射防止フィルムを偏光板の保護フィルムとして使用する場合のように、セルロースアシレートフィルムを偏光膜と接着させる場合には、偏光膜との接着性の観点から、酸処理又はアルカリ処理、すなわちセルロースアシレートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。 As in the case of using the antireflection film of the present invention as a protective film for a polarizing plate, when adhering a cellulose acylate film to a polarizing film, from the viewpoint of adhesiveness with the polarizing film, acid treatment or alkali treatment, That is, it is particularly preferable to carry out a saponification treatment on cellulose acylate.
接着性などの観点から、セルロースアシレートフィルムの表面エネルギーは、55mN/m以上であることが好ましく、60mN/m以上75mN/m以下であることが更に好ましく、上記表面処理により調整することができる。 From the viewpoint of adhesiveness and the like, the surface energy of the cellulose acylate film is preferably 55 mN / m or more, more preferably 60 mN / m or more and 75 mN / m or less, and it can be adjusted by the surface treatment. .
4−(3)塗布
本発明の反射防止フィルムの各層は、以下の塗布方法により形成することができるが、この方法に制限されない。
ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(ダイコート法)(米国特許第2681294号明細書参照)、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。
4- (3) Coating Each layer of the antireflection film of the present invention can be formed by the following coating method, but is not limited to this method.
Dip coating method, air knife coating method, curtain coating method, roller coating method, wire bar coating method, gravure coating method and extrusion coating method (die coating method) (see US Pat. No. 2,681,294), micro gravure coating method, etc. The known methods are used, and among them, the microgravure coating method and the die coating method are preferable.
本発明で用いられるマイクログラビアコート法とは、直径が約10〜100mm、好ましくは約20〜50mmで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、且つ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を前記支持体の上面が自由状態にある位置におけるその支持体の下面に塗布液を転写させて塗工することを特徴とするコート法である。ロール形態の透明支持体を連続的に巻き出し、該巻き出された支持体の一方の側に、防眩層および低屈折率層を含む反射防止フィルムの少なくとも1層をマイクログラビアコート法によって塗工することができる。 The micro gravure coating method used in the present invention is a gravure roll having a diameter of about 10 to 100 mm, preferably about 20 to 50 mm and having a gravure pattern engraved on the entire circumference, below the support and in the transport direction of the support. The gravure roll is rotated in reverse with respect to the gravure roll, the excess coating liquid is scraped off from the surface of the gravure roll by a doctor blade, and a fixed amount of the coating liquid is removed from the support in a position where the upper surface of the support is in a free state. The coating method is characterized in that the coating liquid is transferred onto the lower surface for coating. A roll-shaped transparent support is continuously unwound, and at least one antireflection film including an antiglare layer and a low refractive index layer is applied to one side of the unwound support by a microgravure coating method. Can be crafted.
マイクログラビアコート法による塗工条件としては、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は50〜800本/inが好ましく、100〜300本/inがより好ましい。グラビアパターンの深度は1〜600μmが好ましく、5〜200μmがより好ましく、グラビアロールの回転数は3〜800rpmであることが好ましく、5〜200rpmであることがより好ましい。支持体の搬送速度は0.5〜100m/分であることが好ましく、1〜50m/分がより好ましい。 As coating conditions by the micro gravure coating method, the number of lines of the gravure pattern imprinted on the gravure roll is preferably 50 to 800 lines / in, and more preferably 100 to 300 lines / in. The depth of the gravure pattern is preferably 1 to 600 μm, more preferably 5 to 200 μm, and the rotation speed of the gravure roll is preferably 3 to 800 rpm, more preferably 5 to 200 rpm. It is preferable that the conveyance speed of a support body is 0.5-100 m / min, and 1-50 m / min is more preferable.
本発明のフィルムを高い生産性で供給するために、エクストルージョン法(ダイコート法)が好ましく用いられる。特に、ハードコート層や反射防止層のような、ウエット塗布量の少ない領域(20cc/m2以下)で好ましく用いることができるダイコーターについて、以下に説明する。 In order to supply the film of the present invention with high productivity, an extrusion method (die coating method) is preferably used. In particular, a die coater that can be preferably used in a region with a small amount of wet coating (20 cc / m 2 or less) such as a hard coat layer or an antireflection layer will be described below.
[ダイコーターの構成]
図8は、本発明の実施に使用したスロットダイを用いたときのコーターの断面図である。コーター10はバックアップロール11に支持されて連続走行するウェブWに対して、スロットダイ13から塗布液14をビード14aにして塗布することにより、ウェブW上に塗膜14bを形成する。
[Configuration of die coater]
FIG. 8 is a cross-sectional view of the coater when the slot die used in the practice of the present invention is used. The
スロットダイ13の内部には、ポケット15、スロット16が形成されている。ポケット15は、その断面が曲線及び直線で構成されており、例えば図9(A)に示すような略円形でもよいし、又は半円形でもよい。ポケット15は、スロットダイ13の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット15への塗布液14の供給は、スロットダイ13の側面から、又はスロット開口部16aとは反対側の面中央から行う。また、ポケット15には塗布液14が漏れ出ることを防止する栓が設けられている。
Inside the slot die 13, a
スロット16は、ポケット15からウェブWへの塗布液14の流路であり、ポケット15と同様に、スロットダイ13の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部16aは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット16のスロット先端における、バックアップロール11のウェブ走行方向の接線とのなす角は、30°以上90°以下が好ましい。
The
スロット16の開口部16aが位置する、スロットダイ13の先端リップ17は先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部18とされている。このランド18であって、スロット16に対してウェブWの進行方向の上流側を上流側リップランド18a、下流側を下流側リップランド18bと称する。
The
図9は、スロットダイ13の断面形状を従来のものと比較して示すもので、(A)は本発明で用いるスロットダイ13を示し、(B)は従来のスロットダイ30を示している。従来のスロットダイ30では、上流側リップランド31aと下流側リップランド31bの
ウェブとの距離は等しい。なお、符号32はポケット、33はスロットを示している。これに対して、本発明で用いるスロットダイ13では、下流側リップランド長さILOが短くされており、これによって、湿潤膜厚が20μm以下の塗布を精度よくおこなうことができる。
FIG. 9 shows the cross-sectional shape of the slot die 13 in comparison with the conventional one, (A) shows the slot die 13 used in the present invention, and (B) shows the conventional slot die 30. In the conventional slot die 30, the distance between the
上流側リップランド18aのランド長さIUPは、特に限定はされないが、500μm〜1mmの範囲で好ましく用いられる。下流側リップランド18bのランド長さILOは30μm以上100μm以下であり、好ましくは30μm以上80μm以下、さらに好ましくは30μm以上60μm以下である。下流側リップのランド長さILOが30μmより長くすることによって、先端リップのエッジ又はランドが欠けやすかったり、塗膜にスジが発生しやすかったりするといった不具合が生じないので、塗布が容易になる。また、下流側の濡れ線位置の設定が困難になったり、塗布液が下流側で広がりやすくなったりするという問題も発生しない。この下流側での塗布液の濡れ広がりは、濡れ線の不均一化を意味し、塗布面上にスジなどの不良形状を招くという問題につながることが従来より知られている。一方、下流側リップのランド長さILOが100μmより短くすることによって、適当なビードを形成することができ、薄層塗布を行うことが容易になる。
The land length I UP of the
さらに、下流側リップランド18bは、上流側リップランド18aよりもウェブWに近接したオーバーバイト形状であり、このため減圧度を下げることができて薄膜塗布に適したビード形成が可能となる。下流側リップランド18bと上流側リップランド18aのウェブWとの距離の差(以下、オーバーバイト長さLOと称する)は30μm以上120μm以下が好ましく、さらに好ましくは30μm以上100μm以下、もっとも好ましくは30μm以上80μm以下である。スロットダイ13がオーバーバイト形状のとき、先端リップ17とウェブWの隙間GLとは、下流側リップランド18bとウェブWの隙間を示す。
Further, the
図10は、本発明を実施した塗布工程のスロットダイ及びその周辺を示す斜視図である。
ウェブWの進行方向側とは反対側に、ビード14aに対して十分な減圧調整を行えるよう、接触しない位置に減圧チャンバー40を設置する。減圧チャンバー40は、その作動効率を保持するためのバックプレート40aとサイドプレート40bを備えており、バックプレート40aとウェブWの間、サイドプレート40bとウェブWの間にはそれぞれ隙間GB、GSが存在する。
FIG. 10 is a perspective view showing the slot die and its periphery in the coating process in which the present invention is implemented.
On the opposite side of the web W in the direction of travel, a
図11及び図12は、近接している減圧チャンバー40とウェブWを示す断面図である。サイドプレートとバックプレートは、図11のようにチャンバー本体と一体のものであってもよいし、図12のように適宜隙間を変えられるようにチャンバーにネジ40cなどで留められている構造でもよい。いかなる構造でも、バックプレート40aとウェブWの間、サイドプレート40bとウェブWの間に実際にあいている部分を、それぞれ隙間GB、GSと定義する。減圧チャンバー40のバックプレート40aとウェブWとの隙間GBとは、減圧チャンバー40を図10のようにウェブW及びスロットダイ13の下方に設置した場合、バックプレート40aの最上端からウェブWまでの隙間を示す。
11 and 12 are cross-sectional views showing the
バックプレート40aとウェブWとの隙間GBをスロットダイ13の先端リップ17とウェブWとの隙間GLよりも大きくして設置するのが好ましく、これによりバックアップロール11の偏心に起因するビード近傍の減圧度変化を抑制することができる。例えば、スロットダイ13の先端リップ17とウェブWとの隙間GLが30μm以上100μm以下のとき、バックプレート40aとウェブWの間の隙間GBは100μm以上500μm以下が好ましい。
Is preferably placed in the gap G B between the
[材質、精度]
前記ウェブの進行方向側の先端リップのウェブ走行方向における長さは、長いほどビード形成に不利であり、この長さがスロットダイ幅方向における任意の個所間でばらつくと、かすかな外乱によりビードが不安定になる。従って、この長さをスロットダイ幅方向における変動幅が20μm以内とすることが好ましい。
[Material and accuracy]
The longer the length of the tip lip on the traveling direction side of the web in the web traveling direction, the more disadvantageous it is for bead formation.If this length varies between arbitrary locations in the slot die width direction, It becomes unstable. Therefore, it is preferable that the fluctuation width in the slot die width direction is within 20 μm.
また、スロットダイの先端リップの材質については、ステンレス鋼などのような材質を用いるとダイ加工の段階でダレてしまい、前記のようにスロットダイ先端リップのウェブ走行方向における長さを30〜100μmの範囲にしても、先端リップの精度を満足できない。従って、高い加工精度を維持するためには、特許第2817053号公報に記載されているような超硬材質のものを用いることが重要である。具体的には、スロットダイの少なくとも先端リップを、平均粒径5μm以下の炭化物結晶を結合してなる超硬合金にすることが好ましい。超硬合金としては、炭化タングステン(以下、WCと称す)などの炭化物結晶粒子をコバルトなどの結合金属によって結合したものなどがあり、結合金属としては他にチタン、タンタル、ニオブ及びこれらの混合金属を用いることもできる。WC結晶の平均粒径としては、粒径3μm以下がさらに好ましい。 Further, if the material of the tip end lip of the slot die is made of a material such as stainless steel, it will sag at the stage of die processing, and the length of the slot die tip lip in the web running direction is 30 to 100 μm as described above. Even within this range, the accuracy of the tip lip cannot be satisfied. Therefore, in order to maintain high processing accuracy, it is important to use a cemented carbide material as described in Japanese Patent No. 2817053. Specifically, at least the tip lip of the slot die is preferably made of a cemented carbide formed by bonding carbide crystals having an average particle size of 5 μm or less. Examples of cemented carbide include carbide crystal particles such as tungsten carbide (hereinafter referred to as WC) bonded by a bonding metal such as cobalt, and other bonding metals include titanium, tantalum, niobium, and mixed metals thereof. Can also be used. The average particle size of the WC crystal is more preferably 3 μm or less.
高精度な塗布を実現するためには、先端リップのウェブ進行方向側のランドの前記長さ及びウェブとの隙間のスロットダイ幅方向のばらつきも重要な因子となる。この2つの因子の組み合わせ、つまり隙間の変動幅をある程度抑えられる範囲内の真直度を達成することが望ましい。好ましくは、前記隙間のスロットダイ幅方向における変動幅が5μm以下になるように先端リップとバックアップロールの真直度を出す。 In order to realize high-precision coating, the length of the land on the web traveling direction side of the tip lip and the variation in the slot die width direction of the gap with the web are also important factors. It is desirable to achieve a combination of these two factors, that is, straightness within a range in which the fluctuation range of the gap can be suppressed to some extent. Preferably, the straightness of the tip lip and the backup roll is set so that the fluctuation width of the gap in the slot die width direction is 5 μm or less.
[塗布速度]
上記の様なバックアップロール及び先端リップの精度を達成することにより、本発明で好ましく用いられる塗布方式は、高速塗布時における膜厚の安定性が高い。さらに、前記塗布方式は前計量方式であるために高速塗布時でも安定した膜厚の確保が容易である。低塗布量の塗布液に対して、該塗布方式は高速で膜厚安定性よく塗布が可能である。他の塗布方式でも塗布は可能であるが、ディップコート法は液受け槽中の塗布液振動が不可避であり、段状のムラが発生しやすい。リバースロールコート法では、塗布に関連するロールの偏芯やたわみにより段状のムラが発生しやすい。また、これらの塗布方式は後計量方式であるため、安定した膜厚の確保が困難である。前記ダイコート法を用い、25m/分以上で塗布することが生産性の面から好ましい。
[Application speed]
By achieving the accuracy of the backup roll and the tip lip as described above, the coating method preferably used in the present invention has high film thickness stability during high-speed coating. Furthermore, since the coating method is a pre-weighing method, it is easy to ensure a stable film thickness even during high-speed coating. With respect to a coating solution having a low coating amount, the coating method can be applied at high speed with good film thickness stability. Although application is possible by other application methods, the dip coating method inevitably causes vibration of the application liquid in the liquid receiving tank, and stepped unevenness is likely to occur. In the reverse roll coating method, stepped unevenness is likely to occur due to eccentricity and deflection of the roll related to coating. Moreover, since these coating methods are post-measuring methods, it is difficult to ensure a stable film thickness. From the viewpoint of productivity, it is preferable to apply the die coating method at 25 m / min or more.
4−(4)乾燥
本発明の反射防止フィルムは、支持体上に直接又は他の層を介して塗布された後、溶媒を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送されることが好ましい。溶媒を乾燥する方法としては、各種の知見を利用することができる。具体的な知見としては特開2001−286817号公報、同2001−314798号公報、同2003−126768号公報、同2003−315505号公報、同2004−34002号公報などの記載が挙げられる。
4- (4) Drying The antireflective film of the present invention is preferably applied on a support directly or via another layer, and then conveyed by a web to a heated zone to dry the solvent. . Various knowledges can be used as a method for drying the solvent. Specific examples include Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-286817, 2001-314798, 2003-126768, 2003-315505, and 2004-34002.
乾燥ゾーンの温度は25℃〜140℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的高温であることが好ましい。但し、各層の塗布液に含有される溶媒以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂と併用される市販の光ラジカル発生剤のなかには、120℃の温風中で数分以内にその数10質量%前後が揮発してしまうものもあり、また、単官能、2官能のアクリレートモノマー等は100℃の温風中で揮発が進行するものもある。そのような場合には、前記のように各層の塗布液に含有される溶媒以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。 The temperature of the drying zone is preferably 25 ° C. to 140 ° C., the first half of the drying zone is preferably at a relatively low temperature, and the latter half is preferably at a relatively high temperature. However, it is preferably below the temperature at which components other than the solvent contained in the coating solution of each layer start to volatilize. For example, some commercially available photoradical generators used in combination with ultraviolet curable resins may volatilize around several tens of mass% within a few minutes in warm air at 120 ° C. Some functional acrylate monomers, etc., undergo volatilization in hot air at 100 ° C. In such a case, it is preferable that it is below the temperature at which components other than the solvent contained in the coating liquid of each layer start to volatilize as described above.
また、各層の塗布組成物を支持体上に塗布した後の乾燥風は、前記塗布液の固形分濃度が1〜50質量%の間は塗膜表面の風速が0.1〜2m/秒の範囲にあることが、乾燥ムラを防止するために好ましい。 Moreover, the dry wind after apply | coating the coating composition of each layer on a support body has the wind speed of the coating-film surface of 0.1-2 m / sec while the solid content concentration of the said coating liquid is 1-50 mass%. It is preferable in order to prevent drying unevenness.
さらに各層の塗布組成物を支持体上に塗布した後、乾燥ゾーン内で支持体の塗布面とは反対の面に接触する搬送ロールと支持体との温度差が0℃〜20℃以内とすると、搬送ロール上での伝熱ムラによる乾燥ムラが防止でき、好ましい。 Furthermore, after coating the coating composition of each layer on the support, if the temperature difference between the transport roll contacting the surface opposite to the coating surface of the support in the drying zone and the support is 0 ° C to 20 ° C or less. Further, drying unevenness due to heat transfer unevenness on the transport roll can be prevented, which is preferable.
4−(5)硬化
本発明の反射防止フィルムは、溶媒の乾燥の後に、ウェブで電離放射線及び/又は熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化することができる。
4- (5) Curing The antireflection film of the present invention can cure the coating film by passing through a zone for curing each coating film with ionizing radiation and / or heat on the web after drying of the solvent.
本発明における電離放射線種は、特に制限されるものではなく、皮膜を形成する硬化性組成物の種類に応じて、紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、X線などから適宜選択することができが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。 The ionizing radiation species in the present invention is not particularly limited, and may be selected from ultraviolet rays, electron beams, near ultraviolet rays, visible light, near infrared rays, infrared rays, X-rays, and the like depending on the type of curable composition forming the film. Although it can be appropriately selected, ultraviolet rays and electron beams are preferred, and ultraviolet rays are particularly preferred because they are easy to handle and high energy can be easily obtained.
紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく利用できる。 As the ultraviolet light source for photopolymerizing the ultraviolet reactive compound, any light source that generates ultraviolet light can be used. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. An ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, synchrotron radiation, or the like can also be used. Among these, an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp can be preferably used.
また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50〜1000keV、好ましくは100〜300keVのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。 Moreover, an electron beam can be used similarly. As an electron beam, 50 to 1000 keV, preferably 100 to 100, emitted from various electron beam accelerators such as a cockroft Walton type, a bandegraph type, a resonance transformation type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type. An electron beam having an energy of 300 keV can be given.
照射条件は、それぞれのランプによって異なるが、照射光量は10mJ/cm2以上が好ましく、更に好ましくは、50mJ/cm2〜10000mJ/cm2であり、特に好ましくは、50mJ/cm2〜2000mJ/cm2である。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて50〜100%の分布が好ましく、80〜100%の分布がより好ましい。 Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation light amount is preferably 10 mJ / cm 2 or more, more preferably 50 mJ / cm 2 to 10000 mJ / cm 2 , and particularly preferably 50 mJ / cm 2 to 2000 mJ / cm 2. 2 . At that time, the irradiation distribution in the width direction of the web is preferably 50 to 100%, more preferably 80 to 100%, including both ends with respect to the central maximum irradiation.
本発明では、支持体上に積層された少なくとも1層に電離放射線を照射し、且つ電離放射線照射開始から0.5秒以上の間、膜面温度60℃以上に加熱した状態で、酸素濃度10体積%以下の雰囲気で電離放射線を照射する工程によって硬化することが好ましい。また電離放射線照射と同時及び/又は連続して酸素濃度3体積%以下の雰囲気で加熱されることも好ましい。特に最外層であり、かつ膜厚が薄い低屈折率層がこの方法で硬化されることが好ましい。硬化反応が熱で加速され、物理強度、耐薬品性に優れた皮膜を形成することができる。 In the present invention, at least one layer laminated on the support is irradiated with ionizing radiation and heated to a film surface temperature of 60 ° C. or more for 0.5 seconds or more from the start of ionizing radiation irradiation, with an oxygen concentration of 10 It is preferable to harden | cure by the process of irradiating ionizing radiation in the atmosphere below volume%. It is also preferable that heating is performed in an atmosphere having an oxygen concentration of 3% by volume or less simultaneously and / or continuously with ionizing radiation irradiation. In particular, it is preferable that the low refractive index layer which is the outermost layer and has a small film thickness is cured by this method. The curing reaction is accelerated by heat, and a film having excellent physical strength and chemical resistance can be formed.
電離放射線を照射する時間については0.7秒以上60秒以下が好ましく、0.7秒以上10秒以下がより好ましい。0.5秒以上であれば、硬化反応を完了させることができ、十分な硬化を行うことができる。また60秒以下であれば、それほど長時間低酸素条件を維持することにならず、設備が大型化したり、多量の不活性ガスが必要であったりする不都合がないので好ましい。 The time for irradiating with ionizing radiation is preferably 0.7 seconds or longer and 60 seconds or shorter, and more preferably 0.7 seconds or longer and 10 seconds or shorter. If it is 0.5 second or more, the curing reaction can be completed and sufficient curing can be performed. If it is 60 seconds or less, the low oxygen condition is not maintained for a long time, and there is no inconvenience that the equipment becomes large and a large amount of inert gas is required.
酸素濃度は、6体積%以下の雰囲気で、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は重合
反応により形成することが好ましく、更に好ましくは酸素濃度が4体積%以下、特に好ましくは酸素濃度が2体積%以下、最も好ましくは1体積%以下である。必要以上に酸素濃度を低減しなければ、窒素などの不活性ガスの使用量がそれほど多量とはならず、製造コストの観点から好ましい。
The oxygen concentration is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound in an atmosphere of 6% by volume or less, more preferably 4% by volume or less, particularly preferably 2% by volume. % Or less, most preferably 1% by volume or less. Unless the oxygen concentration is reduced more than necessary, the amount of inert gas such as nitrogen used is not so large, which is preferable from the viewpoint of manufacturing cost.
酸素濃度を10体積%以下にする手法としては、大気(窒素濃度約79体積%、酸素濃度約21体積%)を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換(窒素パージ)することである。 As a method of reducing the oxygen concentration to 10% by volume or less, it is preferable to replace the atmosphere (nitrogen concentration of about 79% by volume, oxygen concentration of about 21% by volume) with another gas, particularly preferably replacement with nitrogen (nitrogen purge). It is to be.
不活性ガスを電離放射線照射室に供給し、且つ照射室のウェッブ入り口側にやや吹き出す条件にすることで、ウェッブ搬送に伴う導搬エアーを排除し、反応室の酸素濃度を有効に下げられると共に、酸素による硬化阻害の大きい極表面の実質の酸素濃度を効率よく低減することができる。照射室のウェッブ入り口側での不活性ガスの流れの方向は、照射室の給気、排気のバランスを調整することなどで制御できる。不活性ガスをウェッブ表面に直接吹き付けることも、導搬エアーを除去する方法として好ましく用いられる。 By supplying inert gas to the ionizing radiation irradiation chamber and slightly blowing it out to the web entrance side of the irradiation chamber, the carry air accompanying the web transfer can be eliminated, and the oxygen concentration in the reaction chamber can be effectively reduced. Thus, the substantial oxygen concentration on the pole surface, which is largely inhibited by curing by oxygen, can be efficiently reduced. The direction of the inert gas flow on the web entrance side of the irradiation chamber can be controlled by adjusting the balance between supply and exhaust of the irradiation chamber. Direct blowing of an inert gas onto the web surface is also preferably used as a method for removing the carried air.
また上記反応室の前に前室を設け、事前にウェッブ表面の酸素を排除することで、より硬化を効率よく進めることができる。また電離放射線反応室又は前室のウェッブ入口側を構成する側面は、不活性ガスを効率的に使用するために、ウェッブ表面とのギャップは0.2〜15mmが好ましく、より好ましくは、0.2〜10mmとするのがよく、0.2〜5mmとするのがもっとも好ましい。 Further, by providing a front chamber in front of the reaction chamber and excluding oxygen on the web surface in advance, the curing can proceed more efficiently. Further, the side surface constituting the web entrance side of the ionizing radiation reaction chamber or the front chamber is preferably 0.2 to 15 mm in gap with the web surface in order to efficiently use an inert gas, and more preferably, 0. The thickness is preferably 2 to 10 mm, and most preferably 0.2 to 5 mm.
しかし、ウェッブを連続製造するには、ウェッブを接合して繋げていく必要があり、接合には接合テープなどで貼る方法が広く用いられている。このため、電離放射線反応室又は前室の入口面とウェッブのギャップをあまり狭くすると、接合テープなど接合部材が引っかかる問題が生じる。このためギャップを狭くするには、電離放射線反応室又は前室の入口面の少なくとも一部を可動とし、接合部が入るときは接合厚み分ギャップを広げるのが好ましい。この実現のためには、電離放射線反応室又は前室の入口面を進行方向前後に可動にしておき、接合部が通過する際に前後に動いてギャップを広げるやり方や、電離放射線反応室又は前室の入口面をウェッブ面に対し、垂直方向に可動にし、接合部が通過する際に上下に動いてギャップを広げるやり方を取ることができる。 However, in order to continuously manufacture the web, it is necessary to join and connect the webs, and a method of sticking with a joining tape or the like is widely used for joining. For this reason, when the gap between the entrance surface of the ionizing radiation reaction chamber or the front chamber and the web is made too narrow, there arises a problem that the joining member such as the joining tape is caught. For this reason, in order to narrow the gap, it is preferable to make at least a part of the entrance surface of the ionizing radiation reaction chamber or the front chamber movable, and to widen the gap by the junction thickness when the junction enters. In order to realize this, the entrance surface of the ionizing radiation reaction chamber or the front chamber is made movable in the forward and backward directions, and when the joint passes, it moves forward and backward to widen the gap. It is possible to move the chamber entrance surface vertically with respect to the web surface and move up and down to widen the gap as the joint passes.
硬化の際、フィルム面が60℃以上170℃以下で加熱されることが好ましい。60℃以上であれば、加熱の硬化が十分に行われ、170℃以下であれば、基材の変形などの問題が生じない。更に好ましい温度は60℃〜100℃である。フィルム面とは硬化しようとする層の膜面温度を指す。またフィルムがこの温度である時間は、UV照射開始から0.1秒以上、300秒以下が好ましく、更に10秒以下が好ましい。フィルム面の温度を上記の温度範囲に保つ時間が短すぎることがなければ、皮膜を形成する硬化性組成物の反応を十分に促進することができ、また長すぎることがなければフィルムの光学性能が低下したり、設備が大きくなったりするなどの製造上の問題は生じない。 In curing, the film surface is preferably heated at 60 ° C. or higher and 170 ° C. or lower. If it is 60 degreeC or more, hardening of a heating will fully be performed, and if it is 170 degreeC or less, problems, such as a deformation | transformation of a base material, will not arise. A more preferable temperature is 60 ° C to 100 ° C. The film surface refers to the film surface temperature of the layer to be cured. The time for which the film is at this temperature is preferably 0.1 second or more and 300 seconds or less, more preferably 10 seconds or less from the start of UV irradiation. If the time for maintaining the temperature of the film surface in the above temperature range is not too short, the reaction of the curable composition forming the film can be sufficiently accelerated, and if not too long, the optical performance of the film There is no problem in manufacturing such as a decrease in size or an increase in equipment.
加熱する方法に特に限定はないが、ロールを加熱してフィルムに接触させる方法、加熱した窒素を吹き付ける方法、遠赤外線又は赤外線の照射などが好ましい。特許2523574号公報に記載の回転金属ロールに温水や蒸気・オイルなどの媒体を流して加熱する方法も利用できる。加熱の手段としては誘電加熱ロールなどを使用してもよい。 There is no particular limitation on the heating method, but a method of heating a roll to contact the film, a method of spraying heated nitrogen, irradiation of far infrared rays or infrared rays is preferable. A method of heating a rotating metal roll described in Japanese Patent No. 2523574 by flowing a medium such as hot water, steam or oil can also be used. As a heating means, a dielectric heating roll or the like may be used.
紫外線照射は、構成する複数の層それぞれに対して、1層設ける毎に照射してもよいし、積層後照射してもよい。あるいはこれらを組み合わせて照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。 The ultraviolet irradiation may be performed every time a plurality of constituent layers are provided, or may be performed after lamination. Or you may irradiate combining these. From the viewpoint of productivity, it is preferable to irradiate ultraviolet rays after laminating multiple layers.
本発明では、支持体上に積層された少なくとも一層を複数回の電離放射線により硬化することができる。この場合、少なくとも2回の電離放射線を、酸素濃度3体積%を超えることのない連続した反応室で行うことが好ましい。複数回の電離放射線照射を同一の低酸素濃度の反応室で行うことにより、硬化に必要な反応時間を有効に確保することができる。特に高生産性のため製造速度を上げた場合には、硬化反応に必要な電離放射線のエネルギーを確保するために複数回の電離放射線照射が必要となる。 In the present invention, at least one layer laminated on the support can be cured by multiple times of ionizing radiation. In this case, it is preferable to perform ionizing radiation at least twice in a continuous reaction chamber that does not exceed an oxygen concentration of 3% by volume. By performing multiple times of ionizing radiation irradiation in the same low oxygen concentration reaction chamber, the reaction time required for curing can be effectively ensured. In particular, when the production rate is increased due to high productivity, ionizing radiation irradiation is required multiple times in order to ensure the energy of ionizing radiation necessary for the curing reaction.
また、硬化率(100−残存官能基含率)が100%未満のある値となった場合、その上に層を設けて電離放射線及び/又は熱により硬化した際に下層の硬化率が上層を設ける前よりも高くなると、下層と上層との間の密着性が改良され、好ましい。 In addition, when the curing rate (100-residual functional group content) is a certain value of less than 100%, when the layer is provided thereon and cured by ionizing radiation and / or heat, the lower layer has a curing rate of the upper layer. When the height is higher than before, the adhesion between the lower layer and the upper layer is improved, which is preferable.
4−(6)ハンドリング
本発明の反射防止フィルムを連続的に製造するために、ロール状の支持体フィルムを連続的に送り出す工程、塗布液を塗布・乾燥する工程、塗膜を硬化する工程、硬化した層を有する支持体フィルムを巻き取る工程が行われる。
4- (6) Handling In order to continuously produce the antireflection film of the present invention, a step of continuously feeding a roll-shaped support film, a step of applying and drying a coating liquid, a step of curing a coating film, A step of winding up the support film having the cured layer is performed.
ロール状のフィルム支持体からフィルム支持体が、クリーン室に連続的に送り出され、クリーン室内で、フィルム支持体に帯電している静電気を静電除電装置により除電し、引き続きフィルム支持体上に付着している異物を、除塵装置により除去する。引き続きクリーン室内に設置されている塗布部で、塗布液がフィルム支持体上に塗布され、塗布されたフィルム支持体は、乾燥室に送られて乾燥される。 The film support is continuously sent from the roll-shaped film support to the clean room. In the clean room, the static electricity charged on the film support is removed by an electrostatic charge removal device, and then attached to the film support. Remove foreign matter using a dust remover. Subsequently, the coating liquid is applied onto the film support in the application unit installed in the clean room, and the applied film support is sent to the drying chamber and dried.
乾燥した塗布層を有するフィルム支持体は、乾燥室から硬化室へ送り出され、塗布層に含有されるモノマーが重合して硬化する。さらに、硬化した層を有するフィルム支持体は硬化部へ送られ硬化を完結させ、硬化が完結した層を有するフィルム支持体は巻き取られてロール状となる。 The film support having the dried coating layer is fed from the drying chamber to the curing chamber, and the monomer contained in the coating layer is polymerized and cured. Further, the film support having the cured layer is sent to the curing unit to complete the curing, and the film support having the layer having been completely cured is wound up into a roll shape.
上記工程は、各層の形成毎に行ってもよいし、塗布部−乾燥室−硬化部を複数設けて、各層の形成を連続的に行うことも可能である。 The above steps may be performed every time each layer is formed, or a plurality of coating parts-drying chambers-curing parts may be provided to continuously form each layer.
本発明の反射防止フィルムを作製するためには、前記したように塗布液の精密濾過操作と同時に、塗布部における塗布工程及び、乾燥室で行われる乾燥工程が高い清浄度の空気雰囲気下で行われ、且つ塗布が行われる前に、フィルム上のゴミ、ほこりが充分に除かれていることが好ましい。塗布工程及び乾燥工程の空気清浄度は、米国連邦規格209Eにおける空気清浄度の規格に基づき、クラス10(0.5μm以上の粒子が353個/m3以下)以上であることが望ましく、更に好ましくはクラス1(0.5μm以上の粒子が35.5個/m3以下)以上であることが望ましい。また、空気清浄度は、塗布−乾燥工程以外の送り出し、巻き取り部等においても高いことがより好ましい。 In order to produce the antireflection film of the present invention, as described above, simultaneously with the microfiltration operation of the coating liquid, the coating process in the coating unit and the drying process performed in the drying chamber are performed in a clean air atmosphere. In addition, it is preferable that dust and dust on the film are sufficiently removed before application. The air cleanliness of the coating process and the drying process is desirably class 10 (353 particles / m 3 or less of 0.5 μm or more) based on the standard of air cleanliness in US Federal Standard 209E, and more preferably. Is preferably class 1 (35.5 particles / m 3 or less of particles of 0.5 μm or more) or more. Moreover, it is more preferable that the degree of air cleanliness is high also in the feeding and winding parts other than the coating-drying process.
4−(7)鹸化処理
本発明の反射防止フィルムを、偏光膜の2枚の表面保護フィルムの内の一方として用いて偏光板を作製する際には、偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。
4- (7) Saponification treatment When producing a polarizing plate using the antireflection film of the present invention as one of the two surface protective films of a polarizing film, the surface to be bonded to the polarizing film is hydrophilic. It is preferable to improve the adhesiveness on the adhesive surface.
a.アルカリ液に浸漬する法
アルカリ液の中にフィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面の、アルカリと反応性を有する部分を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は0.5〜3モル/Lであり、特に好ましくは1〜2モル/Lである。好ましいアルカリ液の液温は30〜75℃、特に好ましくは40〜60℃である。該鹸化条件の組合
せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
a. Method of immersing in alkaline solution This is a method in which a film is immersed in an alkaline solution under appropriate conditions to saponify the part of the entire surface that is reactive with alkali, and no special equipment is required. It is preferable from the viewpoint of cost. The alkaline liquid is preferably a sodium hydroxide aqueous solution. A preferred concentration is 0.5 to 3 mol / L, particularly preferably 1 to 2 mol / L. The liquid temperature of a preferable alkali liquid is 30-75 degreeC, Most preferably, it is 40-60 degreeC. The combination of the saponification conditions is preferably a combination of relatively mild conditions, but can be set depending on the material and composition of the film and the target contact angle.
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和したりすることが好ましい。 After being immersed in the alkaline solution, it is preferable that the film is sufficiently washed with water so that the alkali component does not remain in the film, or is immersed in a dilute acid to neutralize the alkali component.
鹸化処理することにより、塗布層を有する表面と反対の表面の両方が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。 By saponification treatment, both the surface having the coating layer and the opposite surface are hydrophilized. The protective film for polarizing plate is used by adhering the hydrophilic surface of the transparent support to the polarizing film.
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。 The hydrophilized surface is effective for improving the adhesiveness with the adhesive layer mainly composed of polyvinyl alcohol.
鹸化処理は、塗布層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の、水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に塗布層を有する表面から内部までアルカリによるダメージを受けることがあるため、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる各層の受けるダメージの指標として、反対側の表面の透明支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に透明支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは10〜50゜、より好ましくは30〜50゜、さらに好ましくは40〜50゜となる。50゜以下であれば、偏光膜との接着性に問題が生じることがないので好ましい。一方、10゜以上であれば、フィルムが受けるダメージが大きすぎて物理強度を損なうなどの問題を生じないので好ましい。 In the saponification treatment, the lower the contact angle with water on the surface of the transparent support opposite to the side having the coating layer, the better from the viewpoint of adhesiveness to the polarizing film. Since it may be damaged by alkali from the surface to the inside, it is important to set the reaction conditions to the minimum necessary. When the contact angle to water of the transparent support on the opposite surface is used as an index of damage to each layer due to alkali, particularly when the transparent support is triacetyl cellulose, preferably 10 to 50 °, more preferably 30 to 50 °, more preferably 40 to 50 °. If it is 50 ° or less, there is no problem in adhesion to the polarizing film, which is preferable. On the other hand, if it is 10 ° or more, the film is not damaged so much that the physical strength is not deteriorated.
b.アルカリ液を塗布する方法
上記の浸漬法における、各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件で、アルカリ液を、塗布層を有する側とは反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等への接触などによって行うことも含む。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では(a)の浸漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば蒸着膜やゾル/ゲル膜は、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響を受けることがあるため、浸漬法ではこれらの層を設けることは容易ではないが、この塗布法では液と接触しないため問題なくこれらの層を設けることが可能となる。
b. Method for applying alkaline solution In the above immersion method, as a means for avoiding damage to each film, the alkaline solution is applied, heated and washed only on the surface opposite to the side having the coating layer under appropriate conditions. A drying alkali solution coating method is preferably used. The application in this case means that an alkaline liquid or the like is brought into contact with only the surface to be saponified, and includes application by spraying, contact with a belt containing the liquid, or the like. By adopting these methods, a separate facility and process for applying an alkaline solution are required, which is inferior to the immersion method (a) from the viewpoint of cost. On the other hand, since the alkali solution contacts only the surface to be saponified, the opposite surface can have a layer using a material that is weak against the alkali solution. For example, vapor deposition films and sol / gel films may be affected by various effects such as corrosion, dissolution, and peeling by an alkaline solution. Therefore, it is not easy to provide these layers by the dipping method. These layers can be provided without any problem because they do not come into contact with each other.
上記(a)、(b)のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に行うことができるため、反射防止フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行ってもよい。さらに、同様に巻き出した支持体からなる偏光膜との張り合わせ工程も併せて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率よく偏光板を作製することができる。 In any of the saponification methods (a) and (b), since each layer can be formed after being unwound from a roll-shaped support, a series of operations are performed in addition to the antireflection film manufacturing process. Also good. Furthermore, the polarizing plate can be produced more efficiently than when the same operation is performed on a single wafer by continuously performing the bonding process with the polarizing film composed of the unwound support.
c.ラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
上記(b)と同様に、塗布層がアルカリ液に対する耐性が不足している場合には、最終層まで形成した後に、該最終層を形成した面にラミネートフィルムを貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで、最終層を形成した面とは反対側のトリアセチルセルロース面だけを親水化することができる。この場合、鹸化処理の後にラミネートフィルムを剥離すればよい。この方法でも、塗布層へのダメージなしに、偏光板保護フィルムとして必要なだけの親水化処理を、トリアセチルセルロースフィルムの最終層を形成した面とは反対の面だけに施すことができる。上記(b)の方法と比較して、ラミネートフィルムが廃棄物と
して発生する半面、アルカリ液を塗布する特別な装置が不要である利点がある。
c. Method of saponification by protecting with a laminate film As in the case of (b) above, when the coating layer has insufficient resistance to an alkaline solution, after the final layer is formed, the laminate film is formed on the surface on which the final layer is formed. It is possible to hydrophilize only the surface of the triacetyl cellulose opposite to the surface on which the final layer is formed by immersing the substrate in the alkaline solution. In this case, the laminate film may be peeled after the saponification treatment. Even in this method, the hydrophilic treatment necessary for the polarizing plate protective film can be applied only to the surface opposite to the surface on which the final layer of the triacetyl cellulose film is formed without damaging the coating layer. Compared with the method (b), there is an advantage that a laminate film is generated as a waste, but a special device for applying an alkaline solution is unnecessary.
d.中途層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
下層まではアルカリ液に対する耐性があるが、上層がアルカリ液に対する耐性不足である場合には、下層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然る後に上層を形成することもできる。製造工程が煩雑になるが、例えば防眩層とフッ素含有ゾル/ゲル膜の低屈折率層とからなる反射防止フィルムにおいては、低屈折率層が親水基を有する場合、防眩層と低屈折率層との層間密着性が向上する利点がある。
d. Method of immersing in alkaline solution after forming up to middle layer If the lower layer is resistant to alkaline solution, but the upper layer is insufficiently resistant to alkaline solution, both sides are hydrolyzed by immersing in alkaline solution after forming up to the lower layer However, the upper layer can be formed thereafter. Although the manufacturing process is complicated, for example, in an antireflection film comprising an antiglare layer and a low refractive index layer of a fluorine-containing sol / gel film, when the low refractive index layer has a hydrophilic group, the antiglare layer and the low refractive index There is an advantage that the interlayer adhesion with the rate layer is improved.
e.予め鹸化済のトリアセチルセルロースフィルムに塗布層を形成する方法
トリアセチルセルロースフィルムを、予めアルカリ液に浸漬するなどして鹸化し、何れか一方の面に直接又は他の層を介して塗布層を形成してもよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、鹸化により親水化されたトリアセチルセルロース面と形成される塗布層との層間密着性が悪化することがある。そのような場合には、鹸化後、塗布層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処理をすることで、親水化面を除去してから塗布層を形成することで対処できる。また、塗布層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。
e. Method of forming a coating layer on a pre-saponified triacetyl cellulose film Triacetyl cellulose film is saponified by dipping in an alkaline solution in advance, and the coating layer is formed directly on one side or via another layer. It may be formed. In the case of saponification by dipping in an alkaline solution, the interlaminar adhesion between the triacetyl cellulose surface hydrophilized by saponification and the coating layer to be formed may deteriorate. In such a case, after saponification, only the surface on which the coating layer is to be formed is treated by corona discharge, glow discharge, or the like, thereby removing the hydrophilic surface and then forming the coating layer. Further, when the coating layer has a hydrophilic group, the interlayer adhesion may be good.
4−(8)偏光膜の作製
本発明の反射防止フィルムは、偏光膜の少なくとも片側に配置される保護フィルムとして使用して偏光板を製造することができる。
4- (8) Production of Polarizing Film The antireflection film of the present invention can be used as a protective film disposed on at least one side of a polarizing film to produce a polarizing plate.
その場合、一方の保護フィルムとして、本発明の反射防止フィルムを用い、他方の保護フィルムには、通常のセルロースアセテートフィルムを用いることができる。また前記の溶液製膜法で製造され、且つ10〜100%の延伸倍率でロールフィルム形態における巾方向に延伸したセルロースアセテートフィルムと、そのようなロールフィルム形態のフィルムに、前記のダイコーターなどにより塗布層を形成した本発明の反射防止フィルムとを用いることが好ましい。 In that case, the antireflection film of the present invention can be used as one protective film, and a normal cellulose acetate film can be used as the other protective film. In addition, the cellulose acetate film produced by the solution casting method and stretched in the width direction in the roll film form at a stretch ratio of 10 to 100%, and the roll coat form film, the die coater or the like. It is preferable to use the antireflection film of the present invention having a coating layer formed thereon.
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。 Examples of the polarizing film include an iodine polarizing film, a dye polarizing film using a dichroic dye, and a polyene polarizing film. The iodine polarizing film and the dye polarizing film are generally produced using a polyvinyl alcohol film.
反射防止フィルムの透明支持体やセルロースアセテートフィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配置する。 The transparent support of the antireflection film and the slow axis of the cellulose acetate film and the transmission axis of the polarizing film are arranged so as to be substantially parallel.
偏光板の生産性には保護フィルムの透湿性が重要である。偏光膜と保護フィルムは水系接着剤で貼り合わせられており、この接着剤の溶媒は保護フィルム中を拡散することで乾燥される。保護フィルムの透湿性が高ければ高いほど、乾燥は早くなり生産性は向上するが、透湿性が高くなりすぎると、液晶表示装置の使用環境(高湿下)によっては水分が偏光膜中に入ることで偏光能が低下することがある。 The moisture permeability of the protective film is important for the productivity of the polarizing plate. The polarizing film and the protective film are bonded together with an aqueous adhesive, and the solvent of this adhesive is dried by diffusing in the protective film. The higher the moisture permeability of the protective film, the faster the drying and the higher the productivity. However, if the moisture permeability becomes too high, moisture may enter the polarizing film depending on the usage environment (high humidity) of the liquid crystal display device. As a result, the polarization ability may decrease.
保護フィルムの透湿性は、透明支持体であるポリマーフィルム(及び重合性液晶化合物)の厚み、自由体積、親疎水性等により決定される。 The moisture permeability of the protective film is determined by the thickness, free volume, hydrophilicity / hydrophobicity, etc. of the polymer film (and polymerizable liquid crystal compound) which is a transparent support.
本発明の反射防止フィルムを偏光板の保護フィルムとして用いる場合、透湿性は100〜1000g/m2・24hrsであることが好ましく、300〜700g/m2・24hrsであることが更に好ましい。 The case of using the antireflection film of the present invention as a protective film of a polarizing plate, the moisture permeability is preferably from 100~1000g / m 2 · 24hrs, and more preferably a 300~700g / m 2 · 24hrs.
透明支持体の厚みは、製膜の場合、リップ流量とラインスピード、あるいは、延伸、圧
縮により調整することができる。使用する主素材により透湿性が異なるので、厚み調整により好ましい範囲にすることが可能である。
In the case of film formation, the thickness of the transparent support can be adjusted by lip flow rate and line speed, or stretching and compression. Since the moisture permeability varies depending on the main material to be used, it is possible to make a preferable range by adjusting the thickness.
透明支持体の自由体積は、製膜の場合、乾燥温度と時間により調整することができる。この場合もまた、使用する主素材により透湿性が異なるので、自由体積調整により好ましい範囲にすることが可能である。 In the case of film formation, the free volume of the transparent support can be adjusted by the drying temperature and time. Also in this case, moisture permeability varies depending on the main material to be used, so that a preferable range can be obtained by adjusting the free volume.
透明支持体の親疎水性は、添加剤により調整することができる。上記自由体積中に親水的添加剤を添加することで透湿性は高くなり、逆に疎水性添加剤を添加することで透湿性を低くすることができる。透湿性を独立に制御することにより、光学補償能を有する偏光板を安価に高い生産性で製造することが可能となる。 The hydrophilicity / hydrophobicity of the transparent support can be adjusted by an additive. The moisture permeability can be increased by adding a hydrophilic additive to the free volume, and conversely, the moisture permeability can be lowered by adding a hydrophobic additive. By independently controlling the moisture permeability, a polarizing plate having optical compensation ability can be manufactured at low cost with high productivity.
偏光膜としては、公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作製される。 As the polarizing film, a known polarizing film or a polarizing film cut out from a long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction may be used. A long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction is produced by the following method.
すなわち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ、張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に1.1〜20.0倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が3%以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、20〜70゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に45°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。 That is, a polarizing film stretched by applying tension while holding both ends of a continuously supplied polymer film by a holding means, stretched at least 1.1 to 20.0 times in the film width direction, The longitudinal movement speed difference of the holding device is within 3%, and the angle formed by the film traveling direction at the exit of the step of holding both ends of the film and the substantial stretching direction of the film is inclined by 20 to 70 °. It can be produced by a stretching method in which the traveling direction is bent with both ends of the film held. In particular, those inclined by 45 ° are preferably used from the viewpoint of productivity.
ポリマーフィルムの延伸方法については、特開2002−86554号公報の段落[0020]〜[0030]に詳しい記載がある。 The method for stretching the polymer film is described in detail in paragraphs [0020] to [0030] of JP-A-2002-86554.
更には、本発明の偏光板において、片面が反射防止フィルムであるのに対して、他方の保護フィルムが光学補償フィルムであることも好ましい態様である。
該光学補償フィルムは、液晶性化合物の配向を固定した光学異方性層を有する光学補償フィルムであることが好ましい。
さらには、該光学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物を含有してなるものであることが好ましい。
光学補償フィルム(位相差フィルム)は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開2001−100042号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
また、本発明の反射防止フィルムを有する偏光板と光学補償フィルムとを粘着剤層を介して貼り合わせた複合偏光板であっても良い。
Furthermore, in the polarizing plate of the present invention, it is also a preferable aspect that one side is an antireflection film while the other protective film is an optical compensation film.
The optical compensation film is preferably an optical compensation film having an optically anisotropic layer in which the orientation of the liquid crystalline compound is fixed.
Furthermore, it is preferable that the optically anisotropic layer contains a compound having a discotic structural unit.
The optical compensation film (retardation film) can improve the viewing angle characteristics of the liquid crystal display screen. A known film can be used as the optical compensation film, but the optical compensation film described in JP-A-2001-100042 is preferable in terms of widening the viewing angle.
Moreover, the composite polarizing plate which bonded together the polarizing plate which has the antireflection film of this invention, and the optical compensation film through the adhesive layer may be sufficient.
光学補償フィルムは粘着剤層を介して偏光板および液晶セルと貼りあわせることで、環境変化による寸度変化により発生するムラが軽減される場合がある。
粘着剤は特に限定はなく、一般的にLCDに用いられるもアクリル系の粘着剤を使用することができる。粘着剤に使用する成分は単一でも複数のアクリルポリマーを用いてもよく、素材のTgや架橋度、また粘着剤層の厚みを調整し、前述のムラを改良することができる。
When the optical compensation film is bonded to the polarizing plate and the liquid crystal cell through the pressure-sensitive adhesive layer, unevenness caused by dimensional changes due to environmental changes may be reduced.
The pressure-sensitive adhesive is not particularly limited, and an acrylic pressure-sensitive adhesive can be used although it is generally used for LCDs. A single component or a plurality of acrylic polymers may be used for the pressure-sensitive adhesive, and the above-mentioned unevenness can be improved by adjusting the Tg of the material, the degree of crosslinking, and the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer.
5.本発明の反射防止フィルムの使用形態
本発明の反射防止フィルムは、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CR
T)のような画像表示装置に用いられる。本発明に従う反射防止フィルムは、プラズマディスプレイパネル(PDP)又は陰極管表示装置(CRT)など公知のディスプレイ上に用いることができる。
5. Forms of use of the antireflection film of the present invention The antireflection film of the present invention comprises a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a cathode ray tube display (CR).
T). The antireflection film according to the present invention can be used on a known display such as a plasma display panel (PDP) or a cathode ray tube display (CRT).
5−(1)液晶表示装置
本発明の反射防止フィルム及びそれを用いた偏光板は、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、ディスプレイの最表層に用いることが好ましい。
5- (1) Liquid Crystal Display Device The antireflection film of the present invention and a polarizing plate using the same can be advantageously used for an image display device such as a liquid crystal display device, and is preferably used for the outermost layer of the display.
液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された2枚の偏光板を有し、液晶セルは、2枚の電極基板の間に液晶を担持している。さらに、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に2枚配置されることもある。 The liquid crystal display device has a liquid crystal cell and two polarizing plates arranged on both sides thereof, and the liquid crystal cell carries a liquid crystal between two electrode substrates. Furthermore, one optically anisotropic layer may be disposed between the liquid crystal cell and one polarizing plate, or two optically anisotropic layers may be disposed between the liquid crystal cell and both polarizing plates.
液晶セルは、TNモード、VAモード、OCBモード、IPSモード又はECBモードであることが好ましい。 The liquid crystal cell is preferably in TN mode, VA mode, OCB mode, IPS mode or ECB mode.
[TNモード]
TNモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに60〜120゜にねじれ配向している。
TNモードの液晶セルは、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
[TN mode]
In the TN mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystal molecules are substantially horizontally aligned when no voltage is applied, and are twisted and aligned at 60 to 120 °.
The TN mode liquid crystal cell is most frequently used as a color TFT liquid crystal display device, and is described in many documents.
[VAモード]
VAモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
[VA mode]
In a VA mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystalline molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied.
VAモードの液晶セルには、
(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2−176625号公報記載)に加えて、
(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した(MVAモードの)液晶セル{“SID97,Digest of tech.Papers”(予稿集)、28集(1997年)、p.845記載}、
(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル{「日本液晶討論会の予稿集」、p.58〜59(1998年)記載}及び、
(4)SURVAIVALモードの液晶セル(「LCDインターナショナル98」で発表)が含まれる。
In VA mode liquid crystal cell,
(1) In addition to a narrowly-defined VA mode liquid crystal cell (described in JP-A-2-176625) in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied, and substantially horizontally when a voltage is applied. ,
(2) Liquid crystal cell ("SID97, Digest of tech. Papers" (Preliminary Collection), Vol. 28 (1997), p. 845},
(3) A liquid crystal cell of a mode (n-ASM mode) in which rod-like liquid crystalline molecules are substantially vertically aligned when no voltage is applied and twisted multi-domain alignment is applied when a voltage is applied {"Preliminary Collection of Japan Liquid Crystal Society", p. 58-59 (1998) description}, and
(4) Includes SURVAVAL mode liquid crystal cells (announced at "LCD International 98").
[OCBモード]
OCBモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に(対称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルであり、米国特許第4,583,825号、同第5,410,422号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB(Optically Compensatory Bend)液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
[OCB mode]
The OCB mode liquid crystal cell is a bend alignment mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystal molecules are aligned in a substantially opposite direction (symmetrically) between the upper and lower portions of the liquid crystal cell. Nos. 825 and 5,410,422. Since the rod-like liquid crystal molecules are symmetrically aligned at the upper and lower portions of the liquid crystal cell, the bend alignment mode liquid crystal cell has a self-optical compensation function. For this reason, this liquid crystal mode is also called an OCB (Optically Compensatory Bend) liquid crystal mode. The bend alignment mode liquid crystal display device has an advantage of high response speed.
[IPSモード]
IPSモードの液晶セルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式で
あり、詳しくは“Proc.IDRC”(Asia Display ’95),p.577−580及び同p.707−710に記載されている。
[IPS mode]
The IPS mode liquid crystal cell is a type in which a nematic liquid crystal is switched by applying a lateral electric field. For details, refer to “Proc. IDRC” (Asia Display '95), p. 577-580 and p. 707-710.
[ECBモード]
ECBモードの液晶セルは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向している。ECBモードは、最も単純な構造を有する液晶表示モードの1つであって、例えば特開平5−203946号公報に詳細が記載されている。
[ECB mode]
In the ECB mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystalline molecules are substantially horizontally aligned when no voltage is applied. The ECB mode is one of the liquid crystal display modes having the simplest structure, and is described in detail in, for example, JP-A-5-203946.
5−(2)液晶表示装置以外のディスプレイ
[PDP]
プラズマディスプレイパネル(PDP)は、一般に、ガス、ガラス基板、電極、電極リード材料、厚膜印刷材料、蛍光体により構成される。ガラス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の2枚である。2枚のガラス基板には電極と絶縁層を形成する。後面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成する。2枚のガラス基板を組み立てて、その間にガスを封入する。
5- (2) Display other than liquid crystal display [PDP]
A plasma display panel (PDP) is generally composed of a gas, a glass substrate, an electrode, an electrode lead material, a thick film printing material, and a phosphor. Two glass substrates are a front glass substrate and a rear glass substrate. An electrode and an insulating layer are formed on the two glass substrates. A phosphor layer is further formed on the rear glass substrate. Two glass substrates are assembled and gas is sealed between them.
プラズマディスプレイパネル(PDP)は、既に市販されている。プラズマディスプレイパネルについては、特開平5−205643号、同9−306366号の各公報に記載がある。 Plasma display panels (PDP) are already commercially available. The plasma display panel is described in JP-A-5-205643 and JP-A-9-306366.
前面板をプラズマディスプレイパネルの前面に配置することがある。前面板はプラズマディスプレイパネルを保護するために充分な強度を備えていることが好ましい。前面板は、プラズマディスプレイパネルと隙間を置いて使用することもできるし、プラズマディスプレイ本体に直貼りして使用することもできる。 The front plate may be disposed on the front surface of the plasma display panel. The front plate preferably has sufficient strength to protect the plasma display panel. The front plate can be used with a gap from the plasma display panel, or can be used by directly pasting the front plate to the plasma display body.
プラズマディスプレイパネルのような画像表示装置では、光学フィルターとして本発明の反射防止フィルムをディスプレイ表面に直接貼り付けることができる。また、ディスプレイの前に前面板が設けられている場合は、前面板の表側(外側)又は裏側(ディスプレイ側)に光学フィルターとしての反射防止フィルムを貼り付けることもできる。 In an image display device such as a plasma display panel, the antireflection film of the present invention can be directly attached to the display surface as an optical filter. When a front plate is provided in front of the display, an antireflection film as an optical filter can be attached to the front side (outside) or the back side (display side) of the front plate.
[タッチパネル]
本発明の反射防止フィルムは、特開平5−127822号公報、特開2002−48913号公報等に記載されるタッチパネルなどに応用することができる。
[Touch panel]
The antireflection film of the present invention can be applied to touch panels described in JP-A Nos. 5-127822 and 2002-48913.
[有機EL素子]
本発明の反射防止フィルムは、有機EL素子等の保護フィルムとして用いることができる。
[Organic EL device]
The antireflection film of the present invention can be used as a protective film for organic EL elements and the like.
本発明の反射防止フィルムを有機EL素子等に用いる場合には、特開平11−335661号、特開平11−335368号、特開2001−192651号、特開2001−192652号、特開2001−192653号、特開2001−335776号、特開2001−247859号、特開2001−181616号、特開2001−181617号、特開2002−181816号、特開2002−181617号、特開2002−056976号等の各公報記載の内容を応用することができる。また、特開2001−148291号、特開2001−221916号、特開2001−231443号の各公報記載の内容と併せて用いることが好ましい。 When the antireflection film of the present invention is used for an organic EL device or the like, JP-A-11-335661, JP-A-11-335368, JP-A-2001-192651, JP-A-2001-192652, JP-A-2001-192653. JP, 2001-335776, JP 2001-247859, JP 2001-181616, JP 2001-181617, JP 2002-181816, JP 2002-181617, JP 2002-056776. It is possible to apply the contents described in each publication. Moreover, it is preferable to use together with the content of each gazette of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-148291, Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-221916, and Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-231443.
6.各種特性値
以下に本発明に関する上述した項目以外の各種測定法と、好ましい特性値を示す。
6). Various characteristic values Various measurement methods other than the above-mentioned items related to the present invention and preferable characteristic values are shown below.
6−(1)反射率
鏡面反射率及び色味の測定は、分光光度計“V−550”[日本分光(株)製]にアダプター“ARV−474”を装着して、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における出射角−5゜の鏡面反射率を測定し、450〜650nmの平均反射率を算出し、反射防止性を評価することができる。
6- (1) Reflectance Specular reflectance and color are measured by attaching an adapter “ARV-474” to a spectrophotometer “V-550” [manufactured by JASCO Corporation] and a wavelength of 380 to 780 nm. In the region, it is possible to measure the specular reflectivity at an exit angle of -5 ° at an incident angle of 5 °, calculate an average reflectivity of 450 to 650 nm, and evaluate the antireflection property.
6−(2)色味
本発明の反射防止フィルムをその保護フィルムとして用いた偏光板は、CIE標準光源D65の、波長380nmから780nmの領域における入射角5゜の入射光に対して、正反射光の色味、すなわちCIE1976L*a*b*色空間のL*、a*、b*値を求めることで色味を評価することができる。
6- (2) a polarizing plate using the antireflection film as a protective film of the color present invention, the CIE standard illuminant D 65, with respect to the incident angle of 5 ° incident light at 780nm region from the wavelength 380 nm, a positive The color can be evaluated by determining the color of the reflected light, that is, the L * , a * , and b * values of the CIE 1976 L * a * b * color space.
L*、a*、b*値は、それぞれ3≦L*≦20、−7≦a*≦7、且つ、−10≦b*≦10の範囲内であることが好ましい。この範囲とすることで、従来の偏光板で問題となっていた赤紫色から青紫色の反射光の色味が低減され、さらに3≦L*≦10、0≦a*≦5、且つ、−7≦b*≦0の範囲内とすることで大幅に低減され、液晶表示装置に適用した場合、室内の蛍光灯のような、輝度の高い外光が僅かに映り込んだ場合の色味がニュートラルで、気にならない。詳しくはa*≦7であれば赤味が強くなりすぎることがなく、a*≧−7であればシアン味が強くなりすぎることがなく好ましい。またb*≧−7であれば青味が強くなりすぎることがなく、b*≦0であれば黄味が強くなりすぎることがなく好ましい。 The L * , a * , and b * values are preferably in the ranges of 3 ≦ L * ≦ 20, −7 ≦ a * ≦ 7, and −10 ≦ b * ≦ 10, respectively. By setting it within this range, the color of reflected light from red purple to blue purple, which has been a problem with conventional polarizing plates, is reduced, and 3 ≦ L * ≦ 10, 0 ≦ a * ≦ 5, and − 7 ≦ b * ≦ 0 is greatly reduced, and when applied to a liquid crystal display device, when applied to a liquid crystal display device, such as indoor fluorescent light, the color tone when a little bright external light is reflected. Neutral, don't mind. Specifically, if a * ≦ 7, the reddishness will not be too strong, and if a * ≧ −7, the cyanishness will not be too strong. If b * ≧ −7, the bluish color does not become too strong, and if b * ≦ 0, the yellowish color does not become too strong.
更には、反射光の色味均一性は、反射光の380nm〜680nmの反射スペクトルにより求めたL*a*b*色度図上でのa*b*より、下記の数式(3)に従って色味の変化率として得ることができる。
数式(3):
Furthermore, the color uniformity of the reflected light is determined according to the following formula (3) from a * b * on the L * a * b * chromaticity diagram obtained from the reflection spectrum of the reflected light from 380 nm to 680 nm. It can be obtained as the rate of change in taste.
Formula (3):
ここで、a* max及びa* minは、それぞれa*値の最大値及び最小値;b* max及びb* minは、それぞれb*値の最大値及び最小値;a* av及びb* avは、それぞれa*値及びa*値の平均値である。色の変化率は、それぞれ30%以下であることが好ましく、20%以下であることがより好ましく、8%以下であることが最も好ましい。 Where a * max and a * min are the maximum and minimum values of a * values, respectively; b * max and b * min are the maximum and minimum values of b * values, respectively; a * av and b * av Are average values of a * value and a * value, respectively. The color change rate is preferably 30% or less, more preferably 20% or less, and most preferably 8% or less.
また、本発明の反射防止フィルムは、耐候性試験前後の色味の変化であるΔEwが15以下であることが好ましく、10以下であることがより好ましく、5以下であることが最も好ましい。この範囲において、低反射と反射光の色味の低減を両立することができるため、例えば画像表示装置の最表面に適用した場合、室内の蛍光灯のような、輝度の高い外光が僅かに映り込んだ場合の色味が、ニュートラルで、表示画像の品位が良好となり、好ましい。 In the antireflection film of the present invention, ΔE w which is a change in color before and after the weather resistance test is preferably 15 or less, more preferably 10 or less, and most preferably 5 or less. In this range, it is possible to achieve both low reflection and reduction of the color of the reflected light. For example, when applied to the outermost surface of an image display device, there is a slight amount of high-brightness external light such as an indoor fluorescent lamp. The color tone when it is reflected is neutral, and the quality of the displayed image is good, which is preferable.
上記の色味の変化ΔEwは、下記の数式(4)に従って求めることができる。
数式(4):ΔEw=[(ΔLw)2+(Δaw)2+(Δbw)2]1/2
ここで、ΔLw,Δaw,Δbwは、耐候性試験前後のL*値,a*値,b*値のそれぞれの変化量である。
The color change ΔE w can be obtained according to the following mathematical formula (4).
Formula (4): ΔE w = [(ΔL w ) 2 + (Δa w ) 2 + (Δb w ) 2 ] 1/2
Here, ΔL w , Δa w , and Δb w are respective amounts of change in the L * value, the a * value, and the b * value before and after the weather resistance test.
6−(3)透過画像鮮明度
透過画像鮮明度は、JIS K−7105に従い、スガ試験機(株)製の写像性測定器「ICM−2D型」にて、スリット幅が0.5mmの光学櫛を用いて測定できる。
6- (3) Transmission image definition The transmission image definition is optical in accordance with JIS K-7105, using an image clarity measuring instrument “ICM-2D type” manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. with a slit width of 0.5 mm. It can be measured using a comb.
透過画像鮮明度は、一般にフィルムを透過して映す画像のボケ具合を示す指標であり、この値が大きい程、フィルムを通して見る画像が鮮明で良好であることを示す。一方で表面凹凸を有する防眩層を持つフィルムでは、鮮明性が高くなるとその幾何構造に起因し「ぎらつき」と呼ばれる微小な輝度ムラを生じてしまうため、トータルの性能を考慮すると透過画像鮮明性は必ずしも高い方が良いとはいえない。本発明の反射防止フィルムの透過画像鮮明度は5〜60%であることが好ましい。より好ましくは、20〜60%であることが好ましい。 The transmitted image definition is generally an index indicating the degree of blur of an image reflected through a film, and the larger this value, the clearer and better the image viewed through the film. On the other hand, in a film with an antiglare layer having surface irregularities, if the sharpness is high, a minute brightness unevenness called “glare” occurs due to the geometric structure. It is not necessarily good that the nature is high. The transmitted image definition of the antireflection film of the present invention is preferably 5 to 60%. More preferably, it is 20 to 60%.
6−(4)表面粗さ
本発明の反射防止フィルムにおける中心線平均粗さ(Ra)など、表面粗さパラメータの測定は、JIS B−0601に準じて行うことができる。
6- (4) Surface Roughness Measurement of surface roughness parameters such as center line average roughness (Ra) in the antireflection film of the present invention can be performed according to JIS B-0601.
本発明フィルムの表面凹凸形状としては、中心線平均粗さRaが0.08〜0.30μmであることが好ましい。より好ましくは、0.08〜0.15μmである事が好ましい。
Raが0.08以上であれば充分な防眩性が得られ、0.30以下であればギラツキ、外光が反射した際の表面の白化等の問題が発生することがないので、Raはこの範囲内であることが好ましい。
また、10点平均粗さRzがRaの10倍以下、平均山谷距離Smが1〜100μm、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が0.5μm以下、中心線を基準とした平均山谷距離Smの標準偏差が20μm以下となるように設計するのが、十分な防眩性と、目視での均一なマット感が達成されるので好ましい。
As a surface uneven | corrugated shape of this invention film, it is preferable that centerline average roughness Ra is 0.08-0.30 micrometer. More preferably, it is 0.08 to 0.15 μm.
If Ra is 0.08 or more, sufficient anti-glare property is obtained, and if it is 0.30 or less, problems such as glare and whitening of the surface when external light is reflected do not occur. It is preferable to be within this range.
In addition, 10-point average roughness Rz is 10 times or less of Ra, average mountain valley distance Sm is 1 to 100 μm, standard deviation of the height of the convex part from the deepest part of the irregularities is 0.5 μm or less, and average mountain valley based on the center line It is preferable to design the standard deviation of the distance Sm to be 20 μm or less because sufficient anti-glare properties and a visually uniform mat feeling can be achieved.
6−(5)ヘイズ
本発明の反射防止フィルムのヘイズとは、JIS K−7136に規定されたヘイズ値のことであり、JIS K−7361−1で規定された光線透過率の測定法に基づき、日本電色工業(株)製の濁度計“NDH−1001DP”を用いて測定したヘイズ=(拡散光/全透過光)×100(%)として自動計測される値を用いた。
6- (5) Haze The haze of the antireflection film of the present invention is the haze value defined in JIS K-7136, based on the light transmittance measurement method defined in JIS K-7361-1. A value automatically measured as haze = (diffuse light / total transmitted light) × 100 (%) measured using a turbidimeter “NDH-1001DP” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. was used.
本発明の反射防止フィルムは、その光学特性を内部散乱に起因するヘイズ(以後、内部ヘイズと呼称する)0%〜35%であることが好ましく、より好ましくは0%〜30%、更に好ましくは0%〜10%、最も好ましくは0%〜5%である。また、表面散乱に起因するヘイズ(以後、表面ヘイズと呼称する)が5%〜15%であることが好ましく、5%〜10%であることがより好ましい。 The antireflection film of the present invention preferably has 0% to 35%, more preferably 0% to 30%, and still more preferably haze caused by internal scattering (hereinafter referred to as internal haze). It is 0% to 10%, most preferably 0% to 5%. Further, haze caused by surface scattering (hereinafter referred to as surface haze) is preferably 5% to 15%, more preferably 5% to 10%.
内部ヘイズは、例えばフィルム表面と実質的に等しい屈折率の媒体で表面凹凸による散乱をなくすことで測定できる。表面ヘイズはフィルム全体のヘイズと内部ヘイズの差として求めることができる。 The internal haze can be measured, for example, by eliminating scattering due to surface irregularities in a medium having a refractive index substantially equal to the film surface. The surface haze can be determined as the difference between the haze of the entire film and the internal haze.
6−(7)耐擦傷性
[スチールウール耐傷性評価]
「ラビングテスター」を用いて、以下の条件で擦りテストを行うことで、耐擦傷性の指標とすることができる。
評価環境条件:25℃、60%RH
擦り材:スチールウール{日本スチールウール(株)製、ゲレードNo.0000}を試料と接触するテスターの擦り先端部(1cm×1cm)に巻いて、バンド固定。
移動距離(片道):13cm、
擦り速度:13cm/秒、
荷重:500g/cm2、及び200g/cm2
先端部接触面積:1cm×1cm、
擦り回数:10往復。
擦り終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、擦り部分の傷を反射光で目視観察して、擦った部分以外との反射光量との差を観察することによって評価する。
6- (7) Scratch resistance [steel wool scratch resistance evaluation]
A rubbing test using a “rubbing tester” under the following conditions can be used as an index of scratch resistance.
Evaluation environmental conditions: 25 ° C., 60% RH
Rubbing material: steel wool {made by Nippon Steel Wool Co., Ltd. 0000} is wound around the rubbing tip (1 cm × 1 cm) of a tester that comes into contact with the sample, and the band is fixed.
Travel distance (one way): 13cm
Rubbing speed: 13 cm / second,
Load: 500 g / cm 2 and 200 g / cm 2
Tip contact area: 1 cm × 1 cm,
Number of rubbing: 10 round trips.
Evaluation is performed by applying oil-based black ink to the back side of the rubbed sample, visually observing the scratch on the rubbed portion with reflected light, and observing the difference in the amount of reflected light from other than the rubbed portion.
[消しゴム擦り耐傷性評価]
ラビングテスターを用いて、以下の条件で擦りテストを行うことで、耐擦傷性の指標とすることができる。
評価環境条件:25℃、60%RH
擦り材:プラスチック消しゴム{(株)トンボ鉛筆製“MONO”}を試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)に固定。
移動距離(片道):4cm、
擦り速度:2cm/秒、
荷重:500g/cm2
先端部接触面積:1cm×1cm、
擦り回数:100往復。
擦り終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、こすり部分の傷を反射光で目視観察し、擦った部分以外との反射光量との差によって評価する。
[Eraser scuff resistance evaluation]
By using a rubbing tester and conducting a rubbing test under the following conditions, it can be used as an index of scratch resistance.
Evaluation environmental conditions: 25 ° C., 60% RH
Rubbing material: A plastic eraser {"MONO" manufactured by Dragonfly Pencil Co., Ltd.} is fixed to the tip (1 cm × 1 cm) of the tester that comes into contact with the sample.
Travel distance (one way): 4cm
Rubbing speed: 2 cm / second,
Load: 500 g / cm 2
Tip contact area: 1 cm × 1 cm,
Number of rubbing: 100 reciprocations.
An oil-based black ink is applied to the back side of the rubbed sample, the scratches on the rubbing portion are visually observed with reflected light, and evaluation is made based on the difference in the amount of reflected light from other than the rubbed portion.
[テーパー試験]
JIS K−5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量から擦傷性を評価することができる。この摩耗量が少ないほど好ましい。
[Taper test]
In the Taber test according to JIS K-5400, the scratch resistance can be evaluated from the wear amount of the test piece before and after the test. The smaller the amount of wear, the better.
6−(8)硬度
[鉛筆硬度]
本発明の反射防止フィルムの硬度は、JIS K−5400に従う鉛筆硬度試験で評価することができる。鉛筆硬度はH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
6- (8) Hardness [Pencil hardness]
The hardness of the antireflection film of the present invention can be evaluated by a pencil hardness test according to JIS K-5400. The pencil hardness is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher.
[表面弾性率]
本発明の反射防止フィルムにおける表面弾性率は、微小表面硬度計{(株)フィッシャー・インスツルメンツ製:「フィッシャースコープH100VP−HCU」}を用いて求めた値である。具体的には、ダイヤモンド製の四角錐圧子(先端対面角度;136°)を使用し、押し込み深さが1μmを超えない範囲で、適当な試験荷重下での押し込み深さを測定し、除荷重時の荷重と変位の変化から求められる弾性率である。
[Surface elastic modulus]
The surface elastic modulus in the antireflection film of the present invention is a value determined using a micro surface hardness meter {manufactured by Fisher Instruments: “Fischer Scope H100VP-HCU”}. Specifically, using a diamond pyramid indenter (tip-to-face angle: 136 °), the indentation depth is measured under an appropriate test load within a range where the indentation depth does not exceed 1 μm. This is the elastic modulus obtained from the change in load and displacement over time.
[ユニバーサル硬度]
また上記の微小表面硬度計を用いて、表面硬度をユニバーサル硬度として求めることもできる。ユニバーサル硬度は四角錐圧子の試験荷重下での押し込み深さを測定し、試験荷重をその試験荷重で生じた圧痕の幾何学的形状から計算される圧痕の表面積で割った値である。上記の表面弾性率とユニバーサル硬度の間には、正の相関を有することが知られている。
[Universal hardness]
Further, the surface hardness can be obtained as a universal hardness by using the micro surface hardness tester. The universal hardness is a value obtained by measuring the indentation depth of a quadrangular pyramid indenter under a test load and dividing the test load by the surface area of the indent calculated from the geometric shape of the indent generated by the test load. It is known that there is a positive correlation between the surface elastic modulus and the universal hardness.
本発明で定義する架橋性ポリマーのユニバーサル硬度とは、ガラス板上に硬化形成した約20〜30μm厚の該架橋性ポリマー膜について、フィッシャーインストルメンツ(株)製の微小硬度計“H100”により、以下測定手順で求めたユニバーサル硬度(N/mm2)によって表わされる。 The universal hardness of the crosslinkable polymer defined in the present invention is a microhardness meter “H100” manufactured by Fisher Instruments Co., Ltd. It is represented by the universal hardness (N / mm 2 ) determined by the measurement procedure below.
架橋性ポリマーの他に、必要な触媒や架橋剤、重合開始剤等を含んだ固形分濃度約25質量%の塗布液を、硬化後の膜厚が約20〜30μmになるように適切なバーコーターを選択してTOSHINRIKO.CO.LTD製、(26mm×76mm×1.2mm)
磨きスライドガラス板上に塗布する。架橋性ポリマーが熱硬化性の場合には、膜が十分硬化される熱硬化条件を予め求めておき(一例として125℃、10分)、架橋性ポリマーが電離放射線硬化性の場合にも、同様に膜が十分硬化される硬化条件を予め求めておく(一例として酸素濃度12ppm、UV照射量750mJ/cm2)。それぞれの膜に対して、荷重を0から4mNまで連続的に増加させ、基材のガラス板硬度の影響がでない1/10膜厚を最大として、円錐ダイヤモンド圧子を押し込んだ際の各荷重Fに対する窪み面積A(mm2)から求めたF/AのN=6測定平均値からユニバーサル硬度を算出する。
In addition to the crosslinkable polymer, apply a coating solution with a solid content concentration of about 25% by mass containing the necessary catalyst, crosslinking agent, polymerization initiator, etc. to an appropriate bar so that the film thickness after curing is about 20-30 μm. Select the coater and select TOSHINRIKO. CO. Made by LTD (26mm x 76mm x 1.2mm)
Apply onto a polished glass slide. When the crosslinkable polymer is thermosetting, the thermosetting conditions for sufficiently curing the film are obtained in advance (as an example, 125 ° C., 10 minutes), and the same applies to the case where the crosslinkable polymer is ionizing radiation curable. The curing conditions for sufficiently curing the film are determined in advance (as an example, the oxygen concentration is 12 ppm, the UV irradiation amount is 750 mJ / cm 2 ). For each film, the load is continuously increased from 0 to 4 mN, the film thickness of the base plate is not affected by 1/10 film thickness, and the cone diamond indenter is pressed against each load F. Universal hardness is calculated from N = 6 measurement average value of F / A determined from the indentation area A (mm 2 ).
[ナノインデンテーションによる表面硬度]
また、特開2004−354828号公報記載のナノインデンテーションによって表面硬度をもとめることができ、この場合の硬度としては2GPa〜4GPa、ナノインデンテーション弾性率は10GPa〜30GPaであることが好ましい。
[Surface hardness by nanoindentation]
Further, the surface hardness can be obtained by nanoindentation described in JP-A-2004-354828. In this case, the hardness is preferably 2 GPa to 4 GPa, and the nanoindentation elastic modulus is preferably 10 GPa to 30 GPa.
6−(9)防汚性試験
[マジック拭き取り性]
反射防止フィルムをガラス面上に粘着剤で固定し、25℃、60RH%の条件下で黒「マジックインキ」(「マッキー極細」){商品名:ゼブラ(株)製}のペン先(細)にて直径5mmの円形を3周書き込み、5秒後に10枚重ねに折り束ねた「ベンコット」{商品名:旭化成(株)}で「ベンコット」の束がへこむ程度の荷重で20往復拭き取る。「マジックインキ」跡が拭き取りで消えなくなるまで、この書き込みと拭き取りを同一の条件で繰り返し、拭き取りできた回数により防汚性を評価することができる。
消えなくなるまでの回数は5回以上であることが好ましく、10回以上であることが更に好ましい。
6- (9) Antifouling property test [Magic wiping property]
An anti-reflection film is fixed on the glass surface with an adhesive, and a black “magic ink” (“Mckey extra fine”) {trade name: manufactured by Zebra Co., Ltd.} nib (narrow) under the conditions of 25 ° C. and 60 RH%. Write a circle of 5 mm in diameter 3 times, and “Bencot” {Brand name: Asahi Kasei Co., Ltd.}, which was folded 10 times after 5 seconds, and wiped it back and forth 20 times with a load enough to dent the “Bencot” bundle. This writing and wiping are repeated under the same conditions until the “magic ink” mark disappears by wiping, and the antifouling property can be evaluated by the number of times of wiping.
The number of times until it no longer disappears is preferably 5 times or more, and more preferably 10 times or more.
黒「マジックインキ」については「マジックインキ No.700(M700−T1 黒)極細」を用い、試料の上に直径1cmの円を描いて塗りつぶし、24時間放置後に「ベンコット」で擦り、「マジックインキ」が拭き取れるかどうかによっても評価することができる。 For black “Magic Ink”, use “Magic Ink No. 700 (M700-T1 Black) Extra Fine”, paint a circle with a diameter of 1 cm on the sample, leave it for 24 hours and rub it with “Bencott”. It can also be evaluated by whether or not "" can be wiped off.
6−(10)表面張力
本発明で測定、評価する表面張力は、機能層を形成する塗布液の表面張力を、温度25℃の環境下で表面張力計{協和界面科学(株)製、“KYOWA CBVP SURFACE TENSIOMETER A3”}を用いて測定することができる。
6- (10) Surface tension The surface tension measured and evaluated in the present invention is determined by measuring the surface tension of the coating solution for forming the functional layer under the environment of a temperature of 25 ° C. (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., “ KYOWA CBVP SURFACE TENSIOTER A3 "} can be used for measurement.
6−(11)接触角
接触角計[“CA−X”型接触角計、協和界面科学(株)製]を用い、乾燥状態(20℃、65%RH)で、液体として純水を使用して直径1.0mmの液滴を針先に作り、これをフィルムの表面に接触させてフィルム上に液滴を作った。フィルムと液体とが接する点における、液体表面に対する接線とフィルム表面がなす角で、液体を含む側の角度を接触角とする。
6- (11) Contact angle Using a contact angle meter [“CA-X” type contact angle meter, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.], using pure water as a liquid in a dry state (20 ° C., 65% RH) Then, a droplet having a diameter of 1.0 mm was formed on the needle tip, and this was brought into contact with the surface of the film to form a droplet on the film. The angle formed between the tangent to the liquid surface and the film surface at the point where the film and the liquid are in contact with each other is defined as the contact angle.
6−(12)表面自由エネルギー
表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」{(株)リアライズ社出版、1989.12.10発行}に記載のように、接触角法、湿潤熱法、及び吸着法により求めることができる。本発明のフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。具体的には、表面エネルギーが既知である2種の溶液をセルロースアシレートフィルムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。
6- (12) Surface free energy The surface energy is determined by the contact angle method, the wet heat method, and the adsorption as described in “Basics and Applications of Wetting” {published by Realize Inc., 1989.12.10}. It can be determined by law. In the case of the film of the present invention, it is preferable to use a contact angle method. Specifically, two kinds of solutions having known surface energies are dropped on a cellulose acylate film, and at the intersection of the surface of the droplet and the surface of the film, the angle formed between the tangent line drawn on the droplet and the film surface, The surface angle of the film can be calculated by defining the angle containing the droplet as the contact angle.
本発明の反射防止フィルムの表面自由エネルギー(γsv:単位、mN/m)とは、D
.K.Owensの“J.Appl.Polym.Sci.”、13巻、p.1741(1969年)を参考に、反射防止フィルム上で実験的に求めた純水H2Oとヨウ化メチレンCH2I2のそれぞれの接触角θH2O、θCH2I2から、以下の連立方程式a,b{数式(5)}より求めた値γsdとγshの和として表される値γsv(=γsd+γsh)で定義される、反射防止フィルムの表面張力を表す。このγsvが小さく、低表面自由エネルギーであるほど表面の撥き性が高く、一般に防汚性に優れる。
数式(5):
The surface free energy (γs v : unit, mN / m) of the antireflection film of the present invention is D
. K. Owens, “J. Appl. Polym. Sci.”,
Formula (5):
a.1+cosθH2O=2√γsd(√γH2O d/γH2O v)+2√γsh(√γH2O h/γH2O v)
b.1+cosθCH2I2= 2√γsd(√γCH2I2 d/γCH2I2 v)+2√γsh(√γCH2I2 h/γCH2I2 v)
γH2O d=21.8、γH2O h=51.0、γH2O v=72.8、
γCH2I2 d=49.5、γCH2I2 h=1.3、γCH2I2 v=50.8
a. 1 + cosθ H2O = 2√γs d ( √γ H2O d / γ H2O v) + 2√γs h (√γ H2O h / γ H2O v)
b. 1 + cosθ CH2I2 = 2√γs d ( √γ CH2I2 d / γ CH2I2 v) + 2√γs h (√γ CH2I2 h / γ CH2I2 v)
γ H2O d = 21.8, γ H2O h = 51.0, γ H2O v = 72.8,
γ CH2I2 d = 49.5, γCH2I2 h = 1.3, γCH2I2 v = 50.8
接触角の測定は、反射防止フィルムを25℃、60%RHの条件下で1時間以上調湿した後に、協和界面科学(株)製、自動接触角計「CA−V150型」を用いて、2μLの液滴をフィルム上に滴下してから30秒後に接触角を求めた。 The contact angle is measured using an automatic contact angle meter “CA-V150 type” manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. after conditioning the antireflection film at 25 ° C. and 60% RH for 1 hour or more. The contact angle was determined 30 seconds after 2 μL of the droplet was dropped on the film.
本発明のフィルムの表面自由エネルギーは25mN/m以下であることが好ましく、20mN/m以下であることが特に好ましい。 The surface free energy of the film of the present invention is preferably 25 mN / m or less, and particularly preferably 20 mN / m or less.
6−(13)カール
カールの測定は、JIS K−7619−1988の「写真フィルムのカールの測定法」中の方法Aのカール測定用型板を用いて行われる。
測定条件は25℃、60%RH、調湿時間10時間である。
6- (13) Curl The curl is measured using the template for curl measurement of Method A in “Measuring Method of Curling of Photographic Film” of JIS K-7619-1988.
The measurement conditions are 25 ° C., 60% RH, and a humidity control time of 10 hours.
本発明における反射防止フィルムは、カールを以下の数式(6)で表したときの値が、−15〜+15の範囲に入っていることが好ましく、−12〜+12の範囲がより好ましく、さらに好ましくは−10〜+10である。このときのカールの試料内測定方向は、ウェッブ形態での塗布の場合、基材の搬送方向について測ったものである。
数式(6):カール=1/R
Rは曲率半径(m)
In the antireflection film of the present invention, the value when curl is expressed by the following formula (6) is preferably in the range of −15 to +15, more preferably in the range of −12 to +12. Is -10 to +10. In this case, the measurement direction of the curl in the sample is measured in the conveyance direction of the base material in the case of application in a web form.
Formula (6): Curl = 1 / R
R is radius of curvature (m)
これは、フィルムの製造、加工、市場での取り扱いで、ひび割れ、膜はがれを起こさないための重要な特性である。カール値が前記範囲にあり、カールが小さいことが好ましい。ここで、カールが「+」とはフィルムの塗設側が湾曲の内側になるカールをいい、「−」とは塗設側が湾曲の外側になるカールをいう。 This is an important characteristic for preventing cracks and film peeling during film production, processing, and market handling. It is preferable that the curl value is in the above range and the curl is small. Here, the curl “+” means a curl in which the coating side of the film is inside the curve, and “−” means a curl in which the coating side is outside the curve.
また、本発明におけるフィルムは、上記したカール測定法に基づいて、相対湿度のみを80%と10%に変更したときの各カール値の差の絶対値が、24〜0が好ましく、15〜0がさらに好ましく、8〜0が最も好ましい。これはさまざまな湿度下でフィルムを貼り付けたときのハンドリング性や剥がれ、ひび割れに関係する特性である。 In the film according to the present invention, the absolute value of the difference between the curl values when the relative humidity is changed to 80% and 10% based on the curl measurement method is preferably 24 to 0, and preferably 15 to 0. Is more preferable, and 8 to 0 is most preferable. This is a property related to handling, peeling and cracking when films are attached under various humidity.
6−(14)密着性評価
反射防止フィルムの層間、又は支持体と塗布層との密着性は以下の方法により評価することができる。
6- (14) Evaluation of adhesion The adhesion between the layers of the antireflection film or between the support and the coating layer can be evaluated by the following method.
塗布層を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦11本、横11本の切り込みを1mm間隔で入れて合計100個の正方形の升目を刻み、日東電工(株)製のポリエ
ステル粘着テープ“NO.31B”を圧着し、24時間放置後引き剥がす試験を同じ場所で繰り返し3回行い、剥がれの有無を目視で観察する。100個の升目中、剥がれが10升以内であることが好ましく、2升以内であることが更に好ましい。
On the surface having the coating layer, 11 square and 11 horizontal cuts are made at 1 mm intervals in a grid pattern with a cutter knife, and a total of 100 square squares are engraved, and polyester adhesive made by Nitto Denko Corporation. The tape “NO.31B” is pressure-bonded, and left for 24 hours and then peeled off. The test is repeated three times at the same place, and the presence or absence of peeling is visually observed. Of 100 squares, peeling is preferably within 10 mm, and more preferably within 2 mm.
6−(15)脆性試験(耐ひび割れ性)
耐ひび割れ性は、反射防止フィルムの塗布、加工、裁断、粘着剤の塗布、種々の物体への貼りつけ等のハンドリングで割れ欠陥を出さないための重要な特性である。
6- (15) Brittleness test (crack resistance)
Crack resistance is an important characteristic for preventing crack defects by handling such as application of antireflection film, processing, cutting, application of pressure-sensitive adhesive, and adhesion to various objects.
反射防止フィルム試料を35mm×140mmに切断し、温度25℃、60%RHの条件で2時間放置した後、筒状に丸めたときにひび割れが発生し始める曲率直径を測定し、表面のひび割れを評価することができる。
Cut the antireflection film sample to 35mm x 140mm, leave it for 2 hours under the conditions of
本発明のフィルムの耐ひび割れ性は、塗布層側を外側にして丸めたときに、ひび割れが発生する曲率直径が、50mm以下であることが好ましく、40mm以下がより好ましく、30mm以下が最も好ましい。エッジ部のひび割れについては、ひび割れがないか、ひび割れの長さが平均で1mm未満であることが好ましい。 The crack resistance of the film of the present invention is preferably 50 mm or less, more preferably 40 mm or less, and most preferably 30 mm or less, when the film is rolled with the coating layer side facing outward. About the crack of an edge part, it is preferable that there is no crack or the length of a crack is less than 1 mm on average.
6−(16)塵埃除去性
本発明の反射防止フィルムをモニターに貼り付け、モニター表面に塵埃(布団、衣服の繊維屑)を振りかけ、クリーニングクロスで塵埃を拭き取り、塵埃除去性を評価することができる。
6回の拭取りで完全に取除けることが好ましく、3回以内の拭き取りで塵埃が完全に取り除けることが更に好ましい。
6- (16) Dust removability The antireflection film of the present invention is attached to a monitor, dust (futon, fiber waste from clothing) is sprinkled on the monitor surface, dust is wiped off with a cleaning cloth, and dust removability is evaluated. it can.
It is preferable to remove completely by wiping 6 times, and it is more preferable to remove dust completely by wiping within 3 times.
6−(17)液晶表示装置の性能
以下に、本発明の反射防止フィルムを表示装置上に用いたときの特性の評価方法と好ましい状況について記載する。
6- (17) Performance of liquid crystal display device Hereinafter, a method for evaluating characteristics and a preferable situation when the antireflection film of the present invention is used on a display device will be described.
液晶表示装置に設けられている視認側の偏光板を剥がし、代わりに本発明の反射防止フィルム又は偏光板を、塗布面が視認側に、且つ偏光板の透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように粘着剤を介して貼り付ける。500Lxの明室にて、液晶表示装置を黒表示にして、種々の視角から目視により以下の各種特性を評価することができる。 The polarizing plate on the viewing side provided in the liquid crystal display device is peeled off. Instead, the antireflection film or polarizing plate of the present invention is applied to the product with the coating surface on the viewing side and the transmission axis of the polarizing plate attached to the product. Affix with an adhesive to match the plate. In a 500 Lx bright room, the liquid crystal display device is displayed in black, and the following various characteristics can be evaluated visually from various viewing angles.
具体的な市販の液晶表示装置としては、例えばTNモードでは“Syncmaster172X”(Samsung社製)、“MDT191S”{三菱電機(株)製}、“TH−15TA2”{松下電器産業(株)製}など;VAモードでは“LC15S4”{シャープ(株)製};IPSモードでは“TH32LX−500”{松下電器(株)製};OCBモードでは“VT23XD1”{(株)ナナオ製}などが挙げられる。 As a specific commercially available liquid crystal display device, in the TN mode, for example, “Syncmaster 172X” (manufactured by Samsung), “MDT191S” {manufactured by Mitsubishi Electric Corporation}, “TH-15TA2” {manufactured by Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.} VA mode “LC15S4” {manufactured by Sharp Corporation}; IPS mode “TH32LX-500” {Matsushita Electric Co., Ltd.}; OCB mode “VT23XD1” {manufactured by Nanao Corporation}, etc. .
[画像のムラ、色味評価]
作製した液晶表示装置を用いて、黒表示(L1)時のムラや色味変化を複数の観察者により目視評価する。
10人が評価し、ムラ、左右色味変化、温湿度による色味変化、白ボケを認識できるものが3人以下であることが好ましく、1人も認識できないことがより好ましい。
また、外光の映り込みは蛍光灯を用いて行い、目視にて映り込みの変化を相対的に評価することができる。
[Evaluation of image unevenness and color]
Using the manufactured liquid crystal display device, unevenness and color change during black display (L1) are visually evaluated by a plurality of observers.
It is preferable that three people or less can recognize the unevenness, left-right color change, color change due to temperature and humidity, and white blur, and more preferably no one can recognize it.
In addition, reflection of external light is performed using a fluorescent lamp, and a change in reflection can be relatively evaluated visually.
[黒表示の光漏れ]
液晶表示装置正面からの方位方向45゜、極角方向70゜における黒表示の光漏れ率を測定する。光漏れ率が0.4%以下であることが好ましく、0.1%以下であることがよ
り好ましい。
[Light leakage of black display]
The light leakage rate of black display in the azimuth direction 45 ° and polar angle direction 70 ° from the front of the liquid crystal display device is measured. The light leakage rate is preferably 0.4% or less, and more preferably 0.1% or less.
[コントラスト、及び視野角]
コントラスト及び視野角は、測定機“EZ−Contrast 160D”(ELDIM社製)を用いて、コントラスト比及び左右方向(セルのラビング方向と直交方向)の視野角(コントラスト比が10以上となる角度範囲の広さ)を調べることができる。
[Contrast and viewing angle]
Contrast and viewing angle are measured using the measuring instrument “EZ-Contrast 160D” (manufactured by ELDIM). The contrast ratio and the viewing angle in the left-right direction (direction orthogonal to the rubbing direction of the cell) Can be checked.
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特別の断りのない限り、「部」及び「%」は質量基準である。 In order to describe the present invention in detail, examples will be described below, but the present invention is not limited thereto. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.
<反射防止フィルムの作製>
〔含フッ素ポリマーの合成〕
合成例1:含フッ素ポリマー(1)の合成
<Preparation of antireflection film>
[Synthesis of fluoropolymer]
Synthesis Example 1: Synthesis of fluorinated polymer (1)
内容量100mLのステンレス製撹拌機付オートクレーブに、酢酸エチル40mL、ヒドロキシエチルビニルエーテル(HEVE)14.7g及び過酸化ジラウロイル0.55gを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらに、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)25gをオートクレーブ中に導入して、65℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が65℃に達した時点の圧力は、0.53Mpa(5.4kg/cm2)であった。該温度を保持し8時間反応を続け、圧力が0.31MPa(3.2kg/cm2)に達した時点で加熱を止め、放冷した。 In a 100 mL stainless steel autoclave with a stirrer, 40 mL of ethyl acetate, 14.7 g of hydroxyethyl vinyl ether (HEVE) and 0.55 g of dilauroyl peroxide were charged, and the inside of the system was deaerated and replaced with nitrogen gas. Furthermore, 25 g of hexafluoropropylene (HFP) was introduced into the autoclave and the temperature was raised to 65 ° C. The pressure when the temperature in the autoclave reached 65 ° C. was 0.53 Mpa (5.4 kg / cm 2 ). The reaction was continued for 8 hours while maintaining the temperature, and when the pressure reached 0.31 MPa (3.2 kg / cm 2 ), the heating was stopped and the mixture was allowed to cool.
室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶媒を除去することにより、沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解して、ヘキサンから2回再沈殿を行うことによって、残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー28gを得た。次に該ポリマーの20gをN,N−ジメチルアセトアミド100mLに溶解、氷冷下アクリル酸クロリド11.4gを滴下した後、室温で10時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることにより下記構造式の含フッ素ポリマー(1)を19g得た。得られたポリマーの屈折率は1.421であった。
含フッ素ポリマー(1):
When the internal temperature dropped to room temperature, unreacted monomers were driven out, the autoclave was opened, and the reaction solution was taken out. The obtained reaction solution was poured into a large excess of hexane, and the solvent was removed by decantation to take out the precipitated polymer. Further, this polymer was dissolved in a small amount of ethyl acetate and reprecipitated twice from hexane to completely remove the residual monomer. After drying, 28 g of polymer was obtained. Next, 20 g of the polymer was dissolved in 100 mL of N, N-dimethylacetamide, and 11.4 g of acrylic acid chloride was added dropwise under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 10 hours. Ethyl acetate was added to the reaction solution, washed with water, the organic layer was extracted and concentrated, and the resulting polymer was reprecipitated with hexane to obtain 19 g of a fluoropolymer (1) having the following structural formula. The resulting polymer had a refractive index of 1.421.
Fluorine-containing polymer (1):
〔反射防止フィルムの作製〕
実施例1−1〜1−5及び比較例1−1〜1−7
[ゾル液aの調製]
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン{“KBM−5103”、信越化学工業(株)製}100部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3部を加え混合したのち、イオン交換水30部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は1600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
[Preparation of antireflection film]
Examples 1-1 to 1-5 and Comparative Examples 1-1 to 1-7
[Preparation of Sol Solution a]
Add a stirrer, a reactor equipped with a reflux condenser, 120 parts of methyl ethyl ketone, 100 parts of acryloyloxypropyltrimethoxysilane {"KBM-5103", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.}, 3 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate After mixing, 30 parts of ion exchange water was added and reacted at 60 ° C. for 4 hours, and then cooled to room temperature to obtain sol solution a. The mass average molecular weight was 1600, and among the components higher than the oligomer component, the component having a molecular weight of 1000 to 20000 was 100%. Further, from the gas chromatography analysis, the raw material acryloyloxypropyltrimethoxysilane did not remain at all.
[防眩層用塗布液(BLA)の調製]
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタクリレー
トの混合物{“DPHA”、日本化薬(株)製}31gをメチルイソブチルケトン38gで希釈した。更に、重合開始剤{「イルガキュア184」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製}を1.5g添加し、混合攪拌した。続いてフッ素系表面改質剤(FP−149)0.04g、シランカップリング剤{“KBM−5103”、信越化学工業(株)製}6.2gを加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は1.520であった。
[Preparation of coating solution for antiglare layer (BLA)]
31 g of a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate {“DPHA”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.} was diluted with 38 g of methyl isobutyl ketone. Furthermore, 1.5 g of a polymerization initiator {“Irgacure 184”, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.} was added and mixed and stirred. Subsequently, 0.04 g of a fluorine-based surface modifier (FP-149) and a silane coupling agent {“KBM-5103”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.} 6.2 g were added. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet rays was 1.520.
最後に、この溶液にポリトロン分散機にて10000rpmで20分間分散した平均粒径3.5μmの架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子(共重合組成比=50/50、屈折率1.540)の30%シクロヘキサノン分散液を21.0g加えて完成液とした。得られた混合液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して防眩層用塗布液(BLA)を調製した。 Finally, 30 of crosslinked poly (acryl-styrene) particles having an average particle diameter of 3.5 μm (copolymerization composition ratio = 50/50, refractive index 1.540) dispersed in this solution for 20 minutes at 10,000 rpm with a Polytron disperser. 21.0 g of% cyclohexanone dispersion was added to make a finished solution. The obtained mixed solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare a coating solution for antiglare layer (BLA).
[防眩層用塗布液(BLB)の調製]
防眩層用塗布液(BLA)の調製において、架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子の30%シクロヘキサノン分散液の添加量を21.0gから14.0gに変更した以外は防眩層用塗布液(BLA)と同様にして、防眩層用塗布液(BLB)を調製した。
[Preparation of coating solution for antiglare layer (BLB)]
In the preparation of the coating solution for antiglare layer (BLA), the coating solution for antiglare layer (except that the addition amount of the 30% cyclohexanone dispersion of crosslinked poly (acryl-styrene) particles was changed from 21.0 g to 14.0 g ( In the same manner as for BLA), an antiglare layer coating solution (BLB) was prepared.
[防眩層用塗布液(BLC)の調製]
防眩層用塗布液(BLA)の調製において、架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子の30%シクロヘキサノン分散液の添加量を21.0gから10.0gに変更した以外は防眩層用塗布液(BLA)と同様にして、防眩層用塗布液(BLC)を調製した。
[Preparation of coating solution for antiglare layer (BLC)]
In the preparation of the coating solution for antiglare layer (BLA), the coating solution for antiglare layer (except for the addition amount of 30% cyclohexanone dispersion of crosslinked poly (acryl-styrene) particles from 21.0 g to 10.0 g) In the same manner as for BLA), an antiglare layer coating solution (BLC) was prepared.
[防眩層用塗布液(BLD)の調製]
防眩層用塗布液(BLA)の調製において、架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子の30%シクロヘキサノン分散液の添加量を21.0gから17.0gに変更した以外は防眩層用塗布液(BLA)と同様にして、防眩層用塗布液(BLD)を調製した。
[Preparation of antiglare layer coating solution (BLD)]
In the preparation of the coating solution for antiglare layer (BLA), the coating solution for antiglare layer (except that the addition amount of 30% cyclohexanone dispersion of crosslinked poly (acryl-styrene) particles was changed from 21.0 g to 17.0 g ( In the same manner as in BLA), an antiglare layer coating solution (BLD) was prepared.
[防眩層用塗布液(BLE)の調製]
防眩層用塗布液(BLA)の調製において、架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子の30%シクロヘキサノン分散液の添加量を21.0gから28.0gに変更した以外は防眩層用塗布液(BLA)と同様にして、防眩層用塗布液(BLE)を調製した。
[Preparation of antiglare layer coating solution (BLE)]
In the preparation of the coating solution for antiglare layer (BLA), the coating solution for antiglare layer (except that the addition amount of the 30% cyclohexanone dispersion of crosslinked poly (acryl-styrene) particles was changed from 21.0 g to 28.0 g) In the same manner as in (BLA), an antiglare layer coating solution (BLE) was prepared.
[防眩層用塗布液(BLF)の調製]
防眩層用塗布液(BLA)の調製において、平均粒径3.5μmの架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子(共重合組成比=50/50、屈折率1.540)の30%シクロヘキサノン分散液を21.0g用いる代わりに、平均粒径5μmの架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子(共重合組成比=50/50、屈折率1.540)の30%シクロヘキサノン分散液を28.0g用いた以外は防眩層用塗布液(BLA)と同様にして、防眩層用塗布液(BLF)を調製した。
[Preparation of coating solution for antiglare layer (BLF)]
30% cyclohexanone dispersion of crosslinked poly (acryl-styrene) particles (copolymerization composition ratio = 50/50, refractive index 1.540) having an average particle size of 3.5 μm in the preparation of the coating solution for antiglare layer (BLA) Except that 28.0 g of a 30% cyclohexanone dispersion of crosslinked poly (acryl-styrene) particles (copolymerization composition ratio = 50/50, refractive index 1.540) having an average particle size of 5 μm was used instead of 21.0 g of Prepared an antiglare layer coating solution (BLF) in the same manner as the antiglare layer coating solution (BLA).
[低屈折率層用塗布液(LLA)の調整]
ポリシロキサン及び水酸基を含有する屈折率1.44の熱架橋性含フッ素ポリマー{“JTA113”、固形分濃度6%、JSR(株)製}13g、コロイダルシリカ分散液“MEK−ST−L”{(商品名)、平均粒径45nm、固形分濃度30%、日産化学(株)製}1.3g、前記ゾル液a0.6g、及びメチルエチルケトン5g、シクロヘキサノン0.6gを添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層塗布液(LLA)を調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.45であった。
[Adjustment of coating solution for low refractive index layer (LLA)]
Thermally crosslinkable fluorine-containing polymer having a refractive index of 1.44 containing polysiloxane and hydroxyl group {“JTA113”, solid content concentration 6%, manufactured by JSR Corporation} 13 g, colloidal silica dispersion “MEK-ST-L” { (Trade name), average particle size 45 nm,
[低屈折率層用塗布液(LLB)の調整]
前記低屈折率層用塗布液(LLA)において、コロイダルシリカ分散液“MEK−ST−L”を1.3g用いる代わりに、中空シリカゾル(屈折率1.31、平均粒径60nm、固形分濃度20%)を1.95g用いた以外は、低屈折率層用塗布液(LLA)と同様にして、低屈折率層用塗布液(LLB)を作成した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.39であった。
[Adjustment of coating solution for low refractive index layer (LLB)]
Instead of using 1.3 g of the colloidal silica dispersion “MEK-ST-L” in the coating liquid for low refractive index layer (LLA), hollow silica sol (refractive index 1.31, average particle size 60 nm,
[低屈折率層用塗布液(LLC)の調製]
前記合成例1で作製した含フッ素ポリマー(1)15.2g、コロイダルシリカ分散液{シリカ、“MEK−ST”の粒子径違い品、平均粒径45nm、固形分濃度30%、日産化学工業(株)製}1.4g、反応性シリコーン“X−22−164B”{(商品名)、信越化学工業(株)製}0.3g、ゾル液a7.3g、光重合開始剤{「イルガキュア907」(商品名)、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製}0.76g、メチルエチルケトン301g、シクロヘキサノン9.0gを添加、攪拌の後、孔径5μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗布液(LLC)を調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.44であった。
[Preparation of coating solution for low refractive index layer (LLC)]
15.2 g of the fluorinated polymer (1) produced in Synthesis Example 1 above, colloidal silica dispersion {silica, “MEK-ST” with different particle size, average particle size 45 nm,
[反射防止フィルム(1F)の作製(実施例1−1)]
(1)防眩層の塗設
80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム{“TAC−TD80U”、富士写真フイルム(株)製}をロール形態で巻き出して、下記の装置構成及び塗布条件で示されるダイコート法によって防眩層用塗布液(BLA)を塗布し、溶剤を乾燥した後、さらに窒素パージ下で160W/cmの「空冷メタルハライドランプ」{アイグラフィックス(株)製}を用いて、照射量90mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ6μmの防眩性を有する防眩層を形成し、巻き取った。
[Preparation of Antireflection Film (1F) (Example 1-1)]
(1) Coating of anti-glare layer An 80 μm thick triacetyl cellulose film {“TAC-TD80U”, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.} is unwound in roll form and shown in the following apparatus configuration and coating conditions. After applying the antiglare layer coating solution (BLA) by a die coating method, drying the solvent, and further using a 160 W / cm “air-cooled metal halide lamp” {manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.} under a nitrogen purge, The coating layer was cured by irradiating with an ultraviolet ray with an irradiation amount of 90 mJ / cm 2 to form an antiglare layer having an antiglare property having a thickness of 6 μm and wound up.
基本条件:スロットダイ13は、上流側リップランド長IUPが0.5mm、下流側リップランド長ILOが50μmで、スロット16の開口部のウェブ走行方向における長さが150μm、スロット16の長さが50mmのものを使用した。上流側リップランド18aとウェブWの隙間を、下流側リップランド18bとウェブWの隙間よりも50μm長くし(以下、オーバーバイト長さ50μmと称する)、下流側リップランド18bとウェブWとの隙間GLを50μmに設定した。また、減圧チャンバー40のサイドプレート40bとウェブWとの隙間GS、及びバックプレート40aとウェブWとの隙間GBはともに200μmとした。それぞれの塗布液の液物性に合わせて、塗布速度=50m/分、ウエット塗布量=17ml/m2で塗布を行い、その後30℃で15秒間、90℃で20秒乾燥した。また、間塗布幅:1300mm、有効幅:1280mmとした。
Basic conditions: The slot die 13 has an upstream lip land length I UP of 0.5 mm, a downstream lip land length I LO of 50 μm, a length of the opening of the
(2)低屈折率層の塗設
上記防眩層用塗布液(BLA)を塗布して防眩層を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、前記低屈折率層用塗布液(LLA)を上記の塗布条件にて塗布速度=40m/分、ウエット塗布量=5ml/m2で塗布を行った。、120℃で150秒乾燥の後、更に140℃で8分乾燥させてから窒素パージにより酸素濃度0.1%の雰囲気下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量900mJ/cm2の紫外線を照射し、厚さ100nmの低屈折率層を形成し、巻き取って反射防止フィルムを作製した。
(2) Coating of low refractive index layer The triacetyl cellulose film coated with the antiglare layer coating solution (BLA) and uncoated with the antiglare layer is unwound again, and the low refractive index layer coating solution ( LLA) was applied under the above-mentioned application conditions at a coating speed of 40 m / min and a wet coating amount of 5 ml / m 2 . After drying at 120 ° C. for 150 seconds and further drying at 140 ° C. for 8 minutes, an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) with 240 W / cm in an atmosphere with an oxygen concentration of 0.1% by nitrogen purge. Then, an ultraviolet ray having an irradiation amount of 900 mJ / cm 2 was irradiated to form a low refractive index layer having a thickness of 100 nm, and wound to prepare an antireflection film.
(3)反射防止フィルムの鹸化処理
上記低屈折率層の製膜後、この反射防止フィルム試料について、以下の処理を行った。
1.5モル/Lの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、55℃に保温した。0.01モル/Lの希硫酸水溶液を調製し、35℃に保温した。作製した反射防止フィルムを、この水
酸化ナトリウム水溶液に2分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に1分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を120℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済みの防眩性反射防止フィルム(1F)を作製した。
(3) Saponification treatment of antireflection film After the formation of the low refractive index layer, the antireflection film sample was subjected to the following treatment.
A 1.5 mol / L aqueous sodium hydroxide solution was prepared and kept at 55 ° C. A 0.01 mol / L dilute sulfuric acid aqueous solution was prepared and kept at 35 ° C. The produced antireflection film was immersed in this aqueous sodium hydroxide solution for 2 minutes, and then immersed in water to sufficiently wash away the aqueous sodium hydroxide solution. Subsequently, after being immersed in the above-mentioned dilute sulfuric acid aqueous solution for 1 minute, it was immersed in water to sufficiently wash away the dilute sulfuric acid aqueous solution. Finally, the sample was thoroughly dried at 120 ° C.
In this manner, a saponified antiglare antireflection film (1F) was produced.
(実施例1−2及び1−3)
実施例1−1において、防眩層用塗布液(BLA)を用いる代わりに、防眩層用塗布液(BLB)又は(BLC)を用いた以外は実施例1−1と同様にして防眩層を形成し、更に実施例1−1と同様にして低屈折率層の塗設、鹸化処理を行い、防眩性反射防止フィルム(2F)及び(3F)を作製した。
(Examples 1-2 and 1-3)
In Example 1-1, instead of using the antiglare layer coating solution (BLA), antiglare was applied in the same manner as in Example 1-1 except that the antiglare layer coating solution (BLB) or (BLC) was used. A layer was formed, and a low refractive index layer was applied and saponified in the same manner as in Example 1-1 to produce antiglare antireflection films (2F) and (3F).
(実施例1−4)
実施例1−2において、低屈折率用塗布液(LLA)を用いる代わりに、低屈折率用塗布液(LLB)を用いた以外は実施例1−2と同様にして防眩性反射防止フィルム(4F)を作製した。
(Example 1-4)
In Example 1-2, instead of using the coating solution for low refractive index (LLA), an antiglare antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1-2 except that the coating solution for low refractive index (LLB) was used. (4F) was produced.
(実施例1−5)
実施例1−2において、低屈折率用塗布液(LLA)を用いる代わりに、低屈折率用塗布液(LLC)を用い、塗布後の乾燥条件を100℃、2分間に変更した以外は実施例1−2と同様にして防眩性反射防止フィルム(5F)を作製した。
(Example 1-5)
In Example 1-2, instead of using the coating solution for low refractive index (LLA), the coating solution for low refractive index (LLC) was used, and the drying conditions after coating were changed to 100 ° C. for 2 minutes. An antiglare antireflection film (5F) was produced in the same manner as in Example 1-2.
(比較例1−1)
実施例1−1において、防眩層用塗布液(BLA)を用いる代わりに、防眩層用塗布液(BLD)を用い、ウエット塗布量=10mL/m2した以外は実施例1−1と同様にして防眩層を形成し、更に実施例1−1と同様にして低屈折率層の塗設、鹸化処理を行い、防眩性反射防止フィルム(1rF)を作製した。
(Comparative Example 1-1)
In Example 1-1, instead of using the coating solution for antiglare layer (BLA), the coating solution for antiglare layer (BLD) was used, and the wet coating amount was 10 mL / m 2. An antiglare layer was formed in the same manner, and a low refractive index layer was applied and saponified in the same manner as in Example 1-1 to produce an antiglare antireflection film (1rF).
(比較例1−2)
実施例1−1において、防眩層用塗布液(BLA)を用いる代わりに、防眩層用塗布液(BLE)を用い、ウエット塗布量=15mL/m2した以外は実施例1−1と同様にして防眩層を形成し、更に実施例1−1と同様にして低屈折率層の塗設、鹸化処理を行い、防眩性反射防止フィルム(2rF)を作製した。
(Comparative Example 1-2)
Example 1-1 and Example 1-1 except that instead of using the antiglare layer coating solution (BLA), the antiglare layer coating solution (BLE) was used and the wet coating amount was 15 mL / m 2. An antiglare layer was formed in the same manner, and a low refractive index layer was applied and saponified in the same manner as in Example 1-1 to produce an antiglare antireflection film (2rF).
(比較例1−3)
実施例1−1において、防眩層用塗布液(BLA)を用いる代わりに、防眩層用塗布液(BLF)を用い、ウエット塗布量=15mL/m2した以外は実施例1−1と同様にして防眩層を形成し、更に低屈折率用塗布液(LLA)を用いる代わりに、低屈折率用塗布液(LLB)を用いた以外は実施例1−1と同様にして低屈折率層の塗設、鹸化処理を行い、防眩性反射防止フィルム(3rF)を作製した。
(Comparative Example 1-3)
Example 1-1 is different from Example 1-1 except that the coating liquid for antiglare layer (BLF) is used instead of the coating liquid for antiglare layer (BLA) and the wet coating amount is 15 mL / m 2. Similarly, an antiglare layer is formed, and the low refractive index is the same as in Example 1-1 except that the low refractive index coating liquid (LLB) is used instead of using the low refractive index coating liquid (LLA). The rate layer was coated and saponified to produce an antiglare antireflection film (3rF).
(比較例1−4)
実施例1−2において、低屈折率層を塗設しなかったこと以外は実施例1−2と同様にして防眩性反射防止フィルムを作製し、更に実施例1−1と同様にして鹸化処理を行い、防眩性反射防止フィルム(4rF)を作製した。
(Comparative Example 1-4)
In Example 1-2, an antiglare antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1-2 except that the low refractive index layer was not applied, and further saponified in the same manner as in Example 1-1. Processing was performed to produce an antiglare antireflection film (4rF).
(比較例1−5及び1−6)
市販の反射防止フィルム{“CVL02”、富士写真フイルム(株)製}を比較例1−5の反射防止フィルム(5F)として、広視野角反射防止フィルム{“CVU01”、富士写真フイルム(株)製、を比較例1−6の反射防止フィルム(6F)として評価した。
(Comparative Examples 1-5 and 1-6)
A commercially available antireflection film {“CVL02” manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.} was used as the antireflection film (5F) of Comparative Example 1-5, and a wide viewing angle antireflection film {“CVU01”, Fuji Photo Film Co., Ltd. The product was evaluated as an antireflection film (6F) of Comparative Example 1-6.
(比較例1−7)
さらに、多層構成の「クリアAR」を使用した市販の液晶表示装置から表面の偏光板を剥離し、これを比較例1−7の偏光板試料(7rP)として評価した。
(Comparative Example 1-7)
Furthermore, the polarizing plate on the surface was peeled off from a commercially available liquid crystal display device using “Clear AR” having a multilayer structure, and this was evaluated as a polarizing plate sample (7rP) of Comparative Example 1-7.
[防眩性反射防止フィルムの評価]
得られたフィルム試料について、以下の項目の評価を行った。結果を表1、表2に示す。
[Evaluation of antiglare antireflection film]
About the obtained film sample, the following items were evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2.
(1)反射強度測定
図1の(a)及び(b)に示したように、約5mmφの白色平行光を反射防止フィルム試料Aの表面にあて、入射光方向Eとフィルムの法線方向Dを含む面内Cで受光部Gの角度を0.1°刻みで連続的に変化させ、の反射光強度の角度依存性を測定した。測定装置は(株)村上色彩技術研究所製自動変角光度計「GP−5型」を用いた。
(1) Reflection intensity measurement As shown in FIGS. 1A and 1B, white parallel light of about 5 mmφ is applied to the surface of the antireflection film sample A, and the incident light direction E and the normal direction D of the film The angle dependence of the reflected light intensity was measured by continuously changing the angle of the light-receiving portion G in increments of 0.1 ° within the in-plane C including. As a measuring device, an automatic variable angle photometer “GP-5 type” manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd. was used.
測定結果の一例を図2に示す。横軸はフィルム法線に対する受光部の角度θで縦軸はピーク強度で規格化した相対反射強度Rrel(θ)である。反射率算出を行う際、試料のない状態で入射光を直接測定したときの光源光量I0を100%強度とした。従って、それぞれの反射角度における反射強度をI(θ)とすると、反射率R(θ)はI(θ)/I0として計算できる。反射角度θに対する反射強度の変化率|dR(θ)/dθ|は0.1°刻みで測定されるデータの両側10点平均値からその傾きaの絶対値として算出した。更に相対反射率Rrel(θ)は正反射となる反射角度における反射率Rs{図2では、正反射角度は5°であり、Rs=R(5)である}に対するそれぞれの反射角度における反射率の比として計算し、即ちRrel=R(θ)/Rsとなる。なお、使用した光源の|dR(θ)/dθ|は1.2であった。 An example of the measurement result is shown in FIG. The horizontal axis represents the angle θ of the light receiving portion with respect to the film normal, and the vertical axis represents the relative reflection intensity R rel (θ) normalized by the peak intensity. When calculating the reflectance, the light source quantity I 0 when the incident light was directly measured in the absence of the sample was set to 100% intensity. Accordingly, when the reflection intensity at each reflection angle is I (θ), the reflectance R (θ) can be calculated as I (θ) / I 0 . The rate of change in reflection intensity with respect to the reflection angle θ, | dR (θ) / dθ |, was calculated as the absolute value of the slope a from the average value of 10 points on both sides of the data measured in increments of 0.1 °. Further, the relative reflectivity R rel (θ) is the reflectivity R s at the reflection angle at which regular reflection occurs (in FIG. 2, the regular reflection angle is 5 °, and R s = R (5)}. Calculated as the ratio of the reflectance at R i , ie R rel = R (θ) / R s . In addition, | dR (θ) / dθ | of the light source used was 1.2.
(2)平均反射率
フィルムの裏面をサンドペーパーで祖面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、表面側を、分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における鏡面分光反射率を測定した。結果には450〜650nmの鏡面反射率の算術平均値を用いた。
(2) Average reflectance After the back surface of the film is sandpapered, it is treated with black ink, and the surface side is removed using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation) with the back surface reflection eliminated. , The specular spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured in the wavelength region of 380 to 780 nm. The arithmetic average value of the specular reflectance of 450-650 nm was used for the result.
(3)ヘイズ
以下の測定により、得られたフィルムの全ヘイズ(H)、内部ヘイズ(Hi)、表面ヘイズ(Hs)を測定した。
(i)JIS K−7136に準じて得られたフィルムの全ヘイズ値(H)を測定する。(ii)得られたフィルムの低屈折率層側の表面を、低屈折率層と同じ屈折率となる媒体で浸し、さらにカバーガラスを載せ、表面ヘイズの影響をなくした状態で測定した値をフィルムの内部ヘイズ(Hi)とした。
(iii)上記(i)で測定した全ヘイズ(H)から上記(ii)で算出した内部ヘイズ(Hi)を引いた値をフィルムの表面ヘイズ(Hs)として算出した。
(3) Haze following measurement, the total haze of the obtained film (H), internal haze (H i), and measuring the surface haze (H s).
(I) The total haze value (H) of the film obtained according to JIS K-7136 is measured. (Ii) A value measured in a state where the surface on the low refractive index layer side of the obtained film is immersed in a medium having the same refractive index as that of the low refractive index layer, and a cover glass is further placed thereon, and the influence of surface haze is eliminated. The internal haze ( Hi ) of the film was used.
(Iii) The value obtained by subtracting the internal haze (H i ) calculated in (ii) from the total haze (H) measured in (i) above was calculated as the surface haze (H s ) of the film.
(4)透過画像鮮明度
透過画像鮮明度は、JIS K−7105に従い、スガ試験機(株)製の写像性測定器「ICM−2D型」にて、スリット幅が0.5mmの光学櫛を用いて測定した。
(4) Transmission image definition In accordance with JIS K-7105, the transmission image definition was measured with an optical comb having a slit width of 0.5 mm using an image clarity measuring device “ICM-2D type” manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. And measured.
(5)中心線平均粗さ
JIS B−0601に準じて、得られた反射防止フィルムの中心線平均粗さRaを測定した。
(5) Centerline average roughness The centerline average roughness Ra of the obtained antireflection film was measured according to JIS B-0601.
(6)防眩性
得られた反射防止フィルムに、ルーバーなしのむき出し蛍光灯(8000cd/m2)を45°の角度から映し、−45°の方向から観察した際の反射像のボケの程度を、以下の基準で評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない :◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる :○
蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる :△
蛍光灯がほとんどぼけない :×
(6) Anti-glare property The degree of blurring of the reflected image when an exposed anti-louvered fluorescent lamp (8000 cd / m 2 ) is projected from a 45 ° angle on the obtained anti-reflection film and observed from the −45 ° direction. Was evaluated according to the following criteria.
I do not know the outline of the fluorescent lamp at all: ◎
Slightly understand the outline of the fluorescent lamp: ○
The fluorescent lamp is blurred, but the outline can be identified: △
Fluorescent lamp is hardly blurred: ×
(7)白味
得られた反射防止フィルムの、防眩性反射防止層を塗設した面とは反対側の面を、粘着剤を介して黒色のアクリル樹脂ボードに貼り付け、500Lxの明室下にて黒が黒く見える度合い(すっきりとした黒のままで見えるか、散乱光によりグレーっぽく見えるか)を目視にて観察した。実施例、比較例のサンプルについて一番白く見えるものを1点、黒色アクリル板を10点として、10段階の相対評価を行った。
(7) Whiteness The surface of the obtained antireflection film opposite to the surface coated with the antiglare antireflection layer is attached to a black acrylic resin board with an adhesive, and a 500 Lx bright room The degree to which black appears black at the bottom (whether it looks neat black or looks gray due to scattered light) was visually observed. For the samples of Examples and Comparative Examples, 10 points of relative evaluation were performed with 1 point being the whitest and 10 points being the black acrylic plate.
得られた防眩性反射防止フィルムの評価結果を、それぞれの反射防止フィルムの構成と共に表10及び11に示す。 The evaluation results of the obtained antiglare antireflection film are shown in Tables 10 and 11 together with the structure of each antireflection film.
<偏光板の作製>
実施例2−1〜2−5及び比較例2−1〜2−6
80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム{“TAC−TD80U”、富士写真フイルム(株)製}を、1.5モル/L、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬したあと中和、水洗したものと、実施例1で作製した防眩性反射防止フィルム{鹸化処理済み:実施例1−1〜1−5の反射防止フィルム試料(1F〜5F)及び、比較例1−1〜1−6の反射防止フィルム試料(1rF〜6rF)}を、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光膜の両面に接着、保護して偏光板を作製した。これらを、それぞれ実施例2−1{偏光板試料(1P)}〜実施例2−5{偏光板試料(5P)}及び、比較例2−1{偏光板試料(1rP)}〜比較例2−6{偏光板試料(6rP)}とした。
<Preparation of polarizing plate>
Examples 2-1 to 2-5 and comparative examples 2-1 to 2-6
An 80 μm-thick triacetyl cellulose film {“TAC-TD80U”, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was immersed in a 1.5 mol / L, 55 ° C. NaOH aqueous solution for 2 minutes, and then neutralized and washed with water. And antiglare antireflection film prepared in Example 1 {saponified: antireflection film samples (1F to 5F) of Examples 1-1 to 1-5 and Comparative Examples 1-1 to 1-6 The antireflective film sample (1rF-6rF)} was bonded to and protected on both surfaces of a polarizing film prepared by adsorbing iodine to polyvinyl alcohol and stretching it to prepare a polarizing plate. These are respectively Example 2-1 {polarizing plate sample (1P)} to Example 2-5 {polarizing plate sample (5P)} and comparative example 2-1 {polarizing plate sample (1rP)} to comparative example 2. It was set to -6 {polarizing plate sample (6rP)}.
比較例2−7
多層構成の「クリアAR」を使用した市販の液晶表示装置から表面の偏光板を剥離し、これを比較例2−7の偏光板試料(7rP)として評価した。
Comparative Example 2-7
The polarizing plate on the surface was peeled off from a commercially available liquid crystal display device using “Clear AR” having a multilayer structure, and this was evaluated as a polarizing plate sample (7rP) of Comparative Example 2-7.
比較例2−8
また、上記の鹸化処理済みのトリアセチルセルロースフィルムを両面の保護フィルムに用いて偏光板を作製し、比較偏光板試料(8rP)とした。
Comparative Example 2-8
Further, a polarizing plate was prepared using the saponified triacetyl cellulose film as a protective film on both sides, and used as a comparative polarizing plate sample (8rP).
[偏光板の評価]
液晶テレビ{“LC20S4”、シャープ(株)製}の視認側の偏光板の一部を剥がし、次いで実施例2−1〜2−5及び比較例2−1〜2−6で、それぞれ作製した偏光板(1P)〜(5P)並びに、(1rP)〜(6rP)、(7rP)及び(8rP)のそれぞれを、剥がした偏光板の代わりとして貼り換えたものを作製した。得られた表示装置について、以下の項目の評価を行った。を表12に示す。
[Evaluation of polarizing plate]
Part of the polarizing plate on the viewing side of the liquid crystal television {“LC20S4”, manufactured by Sharp Corporation} was peeled off, and then produced in Examples 2-1 to 2-5 and Comparative Examples 2-1 to 2-6, respectively. Polarizing plates (1P) to (5P) and (1rP) to (6rP), (7rP), and (8rP) were prepared by replacing each of the polarizing plates as a peeled polarizing plate. About the obtained display apparatus, the following items were evaluated. Is shown in Table 12.
また、この液晶テレビの視認側の偏光板を、反射防眩機能のない偏光板に貼替えて暗室
での表示特性を評価したところ、正面輝度は500cd/m2、正面コントラストは550、極角30°および極角60°でのコントラストは全方位に渡りそれぞれ、180以上および25以上であった。
Further, the polarizing plate on the viewing side of the liquid crystal television was replaced with a polarizing plate having no anti-glare function, and the display characteristics in the dark room were evaluated. The front luminance was 500 cd / m 2 , the front contrast was 550, and the polar angle. The contrast at 30 ° and polar angle 60 ° was 180 or more and 25 or more in all directions, respectively.
(1)画像ボケ
LCDパネルの白地に、10ポイントの大きさの明朝体で「薔薇」の文字を一行当たり25文字、10行連続して表示した状態で、防眩性のない偏光板を用いて同様の表示をした時と比較した際の、文字の輪郭のボケ(画像ボケ)の程度を以下の基準で目視評価した。
ボケが全く気にならず、好ましい :◎
ボケがわずかに気になるが、比較的好ましい :○
ボケが若干気になる :△
ボケが目立ち、好ましくない :×
(1) Image blur A non-glare-proofing polarizing plate is displayed on a white background of the LCD panel, with a 10-point size Ming Dynasty “rose” in 25 lines per line and 10 lines in a row. The degree of blur of the outline of the character (image blur) when compared with the case where the same display was used was visually evaluated according to the following criteria.
Bokeh is not worried at all and is preferable: ◎
Bokeh is slightly worrisome, but relatively preferable: ○
I am a little worried about the blur: △
Blur is conspicuous and undesirable: ×
(2)映り込み
実施例2及び比較例2で得られた液晶テレビに、ルーバーなしのむき出し蛍光灯(8000cd/m2)を45°の角度から映し、−45°の方向から観察した際の蛍光灯の映り込みの程度を以下の基準で評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない程、映り込まない :◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかるが、殆ど映り込まない :○
蛍光灯はぼけているが、若干写り込む :△
蛍光灯が完全に写り込む :×
(2) Reflection On the liquid crystal televisions obtained in Example 2 and Comparative Example 2, an exposed fluorescent lamp (8000 cd / m 2 ) without a louver was projected from an angle of 45 ° and observed from a direction of −45 °. The degree of reflection of the fluorescent lamp was evaluated according to the following criteria.
Not reflected so much that the outline of the fluorescent lamp is not understood: ◎
The outline of the fluorescent lamp is slightly understood, but it is hardly reflected: ○
Fluorescent light is blurred but slightly reflected: △
Fluorescent light is completely reflected: ×
(3)白ボケ
実施例2及び比較例2で得られた液晶TVを、天井部に蛍光灯のある500Lxの明室に設置し、黒表示及び低階調な画像を含む動画を表示させ、白ボケの評価を行った。黒表示の場合は黒が黒く見える度合いを、動画表示の場合は画像がくっきりと見えるか(明室コントラスト)を観点に以下の基準で目視観察した。
黒表示が黒く見え、動画ともくっきりと見える :◎
黒表示、動画ともにやや甘く見える :○
黒表示での白味が目立ち、動画画像もすっきりしない :△
動画画像のメリハリが明らかにない :×
(3) White blur The liquid crystal TV obtained in Example 2 and Comparative Example 2 is installed in a 500 Lx bright room with a fluorescent lamp on the ceiling, and a moving image including a black display and a low gradation image is displayed. Evaluation of white blur was performed. In the case of black display, the degree of black looks black, and in the case of moving image display, whether the image is clearly visible (light room contrast) was visually observed according to the following criteria.
The black display looks black and the video looks clear: ◎
Both black display and video look a little sweet: ○
The whiteness in black display is conspicuous, and the moving image is not refreshing.
The sharpness of the video image is not clear: ×
市販の対角32インチの液晶テレビ{“W32−L7000”、(株)日立製作所製}、及び対角37インチの液晶テレビ{“LC−37AD5”、シャープ(株)製}についても同様の試料を作製し視認性評価を行ったところ、表12に示す対角20インチの液晶表示装置における評価と同様の結果を得た。 Similar samples for commercially available 32 inch diagonal LCD TV {"W32-L7000", manufactured by Hitachi, Ltd.} and 37 inch diagonal LCD television {"LC-37AD5", manufactured by Sharp Corporation} When the visibility was evaluated, the same results as those in the liquid crystal display device with a diagonal of 20 inches shown in Table 12 were obtained.
表12に示された結果より、以下のことが明らかである。
本発明の防眩性反射防止フィルムは、20インチ以上の液晶テレビに適用した際、高い防眩性と画像ボケ、白ボケの改善とを両立することができる。
From the results shown in Table 12, the following is clear.
The antiglare antireflection film of the present invention can achieve both high antiglare property and improvement of image blur and white blur when applied to a liquid crystal television of 20 inches or more.
<液晶表示装置での防眩性反射防止フィルムの評価>
実施例3−1
透過型TN液晶セル(“Syncmaster172X”、Samsung社製)の、液晶セルのバックライト側の偏光板として、バックライト側の保護フィルムにプレーンタック{“TD−80UL”、富士フイルム(株)製}を、液晶セル側の保護フィルムに視野角拡大フィルム{「ワイドビューフィルムSA 128」、富士写真フイルム(株)製
}を用い、視認側の偏光板として、視認側最表面の保護フィルムに実施例1−2で作製された防眩性反射防止フィルム(2F)を、液晶セル側の保護フィルムとして視野角拡大フィルム{「ワイドビューフィルムSA 128」、富士写真フイルム(株)製}を用いたところ、上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
<Evaluation of anti-glare antireflection film in liquid crystal display>
Example 3-1.
As a polarizing plate on the backlight side of the liquid crystal cell of the transmission type TN liquid crystal cell (“Syncmster 172X”, manufactured by Samsung), a plain tack {“TD-80UL”, manufactured by FUJIFILM Corporation) is used as a protective film on the backlight side. Is applied to the protective film on the viewing side as the polarizing plate on the viewing side, using a viewing angle widening film {"Wide View Film SA 128" manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.} When the anti-glare antireflection film (2F) produced in 1-2 is used as a protective film on the liquid crystal cell side, a viewing angle widening film {“Wide View Film SA 128”, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.} is used. Thus, a liquid crystal display device having a very wide viewing angle in the vertical and horizontal directions, extremely excellent visibility, and high display quality was obtained.
実施例3−2
透過型TN液晶セル{“RDT191S”、三菱電機(株)製}の、液晶セルのバックライト側の偏光板として、バックライト側の保護フィルムにプレーンタック{“TD−80UL”、富士フイルム(株)製}を、液晶セル側の保護フィルムに視野角拡大フィルム{「ワイドビューフィルムSA 128」、富士写真フイルム(株)製}を用い、視認側の偏光板として、視認側最表面の保護フィルムに実施例1−2で作製された防眩性反射防止フィルム(2F)を、液晶セル側の保護フィルムとして視野角拡大フィルム{「ワイドビューフィルムSA 128」、富士写真フイルム(株)製}を用いたところ、上下左右の視野角が非常に広く、正面からの輝度が高く鮮やかな表示が得られるにも関わらず、明室でも白ボケがなく、暗所でも非常に高コントラストであり、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
Example 3-2
As a polarizing plate on the backlight side of the liquid crystal cell of the transmissive TN liquid crystal cell {“RDT191S”, manufactured by Mitsubishi Electric Corporation}, a plain tack {“TD-80UL”, FUJIFILM Corporation )} Is used as a protective film on the liquid crystal cell side, and a viewing angle widening film {“Wide View Film SA 128”, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.} is used as a polarizing plate on the viewing side, and the protective film on the outermost surface on the viewing side The anti-glare antireflection film (2F) produced in Example 1-2 was used as a protective film on the liquid crystal cell side, and a viewing angle widening film {“Wide View Film SA 128”, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.}. When used, the vertical and horizontal viewing angles are very wide, and the brightness from the front is high and a vivid display is obtained. High a contrast, extremely excellent in visibility, liquid crystal display device with high display quality was obtained.
A:反射防止フィルムA
B:反射防止フィルムAの表面
C:反射防止フィルムの法線方向Dと光の入射方向Eを含む面
D:反射防止フィルムの法線方向
E:光の入射方向
F:光源
G:検出器受光部
A: Antireflection film A
B: Surface of the antireflection film A C: Surface including the normal direction D of the antireflection film and the light incident direction E D: Normal direction of the antireflection film E: Light incident direction F: Light source G: Detector light reception Part
(1):支持体
(2):ハードコート層
(3):中屈折率層
(4):高屈折率層
(5):低屈折率層
(1): Support (2): Hard coat layer (3): Medium refractive index layer (4): High refractive index layer (5): Low refractive index layer
10:コーター
11:バックアップロール
W:ウェブ
13:スロットダイ
14:塗布液
14a:ビード
14b:塗膜
15:ポケット
16:スロット
16a:スロット開口部
17:先端リップ
18:ランド
18a:上流側リップランド
18b:下流側リップランド
IUP:上流側リップランド18aのランド長さ
ILO:下流側リップランド18bのランド長さ
LO:オーバーバイト長さ(下流側リップランド18bと上流側リップランド18aのウェブWとの距離の差)
GL:先端リップ17とウェブWの隙間(下流側リップランド18bとウェブWの隙間)
10: Coater 11: Backup roll W: Web 13: Slot die 14: Coating liquid 14a:
G L : gap between the
30:従来のスロットダイ
31a:上流側リップランド
31b:下流側リップランド
32:ポケット
33:スロット
40:減圧チャンバー
40a:バックプレート
40b:サイドプレート
40c:ネジ
30: Conventional slot die 31a:
GB:バックプレート40aとウェブWの間の隙間
GS:サイドプレート40bとウェブWの間の隙間
G B : Gap between the
Claims (17)
[ここで、R(θ)は反射角度θにおける反射率である。] An antireflection film having at least an antiglare layer and a low refractive index layer on a transparent support, wherein substantially parallel light is incident on the film surface, and the film includes a normal line and an incident direction, When the reflection intensity due to the surface unevenness of the film is measured, the maximum value of the change amount of reflectance | dR (θ) / dθ | with respect to the reflection angle θ is 0.005 or more and less than 0.03. Antireflection film.
[Where R (θ) is the reflectance at the reflection angle θ. ]
[ここで、Rrel(θ)は正反射方向の反射率Rsで規格化した相対反射率であり、Rrel(θ)=R(θ)/Rsであり、R(θ)は反射角度θにおける反射率である。] An antireflection film having at least an antiglare layer and a low refractive index layer on a transparent support, wherein substantially parallel light is incident on the film surface, and the film includes a normal line and an incident direction, When the reflection intensity due to the surface irregularities of the film was measured, the maximum amount of change of relative reflectance R rel (θ) with respect to the reflection angle θ | dR rel (θ) / dθ | An antireflective film characterized by being
[Where R rel (θ) is the relative reflectance normalized by the reflectance R s in the regular reflection direction, R rel (θ) = R (θ) / R s , and R (θ) is the reflection It is a reflectance at an angle θ. ]
請求項10又は請求項11に記載の偏光板。 The protective film arranged opposite to the antireflection film among the two protective films is an optical compensation film having at least an optically anisotropic layer in which the orientation of the liquid crystalline compound is fixed. The polarizing plate as described in.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005362053A JP5102958B2 (en) | 2005-12-15 | 2005-12-15 | Method for producing antireflection film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005362053A JP5102958B2 (en) | 2005-12-15 | 2005-12-15 | Method for producing antireflection film |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007163971A true JP2007163971A (en) | 2007-06-28 |
JP5102958B2 JP5102958B2 (en) | 2012-12-19 |
Family
ID=38246903
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005362053A Active JP5102958B2 (en) | 2005-12-15 | 2005-12-15 | Method for producing antireflection film |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5102958B2 (en) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009020288A (en) * | 2007-07-11 | 2009-01-29 | Sony Corp | Antiglare film, method of manufacturing the same, polarizer, and display device |
US7567383B2 (en) | 2007-02-14 | 2009-07-28 | Sony Corporation | Anti-glare film, method for manufacturing the same, and display device using the same |
WO2009107634A1 (en) * | 2008-02-29 | 2009-09-03 | 住友化学株式会社 | Antiglare polarizer and image display employing the same |
WO2011031087A2 (en) * | 2009-09-10 | 2011-03-17 | 동우화인켐 주식회사 | Anti-glare film, and polarizing plate and display device including same |
KR101243717B1 (en) | 2009-05-20 | 2013-03-13 | 주식회사 엘지화학 | Touch window having improved color gamut and/or visiblility |
JP2014133802A (en) * | 2013-01-09 | 2014-07-24 | Dic Corp | Protective and tacky-adhesive film, screen panel, and touch panel |
WO2015076409A1 (en) * | 2013-11-25 | 2015-05-28 | 住友化学株式会社 | Optical member and display device |
JP2017008146A (en) * | 2015-06-17 | 2017-01-12 | 株式会社ダイセル | Polyorganosilsesquioxane, hard coat film, adhesive sheet, laminate and device |
JP2017008144A (en) * | 2015-06-17 | 2017-01-12 | 株式会社ダイセル | Polyorganosilsesquioxane, curable composition, hard coat film and cured article |
KR20170031640A (en) * | 2015-09-11 | 2017-03-21 | 주식회사 엘지화학 | Anti-reflective filmand display device |
KR20180047569A (en) * | 2016-10-31 | 2018-05-10 | 삼성에스디아이 주식회사 | Polarizing plate and liquid crystal display apparatus comprising the same |
KR20180102967A (en) * | 2017-03-08 | 2018-09-18 | 삼성에스디아이 주식회사 | Polarizing plate and optical display apparatus comprising the same |
JP2022535318A (en) * | 2019-03-28 | 2022-08-08 | アクティーア・ソシエテ・アノニム | Photoplethysmographic sensor with high signal-to-noise ratio |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4534387B2 (en) | 2001-03-19 | 2010-09-01 | ソニー株式会社 | Recording apparatus and method, reproducing apparatus and method, recording medium, program, and disk medium |
JP4300727B2 (en) | 2001-10-09 | 2009-07-22 | ソニー株式会社 | DISC RECORDING MEDIUM, DISC DRIVE DEVICE, REPRODUCTION METHOD, AND DISC MANUFACTURING METHOD |
KR102707559B1 (en) * | 2021-09-30 | 2024-09-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | Ink composition and display apparatus with a layer made by the composition |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002365410A (en) * | 2001-06-06 | 2002-12-18 | Sumitomo Chem Co Ltd | Anti-glare optical film |
JP2004061853A (en) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Nitto Denko Corp | Antidazzle film and display device using the same |
JP2004125958A (en) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Anti-dazzle reflection preventive film, polarizer, and liquid crystal display device using the same |
JP2005148623A (en) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Antireflection film |
JP2005195819A (en) * | 2004-01-06 | 2005-07-21 | Daicel Chem Ind Ltd | Antiglare film |
JP2005257786A (en) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Antireflection film and its manufacturing method |
JP2005275391A (en) * | 2004-02-27 | 2005-10-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Antireflection film and manufacturing method, polarizing plate, and liquid crystal display device using the same |
JP2005301246A (en) * | 2004-03-15 | 2005-10-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Antireflection film, polarizing plate, and liquid crystal display |
-
2005
- 2005-12-15 JP JP2005362053A patent/JP5102958B2/en active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002365410A (en) * | 2001-06-06 | 2002-12-18 | Sumitomo Chem Co Ltd | Anti-glare optical film |
JP2004061853A (en) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Nitto Denko Corp | Antidazzle film and display device using the same |
JP2004125958A (en) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Anti-dazzle reflection preventive film, polarizer, and liquid crystal display device using the same |
JP2005148623A (en) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Antireflection film |
JP2005195819A (en) * | 2004-01-06 | 2005-07-21 | Daicel Chem Ind Ltd | Antiglare film |
JP2005275391A (en) * | 2004-02-27 | 2005-10-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Antireflection film and manufacturing method, polarizing plate, and liquid crystal display device using the same |
JP2005257786A (en) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Antireflection film and its manufacturing method |
JP2005301246A (en) * | 2004-03-15 | 2005-10-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Antireflection film, polarizing plate, and liquid crystal display |
Cited By (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7567383B2 (en) | 2007-02-14 | 2009-07-28 | Sony Corporation | Anti-glare film, method for manufacturing the same, and display device using the same |
US7751121B2 (en) | 2007-02-14 | 2010-07-06 | Sony Corporation | Anti-glare film, method for manufacturing the same, and display device using the same |
US7903340B2 (en) | 2007-02-14 | 2011-03-08 | Sony Corporation | Anti-glare film, method for manufacturing the same, and display device using the same |
US8081385B2 (en) | 2007-07-11 | 2011-12-20 | Sony Corporation | Antiglare film, method for manufacturing antiglare film, polarizer, and display device |
JP2009020288A (en) * | 2007-07-11 | 2009-01-29 | Sony Corp | Antiglare film, method of manufacturing the same, polarizer, and display device |
WO2009107634A1 (en) * | 2008-02-29 | 2009-09-03 | 住友化学株式会社 | Antiglare polarizer and image display employing the same |
KR101243717B1 (en) | 2009-05-20 | 2013-03-13 | 주식회사 엘지화학 | Touch window having improved color gamut and/or visiblility |
WO2011031087A3 (en) * | 2009-09-10 | 2011-08-04 | 동우화인켐 주식회사 | Anti-glare film, and polarizing plate and display device including same |
WO2011031087A2 (en) * | 2009-09-10 | 2011-03-17 | 동우화인켐 주식회사 | Anti-glare film, and polarizing plate and display device including same |
JP2014133802A (en) * | 2013-01-09 | 2014-07-24 | Dic Corp | Protective and tacky-adhesive film, screen panel, and touch panel |
JPWO2015076409A1 (en) * | 2013-11-25 | 2017-03-16 | 住友化学株式会社 | Optical member and display device |
WO2015076409A1 (en) * | 2013-11-25 | 2015-05-28 | 住友化学株式会社 | Optical member and display device |
CN105874360A (en) * | 2013-11-25 | 2016-08-17 | 住友化学株式会社 | Optical member and display device |
JP2017008146A (en) * | 2015-06-17 | 2017-01-12 | 株式会社ダイセル | Polyorganosilsesquioxane, hard coat film, adhesive sheet, laminate and device |
JP2017008144A (en) * | 2015-06-17 | 2017-01-12 | 株式会社ダイセル | Polyorganosilsesquioxane, curable composition, hard coat film and cured article |
KR20170031640A (en) * | 2015-09-11 | 2017-03-21 | 주식회사 엘지화학 | Anti-reflective filmand display device |
JP2018524641A (en) * | 2015-09-11 | 2018-08-30 | エルジー・ケム・リミテッド | Antireflection film and display device |
KR102018287B1 (en) * | 2015-09-11 | 2019-09-05 | 주식회사 엘지화학 | Anti-reflective filmand display device |
US10690810B2 (en) | 2015-09-11 | 2020-06-23 | Lg Chem Ltd. | Antireflection film and display device having hard coating layer with specified surface roughness and internal haze |
KR20180047569A (en) * | 2016-10-31 | 2018-05-10 | 삼성에스디아이 주식회사 | Polarizing plate and liquid crystal display apparatus comprising the same |
KR101982386B1 (en) | 2016-10-31 | 2019-05-27 | 삼성에스디아이 주식회사 | Polarizing plate and liquid crystal display apparatus comprising the same |
KR20180102967A (en) * | 2017-03-08 | 2018-09-18 | 삼성에스디아이 주식회사 | Polarizing plate and optical display apparatus comprising the same |
KR102018363B1 (en) | 2017-03-08 | 2019-09-04 | 삼성에스디아이 주식회사 | Polarizing plate and optical display apparatus comprising the same |
JP2022535318A (en) * | 2019-03-28 | 2022-08-08 | アクティーア・ソシエテ・アノニム | Photoplethysmographic sensor with high signal-to-noise ratio |
JP7554203B2 (en) | 2019-03-28 | 2024-09-19 | アクティーア・ソシエテ・アノニム | Photoplethysmography sensor with high signal-to-noise ratio |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5102958B2 (en) | 2012-12-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4820716B2 (en) | Antiglare film, antireflection film, polarizing plate and image display device | |
US7848021B2 (en) | Optical film, antireflection film, polarizing plate and image display device | |
JP5114438B2 (en) | Optical film, manufacturing method thereof, polarizing plate and image display device | |
US7505104B2 (en) | Antiglare antireflective film, polarizing plate and liquid crystal display | |
JP2007264113A (en) | Optical film, polarizing plate, and image display device | |
JP2007249191A (en) | Optical film, antireflection film, polarizing plate and image display device | |
KR101139267B1 (en) | Optical functional film, antireflection film, polarizing plate and image display device | |
JP2007108724A (en) | Antiglare antireflection film, polarizing plate using same and liquid crystal display device | |
JP4905775B2 (en) | Antireflection film, polarizing plate, image display device, and production method of antireflection film | |
JP2008026883A (en) | Optical film | |
JP2008146021A (en) | Optical film | |
JP2007102208A (en) | Optical film, anti-reflection film, and polarizing plate and image display device using the optical film and the anti-reflection film | |
JP5102958B2 (en) | Method for producing antireflection film | |
JP2007233375A (en) | Antireflection film, polarizing plate using the same, and image display device | |
JP4792305B2 (en) | Antireflection film, polarizing plate, and image display device | |
JP2007196164A (en) | Method for manufacturing optical film, optical film, polarizing plate, and picture display device | |
JP4393232B2 (en) | Method for producing antireflection film | |
JP2007213045A (en) | Antireflection film, polarizing plate, and display apparatus | |
JP2010085501A (en) | Liquid crystal display device | |
JP2007119310A (en) | Inorganic particulate, liquid dispersion using this, coating composition, optical film, polarizing plate, and image display device | |
JP2007256651A (en) | Method for manufacturing optical film, the optical film, antireflection film, polarizing plate, and image display device | |
JP2007238675A (en) | Curable composition, method for producing curable composition, optical film, antireflection film, polarizing plate, and image display device | |
JP2007233374A (en) | Hard coat film, polarizing plate using the same, and image display device | |
JP2007219088A (en) | Antireflection film, and polarizing plate and image display device using the same | |
JP2007086751A (en) | Antireflection film, manufacturing method thereof, polarizing plate and image display device using the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071109 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071116 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071126 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080710 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110315 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110516 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20110720 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110927 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111125 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20111216 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120904 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121001 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151005 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5102958 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |