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JP2006319109A - Lead frame for semiconductor device, package for semiconductor device using the same, and manufacturing method thereof - Google Patents

Lead frame for semiconductor device, package for semiconductor device using the same, and manufacturing method thereof Download PDF

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JP2006319109A
JP2006319109A JP2005139783A JP2005139783A JP2006319109A JP 2006319109 A JP2006319109 A JP 2006319109A JP 2005139783 A JP2005139783 A JP 2005139783A JP 2005139783 A JP2005139783 A JP 2005139783A JP 2006319109 A JP2006319109 A JP 2006319109A
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Abstract

【課題】 封止樹脂との樹脂密着性がよく、かつバリ取りが容易で、耐湿性に優れた半導体装置用リードフレームおよびそれを用いた半導体装置用パッケージとその製造方法を提供する。
【解決手段】 フレームと、フレームから内向き突出した複数本のリード部と、リード部の少なくとも一つのリード部に形成されたダイパッド部とからなり、リード部の先端とダイパッド部とに樹脂封止領域を有した半導体装置用リードフレームにおいて、リード部の非樹脂封止領域に樹脂封止領域と比較して封止樹脂との密着力が低い第一の皮膜が形成されたものであり、さらに、樹脂封止領域に第一の皮膜と比較して封止樹脂との密着力が高い第二の被膜が形成されたものである。
【選択図】 図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lead frame for a semiconductor device which has good resin adhesion with a sealing resin, is easily deburred and has excellent moisture resistance, a package for a semiconductor device using the lead frame, and a manufacturing method thereof.
SOLUTION: A frame, a plurality of lead portions projecting inwardly from the frame, and a die pad portion formed on at least one lead portion of the lead portion, and resin-sealed at the leading end of the lead portion and the die pad portion In the lead frame for a semiconductor device having a region, a first film having a lower adhesion to the sealing resin compared to the resin sealing region is formed in the non-resin sealing region of the lead portion, and In the resin sealing region, a second film having a higher adhesion with the sealing resin than the first film is formed.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、プリモールドパッケージ用リードフレーム、特に光半導体用プリモールドパッケージの製造法に関する。   The present invention relates to a lead frame for a premold package, and more particularly to a method for manufacturing a premold package for an optical semiconductor.

従来のリードフレームと封止樹脂の樹脂密着性を向上させる方法としては、インナーリードにV溝やメッシュ加工を施したり、リードフレームに化学エッチングなどによって粗面化処理を施し表面を凸凹にする方法が知られている。しかし、粗面化処理を全領域に施すと封止の際に封止領域外に発生した樹脂バリの剥離が困難であるため、粗面化処理と樹脂バリとの樹脂密着性を悪い鏡面加工をインナーリードに形成することがある(例えば、特許文献1)。   As a conventional method for improving the resin adhesion between the lead frame and the sealing resin, the inner lead is subjected to V-groove or mesh processing, or the lead frame is roughened by chemical etching or the like to make the surface uneven. It has been known. However, if the roughening treatment is applied to the entire area, it is difficult to peel off the resin burr generated outside the sealing area at the time of sealing, so the resin adhesion between the roughening treatment and the resin burr is poor. May be formed on the inner lead (for example, Patent Document 1).

図4は、前記特許文献1に記載の従来のプリモールパッケージ用リードフレームの製造過程の一部を示す断面図である。図4において全面に粗面化処理が施されたリードフレーム201は、底面部206が鏡面加工されたダイ(固定側金型)205を用いてダイパッド202およびインナーリード204の一部を鏡面加工することによりプリモールドパッケージ用リードフレームを製造している。
特開2004−165567号公報
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a part of the manufacturing process of the conventional lead molding package lead frame described in Patent Document 1. In FIG. In FIG. 4, a lead frame 201 whose entire surface has been subjected to a roughening process uses a die (fixed-side mold) 205 having a bottom surface 206 to be mirror-finished to mirror-finish part of the die pad 202 and the inner lead 204. Thus, a lead frame for a pre-mold package is manufactured.
JP 2004-165567 A

しかしながら、前記従来の構成ではまずリードフレーム201の全面を粗面化し、ついでパンチ207を用いてリードフレーム201の一部を鏡面加工するため、パンチ207により鏡面加工を行う際に加工部と非加工部間に段差が生じ樹脂モールドを行う際に樹脂バリが発生する要因となるという課題があった。また、プレスにより表面状態をコントロールするためダイ205やパンチ(可動側金型)207の管理が難しく、樹脂バリの剥離工程において、樹脂バリと共にパッケージが剥離・損傷するという課題もあった。さらに、例えば銅や銀のようにリードフレームの最表面を形成する材質によっては、金属と樹脂との接合力が強く粗面領域だけでなく最表面の状態を鏡面とした領域でもバリの剥離が非常に困難であるという課題もあった。   However, in the above-described conventional configuration, the entire surface of the lead frame 201 is first roughened, and then a part of the lead frame 201 is mirror-finished using the punch 207. There has been a problem that a step is generated between the portions, which causes a resin burr when resin molding is performed. Further, since the surface state is controlled by pressing, it is difficult to manage the die 205 and the punch (movable side mold) 207, and there is a problem that the package is peeled and damaged together with the resin burr in the resin burr peeling process. Furthermore, depending on the material that forms the outermost surface of the lead frame, such as copper and silver, for example, the bonding force between the metal and the resin is strong. There was also a problem that it was very difficult.

本発明は、前記従来の課題を解決するもので、リードフレームとモールド樹脂との樹脂密着性がよく、かつバリ取りが容易で、耐湿性に優れた半導体装置用リードフレームとその製造方法、およびこれを用いた半導体装置用パッケージを提供するものである。   SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-described conventional problems, and has a good resin adhesion between the lead frame and the mold resin, is easy to deburr, and has excellent moisture resistance, and a manufacturing method thereof, and A semiconductor device package using the same is provided.

前記従来の課題を解決するため、本発明の半導体装置用リードフレームおよびそれを用いた半導体装置用パッケージとその製造方法は、フレームと、フレームから内向きに突出した複数本のリード部と、少なくとも一つのリード部に形成されたダイパッド部とからなり、リード部の先端とダイパッド部とに樹脂封止領域を有した半導体装置用リードフレームにおいて、リード部の非樹脂封止領域に樹脂封止領域と比較して封止樹脂との密着力が小さな第一の皮膜が形成されたものであり、さらに、樹脂封止領域に第一の皮膜と比較して封止樹脂との密着力が大きな第二の被膜が形成されたものである。   In order to solve the above-described conventional problems, a lead frame for a semiconductor device, a package for a semiconductor device using the same, and a manufacturing method thereof according to the present invention include a frame, a plurality of lead portions protruding inward from the frame, and at least A lead frame for a semiconductor device comprising a die pad part formed on one lead part and having a resin sealing area at the tip of the lead part and the die pad part. The first film having a smaller adhesion with the sealing resin compared to the first film is formed, and the first film having a larger adhesion with the sealing resin compared with the first film in the resin sealing region. A second film is formed.

それを用いた半導体装置用パッケージは、フレームと、フレームから内向き突出した複数本のリード部と、少なくとも一つのリード部に形成されたダイパッド部と、リード部の先端とダイパッド部とに有した樹脂封止領域に樹脂外囲器を有した半導体装置用パッケージにおいて、リード部の非樹脂封止領域に樹脂封止領域と比較して封止樹脂との密着力が小さな第一の皮膜が形成されたものであり、さらに、樹脂外囲器がリード部の先端とダイパッド部とを露出した状態に形成されたものである。   A package for a semiconductor device using the same has a frame, a plurality of lead portions projecting inwardly from the frame, a die pad portion formed on at least one lead portion, a tip of the lead portion, and a die pad portion. In a package for a semiconductor device having a resin envelope in the resin sealing region, a first film having less adhesion to the sealing resin than the resin sealing region is formed in the non-resin sealing region of the lead portion. Further, the resin envelope is formed in a state where the tip of the lead portion and the die pad portion are exposed.

半導体装置用パッケージの製造方法は、金属板材をフレームから内向きに突出した複数本のリード部と、少なくとも一つのリード部にダイパッド部を成形する工程と、リード部とダイパッド部とに第一の皮膜を形成する工程と、リード部の樹脂封止領域に第一の皮膜と比較して封止樹脂との密着力が大きな第二の皮膜を形成する工程と、樹脂封止領域に樹脂外囲器を成形する工程とを備えたものである。   A semiconductor device package manufacturing method includes: a plurality of lead portions projecting inwardly from a frame of a metal plate material; a step of forming a die pad portion on at least one lead portion; A step of forming a film, a step of forming a second film having a greater adhesion to the sealing resin compared to the first film in the resin sealing region of the lead portion, and a resin enclosure in the resin sealing region And a step of forming a vessel.

本構成によれば、封止樹脂が形成される樹脂封止領域は樹脂との密着力の大きな金属により皮膜が形成されているため、樹脂封止後に良好な耐湿性が得られる。また、樹脂バリが発生する非樹脂封止領域には密着力の小さな皮膜が形成されているため、非樹脂封止領域に付着した樹脂バリの剥離除去が容易になりバリ取り工程を簡略化することができる。   According to this configuration, the resin-sealed region in which the sealing resin is formed has a film formed of a metal having a high adhesion to the resin, so that good moisture resistance can be obtained after the resin sealing. In addition, since a film having a small adhesion force is formed in the non-resin-sealed region where resin burrs are generated, the resin burrs attached to the non-resin-sealed region can be easily removed and the deburring process is simplified. be able to.

また、本発明の半導体装置用リードフレームの製造方法は、樹脂モールド後にバリ取り処理を施してから銀めっきを施すことを特徴とする。樹脂バリの除去後にリードフレームに銀めっきを施すため、不要部への樹脂付着に起因するバリを考慮することなく、従来のリードフレームと同様のチップ接着性(ワイヤボンディング性、ダイスボンディング性)が期待できる。また光半導体に用いた場合には銀めっきによるリフレクタ効果を得ることができる。   In addition, the method for manufacturing a lead frame for a semiconductor device according to the present invention is characterized in that after the resin molding, a deburring process is performed and then silver plating is performed. Since the lead frame is plated with silver after removing the resin burrs, the chip adhesion (wire bonding property, die bonding property) is the same as that of the conventional lead frame without considering burrs caused by resin adhesion to unnecessary parts. I can expect. Further, when used in an optical semiconductor, a reflector effect by silver plating can be obtained.

また、本発明のプリモールドパッケージは熱硬化性樹脂により樹脂モールド部を形成するものである。モールド樹脂に熱硬化性樹脂を用いることで、樹脂とリードフレームとの樹脂密着性が向上し、耐湿性がさらに改善される。   The pre-mold package of the present invention is a resin mold part formed of a thermosetting resin. By using a thermosetting resin as the mold resin, the resin adhesion between the resin and the lead frame is improved, and the moisture resistance is further improved.

以上のように、本発明のリードフレームの製造方法によれば、従来のリードフレーム製造ラインを用いてリードフレームの製造が可能であり、樹脂封止領域にそれ以外の非樹脂封止領域(特に樹脂バリの生じやすい樹脂封止領域の周辺)よりも樹脂の密着力が大きな金属皮膜が成形されているため樹脂封止された半導体装置の耐湿性が向上し、一方でそれ以外の非樹脂封止領域には前記樹脂封止領域よりも密着力が小さな金属皮膜が形成されているため樹脂バリが生じても容易にバリの剥離を行うことができる。さらにバリ取り後に行う金、銀もしくははんだめっきによりボンディング性や実装性が得られ、インナーリードの表面めっき層に銀を用いると光学素子にこのプリモールドパッケージを使用した場合にはリフレクタ効果を期待できる。   As described above, according to the lead frame manufacturing method of the present invention, the lead frame can be manufactured using the conventional lead frame manufacturing line, and the other non-resin sealing region (particularly, the resin sealing region). The metal film with a greater resin adhesion than the resin-encapsulated area around which resin burrs are likely to occur) improves the moisture resistance of the resin-encapsulated semiconductor device, while other non-resin encapsulation Since a metal film having a smaller adhesion than the resin sealing region is formed in the stop region, even if a resin burr is generated, the burr can be easily peeled off. Furthermore, gold, silver or solder plating performed after deburring provides bonding properties and mountability. When silver is used for the surface plating layer of the inner lead, a reflector effect can be expected when this premold package is used for an optical element. .

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1における半導体装置リードフレームの断面図である。1は金属薄板材をプレス加工またはエッチング加工により成形されたリードフレームであり、複数のリードを連結するフレーム部2と、フレーム部2から内方に突出したリード部3と、半導体チップが実装されるダイパッド部4とから構成されている。リード部3は後に行われる樹脂封止により封止樹脂に内包される樹脂封止領域5のインナーリード3aと、封止樹脂から突出する非樹脂封止領域6のアウターリード3bとに区分されている。ダイパッド部4は後に行われる樹脂封止により封止樹脂に内包される樹脂封止領域5のダイパッド4aと、封止樹脂から突出する非樹脂封止領域6のアウターリード4bとに区分されている。以下に詳細な構成を説明する。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a cross-sectional view of a semiconductor device lead frame according to the first embodiment of the present invention. Reference numeral 1 denotes a lead frame formed by pressing or etching a thin metal plate material, on which a frame portion 2 for connecting a plurality of leads, a lead portion 3 protruding inward from the frame portion 2, and a semiconductor chip are mounted. And a die pad portion 4. The lead portion 3 is divided into an inner lead 3a in the resin-sealed region 5 that is encapsulated in the sealing resin by resin sealing performed later and an outer lead 3b in the non-resin-sealed region 6 that protrudes from the sealing resin. Yes. The die pad portion 4 is divided into a die pad 4a in the resin sealing region 5 included in the sealing resin by resin sealing performed later and an outer lead 4b in the non-resin sealing region 6 protruding from the sealing resin. . A detailed configuration will be described below.

リードフレーム1は、銅また銅合金や鉄または鉄合金などの金属薄板材からなり、フレーム部2からリード部3と、ダイパッド部4とが内方に向けて突出し形成されている。例えば、板厚が0.15mm〜0.35mm程度の銅材にプレス加工を施したものが挙げられる。リードフレーム1の樹脂封止領域5表面には、非樹脂封止領域6表面に比べ封止樹脂との密着性に優れる皮膜が形成されている。例えば、リードフレーム1の樹脂封止領域5表面にシランカップリング剤の表面改質剤からなる表面改質皮膜を形成し、非樹脂封止領域6表面に単なる平滑面を形成する形態や、リードフレーム1の樹脂封止領域5表面に銀めっき皮膜を0.01μm以上形成し、非樹脂封止領域6表面にニッケルめっき皮膜を1μm形成した形態が挙げられる。   The lead frame 1 is made of a thin metal plate material such as copper, copper alloy, iron, or iron alloy, and has a lead portion 3 and a die pad portion 4 projecting inward from the frame portion 2. For example, what gave press processing to the copper material whose plate | board thickness is about 0.15 mm-0.35 mm is mentioned. On the surface of the resin sealing region 5 of the lead frame 1, a film having better adhesion to the sealing resin than the surface of the non-resin sealing region 6 is formed. For example, a form in which a surface modification film made of a surface modifier of a silane coupling agent is formed on the surface of the resin sealing region 5 of the lead frame 1 and a simple smooth surface is formed on the surface of the non-resin sealing region 6, The form which formed 0.01 micrometer or more of silver plating films | membranes in the resin sealing area | region 5 surface of the flame | frame 1 and formed 1 micrometer of nickel plating film | membrane in the non-resin sealing area | region 6 surface is mentioned.

これによれば、樹脂封止領域5は従来行われていた機械的結合とは異なり、樹脂封止領域5と封止樹脂(図示せず)との間に化学結合を形成することで、樹脂封止領域5と封止樹脂との密着性と気密性を大きく向上することができ、非樹脂封止領域6は、樹脂封止領域5に比べ封止樹脂との密着性に劣るため、樹脂封止の際に発生する樹脂バリを比較的容易に取り除くことができる。さらに、樹脂封止領域5表面に予め選択的に粗面化処理を施すことで、機械的結合と化学的結合との相乗効果を奏することができる。   According to this, unlike the conventional mechanical bonding, the resin sealing region 5 is formed by forming a chemical bond between the resin sealing region 5 and the sealing resin (not shown). The adhesiveness and airtightness between the sealing region 5 and the sealing resin can be greatly improved, and the non-resin sealing region 6 is inferior in the adhesiveness with the sealing resin compared to the resin sealing region 5. Resin burrs generated during sealing can be removed relatively easily. Furthermore, by synthesizing the surface of the resin sealing region 5 selectively in advance, a synergistic effect of mechanical bonding and chemical bonding can be achieved.

なお、本実施の形態1では、ダイパッド4a全体とインナーリード3a全体とを封止樹脂により樹脂封止する形態を用いて説明したが、図1(b)に示すように、インナーリード3aとアウターリード3bとを連結する連結部と、ダイパッド4aとアウターリード4bとを連結する連結部のみを樹脂封止領域5とすれば、封止樹脂からダイパッド4aを露出することも出来る。   In the first embodiment, the entire die pad 4a and the entire inner lead 3a have been described as being sealed with a sealing resin. However, as shown in FIG. If only the connecting portion connecting the lead 3b and the connecting portion connecting the die pad 4a and the outer lead 4b are used as the resin sealing region 5, the die pad 4a can be exposed from the sealing resin.

(実施の形態2)
図2は、本発明の実施の形態2における半導体装置用パッケージを示した断面図である。図2において、図1と同じ構成要素については同じ符号を用い説明を省略する。図2において、リードフレーム1は金属薄板材をプレス加工またはエッチング加工により、フレーム部2と、フレーム部2から内方に突出したリード部3とダイパッド部4とが形成されている。
(Embodiment 2)
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a package for a semiconductor device according to Embodiment 2 of the present invention. In FIG. 2, the same components as those in FIG. In FIG. 2, the lead frame 1 includes a frame portion 2, a lead portion 3 projecting inward from the frame portion 2, and a die pad portion 4 by pressing or etching a thin metal plate material.

リード部3のインナーリード3aとアウターリード3bとを連結する連結部7と、ダイパッド4aとアウターリード4bとを連結する連結部7との表面には封止樹脂との密着力が大きな第二の皮膜8が形成され、インナーリード3aとアウターリード3bおよびダイパッド4aとアウターリード4bには封止樹脂との密着力が小さな第一の皮膜9が形成されている。   The surface of the connecting part 7 that connects the inner lead 3a and the outer lead 3b of the lead part 3 and the connecting part 7 that connects the die pad 4a and the outer lead 4b has a large adhesive force with the sealing resin. A film 8 is formed, and a first film 9 having a small adhesion to the sealing resin is formed on the inner lead 3a and the outer lead 3b and on the die pad 4a and the outer lead 4b.

連結部7には、後に搭載される半導体素子(図示せず)を保護するシリコーンやエポキシ樹脂からなる樹脂外囲器10が第二の皮膜8を介して形成されている。このとき、第二の皮膜8には、例えば金、銀、などの金属皮膜や、シランカップリング剤の表面改質剤からなる表面改質皮膜が挙げられる。インナーリード3aおよびダイパッド4aは、半導体素子の実装性や金属細線との密着性に優れる金属皮膜が好適である。また、第一の皮膜9には、例えばニッケルなどの金属皮膜や、耐熱性テープからなる保護皮膜が挙げられる。アウターリード3bおよびアウターリード4bはリードフレーム1の金属薄板材の防錆や外部回路(図示せず)との接続性に優れる金属皮膜が好適である。   A resin envelope 10 made of silicone or epoxy resin for protecting a semiconductor element (not shown) to be mounted later is formed on the connecting portion 7 via a second film 8. At this time, examples of the second film 8 include a metal film such as gold and silver, and a surface-modified film made of a surface modifier of a silane coupling agent. The inner lead 3a and the die pad 4a are preferably a metal film that is excellent in mountability of a semiconductor element and adhesion with a fine metal wire. Examples of the first film 9 include a metal film such as nickel and a protective film made of a heat resistant tape. The outer lead 3b and the outer lead 4b are preferably made of a metal film excellent in rust prevention of the thin metal plate material of the lead frame 1 and excellent connectivity with an external circuit (not shown).

これによれば、樹脂封止領域5は従来行われていた機械的結合とは異なり、樹脂封止領域5と封止樹脂(図示せず)との間に化学結合を形成することで、樹脂封止領域5と封止樹脂(図示せず)との密着性と気密性を大きく向上することができ、非樹脂封止領域6は、樹脂封止領域5に比べ封止樹脂(図示せず)との密着性に劣るため、樹脂封止の際に発生する樹脂バリを比較的容易に取り除くことができる。さらに、樹脂封止領域5表面に予め選択的に粗面化処理を施すことで、機械的結合と化学的結合との相乗効果を奏することができる。   According to this, unlike the conventional mechanical bonding, the resin sealing region 5 is formed by forming a chemical bond between the resin sealing region 5 and the sealing resin (not shown). Adhesion and airtightness between the sealing region 5 and the sealing resin (not shown) can be greatly improved, and the non-resin sealing region 6 has a sealing resin (not shown) as compared to the resin sealing region 5. The resin burrs generated during resin sealing can be removed relatively easily. Furthermore, by synthesizing the surface of the resin sealing region 5 selectively in advance, a synergistic effect of mechanical bonding and chemical bonding can be achieved.

(実施の形態3)
図3(a)〜(e)は、本発明の実施の形態3における半導体装置用パッケージの製造工程フローに沿った断面図である。図3(a)〜(e)において、図1、図2と同じ構成要素については同じ符号を用い説明を省略する。
(Embodiment 3)
3A to 3E are cross-sectional views along the manufacturing process flow of the package for a semiconductor device in the third embodiment of the present invention. 3A to 3E, the same components as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図3(a)〜(d)において、銅または銅合金や鉄または鉄合金などの金属薄板材を広く用いられているプレス加工またはエッチング加工により、フレーム部2と、フレーム部2から内方に突出したリード部3と、半導体素子(図示せず)がされるダイパッド部4とを形成する(図3(a))。リードフレーム1の表面に封止樹脂(図示せず)との密着力が小さな第一の皮膜9としてニッケルめっき皮膜を0.5〜3μm形成する(図3(b))。   3 (a) to 3 (d), the frame portion 2 and the frame portion 2 are inwardly formed by pressing or etching, which is a widely used thin metal plate material such as copper, copper alloy, iron or iron alloy. A protruding lead part 3 and a die pad part 4 on which a semiconductor element (not shown) is formed are formed (FIG. 3A). A nickel plating film of 0.5 to 3 μm is formed on the surface of the lead frame 1 as the first film 9 having a small adhesion with a sealing resin (not shown) (FIG. 3B).

リード部3のインナーリード3aとアウターリード3bとを連結する連結部7およびダイパッド4aとアウターリード4bとを連結する連結部7の表面に封止樹脂との密着力が高い第二の皮膜8として、例えば銀めっき皮膜を選択的に形成する(図3(c))。第二の皮膜8は、マスキングを用いた噴射めっき法により形成することができる。以上を経て、第二の皮膜8を形成した樹脂封止領域5と、第一の皮膜9を形成した非樹脂封止領域6を形成する。樹脂封止領域5にシリコーンまたはエポキシ樹脂からなる樹脂外囲器10を成形した後、公知技術である乾式ブラスト法や湿式ブラスト法を用いて非樹脂封止領域6に発生した樹脂バリ(図示せず)を除去する(図3(d))。   As a second film 8 having high adhesion to the sealing resin on the surface of the connecting portion 7 for connecting the inner lead 3a and the outer lead 3b of the lead portion 3 and the connecting portion 7 for connecting the die pad 4a and the outer lead 4b. For example, a silver plating film is selectively formed (FIG. 3C). The second film 8 can be formed by a spray plating method using masking. Through the above, the resin sealing region 5 in which the second film 8 is formed and the non-resin sealing region 6 in which the first film 9 is formed are formed. After molding a resin envelope 10 made of silicone or epoxy resin in the resin sealing region 5, a resin burr generated in the non-resin sealing region 6 using a dry blasting method or a wet blasting method, which is a known technique (not shown) Is removed (FIG. 3D).

ダイパッド4aに樹脂封止領域5から0.1〜1.0mm程度離間した領域に半導体素子(図示せず)との実装性に優れた第三の皮膜11として例えば銀めっき皮膜を0.5〜2μm選択的に形成する(図3(c))。このとき、リードフレーム1表面の非樹脂封止領域6に発生した樹脂バリ(図示せず)は、封止樹脂との密着性に劣る第一の皮膜9が奏する作用により、容易に除去することができる。また、樹脂封止領域5に形成した樹脂外囲器10は、封止樹脂との密着性に優れる第一の皮膜8が奏する作用により、強固に密着しており剥離することを防止している。さらに、樹脂封止領域5表面に予め選択的に粗面化処理を施すことで、機械的結合と化学的結合との相乗効果を奏することができる。樹脂封止領域5と第三の皮膜11の領域とを0.1〜1.0mm程度離間することで樹脂封止工程における成形位置ズレによって、樹脂バリ(図示せず)が第三の皮膜11の領域に形成されることがない。   As a third film 11 excellent in mountability with a semiconductor element (not shown) in a region separated from the resin sealing region 5 by about 0.1 to 1.0 mm on the die pad 4a, for example, a silver plating film is 0.5 to 2 μm is selectively formed (FIG. 3C). At this time, resin burrs (not shown) generated in the non-resin sealing region 6 on the surface of the lead frame 1 can be easily removed by the action of the first film 9 having poor adhesion to the sealing resin. Can do. In addition, the resin envelope 10 formed in the resin sealing region 5 is firmly adhered and prevented from being peeled off by the action of the first film 8 having excellent adhesion to the sealing resin. . Furthermore, by synthesizing the surface of the resin sealing region 5 selectively in advance, a synergistic effect of mechanical bonding and chemical bonding can be achieved. By separating the resin sealing region 5 and the region of the third film 11 by about 0.1 to 1.0 mm, a resin burr (not shown) is formed in the third film 11 due to a molding position shift in the resin sealing process. It is not formed in this area.

本発明の半導体装置用パッケージの製造方法は、樹脂封止後にバリ取り処理を施してから第三の皮膜11として銀または金めっきを施すことを特徴とする。樹脂バリの除去後に第三の皮膜を施すため、不要部への樹脂付着に起因するバリを考慮することなく、従来のリードフレームと同様のチップ接着性(ワイヤボンディング性、ダイスボンディング性)が期待できる。また光半導体に用いた場合には銀めっきによるリフレクタ効果を得ることができる。さらに、封止樹脂に熱硬化性樹脂を用いることで封止樹脂と樹脂封止領域との樹脂密着性が向上し、耐湿性が大幅に改善される。  The method for manufacturing a package for a semiconductor device according to the present invention is characterized in that silver or gold plating is applied as the third film 11 after performing deburring after resin sealing. Since the third film is applied after removing the resin burrs, chip adhesiveness (wire bonding and die bonding) similar to that of conventional lead frames is expected without considering burrs caused by resin adhesion to unnecessary parts. it can. Further, when used in an optical semiconductor, a reflector effect by silver plating can be obtained. Furthermore, by using a thermosetting resin as the sealing resin, the resin adhesion between the sealing resin and the resin sealing region is improved, and the moisture resistance is greatly improved.

本発明によれば、リードフレームとモールド樹脂との樹脂密着性が良く、かつ耐湿性に優れたリードフレームを製造することができる。また、本発明のリードフレームを用いると不要部のバリ取り工程を簡略化することができる。   According to the present invention, a lead frame having good resin adhesion between the lead frame and the mold resin and excellent in moisture resistance can be manufactured. Further, when the lead frame of the present invention is used, the deburring process for unnecessary portions can be simplified.

本発明の実施の形態1における半導体装置用リードフレームの断面図Sectional drawing of the lead frame for semiconductor devices in Embodiment 1 of this invention 本発明の実施の形態2における半導体装置用パッケージの断面図Sectional drawing of the package for semiconductor devices in Embodiment 2 of this invention 本発明の実施の形態3における半導体装置用パッケージの製造工程フローに沿った断面図Sectional drawing along the manufacturing process flow of the package for semiconductor devices in Embodiment 3 of this invention 従来の半導体装置用リードフレームの製造工程を示す断面図Sectional drawing which shows the manufacturing process of the conventional lead frame for semiconductor devices

符号の説明Explanation of symbols

1 リードフレーム
2 フレーム部
3 リード部
3a インナーリード
3b アウターリード
4 ダイパッド部
5 樹脂封止領域
6 非樹脂封止領域
7 連結部
8 第二の皮膜
9 第一の皮膜
10 樹脂外囲器
11 第三の皮膜
201 リードフレーム
202 ダイパッド
203 リード部
204 インナーリード
205 ダイ
206 底面部
207 パンチ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Lead frame 2 Frame part 3 Lead part 3a Inner lead 3b Outer lead 4 Die pad part 5 Resin sealing area | region 6 Non-resin sealing area | region 7 Connection part 8 2nd film | membrane 9 1st film | membrane 10 Resin envelope 11 3rd Coating 201 Lead frame 202 Die pad 203 Lead part 204 Inner lead 205 Die 206 Bottom face part 207 Punch

Claims (11)

フレームと、前記フレームから内向きに突出した複数本のリード部と、前記リード部の少なくとも一つのリード部に形成されたダイパッド部とからなり、前記リード部の先端と前記ダイパッド部とに樹脂封止領域を有した半導体装置用リードフレームにおいて、前記リード部の非樹脂封止領域に前記樹脂封止領域と比較して封止樹脂との密着力が小さい第一の皮膜を形成したことを特徴とする半導体装置用リードフレーム。   A frame, a plurality of lead portions projecting inwardly from the frame, and a die pad portion formed on at least one lead portion of the lead portion. Resin sealing is provided between the leading end of the lead portion and the die pad portion. In a lead frame for a semiconductor device having a stop region, a first film having a smaller adhesion with a sealing resin than the resin sealing region is formed in a non-resin sealing region of the lead portion. Lead frame for semiconductor devices. 前記樹脂封止領域に前記第一の皮膜と比較して前記封止樹脂との密着力が大きな第二の被膜を形成したことを特徴とする請求項1記載の半導体装置用リードフレーム。   The lead frame for a semiconductor device according to claim 1, wherein a second film having a greater adhesion to the sealing resin than the first film is formed in the resin-encapsulated region. 前記第一の被膜がニッケル皮膜であることを特徴とする請求項1また2記載の半導体装置用リードフレーム。   3. The lead frame for a semiconductor device according to claim 1, wherein the first coating is a nickel coating. 前記第一の被膜が表面改質皮膜であることを特徴とする請求項1また2記載の半導体装置用リードフレーム。   3. The lead frame for a semiconductor device according to claim 1, wherein the first film is a surface-modified film. フレームと、前記フレームから内向きに突出した複数本のリード部と、前記リード部の少なくとも一つのリード部に形成されたダイパッド部と、前記リード部の先端と前記ダイパッド部とに有した樹脂封止領域に樹脂外囲器を有した半導体装置用パッケージにおいて、前記リード部の非樹脂封止領域に前記樹脂封止領域と比較して封止樹脂との密着力が小さな第一の皮膜を形成したことを特徴とする半導体装置用パッケージ。   A frame, a plurality of lead portions projecting inwardly from the frame, a die pad portion formed on at least one lead portion of the lead portion, and a resin seal provided at a tip of the lead portion and the die pad portion In a semiconductor device package having a resin envelope in the stop region, a first film having a lower adhesion to the sealing resin is formed in the non-resin sealing region of the lead portion than in the resin sealing region. A package for a semiconductor device. 前記樹脂外囲器が前記リード部の先端と前記ダイパッド部とを露出した状態に形成されたことを特徴とする請求項5記載の半導体装置用パッケージ。   6. The package for a semiconductor device according to claim 5, wherein the resin envelope is formed in a state in which a tip end of the lead portion and the die pad portion are exposed. 樹脂封止領域に前記第一の皮膜と比較して前記封止樹脂との密着力が高い第二の被膜が形成されたことを特徴とする請求項5または請求項6記載の半導体装置用パッケージ。   7. The package for a semiconductor device according to claim 5, wherein a second film having a higher adhesive force with the sealing resin than the first film is formed in a resin sealing region. . 金属板材をフレームから内向きに突出した複数本のリード部と、前記リード部の少なくとも一つのリード部にダイパッド部を成形する工程と、
前記リード部と前記ダイパッド部とに第一の皮膜を形成する工程と、
前記リード部の樹脂封止領域に第一の皮膜と比較して封止樹脂との密着力が大きな第二の皮膜を形成する工程と、
前記樹脂封止領域に樹脂外囲器を成形する工程とを備えた半導体装置用パッケージの製造方法。
A plurality of lead portions projecting inwardly from a frame of a metal plate material, and a step of forming a die pad portion on at least one lead portion of the lead portions;
Forming a first film on the lead portion and the die pad portion;
Forming a second film having a large adhesive force with the sealing resin compared to the first film in the resin sealing region of the lead portion;
A method of manufacturing a package for a semiconductor device, comprising: forming a resin envelope in the resin sealing region.
金属板材をフレームから内向きに突出した複数本のリード部と、前記リード部の少なくとも一つのリード部にダイパッド部を成形する工程と、
前記リード部と前記ダイパッド部とに第一の皮膜を形成する工程と、
前記リード部と前記ダイパッド部の樹脂封止領域に第一の皮膜と比較して封止樹脂との密着力が大きな第二の皮膜を形成する工程と、
前記樹脂封止領域に樹脂外囲器を成形する工程とを備えた半導体装置用パッケージの製造方法。
A plurality of lead portions projecting inwardly from a frame of a metal plate material, and a step of forming a die pad portion on at least one lead portion of the lead portions;
Forming a first film on the lead portion and the die pad portion;
Forming a second film having a large adhesive force with the sealing resin compared to the first film in the resin sealing region of the lead part and the die pad part;
A method of manufacturing a package for a semiconductor device, comprising: forming a resin envelope in the resin sealing region.
金属板材をフレームから内向きに突出した複数本のリード部と、前記リード部の少なくとも一つのリード部にダイパッド部を成形する工程と、
前記リード部と前記ダイパッド部とに第一の皮膜を形成する工程と、
前記リード部と前記ダイパッド部の樹脂封止領域に第一の皮膜と比較して封止樹脂との密着力が大きな第二の皮膜を形成する工程と、
前記樹脂封止領域に前記リード部と前記ダイパッド部の一部を露出した樹脂外囲器を成形する工程とを備えた半導体装置用パッケージの製造方法。
A plurality of lead portions projecting inwardly from a frame of a metal plate material, and a step of forming a die pad portion on at least one lead portion of the lead portions;
Forming a first film on the lead portion and the die pad portion;
Forming a second film having a large adhesive force with the sealing resin compared to the first film in the resin sealing region of the lead part and the die pad part;
The manufacturing method of the package for semiconductor devices provided with the process of shape | molding the resin envelope which exposed a part of said lead part and the said die pad part in the said resin sealing area | region.
前記樹脂外囲器から露出した前記リード部と前記ダイパッド部とに第三の皮膜を形成する工程を備えた請求項10記載の半導体装置用パッケージの製造方法。
The method for manufacturing a package for a semiconductor device according to claim 10, further comprising a step of forming a third film on the lead portion and the die pad portion exposed from the resin envelope.
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