JP2007148206A - 電気光学装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】寸法精度が厳密に要求される三次元液晶表示装置等の製造に適したモールド工程を含む電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】表示パネルに実装された電子部品に対するモールド工程を含む電気光学装置の製造方法であって、モールド工程において、モールド樹脂を塗布する際に、当該表示パネルと、他の構成部材との位置合わせに使用するアラインメントマークを保護するように、マスキング部材を用い、好ましくは、表面粘着性を有するシリコーン樹脂から構成されているシリコーンゴムシートを用いる。
【選択図】図１

Description

本発明は、電気光学装置の製造方法に関する。特に、寸法精度が厳密に要求される三次元液晶表示装置の製造に適したモールド工程を含む電気光学装置の製造方法に関する。

従来、電気光学装置の一態様である液晶装置は、それぞれ電極を備えた一対の基板を対向配置するとともに、当該一対の基板間に液晶材料を配置して構成されている。この液晶装置は、対向する電極に電圧を印加して液晶材料を配向させ、通過する光を偏向させることにより、画像表示させるものである。
そして、図１７（ａ）〜（ｂ）に示すように、液晶駆動用の半導体素子（駆動用ＩＣ）２１６やその周辺の配線２１５は、基板張り出し部２０２ｃに設けてあり、それらの防湿性や耐腐食性向上のために、通常、シリコーン樹脂等のモールド樹脂２１８によってモールドされている（例えば、特許文献１参照）。
また、図１８に示すように、複数の液晶駆動用の半導体素子として、第１の半導体素子３０３ａと、第２の半導体素子３０３ｂとが設けてある場合も、同様に、シリコーン樹脂等のモールド樹脂によってモールドされている（例えば、特許文献２参照）。

一方、近年、立体画像視覚可能な三次元液晶表示装置の開発がなされており、電子式パララックスバリアを用いた画像表示装置が提案されている（例えば、特許文献３参照）。
より具体的には、図１９に示すように、表示パネル４０１における観察者４１０、４２０の側のガラス基板４０１ｃの表面に、偏向板４０２とともに、ストライプ状の開口部４０３ｂおよび遮光部４０３ａを有する電子式パララックスバリア４０３と、を順次に備えた三次元画像表示装置４００が提案されている。
したがって、かかる三次元画像表示装置４００を用いて三次元画像を提供する場合には、観察者４１０、４２０の左目に対して左眼用画像を入射するとともに、観察者の右目に対して右目用画像を入射するように、電子式パララックスバリアの開口部４０３ｂを制御している。
また、かかる三次元画像表示装置４００を用いて２次元（平面）画像を提供することもでき、その場合には、電子式パララックスバリア４０３の全域を開口部となるように制御することにより、観察者４１０、４２０の両目に、全ての画像を入射させている。
特開２００１−１２５１３０（特許請求の範囲） 特開２００１−１２５５０８（特許請求の範囲） 特許２８５７４２９号 （特許請求の範囲）

しかしながら、上述した三次元液晶表示装置を製造するにあたり、電子式パララックスバリアを含む二つの液晶表示装置を厳格に同期させる必要があって、組み立て精度において厳しい制限がなされてきた。
そのため、組み立て工程において、アラインメントマークを用いた位置決め工程が必須となるものの、特許文献１および２に記載されたようなシリコーン樹脂によって、半導体素子等のモールドを行なうと、かかるアラインメントマークまでシリコーン樹脂によって覆われてしまい、位置合わせ工程が精度良く実施できない場合が見られた。
もちろん、アラインメントマークの形成位置や大きさ等を変えることにより、シリコーン樹脂による被覆については回避できるものの、基板張り出し部を大きくしなければならなかったり、画像表示面積が低下したりするなどの新たな問題が生じていた。

そこで、本発明の発明者は鋭意検討した結果、三次元液晶表示装置等を製造する場合であっても、モールド工程において、マスキング部材として、特定部材を用いることにより、精度良くかつ迅速にアラインメントマークをマスキングすることができ、かつ、基板汚染等の新たな問題も生じないことを見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、モールド樹脂を電気光学装置用基板上に塗布する際に、マスキング部材として、シリコーンゴムシート等を用いることにより、優れたマスキング性が得られるとともに、電気不良の発生が少ない電気光学装置の効率的な製造方法を提供することを目的とする。

本発明によれば、表示パネルに実装された電子部品に対するモールド工程を含む電気光学装置の製造方法であって、モールド工程において、モールド樹脂を塗布する際に、当該表示パネルと、他の構成部材との位置合わせに使用するアラインメントマークを保護するように、マスキング部材を配置することを特徴とする電気光学装置の製造方法が提供され、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、このように実施することにより、電気光学装置用基板上で、精度良くマスキングされ、かつ、明瞭なアラインメントマークを基準として、他の構成部材、例えば、偏向板や位相差板、あるいは三次元液晶表示装置における位置合わせ精度を向上させることができる。
また、シリコーンゴムシート等のマスキング部材を用いることにより、精度良くかつ迅速に、対象物としてのアラインメントマークをマスキングすることができる。したがって、アラインメントマークを除いて、所定場所のみにモールド樹脂が塗布されるように構成することができ、その結果、電気不良が少ない電気光学装置を効率的に得ることができる。
さらに、このようにシリコーンゴムシート等のマスキング部材を用いることにより、電気光学装置用基板に対する汚染問題の発生が少なく、マスキング部材の端部がモールド樹脂を堰止めるために、モールド樹脂の表面状態が平滑化しやすいという利点を得ることができる。

また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、モールド樹脂としてシリコーン樹脂を、マスキング部材としてシリコーンゴムシートをそれぞれ使用することが好ましい。
このように実施することにより、シリコーン樹脂による優れたモールド性が得られる一方、シリコーン樹脂と、シリコーンゴムシートとの相互作用によって、アラインメントマークを除いて、所定場所のみにモールド樹脂を塗布することができるためである。また、シリコーンゴムシートであれば、マスキング箇所の形状に対応させて、所定形状に加工しやすいという利点を得ることができる。

また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、シリコーンゴムシートが、表面粘着性を有するシリコーン樹脂から構成されていることが好ましい。
すなわち、シリコーンゴムシートが、ガラス転移点（Ｔｇ）が少なくとも室温以下のシリコーン樹脂から構成されていることが好ましい。
このように実施することにより、シリコーンゴムシートを仮固定するための部材が不要となり、生産性や使い勝手が良好となるためである。また、シリコーンゴムシートの位置合わせを誤った場合であっても、表面粘着性を有するのであれば、再度の貼りなおしが容易であり、さらには、シリコーンゴムシートを貼ったまま、電気光学装置用基板の移動も可能となる。
なお、シリコーンゴムシートを構成するガラス転移点（Ｔｇ）が少なくとも室温以下のシリコーン樹脂とは、例えば、ＤＳＣ（示差走査熱量計）を用いて測定されるガラス転移点（Ｔｇ）が０℃以下であるアミノ基含有シリコーン樹脂、エポキシ基含有シリコーン樹脂、カルボキシル基含有シリコーン樹脂等であることが好ましい。

また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、シリコーンゴムシートの一部を前記表示パネルの端部からはみ出た状態でマスキングすることが好ましい。
このように実施することにより、シリコーンゴムシートの位置合わせがさらに容易となるばかりか、モールド工程が終了した後に、シリコーンゴムシートの取り外し作業についても容易かつ迅速に実施することができる。

また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、シリコーンゴムシートの厚さを０．０１〜１ｍｍの範囲内の値とすることが好ましい。
このように実施することにより、シリコーンゴムシートによる所定のマスキング性が得られる一方、シリコーンゴムシートの取り扱い（貼り付けや取り外し）についても容易かつ迅速に実施することができる。

また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、シリコーンゴムシートの平面形状を多角形とすることが好ましい。
このように実施することにより、シリコーンゴムシートによる所定のマスキング性が得られる一方、シリコーンゴムシートの取り扱い（貼り付けや取り外し）が容易となったり、モールド樹脂の端部を直線状（多角形の辺）とすることができたり、さらには、シリコーンゴムシートを所定形状に容易かつ迅速に切断することができる。

また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、シリコーンゴムシートの位置合わせ用部材が、電気光学装置用基板上に設けてあることが好ましい。
このように実施することにより、シリコーンゴムシートの機械的、電気的な位置合わせはもちろんのこと、手動であってもシリコーンゴムシートを、マスキング位置に対して、精度良くかつ迅速に貼り付けつけることができる。

また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、アラインメントマークを用いて位置合わせする他の構成部材が、発光制御手段であって、表示パネルと、発光制御手段とから立体画像視覚可能な三次元液晶表示装置を構成することが好ましい。
このように実施することにより、電気光学装置が寸法精度を厳密に要求する立体画像視覚可能な三次元液晶表示装置の組み立ての際であっても、電気光学装置用基板上のアラインメントマークを、精度良くかつ迅速にマスキングすることができる。
なお、二つの液晶装置を用いた三次元液晶表示装置の場合、例えば、これら二つの液晶装置の相対的位置ずれの許容範囲は５〜１０μｍであり、さらにそれに貼付する偏向板の貼り付け精度（所定位置からのずれの許容範囲）は、０．２５μｍ±０．２５μｍであることが好ましい。

本発明における実施形態は、表示パネルに実装された電子部品に対するモールド工程を含む電気光学装置の製造方法であって、モールド工程において、モールド樹脂を塗布する際に、当該表示パネルと、他の構成部材との位置合わせに使用するアラインメントマークを保護するように、マスキング部材を配置することを特徴とする電気光学装置の製造方法である。
以下、本実施形態の電気光学装置の製造方法につき、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子構造を有する素子基板と、着色層を有する対向基板と、を備えた液晶装置の製造方法を例に採って説明する。ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであって、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することができる。

１．液晶装置
（１）基本構成
まず、本実施形態に係る液晶装置の製造方法で製造される液晶装置について説明する。ここで、図１に液晶装置１０の断面図を示し、図２に、液晶装置１０の外観を表す概略斜視図を示す。
これらの図に示されるように、液晶装置１０は、対向基板３０と、素子基板６０とが、その周辺部においてシール材を介して貼り合わされ、それによって形成される間隙２１ａ内に液晶材料２１を配置して形成されている。

（２）対向基板
また、対向基板３０は、ガラス等からなる基体３１上に、着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂと、対向電極３３と、リタデーションを最適化するための層厚調整層４１と、配向膜４５と、を主として備える基板である。
ここで、対向電極３３とは、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等によって表面全域に形成された面状電極である。また、この対向電極３３の下層には、素子基板６０側の画素電極６３に対応するように、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）等のカラーフィルタエレメントとしての着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂが配置されている。そして、この着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂに隣接し、かつ画素電極６３に対向しない位置に、隣接色間の混色防止領域としてのブラックマトリクスすなわち遮光膜３９が設けられている。

（３）素子基板
また、素子基板６０は、ガラス等からなる基体６１上に、スイッチング素子としてのＴＦＴ素子６９と、透明な有機絶縁膜８１を挟んでＴＦＴ素子６９の上層に形成された画素電極６３と、を主として備える基板である。
ここで、画素電極６３とは、反射領域Ｒにおいては、反射表示を行うための光反射膜７９（６３ａ）を兼ねて形成されるとともに、透過領域Ｔにおいては、ＩＴＯなどにより透明電極６３ｂとして形成される。また、この画素電極６３としての光反射膜７９は、例えばＡｌ（アルミニウム）、Ａｇ（銀）等といった光反射性材料によって形成される。更に、この画素電極６３の上には、ポリイミド系の高分子樹脂からなる配向膜８５が形成されるとともに、この配向膜８５に対して、配向処理としてのラビング処理が施される。

また、対向基板３０の外側、すなわち、図１の上側表面には、位相差板４７が形成され、さらにその上に偏光板４９が形成されている。同様に、素子基板６０の外側、すなわち、図１の下側表面には、位相差板８７が形成され、さらにその下に偏光板８９が形成されている。
そして、素子基板６０の下方には、光源としてのバックライトユニット（図示せず）が通常、配置されている。

また、ＴＦＴ素子６９は、素子基板６０上に形成されたゲート電極７１と、このゲート電極７１の上で素子基板６０の全域に形成されたゲート絶縁膜７２と、このゲート絶縁膜７２を挟んでゲート電極７１の上方位置に形成された半導体層７０と、その半導体層７０の一方の側にコンタクト電極７７を介して形成されたソース電極７３と、さらに半導体層７０の他方の側にコンタクト電極７７を介して形成されたドレイン電極６６と、を備えている。
ここで、ゲート電極７１は、ゲートバス配線（図示せず）から延びており、ソース電極７３はソースバス配線（図示せず）から延びている。
また、ソースバス配線は、ゲート絶縁膜７２を挟んでゲートバス配線と交差するように縦方向へ延びていて、横方向へ等間隔で平行に複数本形成されており、このソースバス配線と交差するゲートバス配線についても、素子基板６０の横方向に延びていて、縦方向へ等間隔で平行に複数本形成されている。
そして、かかるゲートバス配線は、液晶駆動用の半導体素子（図示せず）に電気的に接続されており、例えば、走査線として作用し、他方、ソースバス配線は、他の半導体素子（図示せず）に電気的に接続されて、例えば、信号線としての機能を発揮する。
なお、液晶材料２１に対して電圧を印加して、駆動させるための画素電極６３は、互いに交差するゲートバス配線と、ソースバス配線と、によって区画形成される方形領域のうち、ＴＦＴ素子６９の占有部分を除いた領域に対応して、素子基板６０上に形成されている。

また、有機絶縁膜８１は、ゲートバス配線、ソースバス配線及びＴＦＴ素子を覆って素子基板６０上の全域に形成されている。
但し、有機絶縁膜８１のドレイン電極６６に対応する部分にはコンタクトホール８３が形成されており、このコンタクトホール８３を介して、画素電極６３と、ＴＦＴ素子６９のドレイン電極６６と、電気的接続がとられている。
また、反射領域Ｒに対応する領域において、かかる有機絶縁膜８１には、散乱形状として、山部と谷部との規則的な又は不規則的な繰り返しパターンから成る凹凸パターンを有する樹脂膜が形成されている。
この結果、有機絶縁膜８１の上に積層される光反射膜７９（６３ａ）も同様にして凹凸パターンから成る光反射パターンを有することになる。
但し、この凹凸パターンは、光透過量を低下させてしまうため、通常、透過領域Ｔには形成されていない。

２．製造方法
２−１．素子基板の製造方法
（１）ＴＦＴ素子の形成工程
まず、図３中、Ｓ１で示されるＴＦＴ素子の形成工程を実施する。
かかるＴＦＴ素子の形成工程は、素子基板の基体上に金属膜および絶縁膜を形成し、パターニングすることによって、図４（ａ）に示すように、ＴＦＴ素子６９等のスイッチング素子を形成する工程である。
このようなスイッチング素子６９を形成するにあたり、ガラス基板からなる基体６１上に、ゲート電極７１を形成する。このゲート電極７１は、例えば、クロム、タンタル、モリブデン等の低抵抗材料から構成されており、スパッタリング法や電子ビーム蒸着法を用いて形成することができる。

次いで、このゲート電極７１上に、絶縁層としてのゲート絶縁膜７２を形成する。このゲート絶縁膜７２は、窒化シリコン（ＳｉＮ_x）や酸化シリコン（ＳｉＯ_x）等の半導体材料からなる電気絶縁材料を積層させて形成することができる。
次いで、このゲート絶縁膜７２上に、アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）、多結晶シリコン、ＣｄＳｅ等の半導体材料を積層させて半導体層７０を形成する。さらに、この半導体層７０の両端部分に、ドープされたアモルファスシリコン等によりコンタクト電極７７を形成する。
最後に、このコンタクト電極７７と接触するように、ソース電極７３及びそれと一体をなすソースバス配線並びにドレイン電極６６を形成する。このとき、ソース電極７３、ソースバス配線（図示せず）及びドレイン電極６６は、例えばチタン、モリブデン、アルミニウム等の低抵抗材料を、スパッタリング法や電子ビーム蒸着法を用いることで形成することができる。

（２） 画素電極の形成工程
次いで、図３中、Ｓ２で示される画素電極の形成工程を実施する。
かかる画素電極の形成工程は、図４（ｂ）〜（ｃ）に示すように、ＴＦＴ素子６９が形成された基体６１上に、有機絶縁膜からなる保護膜８１と、透明導電膜からなる画素電極６３と、を順次形成する工程である。
より具体的には、ＴＦＴ素子６９が形成してある基体６１上に、光硬化性樹脂等の樹脂材料を塗布するとともに、この樹脂層に対して所定のパターニングを施すことにより有機絶縁膜からなる保護膜８１を形成する。
次いで、この有機絶縁膜からなる保護膜８１内に設けられたコンタクトホール８３の周辺部であって、反射領域（Ｒ）に相当する領域に対して、アルミニウム等の金属を蒸着した後、この膜に対して、フォトリソグラフィ及びエッチング法を施すことで、表示領域にマトリクス状の光反射膜７９を形成する。
一方、透過領域（Ｔ）に相当する領域に対して、スパッタリング法等により透明導電膜を形成することにより、画素電極６３を形成し、素子基板６０の基本形態とする。
最後に、このようにして得られた素子基板６０に対して、ポリイミド樹脂等からなる配向膜８５を形成するとともに、この配向膜８５にラビング処理を施すことにより、配向制御機能を持たせることができる。

（３） スペーサの形成工程
次いで、図３中、Ｓ３〜Ｓ６で示されるスペーサの形成工程を実施する。
かかるスペーサの形成工程は、ＴＦＴ素子や画素電極が形成された基体上に、フォトリソグラフィ法等を用いて、感光性樹脂材料からなる樹脂膜としての柱状スペーサを形成する工程である。
すなわち、スペーサの形成工程は、所定の塗布装置を用いて樹脂材料を塗布する塗布工程Ｓ３と、その樹脂材料に対して、所定のフォトマスクを介して露光する露光工程Ｓ４と、露光された樹脂材料に現像液を滴下して現像する現像工程Ｓ５と、樹脂膜を熱硬化させて形状を安定化させる焼成工程Ｓ６と、から構成される。

２−２． 対向基板の製造方法
（１） 着色層の形成工程
まず、図３中、Ｓ１´で示される着色層の形成工程を実施する。
かかる着色層の形成工程は、図６（ａ）〜（ｂ）に示すように、対向基板の基体３１上に着色層３７（３７ｒ、３７ｇ、３７ｂ）、遮光膜３９及び層厚調整層４１等を順次形成する工程である。
より具体的には、基体３１上に、顔料や染料等の着色材を分散させた樹脂材料からなる感光性樹脂を塗布し、この感光性樹脂に対してパターン露光及び現像処理を順次施すことにより、着色層３７（３７ｒ、３７ｇ、３７ｂ）を形成することができる。
なお、かかる露光及び現像処理は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）それぞれの色毎に繰り返すことで、三色に対応した着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂをそれぞれ形成することができる。

次いで、それぞれの画素領域の境界領域に遮光膜３９を形成する。この遮光膜３９に用いられる材料としては、例えば、クロム（Ｃｒ）やモリブテン（Ｍｏ）等の金属膜を使用したり、あるいは、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いたりすることができる。
したがって、かかる遮光膜３９を金属膜から形成するに際しては、例えば、クロム（Ｃｒ）等の金属材料をスパッタリング法等により基体３１上に積層した後、所定パターンに合わせて、エッチング処理を施すことによって形成することになる。

最後に、着色層３７（３７ｒ、３７ｇ、３７ｂ）や、遮光膜３９等が形成された対向基板の基体３１上に、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂等を用いて、全面的に層厚調整層４１を形成する。
この層厚調整層４１は、透過領域（Ｔ）と反射領域（Ｒ）とのリタデーション調整のための層であって、光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等の樹脂材料に対して所定のパターニングを施すことにより形成される。

（２） 対向電極の形成工程
次いで、図３中、Ｓ２´で示される対向電極の形成工程を実施する。
かかる対向電極の形成工程は、図６（ｃ）に示すように、対向基板に形成された着色層３７（３７ｒ、３７ｇ、３７ｂ）、遮光膜３９及び層厚調整層４１に、透明導電材料等からなる対向電極３３を形成する工程である。
より具体的には、着色層３７（３７ｒ、３７ｇ、３７ｂ）及び遮光膜３９が形成された対向基板の基体３１上に、スパッタリング法等により透明導電膜を積層した後、フォトリソグラフィ法及びエッチング法により、表示領域全面に所定パターンを有する対向電極３３を形成する。
さらに、この対向電極３３の表面に、ポリイミド樹脂等からなる配向膜４５を形成することで、対向基板３０の基本形態とすることができる。
ここで、上述した素子基板６０に用いられるスイッチング素子が、ＴＦＴ素子（Thin Film Transistor）６９の場合には、この対向電極３３は、それぞれのセル領域に対応した面状電極としてパターニングされる。

２−３．液晶装置の組み立て
（１）貼合工程およびモールド工程
次いで、図３中、Ｓ８で示される貼合工程は、図７（ａ）〜（ｂ）に示すように、素子基板６０と、対向基板３０とを、シール材２３を介して貼り合わせる工程である。
より具体的には、対向基板３０と、シール材２３が形成された素子基板６０と、をアライメントして貼り合わせ位置を確定する。その後、両基板を重ね合わせて接合させた後、加熱しながら加圧保持して、シール材２３を硬化させながら対向基板３０と、素子基板６０とを貼合せることにより、液晶注入口２１ａを備えた一対の基板２０が形成される（貼合工程）。
そして、図３中、Ｓ９に示されるように、液晶注入口２１ａから、従来公知の方法により基板間隙内に液晶材料を注入した後、その注入口を、エポキシ樹脂等の封止樹脂を用いて封止する（液晶注入工程）。

（２）実装工程
次いで、素子基板６０上の基板張り出し部６０Ｔに、図１や図２、あるいは図７（ｂ）に示すように、液晶駆動用の半導体素子９１やＦＰＣ９３を実装する工程である。
例えば、ＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film）を用いて、電気光学装置用基板上の外部端子である配線と、半導体素子等を電気的に接続する工程である。ここで、液晶駆動用の半導体素子９１を実装するに際して、ＡＣＦの圧着特性にもよるが、例えば、１２０〜２００℃、５〜３０秒、５〜１００ｋｇｆ／ｃｍ²の圧着条件とすることが好ましい。

（３）モールド工程
次いで、図８や図９に示すように、モールド工程において、素子基板６０上に実装した半導体素子９１およびＦＰＣ９３を全面的あるいは部分的にモールドする。そして、かかるモールド工程を実施するにあたり、モールド樹脂としてのシリコーン樹脂等を塗布する際に、アラインメントマーク１０１等のマスキング部材として、例えば、シリコーンゴムシート１００を用いることを特徴とする。
この理由は、このようにシリコーンゴムシート等を用いることにより、アラインメントマーク等に対する優れたマスキング性が得られ、モールド工程における生産性が向上するばかりか、モールド樹脂の形成場所に関して、優れた位置精度を得ることができるためである。すなわち、モールド樹脂としてのシリコーン樹脂等と、マスキング部材としてのシリコーンゴム等との馴染みが良いので、シリコーンゴムシート等の端部まで確実にモールド樹脂を塗布することができる。また、同様に、モールド樹脂としてのシリコーン樹脂等と、マスキング部材としてのシリコーンゴムシート等との密着性が良好であることから、マスキング部材を剥がす時に、モールド樹脂が、シリコーンゴムシート等上に塗布された場合であっても、それが残存することなく、確実にマスキング部材と一緒に除去することができる。
また、半導体素子等がシリコーン樹脂等によって、精度良くモールドされているため、電気接続不良が少ない液晶表示装置を効率的に得ることができるためである。
また、このように、マスキング部材としてシリコーンゴムシート等を用いることにより、シリコーンゴムシート等を構成するシリコーン樹脂も電気的特性に優れているため、半導体素子等に対して、シリコーンゴムシート等に起因した汚染問題が発生しにくいという利点を得ることができる。
また、このように、マスキング部材としてシリコーンゴムシート等を用いることにより、モールド樹脂としてのシリコーン樹脂等は、基板との密着性に優れる一方、剥離性に優れているため、表面が平滑化しやすく、厚さが均一となりやすいという利点を得ることができる。すなわち、モールド樹脂としてのシリコーン樹脂等は、基板との密着性に優れていることから、所定場所において広がりやすくて、流動化しやすい一方、剥離性に優れているため、シリコーンゴムシート等の端部によって確実に堰止められて、表面が平滑化しやすく、厚さが均一となりやすいという効果を発揮することになる。
さらに、このようにマスキング部材がシリコーンゴムシート等であれば、マスキング箇所の形状に対応させて、所定形状に加工（切断）しやすく、基板の種類やマスキング箇所等が変更された場合であっても、迅速かつ容易に対応でき、かつ使い勝手が良いという利点を得ることができる。

なお、モールド樹脂としては、後述するシリコーン樹脂が典型的であるが、その他、アクリル樹脂、スチレン樹脂、オレフィン樹脂、アクリルシリコーン樹脂、エポキシ樹脂、アクリルシリコーン樹脂、ウレタン樹脂、ウレタンシリコーン樹脂、フェノール樹脂、オキセタン樹脂、スチレン樹脂、オレフィン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
以下、かかるモールド工程において用いる、マスキング部材としてのシリコーンゴムシートを例にとって、その態様について、詳しく説明する。

（３）−１ シリコーンゴムシートの構成樹脂
かかるモールド工程において、図９に示すように、表面粘着性を有するシリコーン樹脂から構成されているシリコーンゴムシート１００を用いることが好ましい。
この理由は、このようなシリコーンゴムシートを用いることにより、シリコーンゴムシートを固定するための部材が不要となり、さらに生産性や使い勝手が良好となるためである。すなわち、シリコーンゴムシートの位置合わせを誤った場合であっても、再度の貼りなおしが可能となったり、シリコーンゴムシートを貼ったまま、電気光学装置用基板を移動したりすることが可能となるためである。
また、シリコーンゴムシートの粘着性の目安としては、ステンレス基材やガラス基材に対して、５〜３００ｇ／ｃｍの範囲内の値であり、より好ましくは、１０〜１５０ｇ／ｃｍの範囲内の値である。
したがって、このような粘着性を有するシリコーン樹脂であれば特にその構成は問わないが、例えば、ジメチルシロキサン系のシリコーン樹脂を挙げることができ、あるいは、アミノ基含有変性シリコーン樹脂、エポキシ基変性シリコーン樹脂、あるいはカルボキシル基含有変性シリコーン樹脂を挙げることができる。
一方、シリコーンゴムシートの粘着性を所定範囲の値に制御すべく、粘着性を有するシリコーン樹脂に対して、含フッ素樹脂、例えば、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、フッ化ビニリデン等を、全体量に対して、０．１〜４０重量％の範囲で添加することも好ましい。さらには、シリコーンゴムシートの粘着性を所定範囲の値に制御すべく、シリカ、酸化チタン、アルミナ、ガラス等の無機フィラーや、スチレン樹脂、アクリル樹脂等の有機フィラーを、全体量に対して、それぞれ０．１〜２０重量％の範囲で添加することも好ましい。

なお、所定量の着色剤や蛍光剤（蛍光増白剤を含む）を添加したシリコーン樹脂から構成されているシリコーンゴムシートを用いることも好ましい。
この理由は、このようなシリコーン樹脂から構成されている着色シリコーンゴムシートあるいは蛍光シリコーンゴムシートであれば、モールド樹脂としてのシリコーン樹脂との区別がつきやすいためである。また、取り外した後であれば、着色シリコーンゴムシートあるいは蛍光シリコーンゴムシートからシリコーン低分子量物が流出して電気光学装置用基板を汚染したような場合にも、同時に、着色剤や蛍光剤も移行しやすいため、紫外線（ブラックライト）を照射すればもちろんのこと、可視光であってもある程度は、その汚染程度が識別できるためである。
したがって、所定量の着色剤や蛍光剤を添加したシリコーン樹脂から構成されているシリコーンゴムシートを用いる場合、シリコーン樹脂１００重量部に対して、着色剤あるいは蛍光剤を、それぞれ０．０１〜３０重量部の範囲で添加することが好ましく、０．１〜１０重量部の範囲で添加することがより好ましい。

（３）−２ シリコーンゴムシートの厚さ
また、かかるモールド工程において用いるシリコーンゴムシートの厚さを０．０１〜１ｍｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、このようなシリコーンゴムシートであれば、所定のマスキング性が得られる一方、シリコーンゴムシートの取り扱い（貼り付けや取り外し）についても容易となるためである。
したがって、シリコーンゴムシートのマスキング性と、取り扱い性とのバランスがさらに良好となることから、シリコーンゴムシートの厚さを０．０５〜０．５ｍｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．０８〜０．３ｍｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。

（３）−３ シリコーンゴムシートの平面形状
また、かかるモールド工程において用いるシリコーンゴムシートの平面形状を、図１０（ａ）〜（ｅ）に示すように、多角形とすることが好ましい。
この理由は、このようなシリコーンゴムシートであれば、所定のマスキング性が得られる一方、シリコーンゴムシートの取り扱い（貼り付けや取り外し）が容易となったり、モールド樹脂の端部を直線状（多角形の辺）とすることができたり、さらには、シリコーンゴムシートを切断しやすかったりするためである。

より具体的には、図１０（ａ）〜（ｂ）に示すように正方形や長方形とすることにより、シリコーンゴムシートの切断や位置合わせをさらに容易とすることができる。また、モールド樹脂としてのシリコーン樹脂の断面が直線状となり、シリコーンゴムシートを剥がしやすいという利点も得られる。
また、図１０（ｃ）〜（ｅ）に示すように、５角形、６角形、あるいは８角形とすることにより、モールド樹脂としてのシリコーン樹脂の厚さが均一となりやすく、かつモールド樹脂の端部からアラインメントマークの中心までの距離を等しくすることができる。したがって、仮に、モールド樹脂としてのシリコーン樹脂が、シリコーンゴムシートの一部裏面に進入したとしても、アラインメントマーク等を確実にマスキングすることができる。

なお、必ずしもシリコーンゴムシートの全体を、多角形とする必要はなく、図１１（ａ）に示すように、はみ出し部分１００ｂについては半円形とし、マスキング部１００ａのみを多角形としたり、逆に、図１１（ｂ）に示すように、はみ出し部分１００ｄについては多角形とし、マスキング部１００ｃについては半円形としたりすることも好ましい。
その他、取り扱いが容易なように、図１１（ｃ）に示すように、はみ出し部分１００ｂ´の片面に凹凸１００ｅをつける一方、優れたマスキング性を維持するために、マスキング部１００ａ´については表面を平滑にすることが好ましい。さらに、図１１（ｄ）に示すように、はみ出し部分１００ｂ´´の両面に、凹凸１００ｆ、１００ｇをつける一方、優れたマスキング性を維持するために、マスキング部１００ａ´´については表面を平滑にすることも好ましい。

（３）−４ シリコーンゴムシートの使用方法１
また、かかるモールド工程においてシリコーンゴムシートを使用するにあたり、図９（ａ）〜（ｂ）に示すように、シリコーンゴムシート１００の一部を素子基板６０上の基板張り出し部６０Ｔの端部から、さらにはみ出た状態で、アラインメントマーク１０１等をマスキングすることが好ましい。
この理由は、このように実施することにより、シリコーンゴムシートの位置合わせがさらに容易となるばかりか、シリコーンゴムシートがはみ出た部分を利用して、当該シリコーンゴムシートの取り外しについても容易となるためである。

なお、マスキングするアラインメントマーク等の大きさや形状にもよるが、シリコーンゴムシートの位置合わせ性や取り外し性を考慮して、例えば、シリコーンゴムシートの面積を１００％としたときに、はみ出し部分の面積を１０〜８０％の範囲内の値とすることが好ましく、４０〜７０％の範囲内の値とすることがより好ましい。
したがって、シリコーンゴムシートの面積が４ｃｍ²（横２ｃｍ×縦２ｃｍ）の場合には、はみ出し部分の面積を０．４ｃｍ²〜３２ｃｍ²の範囲内の値とすることが好ましい。

（３）−５ シリコーンゴムシートの使用方法２
また、かかるモールド工程において、シリコーンゴムシート１００によるマスキング対象が、図９（ａ）〜（ｂ）に示すように、素子基板９０上のアラインメントマーク１０１であることが好ましい。
この理由は、マスキング対象が、素子基板上のアラインメントマークであれば、モールド工程中には精度良くマスキングされ、かつ、モールド工程後には明瞭なアラインメントマークが得られるためである。
したがって、このように形成したアラインメントマークを基準として、他の構成部材、例えば、偏向板や位相差板、あるいは三次元液晶表示装置における別の液晶装置の位置合わせ精度を著しく向上させることができる。

（３）−６ シリコーンゴムシートの使用方法３
また、かかるモールド工程において、図９（ａ）に示すように、シリコーンゴムシート１００の位置合わせ用部材１０４が、電気光学装置用基板上に設けてあることが好ましい。
この理由は、このように実施することにより、シリコーンゴムシートを、さらに精度良くかつ迅速にマスキング位置に対応させて、貼り付けつられることができるためである。
すなわち、位置合わせ用部材を設けることによって、シリコーンゴムシートの機械的、電気的な位置合わせはもちろんのこと、手動であってもシリコーンゴムシートを、マスキング位置に対して、精度良くかつ迅速に貼り付けつけることができる。
なお、位置合わせ用部材１０４の形態は特に制限されるものではないが、図９（ａ）に示すように、Ｌ字状の突起物であってもよく、あるいは点状や線状の突起物であってもよい。
但し、シリコーンゴムシートの厚さが、通常、０．０１〜１ｍｍの範囲内の値であることから、かかるシリコーンゴムシートのストッパーとしての機能を有効に発生させるため、位置合わせ用部材の高さを、かかるシリコーンゴムシートの厚さよりも大きくすることが好ましい。
したがって、具体的には、位置合わせ用部材の高さを０．１〜２ｍｍの範囲内の値であって、シリコーンゴムシートの厚さよりも大きい値とすることが好ましい。

（３）−７ シリコーンゴムシートの使用方法４
また、かかるモールド工程において、電気光学装置が寸法精度を厳密に要求する立体画像視覚可能な三次元液晶表示装置であることが好ましい。
この理由は、三次元液晶表示装置の組み立てに必要な電気光学装置用基板上のアラインメントマークについて、精度良くかつ迅速にマスキングすることができるためである。したがって、電気光学装置が寸法精度を厳密に要求する立体画像視覚可能な三次元液晶表示装置を、効率的かつ経済的に提供することができる。

なお、このような立体画像視覚可能な三次元液晶表示装置としては、例えば、図１２及び図１３に示す三次元液晶表示装置１１１が挙げられる。この場合、液晶装置等に代表される発光制御手段１１５を用いて、異なる観察位置における観察者１１０、１２０のそれぞれに立体画像（三次元画像）を提供するとともに、これらの複数の観察者に対して、異なる平面画像（二次元画像）を提供することが可能である。
すなわち、画像を表示するための表示パネル１１２と、表示パネル１１２に光を照射するための光源１１４と、この光源１１４と、表示パネル１１２との間に配置され、光源１１４から照射された光を透過させるための透過部１１６ａと、遮光するための遮光部１１６ｂとが、観察者１１０の左右の目を結んだ第１の方向に対して交差する第２の方向に延びるように設けられている。
また、透過部１１６ａと、遮光部１１６ｂとの第１の方向の長さを変化させることが可能な発光制御手段１１５と、光源１１４から発光制御手段１１５の透過部１１６ａを介して照射される光を、所定の方向に進行させるとともに、第２の方向に延びるように形成された少なくとも１つのレンズ１１９とを備えている。
そして、発光制御手段１１５は、発光制御手段１１５の透過部１１６ａおよび遮光部１１６ｂの第１の方向の長さを変化させることにより、光源１１４から発光制御手段１１５の透過部１１６ａを介して照射される光の到達位置を制御することができる。 したがって、発光制御手段１１５の透過部１１６ａおよび遮光部１１６ｂの第１の方向の長さを変化させることにより、観察者１１０、１２０の位置に集光する光到達領域の第１の方向の長さを変化させることができる。
このため、発光制御手段１１５の透過部１１６ａおよび遮光部１１６ｂの第１の方向の長さを小さくするとともに、透過部１１６ａおよび遮光部１１６ｂとからなる組を細分化することにより、観察者１１０、１２０の位置に集光する光到達領域の第１の方向の長さを小さくすることができるとともに、細分化することができる。
これにより、複数の観察者１１０、１２０がいる場合に、それぞれの目の近傍に光源からの光を集光させることができ、その結果、複数の観察者の左右の目に入射する光に、それぞれ、両眼視差を有する画像を付加することによって、複数の観察者に立体画像（三次元画像）を提供することができる。

また、発光制御手段１１５の透過部１１６ａおよび遮光部１１６ｂの第１の方向の長さを大きくすることにより、同じ発光制御手段１１５を用いて、観察者１１０、１２０の位置に集光する光到達領域の第１の方向の長さを大きくすることができる。
これにより、同じ発光制御手段１１５を用いて、観察位置の異なる複数の観察者１１０、１２０がいる場合に、観察者のそれぞれの両目の近傍に光源からの光を集光させることができる。その結果、観察位置の異なる観察者に向かう光に、異なる画像を付加することによって、観察位置の異なる複数の観察者のそれぞれに異なる平面画像（二次元画像）を提供することができる。
このように、この画像表示装置１１１では、同じ発光制御手段１１５を用いて、複数の観察者に立体画像（三次元画像）を提供することができるとともに、異なる観察位置に位置する観察者のそれぞれに異なる平面画像（二次元画像）を提供することができる。

また、図１４及び図１５に示すに三次元液晶表示装置１５１も挙げられる。この場合、偏光軸制御手段１５７を備え、画像の輝度を低下させることなく、異なる観察位置に位置する観察者１５０、１６０が高精細であって、かつ異なる画像を認識することが可能である。
すなわち、画像を表示するための表示パネル１５２と、表示パネル１５２に光を照射するための光源１５５と、この光源１５５と、表示パネル１５２との間に配置され、光源１５５から照射された光を、第１の偏光軸を有する光と、第１の偏光軸とは異なる第２の偏光軸を有する光とに分離するための偏光軸制御手段１５７と、この偏光軸制御手段１５７と、表示パネル１５２との間に配置され、偏光軸制御手段１５７により異なる偏光軸を有するように分離された第１の偏光軸を有する光および第２の偏光軸を有する光を、それぞれ、所定の方向に進行させるとともに、観察者１５０、１６０の左右の目を結んだ線分に対して交差する第１の方向に延びるように形成された少なくとも１つのレンズ１５８と、を備えている。

したがって、光源１５５から照射された光を、表示パネル１５２に入射させる前に、観察位置の異なる観察者１５０、１６０に向かうように分離することができる。すなわち、画素ピッチの小さい高精細な表示パネル１５２を用いたとしても、表示パネル１５２の画素ピッチに依存することなく、観察者１５０、１６０に向かって光が進行するので、観察位置の異なる複数の観察者１５０、１６０に対して、高精細であって、かつ異なる画像をそれぞれ提供することができる。
また、表示パネルを出射した光を、所定の角度の方向に進行するように制限する部材を介して進行させる場合と異なり、偏光軸制御手段１５７により異なる偏光軸を有するように分離された光を、それぞれ、所定の方向に進行させるレンズ１５８を設けることによって、進行する光が遮光されないので、観察者１１０、１２０に向かって進行する光の輝度が低下するのを抑制することができる。

（４） 後工程
次いで、対向基板及び素子基板のそれぞれの外面に所定の偏光板や位相差板を配置するとともに、素子基板上の張り出し部に、半導体素子等の電子部品を実装したり、フレキシブル回路基板やバックライト等を接続したりするとともに、筐体に組み込むことで図１に示すような液晶装置１０を製造する。
より具体的には、図２に示すように、素子基板６０の張り出し部６０Ｔ上に、走査線７５と、端子６７と、を電気的に接続するように、半導体素子９１を実装するとともに、この端子６７のもう一方の端部に、フレキシブル基板９３を電気接続することで、液晶装置１０が形成される。

なお、上述したように、図１２〜図１５に示す三次元液晶表示装置の場合には、図１６に製造フローを示すように、後工程として、第２の液晶表示装置等をさらに位置合わせして、全体を組み立てることになる。
すなわち、図１６中、Ｓ９−１−３で示されるように、第１の液晶表示装置のアラインメントマークを利用して、第２の液晶表示装置（発光制御手段や偏光軸制御手段と称する場合がある。）を位置決めした後、さらに、Ｓ９−１−４で示されるように、第２の液晶表示装置用の偏光板や位相差板を配置することになる。
したがって、組立後の寸法ずれが少ないことが厳密に要求される場合であっても、アラインメントマークを利用して、迅速かつ精度良く三次元液晶表示装置を得ることができる。

本発明の電気光学装置の製造方法によれば、モールド樹脂としてシリコーン樹脂等を電気光学装置用基板上に塗布する際に、マスキング部材として、例えば、シリコーンゴムシートを用いることにより、精度良くかつ迅速に電気光学装置を製造することができるようになった。
したがって、寸法精度が、例えば、５〜１０μｍ範囲に厳密に要求される立体画像視覚可能な三次元液晶表示装置等を製造する場合であっても、効率的に実施することができる。すなわち、本発明の電気光学装置の製造方法によれば、高品位であって、かつ高機能の電気光学装置を経済的に提供することができる。
よって、本発明に係る三次元液晶表示装置等を用いた電子機器として、例えば、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器や、電子放出素子を使用した装置（ＦＥＤ:Field Emission DisplayやＳＣＥＥＤ：Surface-Conduction Electron-Emitter Display）、プラズマディスプレイ装置、有機エレクトロルミネッセンス装置及び無機エレクトロルミネッセンス装置が挙げられる。

本発明に係る電気光学装置（液晶装置）を説明するために供する断面図である。 本発明に係る電気光学装置（液晶装置）を説明するために供する斜視図である。 本発明における電気光学装置（液晶装置）の製造方法を説明するために供するフロー図である。 （ａ）〜（ｃ）は、素子基板の製造工程を説明するために供する図である。（その１） （ａ）〜（ｄ）は、素子基板の製造工程を説明するために供する図である。（その２） （ａ）〜（ｃ）は、対向基板の製造工程を説明するために供する図である。 （ａ）〜（ｂ）は、後工程を説明するために供する図である。 本発明におけるアラインメントマーク周辺におけるモールド状態を説明するために供する図である。 （ａ）〜（ｂ）は、本発明におけるモールド工程を説明するために供する図である。 （ａ）〜（ｅ）は、本発明に用いられるシリコーンゴムシートの平面形状を説明するために供する図である。 （ａ）〜（ｄ）は、本発明に用いられる別のシリコーンゴムシートの平面形状あるいは断面状態を説明するために供する図である。 三次元液晶表示装置の構成部品を説明するために供する図である。 三次元液晶表示装置の視覚原理を説明するために供する図である。 別な三次元液晶表示装置の構成部品を説明するために供する図である。 別な三次元液晶表示装置の視覚原理を説明するために供する図である。 三次元液晶表示装置の製造方法を説明するために供するフロー図である。 従来のモールド工程を説明するために供する図である（その１）。 従来のモールド工程を説明するために供する図である（その２）。 従来の三次元液晶表示装置の視覚原理を説明するために供する図である。

符号の説明

１０、２０：液晶装置、１１：液面、１８：未注入部、２１：電気光学物質（液晶材料）、２３：シール部、２３ａ：液晶注入口、３０：対向基板（カラーフィルタ基板）、３１：基体、３３：画素電極、３７：着色層、３７ｒ、３７ｇ、３７ｂ：カラーフィルタ、３９：遮光膜、４１：保護膜（層厚調整層）、４５：配向膜、４７：位相差板、４９：偏光板、６０：素子基板、６１：基体、６３：光反射膜、６６：ドレイン電極、６９：ＴＦＴ素子、７１：ゲート電極、７２：ゲート絶縁膜、７３：ソース電極、７５：走査線、７７：コンタクト層、８１：有機絶縁膜、８３：コンタクトホール、８７：位相差板、８９：偏光板、９１：半導体素子、９４：塗布装置、９５：スペーサ、９６：乾燥装置、９７：加熱部、１００：シリコーンゴムシート、１０１：アラインメントマーク、１０３：モールド樹脂（シリコーン樹脂）、１０４：位置合わせ用部材、１１０、１２０：観察者、１１１、１５１：三次元液晶表示装置

Claims (8)

1. 表示パネルに実装された電子部品に対するモールド工程を含む電気光学装置の製造方法であって、
   前記モールド工程において、モールド樹脂を塗布する際に、当該表示パネルと、他の構成部材との位置合わせに使用するアラインメントマークを保護するように、マスキング部材を配置することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
2. 前記モールド樹脂としてシリコーン樹脂を、前記マスキング部材としてシリコーンゴムシートを使用することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
3. 前記シリコーンゴムシートが、表面粘着性を有するシリコーン樹脂から構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置の製造方法。
4. 前記シリコーンゴムシートの一部を前記表示パネルの端部からはみ出た状態でマスキングすることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
5. 前記シリコーンゴムシートの厚さを０．０１〜１ｍｍの範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
6. 前記シリコーンゴムシートの平面形状を多角形とすることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
7. 前記シリコーンゴムシートの位置合わせ用部材が、前記表示パネル上に設けてあることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
8. 前記アラインメントマークを用いて位置合わせする他の構成部材が、発光制御手段であって、前記表示パネルと、前記発光制御手段とから立体画像視覚可能な三次元液晶表示装置を構成することを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。

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