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JP2007066951A - LAMINATE PROCESSING METHOD, LAMINATE, DEVICE MANUFACTURING METHOD, DEVICE, INKJET RECORDING APPARATUS - Google Patents

LAMINATE PROCESSING METHOD, LAMINATE, DEVICE MANUFACTURING METHOD, DEVICE, INKJET RECORDING APPARATUS Download PDF

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JP2007066951A
JP2007066951A JP2005247277A JP2005247277A JP2007066951A JP 2007066951 A JP2007066951 A JP 2007066951A JP 2005247277 A JP2005247277 A JP 2005247277A JP 2005247277 A JP2005247277 A JP 2005247277A JP 2007066951 A JP2007066951 A JP 2007066951A
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JP
Japan
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laminate
substrate
laser beam
substrates
processing
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2005247277A
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Japanese (ja)
Inventor
Yutaka Yamazaki
豊 山崎
Kazunari Umetsu
一成 梅津
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Abstract

【課題】 基板の一部に空隙部があっても分割することが可能な積層体の加工方法、積層体、及びデバイス、インクジェット記録装置を提供する。
【解決手段】 積層体Pの加工方法は、複数の基板P1、P2、P3とからなる積層体Pの加工方法であって、積層体Pは、複数の基板P1、P2、P3のうち、空隙部11aを備えた基板P1を有しており、空隙部11aに液滴吐出法で機能液L1を配置する工程と、機能液L1を固化させて、充填部材11を形成する工程と、充填部材11を通過するようにレーザ光5を照射して、積層体Pに材料変質部7を形成するレーザ光照射工程と、を備えている。
【選択図】 図6
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate processing method, a laminate, a device, and an ink jet recording apparatus that can be divided even when a part of a substrate has a gap.
A processing method of a stacked body P is a processing method of a stacked body P composed of a plurality of substrates P1, P2, and P3, and the stacked body P is a gap among the plurality of substrates P1, P2, and P3. A substrate P1 having a portion 11a, a step of disposing the functional liquid L1 in the gap portion 11a by a droplet discharge method, a step of solidifying the functional liquid L1 to form the filling member 11, and a filling member A laser beam irradiation step of irradiating the laser beam 5 so as to pass through 11 and forming the material alteration portion 7 in the stacked body P.
[Selection] Figure 6

Description

本発明は、積層体の加工方法、積層体、デバイスの製造方法、デバイス、インクジェット記録装置に関する。   The present invention relates to a laminate processing method, a laminate, a device manufacturing method, a device, and an inkjet recording apparatus.

従来、シリコン単結晶基板を分割する場合、基板にレーザ光を照射させて、基板内部に多光子吸収による改質領域部を形成し、基板に外部から応力を加えて、基板を切断・分割する方法があった。   Conventionally, when dividing a silicon single crystal substrate, the substrate is irradiated with laser light to form a modified region portion by multiphoton absorption inside the substrate, and the substrate is cut and divided by applying external stress to the substrate. There was a way.

例えば特許文献1に開示されているように、表面に電子デバイスまたは電極パターンが形成されていて、裏面に粘着シートが貼り付けられている基板の場合、粘着シートに対して透過性を有するレーザ光を基板の裏面から入射させて、基板の切断予定ラインに沿って、基板の内部に多光子吸収による改質領域部を形成する方法が提案されていた。また、特許文献2に開示されているように、基板(加工対象物)の切断予定ラインに沿って、基板の内部に多光子吸収による改質領域部を形成し、かつ、レーザ光の集光点の位置を変えることにより、多光子吸収による改質領域部を入射方向に沿って並ぶように形成する方法も提案されていた。   For example, as disclosed in Patent Document 1, in the case of a substrate in which an electronic device or an electrode pattern is formed on the front surface and an adhesive sheet is attached to the back surface, a laser beam having transparency to the adhesive sheet Has been proposed to form a modified region portion by multiphoton absorption inside the substrate along the planned cutting line of the substrate. Further, as disclosed in Patent Document 2, a modified region portion by multiphoton absorption is formed inside the substrate along a planned cutting line of the substrate (processing object), and the laser beam is focused. There has also been proposed a method of forming modified region portions by multiphoton absorption so as to be aligned along the incident direction by changing the positions of the points.

特開2002−192367号公報JP 2002-192367 A 特開2002−205180号公報JP 2002-205180 A

ところが、これらの方法では、複数の基板を積層させた積層体の場合、積層体を構成する基板の一部に空隙部を有する基板があると、空隙部に照射されたレーザ光は、空気の影響で所定の方向とは別な方向に屈折してしまうことになるから、レーザ光は積層体の所定の領域に集光することができなくなってしまう。積層体の所定の領域にレーザ光を集光させることができないと、積層体に改質領域部を形成することが困難となる。積層体に改質領域部が形成できないと、外部応力を加えても積層体を切断・分割することができない。つまり、積層体を構成する基板の一部に空隙部を有する基板が存在すると、積層体を切断・分割することは困難であった。   However, in these methods, in the case of a laminated body in which a plurality of substrates are laminated, if there is a substrate having a void portion in a part of the substrate constituting the laminated body, the laser light irradiated to the void portion is Due to the influence, the laser beam is refracted in a direction different from the predetermined direction, so that the laser beam cannot be focused on the predetermined region of the laminate. If the laser beam cannot be focused on a predetermined region of the laminate, it is difficult to form a modified region portion in the laminate. If the modified region portion cannot be formed in the laminate, the laminate cannot be cut or divided even when external stress is applied. That is, when there is a substrate having a gap in a part of the substrate constituting the laminate, it is difficult to cut and divide the laminate.

本発明の目的は、基板の一部に空隙部があっても簡単に分割することが可能な積層体の加工方法、積層体、及びデバイス、インクジェット記録装置を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method for processing a laminate, a laminate, a device, and an ink jet recording apparatus that can be easily divided even if there is a gap in a part of a substrate.

本発明の積層体の加工方法は、複数の基板からなる積層体の加工方法であって、前記積層体は、前記複数の基板のうち、空隙部を備えた基板を有しており、前記空隙部に液滴吐出法で機能液を配置する工程と、前記機能液を固化させて、充填部材を形成する工程と、前記充填部材を通過するようにレーザ光を照射して、前記積層体に材料変質部を形成するレーザ光照射工程と、を備えていることを特徴とする。   The method for processing a laminate of the present invention is a method for processing a laminate comprising a plurality of substrates, and the laminate includes a substrate having a gap portion among the plurality of substrates, and the gap A step of disposing a functional liquid on the portion by a droplet discharge method, a step of solidifying the functional liquid to form a filling member, and irradiating the laser beam so as to pass through the filling member, And a laser beam irradiation step for forming a material altered portion.

この発明によれば、積層体を構成する基板の一部に空隙部を有する基板があっても、空隙部に充填部材を充填してから積層体を形成して、この充填部材を通過するようにレーザ光を照射させるから、積層体の深さ方向全域に材料変質部を形成することができる。積層体に材料変質部を形成できれば、外部から応力を加えることによって、材料変質部に沿って、積層体を簡単に切断・分割することができる。   According to the present invention, even if there is a substrate having a gap in a part of the substrate constituting the laminate, the laminate is formed after filling the gap with the filling member so as to pass through the filling member. Since the laser beam is irradiated to the layered material, the material altered portion can be formed in the entire depth direction of the laminate. If the material altered portion can be formed in the laminate, the laminate can be easily cut and divided along the material altered portion by applying external stress.

本発明の積層体の加工方法は、前記充填部材を形成する工程では、前記充填部材の屈折率が、前記基板の屈折率と同等以上であることが望ましい。   In the laminate processing method of the present invention, in the step of forming the filling member, it is desirable that the refractive index of the filling member is equal to or higher than the refractive index of the substrate.

この発明によれば、充填部材の屈折率が基板と同等以上であるから、レーザ光を照射させるときに、レーザ光が散乱することなく積層体の内部に集光しやすくなるので、積層体の深さ方向全域に材料変質部を簡単に形成することができる。   According to the present invention, since the refractive index of the filling member is equal to or higher than that of the substrate, the laser beam is easily collected inside the laminate without being scattered when the laser beam is irradiated. A material-affected portion can be easily formed in the entire depth direction.

本発明の積層体の加工方法は、複数の基板からなる積層体の加工方法であって、前記積層体は、前記複数の基板のうち、空隙部を備えた基板を有しており、前記空隙部に液滴吐出法で液滴を配置する工程と、前記液滴を通過するようにレーザ光を照射して、前記積層体に材料変質部を形成するレーザ光照射工程と、を備えていることを特徴とする。   The method for processing a laminate of the present invention is a method for processing a laminate comprising a plurality of substrates, and the laminate includes a substrate having a gap portion among the plurality of substrates, and the gap A step of disposing a droplet by a droplet discharge method, and a laser beam irradiation step of irradiating a laser beam so as to pass through the droplet to form a material altered portion in the laminate. It is characterized by that.

この発明によれば、積層体を構成する基板の一部に空隙部を有する基板があっても、基板の空隙部に液滴を充填してから積層体を形成して、この液滴を通過するようにレーザ光を照射させるから、積層体に材料変質部を形成することができる。積層体に材料変質部を形成できれば、外部から応力を加えることによって、材料変質部に沿って積層体を簡単に切断・分割することができる。   According to the present invention, even if there is a substrate having a gap in a part of the substrate constituting the laminate, the laminate is formed after filling the void in the substrate and then passes through the droplet. Since the laser beam is irradiated as described above, the material altered portion can be formed in the laminate. If the material altered portion can be formed in the laminate, the laminate can be easily cut and divided along the material altered portion by applying external stress.

本発明の積層体の加工方法は、前記液滴を配置する工程では、前記液滴の屈折率が1.3以上であることが望ましい。   In the laminate processing method of the present invention, it is desirable that the refractive index of the droplets is 1.3 or more in the step of arranging the droplets.

この発明によれば、液滴の屈折率が1.3以上であると、空気より屈折率が高いから、より深い位置まで加工ができるので、積層体にレーザ光を照射させれば、積層体の深さ方向全域に材料変質部を形成することができる。   According to the present invention, when the refractive index of the droplet is 1.3 or more, the refractive index is higher than that of air, so that processing can be performed to a deeper position. The material altered portion can be formed in the entire depth direction.

本発明の積層体の加工方法は、前記基板は、シリコン単結晶からなる材料で構成されており、前記レーザ光照射工程では、前記積層体にレーザ光を集光素子で集光して照射させて、前記材料変質部を形成することを特徴とする。   In the laminate processing method of the present invention, the substrate is made of a material made of silicon single crystal, and in the laser light irradiation step, the stack is irradiated with a laser beam condensed by a condensing element. The material altered portion is formed.

この発明によれば、レーザ光を集光素子で集光して積層体に照射させるから、積層体の所定の位置に材料変質部を形成することができる。   According to this invention, since the laser beam is condensed by the light condensing element and irradiated onto the laminated body, the material altered portion can be formed at a predetermined position of the laminated body.

本発明の積層体の加工方法は、前記レーザ光照射工程では、前記レーザ光は、YAGレーザであり、前記YAGレーザの基本波を照射させて、前記材料変質部を形成することが望ましい。   In the laminated body processing method of the present invention, in the laser light irradiation step, the laser light is a YAG laser, and it is desirable to form the material altered portion by irradiating a fundamental wave of the YAG laser.

この発明によれば、YAGレーザの基本波を積層体に照射させることで、積層体の所定の位置に材料変質部を形成することができる。   According to the present invention, the material altered portion can be formed at a predetermined position of the multilayer body by irradiating the multilayer body with the fundamental wave of the YAG laser.

本発明の積層体の加工方法は、前記レーザ光照射工程では、前記レーザ光を回折光学素子により複数のビームに分岐させ、前記複数のビームを照射させて、前記材料変質部を形成することが望ましい。   In the method for processing a laminate according to the present invention, in the laser beam irradiation step, the laser beam is branched into a plurality of beams by a diffractive optical element, and the plurality of beams are irradiated to form the material altered portion. desirable.

この発明によれば、レーザ光を回折光学素子により複数のビームに分岐させることで、ビームが分割されるから、分割されたビームを積層体に照射することによって、積層体に材料変質部を複数形成できる。   According to the present invention, the laser beam is split into a plurality of beams by the diffractive optical element, so that the beam is split. By irradiating the split beam with the split beam, a plurality of material altered portions are formed in the stack. Can be formed.

本発明の積層体は、複数の基板が積層されている積層体であって、前記複数の基板のうち、空隙部を有する基板と、前記空隙部に液滴吐出法により機能液を配置させ、前記機能液を固化させて形成された充填部材と、前記充填部材を通過するようにレーザ光を照射させて、前記積層体を構成する材料を変質させて形成された材料変質部と、を備えていることを特徴とする。   The laminate of the present invention is a laminate in which a plurality of substrates are laminated, and among the plurality of substrates, a functional liquid is disposed by a droplet discharge method in a substrate having a void portion, and the void portion, A filling member formed by solidifying the functional liquid; and a material alteration portion formed by altering a material constituting the laminate by irradiating a laser beam so as to pass through the filling member. It is characterized by.

この発明によれば、積層体を構成する基板の一部に空隙部を有する基板があっても、空隙部に充填部材を充填してから積層体を形成して、この充填部材を通過するようにレーザ光を照射させるから、積層体に材料変質部を形成することができる。簡単に切断・分割できる積層体を提供できる。しかも、液滴吐出法により機能液を配置する方法だから、空隙部の体積が変更になっても、機能液の量を変えるだけでよいので、簡単である。   According to the present invention, even if there is a substrate having a gap in a part of the substrate constituting the laminate, the laminate is formed after filling the gap with the filling member so as to pass through the filling member. Since the laser beam is irradiated to the layered material, the material altered portion can be formed in the laminate. A laminate that can be easily cut and divided can be provided. Moreover, since the functional liquid is disposed by the droplet discharge method, even if the volume of the gap is changed, it is simple because only the amount of the functional liquid needs to be changed.

本発明の積層体は、複数の基板が積層されている積層体であって、前記複数の基板のうち、空隙部を有する基板と、前記空隙部に液滴吐出法により配置された液滴と、前記液滴を通過するようにレーザ光を照射させて、前記積層体を構成する材料を変質させて形成された材料変質部と、を備えていることを特徴とする。   The laminate of the present invention is a laminate in which a plurality of substrates are laminated, and among the plurality of substrates, a substrate having a void portion, a droplet disposed in the void portion by a droplet discharge method, and And a material alteration part formed by irradiating a laser beam so as to pass through the droplets and altering the material constituting the laminate.

この発明によれば、積層体を構成する基板の一部に空隙部を有する基板があっても、空隙部に液体を注入してから積層体を形成して、この液体を通過するようにレーザ光を照射させるから、積層体に材料変質部を形成することができる。簡単に切断・分割できる積層体を提供できる。しかも、空隙部に配置された液滴は、積層体を分割した後に、積層体の外部に流れ出してしまうから、除去する必要がない。さらに、液滴吐出法により液滴を配置する方法だから、空隙部の体積が変更になっても、液滴の量を変えるだけでよいので、簡単である。   According to this invention, even if there is a substrate having a gap in a part of the substrate constituting the laminate, the laser is injected so that the laminate is formed after the liquid is injected into the gap and this liquid is passed through. Since the light is irradiated, the material altered portion can be formed in the laminate. A laminate that can be easily cut and divided can be provided. In addition, since the liquid droplets arranged in the gap portion flow out of the laminated body after dividing the laminated body, it is not necessary to remove them. Further, since the droplets are arranged by the droplet discharge method, even if the volume of the gap is changed, it is simple because only the amount of the droplets needs to be changed.

本発明のデバイスの製造方法は、前述に記載の積層体の加工方法でデバイスを形成することを特徴とする。   The device manufacturing method of the present invention is characterized in that a device is formed by the laminate processing method described above.

この発明によれば、前述の加工方法でデバイスを形成するので、例えばデバイスとしてのインクジェットヘッドのように、積層体を構成する基板の一部に空隙部を有する基板があっても、積層体内部にレーザ光を照射して材料変質部を形成するから、積層体を簡単に切断・分割することができる。しかも、インクジェットヘッドは、レーザ光を積層体に照射して積層体を切断・分割して得られたものであるから、切断時の切りくずが発生することがないので、切りくずがノズル孔等に詰まることがない。レーザ光を集光させて積層体を分割する方法なので、分割に必要な切断幅を狭くすることができるから、分割性が向上する。つまり、インクジェットヘッドの取り個数を増加できるから、インクジェットヘッドの生産性を向上することができる。   According to this invention, since the device is formed by the above-described processing method, even if there is a substrate having a gap in a part of the substrate constituting the laminate, such as an inkjet head as a device, the inside of the laminate Since the material altered portion is formed by irradiating the laser beam to the laminated body, the laminate can be easily cut and divided. In addition, since the inkjet head is obtained by irradiating the laminated body with laser light and cutting and dividing the laminated body, no chips are generated at the time of cutting. There is no clogging. Since the laser beam is condensed and the laminate is divided, the cutting width necessary for the division can be narrowed, so that the division property is improved. That is, since the number of ink-jet heads can be increased, the productivity of the ink-jet head can be improved.

本発明のデバイスは、前述に記載のデバイスの製造方法で形成されたことを特徴とする。   A device of the present invention is formed by the device manufacturing method described above.

この発明によれば、積層体を構成する基板の一部に空隙部を有する基板があっても、例えばインクジェットヘッドような、デバイスを提供できる。また、その他のデバイスとしては、半導体素子、液晶表示装置、圧電素子などのような、基板の高精度接合が必要な積層体の切断・分割ができる。   According to the present invention, a device such as an ink jet head can be provided even if there is a substrate having a gap in a part of the substrate constituting the laminate. In addition, as other devices, it is possible to cut and divide a laminated body such as a semiconductor element, a liquid crystal display device, and a piezoelectric element that requires high-precision bonding of substrates.

本発明のインクジェット記録装置は、前述に記載のデバイスとしてのインクジェットヘッドを搭載したことを特徴とする。   The ink jet recording apparatus of the present invention is equipped with an ink jet head as the above-described device.

この発明によれば、ノズル孔に切りくず詰まりのない品質が向上したインクジェットヘッドを搭載しているから、吐出性能が向上したインクジェット記録装置を提供できる。   According to this invention, since the ink jet head with improved quality without chip clogging is mounted in the nozzle hole, an ink jet recording apparatus with improved ejection performance can be provided.

以下、本発明の積層体の加工方法、及び積層体について実施形態を挙げ、添付図面に沿って詳細に説明する。なお、本発明の特徴的な構成及び方法について説明する前に、まず、液滴吐出方法で用いられる基体、機能液、液滴吐出法、液滴吐出装置、について順次説明する。
<基体>
Hereinafter, embodiments of the method for processing a laminate and the laminate of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Before describing the characteristic configuration and method of the present invention, first, a substrate, a functional liquid, a droplet discharge method, and a droplet discharge device used in the droplet discharge method will be described sequentially.
<Substrate>

本発明に用いうる基体として、シリコンウエハー、石英ガラス、ガラス、プラスチックフィルム、金属板など各種のものを用いることができる。また、これら各種の素材基板の表面に半導体膜、金属膜、誘電体膜、有機膜などが下地層として形成されたものも、基体として用いてもよい。ここでは基体材料としてシリコンを用いた。
<機能液>
Various substrates such as a silicon wafer, quartz glass, glass, a plastic film, and a metal plate can be used as the substrate that can be used in the present invention. In addition, a substrate in which a semiconductor film, a metal film, a dielectric film, an organic film, or the like is formed as a base layer on the surface of these various material substrates may be used as a substrate. Here, silicon was used as the base material.
<Functional liquid>

まず、機能液について説明する。液体材料である機能液は、微粒子を分散媒に分散した分散液からなるものである。本実施形態では、基板材料のシリコンより屈折率の高いゲルマニウムを微粒子として使用する。なお、シリコンの屈折率は、3.6であり、ゲルマニウムの屈折率は4.0である。微粒子は、分散性を向上させるために表面に有機物などをコーティングして使うこともできる。微粒子の粒径は、1nm以上1.0μm以下であることが好ましい。1.0μmより大きいと、後述する液滴吐出ヘッド31の吐出ノズルに目詰まりが生じるおそれがある。また、1nmより小さいと、微粒子に対するコーティング剤の体積比が大きくなり、得られる膜中の有機物の割合が過多となる。   First, the functional liquid will be described. The functional liquid that is a liquid material is a dispersion liquid in which fine particles are dispersed in a dispersion medium. In this embodiment, germanium having a refractive index higher than that of silicon as a substrate material is used as the fine particles. The refractive index of silicon is 3.6, and the refractive index of germanium is 4.0. The fine particles can be used by coating the surface with an organic substance in order to improve dispersibility. The particle diameter of the fine particles is preferably 1 nm or more and 1.0 μm or less. If it is larger than 1.0 μm, clogging may occur in the discharge nozzle of the droplet discharge head 31 described later. On the other hand, if it is smaller than 1 nm, the volume ratio of the coating agent to the fine particles becomes large, and the ratio of organic substances in the resulting film becomes excessive.

分散媒としては、上記の微粒子を分散できるもので凝集を起こさないものであれば特に限定されない。例えば、水の他に、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類、n−ヘプタン、n−オクタン、デカン、ドデカン、テトラデカン、トルエン、キシレン、シメン、デュレン、インデン、ジペンテン、テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン、シクロヘキシルベンゼンなどの炭化水素系化合物、またエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、p−ジオキサンなどのエーテル系化合物、さらにプロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノンなどの極性化合物を例示できる。これらのうち、微粒子の分散性と分散液の安定性、また液滴吐出法への適用の容易さの点で、水、アルコール類、炭化水素系化合物、エーテル系化合物が好ましく、より好ましい分散媒としては、水、炭化水素系化合物を挙げることができる。   The dispersion medium is not particularly limited as long as it can disperse the fine particles and does not cause aggregation. For example, in addition to water, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, n-heptane, n-octane, decane, dodecane, tetradecane, toluene, xylene, cymene, durene, indene, dipentene, tetrahydronaphthalene, decahydro Hydrocarbon compounds such as naphthalene and cyclohexylbenzene, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, 1,2-dimethoxyethane, bis (2- Methoxyethyl) ether, ether compounds such as p-dioxane, propylene carbonate, γ- Butyrolactone, N- methyl-2-pyrrolidone, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, can be exemplified polar compounds such as cyclohexanone. Of these, water, alcohols, hydrocarbon compounds, and ether compounds are preferable and more preferable dispersion media in terms of fine particle dispersibility, dispersion stability, and ease of application to the droplet discharge method. Examples thereof include water and hydrocarbon compounds.

上記微粒子の分散液の表面張力は、0.02N/m以上0.07N/m以下の範囲内であることが好ましい。液滴吐出法により液滴を吐出する際、表面張力が0.02N/m未満であると、液滴のノズル面に対する濡れ性が増大するため飛行曲りが生じやすくなる。0.07N/mを超えると、ノズル先端でのメニスカスの形状が安定しないため吐出量や吐出タイミングの制御が困難になる。表面張力を調整するため、上記分散液には、基板Pとの接触角を大きく低下させない範囲で、フッ素系、シリコーン系、ノニオン系などの表面張力調節剤を微量添加するとよい。ノニオン系表面張力調節剤は、基板Pへの配線用機能液の濡れ性を向上させ、膜のレベリング性を改良し、膜の微細な凹凸の発生などの防止に役立つものである。上記表面張力調節剤は、必要に応じて、アルコール、エーテル、エステル、ケトン等の有機化合物を含んでもよい。   The surface tension of the fine particle dispersion is preferably in the range of 0.02 N / m to 0.07 N / m. When ejecting droplets by the droplet ejection method, if the surface tension is less than 0.02 N / m, the wettability of the droplets with respect to the nozzle surface increases, and flight bending tends to occur. If it exceeds 0.07 N / m, the shape of the meniscus at the nozzle tip is not stable, and it becomes difficult to control the discharge amount and the discharge timing. In order to adjust the surface tension, a small amount of a surface tension regulator such as a fluorine-based, silicone-based, or nonionic-based material may be added to the dispersion liquid as long as the contact angle with the substrate P is not greatly reduced. The nonionic surface tension adjusting agent improves the wettability of the functional liquid for wiring to the substrate P, improves the leveling property of the film, and helps prevent the occurrence of fine irregularities on the film. The surface tension modifier may contain an organic compound such as alcohol, ether, ester, or ketone, if necessary.

上記分散液の粘度は、1mPa・s以上50mPa・s以下であることが好ましい。液滴吐出法を用いて充填用機能液を液滴として吐出する際、粘度が1mPa・sより小さい場合は、ノズル周辺部がインクの流出により汚染されやすく、また粘度が50mPa・sより大きい場合は、ノズル孔での目詰まり頻度が高くなり円滑な液滴の吐出が困難となる。
<液滴吐出法>
The viscosity of the dispersion is preferably 1 mPa · s or more and 50 mPa · s or less. When the functional liquid for filling is ejected as droplets using the droplet ejection method, if the viscosity is less than 1 mPa · s, the nozzle periphery is easily contaminated by the outflow of ink, and the viscosity is greater than 50 mPa · s. In this case, the clogging frequency in the nozzle holes increases, and it becomes difficult to smoothly discharge the droplets.
<Droplet ejection method>

液滴吐出法の吐出技術としては、帯電制御方式、加圧振動方式、電気機械変換式、電気熱変換方式、静電吸引方式等が挙げられる。ここで、帯電制御方式は、材料に帯電電極で電荷を付与し、偏向電極で材料の飛翔方向を制御して吐出ノズルから吐出させるものである。また、加圧振動方式は、材料に30kg/cm2程度の超高圧を印加してノズル先端側に材料を吐出させるものであり、制御電圧をかけない場合には材料が直進して吐出ノズルから吐出され、制御電圧をかけると材料間に静電的な反発が起こり、材料が飛散して吐出ノズルから吐出されない。また、電気機械変換方式は、ピエゾ素子(圧電素子)がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによって材料を貯留した空間に可撓物質を介して圧力を与え、この空間から材料を押し出して吐出ノズルから吐出させるものである。 Examples of the discharge technique of the droplet discharge method include a charge control method, a pressure vibration method, an electromechanical conversion method, an electrothermal conversion method, and an electrostatic suction method. Here, in the charge control method, a charge is applied to a material by a charging electrode, and the flight direction of the material is controlled by a deflection electrode and discharged from a discharge nozzle. Also, pressure vibration method is intended to discharge the material to the nozzle tip side by application of ultra-high pressure of about 30kg / cm 2 on the material from the discharge nozzle and the material goes straight when not applying a control voltage When discharged and a control voltage is applied, electrostatic repulsion occurs between the materials, and the materials are scattered and are not discharged from the discharge nozzle. The electromechanical conversion method utilizes the property that a piezoelectric element (piezoelectric element) is deformed by receiving a pulse-like electric signal. The piezoelectric element is deformed through a flexible substance in a space where material is stored. Pressure is applied, and the material is extruded from this space and discharged from the discharge nozzle.

また、電気熱変換方式は、材料を貯留した空間内に設けたヒータにより、材料を急激に気化させてバブル(泡)を発生させ、バブルの圧力によって空間内の材料を吐出させるものである。静電吸引方式は、材料を貯留した空間内に微小圧力を加え、吐出ノズルに材料のメニスカスを形成し、この状態で静電引力を加えてから材料を引き出すものである。また、この他に、電場による流体の粘性変化を利用する方式や、放電火花で飛ばす方式などの技術も適用可能である。液滴吐出法は、材料の使用に無駄が少なく、しかも所望の位置に所望の量の材料を的確に配置できるという利点を有する。なお、液滴吐出法により吐出される液体材料の一滴の量は例えば1〜300ナノグラムである。
<液滴吐出装置>
In the electrothermal conversion method, a material is rapidly vaporized by a heater provided in a space in which the material is stored to generate bubbles, and the material in the space is discharged by the pressure of the bubbles. In the electrostatic attraction method, a minute pressure is applied to a space in which a material is stored, a meniscus of material is formed on the discharge nozzle, and an electrostatic attractive force is applied in this state before the material is drawn out. In addition to this, techniques such as a system that uses a change in the viscosity of a fluid by an electric field and a system that uses a discharge spark are also applicable. The droplet discharge method has an advantage that the use of the material is less wasteful and a desired amount of the material can be accurately disposed at a desired position. In addition, the amount of one drop of the liquid material discharged by the droplet discharge method is 1 to 300 nanograms, for example.
<Droplet ejection device>

次に、上述の液滴吐出法を用いて液体材料を吐出する液滴吐出装置の一例について説明する。なお、本実施形態においては、液滴吐出法を用いて液滴吐出ヘッドから基板に対して液滴を吐出(滴下)することによる液滴吐出装置を挙げて説明する。   Next, an example of a droplet discharge device that discharges a liquid material using the above-described droplet discharge method will be described. In the present embodiment, a description will be given of a droplet discharge apparatus that discharges (drops) droplets from a droplet discharge head onto a substrate using a droplet discharge method.

図1は、液滴吐出装置IJの概略構成を示す斜視図である。
液滴吐出装置IJは、液滴吐出ヘッド31と、X軸方向駆動軸34と、Y軸方向ガイド軸35と、制御装置CONTと、ステージ37と、クリーニング機構38と、基台39と、ヒータ45とを備えている。
ステージ37は、この液滴吐出装置IJにより液体材料を配置するための貼り合せ基板Qを支持するものであって、貼り合せ基板Qを基準位置に固定する不図示の固定機構を備えている。
FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of the droplet discharge device IJ.
The droplet discharge device IJ includes a droplet discharge head 31, an X-axis direction drive shaft 34, a Y-axis direction guide shaft 35, a control device CONT, a stage 37, a cleaning mechanism 38, a base 39, and a heater. 45.
The stage 37 supports the bonded substrate Q on which the liquid material is arranged by the droplet discharge device IJ, and includes a fixing mechanism (not shown) that fixes the bonded substrate Q to a reference position.

液滴吐出ヘッド31は、複数の吐出ノズルを備えたマルチノズルタイプの液滴吐出ヘッドであり、長手方向とX軸方向とを一致させている。複数の吐出ノズルは、液滴吐出ヘッド31の下面に一定間隔で設けられている。液滴吐出ヘッド31の吐出ノズルからは、ステージ37上の貼り合せ基板Qに対して、液体材料が吐出される。   The droplet discharge head 31 is a multi-nozzle type droplet discharge head having a plurality of discharge nozzles, and the longitudinal direction and the X-axis direction are made to coincide. The plurality of ejection nozzles are provided at regular intervals on the lower surface of the droplet ejection head 31. A liquid material is discharged from the discharge nozzle of the droplet discharge head 31 to the bonded substrate Q on the stage 37.

X軸方向駆動軸34には、X軸方向駆動モータ32が接続されている。X軸方向駆動モータ32はステッピングモータ等であり、制御装置CONTからX軸方向の駆動信号が供給されると、X軸方向駆動軸34を回転させる。X軸方向駆動軸34が回転すると、液滴吐出ヘッド31はX軸方向に移動する。
Y軸方向ガイド軸35は、基台39に対して動かないように固定されている。ステージ37は、Y軸方向駆動モータ33を備えている。Y軸方向駆動モータ33はステッピングモータ等であり、制御装置CONTからY軸方向の駆動信号が供給されると、ステージ37をY軸方向に移動する。
An X-axis direction drive motor 32 is connected to the X-axis direction drive shaft 34. The X-axis direction drive motor 32 is a stepping motor or the like, and rotates the X-axis direction drive shaft 34 when a drive signal in the X-axis direction is supplied from the control device CONT. When the X-axis direction drive shaft 34 rotates, the droplet discharge head 31 moves in the X-axis direction.
The Y-axis direction guide shaft 35 is fixed so as not to move with respect to the base 39. The stage 37 includes a Y-axis direction drive motor 33. The Y-axis direction drive motor 33 is a stepping motor or the like. When a drive signal in the Y-axis direction is supplied from the control device CONT, the Y-axis direction drive motor 33 moves the stage 37 in the Y-axis direction.

制御装置CONTは、液滴吐出ヘッド31に液滴の吐出制御用の電圧を供給する。また、X軸方向駆動モータ32に液滴吐出ヘッド31のX軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を、Y軸方向駆動モータ33にステージ37のY軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。
クリーニング機構38は、液滴吐出ヘッド31をクリーニングするものである。クリーニング機構38には、図示しないY軸方向の駆動モータが備えられている。このY軸方向の駆動モータの駆動により、クリーニング機構38は、Y軸方向ガイド軸35に沿って移動する。クリーニング機構38の移動も制御装置CONTにより制御される。
ヒータ45は、ここではランプアニールにより貼り合せ基板Qを熱処理する手段であり、貼り合せ基板Q上に配置された液体材料に含まれる溶媒の蒸発、乾燥を行う。このヒータ45の電源の投入及び遮断も制御装置CONTにより制御される。
The control device CONT supplies a droplet discharge control voltage to the droplet discharge head 31. In addition, a drive pulse signal for controlling the movement of the droplet discharge head 31 in the X-axis direction is supplied to the X-axis direction drive motor 32, and a drive pulse signal for controlling the movement of the stage 37 in the Y-axis direction is sent to the Y-axis direction drive motor 33. Supply.
The cleaning mechanism 38 is for cleaning the droplet discharge head 31. The cleaning mechanism 38 includes a Y-axis direction drive motor (not shown). By driving the drive motor in the Y-axis direction, the cleaning mechanism 38 moves along the Y-axis direction guide shaft 35. The movement of the cleaning mechanism 38 is also controlled by the control device CONT.
Here, the heater 45 is means for heat-treating the bonded substrate Q by lamp annealing, and evaporates and dries the solvent contained in the liquid material disposed on the bonded substrate Q. The heater 45 is also turned on and off by the control device CONT.

液滴吐出装置IJは、液滴吐出ヘッド31と貼り合せ基板Qを支持するステージ37とを相対的に走査しつつ貼り合せ基板Qに対して、液滴吐出ヘッド31の下面にX軸方向に配列された複数の吐出ノズルから液滴を吐出する。   The droplet discharge device IJ scans the lower surface of the droplet discharge head 31 in the X-axis direction with respect to the bonded substrate Q while relatively scanning the droplet discharge head 31 and the stage 37 supporting the bonded substrate Q. Droplets are discharged from a plurality of discharge nozzles arranged.

図2は、ピエゾ方式による液体材料の吐出原理を説明するための図である。   FIG. 2 is a diagram for explaining the principle of discharging a liquid material by a piezo method.

図2において、液体材料を収容する液体室21に隣接してピエゾ素子22が設置されている。液体室21には、液体材料を収容する材料タンクを含む液体材料供給系23を介して液体材料が供給される。ピエゾ素子22は駆動回路24に接続されており、この駆動回路24を介してピエゾ素子22に電圧を印加して、ピエゾ素子22を変形させることにより、液体室21が変形する。液体室21が元の状態に復元するときに、吐出ノズル25から液体材料が吐出される。この場合、印加電圧の値を変化させることにより、ピエゾ素子22の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子22の歪み速度が制御される。ピエゾ方式による液滴吐出は液体材料に熱を加えないため、液体材料の組成に影響を与えにくいという利点を有する。   In FIG. 2, a piezo element 22 is installed adjacent to a liquid chamber 21 for storing a liquid material. The liquid material is supplied to the liquid chamber 21 via a liquid material supply system 23 including a material tank that stores the liquid material. The piezo element 22 is connected to a drive circuit 24, and the liquid chamber 21 is deformed by applying a voltage to the piezo element 22 via the drive circuit 24 to deform the piezo element 22. When the liquid chamber 21 is restored to the original state, the liquid material is discharged from the discharge nozzle 25. In this case, the amount of distortion of the piezo element 22 is controlled by changing the value of the applied voltage. Further, the strain rate of the piezo element 22 is controlled by changing the frequency of the applied voltage. The droplet discharge by the piezo method does not apply heat to the liquid material, and thus has an advantage of hardly affecting the composition of the liquid material.

以上説明した液滴吐出装置IJは、本発明に係る配置方法や製造方法において用いることができるものであるが、本発明はこれに限られることはなく、液体材料を吐出し、所定の着弾予定位置に着弾させることができるものであれば、如何なる装置を用いることも可能である。   The droplet discharge device IJ described above can be used in the arrangement method and the manufacturing method according to the present invention. However, the present invention is not limited to this, and a liquid material is discharged and a predetermined landing schedule is achieved. Any device can be used as long as it can land on the position.

(第1実施形態)
本実施形態では、液滴吐出法によって配置された充填部材を有する積層体について説明する。
(First embodiment)
In the present embodiment, a laminated body having a filling member arranged by a droplet discharge method will be described.

図3は、本実施形態における積層体Pを示す概略図である。   FIG. 3 is a schematic view showing the laminate P in the present embodiment.

図3において、積層体Pは、基板P1、基板P2、基板P3とで構成されている。基板P1は、空隙部11aを有しており、この空隙部11aに充填部材11が充填されている。基板P2の下側には、配線12が形成されている。貼り合せ基板Qは、基板P1と基板P2とで構成されている。なお、これら基板P1、P2、P3の貼り付けには接着剤が使用されている。   In FIG. 3, the laminate P is composed of a substrate P1, a substrate P2, and a substrate P3. The board | substrate P1 has the space | gap part 11a, The filling member 11 is filled with this space | gap part 11a. A wiring 12 is formed on the lower side of the substrate P2. The bonded substrate Q is composed of a substrate P1 and a substrate P2. Note that an adhesive is used to attach the substrates P1, P2, and P3.

レーザ光5は集光素子としてのレンズ6で集光され、レンズ6で集光されたレーザ光5は、積層体Pの下面側に照射される。照射されたレーザ光5は、積層体Pの深さ方向全域で焦点位置が合うように配置されている。レーザ光5が照射された基板P1、基板P2、基板P3の箇所には、多光子吸収という現象を利用することにより、材料変質部7を形成している。なお、外部から応力を加えると、材料変質部7の部分は改質されているから、材料変質部7に沿って積層体Pを切断・分割することができる。   The laser light 5 is condensed by a lens 6 as a condensing element, and the laser light 5 condensed by the lens 6 is irradiated on the lower surface side of the stacked body P. The irradiated laser beam 5 is arranged so that the focal position is aligned over the entire depth direction of the stacked body P. A material altered portion 7 is formed in a portion of the substrate P1, the substrate P2, and the substrate P3 irradiated with the laser beam 5 by utilizing a phenomenon called multiphoton absorption. Note that when the stress is applied from the outside, the portion of the material-affected portion 7 is modified, so that the laminate P can be cut and divided along the material-affected portion 7.

図4(a)は、本実施形態におけるインクジェットヘッド50の千鳥配列を示す積層体Pの平面図であり、図4(b)は、積層体Pの断面図である。図4を参照して、インクジェットヘッド50の配列方法について説明する。   4A is a plan view of the multilayer body P showing a staggered arrangement of the inkjet heads 50 in the present embodiment, and FIG. 4B is a cross-sectional view of the multilayer body P. FIG. With reference to FIG. 4, a method of arranging the inkjet heads 50 will be described.

図4(a)に示すように、インクジェットヘッド50が千鳥状(段違い)に配列されている。インクジェットヘッド50を千鳥状に配列することによって、取り個数が増え、積層体Pの材料を無駄にしないで済む。ただし、インクジェットヘッド50が千鳥状に配列されていると、従来から採用されている回転砥石を用いたダイシングや、スライシングなどによる切断方法では、回転砥石が直線的に進行する加工方法なので、所定の形状に切断・分割することが困難であった。   As shown in FIG. 4A, the ink jet heads 50 are arranged in a staggered manner (in a step). By arranging the inkjet heads 50 in a zigzag pattern, the number of the ink-jet heads increases, and the material of the stacked body P can be saved. However, when the inkjet heads 50 are arranged in a zigzag pattern, a cutting method using a rotating grindstone or a slicing that has been conventionally employed is a processing method in which the rotating grindstone advances linearly. It was difficult to cut and divide into shapes.

このように、インクジェットヘッド50が千鳥状に配列されていても、レーザ光5を利用したレーザ加工方法であれば、レーザ光5の照射位置を自由に変えることができるから、容易に積層体Pを切断・分割することができる。しかも、材料を無駄にすることがない。   As described above, even if the inkjet heads 50 are arranged in a staggered manner, the laser processing method using the laser beam 5 can freely change the irradiation position of the laser beam 5, so that the laminate P can be easily formed. Can be cut and divided. Moreover, no material is wasted.

図4(b)に示すように、積層体Pは、基板P1、基板P2、基板P3とが積層した三層構造である。これら基板P1、基板P2、基板P3の材料は、シリコンであり、YAGレーザの基本波が透過可能である。   As shown in FIG. 4B, the stacked body P has a three-layer structure in which a substrate P1, a substrate P2, and a substrate P3 are stacked. The material of the substrate P1, the substrate P2, and the substrate P3 is silicon, and the fundamental wave of the YAG laser can be transmitted.

次に、レーザ光を照射して材料変質部を形成する方法について説明する。   Next, a method for forming a material altered portion by irradiating laser light will be described.

図5は、レーザ光5による材料変質部7の形成方法を説明するための図である。   FIG. 5 is a view for explaining a method for forming the material-affected portion 7 by the laser beam 5.

図5において、基板4の内部にレーザ光5を集光させて、スキャン方向X(分割方向)に、レーザ光5をスキャンする。レーザ光5はレンズ6で集光されているから、基板4の内部に焦点を合わせることができる。スキャン方向X(分割方向)に、レーザ光5をスキャンさせると、基板4の内部に材料変質部7を形成できる。なお、レーザ光5は、YAGレーザの基本波であって、その波長が1064nmである。スキャン方向Xにおけるスキャン速度は、100mm/secである。基板4の材料は、シリコンであって、その厚さは約100μmである。   In FIG. 5, the laser beam 5 is condensed inside the substrate 4, and the laser beam 5 is scanned in the scanning direction X (dividing direction). Since the laser beam 5 is collected by the lens 6, the laser beam 5 can be focused inside the substrate 4. When the laser beam 5 is scanned in the scanning direction X (division direction), the material-affected portion 7 can be formed inside the substrate 4. The laser beam 5 is a fundamental wave of a YAG laser and has a wavelength of 1064 nm. The scanning speed in the scanning direction X is 100 mm / sec. The material of the substrate 4 is silicon, and the thickness thereof is about 100 μm.

また、レーザ光5を1回スキャンさせるだけでは、材料変質部7のできる量が数十μmである。そこで、基板4の深さ方向全域に材料変質部7を形成するためには、レーザ光5を何回かスキャンさせる必要がある。レーザ光5をスキャンさせるごとに、レンズ6の焦点位置を基板4の下面から上面に向かって上昇させて、スキャンする。   In addition, the amount of material altered portion 7 that can be formed by several scans of the laser beam 5 is several tens of μm. Therefore, in order to form the material altered portion 7 in the entire depth direction of the substrate 4, it is necessary to scan the laser beam 5 several times. Each time the laser beam 5 is scanned, the focal position of the lens 6 is raised from the lower surface of the substrate 4 toward the upper surface, and scanning is performed.

次に、本実施形態における積層体の切断・分割方法について以下に示す。   Next, a method for cutting and dividing the laminate in the present embodiment will be described below.

図6(a)〜(h)は、積層体の分割工程を示す図であり、図7は、積層体の分割工程の手順を示す概略フローチャートである。   FIGS. 6A to 6H are diagrams illustrating a process of dividing the laminate, and FIG. 7 is a schematic flowchart illustrating a procedure of the process of dividing the laminate.

図6、図7を参照して、本発明の積層体Pの切断・分割方法について説明する。なお、本実施形態の積層体Pの切断・分割方法は、貼り合せ工程1、機能液配置工程、乾燥工程、固化処理工程、貼り合せ工程2、改質層形成工程、分割工程から概略構成される。以下、各工程について詳細に説明する。なお、積層体Pを切断・分割して形成される分割後の小片は、インクジェットヘッド50である。
(貼り合せ工程1)
With reference to FIG. 6, FIG. 7, the cutting | disconnection / division | segmentation method of the laminated body P of this invention is demonstrated. The method for cutting and dividing the laminate P of the present embodiment is roughly composed of a bonding process 1, a functional liquid arranging process, a drying process, a solidification process, a bonding process 2, a modified layer forming process, and a dividing process. The Hereinafter, each step will be described in detail. In addition, the small piece after the division formed by cutting and dividing the stacked body P is the ink jet head 50.
(Lamination process 1)

図7のステップS1では、図6(a)に示すように、空隙部11aを有する基板P1の下側に、配線12が形成されている基板P2を貼り合せて、貼り合せ基板Qを形成する。基板P1と基板P2との貼り合せ方法は、例えば接着剤などを使用して貼り合せることができる。なお、基板P1、P2の材料は、シリコンである。基板P1、P2の厚さは、各々100μmである。
(機能液配置工程)
In step S1 of FIG. 7, as shown in FIG. 6A, the substrate P2 on which the wiring 12 is formed is bonded to the lower side of the substrate P1 having the gap 11a to form a bonded substrate Q. . As a method for bonding the substrate P1 and the substrate P2, for example, an adhesive may be used. The material of the substrates P1 and P2 is silicon. The thickness of each of the substrates P1 and P2 is 100 μm.
(Functional liquid placement process)

図7のステップS2では、図6(b)に示すように、液滴吐出装置IJを用いて、空隙部11aに機能液L1を液滴吐出ヘッド31から吐出して配置する。なお、液滴吐出の条件としては、例えば機能液L1の重量が4ng/dot、機能液L1の速度(吐出速度)が5〜7m/secで行うことでできる。また、機能液L1を吐出するときの雰囲気は、温度60℃以下、湿度80%以下に設定されていることが好ましい。これにより、液滴吐出ヘッド31の吐出ノズルが目詰まりすることなく安定した液滴吐出を行うことができる。なお、機能液L1は、微粒子としてゲルマニウムを含んでいる。
(乾燥工程)
In step S2 of FIG. 7, as shown in FIG. 6B, the functional liquid L1 is ejected from the droplet ejection head 31 into the gap 11a using the droplet ejection device IJ. In addition, as conditions for droplet discharge, for example, the weight of the functional liquid L1 can be 4 ng / dot, and the speed (discharge speed) of the functional liquid L1 can be 5 to 7 m / sec. Moreover, it is preferable that the atmosphere when discharging the functional liquid L1 is set to a temperature of 60 ° C. or lower and a humidity of 80% or lower. Thereby, it is possible to perform stable droplet discharge without clogging the discharge nozzle of the droplet discharge head 31. The functional liquid L1 contains germanium as fine particles.
(Drying process)

次に、図7のステップS3では、図6(c)に示すように、乾燥処理をする。乾燥処理は、例えば熱を加える通常のホットプレート、電気炉などによる処理の他、ランプアニールによって行うこともできる。ランプアニールに使用する光の光源としては、特に限定されないが、赤外線ランプ、キセノンランプ、YAGレーザ、アルゴンレーザ、炭酸ガスレーザ、XeF、XeCl、XeBr、KrF、KrCl、ArF、ArClなどのエキシマレーザなどを光源として使用することができる。これらの光源は一般には、出力10W以上5000W以下の範囲のものが用いられるが、本実施形態では100W以上1000W以下の範囲で十分である。そして、空隙部11aに配置された機能液L1を乾燥させると、ゲルマニウムの微粒子を含む液状部材10ができる。
(固化処理工程)
Next, in step S3 in FIG. 7, a drying process is performed as shown in FIG. The drying process can be performed, for example, by lamp annealing in addition to a process using a normal hot plate for applying heat, an electric furnace, or the like. The light source used for lamp annealing is not particularly limited, but excimer lasers such as infrared lamps, xenon lamps, YAG lasers, argon lasers, carbon dioxide lasers, XeF, XeCl, XeBr, KrF, KrCl, ArF, ArCl, etc. It can be used as a light source. In general, these light sources have an output in the range of 10 W to 5000 W, but in the present embodiment, a range of 100 W to 1000 W is sufficient. And if the functional liquid L1 arrange | positioned in the space | gap part 11a is dried, the liquid member 10 containing the fine particle of germanium will be made.
(Solidification process)

次に、図7のステップS4では、図6(d)に示すように、空隙部11aに配置されたゲルマニウムの微粒子を含む液状部材10を固化する。液状部材10は、強度を確保するために熱処理を行い、固化させる必要がある。そのため、液状部材10には熱処理及び/又は光処理が施される。   Next, in step S4 of FIG. 7, as shown in FIG. 6D, the liquid member 10 containing germanium fine particles disposed in the gap 11a is solidified. The liquid member 10 needs to be heat-treated and solidified to ensure strength. Therefore, the liquid member 10 is subjected to heat treatment and / or light treatment.

熱処理及び/又は光処理は通常大気中で行なわれるが、必要に応じて、窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気中、または水素などの還元雰囲気中で行うこともできる。熱処理及び/又は光処理の処理温度は、分散媒の沸点(蒸気圧)、雰囲気ガスの種類や圧力、微粒子の分散性や酸化性等の熱的挙動、コーティング材の有無や量、基材の耐熱温度などを考慮して適宜決定される。本実施形態では、ゲルマニウムの微粒子を含む機能液L1に対して、固化処理が行われる。処理温度が100℃以上で、処理時間が30分以上行うことが好ましい。以上により、ゲルマニウムの微粒子間の強度が確保され、充填部材11が形成される。シリコンの屈折率は3.6であって、ゲルマニウムの屈折率は4.0であるから、屈折率は、基板P1、P2より充填部材11の方が高い。
(貼り合せ工程2)
The heat treatment and / or light treatment is usually performed in the air, but if necessary, it can also be performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen, argon or helium, or in a reducing atmosphere such as hydrogen. The treatment temperature of heat treatment and / or light treatment depends on the boiling point (vapor pressure) of the dispersion medium, the type and pressure of the atmospheric gas, the thermal behavior such as fine particle dispersibility and oxidation, the presence and amount of coating material, It is determined appropriately in consideration of the heat resistant temperature. In the present embodiment, a solidification process is performed on the functional liquid L1 containing germanium fine particles. The treatment temperature is preferably 100 ° C. or higher and the treatment time is preferably 30 minutes or longer. As described above, the strength between the germanium fine particles is ensured, and the filling member 11 is formed. Since the refractive index of silicon is 3.6 and the refractive index of germanium is 4.0, the refractive index of the filling member 11 is higher than that of the substrates P1 and P2.
(Lamination process 2)

次に、図7のステップS5では、図6(e)に示すように、充填部材11を有する貼り合せ基板Qに基板P3を接着剤などで貼り合せて、積層体Pを形成する。なお、基板P3の材料は、シリコンである。基板P3の厚さは、100μmである。したがって、基板P1、基板P2、基板P3を積層して形成された積層体Pの厚さは、約300μmとなる。
(改質層形成工程)
Next, in step S5 of FIG. 7, as shown in FIG. 6E, the substrate P3 is bonded to the bonded substrate Q having the filling member 11 with an adhesive or the like to form the laminate P. Note that the material of the substrate P3 is silicon. The thickness of the substrate P3 is 100 μm. Therefore, the thickness of the stacked body P formed by stacking the substrate P1, the substrate P2, and the substrate P3 is about 300 μm.
(Modified layer formation process)

次に、図7のステップS6では、図6(f)に示すように、積層体Pにレーザ光5を照射して、改質層としての材料変質部7を形成する。使用するレーザ光源は、半導体レーザを励起するものである。なお、詳細な条件は以下のとおりである。Nd:YAG。レーザ波長:1064nm。レーザ光スポット断面積:3.14×10-8cm2。発振形態:Qスイッチパルス。繰り返し周波数:100KHz。パルス幅:30ns。出力:20μJ/パルス。レーザ光品質:TEM00。偏光特性:直線偏光(C)。集光用レンズ倍率:50倍。NA:0.55。レーザ光波長に対する透過率:60%(D)。移動速度:100mm/sec。最初に、基板P2の下側にレーザ光5の集光点を合わせて照射する。そして、集光点を徐々に基板P2の上側に移動させながらレーザ光5を照射する。次に、基板P1の空隙部11aに形成された充填部材11の下側にレーザ光5の集光点を合わせて照射する。そして、集光点を徐々に充填部材11の上側に移動させながらレーザ光5を照射する。最後に、基板P3の下側にレーザ光5の集光点を合わせて照射する。そして、集光点を徐々に基板P3の上側に移動させながらレーザ光5を照射する。そして、図6(g)に示すように、積層体Pの深さ方向全域に改質層としての材料変質部7を形成する。
(分割工程)
Next, in step S6 of FIG. 7, as shown in FIG. 6 (f), the laminated body P is irradiated with the laser beam 5 to form the material altered portion 7 as a modified layer. The laser light source used excites the semiconductor laser. Detailed conditions are as follows. Nd: YAG. Laser wavelength: 1064 nm. Laser light spot cross section: 3.14 × 10 −8 cm 2 . Oscillation form: Q switch pulse. Repeat frequency: 100 KHz. Pulse width: 30 ns. Output: 20 μJ / pulse. Laser light quality: TEM 00 . Polarization characteristics: linearly polarized light (C). Condenser lens magnification: 50 times. NA: 0.55. Transmittance with respect to laser light wavelength: 60% (D). Movement speed: 100 mm / sec. First, the laser beam 5 is focused on the lower side of the substrate P2 and irradiated. Then, the laser beam 5 is irradiated while gradually moving the condensing point to the upper side of the substrate P2. Next, the laser beam 5 is focused on the lower side of the filling member 11 formed in the gap 11a of the substrate P1 and irradiated. Then, the laser beam 5 is irradiated while gradually moving the condensing point to the upper side of the filling member 11. Finally, the laser beam 5 is focused on the lower side of the substrate P3 and irradiated. Then, the laser beam 5 is irradiated while gradually moving the condensing point to the upper side of the substrate P3. Then, as shown in FIG. 6G, the material altered portion 7 as a modified layer is formed in the entire depth direction of the stacked body P.
(Division process)

次に、図7のステップS7では、図6(h)に示すように、積層体Pを切断・分割する。積層体Pの分割方法は、外部から応力を加えることによりできる。外部から応力を加える方法は、例えば切断予定ラインに沿って積層体Pに曲げや、せん断応力を加えることや、積層体Pに温度差を与えることによって熱応力を発生させることである。そして、改質層としての材料変質部7に沿って、積層体Pを簡単に切断・分割できる。なお、積層体Pの厚さがより薄いような場合は、材料変質部7を形成することにより、積層体Pは、材料変質部7に沿って自然に割れることがある。そして、積層体Pを切断・分割することによって、図11に示すインクジェットヘッド50を形成することができる。   Next, in step S7 of FIG. 7, as shown in FIG. 6 (h), the stacked body P is cut and divided. The method of dividing the laminate P can be performed by applying stress from the outside. The method of applying a stress from the outside is, for example, generating a thermal stress by bending or applying a shear stress to the laminated body P along a planned cutting line, or giving a temperature difference to the laminated body P. And the laminated body P can be easily cut | disconnected and divided | segmented along the material alteration part 7 as a modified layer. In addition, when the thickness of the laminated body P is thinner, the laminated body P may be naturally cracked along the material altered portion 7 by forming the material altered portion 7. And the inkjet head 50 shown in FIG. 11 can be formed by cut | disconnecting and dividing the laminated body P. FIG.

このインクジェットヘッド50は、レーザ光5を積層体Pに照射して積層体Pを切断・分割して得られたものであるから、切断時の切りくずが発生することがないので、切りくずが、ノズル孔61等に詰まることがない(図11参照)。しかも、空隙部11aに充填部材11を充填してから集光させたレーザ光5を照射させて、積層体Pを切断・分割する方法なので、分割に必要な切断幅をより狭くすることができるから、分割性が向上する。つまり、インクジェットヘッド50の取り個数を増加させることができるから、インクジェットヘッド50の生産性を向上することができる。   Since the inkjet head 50 is obtained by irradiating the laminated body P with the laser beam 5 and cutting and dividing the laminated body P, no chips are generated at the time of cutting. The nozzle hole 61 or the like is not clogged (see FIG. 11). In addition, since the stacked body P is cut and divided by irradiating the laser beam 5 collected after the filling member 11 is filled into the gap portion 11a, the cutting width necessary for the division can be made narrower. Therefore, the splitting property is improved. That is, since the number of ink-jet heads 50 can be increased, the productivity of the ink-jet heads 50 can be improved.

第1実施形態では、以下の効果が得られる。   In the first embodiment, the following effects can be obtained.

(1)積層体Pを構成する基板P1、P2、P3の一部に空隙部11aを有する基板P1があっても、空隙部11aに充填部材11を充填してから積層体Pを形成して、この充填部材11を通過するようにレーザ光5を照射させるから、積層体Pに材料変質部7を形成することができる。積層体Pに材料変質部7を形成できれば、外部から応力を加えることによって、材料変質部7に沿って簡単に切断・分割できる。しかも、空隙部11aに配置される機能液L1が、液滴吐出法により配置されているから、空隙部11aの体積が変更になっても、機能液L1の量を変えるだけでよいので、簡単である。そして、簡単に分割できる積層体Pを提供できる。
(2)充填部材11の屈折率が、基板P1、P2、P3と同等以上であるから、レーザ光5を照射させるときに、レーザ光5が散乱することなく積層体Pの内部に集光しやすくなるので、積層体Pに材料変質部7を簡単に形成することができる。
(3)レーザ光5を集光素子としてのレンズ6で集光させて積層体Pに照射させるから、積層体Pの所定の位置に材料変質部7を形成することができる。
(4)YAGレーザの基本波を積層体Pに照射させることで、積層体Pの所定の位置に材料変質部7を形成することができる。
(1) Even if there is a substrate P1 having a gap 11a in a part of the substrates P1, P2, and P3 constituting the laminate P, the laminate P is formed after filling the gap 11a with the filling member 11 Since the laser beam 5 is irradiated so as to pass through the filling member 11, the material altered portion 7 can be formed in the stacked body P. If the material altered portion 7 can be formed in the laminate P, it can be easily cut and divided along the material altered portion 7 by applying stress from the outside. Moreover, since the functional liquid L1 disposed in the gap portion 11a is arranged by the droplet discharge method, even if the volume of the gap portion 11a is changed, it is only necessary to change the amount of the functional liquid L1. It is. And the laminated body P which can be divided | segmented easily can be provided.
(2) Since the refractive index of the filling member 11 is equal to or higher than that of the substrates P1, P2, and P3, when the laser beam 5 is irradiated, the laser beam 5 is condensed inside the stacked body P without being scattered. Since it becomes easy, the material alteration part 7 can be easily formed in the laminated body P.
(3) Since the laser beam 5 is condensed by the lens 6 as a condensing element and is irradiated on the stacked body P, the material-affected zone 7 can be formed at a predetermined position of the stacked body P.
(4) By irradiating the laminated body P with the fundamental wave of the YAG laser, the material-modified part 7 can be formed at a predetermined position of the laminated body P.

(第2実施形態)
本実施形態では、液滴吐出法によって配置された液滴を有する積層体について説明する。
(Second Embodiment)
In the present embodiment, a stacked body having droplets arranged by a droplet discharge method will be described.

図8は、本実施形態における積層体Pを示す概略図である。   FIG. 8 is a schematic view showing the laminate P in the present embodiment.

図8を参照して、本発明の積層体Pについて説明する。第1実施形態と異なる点は、機能液L1に変えて液滴L2を空隙部15aに配置した点である。液滴L2は液状である。なお、基板P1、P2、P3の材料や、これら基板P1、P2、P3の貼り合せ方法などは、第1実施形態と同じであるので、説明を省略する。   With reference to FIG. 8, the laminated body P of this invention is demonstrated. The difference from the first embodiment is that the droplet L2 is arranged in the gap 15a instead of the functional liquid L1. The droplet L2 is liquid. Note that the materials of the substrates P1, P2, and P3 and the method for bonding the substrates P1, P2, and P3 are the same as those in the first embodiment, and thus description thereof is omitted.

図8において、積層体Pは、基板P1、基板P2、基板P3とで構成されている。基板P1は、空隙部15aを有しており、この空隙部15aに液体15が充填されている。なお、これら基板P1、P2、P3の貼り付けには接着剤が使用されている。   In FIG. 8, the laminated body P is comprised with the board | substrate P1, the board | substrate P2, and the board | substrate P3. The substrate P1 has a gap 15a, and the gap 15a is filled with the liquid 15. Note that an adhesive is used to attach the substrates P1, P2, and P3.

レーザ光5は集光素子としてのレンズ6で集光され、レンズ6で集光されたレーザ光5は積層体Pの下面側に照射される。照射されたレーザ光5は、積層体Pの深さ方向全域で焦点位置が合うように配置されている。レーザ光5が積層体Pの内部に照射されると、多光子吸収という現象を利用することにより、基板P2とP3とに材料変質部7を形成できる。なお、基板P1の空隙部15aには液体15が満たされているから、液体15にはレーザ光5が集光しないので、基板P1には材料変質部7が形成されない。そして、材料変質部7の部分は改質されているため、外部から応力を加えると、積層体Pを切断・分割することができる。   The laser beam 5 is condensed by a lens 6 as a condensing element, and the laser beam 5 condensed by the lens 6 is irradiated on the lower surface side of the laminate P. The irradiated laser beam 5 is arranged so that the focal position is aligned over the entire depth direction of the stacked body P. When the laser beam 5 is irradiated to the inside of the laminated body P, the material altered portion 7 can be formed on the substrates P2 and P3 by utilizing the phenomenon of multiphoton absorption. Since the gap 15a of the substrate P1 is filled with the liquid 15, the laser beam 5 is not condensed on the liquid 15, so that the material altered portion 7 is not formed on the substrate P1. And since the part of the material alteration part 7 is modified | denatured, when stress is applied from the outside, the laminated body P can be cut | disconnected and divided | segmented.

次に、本実施形態における積層体Pの分割方法について以下に示す。   Next, a method for dividing the laminate P in this embodiment will be described below.

図9(a)〜(f)は、積層体の分割工程を示す図であり、図10は、積層体の分割工程の手順を示す概略フローチャートである。   FIG. 9A to FIG. 9F are diagrams showing a process of dividing the laminate, and FIG. 10 is a schematic flowchart showing a procedure of the process of dividing the laminate.

図9、図10を参照して、本発明の積層体Pの切断・分割方法について説明する。積層体Pを形成するために使用する材料や、液滴吐出法、液滴吐出装置などは、第1実施形態と同じであるので、説明を省略する。本実施形態の積層体Pの切断・分割方法は、貼り合せ工程1、液体注入工程、貼り合せ工程2、改質層形成工程、分割工程から概略構成される。なお、第1実施形態と同様な、貼り合せ工程1、貼り合せ工程2、分割工程については、簡単に説明する。第1実施形態と異なる液体注入工程と、改質層形成工程については、詳細に説明する。積層体Pを切断・分割して形成される分割後の小片は、インクジェットヘッド50である。
(貼り合せ工程1)
With reference to FIG. 9, FIG. 10, the cutting | disconnection / division | segmentation method of the laminated body P of this invention is demonstrated. Since the material, the droplet discharge method, the droplet discharge device, and the like used for forming the stacked body P are the same as those in the first embodiment, the description thereof is omitted. The method for cutting / dividing the laminate P of the present embodiment is roughly composed of a bonding process 1, a liquid injection process, a bonding process 2, a modified layer forming process, and a dividing process. In addition, the bonding process 1, the bonding process 2, and the dividing process similar to those in the first embodiment will be briefly described. The liquid injection process and the modified layer forming process different from the first embodiment will be described in detail. The small piece after the division formed by cutting and dividing the laminated body P is the inkjet head 50.
(Lamination process 1)

図10のステップS11では、図9(b)に示すように、空隙部15aを有する基板P1の下側に、配線12が形成されている基板P2を貼り合せて、貼り合せ基板Qを形成する。なお、基板P1と基板P2との貼り合せ方法、材料、厚さについては、実施形態1と同じであるので、説明を省略する。
(液体注入工程)
In step S11 of FIG. 10, as shown in FIG. 9B, the substrate P2 on which the wiring 12 is formed is bonded to the lower side of the substrate P1 having the gap 15a to form a bonded substrate Q. . Note that the bonding method, material, and thickness of the substrate P1 and the substrate P2 are the same as those in the first embodiment, and thus description thereof is omitted.
(Liquid injection process)

次に、図10のステップS12では、液滴吐出方法で空隙部15aに液滴L2を注入して、空隙部15aを液体15で満たす。液体15は、例えば水である。水以外では、エタノール、アセトン、メタノール、IPAなどでもよい。なお、これら、水、エタノール、アセトン、メタノール、IPAなどは、空気より屈折率が高い物質であって、その屈折率は1.3〜1.4程度である。液体15は、積層体Pを切断・分割した後には空隙部15aから流れ出してしまう。なお、空隙部15aに液滴L2を注入するときに、液滴吐出方法を採用したが、これにこだわることはなく、その他の方法を採用してもよい。例えば基板自体を液体15の中にディッピングして空隙部15aに液体15を配置してもよいし、液体15の入ったディスペンサを使用して、空隙部15aに液体15を配置してもよい。
(貼り合せ工程2)
Next, in step S <b> 12 of FIG. 10, the droplet L <b> 2 is injected into the gap 15 a by the droplet discharge method, and the gap 15 a is filled with the liquid 15. The liquid 15 is water, for example. Other than water, ethanol, acetone, methanol, IPA, or the like may be used. These water, ethanol, acetone, methanol, IPA, and the like are substances having a higher refractive index than air, and the refractive index is about 1.3 to 1.4. The liquid 15 flows out from the gap 15a after the stacked body P is cut and divided. Although the droplet discharge method is adopted when the droplet L2 is injected into the gap portion 15a, the present invention is not limited to this, and other methods may be adopted. For example, the substrate 15 itself may be dipped into the liquid 15 to arrange the liquid 15 in the gap 15a, or the dispenser containing the liquid 15 may be used to arrange the liquid 15 in the gap 15a.
(Lamination process 2)

図10のステップS13では、図9(c)に示すように、基板P3を接着剤などで貼り合せて、積層体Pを形成する。なお、基板P3の貼り合せ方法、材料、厚さについては、実施形態1と同じであるので、説明を省略する。基板P1、基板P2、基板P3を積層して形成された積層体Pの厚さは、約300μmとなる。
(改質層形成工程)
In step S13 of FIG. 10, as shown in FIG. 9C, the substrate P3 is bonded with an adhesive or the like to form the laminate P. Since the bonding method, material, and thickness of the substrate P3 are the same as those in the first embodiment, the description thereof is omitted. The thickness of the stacked body P formed by stacking the substrate P1, the substrate P2, and the substrate P3 is about 300 μm.
(Modified layer formation process)

図10のステップS14では、図9(d)に示すように、レーザ光5を照射して、積層体Pに改質層としての材料変質部7を形成する。使用するレーザ光源は、第1実施形態で使用したレーザと同じであり、半導体レーザを励起するものである。なお、レーザ光5を照射するための詳細な条件も、第1実施形態と同じであるので、説明を省略する。レーザ光5を積層体Pの内部に照射して、図9(e)に示す、基板P2、P3の内部に改質層としての材料変質部7を形成する。ただし、空隙部15aには液体15が満たされているから、液体15にレーザ光5を照射しても、基板P1には改質層としての材料変質部7が形成されない。
(分割工程)
In step S14 of FIG. 10, as shown in FIG. 9 (d), the laser beam 5 is irradiated to form the material altered portion 7 as a modified layer in the stacked body P. The laser light source used is the same as the laser used in the first embodiment, and excites the semiconductor laser. Note that detailed conditions for irradiating the laser beam 5 are also the same as those in the first embodiment, and thus description thereof is omitted. The laminated body P is irradiated with the laser beam 5 to form a material altered portion 7 as a modified layer inside the substrates P2 and P3 shown in FIG. 9 (e). However, since the gap 15a is filled with the liquid 15, even if the liquid 15 is irradiated with the laser beam 5, the material altered portion 7 as a modified layer is not formed on the substrate P1.
(Division process)

次に、図10のステップS15では、図9(f)に示すように、積層体Pを分割する。積層体Pの分割方法は、第1実施形態と同じであるので、説明を省略する。そして、積層体Pを分割することによって、図11に示すインクジェットヘッド50を形成することができる。   Next, in step S15 of FIG. 10, the stacked body P is divided as shown in FIG. Since the division method of the stacked body P is the same as that of the first embodiment, the description thereof is omitted. Then, by dividing the laminate P, the ink jet head 50 shown in FIG. 11 can be formed.

第2実施形態では、以下の効果が得られる。   In the second embodiment, the following effects can be obtained.

(5)積層体Pを構成する基板P1、P2、P3の一部に空隙部15aを有する基板P1があっても、空隙部15aに液体15を満たしてから積層体Pを形成して、液体15を通過するようにレーザ光5を照射させるから、基板P2とP3との内部に材料変質部7を形成することができる。積層体Pの深さ方向全域に材料変質部7を形成できれば、外部から応力を加えることによって、材料変質部7に沿って積層体Pを簡単に切断・分割できる。しかも、液体15が、空隙部15aに配置されていると、積層体Pを分割した後に空隙部15aに配置された液体15が、積層体Pの外部に流れ出してしまうから、除去する必要がない。空隙部15aに液体15が、液滴吐出法により配置されているから、空隙部15aの体積が変更になっても、注入する液滴L2の量を変えるだけでよいので、簡単である。そして、簡単に分割できる積層体Pを提供できる。
(6)液滴L2の屈折率が1.3以上であると、空気より屈折率が高いから、より深い位置まで加工ができるので、積層体Pにレーザ光を照射させれば、積層体Pの深さ方向全域に材料変質部7を形成することができる。
(5) Even if there is a substrate P1 having a gap 15a in a part of the substrates P1, P2, and P3 constituting the laminate P, the laminate P is formed after the liquid 15 is filled in the gap 15a. Since the laser beam 5 is irradiated so as to pass through 15, the material altered portion 7 can be formed inside the substrates P2 and P3. If the material altered portion 7 can be formed in the entire depth direction of the laminate P, the laminate P can be easily cut and divided along the material altered portion 7 by applying stress from the outside. In addition, when the liquid 15 is disposed in the gap 15a, the liquid 15 disposed in the gap 15a after dividing the stacked body P flows out of the stacked body P, and thus does not need to be removed. . Since the liquid 15 is arranged in the gap portion 15a by the droplet discharge method, even if the volume of the gap portion 15a is changed, it is simple because only the amount of the droplet L2 to be injected is changed. And the laminated body P which can be divided | segmented easily can be provided.
(6) If the refractive index of the droplet L2 is 1.3 or higher, the refractive index is higher than that of air, so that processing can be performed to a deeper position. The material altered portion 7 can be formed in the entire depth direction.

図11は、本発明の実施形態1および実施形態2の形成方法に係るインクジェットヘッドを示す説明図である。   FIG. 11 is an explanatory view showing an ink jet head according to the forming method of Embodiment 1 and Embodiment 2 of the present invention.

図11に示すように、インクジェットヘッド50は外形が、下側からノズルプレート51、アクチュエータ基板52、駆動膜53、封止板54、コンプライアンス基板55から構成されており、これらは互いに接着剤66等で接合されている。駆動膜53の一部である駆動部53aには電圧を印加するための配線56が接続されている。また、アクチュエータ基板52、駆動膜53、封止板54には貫通穴が形成されており、この貫通穴の底部がノズルプレート51によって塞がれることによりリザーバ57が形成されている。また、コンプライアンス基板55のリザーバ57に対応する部分には、外部からリザーバ57にインク等の液体を供給するための液体供給穴58が形成されている。   As shown in FIG. 11, the outer shape of the inkjet head 50 is composed of a nozzle plate 51, an actuator substrate 52, a driving film 53, a sealing plate 54, and a compliance substrate 55 from the lower side. It is joined with. A wiring 56 for applying a voltage is connected to the driving unit 53a which is a part of the driving film 53. A through hole is formed in the actuator substrate 52, the drive film 53, and the sealing plate 54, and a reservoir 57 is formed by closing the bottom of the through hole with the nozzle plate 51. A liquid supply hole 58 for supplying a liquid such as ink from the outside to the reservoir 57 is formed in a portion corresponding to the reservoir 57 of the compliance substrate 55.

アクチュエータ基板52の上面の駆動膜53に接する部分には、弾性膜59が形成されており、この弾性膜59は酸化シリコン層59aと酸化ジルコニウム層59bで構成されている。なお、弾性膜59は必ずしも酸化シリコン層59aと酸化ジルコニウム層59bで構成する必要はない。アクチュエータ基板52のノズルプレート51側には複数の圧力室60となる凹部が形成されており、またノズルプレート51には、各圧力室60に対応して液滴を吐出するためのノズル孔61が形成されている。さらに、封止板54の駆動膜53側には、駆動部53a及び配線56を保護するための封止部62となる凹部が形成されている。   An elastic film 59 is formed on the upper surface of the actuator substrate 52 in contact with the drive film 53, and the elastic film 59 includes a silicon oxide layer 59a and a zirconium oxide layer 59b. The elastic film 59 is not necessarily composed of the silicon oxide layer 59a and the zirconium oxide layer 59b. On the nozzle plate 51 side of the actuator substrate 52, concave portions to be a plurality of pressure chambers 60 are formed. In the nozzle plate 51, nozzle holes 61 for discharging droplets corresponding to the pressure chambers 60 are formed. Is formed. Further, a recess serving as a sealing portion 62 for protecting the driving portion 53 a and the wiring 56 is formed on the sealing plate 54 on the driving film 53 side.

アクチュエータ基板52には、リザーバ57と各圧力室60とを連結するオリフィス63が形成されており、駆動膜53の一部である駆動部53aは各圧力室60の上部に個別に設けられている。   The actuator substrate 52 is formed with orifices 63 that connect the reservoir 57 and the pressure chambers 60, and the drive portions 53 a that are part of the drive membrane 53 are individually provided above the pressure chambers 60. .

また、インクジェットヘッド50では、弾性膜59におけるリザーバ57に面する位置に押さえ部64が形成されている。この押さえ部64は、単結晶シリコンからなるアクチュエータ基板52にボロンを高濃度にドープして形成されており、アクチュエータ基板52の一部として形成されている。押さえ部64は、弾性膜59のオリフィス63の部分に凸状に形成されているが、少なくとも弾性膜59におけるリザーバ57に面する位置に形成してあれば、リザーバ57側や圧力室60側にはみ出る形で形成してもよい。   In the ink jet head 50, a pressing portion 64 is formed at a position facing the reservoir 57 in the elastic film 59. The pressing portion 64 is formed by doping boron at a high concentration into the actuator substrate 52 made of single crystal silicon, and is formed as a part of the actuator substrate 52. The pressing portion 64 is formed in a convex shape at the orifice 63 portion of the elastic membrane 59. However, if it is formed at least at a position facing the reservoir 57 in the elastic membrane 59, the holding portion 64 is located on the reservoir 57 side or the pressure chamber 60 side. You may form in the form which protrudes.

ここで、インクジェットヘッド50の動作について説明する。なお、インクジェットヘッド50は、駆動部53aが圧電方式で駆動するものである。   Here, the operation of the inkjet head 50 will be described. The ink jet head 50 is driven by the driving unit 53a by a piezoelectric method.

駆動膜53は、下面側(アクチュエータ基板52側)から、チタン、イリジウム、白金等を積層した下電極、チタン酸ジルコン酸鉛等からなる圧電素子(PZT、Piezoelectric Tranceducer Material)、及びイリジウム等からなる上電極から構成されている。駆動部53aの上電極及び下電極に配線56を介して電圧を印加すると、圧電素子が例えば上側(封止板54側)にたわみ変形を起こす。圧電素子がたわみ変形するのに伴って、圧電素子と接合されている下電極及び弾性膜59もたわむようになっている。このとき、インク等の液体が外部から液体供給穴58からリザーバ57に供給されており、この液体は圧電素子がたわむとオリフィス63を通って圧力室60に流れ込む。そして、上電極及び下電極に印加された電圧を除去すると、圧電素子が元の状態に戻り圧力室の圧力が高まる。これにより、液体がノズル孔61から液滴として吐出される。なお、圧電素子は下側にたわむものであっても、同様にインク等の液体を液滴として吐出させることができる。   The drive film 53 is composed of a lower electrode laminated with titanium, iridium, platinum or the like, a piezoelectric element (PZT, Piezoelectric Transducer Material) made of lead zirconate titanate, iridium, or the like from the lower surface side (actuator substrate 52 side). It consists of an upper electrode. When a voltage is applied to the upper electrode and the lower electrode of the drive unit 53a via the wiring 56, the piezoelectric element is bent and deformed, for example, on the upper side (sealing plate 54 side). As the piezoelectric element is bent and deformed, the lower electrode and the elastic film 59 joined to the piezoelectric element are also bent. At this time, liquid such as ink is supplied from the liquid supply hole 58 to the reservoir 57 from the outside, and this liquid flows into the pressure chamber 60 through the orifice 63 when the piezoelectric element is bent. When the voltage applied to the upper electrode and the lower electrode is removed, the piezoelectric element returns to its original state and the pressure in the pressure chamber increases. Thereby, the liquid is ejected from the nozzle hole 61 as a droplet. Even if the piezoelectric element bends downward, a liquid such as ink can be similarly ejected as droplets.

図12は、電子機器としてのインクジェット記録装置の例を示す図である。   FIG. 12 is a diagram illustrating an example of an ink jet recording apparatus as an electronic apparatus.

図12に示すように、インクジェット記録装置100は、インクジェットプリンタであり、実施形態1又は実施形態2で得られたインクジェットヘッド50を搭載している。このインクジェットヘッド50は、切りくず詰まりのない品質の良好なノズル孔61を有しているものであるから、インクジェット記録装置100は、吐出性能に優れているものである。   As shown in FIG. 12, the ink jet recording apparatus 100 is an ink jet printer, and includes the ink jet head 50 obtained in the first embodiment or the second embodiment. Since the inkjet head 50 has the nozzle holes 61 with good quality without chip clogging, the inkjet recording apparatus 100 is excellent in ejection performance.

また、レーザ光5による積層体Pの切断・分割方法は、インクジェットヘッド50の他に、半導体素子、液晶表示装置、圧電素子などのような、基板の高精度接合が必要な積層体の切断・分割ができる。また、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、DNAデバイス等にも応用することができる。   In addition to the inkjet head 50, the method of cutting / dividing the stacked body P with the laser beam 5 can be used to cut and stack a stacked body such as a semiconductor element, a liquid crystal display device, and a piezoelectric element that require high-precision bonding of substrates. Can be divided. Further, it can be applied to an organic electroluminescence display device, a DNA device and the like.

以上、好ましい実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記各実施の形態に限定されるものではなく、以下に示すような変形をも含み、本発明の目的を達成できる範囲で、他のいずれの具体的な構造および形状に設定できる。   The present invention has been described above with reference to preferred embodiments. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and includes the following modifications and the scope in which the object of the present invention can be achieved. Thus, it can be set to any other specific structure and shape.

(変形例1)前述の第1実施形態および第2実施形態で、レーザ光照射工程におけるレーザ光の集光方法として、積層体Pの厚さ方向に集光点を移動させながら集光したが、これに限らない。例えば図13に示すように、発散角の異なる複数のレーザ光を集光素子により集光して照射してもかまわない。このようにすれば、第1実施形態および第2実施形態と同様の効果が得られる他に、レーザ光照射工程での材料変質部7の形成にかかる時間を短縮することができるから、加工効率を向上することが可能となる。   (Modification 1) In the first embodiment and the second embodiment described above, as a method of condensing the laser light in the laser light irradiation step, the light is condensed while moving the condensing point in the thickness direction of the stacked body P. Not limited to this. For example, as shown in FIG. 13, a plurality of laser beams having different divergence angles may be condensed by a condensing element and irradiated. In this way, the same effects as those of the first embodiment and the second embodiment can be obtained, and the time required for forming the material altered portion 7 in the laser light irradiation process can be shortened. Can be improved.

(変形例2)前述の第1実施形態および第2実施形態で、レーザ光照射工程におけるレーザ光の集光方法として、積層体Pの厚さ方向に集光点を移動させながら集光したが、これに限らない。例えば図14に示すように、レーザ光を回折光学素子により複数のビームに分岐して多点同時に照射してもかまわない。このようにすれば、第1実施形態および第2実施形態と同様の効果が得られる他に、レーザ光照射工程での材料変質部7の形成にかかる時間を短縮することができるから、加工効率を向上することが可能となる。   (Modification 2) In the first embodiment and the second embodiment described above, as a method of condensing the laser light in the laser light irradiation step, the light is condensed while moving the condensing point in the thickness direction of the laminate P. Not limited to this. For example, as shown in FIG. 14, laser light may be split into a plurality of beams by a diffractive optical element and irradiated at multiple points simultaneously. In this way, the same effects as those of the first embodiment and the second embodiment can be obtained, and the time required for forming the material altered portion 7 in the laser light irradiation process can be shortened. Can be improved.

(変形例3)前述の第1実施形態および第2実施形態で、基板P1、P2、P3の材料にシリコンを採用したが、これに限らない。例えばシリコン以外の材料であってもかまわない。このようにしても、第1実施形態および第2実施形態と同様の効果が得られる上に、インクジェットヘッド50以外のその他のデバイスを提供することが可能となる。   (Modification 3) In the first and second embodiments described above, silicon is used as the material for the substrates P1, P2, and P3. However, the present invention is not limited to this. For example, a material other than silicon may be used. Even if it does in this way, while obtaining the effect similar to 1st Embodiment and 2nd Embodiment, it becomes possible to provide other devices other than the inkjet head 50. FIG.

(変形例4)前述の第1実施形態および第2実施形態で、積層体Pは、基板P1、P2、P3の3枚構成としたが、これに限らない。例えば積層体Pを4枚以上の構成にしてもよい。このようにすれば、第1実施形態および第2実施形態と同様の効果が得られる上に、インクジェットヘッド50以外のその他のデバイスを提供することが可能となる。   (Modification 4) In the first embodiment and the second embodiment described above, the laminated body P has the three-layer structure of the substrates P1, P2, and P3, but is not limited thereto. For example, you may make the laminated body P into the structure of 4 or more sheets. In this way, the same effects as those of the first and second embodiments can be obtained, and other devices other than the inkjet head 50 can be provided.

液滴吐出装置の全体構成を示す概略斜視図。FIG. 2 is a schematic perspective view showing an overall configuration of a droplet discharge device. ピエゾ方式による液体材料の吐出原理を説明するための図。The figure for demonstrating the discharge principle of the liquid material by a piezo system. 第1実施形態における積層体を示す概略図。Schematic which shows the laminated body in 1st Embodiment. (a)は、インクジェットヘッドの千鳥配列を示す積層体の平面図。(b)は、積層体の断面図。(A) is a top view of the laminated body which shows the staggered arrangement | sequence of an inkjet head. (B) is sectional drawing of a laminated body. レーザ光による材料変質部形成方法を説明するための図。The figure for demonstrating the material alteration part formation method by a laser beam. (a)〜(h)は、積層体の分割工程を示す図。(A)-(h) is a figure which shows the division | segmentation process of a laminated body. 積層体の分割工程の手順を示す概略フローチャート。The schematic flowchart which shows the procedure of the division | segmentation process of a laminated body. 第2実施形態における積層体を示す概略図。Schematic which shows the laminated body in 2nd Embodiment. (a)〜(f)は、積層体の分割工程を示す図。(A)-(f) is a figure which shows the division | segmentation process of a laminated body. 積層体の分割工程の手順を示す概略フローチャート。The schematic flowchart which shows the procedure of the division | segmentation process of a laminated body. インクジェットヘッドを説明するための図。The figure for demonstrating an inkjet head. 電子機器としてのインクジェット記録装置の例を示す図。FIG. 6 is a diagram illustrating an example of an inkjet recording apparatus as an electronic apparatus. 変形例1における発散角の異なる複数のレーザ光を集光素子により集光して照射する例を示す図。The figure which shows the example which condenses and irradiates the several laser beam from which the divergence angle differs in the modification 1 with a condensing element. 変形例2におけるレーザ光を回折光学素子により複数のビームに分岐して多点同時に照射する例を示す図。The figure which shows the example which divides | segments the laser beam in the modification 2 into a several beam with a diffractive optical element, and irradiates multiple points simultaneously.

符号の説明Explanation of symbols

5…レーザ光、6…集光素子としてのレンズ、7…材料変質部、10…液状部材、11…充填部材、11a…空隙部、15…液体、15a…空隙部、31…液滴吐出ヘッド、50…デバイスとしてのインクジェットヘッド、100…電子機器としてのプリンタ、P1、P2、P3…基板、P…積層体、Q…貼り合せ基板、L1…機能液、L2…液滴。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 5 ... Laser beam, 6 ... Lens as condensing element, 7 ... Material alteration part, 10 ... Liquid member, 11 ... Filling member, 11a ... Gap part, 15 ... Liquid, 15a ... Gap part, 31 ... Droplet discharge head 50, inkjet head as device, 100, printer as electronic device, P1, P2, P3, substrate, P, laminate, Q, bonded substrate, L1, functional liquid, L2, droplet.

Claims (12)

複数の基板からなる積層体の加工方法であって、
前記積層体は、前記複数の基板のうち、空隙部を備えた基板を有しており、前記空隙部に液滴吐出法で機能液を配置する工程と、
前記機能液を固化させて、充填部材を形成する工程と、
前記充填部材を通過するようにレーザ光を照射して、前記積層体に材料変質部を形成するレーザ光照射工程と、
を備えていることを特徴とする積層体の加工方法。
A method for processing a laminate comprising a plurality of substrates,
The laminate includes a substrate having a void portion among the plurality of substrates, and a step of disposing a functional liquid in the void portion by a droplet discharge method;
Solidifying the functional liquid to form a filling member;
A laser beam irradiation step of irradiating a laser beam so as to pass through the filling member to form a material altered portion in the laminate;
A method for processing a laminate, comprising:
請求項1に記載の積層体の加工方法において、
前記充填部材を形成する工程では、
前記充填部材の屈折率が、前記基板の屈折率と同等以上であることを特徴とする積層体の加工方法。
In the processing method of the laminated body of Claim 1,
In the step of forming the filling member,
The processing method of a laminated body, wherein the refractive index of the filling member is equal to or higher than the refractive index of the substrate.
複数の基板からなる積層体の加工方法であって、
前記積層体は、前記複数の基板のうち、空隙部を備えた基板を有しており、前記空隙部に液滴吐出法で液滴を配置する工程と、
前記液滴を通過するようにレーザ光を照射して、前記積層体に材料変質部を形成するレーザ光照射工程と、
を備えていることを特徴とする積層体の加工方法。
A method for processing a laminate comprising a plurality of substrates,
The laminated body has a substrate having a void portion among the plurality of substrates, and a step of arranging droplets in the void portion by a droplet discharge method;
A laser beam irradiation step of irradiating a laser beam so as to pass through the liquid droplets to form a material altered portion in the laminate;
A method for processing a laminate, comprising:
請求項3に記載の積層体の加工方法において、
前記液滴を配置する工程では、
前記液滴の屈折率が1.3以上であることを特徴とする積層体の加工方法。
In the processing method of the laminated body of Claim 3,
In the step of arranging the droplets,
A method for processing a laminate, wherein the droplet has a refractive index of 1.3 or more.
請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の積層体の加工方法において、
前記基板は、シリコン単結晶からなる材料で構成されており、
前記レーザ光照射工程では、
前記積層体にレーザ光を集光素子で集光して照射させて、
前記材料変質部を形成することを特徴とする積層体の加工方法。
In the processing method of the laminated body as described in any one of Claims 1-4,
The substrate is made of a material made of silicon single crystal,
In the laser light irradiation step,
A laser beam is condensed and irradiated on the laminate by a condensing element,
A method for processing a laminate, wherein the material-modified part is formed.
請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載の積層体の加工方法において、
前記レーザ光照射工程では、
前記レーザ光は、YAGレーザであり、前記YAGレーザの基本波を照射させて、
前記材料変質部を形成することを特徴とする積層体の加工方法。
In the processing method of the laminated body as described in any one of Claims 1-5,
In the laser light irradiation step,
The laser beam is a YAG laser and is irradiated with a fundamental wave of the YAG laser.
A method for processing a laminate, wherein the material-modified part is formed.
請求項1〜請求項6のいずれか一項に記載の積層体の加工方法において、
前記レーザ光照射工程では、
前記レーザ光を回折光学素子により複数のビームに分岐させ、前記複数のビームを照射させて、
前記材料変質部を形成することを特徴とする積層体の加工方法。
In the processing method of the laminated body as described in any one of Claims 1-6,
In the laser light irradiation step,
Branching the laser light into a plurality of beams by a diffractive optical element, irradiating the plurality of beams,
A method for processing a laminate, wherein the material-modified part is formed.
複数の基板が積層されている積層体であって、
前記複数の基板のうち、空隙部を有する基板と、
前記空隙部に液滴吐出法により機能液を配置させ、前記機能液を固化させて形成された充填部材と、
前記充填部材を通過するようにレーザ光を照射させて、前記積層体を構成する材料を変質させて形成された材料変質部と、
を備えていることを特徴とする積層体。
A laminate in which a plurality of substrates are laminated,
Of the plurality of substrates, a substrate having a gap,
A filling member formed by disposing a functional liquid in the gap by a droplet discharge method and solidifying the functional liquid;
A material alteration part formed by irradiating a laser beam so as to pass through the filling member and altering the material constituting the laminate;
A laminate comprising:
複数の基板が積層されている積層体であって、
前記複数の基板のうち、空隙部を有する基板と、
前記空隙部に液滴吐出法により配置された液滴と、
前記液滴を通過するようにレーザ光を照射させて、前記積層体を構成する材料を変質させて形成された材料変質部と、
を備えていることを特徴とする積層体。
A laminate in which a plurality of substrates are laminated,
Of the plurality of substrates, a substrate having a gap,
A droplet disposed by a droplet discharge method in the gap,
A material alteration part formed by irradiating a laser beam so as to pass through the droplets and altering the material constituting the laminate;
A laminate comprising:
請求項1〜請求項7のいずれか一項に記載の積層体の加工方法でデバイスを形成することを特徴とするデバイスの製造方法。   A device manufacturing method, comprising: forming a device by the laminate processing method according to claim 1. 請求項10に記載のデバイスの製造方法で形成されたことを特徴とするデバイス。   A device formed by the device manufacturing method according to claim 10. 請求項11に記載のデバイスとしてのインクジェットヘッドを搭載したことを特徴とするインクジェット記録装置。
An ink jet recording apparatus comprising the ink jet head as the device according to claim 11.
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