JP2007112686A - Electrode coating glass and plasma display panel - Google Patents
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Abstract
【課題】PbOを含有せずBi2O3を含有する電極被覆用ガラスであって銀電極を被覆したときに銀発色等を抑制できるガラスの提供。
【解決手段】Bi2O3を含有しPbOを含有しない電極被覆用ガラスであって、CeO2およびMnO2を含有する電極被覆用ガラス。モル%表示で、B2O3 25〜60%、SiO2 0〜18%、ZnO 0〜60%、MgO+CaO+SrO+BaO 7〜18%、Bi2O3 3〜15%、Al2O3 0〜10%、CeO2 0.05〜0.2%、MnO2 0.05〜0.2%、から本質的になりPbOを含有しない電極被覆用ガラス。
【選択図】なし
An object of the present invention is to provide a glass for electrode coating which does not contain PbO and contains Bi 2 O 3 and which can suppress silver coloring when coated with a silver electrode.
An electrode coating glass containing Bi 2 O 3 and not containing PbO, which contains CeO 2 and MnO 2 . By mol%, B 2 O 3 25~60%, SiO 2 0~18%, 0~60% ZnO, MgO + CaO + SrO + BaO 7~18%, Bi 2 O 3 3~15%, Al 2 O 3 0~10% , CeO 2 0.05 to 0.2%, MnO 2 0.05 to 0.2%, and glass for electrode coating that does not contain PbO.
[Selection figure] None
Description
本発明はプラズマディスプレイパネル(PDP)およびPDPのガラス基板上に形成された透明電極等の被覆に好適な電極被覆用ガラスに関する。 The present invention relates to a plasma display panel (PDP) and an electrode coating glass suitable for coating a transparent electrode or the like formed on a glass substrate of the PDP.
近年、薄型の平板型カラー表示装置が注目を集めている。このような表示装置では画像を形成する画素における表示状態を制御するために各画素に電極が形成される。このような電極としては、画像の質の低下を防ぐために、ガラス基板上に形成されたITOまたは酸化スズの薄膜等の透明電極および厚膜タイプAg電極もしくは薄膜タイプCr−Cu−Cr電極が用いられている。 In recent years, thin flat panel color display devices have attracted attention. In such a display device, an electrode is formed in each pixel in order to control a display state in the pixel forming the image. As such an electrode, a transparent electrode such as an ITO or tin oxide thin film formed on a glass substrate and a thick film type Ag electrode or a thin film type Cr—Cu—Cr electrode are used in order to prevent deterioration in image quality. It has been.
前記表示装置の表示面として使用されるガラス基板の表面に形成される透明電極は、精細な画像を実現するために細い線状に加工される。そして各画素を独自に制御するためには、このような微細に加工された透明電極相互の絶縁性を確保する必要がある。ところが、ガラス基板の表面に水分が存在する場合やガラス基板中にアルカリ成分が存在する場合、このガラス基板の表面を介して若干の電流が流れることがある。このような電流を防止するには、透明電極間に絶縁層を形成することが有効である。また、透明電極間に形成される絶縁層による画像の質の低下を防ぐべくこの絶縁層は透明であることが好ましい。
このような絶縁層を形成する絶縁材料としては種々のものが知られているが、なかでも、透明であり信頼性の高い絶縁材料であるガラス材料が広く用いられている。
The transparent electrode formed on the surface of the glass substrate used as the display surface of the display device is processed into a thin line shape in order to realize a fine image. And in order to control each pixel independently, it is necessary to ensure the insulation between such finely processed transparent electrodes. However, when moisture is present on the surface of the glass substrate or when an alkali component is present in the glass substrate, a slight current may flow through the surface of the glass substrate. In order to prevent such a current, it is effective to form an insulating layer between the transparent electrodes. The insulating layer is preferably transparent in order to prevent deterioration in image quality due to the insulating layer formed between the transparent electrodes.
Various insulating materials for forming such an insulating layer are known. Among them, glass materials that are transparent and highly reliable insulating materials are widely used.
最近大型平面カラーディスプレイ装置として期待されているPDPにおいては、表示面として使用される前面基板、背面基板および隔壁によりセルが区画形成されており、そのセル中でプラズマ放電を発生させることにより画像が形成される。前記前面基板の表面には透明電極が形成されており、さらに透明電極の導電性を補うためにバス電極と呼ばれる電極が形成されている。このバス電極としてはAg電極、Cr−Cu−Cr電極などが用いられている。この透明電極およびバス電極をプラズマ放電から保護するために、プラズマ耐久性に優れたガラスにより前記電極を被覆することが必須である。 In a PDP that has recently been expected as a large flat color display device, cells are defined by a front substrate, a rear substrate, and barrier ribs used as a display surface, and an image is generated by generating plasma discharge in the cells. It is formed. A transparent electrode is formed on the surface of the front substrate, and an electrode called a bus electrode is formed to supplement the conductivity of the transparent electrode. As this bus electrode, an Ag electrode, a Cr—Cu—Cr electrode, or the like is used. In order to protect the transparent electrode and the bus electrode from plasma discharge, it is essential to cover the electrode with glass having excellent plasma durability.
このような電極被覆に用いられるガラスは、通常はガラス粉末にして使用される。たとえば、前記ガラス粉末に必要に応じてフィラー等を添加した上で樹脂、溶剤等と混合してガラスペーストとしこれを透明電極等が形成されているガラス基板に塗布後焼成する、前記ガラス粉末に樹脂、さらに必要に応じてフィラー等を混合して得られたスラリーをグリーンシートに成形しこれを透明電極等が形成されているガラス基板上にラミネート後焼成する、等の方法によって前記透明電極等を被覆する。 The glass used for such electrode coating is usually used as a glass powder. For example, after adding a filler or the like to the glass powder as necessary, it is mixed with a resin, a solvent or the like to form a glass paste, which is applied to a glass substrate on which a transparent electrode or the like is formed and then fired. A slurry obtained by mixing a resin and, if necessary, a filler or the like is formed into a green sheet, laminated on a glass substrate on which a transparent electrode or the like is formed, and then fired. Coating.
PDPの電極被覆用ガラスとしては現在PbO含有ガラスが使用されているが、これをPbOを含有しないガラスとするべく開発が行われている(たとえば特許文献1)。
特許文献1には、PDPの誘電体層(前記絶縁層に相当)のバス電極起因黄変(以下、銀発色等という。)の発生を低減させ得るものとして、質量百分率表示で、Bi2O3 25〜50%、ZnO 10〜20%、BaO 5〜20%、B2O3 5〜35%、SiO2 0〜15%、Al2O3 0〜10%、の組成を有するガラス粉末を含むPDP用誘電体材料が記載されている。
Currently, PbO-containing glass is used as an electrode coating glass for PDP. However, development has been made to make this a glass that does not contain PbO (for example, Patent Document 1).
Patent Document 1 discloses that the occurrence of yellowing (hereinafter referred to as silver coloration) caused by a bus electrode in a dielectric layer (corresponding to the insulating layer) of a PDP can be reduced in terms of mass percentage, Bi 2 O. 3 25~50%, 10~20% ZnO, BaO 5~20%, B 2 O 3 5~35%, SiO 2 0~15%, Al 2 O 3 0~10%, the glass powder having a composition of Including PDP dielectric materials are described.
特許文献1に記載されているようなBi2O3系無鉛ガラスは、その誘電率を現在PDP電極被覆用ガラスとして使用されているPbO含有ガラスの誘電率と合わせることが比較的容易であり、この場合PDPセルの静電容量が変化しないので従来の駆動回路を使用できるという効果がある。
一方で近年は前記銀発色等のより一層の抑制が求められている。
本発明は、Bi2O3系無鉛ガラスであって銀発色等を低減できる電極被覆用ガラスの提供を目的とする。
Bi 2 O 3 based lead-free glass as described in Patent Document 1 is relatively easy to match its dielectric constant with the dielectric constant of PbO-containing glass currently used as PDP electrode coating glass, In this case, since the capacitance of the PDP cell does not change, the conventional driving circuit can be used.
On the other hand, in recent years, there has been a demand for further suppression of the silver color development.
An object of the present invention is to provide a glass for electrode coating which is Bi 2 O 3 based lead-free glass and can reduce silver coloring.
本発明は、Bi2O3を含有しPbOを含有しない電極被覆用ガラスであって、CeO2およびMnO2を含有する電極被覆用ガラス(以下、第1のガラスということがある。)を提供する。
また、下記酸化物基準のモル%表示で、B2O3 25〜60%、SiO2 0〜18%、ZnO 0〜60%、MgO+CaO+SrO+BaO 7〜18%、Bi2O3 3〜15%、Al2O3 0〜10%、CeO2 0.05〜0.2%、MnO2 0.05〜0.2%、から本質的になりPbOを含有しない電極被覆用ガラス(以下、第2のガラスということがある。)を提供する。
The present invention provides an electrode coating glass containing Bi 2 O 3 and not containing PbO, and containing CeO 2 and MnO 2 (hereinafter sometimes referred to as a first glass). To do.
Further, in mole% based on the following oxides, B 2 O 3 25~60%, SiO 2 0~18%, 0~60% ZnO, MgO + CaO + SrO + BaO 7~18%, Bi 2 O 3 3~15%, Al 2 O 3 0 to 10%, CeO 2 0.05 to 0.2%, MnO 2 0.05 to 0.2%, and a glass for electrode coating that does not contain PbO (hereinafter referred to as second glass). May be provided).
また、表示面として使用される前面基板、背面基板および隔壁によりセルが区画形成されているPDPであって、前面基板を構成するガラス基板上に形成された電極または背面基板を構成するガラス基板上に形成された電極が前記電極被覆用ガラスによって被覆されているPDPを提供する。
本発明者は、Bi2O3を含有しPbOを含有しない電極被覆用ガラスで銀電極を被覆する場合にそのガラスにCeO2およびMnO2の両者を含有させることにより銀発色等のみならず銀電極被覆ガラス層の着色を低減できることを見出し、本発明に至った。
In addition, a PDP in which cells are defined by a front substrate, a rear substrate, and partition walls used as a display surface, the electrodes formed on the glass substrate constituting the front substrate or the glass substrate constituting the rear substrate A PDP in which an electrode formed in (1) is covered with the electrode coating glass is provided.
The present inventor, when coating a silver electrode with a glass for electrode coating containing Bi 2 O 3 and not containing PbO, contains both CeO 2 and MnO 2 in the glass, so that not only silver coloring but silver It discovered that coloring of an electrode covering glass layer could be reduced, and resulted in this invention.
Bi2O3を含有しPbOを含有しない電極被覆用ガラスを用いたPDPの銀発色等を低減できる。
また、前記誘電体層がPbOを含有しないPDPにおいて、誘電体層にPbO含有ガラスが用いられている現行PDPの駆動回路を用いることが可能になる。
また、誘電体層の着色を低減させ色純度の高い画像の表示が可能になる。
Silver color development or the like of PDP using electrode coating glass containing Bi 2 O 3 and not containing PbO can be reduced.
In addition, in a PDP in which the dielectric layer does not contain PbO, it is possible to use a current PDP drive circuit in which PbO-containing glass is used for the dielectric layer.
Further, the coloring of the dielectric layer can be reduced, and an image with high color purity can be displayed.
本発明の電極被覆用ガラス(以下、本発明のガラスという。)は通常、粉末状にして使用される。たとえば、本発明のガラスの粉末は印刷性を付与するための有機ビヒクル等を用いてガラスペーストとされ、ガラス基板上に形成された電極上に前記ガラスペーストを塗布、焼成して電極を被覆する。なお、有機ビヒクルとはエチルセルロース等のバインダをα−テルピネオール等の有機溶剤に溶解したものである。また、先に述べたようなグリーンシート法を用いて電極を被覆してもよい。 The electrode coating glass of the present invention (hereinafter referred to as the glass of the present invention) is usually used in powder form. For example, the glass powder of the present invention is made into a glass paste using an organic vehicle or the like for imparting printability, and the glass paste is applied onto the electrode formed on the glass substrate and fired to coat the electrode. . The organic vehicle is obtained by dissolving a binder such as ethyl cellulose in an organic solvent such as α-terpineol. Further, the electrode may be coated using the green sheet method as described above.
PDPにおいては、その前面基板のガラス基板の上に透明電極が形成されており、本発明のガラスはその透明電極の被覆に好適に使用される。なお、この場合のPDPは本発明のPDPである。また、本発明のガラスはPDP背面基板の不透明電極の被覆にも使用でき、この場合のPDPも本発明のPDPである。 In the PDP, a transparent electrode is formed on the glass substrate of the front substrate, and the glass of the present invention is suitably used for coating the transparent electrode. In this case, the PDP is the PDP of the present invention. The glass of the present invention can also be used for coating the opaque electrode of the PDP back substrate, and the PDP in this case is also the PDP of the present invention.
前面基板に用いられるガラス基板の厚さは通常2.8mmであり、このガラス基板自体の波長550nmの光に対する透過率(直線光透過率)は典型的には90%である。
前記透明電極は、たとえば幅0.5mmの帯状であり、それぞれの帯状電極が互いに平行となるように形成される。各帯状電極中心線間の距離は、たとえば0.83〜1.0mmであり、この場合、透明電極がガラス基板表面を占める割合は50〜60%である。
本発明のガラスによってPDP前面基板の透明電極が被覆されているその前面基板については、波長550nmの光に対する直線光透過率(T550)は70%以上であることが好ましい。70%未満ではPDPの画質が不十分になるおそれがある。
The thickness of the glass substrate used for the front substrate is usually 2.8 mm, and the transmittance (linear light transmittance) for light having a wavelength of 550 nm of the glass substrate itself is typically 90%.
The transparent electrode has, for example, a strip shape having a width of 0.5 mm, and is formed so that the strip electrodes are parallel to each other. The distance between the strip electrode center lines is, for example, 0.83 to 1.0 mm. In this case, the ratio of the transparent electrode to the surface of the glass substrate is 50 to 60%.
For the front substrate in which the transparent electrode of the PDP front substrate is coated with the glass of the present invention, the linear light transmittance (T 550 ) for light having a wavelength of 550 nm is preferably 70% or more. If it is less than 70%, the image quality of the PDP may be insufficient.
前面基板の電極被覆に本発明のガラスが用いられている本発明のPDPは、たとえば交流方式のものであれば次のようにして製造される。
ガラス基板の表面に、パターニングされた透明電極およびバス電極(典型的にはAg線)を形成し、その上に本発明のガラスの粉末を塗布・焼成してガラス層を形成し、最後に保護膜として酸化マグネシウムの層を形成して前面基板とする。一方、別のガラス基板の表面に、パターニングされたアドレス用電極を形成し、その上に本発明のガラスの粉末もしくはTsが本発明のガラスと同程度であるガラスの粉末、またはこれらガラスの粉末をアルミナ等金属酸化物の粉末、チタニア等の無機顔料などと混合したものを塗布・焼成してガラス層を形成し、その上にストライプ状、格子状などに隔壁を形成し、さらに蛍光体層を印刷・焼成して背面基板とする。なお、前記ガラス層を形成するのにガラスペーストを使用せず、グリーンシート法等を用いてもよい。
前面基板と背面基板の周縁にシール材をディスペンサで塗布し、前記透明電極と前記アドレス用電極が対向するように組み立てた後、焼成してPDPとする。そしてPDP内部を排気して、放電空間(セル)にNeやHe−Xeなどの放電ガスを封入する。
なお、上記の例は交流方式のものであるが、本発明は直流方式のものにも適用できる。
The PDP of the present invention in which the glass of the present invention is used for electrode coating on the front substrate is manufactured as follows if it is of an alternating current type, for example.
A patterned transparent electrode and a bus electrode (typically Ag wire) are formed on the surface of the glass substrate, and the glass powder of the present invention is applied and fired thereon to form a glass layer, and finally protected. A magnesium oxide layer is formed as a film to form a front substrate. On the other hand, a patterned address electrode is formed on the surface of another glass substrate, and the glass powder of the present invention or the glass powder of which Ts is comparable to the glass of the present invention, or the powder of these glasses A glass layer is formed by applying and firing a powder of a metal oxide such as alumina mixed with an inorganic pigment such as titania to form a glass layer, on which a barrier rib is formed in a stripe shape, a lattice shape, etc., and a phosphor layer Is printed and fired to obtain a back substrate. The glass layer may be formed by using a green sheet method or the like without using glass paste.
A sealant is applied to the peripheral edges of the front substrate and the rear substrate with a dispenser, assembled so that the transparent electrode and the address electrode face each other, and then baked to form a PDP. Then, the inside of the PDP is exhausted, and a discharge gas such as Ne or He—Xe is sealed in the discharge space (cell).
Although the above example is an AC type, the present invention can also be applied to a DC type.
本発明のガラスのTsは605℃以下であることが好ましい。605℃超では焼成温度が高くなりガラス基板が変形等するおそれがある。典型的には580〜600℃である。
本発明のガラスのガラス転移点(Tg)は480〜500℃であることが好ましい。
本発明のガラスの50〜350℃における平均線膨張係数(α)は70×10−7〜80×10−7/℃であることが好ましい。
It is preferable that Ts of the glass of this invention is 605 degrees C or less. If it exceeds 605 ° C., the firing temperature becomes high and the glass substrate may be deformed. The temperature is typically 580 to 600 ° C.
The glass transition point (Tg) of the glass of the present invention is preferably 480 to 500 ° C.
The average linear expansion coefficient at 50 to 350 ° C. of glass of the present invention (alpha) is preferably 70 × 10 -7 ~80 × 10 -7 / ℃.
本発明のガラスの20℃、1kHzにおける比誘電率(ε)は11.0〜12.5であることが好ましい。εがこの範囲外では、従来使用されているPbO含有・電極被覆用ガラスのεとの相違が大きくなってセルの静電容量が大きく変化し、従来の駆動回路が使用できなくなるおそれがある。 The relative dielectric constant (ε) of the glass of the present invention at 20 ° C. and 1 kHz is preferably 11.0 to 12.5. If ε is outside this range, the difference from ε of the conventionally used PbO-containing / electrode-covering glass becomes large, and the capacitance of the cell changes greatly, and the conventional drive circuit may not be usable.
本発明のガラスはLi2O、Na2OおよびK2Oのいずれも含有しないことが好ましい。これらのいずれかを含有するものであると、銀発色等が顕著になるおそれがある。 It is preferable that the glass of the present invention does not contain any of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O. If any of these is contained, silver coloring or the like may become remarkable.
本発明の第1のガラスはCeO2およびMnO2の両者を含有する。いずれかを含有しないものであると銀発色等が顕著になる、または電極被覆ガラス層の着色が強くなる。
典型的にはCeO2、MnO2の含有量はそれぞれ0.05〜0.2モル%、0.05〜0.2モル%、質量百分率表示ではそれぞれ0.15〜0.35%、0.05〜0.15%である。
The first glass of the present invention contains both CeO 2 and MnO 2 . If it does not contain any of these, silver coloration or the like becomes remarkable, or coloring of the electrode-coated glass layer becomes strong.
Typically, the contents of CeO 2 and MnO 2 are 0.05 to 0.2 mol% and 0.05 to 0.2 mol%, respectively, and 0.15 to 0.35% and 0.0. It is 05 to 0.15%.
本発明の第2のガラスの組成についてモル%を単に%と表示して以下で説明する。
B2O3はガラスネットワークフォーマであり、必須である。25%未満では焼成して得られたガラス層の透過率(以下、単に透過率ということがある。)が低下しやすくなる。典型的には28%以上である。60%超ではやはり透過率が低下しやすくなる。好ましくは35%以下、典型的には32%以下である。
SiO2は必須ではないがガラスの安定化のために18%まで含有してもよい。18%超では透過率が低下しやすくなる。SiO2を含有する場合その含有量は典型的には11〜17%である。
ZnOは必須ではないがTsを低下させるために60%まで含有してもよい。60%超ではガラスが不安定になる。典型的には35%以下である。ZnOを含有する場合その含有量は好ましくは27%以上、典型的には29%以上である。
The composition of the second glass of the present invention will be described below with mol% simply expressed as%.
B 2 O 3 is a glass network former and is essential. If it is less than 25%, the transmittance of the glass layer obtained by firing (hereinafter sometimes simply referred to as transmittance) tends to decrease. Typically 28% or more. If it exceeds 60%, the transmittance tends to decrease. Preferably it is 35% or less, typically 32% or less.
SiO 2 is not essential, but may be contained up to 18% for glass stabilization. If it exceeds 18%, the transmittance tends to decrease. When SiO 2 is contained, its content is typically 11 to 17%.
ZnO is not essential, but may be contained up to 60% in order to reduce Ts. If it exceeds 60%, the glass becomes unstable. Typically 35% or less. When ZnO is contained, its content is preferably 27% or more, and typically 29% or more.
MgO、CaO、SrOおよびBaOはTsを低下させる成分であり、いずれか1成分以上を含有しなければならない。これら4成分の含有量の合計が7%未満では透過率が低下しやすくなる。18%超ではαが大きくなるおそれがある。
前記4成分のうちBaOは含有することが好ましい。BaOを含有する場合その含有量は好ましくは7〜16%、典型的には10〜14%である。
ガラスの粘性挙動を緩やかにしたい等の場合にはMgOを含有することが好ましい。
CaOを含有する場合その含有量は9%以下であることが好ましい。9%超では透過率が低下しやすくなる。
MgO, CaO, SrO and BaO are components that lower Ts, and must contain at least one component. If the total content of these four components is less than 7%, the transmittance tends to decrease. If it exceeds 18%, α tends to be large.
Of the four components, BaO is preferably contained. When BaO is contained, its content is preferably 7 to 16%, typically 10 to 14%.
When it is desired to loosen the viscous behavior of the glass, it is preferable to contain MgO.
When CaO is contained, the content is preferably 9% or less. If it exceeds 9%, the transmittance tends to decrease.
Bi2O3はTsを低下させる成分であり、必須である。3%未満ではTsが高くなる。典型的には7%以上である。15%超ではαまたはεが大きくなるおそれがある。典型的には10%以下である。
Al2O3は必須ではないが、ガラスを安定化させる等のために10%まで含有してもよい。10%超では透過率が低下しやすくなる。典型的には5%以下である。Al2O3を含有する場合その含有量は典型的には1.5%以上である。
CeO2およびMnO2は銀発色等が顕著にならないようにし、また、電極被覆ガラス層の着色が強くならないようにする成分であり、いずれも必須である。典型的にはいずれも0.05〜0.15%である。
Bi 2 O 3 is a component that lowers Ts and is essential. If it is less than 3%, Ts becomes high. Typically 7% or more. If it exceeds 15%, α or ε may increase. Typically 10% or less.
Al 2 O 3 is not essential, but may be contained up to 10% in order to stabilize the glass. If it exceeds 10%, the transmittance tends to decrease. Typically 5% or less. When Al 2 O 3 is contained, its content is typically 1.5% or more.
CeO 2 and MnO 2 are components that prevent silver coloring and the like from becoming prominent and prevent the electrode-coated glass layer from becoming strongly colored, both of which are essential. Typically, both are 0.05 to 0.15%.
好ましい態様として、B2O3が25〜35%、ZnOが27〜60%、BaOが7〜16%、Bi2O3が3〜10%、Al2O3が0〜5%、であるものが挙げられ、典型的には、B2O3が28〜32%、SiO2が11〜17%、ZnOが29〜35%、BaOが10〜14%、Bi2O3が7〜10%、である。 In a preferred embodiment, B 2 O 3 is 25 to 35%, ZnO is 27 to 60%, BaO is 7 to 16%, Bi 2 O 3 is 3 to 10%, and Al 2 O 3 is 0 to 5%. Typically, B 2 O 3 is 28 to 32%, SiO 2 is 11 to 17%, ZnO is 29 to 35%, BaO is 10 to 14%, and Bi 2 O 3 is 7 to 10%. %.
本発明の第2のガラスは本質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲で他の成分を含有してもよい。その場合、当該他の成分の含有量の合計は4%以下であることが好ましい。
そのような成分としては、CoO、CuO、TiO2、樹脂の分解の促進等を目的とするSnO2、εの調整等を目的とするLa2O3などが例示される。
Although the 2nd glass of this invention consists essentially of the said component, you may contain another component in the range which does not impair the objective of this invention. In that case, the total content of the other components is preferably 4% or less.
Examples of such components include CoO, CuO, TiO 2 , SnO 2 for the purpose of promoting the decomposition of the resin, La 2 O 3 for the purpose of adjusting ε, and the like.
本発明の第2のガラスはPbOを含有しないが、この他にP2O5も含有しないことが好ましい。P2O5を含有すると透過率が低下するおそれがある。
また、CuOを含有する場合その含有量は0.3%以下であることが好ましい。0.3%超では透過率が低下するおそれがある。
TiO2を含有する場合その含有量は2%以下であることが好ましい。2%超ではガラスが不安定になるまたは透過率が低下するおそれがある。
The second glass of the present invention does not contain PbO, it is preferred not to contain even P 2 O 5 in the other. If P 2 O 5 is contained, the transmittance may decrease.
Moreover, when it contains CuO, it is preferable that the content is 0.3% or less. If it exceeds 0.3%, the transmittance may decrease.
When TiO 2 is contained, the content is preferably 2% or less. If it exceeds 2%, the glass may become unstable or the transmittance may be lowered.
表1のB2O3からMnO2までの欄にモル%表示で示す組成となるように原料を調合して混合し、1200〜1350℃の電気炉中で白金ルツボを用いて1時間溶融し、薄板状ガラスに成形した後、ボールミルで粉砕し、風力分級により分級し、ガラス粉末とした。例1〜3は実施例、例4〜9は比較例である。なお、例8、9は前記特許文献1に記載のガラス組成範囲に含まれるものであり、その質量百分率表示組成を表2に示す。 The raw materials were prepared and mixed so as to have a composition represented by mol% in the column from B 2 O 3 to MnO 2 in Table 1, and melted for 1 hour using a platinum crucible in an electric furnace at 1200 to 1350 ° C. After forming into thin glass, it was pulverized with a ball mill and classified by air classification to obtain glass powder. Examples 1 to 3 are examples, and examples 4 to 9 are comparative examples. Examples 8 and 9 are included in the glass composition range described in Patent Document 1 and the mass percentage display compositions are shown in Table 2.
これらガラスについて次のようにしてTg(単位:℃)、Ts(単位:℃)、α(単位:10−7/℃)、εを測定した。結果を表1に示す。
Tg、Ts:示差熱分析装置を用いて測定した。
α:ガラス粉末を成形後、580℃に10分間保持する焼成によって得た焼結体を直径が5mm、長さが2cmの円柱形状に加工し、熱膨張計で50〜350℃における平均線膨張係数を測定した。
ε:溶融ガラスを徐冷して板状に成形し、直径50mm、厚さ3mmの直径形状に切削研磨加工し、その両面に金電極を真空蒸着法により形成してサンプルとした。このサンプルの20℃、1kHzにおける比誘電率をLCRメータを用いて測定した。
Tg (unit: ° C.), Ts (unit: ° C.), α (unit: 10 −7 / ° C.), and ε were measured for these glasses as follows. The results are shown in Table 1.
Tg, Ts: measured using a differential thermal analyzer.
α: After the glass powder is molded, a sintered body obtained by firing at 580 ° C. for 10 minutes is processed into a cylindrical shape having a diameter of 5 mm and a length of 2 cm, and an average linear expansion at 50 to 350 ° C. with a thermal dilatometer The coefficient was measured.
ε: Molten glass was gradually cooled and formed into a plate shape, cut and polished into a diameter shape with a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm, and gold electrodes were formed on both surfaces thereof by a vacuum deposition method to prepare a sample. The relative dielectric constant of this sample at 20 ° C. and 1 kHz was measured using an LCR meter.
前記ガラス粉末32.5gを有機ビヒクル12.5gと混練してガラスペーストを作製した。なお、有機ビヒクルは、α−テルピネオールにエチルセルロースを質量百分率表示で10%溶解して作製した。 A glass paste was prepared by kneading 32.5 g of the glass powder with 12.5 g of an organic vehicle. The organic vehicle was prepared by dissolving 10% ethyl cellulose in α-terpineol in terms of mass percentage.
また、大きさ50mm×75mm、厚さ2.8mmのガラス基板(旭硝子社製PD200)を2枚用意した。フロート法で製造されたこれらガラス基板のトップ面(フロート成形時に溶融スズと接触していない方の面)の48mm×38mmの部分に前記ガラスペーストを均一に100μm厚みまたは125μm厚みのメタルマスクを用いてブレードコートし、120℃で10分間乾燥した。これらガラス基板を昇温速度10℃/分で温度がそれぞれ570℃、590℃に達するまで加熱し、その温度に30分間保持して焼成した。このようにしてガラス基板上に形成されたガラス層の厚みは20〜30μmであった。 Two glass substrates (PD200 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having a size of 50 mm × 75 mm and a thickness of 2.8 mm were prepared. The glass paste is uniformly applied to a 48 mm × 38 mm portion of the top surface of the glass substrate manufactured by the float process (the surface not in contact with molten tin at the time of float forming) using a metal mask having a thickness of 100 μm or 125 μm. The blade was coated and dried at 120 ° C. for 10 minutes. These glass substrates were heated at a heating rate of 10 ° C./min until the temperatures reached 570 ° C. and 590 ° C., respectively, held at that temperature for 30 minutes, and fired. Thus, the thickness of the glass layer formed on the glass substrate was 20-30 micrometers.
これらガラス層付きガラス基板について、波長550nmの直線光の透過率を以下に述べるようにして測定した。結果を表1に示す。なお、T(570℃)、T(590℃)はそれぞれ570℃、590℃で焼成した場合の透過率である。 About these glass substrates with a glass layer, the transmittance | permeability of the linear light of wavelength 550nm was measured as described below. The results are shown in Table 1. T (570 ° C.) and T (590 ° C.) are transmittances when fired at 570 ° C. and 590 ° C., respectively.
透過率:日立製作所社製自記分光光度計U−4100を用いて波長550nmの直線光の透過率を測定した(試料のない状態を100%とした。)。この透過率は70%以上であることが好ましい。 Transmittance: The transmittance of linear light having a wavelength of 550 nm was measured using a self-recording spectrophotometer U-4100 manufactured by Hitachi, Ltd. (the state where there was no sample was taken as 100%). This transmittance is preferably 70% or more.
別に、大きさ50mm×75mm、厚さ2.8mmのガラス基板(旭硝子社製PD200)を2枚用意した。
これらガラス基板のトップ面の46mm×32mmの部分にノリタケカンパニーリミテド社銀ペーストNP−4028Aをスクリーン印刷し、その後乾燥、焼成して銀層形成ガラス基板を作製した。
Separately, two glass substrates (PD200 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having a size of 50 mm × 75 mm and a thickness of 2.8 mm were prepared.
Silver paste NP-4028A of Noritake Company Limited was screen-printed on a 46 mm × 32 mm portion of the top surface of these glass substrates, and then dried and fired to produce a silver layer-formed glass substrate.
この銀層形成ガラス基板の銀層を覆うように、銀層が形成された面の48mm×38mmの部分に前記ガラスペーストを均一に100μm厚みまたは125μm厚みのメタルマスクを用いてブレードコートし、120℃で10分間乾燥した。これらガラス基板を昇温速度10℃/分で温度がそれぞれ570℃、590℃に達するまで加熱し、その温度に30分間保持して焼成した。得られたガラス層の厚みは20〜30μmであった。 The glass paste is uniformly blade-coated on a 48 mm × 38 mm portion of the surface on which the silver layer is formed using a metal mask having a thickness of 100 μm or 125 μm so as to cover the silver layer of the silver layer-formed glass substrate. Dry at 10 ° C. for 10 minutes. These glass substrates were heated at a heating rate of 10 ° C./min until the temperatures reached 570 ° C. and 590 ° C., respectively, held at that temperature for 30 minutes, and fired. The thickness of the obtained glass layer was 20-30 micrometers.
これらについて分光測色計を用いてL値、a値、b値を測定した。すなわち、白色基準板の上にガラス層が形成された面が測定面となるように前記ガラス基板を置き、ミノルタ社製分光測色計を用いてL値、a値、b値を測定した。570℃、590℃で焼成した場合のb値を表1に示す。
前記b値は12以下であることが好ましい。12超では銀発色等の抑制が不十分である。
About these, L value, a value, and b value were measured using the spectrocolorimeter. That is, the glass substrate was placed so that the surface on which the glass layer was formed on the white reference plate was the measurement surface, and the L value, a value, and b value were measured using a spectrocolorimeter manufactured by Minolta. Table 1 shows the b value when baked at 570 ° C and 590 ° C.
The b value is preferably 12 or less. If it exceeds 12, suppression of silver coloring or the like is insufficient.
また、厚みが25μmのガラス層による着色の程度を調べるために次のようにしてΔL、Δa、Δbを測定した。
まず、大きさ50mm×75mm、厚さ2.8mmのガラス基板(旭硝子社製PD200)を2枚用意した。
これらガラス基板のトップ面の48mm×38mmの部分に一方のガラス基板では100μm厚みの、他方のガラス基板では125μm厚みのメタルマスクを用いて前記ガラスペーストをそれぞれ均一にブレードコートし、120℃で10分間乾燥した。
Further, ΔL, Δa, and Δb were measured as follows in order to examine the degree of coloring by the glass layer having a thickness of 25 μm.
First, two glass substrates (PD200 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having a size of 50 mm × 75 mm and a thickness of 2.8 mm were prepared.
The glass paste is uniformly blade-coated on a 48 mm × 38 mm portion of the top surface of these glass substrates using a metal mask having a thickness of 100 μm on one glass substrate and a thickness of 125 μm on the other glass substrate. Dried for minutes.
その後昇温速度10℃/分で温度が590℃に達するまで加熱し、その温度に30分間保持して焼成しガラス層付きガラス基板を得た。得られたガラス層の厚みはそれぞれ約20μmおよび約30μmであった。
これら2枚のガラス層付きガラス基板について、先にガラス層付き銀層形成ガラス基板についてしたと同様にしてL値、a値、b値を測定した。ガラス層の厚みが約20μm、約30μmである前記ガラス基板のL値、a値、b値から内挿計算によってガラス層の厚みが25μmであるガラス層付きガラス基板のL値、a値、b値を求めた。
また、ガラス層を形成していないガラス基板についてもL値、a値、b値を測定した。
Thereafter, the mixture was heated at a heating rate of 10 ° C./min until the temperature reached 590 ° C., held at that temperature for 30 minutes and fired to obtain a glass substrate with a glass layer. The thickness of the obtained glass layer was about 20 μm and about 30 μm, respectively.
About these two glass substrate with a glass layer, L value, a value, and b value were measured like the silver layer formation glass substrate with a glass layer previously. The L value, a value, and b of the glass substrate with a glass layer having a thickness of 25 μm by interpolation from the L value, a value, and b value of the glass substrate having a glass layer thickness of about 20 μm and about 30 μm. The value was determined.
Moreover, L value, a value, and b value were measured also about the glass substrate which has not formed the glass layer.
ガラス層の厚みが25μmであるガラス層付きガラス基板のL値、a値、b値からガラス層を形成していないガラス基板のL値、a値、b値を減じた値ΔL、Δa、Δbを表1に示す。Δaは−0.5〜+0.5であることが好ましい。−0.5未満では緑の着色が、+0.5超では赤の着色が強い。Δbは−2.0〜+2.0であることが好ましい。−2.0未満では青の着色が、+2.0超では黄の着色が強い。 Values obtained by subtracting the L value, a value, and b value of the glass substrate on which the glass layer is not formed from the L value, a value, and b value of the glass substrate with the glass layer having a glass layer thickness of 25 μm ΔL, Δa, Δb Is shown in Table 1. Δa is preferably −0.5 to +0.5. If it is less than −0.5, green coloring is strong, and if it exceeds +0.5, red coloring is strong. Δb is preferably −2.0 to +2.0. If it is less than −2.0, blue coloring is strong, and if it exceeds +2.0, yellow coloring is strong.
PDP基板の電極被覆に利用できる。
It can be used for electrode coating of a PDP substrate.
Claims (6)
A plasma display panel in which cells are defined by a front substrate, a rear substrate and partition walls used as a display surface, the electrodes formed on the glass substrate constituting the front substrate or the glass substrate constituting the rear substrate A plasma display panel in which the electrode formed on the electrode is covered with the electrode coating glass according to claim 1.
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