JP2007011150A - Substrate laminating equipment - Google Patents
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Abstract
【課題】
機構が簡潔で而も基板の取扱い性のよい基板貼合せ装置を提供する。
【解決手段】
上被処理基板を吸着保持する上テーブルユニット19と、下被処理基板を吸着保持する下テーブルユニット14とを具備し、前記上テーブルユニットは吸着保持面が上下反転回転可能であると共に下向反転時に前記下テーブルユニットと正対可能に支持され、該下テーブルユニットは昇降可能である。
【選択図】 図1【Task】
Provided is a substrate laminating apparatus that has a simple mechanism and is easy to handle.
[Solution]
An upper table unit 19 for sucking and holding the upper substrate to be processed and a lower table unit 14 for sucking and holding the lower substrate to be processed are provided. Sometimes, the lower table unit is supported so as to face the lower table unit, and the lower table unit can be raised and lowered.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は太陽電池、液晶パネル等に使用される基板を製造する場合のガラス基板等の基板貼合工程に使用される基板貼合せ装置に関するものである。 The present invention relates to a substrate laminating apparatus used in a substrate laminating process for a glass substrate or the like when producing a substrate used for a solar cell, a liquid crystal panel or the like.
太陽電池、液晶パネルを製造する場合、ガラス基板等の薄板に薄膜を生成し、該薄膜を挾んで基板を貼合せる等して太陽電池、液晶パネル用の基板が製造されている。 When manufacturing a solar cell or a liquid crystal panel, a substrate for a solar cell or a liquid crystal panel is manufactured by forming a thin film on a thin plate such as a glass substrate and bonding the substrate while holding the thin film.
従来、基板の貼合せ装置としては、例えば特許文献1に示されるものがある。
Conventionally, as a substrate bonding apparatus, for example, there is one disclosed in
図23、図24に於いて従来の基板貼合せ装置について説明する。 A conventional substrate laminating apparatus will be described with reference to FIGS.
ベース1に上吸着盤2が水平移動可能に設けられ、該上吸着盤2は水平軸心を中心として水平回転可能に設けられると共に昇降可能となっており、前記上吸着盤2は貼合せる一方の上基板3を吸着可能となっている。
An
前記ベース1の一方の行程端には下吸着盤4が設けられ、該下吸着盤4は水平X−Yの2方向に移動可能であると共に垂直軸心を中心として垂直回転可能となっており、貼合せる他方の下基板5を吸着可能となっている。
A
前記下吸着盤4の上方には位置合せ用のテレビカメラ6が設けられており、該テレビカメラ6によって、前記上基板3と前記下基板5とを重合せた状態での位置関係を撮像し、撮像画像はモニタ7に表示され、該モニタ7によって前記上基板3と前記下基板5との位置関係が観察できる様になっている。
A
前記上基板3の水平移動、水平回転、上下移動、及び前記下吸着盤4のX−Y2方向の移動、垂直回転の操作は操作部8から操作可能となっている。
The horizontal movement, horizontal rotation, vertical movement of the
以下、貼合せ作業について略述する。 Hereinafter, the pasting work will be outlined.
前記上吸着盤2に上基板3が載置され、吸着保持される。前記操作部8からの操作により、前記上吸着盤2が180°水平回転され、前記上吸着盤2の上基板3が下側となる。前記上吸着盤2が前記下吸着盤4の直上となる様に図中右方に移動され、前記上基板3と前記下基板5との位置関係が前記テレビカメラ6、前記モニタ7によって観察され、位置ずれがあった場合は、前記下吸着盤4のX−Y2方向の移動調整、前記下吸着盤4の垂直回転による角度調整によって、前記上基板3と前記下基板5との位置合せが行われる。
The
位置合せが完了すると、前記上吸着盤2が降下され、前記上基板3が前記下基板5に押圧され、貼合せが実行される。尚、貼合せの接着剤としては、例えば前記下基板5の周辺部に粘着性透明の接着剤が事前に塗布されている。
When the alignment is completed, the
貼合せ後、前記上吸着盤2が上昇され、該上吸着盤2が図中左方に移動して前記下吸着盤4から一体となった上基板3、下基板5が取外される。
After the bonding, the
上記した従来の基板貼合せ装置では、前記上吸着盤2は水平移動、水平回転、昇降の3軸の自由度が必要であり、又前記下吸着盤4はX−Y、垂直回転の3軸の自由度が必要であり、基板貼合せ装置全体としては6軸の自由度を必要とし、各軸毎に駆動機構を必要とするので、装置が複雑となり、又制御系も6軸制御となり複雑となる。
In the above-described conventional substrate laminating apparatus, the
更に、前記上吸着盤2、前記下吸着盤4に上基板3、下基板5を載置する場合に、搬送ロボットを使用する場合、作業者の人手で行う場合のいずれの場合も、基板が大型化すると、自重による基板の撓みが大きくなる。或は自重により損傷し易くなる等から取扱いが面倒になり、特に人手で行う場合、注意を要し、作業者に負担の大きい作業となっていた。
Further, when the
本発明は斯かる実情に鑑み、機構が簡潔で剛性、貼合せ精度を向上でき、而も基板の取扱い性のよい基板貼合せ装置を提供するものである。 In view of such circumstances, the present invention provides a substrate laminating apparatus that has a simple mechanism, can improve rigidity and bonding accuracy, and has good substrate handling properties.
本発明は、上被処理基板を吸着保持する上テーブルユニットと、下被処理基板を吸着保持する下テーブルユニットとを具備し、前記上テーブルユニットは吸着保持面が上下反転回転可能であると共に下向反転時に前記下テーブルユニットと正対可能に支持され、該下テーブルユニットは昇降可能である基板貼合せ装置に係り、又前記下テーブルユニットの吸着保持面は面内2方向及び垂直軸心を中心とする回転方向に変位可能である基板貼合せ装置に係るものである。 The present invention includes an upper table unit that sucks and holds an upper substrate to be processed and a lower table unit that sucks and holds a lower substrate to be processed. The upper table unit has a suction holding surface that can be rotated upside down and rotated. The lower table unit is supported so as to be able to face the lower table unit when the direction is reversed, and the lower table unit can move up and down, and the suction holding surface of the lower table unit has two in-plane directions and a vertical axis. The present invention relates to a substrate laminating apparatus that can be displaced in the rotation direction as a center.
又本発明は、前記下テーブルユニットの側方に設けられた回転軸に前記上テーブルユニットの前記下テーブルユニット側の側端部が支持され、前記回転軸を中心に前記上テーブルユニットが回転可能である基板貼合せ装置に係るものである。 In the present invention, a side end portion of the upper table unit on the lower table unit side is supported on a rotation shaft provided on a side of the lower table unit, and the upper table unit can rotate around the rotation shaft. This relates to a substrate laminating apparatus.
又本発明は、前記下テーブルユニットの上方に前記上テーブルユニットが回転可能に支持された基板貼合せ装置に係るものである。 The present invention also relates to a substrate laminating apparatus in which the upper table unit is rotatably supported above the lower table unit.
又本発明は、前記下テーブルユニットはベースプレートの上方に支持され、該ベースプレートには上下被処理基板の位置合せ用のカメラユニットが取付けられ、該カメラユニットは被処理基板のサイズに対応して取付け位置を変更可能とした基板貼合せ装置に係るものである。 In the present invention, the lower table unit is supported above a base plate, and a camera unit for aligning the upper and lower processed substrates is attached to the base plate, and the camera unit is attached corresponding to the size of the processed substrate. The present invention relates to a substrate bonding apparatus whose position can be changed.
又本発明は、前記下テーブルユニット、上テーブルユニットは基板吸着用の基板吸着チャックを複数具備し、基板サイズに対応して前記基板吸着チャックが選択され使用される基板貼合せ装置に係るものである。 The present invention also relates to a substrate bonding apparatus in which the lower table unit and the upper table unit are provided with a plurality of substrate suction chucks for substrate suction, and the substrate suction chuck is selected and used in accordance with the substrate size. is there.
又本発明は、前記被処理基板は基板ホルダに保持された状態で前記下テーブルユニット、前記上テーブルユニットに吸着され、前記基板吸着チャックは前記基板ホルダを直接吸着し、該基板ホルダは前記基板吸着チャックの吸着部に連通する吸着孔を有し、前記被処理基板は前記吸着孔を介して前記基板ホルダに吸着される基板貼合せ装置に係るものである。 In the present invention, the substrate to be processed is held by the substrate holder and is sucked by the lower table unit and the upper table unit, the substrate suction chuck directly sucks the substrate holder, and the substrate holder is the substrate. It has a suction hole communicating with the suction part of the suction chuck, and the substrate to be processed relates to a substrate bonding apparatus that is sucked by the substrate holder through the suction hole.
又本発明は、前記被処理基板は基板ホルダに保持された状態で前記下テーブルユニット、前記上テーブルユニットに吸着され、前記上テーブルユニットは、被処理基板用の複数の基板吸着チャックと、基板ホルダ用の少なくとも1つの基板吸着チャックとを具備し、前記基板ホルダは前記被処理基板用基板吸着チャック吸着部に連通する吸着孔を有し、前記被処理基板は前記吸着孔を介して前記基板ホルダに吸着され、前記基板ホルダ用基板吸着チャックは前記基板ホルダを吸着し、前記被処理基板用基板吸着チャックと前記基板ホルダ用基板吸着チャックとは独立して吸着可能とした基板貼合せ装置に係るものである。 According to the present invention, the substrate to be processed is held by a substrate holder and is sucked by the lower table unit and the upper table unit. The upper table unit includes a plurality of substrate suction chucks for the substrate to be processed, and a substrate. At least one substrate suction chuck for a holder, wherein the substrate holder has a suction hole communicating with the substrate suction chuck suction portion for the substrate to be processed, and the substrate to be processed passes through the suction hole. The substrate adhering chuck that is adsorbed by a holder, adsorbs the substrate holder, and can adsorb the substrate adsorbing chuck for the substrate to be processed and the substrate adsorbing chuck for the substrate holder independently. It is concerned.
更に又本発明は、前記基板ホルダは基板サイズに対応した基板位置決め手段を具備し、前記被処理基板の搬送はクランプ手段により基板ホルダと被処理基板とが一体化された状態で行われる基板貼合せ装置に係るものである。 Furthermore, according to the present invention, the substrate holder includes substrate positioning means corresponding to the substrate size, and the substrate to be processed is transported in a state where the substrate holder and the substrate to be processed are integrated by the clamping means. This relates to the aligning device.
本発明によれば、上被処理基板を吸着保持する上テーブルユニットと、下被処理基板を吸着保持する下テーブルユニットとを具備し、前記上テーブルユニットは吸着保持面が上下反転回転可能であると共に下向反転時に前記下テーブルユニットと正対可能に支持され、前記下テーブルユニットは昇降可能であるので、前記上テーブルユニットが反転した状態とするだけで、該上テーブルユニットと前記下テーブルユニットとを高い平行度と相互位置精度で正対させることができ、又、上テーブルユニットの自由度を少なくでき、機構が簡単となる為、剛性、貼合せ精度が向上すると共に作業性が向上する。 According to the present invention, the upper table unit for sucking and holding the upper processing substrate and the lower table unit for sucking and holding the lower processing substrate are provided, and the suction holding surface of the upper table unit can be rotated upside down. The upper table unit and the lower table unit are supported by the lower table unit so that they can face each other at the time of downward reversal, and the lower table unit can be moved up and down. Can be aligned with high parallelism and mutual positional accuracy, and the degree of freedom of the upper table unit can be reduced, and the mechanism is simplified, improving rigidity and bonding accuracy and improving workability. .
又本発明によれば、前記下テーブルユニットの側方に設けられた回転軸に前記上テーブルユニットの前記下テーブルユニット側の側端部が支持され、前記回転軸を中心に前記上テーブルユニットが回転可能であるので、或は前記下テーブルユニットの上方に前記上テーブルユニットが回転可能に支持されたので、前記上テーブルユニットを反転することで直ちに高い平行度と相互位置精度で前記下テーブルユニットに正対させることができ、前記上テーブルユニットの自由度を少なくでき、機構が簡単となる為、剛性、貼合せ精度が向上すると共に両方のテーブルが上向きの状態で作業でき作業性が向上する。 According to the invention, a side end portion on the lower table unit side of the upper table unit is supported on a rotating shaft provided on a side of the lower table unit, and the upper table unit is centered on the rotating shaft. Since the upper table unit is rotatable, or the upper table unit is rotatably supported above the lower table unit, the lower table unit can be immediately reversed with high parallelism and mutual positional accuracy by reversing the upper table unit. Since the upper table unit can be reduced in degree of freedom and the mechanism is simple, rigidity and bonding accuracy are improved, and both tables can be operated in an upward state, thereby improving workability. .
又本発明によれば、前記下テーブルユニットはベースプレートの上方に支持され、該ベースプレートには上下被処理基板の位置合せ用のカメラユニットが取付けられ、該カメラユニットは被処理基板のサイズに対応して取付け位置を変更可能としたので、カメラユニットを複数の基板サイズに共用できコストが低減する。 According to the invention, the lower table unit is supported above the base plate, and a camera unit for aligning the upper and lower processed substrates is attached to the base plate, and the camera unit corresponds to the size of the processed substrate. Since the mounting position can be changed, the camera unit can be shared by multiple board sizes, reducing costs.
又本発明によれば、前記下テーブルユニット、上テーブルユニットは基板吸着用の基板吸着チャックを複数具備し、基板サイズに対応して前記基板吸着チャックが選択され使用されるので、基板サイズに合わせて複数の下テーブルユニット、上テーブルユニットを用意する必要がなく、コストの低減が図れる。 According to the present invention, the lower table unit and the upper table unit include a plurality of substrate suction chucks for substrate suction, and the substrate suction chuck is selected and used according to the substrate size. Thus, it is not necessary to prepare a plurality of lower table units and upper table units, and the cost can be reduced.
又本発明によれば、前記被処理基板は基板ホルダに保持された状態で前記下テーブルユニット、前記上テーブルユニットに吸着され、前記基板吸着チャックは前記基板ホルダを直接吸着し、該基板ホルダは前記基板吸着チャックの吸着部に連通する吸着孔を有し、前記被処理基板は前記吸着孔を介して前記基板ホルダに吸着されるので、剛性の小さい薄板大型の基板の扱いが容易となり、又被処理基板に吸着痕が残らず、又被処理基板に吸着による局部的な荷重が作用しないので被処理基板の負担が軽減される。 According to the invention, the substrate to be processed is held by the substrate holder and is sucked by the lower table unit and the upper table unit. The substrate suction chuck directly sucks the substrate holder, and the substrate holder An adsorption hole communicating with the adsorption portion of the substrate adsorption chuck is provided, and the substrate to be processed is adsorbed to the substrate holder through the adsorption hole, so that it is easy to handle a thin large-sized substrate with low rigidity. Since the suction mark does not remain on the substrate to be processed, and the local load due to the suction does not act on the substrate to be processed, the burden on the substrate to be processed is reduced.
又本発明によれば、前記被処理基板は基板ホルダに保持された状態で前記下テーブルユニット、前記上テーブルユニットに吸着され、前記上テーブルユニットは、被処理基板用の複数の基板吸着チャックと、基板ホルダ用の少なくとも1つの基板吸着チャックとを具備し、前記基板ホルダは前記被処理基板用基板吸着チャック吸着部に連通する吸着孔を有し、前記被処理基板は前記吸着孔を介して前記基板ホルダに吸着され、前記基板ホルダ用基板吸着チャックは前記基板ホルダを吸着し、前記被処理基板用基板吸着チャックと前記基板ホルダ用基板吸着チャックとは独立して吸着可能としたので、基板ホルダと被処理基板との切り離しが可能となり、被処理基板貼合せ後の取扱いが容易になる。 According to the invention, the substrate to be processed is held by a substrate holder and is sucked by the lower table unit and the upper table unit. The upper table unit includes a plurality of substrate suction chucks for the substrate to be processed. And at least one substrate suction chuck for the substrate holder, the substrate holder having a suction hole communicating with the substrate suction chuck suction portion for the substrate to be processed, and the substrate to be processed via the suction hole Since the substrate holder chuck is sucked by the substrate holder, the substrate holder chuck chuck chucks the substrate holder, and the substrate chuck chuck for the substrate to be processed and the substrate chuck chuck for the substrate holder can be sucked independently. The holder and the substrate to be processed can be separated from each other, and handling after the substrates to be processed can be easily performed.
更に又本発明によれば、前記基板ホルダは基板サイズに対応した基板位置決め手段を具備し、前記被処理基板の搬送はクランプ手段により基板ホルダと被処理基板とが一体化された状態で行われるので、基板サイズに変更があった場合も、基板ホルダを交換するだけで対応が可能となり、又搬送時の基板の取り扱いが容易になると共に搬送中の基板と基板ホルダとのズレが防止される等の優れた効果を発揮する。 Furthermore, according to the present invention, the substrate holder includes substrate positioning means corresponding to the substrate size, and the substrate to be processed is transported in a state where the substrate holder and the substrate to be processed are integrated by the clamping means. Therefore, even if there is a change in the substrate size, it is possible to cope with it simply by exchanging the substrate holder, and handling of the substrate during transportation is facilitated and displacement between the substrate being transported and the substrate holder is prevented. Exhibits excellent effects such as.
以下、図面を参照しつつ本発明を実施する為の最良の形態を説明する。 The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.
図1〜図6は本発明に係る基板貼合せ装置を示している。 1 to 6 show a substrate bonding apparatus according to the present invention.
図中、11は架フレームを示し、該架フレーム11の上面にベースプレート12が取付けられ、該ベースプレート12の略中央には昇降駆動ユニット13が設けられ、該昇降駆動ユニット13の上端に下テーブルユニット14が支持されている。前記昇降駆動ユニット13の前後(図1中前は左斜め下)に配設された2組のカメラユニット15,15が前記ベースプレート12に取付けられ、前記昇降駆動ユニット13の左側(図1中左斜め上)には上テーブル支持台16が設けられている。
In the figure,
該上テーブル支持台16の上端には軸受ユニット17が設けられ、該軸受ユニット17に回転軸18を介して上テーブルユニット19が取付けられている。
A bearing
前記上テーブル支持台16の左側には上テーブル開時受部材21が立設され、前記昇降駆動ユニット13の右側には上テーブル閉時受部材22が立設され、前記上テーブル開時受部材21は前記上テーブルユニット19が開状態で該上テーブルユニット19を水平状態に支持し、前記上テーブル閉時受部材22は前記上テーブルユニット19が閉状態で該上テーブルユニット19を水平状態で支持する様になっている。
A receiving
又、本装置は操作部20、モニタ24を具備しており、前記操作部20より基板の貼合せの操作を行うと共に前記モニタ24には前記カメラユニット15で撮像した映像が表示され、例えば基板の位置合せ状態を確認できる様になっている。
In addition, the present apparatus includes an
前記昇降駆動ユニット13について図7、図8を参照して説明する。
The lifting
前記ベースプレート12の略中央には取付け孔25が穿設され、該取付け孔25に前記昇降駆動ユニット13が挿通され、前記ベースプレート12にユニットベース26を介して固着されている。
A mounting
該ユニットベース26には前記下テーブルユニット14を昇降させる為の昇降アクチュエータ、例えば電動シリンダ27が設けられ、該電動シリンダ27を挾んで2つのガイド28,28がそれぞれ垂直に取付けられ、前記電動シリンダ27からはロッド29が上方に延出し、前記ガイド28にはガイドロッド31が昇降自在に嵌合している。前記ロッド29、ガイドロッド31,31の上端には昇降プレート32が固着され、該昇降プレート32に位置調整ユニット33が取付けられている。尚、前記電動シリンダ27に代え、流体圧シリンダ、或はナットスクリュー式の昇降アクチュエータであってもよい。
The
前記位置調整ユニット33は、XY軸調整テーブル34、θ軸調整テーブル35を具備し、該θ軸調整テーブル35に前記下テーブルユニット14が取付けられることで、該下テーブルユニット14がXYθ軸調整テーブルとして機能する。
The
前記XY軸調整テーブル34にはY軸調整摘み36、X軸調整摘み37が連結され、該Y軸調整摘み36を回転することで前記XY軸調整テーブル34がY軸方向(図7に於いて紙面に対して垂直方向)に移動し、又、前記X軸調整摘み37を回転することで前記XY軸調整テーブル34がX軸方向(図7中紙面に対して左右方向)に移動する。又、前記θ軸調整テーブル35には、θ軸調整摘み38が連結され、該θ軸調整摘み38を回転することで、前記下テーブルユニット14が垂直軸心を中心に回転する様になっている。尚、図中40は、伸縮自在なカバーを示している。
A Y-
前記カメラユニット15について、図8、図9を参照して説明する。
The
前記ベースプレート12の前部には前後に長い矩形のカメラユニット取付け孔39が穿設され、前記ベースプレート12の後部には逆T字状のカメラユニット取付け孔41が穿設され、前記カメラユニット取付け孔39の長辺に平行に第1ガイドスリット孔42が穿設され、前記取付け孔25に関して該第1ガイドスリット孔42と点対称の位置に(前記カメラユニット取付け孔41のT字の脚部と平行に)もう1つの第1ガイドスリット孔43が穿設されている。又、前記カメラユニット取付け孔41のT字の頭部の両側方に第2ガイドスリット孔44,44が穿設されている。
A rectangular camera
カメラ45はカメラ固定板46に取付けられ、該カメラ固定板46は垂直ガイド47に粗位置決めを目的として摺動自在に設けられると共に螺子等の固定手段により該垂直ガイド47に粗位置決め後に固定可能となっている。該垂直ガイド47はスライドブロック48に固定され、該スライドブロック48はL字形状のカメラ支持ブロック49の垂直面に前記カメラ45の光軸方向(垂直方向)に摺動可能に設けられ、ピント合せ螺子51を回転することで前記カメラ支持ブロック49に対して光軸方向にカメラ位置を微調節可能であり、又ロック螺子52によって固定される。
The
前記カメラ支持ブロック49の底面には、ガイド突条53が突設され、該ガイド突条53は前記第1ガイドスリット孔42,43及び前記第2ガイドスリット孔44,44に摺動自在に嵌合可能であり、又螺子等の所要の固定手段により前記ベースプレート12に固定可能となっている。
A
貼合せに供される基板が大サイズの場合は、図8に示される様に前記カメラユニット15はカメラユニット取付け孔39の最端部又はその近傍に取付けられる。
When the substrate to be bonded is large in size, the
図10により前記下テーブルユニット14を説明する。
The
該下テーブルユニット14は上記した様に、前記Y軸調整摘み36、X軸調整摘み37の回転により、Y軸、X軸方向に変位可能であると共に前記θ軸調整摘み38の回転により回転変位が可能となっている。
As described above, the
前記下テーブルユニット14は主に、下テーブル54及び下基板吸着チャック55によって構成され、該下基板吸着チャック55は前記ロッド29の中心を挾んで前後に設けられている。
The
前記下テーブル54には前端部、後端部に光軸第1通過孔56,56が穿設され、該光軸第1通過孔56は前後に長い長円形をしており、前記カメラユニット15が前記カメラユニット取付け孔39の位置に取付けられた場合に光軸が通過し、前記カメラ支持ブロック49が前記第1ガイドスリット孔42,43に沿って移動した場合(図13参照)にも、前記カメラ45の光軸を遮らない様になっている。
The lower table 54 has first and second optical axis passage holes 56 formed at the front end portion and the rear end portion thereof, and the first optical
又、前記下テーブル54の図10中上側に位置する下基板吸着チャック55の両側近傍には光軸第2通過孔57,57が穿設され、前記カメラユニット15が前記カメラユニット取付け孔41のT字頭部の両端部に、即ち前記カメラ支持ブロック49が前記第2ガイドスリット孔44に嵌合して取付けられた場合(図14参照)に、前記光軸第2通過孔57を前記カメラ45の光軸が通過する様になっている。
Further, optical axis second passage holes 57 are formed in the vicinity of both sides of the lower
図11、図12を参照して前記下基板吸着チャック55について説明する。
The lower
該下基板吸着チャック55は先端部に弾力性を有する材料、例えばゴム、合成樹脂等材料から成る吸着盤59を有しており、該吸着盤59は図示しない真空ポンプ等の負圧源に連通している。
The lower
前記下基板吸着チャック55はブリッジ形状のチャック取付け部材58によって前記下テーブルユニット14の裏面から取付けられる。前記チャック取付け部材58が取付けられる位置には、前記下テーブル54を貫通するチャック用逃げ孔60が穿設される。前記下基板吸着チャック55の固定部には螺子61が刻設され、該螺子61に螺合した上ナット62、下ナット63により前記チャック取付け部材58を挾持する様にして前記下基板吸着チャック55が前記チャック取付け部材58に取付けられる。
The lower
又、前記下基板吸着チャック55は前記チャック用逃げ孔60を貫通する様にチャック取付け部材58に取付けられ、前記下基板吸着チャック55の吸着盤59の上端部分が僅かに前記下テーブル54の上面(基板載置面)より突出する様に前記上ナット62、下ナット63によって取付け位置が調整される。
The lower
下被処理基板64は剛性を有する合成樹脂製等の基板ホルダ65に載置保持され取扱われ、前記下テーブル54上にも前記基板ホルダ65を介して載置され、該基板ホルダ65と前記下テーブル54との位置合せは前記下テーブル54に植設された位置決めピン67(図1、図7参照)と基板ホルダ65に穿設された位置決め孔(後述)との嵌合によって行われる。
The
前記基板ホルダ65には前記下基板吸着チャック55と同心位置に吸着孔66が穿設されており、前記下基板吸着チャック55により吸引した場合に前記吸着孔66を介して前記下被処理基板64を吸着する様になっている。
The
前記下基板吸着チャック55で吸引した場合、前記吸着盤59が変形して前記基板ホルダ65に密着し、密着することで前記吸着盤59の上端部が後退し、前記基板ホルダ65が前記下テーブル54に密着する。
When suction is performed by the lower
図1〜図3を参照して前記軸受ユニット17について説明する。
The bearing
両端に配置された軸支持ブロック68,68に前記回転軸18が回転自在に支持され、該回転軸18に前記上テーブルユニット19が固着され、該上テーブルユニット19と前記回転軸18とは一体に回転する様になっている。該回転軸18の一端部は前記軸支持ブロック68より突出しており、突出端部に軸ホルダ69が取付けられ、該軸ホルダ69に前記回転軸18と直交するカウンタウェイト軸71が取付けられ、該カウンタウェイト軸71の先端にはカウンタウェイト72が固着されている。
The
該軸ホルダ69はスリ割り構造を有し、前記カウンタウェイト軸71を挾持しており、該カウンタウェイト軸71は軸心方向に支持位置が調整できる様になっており、又前記軸ホルダ69は前記回転軸18に対して所要の回転位置で固定可能となっている。
The
而して、前記カウンタウェイト軸71の支持位置、即ち前記カウンタウェイト72迄の支持長さの調整、前記カウンタウェイト軸71の前記回転軸18に対する回転位置調整で前記上テーブルユニット19と前記カウンタウェイト軸71とのウェイトバランスを調整できる様になっている。
Thus, the
図1〜図3、図15を参照して前記上テーブルユニット19について説明する。
The
該上テーブルユニット19は上記した様に、前記軸受ユニット17に前記回転軸18を中心に回転自在に支持され、開かれた状態(図1の状態)では前記上テーブル開時受部材21に支持され水平となっており、閉じられた状態では前記下テーブルユニット14と正対し、前記上テーブル閉時受部材22に支持され水平となる(図3の状態)。
As described above, the
前記上テーブルユニット19は主に、上テーブル73及び基板ホルダ吸着チャック74、上基板吸着チャック75a,75b,75c、取手76によって構成されている。
The
前記上テーブル73は、閉状態で前記光軸第1通過孔56と対向する光軸第3通過孔77及び短冊形状の切込み78,79を有し、該短冊形状の切込み78,79、前記光軸第3通過孔77によって、閉状態で基板の有無を観察できる様になっている。
The upper table 73 has an optical axis
図3に示される様に、前記基板ホルダ吸着チャック74は前記上テーブル73の略中央に設けられ、前記上基板吸着チャック75aは前記上テーブル73の略4隅に設けられ、前記上基板吸着チャック75bは前記基板ホルダ吸着チャック74の前後に、前記上基板吸着チャック75cは前記基板ホルダ吸着チャック74の左右に2個宛で設けられている。
As shown in FIG. 3, the substrate
前記上基板吸着チャック75a,75b,75cは同一構造であり、前記基板ホルダ吸着チャック74、前記上基板吸着チャック75cについて図15を参照して説明する。又前述した下基板吸着チャック55と同構造であるので同等のものには同符号を付しその説明を省略する。
The upper substrate suction chucks 75a, 75b, and 75c have the same structure, and the substrate
該基板ホルダ吸着チャック74は先端部に弾力性を有する材料、例えばゴム、合成樹脂等材料から成る吸着盤81を有しており、該吸着盤81は図示しない真空ポンプ等の負圧源に連通している。
The substrate
前記基板ホルダ吸着チャック74はブリッジ形状のチャック取付け部材82によって前記上テーブル73の裏面から取付けられる。前記チャック取付け部材82が取付けられる位置には、前記上テーブル73を貫通するチャック用逃げ孔83が穿設される。前記基板ホルダ吸着チャック74の固定部には螺子84が刻設され、該螺子84に螺合した上ナット85、下ナット86により前記チャック取付け部材82を挾持する様にして前記基板ホルダ吸着チャック74が前記チャック取付け部材82に取付けられる。
The substrate
又、前記基板ホルダ吸着チャック74は、前記基板ホルダ吸着チャック74の吸着盤81の上端部分が僅かに前記上テーブル73の上面(基板載置面)より突出する様に前記上ナット85、下ナット86によって取付け位置が調整される。
The substrate
上被処理基板87は剛性を有する合成樹脂製等の基板ホルダ65に載置保持され取扱われ、前記上テーブル73上にも前記基板ホルダ65を介して載置され、該基板ホルダ65と前記上テーブル73との位置合せは前記上テーブル73に植設された位置決めピン88(図1参照)と前記基板ホルダ65に穿設された位置決め孔(後述)との嵌合によって行われる。
The
前記基板ホルダ65には前記上基板吸着チャック75a,75b,75cと同心位置に吸着孔66が穿設されており、前記上基板吸着チャック75a,75b,75cにより吸引した場合に前記吸着孔66を介して前記上被処理基板87を吸着する様になっている。
The
前記基板ホルダ吸着チャック74、前記上基板吸着チャック75a,75b,75cで吸引した場合、前記吸着盤81、前記吸着盤59が変形して前記基板ホルダ65に密着し、又前記吸着盤81、前記吸着盤59が変形して前記基板ホルダ65が前記上テーブル73に密着する。
When suction is performed by the substrate
図16、図17により前記基板ホルダ65と下被処理基板64、上被処理基板87について説明する。
The
該基板ホルダ65は下被処理基板64、上被処理基板87の双方に対応可能である。
The
前記下基板吸着チャック55、前記上基板吸着チャック75bに対応してそれぞれ吸着孔66が穿設されている。又、両端部中心には前記光軸第1通過孔56に対応してカメラ通し孔89が穿設され、該カメラ通し孔89の近傍には前記位置決めピン67、前記位置決めピン88と嵌合可能な位置決め孔91が穿設されている。
Suction holes 66 are formed corresponding to the lower
前記基板ホルダ65の1つの長辺に沿って線状の肩当92が形成され、又1つの端片側には円曲面を有する肩当93が形成されている。尚、図16中の他の長辺側に形成された切欠94は、他方の基板ホルダ65に取付けられるクリップと干渉しない為の逃げとなっている。
A
前記基板ホルダ65に、前記下被処理基板64、前記上被処理基板87をセットする場合は、前記肩当92、前記肩当93に前記下被処理基板64、前記上被処理基板87の長辺、短辺を押当てて前記基板ホルダ65に対する位置決めを行う。又、前記基板ホルダ65に前記下被処理基板64、上被処理基板87がセットされた場合、被処理基板の所定位置が前記カメラ通し孔89に掛かる様になっている。
When setting the lower substrate to be processed 64 and the upper substrate to be processed 87 to the
前記基板ホルダ65に対する被処理基板のセットは、基板貼合せを行う前に予め行われ、持運び、搬送は該基板ホルダ65と被処理基板とを一体として扱われる。又、搬送時に前記下被処理基板64、前記上被処理基板87と前記基板ホルダ65とはクリップ95で挾んでずれない様にする。
The substrate to be processed with respect to the
以下、基板貼合せ作動について説明する。尚、下被処理基板64、上被処理基板87は中サイズのものが用いられる場合とする。
Hereinafter, the substrate bonding operation will be described. It is assumed that the medium substrate of the
図1に示される前記上テーブルユニット19が開かれた状態で、予め前記下被処理基板64がセットされた前記基板ホルダ65を前記下テーブルユニット14に載置する。前記下テーブルユニット14に対する前記基板ホルダ65の位置合せは、前記位置決めピン67と前記基板ホルダ65の前記位置決め孔91との嵌合によって粗調整が完了する。同様に、前記上被処理基板87がセットされた前記基板ホルダ65が前記上テーブルユニット19に載置される。前記上テーブルユニット19に対する前記基板ホルダ65の位置合せは、前記位置決めピン88と前記基板ホルダ65の前記位置決め孔91によって粗調整が完了する(図2、図4参照)。
In the state where the
前記下テーブルユニット14に対する被処理基板のセット、前記上テーブルユニット19に対する被処理基板のセットは共に上方からの作業となり、前記下テーブルユニット14、前記上テーブルユニット19共に上方が開放された状態であるので、作業性がよい。
Both the setting of the substrate to be processed on the
前記下基板吸着チャック55によって前記基板ホルダ65及び前記下被処理基板64が吸引され、前記下テーブル54に密着する。又、前記基板ホルダ吸着チャック74、前記上基板吸着チャック75bが吸引され、前記基板ホルダ65、前記上被処理基板87が吸引され、前記上テーブル73に密着する。
The
次に、前記取手76を持って上テーブルユニット19を閉方向に回転させる。前記カウンタウェイト72は前記上テーブルユニット19を回転させる場合に必要とされる回転力を軽減する(図3、図5参照)。
Next, the
前記上テーブルユニット19の閉状態で、前記上テーブル73を前記上テーブル閉時受部材22に固定するかどうかは、前記下被処理基板64と上被処理基板87とを貼合せる場合の接合力によって適宜決定する。
Whether the upper table 73 is fixed to the receiving
閉状態で、前記カメラユニット15により前記下被処理基板64と前記上被処理基板87との位置関係を観察する。該下被処理基板64、上被処理基板87の貼合せの場合は、前記カメラユニット15は図13で示される様に、前記カメラユニット取付け孔39に設定される。
In the closed state, the
前記下テーブル54の前記光軸第1通過孔56、前記基板ホルダ65の前記カメラ通し孔89を通して、前記下被処理基板64、前記上被処理基板87の所定位置が合致しているかどうかが観察され、ずれている場合は、前記Y軸調整摘み36、前記X軸調整摘み37、前記θ軸調整摘み38を適宜回転させ、上下の被処理基板の位置合せを行う。上記した様に前記基板ホルダ65に対する下被処理基板64、上被処理基板87の位置合せ、前記基板ホルダ65と前記下テーブル54、前記基板ホルダ65と前記上テーブル73との位置合せは完了しているので、前記前記Y軸調整摘み36、前記X軸調整摘み37、前記θ軸調整摘み38による微調整は容易に行える。
Through the optical axis
上下の被処理基板の位置合せが完了すると、前記電動シリンダ27が駆動され、前記下テーブルユニット14が上昇して前記下被処理基板64と前記上被処理基板87が密着して基板が貼合せられる(図6参照)。
When the alignment of the upper and lower substrates to be processed is completed, the
前記下被処理基板64と前記上被処理基板87との接着は、従来と同様、例えば前記下被処理基板64の周辺部に粘着性透明の接着剤が事前に塗布されている等である。 Adhesion between the lower substrate to be processed 64 and the upper substrate to be processed 87 is, for example, a sticky transparent adhesive is applied in advance to the peripheral portion of the lower substrate to be processed 64.
接着が完了すると、前記上テーブルユニット19の上基板吸着チャック75bの吸着を開放し、前記基板ホルダ吸着チャック74による吸着を維持する。
When the bonding is completed, the upper
前記電動シリンダ27により前記下テーブルユニット14が降下されると、前記上被処理基板87のみが前記上テーブルユニット19から開放されて前記下テーブルユニット14に残り、前記基板ホルダ65は前記上テーブルユニット19に吸着されている。
When the
前記取手76を持って前記上テーブルユニット19を開く。前記基板ホルダ吸着チャック74を開放することで、前記上テーブルユニット19から前記基板ホルダ65を取外すことが可能となる。又、前記下基板吸着チャック55を開放することで、前記下被処理基板64と前記上被処理基板87とが貼合された状態の基板(以下基板と称す)を前記基板ホルダ65と共に基板貼合せ装置から搬出可能となる。
The
次の基板貼合せ作業を行う場合は、上記手順を繰返して行う。 When the next substrate bonding operation is performed, the above procedure is repeated.
上記した基板貼合せ装置では、前記上テーブルユニット19を回転させるだけで、前記上被処理基板87と前記下被処理基板64とを正対させることができ、位置合せ作業が簡単になる。又、自由度も5軸でよく、機構が簡単になる。
In the above-described substrate laminating apparatus, the
更に、基板の取扱いは剛性のある前記基板ホルダ65に保持して行うので、特に薄板大型の基板の搬送途中での取扱いが容易となり、破損損傷の事故が減少する。
Furthermore, since the substrate is handled by being held by the
又、前記下被処理基板64、前記上被処理基板87を吸着する場合、剛性のある前記基板ホルダ65を介して前記下テーブル54、前記上テーブル73に吸着させるので、前記吸着盤59、前記吸着盤81の跡が付かない。更に、前記下被処理基板64、前記上被処理基板87と前記基板ホルダ65とは広い面接触になるので、局部的な荷重の発生が防止され、基板への負担が軽減する。
Further, when the
本発明では、種々の基板サイズに対応が可能である。 The present invention can cope with various substrate sizes.
例えば、大サイズの基板の貼合せを行う場合は、図8に示される様に、前記カメラユニット15,15を前記第1ガイドスリット孔42,43に沿って外側に移動させ、前記カメラユニット15の光軸が被処理基板の所定位置に合致する様に設定する。又、前記基板ホルダ65は大サイズが使用され、大サイズの場合は、前記上テーブルユニット19に前記基板ホルダ65、前記上被処理基板87を吸着する場合は、前記基板ホルダ吸着チャック74、前記上基板吸着チャック75a,75c,75bが使用される。
For example, when laminating a large-sized substrate, as shown in FIG. 8, the
又小サイズの基板の貼合せを行う場合は、小サイズ用の基板ホルダ96が使用される(図18参照)。該基板ホルダ96には前記基板ホルダ65と同一の外形を有し、同一位置に位置決め孔91が穿設され、前記下テーブル54、前記上テーブル73にそれぞれ設置、位置決め可能となっている。
When a small size substrate is bonded, a small
前記基板ホルダ96の後部には段差97が形成されると共に該段差97の近傍に円曲面を有する肩当98が形成される。小サイズの基板は前記段差97、肩当98によって位置決めされる。又、前記段差97に沿ってチャック用の吸着孔66が穿設され、該吸着孔66の位置は前記上テーブルユニット19の上基板吸着チャック75bに対応している。又、前記基板ホルダ96の両側からはカメラ観察用の切欠99が形成されている。尚、該切欠99はカメラユニット15の光軸上に位置するカメラ観察用の通し孔であってもよい。
A
前記基板ホルダ96が使用される場合、前記カメラユニット15は図14に示される様に、前記カメラ支持ブロック49が前記カメラユニット取付け孔44に嵌合して設けられ、前記カメラユニット取付け孔41のT字の頭部両端に設置される。この状態での前記カメラユニット15の光軸は前記基板ホルダ96が前記下テーブルユニット14、上テーブルユニット19に設置された場合、前記切欠99を通過する。
When the
小サイズの基板を貼合せる場合は、前記基板ホルダ96が使用され、前記上テーブルユニット19にセットする場合は、前記基板ホルダ吸着チャック74と前記上基板吸着チャック75bによって前記基板ホルダ96及び小サイズの基板が吸着される。
The
尚、被処理基板の貼合せ作業については、上記したと同様である。 In addition, about the bonding operation | work of a to-be-processed substrate, it is the same as that mentioned above.
図19(A)、図19(B)、図19(C)は本発明の他の実施の形態を示している。 19 (A), 19 (B), and 19 (C) show other embodiments of the present invention.
図19(A)、図19(B)、図19(C)に於いて、図1〜図3中で示したものと同等のものには同符号を付してある。 19A, 19B, and 19C, the same components as those shown in FIGS. 1 to 3 are denoted by the same reference numerals.
ベースプレート12から支柱101,101が対向して立設され、該支柱101,101の間に昇降駆動ユニット13が前記ベースプレート12に設けられ、前記昇降駆動ユニット13に下テーブルユニット14が設けられ、前記支柱101,101の上端部に上テーブルユニット19が回転可能に設けられている。
The
尚、該上テーブルユニット19が基板ホルダ吸着チャック74、上基板吸着チャック75等を有し、前記下テーブルユニット14が下基板吸着チャック55等を有し、前記昇降駆動ユニット13が位置調整ユニット33を有す等は図1〜図3中で示した基板貼合せ装置と同様である。
The
該他の実施の形態に於いて、前記下テーブルユニット14、上テーブルユニット19にそれぞれ被処理基板がセットされ、前記上テーブルユニット19が反転し、前記下テーブルユニット14が上昇して基板の貼合せが行われる。
In the other embodiment, the substrate to be processed is set on the
該他の実施の形態では、前記上テーブルユニット19を回転させる場合の重量バランスが取り易いので、カウンタウェイトが不要となり、自動化が容易となる。又、基板貼合せ装置の設置スペースが小さくて済む等の利点がある。
In the other embodiment, since the weight balance when the
又、基板を基板ホルダ65にクランプする手段としては種々考えられ、例えば図20で示すものは、弾性板材をU字状に曲げ成形したクリップ102であり、一端部を長くして先端に基板を傷付けない様に合成樹脂等の圧接片103を取付け、前記基板ホルダ65には側面から溝104を形成し、被処理基板105を載置した状態で、前記溝104に前記クリップ102を差込むことで前記圧接片103を前記被処理基板105にクリップの弾性で押圧して保持する様にしたものである。
Various means for clamping the substrate to the
又、図21はクランプ手段の他の例を示すものであり、磁石106に板バネ107を取付け、該板バネ107に圧接片103を固着する。一方基板ホルダ65を磁性金属製とするか、或は金属片を埋設しておき、前記磁石106を基板ホルダ65に吸着させることで前記板バネ107の弾性力で被処理基板105を先端の前記圧接片103で押圧する様にしたものである。
FIG. 21 shows another example of the clamping means. A
又、図22は更に他のクランプ手段を示しており、基板ホルダ65にピン108を立設すると共にローレット螺子109を螺着し、板バネ110に前記ピン108、ローレット螺子109が挿通する長孔111,112を穿設すると共に先端に圧接片103を固着し、前記板バネ110を被処理基板105に対して進退させることで、先端の前記圧接片103を前記被処理基板105の端縁に係合離脱可能とし、前記圧接片103が当接した状態での押圧力は前記ローレット螺子109をねじ込むことで発生させる様にしたものである。
FIG. 22 shows still another clamping means, in which a
尚、クランプ手段等は種々変更が可能であることは言う迄もない。 Needless to say, the clamping means and the like can be variously changed.
12 ベースプレート
13 昇降駆動ユニット
14 下テーブルユニット
15 カメラユニット
16 上テーブル支持台
17 軸受ユニット
19 上テーブルユニット
27 電動シリンダ
33 位置調整ユニット
44 第2ガイドスリット孔
54 下テーブル
55 下基板吸着チャック
56 光軸第1通過孔
57 光軸第2通過孔
60 チャック用逃げ孔
64 下被処理基板
65 基板ホルダ
66 吸着孔
67 位置決めピン
69 軸ホルダ
72 カウンタウェイト
73 上テーブル
74 基板ホルダ吸着チャック
75 上基板吸着チャック
87 上被処理基板
88 位置決めピン
89 カメラ通し孔
91 位置決め孔
92 肩当
93 肩当
95 クリップ
96 基板ホルダ
97 段差
98 肩当
99 切欠
12
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