JP2007091943A - セルロースアシレートフィルムとその製造方法、光学補償フィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】液晶表示装置用の光学フィルム等として好適に用いることのできる厚みムラを良化したセルロースアシレートフィルムを提供すること。また、厚みムラの改善されたセルロースアシレートフィルムを用いた光学ムラのない光学補償フィルム、反射防止フィルム、さらには優れた表示性能を有する偏光板、画像表示装置を提供すること。
【解決手段】フィルム内の任意の点を中心として、直径６０ｍｍの範囲内の膜厚の最大高低差（Ｐ−Ｖ値）が１μｍ以下であり、正面レターデーションＲｅ_（λ）がＲｅ_{（５９０）}≦５ｎｍ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈ_（λ）が｜Ｒｔｈ_{（５９０）}｜≦６０ｎｍであることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
【選択図】なし

Description

本発明は、セルロースアシレートフィルムとその製造方法、光学補償フィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置に関する。

従来、セルロースアシレートフィルムはその強靭性と難燃性から写真用支持体や各種光学材料に用いられてきた。特に、近年は液晶表示装置用の光学透明フィルムとして多く用いられている。セルロースアシレートフィルムは、光学的に透明性が高いことと、光学的に等方性が高いことから、液晶表示装置のように偏光を取り扱う装置用の光学材料として優れており、これまで偏光子の保護フィルムや、斜め方向からの見た表示を良化（視野角補償）できる光学補償フィルムの支持体として用いられてきた。

液晶表示装置用の部材のひとつである偏光板には偏光子の少なくとも片側に偏光子の保護フィルムが貼合によって形成されている。一般的な偏光子は延伸されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルムをヨウ素または二色性色素で染色することにより得られる。
多くの場合、偏光子の保護フィルムとしてはＰＶＡに対して直接貼り合わせることができるセルロースアシレートフィルム、中でもトリアセチルセルロースフィルムが用いられている。この偏光子の保護フィルムは、光学的等方性に優れることが重要であり、偏光子の保護フィルムの光学特性が偏光板の特性を大きく左右する。

最近の液晶表示装置においては、視野角特性の改善がより強く要求されるようになっており、偏光子の保護フィルムや光学補償フィルムの支持体などの光学透明フィルムは、光学的によりいっそう等方性であることが求められている。光学的に等方性であるとは、光学フィルムの複屈折と厚みの積で表されるレターデーション値が小さいことが重要である。とりわけ、斜め方向からの表示良化のためには、正面方向のレターデーション（Ｒｅ）だけでなく、膜厚方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を小さくする必要がある。具体的には光学透明フィルムの光学特性を評価した際に、フィルム正面から測定したＲｅが小さく、角度を変えて測定してもそのＲｅが変化しないことが要求される。

ところで、セルロースアシレートフィルムは、通常溶液製膜方法により製造されている。溶液製膜方法は、溶融製膜方法などの他の製造方法と比較して、光学的性質などの物性に優れたフィルムを製造することができる。溶液製膜方法は、通常次のように行われる。ポリマーを例えばジクロロメタンや酢酸メチルを主溶媒とする混合溶媒に溶解した高分子溶液（以下、ドープと称する）を調製する。そのドープを流延ダイより流延ビードを形成させて支持体上に流延して流延膜を形成する。その流延膜が支持体上で自己支持性を有するものとなった後に、支持体から膜（以下、この膜を湿潤フィルムと称する）として剥ぎ取り、乾燥させた後にフィルムとして巻き取る（例えば、非特許文献１参照。）。

溶液製膜方法では、流延膜の乾燥を進行させるために、通常、乾燥風をその表面に当てることが行われている。しかしながら、急激に流延膜の乾燥を行うと、表面の面状の悪化を招くおそれがある。そこで、流延膜の乾燥速度を乾量基準の含有溶媒量で３００質量％／ｍｉｎ（＝５質量％／ｓ）以下とし、緩やかな乾燥を行う方法が知られている（例えば、特許文献１参照。）。また、流延膜を多層構造とする共流延法も知られている。例えば、中間層である芯層の両表面にスキン層（皮層）を形成する流延膜が挙げられる。この場合に、芯層のドープ粘度を高めて流延膜の強度を確保すると共にそして、スキン層を形成するドープ粘度を低くすることにより、その表面の平滑化を向上させている（例えば、特
許文献２参照。）。

上述の文献に開示されている方法は、安価でかつ薄い液晶表示装置が得られる点で有効である。しかし、ＴＶ用途の液晶表示装置等ではいっそう表示品位への要求が高まっており、フィルムの平面性の要求レベルも高まってきている。また、セルロースアシレートフィルムを支持体として光学異方性層を塗布することにより高いレターデーションを付与し、位相差フィルムとして用いた液晶表示装置においては、わずかな厚みムラも光学ムラとして視認されてしまう。またセルロースアシレートフィルムを支持体として反射防止フィルムを作製する際には、支持体の厚みムラが反射ムラの原因となりえる。
一方、従来の製膜条件では、乾燥の際にその風速などによりスジ状およびマダラ状のムラが発生する問題が生じている。この乾燥時に発生するムラは優れた平面性が要求される光学フィルムでは、特に品質を落とす大きな問題となっている。さらに、フィルムの生産性を高めるため流延速度を高めると共に乾燥速度を速めることが行われている。この場合では、前記の乾燥速度を低下させることにより平滑化を図る方法においては、フィルムの生産性の低下を招く問題が生じている。また、前記の芯層の両表面にスキン層を形成する方法では、必ず多層流延を行う必要が生じ、所望とするフィルムに適さない製造方法となる場合がある。
発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号 特開平１１−１２３７３２号公報 特開２００３−２７６０３７号公報

本発明の目的は、液晶表示装置等の画像表示装置に用いる光学フィルム等として好適に用いることのできる厚みムラを良化したセルロースアシレートフィルムを提供することである。また、厚みムラの改善されたセルロースアシレートフィルムを用いた光学ムラのない光学補償フィルム、反射防止フィルム、さらには優れた表示性能を有する偏光板、画像表示装置を提供することである。

即ち、本発明は、下記構成のセルロースアシレートフィルム、溶液製膜方法、および該セルロースアシレートフィルムを用いた光学補償フィルム、反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置であり、これにより本発明の上記目的が達成される。

（１）フィルム内の任意の点を中心として、直径６０ｍｍの範囲内の膜厚の最大高低差（Ｐ−Ｖ値）が１μｍ以下であり、正面レターデーションＲｅ_（λ）がＲｅ_{（５９０）}≦５ｎｍ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈ_（λ）が｜Ｒｔｈ_{（５９０）}｜≦６０ｎｍであることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
［ここで、Ｒｅ_（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション（Ｒｅ）値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ_（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション（Ｒｔｈ）値（単位：ｎｍ）である。］
（２）正面レターデーションＲｅ_（λ）、膜厚方向のレターデーションＲｔｈ_（λ）がそれぞれ｜Ｒｅ₍₄₀₀₎−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜≦１０、｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜≦３５を満たすことを特徴とする（１）に記載のセルロースアシレートフィルム。

（３）アシル置換度が２．８５〜３．００のセルロースアシレートに、Ｒｅ₍λ₎およびＲｔｈ₍λ₎を低下させる化合物として、一般式（１）、および（２）のいずれかで表される化合物を少なくとも１種、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことを特徴とする（１）または（２）に記載のセルロースアシレートフィルム。

一般式（１）：

[一般式（１）中、Ｒ¹¹はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ¹²及びＲ¹³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。]
一般式（２）：

[一般式（２）中、Ｒ²¹はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ²²及びＲ²³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。]
（４）フィルムの膜厚が４０〜１８０μｍであることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。

（５）ポリマーと溶媒とを含むドープを流延ダイから無端で走行する支持体上に流延し、前記支持体上に前記ドープから流延膜を形成し、乾燥風が前記流延膜にあたる前に、前記流延膜表面上を漂う風が風速３ｍ／ｓ未満であり、前記ドープを前記支持体に流延後１５秒以内から３ｍ／s以上の乾燥風を流延膜に当てる工程、前記流延膜をフィルムとして剥離する工程を含むことを特徴とする、（１）〜（４）のいずれかに記載のフィルムの溶液製膜方法。
（６）前記乾燥風の温度が、４０℃以上１５０℃以下であることを特徴とする（５）に記載の溶液製膜方法。

（７）ポリマーと溶媒とを含むドープを流延ダイから無端で走行する支持体上に流延し、前記支持体上に前記ドープから流延膜を形成し、前記流延膜をフィルムとして剥ぎ取る溶液製膜方法において、前記流延膜表面に前記フィルムの形成開始膜となる初期膜を形成し、前記初期膜のレベリング効果により前記流延膜表面の面状を平滑化することを特徴とする、（１）〜（４）のいずれかに記載のフィルムの溶液製膜方法。

（８）（１）〜（４）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムの上に、光学異方性層を有することを特徴とする光学補償フィルム。
（９）前記光学異方性層がディスコティック液晶層を含有することを特徴とする（８）に記載の光学補償フィルム。
（１０）前記光学異方性層が棒状液晶層を含有することを特徴とする（８）または（９）に記載の光学補償フィルム。
（１１）前記光学異方性層がポリマーフィルムを含有することを特徴とする（８）〜（１０）のいずれかに記載の光学補償フィルム。
（１２）前記光学異方性層に含有されるポリマーフィルムが、ポリアミド、ポリイミド
、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、およびポリアリールエーテルケトンから選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を含有することを特徴とする（１１）に記載の光学補償フィルム。

（１３）（１）〜（４）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムの上に、ハードコート層、防眩層、反射防止層のうち少なくとも一層を設けたことを特徴とする反射防止フィルム。
（１４）（１）〜（４）および（８）〜（１３）のいずれかに記載のフィルムのうち少なくとも１枚を偏光子の保護フィルムとして用いたことを特徴とする偏光板。
（１５）偏光板の、液晶セルと反対側に配置される保護フィルムの表面に、ハードコート層、防眩層、反射防止層のうち少なくとも一層を設けたことを特徴とする（１４）に記載の偏光板。
（１６）（１）〜（４）および（８）〜（１３）のいずれかに記載のフィルム、並びに（１４）または（１５）に記載の偏光板のうち少なくとも１つを用いたことを特徴とする画像表示装置。

本発明の溶液製膜方法によれば、ポリマーと溶媒とを含むドープを流延ダイから無端で走行する支持体上に流延し、前記支持体上に前記ドープから流延膜を形成し、前記流延膜をフィルムとして剥ぎ取る溶液製膜方法において、例えば前記流延膜が前記支持体上に形成されてから１５秒以内に送風口から乾燥風を当てるので、特別な設備を用いることなく、且つ製膜速度を低下させることなく、平面性の向上したフィルムを製造することができる。

また、本発明のセルロースアシレートフィルムによれば、画像表示装置に使用したときに、表示ムラの少ない光学フィルムが提供できる。

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明は、フィルム内の任意の点を中心として、直径６０ｍｍの範囲内の膜厚の最大高低差（Ｐ−Ｖ値）が１μｍ以下であることを特徴とするセルロースアシレートフィルムに関する。

ここで、膜厚の最大高低差（Ｐ−Ｖ値）は、ＦＵＪＩＮＯＮ 縞解析装置（ＦＸ−０３）により測定した。この時、測定面積は、直径φ＝６０ｍｍの範囲とした。
このようにして測定された膜厚のＰ−Ｖ値の好ましい範囲としては、１μｍ以下であり、より好ましくは０μｍ以上０．８μｍ以下であり、さらに好ましくは０μｍ以上０．６μｍ以下であり、最も好ましくは０μｍ以上０．４μｍ以下である。セルロースアシレートフィルムの膜厚のＰ−Ｖ値が上記範囲であれば、該フィルムや該フィルムを支持体とする光学補償フィルムや反射防止フィルムを液晶表示装置に組み込んだ際の光学ムラ、表示ムラを低減することができる。

本発明のセルロースアシレートフィルムの光学特性Ｒｅレターデーション値、Ｒｔｈレターデーション値はそれぞれ、Ｒｅ_{（５９０）}≦５ｎｍ、かつ｜Ｒｔｈ_{（５９０）}｜≦６０ｎｍである。さらに好ましくはＲｅ_{（５９０）}≦５ｎｍ、かつ｜Ｒｔｈ_{（５９０）}｜≦２５ｎｍであり、さらに好ましくはＲｅ_{（５９０）}≦２ｎｍ、かつ｜Ｒｔｈ_{（５９０）}｜≦１０ｎｍである。光学異方性の小さいセルロースアシレートフィルムを用いることにより、複屈折率を有する光学異方性層と併用すると、実質上、光学異方性層の光学性能のみを発現することができる。また光学異方性の小さいセルロースアシレートフィルムを偏光板保護フィルムとして用いることにより、保護フィルムに起因する余計な複屈折の発生を
抑制することができる。

本明細書において、Ｒｅ_(λ)、Ｒｔｈ_(λ)は各々、波長λにおける面内のリターデーションおよび厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅ_(λ)はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ_(λ)は前記Ｒｅ_(λ)、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（JOHN WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｚ）が更に算出される。ここで、これらの測定は、特に明記しない限りは２５℃、６０％ＲＨの環境下にて行い、平均屈折率の仮定値としては、上記セルロースアシレートの平均屈折率（１．４８）を用いた。また、直接測定不可能な波長のレターデーションについては、Ｃａｕｔｈｙの式を用い、周辺の波長のレターデーション値よりフィッティングで求めた。

また本発明におけるセルロースアシレートフィルムは面内の光学異方性のばらつきが小さいことが好ましく、特に｜Ｒｅ(MAX)−Ｒｅ(MIN)｜≦６かつ｜Ｒｔｈ(MAX)−Ｒｔｈ(MIN)｜≦１０であることが好ましい。より好ましくは｜Ｒｅ(MAX)−Ｒｅ(MIN)｜≦３かつ｜Ｒｔｈ(MAX)−Ｒｔｈ(MIN)｜≦５である。
［式中、Ｒｅ(MAX)、Ｒｔｈ(MAX)−は任意に切り出した１ｍ四方のフィルムの最大レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｅ(MIN)、Ｒｔｈ(MIN)は最小レターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
セルロースアシレートフィルム面内の光学異方性のばらつきを抑えることによって、これを用いて作製した光学補償偏光板の光学異方性のばらつきも小さくすることができ、これを用いた液晶パネルの表示ムラを小さくできるという効果を奏する。

本発明におけるＲｅ、Ｒｔｈの小さい、すなわち光学的に等方性のフィルムは、延伸によってもＲｅの発生が小さく、製造中に種種の搬送テンションが発生しても面内ばらつきを小さく保てるため、フィルム面内の光学異方性のばらつきが小さい。
また本発明において、波長分散が小さいセルロースアシレートフィルムが好ましく、｜Ｒｅ₍₄₀₀₎−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜≦３５であることが好ましい。さらに好ましくは、｜Ｒｅ₍₄₀₀₎−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜≦５かつ｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜≦２５であり、｜Ｒｅ₍₄₀₀₎−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜≦３かつ｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜≦１５であることが特に好ましい。波長分散が上記範囲であれば、可視領域全域において余計な複屈折を生じることがなく色味変化を低減でき好ましい。
また本発明において、セルロースアシレートフィルムの膜厚は、４０〜１８０μｍであることが好ましく、６０〜１４０μｍであることがより好ましく、７０〜１２０μｍであることがさらに好ましい。

本発明のセルロースアシレートフィルムを得るためには、詳細は後述するが、例えば以下のような溶液製膜方法を用いることができる。

ポリマーと溶媒とを含むドープを流延ダイから無端で走行する支持体上に流延し、前記支持体上に前記ドープから流延膜を形成し、乾燥風が前記流延膜にあたる前に、前記流延膜表面上を漂う風が風速３ｍ／ｓ未満であり、前記ドープを前記支持体に流延後１５秒以内から３ｍ／s以上の乾燥風を流延膜に当てる工程、前記流延膜をフィルムとして剥離する工程を含む溶液製膜方法。

ポリマーと溶媒とを含むドープを流延ダイから無端で走行する支持体上に流延し、前記支持体上に前記ドープから流延膜を形成し、前記流延膜をフィルムとして剥ぎ取る溶液製膜方法において、前記流延膜表面に前記フィルムの形成開始膜となる初期膜を形成し、前記初期膜のレベリング効果により前記流延膜表面の面状を平滑化する溶液製膜方法。
ここで、初期膜とは、例えば流延膜を急乾燥することで流延膜表面に形成される膜のことを指し、バルク、もしくは支持体面側の揮発分より相対的に低い揮発分の層である。初期膜は、そのレベリング効果により初期膜の面状が平滑化されながら、膜の成長が促進される。

次に、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムについて詳細に記載する。
＜セルロースアシレート＞
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離の水酸基を有している。本発明のセルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素原子数が２のアセチル基から炭素原子数が２２のものまでいずれも用いることができる。本発明のセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することが出来る。

本発明のセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基へのアシル置換度が２．５０〜３．００であることが好ましい。さらには置換度が２．８５〜３．００であることが好ましく、２．９０〜３．００であることがより好ましい。置換度が大きいセルロースアシレートを用いることで、より光学異方性の小さいセルロースアシレートフィルムを得ることができる。

セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されず、単一でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、iso−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがより好ましい。

＜セルロースアシレートの合成方法＞
セルロースアシレートの合成方法の基本的な原理は、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年）に記載されている。代表的な合成方法は、カルボン酸無水物
−酢酸−硫酸触媒による液相酢化法である。

前記セルロースアシレートを得るには、具体的には、綿花リンタや木材パルプ等のセルロース原料を適当量の酢酸で前処理した後、予め冷却したカルボン酸化混液に投入してエステル化し、完全セルロースアシレート（２位、３位および６位のアシル置換度の合計が、ほぼ３．００）を合成する。上記カルボン酸化混液は、一般に溶媒としての酢酸、エステル化剤としての無水カルボン酸および触媒としての硫酸を含む。無水カルボン酸は、これと反応するセルロースおよび系内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用することが普通である。エステル化反応終了後に、系内に残存している過剰の無水カルボン酸の加水分解およびエステル化触媒の一部の中和のために、中和剤（例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミニウムまたは亜鉛の炭酸塩、酢酸塩または酸化物）の水溶液を添加する。次に、得られた完全セルロースアシレートを少量の酢化反応触媒（一般には、残存する硫酸）の存在下で、５０〜９０℃に保つことによりケン化熟成し、所望のアシル置換度および重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが得られた時点で、系内に残存している触媒を前記のような中和剤を用いて完全に中和するか、あるいは中和することなく水または希硫酸中にセルロースアシレート溶液を投入（あるいは、セルロースアシレート溶液中に、水または希硫酸を投入）してセルロースアシレートを分離し、洗浄および安定化処理を行う等して、前記の特定のセルロースアシレートを得ることができる。

前記セルロースアシレートフィルムは、フィルムを構成するポリマー成分が実質的に上記の特定のセルロースアシレートからなることが好ましい。『実質的に』とは、ポリマー成分の５５質量％以上（好ましくは７０質量％以上、さらに好ましくは８０質量％以上）を意味する。

前記セルロースアシレートは、粒子状で使用することが好ましい。使用する粒子の９０質量％以上は、０．５〜５ｍｍの粒子径を有することが好ましい。また、使用する粒子の５０質量％以上が１〜４ｍｍの粒子径を有することが好ましい。セルロースアシレート粒子は、なるべく球形に近い形状を有することが好ましい。

本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で、好ましくは２００〜７００、より好ましくは２５０〜５５０、更に好ましくは２５０〜４００であり、特に好ましくは２５０〜３５０である。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。更に特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。

低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため、前記セルロースアシレートとしては低分子成分を除去したものが有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロースアシレート１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。セルロースアシレートの製造時に使用される際には、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下である。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており含水率２．５〜５質量％が知られている。本発明でこのセルロースアシレートの含水率にするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。

本発明のこれらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）にて７頁〜１２頁に詳細に記載されている。

＜添加剤＞
本発明のセルロースアシレートフィルム及びそれを製造するために用いる溶液には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、光学的異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができ、これらについて以下に説明する。またその添加する時期はドープ作製工程において何れでも添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。

本発明のセルロースアシレートフィルムは、フィルム膜厚方向のレターデーションＲｔｈを低下させる化合物（以下、Ｒｔｈ低下剤ともいう）を、下記数式（３）及び（４）を満たす範囲で少なくとも１種含有することが望ましい。

数式（３）：（Ｒｔｈ_λA−Ｒｔｈ_λ0）／Ａ≦−１．０
数式（４）：０．０１≦Ａ≦３０
上記数式（３）、（４）において、より望ましくは、
数式（３−１）：（Ｒｔｈ_λA−Ｒｔｈ_λ0）／Ａ≦−２．０
数式（４−１）：０．０１≦Ａ≦２０
であり、さらに望ましくは、
数式（３−２）：（Ｒｔｈ_λA−Ｒｔｈ_λ0）／Ａ≦−３．０
数式（４−２）：０．０１≦Ａ≦１５
である。

ここで、Ｒｔｈ_λAはＲｔｈ_λ低下剤をＡ質量％含有したフィルムのＲｔｈ_λ（ｎｍ）、Ｒｔｈ_λ0はＲｔｈ_λ低下剤を含有しないフィルムのＲｔｈ_λ（ｎｍ）、Ａはフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときのＲｔｈ_λ低下剤の質量（％）である。
（Ｒｔｈ低下剤の構造的特徴）
セルロースアシレートフィルムのＲｔｈ低下剤について説明する。

光学異方性を十分に低下させ、Ｒｅ、Ｒｔｈがともにゼロに近くなるようにするためには、フィルム中のセルロースアシレートが、正面方向及び膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いることが好ましい。また、光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。
（ＬｏｇＰ値）
本発明のセルロースアシレートフィルムを作製するに当たっては、上記のように、フィルム中のセルロースアシレートが面内及び膜厚方向に配向するのを抑制するＲｔｈ低下剤のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物を選択することが好ましい。ｌｏｇＰ値が７以下の化合物であれば、セルロースアシレートとの相溶性に優れ、フィルムの白濁や粉吹きなどの不都合を生じない。またｌｏｇＰ値が０以上の化合物は、親水性が高くなりすぎることがなく、セルロースアシレートフィルムの耐水性を悪化させるなどの問題が生じないので好ましい。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。

オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ Ｚ−７２６０−１０７（
２０００）に記載のフラスコ震盪法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は、実測に代わって、計算化学的手法又は経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２７巻、ｐ．２１（１９８７年）｝、Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２９巻、ｐ．１６３（１９８９年）｝、Ｂｒｏｔｏ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．−Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．”，１９巻、ｐ．７１（１９８４年）｝などが好ましく用いられるが、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が、測定方法又は計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法により判断するものとする。

Ｒｔｈ低下剤は、分子量が１５０以上３０００以下であることが好ましく、１７０以上２０００以下であることが好ましく、２００以上１０００以下であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。

Ｒｔｈ低下剤は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。またＲｔｈ低下剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。

Ｒｔｈ低下剤の添加量は、セルロースアシレートの０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．０５〜２５質量％であることがより好ましく、０．１〜２０質量％であることが特に好ましい。

Ｒｔｈ低下剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。Ｒｔｈ低下剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

このようなＲｔｈ低下剤としては、下記の一般式（１）で表される化合物が好ましい。次ぎに一般式（１）の化合物について説明する。

一般式（１）：

上記一般式（１）において、Ｒ¹¹はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ¹²及びＲ¹³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。また、Ｒ¹¹、Ｒ¹²及びＲ¹³の炭素原子数の総和は１０以上であることが特に好ましく、またこれらのアルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよい。

置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及び
スルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が特に好ましい。

アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数が１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビシクロオクチル、ノニル、アダマンチル、デシル、ｔ−オクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、ジデシルなど）が特に好ましい。

アリール基としては、炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、ビナフチル、トリフェニルフェニルなど）が特に好ましい。一般式（１）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

Ｒｔｈ低下剤としては、また下記の一般式（２）で表される化合物を例示することができる。

一般式（２）：

上記一般式（２）において、Ｒ²¹はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ²²及びＲ²³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。ここで、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数が１〜２０のものが
好ましく、１〜１５のものがさらに好ましく、１〜１２のものが最も好ましい。環状のアルキル基としては、シクロヘキシル基が特に好ましい。アリール基は炭素原子数が６〜３６のものが好ましく、６〜２４のものがより好ましい。さらに、Ｒ²¹及びＲ²²の炭素原子数の総和は１０以上であることが好ましく、それぞれ、アルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよい。

上記のアルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としてはハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、フッ素及びヨウ素など）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基及びアシルアミノ基が好ましく、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホニルアミノ基及びアシルアミノ基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、スルホニルアミノ基及びアシルアミノ基である。

以下に、一般式（２）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

＜波長分散調整剤＞
本発明のセルロースアシレートフィルムは、そのフィルムの｜Ｒｅ_（400）−Ｒｅ_（700）｜及び｜Ｒｔｈ_（400）−Ｒｔｈ_（700）｜を低下させる化合物、すなわちレターデーションの波長分散を低下させる化合物（以下、波長分散調整剤ともいう）を少なくとも１種、セルロースアシレートフィルム原料ポリマーの固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことが好ましい。以下、波長分散調整剤について説明する。

本発明のセルロースアシレートフィルムの、Ｒｔｈの波長分散を良化させるためには、下記数式（６）で表されるＲｔｈの波長分散ΔＲｔｈを低下させる化合物（波長分散調整剤）を、下記数式（７）及び（８）を満たす範囲で少なくとも１種含有することが望ましい。

数式（６）：ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ_（400）−Ｒｔｈ_（700）｜
数式（７）：（ΔＲｔｈ_B−ΔＲｔｈ₀）／Ｂ≦−２．０
数式（８）：０．０１≦Ｂ≦３０
上記数式（７）及び（８）において、より望ましくは、
数式（７−２）：（ΔＲｔｈ_B−ΔＲｔｈ₀）／Ｂ≦−３．０
数式（８−２）：０．０５≦Ｂ≦２５
であり、さらに望ましくは、
数式（７−３）：（ΔＲｔｈ_B−ΔＲｔｈ₀）／Ｂ≦−４．０
数式（８−３）：０．１≦Ｂ≦２０
である。
ここでΔＲｔｈ_Bは、波長分散調整剤をＢ質量％含有したフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）
、Ｒｔｈ₀は波長分散調整剤を含有しないフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）、Ｂはフィルム原
料ポリマーの質量を１００としたときの波長分散調整剤の質量（％）である。

（波長分散調整剤の添加方法）
これら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。またこれら波長分散調整剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本発明はこれら化合物だけに限定されるものではない。

ベンゾトリアゾール系化合物としては、下記一般式（３）で示されるものが本発明の波長分散調整剤として好ましく用いられる。
一般式（３）：Ｑ³¹−Ｑ³²−ＯＨ
（式中、Ｑ³¹は含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ³²は芳香族環を表す。）

Ｑ³¹は含窒素方向芳香族へテロ環をあらわし、好ましくは５〜７員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５〜６員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、例えば、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベンズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアザインデン、テトラザインデン等が挙げられ、更に好ましくは、５員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾ
ール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾールが好ましく、特に好ましくは、ベンゾトリアゾールである。

Ｑ³¹で表される含窒素芳香族ヘテロ環は、更に置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環して更に環を形成してもよい。

Ｑ³²で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。

芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。最も好ましくはベンゼン環である。

芳香族ヘテロ環として、好ましくは窒素原子又は硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として、好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。

Ｑ³²で表される芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはナフタレン環、ベンゼン環であり、特に好ましくはベンゼン環である。Ｑ³²は更に置換基を有してもよく、下記の置換基Ｔが好ましい。

置換基Ｔとしては、例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜
１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

一般式（３）として、好ましくは下記一般式（３−１）で表される化合物である。

一般式（３−１）：

上記一般式（３−１）において、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³、Ｒ³⁴、Ｒ³⁵、Ｒ³⁶、Ｒ³⁷及びＲ³⁸は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、置換基としては上記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は、更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。

Ｒ³¹及びＲ³³として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）である。

Ｒ³²、及びＲ³⁴として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ³⁵及びＲ³⁸として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ³⁶及びＲ³⁷として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、ハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。

一般式（３）として、より好ましくは下記一般式（３−２）で表される化合物である。

一般式（３−２）：

式中、Ｒ³¹、Ｒ³³、Ｒ³⁶及びＲ³⁷は、上記一般式（３−１）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。

以下に一般式（３）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

以上例にあげたベンゾトリアゾール系化合物の中でも、分子量が３２０以上のものが、本発明のセルロースアシレートフィルムを作製した場合に、保留性の点で有利であることが確認された。

また本発明に用いられる波長分散調整剤の１つであるベンゾフェノン系化合物としては一般式（４）で示されるものが好ましく用いられる。

一般式（４）：

式中、Ｑ⁴¹及びＱ⁴²は、それぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ⁴¹はＮＲ⁴¹（Ｒ⁴¹は水素原子又は置換基を表す）、酸素原子又は硫黄原子を表す。
Ｑ⁴¹及びＱ⁴²で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
Ｑ⁴¹及びＱ⁴²で表される芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。

Ｑ⁴¹及びＱ⁴²で表される芳香族ヘテロ環として、好ましくは酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のどれか１つを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。

Ｑ⁴¹及びＱ⁴²であらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは置換又は無置換のベンゼン環である。
Ｑ⁴¹及びＱ⁴²は更に置換基を有してもよく、前記の置換基Ｔが好ましいが、置換基にカルボン酸、スルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。

Ｘ⁴¹は、ＮＲ⁴²（Ｒ⁴²は水素原子又は置換基を表す。置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる）、酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｘ⁴¹として好ましくは、ＮＲ⁴²（Ｒ⁴²として好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基は更に置換してもよい）、又は酸素であり、特に好ましくは酸素である。

一般式（４）として、好ましくは下記一般式（４−１）で表される化合物である。

一般式（４−１）：

式中、Ｒ⁴¹¹、Ｒ⁴¹²、Ｒ⁴¹³、Ｒ⁴¹⁴、Ｒ⁴¹⁵、Ｒ⁴¹⁶、Ｒ⁴¹⁷、Ｒ⁴¹⁸及びＲ⁴¹⁹は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は、更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。

Ｒ⁴¹¹、Ｒ⁴¹³、Ｒ⁴¹⁴、Ｒ⁴¹⁵、Ｒ⁴¹⁶、Ｒ⁴¹⁸及びＲ⁴¹⁹として、好ましくは水素原子、
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素
原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ⁴¹²として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。

Ｒ⁴¹⁷として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくはメチル基）であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。

一般式（４）として、より好ましくは下記一般式（４−２）で表される化合物である。

一般式（４−２）：

式中、Ｒ⁴²⁰は水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のアルケニル基、置換又は無置換のアルキニル基、置換又は無置換のアリール基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。Ｒ⁴²⁰として、好ましくは置換又は無置換のアルキル基
であり、より好ましくは炭素数５〜２０の置換又は無置換のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数５〜１２の置換又は無置換のアルキル基（ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ-ドデシル基、ベンジル基、などが挙げられ
る。）であり、特に好ましくは、炭素数６〜１２の置換又は無置換のアルキル基（２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基）である。

一般式（４）であらわされる化合物は特開平１１−１２２１９号公報記載の公知の方法により合成できる。

以下に一般式（４）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

また本発明に用いられる波長分散調整剤の１つであるシアノ基を含む化合物としては一般式（５）で示されるものが好ましく用いられる。

一般式（５）：

式中、Ｑ⁵¹及びＱ⁵²は、それぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ⁵¹及びＸ⁵²は水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｑ⁵¹及びＱ⁵²で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。

芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。

芳香族ヘテロ環として、好ましくは窒素原子又は硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。

Ｑ⁵¹及びＱ⁵²であらわされる芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。Ｑ⁵¹及びＱ⁵²は更に置換基を有してもよく、前記の置換基Ｔが好ましい。

Ｘ⁵¹及びＸ⁵²は、水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｘ⁵¹及びＸ⁵²で表される置換基は、前記の置換基Ｔを適用することができる。また、Ｘ⁵¹及びＸ⁵²はで表される置換基は更に他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ⁵¹及びＸ⁵²は、それぞれが縮環して環構造を形成してもよい。

Ｘ⁵¹及びＸ⁵²として、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基｛−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ⁵¹（Ｒ⁵¹は、炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの）｝である。

一般式（５）として、好ましくは下記一般式（５−１）で表される化合物である。

一般式（５−１）：

式中、Ｒ⁵¹¹、Ｒ⁵¹²、Ｒ⁵¹³、Ｒ⁵¹⁴、Ｒ⁵¹⁵、Ｒ⁵¹⁶、Ｒ⁵¹⁷、Ｒ⁵¹⁸、Ｒ⁵¹⁹及びＲ⁵²⁰は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。Ｘ⁵¹¹及びＸ⁵¹²は、それぞれ前記一般式（５）におけるＸ⁵¹及びＸ⁵²と同義である。

Ｒ⁵¹¹、Ｒ⁵¹²、Ｒ⁵¹⁴、Ｒ⁵¹⁵、Ｒ⁵¹⁶、Ｒ⁵¹⁷、Ｒ⁵¹⁹及びＲ⁵²⁰として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ⁵¹³及びＲ⁵¹⁸として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。

一般式（５）として、より好ましくは下記一般式（５−２）で表される化合物である。

一般式（５−２）：

式中、Ｒ⁵¹³及びＲ⁵¹⁸は一般式（５−１）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｘ⁵¹³は水素原子又は置換基を表し、置換基としては、前記の置換
基Ｔが適用でき、また、可能な場合は更に他の置換基で置換されてもよい。

Ｘ⁵¹³は水素原子又は置換基を表し、置換基としては、前記の置換基Ｔが適用でき、ま
た、可能な場合は更に他の置換基で置換されてもよい。Ｘ⁵¹³として、好ましくは水素原
子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基｛−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ⁵²（Ｒ⁵²は、炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの）｝である。

一般式（５）として、更に好ましくは一般式（５−３）で表される化合物である。

一般式（５−３）：

式中、Ｒ⁵¹³及びＲ⁵¹⁸は、一般式（５−１）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｒ⁵²は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｒ⁵²として、好ましくは、Ｒ⁵¹³及びＲ⁵¹⁸が両方水素の場合には、炭素数２〜１２のアルキル基であり、より好ましくは炭素数４〜１２のアルキル基であり、更に好ましくは、炭素数６〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基、２−エチルへキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基であり、最も好ましくは２−エチルへキシル基である。

Ｒ⁵²として、好ましくはＲ⁵¹³及びＲ⁵¹⁸が水素以外の場合には、一般式（５−３）で表される化合物の分子量が３００以上になり、且つ炭素数２０以下の炭素数のアルキル基が好ましい。

本発明において、一般式（５）で表される化合物は、“Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．”，６３巻、３４５２頁（１９４１年）記載の方法によって合成できる。

以下に一般式（５）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

本発明のセルロースアシレートフィルムは、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であり、且つ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることが好ましい。分光透過率の具体的な測定方法としては、試料１３ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで分光光度計“Ｕ−３２１０”｛（株）日立製作所製｝にて、波長３００〜４５０ｎｍにおける透過率を測定した。傾斜幅は７２％の波長−５％の波長で求めた。限界波長は、（傾斜幅／２）＋５％の波長で表した。吸収端は、透過率０．４％の波長で表す。これより３８０ｎｍ及び３５０ｎｍの透過率を評価した。

＜可塑剤＞
本発明のセルロースアシレートフィルムは添加剤として可塑剤を含有してもよい。可塑剤としては、リン酸エステル、カルボン酸エステルであることが好ましい。また、前記可塑剤が、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）、ジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレートから選ばれたものであることがより好ましい。さらに、前記可塑剤が、（ジ）ペンタエリスリトールエステル類、グリセロールエステル類、ジグリセロールエステル類であることが好ましい。

＜劣化防止剤＞
前記劣化防止剤は、セルロースアシレート、例えばセルローストリアセテート等が劣化、分解するのを防止することができる。劣化防止剤としては、ブチルアミン、ヒンダードアミン化合物（特開平８−３２５５３７号公報）、グアニジン化合物（特開平５−２７１４７１号公報）、ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤（特開平６−２３５８１９号公報）、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤（特開平６−１１８２３３号公報）などの化合物がある。

＜剥離促進剤及び赤外吸収剤＞
剥離促進剤としてはクエン酸のエチルエステル類が例として挙げられる。さらにまた、赤外吸収剤としては例えば特開平２００１−１９４５２２号に記載されている。

＜添加剤の添加方法＞
これらの添加剤を添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、例えばドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、セルロースアシレートフィルムが多層である場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開平２００１−１５１９０２号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これら添加剤の種類や添加量の選択によって、セルロースアシレートフィルムの動的粘弾性測定機（バイブロン：ＤＶＡ−２２５（アイティー計測制御株式会社））で測定するガラス転移点Ｔｇを７０〜１５０℃に、引張試験機（ストログラフ−Ｒ２（東洋精機））で測定する弾性率を１５００〜４０００ＭＰａにすることが好ましい。より好ましくは、ガラス転移点Ｔｇが８０〜１３５℃、弾性率が１５００〜３０００ＭＰａである。すなわち、本発明のセルロースアシレートフィルムは、偏光板加工や液晶表示装置組立ての工程適性の点で、ガラス転移点Ｔｇ、弾性率を上記の範囲とすることが好ましい。

さらに添加剤については、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）ｐ．１６以降に詳細に記載されているものを適宜用いることができる。

＜マット剤微粒子＞
本発明のセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等を挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

前記二酸化珪素微粒子を用いる場合の使用量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して０．０１〜０．３質量部とするのが好ましい。

これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、通常１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。１．５μｍよりも大きいとヘイズが強くなり、０．２μｍよりも小さいときしみ防止効果が小さくなる。

１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とする。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とする。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。

本発明において２次平均粒子径の小さな粒子を有するセルロースアシレートフィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースアシレートを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と
十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ^２あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。

使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースアシレートの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

次に、本発明のセルロースアシレートが溶解される前記有機溶媒について記述する。

本発明においては、有機溶媒として、塩素系有機溶媒を主溶媒とする塩素系溶媒と塩素系有機溶媒を含まない非塩素系溶媒とのいずれをも用いることができる。

＜塩素系溶媒＞
本発明のセルロースアシレートの溶液を作製するに際しては、主溶媒として塩素系有機溶媒が好ましく用いられる。本発明においては、セルロースアシレートが溶解し流延，製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りはその塩素系有機溶媒の種類は特に限定されない。これらの塩素系有機溶媒は、好ましくはジクロロメタン、クロロホルムである。特にジクロロメタンが好ましい。また、塩素系有機溶媒以外の有機溶媒を混合することも特に問題ない。その場合は、ジクロロメタンは有機溶媒全体量中少なくとも５０質量％使用することが好ましい。本発明で塩素系有機溶剤と併用される他の有機溶媒について以下に記す。すなわち、好ましい他の有機溶媒としては、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、アルコール、炭化水素などから選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン、エーテルおよびアルコールは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を同時に有していてもよい。二種類以上の官能基を有する溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテート等が挙げられる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノン等が挙げられる。炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等が挙げられる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノール等が挙げられる。

また塩素系有機溶媒と併用されるアルコールとしては、好ましくは直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。アルコールの例には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノールおよびシクロヘキサノールが含まれる。なおアルコールとしては、フッ素系アルコールも用いられる。例えば、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，
２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなども挙げられる。さらに炭化水素は、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよい。芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素のいずれも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレンが含まれる。

塩素系有機溶媒と他の有機溶媒との組合せ例としては以下の組成を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
・ジクロロメタン／メタノール／エタノール／ブタノール（８０／１０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／アセトン／メタノール／プロパノール（８０／１０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／メタノール／ブタノール／シクロヘキサン（８０／１０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノール（８０／１０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／アセトン／メチルエチルケトン／エタノール／イソプロパノール（７５／１０／１０／５／７、質量部）、
・ジクロロメタン／シクロペンタノン／メタノール／イソプロパノール（８０／１０／５／８、質量部）、
・ジクロロメタン／酢酸メチル／ブタノール（８０／１０／１０、質量部）、
・ジクロロメタン／シクロヘキサノン／メタノール／ヘキサン（７０／２０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール （５０／２０／２０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／１、３ジオキソラン／メタノール／エタノール （７０／２０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／ジオキサン／アセトン／メタノール／エタノール （６０／２０／１０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／アセトン／シクロペンタノン／エタノール／イソブタノール／シクロヘキサン （６５／１０／１０／５／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール （７０／１０／１０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／アセトン／酢酸エチル／エタノール／ブタノール／ヘキサン （６５／１０／１０／５／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／アセト酢酸メチル／メタノール／エタノール （６５／２０／１０／５、質量部）、
・ジクロロメタン／シクロペンタノン／エタノール／ブタノール （６５／２０／１０／５、質量部）、
などをあげることができる。

＜非塩素系溶媒＞
次に、本発明のセルロースエステルの溶液を作製するに際して好ましく用いられる非塩素系有機溶媒について記載する。本発明においては、セルロースアシレートが溶解し流延，製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りは非塩素系有機溶媒は特に限定されない。本発明で用いられる非塩素系有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテルから選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。
２種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが挙げられる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが挙げられる。炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが挙げられる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが挙げられる。

以上のセルロースアシレートに用いられる非塩素系有機溶媒については、前述のいろいろな観点から選定されるが、好ましくは以下のとおりである。すなわち、非塩素系溶媒としては、前記非塩素系有機溶媒を主溶媒とする混合溶媒が好ましく、互いに異なる３種類以上の溶媒の混合溶媒であって、第１の溶媒が酢酸メチル、酢酸エチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、アセトン、ジオキソラン、ジオキサンから選ばれる少なくとも一種あるいは或いはそれらの混合液であり、第２の溶媒が炭素原子数が４〜７のケトン類またはアセト酢酸エステルから選ばれ、第３の溶媒として炭素数が１〜１０のアルコールまたは炭化水素、より好ましくは炭素数１〜８のアルコールから選ばれる、混合溶媒である。なお第１の溶媒が、２種以上の溶媒の混合液である場合は、第２の溶媒がなくてもよい。第１の溶媒は、さらに好ましくは酢酸メチル、アセトン、蟻酸メチル、蟻酸エチルあるいはこれらの混合物であり、第２の溶媒は、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセチル酢酸メチルが好ましく、これらの混合溶媒であってもよい。

第３の溶媒であるアルコールは、直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。アルコールの例には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノールおよびシクロヘキサノールが含まれる。なおアルコールとしては、フッ素系アルコールも用いられる。例えば、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなども挙げられる。さらに炭化水素は、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよい。芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素のいずれも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレンが含まれる。これらの第３の溶媒であるアルコールおよび炭化水素は単独でもよいし２種類以上の混合物でもよく特に限定されない。第３の溶媒としては、好ましい具体的化合物は、アルコールとしてはメタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、およびシクロヘキサノール、シクロヘキサン、ヘキサンを挙げることができ、特にはメタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールである。

以上の３種類の混合溶媒の混合割合は、混合溶媒全体量中、第１の溶媒が２０〜９５質量％、第２の溶媒が２〜６０質量％さらに第３の溶媒が２〜３０質量％の比率で含まれることが好ましく、さらに第１の溶媒が３０〜９０質量％であり、第２の溶媒が３〜５０質量％、さらに第３のアルコールが３〜２５質量％含まれることが好ましい。また特に第１の溶媒が３０〜９０質量％であり、第２の溶媒が３〜３０質量％、第３の溶媒がアルコールであり３〜１５質量％含まれることが好ましい。以上の本発明で用いられる非塩素系有機溶媒は、さらに詳細には発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年
３月１５日発行、発明協会）ｐ．１２−１６に詳細に記載されている。本発明の好ましい非塩素系有機溶媒の組合せは以下挙げることができるが、これらに限定されるものではない。

・酢酸メチル／アセトン／メタノール／エタノール／ブタノール（７５／１０／５／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／メタノール／エタノール／プロパノール（７５／１０／５／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／メタノール／ブタノール／シクロヘキサン（７５／１０／５／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール（８１／８／７／４、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール（８２／１０／４／４、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール（８０／１０／４／６、質量部）、
・酢酸メチル／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノール（８０／１０／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／メチルエチルケトン／エタノール／イソプロパノール（７５／１０／１０／５／７、質量部）、
・酢酸メチル／シクロペンタノン／メタノール／イソプロパノール（８０／１０／５／８、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／ブタノール（８５／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／シクロペンタノン／アセトン／メタノール／ブタノール（６０／１５／１５／５／６、質量部）、
・酢酸メチル／シクロヘキサノン／メタノール／ヘキサン（７０／２０／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール （５０／２０／２０／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／１、３−ジオキソラン／メタノール／エタノール （７０／２０／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／ジオキサン／アセトン／メタノール／エタノール （６０／２０／１０／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／シクロペンタノン／エタノール／イソブタノール／シクロヘキサン （６５／１０／１０／５／５／５、質量部）、
・ギ酸メチル／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール （５０／２０／２０／５／５、質量部）、
・ギ酸メチル／アセトン／酢酸エチル／エタノール／ブタノール／ヘキサン （６５／１０／１０／５／５／５、質量部）、
・アセトン／アセト酢酸メチル／メタノール／エタノール （６５／２０／１０／５、質量部）、
・アセトン／シクロペンタノン／エタノール／ブタノール （６５／２０／１０／５、質量部）、
・アセトン／１，３−ジオキソラン／エタノール／ブタノール （６５／２０／１０／５、質量部）、
・１、３−ジオキソラン／シクロヘキサノン／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノール （５５／２０／１０／５／５／５、質量部）、
などをあげることができる。

更に下記の方法で調整したセルロースアシレート溶液を用いることもできる。
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール（８１／８／７／４、質量部）でセルロースアシレート溶液を作製し濾過・濃縮後に２質量部のブタノールを追加添加する方法、
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール（８４／１０／４／２、質量部）でセルロースアシレート溶液を作製し濾過・濃縮後に４質量部のブタノールを追加添加する方法、
・酢酸メチル／アセトン／エタノール（８４／１０／６、質量部）でセルロースアシレート溶液を作製し濾過・濃縮後に５質量部のブタノールを追加添加する方法、
本発明に用いるドープには、上記本発明の非塩素系有機溶媒以外に、ジクロロメタンを本発明の全有機溶媒量の１０質量％以下含有させてもよい。

＜セルロースアシレート溶液特性＞
セルロースアシレートの溶液は、前記有機溶媒にセルロースアシレートを１０〜３０質量％の濃度で溶解させた溶液であるのが製膜流延適性の点で好ましく、より好ましくは１３〜２７質量％であり、特に好ましくは１５〜２５質量％である。これらの濃度にセルロースアシレートを実施する方法は、溶解する段階で所定の濃度になるように実施してもよく、また予め低濃度溶液（例えば９〜１４質量％）として作製した後に後述する濃縮工程で所定の高濃度溶液に調整してもよい。さらに、予め高濃度のセルロースアシレート溶液とした後に、種々の添加物を添加することで所定の低濃度のセルロースアシレート溶液としてもよく、いずれの方法でも本発明のセルロースエステル溶液濃度になるように実施されれば特に問題ない。

次に、本発明ではセルロースアシレート溶液を同一組成の有機溶媒で０．１〜５質量％にした希釈溶液中のセルロースアシレートの会合体分子量が１５万〜１５００万であることが、好ましい。さらに好ましくは、会合分子量が１８万〜９００万である。この会合分子量は静的光散乱法で求めることができる。その際に同時に求められる慣性自乗半径は１０〜２００ｎｍになるように溶解することが好ましい。さらに好ましい慣性自乗半径は２０〜２００ｎｍである。更にまた、第２ビリアル係数が−２×１０^−４〜＋４×１０^−４となるように溶解することが好ましく、より好ましくは第２ビリアル係数が−２×１０^−４〜＋２×１０^−４である。

ここで、本発明での会合分子量、さらに慣性自乗半径および第２ビリアル係数の定義について述べる。これらは下記方法に従って、静的光散乱法を用いて測定する。測定は装置の都合上希薄領域で測定するが、これらの測定値は本発明の高濃度域でのドープの挙動を反映するものである。

まず、セルロースアシレートをドープに使用する溶剤に溶かし、０．１質量％、０．２質量％、０．３質量％、０．４質量％の溶液を調製する。なお、秤量は吸湿を防ぐためセルロースアシレートは１２０℃で２時間乾燥したものを用い、２５℃，１０％ＲＨで行う。溶解方法は、ドープ溶解時に採用した方法（常温溶解法、冷却溶解法、高温溶解法）に従って実施する。続いてこれらの溶液、および溶剤を０．２μｍのテフロン製フィルタで濾過する。そして、ろ過した溶液を静的光散乱を、光散乱測定装置（大塚電子（株）製ＤＬＳ−７００）を用い、２５℃に於いて３０度から１４０度まで１０度間隔で測定する。得られたデータをＢＥＲＲＹプロット法にて解析する。なお、この解析に必要な屈折率はアッベ屈折系で求めた溶剤の値を用い、屈折率の濃度勾配（ｄｎ／ｄｃ）は、示差屈折計（大塚電子（株）製ＤＲＭ−１０２１）を用い、光散乱測定に用いた溶剤、溶液を用いて測定する。

＜ドープ製造方法＞
通常、上記原料を用いて、まずドープを製造する。以下に、本発明において好ましく行われるドープの製造方法について説明する。
まず始めに、溶媒が溶媒タンクから溶解タンクに送られる。次にホッパに入れられているセルロースアシレートが、計量されながら溶解タンクに送り込まれる。また、添加剤溶
液は、必要量が添加剤タンクから溶解タンクに送り込まれる。なお、添加剤は、溶液として送り込む方法の他に、例えば添加剤が常温で液体の場合には、その液体の状態で溶解タンクに送り込むことが可能である。また、添加剤が固体の場合には、ホッパなどを用いて溶解タンクに送り込む方法も可能である。添加剤を複数種類添加する場合には、添加剤タンクの中に複数種類の添加剤を溶解させた溶液を入れておくこともできる。または、多数の添加剤タンクを用いてそれぞれに添加剤が溶解している溶液を入れて、それぞれ独立した配管により溶解タンクに送り込むこともできる。

前述した説明においては、溶解タンクに入れる順番が、溶媒（混合溶媒の場合も含めた意味で用いる）、セルロースアシレート、添加剤であったが、この順番に限定されるものではない。例えば、セルロースアシレートを計量しながら溶解タンクに送り込んだ後に、好ましい量の溶媒を送液することもできる。また、添加剤は必ずしも溶解タンクに予め入れる必要はなく、後の工程でセルロースアシレートと溶媒との混合物（以下、これらの混合物もドープと称する場合がある）に混合させることもできる。

溶解タンクには、その外面を包み込むジャケットと、モータにより回転する第１攪拌機とが備えられている。さらに、溶解タンクには、モータにより回転する第２攪拌機が取り付けられていることが好ましい。なお、第１攪拌機は、アンカー翼が備えられたものであることが好ましく、第２攪拌機は、ディゾルバータイプの偏芯型撹拌機であることが好ましい。そして、溶解タンクとジャケットとの間に伝熱媒体を流すことにより溶解タンクは温度調整されており、その好ましい温度範囲は−１０℃〜５５℃の範囲である。第１攪拌機，第２攪拌機のタイプを適宜選択して使用することにより、セルロースアシレートが溶媒中で膨潤した膨潤液を得る。

膨潤液は、ポンプにより加熱装置に送られる。加熱装置は、ジャケット付き配管であることが好ましく、さらに、膨潤液を加圧することができる構成のものが好ましい。このような加熱装置を用いることにより、加熱条件下または加圧加熱条件下で膨潤液中の固形分を溶解させてドープを得る。以下、この方法を加熱溶解法と称する。なお、この場合に膨潤液の温度は、５０℃〜１２０℃であることが好ましい。また、膨潤液を−１００℃〜−３０℃の温度に冷却する冷却溶解法を行うこともできる。加熱溶解法及び冷却溶解法を適宜選択して行うことでセルロースアシレートを溶媒に充分溶解させることが可能となる。ドープを温調機により略室温とした後に、濾過装置により濾過してドープ中に含まれる不純物を取り除く。濾過装置に使用される濾過フィルタは、その平均孔径が１００μｍ以下であることが好ましい。また、濾過流量は、５０Ｌ／ｈｒ以上であることが好ましい。濾過後のドープ２２は、例えば図１のフィルム製造ライン２０中のストックタンク２１に送られここに貯留される。

ところで、上記のように、一旦膨潤液を調製し、その後にこの膨潤液をドープとする方法は、セルロースアシレートの濃度を上昇させるほど要する時間が長くなり、製造コストの点で問題となる場合がある。その場合には、目的とする濃度よりも低濃度のドープを調製し、その後に目的の濃度とするための濃縮工程を行うことが好ましい。このような方法を用いる際には、濾過装置で濾過されたドープをフラッシュ装置に送り、フラッシュ装置内でドープ中の溶媒の一部を蒸発させる。蒸発により発生した溶媒ガスは、凝縮器（図示しない）により凝縮されて液体となり回収装置により回収される。回収された溶媒は再生装置によりドープ調製用の溶媒として再生されて再利用される。この再利用はコストの点で効果がある。

また、濃縮されたドープは、ポンプによりフラッシュ装置から抜き出される。さらに、ドープに発生した気泡を抜くために泡抜き処理が行われることが好ましい。この泡抜き方法としては、公知の種々の方法が適用され、例えば超音波照射法が挙げられる。ドープは
続いて濾過装置に送られて、異物が除去される。なお、濾過する際のドープの温度は、０℃〜２００℃であることが好ましい。そしてドープ２２はストックタンク２１に送られ、貯蔵される。

以上の方法により、セルロースアシレート濃度が５質量％〜４０質量％であるドープを製造することができる。より好ましくはセルロースアシレート濃度が１５質量％以上３０質量％以下であり、最も好ましくは１７質量％以上２５質量％以下の範囲とすることである。また、添加剤（主には可塑剤である）の濃度は、ドープ中の固形分全体を１００質量％とした場合に１質量％以上２０質量％以下の範囲とすることが好ましい。なお、セルロースアシレートフィルムを得る溶液製膜法における素材、原料、添加剤の溶解方法及び添加方法、濾過方法、脱泡などのドープの製造方法については、特開２００５−１０４１４８号の［０５１７］段落から［０６１６］段落が詳しい。これらの記載も本発明に適用できる。

＜溶液製膜方法＞
以下に、本発明において好ましく行われる溶液成膜方法について説明する。
上記で得られたドープ２２を用いてフィルムを製造する方法の例を説明する。図１はフィルム製造ライン２０を示す概略図である。ただし、本発明は、図１に示すようなフィルム製造ラインに限定されるものではない。フィルム製造ライン２０には、ストックタンク２１、濾過装置３０、流延ダイ３１、回転ローラ３２，３３に掛け渡された流延バンド３４及びテンタ式乾燥機３５などが備えられている。さらに耳切装置４０、乾燥室４１、冷却室４２及び巻取室４３などが配されている。

ストックタンク２１には、モータ６０で回転する攪拌機６１が取り付けられている。そして、ストックタンク４１は、ポンプ６２及び濾過装置３０を介して流延ダイ３１と接続している。

流延ダイ３１の材質としては、析出硬化型のステンレス鋼が好ましく、その熱膨張率が２×１０^−５（℃^−１）以下であることが好ましい。そして、電解質水溶液での強制腐食試験でＳＵＳ３１６と略同等の耐腐食性を有するものも、この流延ダイ３１の材質として用いることができ、さらに、ジクロロメタン、メタノール、水の混合液に３ヵ月浸漬しても気液界面にピッティング（孔開き）が生じない耐腐食性を有するものを用いられる。さらに、鋳造後１ヶ月以上経過したものを研削加工して流延ダイ３１を作製することが好ましい。これにより流延ダイ３１内をドープ２２が一様に流れ、後述する流延膜６９にスジなどが生じることが防止される。流延ダイ３１の接液面の仕上げ精度は、表面粗さで１μｍ以下、真直度はいずれの方向にも１μｍ／ｍ以下であることが好ましい。流延ダイ３１のスリットのクリアランスは、自動調整により０．５ｍｍ〜３．５ｍｍの範囲で調整可能とされている。流延ダイ３１のリップ先端の接液部の角部分について、そのＲは全巾にわたり５０μｍ以下とされている。また、流延ダイ３１内部における剪断速度が１（１／ｓｅｃ）〜５０００（１／ｓｅｃ）となるように調整されていることが好ましい。

流延ダイ３１の幅は、特に限定されるものではないが、最終製品となるフィルムの幅の１．１倍〜２．０倍であることが好ましい。また、製膜中の温度が所定温度に保持されるように、この流延ダイ３１に温調機（図示しない）を取り付けることが好ましい。また、流延ダイ３１にはコートハンガー型のものを用いることが好ましい。さらに、厚み調整ボルト（ヒートボルト）を流延ダイ３１の幅方向において所定の間隔で設け、ヒートボルトによる自動厚み調整機構が流延ダイ３１に備えられていることがより好ましい。ヒートボルトは予め設定されるプログラムによりポンプ（高精度ギアポンプが好ましい）６２の送液量に応じてプロファイルを設定し製膜を行うことが好ましい。また、フィルム製造ライン２０中に図示しない厚み計（例えば、赤外線厚み計）のプロファイルに基づく調整プロ
グラムによってフィードバック制御を行っても良い。流延エッジ部を除いて製品フィルムの幅方向の任意の２点の厚み差は１μｍ以内に調整し、幅方向厚みの最小値と最大値との差が３μｍ以下となるように調整することが好ましく、２μｍ以下に調整することがより好ましい。また、厚み精度は±１．５μｍ以下に調整されているものを用いることが好ましい。

流延ダイ３１のリップ先端には、硬化膜が形成されていることがより好ましい。硬化膜の形成方法は、特に限定されるものではないが、セラミックスコーティング、ハードクロムメッキ、窒化処理方法などが挙げられる。硬化膜としてセラミックスを用いる場合には、研削でき気孔率が低く脆くなく耐腐食性が良く、かつ流延ダイ３１と密着性が良く、ドープ２２との密着性がないものが好ましい。具体的には、タングステン・カーバイド（ＷＣ），Ａｌ_２Ｏ_３，ＴｉＮ，Ｃｒ_２Ｏ_３などが挙げられるが、なかでも特に好ましくはＷＣである。ＷＣコーティングは、溶射法で行うことができる。

流延ダイ３１のスリット端に流出するドープが、局所的に乾燥固化することを防止するために溶媒供給装置（図示しない）をスリット端に取り付けることが好ましい。この場合には、ドープを可溶化する溶媒（例えば、ジクロロメタン８６．５質量部，アセトン１３質量部，ｎ−ブタノール０．５質量部の混合溶媒）を流延ビードの両端部、ダイスリット端部及び外気が形成する三相接触線の周辺部付近に供給することが好ましい。端部の片側それぞれに０．１ｍＬ／ｍｉｎ〜１．０ｍＬ／ｍｉｎで供給することが、流延膜中への異物混合を防止するために好ましい。なお、この液を供給するポンプとしては、脈動率が５％以下のものを用いることが好ましい。

流延ダイ３１の下方には、回転ローラ３２，３３に掛け渡された流延バンド３４が設けられている。回転ローラ３２，３３は図示しない駆動装置により回転し、この回転に伴い流延バンド３４は無端で走行する。流延バンド３４は、その移動速度、すなわち流延速度が１０ｍ／分以上２００ｍ／分以下で移動できるものであることが好ましく、より好ましくは１５ｍ／分以上１５０ｍ／分以下であり、最も好ましくは２０ｍ／分以上１２０ｍ／分以下である。フィルムの生産性の点で、流延速度が１０ｍ／分以上が好ましい。また、流延ビードが安定して形成され、流延膜６９の面状が良好となる点で、２００ｍ／分以下が好ましい。

また、流延バンド４６の表面温度を所定の値にするために、回転ローラ３２，３３に伝熱媒体循環装置６３が取り付けられていることが好ましい。流延バンド３４は、その表面温度が−２０℃〜４０℃に調整可能なものであることが好ましい。本実施形態において用いられている回転ローラ３２，３３内には伝熱媒体流路（図示しない）が形成されており、その中を所定の温度に保持されている伝熱媒体が通過することにより、回転ローラ３２，３３の温度を所定の値に保持されるものとなっている。

流延バンド３４の幅は特に限定されるものではないが、ドープ２２の流延幅の１．１倍〜２．０倍の範囲のものを用いることが好ましい。また、長さは２０ｍ〜２００ｍ、厚みは０．５ｍｍ〜２．５ｍｍであり、表面粗さは０．０５μｍ以下となるように研磨されていることが好ましい。流延バンド３４は、ステンレス製であることが好ましく、十分な耐腐食性と強度とを有するようにＳＵＳ３１６製であることがより好ましい。また、流延バンド３４の全体の厚みムラは０．５％以下のものを用いることが好ましい。

なお、回転ローラ３２，３３を直接支持体として用いることも可能である。この場合には、回転ムラが０．２ｍｍ以下となるように高精度で回転できるものであることが好ましい。この場合には、回転ローラ３２，３３の表面の平均粗さを０．０１μｍ以下とすることが好ましい。そこで、回転ローラの表面にクロムメッキ処理などを行い、十分な硬度と
耐久性を持たせる。なお、支持体（流延バンド３４や回転ローラ３２，３３）の表面欠陥は最小限に抑制する必要がある。具体的には、３０μｍ以上のピンホールが無く、１０μｍ以上３０μｍ未満のピンホールは１個／ｍ²以下であり、１０μｍ未満のピンホールは２個／ｍ²以下であることが好ましい。

流延ダイ３１、流延バンド３４などは流延室６４に収められている。流延室６４には、その内部温度を所定の値に保つための温調設備６５と、揮発している有機溶媒を凝縮回収するための凝縮器（コンデンサ）６６とが設けられている。そして、凝縮液化した有機溶媒を回収するための回収装置６７が流延室６４の外部に設けられている。また、流延ダイ３１から流延バンド３４にかけて形成される流延ビードの背面部を圧力制御するための減圧チャンバ６８が配されていることが好ましく、本実施形態においてもこれを使用している。

流延膜６９中の溶媒を蒸発させるため送風口７０，７１，７２が流延バンド３４の周面近くに設けられている。また、図２に示されているように流延直後の流延膜６９に乾燥風が吹き付けられることによる流延膜６９の面状変動を抑制するため流延ダイ３１の近傍にはラビリンスシール５０が取り付けられている。また、ラビリンスシール５０と送風口７０との間に急速乾燥用の送風口（以下、急速乾燥送風口と称する）７３が設けられている。急速乾燥送風口７３及びその他の送風口７０〜７２には給気装置５１が取り付けられている。急速乾燥送風口７３は複数のノズル７３ａを有しており、流延膜６９表面に乾燥風５７を当てることで、流延膜６９の表面に初期膜６９ａを形成する。急速乾燥送風口７３に設けられているノズルは図２では４個を示しているが、本発明はそれに限定されるものではない。ラビリンスシール５０と急速乾燥送風口７３との距離をＬ１（ｍｍ）とする。その領域を成行風領域Ａと称する。急速乾燥送風口７３の長さをＬ２（ｍｍ）とする。また、減圧チャンバ６８には減圧装置（例えば、ルーツ式ブロワーなど）７６が接続している。なお、乾燥風５７を流延膜６９にあてる時間は、２０秒以上であることが好ましい。初期膜６９ａの形成が進行し、面状に優れるフィルムを得ることができる点で、乾燥風５７の送風時間が２０秒以上が好ましい。

図３に示すようにノズルからの乾燥風送風方向は様々な態様のものを用いることができる。例えば、図３（ａ）に示すように流延膜６９の両縁のノズル５２ａ，５２ｂから流延膜６９の中央部に乾燥風を当てるものがある。また、（ｂ）に示すように流延膜６９の幅方向における中央部にノズル５３を設け、前記中央部から両縁に乾燥風を当てるものでも良い。さらに、（ｃ）に示すように流延膜６９のノズル５４から吸引口５５に向けて乾燥風を流延膜６９に当てるものでも良い。また、ノズルの形状は特に限定されるものではない。

渡り部８０には、送風機８１が備えられ、テンタ式乾燥機３５の下流の耳切装置４０には、切り取られたフィルム８２の側端部（耳と称される）の屑を細かく切断処理するためのクラッシャ９０が接続されている。

乾燥室４１には、多数のローラ９１が備えられており、蒸発して発生した溶媒ガスを吸着回収するための吸着回収装置９２が取り付けられている。そして、図１においては、乾燥室４１の下流に冷却室４２が設けられているが、乾燥室４１と冷却室４２との間に調湿室（図示しない）を設けても良い。冷却室４２の下流には、フィルム８２の帯電圧を所定の範囲（例えば、−３ｋＶ〜＋３ｋＶ）となるように調整するための強制除電装置（除電バー）９３が設けられている。図１においては、強制除電装置９３は、冷却室４２の下流側とされている例を図示しているが、この設置位置に限定されるものではない。さらに、本実施形態においては、フィルム８２の両縁にエンボス加工でナーリングを付与するためのナーリング付与ローラ９４が強制除電装置９３の下流に適宜設けられる。また、巻取室
４３の内部には、フィルム８２を巻き取るための巻取ローラ９５と、その巻き取り時のテンションを制御するためのプレスローラ９６とが備えられている。

次に、以上のようなフィルム製造ライン２０を使用してフィルム８２を製造する方法の一例を以下に説明する。ドープ２２は、攪拌機６１の回転により常に均一化されている。ドープ２２には、この攪拌の際にも可塑剤，紫外線吸収剤などの添加剤を混合させることもできる。

ドープ２２は、ポンプ６２により濾過装置３０に送られてここで濾過された後に、流延ダイ３１から流延バンド３４上に流延される。回転ローラ３２，３３の駆動は、流延バンド３４に生じるテンションが１０^４Ｎ／ｍ〜１０^５Ｎ／ｍとなるように調整されることが好ましい。また、流延バンド３４と回転ローラ３２，３３との相対速度差は、０．０１ｍ／ｍｉｎ以下となるように調整する。流延バンド３４の速度変動を０．５％以下とし、流延バンド３４が一回転する際に生じる幅方向の蛇行は１．５ｍｍ以下とすることが好ましい。この蛇行を制御するために流延バンド３４の両端の位置を検出する検出器（図示しない）を設け、その測定値に基づき流延バンド３４の位置制御機（図示しない）にフィードバック制御を行い、流延バンド３４の位置の調整を行うことがより好ましい。さらに、流延ダイ３１直下における流延バンド３４について、回転ローラ３３の回転に伴う上下方向の位置変動が２００μｍ以下となるように調整することが好ましい。また、流延室６４の温度は、温調設備６５により−１０℃〜５７℃とされていることが好ましい。なお、流延室６４の内部で蒸発した溶媒は回収装置６７により回収された後に、再生させてドープ調製用溶媒として再利用される。

流延ダイ３１から流延バンド３４にかけては流延ビードが形成され、流延バンド３４上には流延膜６９が形成される。流延時のドープ２２の温度は、−１０℃〜５７℃であることが好ましい。また、流延ビードを安定させるために、この流延ビードの背面が減圧チャンバ６８により所望の圧力値に制御されることが好ましい。ビード背面は、前面よりも−２０００Ｐａ〜−１０Ｐａの範囲で減圧することが好ましい。さらに、減圧チャンバ６８にはジャケット（図示しない）を取り付けて、内部温度が所定の温度を保つように温度制御されることが好ましい。減圧チャンバ６８の温度は特に限定されるものではないが、用いられている有機溶媒の凝縮点以上にすることが好ましい。また、流延ビードの形状を所望のものに保つために流延ダイ３１のエッジ部に吸引装置（図示しない）を取り付けることが好ましい。このエッジ吸引風量は、１Ｌ／ｍｉｎ〜１００Ｌ／ｍｉｎの範囲であることが好ましい。

流延ダイ３１からドープ２２は流延ビードを形成して、流延バンド３４上に流延される。流延時におけるドープ２２の粘度（レオメーターで測定）は１０Ｐａ・ｓ以上１００Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、１２Ｐａ・ｓ以上５０Ｐａ・ｓ以下であることがより好ましく、最も好ましくは１５Ｐａ・ｓ以上４０Ｐａ・ｓ以下である。流延ビードは流延バンド３４上で流延膜６９を形成する。なお、流延ビードが流延バンド３４に接地する位置を流延開始位置３４ａと称する。粘度が低くなり過ぎず、乾燥風によるムラを受にくくなり流延膜６９の面状が良好となると共に初期膜６９ａの形成が容易である点で、ドープ２２の粘度が１０Ｐａ・ｓ以上が好ましい。さらに、含有溶媒量が多すぎず、流延膜６９の乾燥初期段階における溶媒の揮発が激しくおこらず、乾燥不良（例えば、発泡など）が生じにくく，溶媒回収設備の大型化が不要である点で好ましい。

流延膜６９は流延バンド３４の移動に伴い移動する。流延膜６９の上方には自然な風（以下、成行風と称する）が発生している。なお、流延後から乾燥風が送られるまでの領域を成行風領域Ａと称する。成行風領域Ａにはラビリンスシール５０が設けられ、下流側の成行風５６が流延ダイ３１近傍に逆流することを防止している。この成行風５６は、本発
明においては風速３ｍ／ｓ未満であり、通常、風速が２ｍ／ｓ以下の弱い風である。しかしながら、乱雑な流れである成行風５６が、流延膜６９の表面に当たると面状の悪化をもたらす。そこで、成行風領域Ａの長さＬ１（ｍｍ）は極力短い方が良い。しかしながら、フィルム製造ライン２０の各装置の配置位置の関係上、長さＬ１（ｍｍ）は３０００ｍｍ以下であれば良く、より好ましくは２０００ｍｍ以下であり、さらに好ましくは１０００ｍｍ以下である。また、流延膜６９が成行風領域Ａを通過する時間は１５秒以下であることが好ましく、より好ましくは１０秒以下であり、最も好ましくは７秒以下である。

次に、流延膜６９は急速乾燥送風口７３が上部に配置されている箇所まで連続的に搬送される。急速乾燥送風口７３のノズル７３ａから乾燥風５７が流延膜６９に向けて送風される。流延膜６９は、乾燥風５７が当たることで、その表面に初期膜６９ａが形成される。この初期膜６９ａのレベリング効果により流延膜６９の表面は平滑化されて乾燥される。なお、本発明において初期膜６９ａの形成は乾燥風５７を当てる方法に限定されるものではない。例えば、赤外線ヒータ加熱，マイクロ波加熱などで初期膜６９ａを形成しても良い。

乾燥風５７の風速は、３ｍ／ｓ以上１５ｍ／ｓ以下であることが好ましく、より好ましくは４ｍ／ｓ以上１２ｍ／ｓ以下であり、最も好ましくは４ｍ／ｓ以上１０ｍ／ｓ以下である。初期膜６９ａの形成がスムーズで、初期膜形成前の流延膜６９の面状の悪化を避けることができる点で、風速が３ｍ／ｓ以上が好ましい。また、流延膜６９に乾燥風５７が強く当たり過ぎず、面状が優れる初期膜６９ａが形成される点で、風速が１５ｍ／ｓ以下が好ましい。

乾燥風５７のガス濃度は、２５％以下であることが好ましく、より好ましくは２０％以下であり、最も好ましくは１８％以下である。なお、本発明においてガス濃度とは、赤外線分析法で測定される乾燥風５７中の揮発溶媒成分を意味する。形成直後の流延膜６９には多量の溶媒が含有している。含有溶媒量が多い流延膜６９からの溶媒の揮発が遅くならず、初期膜６９ａの形成が容易となる点で、乾燥風５７のガス濃度が２５％以下が好ましい。

乾燥風５７の温度は４０℃以上１５０℃以下であることが好ましく、より好ましくは４５℃以上１２０℃以下であり、最も好ましくは５０℃以上１００℃以下である。流延膜６９からの溶媒の揮発が進行し易いため膜面が良好な初期膜６９ａの形成が可能となる点で、温度が４０℃以上が好ましい。また、流延膜６９中の溶媒の発泡などがなく、急激な揮発が生じず、面状が良好な初期膜６９ａの形成が容易である点で、温度が１５０℃以下が好ましい。

本発明において、成行風５６が流延膜６９にあたる時間は、流延後から１５秒以下とすることが好ましく、より好ましくは１０秒以下であり、最も好ましくは７秒以下である。急速乾燥であり、流延膜６９表面に均一な初期膜６９ａが形成される前に、流延膜６９表面に厚みムラが形成されることを避けられ、面状が均一なフィルム８２が得られる点で、流延膜６９に成行風５６があたる時間が１５秒以下が好ましい。また、乾燥時間が短いためフィルム８２の生産性が良好である。

流延膜６９の乾燥を開始する際の含有溶媒量は、固形分基準で２００質量％以上５００質量％以下であることが好ましく、２５０質量％以上４５０質量％以下であることがより好ましく、最も好ましくは３００質量％以上４２０質量％以下である。

乾燥風５７を流延膜６９に送った後３０秒間の間の前記流延膜６９残留溶媒の減少速度が、１質量％／ｓ以上１５質量％／ｓ以下であることが好ましく、３質量％／ｓ以上１２
質量％／ｓ以下であることがより好ましく、最も好ましくは５質量％／ｓ以上１０質量％／ｓ以下である。初期膜６９ａの形成が遅れるのを抑制でき、十分な膜面強度を有する初期膜６９ａの形成が容易である点で、乾燥速度が１質量％／ｓ以上が好ましい。また、初期膜６９ａの形成が均一に行われ、流延膜６９の発泡や、膜面の面状悪化を抑制できる点で、乾燥速度が１５質量％／ｓ以下が好ましい。

流延膜６９は、流延バンド３４の走行とともに移動し、このときに送風口７０，７１，７２により流延膜６９に乾燥風があてられて溶媒の蒸発が促進される。そして、この乾燥風の吹き付けにより流延膜６９の面状が変動することがあるが、ラビリンスシール５０がこの変動を抑制している。なお、流延バンド３４の表面温度は、−２０℃〜４０℃であることが好ましい。

流延膜６９は、自己支持性を有するものとなった後に、湿潤フィルム７４として剥取ローラ７５で支持されながら流延バンド３４から剥ぎ取られる。剥ぎ取り時の残留溶媒量は、固形分基準で２０質量％〜２５０質量％であることが好ましい。その後に多数のローラが設けられている渡り部８０を搬送させて、テンタ式乾燥機３５に湿潤フィルム７４を送り込む。渡り部８０では、送風機８１から所望の温度の乾燥風を送風することで湿潤フィルム７４の乾燥を進行させる。このとき乾燥風の温度が、２０℃〜２５０℃であることが好ましい。なお、渡り部８０では下流側のローラの回転速度を上流側のローラの回転速度より速くすることにより湿潤フィルム７４にドローテンションを付与させることも可能である。

テンタ式乾燥機３５に送られている湿潤フィルム７４は、その両端部がクリップで把持されて搬送されながら乾燥される。また、テンタ式乾燥機３５の内部を温度ゾーンに区画分割して、その区画毎に乾燥条件を適宜調整することが好ましい。テンタ式乾燥機３５を用いて湿潤フィルム７４を幅方向に延伸させることも可能である。

本発明のセルロースアシレートフィルムを作製するためには、渡り部８０及び／またはテンタ式乾燥機３５で湿潤フィルム７４の流延方向と幅方向とのいずれか1方向、もしくは両方向に延伸しても良い。その場合に好ましい延伸倍率は流延方向、幅方向共に１．０１〜１．３倍であり、１．０１〜１．１５倍が更に好ましい。流延方向及び幅方向延伸により面積が１．０１倍〜１．４倍となっていることが好ましく、１．０１倍〜１．３倍となっていることがさらに好ましい。これは流延方向の延伸倍率×幅方向の延伸倍率で求めることが出来る。

また、幅方向延伸の後には緩和工程を設けても良い。緩和工程では、幅方向延伸されたセルロースアシレートフィルムを所定時間、所定温度に保持して、延伸フィルムを収縮させる。緩和率は２０％以内であるのが好ましく、特に１５％以内であるのが好ましい。保持温度は、上記セルロースアシレートのガラス転移点マイナス３０℃からガラス転移点プラス３０℃の範囲内であるのが好ましい。保持温度が高すぎると、所望の特性（位相差）が得られなくなり、一方、低すぎると延伸過程での分子配向が凍結されてレターデーション値を均一化することができなくなるからである。保持時間は、好ましくは１０〜３００秒、より好ましくは３０秒〜１８０秒である。保持時間が短すぎると応力緩和効果が小さくレターデーション値を均一化することができず、長すぎるとフィルムの厚み方向のレターデーション値のバラツキが増加する。

湿潤フィルム７４は、テンタ式乾燥機３５で所定の残留溶媒量まで乾燥された後、フィルム８２として下流側に送り出される。フィルム８２の両側端部は、耳切装置４０によりその両縁が切断される。切断された側端部は、図示しないカッターブロワによりクラッシャ９０に送られる。クラッシャ９０により、フィルム側端部は粉砕されてチップとなる。
このチップはドープ調製用に再利用されるので、この方法はコストの点において有効である。なお、このフィルム両側端部の切断工程については省略することもできるが、前記流延工程から前記フィルムを巻き取る工程までのいずれかで行うことが好ましい。

両側端部を切断除去されたフィルム８２は、乾燥室４１に送られ、さらに乾燥される。乾燥室４１内の温度は、特に限定されるものではないが、５０℃〜１６０℃の範囲であることが好ましい。乾燥室４１においては、フィルム８２は、ローラ９１に巻き掛けられながら搬送されており、ここで蒸発して発生した溶媒ガスは、吸着回収装置９２により吸着回収される。溶媒成分が除去された空気は、乾燥室４１の内部に乾燥風として再度送風される。なお、乾燥室４１は、乾燥温度を変えるために複数の区画に分割されていることがより好ましい。また、耳切装置４０と乾燥室４１との間に予備乾燥室（図示しない）を設けてフィルム８２を予備乾燥すると、乾燥室４１においてフィルム温度が急激に上昇することが防止されるので、これによりフィルム８２の形状変化をより抑制することができる。

フィルム８２は、冷却室４２で通常略室温まで冷却される。なお、乾燥室４１と冷却室４２との間に調湿室（図示しない）を設けても良く、この調湿室でフィルム８２に対して、所望の湿度及び温度に調整された空気を吹き付けられることが好ましい。これにより、フィルム８２のカールの発生や巻き取る際の巻き取り不良の発生を抑制することができる。

また、強制除電装置（除電バー）９３により、フィルム８２が搬送されている間の帯電圧が所定の範囲（例えば、−３ｋＶ〜＋３ｋＶ）とされる。図１では冷却室４２の下流側に設けられている例を図示しているがその位置に限定されるものではない。さらに、ナーリング付与ローラ９４を設けて、フィルム８２の両縁にエンボス加工でナーリングを付与することが好ましい。なお、ナーリングされた箇所の凹凸が、１μｍ〜２００μｍであることが好ましい。

最後に、フィルム８２を巻取室４３内の巻取ローラ９５で巻き取る。この際には、プレスローラ９６で所望のテンションを付与しつつ巻き取ることが好ましい。なお、テンションは巻取開始時から終了時まで徐々に変化させることがより好ましい。巻き取られるフィルム８２は、長手方向（流延方向）に少なくとも１００ｍ以上とすることが好ましい。また、フィルム８２の幅が６００ｍｍ以上であることが好ましく、１４００ｍｍ以上１８００ｍｍ以下であることがより好ましい。また、本発明は、１８００ｍｍより大きい場合にも効果がある。フィルム８２の厚みが１５μｍ以上１００μｍ以下の薄いフィルムを製造する際にも本発明は適用される。

本発明の溶液製膜方法において、ドープを流延する際に、２種類以上のドープを同時積層共流延又は逐次積層共流延させることもできる。さらに両共流延を組み合わせても良い。同時積層共流延を行う際には、フィードブロックを取り付けた流延ダイを用いても良いし、マルチマニホールド型流延ダイを用いても良い。共流延により多層からなるフィルムは、空気面側の層の厚さと支持体側の層の厚さとの少なくともいずれか一方が、フィルム全体の厚みの０．５％〜３０％であることが好ましい。さらに、同時積層共流延を行う場合には、ダイスリットから支持体にドープを流延する際に、高粘度ドープが低粘度ドープにより包み込まれることが好ましい。また、同時積層共流延を行う場合には、ダイスリットから支持体にかけて形成される流延ビードのうち、外界と接するドープが内部のドープよりもアルコールの組成比が大きいことが好ましい。

流延ダイ、減圧チャンバ、支持体などの構造、共流延、剥離法、延伸、各工程の乾燥条件、ハンドリング方法、カール、平面性矯正後の巻取方法から、溶媒回収方法、フィルム
回収方法まで、特願２００４−２６４４６４号の［０６１７］段落から［０８８９］段落に詳しく記述されている。これらの記載も本発明に適用できる。

＜光学補償フィルム＞
本発明のセルロースアシレートフィルムの上に、直接、または他の層を介して、以下に説明する光学補償層（光学異方性層）を設けることにより光学補償フィルムを得ることができる。

＜光学補償層＞
光学補償層としては、ポリマーフィルムの複屈折性フィルム、液晶ポリマーの配向フィルム、低分子液晶の配向フィルム、及びこれらの組み合わせなどを使用することができる。
光学補償層を形成するポリマーフィルムとして、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、およびポリアリールエーテルケトンから選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を用い、これを溶媒に溶解した溶液を基材に塗布し、溶媒を乾燥させてフィルム化する方法も好ましく用いることができる。この際、上記ポリマーフィルムと基材とを延伸して光学異方性を発現させて光学異方性層として用いる手法も好ましく用いることができ、本発明のセルロースアシレートフィルムは上記基材として好ましく用いることができる。また、上記ポリマーフィルムを別の基材の上で作製しておき、ポリマーフィルムを基材から剥離させたのちに本発明のセルロースアシレートフィルムと貼合し、あわせて光学異方性層として用いることも好ましい。この手法ではポリマーフィルムの厚さを薄くすることができ、５０μｍ以下であることが好ましく、１〜２０μｍであることがより好ましい。

光学補償層は、ポリマーフィルムを面方向に二軸に延伸する方法、面方向に一軸または二軸に延伸し、厚さ方向にも延伸する方法等により厚さ方向の屈折率を制御することにより得ることができる。またポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着して加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを延伸処理又は／及び収縮処理して傾斜配向させる方法等により得ることができる。光学補償フィルムとしては光学異方性を有するポリマー層を支持体上に塗布、積層して作製してもよいし、ポリマー層を支持体上に塗布、積層したあとにポリマー層と支持体をともに延伸することにより光学異方性を発現させる方法で作製してもよい。

液晶性ポリマーとしては、たとえば、液晶配向性を付与する共役性の直線状原子団（メソゲン）がポリマーの主鎖や側鎖に導入された主鎖型や側鎖型の各種のものなどがあげられる。主鎖型の液晶性ポリマーの具体例としては、屈曲性を付与するスペーサ部でメソゲン基を結合した構造の、例えばネマチック配向性のポリエステル系液晶性ポリマー、ディスコティックポリマーやコレステリックポリマーなどがあげられる。側鎖型の液晶性ポリマーの具体例としては、ポリシロキサン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート又はポリマロネートを主鎖骨格とし、側鎖として共役性の原子団からなるスペーサ部を介してネマチック配向付与性のパラ置換環状化合物単位からなるメソゲン部を有するものなどがあげられる。これら液晶性ポリマーの配向フィルムは、たとえば、ガラス板上に形成したポリイミドやポリビニルアルコール等の薄膜の表面をラビング処理したもの、酸化珪素を斜方蒸着したものなどの配向処理面上に液晶性ポリマーの溶液を展開して熱処理することにより、液晶ポリマーを配向させたもの、特に傾斜配向させたものが好ましい。

低分子液晶としては、棒状又は円盤状（ディスコティック）液晶性化合物があげられる。
（ディスコティック液晶性化合物）
本発明に使用可能なディスコティック液晶性化合物の例には、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓ
ｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ ２６５５（１９９４））に記載の化合物が含まれる。

光学補償層において、ディスコティック液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。また、本発明においては、ディスコティック液晶性分子が透明保護フィルム面に対して垂直に配向固定されていることが好ましい。ディスコティック液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。ディスコティック液晶性分子を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。重合性基を有するディスコティック液晶性分子について、特開２００１−４３８７号公報に開示されている。

（棒状液晶性化合物）
本発明において、使用可能な棒状液晶性化合物の例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が含まれる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。

光学異方性層において、棒状液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。また、本発明においては、棒状液晶性分子が透明保護フィルム面に対して垂直に配向固定されていることが好ましい。本発明に使用可能な重合性棒状液晶性化合物の例には、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号、同５６２２６４８号、同５７７０１０７号、世界特許（ＷＯ）９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号、同６−１６６１６号、同７−１１０４６９号、同１１−８００８１号、および特開２００１−３２８９７３号などに記載の化合物が含まれる。

さらに本発明は、前記セルロースアシレートフィルムを偏光子の保護フィルムとして用いたことを特徴とする偏光板に関する。

＜偏光板＞
偏光板は、偏光子およびその両側に配置された二枚の透明保護フィルムを有する。少なくとも一方の保護フィルムとして、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いることができる。他方の保護フィルムは、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよい。偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。本発明のセルロースアシレートフィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたセルロースアシレートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール
水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号公報、特開平６−１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムを有しており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。

本発明のセルロースアシレートフィルムの偏光子への貼り合せ方は、偏光子の透過軸と本発明のセルロースアシレートフィルムの遅相軸を一致させるように貼り合せることが好ましい。なお、偏光板クロスニコル下で作製した偏光板の評価を行ったところ、本発明のセルロースアシレートフィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸（透過軸と直交する軸）との直交精度が１°より大きいと、偏光板クロスニコル下での偏光度性能が低下して光抜けが生じることがわかった。この場合、液晶セルと組み合わせた場合に、十分な黒レベルやコントラストが得られないことになる。したがって、本発明のセルロースアシレートフィルムの主屈折率ｎｘの方向と偏光板の透過軸の方向とは、そのずれが１°以内、好ましくは０．５°以内であることが好ましい。

＜表面処理＞
本発明のセルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着性の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０^−３〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００ｋｅＶ下で２０〜５００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００ｋｅＶ下で２０〜３００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられる。これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースアシレートフィルムの表面処理としては極めて有効である。

アルカリ鹸化処理は、セルロースアシレートフィルムを鹸化液の槽に直接浸漬する方法または鹸化液をセルロースアシレートフィルム塗布する方法で実施することが好ましい。

塗布方法としては、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法およびＥ型塗布法を挙げることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液の透明支持体に対して塗布するために濡れ性が良く、また鹸化液溶媒によって透明支持体表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒以上５分以下が好ましく、５
秒以上５分以下がさらに好ましく、２０秒以上３分以下が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。

＜ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム＞
本発明のセルロースアシレートフィルムは、またハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルムへの適用が好ましく実施できる。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上する目的で、本発明のセルロースアシレートフィルムの片面または両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の少なくとも一つを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の５４頁〜５７頁に詳細に記載されており、本発明のセルロースアシレートフィルムを好ましく用いることができる。

以下の説明における透明保護フィルム（透明支持体とも呼ぶ）として、本発明のセルロースアシレートフィルムを好ましく用いることができる。

＜反射防止層＞
偏光板の、液晶セルと反対側に配置される透明保護フィルムには反射防止層などの機能性膜を設けることが好ましい。特に、本発明では透明保護フィルム上に少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層した反射防止層または透明保護フィルム上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層が好適に用いられる。以下にそれらの好ましい例を記載する。

透明保護フィルム上に光散乱層と低屈折率層を設けた反射防止層の好ましい例について述べる。

本発明に係る光散乱層にはマット粒子が分散しており、光散乱層のマット粒子以外の部分の素材の屈折率は１．５０〜２．００の範囲にあることが好ましく、低屈折率層の屈折率は１．３５〜１．４９の範囲にあることが好ましい。本発明においては光散乱層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えており、１層でもよいし、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。

反射防止層は、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．４０μｍ、１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均山谷距離Ｓｍが１〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均山谷距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０〜５度の面が１０％以上となるように設計することで、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成され、好ましい。

また、Ｃ光源下での反射光の色味がａ^＊値−２〜２、ｂ^＊値−３〜３、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内での反射率の最小値と最大値の比０．５〜０．９９とすることによって、反射光の色味がニュートラルとなり、好ましい。またＣ光源下での透過光のｂ＊値が０〜３とすることによって、画像表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減されて好ましい。

また、面光源上と本発明の反射防止フィルムの間に１２０μｍ×４０μｍの格子を挿入してフィルム上で輝度分布を測定した際の輝度分布の標準偏差が２０以下であると、高精細パネルに本発明のフィルムを適用したときのギラツキが低減されて好ましい。

本発明に係る反射防止層は、その光学特性として、鏡面反射率２．５％以下、透過率９０％以上、６０度光沢度７０％以下とすると、外光の反射を抑制でき、視認性が向上する
ため好ましい。特に鏡面反射率は１％以下であることがより好ましく、０．５％以下であることが最も好ましい。ヘイズ２０％〜５０％、内部ヘイズ／全ヘイズ値（比）が０．３〜１、光散乱層まで設けたときのヘイズ値から低屈折率層をも形成させた後のヘイズ値の低下が１５％以内、くし幅０．５ｍｍにおける透過像鮮明度２０％〜５０％、反射防止層面に対し垂直の透過光と垂直から２度傾斜方向の透過光の透過率比が１．５〜５．０とすることで、高精細ＬＣＤパネル上でのギラツキ防止、文字等のボケの低減が達成されて好ましい。

＜低屈折率層＞
本発明に係る低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４９が好ましく、より好ましくは１．３０〜１．４４の範囲にある。さらに、低屈折率層は下記数式（ＸＩ）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。

数式（ＸＩ）：（ｍ／４）×０．７＜ｎ^１ｄ^１＜（ｍ／４）×１．３
式中、ｍは正の奇数であり、ｎ^１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ^１は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。

本発明に係る低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
本発明に係る低屈折率層には、低屈折率バインダーとして、含フッ素ポリマーを含むことが好ましい。フッ素ポリマーとしては動摩擦係数０．０３〜０．２０、水に対する接触角９０〜１２０°、純水の滑落角が７０°以下の熱または電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。本発明に係る反射防止フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなり好ましく、５Ｎ以下が好ましく、３Ｎ以下がより好ましく、１Ｎ以下が最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難く、０．３ＧＰａ以上が好ましく、０．５ＧＰａ以上がより好ましい。

低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン）の加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。

含フッ素モノマーの具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。

架橋反応性付与のための構成単位としてはグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロライドを作
用させる等の手法で導入できる）等が挙げられる。

また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。

上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号および特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。

＜光散乱層＞
光散乱層は一般に、表面散乱および／または内部散乱による光拡散性と、フィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。従って、通常ハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒子、および必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含んで形成される。

光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する観点並びにカールの発生及び脆性の悪化の抑制の観点から、１〜１０μｍが好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。

散乱層のバインダーとしては、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むものを選択することもできる。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、上記のエチレンオキサイド変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン
（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。

高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。

従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。これらの光ラジカル開始剤等は公知のものを使用することができる。

ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。

従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりに、またはそれに加えて架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。

架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。

これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。

光散乱層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きく、平均粒径が通常１〜１０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子が含有される。

上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ_２粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリルスチレン粒子、シリカ粒子が好ましい。マット粒子の形状は、球状あるいは不定形のいずれも使用できる。
また、粒子径の異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与
することが可能である。

さらに、上記マット粒子の粒子径分布としては単分散であることが最も好ましく、各粒子の粒子径は、それぞれ同一に近ければ近いほど良い。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布のマット剤を得ることができる。
上記マット粒子は、形成された光散乱層のマット粒子量が好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ^２、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ^２となるように光散乱層に含有される。

マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。

光散乱層には、層の屈折率を高めるために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、平均粒径が好ましくは通常０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。

また逆に、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた光散乱層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒径は前述の無機フィラーと同じである。

光散乱層に用いられる無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＩＴＯとＳｉＯ_２等が挙げられる。ＴｉＯ_２およびＺｒＯ_２が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理またはチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。

これらの無機フィラーの添加量は、光散乱層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。

なお、このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。

光散乱層のバインダーおよび無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、１．４８〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５０〜１．８０である。屈折率を上記範囲とするには、バインダー及び無機フィラーの種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。

光散乱層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を防眩層形成用の塗布組成物中に含有することが好ましい。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。

次に透明保護フィルム上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層について述べる。

基体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成から成る反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計されることが好ましい。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
また、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、中屈折率ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層からなってもよい（例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等参照）。また、各層に他の機能を付与させてもよく、そのような例としては防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。

反射防止膜のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。また膜の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

＜高屈折率層および中屈折率層＞
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子及びマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜から成ることが好ましい。

高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。

このような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（：特開２００１−１６６１０４２００１−３１０４３２号公報等）、特定の分散剤併用（例、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６２１０８５８号明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等が挙げられる。

マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。更に、ラジカル重合性及び／またはカチオン重合性の重合性基を少なくとも２個有する多官能性化合物含有組成物と、加水分解性基を有する有機金属化合物及びその部分縮合体を含有する組成物とから選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の組成物が挙げられる。

また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。
高屈折率層の屈折率は、−般に１．７０〜２．２０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。

中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。また、厚さは５ｎｍ〜１０ｍμであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。

＜低屈折率層＞
前記構成においては、低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は好ましくは１．２０〜１．５５である。より好ましくは１．３０〜１．５０である。

耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。

含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。

例えば、特開平９−２２２５０３号公報明細書段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報明細書段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。

シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン（例、サイラプレーン（チッソ（株）製等）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。

架橋または重合性基を有する含フッ素及び／またはシロキサンのポリマーの架橋または重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。

また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル変換による硬化膜も好ましい。

例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。

低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０号公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。

低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッ
タリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。

低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
さらに、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。

＜ハードコート層＞
ハードコート層は一般に、反射防止層を設けた透明保護フィルムに物理強度を付与するために、透明支持体の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。ハードコート層は、光及び／または熱の硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。

これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等記載のものが挙げられる。

高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。

ハードコート層は、例えば平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層を兼ねることもできる。

ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。

ハードコート層の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

＜帯電防止層＞
帯電防止層を設ける場合には体積抵抗率が１０^−８（Ωｃｍ^−３）以下の導電性を付与することが好ましい。吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、カチオンポリマー、アニオンポリマー、コロイダルシリカ等の使用により１０^−８（Ωｃｍ^−３）の体積抵抗率の付与は可能であるが、温湿度依存性が大きく、低湿では十分な導電性を確保できない問題がある。そのため、導電性層素材としては金属酸化物が好ましい。金属酸化物のうち着色していないものを導電性層素材として用いるとフィルム全体の着色が抑えられ、好ましい。着色のない金属酸化物を形成する金属としてＺｎ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｗ、またはＶをあげることができ、これを主成分とした金属酸化物を用いることが好ましい。具体的な例としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＳｎＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ_３、Ｖ_２Ｏ_５等、あるいはこれらの複合酸化物がよく、特にＺｎＯ、ＴｉＯ_２、及びＳｎＯ_２が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加物、ＳｎＯ_２に対してはＳｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加、またＴｉＯ_２に対してはＮｂ、ＴＡ等の添加が効果的である。
更にまた、特公昭５９−６２３５号公報に記載の如く、他の結晶性金属粒子あるいは繊維状物（例えば酸化チタン）に上記の金属酸化物を付着させた素材を使用しても良い。尚、体積抵抗値と表面抵抗値は別の物性値であり単純に比較することはできないが、体積抵抗値で１０^−８（Ωｃｍ^−３）以下の導電性を確保するためには、該導電層が概ね１０^−１０（Ω／□）以下の表面抵抗値を有していればよく更に好ましくは１０^−８（Ω／□）である。導電層の表面抵抗値は帯電防止層を最表層としたときの値として測定されることが必要であり、本特許に記載の積層フィルムを形成する途中の段階で測定することができる。

＜液晶表示装置＞
本発明のセルロースアシレートフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明のセルロースアシレートフィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。

（ＴＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムを、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体または偏光板の保護フィルムとして用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くから良く知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）に記載がある。

（ＳＴＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムを、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体または偏光板の保護フィルムとして用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。

（ＶＡ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として特に有利に用いられる。また偏光板の保護フィルムとして用いても良い。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シートのＲｅレターデーション値を０乃至１５０ｎｍとし、Ｒｔｈレターデーション値を７０乃至４００ｎｍとすることが好ましい。Ｒｅレターデーション値は、２０乃至７０ｎｍであることが更に好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に二枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈレターデーション値は７０乃至２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈレ
ターデーション値は１５０乃至４００ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。

（ＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＩＰＳモードおよびＥＣＢモードの液晶セルを有するＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体、または偏光板の保護フィルムとしても特に有利に用いられる。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。これらの態様において本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は色味の改善、視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。この態様においては、液晶セルの上下の前記偏光板の保護フィルムのうち、液晶セルと偏光板との間に配置された保護フィルム（セル側の保護フィルム）に本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板を少なくとも片側一方に用いることが好ましい。更に好ましくは、偏光板の保護フィルムと液晶セルの間に光学異方性層を配置し、配置された光学異方性層のリターデーションの値を、液晶層のΔｎ・ｄの値の２倍以下に設定するのが好ましい。

（ＯＣＢ型液晶表示装置およびＨＡＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体または偏光板の保護フィルムとしても有利に用いられる。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質および光学的異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３８（１９９９）ｐ．２８３７）に記載がある。

（反射型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）型等の反射型液晶表示装置の光学補償シートの支持体または偏光板の保護フィルムとしても用いられる。これらの表示モードは古くから良く知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、ＷＯ９８４８３２０号、特許第３０２２４７７号の各公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、ＷＯ００−６５３８４号に記載がある。

（その他の液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体または偏光板の保護フィルムとしても用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Ｋｕｍｅ ｅｔ ａｌ．，ＳＩＤ ９８ Ｄｉｇｅｓｔ １０８９（１９９８））に記載がある。

以下、本発明を実施例に基づき具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されない。
［実施例１：セルロースアシレートフィルム（Ｆ１〜Ｆ１４）の製膜］
＜セルロースアシレートフィルムの作製＞
［セルロースアシレート綿原料の調整］
表１に記載のアシル置換度の異なるセルロースアシレートを調製した。これは、触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、カルボン酸を添加し４０℃でアシル化反応を行った。その後、硫酸触媒量、水分量及び熟成時間を調整することで全置換度調整した。熟成温度は４０℃で行った。さらにこのセルロースアシレートの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した。また、以下の説明において、これらを総称して綿原料と呼ぶ。

［セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−１）の調整］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート原液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液（ＣＡＬ−１）
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表１記載のセルロースアシレート １００．０質量部
メチレンクロライド ４０２．０質量部
メタノール ６０．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

［マット剤分散液（ＭＬ−１）の調製］
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子｛“ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２”、日本アエロジル（株）製｝を２０質量部及びメタノール８０質量部を、３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤分散液（ＭＬ−１）を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤分散液（ＭＬ−１）
――――――――――――――――――――――――――――――――――
シリカ粒子（平均粒径１６ｎｍ）の分散液 １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒） ３．４質量部
セルロースアシレート原液 １０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

［添加剤溶液（ＡＤ−１）の調製］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液（ＡＤ−１）を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
添加剤溶液（ＡＤ−１）組成
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Ｒｔｈ低下剤剤（明細書記載の化合物１１９） ４９．３質量部
波長分散調整剤（明細書記載の化合物ＵＶ−１０２） ７．６質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒） ８．７質量部
セルロースアシレート原液 １２．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
前記のセルロースアシレート原液を１００質量部、マット剤溶液（ＭＬ−１）を１．３５質量部、さらに添加剤溶液（ＡＤ−１）を、表１に示す割合になるように混合し、フィルムＦ１〜Ｆ８の製膜用ドープを調整した。

［セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−２）の調整］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−２）を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液（ＣＡＬ−２）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
表１記載のセルロースアシレート １００．０質量部
トリフェニルフォスフェート ７．９質量部
ビフェニルジフェニルフォスフェート ３．９質量部
メチレンクロライド ４０２．０質量部
メタノール ６０．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
前記のセルロースアシレート原液を１００質量部、マット剤溶液（ＭＬ−１）を１．３５質量部混合し、フィルムＦ９〜Ｆ１２製膜用ドープを調整した。

［セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−３）の調整］
表１記載のセルロースアシレートを用い、セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−１）と同様の方法にてセルロースアシレート原液（ＣＡＬ−３）を調整した。セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−３）を１００質量部、前記と同様に調製したマット剤溶液（ＭＬ−１）を１．３５質量部、さらに前記と同様に調製した添加剤溶液（ＡＤ−１）を、表１に示す割合になるように混合し、フィルムＦ１３、Ｆ１４の製膜用ドープを調整した。

＜流延＞
［吐出・直前添加・流延・ビード減圧］
図１に示すフィルム製造ライン２０を用いてフィルム８２を製造した。ストックタンク２１内のドープ２２を高精度のギアポンプ６２で濾過装置３０へ送った。このギアポンプ６２は、ポンプ６２の１次側を増圧する機能を有しており、１次側の圧力が０．８ＭＰａになるようにインバーターモータによりギアポンプ６２の上流側に対するフィードバック制御を行い送液した。ギアポンプ６２は容積効率９９．２％、吐出量の変動率０．５％以下の性能であるものを用いた。また、吐出圧力は１．５ＭＰａであった。そして、濾過装置３０を通ったドープ２２を流延ダイ３１に送液した。

流延ダイ３１は、幅が１．８ｍであり乾燥されたフィルム８２の膜厚が８０μｍとなるように、流延ダイ３１の吐出口でドープ２２の流量を調整して流延を行った。この際のドープ２２の粘度は２０Ｐａ・ｓであった。また流延ダイ３１の吐出口からのドープ２２の流延幅を１７００ｍｍとした。なお、流延速度は、２０ｍ／ｍｉｎとした。ドープ２２の温度を３６℃に調整するために、流延ダイ３１にジャケット（図示しない）を設けてジャケット内に供給する伝熱媒体の入口温度を３６℃とした。
流延ダイ３１と配管とはすべて、製膜中には３６℃に保温した。流延ダイ３１は、コートハンガータイプのダイを用いた。流延ダイ３１には、厚み調整ボルトが２０ｍｍピッチに設けられており、ヒートボルトによる自動厚み調整機構を具備しているものを使用した。このヒートボルトは、予め設定したプログラムによりギアポンプ６２の送液量に応じたプロファイルを設定することもでき、フィルム製造ライン２０に設置した赤外線厚み計（図示しない）のプロファイルに基づいた調整プログラムによってフィードバック制御も可能な性能を有するものを用いた。端部２０ｍｍを除いたフィルムにおいては、５０ｍｍ離れた任意の２点の厚み差は１μｍ以内であり、幅方向における厚みのばらつきが３μｍ／ｍ以下となるように調整した。また、全体厚みは±１．５％以下に調整した。

また、流延ダイ３１の１次側には、この部分を減圧するための減圧チャンバ６８を設置
した。この減圧チャンバ６８の減圧度は、流延ビードの前後で１Ｐａ〜５０００Ｐａの圧力差が生じるように調整され、この調整は流延速度に応じてなされる。その際に、流延ビードの長さが２０ｍｍ〜５０ｍｍとなるように流延ビードの両面側の圧力差を設定した。また、減圧チャンバ６８は、流延部周囲のガスの凝縮温度よりも高い温度に設定できる機構を具備したものを用いた。ダイ吐出口におけるビードの前面部にラビリンスシール５０（図２参照）を設けた。また、流延ダイのダイ吐出口の両端には開口部を設けた。さらに、流延ダイ３１には、流延ビードの両縁の乱れを調整するためのエッジ吸引装置（図示しない）を取り付けた。

［流延ダイ］
流延ダイ３１の材質は、熱膨張率が２×１０^−５（℃^−１）以下の析出硬化型のステンレス鋼を用いた。これは、電解質水溶液での強制腐食試験でＳＵＳ３１６製と略同等の耐腐食性を有するものであった。また、ジクロロメタン，メタノール，水の混合液に３ヶ月浸漬しても気液界面にピッティング（孔開き）が生じない耐腐食性を有していた。流延ダイ３１の接液面の仕上げ精度は表面粗さで１μｍ以下、真直度はいずれの方向にも１μｍ／ｍ以下であり、スリットのクリアランスは１．５ｍｍに調整した。流延ダイ３１のリップ先端の接液部の角部分については、Ｒはスリット全巾に亘り５０μｍ以下になるように加工されているものを用いた。流延ダイ３１内部でのドープ２２の剪断速度は１（１／ｓｅｃ）〜５０００（１／ｓｅｃ）の範囲であった。また、流延ダイ３１のリップ先端には、溶射法によりＷＣ（タングステンカーバイト）コーティングをおこない硬化膜を設けた。
さらに流延ダイ３１の吐出口には、流出するドープ２２が局所的に乾燥固化することを防止するために、ドープ２２を可溶化するための混合溶媒Aを流延ビードの両側端部と吐出口との界面部に対し、それぞれ０．５ｍｌ／ｍｉｎずつ供給した。混合溶媒を供給するポンプの脈動率は５％以下であった。また、減圧チャンバ６８により流延ビード背面側の圧力を前面部よりも１５０Ｐａ低くした。減圧チャンバ６８の内部温度を所定の温度で一定にするためにジャケット（図示しない）を取り付けた。そのジャケット内には３５℃に調整された伝熱媒体を供給した。前記エッジ吸引装置は、１Ｌ／ｍｉｎ〜１００Ｌ／ｍｉｎの範囲となるようにエッジ吸引風量を調整することができるものであり、本実施例ではこれを３０Ｌ／ｍｉｎ〜４０Ｌ／ｍｉｎの範囲となるように適宜調整した。

［金属支持体］
支持体として幅２．１ｍで長さが７０ｍのステンレス製のエンドレスバンドを流延バンド３４として利用した。流延バンド３４は、厚みが１．５ｍｍ、表面粗さが０．０５μｍ以下になるように研磨した。その材質はＳＵＳ３１６製であり、十分な耐腐食性と強度を有するものを用いた。流延バンド３４の全体の厚みムラは０．５％以下であった。流延バンド３４は、２個の回転ローラ３２，３３により駆動させた。その際の流延バンド３４の搬送方向における張力は１．５×１０⁵ Ｎ／ｍ^２なるように調整した。また、流延バンド３４と回転ローラ３２，３３との相対速度差が０．０１ｍ／ｍｉｎ以下になるように調整した。このときに、流延バンド３４の速度変動を０．５％以下とした。また１回転の幅方向の蛇行が、１．５ｍｍ以下に制限されるように流延バンド３４の両端位置を検出して制御した。流延ダイ３１の直下におけるダイリップ先端と流延バンド３４との上下方向の位置変動は２００μｍ以下にした。流延バンド３４は、風圧変動抑制手段（図示しない）を有した流延室６４内に設置した。この流延バンド３４上に流延ダイ３１からドープ２２を流延した。
回転ローラ３２，３３は、流延バンド３４の温度調整を行うことができるように、内部に伝熱媒体を送液できるものを用いた。流延ダイ３４側の回転ローラ３３には５℃の伝熱媒体を流し、他方の回転ローラ３２には乾燥のために４０℃の伝熱媒体を流した。流延直前の流延バンド３４中央部の表面温度は１５℃であり、その両側端の温度差は６℃以下であった。なお、流延バンド３４には、表面欠陥がないものが好ましく、３０μｍ以上のピ
ンホールは皆無であり、１０μｍ〜３０μｍのピンホールは１個／ｍ²以下、１０μｍ未満のピンホールは２個／ｍ²以下であるものを用いた。

［流延乾燥］
流延室６４の温度は、温調設備６５を用いて３５℃に保った。流延バンド３４上にドープ２２を流延して流延膜６９を形成した。また、急速乾燥送風口７３を取り付け、乾燥風５７を流延膜６９表面に当てて初期膜６９ａを形成した。この時、成行風領域Ａの通過時間、乾燥風５７の風速、温度は表１に記載の条件となるよう調節した。また、成行風の風速は０．２ｍ／ｓ、乾燥風５７のガス濃度は１６％とした。急速乾燥風口７３での流延膜６９の乾燥速度は、乾量基準で７質量％／ｓであった。
流延バンド３４上部の上流側の送風口７０からは１３５℃の乾燥風を送風した。また下流側の送風口７１からは１４０℃の乾燥風を送風し、流延バンド３４下部の送風口７２からは６５℃の乾燥風を送風した。それぞれの乾燥風の飽和温度は、いずれも−８℃付近であった。流延バンド３４上での乾燥雰囲気における酸素濃度は５ｖｏｌ％に保持した。なお、この酸素濃度を５ｖｏｌ％に保持するために空気を窒素ガスで置換した。また、流延室６４内の溶媒を凝縮回収するために、凝縮器（コンデンサ）６６を設け、その出口温度を−１０℃に設定した。

ラビリンスシール５０により流延ダイ３１近傍の静圧変動を±１Ｐａ以下に抑制した。流延膜６９中の溶媒比率が乾量基準で５０質量％になった時点で流延バンド３４から剥取ローラ７５で支持しながら湿潤フィルム７４として剥ぎ取った。なお、この乾量基準による溶媒含有率は、サンプリング時におけるフィルム質量をｘ、そのサンプリングフィルムを乾燥した後の質量をｙとするとき｛（ｘ−ｙ）／ｙ｝×１００で算出される値である。また剥取テンションは１×１０²Ｎ／ｍ²あり、剥取不良を抑制するために流延バンド３４の速度に対して剥取速度（剥取ローラドロー）は１００．１％〜１１０％の範囲で適切に調整した。剥ぎ取った湿潤フィルム７４の表面温度は１５℃であった。乾燥により発生した溶媒ガスは−１０℃の凝縮器６６で凝縮液化して回収装置６７で回収した。回収された溶媒は、水分量が０．５％以下となるように調整した。また、溶媒が除去された乾燥風は、再度加熱して乾燥風として再利用した。湿潤フィルム７４を渡り部８０のローラを介して搬送し、テンタ式乾燥機３５に送った。この渡り部８０では送風機８１から４０℃の乾燥風を湿潤フィルム７４に送風した。なお、渡り部８０のローラで搬送している際に、湿潤フィルム７４に約３０Ｎのテンションを付与した。

［テンタ搬送・乾燥・耳切］
テンタ式乾燥機３５に送られた湿潤フィルム７４は、クリップでその両端を固定されながらテンタ式乾燥機３５の乾燥ゾーン内を搬送され、この間に乾燥風により乾燥された。クリップは、２０℃の伝熱媒体の供給により冷却した。クリップの搬送は、チェーンで行い、そのスプロケットの速度変動は０．５％以下であった。また、テンタ式乾燥機３５内を３ゾーンに分け、それぞれのゾーンの乾燥風温度を上流側から９０℃，１１０℃，１２０℃とした。乾燥風のガス組成は−１０℃における飽和ガス濃度とした。テンタ式乾燥機３５内での平均乾燥速度は乾量基準で１２０質量％／ｍｉｎであった。テンタ式乾燥機３５の出口ではフィルム８２内の残留溶媒量が７質量％となるように、乾燥ゾーンの条件を調整した。
また、テンタ式乾燥機３５の入口から出口までの長さに対する、クリップ挟持開始位置から挟持解除位置までの長さの割合は９０％とした。テンタ式乾燥機３５内で蒸発した溶媒は−１０℃の温度で凝縮させ液化して回収した。凝縮回収用に凝縮器（コンデンサ）を設け、その出口温度は−８℃に設定した。そして凝縮溶媒は、含まれる水分量が０．５質量％以下に調整されて再使用された。そして、テンタ式乾燥機３５からフィルム８２として送り出した。
テンタ式乾燥機３５の出口から３０秒以内にフィルム８２の両端の耳切を耳切装置４０
で行った。ＮＴ型カッターにより両側５０ｍｍの耳をカットし、カットした耳はカッターブロワ（図示しない）によりクラッシャ９０に風送して平均８０ｍｍ² 程度のチップに粉砕した。このチップは、再度ドープ調製用原料としてセルロースアシレートフレークと共にドープ製造の際の原料として利用した。テンタ式乾燥機３５の乾燥雰囲気における酸素濃度は５ｖｏｌ％に保持した。なお、酸素濃度を５ｖｏｌ％に保持するため空気を窒素ガスで置換した。後述する乾燥室４１で高温乾燥させる前に、１００℃の乾燥風が供給されている予備乾燥室（図示しない）でフィルム８２を予備加熱した。

［後乾燥・除電］
フィルム８２を乾燥室４１で高温乾燥した。乾燥室４１を４区画に分割して、上流側から１２０℃，１３０℃，１３０℃，１３０℃の乾燥風を送風機（図示しない）から給気した。フィルム８２のローラ９１による搬送テンションを１００Ｎ／ｍとして、最終的に残留溶媒量が０．３質量％になるまで約１０分間乾燥した。ローラ９１のラップ角度（フィルムの巻き掛け中心角）は、９０度および１８０度とした。ローラ９１の材質はアルミ製もしくは炭素鋼製であり、表面にはハードクロム鍍金を施した。ローラ９１の表面形状はフラットなものとブラストによりマット化加工したものとを用いた。ローラ９１の回転によるフィルム位置の振れは、全て５０μｍ以下であった。また、テンション１００Ｎ／ｍでのローラ撓みは０．５ｍｍ以下となるように選定した。
乾燥風に含まれる溶媒ガスは、吸着回収装置９２を用いて吸着回収除去した。ここに使用した吸着剤は活性炭であり、脱着は乾燥窒素を用いて行った。回収した溶媒は、水分量を０．３質量％以下に調整してドープ調製用溶媒として再利用した。乾燥風には、溶媒ガスの他、可塑剤，ＵＶ吸収剤，その他の高沸点物が含まれるので冷却除去する冷却器およびプレアドソーバでこれらを除去して再生循環使用した。そして、最終的に屋外排出ガス中のＶＯＣ（揮発性有機化合物）は１０ｐｐｍ以下となるよう、吸脱着条件を設定した。また、全蒸発溶媒のうち、凝縮法で回収する溶媒量は９０質量％であり、残りのものの大部分は吸着回収により回収した。
乾燥されたフィルム８２を第１調湿室（図示しない）に搬送した。乾燥室４１と第１調湿室との間の渡り部には、１１０℃の乾燥風を給気した。第１調湿室には、温度５０℃、露点が２０℃の空気を給気した。さらに、フィルム８２のカールの発生を抑制する第２調湿室（図示しない）にフィルム８２を搬送した。第２調湿室では、フィルム８２に直接９０℃，湿度７０％の空気をあてた。

［ナーリング、巻取条件］
調湿後のフィルム８２は、冷却室４２で３０℃以下に冷却した後に耳切装置（図示しない）で再度両端の耳切りを行った。搬送中のフィルム８２の帯電圧は、常時−３ｋＶ〜＋３ｋＶの範囲となるように強制除電装置（除電バー）９３を設置した。さらにフィルム８２の両端にナーリング付与ローラ９４でナーリングの付与を行った。ナーリングはフィルム８２の片側からエンボス加工を行うことで付与し、ナーリングを付与する幅は１０ｍｍであり、凹凸の高さがフィルム８２の平均厚みよりも平均１２μｍ高くなるようにナーリング付与ローラ９４による押し圧を設定した。
そして、フィルム８２を巻取室４３に搬送した。巻取室４３は、室内温度２８℃，湿度７０％に保持した。巻取室４３の内部には、フィルム８２の帯電圧が−１．５ｋＶ〜＋１．５ｋＶとなるようにイオン風除電装置（図示しない）も設置した。このようにして得られたフィルム（厚さ８０μｍ）８２の製品幅は、１４７５ｍｍとなった。巻取ローラ９５の径は１６９ｍｍのものを用いた。巻き始めテンションは３００Ｎ／ｍであり、巻き終わりが２００Ｎ／ｍになるようなテンションパターンとした。巻き取り全長は３９４０ｍであった。巻き取りの際の巻きズレの変動幅（オシレート幅と称することもある）を±５ｍｍとした、巻取ローラ９５に対する巻きズレ周期を４００ｍとした。また、巻取ローラ９５に対するプレスローラ９６の押し圧は、５０Ｎ／ｍに設定した。巻き取り時のフィルム８２の温度は２５℃、含水量は１．４質量％、残留溶媒量は０．３質量％であった。全工
程を通しても平均乾燥速度は乾量基準で２０質量％／ｍｉｎであった。また巻き緩み、シワもなく、１０Ｇでの衝撃テストにおいても巻きずれが生じなかった。また、ロール外観も良好であった。

フィルム８２のフィルムロールを２５℃、５５％ＲＨの貯蔵ラックに１ヶ月保管して、さらに上記と同様に検査した結果、いずれも有意な変化は認められなかった。さらにロール内においても接着も認められなかった。また、フィルム８２を製膜した後に、流延バンド３４上にはドープから形成された流延膜６９の剥げ残りは全く見られなかった。

作製したセルロースアシレートフィルムについて幅方向に７箇所の測定用サンプルをフィルム端面に平行に切り出し、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて波長５９０ｎｍにおけるレターデーションを測定した。同様にフィルム面に対する法線から４０°および−４０°傾いた方向からのレターデーションを測定し、Ｒｔｈを算出した。７箇所についての平均値を本フィルムのＲｅ₍₅₉₀₎、Ｒｔｈ₍₅₉₀₎とした。この実験で得られた結果を表１に示す。

［実施例２：光学異方性層を有する光学補償フィルムの作製］
［実施例２−１：光学異方性層を有する光学補償フィルム（Ｆ１５〜Ｆ２８）の作製］
（鹸化処理）
実施例１で作製したフィルム（Ｆ１〜Ｆ１４）を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、下記の組成のアルカリ溶液をバーコータを用いて、１４ｍｌ／ｍ²塗布し、１１０℃に加熱したスチーム式遠赤外線ヒータ（（株）ノリタケカンパニー製）の下に１０秒間滞留させた後、同じくバーコータを用いて純
水を３ｍｌ／ｍ²塗布した。このときのフィルム温度は４０℃であった。次いでファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返して後に、７０℃の乾燥ゾーンに２秒滞留させて乾燥した。
＜アルカリ溶液組成＞
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．７質量部
イソプロパノール ６４．８質量部
プロピレングリコール １４．９質量部
Ｃ₁₆Ｈ₃₃Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₀Ｈ（界面活性剤） １．０質量部

（配向膜の形成）
作製したセルロースアシレートフィルム上に、下記の組成の塗布液を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍｌ／ｍ²塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で １５０秒乾燥した。次に、セルロースアシレートフィルムの長手方向（搬送方向）を０°とし、時計方向の１８０°方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。

＜配向膜塗布液組成＞
下記の変性ポリビニルアルコール ４０質量部
水 ７２８質量部
メタノール ２２８質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） ２質量部
クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学（株）） ０．６９質量部

（光学異方性層の形成）
配向膜上に、下記のディスコティック液晶化合物９１．０Ｋｇ、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）９．０Ｋｇ、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１-０．２、イーストマンケミカル 社製）２．０Ｋｇ、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１-１、イーストマン ケミカル社製）０．５Ｋｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）３．０Ｋｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．０Ｋｇを、２０７Ｋｇのメチルエチルケトンに溶解した塗布液に、フルオロ脂肪族基含有共重合体（メガファックＦ７８０ 大日本インキ（株）製）を０．４Ｋｇを加え、＃３．２のワイヤーバーを３９１回転でフィルムの搬送方向と同じ方向に回転させて、２０ｍ／分で搬送されているフィルムの配向膜面に連続的に塗布した。室温から１００℃に連続的に加温する工程で、溶媒を乾燥させ、その後、１３５℃の乾燥ゾーンで、ディスコティック液晶化合物層にあたる膜面風速がフィルム搬送方向に平行に１．５ｍ／ｓｅｃとなるようにし、約９０秒間加熱し、ディスコティック液晶化合物を配向させた。次に、８０℃の乾燥ゾーンに搬送させて、フィルムの表面温度が約１００℃の状態で、紫外線照射装置（紫外線ランプ：出力１６０Ｗ／ｃｍ、発光長１．６ｍ）により、照度６００ｍＷの紫外線を４秒間照射
し、架橋反応を進行させ、ディスコティック液晶化合物をその配向に固定した。その後、室温まで放冷し、円筒状に巻き取ってロール状の形態にした。このようにして、実施例１で作製したフィルムＦ１〜Ｆ１４から、ロール状光学補償フィルムＦ１５〜Ｆ２８をそれぞれ作製した。

明細書中記載の方法により測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は４５ｎｍであった。また、光学異方性層の分子対称軸の平均方向は、光学補償フィルムの長手方向に対して、−０．３°であった。

［実施例２−２：光学異方性層を有する光学補償フィルム（Ｆ２９〜Ｆ４２）の作製］
２、２'−ビス（３,４−ジスカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、２,２'−ビス（トリフルオロメチル）−４,４'−ジアミノビフェニルから合成されたポリイミドをシクロヘキサノン中に溶解させ、１５質量％の溶液を調整した。このポリイミド溶液を実施例１で作製したフィルム（Ｆ１〜Ｆ１４）上に乾燥後の膜厚で６μｍ分塗布し、１５０℃で５分間乾燥させた後、１５０℃の雰囲気下でテンタ延伸機で幅方向に１５％延伸し、フィルム（Ｆ２９〜Ｆ４２）を得た。

［実施例３：反射防止機能付き保護フィルム（Ｆ４３〜Ｆ５６）の作製］
（光散乱層用塗布液の調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（PETA、日本化薬（株）製）５０ｇをトルエン３８．５ｇで希釈した。更に、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を２ｇ添加し、混合攪拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。

さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６０、ＳＸ−３５０、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を１．７ｇおよび平均粒径３．５μｍの架橋アクリル−スチレン粒子（屈折率１．５５、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を１３．３ｇ加え、最後に、フッ素系表面改質剤（ＦＰ−１）０．７５ｇ、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）を１０ｇを加え、完成液とした。

上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して光散乱層の塗布液を調製した。
フッ素系表面改質剤（ＦＰ−１）

（低屈折率層用塗布液の調製）
まず初めに、次のようにしてゾル液aを調製した。攪拌機、還流冷却器を備えた反応器 、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ５１０３、信越化学工業（株）製）１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。

屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２８、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３ｇ、シリカゾル（シリカ、ＭＥＫ−ＳＴの粒子サイズ違い、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）１．３ｇ、上記のように調製したゾル液a ０．６ｇおよびメチルエチルケトン５ｇ、シクロヘキサノン０．６ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。

（反射防止層付き透明保護フィルムの作製）
実施例１で作製したフィルム（Ｆ１〜Ｆ１４）をロール形態で巻き出して、上記の機能層（光散乱層）用塗布液を線数１８０本/インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度３０ｍ/分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ² 、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの機能層を形成し、巻き取った。

該機能層（光散乱層）を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出してその光散乱層側に、該調製した低屈折率層用塗布液を線数１８０本/インチ、深度４０μｍ のグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１５ｍ/分の条件で塗布し、１２ ０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ² 、照射量９００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、巻き取り、反射防止機能付き保護フィルム（Ｆ４３〜Ｆ５６）を作製した。

以上の反射防止フィルム（Ｆ４３〜Ｆ５６）に対して、塗布面状の評価を行った。評価としては、作成したフィルムを、３波長の蛍光灯光源の透過で観察する方法と、裏面に黒いシートもしくはクロスニコルで黒くした偏光板を貼り付け、３波蛍光灯もしくは人工太陽灯光源の反射検査にて評価を行った。
１：ムラがはっきり見える、３：ムラがかすかに見える、５：ムラがまったく見えない、２、４：中間レベル
得られた結果を表４に示す。

［実施例４：偏光板の作製］
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。

実施例１〜３で作製したフィルム（Ｆ１、Ｆ８〜Ｆ１０、Ｆ１３〜Ｆ４２）を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光子の片側に貼り付けた。なお、ケン化処理は以下のような条件で行った。

１．５Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１Ｎの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製したセルロースアシレートフィルムを上記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。

市販のセルローストリエステルフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フィルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光子の反対側に貼り付け、７０℃で１０分以上乾燥し、偏光板（Ｐ１〜Ｐ３４）を作製した。

偏光子の透過軸と実施例１〜３で作製したセルロースアシレートフィルムの遅相軸とは平行になるように配置した（図４）。偏光子の透過軸と市販のセルローストリエステルフィルムの遅相軸とは直交するように配置した。

上記で作製した偏光板のセル側の面にはアクリル系の粘着剤、さらにその粘着剤の上にセパレートフィルムを貼り付けた。セルと反対側の面にはプロテクトフィルムを貼り付けた。

［実施例５：パネルへの実装］
（実施例５−１）
ＩＰＳモードの液晶ＴＶ（３２ＬＣ１００、（株）東芝 製）の表裏の偏光板および位相差板を剥し、表と裏側に実施例４で作製した偏光板Ｐ１〜Ｐ６を貼り付けた。この際、視認側の偏光板の吸収軸をパネル水平方向に、バックライト側の偏光板の吸収軸をパネル鉛直方向となり、粘着剤面が液晶セル側となるように配置した。
ムラ評価は黒表示にて、正面、４５°、１３５°の方向で行い、評点は以下のようにした。
１：モヤ状のムラがはっきり見える、３：モヤ上のムラがかすかに見える、５：ムラがまったく見えない、２、４：中間レベル
得られた結果を表２に示す。

（実施例５−２）
ＴＮモードの液晶ＴＶ（ＬＣ−２０Ｖ１、シャープ(株)製）の表裏の偏光板および位相差板を剥し、視認側に視野角補償板のない市販の偏光板（ＨＬＣ２−５６１８、サンリッツ（株）製）を、裏側に実施例４で作製した偏光板Ｐ７〜Ｐ２０を貼り付けた。この際、視認側の偏光板の吸収軸をパネル水平方向に、バックライト側の偏光板の吸収軸をパネル鉛直方向ととなり、粘着剤面が液晶セル側となるように配置した。実施例５−１と同様にムラ評価を行った。得られた結果を表３に示す。

（実施例５−３）
ＶＡモードの液晶ＴＶ（ＬＣ−２０Ｃ５−Ｓ、シャープ（株）社製）の表裏の偏光板および位相差板を剥し、視認側に視野角補償板のない市販の偏光板（ＨＬＣ２−５６１８、サンリッツ（株）製）を、裏側に実施例４で作製した偏光板Ｐ２１〜Ｐ３４を貼り付けた。この際、視認側の偏光板の吸収軸をパネル水平方向に、バックライト側の偏光板の吸収軸をパネル鉛直方向ととなり、粘着剤面が液晶セル側となるように配置した。実施例５−１と同様にムラ評価を行った。得られた結果を表３に示す。

本発明の溶液製膜方法を実施するためのフィルム製造ラインの概略図の一例である。 図１の要部拡大図である。 本発明の溶液製膜方法を実施するための乾燥風の当て方の他の実施形態の例である。 本発明の偏光板の製造時におけるセルロースアシレートフィルムの貼り合わせ方法の一例を示す模式図である。 本発明の偏光板の断面構造の一例を模式的に示す断面図である。 本発明の液晶表示装置の断面構造の一例を模式的に示す断面図である。

符号の説明

２０ フィルム製造ライン
２１ ストックタンク
２２ ドープ
３０ 濾過装置
３１ 流延ダイ
３２ 回転ローラ
３３ 回転ローラ
３４ 流延バンド
３５ テンタ式乾燥機
４０ 耳切装置
４１ 乾燥室
４２ 冷却室
４３ 巻取室
４６ 流延バンド
５０ ラビリンスシール
５１ 給気装置
５２ａ，５２ｂ 流延膜６９の両縁の、流延膜６９の中央部に乾燥風を当てるノズル
５３ 流延膜６９の幅方向における中央部の、両縁に乾燥風を当てるノズル
５４ 吸引口５５に向けて乾燥風を流延膜６９に当てるノズル
５５ 吸引口
５７ 乾燥風
６０ モータ
６１ 攪拌機
６２ ポンプ
６３ 伝熱媒体循環装置
６４ 流延室
６５ 温調設備
６６ 凝縮器（コンデンサ）
６７ 回収装置
６８ 減圧チャンバ
６９ 流延膜
６９ａ 初期膜
７０，７１，７２ その他の送風口
７３ 急速乾燥送風口
７３ａ 複数のノズル
７６ 減圧装置（例えば、ルーツ式ブロワーなど）
８０ 渡り部
８１ 送風機
８２ フィルム
９０ クラッシャ
９１ 多数のローラ
９２ 吸着回収装置
９３ 強制除電装置（除電バー）
９４ ナーリング付与ローラ
９５ 巻取ローラ
９６ プレスローラ
Ａ 成行風領域

Claims (16)

1. フィルム内の任意の点を中心として、直径６０ｍｍの範囲内の膜厚の最大高低差（Ｐ−Ｖ値）が１μｍ以下であり、正面レターデーションＲｅ_（λ）がＲｅ_{（５９０）}≦５ｎｍ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈ_（λ）が｜Ｒｔｈ_{（５９０）}｜≦６０ｎｍであることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
   ［ここで、Ｒｅ_（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション（Ｒｅ）値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ_（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション（Ｒｔｈ）値（単位：ｎｍ）である。］
2. 正面レターデーションＲｅ_（λ）、膜厚方向のレターデーションＲｔｈ_（λ）がそれぞれ｜Ｒｅ₍₄₀₀₎−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜≦１０、｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜≦３５を満たすことを特徴とする請求項１に記載のセルロースアシレートフィルム。
3. アシル置換度が２．８５〜３．００のセルロースアシレートに、Ｒｅ₍λ₎およびＲｔｈ₍λ₎を低下させる化合物として、一般式（１）、および（２）のいずれかで表される化合物を少なくとも１種、セルロースアシレートに対して０．０１〜３０質量％含むことを特徴とする請求項１または２に記載のセルロースアシレートフィルム。
   一般式（１）：
   

   

   [一般式（１）中、Ｒ¹¹はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ¹²及びＲ¹³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。]
   一般式（２）：
   

   

   
   [一般式（２）中、Ｒ²¹はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ²²及びＲ²³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。]
4. フィルムの膜厚が４０〜１８０μｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
5. ポリマーと溶媒とを含むドープを流延ダイから無端で走行する支持体上に流延し、前記支持体上に前記ドープから流延膜を形成し、乾燥風が前記流延膜にあたる前に、前記流延膜表面上を漂う風が風速３ｍ／ｓ未満であり、前記ドープを前記支持体に流延後１５秒以内から３ｍ／s以上の乾燥風を流延膜に当てる工程、前記流延膜をフィルムとして剥離する工程を含むことを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載のフィルムの溶液製膜方法。
6. 前記乾燥風の温度が、４０℃以上１５０℃以下であることを特徴とする請求項５に記載
   の溶液製膜方法。
7. ポリマーと溶媒とを含むドープを流延ダイから無端で走行する支持体上に流延し、前記支持体上に前記ドープから流延膜を形成し、前記流延膜をフィルムとして剥ぎ取る溶液製膜方法において、前記流延膜表面に前記フィルムの形成開始膜となる初期膜を形成し、前記初期膜のレベリング効果により前記流延膜表面の面状を平滑化することを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載のフィルムの溶液製膜方法。
8. 請求項１〜４のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムの上に、光学異方性層を有することを特徴とする光学補償フィルム。
9. 前記光学異方性層がディスコティック液晶層を含有することを特徴とする請求項８に記載の光学補償フィルム。
10. 前記光学異方性層が棒状液晶層を含有することを特徴とする請求項８または９に記載の光学補償フィルム。
11. 前記光学異方性層がポリマーフィルムを含有することを特徴とする請求項８〜１０のいずれかに記載の光学補償フィルム。
12. 前記光学異方性層に含有されるポリマーフィルムが、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、およびポリアリールエーテルケトンから選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を含有することを特徴とする請求項１１に記載の光学補償フィルム。
13. 請求項１〜４のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムの上に、ハードコート層、防眩層、反射防止層のうち少なくとも一層を設けたことを特徴とする反射防止フィルム。
14. 請求項１〜４および８〜１３のいずれかに記載のフィルムのうち少なくとも１枚を偏光子の保護フィルムとして用いたことを特徴とする偏光板。
15. 偏光板の、液晶セルと反対側に配置される保護フィルムの表面に、ハードコート層、防眩層、反射防止層のうち少なくとも一層を設けたことを特徴とする請求項１４に記載の偏光板。
16. 請求項１〜４および８〜１３のいずれかに記載のフィルム、並びに請求項１４または１５に記載の偏光板のうち少なくとも１つを有する画像表示装置。

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