JP2006339268A - Semiconductor manufacturing apparatus, method of controlling the same, and method of manufacturing device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体製造装置及びその制御方法並びにデバイス製造方法に関する。 The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus, a control method thereof, and a device manufacturing method.
半導体製造装置、特に、半導体露光装置においては、半導体の少量多品種化が進むにつれて、1ロット当たりのウエハ枚数が減り、ロット数が増える傾向にある。このような状況では、半導体製造装置におけるロットの切り替えを迅速かつ効率良く行う必要がある。例えば、特許文献1では、半導体製造装置は、ロット処理条件及びロット処理順番を登録するためのキューテーブルを用いて、処理すべきロットを予約できるように構成されている。
しかしながら、特許文献1では、例えば、キューテーブルにロット情報が登録されている状態で半導体製造装置を再起動すると、キューテーブルの内容が失われてしまう。従って、半導体製造装置を再起動する必要があるような不測の事態が発生した場合には、ロット処理を継続するために、ロット情報をキューテーブル上に再度登録する必要があった。結果として、半導体製造装置の生産効率の低下を招いていた。 However, in Patent Document 1, for example, if the semiconductor manufacturing apparatus is restarted in a state where lot information is registered in the queue table, the contents of the queue table are lost. Therefore, in the event of an unexpected situation where it is necessary to restart the semiconductor manufacturing apparatus, it is necessary to register lot information again on the queue table in order to continue lot processing. As a result, the production efficiency of the semiconductor manufacturing apparatus has been reduced.
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、キューテーブルの内容を復元可能にすることを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to make it possible to restore the contents of a queue table.
本発明の第1の側面は、複数のロットの処理条件及び処理順番を予約するためのキューテーブルの内容に従ってロットを処理する半導体製造装置に係り、前記キューテーブルを記憶する揮発性記憶領域と、前記揮発性記憶領域に記憶されたキューテーブルの内容を不揮発性記憶領域に記憶させる制御ユニットと、を備えることを特徴とする。 A first aspect of the present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus for processing a lot according to the contents of a queue table for reserving processing conditions and processing order of a plurality of lots, and a volatile storage area for storing the queue table; A control unit that stores the contents of the queue table stored in the volatile storage area in the nonvolatile storage area.
本発明の第2の側面は、複数のロットの処理条件及び処理順番を予約するためのキューテーブルの内容に従ってロットを処理する半導体製造装置の制御方法に係り、複数のロットの処理条件及び処理順番を予約するためのキューテーブルを揮発性記憶領域に記憶させる工程と、前記揮発性記憶領域に記憶されたキューテーブルの内容を不揮発性記憶領域に記憶させる工程と、を含むことを特徴とする。 A second aspect of the present invention relates to a method for controlling a semiconductor manufacturing apparatus that processes lots according to the contents of a queue table for reserving processing conditions and processing orders of a plurality of lots. Processing conditions and processing orders of a plurality of lots Storing a queue table for reserving a queue in a volatile storage area, and storing the contents of the queue table stored in the volatile storage area in a nonvolatile storage area.
本発明の第3の側面は、デバイス製造方法に係り、上記の半導体露光装置を用いて潜像パターンが形成された基板を用意する工程と、前記潜像パターンを現像する工程と、を含むことを特徴とする。 A third aspect of the present invention relates to a device manufacturing method, and includes a step of preparing a substrate on which a latent image pattern is formed using the semiconductor exposure apparatus, and a step of developing the latent image pattern. It is characterized by.
本発明によれば、キューテーブルの内容を復元することができる。 According to the present invention, the contents of the queue table can be restored.
[半導体製造装置]
図1は、本発明の好適な実施形態に係る半導体製造装置1の概略構成を示す図である。
[Semiconductor manufacturing equipment]
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a semiconductor manufacturing apparatus 1 according to a preferred embodiment of the present invention.
図1に示すように、本発明の好適な実施形態に係る半導体製造装置1は、例えば、揮発性記憶領域2、不揮発性記憶領域3、端末ユニット4、通信ユニット5及び半導体製造ユニット8で構成される。ここで、上記の揮発性または不揮発性の記憶領域としては、種々の揮発性または不揮発性の記憶装置または記憶ユニットから適宜選択されたものを用いることができる。
As shown in FIG. 1, a semiconductor manufacturing apparatus 1 according to a preferred embodiment of the present invention includes, for example, a volatile storage area 2, a nonvolatile storage area 3, a
揮発性記憶領域2は、半導体製造装置1に使用される各種記憶情報を書き換え、保持し、読み出すために用いられる。揮発性記憶領域2に格納された記憶情報は、電源が切られと失われる。揮発性記憶領域2には、通常は、処理すべきロットの情報(例えば、複数のロットの処理条件及び処理順番)が登録されたキューテーブル11が格納される。 The volatile storage area 2 is used to rewrite, hold, and read various storage information used in the semiconductor manufacturing apparatus 1. The storage information stored in the volatile storage area 2 is lost when the power is turned off. Normally, the volatile storage area 2 stores a queue table 11 in which information on lots to be processed (for example, processing conditions and processing orders of a plurality of lots) is registered.
不揮発性記憶領域3は、揮発性記憶領域2に格納されたキューテーブル11の内容を保存し、半導体製造装置1の再起動時に、格納したキューテーブル11の内容を読み出すために用いられる。図1では、不揮発性記憶領域3が半導体製造装置1の内部に配置されているが、本実施形態はこれに限定されず、半導体製造装置1の外部に配され半導体製造装置1と通信可能に接続された不揮発性記憶領域を用いてもよい。 The nonvolatile storage area 3 stores the contents of the queue table 11 stored in the volatile storage area 2 and is used for reading the stored contents of the queue table 11 when the semiconductor manufacturing apparatus 1 is restarted. In FIG. 1, the non-volatile storage area 3 is arranged inside the semiconductor manufacturing apparatus 1, but the present embodiment is not limited to this, and is arranged outside the semiconductor manufacturing apparatus 1 so that it can communicate with the semiconductor manufacturing apparatus 1. A connected nonvolatile storage area may be used.
端末ユニット4は、半導体製造装置1に付属するユーザインターフェースを持つ。オペレータは、端末ユニット4を介して半導体製造装置1内の各ユニットを操作したり、半導体製造装置1内の各装置情報を参照したりすることができる。端末ユニット4は、不揮発性記憶領域3に記憶されたキューテーブル11の内容を揮発性記憶領域2に復元するための指示を制御ユニット10に与える。また、端末ユニット4は、不揮発性記憶領域3に記憶されたキューテーブル11の内容等を表示するための表示ユニット9を備える。オペレータは、表示部ユニット9を介して不揮発性記憶領域3に記憶されたキューテーブル11の内容を確認することができる。
The
通信ユニット5は、半導体製造装置1とホストコンピュータ7とを、RS-232C等の規格に適合した通信線6を通して接続する。これによって、半導体製造装置1は、ホストコンピュータ7から制御することもできる。通信ユニット5は、不揮発性記憶領域3に保存されたキューテーブル11の内容をホストコンピュータ7に通知する。 The communication unit 5 connects the semiconductor manufacturing apparatus 1 and the host computer 7 through a communication line 6 conforming to a standard such as RS-232C. Thus, the semiconductor manufacturing apparatus 1 can be controlled from the host computer 7. The communication unit 5 notifies the host computer 7 of the contents of the queue table 11 stored in the nonvolatile storage area 3.
半導体製造ユニット8は、半導体を処理する為の装置を含み、半導体露光装置、半導体洗浄装置及びその他各種半導体処理(後述の段落0028に記載のウエハプロセスに係る各種処理等)を実行する装置等を適用することができる。 The semiconductor manufacturing unit 8 includes an apparatus for processing a semiconductor, and includes a semiconductor exposure apparatus, a semiconductor cleaning apparatus, and other various semiconductor processes (such as various processes related to a wafer process described in paragraph 0028 below). Can be applied.
制御ユニット10は、半導体製造装置1全体の動作をコントロールし、揮発性記憶領域2に格納されたキューテーブル11の内容に従ってロット処理の実行などを行う。また、制御ユニット10は、端末ユニット4からの指示に応じて、半導体製造装置1の起動時に、不揮発性記憶領域3に保存されたキューテーブル11の内容を端末ユニット4の表示ユニット9に表示させる。
The
図2は、キューテーブル11に登録されるロット情報20の一例を示す図である。20-1は処理単位であるロットの名称を示す。20-2は、処理に使用されるレシピの名称を示す。20-3は、例えば半導体露光装置等に使用されるマスクの名称を示す。20-4は、半導体製造装置1全体の処理を制御する制御ユニット10に特有のパラメータを示す。20-5は、ロットの現在の処理状態を示す。キューテーブル11に登録されたロット情報20−1〜20−5の内容は、制御ユニット10によって書き換えられる。
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of the
図3は、図2の処理状態20-5の具体例を示す図である。図3に示す処理状態は、30-1、30-2、30-3、30-4の順に遷移する。図2の処理状態20-5には、30-1〜30-4のうち現在の処理状態が登録される。30-1は、ロット情報20がキューテーブル11に登録されただけの待機中の状態を示す。30-2は、ロットで使用するウエハの搬送を行っている準備中の状態を示す。30-3は、ウエハの処理を行っている処理中の状態を示す。30-4は、ロット内の全ウエハの加工が終了した処理完了の状態を示す。
FIG. 3 is a diagram showing a specific example of the processing state 20-5 in FIG. The processing state shown in FIG. 3 transitions in the order of 30-1, 30-2, 30-3, and 30-4. In the processing state 20-5 in FIG. 2, the current processing state among 30-1 to 30-4 is registered. Reference numeral 30-1 denotes a standby state in which the
図4は、不揮発性記憶領域3に保存されたキューテーブル11の内容を端末ユニット4の表示ユニット9に復元したときの復元画面40の一例を示す図である。復元画面40は、不揮発性記憶領域3に保存されたキューテーブル11の内容を、現在のキューテーブル11として復元する際に用いられる。40-1は、保存されたキューテーブル11に含まれる内容を表示するための画面領域である。40-2は、保存されたキューテーブル11に含まれる内容である。40-2は、一つ又は複数のロット情報20(図2を参照)から構成されうる。図4では、一例として、LOT−A、LOT−B、LOT−C及びLOT−Dの4つのロットに関するロット情報20が示されている。LOT−Aは、使用レシピ名20−2が「Recipe01」、使用マスク名20−3が「Mask01」、処理状態20−5が「処理中」である。LOT−Bは、使用レシピ名20−2が「Recipe03」、使用マスク名20−3が「Mask02」、処理状態20−5が「準備中」である。LOT−Cは、使用レシピ名20−2が「Recipe01」、使用マスク名20−3が「Mask01」、処理状態20−5が「待機中」である。LOT−Dは、使用レシピ名20−2が「Recipe02」、使用マスク名20−3が「Mask05」、処理状態20−5が「待機中」である。
FIG. 4 is a diagram illustrating an example of the
40-3はキューテーブル11の内容を復元する際に、復元対象とするロット情報20を選択するためのチェックボックスである。40-4は、キューテーブル11の内容を復元するためのボタンである。オペレータが、端末ユニット4を用いてボタン40-4を押下することによって、チェックボックス40-3で選択されたロット情報20が現在のキューテーブル11に復元される。キューテーブル11が復元された後は、画面40は閉じられる。40-5はキャンセルボタンである。オペレータは、端末ユニット4を用いてボタン40-5を押下することによって、キューテーブル11の内容が復元されることなく画面40が閉じられる。
Reference numeral 40-3 denotes a check box for selecting the
半導体製造装置によって製造が行われる時には、オペレータ又はホストコンピュータ6が、処理対象であるロットの情報20をキューテーブル11に登録する。次いで、半導体製造装置1の制御ユニット10が、キューテーブル11の内容を監視し、登録されたロット情報20を順番に使用してロット処理を実行する。また、半導体製造装置1の制御ユニット10は、各ロットの現在の処理状態30をキューテーブル11に登録されたロット情報20に書き込む。
When manufacturing is performed by the semiconductor manufacturing apparatus, the operator or the host computer 6
ここで、半導体製造装置1の制御ユニット10は、キューテーブル11の内容が変化する度に、その内容を不揮発性記憶領域3に保存する。また、半導体製造装置1の制御ユニット10は、キューテーブル11が空になった場合には、不揮発性記憶領域3に保存された内容を消去する。
Here, every time the contents of the queue table 11 change, the
半導体製造装置によって製造が行われる間に、故障等の理由によって、キューテーブル11にロット情報20が登録された状態で装置1を再起動する場合がある。この場合、半導体製造装置1の制御ユニット10は、キューテーブル11の内容を起動時に一旦全て消去する。しかし、半導体製造装置1の制御ユニット10は、不揮発性記憶領域3に保存された情報を変更しない。従って、半導体製造装置1の起動が完了した後に、半導体製造装置1の制御ユニット10は、端末ユニット4に画面40を表示する。これによって、半導体製造装置1の制御ユニット10は、不揮発性記憶領域3に保存されたキューテーブル11の内容をオペレータに提示することができる。ここで提示されるキューテーブル11の内容は、半導体製造装置1が再起動される直前のキューテーブル11の内容と一致する。
During manufacturing by the semiconductor manufacturing apparatus, the apparatus 1 may be restarted in a state where the
画面40の内容を確認したオペレータは、復元したいロット情報のチェックボックス40-3をチェックした後に、復元ボタン40-4を押下する。これによって、選択したロット情報20がキューテーブル11上に復元され、半導体製造装置1でロット処理が続行される。オペレータがロット情報20を復元したくない場合には、画面40上でキャンセルボタン40-5を押下する。すると、キューテーブル11は空の状態のままとなり、新たにロット情報20が登録されるまでの間、装置1が待機状態となる。
The operator who has confirmed the contents of the
なお、上記実施形態では、キューテーブル11の内容の復元操作をオペレータが行う場合を一例として示したが、この復元操作はホストコンピュータ7によって実行されてもよい。この場合、不揮発性記憶領域装置3に保存されたキューテーブル11の内容は、装置1の起動完了後に、通信経路6を介して通信機構5によって、ホストコンピュータ7に通知される。また、その通知を受けたホストコンピュータ7は、どのロット情報を復元するかを装置1に指示する。
[半導体製造装置の制御方法]
次に、本発明の好適な実施の形態に係る半導体製造装置の制御方法のフローを説明する。まず、制御ユニット10は、複数のロットの処理条件及び処理順番を予約するためのキューテーブル11を揮発性記憶領域2に記憶させる。次いで、制御ユニット10は、揮発性記憶領域2に記憶されたキューテーブル11の内容を不揮発性記憶領域3に記憶させる。これによって、制御ユニット10は、端末ユニット4からの指示に応じて不揮発性記憶領域3に保存されたキューテーブルの内容を半導体製造装置1の起動時に端末ユニット4の表示ユニット9に復元することができる。
In the above embodiment, the case where the operator performs the restoration operation of the contents of the queue table 11 is shown as an example, but the restoration operation may be executed by the host computer 7. In this case, the contents of the queue table 11 stored in the nonvolatile storage area device 3 are notified to the host computer 7 by the communication mechanism 5 via the communication path 6 after the start-up of the device 1 is completed. Further, the host computer 7 that has received the notification instructs the apparatus 1 which lot information is to be restored.
[Control method of semiconductor manufacturing equipment]
Next, a flow of a method for controlling a semiconductor manufacturing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention will be described. First, the
図5は、不揮発性記憶領域に保存されたキューテーブルの内容を復元するための制御の流れをより詳細に示すフローである。 FIG. 5 is a flowchart showing in more detail the flow of control for restoring the contents of the queue table stored in the nonvolatile storage area.
ステップ50−1では、半導体製造装置1の制御ユニット10を起動する。
In step 50-1, the
ステップ50−2では、制御ユニット10は、不揮発性記憶領域3にキューテーブル11が記憶されているか否かを判断する。不揮発性記憶領域3にキューテーブル11が記憶されていれば(ステップ50−2で「YES」)、ステップ50−3に進み、不揮発性記憶領域3にキューテーブル11が記憶されていなければ(ステップ50−2で「NO」)、ステップ50−7に進む。
In Step 50-2, the
ステップ50−3では、制御ユニット10は、不揮発性記憶領域3に記憶されているキューテーブル11の内容を端末ユニット4の表示ユニット9に表示させるか、或いは、不揮発性記憶領域3に記憶されているキューテーブル11の内容を通信ユニット5によってホストコンピュータ7に通知させる。
In step 50-3, the
ステップ50−4では、制御ユニット10は、不揮発性記憶領域3に記憶されているキューテーブル11のロット情報を揮発性記憶領域2に復元するための指示が端末ユニット4又はホストコンピュータ7から与えられたか否かを判断する。復元するための指示が与えられた場合には(ステップ50−4で「YES」)、ステップ50−5に進み、復元するための指示が与えられていなければ(ステップ50−4で「NO」)、ステップ50−7に進む。
In step 50-4, the
ステップ50−5では、制御ユニット10は、ステップ50−4で指示されたキューテーブル11のロット情報に従って、揮発性記憶領域2にキューテーブル11を生成する。
In step 50-5, the
ステップ50−6では、制御ユニット10は、ステップ50−4で指示されたキューテーブル11のロット情報に従って、不揮発性記憶領域2のキューテーブル11を更新する。ステップ50−4で指示されなかったキューテーブル11のロット情報については、不揮発性記憶領域2から削除されうる。
In step 50-6, the
ステップ50−7では、制御ユニット10は、キューテーブル11のロット情報を更新するための指示が端末ユニット4又はホストコンピュータ7から与えられたか否かを判断する。更新するための指示が与えられた場合には(ステップ50−7で「YES」)、ステップ50−8に進み、復元するための指示が与えられていなければ(ステップ50−7で「NO」)、ステップ50−9に進む。
In Step 50-7, the
ステップ50−8では、制御ユニット10は、ステップ50−7における更新指示に従って、揮発性記憶領域2及び不揮発性記憶領域3内のロット情報をそれぞれ更新する。
In step 50-8, the
ステップ50−9では、制御ユニット10は、半導体製造装置1をシャットダウンするための指示が端末ユニット4又はホストコンピュータ7から与えられたか否かを判断する。シャットダウンするための指示が与えられた場合には(ステップ50−9で「YES」)、処理を終了し、シャットダウンするための指示が与えられていなければ(ステップ50−9で「NO」)、ステップ50−7に戻る。
In step 50-9, the
[半導体デバイスの製造プロセス]
次に、この半導体製造装置を半導体露光装置として利用した場合の半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図6は半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ1(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ2(マスク作製)では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。一方、ステップ3(ウエハ製造)ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、上記のマスクとウエハを用いて、本発明の好適な実施の形態に係る半導体製造装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ5によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の組み立て工程を含む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、ステップ7でこれを出荷する。
[Semiconductor device manufacturing process]
Next, a semiconductor device manufacturing process when this semiconductor manufacturing apparatus is used as a semiconductor exposure apparatus will be described. FIG. 6 is a flowchart showing the overall manufacturing process of the semiconductor device. In step 1 (circuit design), a semiconductor device circuit is designed. In step 2 (mask fabrication), a mask is fabricated based on the designed circuit pattern. On the other hand, in step 3 (wafer manufacture), a wafer is manufactured using a material such as silicon. Step 4 (wafer process) is called a pre-process, and an actual circuit is formed on the wafer using the above mask and wafer by lithography using the semiconductor manufacturing apparatus according to the preferred embodiment of the present invention. To do. The next step 5 (assembly) is called a post-process, which is a process for forming a semiconductor chip using the wafer produced in step 5, and is an assembly process (dicing, bonding), packaging process (chip encapsulation), etc. Process. In step 6 (inspection), the semiconductor device manufactured in step 5 undergoes inspections such as an operation confirmation test and a durability test. A semiconductor device is completed through these processes, and is shipped in Step 7.
上記ステップ4のウエハプロセスは以下のステップを有する。ウエハの表面を酸化させる酸化ステップ、ウエハ表面に絶縁膜を成膜するCVDステップ、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する電極形成ステップ、ウエハにイオンを打ち込むイオン打ち込みステップ、ウエハに感光剤を塗布するレジスト処理ステップ、上記の露光装置によって回路パターンをレジスト処理ステップ後のウエハに転写する露光ステップ、露光ステップで露光したウエハを現像する現像ステップ、現像ステップで現像したレジスト像以外の部分を削り取るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト剥離ステップ。これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
The wafer process in
1:半導体製造装置、2:不揮発性記憶領域、3:不揮発性記憶領域、10:制御ユニット、11:キューテーブル 1: Semiconductor manufacturing apparatus, 2: Nonvolatile storage area, 3: Nonvolatile storage area, 10: Control unit, 11: Queue table
Claims (10)
前記キューテーブルを記憶する揮発性記憶領域と、
前記揮発性記憶領域に記憶されたキューテーブルの内容を不揮発性記憶領域に記憶させる制御ユニットと、
を備えることを特徴とする半導体製造装置。 A semiconductor manufacturing apparatus that processes lots according to the contents of a queue table for reserving processing conditions and processing order of a plurality of lots,
A volatile storage area for storing the queue table;
A control unit for storing the contents of the queue table stored in the volatile storage area in the nonvolatile storage area;
A semiconductor manufacturing apparatus comprising:
複数のロットの処理条件及び処理順番を予約するためのキューテーブルを揮発性記憶領域に記憶させる工程と、
前記揮発性記憶領域に記憶されたキューテーブルの内容を不揮発性記憶領域に記憶させる工程と、
を含むことを特徴とする半導体製造装置の制御方法。 A method for controlling a semiconductor manufacturing apparatus for processing a lot according to the contents of a queue table for reserving processing conditions and processing order of a plurality of lots,
Storing a queue table for reserving processing conditions and processing order of a plurality of lots in a volatile storage area;
Storing the contents of the queue table stored in the volatile storage area in a nonvolatile storage area;
A method for controlling a semiconductor manufacturing apparatus, comprising:
前記潜像パターンを現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。 Preparing a substrate on which a latent image pattern is formed using the semiconductor exposure apparatus according to claim 8;
Developing the latent image pattern;
A device manufacturing method comprising:
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