JP2007053154A - マスク基板用の洗浄装置及びそれを用いたマスク基板の洗浄方法 - Google Patents

Abstract

【課題】四角形のマスク基板の端面全体を容易にかつ確実に洗浄することができるマスク基板用の洗浄装置を提供する。
【解決手段】チャンバー２と、対向配置された回転可能な洗浄ブラシ８ａ，８ｂと、マスク基板５を端面で狭んで保持し、対向する洗浄ブラシの間に相対的に移動可能なロボットアーム６と、ロボットアームで保持されたマスク基板の少なくとも表裏面及び洗浄ブラシのいずれかに対して洗浄液を供給する洗浄液供給手段７，９，２０とを具備し、ロボットアームによりマスク基板を一組の対向する端面で狭んで保持し、洗浄液供給手段から洗浄液を前記マスク基板及び／又は洗浄ブラシ８に供給するとともにロボットアームで保持された基板を対向する洗浄ブラシの間で相対的に移動させることにより、ロボットアームで保持されていない対向する端面を洗浄ブラシで洗浄するものであることを特徴とするマスク基板用の洗浄装置１。
【選択図】図１

Description

本発明は、半導体デバイスの作製工程等におけるフォトリソグラフィーで使用するマスク基板を洗浄するための洗浄装置に関する。

半導体デバイス、液晶表示装置（ＬＣＤ）等の製造工程では、シリコンウエーハやガラス基板等に微細なパターン形成を行うため、所望のパターンが形成されたマスク基板を用いてフォトリソグラフィーが行われる。
フォトリソグラフィー工程においてマスク基板にパーティクル等が付着しているとパターン形成不良を引き起こすため、マスク基板は清浄に保つ必要があり、マスク基板の両面のみならず端面も洗浄する必要がある。

マスク基板を洗浄する場合、純水あるいは洗浄液を満たした洗浄槽に基板を投入してメガソニック洗浄を行う方法がある。しかし、この方法では、メガソニック照射が部分的に十分あたらず、洗浄ムラが生じる場合がある。この場合、人力で磨き洗浄を行う必要がある。

一方、マスク基板用の洗浄装置として、洗浄槽、水洗槽、及び乾燥槽を備えた装置が提案されている（特許文献１参照）。例えば、マスク基板の角部をアームで保持し、洗浄槽で基板に対し、超音波を掛けた純水を噴射するとともにブラシで擦って洗浄した後、他の洗浄槽内に収容された洗浄液中に浸漬する。次いで、基板を水洗槽に搬送して表面の洗浄液を除去し、さらに乾燥槽に搬送して乾燥が行われる。
このような装置では、基板の側面（端面）も洗浄することができるとされているが、多数の槽を備えるため、装置が大型化してしまうほか、基板をアームで保持して各槽間を搬送させるため、搬送中にパーティクル等が付着するおそれがある。

また、回転テーブルによりマスク基板の周囲を支持し、上下に配置されたノズルから基板の両面に洗浄液を供給して洗浄した後、基板を回転させることにより乾燥（スピン乾燥）を行う洗浄装置が提案されている（特許文献２参照）。
このように回転テーブルでマスク基板を支持して洗浄を行う装置では、装置を小型化することができ、回転テーブルに載置したまま洗浄から乾燥まで行うことができる。しかし、基板の支持されている部分が洗浄されず、洗浄液が当たる部分でも汚れを十分除去できない場合もある。

洗浄液による化学的な洗浄のみでは除去することができない基板の端面の汚染を除去するため、基板の裏面を保持して回転させ、基板の端面付近に洗浄液を供給するとともに端面にブラシを接触させて端面の洗浄を行う洗浄装置が提案されている（特許文献３参照）。このように洗浄液とブラシによって基板の端面を洗浄すれば、洗浄液のみでは除去できない汚染物質も除去することができる。しかし、この洗浄装置では、基板を回転させ、基板の端面をブラシと接触させて洗浄するため、実質的に円形の基板の端面を洗浄する場合に限られ、四角形のマスク基板の端面を洗浄することはできない。

特開平５−２５９１３７号公報 特開平１０−２６０５２２号公報 特開２００３−１９７５９２号公報

上記問題点に鑑み、本発明は、四角形のマスク基板の端面全体を容易にかつ確実に洗浄することができるマスク基板用の洗浄装置を提供することを主な目的とする。

上記目的を達成するため、本発明によれば、四角形のマスク基板を洗浄するための装置であって、少なくとも、チャンバーと、該チャンバー内で対向配置された回転可能な洗浄ブラシと、前記マスク基板を端面で狭んで保持し、前記対向する洗浄ブラシの間に相対的に移動可能なロボットアームと、該ロボットアームで保持されたマスク基板の少なくとも表裏面及び前記洗浄ブラシのいずれかに対して洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを具備し、前記ロボットアームにより前記マスク基板を一組の対向する端面で狭んで保持し、前記洗浄液供給手段から洗浄液を前記マスク基板及び／又は洗浄ブラシに供給するとともに前記ロボットアームで保持された基板を前記対向する洗浄ブラシの間で相対的に移動させることにより、前記ロボットアームで保持されていない対向する端面を前記洗浄ブラシで洗浄するものであることを特徴とするマスク基板用の洗浄装置が提供される（請求項１）。

このような洗浄装置であれば、ロボットアームによりマスク基板を対向する端面で保持し、ロボットアームを回避することなく、対向するブラシの間で相対的に移動させることで、保持されていない対向する端面を２面同時にブラシ洗浄することができる。従って、マスク基板の対向する端面を２面同時に洗浄した後、ロボットアームにより基板を洗浄した端面で保持し直し、当初ロボットアームで保持していた対向する端面を２面同時に洗浄することにより、端面全体を容易にかつ確実に洗浄することができる。

前記チャンバー内において、少なくとも、回転テーブルと、該回転テーブル上に設けられ、前記マスク基板の外周を支持する支持ピンとを有する基板回転手段を備えることが好ましい（請求項２）。
このような基板回転手段を備えていれば、マスク基板の端面を容易に保持し直すことができ、基板の端面全体を一層容易に洗浄することができる洗浄装置となる。

前記基板回転手段の支持ピンで支持されているマスク基板の表裏両面に対して洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルを備えることが好ましい（請求項３）。
このような洗浄液供給ノズルを備えていれば、マスク基板の端面全体を洗浄した後、基板回転手段に引き渡したマスク基板の表裏両面も洗浄することができるし、また基板を持ち直す操作をしている間に基板を汚すことを防ぐことができる。

また、前記回転テーブル及び／又は支持ピンが上下動可能なものとすることができる（請求項４）。
回転テーブル又は支持ピンが上下動可能であれば、ロボットアームと基板回転手段との間でのマスク基板の受け渡しや、保持し直す操作が一層容易となる。

前記洗浄液供給手段として、前記ロボットアームに、該ロボットアームで保持されたマスク基板に対して洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルが設けられていることが好ましい（請求項５）。
ロボットアームに取り付けられた洗浄液供給ノズルからロボットアームで保持されたマスク基板に対して洗浄液を供給すれば、基板の表裏面の乾燥を防ぎ、汚染やステインが残ることを確実に防止することができる洗浄装置となる。

前記ロボットアームに対して洗浄液を供給するアーム洗浄ノズルを備えることが好ましい（請求項６）。
ロボットアームを洗浄するためのアーム洗浄ノズルを備えていれば、基板の端面を洗浄した後、この洗浄した端面で基板を保持し直す際、ロボットアームによって洗浄された基板の端面等が汚染されることを防ぐことができる。

前記対向する洗浄ブラシが、それぞれ円筒状又は円柱状のものであることが好ましい（請求項７）。
円筒状又は円柱状の洗浄ブラシであれば、これらのブラシを回転させることでマスク基板の端面を効率的に洗浄することができる。

前記対向する洗浄ブラシが、該ブラシ間で移動する基板に対して揺動できるものであることが好ましい（請求項８）。
洗浄ブラシが揺動できるものであれば、種々の大きさの基板に対応して端面をブラシ洗浄することができるものとなる。

前記基板回転手段を包囲し、前記洗浄液の飛散を抑制するカバー手段を備えることが好ましい（請求項９）。
このようなカバー手段を備えていれば、基板回転手段に支持されたマスク基板を洗浄する場合等、チャンバー内に洗浄液が飛散することを抑制することができる。

この場合、前記カバー手段が上下動可能であることが好ましい（請求項１０）。
カバー手段が上下動可能であれば、ロボットアームとカバー手段との干渉を防いだり、基板回転手段により支持されているマスク基板を洗浄等する際の洗浄液の飛散をより確実に防ぐことができる。

前記チャンバー内の雰囲気を浄化するためのフィルタが設けられているものとすることもできる（請求項１１）。
フィルタによりチャンバー内を清浄な雰囲気に保つことができ、洗浄されたマスク基板へのパーティクル等の再付着を確実に防止することができる。

さらに本発明によれば、四角形のマスク基板を洗浄する方法であって、前記本発明に係る洗浄装置を用い、少なくとも、前記ロボットアームにより前記マスク基板を一組の対向する端面で狭んで保持し、前記洗浄液供給手段から洗浄液を前記マスク基板及び／又は洗浄ブラシに供給するとともに前記ロボットアームで保持された基板を前記対向する洗浄ブラシの間で相対的に移動させることにより、前記ロボットアームで保持されていない対向する端面を前記洗浄ブラシで洗浄する工程と、該基板を前記基板回転手段に引き渡し、該基板の外周を前記支持ピンで支持した状態で前記回転テーブルを９０°回転した後、前記ロボットアームにより前記基板を前記洗浄した対向する端面で挟んで保持し直し、該ロボットアームで保持されていない前記一組の対向する端面を前記洗浄ブラシで洗浄する工程と、該基板を前記基板回転手段に再度引き渡し、該基板の表裏両面に対して洗浄液を供給して洗浄する工程を行うことを特徴とするマスク基板の洗浄方法が提供される（請求項１２）。

本発明に係る洗浄装置を用いてマスク基板の端面を２面ずつ同時に洗浄ブラシで洗浄すれば、基板の端面全体を容易にかつ確実にブラシ洗浄することができ、全ての端面（全周）を洗浄した後、基板回転手段により支持された基板の表裏両面に対して洗浄液を供給して洗浄することで、基板の全面を洗浄することができる。

前記マスク基板の表裏両面を洗浄した後、前記回転テーブルを回転させて前記基板を乾燥する工程を行うこともできる（請求項１３）。
回転テーブルを回転させてマスク基板の表裏両面に付着している液体を遠心力で吹き飛ばして乾燥させれば、洗浄から乾燥まで行うことができる。

本発明に係るマスク基板用の洗浄装置は、ロボットアームによりマスク基板を対向する端面で保持し、ロボットアームを回避することなく、対向するブラシの間で相対的に移動させることで、保持されていない対向する端面を２面同時にブラシ洗浄することができる。従って、マスク基板の対向する端面を２面同時に洗浄した後、基板をロボットアームにより洗浄した端面で保持し直し、引き続いて当初ロボットアームで保持していた対向する端面を２面同時に洗浄することにより、端面全体を容易にかつ確実に洗浄することができる。

以下、添付の図面を参照しつつ、本発明に係るマスク基板用の洗浄装置及びこれを用いて四角形のマスク基板を洗浄する場合について具体的に説明する。
図１及び図２は、本発明に係るマスク基板用の洗浄装置の一例を示している。この装置１は、チャンバー２、洗浄ブラシ８ａ，８ｂ、ロボットアーム６、洗浄液供給手段７，９，２０、基板回転手段３、カバー手段１１等を備えている。

チャンバー２は、投入口１５を通じてマスク基板５を搬出入することができる。投入口１５はゲートバルブ１６により仕切られており、チャンバー２内の雰囲気は、搬送時以外は外部雰囲気と隔離することができる。また、チャンバー２の上部には、ＨＥＰＡフィルタ、ＵＬＰＡフィルタ等のフィルタを有するクリーンユニット１３が設けられており、チャンバー内の雰囲気を高いクリーン度に保つことができる。また、洗浄中のチャンバー内の気流を調整するため、チャンバー２の下部側面には整流板１２が設けられている。さらに、チャンバー２の底部には廃液口１０に向かって下降するスロープが形成されており、基板の洗浄に使用された洗浄液の廃液は、滞留することなく回収することができる。

チャンバー内には、２つの円筒状の洗浄ブラシ８ａ，８ｂが対向配置されている。各洗浄ブラシ８ａ，８ｂは回転可能であり、ブラシ８ａ，８ｂ間で移動する基板５に対して揺動することもできる。また、数値制御によりマスク基板５の幅に合わせてブラシ８ａ，８ｂ間の幅を調整できるものとしてもよい。
各洗浄ブラシ８ａ，８ｂは、マスク基板５にキズをつけないものを使用することができる。例えば半導体ウエーハ等の洗浄に使用するＰＶＡスポンジで円筒状又は円柱状に成形したもの（ＰＶＡブラシ）が好適である。このような洗浄ブラシ８ａ，８ｂを対向配置することでマスク基板５の端面を２面同時にブラシ洗浄することができる。なお、洗浄ブラシ８ａ，８ｂの数は特に限定されず、左右にそれぞれ２つ以上の洗浄ブラシ８ａ，８ｂを配置してもよい。

ロボットアーム６は、２本のアーム６ａ，６ｂと、これらのアーム６ａ，６ｂを上下、左右、前後へと自在に可動するアーム移動機構（動作部）２１から構成されている。
図３に示したよう、各アーム６ａ，６ｂはアーム移動機構２１から水平方向に延出し、対向する２つの洗浄ブラシ８ａ，８ｂの中間位置で下方に屈折した形状をしている。各アーム６ａ，６ｂの先端にはマスク基板５の端面を保持するためのハンド部１８ａ，１８ｂが設けられている。
アーム移動機構２１は、マスク基板５の大きさによってアーム６ａ，６ｂの位置を制御することができ、洗浄時のアーム６ａ，６ｂの動作についても座標制御することができる。

このようなロボットアーム６によれば、２本のアーム６ａ，６ｂが左右に開閉することによりハンド部１８ａ，１８ｂでマスク基板５の対向する２つの端面を狭んで保持することができる。例えば図３に示したように、アーム６ａ，６ｂ（ハンド部１８ａ，１８ｂ）によりマスク基板５を一組の対向する端面５ａ，５ｂで保持し、アーム移動機構２１のレール２３に沿って対向する洗浄ブラシ８ａ，８ｂの間に移動（通過、往復）させることにより、アーム６ａ，６ｂで保持されていない他の対向する端面５ｃ，５ｄを２面同時にブラシ洗浄することができる。

チャンバー２内には、種々の洗浄液供給ノズルが設けられている。上記ロボットアーム６には、アーム６ａ，６ｂで保持されたマスク基板５に対して洗浄液を供給することができる洗浄液供給ノズル２０ａ，２０ｂと、アーム６ａ，６ｂ（ハンド部１８ａ，１８ｂ）に対して洗浄液を供給するアーム洗浄ノズル２２ａ，２２ｂが設けられている。
各洗浄ブラシ８ａ，８ｂの前後にも、ロボットアーム６で保持されたマスク基板５に対して洗浄液を供給することができる洗浄液供給ノズル７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄが設けられている。
さらに、各洗浄ブラシ８ａ，８ｂ付近には、ブラシ８ａ，８ｂの乾燥防止、基板５の洗浄等のため、各洗浄ブラシ８ａ，８ｂに洗浄液を供給するブラシ洗浄液供給ノズル９ａ，９ｂが設けられている。

基板回転手段３は、回転テーブル１４と、回転テーブル１４上にマスク基板５を位置決めして基板５の外周を支持する８つの支持ピン４を有している。回転テーブル１４は、サーボモーター軸と連結されており、回転数等を制御することができる。回転テーブル１４上の支持ピン４は、ロボットアーム６への基板５の受け渡しを容易にするため上下動可能となっている。なお、回転テーブル１４が上下動可能であっても良い。このような基板回転手段３は、ロボットアーム６による基板の持ち替えの際に使用されるほか、チャンバー内にマスク基板５を搬送する搬送ロボット（不図示）と、チャンバー内のロボットアーム６との間で、基板５の搬送（受取、引渡）を仲介する役割をする。
また、基板回転手段３の近くには、支持ピン４で支持されているマスク基板５の表裏両面に対して洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル１９ａ，１９ｂが設けられている。

カバー手段１１は、基板回転手段３を包囲するように設けられており、上下動することができる。基板回転手段３の支持ピン４により支持されているマスク基板５を洗浄する際、カバー手段１１を上昇させることで洗浄液やミストがチャンバー２の内部全体に飛散することを防ぎ、洗浄した基板５の再汚染を防止することができる。また、マスク基板５をロボットアーム６から基板回転手段３に渡して保持し直す時などはカバー手段１１を下降させることで干渉を防ぎ、マスク基板５の基板回転手段３への受け渡し等を容易に行うことができる。

次に、このようなマスク基板用の洗浄装置１を用いて四角形のマスク基板５を洗浄する方法について具体的に説明する。
チャンバー２のゲートバルブ１６を介してマスク基板投入口１５が開き、搬送ロボットにより搬送されたマスク基板が基板回転手段３へと引き渡され、基板５の外周が支持ピン４によって支持される。
基板５がアーム６ａ，６ｂのハンド部１８ａ，１８ｂと同じ位置となるように支持ピン４（又は回転テーブル１４）が上昇した後、２本のアーム６ａ，６ｂのハンド部１８ａ，１８ｂによりマスク基板５を一組の対向する端面で狭んで保持する。これにより、基板５は基板回転手段３からアーム６ａ，６ｂへと受け渡される。なお、アーム６ａ，６ｂを下方に移動させてマスク基板５を保持してもよい。

マスク基板５を保持したアーム６ａ，６ｂを、水平移動させることによって対向する洗浄ブラシ８ａ，８ｂの間に基板５を移動させる。一方、対向配置された洗浄ブラシ８ａ，８ｂをそれぞれ回転させるとともに、ブラシ洗浄液供給ノズル９ａ，９ｂから各ブラシ８ａ，８ｂに洗浄液を供給する。なお、洗浄ブラシ８ａ，８ｂは必ずしも回転させる必要はないが、特に基板５の端面が汚れている場合には、ブラシ８ａ，８ｂを回転させることで洗浄効果を高めることができる。
また、アーム６ａ，６ｂによって保持されたマスク基板５の表裏面の乾燥防止、洗浄等のため、アーム６ａ，６ｂの洗浄液供給ノズル２０ａ，２０ｂ、あるいは各洗浄ブラシ８ａ，８ｂの前後の洗浄液供給ノズル７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄから基板５の表裏両面に対して洗浄液を供給してもよい。

図４に示されるように、ロボットアーム６に保持されたマスク基板５を、基板ガイド１７に沿って洗浄ブラシ８ａ，８ｂ間に移動し、アーム６ａ，６ｂで保持されていない基板５の端面を各洗浄ブラシ８ａ，８ｂに接触させる。これにより基板５の端面が２面同時にブラシ洗浄される。さらに、図５に示されるように、マスク基板５をブラシ８ａ，８ｂ間を通過させた後、アーム６ａ，６ｂを元の位置（回転テーブル１４の上方）に向けて移動させる。これにより、再度、基板５の同じ端面がブラシ洗浄される。このとき、アーム６ａ，６ｂは、ブラシ８ａ，８ｂで洗浄する基板５の対向する一組の端面とは別の対向する端面を保持しているため、ブラシ８ａ，８ｂと干渉することはない。従って、アーム６ａ，６ｂを回避させずに往復させることでき、アーム６ａ，６ｂに保持されていない基板５の端面を容易にかつ確実にブラシ洗浄することができる。なお、アーム６ａ，６ｂの往復回数は特に限定されず、アーム移動機構２１の設定により洗浄回数を数値制御すればよい。

マスク基板５を保持したアーム６ａ，６ｂが再び基板回転手段３の上方に到達すると、基板５を基板回転手段３に引き渡す。基板５の外周を支持ピン４で支持した状態で回転テーブル１４を９０°回転した後、ロボットアーム６により基板５を先に洗浄した対向する端面で挟んで保持し直す。

アーム６ａ，６ｂから基板回転手段３へと基板５が渡され、再びアーム６ａ，６ｂによって保持し直すまでの間に、アーム洗浄ノズル２２ａ，２２ｂから洗浄液を供給してアーム６ａ，６ｂのハンド部１８ａ，１８ｂを洗浄してもよい。待機中にハンド部１８ａ，１８ｂ、特に基板５の端面と接触する部分に洗浄液を供給して洗浄すれば、最初に洗浄した基板５の端面を保持し直す際にアーム６ａ，６ｂによって汚染されることを防ぐことができる。なお、待機中に限らず、例えば基板５の搬送中や端面の洗浄中もアーム洗浄ノズル２２ａ，２２ｂから洗浄液を供給してハンド部１８ａ，１８ｂの汚染を防ぐようにしてもよい。

基板５を保持し直した後、前記と同様に、基板５を保持したままアーム６ａ，６ｂが洗浄ブラシ８ａ，８ｂ間を通過し、往復することで基板５の残る２つの端面が同時にブラシ洗浄される。所定の回数のブラシ洗浄が終了すると、マスク基板５は基板回転手段３に再び受け渡される。支持ピン４によって支持されたマスク基板５の表裏両面に対し、洗浄液供給ノズル１９ａ，１９ｂから洗浄液を供給して洗浄する。このとき、カバー手段１１を上昇させておくことで、チャンバー内の他の部分に洗浄液やミストが飛散するのを抑制することができる。また、回転テーブル１４は回転又は静止した状態で洗浄することができるが、回転テーブル１４を回転させることで基板５の表裏両面全体を確実に洗浄することができる。なお、オゾンを含む液体を放出して基板５の表裏面に残るイオンレベルの洗浄液を除去することもできる。

洗浄終了後、マスク基板５は投入口１５を通じてチャンバー外に搬出される。なお、回転テーブル１４上の基板５は、受け取りを待つ間、乾燥を避けるため洗浄液供給ノズル１９ａ，１９ｂから所定の間洗浄液を供給してもよい。このように洗浄液を供給するタイミングも数値制御により設定可能である。
一方、洗浄後のマスク基板５を乾燥させる場合は、回転テーブル１４を高速回転させて遠心力により基板表面の液体を飛ばすことにより、基板５を乾燥させることができる。

以上のように本発明に係るマスク基板用の洗浄装置は、ロボットアームによりマスク基板を対向する端面で保持し、ロボットアームを回避することなく、アームで保持されていない他の対向する端面を２面同時に洗浄ブラシで洗浄することができる。従って、マスク基板の対向する端面を２面同時に洗浄した後、ロボットアームにより洗浄した端面で保持し直し、当初ロボットアームで保持していた対向する端面を２面同時に洗浄することにより、端面全体（全周）を容易にかつ確実に洗浄することができる。

本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。前述の実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

例えば、上記実施形態では、アームがブラシ方向に移動して基板の端面を洗浄する場合について説明したが、本発明では、アームで保持したマスク基板は洗浄ブラシの間に相対的に移動可能であればよく、洗浄ブラシが動いて基板の端面を洗浄するようにしてもよい。

本発明に係るマスク基板用洗浄装置の一例の概略を示す上面図である。 本発明に係るマスク基板用洗浄装置の一例の概略を示す断面図である。 ロボットアームによりマスク基板の端面を保持した状態を示す概略図である。 マスク基板の端面が洗浄ブラシで洗浄されている状態を示す上面図である。 マスク基板が洗浄ブラシを通過した状態を示す上面図である。

符号の説明

１…マスク基板用洗浄装置、 ２…チャンバー、 ３…基板回転手段、 ４…支持ピン、 ５…マスク基板、 ５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ…マスク基板の端面、 ６…ロボットアーム、 ６ａ，６ｂ…アーム、 ７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ…洗浄液供給ノズル、 ８ａ，８ｂ…洗浄ブラシ、 ９ａ，９ｂ…ブラシ洗浄液供給ノズル、 １０…廃液口、 １１…カバー手段、 １２…整流板、 １３…クリーンユニット（フィルタ）、 １４…回転テーブル、 １５…投入口、 １６…ゲートバルブ、 １７…基板ガイド、 １８ａ，１８ｂ…ハンド部、 １９ａ，１９ｂ…洗浄液供給ノズル、 ２０ａ，２０ｂ…洗浄液供給ノズル、 ２１…アーム移動機構（動作部）、 ２２ａ，２２ｂ…アーム洗浄ノズル。

Claims (13)

1. 四角形のマスク基板を洗浄するための装置であって、少なくとも、チャンバーと、該チャンバー内で対向配置された回転可能な洗浄ブラシと、前記マスク基板を端面で狭んで保持し、前記対向する洗浄ブラシの間に相対的に移動可能なロボットアームと、該ロボットアームで保持されたマスク基板の少なくとも表裏面及び前記洗浄ブラシのいずれかに対して洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを具備し、前記ロボットアームにより前記マスク基板を一組の対向する端面で狭んで保持し、前記洗浄液供給手段から洗浄液を前記マスク基板及び／又は洗浄ブラシに供給するとともに前記ロボットアームで保持された基板を前記対向する洗浄ブラシの間で相対的に移動させることにより、前記ロボットアームで保持されていない対向する端面を前記洗浄ブラシで洗浄するものであることを特徴とするマスク基板用の洗浄装置。
2. 前記チャンバー内において、少なくとも、回転テーブルと、該回転テーブル上に設けられ、前記マスク基板の外周を支持する支持ピンとを有する基板回転手段を備えることを特徴とする請求項１に記載のマスク基板用の洗浄装置。
3. 前記基板回転手段の支持ピンで支持されているマスク基板の表裏両面に対して洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルを備えることを特徴とする請求項２に記載のマスク基板用の洗浄装置。
4. 前記回転テーブル及び／又は支持ピンが上下動可能なものであることを特徴とする請求項２又は請求項３に記載のマスク基板用の洗浄装置。
5. 前記洗浄液供給手段として、前記ロボットアームに、該ロボットアームで保持されたマスク基板に対して洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルが設けられていることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載のマスク基板用の洗浄装置。
6. 前記ロボットアームに対して洗浄液を供給するアーム洗浄ノズルを備えることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか一項に記載のマスク基板用の洗浄装置。
7. 前記対向する洗浄ブラシが、それぞれ円筒状又は円柱状のものであることを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載のマスク基板用の洗浄装置。
8. 前記対向する洗浄ブラシが、該ブラシ間で移動する基板に対して揺動できるものであることを特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれか一項に記載のマスク基板用の洗浄装置。
9. 前記基板回転手段を包囲し、前記洗浄液の飛散を抑制するカバー手段を備えることを特徴とする請求項２ないし請求項８のいずれか一項に記載のマスク基板用の洗浄装置。
10. 前記カバー手段が上下動可能であることを特徴とする請求項９に記載のマスク基板用の洗浄装置。
11. 前記チャンバー内の雰囲気を浄化するためのフィルタが設けられていることを特徴とする請求項１ないし請求項１０のいずれか一項に記載のマスク基板用の洗浄装置。
12. 四角形のマスク基板を洗浄する方法であって、前記請求項３ないし請求項１１のいずれか一項に記載の洗浄装置を用い、少なくとも、前記ロボットアームにより前記マスク基板を一組の対向する端面で狭んで保持し、前記洗浄液供給手段から洗浄液を前記マスク基板及び／又は洗浄ブラシに供給するとともに前記ロボットアームで保持された基板を前記対向する洗浄ブラシの間で相対的に移動させることにより、前記ロボットアームで保持されていない対向する端面を前記洗浄ブラシで洗浄する工程と、該基板を前記基板回転手段に引き渡し、該基板の外周を前記支持ピンで支持した状態で前記回転テーブルを９０°回転した後、前記ロボットアームにより前記基板を前記洗浄した対向する端面で挟んで保持し直し、該ロボットアームで保持されていない前記一組の対向する端面を前記洗浄ブラシで洗浄する工程と、該基板を前記基板回転手段に再度引き渡し、該基板の表裏両面に対して洗浄液を供給して洗浄する工程を行うことを特徴とするマスク基板の洗浄方法。
13. 前記マスク基板の表裏両面を洗浄した後、前記回転テーブルを回転させて前記基板を乾燥する工程を行うことを特徴とする請求項１２に記載のマスク基板の洗浄方法。

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