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JP2007107085A - Integrated chemical system and integrated light energy conversion system - Google Patents

Integrated chemical system and integrated light energy conversion system Download PDF

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JP2007107085A
JP2007107085A JP2005328063A JP2005328063A JP2007107085A JP 2007107085 A JP2007107085 A JP 2007107085A JP 2005328063 A JP2005328063 A JP 2005328063A JP 2005328063 A JP2005328063 A JP 2005328063A JP 2007107085 A JP2007107085 A JP 2007107085A
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JP
Japan
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thin film
semiconductor
hog
ics
ilecs
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JP2005328063A
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Japanese (ja)
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Tetsuzo Yoshimura
徹三 吉村
Kunihiko Asama
邦彦 浅間
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Individual
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  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To achieve the size reduction, cost reduction, and performance enhancement of a photochemical system, an electrochemical system, a light energy conversion system on the like. <P>SOLUTION: The integrated chemical system and the integrated light energy conversion system each comprises a semiconductor thin film with exposed surfaces, a light collecting lens, an optical waveguide, a micropassage, etc. These can be regarded as integrated circuits composed of an assembly of united light, electricity, chemical, liquid, gas, and solid. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

発明の詳細な説明Detailed Description of the Invention

本発明は,集積化ケミカルシステム(ICS),およびそれを応用した薄膜水素/酸素ガス発生装置(TF−HOG)と集積化エネルギー変換システム(ILECS)に係り,特に,薄膜の表・裏面が液体および/または気体および/またはイオン伝導性固体と接するかまたは近接しているICS,液体および/または気体の流路が形成されているICS,ギャップ部に他のギャップ部と異なる種類の液体および/または気体および/またはイオン伝導性固体が挿入されているICS,ギャップ部間を連結する流路が形成されているICS,成長基板に形成した薄膜を剥離することにより作製するICS,ギャップ部に相当する部分に除去可能な材料をパターン化して配置した薄膜の積層構造を形成した後,除去可能な材料を除去することにより作製するICS,半導体薄膜の表裏両面が電解質と接するかまたは近接したTF−HOG,集光レンズによりTF−HOGに照射光をガイドするようなTF−HOG,光導波路を含む光回路により照射光を光エネルギー変換デバイスまでガイドするようなILECS,光回路中に波長フィルタを含むようなILECS,光導波路を積層した3次元光回路を含むようなILECS,集光レンズ,光導波路の少なくとも1部が,インプリント法および/またはBuilt−in Mask法で作製されたILECS,および電解質およびガスを通すマイクロ流路が集積化されているILECSに関する。    The present invention relates to an integrated chemical system (ICS), a thin film hydrogen / oxygen gas generator (TF-HOG) and an integrated energy conversion system (ILECS) to which the integrated chemical system (ICS) is applied. And / or ICS in contact with or in close proximity to gas and / or ion-conducting solids, ICS in which liquid and / or gas flow paths are formed, different types of liquids in the gap and other gaps and / or Or an ICS in which a gas and / or ion conductive solid is inserted, an ICS in which a flow path connecting gap portions is formed, an ICS produced by peeling a thin film formed on a growth substrate, and a gap portion After forming a thin film stack structure in which the removable material is patterned in the area to be removed, the removable material is removed. ICS to be manufactured, TF-HOG in which both front and back surfaces of the semiconductor thin film are in contact with or close to the electrolyte, TF-HOG that guides the irradiating light to the TF-HOG by the condensing lens, and the irradiation light by the optical circuit including the optical waveguide At least one part of ILECS that guides the light energy conversion device, ILECS that includes a wavelength filter in the optical circuit, ILECS that includes a three-dimensional optical circuit in which optical waveguides are stacked, a condensing lens, and an optical waveguide The present invention relates to an ILECS produced by an imprint method and / or a Bilt-in Mask method, and an ILECS in which microchannels for passing an electrolyte and a gas are integrated.

太陽電池などの光エネルギー変換デバイスや蓄電池など光化学・電気化学的なプロセスを含むデバイスは,通常,反応容器を用いるため,小型・集積化・高効率化・高機能化が困難という課題がある。  Devices that include photochemical / electrochemical processes, such as solar cells and other photoenergy conversion devices and storage batteries, usually use a reaction vessel, so there is a problem that it is difficult to reduce the size, integration, efficiency, and functionality.

クリーンな光エネルギー変換方法として,酸化物半導体を用いたHOGがある。その中の有望な方式として,2種類の半導体粒子を電解質に分散させ,粒子間のエネルギー伝達を利用するタイプが知られている(例えば非特許文献1参照)。しかしながら,分散系であるため,粒子間の位置関係の制御が困難でエネルギー伝達効率の適正化ができない,そのため光エネルギーの変換効率が低い(1%以下)という課題がある。  As a clean light energy conversion method, there is HOG using an oxide semiconductor. As a promising method, a type in which two kinds of semiconductor particles are dispersed in an electrolyte and energy transfer between the particles is used is known (for example, see Non-Patent Document 1). However, since it is a dispersion system, it is difficult to control the positional relationship between the particles and the energy transfer efficiency cannot be optimized, so that there is a problem that the light energy conversion efficiency is low (1% or less).

もうひとつのクリーンな光エネルギー変換方法として,太陽電池(Solar Cell(SC))がある。SCとしては,半導体パネルを敷き詰めたパネル型太陽電池,および大規模なレンズやミラーを用いた集光型太陽電池が主流である。しかしながら,前者では,高価なSiを多量に使用するためコストが高くなるという課題がある。後者では,バルク光学系を用いるため,コストが高くなるとともに,サイズが大きくなるという課題がある。  There is a solar cell (Solar Cell (SC)) as another clean light energy conversion method. As the SC, a panel type solar cell in which semiconductor panels are laid and a concentrating type solar cell using a large-scale lens or mirror are mainly used. However, the former has a problem that the cost increases because a large amount of expensive Si is used. In the latter, since a bulk optical system is used, there is a problem that the cost increases and the size increases.

「夢の人工合成」Newton「次世代テクノロジー」ニュートンプレス.  “Dream Artificial Synthesis” Newton “Next Generation Technology” Newton Press.

発明が解決しようとする課題Problems to be solved by the invention

本発明の一つの目的は,光化学,電気化学などのケミカルプロセスを含むデバイスの小型・集積化,それに伴う高効率化・高機能化を実現することにある。また,本発明の他の目的は,SCやHOGの光エネルギー変換効率を向上させることにある。また,本発明の他の目的は,半導体材料消費量を減少させ,SCやHOGのコストを下げることにある。また,本発明の他の目的は,集光光学系のサイズを小さくすることにある。また,本発明の他の目的は,SCやHOGの集光光学系のコストを下げることにある。また,本発明の他の目的は,HOGで発生するガスの収集を容易にすることにある。  One object of the present invention is to realize miniaturization and integration of devices including chemical processes such as photochemistry and electrochemistry, and to increase efficiency and functionality associated therewith. Another object of the present invention is to improve the light energy conversion efficiency of SC and HOG. Another object of the present invention is to reduce the consumption of semiconductor material and to reduce the cost of SC and HOG. Another object of the present invention is to reduce the size of the condensing optical system. Another object of the present invention is to reduce the cost of an SC or HOG condensing optical system. Another object of the present invention is to facilitate the collection of gas generated by HOG.

課題を解決するための手段Means for solving the problem

本発明の第1の態様に係るICSは,薄膜の表および裏の表面がともに露出部を有し,該露出部が液体および/または気体および/またはイオン伝導性固体と接するかまたは間隔をあけて近接している構造を含むことを特徴とするものである。これにより,光化学・電気化学などケミカルプロセスを含むデバイスの小型・集積化,それに伴う高効率化・高機能化を実現することができる。  In the ICS according to the first aspect of the present invention, both the front and back surfaces of the thin film have exposed portions, and the exposed portions are in contact with or spaced from the liquid and / or gas and / or ion conductive solid. And a structure close to each other. This makes it possible to achieve downsizing and integration of devices including chemical processes such as photochemistry and electrochemistry, as well as higher efficiency and higher functionality.

本発明の第1の態様に係るもうひとつのICSは,複数の薄膜が間隔をあけて隣接し,該薄膜の2面以上の表面が露出部を有し,該露出部が液体および/または気体および/またはイオン伝導性固体と接するかまたは間隔をあけて近接している構造を含むことを特徴とするものである。これにより,光化学・電気化学などケミカルプロセスを含むデバイスの小型・集積化,それに伴う高効率化・高機能化を実現することができる。  In another ICS according to the first aspect of the present invention, a plurality of thin films are adjacent to each other with a gap, and two or more surfaces of the thin film have an exposed portion, and the exposed portion is a liquid and / or gas. And / or a structure in contact with or in close proximity to the ion-conductive solid. This makes it possible to achieve downsizing and integration of devices including chemical processes such as photochemistry and electrochemistry, as well as higher efficiency and higher functionality.

本発明の第1の態様に係るもうひとつのICSは,薄膜と薄膜との間のギャップ部および/または薄膜と基板との間のギャップ部および/または薄膜とカバー層との間のギャップ部に液体および/または気体の流路が形成されていることを特徴とするものである。これにより,光化学・電気化学などケミカルプロセスを含むデバイスの小型・集積化,それに伴う高効率化・高機能化を実現することができる。  Another ICS according to the first aspect of the present invention includes a gap between the thin film and / or a gap between the thin film and the substrate and / or a gap between the thin film and the cover layer. A liquid and / or gas flow path is formed. This makes it possible to achieve downsizing and integration of devices including chemical processes such as photochemistry and electrochemistry, as well as higher efficiency and higher functionality.

本発明の第1の態様に係るもうひとつのICSは,流路がパターン化されていることを特徴とするものである。これにより,光化学・電気化学などケミカルプロセスを含むデバイスの小型・集積化,それに伴う高効率化・高機能化を実現することができる。  Another ICS according to the first aspect of the present invention is characterized in that the flow path is patterned. This makes it possible to achieve downsizing and integration of devices including chemical processes such as photochemistry and electrochemistry, as well as higher efficiency and higher functionality.

本発明の第1の態様に係るもうひとつのICSは,ギャップ部の少なくとも一つが,他のギャップ部に含まれる液体および/または気体および/またはイオン伝導性固体と異なる種類の液体および/または気体および/またはイオン伝導性固体を含むことを特徴とするものである。これにより,光化学・電気化学などケミカルプロセスを含むデバイスの小型・集積化,それに伴う高効率化・高機能化を実現することができる。  In another ICS according to the first aspect of the present invention, at least one of the gap portions is a liquid and / or gas of a type different from the liquid and / or gas and / or ion conductive solid contained in the other gap portion. And / or an ion conductive solid. This makes it possible to achieve downsizing and integration of devices including chemical processes such as photochemistry and electrochemistry, as well as higher efficiency and higher functionality.

本発明の第1の態様に係るもうひとつのICSは,ギャップ部間を連結する流路が形成されていることを特徴とするものである。これにより,光化学・電気化学などケミカルプロセスを含むデバイスの小型・集積化,それに伴う高効率化・高機能化を実現することができる。  Another ICS according to the first aspect of the present invention is characterized in that a flow path connecting gap portions is formed. This makes it possible to achieve downsizing and integration of devices including chemical processes such as photochemistry and electrochemistry, as well as higher efficiency and higher functionality.

本発明の第1の態様に係るもうひとつのICSは,薄膜が,成長基板に形成した薄膜を基板から剥離することにより作製されることを特徴とするものである。これにより,光化学・電気化学などケミカルプロセスを含むデバイスの小型・集積化,それに伴う高効率化・高機能化を実現することができる。  Another ICS according to the first aspect of the present invention is characterized in that the thin film is produced by peeling the thin film formed on the growth substrate from the substrate. This makes it possible to achieve downsizing and integration of devices including chemical processes such as photochemistry and electrochemistry, as well as higher efficiency and higher functionality.

本発明の第1の態様に係るもうひとつのICSは,薄膜と薄膜との間のギャップ部および/または薄膜と基板との間のギャップ部および/または薄膜とカバー層との間のギャップ部に相当する部分に除去可能な材料をパターン化して配置してなる積層構造を形成した後,上記除去可能な材料を除去することによりギャップ部を形成することを特徴とするものである。これにより,光化学・電気化学などケミカルプロセスを含むデバイスの小型・集積化,それに伴う高効率化・高機能化を実現することができる。  Another ICS according to the first aspect of the present invention includes a gap between the thin film and / or a gap between the thin film and the substrate and / or a gap between the thin film and the cover layer. A gap portion is formed by forming a laminated structure in which a removable material is patterned and arranged in a corresponding portion and then removing the removable material. This makes it possible to achieve downsizing and integration of devices including chemical processes such as photochemistry and electrochemistry, as well as higher efficiency and higher functionality.

本発明の第2の態様に係るTF−HOGは,pinまたはpn接合を有する半導体薄膜からなる半導体コアのp型半導体表面およびn型半導体表面がともに露出し,両表面が電解質と接するかまたは間隔をおいて近接しており,半導体コアへの光照射により酸素ガスおよび/または水素ガスが発生することを特徴とするものである。これにより,HOGの光エネルギー変換効率を向上させることができる。  In the TF-HOG according to the second aspect of the present invention, the p-type semiconductor surface and the n-type semiconductor surface of a semiconductor core made of a semiconductor thin film having a pin or pn junction are both exposed, and both surfaces are in contact with an electrolyte or are spaced from each other. And oxygen gas and / or hydrogen gas is generated by light irradiation to the semiconductor core. Thereby, the light energy conversion efficiency of HOG can be improved.

本発明の第2の態様に係るもうひとつのTF−HOGは,エネルギー準位の異なる複数種類の半導体薄膜を間隔をあけて隣接させてなる半導体コアを備え,前記半導体薄膜それぞれの表および/または裏の表面が露出し電解質と接するかまたは間隔をあけて近接しており,半導体コアへの光照射により酸素ガスおよび/または水素ガスが発生することを特徴とするものである。これにより,HOGの光エネルギー変換効率を向上させることができる。  Another TF-HOG according to the second aspect of the present invention includes a semiconductor core formed by adjoining a plurality of types of semiconductor thin films having different energy levels at intervals, and each of the tables and / or the semiconductor thin films. The back surface is exposed and is in contact with the electrolyte or in close proximity to each other, and oxygen gas and / or hydrogen gas is generated by light irradiation to the semiconductor core. Thereby, the light energy conversion efficiency of HOG can be improved.

本発明の第2の態様に係るもうひとつのTF−HOGは,エネルギー準位の異なる複数種類の半導体薄膜を,それらより広いエネルギーギャップを有する薄膜を介して積層してなる半導体コアを備え,半導体薄膜の表および裏の表面がともに露出し電解質と接するかまたは間隔をおいて近接しており,半導体コアへの光照射により酸素ガスおよび/または水素ガスが発生することを特徴とするものである。これにより,HOGの光エネルギー変換効率を向上させることができる。  Another TF-HOG according to the second aspect of the present invention includes a semiconductor core formed by laminating a plurality of types of semiconductor thin films having different energy levels via thin films having a wider energy gap. The front and back surfaces of the thin film are both exposed and in contact with the electrolyte or in close proximity with each other, and oxygen gas and / or hydrogen gas is generated by light irradiation to the semiconductor core. . Thereby, the light energy conversion efficiency of HOG can be improved.

本発明の第2の態様に係るもうひとつのTF−HOGは,エネルギー準位の異なる複数種類の半導体薄膜を積層してなる半導体コアを備え,半導体薄膜の表および裏の表面がともに露出し電解質と接するかまたは間隔をおいて近接しており,半導体コアへの光照射により酸素ガスおよび/または水素ガスが発生することを特徴とするものである。これにより,HOGの光エネルギー変換効率を向上させることができる。  Another TF-HOG according to the second aspect of the present invention includes a semiconductor core formed by laminating a plurality of types of semiconductor thin films having different energy levels, and both the front and back surfaces of the semiconductor thin film are exposed, and the electrolyte. Or oxygen gas and / or hydrogen gas is generated by light irradiation to the semiconductor core. Thereby, the light energy conversion efficiency of HOG can be improved.

本発明の第2の態様に係るもうひとつのTF−HOGは,波長の異なる光を半導体コアの表面,裏面から別々に照射することを特徴とするものである。これにより,HOGの光エネルギー変換効率を向上させることができる。  Another TF-HOG according to the second aspect of the present invention is characterized in that light having different wavelengths is irradiated separately from the front surface and the back surface of the semiconductor core. Thereby, the light energy conversion efficiency of HOG can be improved.

本発明の第3の態様に係るもうひとつのTF−HOGは,集光レンズまたは集光レンズアレイが,TF−HOGに接して,または間隔をあけて隣接して配置されていることを特徴とするものである。これにより,半導体材料消費量を減少させ,HOGのコストを下げることができる。  Another TF-HOG according to the third aspect of the present invention is characterized in that a condensing lens or a condensing lens array is disposed in contact with or adjacent to the TF-HOG. To do. Thereby, semiconductor material consumption can be reduced and the cost of HOG can be reduced.

本発明の第4の態様に係るILECSは,集光レンズまたは集光レンズアレイと接して,または間隔をあけて隣接して配置された光導波路を備え,該光導波路を含む光回路の途中または端部または該光回路に接続された光ファイバの端部に光エネルギー変換デバイスを配置したことを特徴とするものである。これにより,ILECSの光エネルギー変換効率を向上させ,サイズを小型化し,コストを低下させることができる。  The ILECS according to the fourth aspect of the present invention includes an optical waveguide disposed in contact with the condensing lens or the condensing lens array or adjacent to the condensing lens array, and an intermediate portion of an optical circuit including the optical waveguide or The optical energy conversion device is arranged at the end or the end of the optical fiber connected to the optical circuit. Thereby, the light energy conversion efficiency of ILECS can be improved, the size can be reduced, and the cost can be reduced.

本発明の第4の態様に係るもうひとつのILECSは,光回路の一部に波長フィルタを設けたことを特徴とするものである。これにより,ILECSの光エネルギー変換効率を向上させることができる。  Another ILECS according to the fourth aspect of the present invention is characterized in that a wavelength filter is provided in a part of the optical circuit. Thereby, the light energy conversion efficiency of ILECS can be improved.

本発明の第4の態様に係るもうひとつのILECSは,波長フィルタで分波された光を異なる分光感度特性を有する光エネルギー変換デバイスに誘導することを特徴とするものである。これにより,ILECSの光エネルギー変換効率を向上させることができる。  Another ILECS according to the fourth aspect of the present invention is characterized in that the light demultiplexed by the wavelength filter is guided to a light energy conversion device having different spectral sensitivity characteristics. Thereby, the light energy conversion efficiency of ILECS can be improved.

本発明の第4の態様に係るもうひとつのILECSは,光エネルギー変換デバイスがHOGおよび/またはソラーセル(SC)であることを特徴とすることができる。  Another ILECS according to the fourth aspect of the present invention may be characterized in that the light energy conversion device is a HOG and / or a solar cell (SC).

本発明の第4の態様に係るもうひとつのILECSは,光導波路を積層した3次元光回路を含むことを特徴とするものである。これにより,光エネルギー変換システムの光エネルギー変換効率を向上させ,サイズを小型化することができる。  Another ILECS according to the fourth aspect of the present invention includes a three-dimensional optical circuit in which optical waveguides are stacked. As a result, the light energy conversion efficiency of the light energy conversion system can be improved and the size can be reduced.

発明の第4の態様に係るもうひとつのILECSは,集光レンズ,光導波路の少なくとも1部が,インプリント法および/またはBuilt−in Mask法で作製されたことを特徴とするものである。これにより,ILECSのコストを低下させることができる。  Another ILECS according to the fourth aspect of the invention is characterized in that at least a part of the condensing lens and the optical waveguide is manufactured by the imprint method and / or the Bilt-in Mask method. Thereby, the cost of ILECS can be reduced.

本発明の第4の態様に係るもうひとつのILECSは,電解質および/またはガスを通すマイクロ流路が集積化されていることを特徴とするものである。これにより,ILECSのサイズを小型化し,コストを低下させることができる。  Another ILECS according to the fourth aspect of the present invention is characterized in that microchannels through which electrolyte and / or gas pass are integrated. Thereby, the size of ILECS can be reduced and the cost can be reduced.

以下に,本実施の形態を,図面を参照して説明する。各図において,同一の符号をふされたものは同様の要素を示しており,重複した説明は省略される。以下の記載は本発明が適用可能な実施形態を説明するものであって,本発明の範囲がこの記載に限定されるものではない。説明の明確化のため,以下の記載は,適宜,省略及び簡略化がなされている。また,当業者であれば,以下の実施形態の各要素を,本発明の範囲において容易に変更,追加,変換することが可能であろう。  The present embodiment will be described below with reference to the drawings. In each figure, the same reference numerals indicate the same elements, and duplicate descriptions are omitted. The following description explains an embodiment to which the present invention is applicable, and the scope of the present invention is not limited to this description. For clarity of explanation, the following description has been omitted and simplified as appropriate. Further, those skilled in the art will be able to easily change, add, and convert each element of the following embodiments within the scope of the present invention.

[第1実施形態]
図1は本発明によるICSの構造例の模式図である。例として4つ示した。第1例では,薄膜11aと薄膜21bがスペーサ1dを介して積層されている。薄膜の表および裏面がともに露出部を有し,電解質1cと接するかまたは近接するように配置されている。ここで,電解質は,通常液体であるが,固体であってもよい。また,電解質の代わりに,他の液体・気体・固体を用いることもできる。第2例では,薄膜1と基板1eにのった薄膜2が積層されている。この積層構造のギャップ部に,液体または気体のマイクロ流路(MFC)1fが配置される。ここで用いた「マイクロ」とは,微細なサイズを意味し,典型的には,ミリスケールからナノスケールの範囲を代表しているものとする。MFCとしては,縦方向の閉じ込めを行ったスラブ型,および縦横方向の閉じ込めを行ったチャネル型などの形態がある。チャネル型の場合,ICSを上方から見ると,MFCがパターン化されて形成されている。第3例では,薄膜1と薄膜2が積層されており,MFCが多層に形成されている。さらに,層間を連結する流路が形成されている。最外部の薄膜の両面側にMFCを配置する場合は,カバー層1gが必要になる。第3例において層間を連結する流路が形成されていない例が第4例である。この場合,各層のMFCに異なる液体・気体を入れることができる。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a schematic view of a structural example of an ICS according to the present invention. Four examples are shown. In the first example, the thin film 11a and the thin film 21b are laminated via the spacer 1d. Both the front and back surfaces of the thin film have exposed portions and are arranged so as to be in contact with or close to the electrolyte 1c. Here, the electrolyte is usually a liquid, but may be a solid. In addition, other liquids, gases, and solids can be used instead of the electrolyte. In the second example, the thin film 1 and the thin film 2 on the substrate 1e are laminated. A liquid or gas micro-channel (MFC) 1f is disposed in the gap portion of the laminated structure. As used herein, “micro” means a fine size and typically represents a range from milliscale to nanoscale. As the MFC, there are a slab type in which vertical confinement is performed and a channel type in which vertical and horizontal confinement is performed. In the case of the channel type, when the ICS is viewed from above, the MFC is patterned and formed. In the third example, the thin film 1 and the thin film 2 are laminated, and the MFC is formed in multiple layers. Furthermore, a flow path connecting the layers is formed. When the MFC is disposed on both sides of the outermost thin film, the cover layer 1g is required. In the third example, an example in which the flow path connecting the layers is not formed is the fourth example. In this case, different liquids / gases can be put in the MFCs of the respective layers.

図2は,本発明によるICSにおける作製プロセスの模式図である。成長基板11e1に薄膜1を作製し,成長基板21e2に薄膜2を作製する。これらをスペーサを介して積層し,成長基板を除去する。これを電解質に浸すことにより,図1の第1例の構成が実現できる。スペーサは,薄膜1,2形成時に,部分的なエッチングや膜成長などにより作製することもできる。積層後,成長基板の一方のみを除去することにより,図1の第2例の構成が実現できる。薄膜の積層は,成長基板除去後に行ってもよい。  FIG. 2 is a schematic diagram of a manufacturing process in the ICS according to the present invention. The thin film 1 is produced on the growth substrate 11e1, and the thin film 2 is produced on the growth substrate 21e2. These are stacked through a spacer, and the growth substrate is removed. By immersing this in an electrolyte, the configuration of the first example of FIG. 1 can be realized. The spacer can also be produced by partial etching or film growth when the thin films 1 and 2 are formed. By removing only one of the growth substrates after the stacking, the configuration of the second example of FIG. 1 can be realized. The thin film may be laminated after the growth substrate is removed.

図3は,本発明によるICSにおける他の作製プロセスの模式図である。基板11e上に,除去可能材料のフィルム(Removable Film)1hをパターン化して作製する。つぎに,スペーサ材料を埋め込む。この後,必要に応じてCMPなどの平坦化処理を行ってもよい。つぎに,薄膜1を形成する。パターン化が必要な場合は,薄膜1のない部分にRemovable Filmを埋め込んで平坦化することが望ましい。リフトオフ法,エッチング法,選択成長法など,あるいはこれらを組み合わせた方法が使用できる。同様のプロセスを繰り返し,薄膜2さらにカバー層を形成する。これをRemovable Filmを溶かす液体または気体にさらし,Removable Filmを除去する。ギャップ部に液体または気体を入れることにより,多層のMFCが形成でき,図1の第3例の構成が実現できる。薄膜がベタ膜の場合は,図1の第4例の構成が実現できる。スペーサは,薄膜1,2形成時に,部分的なエッチングや膜成長などによっても作製することができる。この場合は,スペーサは薄膜1,2と同じ材料で作られることになる。  FIG. 3 is a schematic diagram of another manufacturing process in the ICS according to the present invention. A removable material film (Removable Film) 1h is patterned on the substrate 11e. Next, a spacer material is embedded. Thereafter, planarization such as CMP may be performed as necessary. Next, the thin film 1 is formed. When patterning is required, it is desirable to embed a removable film in a portion where the thin film 1 is not provided and planarize it. A lift-off method, an etching method, a selective growth method, or a combination of these methods can be used. The same process is repeated to form the thin film 2 and the cover layer. This is exposed to a liquid or gas that dissolves the Removable Film, and the Removable Film is removed. By putting liquid or gas into the gap part, a multilayer MFC can be formed, and the configuration of the third example of FIG. 1 can be realized. When the thin film is a solid film, the configuration of the fourth example in FIG. 1 can be realized. The spacer can also be produced by partial etching or film growth when forming the thin films 1 and 2. In this case, the spacer is made of the same material as the thin films 1 and 2.

薄膜の材料としては,例えば,TiOx,ZnO,Pt−WO,Pt−SrTiO:Cr−Ta,Si,SiOなど種々のものを用いることができる。除去可能材料としては,例えば,Cu,Cr,Niなどの各種金属,フォトレジスト,ポリビニルアルコールなどの各種ポリマ,SiO,Siなどの各種誘電体・半導体などエッチャントが広く知られている材料を用いることができる。As the material for the thin film, various materials such as TiOx, ZnO, Pt—WO 3 , Pt—SrTiO 3 : Cr—Ta, Si, SiO 2 can be used. As the removable material, for example, various materials such as various metals such as Cu, Cr, Ni, photoresist, various polymers such as polyvinyl alcohol, various dielectrics and semiconductors such as SiO 2 and Si, and the like are used. be able to.

以上述べたような,ICSにより,光化学,電気化学などのケミカルプロセスを含むデバイスの小型・集積化,それに伴う高効率化・高機能化を実現することができる。ICSは,特に以下に述べるTH−HOGやILECSで有効となる。  As described above, ICS makes it possible to realize the miniaturization and integration of devices including chemical processes such as photochemistry and electrochemistry, and to increase the efficiency and functionality associated therewith. ICS is particularly effective in TH-HOG and ILECS described below.

[第2実施形態]
図4は,従来の典型的な光エネルギー変換デバイスの例として示したSolar Cell(SC)およびHOGの構造とエネルギー準位の模式図である。SC(I)では,pin(またはpn)構造の半導体(Siなど)2aが2つの電極2b,2cによりサンドイッチされている。半導体に光が当たると電子4およびホール5が発生し,電流が流れ,太陽電池となる。SC(II)では,ZnO,TiOxなどのn型半導体が電極と電解質2dにはさまれている。半導体に光が当たると,電子は電極2b側へ流れる。ホールは,電解質を通って,対向する電極2cに吸収される。これにより太陽電池となる。半導体がp型の場合は,電子とホールの流れが逆転する。半導体表面に,色素など,半導体のバンドギャップよりエネルギーギャップの狭い分子・材料を吸着・形成することにより,分光増感を行うことができる(図4のエネルギー図はこの場合を表している)。HOGでは,半導体1(例えばPt−WOなど)3a’と半導体2(例えばPt−SrTiO:Cr−Taなど)3e’が粒子として電解質3d’に浸されている。半導体1は波長λ1の光を吸収し,ホールがOHと結合して酸素が発生する。電子は電解質中のイオンを介して半導体2に到達し,そこで,波長λ2の光で励起されてH結合し,水素を発生する。
[Second Embodiment]
FIG. 4 is a schematic diagram of the structure and energy levels of Solar Cell (SC) and HOG shown as an example of a conventional typical optical energy conversion device. In SC (I), a semiconductor (such as Si) 2a having a pin (or pn) structure is sandwiched between two electrodes 2b and 2c. When light strikes the semiconductor, electrons 4 and holes 5 are generated, current flows, and a solar cell is formed. In SC (II), an n-type semiconductor such as ZnO or TiOx is sandwiched between the electrode and the electrolyte 2d. When light strikes the semiconductor, electrons flow to the electrode 2b side. The holes are absorbed by the opposing electrode 2c through the electrolyte. Thereby, it becomes a solar cell. When the semiconductor is p-type, the flow of electrons and holes is reversed. Spectral sensitization can be performed by adsorbing and forming molecules or materials having a narrower energy gap than the semiconductor band gap, such as a dye, on the semiconductor surface (the energy diagram of FIG. 4 represents this case). In HOG, a semiconductor 1 (for example, Pt—WO 3 or the like) 3a ′ and a semiconductor 2 (for example, Pt—SrTiO 3 : Cr—Ta or the like) 3e ′ are immersed in an electrolyte 3d ′ as particles. The semiconductor 1 absorbs light of wavelength λ1, and holes are combined with OH to generate oxygen. The electrons reach the semiconductor 2 via ions in the electrolyte, where they are excited by light of wavelength λ2 and H + bonds to generate hydrogen.

上記従来のHOGでは,電子移動が分散された粒子間で起こるため,エネルギー伝達効率を最適化することが困難である。そこで,以下に述べるようなTF−HOGを考案した。図5は,本発明によるTF−HOGの構造例とエネルギー準位の模式図である。図5(a)に示すTF−HOGでは,pin(またはpn)接合構造を持つ半導体6aからなる半導体コア6fを用いる。この半導体コアは,典型的には,厚さ1nm−10μmオーダの薄膜であり,表,裏の両面が電解質6dに接して,または間隔をおいて隣接している。半導体コアに光を照射すると,電子とホールが分離し,電子が水素を,ホールが酸素を発生する。半導体の材料としては,Siなどが使用できる。  In the conventional HOG, since electron transfer occurs between dispersed particles, it is difficult to optimize energy transfer efficiency. Therefore, the following TF-HOG was devised. FIG. 5 is a schematic diagram of a structural example and energy levels of TF-HOG according to the present invention. In the TF-HOG shown in FIG. 5A, a semiconductor core 6f made of a semiconductor 6a having a pin (or pn) junction structure is used. The semiconductor core is typically a thin film having a thickness of the order of 1 nm to 10 μm, and both the front and back surfaces are in contact with or adjacent to the electrolyte 6d. When the semiconductor core is irradiated with light, electrons and holes are separated, electrons generate hydrogen, and holes generate oxygen. Si or the like can be used as a semiconductor material.

図5(b)に示すTF−HOGでは,半導体13aと半導体23eが間隔をあけて隣接してなる半導体コア3fを用いる。半導体1および2は,典型的には,厚さ1nm−10μmオーダの薄膜であり,表,裏の両面または片面が,電解質に接して,または間隔をおいて隣接している。半導体1,2の間隔は,例えば1−1000μmのオーダーである。半導体1は波長λ1の光を吸収し,ホールがOHと結合して酸素が発生する。電子は電解質中のイオンを介して半導体2に到達し,そこで,波長λ2の光で励起されてHと結合し,水素を発生する。このメカニズムは図4に示したHOGと同じであるが,半導体1,2の配置が設計通り制御できるため,配置の適正化による光エネルギー変換効率の増加が期待できる。半導体1,2として,例えばPt−WO,Pt−SrTiO:Cr−Taなどの金属酸化物薄膜を用いることができる。また製膜法としては,スパッタリング,蒸着,Chemical Vapor Deposition(CVD),Atomic Layer Deposition(ALD)などがある。In the TF-HOG shown in FIG. 5B, a semiconductor core 3f is used in which a semiconductor 13a and a semiconductor 23e are adjacent to each other with a gap therebetween. The semiconductors 1 and 2 are typically thin films having a thickness of the order of 1 nm to 10 μm, and both the front and back surfaces or one surface are in contact with the electrolyte or at a distance from each other. The interval between the semiconductors 1 and 2 is, for example, on the order of 1-1000 μm. The semiconductor 1 absorbs light of wavelength λ1, and holes are combined with OH to generate oxygen. Electrons reach the semiconductor 2 via ions in the electrolyte, where they are excited by light of wavelength λ2 and combine with H + to generate hydrogen. This mechanism is the same as that of the HOG shown in FIG. 4, but since the arrangement of the semiconductors 1 and 2 can be controlled as designed, an increase in light energy conversion efficiency can be expected by optimizing the arrangement. As the semiconductors 1 and 2, for example, metal oxide thin films such as Pt—WO 3 , Pt—SrTiO 3 : Cr—Ta can be used. Examples of film forming methods include sputtering, vapor deposition, chemical vapor deposition (CVD), and atomic layer deposition (ALD).

図5(c)に示すTF−HOGは,図5(b)において電解質をSiOなどのワイドギャップ材料3gにより置き換えた構造を持つ。半導体1と2の間に挿入されたワイドギャップ材料により,光によって生成した電子とホールが効率よく分離でき,変換効率を向上させることができる。半導体1から半導体2への電子遷移は,ワイドギャップ材料のバンド内準位(欠陥やドーパントに起因する準位)を通すとより高効率となる。The TF-HOG shown in FIG. 5C has a structure in which the electrolyte is replaced with a wide gap material 3g such as SiO 2 in FIG. 5B. The wide gap material inserted between the semiconductors 1 and 2 can efficiently separate electrons and holes generated by light, and can improve conversion efficiency. The electronic transition from the semiconductor 1 to the semiconductor 2 becomes more efficient when passing through the in-band level of the wide gap material (level due to defects or dopants).

図5(d)に示すTF−HOGは,図5(c)においてワイドギャップ材料を省いた構造を持つ。ワイドギャップ材料によるバリアがなくなるため,光によって生成した電子とホールの分離効率が低下するおそれはあるが,構造が単純という利点がある。  The TF-HOG shown in FIG. 5 (d) has a structure in which the wide gap material is omitted from FIG. 5 (c). Since there is no barrier due to the wide gap material, the efficiency of separation of electrons and holes generated by light may be reduced, but there is an advantage that the structure is simple.

以上の実施例において,半導体に「ナローギャップ材料をコーティングする」,あるいは「レーザ色素,ルテニウム色素などの分子を吸着させる」ことにより,分光増感が可能となる。これにより,吸収波長帯の制御が可能となり,光エネルギー変換効率を向上させることができる。また,半導体に共役ポリマなどの有機半導体を用いることもできる。有機半導体を使用する場合は,有機CVDやMolecular Layer Deposition(MLD)などにより,キャリア伝達方向に分子鎖を配向させること,あるいは分子鎖内部の分子配列を制御することが有効である。  In the above embodiments, spectral sensitization can be achieved by “coating a narrow gap material” on a semiconductor or “adsorbing a molecule such as a laser dye or ruthenium dye”. Thereby, the absorption wavelength band can be controlled, and the light energy conversion efficiency can be improved. An organic semiconductor such as a conjugated polymer can also be used as the semiconductor. When using an organic semiconductor, it is effective to orient the molecular chain in the carrier transmission direction or to control the molecular arrangement inside the molecular chain by organic CVD or Molecular Layer Deposition (MLD).

図6−図9は,図5に示した構造のバリエーションとして提供されるTF−HOGの立体構造例の模式図である。ここでは,代表例として,図5の(a)および(b)の構造を例として用いたが,その他の構造にも同様の考え方が適用できる。図6では,半導体コアがベタ膜からなっている。図7では半導体コアが分割配置され,図8では半導体コアに窓があいている。光照射の方向は,基本的にどちらの面側でもよい。2波長以上を用いる場合は,光吸収帯が波長にマッチングした半導体側から光照射することが望ましい。図9は,図5(b)の構造において,半導体1および2を横に並べ,半導体コア13f1,半導体コア23f2とした例である。半導体コア1,2をモザイク上に配置してある。この場合,イオンは主として面内方向に流れる。光利用効率の観点から,光吸収帯が波長にマッチングした半導体に選択的に光を照射することが望ましい(例えば,λ1は半導体1へ,λ2は半導体2へ)。  FIG. 6 to FIG. 9 are schematic views of three-dimensional structure examples of TF-HOG provided as variations of the structure shown in FIG. Here, as a representative example, the structure of FIGS. 5A and 5B is used as an example, but the same concept can be applied to other structures. In FIG. 6, the semiconductor core is made of a solid film. In FIG. 7, the semiconductor core is divided and arranged, and in FIG. 8, the semiconductor core has a window. The direction of light irradiation may be basically on either side. When two or more wavelengths are used, it is desirable to irradiate light from the semiconductor side whose light absorption band matches the wavelength. FIG. 9 is an example in which the semiconductors 1 and 2 are arranged side by side in the structure of FIG. 5B to form a semiconductor core 13f1 and a semiconductor core 23f2. Semiconductor cores 1 and 2 are arranged on the mosaic. In this case, ions flow mainly in the in-plane direction. From the viewpoint of light utilization efficiency, it is desirable to selectively irradiate light to a semiconductor whose light absorption band matches the wavelength (for example, λ1 to semiconductor 1 and λ2 to semiconductor 2).

[第3実施形態]
図10は,本発明によるTF−HOGの構造例の模式図である。集光レンズ10が接して,または間隔をあけて隣接して,TF−HOG12内部の半導体コアにカップルしている。これにより,半導体コアの面積,すなわち部材の量を節減することができ,低コスト化が可能となる。集光レンズ/TF−HOG対をアレイ状に並べることにより,取得エネルギー量が増大する。
[第4実施形態]
[Third Embodiment]
FIG. 10 is a schematic diagram of a structural example of TF-HOG according to the present invention. The condenser lens 10 is in contact with or adjacent to each other with a gap and is coupled to the semiconductor core inside the TF-HOG 12. Thereby, the area of the semiconductor core, that is, the amount of members can be reduced, and the cost can be reduced. The amount of acquired energy is increased by arranging the condensing lens / TF-HOG pairs in an array.
[Fourth Embodiment]

図11は,光導波路13aを導入したILECSの構造例の模式図である。集光レンズと接して,または間隔をあけて隣接して光導波路が配置されている。集光レンズで集めた光を光導波路に入射させ,SCやTF−HOGの中の半導体,半導体コアに導き,光エネルギー変換する。いくつかの光導波路を合流させることにより,必要なSCやTF−HOGを減らすことができる。SCやTF−HOGは,基体14に集積化することもできるし,外部に置き,光導波路と光ファイバ13bなどで接続することもできる。室外で集光した光を光ファイバを用いてSCやTF−HOGにまで伝送することにより,SCやTF−HOGを良好な環境条件(例えば室内)で使用することができる。また,波長フィルタ13cを集積化することにより分波し,各波長帯の光をその波長帯にマッチングしたSC,TF−HOGに照射することができる。これにより,エネルギー変換効率が増大する。図12は,集光レンズ,光導波路,CS/TF−HOGを大規模に集積化した例である。この場合,多数多種の部品を多数配置しなければならない。これについては,異種部材を一括して移植配置できる
Photolithographic Packaging with Selectively Occupied Repeated Transfer(PL−Pack with SORT)を利用することにより,少ない工程で低コストに実行することができる(例えば非特許文献2)。
FIG. 11 is a schematic diagram of an example of the structure of the ILECS in which the optical waveguide 13a is introduced. An optical waveguide is disposed in contact with or adjacent to the condenser lens. The light collected by the condenser lens is made incident on the optical waveguide, led to the semiconductor and the semiconductor core in the SC and TF-HOG, and converted into light energy. Necessary SC and TF-HOG can be reduced by merging several optical waveguides. The SC and TF-HOG can be integrated on the substrate 14, or placed outside and connected to the optical waveguide by an optical fiber 13b or the like. By transmitting light collected outdoors to SC or TF-HOG using an optical fiber, SC or TF-HOG can be used under good environmental conditions (for example, indoors). Further, by integrating the wavelength filter 13c, it is possible to demultiplex and irradiate the SC and TF-HOG matched with the wavelength band with the light of each wavelength band. This increases the energy conversion efficiency. FIG. 12 shows an example in which a condensing lens, an optical waveguide, and CS / TF-HOG are integrated on a large scale. In this case, a large number of various parts must be arranged. This can be performed at a low cost with a small number of steps by using Photolithographic Packaging with Selective Repeated Transfer (PL-Pack with SORT) that can transplant and arrange different kinds of members at once (for example, Non-Patent Document 2). ).

図13は,集光レンズ−光導波路結合部および光導波路−SC/TF−HOG結合部の断面図である。集光レンズとしては,後述のインプリントによるレンズ10aまたはBuilt−in Maskによるレンズ10bを,また光導波路としては導波路フィルム15,15’の使用を想定した。集光レンズ−光導波路結合部については,導波路コアの45°ミラー面がdown−taperかup−taperかでレンズの配置位置が異なる。前者では,導波路フィルムのクラッドフィルム側にレンズを置く。一方,後者では,導波路コア側にレンズを置く。導波路フィルムは,スタンドアローンで使用することもできるし,基体16上に置くこともできる。光導波路−SC/TF−HOG結合部については,導波路コアの45°ミラー面がdown−taperの場合,導波路フィルムのクラッドフィルム側にSC/TF−HOGを置く。一方,ミラー面がup−taperの場合,導波路コア側にSC/TF−HOGを置く。導波路フィルムは,スタンドアローンで使用することもできるし,基体16上に置くこともできる。また,SC/TF−HOGはフィルムに埋め込むこともできる。レンズ,導波路フィルム,埋め込みフィルムの材質としては,例えば,熱可塑性,光硬化性,photo−refractive,耐熱性ポリマやガラスを用いることができる。製法としては,通常のエッチングに加えて,インプリント法,Built−in Mask法など種々の方法が使用できる。  FIG. 13 is a cross-sectional view of the condensing lens-optical waveguide coupling portion and the optical waveguide-SC / TF-HOG coupling portion. As the condensing lens, it is assumed that the lens 10a by imprint described later or the lens 10b by Bilt-in Mask is used, and the waveguide films 15 and 15 'are used as the optical waveguide. Regarding the condensing lens-optical waveguide coupling portion, the lens arrangement position differs depending on whether the 45 ° mirror surface of the waveguide core is a down-taper or an up-taper. In the former, a lens is placed on the clad film side of the waveguide film. On the other hand, in the latter, a lens is placed on the waveguide core side. The waveguide film can be used stand alone or can be placed on the substrate 16. Regarding the optical waveguide-SC / TF-HOG coupling portion, when the 45 ° mirror surface of the waveguide core is a down-taper, SC / TF-HOG is placed on the clad film side of the waveguide film. On the other hand, when the mirror surface is up-taper, SC / TF-HOG is placed on the waveguide core side. The waveguide film can be used stand alone or can be placed on the substrate 16. SC / TF-HOG can also be embedded in a film. As a material of the lens, the waveguide film, and the embedded film, for example, thermoplasticity, photocuring property, photo-refractive, heat resistant polymer, and glass can be used. As a manufacturing method, various methods such as an imprint method and a built-in mask method can be used in addition to normal etching.

図14は,光導波路−SC/TF−HOG結合部において,複数の積層した導波路フィルムでSC/TF−HOGをはさみ,複数方向から光照射を行う例である。この場合,光回路は3次元構造となる。例えば,フィルタで光を分岐し異なる波長の光を異なる方向から照射する。この手法は,図5(b),(c)および(d)の構成のように,異なる光吸収帯をもつ材料が存在する場合,特に有効である。  FIG. 14 shows an example in which SC / TF-HOG is sandwiched between a plurality of laminated waveguide films and light is irradiated from a plurality of directions at the optical waveguide-SC / TF-HOG coupling portion. In this case, the optical circuit has a three-dimensional structure. For example, the light is branched by a filter and irradiated with light of different wavelengths from different directions. This method is particularly effective when there are materials having different light absorption bands as in the configurations of FIGS. 5B, 5C, and 5D.

図15は,熱またはUVインプリントを用いたILECSの作製プロセスである。樹脂20をモールド21によりレンズをアレイ状に成形し,SC/TF−HOG上に,半導体,半導体コアに位置合わせして配置する。熱またはUVインプリントとしては,広く知られた既存の手法が使える(例えば非特許文献3)。光導波路を含むILECSでは,レンズは,導波路の45°ミラー部に位置合わせして配置する。レンズの形状は,必ずしも円である必要はない。4角形などの多角形や楕円など用途に応じて種々のパターンを適用することができる。  FIG. 15 shows a process for producing ILECS using heat or UV imprint. The resin 20 is molded into a lens shape by a mold 21 and arranged on the SC / TF-HOG in alignment with the semiconductor and the semiconductor core. As the thermal or UV imprint, a widely known existing method can be used (for example, Non-Patent Document 3). In ILECS including an optical waveguide, the lens is disposed in alignment with the 45 ° mirror portion of the waveguide. The shape of the lens is not necessarily a circle. Various patterns such as a polygon such as a quadrangle and an ellipse can be applied depending on the application.

図16は,Built−in Mask法を用いたILECSの作製プロセスである。レンズアレイに対応する位置に窓をあけたBuilt−in Mask23に,剥離層28,クラッド層24を形成し,その上に感光層25を形成する。Built−in Mask側から光を傾けて照射することにより,感光層が感光し,斜めの壁をもった硬化または屈折率変化領域26を作製する。入射光またはBuilt−in Maskを回転させることにより,集光レンズアレイが作製できる。これを,例えば,Gel−Pakなどを表面に配置した支持基板27に貼り付け,剥離層を除去し,支持基板にピックアップする。必要に応じて,レンズ壁面にメタルや誘電体などの反射膜をコーティングする。このようにして完成したレンズアレイをSC/TF−HOG上に,半導体,半導体コアに位置合わせして配置する。固定には,例えば,接着剤やUV硬化性材料などが使用できる。光導波路を含むILECSでは,レンズは,導波路の45°ミラー部に位置合わせして配置する。Built−in Maskの窓の形状は,必ずしも円である必要はない。4角形などの多角形や楕円など用途に応じて種々のパターンを適用することができる。  FIG. 16 shows a process for producing ILECS using the Bilt-in Mask method. A peeling layer 28 and a cladding layer 24 are formed on a built-in mask 23 having a window at a position corresponding to the lens array, and a photosensitive layer 25 is formed thereon. By irradiating light from the Bilt-in Mask side, the photosensitive layer is exposed, and a cured or refractive index changing region 26 having an oblique wall is produced. A condensing lens array can be produced by rotating incident light or Built-in Mask. This is pasted on a support substrate 27 having Gel-Pak or the like disposed on the surface, for example, and the release layer is removed and picked up on the support substrate. If necessary, coat the lens wall with a reflective film such as metal or dielectric. The lens array thus completed is arranged on the SC / TF-HOG so as to be aligned with the semiconductor and the semiconductor core. For example, an adhesive or a UV curable material can be used for fixing. In ILECS including an optical waveguide, the lens is disposed in alignment with the 45 ° mirror portion of the waveguide. The shape of the built-in mask window is not necessarily a circle. Various patterns such as a polygon such as a quadrangle and an ellipse can be applied depending on the application.

図17は,ILECSにMFCを集積化した構造例である。図17(a)では,図5(a)のTF−HOGの半導体コアに光を照射し,一方の面からO,他方の面からHが生じる。これらをそれぞれの面側に設けたMFC1 30およびMFC2 31に通すことにより,O,Hが分離収集できる。図17(b)では,半導体コアに導波路フィルムを接近させて配置し,45°ミラーからの光を照射する方式である。この例のように導波路コアが電解質に露出している場合は,45°傾斜による全反射が起こらなくなる。端面に金属や誘電体などの反射膜をつける必要がある。図17(c)では,図5(c),(d)の半導体コアに,光導波路を用いて両面から光を照射する方式である。3次元光回路を利用している。図17(d)では,図4のSC(II)において,光導波路を用いて半導体コアに光を照射する方式である。これにより,従来必要であった透明電極が不要になり,コスト低減に役立つ。この例では,ガスではなく電気を発生するので,MFC32は,電解液のリフレッシュなどに利用することができる。図18は,二つのMFCをそれぞれパターンニングし,各TF−HOGからのガスを集めるガス収集回路を形成した例である。FIG. 17 shows a structural example in which MFCs are integrated in ILECS. In FIG. 17 (a), light is irradiated to the semiconductor core of the TF-HOG in FIG 5 (a), O 2, H 2 is generated from the other surface from one surface. By passing these through MFC1 30 and MFC2 31 provided on the respective surfaces, O 2 and H 2 can be separated and collected. In FIG. 17B, a waveguide film is disposed close to the semiconductor core, and light from a 45 ° mirror is irradiated. When the waveguide core is exposed to the electrolyte as in this example, total reflection due to the 45 ° inclination does not occur. It is necessary to attach a reflection film such as a metal or a dielectric to the end face. In FIG. 17C, the semiconductor core of FIGS. 5C and 5D is irradiated with light from both sides using an optical waveguide. A three-dimensional optical circuit is used. FIG. 17D shows a method of irradiating the semiconductor core with light using an optical waveguide in SC (II) of FIG. This eliminates the need for a transparent electrode, which was necessary in the past, and helps reduce costs. In this example, electricity is generated instead of gas, so the MFC 32 can be used for refreshing the electrolyte. FIG. 18 shows an example in which two MFCs are patterned to form a gas collection circuit that collects gas from each TF-HOG.

第4実施形態では,描画の単純化のため,オーバークラッド無しの導波路フィルムを例にとって説明してきた。同様の原理が,オーバークラッド付きの導波路フィルムを用いた場合にも成り立つことはいうまでもない。  In the fourth embodiment, a waveguide film without overclad has been described as an example in order to simplify drawing. It goes without saying that the same principle holds true when a waveguide film with an overclad is used.

第2−4実施形態に示したTF−HOGおよびILECSの作製方法の一つとして,第1実施形態の図2および3で述べたプロセスが適用できる。  As one of the methods for manufacturing TF-HOG and ILECS shown in the second to fourth embodiments, the process described in FIGS. 2 and 3 of the first embodiment can be applied.

第1−4実施形態に示したシステムは,両面が露出した半導体薄膜,集光レンズ,光導波路,マイクロ流路などからなる。これらは,光/電気/化学/液体/気体/固体が融合した集積回路みなすことができ,ケミカルシステム,光エネルギー変換システムなどの小型・低コスト・高性能化の有力手段となる。また,ICSおよびILECSはエネルギー以外の分野,例えば,バイオテクノロジー,物質合成,反応化学などにおいても有効である。  The system shown in the first to fourth embodiments includes a semiconductor thin film, a condensing lens, an optical waveguide, a micro flow path, and the like with both surfaces exposed. These can be regarded as integrated circuits in which light / electricity / chemical / liquid / gas / solid are fused, and are effective means for miniaturization, low cost and high performance of chemical systems, light energy conversion systems and the like. ICS and ILECS are also effective in fields other than energy, such as biotechnology, material synthesis, and reaction chemistry.

T.Yoshimura,K.Kumai,T.Mikawa,and O.Ibaragi,“Photolithographic Packaging with Selectively Occupied Repeated Transfer(PL−Pack with SORT)for Scalable Optical Link Multi−chip−module(S−FOLM),”IEEE Trans.Electron.Packag.Manufact.,vol.25,pp.19−25,2002..  T. T. et al. Yoshimura, K .; Kumai, T .; Mikawa, and O.M. Ibaragi, “Photolithographic Packing with Selective Occupied Repeated Transfer (PL-Pack with SORT) for Scalable Optical Link Multi-E-MulE Electron. Packag. Manufact. , Vol. 25, pp. 19-25, 2002. . 松井真二,“新しいアプローチによるチップ作製技術,” 応用物理,vol.74,pp.501−505,2005..  Shinji Matsui, “Chip Fabrication Technology Using a New Approach,” Applied Physics, vol. 74, pp. 501-505, 2005. .

本発明の第1実施形態による集積化ケミカルシステム(ICS)の構造例の模式図である。  It is a schematic diagram of the structural example of the integrated chemical system (ICS) by 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態よるICSにおける作製プロセスの模式図である。  It is a schematic diagram of the preparation process in ICS by 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態よるICSにおける作製プロセスの模式図である。  It is a schematic diagram of the preparation process in ICS by 1st Embodiment of this invention. 従来の典型的な光エネルギー変換デバイスの例として示したSolar Cell(SC)およびH/O Generator(HOG)の構造とエネルギー準位の模式図である。It is a schematic view of the structure and energy level of a conventional typical optical energy Solar Cell shown as an example of the translation device (SC) and H 2 / O 2 Generator (HOG ). 本発明の第2実施形態によるThin−Film HOG(TF−HOG)の構造例とエネルギー準位の模式図である。  It is the structural example of Thin-Film HOG (TF-HOG) by 2nd Embodiment of this invention, and the schematic diagram of an energy level. 本発明の第2実施形態によるTF−HOGの立体構造例の模式図である。  It is a schematic diagram of the example of the three-dimensional structure of TF-HOG by 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態によるTF−HOGの立体構造例の模式図である。  It is a schematic diagram of the example of the three-dimensional structure of TF-HOG by 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態によるTF−HOGの立体構造例の模式図である。  It is a schematic diagram of the example of the three-dimensional structure of TF-HOG by 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態によるTF−HOGの立体構造例の模式図である。  It is a schematic diagram of the example of the three-dimensional structure of TF-HOG by 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態によるTF−HOGの構造例の模式図である。  It is a schematic diagram of the structural example of TF-HOG by 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態による光導波路を導入した集積化エネルギー変換システム(ILECS)の構造例の模式図である。  It is a schematic diagram of the structural example of the integrated energy conversion system (ILECS) which introduce | transduced the optical waveguide by 4th Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態による光導波路を導入したILECSの構造例の模式図である。  It is a schematic diagram of the structural example of ILECS which introduce | transduced the optical waveguide by 4th Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態による光導波路を導入したILECSにおける45°導波路ミラー周辺部の構造例の模式図である。  It is a schematic diagram of the structural example of the 45-degree waveguide mirror peripheral part in ILECS which introduced the optical waveguide by 4th Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態による光導波路を導入したILECSにおける45°導波路ミラー周辺部の構造例の模式図である。  It is a schematic diagram of the structural example of the 45-degree waveguide mirror peripheral part in ILECS which introduced the optical waveguide by 4th Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態による光導波路を導入したILECSにおける熱またはUVインプリントを用いたILECSの作製プロセスである。  It is a production process of ILECS using thermal or UV imprint in ILECS into which an optical waveguide according to a fourth embodiment of the present invention is introduced. 本発明の第4実施形態による光導波路を導入したILECSにおけるBuilt−in Mask法を用いたILECSの作製プロセスである。  It is a manufacturing process of ILECS using the Built-in Mask method in ILECS which introduce | transduced the optical waveguide by 4th Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態による光導波路を導入したILECSにおけるMFCを集積化した部分の構造例である。  It is the structural example of the part which integrated MFC in ILECS which introduced the optical waveguide by 4th Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態による光導波路を導入したILECSにおけるMFCを集積化した部分の構造例である。  It is the structural example of the part which integrated MFC in ILECS which introduced the optical waveguide by 4th Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

薄膜1 1a,薄膜2 1b,電解質 1c,スペーサ 1d,基板 1e,マイクロ流路(MFC) 1f,カバー層 1g,成長基板1 1e1,成長基板2 1e2,除去可能材料フィルム(Removable Film) 1h,半導体 2a,電極 2b,電解質2d,電極 2c,半導体1 3a,3a’,電解質 3d,3d’,半導体2 3e,3e’,半導体コア 3f,半導体コア1 3f1,半導体コア2 3f2,ワイドギャップ材料 3g,電子 4,ホール 5,半導体 6a,半導体コア 6f,電解質 6d,集光レンズ 10,SC 11,TF−HOG 12,光導波路 13a,光ファイバ 13b,波長フィルタ 13c,基体 14,インプリントによるレンズ 10a,Built−in Maskによるレンズ 10b,導波路フィルム 15,15’,基体 16,樹脂 20,モールド 21,反射膜 22,Built−in Mask 23,クラッド層 24,感光層 25,硬化または屈折率変化領域 26,支持基板 27,剥離層 28,MFC1 30,MFC2 31,MF32  Thin film 1 1a, thin film 2 1b, electrolyte 1c, spacer 1d, substrate 1e, microchannel (MFC) 1f, cover layer 1g, growth substrate 1 1e1, growth substrate 2 1e2, removable material film (Removable Film) 1h, semiconductor 2a, electrode 2b, electrolyte 2d, electrode 2c, semiconductor 1 3a, 3a ′, electrolyte 3d, 3d ′, semiconductor 2 3e, 3e ′, semiconductor core 3f, semiconductor core 1 3f1, semiconductor core 2 3f2, wide gap material 3g, Electron 4, hole 5, semiconductor 6a, semiconductor core 6f, electrolyte 6d, condenser lens 10, SC 11, TF-HOG 12, optical waveguide 13a, optical fiber 13b, wavelength filter 13c, substrate 14, lens by imprint 10a, Lens by Built-in Mask 1 b, waveguide film 15, 15 ', substrate 16, resin 20, mold 21, reflective film 22, Built-in Mask 23, cladding layer 24, photosensitive layer 25, cured or refractive index changing region 26, support substrate 27, peeling Layer 28, MFC1 30, MFC2 31, MF32

Claims (21)

薄膜の表および裏の表面がともに露出部を有し,該露出部が液体および/または気体および/またはイオン伝導性固体と接するかまたは間隔をあけて近接している構造を含むことを特徴とする集積化ケミカルシステム(ICS)。  Both the front and back surfaces of the thin film have an exposed portion, and the exposed portion includes a structure that is in contact with or in close proximity to a liquid and / or gas and / or ion conductive solid. Integrated chemical system (ICS). 複数の薄膜が間隔をあけて隣接し,該薄膜の2面以上の表面が露出部を有し,該露出部が液体および/または気体および/またはイオン伝導性固体と接するかまたは間隔をあけて近接している構造を含むことを特徴とするICS。  A plurality of thin films are adjacent to each other with an interval, and two or more surfaces of the thin film have an exposed portion, and the exposed portion is in contact with or spaced from a liquid and / or a gas and / or an ion conductive solid. An ICS comprising a structure that is in close proximity. 請求項1−2に記載のICSにおいて,薄膜と薄膜との間のギャップ部および/または薄膜と基板との間のギャップ部および/または薄膜とカバー層との間のギャップ部に液体および/または気体の流路が形成されていることを特徴とするICS。  The ICS according to claim 1-2, wherein a liquid and / or a gap between the thin film and / or a gap between the thin film and the substrate and / or a gap between the thin film and the cover layer are used. An ICS, wherein a gas flow path is formed. 請求項3に記載のICSにおいて,流路がパターン化されていることを特徴とするICS。  4. The ICS according to claim 3, wherein the flow path is patterned. 請求項4に記載のICSにおいて,ギャップ部の少なくとも一つが,他のギャップ部に含まれる液体および/または気体および/またはイオン伝導性固体と異なる種類の液体および/または気体および/またはイオン伝導性固体を含むことを特徴とするICS。  5. The ICS according to claim 4, wherein at least one of the gap portions is a liquid and / or gas and / or ion conductive material of a different type from the liquid and / or gas and / or ion conductive solid contained in the other gap portion. An ICS comprising a solid. 請求項4に記載のICSにおいて,ギャップ部間を連結する流路が形成されていることを特徴とするICS。  5. The ICS according to claim 4, wherein a flow path that connects the gap portions is formed. 請求項1−2に記載のICSにおいて,薄膜が,成長基板に形成した薄膜を基板から剥離することにより作製されることを特徴とするICS。  The ICS according to claim 1-2, wherein the thin film is produced by peeling the thin film formed on the growth substrate from the substrate. 請求項1−2に記載のICSにおいて,薄膜と薄膜との間のギャップ部および/または薄膜と基板との間のギャップ部および/または薄膜とカバー層との間のギャップ部に相当する部分に除去可能な材料をパターン化して配置してなる積層構造を形成した後,上記除去可能な材料を除去することによりギャップ部を形成することを特徴とするICS。  The ICS according to claim 1-2, wherein the gap portion between the thin film and / or the gap portion between the thin film and the substrate and / or the portion corresponding to the gap portion between the thin film and the cover layer is provided. An ICS, wherein a gap portion is formed by removing a layered structure formed by patterning and arranging a removable material and then removing the removable material. pinまたはpn接合を有する半導体薄膜からなる半導体コアのp型半導体表面およびn型半導体表面がともに露出し,両表面が電解質と接するかまたは間隔をおいて近接しており,半導体コアへの光照射により酸素ガスおよび/または水素ガスが発生することを特徴とする薄膜水素/酸素ガス発生装置(TF−HOG)。  The semiconductor core made of a semiconductor thin film having a pin or pn junction has both the p-type semiconductor surface and the n-type semiconductor surface exposed, and both surfaces are in contact with the electrolyte or in close proximity to each other. A thin film hydrogen / oxygen gas generator (TF-HOG) characterized in that oxygen gas and / or hydrogen gas is generated by the above. エネルギー準位の異なる複数種類の半導体薄膜を間隔をあけて隣接させてなる半導体コアを備え,前記半導体薄膜それぞれの表および/または裏の表面が露出し電解質と接するかまたは間隔をあけて近接しており,半導体コアへの光照射により酸素ガスおよび/または水素ガスが発生することを特徴とするTF−HOG。  A semiconductor core comprising a plurality of types of semiconductor thin films having different energy levels adjacent to each other with a gap therebetween, the front and / or back surfaces of each of the semiconductor thin films being exposed and in contact with or adjacent to the electrolyte. TF-HOG characterized in that oxygen gas and / or hydrogen gas is generated by light irradiation to the semiconductor core. エネルギー準位の異なる複数種類の半導体薄膜を,それらより広いエネルギーギャップを有する薄膜を介して積層してなる半導体コアを備え,半導体薄膜の表および裏の表面がともに露出し電解質と接するかまたは間隔をおいて近接しており,半導体コアへの光照射により酸素ガスおよび/または水素ガスが発生することを特徴とするTF−HOG。  A semiconductor core is formed by laminating multiple types of semiconductor thin films with different energy levels through thin films with wider energy gaps, and the front and back surfaces of the semiconductor thin film are both exposed and in contact with the electrolyte or spaced apart. TF-HOG is characterized in that oxygen gas and / or hydrogen gas is generated by light irradiation to the semiconductor core. エネルギー準位の異なる複数種類の半導体薄膜を積層してなる半導体コアを備え,半導体薄膜の表および裏の表面がともに露出し電解質と接するかまたは間隔をおいて近接しており,半導体コアへの光照射により酸素ガスおよび/または水素ガスが発生することを特徴とするTF−HOG。  A semiconductor core is formed by stacking multiple types of semiconductor thin films with different energy levels, and the front and back surfaces of the semiconductor thin film are both exposed and in contact with the electrolyte or in close proximity to each other. TF-HOG, wherein oxygen gas and / or hydrogen gas is generated by light irradiation. 請求項9−12に記載のTF−HOGにおいて,波長の異なる光を半導体コアの表面,裏面から別々に照射することを特徴とするTF−HOG。  The TF-HOG according to claim 9-12, wherein light having different wavelengths is irradiated separately from the front surface and the back surface of the semiconductor core. 請求項9−12に記載のTF−HOGにおいて,集光レンズまたは集光レンズアレイが,TF−HOGに接して,または間隔をあけて隣接して配置されていることを特徴とするTF−HOG。  The TF-HOG according to claim 9-12, wherein the condenser lens or the condenser lens array is disposed in contact with or adjacent to the TF-HOG. . 集光レンズまたは集光レンズアレイと接して,または間隔をあけて隣接して配置された光導波路を備え,該光導波路を含む光回路の途中または端部または該光回路に接続された光ファイバの端部に光エネルギー変換デバイスを配置したことを特徴とする集積化光エネルギー変換システム(ILECS)。  An optical fiber provided with an optical waveguide arranged in contact with or adjacent to a condensing lens or a condensing lens array, and being connected to the middle or end of an optical circuit including the optical waveguide or to the optical circuit An integrated light energy conversion system (ILECS) characterized in that a light energy conversion device is disposed at the end of the light source. 請求項15に記載のILECSにおいて,光回路の一部に波長フィルタを設けたことを特徴とするILECS。  16. The ILECS according to claim 15, wherein a wavelength filter is provided in a part of the optical circuit. 請求項16に記載のILECSにおいて,波長フィルタで分波された光を異なる分光感度特性を有する光エネルギー変換デバイスに誘導することを特徴とするILECS。  The ILECS according to claim 16, wherein the light demultiplexed by the wavelength filter is guided to a light energy conversion device having different spectral sensitivity characteristics. 請求項15に記載のILECSにおいて,光エネルギー変換デバイスがHOGおよび/またはソラーセル(SC)であることを特徴とするILECS。  16. ILECS according to claim 15, characterized in that the light energy conversion device is a HOG and / or a solar cell (SC). 請求項15に記載のILECSにおいて,光導波路を積層した3次元光回路を含むことを特徴とするILECS。  16. The ILECS according to claim 15, further comprising a three-dimensional optical circuit in which optical waveguides are laminated. 請求項15に記載のILECSにおいて,集光レンズ,光導波路の少なくとも1部が,インプリント法および/またはBuilt−in Mask法で作製されたことを特徴とするILECS。  16. The ILECS according to claim 15, wherein at least a part of the condensing lens and the optical waveguide is produced by an imprint method and / or a built-in mask method. 請求項15に記載のILECSにおいて,電解質および/またはガスを通すマイクロ流路が集積化されていることを特徴とするILECS。  The ILECS according to claim 15, wherein microchannels through which electrolyte and / or gas pass are integrated.
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