JP2007130537A - 塗装物の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 低光沢で耐汚染性に優れた塗膜を備える塗装物を、容易に製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の塗装物の製造方法は、活性エネルギー線硬化性官能基を備える重合性化合物、重合開始剤、及び艶消し材を含む活性エネルギー線硬化性塗料を、基材１１０の表面に塗布する塗布工程と、基材１１０の表面に活性エネルギー線硬化性塗料を塗布した塗布面１２０ｂに、活性エネルギー線を照射する１または複数の照射工程を備えている。１または複数の照射工程のうち、第１番目の第１照射工程は、パルスＵＶ照射装置２０により、塗布面１２０ｂに、紫外線を含む活性エネルギー線を、繰り返しパルス照射する。
【選択図】 図１

Description

本発明は、塗装物の製造方法、特に、活性エネルギー線硬化性塗料を用いた塗装物の製造方法に関する。

従来より、活性エネルギー線硬化性塗料を用いて、基材表面をコーティングする塗膜の形成方法、塗装物の製造方法について、様々なものが提案されているが、近年、低光沢で耐汚染性に優れた塗膜の形成方法、塗装物の製造方法が提案されている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
特開２００４−２３８５５６号公報 特開２００５−４７９５２号公報

特許文献１では、活性エネルギー線重合性モノマー、オリゴマーと、重合開始剤と、ワックス及び艶消しビーズとを含む活性エネルギー線硬化性塗料を、基材表面に塗布し、窒素ガスを注入して酸素濃度を１５％未満とした容器内で、塗布面に紫外線を照射する手法が提案されている。これにより、低光沢で耐汚染性に優れた塗膜を形成することができると記載されている。

特許文献２では、２官能以上の活性エネルギー線重合性アクリレートモノマーと、３官能以上の活性エネルギー線重合性アクリレートオリゴマーと、重合開始剤と、ワックス及び樹脂ビーズとを含み、多孔質粒子を含まない活性エネルギー線硬化性塗料を、基材表面に塗布し、基材温度３０〜８０℃で活性エネルギー線を照射する手法が提案されている。これにより、低光沢で耐汚染性に優れた塗膜を形成することができると記載されている。

しかしながら、特許文献１の手法では、装置が高価になるため、製造コストがかかり過ぎるという課題があった。さらには、木質基材の表面に塗膜を形成する場合、木質基材の内部に含まれている空気の影響で、基材表面の酸素濃度が不均一となり、場所によっては酸素濃度が１５％を超えてしまうこともある。これにより、塗膜の艶ムラが生じてしまう課題があった。
また、特許文献２の手法では、艶消し材としてワックス及び樹脂ビーズを用いるため、十分な艶消し（低光沢）外観を得ることができなかった。さらに、ワックス及び樹脂ビーズを含有させることにより、表面が滑りやすくなり、床材として用いるには安全性に欠けていた。

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであって、低光沢で耐汚染性に優れた塗膜を備える塗装物を、容易に製造できる製造方法を提供することを目的とする。

その解決手段は、活性エネルギー線硬化性官能基を備える重合性化合物、重合開始剤、及び艶消し材を含む活性エネルギー線硬化性塗料を、基材表面に塗布する塗布工程と、上記基材表面に上記活性エネルギー線硬化性塗料を塗布した塗布面に、活性エネルギー線を照射する１または複数の照射工程と、を備える塗装物の製造方法であって、上記１または複数の照射工程のうち、第１番目の第１照射工程は、上記塗布面に、紫外線を含む活性エネルギー線を、繰り返しパルス照射する第１照射工程である塗装物の製造方法。

本発明の製造方法では、第１照射工程（第１番目の照射工程）において、活性エネルギー線硬化性塗料を塗布した塗布面に、紫外線を含む活性エネルギー線を繰り返しパルス照射する。紫外線を含む活性エネルギー線を繰り返しパルス照射することにより、従来のように高圧水銀灯などで紫外線を連続照射する場合に比べて、塗膜、特に塗膜表面を十分に硬化させることができる。このため、耐汚染性に優れた塗膜を形成することができる。

これは、次のような理由によるものと考えている。高圧水銀灯などで紫外線を連続照射する従来の手法では、発生したラジカルが周囲に存在する酸素と反応し易いため、重合反応が十分に進まず、塗膜表面を十分に硬化させることができなかったと考えている。これに対し、本発明の製造方法では、活性エネルギー線（紫外線を含む）をパルス照射することで、極めて短時間のうちに、多くのラジカルを発生させることができるので、周囲の酸素の影響を受けることなく、ラジカル重合反応を促進させることができると考えている。

さらに、その理由は明らかではないが、塗布面（艶消し材を含む）に、紫外線を含む活性エネルギー線を繰り返しパルス照射することで、塗膜の表面が低光沢となる。従って、本発明の製造方法によれば、低光沢で耐汚染性に優れた塗膜を備える塗装物を、容易に製造することができる。
なお、第１照射工程において、紫外線を含む活性エネルギー線を繰り返しパルス照射する装置として、例えば、キセノンフラッシュランプ（具体的には、米国ＸＥＮＯＮ社製のパルスＵＶ照射装置、型式 ＲＣ−７４２など）を挙げることができる。

なお、艶消し材としては、シリカ（二酸化ケイ素）粒子、天然鉱物などの多孔質粒子や、高分子粉砕粒子などを例示することができる。
また、基材としては、木質材、プラスチック材、金属材、無機質材など、活性エネルギー線硬化性塗料を塗布できる基材であれば、いずれの材質の基材をも用いることができる。

さらに、上記の塗装物の製造方法であって、前記照射工程は、前記第１照射工程の後、前記塗布面に、紫外線を含む活性エネルギー線を、連続照射する第２照射工程を有する塗装物の製造方法とすると良い。

紫外線を含む活性エネルギー線を繰り返しパルス照射した後、紫外線を含む活性エネルギー線を連続照射する（具体的には、高圧水銀灯などで紫外線を連続照射する）ことで、より一層塗膜を硬化させることが可能となる。これにより、塗膜表面の耐汚染性をさらに向上させることが可能となる。
なお、本発明の製造方法とは逆に、紫外線を含む活性エネルギー線を連続照射した後、紫外線を含む活性エネルギー線を繰り返しパルス照射した場合には、十分な艶消し（低光沢）外観、耐汚染性を得ることができない。

さらに、上記いずれかの塗装物の製造方法であって、前記艶消し材は、多孔質粒子である塗装物の製造方法とすると良い。

本発明の製造方法では、艶消し材として多孔質粒子を含有する活性エネルギー線硬化性塗料を用いている。これにより、塗膜の表面を、より一層低光沢にできる。さらには、艶消し材としてワックスや樹脂ビーズを用いる場合に比べて、塗膜表面を滑り難くできる。従って、本発明の製造方法によれば、塗膜表面が滑り難い塗装物を製造できるので、床材の製造方法として好適である。
なお、多孔質粒子としては、シリカ粒子、天然鉱物、高分子粉砕粒子などを例示できる。

（実施例）
本発明の実施例にかかる塗装物の製造方法について説明する。本実施例では、表１に示すように、８種類の塗装物（サンプル１〜８とする）を製造した。

まず、活性エネルギー線硬化性塗料として、塗料Ａ〜Ｃの３種類の塗料を用意した。
（塗料Ａ）
８５重量部の重合性化合物Ａと、１０重量部のシリカ粒子と、５重量部の光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア７５４）とを攪拌混合して、塗料Ａを得た。なお、重合性化合物Ａは、アクリレートオリゴマー４０重量部、２官能アクリレートモノマー（ポリエチレングリコールジアクリレート）３０重量部、単官能アクリレートモノマー（アクリロイルモルフォリン、及びエトキシジエチレングリコールアクリレート）１５重量部を含有している。

（塗料Ｂ）
８０重量部の重合性化合物Ｂと、１５重量部のシリカ粒子と、５重量部の光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア７５４）とを攪拌混合して、塗料Ｂを得た。なお、重合性化合物Ｂは、アクリレートオリゴマー１０重量部、３官能アクリレートモノマー（エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、及びペンタエリスリトールトリアクリレート）３５重量部、２官能アクリレートモノマー（トリプロピレングリコールジアクリレート）１０重量部、及び単官能アクリレートモノマー（アクリロイルモルフォリン）２５重量部を含有している。

（塗料Ｃ）
８０重量部の重合性化合物Ｂと、１５重量部のシリカ粒子と、５重量部の光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア６５１）とを攪拌混合して、塗料Ｃを得た。すなわち、塗料Ｃは、塗料Ｂと比較して、光重合開始剤のみが異なり、その他の成分は同一である。

（サンプル１の製造）
まず、基材として、白色ポリエステル合板１１０（図１参照）を用意した。次いで、塗布工程に進み、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ａを１００ｇ／ｍ²塗布した。

次いで、照射工程に進み、塗料Ａを塗布した塗布面に活性エネルギー線を照射して、塗料Ａを硬化させて、塗膜を形成した。
具体的には、図１に示すように、第１照射工程において、パルスＵＶ照射装置２０（米国ＸＥＮＯＮ社製、型式 ＲＣ−７４２）を用い、塗料Ａを塗布した塗布面１２０ｂに、積算光量４０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を含む活性エネルギー線を繰り返しパルス照射した。

詳細には、図１に示すように、搬送スピード調整可能なベルトコンベア１０と、その上方に固設されたパルスＵＶ照射装置２０とを備える製造ライン３０を用い、ベルトコンベア１０上に載置したサンプルを５ｍ／分の搬送速度でパルスＵＶ照射装置２０の下方を移動させつつ、サンプルの塗布面１２０ｂ全体にわたり、紫外線を含む活性エネルギー線を、１０パルス／秒で繰り返しパルス照射した。

この照射パスにおける活性エネルギー線の積算光量を測定したところ、２０ｍＪ／ｃｍ²であった。この照射パスを２パス行うことにより、第１照射工程として、塗料Ａを塗布した塗布面１２０ｂに、積算光量４０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を含む活性エネルギー線を繰り返しパルス照射した。なお、パルスＵＶ照射装置２０から照射される活性エネルギー線のピーク強度を測定したところ、１１０ｍＷ／ｃｍ²であった。

次いで、第２照射工程に進み、図２に示すように、高圧水銀灯４０（アイグラフィックス社製）を用い、塗料Ａを塗布した塗布面１２０ｂに、積算光量１１０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を含む活性エネルギー線を連続照射した。詳細には、ベルトコンベア１０と、その上方に固設された高圧水銀灯４０とを備える製造ライン５０を用い、ベルトコンベア１０上に載置したサンプルを１０ｍ／分の搬送速度で高圧水銀灯４０の下方を移動させつつ、サンプルの塗布面１２０ｂ全体にわたり、紫外線を含む活性エネルギー線を連続照射した。

以上のようにして、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ａを硬化させてなる塗膜を有するサンプル１を製造した。なお、高圧水銀灯（アイグラフィックス社製）から照射される活性エネルギー線のピーク強度を測定したところ、９０ｍＷ／ｃｍ²であった。
本実施例では、活性エネルギー線の積算光量及びピーク強度は、いずれも、積算光量計（アイグラフィックス社製、ＥＹＥ ＵＶ ＭＥＴＥＲ ＵＶＰＦ−Ａ１ ＰＤ３６５）を用いて測定した。

（サンプル２の製造）
サンプル２は、表１に示すように、サンプル１と比較して、第２照射工程での積算光量を変更して製造した点のみが異なり、その他については同様である。
具体的には、塗布工程において、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ａを１００ｇ／ｍ²塗布した。次いで、図１に示すように、第１照射工程において、パルスＵＶ照射装置２０を用い、サンプル１と同様にして、塗料Ａを塗布した塗布面１２０ｂに、積算光量４０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を含む活性エネルギー線を繰り返しパルス照射した。

次いで、第２照射工程に進み、図２に示すように、高圧水銀灯４０を用い、塗料Ａを塗布した塗布面１２０ｂに、紫外線を含む活性エネルギー線を連続照射した。但し、サンプル１とは異なり、照射パスを２パス行うことにより、積算光量を２２０ｍＪ／ｃｍ²とした。このようにして、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ａを硬化させてなる塗膜を有するサンプル２を製造した。

（サンプル３の製造）
まず、塗布工程において、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ｂを１００ｇ／ｍ²塗布した。次いで、第１照射工程に進み、図１に示すように、パルスＵＶ照射装置２０を用い、塗料Ｂを塗布した塗布面１２０ｂに、積算光量３０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を含む活性エネルギー線を、１０パルス／秒で繰り返しパルス照射した。詳細には、図１に示すように、ベルトコンベア１０上に載置したサンプルを、サンプル１，２とは異なり、１０ｍ／分の搬送速度でパルスＵＶ照射装置２０の下方を移動させつつ、サンプルの塗布面１２０ｂ全体にわたり、紫外線を含む活性エネルギー線を繰り返しパルス照射した。この照射パスにおける活性エネルギー線の積算光量を測定したところ、１０ｍＪ／ｃｍ²であった。この照射パスを３パス行うことにより、塗料Ｂを塗布した塗布面１２０ｂに、積算光量３０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を含む活性エネルギー線を繰り返しパルス照射した。

次いで、第２照射工程に進み、図２に示すように、高圧水銀灯４０を用い、塗布面１２０ｂに、積算光量１１０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を含む活性エネルギー線を連続照射した。詳細には、サンプル１と同様に、ベルトコンベア１０上に載置したサンプルを１０ｍ／分の搬送速度で高圧水銀灯４０の下方を移動させつつ、サンプルの塗布面１２０ｂ全体にわたり、紫外線を含む活性エネルギー線を連続照射した。このようにして、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ｂを硬化させてなる塗膜を有するサンプル３を製造した。

（サンプル４の製造）
サンプル４は、表１に示すように、サンプル３と比較して、第１照射工程での積算光量を変更して製造した点のみが異なり、その他については同様である。
具体的には、塗布工程において、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ｂを１００ｇ／ｍ²塗布した。次いで、図１に示すように、第１照射工程において、パルスＵＶ照射装置２０を用い、サンプル３と同様にして、塗料Ｂを塗布した塗布面１２０ｂに紫外線を含む活性エネルギー線を、１０パルス／秒で繰り返しパルス照射した。但し、サンプル３とは異なり、照射パスを２パス行うことにより、積算光量を２０ｍＪ／ｃｍ²とした。

次いで、第２照射工程に進み、サンプル３と同様に、図２に示すように、高圧水銀灯４０を用い、塗料Ａを塗布した塗布面１２０ｂに、積算光量１１０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を含む活性エネルギー線を連続照射した。このようにして、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ｂを硬化させてなる塗膜を有するサンプル４を製造した。

（サンプル５の製造）
サンプル５も、表１に示すように、サンプル３と比較して、第１照射工程での積算光量を変更して製造した点のみが異なり、その他については同様である。
具体的には、塗布工程において、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ｂを１００ｇ／ｍ²塗布した。次いで、図１に示すように、第１照射工程において、パルスＵＶ照射装置２０を用い、サンプル３と同様にして、塗料Ｂを塗布した塗布面１２０ｂに紫外線を含む活性エネルギー線を、１０パルス／秒で繰り返しパルス照射した。但し、サンプル３とは異なり、照射パスを１パスのみ行うことにより、積算光量を１０ｍＪ／ｃｍ²とした。

次いで、第２照射工程に進み、サンプル３と同様に、図２に示すように、高圧水銀灯４０を用い、塗料Ａを塗布した塗布面１２０ｂに、積算光量１１０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を含む活性エネルギー線を連続照射した。このようにして、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ｂを硬化させてなる塗膜を有するサンプル５を製造した。

（サンプル６の製造）
まず、塗布工程において、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ｃを１００ｇ／ｍ²塗布した。次いで、第１照射工程に進み、図１に示すように、パルスＵＶ照射装置２０を用い、塗料Ｃを塗布した塗布面１２０ｂに、積算光量３０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を含む活性エネルギー線を、１０パルス／秒で繰り返しパルス照射した。詳細には、サンプル３と同様に、ベルトコンベア１０上に載置したサンプルを、１０ｍ／分の搬送速度でパルスＵＶ照射装置２０の下方を移動させつつ、サンプルの塗布面１２０ｂ全体にわたり、紫外線を含む活性エネルギー線を繰り返しパルス照射した。この照射パスを３パス行うことにより、塗料Ｃを塗布した塗布面１２０ｂに、積算光量３０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を含む活性エネルギー線を繰り返しパルス照射した。

次いで、第２照射工程に進み、図２に示すように、高圧水銀灯４０を用い、塗布面１２０ｂに、積算光量２２０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を含む活性エネルギー線を連続照射した。詳細には、サンプル２と同様に、ベルトコンベア１０上に載置したサンプルを１０ｍ／分の搬送速度で高圧水銀灯４０の下方を移動させつつ、サンプルの塗布面１２０ｂ全体にわたり、紫外線を含む活性エネルギー線を連続照射した。この照射パスを２パス行うことにより、積算光量２２０ｍＪ／ｃｍ²の活性エネルギー線を連続照射した。このようにして、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ｃを硬化させてなる塗膜を有するサンプル６を製造した。

（サンプル７の製造）
サンプル７は、表１に示すように、サンプル６と比較して、第１照射工程での積算光量を変更して製造した点のみが異なり、その他については同様である。
具体的には、塗布工程において、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ｃを１００ｇ／ｍ²塗布した。次いで、図１に示すように、第１照射工程において、サンプル１と同様に、搬送速度５ｍ／分でサンプルを移動させつつ、パルスＵＶ照射装置２０により、塗料Ｃを塗布した塗布面１２０ｂに紫外線を含む活性エネルギー線を、１０パルス／秒で繰り返しパルス照射した。この照射パスを１パス行うことにより、積算光量を２０ｍＪ／ｃｍ²とした。

次いで、第２照射工程に進み、図２に示すように、高圧水銀灯４０を用い、サンプル６と同様にして、塗布面１２０ｂに積算光量２２０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を含む活性エネルギー線を連続照射した。このようにして、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ｃを硬化させてなる塗膜を有するサンプル７を製造した。

（サンプル８の製造）
サンプル８は、表１に示すように、サンプル６と比較して、第１照射工程での積算光量を変更し、その後、第２照射工程を行うことなく製造した点が異なり、その他については同様である。
具体的には、塗布工程において、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ｃを１００ｇ／ｍ²塗布した。次いで、図１に示すように、第１照射工程において、サンプル６と同様に、搬送速度１０ｍ／分でサンプルを移動させつつ、パルスＵＶ照射装置２０により、塗料Ｃを塗布した塗布面１２０ｂに紫外線を含む活性エネルギー線を、１０パルス／秒で繰り返しパルス照射した。この照射パスを１０パス行うことにより、積算光量を１００ｍＪ／ｃｍ²とした。このようにして、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ｃを硬化させてなる塗膜を有するサンプル８を製造した。

（比較例）
本発明の実施例との比較のため、比較例として、表１に示すように、４種類の塗装物（サンプル９〜１２とする）を製造した。具体的には、本比較例では、実施例と異なり、第１照射工程を行うことなく、第２照射工程のみを行って、塗膜を形成している。

（サンプル９の製造）
サンプル９は、実施例のサンプル１と比較して、第１照射工程を行うことなく、第２照射工程では積算光量のみを変更し、その他については同様にして製造した（表１参照）。第２照射工程では、サンプル１の製造で行った照射パスを３パス行うことにより、積算光量を３３０ｍＪ／ｃｍ²とした。このようにして、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ａを硬化させてなる塗膜を有するサンプル９を製造した。

（サンプル１０の製造）
サンプル１０は、実施例のサンプル３と比較して、第１照射工程を行うことなく、その他については同様にして製造した（表１参照）。このようにして、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ｂを硬化させてなる塗膜を有するサンプル１０を製造した。

（サンプル１１の製造）
サンプル１１は、実施例のサンプル３と比較して、第１照射工程を行うことなく、第２照射工程では積算光量のみを変更して、その他については同様にして製造した（表１参照）。第２照射工程では、サンプル３の製造で行った照射パスを３パス行うことにより、積算光量を３３０ｍＪ／ｃｍ²とした。このようにして、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ｂを硬化させてなる塗膜を有するサンプル１１を製造した。

（サンプル１２の製造）
サンプル１２は、実施例のサンプル６と比較して、第１照射工程を行うことなく、その他については同様にして製造した（表１参照）。このようにして、白色ポリエステル合板１１０の表面に、塗料Ｃを硬化させてなる塗膜を有するサンプル１２を製造した。

（表面光沢の測定）
上述のように製造したサンプル１〜１２について、それぞれ、塗膜表面の光沢を測定した。具体的には、光沢計（ＨＯＲＩＢＡ製、ＩＧ−３１０）を用いて、塗膜表面の光沢を測定し、０〜１００グロスで示した。なお、光沢測定条件は、入射角６０°〜受光角６０°である。サンプル１〜８（実施例）の測定結果を表１、サンプル９〜１２（比較例）の測定結果を表１に示す。

実施例のサンプル１〜８は、表１に示すように、いずれも１４グロス以下となり、塗膜表面が低光沢であった。これに対し、比較例のサンプル９〜１２は、表１に示すように、いずれも１７グロス以上となり、実施例のサンプル１〜８に比べて、塗膜表面に光沢があった。
詳細には、塗料Ａを用いたサンプル９（比較例）とサンプル１，２（実施例）とを比較すると、サンプル９（比較例）では３８グロスであったのに対し、サンプル１，２（実施例）では、１１，１４グロスとなり、表面光沢を大きく低減することができた。

さらに、塗料Ｂを用いたサンプル１０，１１（比較例）とサンプル３，４，５（実施例）とを比較すると、サンプル１０，１１（比較例）では３９，２８グロスであったのに対し、サンプル３，４，５（実施例）では、９，１１，１３グロスとなり、表面光沢を大きく低減することができた。
さらに、塗料Ｃを用いたサンプル１２（比較例）とサンプル６，７，８（実施例）とを比較すると、サンプル１２（比較例）では１７グロスであったのに対し、サンプル６，７，８（実施例）では、９，１０，１０グロスとなり、表面光沢を大きく低減することができた。

以上のように、いずれの塗料を用いて塗膜を形成した場合でも、比較例に比べて、実施例のほうが塗膜表面を低光沢にすることができた。従って、第１番目の照射工程（第１照射工程）において、活性エネルギー線硬化性塗料を塗布した塗布面に、紫外線を含む活性エネルギー線を繰り返しパルス照射することで、塗膜の表面を低光沢にすることができるといえる。

さらに、実施例のサンプル３〜５を比較する。これらのサンプルは、いずれも、塗料Ｂを塗布し、第１照射工程及び第２照射工程を行っている点で共通しているが、第１照射工程における積算光量がそれぞれ異なっている。具体的には、第１照射工程における積算光量は、サンプル５では１０ｍＪ／ｃｍ²、サンプル４では２０ｍＪ／ｃｍ²、サンプル３では３０ｍＪ／ｃｍ²とした。これらのサンプルの塗膜の表面光沢を比較すると、表１に示すように、サンプル５では１３グロス、サンプル４では１１グロス、サンプル３では９グロスとなった。この結果より、第１照射工程（紫外線を含む活性エネルギー線を繰り返しパルス照射する工程）における積算光量を増大させるにしたがって、塗膜の表面を低光沢にすることができるといえる。

（耐汚染性の評価）
次に、サンプル１〜１２について、それぞれ、塗膜の耐汚染性試験を行った。具体的には、黒油性マーカー（マッキー、ゼブラ製）で、各サンプルの塗膜に黒インキを塗布し、４時間放置した後、プラスチック製消しゴムで、黒インキ塗布面を擦った。その後、各サンプルの汚染跡（黒インキの跡）を調査し、それぞれの汚染跡を、４段階で評価した。具体的には、黒インキが全く残っていない場合は「◎」、僅かに黒インキが残っているがほとんど目立たない場合は「○」、黒インキが残っており少し目立つ場合は「△」、黒インキの跡が目立つ場合は「×」で評価した。サンプル１〜８（実施例）の結果を表１、サンプル９〜１２（比較例）の結果を表１に示す。

実施例のサンプル１〜８は、表１に示すように、いずれも、汚染跡の評価が「◎」または「○」となり、耐汚染性が良好であった。これに対し、比較例のサンプル９〜１２は、表１に示すように、いずれも、汚染跡の評価が「×」または「△」となり、耐汚染性が好ましくなかった。
詳細には、塗料Ａを用いたサンプル９（比較例）とサンプル１，２（実施例）とを比較すると、サンプル９（比較例）では、汚染跡の評価が「×」と耐汚染性が悪かったのに対し、サンプル１，２（実施例）では、いずれも汚染跡の評価が「○」となり、耐汚染性を大きく向上させることができた。

さらに、塗料Ｂを用いたサンプル１０，１１（比較例）とサンプル３，４，５（実施例）とを比較する。サンプル１０，１１では、いずれも汚染跡の評価が「△」と耐汚染性が好ましくなかったのに対し、サンプル３では「◎」、サンプル４，５では「○」となり、耐汚染性を大きく向上させることができた。
さらに、塗料Ｃを用いたサンプル１２（比較例）とサンプル６，７，８（実施例）とを比較する。サンプル１２では、汚染跡の評価が「△」と耐汚染性が好ましくなかったのに対し、サンプル６では「◎」、サンプル７，８では「○」となり、耐汚染性を大きく向上させることができた。

以上のように、いずれの塗料を用いて塗膜を形成した場合でも、比較例に比べて、実施例のほうが耐汚染性を良好にすることができた。従って、第１番目の照射工程（第１照射工程）において、活性エネルギー線硬化性塗料を塗布した塗布面に、紫外線を含む活性エネルギー線を繰り返しパルス照射することで、塗膜の耐汚染性を良好にすることができるといえる。

さらに、実施例のサンプル３〜５を比較する。これらのサンプルは、いずれも、塗料Ｂを塗布し、第１照射工程及び第２照射工程を行っている点で共通しているが、第１照射工程における積算光量がそれぞれ異なっている。具体的には、第１照射工程における積算光量は、サンプル５では１０ｍＪ／ｃｍ²、サンプル４では２０ｍＪ／ｃｍ²、サンプル３では３０ｍＪ／ｃｍ²とした。これらのサンプルの塗膜の耐汚染性を比較すると、表１に示すように、サンプル４，５では「○」の評価であったのに対し、サンプル３では「◎」の評価となり、耐汚染性をさらに向上させることができた。

この結果より、第１照射工程（紫外線を含む活性エネルギー線を繰り返しパルス照射する工程）における積算光量を増大させるにしたがって、塗膜の耐汚染性を向上させることができるといえる。これは、第１照射工程における積算光量を増大させるにしたがって、より一層、塗膜を硬化させることができるためと考えられる。

さらに、実施例のサンプル６とサンプル８とを比較する。両サンプルは、いずれも、塗料Ｃを塗布し、第１照射工程を行っている点で共通しているが、サンプル６では、第１照射工程の後、第２照射工程を行っているのに対し、サンプル８では、第２照射工程を行っていない点で異なっている。両サンプルの塗膜の耐汚染性を比較すると、表１に示すように、サンプル８では、「○」の評価であったのに対し、サンプル６では「◎」の評価となり、耐汚染性をさらに向上させることができた。

この結果より、第１照射工程（紫外線を含む活性エネルギー線を繰り返しパルス照射する工程）の後、第２照射工程（紫外線を含む活性エネルギー線を連続照射する工程）を行うことにより、塗膜の耐汚染性をさらに向上させることができるといえる。これは、第１照射工程の後、第２照射工程を行うことにより、より一層、塗膜を硬化させることができるためと考えられる。

以上において、本発明を実施例に即して説明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で、適宜変更して適用できることはいうまでもない。
例えば、実施例では、活性エネルギー線硬化性塗料（塗料Ａ〜Ｃ）中に、艶消し材としてシリカ粒子を含有させた。しかしながら、艶消し材は、シリカ粒子に限らず、天然鉱物、高分子粉砕粒子などを、併用あるいは単独で使用しても良い。

また、実施例では、基材として、白色ポリエステル合板１１０を用いた。しかしながら、基材としては、ポリエステル合板のようなプラスチック材に限らず、木質材、金属材、無機質材など、活性エネルギー線硬化性塗料を塗布できる基材であれば、いずれの材質の基材をも用いることができる。いずれの材質の基材を用いた場合でも、本発明の製造方法によれば、低光沢で耐汚染性に優れた塗膜を備える塗装物を製造することができる。

実施例にかかる第１照射工程の説明図である。 実施例にかかる第２照射工程の説明図である。

符号の説明

２０ パルスＵＶ照射装置
４０ 高圧水銀灯
１１０ 基材
１２０ｂ 塗布面

Claims (3)

1. 活性エネルギー線硬化性官能基を備える重合性化合物、重合開始剤、及び艶消し材を含む活性エネルギー線硬化性塗料を、基材表面に塗布する塗布工程と、
   上記基材表面に上記活性エネルギー線硬化性塗料を塗布した塗布面に、活性エネルギー線を照射する１または複数の照射工程と、
   を備える塗装物の製造方法であって、
   上記１または複数の照射工程のうち、第１番目の第１照射工程は、上記塗布面に、紫外線を含む活性エネルギー線を、繰り返しパルス照射する第１照射工程である
   塗装物の製造方法。
2. 請求項１に記載の塗装物の製造方法であって、
   前記照射工程は、
   前記第１照射工程の後、前記塗布面に、紫外線を含む活性エネルギー線を、連続照射する第２照射工程を有する
   塗装物の製造方法。
3. 請求項１または請求項２に記載の塗装物の製造方法であって、
   前記艶消し材は、多孔質粒子である
   塗装物の製造方法。

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