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JP2007110010A - Flexible printed wiring board, flexible printed circuit board, and their manufacturing method - Google Patents

Flexible printed wiring board, flexible printed circuit board, and their manufacturing method Download PDF

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JP2007110010A
JP2007110010A JP2005301560A JP2005301560A JP2007110010A JP 2007110010 A JP2007110010 A JP 2007110010A JP 2005301560 A JP2005301560 A JP 2005301560A JP 2005301560 A JP2005301560 A JP 2005301560A JP 2007110010 A JP2007110010 A JP 2007110010A
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JP
Japan
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wiring pattern
wiring
flexible printed
manufacturing
insulating material
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JP2005301560A
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Japanese (ja)
Inventor
Eiichi Nakajima
栄一 中島
Katsuyoshi Kobayashi
克義 小林
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Shindo Denshi Kogyo KK
Original Assignee
Shindo Denshi Kogyo KK
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Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)
  • Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a flexible printed wiring board which can effectively dissipate heat of a mounted semiconductor chip, is excellent in shielding against electromagnetic waves, is highly flexible, is inexpensive in material cost for preparing a flexible printed circuit board with good assembling operability when in use, is easy to produce with a small number of manufacturing processes, does not need an expensive apparatus, and can provide wiring patterns on multiple layers or on both surfaces. <P>SOLUTION: The manufacturing method includes steps of laminating an epoxy-based resin sheet made of thermosetting resin for example on a metallic base material 50 made of copper, aluminum or the like, and applying heat and pressure to form an insulation material 52 serving as an adhesive; forming a wiring pattern 53a thereon via the insulation material; then applying heat and pressure to a ground wiring part of the wiring pattern by pressing a bonding tool 56 or the like against the part; burying the ground wiring in the softened insulation material 52 by deforming the wiring; and connecting it with the metallic base material 50. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

この発明は、可撓性を有する短尺または長尺のシート基材上にプリントによって導体パターンを形成するフレキシブルプリント配線板に関する。および、そのようなフレキシブルプリント配線板上に半導体チップを搭載するフレキシブル回路板に関する。ならびに、それらフレキシブルプリント配線板およびフレキシブル回路板の製造方法に関する。   The present invention relates to a flexible printed wiring board that forms a conductor pattern by printing on a flexible short or long sheet substrate. And it is related with the flexible circuit board which mounts a semiconductor chip on such a flexible printed wiring board. The present invention also relates to a method for manufacturing the flexible printed wiring board and the flexible circuit board.

従来のフレキシブル回路板は、例えば図11(A)に示すように構成していた。図中符号1は絶縁基材であり、その上に配線パターン2を形成し、その配線パターン2をソルダーレジスト3で被って保護するとともに、配線パターン2のチップ接続端子2aに半導体チップ4のバンプ5を接続して絶縁基材1上に半導体チップ4をフリップチップ実装し、絶縁基材1と半導体チップ4との間に封止樹脂6を充填して樹脂封止していた。   A conventional flexible circuit board is configured as shown in FIG. Reference numeral 1 in the figure denotes an insulating base material, on which a wiring pattern 2 is formed, and the wiring pattern 2 is covered with a solder resist 3 to be protected, and the bumps of the semiconductor chip 4 are bumped on the chip connection terminals 2a of the wiring pattern 2. 5, the semiconductor chip 4 was flip-chip mounted on the insulating base material 1, and the sealing resin 6 was filled between the insulating base material 1 and the semiconductor chip 4 for resin sealing.

図11(B)には、そのフレキシブル回路板から打ち抜いて形成した半導体モジュール7の使用例を示す。図示するように、半導体モジュール7は、半導体チップ4を搭載する側を内側として湾曲し、例えば配線パターン2の別の一部接続端子2bを液晶パネル8に接続し、別の他部接続端子2cを他のプリント配線板9に接続していた。   FIG. 11B shows a usage example of the semiconductor module 7 formed by punching from the flexible circuit board. As shown in the figure, the semiconductor module 7 is curved with the side on which the semiconductor chip 4 is mounted as the inside, and for example, another partial connection terminal 2b of the wiring pattern 2 is connected to the liquid crystal panel 8 and another other connection terminal 2c. Is connected to another printed wiring board 9.

ところで、このような半導体モジュール7では、使用により、半導体チップ4に熱を発生する。その半導体チップ4に発生した熱は、半導体チップ4に接触しているまわりの空気に伝わり、また半導体チップ4に直接接触している配線パターン2や封止樹脂6へと伝わり、さらにそれらに接続している部品へと順に伝わる。そして、半導体チップ4に直接または間接的に接続しているそれら部品を介して次々とまわりの空気に放熱していた。   By the way, in such a semiconductor module 7, heat is generated in the semiconductor chip 4 by use. The heat generated in the semiconductor chip 4 is transmitted to the air around the semiconductor chip 4, and is transmitted to the wiring pattern 2 and the sealing resin 6 directly in contact with the semiconductor chip 4, and further connected to them. It is transmitted to the parts that are in order. Then, heat is radiated to the surrounding air one after another through those components connected directly or indirectly to the semiconductor chip 4.

ここで、熱伝導に関しては、フーリエの法則があり、θを熱抵抗、Lを経路長、λを熱伝導率、Aを伝熱面積とすると、
θ=L/λ・A
の式が成り立つ。もちろん、熱抵抗θが小さいほど熱が伝わりやすくなり、発熱体の温度を下げることができる。
Here, regarding heat conduction, there is a Fourier law, where θ is a thermal resistance, L is a path length, λ is a thermal conductivity, and A is a heat transfer area.
θ = L / λ · A
The following equation holds. Of course, the smaller the thermal resistance θ, the easier the heat is transmitted and the temperature of the heating element can be lowered.

よって、このフーリエの法則から判るとおり、図11に示すような従来の半導体モジュール7では、半導体チップ4は小さいものであり、半導体チップ4に直接または間接的に接続している封止樹脂6や絶縁基材1の熱伝導率λも小さいものであることから、放熱効果を期待することはできなかった。特に、昨今では、液晶画面の高密度化や高精細化にともない、配線パターン2が細線化されて厚さも薄くなっており、配線パターン2を介しての放熱も悪くなる傾向にある。   Therefore, as can be seen from the Fourier law, in the conventional semiconductor module 7 as shown in FIG. 11, the semiconductor chip 4 is small, and the sealing resin 6 directly or indirectly connected to the semiconductor chip 4 Since the thermal conductivity λ of the insulating base material 1 is also small, it was not possible to expect a heat dissipation effect. In particular, with recent increases in the density and definition of liquid crystal screens, the wiring pattern 2 is thinned and thinned, and heat dissipation through the wiring pattern 2 tends to deteriorate.

この結果、半導体チップ4で発生した熱が下がりにくくなって、例えば半導体チップ4の動作スピードが遅くなったり、信頼性が低下したりするなどの弊害を生ずることとなった。   As a result, the heat generated in the semiconductor chip 4 is less likely to be lowered, causing problems such as a reduction in the operation speed of the semiconductor chip 4 and a decrease in reliability.

なお、このような半導体モジュール7において、絶縁基材1は、その製造工程中に受ける熱や薬品に耐える必要があり、通常ポリイミドが用いられている。しかし、ポリイミドは、高価であり、製造元が限られていることから供給不安がある問題があった。また、リサイクルが困難であり、今日の環境保護の要請に応えることが難しい問題があり、しかもきわめて帯電しやすく、塵や異物を吸着しやすく、半導体チップ4への悪影響が懸念されている。   In such a semiconductor module 7, the insulating substrate 1 needs to withstand heat and chemicals received during the manufacturing process, and polyimide is usually used. However, since polyimide is expensive and its manufacturer is limited, there is a problem that supply is uneasy. Further, there are problems that it is difficult to recycle and it is difficult to meet today's demands for environmental protection, and it is very easy to be charged, dust and foreign matter are easily adsorbed, and there are concerns about adverse effects on the semiconductor chip 4.

さらに、使用時において図11(B)に示すように湾曲したときにも、ポリイミドよりなる絶縁基材1が塑性変形しにくくなお弾性を保持することから、元の形状に戻ろうとする力が働いて、今日の小型化や高密度化や高精細化にともない特に狭くて複雑な空間に実装するときにはなおさら、作業能率が低下する問題があった。加えて、配線パターン2から発生する電磁波によって別の配線パターン2に悪影響を及ぼしたり、外部に悪影響を与えたりするおそれがあり、また反対に外部からの電磁波の影響を受けるおそれもあった。   Further, even when it is bent as shown in FIG. 11 (B) in use, the insulating base material 1 made of polyimide is not easily plastically deformed and still retains elasticity, so that a force to return to the original shape works. As a result of today's miniaturization, high density, and high definition, there has been a problem that the work efficiency is lowered particularly when mounting in a narrow and complex space. In addition, the electromagnetic wave generated from the wiring pattern 2 may adversely affect another wiring pattern 2 or may adversely affect the outside, and conversely, may be affected by the electromagnetic wave from the outside.

このため、従来のフレキシブルプリント回路板の中には、半導体チップの放熱効果を高めるべく、図12に示す製造方法により形成したフレキシブルプリント配線板に、図13に示すように半導体チップを実装して形成するものがある。そして、そのフレキシブルプリント回路板から打ち抜いて形成した半導体モジュールを、例えば図14に示すように使用していた。   Therefore, in the conventional flexible printed circuit board, in order to enhance the heat dissipation effect of the semiconductor chip, the semiconductor chip is mounted on the flexible printed wiring board formed by the manufacturing method shown in FIG. 12 as shown in FIG. There is something to form. Then, a semiconductor module formed by punching from the flexible printed circuit board has been used, for example, as shown in FIG.

すなわち、図12(A)に示すように、例えば長尺の絶縁基材10の一面に配線形成用銅箔11を、他面にベタ銅箔12を有する両面配線用基材28を使用し、(B)に示すようにその両面配線用基材28のベタ銅箔12の一部を丸く除去して円形除去部12aを形成し、そののちケミカルエッチングやレーザ照射により、(C)に示すように絶縁基材10の一部を除去して絶縁基材除去部10aを形成していた。ここで、レーザ照射により絶縁基材除去部10aを形成するときは、完全に除去できずに配線形成用銅箔11の裏にスミアが残るため、ケミカルエッチング法によりデスミア処理を行う必要があり、さらに後に行う電解めっき処理のための導電性付与処理を行う必要があった。   That is, as shown in FIG. 12 (A), for example, a double-sided wiring base material 28 having a wiring forming copper foil 11 on one side of a long insulating base material 10 and a solid copper foil 12 on the other side, As shown in (B), a part of the solid copper foil 12 of the double-sided wiring substrate 28 is removed in a round shape to form a circular removal portion 12a, and then, as shown in (C) by chemical etching or laser irradiation. A part of the insulating base material 10 was removed to form the insulating base material removal portion 10a. Here, when forming the insulating base material removal part 10a by laser irradiation, it is necessary to perform a desmear treatment by a chemical etching method because smear remains behind the wiring forming copper foil 11 without being completely removed, Further, it was necessary to perform conductivity imparting treatment for electrolytic plating treatment to be performed later.

次いで、(D)に示すように絶縁基材除去部10aに電解めっきを行い、銅めっき13を付けて配線形成用銅箔11とベタ銅箔12とを接続し、ブラインドビアホール14を形成して後、(E)に示すように配線形成用銅箔11をエッチングして、グランド配線部分を銅めっき13と接続した配線パターン11aを形成し、その配線パターン11aにすずめっきや金めっきを行うとともにソルダーレジスト15を設け、フレキシブルプリント配線板16を形成していた。   Next, as shown in (D), the insulating base material removing portion 10a is subjected to electrolytic plating, the copper plating 13 is attached, the wiring forming copper foil 11 and the solid copper foil 12 are connected, and the blind via hole 14 is formed. Thereafter, as shown in (E), the wiring forming copper foil 11 is etched to form a wiring pattern 11a in which the ground wiring portion is connected to the copper plating 13, and the wiring pattern 11a is subjected to tin plating or gold plating. The solder resist 15 was provided and the flexible printed wiring board 16 was formed.

その後、図13(A)に示すように、フレキシブルプリント配線板16を長さ方向に搬送可能に設けて順次加熱ステージ17の上に乗せ、その配線パターン11aのチップ接続端子11bに半導体チップ18の金バンプ19を位置合わせし、ボンディングツール20で加熱するとともに加圧してそれらを接続し、フリップチップ実装することによりフレキシブルプリント配線板16上に半導体チップ18を搭載する。それから、(B)に示すように塗布ノズル21を用いて封止樹脂22を流し込み、(C)に示すように半導体チップ18を封止してフレキシブルプリント回路板23を完成していた。   Thereafter, as shown in FIG. 13A, the flexible printed wiring board 16 is provided so as to be transportable in the length direction, and is sequentially placed on the heating stage 17, and the semiconductor chip 18 is placed on the chip connection terminal 11b of the wiring pattern 11a. The gold bumps 19 are aligned, heated and pressed by the bonding tool 20 to connect them, and the semiconductor chip 18 is mounted on the flexible printed wiring board 16 by flip chip mounting. Then, as shown in (B), the sealing resin 22 was poured using the coating nozzle 21, and the semiconductor chip 18 was sealed as shown in (C) to complete the flexible printed circuit board 23.

そして、使用するときには、一定間隔で半導体チップ18を搭載する長尺のフレキシブルプリント回路板23から打ち抜いて半導体モジュール26を形成し、その半導体モジュール26を、図14に示すように同様に半導体チップ18を搭載する側を内側として湾曲し、例えば配線パターン11aの別の一部接続端子11cを液晶パネル24に接続し、別の他部接続端子11dを他のプリント配線板25に接続していた。   When used, the semiconductor module 26 is formed by punching from the long flexible printed circuit board 23 on which the semiconductor chips 18 are mounted at regular intervals, and the semiconductor module 26 is similarly formed as shown in FIG. For example, another partial connection terminal 11 c of the wiring pattern 11 a is connected to the liquid crystal panel 24, and another other connection terminal 11 d is connected to another printed wiring board 25.

これにより、半導体チップ18が発生した熱を金バンプ19から配線パターン11aに伝え、その配線パターン11aから銅めっき13を介して表面積の大きなベタ銅箔12に伝達していた。ここで、上述したフーリエの法則を考えると、経路上にある金バンプ19、配線パターン11a、銅めっき13、ベタ銅箔12は、いずれも熱伝導率λが大きく、ベタ銅箔12の伝熱面積Aも大きいから、熱抵抗θを小さくし、半導体チップ17の放熱効果を上げることができる。   As a result, the heat generated by the semiconductor chip 18 is transmitted from the gold bump 19 to the wiring pattern 11 a, and is transmitted from the wiring pattern 11 a to the solid copper foil 12 having a large surface area via the copper plating 13. Here, considering the Fourier law described above, the gold bump 19, the wiring pattern 11 a, the copper plating 13, and the solid copper foil 12 on the path all have large thermal conductivity λ, and the heat transfer of the solid copper foil 12. Since the area A is also large, the thermal resistance θ can be reduced and the heat dissipation effect of the semiconductor chip 17 can be increased.

また、図示のような半導体モジュール26では、配線パターン11aのグランド配線部分をベタ銅箔12に接続するから、絶縁基材10の裏面側全面に設けるベタ銅箔12により電磁波シールド効果を生じ、配線パターン11aから発生する電磁波ノイズを低減し、また外部からの電磁波ノイズの影響を受けにくくすることができる。さらに、図14に示すように半導体モジュール26を湾曲して組み付けるとき、ベタ銅箔12が塑性変形して元の形状に戻ろうとする弾性力を低減するから、組み付け作業性を高めることができる利点もある。   Moreover, in the semiconductor module 26 as shown in the figure, the ground wiring portion of the wiring pattern 11a is connected to the solid copper foil 12, so that the solid copper foil 12 provided on the entire back surface side of the insulating base 10 produces an electromagnetic wave shielding effect, Electromagnetic noise generated from the pattern 11a can be reduced, and the influence of external electromagnetic noise can be reduced. Furthermore, as shown in FIG. 14, when the semiconductor module 26 is bent and assembled, the solid copper foil 12 is plastically deformed to reduce the elastic force to return to the original shape, so that the assembling workability can be improved. There is also.

しかしながら、上述した図12および図13に示すような製造方法では、高価な両面配線用基材28を使用し、製造工程数も多く、しかも絶縁基材10の一部を除去するためにケミカルエッチング装置やレーザ照射装置などの高価な装置を必要とするから、コスト高となって費用対効果の点で問題があった。加えて、絶縁基材10上に配線パターンを多層に設け、絶縁基材10の両面に配線パターンを設けることが困難である問題もあった。   However, in the manufacturing method as shown in FIGS. 12 and 13, the expensive double-sided wiring substrate 28 is used, the number of manufacturing steps is large, and chemical etching is performed to remove a part of the insulating substrate 10. Since an expensive device such as a device or a laser irradiation device is required, there is a problem in terms of cost and cost. In addition, there is a problem that it is difficult to provide wiring patterns on the insulating base material 10 in multiple layers and to provide wiring patterns on both surfaces of the insulating base material 10.

なお、従来のフレキシブルプリント配線板の中には、高価な両面配線用基材を使用せず、製造工程数も比較的少なく、しかもケミカルエッチング装置やレーザ照射装置などの高価な装置を必要とせず、多層や両面で配線パターンを設けることも可能な製造方法も提案されている。   In addition, the conventional flexible printed wiring board does not use an expensive double-sided wiring substrate, has a relatively small number of manufacturing steps, and does not require an expensive apparatus such as a chemical etching apparatus or a laser irradiation apparatus. In addition, a manufacturing method in which wiring patterns can be provided in multiple layers or on both sides has also been proposed.

例えば図15(A)に示すように金属板30の表面を絶縁材31で被覆し、(B)に示すように絶縁材31の上に、銅ペーストをスクリーン印刷して後、加熱硬化することにより配線パターン32を形成する。   For example, as shown in FIG. 15A, the surface of the metal plate 30 is covered with an insulating material 31, and a copper paste is screen-printed on the insulating material 31 as shown in FIG. Thus, the wiring pattern 32 is formed.

2層の回路を形成するときは、(C)に示すように配線パターン32を覆って絶縁材31上に感光性樹脂を塗布し、加熱硬化することにより絶縁層33を形成する。その後、マスクを介して露光現像を行い、(D)に示すように絶縁層33のパターンを形成し、(E)に示すように絶縁層33のくぼみに銅ペースト34を埋め込み硬化する。その後、再び上記工程(B)ないし(D)を繰り返して2層目の配線パターン35を形成して後、2層目の絶縁層36を形成し、(F)に示すように配線パターン35にニッケルめっきおよび金めっき37を施してフレキシブルプリント配線板を得る。   When forming a two-layer circuit, the insulating layer 33 is formed by applying a photosensitive resin on the insulating material 31 so as to cover the wiring pattern 32 as shown in FIG. Thereafter, exposure and development are performed through a mask to form a pattern of the insulating layer 33 as shown in (D), and a copper paste 34 is embedded and hardened in the recess of the insulating layer 33 as shown in (E). Thereafter, the above steps (B) to (D) are repeated to form the second wiring pattern 35, and then the second insulating layer 36 is formed. As shown in FIG. Nickel plating and gold plating 37 are applied to obtain a flexible printed wiring board.

この図15に示す製造方法により作成したフレキシブルプリント配線板によれば、塑性変形しやすく湾曲しやすい金属板30を使用するから、組み付け時の作業性を向上することができる。ところが、金属板30に配線パターン32・35が接続されていないことから、肝心な放熱効果を期待することができなかった。   According to the flexible printed wiring board produced by the manufacturing method shown in FIG. 15, since the metal plate 30 that is easily plastically deformed and easily bent is used, the workability at the time of assembly can be improved. However, since the wiring patterns 32 and 35 are not connected to the metal plate 30, it was not possible to expect an essential heat dissipation effect.

仮に、1層目の配線パターン32と2層目の配線パターン35とを銅ペースト34を用いて接続したように、スクリーン印刷で銅ペーストを形成して金属板30と配線パターン32とを接続したとしても、印刷では微細な配線ピッチを形成することができず、また空気を閉じ込めないように真空状態にして印刷しなければならず、その後硬化させなければならないから、大変多くの工程を必要とする。さらに、絶縁層33・36の形成に感光体樹脂を用いると、電気的絶縁特性が悪くなり、熱収縮率も高いために反りが大きくなる、などの多くの問題を生ずる。   As if the first-layer wiring pattern 32 and the second-layer wiring pattern 35 were connected using the copper paste 34, the copper paste was formed by screen printing to connect the metal plate 30 and the wiring pattern 32. However, in printing, it is not possible to form a fine wiring pitch, and it must be printed in a vacuum state so as not to confine air, and then it must be cured, which requires a very large number of steps. To do. Further, when the photosensitive resin is used for forming the insulating layers 33 and 36, there are many problems such as poor electrical insulation characteristics and high warpage due to high thermal shrinkage.

また、従来のフレキシブルプリント配線板の中には、図16(A)に符号40で示すように、ベースフィルム41の上に金属回路パターン42を形成してなり、その金属回路パターン42上に熱可塑性樹脂43を設けて金属回路パターン42を、プリント配線板44の基材45上の銅箔パターン46に位置合わせし、(B)に示すように超音波ホーン47のチップ48で押して超音波溶着により容易に接続するものがある。   Further, in the conventional flexible printed wiring board, as indicated by reference numeral 40 in FIG. 16A, a metal circuit pattern 42 is formed on the base film 41, and the metal circuit pattern 42 is heated. The plastic circuit 43 is provided to align the metal circuit pattern 42 with the copper foil pattern 46 on the substrate 45 of the printed wiring board 44, and as shown in FIG. Some are more easily connected.

しかし、このようなフレキシブルプリント配線板では、プリント配線板44の基材45を金属基材として放熱効果を向上しても、ベースフィルム41が存在するから、金属回路パターン42に接続して半導体チップを搭載することができず、また多層に形成しても金属回路パターン42同士を接続することは困難である。さらに、超音波ホーン47のチップ48を用いてベースフィルム41を介して押すから、金属回路パターン42の小面積を押すことができず、金属回路パターン42の1つの配線のみを押してそれを対応する銅箔パターン46に接続することが困難である問題があった。   However, in such a flexible printed wiring board, even if the base plate 45 of the printed wiring board 44 is used as a metal base to improve the heat dissipation effect, the base film 41 is present, so that the semiconductor chip is connected to the metal circuit pattern 42. It is difficult to connect the metal circuit patterns 42 to each other even if they are formed in multiple layers. Further, since the chip 48 of the ultrasonic horn 47 is used to push through the base film 41, the small area of the metal circuit pattern 42 cannot be pushed, and only one wiring of the metal circuit pattern 42 is pushed to cope with it. There was a problem that it was difficult to connect to the copper foil pattern 46.

特開平2−177493号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2-177493 特開平4−186697号公報JP-A-4-186977

以上のとおり、搭載する半導体チップが発生する熱を有効に発散することができ、しかも電磁波のシールド性に優れ、屈曲性に富んで使用時の組み付け作業性のよいフレキシブルプリント回路板を作成する製造方法においては、高価な両面配線用基材を使用し、製造工程数も多く、しかも絶縁基材の一部を除去するためにケミカルエッチング装置やレーザ照射装置などの高価な装置を必要とするから、コスト高となって費用対効果の点で問題があった。加えて、絶縁基材上に配線パターンを多層に設け、絶縁基材の両面に配線パターンを設けることが困難である問題もあった。   As described above, manufacturing can produce a flexible printed circuit board that can effectively dissipate the heat generated by the mounted semiconductor chip, has excellent electromagnetic shielding properties, is flexible, and has good assembly workability during use. In the method, an expensive double-sided wiring substrate is used, the number of manufacturing processes is large, and an expensive device such as a chemical etching device or a laser irradiation device is required to remove a part of the insulating substrate. There was a problem in terms of cost effectiveness due to high costs. In addition, there is a problem that it is difficult to provide wiring patterns on the insulating base material in multiple layers and to provide the wiring patterns on both surfaces of the insulating base material.

そこで、この発明の第1の目的は、搭載する半導体チップの熱を有効に発散することができ、しかも電磁波のシールド性に優れ、屈曲性に富んで使用時の組み付け作業性のよいフレキシブルプリント回路板を作成すべく、材料コストが安く、製造工程数が少なく製作が容易で、しかも高価な装置を必要とせず、多層や両面に配線パターンを設けることができるフレキシブルプリント配線板の製造方法を提供することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, a first object of the present invention is to provide a flexible printed circuit that can effectively dissipate heat of a semiconductor chip to be mounted, has excellent electromagnetic shielding properties, is highly flexible, and has good assembly workability during use. Providing a flexible printed wiring board manufacturing method that can be used to create a board with low material costs, few manufacturing steps, easy manufacturing, and without the need for expensive equipment, and providing wiring patterns on multiple layers and on both sides. There is to do.

この発明の第2の目的は、配線パターンのグランド配線部分と金属基材との接続の信頼性を向上し、半導体チップの熱の発散を確実として放熱効果を一層向上したフレキシブルプリント回路板を作成可能とするフレキシブルプリント配線板の製造方法を提供することにある。   A second object of the present invention is to create a flexible printed circuit board that improves the reliability of the connection between the ground wiring portion of the wiring pattern and the metal substrate, and further improves the heat dissipation effect by ensuring the heat dissipation of the semiconductor chip. An object of the present invention is to provide a method for producing a flexible printed wiring board that can be made.

この発明の第3の目的は、配線パターンの多層化を図り、複雑な回路構成を持つフレキシブルプリント配線板の製造方法を提供することにある。   A third object of the present invention is to provide a method of manufacturing a flexible printed wiring board having a complicated circuit configuration by increasing the number of wiring patterns.

この発明の第4の目的は、配線パターンの両面化を図り、複雑な回路構成を持つフレキシブルプリント配線板の製造方法を提供することにある。   A fourth object of the present invention is to provide a method for manufacturing a flexible printed wiring board having a complicated circuit configuration by making the wiring pattern double-sided.

この発明の第5の目的は、搭載する半導体チップが発生する熱を有効に発散することができ、しかも電磁波のシールド性に優れ、屈曲性に富んで使用時の組み付け作業性のよいフレキシブルプリント回路板を作成可能なフレキシブルプリント配線板を提供することにある。   A fifth object of the present invention is a flexible printed circuit which can effectively dissipate heat generated by a semiconductor chip to be mounted, is excellent in electromagnetic wave shielding, is rich in flexibility, and has good assembling workability during use. The object is to provide a flexible printed wiring board capable of producing a board.

この発明の第6の目的は、搭載する半導体チップが発生する熱を有効に発散することができ、しかも電磁波のシールド性に優れ、屈曲性に富んで使用時の組み付け作業性のよいフレキシブルプリント回路板を作成すべく、材料コストが安く、製造工程数が少なく製作が容易で、しかも高価な装置を必要とせず、多層や両面に配線パターンを設けることができるフレキシブルプリント回路板の製造方法を提供することにある。   A sixth object of the present invention is a flexible printed circuit that can effectively dissipate heat generated by a semiconductor chip to be mounted, has excellent electromagnetic shielding properties, is highly flexible, and has good assembly workability during use. Providing a method for manufacturing flexible printed circuit boards that can produce boards with low material costs, few manufacturing processes, easy manufacturing, and without the need for expensive equipment, and can be provided with wiring patterns on multiple layers or on both sides. There is to do.

この発明の第7の目的は、搭載する半導体チップが発生する熱を有効に発散することができ、しかも電磁波のシールド性に優れ、屈曲性に富んで使用時の組み付け作業性のよいフレキシブルプリント回路板を作成可能なフレキシブルプリント回路板を提供することにある。   A seventh object of the present invention is to provide a flexible printed circuit that can effectively dissipate heat generated by a semiconductor chip to be mounted, has excellent electromagnetic shielding properties, is highly flexible, and has good assembling workability during use. It is to provide a flexible printed circuit board capable of producing a board.

そのため、請求項1に記載の発明は、フレキシブルプリント配線板の製造方法にかかり、上述した第1の目的を達成すべく、
銅やアルミニウムなどよりなる短尺や長尺のフレキシブルなシート状の金属基材上に、例えば熱硬化性樹脂であるエポキシ系樹脂シートを熱と圧力とを加えることによりラミネートして接着剤である絶縁材を設け、その絶縁材を介してその上に、例えば銅箔ラミネート、フォトレジスト塗布、露光、現像、エッチングレジスト塗布、エッチング、エッチングレジスト除去を行って配線パターンを形成して後、
その配線パターンのグランド配線部分に、ボンディングツールを押し当てるなどによって熱と圧力とを加え、グランド配線部分を変形することにより、熱により軟化した前記絶縁材中に埋没して前記金属基材と接続する、
ことを特徴とする。
Therefore, the invention according to claim 1 is related to a method for manufacturing a flexible printed wiring board, and in order to achieve the first object described above,
Insulation that is an adhesive by laminating, for example, an epoxy resin sheet, which is a thermosetting resin, on a short or long flexible sheet-like metal substrate made of copper, aluminum, or the like by applying heat and pressure. After forming a wiring pattern by providing, for example, copper foil laminating, photoresist coating, exposure, development, etching resist coating, etching, etching resist removal through the insulating material,
Heat and pressure are applied to the ground wiring part of the wiring pattern by pressing a bonding tool, etc., and the ground wiring part is deformed to be buried in the insulating material softened by heat and connected to the metal substrate. To
It is characterized by that.

そして、フリップチップ接続で半導体チップを搭載したとき、半導体チップが発生する熱を、配線パターンを介してそのグランド配線部分が接続する金属基材に逃がす。   When the semiconductor chip is mounted by flip chip connection, the heat generated by the semiconductor chip is released to the metal base material to which the ground wiring portion is connected via the wiring pattern.

請求項2に記載の発明は、上述した第2の目的も達成すべく、請求項1に記載のフレキシブルプリント配線板の製造方法において、グランド配線部分に熱と圧力とを加えるとともに、超音波振動を加える、ことを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, in order to achieve the second object described above, in the method of manufacturing a flexible printed wiring board according to the first aspect, heat and pressure are applied to the ground wiring portion and ultrasonic vibration is applied. It is characterized by adding.

そして、配線パターンのグランド配線部分を金属基材に接続するときは、ボンディングツールなどを用いてグランド配線部分に熱と圧力とを加えるとともに同時に超音波振動も加え、グランド配線部分を変形することにより絶縁材中に埋没して金属基材に当て、それらを金属溶着する。   And, when connecting the ground wiring part of the wiring pattern to the metal substrate, by applying heat and pressure to the ground wiring part using a bonding tool etc., and simultaneously applying ultrasonic vibration, the ground wiring part is deformed. It is buried in an insulating material and applied to a metal substrate, and they are metal-welded.

請求項3に記載の発明は、上述した第3の目的も達成すべく、請求項1または2に記載のフレキシブルプリント配線板の製造方法において、
配線パターン上に、第2絶縁材を介して第2配線パターンを形成して後、
その第2配線パターンに、ボンディングツールを押し当てるなどによって熱と圧力とを加え、その第2配線パターンを変形することにより第2絶縁材中に埋没して配線パターンと接続する、
ことを特徴とする。
The invention according to claim 3 is the method for producing a flexible printed wiring board according to claim 1 or 2, in order to achieve the third object described above.
After forming the second wiring pattern on the wiring pattern via the second insulating material,
Heat and pressure are applied to the second wiring pattern by pressing a bonding tool, etc., and the second wiring pattern is deformed to be buried in the second insulating material and connected to the wiring pattern.
It is characterized by that.

そして、フリップチップ接続で半導体チップを搭載したとき、半導体チップが発生する熱を、第2配線パターンを介して1層目の配線パターンに導き、その1層目の配線パターンを介してそのグランド配線部分が接続する金属基材に逃がす。   Then, when the semiconductor chip is mounted by flip chip connection, the heat generated by the semiconductor chip is guided to the first wiring pattern through the second wiring pattern, and the ground wiring is connected through the first wiring pattern. Relief to the metal substrate to which the part connects.

請求項4に記載の発明は、上述した第3の目的も達成すべく、請求項3に記載のフレキシブルプリント配線板の製造方法において、
下層の配線パターン上に、上層の絶縁材を介して上層の配線パターンを形成して後、
その上層の配線パターンに熱と圧力とを加え、その上層の配線パターンを変形することにより前記上層の絶縁材中に埋没して前記下層の配線パターンと接続して配線パターンを多層に設ける、
ことを特徴とする。
The invention according to claim 4 is the method for producing a flexible printed wiring board according to claim 3, in order to achieve the third object described above.
After forming the upper layer wiring pattern via the upper layer insulating material on the lower layer wiring pattern,
Heat and pressure are applied to the upper wiring pattern, and the upper wiring pattern is deformed so as to be buried in the upper insulating material and connected to the lower wiring pattern to provide a multilayer wiring pattern.
It is characterized by that.

そして、フリップチップ接続で半導体チップを搭載したとき、半導体チップが発生する熱を、上層の配線パターンを介して順に下層の配線パターンに導き、多層の配線パターンを介して1層目の配線パターンのグランド配線部分が接続する金属基材に逃がす。   Then, when the semiconductor chip is mounted by flip chip connection, the heat generated by the semiconductor chip is sequentially guided to the lower layer wiring pattern through the upper layer wiring pattern, and the first layer wiring pattern is formed through the multilayer wiring pattern. Escape to the metal substrate to which the ground wiring part connects.

請求項5に記載の発明は、上述した第4の目的も達成すべく、請求項1ないし4のいずれか1に記載のフレキシブルプリント配線板の製造方法において、
金属基材の表面に表側絶縁材を介して表側配線パターンを形成する一方、裏面にも裏側絶縁材を介して裏側配線パターンを形成して後、
それらの表側および裏側配線パターンのグランド配線部分に熱と圧力とを加え、それらのグランド配線部分を変形することにより各々前記表側または裏側絶縁材中に埋没して前記金属基材の表面または裏面と接続する、
ことを特徴とする。
The invention according to claim 5 is the method for manufacturing a flexible printed wiring board according to any one of claims 1 to 4, in order to achieve the fourth object described above.
While forming the front side wiring pattern through the front side insulating material on the surface of the metal base material, after forming the back side wiring pattern through the back side insulating material on the back side,
Heat and pressure are applied to the ground wiring portions of the front side and back side wiring patterns, and the ground wiring portions are deformed to be buried in the front side or back side insulating material, respectively, so that Connecting,
It is characterized by that.

そして、フリップチップ接続で半導体チップを搭載したとき、半導体チップが発生する熱を、表側配線パターンを介してそのグランド配線部分が接続する金属基材に逃がすとともに、その金属基材に逃がした熱を裏側配線パターンのグランド配線部分を介して裏側配線パターンにも伝える。   When the semiconductor chip is mounted by flip chip connection, the heat generated by the semiconductor chip is released to the metal base material to which the ground wiring part is connected via the front side wiring pattern, and the heat released to the metal base material is released. It is also transmitted to the back side wiring pattern through the ground wiring portion of the back side wiring pattern.

請求項6に記載の発明は、フレキシブルプリント配線板にかかり、上述した第5の目的を達成すべく、請求項1ないし5のいずれか1に記載の製造方法により形成する、ことを特徴とする。   The invention according to claim 6 is applied to the flexible printed wiring board, and is formed by the manufacturing method according to any one of claims 1 to 5 in order to achieve the fifth object described above. .

請求項7に記載の発明は、フレキシブルプリント回路板の製造方法にかかり、上述した第6の目的を達成すべく、請求項6に記載のフレキシブルプリント配線板上に半導体チップを搭載する、ことを特徴とする。   A seventh aspect of the invention relates to a method for manufacturing a flexible printed circuit board, and a semiconductor chip is mounted on the flexible printed wiring board according to the sixth aspect of the invention in order to achieve the sixth object described above. Features.

請求項8に記載の発明は、フレキシブルプリント回路板にかかり、上述した第7の目的を達成すべく、請求項7に記載の製造方法により形成する、ことを特徴とする。   According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a flexible printed circuit board, wherein the flexible printed circuit board is formed by the manufacturing method according to the seventh aspect to achieve the seventh object.

したがって、請求項1に記載の発明によれば、両面配線用基材などの高価な材料を用いないので材料コストが安く、製造工程数が比較的に少なく製作が容易で、しかもケミカルエッチング装置やレーザ照射装置といった高価な装置を必要とせず、多層や両面に配線パターンを設けることができるフレキシブルプリント配線板の製造方法を提供することができる。この発明により製造したフレキシブルプリント配線板は、マイクロストリップ構造と呼ばれるものであり、絶縁材の誘電率、絶縁材の厚さ、配線パターンの幅と厚さを設定することにより、特性インピーダンスをコントロールすることが可能である。   Therefore, according to the invention described in claim 1, since expensive materials such as a double-sided wiring substrate are not used, the material cost is low, the number of manufacturing steps is relatively small, and the manufacturing is easy. An expensive apparatus such as a laser irradiation apparatus is not required, and a method for manufacturing a flexible printed wiring board in which wiring patterns can be provided on multiple layers or on both surfaces can be provided. The flexible printed wiring board manufactured according to the present invention is called a microstrip structure, and the characteristic impedance is controlled by setting the dielectric constant of the insulating material, the thickness of the insulating material, and the width and thickness of the wiring pattern. It is possible.

そして、フリップチップ接続で半導体チップを搭載したとき、半導体チップが発生する熱を配線パターンを介してそのグランド配線部分が接続する金属基材に逃がすので、搭載する半導体チップの熱を有効に発散することができ、しかも金属基材を用いることから、電磁波のシールド性に優れ、加えて屈曲性に富んで使用時の組み付け作業性のよいフレキシブルプリント回路板を作成することができる。   When the semiconductor chip is mounted by flip chip connection, the heat generated by the semiconductor chip is released to the metal base material to which the ground wiring portion is connected via the wiring pattern, so that the heat of the mounted semiconductor chip is effectively dissipated. In addition, since a metal substrate is used, it is possible to produce a flexible printed circuit board that is excellent in electromagnetic wave shielding properties and has high flexibility and good assembly workability during use.

請求項2に記載の発明によれば、請求項1に記載の発明の効果に加えて、配線パターンのグランド配線部分を金属基材に接続するときは、グランド配線部分に熱と圧力とを加えるとともに超音波振動を加え、グランド配線部分を変形することにより金属基材に当ててそれらを金属溶着するので、電気的にも機械的にも信頼性の高い接続を行い、半導体チップの熱の発散を確実として放熱効果を一層向上したフレキシブルプリント回路板が作成可能なフレキシブルプリント配線板の製造方法を提供することができる。   According to the invention described in claim 2, in addition to the effect of the invention described in claim 1, when connecting the ground wiring portion of the wiring pattern to the metal substrate, heat and pressure are applied to the ground wiring portion. In addition, ultrasonic vibration is applied and the ground wiring part is deformed so that it is applied to the metal substrate and welded to the metal, thus providing a highly reliable electrical and mechanical connection and heat dissipation of the semiconductor chip. It is possible to provide a method for manufacturing a flexible printed wiring board capable of producing a flexible printed circuit board having a further improved heat dissipation effect.

請求項3に記載の発明によれば、請求項1または2に記載の発明の効果に加えて、フリップチップ接続で半導体チップを搭載したとき、半導体チップが発生する熱を第2配線パターンを介して1層目の配線パターンに導き、その1層目の配線パターンを介してそのグランド配線部分が接続する金属基材に逃がすので、配線パターンの2層化を図り、複雑な回路構成を持つフレキシブルプリント配線板の製造方法を提供することができる。   According to the invention described in claim 3, in addition to the effect of the invention described in claim 1 or 2, when the semiconductor chip is mounted by flip chip connection, the heat generated by the semiconductor chip is transmitted via the second wiring pattern. Lead to the first layer wiring pattern and escape to the metal substrate to which the ground wiring part is connected via the first layer wiring pattern, so the wiring pattern can be made two layers and flexible with a complicated circuit configuration A method for manufacturing a printed wiring board can be provided.

請求項4に記載の発明によれば、請求項1または2に記載の発明の効果に加えて、フリップチップ接続で半導体チップを搭載したとき、半導体チップが発生する熱を上層の配線パターンを介して順に下層の配線パターンに導き、多層の配線パターンを介して1層目の配線パターンのグランド配線部分が接続する金属基材に逃がすので、配線パターンの多層化を図り、一層複雑な回路構成を持つフレキシブルプリント配線板の製造方法を提供することができる。   According to the invention described in claim 4, in addition to the effect of the invention described in claim 1 or 2, when the semiconductor chip is mounted by flip chip connection, the heat generated by the semiconductor chip is transmitted via the upper wiring pattern. In turn, it leads to the lower layer wiring pattern and escapes to the metal substrate to which the ground wiring portion of the first layer wiring pattern is connected via the multilayer wiring pattern, so that the wiring pattern is multilayered and a more complicated circuit configuration is achieved. The manufacturing method of the flexible printed wiring board which has can be provided.

請求項5に係る発明によれば、請求項1ないし4のいずれか1に記載の発明の効果に加えて、フリップチップ接続で半導体チップを搭載したとき、半導体チップが発生する熱を表側配線パターンを介してそのグランド配線部分が接続する金属基材に逃がすとともに、その金属基材に逃がした熱を裏側配線パターンのグランド配線部分を介して裏側配線パターンにも伝えるので、半導体チップの放熱効果を一層高めるとともに、配線パターンの両面化を図り、複雑な回路構成を持つフレキシブルプリント配線板の製造方法を提供することができる。   According to the invention of claim 5, in addition to the effect of the invention of any one of claims 1 to 4, when the semiconductor chip is mounted by flip chip connection, the heat generated by the semiconductor chip is transferred to the front-side wiring pattern. Since the heat is released to the metal substrate to which the ground wiring part is connected via the backside wiring pattern to the backside wiring pattern through the ground wiring part of the backside wiring pattern, the heat dissipation effect of the semiconductor chip is transmitted. Furthermore, it is possible to provide a method for manufacturing a flexible printed wiring board having a complicated circuit configuration by increasing the number of both sides of the wiring pattern and increasing the number of wiring patterns.

請求項6に係る発明によれば、フレキシブルプリント配線板にかかり、請求項1ないし5のいずれか1に記載の製造方法により形成するので、フリップチップ接続で半導体チップを搭載したとき、半導体チップが発生する熱を配線パターンを介してそのグランド配線部分が接続する金属基材に逃がすので、搭載する半導体チップが発生する熱を有効に発散することができ、しかも金属基材を用いることから、電磁波のシールド性に優れ、加えて屈曲性に富んで使用時の組み付け作業性のよいフレキシブルプリント回路板を作成可能なフレキシブルプリント配線板を提供することができる。また、この発明によるフレキシブルプリント配線板は、マイクロストリップ構造と呼ばれるものであり、同様に絶縁材の誘電率、絶縁材の厚さ、配線パターンの幅と厚さを設定することにより、特性インピーダンスをコントロールすることが可能である。   According to the invention of claim 6, since it is formed on the flexible printed wiring board and formed by the manufacturing method according to any one of claims 1 to 5, when the semiconductor chip is mounted by flip chip connection, Since the generated heat is released to the metal base material to which the ground wiring part is connected via the wiring pattern, the heat generated by the semiconductor chip to be mounted can be effectively dissipated, and since the metal base material is used, the electromagnetic wave In addition, it is possible to provide a flexible printed wiring board capable of producing a flexible printed circuit board that is excellent in shielding property and has good flexibility and good assembly workability during use. The flexible printed wiring board according to the present invention is called a microstrip structure. Similarly, by setting the dielectric constant of the insulating material, the thickness of the insulating material, and the width and thickness of the wiring pattern, the characteristic impedance can be reduced. It is possible to control.

請求項7に記載の発明によれば、フレキシブルプリント回路板の製造方法にかかり、請求項6に記載のフレキシブルプリント配線板上に半導体チップを搭載するので、両面配線用基材などの高価な材料を用いないので材料コストが安く、製造工程数が比較的に少なく製作が容易で、しかもケミカルエッチング装置やレーザ照射装置といった高価な装置を必要とせず、多層や両面に配線パターンを設けることができるフレキシブルプリント回路板の製造方法を提供することができる。この発明により製造したフレキシブルプリント回路板は、マイクロストリップ構造と呼ばれるものであり、同様に特性インピーダンスをコントロールすることが可能である。   According to the invention described in claim 7, since the semiconductor chip is mounted on the flexible printed circuit board according to claim 6, an expensive material such as a double-sided wiring base material is used. The material cost is low, the number of manufacturing steps is relatively small, and the manufacturing is easy. Moreover, an expensive device such as a chemical etching device or a laser irradiation device is not required, and wiring patterns can be provided on multiple layers or both sides. A method for manufacturing a flexible printed circuit board can be provided. The flexible printed circuit board manufactured according to the present invention is called a microstrip structure, and the characteristic impedance can be controlled similarly.

そして、半導体チップが発生する熱を配線パターンを介してそのグランド配線部分が接続する金属基材に逃がすので、搭載する半導体チップの熱を有効に発散することができ、しかも金属基材を用いることから、電磁波のシールド性に優れ、加えて屈曲性に富んで使用時の組み付け作業性のよいフレキシブルプリント回路板を作成することができる。   And since the heat generated by the semiconductor chip is released to the metal base material to which the ground wiring portion is connected via the wiring pattern, the heat of the semiconductor chip to be mounted can be effectively dissipated, and the metal base material is used. Therefore, it is possible to produce a flexible printed circuit board that has excellent electromagnetic wave shielding properties and is also flexible and has good assembly workability during use.

請求項8に記載の発明によれば、フレキシブルプリント回路板にかかり、請求項7に記載の製造方法により形成するので、半導体チップが発生する熱を配線パターンを介してそのグランド配線部分が接続する金属基材に逃がすので、搭載する半導体チップが発生する熱を有効に発散することができ、しかも金属基材を用いることから、電磁波のシールド性に優れ、加えて屈曲性に富んで使用時の組み付け作業性のよいフレキシブルプリント回路板を提供することができる。また、この発明によるフレキシブルプリント回路板は、マイクロストリップ構造と呼ばれるものであり、同様に特性インピーダンスをコントロールすることが可能である。   According to the invention described in claim 8, since it is applied to the flexible printed circuit board and formed by the manufacturing method according to claim 7, the ground wiring portion connects the heat generated by the semiconductor chip via the wiring pattern. Because it escapes to the metal base, it can effectively dissipate the heat generated by the semiconductor chip to be mounted, and since it uses a metal base, it excels in electromagnetic wave shielding, and in addition, it has excellent flexibility and A flexible printed circuit board with good assembly workability can be provided. The flexible printed circuit board according to the present invention is called a microstrip structure, and can similarly control the characteristic impedance.

以下、図面を参照しつつ、この発明の実施の最良形態について説明する。
図1(A)ないし(D)には、この発明に係るフレキシブルプリント配線板の製造工程を示す。
The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.
1A to 1D show a manufacturing process of a flexible printed wiring board according to the present invention.

この発明に係るフレキシブルプリント配線板を形成するときには、図1(A)に示すように金属基材50を使用する。金属基材50は、銅やアルミニウムなどよりなり、短尺でもよいが、図示例では長尺のフレキシブルなシート状のものを用い、適度な強度を有するとともに、折り曲げた場合に塑性変形しやすい特性を持つ金属組成のものを使用する。折り曲げやすさを考えると、薄い方がよいが、製造しやすさを考えると、強度も必要であり、厚さは10〜300μm、好適には10〜100μmのものを用いる。   When forming the flexible printed wiring board according to the present invention, a metal substrate 50 is used as shown in FIG. The metal substrate 50 is made of copper, aluminum, or the like, and may be short. However, in the illustrated example, a long flexible sheet-like material is used, and it has an appropriate strength and easily deforms plastically when bent. Use a metal composition with Considering the ease of bending, it is better to be thin, but considering the ease of manufacturing, strength is also required, and a thickness of 10 to 300 μm, preferably 10 to 100 μm is used.

この金属基材50の片面にのみ配線パターンを形成する場合には、図中仮想線で示すように金属基材50の裏面に反り防止材51を貼り付けてもよい。反り防止材51としては、後述の絶縁材52と熱収縮率がほぼ同等なもの、例えば後述の絶縁材52に用いると同じ、熱硬化性樹脂であるエポキシ系樹脂シートを使用し、そのシートを金属基材50の裏面にラミネートして後、後の工程で軟化することのないように、あらかじめ加熱して完全に硬化させておく。   When a wiring pattern is formed only on one side of the metal base material 50, a warp prevention material 51 may be attached to the back surface of the metal base material 50 as indicated by a virtual line in the drawing. As the warp preventing material 51, an epoxy resin sheet that is a thermosetting resin that is substantially the same in thermal shrinkage rate as that of an insulating material 52 described later, for example, the same as that used for the insulating material 52 described later, is used. After being laminated on the back surface of the metal substrate 50, it is heated and cured in advance so as not to be softened in a later step.

金属基材50の表面には、接着剤としての働きもする絶縁材52を設ける。絶縁材52は、半硬化状態(いわゆるBステージ)の熱硬化性樹脂であるエポキシ系樹脂シートを熱と圧力とを加えることによりラミネートして形成する。また、別の方法としては、液状の絶縁材52をロールコータにより塗布して形成してもよい。このようにして形成した後、絶縁材52に加える熱処理の温度と時間を調整し、再び熱を加えることで軟化できる状態にする。例えば、室温〜100℃では固形であり、100℃以上に加熱すると軟化し、さらに加熱すると、熱硬化反応が進んで硬化するものを使用する。   An insulating material 52 that also functions as an adhesive is provided on the surface of the metal substrate 50. The insulating material 52 is formed by laminating an epoxy resin sheet, which is a thermosetting resin in a semi-cured state (so-called B stage), by applying heat and pressure. As another method, the liquid insulating material 52 may be applied by a roll coater. After forming in this way, the temperature and time of the heat treatment applied to the insulating material 52 are adjusted, and heat can be applied again to make it softer. For example, a material that is solid at room temperature to 100 ° C., softens when heated to 100 ° C. or higher, and further cures when heated to a thermosetting reaction.

絶縁材52としては、厚さが1〜50μm、好適には2〜20μmのものを用いる。熱硬化性ではなく熱可塑性の樹脂を用いることも、後述の半導体チップの接続条件を調整することにより可能である。熱可塑性樹脂としては、アクリル系樹脂、変性ポリイミド、熱可塑性ポリイミド、液晶ポリマなどが好適である。   The insulating material 52 has a thickness of 1 to 50 μm, preferably 2 to 20 μm. It is also possible to use thermoplastic resin instead of thermosetting by adjusting the connection conditions of the semiconductor chip described later. As the thermoplastic resin, an acrylic resin, a modified polyimide, a thermoplastic polyimide, a liquid crystal polymer, and the like are preferable.

このような絶縁材52の上には、厚さ5〜25μmの配線形成用銅箔53をラミネートし、全体で金属ベース基板材料54を形成する。それから、配線形成用銅箔53の表面にフォトレジストを塗布して後、長さ方向に搬送しながら、一定間隔置きに露光を行ってから現像を行う。そして、反り防止材51をラミネートした場合を除き、金属基材50の裏面にエッチングレジストを塗布して後、エッチングを行い、その後アルカリ溶液などを用いてフォトレジストとエッチングレジストを除去することにより、周知の工程を用いて図1(B)に示すように一定間隔置きに同一の配線パターン53aを形成する。   On such an insulating material 52, a wiring forming copper foil 53 having a thickness of 5 to 25 μm is laminated to form a metal base substrate material 54 as a whole. Then, after a photoresist is applied to the surface of the wiring forming copper foil 53, development is performed after exposure at regular intervals while being conveyed in the length direction. Then, except when laminating the warp prevention material 51, by applying an etching resist on the back surface of the metal substrate 50, etching is performed, and then the photoresist and the etching resist are removed using an alkaline solution or the like, As shown in FIG. 1B, the same wiring pattern 53a is formed at regular intervals using a known process.

次に、図1(C)に示すように、長さ方向に搬送しながら、順にアンビル55の上にセットし、所定の温度に加熱したボンディングツール56を個別の配線パターン53aごとに位置合わせして下降し、各配線パターン53aのグランド配線部分に押し当てて熱と圧力を加える。これにより、時間の経過とともに、ボンディングツール56の熱を配線パターン53aを介して伝達して絶縁材52を軟化し、配線パターン53aを変形することにより絶縁材52中に埋没して金属基材50に接続する。   Next, as shown in FIG. 1 (C), while being transported in the length direction, the bonding tools 56 set in order on the anvil 55 and heated to a predetermined temperature are aligned for each individual wiring pattern 53a. Then, it is pressed against the ground wiring portion of each wiring pattern 53a to apply heat and pressure. Thereby, as time passes, heat of the bonding tool 56 is transmitted through the wiring pattern 53a to soften the insulating material 52, and by deforming the wiring pattern 53a, the metal base material 50 is buried in the insulating material 52. Connect to.

ボンディングツール56を用いてグランド配線部分に熱と圧力を加えるとき、同時に超音波振動を加えるようにしてもよく、そのようにすると、配線パターン53aのグランド配線部分と金属基材50とを金属溶着して、電気的にも機械的にも信頼性の高い接続を行うことができる。   When heat and pressure are applied to the ground wiring portion using the bonding tool 56, ultrasonic vibration may be applied at the same time. In this case, the ground wiring portion of the wiring pattern 53a and the metal substrate 50 are welded to each other. Thus, a highly reliable connection can be made both electrically and mechanically.

そして、以上のように配線パターン53aのグランド配線部分と金属基材50とを接続して後、絶縁材52として熱硬化性樹脂を用いる場合には、全体を加熱して絶縁材52の硬化反応を進めて完全に硬化する。熱可塑性樹脂を用いる場合には、全体の加熱は行わない。   And after connecting the ground wiring part of the wiring pattern 53a and the metal substrate 50 as described above, when using a thermosetting resin as the insulating material 52, the whole is heated to cure the insulating material 52. To cure completely. When a thermoplastic resin is used, the entire heating is not performed.

ところで、配線パターン53aのグランド配線部分と金属基材50との接続目的が、電気的な導通を要しない、単に熱伝導のみを必要とするものである場合には、ボンディングツール56を超音波振動させずに熱と圧力のみを加えるようにする。このとき、グランド配線部分と金属基材50とを接続して後、ボンディングツール56を離すと、接続部分まわりの絶縁材52の温度が下がり、接続部分まわりの絶縁材52を硬化するとともにその線膨張係数にしたがって収縮する。これによって、グランド配線部分と金属基材50との接続部分に、絶えずそれらを圧接する力が働くこととなる。   By the way, when the connection purpose between the ground wiring portion of the wiring pattern 53a and the metal substrate 50 is one that does not require electrical continuity and merely requires thermal conduction, the bonding tool 56 is subjected to ultrasonic vibration. Only heat and pressure should be applied. At this time, after connecting the ground wiring portion and the metal base material 50 and then releasing the bonding tool 56, the temperature of the insulating material 52 around the connecting portion decreases, and the insulating material 52 around the connecting portion is cured and the line is removed. Shrink according to the expansion coefficient. As a result, a force that constantly presses the ground wiring portion and the metal base 50 is applied to the connecting portion.

次には、半導体チップとの電気的接続を良好とし、また防錆効果を高めるために、配線パターン53aと金属基材50の裏面に、すずめっき、金めっき、ニッケル下地の金めっき、インジュウムめっきなどの金属めっきを行う。また、その金属めっきと前後して、必要に応じ、配線パターン53aを保護するために、図1(D)に示すようにチップ接続端子53bその他の接続端子部分を除いて、配線パターン53aに印刷によって、可撓性に優れたソルダーレジスト57を設けてフレキシブルプリント配線板58を形成する。   Next, in order to improve the electrical connection with the semiconductor chip and enhance the rust prevention effect, tin plating, gold plating, nickel underplating gold, indium plating is applied to the back surface of the wiring pattern 53a and the metal substrate 50. Perform metal plating. Also, before and after the metal plating, in order to protect the wiring pattern 53a as required, printing is performed on the wiring pattern 53a except for the chip connection terminal 53b and other connection terminal portions as shown in FIG. Thus, a flexible printed wiring board 58 is formed by providing a solder resist 57 having excellent flexibility.

このようなフレキシブルプリント配線板58の製造方法によれば、両面配線用基材などの高価な材料を用いないので材料コストが安く、製造工程数が比較的に少なく製作が容易で、しかもケミカルエッチング装置やレーザ照射装置といった高価な装置を必要とせず、多層や両面にも配線パターンを設けることができる。そして、形成したフレキシブルプリント配線板58は、マイクロストリップ構造と呼ばれるものであり、絶縁材52の誘電率、絶縁材52の厚さ、配線パターン53aの幅と厚さを設定することにより、特性インピーダンスをコントロールすることが可能である。   According to such a manufacturing method of the flexible printed wiring board 58, since an expensive material such as a double-sided wiring substrate is not used, the material cost is low, the number of manufacturing steps is relatively small, and the manufacturing is easy. An expensive device such as a device or a laser irradiation device is not required, and wiring patterns can be provided on multiple layers or both surfaces. The formed flexible printed wiring board 58 is called a microstrip structure, and the characteristic impedance is set by setting the dielectric constant of the insulating material 52, the thickness of the insulating material 52, and the width and thickness of the wiring pattern 53a. Can be controlled.

図2(A)ないし(C)には、図1の製造工程により形成したフレキシブルプリント配線板58を用いて、この発明によるフレキシブルプリント回路板60を形成する製造工程を示す。   2A to 2C show a manufacturing process for forming the flexible printed circuit board 60 according to the present invention using the flexible printed wiring board 58 formed by the manufacturing process of FIG.

図2(A)に示すように、フレキシブルプリント配線板58を長さ方向に搬送可能に設けて順次、所定の温度に設定した加熱ステージ61上にセットし、所定の温度に設定したボンディングツール62で半導体チップ63を保持して、その半導体チップ63に金めっきにより形成した金属バンプ64を、配線パターン53aのチップ接続端子53bに位置合わせして下降し、半導体チップ63を介して熱とともに圧力を加えて金属バンプ64とチップ接続端子53bとをAu−Sn共晶接合して接続する。   As shown in FIG. 2A, a flexible printed wiring board 58 is provided so as to be transportable in the length direction, sequentially set on a heating stage 61 set at a predetermined temperature, and a bonding tool 62 set at a predetermined temperature. The metal bump 64 formed by gold plating on the semiconductor chip 63 is lowered while being aligned with the chip connection terminal 53b of the wiring pattern 53a, and pressure is applied with heat through the semiconductor chip 63. In addition, the metal bump 64 and the chip connection terminal 53b are connected by Au—Sn eutectic bonding.

なお、絶縁材52に熱可塑性樹脂を用いた場合には、半導体チップ63を介して熱とともに圧力を加える時間を長くすると、伝わった熱により絶縁材52が軟化してチップ接続端子53bが絶縁材52中に埋没してしまうこととなるから、少し埋没した時点でボンシングツール62を上昇するように調整する。   When a thermoplastic resin is used for the insulating material 52, if the time during which pressure is applied together with the heat through the semiconductor chip 63 is lengthened, the insulating material 52 is softened by the transmitted heat and the chip connection terminal 53b becomes the insulating material. Therefore, the bonding tool 62 is adjusted to rise when it is slightly buried.

それから、図2(B)に示すように、塗布ノズル65を用いて半導体チップ63の側面に沿って周囲を描画するように封止樹脂66を塗布し、毛細管現象により注入して絶縁材52と半導体チップ63との間に充填する。そして、(C)に示すように、封止樹脂66を熱硬化して半導体チップ63を樹脂封止し、フレキシブルプリント回路板60を完成する。   Then, as shown in FIG. 2B, the sealing resin 66 is applied so as to draw the periphery along the side surface of the semiconductor chip 63 using the application nozzle 65, and injected by capillary action to form the insulating material 52. It fills between the semiconductor chips 63. Then, as shown in (C), the sealing resin 66 is thermally cured to seal the semiconductor chip 63 with resin, and the flexible printed circuit board 60 is completed.

そして、使用するときは、一定間隔で半導体チップ63を搭載する長尺のフレキシブルフレキシブルプリント回路板60から、各半導体チップ63を含む単位ごとに所定形状に打ち抜いて半導体モジュール67を形成し、その半導体モジュール67を、図3に示すように半導体チップ63を搭載する側を内側として湾曲し、例えば配線パターン53aの別の一部接続端子53cを液晶パネル68に接続し、別の他部接続端子53dを他のプリント配線板69に接続する。   When used, a semiconductor module 67 is formed by punching out a long flexible flexible printed circuit board 60 on which semiconductor chips 63 are mounted at regular intervals into a predetermined shape for each unit including each semiconductor chip 63. The module 67 is curved with the side on which the semiconductor chip 63 is mounted as shown in FIG. 3, for example, another partial connection terminal 53c of the wiring pattern 53a is connected to the liquid crystal panel 68, and another other connection terminal 53d. Is connected to another printed wiring board 69.

このようなフレキシブルプリント回路板60とすれば、半導体チップ63が発生する熱を金属バンプ64から、配線パターン53aを介してそのグランド配線部分が接続する金属基材50に逃がすので、搭載する半導体チップ63の熱を、熱伝導率のよい金属バンプ64および配線パターン53aで効率よく伝達して、熱伝導率がよく広い金属基材50からまわりの空間に有効に発散することができる。これにより、半導体チップ63の動作スピードが低下したり、半導体チップ63の信頼性が低下したりするおそれを解消することができる。   With such a flexible printed circuit board 60, heat generated by the semiconductor chip 63 is released from the metal bumps 64 to the metal substrate 50 to which the ground wiring portion is connected via the wiring pattern 53a. The heat of 63 can be efficiently transmitted through the metal bumps 64 and the wiring pattern 53a with good thermal conductivity, and can be effectively dissipated from the wide metal base material 50 with good thermal conductivity to the surrounding space. As a result, it is possible to eliminate the possibility that the operation speed of the semiconductor chip 63 is lowered or the reliability of the semiconductor chip 63 is lowered.

しかも、配線パターン53aのグランド配線部分を電気的に接続して金属基材50を用いることから、電磁波のシールド性に優れ、配線パターン53aから発生する電磁波ノイズを低減し、また外部からの電磁波ノイズの影響を受けにくくすることができる。加えて、屈曲性に富み、図3に示すように半導体モジュール67を湾曲して組み付けるとき、金属基材50が塑性変形して元の形状に戻ろうとする弾性力を低減し、特に昨今では小型化が進んで筐体内に折り曲げて組み付けることが多くなっており、このようなときの組み付け作業性を高めることができる。   In addition, since the metal substrate 50 is used by electrically connecting the ground wiring portions of the wiring pattern 53a, the electromagnetic shielding performance is excellent, electromagnetic noise generated from the wiring pattern 53a is reduced, and electromagnetic noise from the outside is also provided. Can be less affected by In addition, it is highly flexible, and when the semiconductor module 67 is bent and assembled as shown in FIG. 3, the elastic force of the metal base 50 to plastically deform and return to its original shape is reduced. As a result, it is often bent and assembled in the housing, and the assembling workability in such a case can be improved.

そして、配線パターン53aのグランド配線部分を金属基材50に接続するとき、グランド配線部分に熱と圧力とを加えるとともに超音波振動を加え、グランド配線部分と金属基材50とを金属溶着したフレキシブルプリント配線板58を用いてフレキシブルプリント回路板60を形成すると、電気的にも機械的にも信頼性の高い接続を行い、半導体チップ63の熱の発散を確実として放熱効果を一層向上することができる。   When the ground wiring portion of the wiring pattern 53a is connected to the metal base material 50, heat and pressure are applied to the ground wiring portion and ultrasonic vibration is applied, so that the ground wiring portion and the metal base material 50 are metal-welded. When the flexible printed circuit board 60 is formed by using the printed wiring board 58, it is possible to make a highly reliable connection both electrically and mechanically, to ensure heat dissipation of the semiconductor chip 63, and to further improve the heat dissipation effect. it can.

図4(A)ないし(D)には、この発明に係る2層フレキシブルプリント配線板の製造工程を示す。   4A to 4D show a manufacturing process of a two-layer flexible printed wiring board according to the present invention.

図示2層フレキシブルプリント配線板の製造工程では、まず図1(A)ないし(C)と同様の製造工程を経て、金属基材50上に絶縁材52を介して配線パターン53aを形成して後、配線パターン53aのグランド配線部分を金属基材50に接続する。その後、配線パターン53a上に、厚さが1〜50μm、好適には2〜20μmの第2絶縁材70と第2配線形成用銅箔71をラミネートして形成する。   In the manufacturing process of the illustrated two-layer flexible printed wiring board, first, the wiring pattern 53a is formed on the metal substrate 50 through the insulating material 52 through the manufacturing process similar to that shown in FIGS. Then, the ground wiring portion of the wiring pattern 53 a is connected to the metal substrate 50. Thereafter, a second insulating material 70 having a thickness of 1 to 50 μm, preferably 2 to 20 μm, and a second wiring forming copper foil 71 are laminated on the wiring pattern 53a.

なお、この例の場合には、1層目の絶縁材52に熱硬化性の樹脂を用い、熱可塑性樹脂は用いない。1層目の絶縁材52に熱可塑性樹脂を用いると、後述する第2配線パターン71aと配線パターン53a間の接続時に加える熱により、下層の配線パターン53aも埋没してしまい、適切な接続を行うことができなくなるからである。   In the case of this example, a thermosetting resin is used for the first-layer insulating material 52, and a thermoplastic resin is not used. If a thermoplastic resin is used for the first-layer insulating material 52, the lower wiring pattern 53a is also buried by heat applied during connection between the second wiring pattern 71a and the wiring pattern 53a, which will be described later, and an appropriate connection is made. Because it becomes impossible.

第2絶縁材70と第2配線形成用銅箔71は、例えば図5に示すように、矢示方向に搬送しながら、第2配線形成用銅箔71に第2絶縁材70を塗布したものを、所定の温度に加熱したラミネートローラ72を用いて加熱とともに加圧しながらラミネートする。このとき、配線パターン53aと金属基材50との接続部には凹み73が形成されており、その凹み73にエア溜りが発生しないように真空ラミネータを使用することが好ましい。   For example, as shown in FIG. 5, the second insulating material 70 and the second wiring forming copper foil 71 are obtained by applying the second insulating material 70 to the second wiring forming copper foil 71 while being conveyed in the direction of the arrow. Is laminated using a laminating roller 72 heated to a predetermined temperature while being heated and pressurized. At this time, a recess 73 is formed in the connection portion between the wiring pattern 53a and the metal substrate 50, and it is preferable to use a vacuum laminator so that no air accumulation occurs in the recess 73.

または、例えば図6(A)に示すように、矢示方向に搬送しながら、カバーフィルム74に第2絶縁材70を塗布したものを、所定の温度に加熱したラミネートローラ72を用いて加熱とともに加圧しながらラミネートする。この場合も、同様な理由から、真空ラミネータを使用することが好ましい。その後、図6(B)に示すように、同様に矢示方向に搬送しながら、カバーフィルム74を剥離しながら、連続して第2配線形成用銅箔71を、加熱したラミネートローラ72を用いて加熱とともに加圧しながらラミネートする。なお、カバーフィルム74を剥離した第2絶縁材70の表面には、凹みが存在しないから、このときは真空ラミネータを用いる必要はなく、通常のラミネータを用いてラミネートを行う。   Or, for example, as shown in FIG. 6 (A), a film obtained by applying the second insulating material 70 to the cover film 74 while being conveyed in the direction of the arrow is heated together with a laminating roller 72 heated to a predetermined temperature. Laminate while pressing. Also in this case, it is preferable to use a vacuum laminator for the same reason. Thereafter, as shown in FIG. 6B, the second wiring forming copper foil 71 is continuously used by heating the laminating roller 72 while peeling the cover film 74 while similarly transporting in the direction of the arrow. Laminate while applying pressure with heating. In addition, since there is no dent in the surface of the 2nd insulating material 70 which peeled the cover film 74, it is not necessary to use a vacuum laminator at this time, and it laminates using a normal laminator.

第2絶縁材70と第2配線形成用銅箔71とのラミネートは、ラミネートローラ72を用いる他、加熱した平板を用いて挟むプレス方式で行ってもよい。このとき用いる第2絶縁材70には、熱可塑性樹脂を用いることも可能である。   Lamination of the second insulating material 70 and the second wiring forming copper foil 71 may be performed by a press method in which a laminated roller 72 is used or a heated flat plate is used. A thermoplastic resin may be used for the second insulating material 70 used at this time.

それから、第2配線形成用銅箔71の表面にフォトレジストを塗布して後、長さ方向に搬送しながら、一定間隔置きに露光を行ってから現像を行う。そして、金属基材50の裏面にエッチングレジストを塗布して後、エッチングを行い、その後アルカリ溶液などを用いてフォトレジストとエッチングレジストを除去することにより、周知の工程を用いて図4(B)に示すように一定間隔置きに同一の第2配線パターン71aを形成する。   Then, after a photoresist is applied to the surface of the second wiring forming copper foil 71, development is performed after exposure at regular intervals while being conveyed in the length direction. Then, after applying an etching resist to the back surface of the metal substrate 50, etching is performed, and then the photoresist and the etching resist are removed using an alkaline solution or the like, thereby using a well-known process. As shown in FIG. 2, the same second wiring pattern 71a is formed at regular intervals.

次に、図4(C)に示すように、長さ方向に搬送しながら、順にアンビル55の上にセットし、所定の温度に加熱したボンディングツール56を個別の第2配線パターン71aごとに位置合わせして下降し、各第2配線パターン71aに押し当てて熱と圧力を加える。これにより、時間の経過とともに、ボンディングツール56の熱を第2配線パターン71aを介して伝達して第2絶縁材70を軟化し、第2配線パターン71aを変形することにより第2絶縁材70中に埋没して下層の配線パターン53aに接続する。   Next, as shown in FIG. 4C, the bonding tool 56, which is sequentially set on the anvil 55 and heated to a predetermined temperature while being conveyed in the length direction, is positioned for each individual second wiring pattern 71a. Together, it descends and presses against each second wiring pattern 71a to apply heat and pressure. Thereby, with the passage of time, the heat of the bonding tool 56 is transmitted through the second wiring pattern 71a to soften the second insulating material 70, and the second wiring pattern 71a is deformed so that the second insulating material 70 can be deformed. It is buried in and connected to the lower wiring pattern 53a.

この場合も、前例と同様に、ボンディングツール56を用いて各第2配線パターン71aに熱と圧力を加えるとき、同時に超音波振動を加えるようにしてもよく、そのようにすると、各第2配線パターン71aと下層の配線パターン53aとを金属溶着して、電気的にも機械的にも信頼性の高い接続を行うことができる。   Also in this case, as in the previous example, when heat and pressure are applied to each second wiring pattern 71a using the bonding tool 56, ultrasonic vibrations may be applied simultaneously. The pattern 71a and the lower wiring pattern 53a can be metal-welded to make highly reliable connection both electrically and mechanically.

そして、以上のように各第2配線パターン71aと下層の配線パターン53aとを接続して後、第2絶縁材70として熱硬化性樹脂を用いる場合には、全体を加熱して第2絶縁材70の硬化反応を進めて完全に硬化する。熱可塑性樹脂を用いる場合には、全体の加熱は行わない。   And after connecting each 2nd wiring pattern 71a and the lower wiring pattern 53a as mentioned above, when using a thermosetting resin as the 2nd insulating material 70, the whole is heated and 2nd insulating material is used. The curing reaction of 70 is advanced to complete curing. When a thermoplastic resin is used, the entire heating is not performed.

ところで、第2配線パターン71aと下層の配線パターン53aとの接続目的が、電気的な導通を要しない、単に熱伝導のみを必要とするものである場合には、ボンディングツール56を超音波振動させずに熱と圧力のみを加えるようにする。このとき、第2配線パターン71aと下層の配線パターン53aとを接続して後、ボンディングツール56を離すと、接続部分まわりの第2絶縁材70の温度が下がり、接続部分まわりの第2絶縁材70を硬化するとともにその線膨張係数にしたがって収縮する。これによって、第2配線パターン71aと下層の配線パターン53aとの接続部分に、絶えずそれらを圧接する力が働くこととなる。   By the way, when the purpose of connection between the second wiring pattern 71a and the lower wiring pattern 53a is that electrical conduction is not required and only thermal conduction is required, the bonding tool 56 is ultrasonically vibrated. Only apply heat and pressure. At this time, after the second wiring pattern 71a and the lower wiring pattern 53a are connected and then the bonding tool 56 is released, the temperature of the second insulating material 70 around the connecting portion decreases, and the second insulating material around the connecting portion is reduced. 70 is cured and shrinks according to its coefficient of linear expansion. As a result, a force that constantly presses the second wiring pattern 71a and the lower wiring pattern 53a acts on the connecting portion.

次には、これも前例と同様に、半導体チップとの電気的接続を良好とし、また防錆効果を高めるために、第2配線パターン71aと金属基材50の裏面に、すずめっき、金めっき、ニッケル下地の金めっき、インジュウムめっきなどの金属めっきを行う。また、その金属めっきと前後して、必要に応じ、配線パターン53aを保護するために、図4(D)に示すようにチップ接続端子71bその他の接続端子部分を除いて、第2配線パターン71aに印刷によって、可撓性に優れたソルダーレジスト57を設けて2層フレキシブルプリント配線板76を形成する。   Next, in the same manner as in the previous example, in order to improve the electrical connection with the semiconductor chip and enhance the rust prevention effect, the second wiring pattern 71a and the back surface of the metal substrate 50 are plated with tin or gold. Then, metal plating such as gold plating and indium plating of nickel base is performed. Further, before and after the metal plating, in order to protect the wiring pattern 53a as required, the second wiring pattern 71a is removed except for the chip connection terminal 71b and other connection terminal portions as shown in FIG. The two-layer flexible printed wiring board 76 is formed by providing a solder resist 57 having excellent flexibility by printing.

図7(A)ないし(C)には、図4の製造工程により形成した2層フレキシブルプリント配線板76を用いて、この発明による2層フレキシブルプリント回路板60を形成する製造工程を示す。   7A to 7C show a manufacturing process for forming the two-layer flexible printed circuit board 60 according to the present invention using the two-layer flexible printed wiring board 76 formed by the manufacturing process of FIG.

図7(A)に示すように、2層フレキシブルプリント配線板76を長さ方向に搬送可能に設けて順次、所定の温度に設定した加熱ステージ61上にセットし、所定の温度に設定したボンディングツール62で半導体チップ63を保持して、その半導体チップ63に金めっきにより形成した金属バンプ64を、第2配線パターン71aのチップ接続端子71bに位置合わせして下降し、半導体チップ63を介して熱とともに圧力を加えて金属バンプ64とチップ接続端子71bとをAu−Sn共晶接合して接続する。   As shown in FIG. 7A, a two-layer flexible printed wiring board 76 is provided so as to be transportable in the length direction, and is sequentially set on a heating stage 61 set to a predetermined temperature and bonded to a predetermined temperature. The semiconductor chip 63 is held by the tool 62, and the metal bumps 64 formed by gold plating on the semiconductor chip 63 are lowered in alignment with the chip connection terminals 71b of the second wiring pattern 71a. Pressure is applied together with heat to connect the metal bumps 64 and the chip connection terminals 71b by Au—Sn eutectic bonding.

なお、第2絶縁材70に熱可塑性樹脂を用いた場合には、半導体チップ63を介して熱とともに圧力を加える時間を長くすると、伝わった熱により第2絶縁材70が軟化してチップ接続端子71bが第2絶縁材70中に埋没してしまうこととなるから、少し埋没した時点でボンディングツール62を上昇するように調整する。   In the case where a thermoplastic resin is used for the second insulating material 70, if the time for applying pressure together with the heat through the semiconductor chip 63 is lengthened, the second insulating material 70 is softened by the transmitted heat and the chip connection terminal Since 71b will be buried in the second insulating material 70, the bonding tool 62 is adjusted to rise when it is slightly buried.

それから、図7(B)に示すように、塗布ノズル65を用いて半導体チップ63の側面に沿って周囲を描画するように封止樹脂66を塗布し、毛細管現象により注入して第2絶縁材70と半導体チップ63との間に充填する。そして、(C)に示すように、封止樹脂66を熱硬化して半導体チップ63を樹脂封止し、2層フレキシブルプリント回路板77を完成する。   Then, as shown in FIG. 7B, the sealing resin 66 is applied so as to draw the periphery along the side surface of the semiconductor chip 63 using the application nozzle 65, and is injected by capillary action to be second insulating material. It fills between 70 and the semiconductor chip 63. Then, as shown in (C), the sealing resin 66 is thermoset to seal the semiconductor chip 63 with resin, and the two-layer flexible printed circuit board 77 is completed.

そして、使用するときは、一定間隔で半導体チップ63を搭載する長尺の2層フレキシブルフレキシブルプリント回路板77から、各半導体チップ63を含む単位ごとに所定形状に打ち抜いて半導体モジュールを形成し、その半導体モジュールを、半導体チップ63を搭載する側を内側として湾曲し、例えば第2配線パターン71aの別の一部接続端子を液晶パネルに接続し、別の他部接続端子を他のプリント配線板に接続する。   And, when used, a semiconductor module is formed by punching into a predetermined shape for each unit including each semiconductor chip 63 from the long two-layer flexible flexible printed circuit board 77 on which the semiconductor chips 63 are mounted at regular intervals. The semiconductor module is bent with the side on which the semiconductor chip 63 is mounted as the inside, for example, another partial connection terminal of the second wiring pattern 71a is connected to the liquid crystal panel, and another other connection terminal is connected to another printed wiring board. Connecting.

このような2層フレキシブルプリント回路板77とすれば、半導体チップ63が発生する熱を金属バンプ64から、第2配線パターン71aを介して1層目の配線パターン53aに導き、その1層目の配線パターン53aを介してそのグランド配線部分が接続する金属基材50に逃がすので、搭載する半導体チップ63の熱を、熱伝導率のよい金属バンプ64、第2配線パターン71a、および1層目の配線パターン53aで効率よく伝達して、熱伝導率がよく広い金属基材50からまわりの空間に有効に発散することができる。これにより、半導体チップ63の動作スピードが低下したり、半導体チップ63の信頼性が低下したりするおそれを解消することができる。   With such a two-layer flexible printed circuit board 77, the heat generated by the semiconductor chip 63 is guided from the metal bump 64 to the first-layer wiring pattern 53a via the second wiring pattern 71a. Since the ground wiring portion is connected to the metal substrate 50 to which the ground wiring portion is connected via the wiring pattern 53a, the heat of the semiconductor chip 63 to be mounted is transferred to the metal bump 64, the second wiring pattern 71a, and the first layer of the high thermal conductivity. It can be efficiently transmitted by the wiring pattern 53a, and can effectively diverge from the wide metal substrate 50 having a good thermal conductivity to the surrounding space. As a result, it is possible to eliminate the possibility that the operation speed of the semiconductor chip 63 is lowered or the reliability of the semiconductor chip 63 is lowered.

しかも、第2配線パターン71aのグランド配線部分を下層の配線パターン53aに電気的に接続し、その下層の配線パターン53aを介して金属基材50に電気的に接続することができるので、前例と同様に、電磁波のシールド性に優れ、配線パターン53aから発生する電磁波ノイズを低減し、また外部からの電磁波ノイズの影響を受けにくくすることができる。   Moreover, since the ground wiring portion of the second wiring pattern 71a can be electrically connected to the lower wiring pattern 53a and can be electrically connected to the metal substrate 50 via the lower wiring pattern 53a, Similarly, it is excellent in electromagnetic wave shielding properties, reduces electromagnetic noise generated from the wiring pattern 53a, and makes it less susceptible to external electromagnetic noise.

加えて、これも前例と同様に、屈曲性に富み、半導体モジュールを湾曲して組み付けるとき、金属基材50が塑性変形して元の形状に戻ろうとする弾性力を低減し、特に昨今では小型化が進んで筐体内に折り曲げて組み付けることが多くなっており、このようなときの組み付け作業性を高めることができる。さらに、この例によれば、配線パターンの2層化を図るので、より複雑な回路構成とすることができる。   In addition, as in the previous example, this is also rich in flexibility, and when the semiconductor module is bent and assembled, the metal base member 50 is plastically deformed to reduce the elastic force to return to its original shape, and in recent years it is particularly compact. As a result, it is often bent and assembled in the housing, and the assembling workability in such a case can be improved. Further, according to this example, since the wiring pattern is made two layers, a more complicated circuit configuration can be obtained.

図4ないし図7に示す例では、1層目の配線パターン53a上に、第2絶縁材70を介して第2配線パターン71aを形成して後、その第2配線パターン71aに、ボンディングツール62を押し当てて熱と圧力とを加え、その第2配線パターン71aを変形することにより第2絶縁材70中に埋没して1層目の配線パターン53aと接続する。そして、フリップチップ接続で半導体チップ63を搭載したとき、半導体チップ63が発生する熱を、第2配線パターン71aを介して1層目の配線パターン53aに導き、その1層目の配線パターン53aを介してそのグランド配線部分が接続する金属基材50に逃がす2層のフレキシブルプリント回路板77について説明した。   In the example shown in FIGS. 4 to 7, after the second wiring pattern 71a is formed on the first wiring pattern 53a via the second insulating material 70, the bonding tool 62 is formed on the second wiring pattern 71a. By pressing and applying heat and pressure to deform the second wiring pattern 71a, it is buried in the second insulating material 70 and connected to the first wiring pattern 53a. Then, when the semiconductor chip 63 is mounted by flip chip connection, the heat generated by the semiconductor chip 63 is guided to the first wiring pattern 53a through the second wiring pattern 71a, and the first wiring pattern 53a is transferred to the first wiring pattern 53a. The two-layer flexible printed circuit board 77 that escapes to the metal substrate 50 to which the ground wiring portion is connected has been described.

しかし、下層の配線パターン上に、上層の絶縁材を介して上層の配線パターンを形成して後、その上層の配線パターンに熱と圧力とを加え、その上層の配線パターンを変形することにより上層の絶縁材中に埋没して下層の配線パターンと接続して配線パターンを多層に設けるようにする。そして、フリップチップ接続で半導体チップを搭載したとき、半導体チップが発生する熱を、上層の配線パターンを介して順に下層の配線パターンに導き、多層の配線パターンを介して1層目の配線パターンのグランド配線部分が接続する金属基材に逃がし、3層以上の多層のフレキシブルプリント回路板とすることもできる。   However, after forming the upper wiring pattern on the lower wiring pattern via the upper insulating material, the upper wiring pattern is deformed by applying heat and pressure to the upper wiring pattern. The wiring pattern is provided in multiple layers by being buried in the insulating material and connected to the lower wiring pattern. Then, when the semiconductor chip is mounted by flip chip connection, the heat generated by the semiconductor chip is sequentially guided to the lower layer wiring pattern through the upper layer wiring pattern, and the first layer wiring pattern is formed through the multilayer wiring pattern. It can escape to the metal base material which a ground wiring part connects, and can also be set as a multilayer flexible printed circuit board of three or more layers.

図8には、この発明に係る両面フレキシブルプリント回路板80の縦断面を示す。
この例では、図1(A)ないし(C)と同様の製造工程を経て、金属基材50の表面に表側絶縁材52を介して表側配線パターン53aを形成するとき同時に、金属基材50の裏面にも裏側絶縁材82を介して裏側配線パターン83aを形成する。それから、ボンディングツールを用いて表側および裏側配線パターン53a・83aのグランド配線部分に熱と圧力とを加えることにより、それらのグランド配線部分を各々表側および裏側絶縁材52・82中に埋没して金属基材50の表面または裏面に接続する。
FIG. 8 shows a longitudinal section of a double-sided flexible printed circuit board 80 according to the present invention.
In this example, when the front side wiring pattern 53a is formed on the surface of the metal base material 50 via the front side insulating material 52 through the same manufacturing steps as in FIGS. A back side wiring pattern 83a is also formed on the back side via a back side insulating material 82. Then, by applying heat and pressure to the ground wiring portions of the front and back wiring patterns 53a and 83a using a bonding tool, the ground wiring portions are buried in the front and back insulating materials 52 and 82, respectively. Connect to the front or back surface of the substrate 50.

その後、表側配線パターン53a上に表側第2絶縁材70をラミネートすると同時に、裏側配線パターン83a上に裏側第2絶縁材84をラミネートし、さらに表側第2絶縁材70の上に表側第2配線形成用銅箔をラミネートすると同時に、裏側第2絶縁材84の上に裏側第2配線形成用銅箔をラミネートする。そして、表側および裏側の第2配線形成用銅箔から、周知の工程を経て表側および裏側第2配線パターン71a・85aを片面ずつまたは同時に形成する。それから、ボンディングツールを用いて表側および裏側第2配線パターン71a・85aに熱と圧力とを加えることにより、それらの第2配線パターン71a・85aを各々表側および裏側第2絶縁材70・84中に埋没して金属基材50の表面または裏面に接続する。   Thereafter, the front-side second insulating material 70 is laminated on the front-side wiring pattern 53a, and at the same time, the back-side second insulating material 84 is laminated on the back-side wiring pattern 83a, and further, the front-side second wiring is formed on the front-side second insulating material 70. The copper foil for forming the back side second wiring is laminated on the back side second insulating material 84 simultaneously with laminating the copper foil for use. Then, the front-side and back-side second wiring patterns 71a and 85a are formed one side at a time or simultaneously from the front-side and back-side second wiring forming copper foils through a known process. Then, by applying heat and pressure to the front and back second wiring patterns 71a and 85a using a bonding tool, the second wiring patterns 71a and 85a are placed in the front and back second insulating materials 70 and 84, respectively. It is buried and connected to the front or back surface of the metal substrate 50.

次いで、金属めっきを行い、必要に応じてその金属めっきに前後してソルダーレジスト57・86を形成する。そして、半導体チップ63を搭載し、封止樹脂66を充填して樹脂封止し、両面フレキシブルプリント回路板80を完成する。   Next, metal plating is performed, and solder resists 57 and 86 are formed before and after the metal plating as necessary. Then, the semiconductor chip 63 is mounted, the sealing resin 66 is filled and the resin sealing is performed, and the double-sided flexible printed circuit board 80 is completed.

このような両面フレキシブルプリント回路板80とよれば、半導体チップ63が発生する熱を金属バンプ64から、表側第2配線パターン71aを通して下層の表側配線パターン53aに伝え、表側配線パターン53aを介してそのグランド配線部分が接続する金属基材50に逃がすとともに、その金属基材50に逃がした熱を裏側配線パターン83aのグランド配線部分を介して裏側第2配線パターン85aにも伝えるので、上述した例の効果に加え、半導体チップ63の放熱効果を一層高めるとともに、配線パターンの両面化を図り、複雑な回路構成とすることができる。   According to such a double-sided flexible printed circuit board 80, the heat generated by the semiconductor chip 63 is transmitted from the metal bump 64 to the lower surface wiring pattern 53a through the surface second wiring pattern 71a, and is transmitted via the surface wiring pattern 53a. The ground wiring portion escapes to the metal base material 50 to which the ground wiring portion is connected, and the heat released to the metal base material 50 is also transmitted to the back side second wiring pattern 85a via the ground wiring portion of the back side wiring pattern 83a. In addition to the effect, the heat dissipation effect of the semiconductor chip 63 can be further enhanced, and the wiring pattern can be double-sided so that a complicated circuit configuration can be obtained.

さて、この発明で用いる配線形成用銅箔53・71は、配線パターン53a・71aを形成して金属基材50や下層の配線パターン53aと接続するとき、ボンディングツール56により変形して引きのばすため、断線を防止すべく、柔らかくまた伸び率の高い圧延銅箔やそれに類似する物性の電解銅箔を用いることが望ましい。   The wiring forming copper foils 53, 71 used in the present invention are deformed by the bonding tool 56 and stretched when the wiring patterns 53a, 71a are formed and connected to the metal substrate 50 or the underlying wiring pattern 53a. In order to prevent disconnection, it is desirable to use a rolled copper foil that is soft and has a high elongation rate, or an electrolytic copper foil having similar properties.

また、ボンディングツール56は、ステンレスなどの耐熱性を有する金属を用いてつくる。そして、その先端形状は、方式により異なるが、圧力と熱と超音波振動を加える場合は、例えば図9に示すように溝を設けて横ずれを防ぐようにすることが好ましい。他方、熱と圧力のみを加える場合には、配線パターン53a・71aに傷を付けることのないように、平面状または滑らかな半球形状などとすることが好ましい。そして、微細な配線パターン53a・71aを変形させて金属基材50や下層の配線パターン53aと接続するためには、先端を細くする必要がある。しかし、例えば図10(A)ないし(E)に示すように、最先端部以外は極力太い方が、ツール全体の強度を確保する上から、また温度を安定させるために必要とされる熱容量を確保する上からも好ましい。   The bonding tool 56 is made of a metal having heat resistance such as stainless steel. The tip shape differs depending on the system, but when applying pressure, heat, and ultrasonic vibration, it is preferable to provide a groove as shown in FIG. On the other hand, when only heat and pressure are applied, it is preferable to have a flat or smooth hemispherical shape so as not to damage the wiring patterns 53a and 71a. In order to deform the fine wiring patterns 53a and 71a and connect them to the metal substrate 50 and the underlying wiring pattern 53a, it is necessary to make the tip thin. However, for example, as shown in FIGS. 10 (A) to (E), the thickest part except the most advanced part has a heat capacity necessary for ensuring the strength of the entire tool and for stabilizing the temperature. It is also preferable from the viewpoint of ensuring.

(A)ないし(D)は、この発明に係るフレキシブルプリント配線板の製造工程図である。(A) thru | or (D) is a manufacturing-process figure of the flexible printed wiring board based on this invention. (A)ないし(C)は、図1の製造工程により形成したフレキシブルプリント配線板を用いて、この発明によるフレキシブルプリント回路板を形成する製造工程図である。(A) thru | or (C) is a manufacturing process figure which forms the flexible printed circuit board by this invention using the flexible printed wiring board formed by the manufacturing process of FIG. 図2の製造工程により形成したフレキシブルプリント回路板の使用状態図である。It is a use state figure of the flexible printed circuit board formed by the manufacturing process of FIG. (A)ないし(D)は、この発明に係る2層フレキシブルプリント配線板の製造工程図である。(A) thru | or (D) is a manufacturing-process figure of the two-layer flexible printed wiring board based on this invention. その2層目の配線パターンを形成するための、第2絶縁材と第2配線形成用銅箔のラミネート工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the lamination process of the 2nd insulating material and the copper foil for 2nd wiring formation for forming the wiring pattern of the 2nd layer. (A)および(B)は、ラミネート工程の他例を示す図である。(A) And (B) is a figure which shows the other example of a lamination process. (A)ないし(C)は、図4の製造工程により形成した2層フレキシブルプリント配線板を用いて、この発明による2層フレキシブルプリント回路板を形成する製造工程図である。(A) thru | or (C) is a manufacturing process figure which forms the 2 layer flexible printed circuit board by this invention using the 2 layer flexible printed wiring board formed by the manufacturing process of FIG. この発明に係る両面フレキシブルプリント回路板の縦断面図である。1 is a longitudinal sectional view of a double-sided flexible printed circuit board according to the present invention. この発明に係る製造方法で使用するボンディングツールの一例の正面図およびその先端を示す底面図である。It is the front view of an example of the bonding tool used with the manufacturing method concerning this invention, and the bottom view showing the tip. (A)ないし(E)は、それぞれこの発明に係る製造方法で使用するボンディングツールの他例の正面図およびその先端を示す底面図である。(A) thru | or (E) are the front views of the other example of the bonding tool used with the manufacturing method which concerns on this invention, respectively, and the bottom view which shows the front-end | tip. (A)は従来のフレキシブルプリント回路板の縦断面図、(B)はその使用状態図である。(A) is a longitudinal cross-sectional view of the conventional flexible printed circuit board, (B) is the use state figure. (A)ないし(E)は、従来の別のフレキシブルプリント配線板の製造工程図である。(A) thru | or (E) is a manufacturing-process figure of another conventional flexible printed wiring board. (A)ないし(C)は、図12の従来の製造工程により形成したフレキシブルプリント配線板を用いて、フレキシブルプリント回路板を形成する製造工程図である。(A) thru | or (C) is a manufacturing process figure which forms a flexible printed circuit board using the flexible printed wiring board formed by the conventional manufacturing process of FIG. 図13の製造工程により形成したフレキシブルプリント回路板の使用状態図である。It is a use state figure of the flexible printed circuit board formed by the manufacturing process of FIG. (A)ないし(F)は、従来のさらに別のフレキシブルプリント配線板の製造工程図である。(A) thru | or (F) is a manufacturing-process figure of another conventional flexible printed wiring board. (A)および(B)は、従来のまたさらに別のフレキシブルプリント配線板の製造工程図である。(A) And (B) is a manufacturing-process figure of another conventional flexible printed wiring board.

符号の説明Explanation of symbols

50 金属基材
52 (表側)絶縁材
53a (表側)配線パターン
56 ボンディングツール
58 フレキシブルプリント配線板
60 フレキシブルプリント回路板
62 ボンディングツール
63 半導体チップ
64 金属バンプ
70 第2絶縁材
71a 第2配線パターン
76 フレキシブルプリント配線板
77 フレキシブルプリント回路板
80 フレキシブルプリント回路板
82 裏側絶縁材
83a 裏側配線パターン

DESCRIPTION OF SYMBOLS 50 Metal base material 52 (Front side) Insulation material 53a (Front side) Wiring pattern 56 Bonding tool 58 Flexible printed wiring board 60 Flexible printed circuit board 62 Bonding tool 63 Semiconductor chip 64 Metal bump 70 2nd insulating material 71a 2nd wiring pattern 76 Flexible Printed wiring board 77 Flexible printed circuit board 80 Flexible printed circuit board 82 Back side insulating material 83a Back side wiring pattern

Claims (8)

金属基材上に絶縁材を介して配線パターンを形成して後、
その配線パターンのグランド配線部分に熱と圧力とを加えることにより、そのグランド配線部分を前記絶縁材中に埋没して前記金属基材と接続する、
ことを特徴とする、フレキシブルプリント配線板の製造方法。
After forming the wiring pattern on the metal substrate via the insulating material,
By applying heat and pressure to the ground wiring portion of the wiring pattern, the ground wiring portion is buried in the insulating material and connected to the metal substrate.
A method for producing a flexible printed wiring board, comprising:
前記グランド配線部分に熱と圧力とを加えるとともに、超音波振動を加えることを特徴とする、請求項1に記載のフレキシブルプリント配線板の製造方法。   2. The method of manufacturing a flexible printed wiring board according to claim 1, wherein ultrasonic vibration is applied to the ground wiring portion while applying heat and pressure. 前記配線パターン上に第2絶縁材を介して第2配線パターンを形成して後、
その第2配線パターンに熱と圧力とを加えることにより、その第2配線パターンを前記第2絶縁材中に埋没して前記配線パターンと接続する、
ことを特徴とする、請求項1または2に記載のフレキシブルプリント配線板の製造方法。
After forming a second wiring pattern on the wiring pattern via a second insulating material,
By applying heat and pressure to the second wiring pattern, the second wiring pattern is buried in the second insulating material and connected to the wiring pattern.
The manufacturing method of the flexible printed wiring board of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned.
下層の配線パターン上に、上層の絶縁材を介して上層の配線パターンを形成して後、
その上層の配線パターンに熱と圧力とを加えることにより、その上層の配線パターンを前記上層の絶縁材中に埋没して前記下層の配線パターンと接続して配線パターンを多層に設ける、
ことを特徴とする、請求項3に記載のフレキシブルプリント配線板の製造方法。
After forming the upper layer wiring pattern via the upper layer insulating material on the lower layer wiring pattern,
By applying heat and pressure to the upper layer wiring pattern, the upper layer wiring pattern is buried in the upper layer insulating material and connected to the lower layer wiring pattern to provide a multilayer wiring pattern,
The manufacturing method of the flexible printed wiring board of Claim 3 characterized by the above-mentioned.
前記金属基材の表面に表側絶縁材を介して表側配線パターンを形成する一方、裏面にも裏側絶縁材を介して裏側配線パターンを形成して後、
それらの表側および裏側配線パターンのグランド配線部分に熱と圧力とを加えることにより、それらのグランド配線部分を各々前記表側または裏側絶縁材中に埋没して前記金属基材の表面または裏面と接続する、
ことを特徴とする、請求項1ないし4のいずれか1に記載のフレキシブルプリント配線板の製造方法。
After forming the front side wiring pattern via the front side insulating material on the surface of the metal substrate, after forming the back side wiring pattern via the back side insulating material on the back side,
By applying heat and pressure to the ground wiring portions of the front-side and back-side wiring patterns, the ground wiring portions are respectively buried in the front-side or back-side insulating material and connected to the front or back surface of the metal substrate. ,
The manufacturing method of the flexible printed wiring board of any one of Claim 1 thru | or 4 characterized by the above-mentioned.
請求項1ないし5のいずれか1に記載の製造方法により形成することを特徴とする、フレキシブルプリント配線板。   It forms with the manufacturing method of any one of Claim 1 thru | or 5, The flexible printed wiring board characterized by the above-mentioned. 請求項6に記載のフレキシブルプリント配線板上に半導体チップを搭載することを特徴とする、フレキシブルプリント回路板の製造方法。   A method for manufacturing a flexible printed circuit board, comprising mounting a semiconductor chip on the flexible printed wiring board according to claim 6. 請求項7に記載の製造方法により形成することを特徴とする、フレキシブルプリント回路板。
It forms with the manufacturing method of Claim 7, The flexible printed circuit board characterized by the above-mentioned.
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Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012151192A (en) * 2011-01-17 2012-08-09 Canon Components Inc Flexible circuit board
EP2416639A4 (en) * 2009-03-31 2013-04-24 Jx Nippon Mining & Metals Corp ELECTROMAGNETIC SHIELDING MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING ELECTROMAGNETIC SHIELDING MATERIAL
EP2613616A2 (en) 2012-01-05 2013-07-10 Canon Components, Inc. Flexible printed circuit for mounting light emitting element, and illumination apparatus, capsule endoscope and vehicle lighting apparatus incorporating the same
JP2013150019A (en) * 2013-05-08 2013-08-01 Canon Components Inc Flexible circuit board
US9232634B2 (en) 2011-01-17 2016-01-05 Canon Components, Inc. Flexible circuit board for mounting light emitting element, illumination apparatus, and vehicle lighting apparatus
DE102014010329A1 (en) 2014-07-14 2016-01-14 Carl Freudenberg Kg Laminate for the production of an IMS circuit board and IMS circuit board
CN105392278A (en) * 2015-12-11 2016-03-09 苏州米达思精密电子有限公司 Forming equipment for reinforcing sheet without adhesive in partial
CN105517326A (en) * 2015-12-11 2016-04-20 苏州米达思精密电子有限公司 Local non-gel reinforcing sheet formation process
WO2016080053A1 (en) * 2014-11-17 2016-05-26 カルソニックカンセイ株式会社 Electronic substrate and heat-dissipating structure
JP2016207990A (en) * 2015-04-28 2016-12-08 住友電気工業株式会社 Printed wiring board and circuit board
US9549471B2 (en) 2010-07-15 2017-01-17 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Copper foil composite
US9955574B2 (en) 2012-01-13 2018-04-24 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Copper foil composite, formed product and method of producing the same
US9981450B2 (en) 2012-01-13 2018-05-29 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Copper foil composite, formed product and method of producing the same
US10178816B2 (en) 2011-05-13 2019-01-08 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Copper foil composite, copper foil used for the same, formed product and method of producing the same
WO2019013143A1 (en) * 2017-07-14 2019-01-17 シャープ株式会社 Flexible printed board and display device
JP2019212679A (en) * 2018-05-31 2019-12-12 日東電工株式会社 Printed circuit board

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS504062B1 (en) * 1970-03-04 1975-02-14
JPS6133467A (en) * 1984-07-25 1986-02-17 Nec Corp Printer
JPH03201498A (en) * 1989-12-28 1991-09-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd Metal board interconnection
JP2003304063A (en) * 2002-04-09 2003-10-24 Shinko Electric Ind Co Ltd Method of manufacturing metal core board
JP2004259731A (en) * 2003-02-24 2004-09-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Circuit board manufacturing method and circuit board manufacturing jig

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS504062B1 (en) * 1970-03-04 1975-02-14
JPS6133467A (en) * 1984-07-25 1986-02-17 Nec Corp Printer
JPH03201498A (en) * 1989-12-28 1991-09-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd Metal board interconnection
JP2003304063A (en) * 2002-04-09 2003-10-24 Shinko Electric Ind Co Ltd Method of manufacturing metal core board
JP2004259731A (en) * 2003-02-24 2004-09-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Circuit board manufacturing method and circuit board manufacturing jig

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2416639A4 (en) * 2009-03-31 2013-04-24 Jx Nippon Mining & Metals Corp ELECTROMAGNETIC SHIELDING MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING ELECTROMAGNETIC SHIELDING MATERIAL
US9079378B2 (en) 2009-03-31 2015-07-14 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Electromagnetic shielding material and method of producing electromagnetic shielding material
US9549471B2 (en) 2010-07-15 2017-01-17 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Copper foil composite
US9232634B2 (en) 2011-01-17 2016-01-05 Canon Components, Inc. Flexible circuit board for mounting light emitting element, illumination apparatus, and vehicle lighting apparatus
JP2012151192A (en) * 2011-01-17 2012-08-09 Canon Components Inc Flexible circuit board
US8963012B2 (en) 2011-01-17 2015-02-24 Canon Components, Inc. Flexible circuit board
US10178816B2 (en) 2011-05-13 2019-01-08 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Copper foil composite, copper foil used for the same, formed product and method of producing the same
EP2613616A2 (en) 2012-01-05 2013-07-10 Canon Components, Inc. Flexible printed circuit for mounting light emitting element, and illumination apparatus, capsule endoscope and vehicle lighting apparatus incorporating the same
US9981450B2 (en) 2012-01-13 2018-05-29 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Copper foil composite, formed product and method of producing the same
US9955574B2 (en) 2012-01-13 2018-04-24 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Copper foil composite, formed product and method of producing the same
JP2013150019A (en) * 2013-05-08 2013-08-01 Canon Components Inc Flexible circuit board
DE102014010329A1 (en) 2014-07-14 2016-01-14 Carl Freudenberg Kg Laminate for the production of an IMS circuit board and IMS circuit board
EP2975916A1 (en) 2014-07-14 2016-01-20 Carl Freudenberg KG Laminate for producing an ims conductor plate and ims conductor plate
WO2016080053A1 (en) * 2014-11-17 2016-05-26 カルソニックカンセイ株式会社 Electronic substrate and heat-dissipating structure
JP2016207990A (en) * 2015-04-28 2016-12-08 住友電気工業株式会社 Printed wiring board and circuit board
CN105517326A (en) * 2015-12-11 2016-04-20 苏州米达思精密电子有限公司 Local non-gel reinforcing sheet formation process
CN105392278B (en) * 2015-12-11 2018-05-15 苏州中拓专利运营管理有限公司 It is a kind of local without glue reinforcing chip former
CN105517326B (en) * 2015-12-11 2018-05-15 苏州中拓专利运营管理有限公司 It is a kind of local without glue reinforcing chip moulding process
CN105392278A (en) * 2015-12-11 2016-03-09 苏州米达思精密电子有限公司 Forming equipment for reinforcing sheet without adhesive in partial
WO2019013143A1 (en) * 2017-07-14 2019-01-17 シャープ株式会社 Flexible printed board and display device
JP2019212679A (en) * 2018-05-31 2019-12-12 日東電工株式会社 Printed circuit board
JP7268962B2 (en) 2018-05-31 2023-05-08 日東電工株式会社 wiring circuit board

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