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JP2006309193A - Optical device and manufacturing method thereof - Google Patents

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JP2006309193A
JP2006309193A JP2006086278A JP2006086278A JP2006309193A JP 2006309193 A JP2006309193 A JP 2006309193A JP 2006086278 A JP2006086278 A JP 2006086278A JP 2006086278 A JP2006086278 A JP 2006086278A JP 2006309193 A JP2006309193 A JP 2006309193A
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JP
Japan
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holder
optical device
bonding material
optical
temperature
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JP2006086278A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Kobayashi
善宏 小林
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Publication date
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Abstract

【課題】接合時に反射防止膜の劣化を抑制して、より信頼性の高い光デバイスを提供すること。
【解決手段】光学素子が接合材によりホルダに固定されてなる光デバイスであって、
該接合材が、SnOを30〜70mol%、Pを20〜50mol%、MnOを5〜30mol%含む無鉛低融点ガラスであること。
【選択図】図1
To provide an optical device with higher reliability by suppressing deterioration of an antireflection film during bonding.
An optical device in which an optical element is fixed to a holder by a bonding material,
It the bonding material, SnO a 30~70mol%, P 2 O 5 and 20 to 50 mol%, a lead-free low-melting-point glass containing 5 to 30 mol% of MnO.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は光デバイス及びその固定方法に関し、さらに詳しくは光ファイバ通信用の各種モジュールに用いる光学素子をホルダに固定してなる光デバイス及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an optical device and a fixing method thereof, and more particularly to an optical device in which an optical element used in various modules for optical fiber communication is fixed to a holder and a manufacturing method thereof.

レンズ、プリズム、光学結晶等の光学素子を光ファイバ通信用のモジュール等の特定の装置に組み込む場合、これらの光学素子をホルダに固定して取り扱いの容易な光デバイスとして用いている。従来の光学デバイスの構造を図3に示す。光学素子1は、接合材3によりホルダ2に固定されている。   When optical elements such as lenses, prisms, and optical crystals are incorporated into a specific device such as a module for optical fiber communication, these optical elements are fixed to a holder and used as an optical device that is easy to handle. The structure of a conventional optical device is shown in FIG. The optical element 1 is fixed to the holder 2 with a bonding material 3.

ここで、接合材には、接着剤や鉛と錫の合金半田が用いられている。しかし、接着剤を用いる場合、接着剤は一般に吸湿性が高いため、環境条件によっては脆くなり易い。しかも、ガラス転移点温度が低いため、接着剤を用いた光デバイスの使用温度は相対的に狭くなるという問題がある。また、アウトガスが生じるという問題もあることから、長期的な信頼性に欠けるという問題点もある。   Here, an adhesive or an alloy solder of lead and tin is used as the bonding material. However, when an adhesive is used, the adhesive generally has high hygroscopicity, so that it tends to be brittle depending on environmental conditions. Moreover, since the glass transition temperature is low, there is a problem that the operating temperature of the optical device using the adhesive becomes relatively narrow. In addition, since there is a problem that outgassing occurs, there is also a problem that long-term reliability is lacking.

一方、鉛と錫の合金半田は、相対的に融点が低いため、特に、半田接合部に重力等の荷重が常にかかる場合には、合金半田が時間とともに歪んでいくというクリープ現象を生じ易い。このため、合金半田を用いた場合、光学素子1の位置が時間と共に変化していくことになり、長期にわたる光学系の安定性が確保できないという問題がある。さらに、鉛と錫の合金半田は250×10-7/℃であり、光学素子1の熱膨張係数120×10-7/℃と大きな差がある。したがって、この合金半田で固定する場合、熱膨張係数の違いにより、合金半田の冷却時に光学素子に応力が加わり、亀裂や複屈折化等の問題が生じることがある。また、温度変化や電子回路の発熱等による周囲温度の変化があると、半田接合部に引っ張りと圧縮の応力が繰り返しかかる。この熱的疲労により半田に亀裂が生じて光学素子1の位置が変化し、光軸がずれるという問題もある。 On the other hand, since the alloy solder of lead and tin has a relatively low melting point, particularly when a load such as gravity is always applied to the solder joint, a creep phenomenon that the alloy solder is distorted with time tends to occur. For this reason, when the alloy solder is used, the position of the optical element 1 changes with time, and there is a problem that the stability of the optical system over a long period cannot be secured. Further, the alloy solder of lead and tin is 250 × 10 −7 / ° C., which is a great difference from the thermal expansion coefficient 120 × 10 −7 / ° C. of the optical element 1. Therefore, when fixing with this alloy solder, due to the difference in thermal expansion coefficient, stress is applied to the optical element during cooling of the alloy solder, which may cause problems such as cracking and birefringence. Also, if there is a change in ambient temperature due to a temperature change or heat generation of an electronic circuit, tensile and compressive stresses are repeatedly applied to the solder joint. Due to this thermal fatigue, there is a problem that the solder is cracked, the position of the optical element 1 is changed, and the optical axis is shifted.

これに対し、接合材に酸化鉛を主成分とする低融点ガラスを用いる方法が提案され(例えば、特許文献1)、上記の問題に対し、一定の効果が得られている。
特開平2−281201号公報
On the other hand, a method of using a low-melting glass mainly composed of lead oxide as a bonding material has been proposed (for example, Patent Document 1), and a certain effect is obtained with respect to the above problem.
JP-A-2-281201

最近の光学素子には、入射光の利用効率の低下による光学特性の劣化を防止するため反射防止膜が設けられている。しかしながら、通常の反射防止膜の耐熱性は400℃以下であり、酸化鉛系の低融点ガラスの焼成温度である概ね450℃以上に比べ低温であり、低融点ガラスを溶融させて接合しようとすると、反射防止膜が劣化し光デバイスの光学特性の信頼性が低下するという問題があった。また、環境保護の観点から、酸化鉛を使用しない接合方法が必要とされているという問題もあった。   In recent optical elements, an antireflection film is provided in order to prevent deterioration of optical characteristics due to a decrease in utilization efficiency of incident light. However, the heat resistance of a normal antireflection film is 400 ° C. or lower, which is lower than about 450 ° C., which is the firing temperature of lead oxide-based low-melting glass. There has been a problem that the antireflection film is deteriorated and the reliability of the optical characteristics of the optical device is lowered. In addition, from the viewpoint of environmental protection, there is also a problem that a joining method that does not use lead oxide is required.

そこで、本発明は、上記課題を解決し、光学特性の信頼性を向上させるとともに、酸化鉛を使用しない光デバイス及びその製造方法を提供することを目的とした。   SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide an optical device that does not use lead oxide and a method for manufacturing the same while improving the reliability of optical characteristics.

上記課題を解決するため、本発明の光デバイスは、光学素子が接合材によりホルダに固定されてなる光デバイスであって、該接合材が、SnOを30〜70mol%、Pを20〜50mol%、MnOを5〜30mol%含む無鉛低融点ガラスであることを特徴とする。 In order to solve the above problems, an optical device of the present invention is an optical device in which an optical element is fixed to a holder with a bonding material, and the bonding material contains 30 to 70 mol% of SnO and 20 of P 2 O 5 . It is a lead-free low melting glass containing ˜50 mol% and MnO 5˜30 mol%.

また、上記接合材中のSnOとPの含有率が合計70mol%以上であることを特徴とする。 Moreover, the total content of SnO and P 2 O 5 in the bonding material is 70 mol% or more.

更には、ファラデー回転子の一方側に偏光子を、他方側に検光子の各光学素子を有し、上記ファラデー回転子の外周に磁石を有し、上記各光学素子の側面が上記接合材により上記ホルダに接合されていることを特徴とする。   Furthermore, the polarizer is provided on one side of the Faraday rotator, the optical elements of the analyzer are provided on the other side, the magnet is provided on the outer periphery of the Faraday rotator, and the side surfaces of the optical elements are made of the bonding material. It is joined to the holder.

しかも、光学素子がホルダの固定面に固定されてなる光デバイスの製造方法であって、上記光学素子の被固定面と上記ホルダの固定面の少なくとも一方に、無鉛低融点ガラスから成る接合材を接触させ、次いで該接合材を第1の昇温速度で焼成温度以上に昇温した後第1の冷却速度で冷却して上記光学素子を上記ホルダに固定する接合工程と、次いで第1の昇温速度よりも速い第2の昇温速度で上記の焼成温度まで昇温した後第1の冷却速度よりも速い第2の冷却速度で冷却するアニール工程とを有することを特徴とする。   Moreover, an optical device manufacturing method in which an optical element is fixed to a fixing surface of a holder, wherein a bonding material made of lead-free low-melting glass is provided on at least one of the fixed surface of the optical element and the fixing surface of the holder. And a bonding step of fixing the optical element to the holder by heating the bonding material at a first temperature increase rate to a firing temperature or higher and then cooling at a first cooling rate. And an annealing step in which the temperature is raised to the firing temperature at a second heating rate faster than the temperature rate and then cooled at a second cooling rate faster than the first cooling rate.

そして、記接合材としてSnOを30〜70mol%、Pを20〜50mol%、MnOを5〜30mol%含む無鉛低融点ガラスを用い、上記接合材の溶融温度が400℃以下であることを特徴とする。 Then, 30~70mol% of SnO as a serial bonding material, 20 to 50 mol% of P 2 O 5, using the lead-free low-melting-point glass containing 5 to 30 mol% of MnO, that the melting temperature of the bonding material is 400 ° C. or less It is characterized by.

また、一方面側を偏光子、他方面側を検光子で挟持したファラデー回転子を還元雰囲気中もしくは減圧雰囲気中で上記接合材によりホルダに接合することを特徴とする。   Further, the Faraday rotator sandwiched between the polarizer on one side and the analyzer on the other side is joined to the holder by the joining material in a reducing atmosphere or a reduced pressure atmosphere.

そして超音波振動によって上記接合材をホルダに含浸させながら、
上記偏光子、検光子、ファラデー回転子のそれぞれをホルダに接合する
ことを特徴とする請求項4〜請求項6のいずれかに記載の光デバイスの製造方法。
And while impregnating the bonding material into the holder by ultrasonic vibration,
The method of manufacturing an optical device according to claim 4, wherein each of the polarizer, the analyzer, and the Faraday rotator is joined to a holder.

本発明によれば、SnOを30〜70mol%、Pを20〜50mol%、MnOを5〜30mol%含む無鉛低融点ガラスから成る接合材を用いることにより、接合材の焼成温度を酸化鉛系の低融点ガラスの場合に比べ低下させることができる。これにより、接合時に反射防止膜の劣化を抑制して、より信頼性の高い光デバイスを提供することができる。さらに、接合材に鉛を使用しないので、地球環境に優しい光デバイスを提供することもできる。 According to the present invention, the firing temperature of the bonding material is oxidized by using a bonding material made of lead-free low-melting glass containing 30 to 70 mol% of SnO, 20 to 50 mol% of P 2 O 5 and 5 to 30 mol% of MnO. It can be reduced as compared with the case of lead-based low melting glass. Thereby, degradation of an antireflection film can be suppressed at the time of joining, and a more reliable optical device can be provided. Furthermore, since lead is not used for the bonding material, it is possible to provide an optical device that is friendly to the global environment.

以下、本発明に係る実施の形態を図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本実施の形態に係る光デバイスの構造の一例を示す模式断面図である。光デバイスは、光学素子1と、これを保持するホルダ2と、光学素子1を固定する低融点ガラス3から構成されている。ここで、光学素子1の対向する主面には反射防止膜4が形成されている。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the structure of the optical device according to the present embodiment. The optical device includes an optical element 1, a holder 2 that holds the optical element 1, and a low melting point glass 3 that fixes the optical element 1. Here, the antireflection film 4 is formed on the opposing main surface of the optical element 1.

図1では光学素子1として円筒形ガラスレンズを用いた例を示しているが、用途に応じて、ボールレンズ、平板レンズ、角形レンズ等の各種レンズを用いても良い。また、レンズに限らず、気密窓、プリズム、偏光子等の光学ガラスや複屈折ガラス、ファラデー回転子などの光学結晶等を用いることもできる。また、これらの光学部品の材料には、環境に対する悪影響を防止するため、鉛の含有量が0.1重量%以下のものを用いることが望ましい。   Although FIG. 1 shows an example in which a cylindrical glass lens is used as the optical element 1, various lenses such as a ball lens, a flat lens, and a square lens may be used depending on the application. Moreover, not only a lens but optical crystals such as an airtight window, a prism, and a polarizer, an optical crystal such as a birefringent glass, and a Faraday rotator can be used. In addition, it is desirable to use a material having a lead content of 0.1% by weight or less as a material for these optical components in order to prevent adverse effects on the environment.

また、ホルダは、各種光学素子1の熱膨張係数や機械的強度に応じて選定することができる。好ましくは、本発明の光デバイスをさらに他のデバイスに取り付けるときの方法によってホルダの材質は選定すべきである。Fe−Ni合金の他、ステンレス鋼、銅合金、真鍮、アルミニウム合金などあらゆる金属、また、金属に限らず、アルミナ、ジルコニア等の各種セラミックから選定できる。好適にはFe−Ni合金、ステンレス鋼を用いることが接合強度の面から好ましい。   The holder can be selected according to the thermal expansion coefficient and mechanical strength of the various optical elements 1. Preferably, the material of the holder should be selected according to the method of attaching the optical device of the present invention to another device. In addition to the Fe—Ni alloy, any metal such as stainless steel, copper alloy, brass, aluminum alloy, and various ceramics such as alumina and zirconia can be selected. Preferably, Fe—Ni alloy and stainless steel are used from the viewpoint of bonding strength.

また、反射防止膜は、単層あるいは多層構造を用いることができ、MgF、SiO,Al等の材料をスパッタ法や真空蒸着法等により形成することができる。反射防止膜の耐熱性は光学素子との接合性が悪化するために400℃以下である。 The antireflection film can be a single layer or a multilayer structure, and can be formed of a material such as MgF 2 , SiO 2 , Al 2 O 3 by a sputtering method, a vacuum evaporation method, or the like. The heat resistance of the antireflection film is 400 ° C. or lower because the bondability with the optical element is deteriorated.

本発明に用いる低融点ガラスは、SnOとPとMnOを含有するものである。低軟化性のSnO−P系ガラスにMnOを添加することにより、酸化鉛系に比べより低温での焼成を可能とし、焼成温度を400℃より低くし、さらに耐水性の向上および熱膨張係数の低下を図ることができる。これはMnOの一部がMnに変化し、3価の陽イオン酸化物として働き、Pが作るネットワーク構造に組み込まれたため、構造が強固になり、耐水性の向上および熱膨張係数の低下に寄与するものと考えられる。また、マンガンイオンが高酸化数になることによって、スズイオンの価数変化を抑制する効果が考えられる。その結果、不熔解の化合物の生成が抑えられ、安定した融体を得ることができる。 The low melting point glass used in the present invention contains SnO, P 2 O 5 and MnO. By adding MnO to the low softening SnO—P 2 O 5 glass, firing at a lower temperature is possible compared to the lead oxide system, the firing temperature is lower than 400 ° C., and water resistance is improved and heat is reduced. The expansion coefficient can be reduced. This is because part of MnO is changed to Mn 2 O 3 , works as a trivalent cation oxide, and is incorporated into the network structure formed by P 2 O 5 , so that the structure becomes stronger, water resistance is improved, and heat is increased. It is thought that it contributes to the reduction of the expansion coefficient. Moreover, the effect which suppresses the valence change of a tin ion can be considered because manganese ion becomes a high oxidation number. As a result, generation of insoluble compounds can be suppressed, and a stable melt can be obtained.

ここで、SnOはガラスを低融点化する成分であり、30〜70mol%、より好ましくは40〜60mol%である。SnOが30mol%より少ないとガラスの粘性が高くなって焼成温度が高くなり、70mol%より大きいとガラス化しなくなる。また、Pはガラスを形成する成分であり、20〜50mol%、より好ましくは30〜40mol%である。Pが20mol%より少ないとガラス化せず、50mol%より大きいと機械的強度や耐候性が低下する。また、SnOとPは、合わせて70mol%以上、より好ましくは80mol%以上である。70mol%より少ないとガラスの粘性が高くなって焼成温度が高くなる。また、MnOは5〜30mol%、より好ましくは10〜20mol%である。MnOが5mol%より少ないと機械的強度が不十分となり、30mol%より大きいとガラス化しにくくなるからである。 Here, SnO is a component that lowers the melting point of glass, and is 30 to 70 mol%, more preferably 40 to 60 mol%. When SnO is less than 30 mol%, the viscosity of the glass increases and the firing temperature increases, and when it exceeds 70 mol%, it does not vitrify. Further, P 2 O 5 is a component for forming a glass, 20 to 50 mol%, more preferably 30~40mol%. P 2 O 5 is not vitrified less than 20 mol%, 50 mol% larger than the mechanical strength and weather resistance is lowered. Further, SnO and P 2 O 5 is combined 70 mol%, and more preferably not less than 80 mol%. If it is less than 70 mol%, the viscosity of the glass is increased and the firing temperature is increased. Moreover, MnO is 5-30 mol%, More preferably, it is 10-20 mol%. This is because if MnO is less than 5 mol%, the mechanical strength becomes insufficient, and if it is more than 30 mol%, vitrification becomes difficult.

本発明の無鉛低融点ガラスの製造のための出発原料としては、以下の化合物を用いることができる。MnOの原料には、MnO、MnO、MnCO等を挙げることができる。この中で、MnOはSnOを酸化して、Pと不熔解の化合物(SnP)を作るSnOを生成させる傾向があるため、あまり好ましくない。好ましくはMnOであり、熔解の容易さを考慮すれば、分解温度が低いMnCOがさらに好ましい。 The following compounds can be used as starting materials for the production of the lead-free low-melting glass of the present invention. Examples of MnO raw materials include MnO 2 , MnO, MnCO 3 and the like. Among them, MnO 2 is not so preferable because it tends to generate SnO 2 that oxidizes SnO to form an insoluble compound (SnP 2 O 7 ) with P 2 O 5 . MnO is preferable, and MnCO 3 having a low decomposition temperature is more preferable in consideration of easiness of melting.

また、SnOの原料には、SnOよりも、熔解の容易さを考慮すれば、分解温度が低いメタスズ酸が良いが、Pと不熔解の化合物(SnP)を生成し難くするには、SnOの方がさらに好ましい。 In addition, considering the ease of melting as compared with SnO, the SnO raw material may be metastannic acid having a lower decomposition temperature, but it is difficult to produce P 2 O 5 and an insoluble compound (SnP 2 O 7 ). For this purpose, SnO is more preferable.

また、Pの原料には、P、HPO、NHPO等を挙げることができるが、Pは吸水性がある、あるいはHPOは液体であることを考慮すると、好ましくない。それに対し、リン酸のアンモニウム塩(第一リン酸アンモニウム:リン酸二水素アンモニウム(NHPO)あるいは、第二リン酸アンモニウム:リン酸水素二アンモニウム((NH) HPO)は固体であり、これらを用いると、分解時に発生する還元性のアンモニアガスによって、SnOの酸化(SnOへの変化)を抑制することができるので好ましい。 In addition, the raw material of P 2 O 5, P 2 O 5, H 3 PO 4, NH 4 is H 2 PO can be given 4 or the like, P 2 O 5 is water absorption or H 3 PO 4, Is not preferable considering that it is a liquid. In contrast, an ammonium salt of phosphoric acid (primary ammonium phosphate: ammonium dihydrogen phosphate (NH 4 H 2 PO 4 ) or secondary ammonium phosphate: diammonium hydrogen phosphate ((NH 4 ) 2 HPO 4 ) Is a solid, and it is preferable to use these because reductive ammonia gas generated during decomposition can suppress oxidation of SnO (change to SnO 2 ).

なお、無鉛低融点ガラスの製造には、上記原料単体を混合してもよいが、前記組成元素を含有する種々のリン酸塩を用いても良い。これらを用いると、ガラス製造時に成分の揮発が抑えられ、組成変動が小さくなる。   In addition, although the said raw material single-piece | unit may be mixed for manufacture of a lead-free low melting glass, you may use the various phosphate containing the said composition element. When these are used, volatilization of components during glass production is suppressed, and the composition variation is reduced.

熔解に用いる容器は、金属、石英、アルミナ、ムライト質、炭素質など特に限定されない。なお、熔解に用いる容器のふたについては、あっても構わないが、分解ガスの放出促進の観点から、無い方が好ましい。また、熔解雰囲気は、不活性雰囲気でも構わないが、製造プロセスの複雑さから考えると、大気中が好ましい。   The container used for melting is not particularly limited, such as metal, quartz, alumina, mullite, carbon. In addition, although there may be a lid of the container used for melting, it is preferable that there is no lid from the viewpoint of promoting the release of cracked gas. The melting atmosphere may be an inert atmosphere, but the atmosphere is preferable in view of the complexity of the manufacturing process.

さらに、焼成温度、熱膨張係数の調整、結晶化温度の調整、各種材料との濡れ性、接着性の調整を目的として、焼成温度を著しく上げない、耐水性を著しく下げない、熱膨張係数を著しく上げない範囲で、合計10mol%以内で、アルカリ金属、アルカリ土類金属の化合物、遷移金属の化合物あるいはアルミナや酸化鉄、酸化ガリウム、酸化アンチモンなどの3価の陽イオン酸化物、B、SiO等の添加物を加えても良い。 Furthermore, for the purpose of adjusting the firing temperature, thermal expansion coefficient, crystallization temperature, wettability with various materials, and adhesiveness, the firing temperature is not increased significantly, the water resistance is not significantly decreased, and the thermal expansion coefficient is increased. Within a total range of not more than 10 mol%, alkali metal, alkaline earth metal compound, transition metal compound, trivalent cation oxide such as alumina, iron oxide, gallium oxide, antimony oxide, B 2 O 3. Additives such as SiO 2 may be added.

ここで、本発明に用いる低融点ガラスの組成分析には、誘導結合プラズマ発光分析装置(ICP発光分析)を用いることが望ましい。ICP発光分析は、代表的な無機元素分析の一つであり、多くの元素に対してppbレベルの高感度分析ができるだけでなく、他の分析法と比較して共存物質の影響を受け難く、多元素同時分析に適している。   Here, it is desirable to use an inductively coupled plasma emission spectrometer (ICP emission analysis) for the composition analysis of the low melting point glass used in the present invention. ICP emission analysis is one of the typical inorganic element analyses. Not only can ppb-level high-sensitivity analysis be performed for many elements, but it is also less susceptible to coexisting substances than other analytical methods. Suitable for simultaneous multi-element analysis.

次に、本発明の光デバイスの製造方法の一例を説明するが、光学素子の被固定面とホルダの固定面の少なくとも一方に、無鉛低融点ガラスから成る接合材を接触させ、次いで接合材を第1の昇温速度で焼成温度以上に昇温した後第1の冷却速度で冷却して光学素子を上記ホルダに固定する接合工程と、次いで第1の昇温速度よりも速い第2の昇温速度で上記の焼成温度まで昇温した後第1の冷却速度よりも速い第2の冷却速度で冷却するアニール工程とを有するものであれば特に限定されない。後述のアニールの効果を得るには、第2の昇温速度は第1の昇温速度の3倍以上、より好ましくは5倍以上である。また、第2の冷却速度は第1の冷却速度の6倍以上、より好ましくは10倍以上である。なお、第2の冷却速度を達成するには、例えば、空気ジェットを吹き付ける方法を用いることができる。低融点ガラスは、焼成温度以下で分解する有機系ビヒクルなどでペースト化して光学素子の被固定面とホルダの固定面に塗布した後焼成するか、あるいはプレス成形で所定の形状に成形した後、光学素子とホルダの接合箇所に配置して焼成することもできる。   Next, an example of a method for manufacturing an optical device of the present invention will be described. A bonding material made of lead-free low-melting glass is brought into contact with at least one of the fixed surface of the optical element and the fixing surface of the holder, and then the bonding material is used. A joining step in which the optical element is fixed to the holder by heating at a first temperature increase rate to a firing temperature or higher and then cooling at a first cooling rate, and then a second temperature increase higher than the first temperature increase rate. There is no particular limitation as long as it has an annealing step in which the temperature is raised to the firing temperature at a temperature rate and then cooled at a second cooling rate that is faster than the first cooling rate. In order to obtain the effect of annealing, which will be described later, the second temperature raising rate is at least 3 times, more preferably at least 5 times the first temperature raising rate. Further, the second cooling rate is 6 times or more, more preferably 10 times or more of the first cooling rate. In order to achieve the second cooling rate, for example, a method of blowing an air jet can be used. The low-melting glass is pasted with an organic vehicle that decomposes below the firing temperature and applied to the fixed surface of the optical element and the fixed surface of the holder, and then fired, or after being molded into a predetermined shape by press molding, It can also be arranged and fired at the joint between the optical element and the holder.

図1を参照して説明すると、光学素子1をホルダ2に搭載し、リング状に成形された低融点ガラス3を光学素子とホルダの接合箇所に配置させ、温度コントロールが可能な焼成炉に入れて5〜10℃/分(第1の昇温速度)で焼成温度以上まで上昇させ、その温度で3〜30分間保持後、20〜50℃/分(第1の冷却速度)で室温まで降下させた後、焼成炉から取り出す。接合方法はこれに限らず、低融点ガラス3としてバインダーを混合したペースト状のものを使用することもできる。また、焼成炉に限らず、ホットプレート等のヒーター付きの高温器具を用いることもできる。温度条件も、上記に限らず、使用部材、器具に応じて変更することができる。   Referring to FIG. 1, the optical element 1 is mounted on a holder 2 and a low-melting glass 3 formed in a ring shape is placed at the joint between the optical element and the holder and placed in a firing furnace capable of temperature control. The temperature is raised to the firing temperature or higher at 5 to 10 ° C./min (first heating rate), held at that temperature for 3 to 30 minutes, and then lowered to room temperature at 20 to 50 ° C./min (first cooling rate). And then remove from the firing furnace. The bonding method is not limited to this, and a paste in which a binder is mixed can be used as the low melting point glass 3. Moreover, not only a baking furnace but a high temperature apparatus with a heater such as a hot plate can be used. The temperature condition is not limited to the above, and can be changed according to the member used and the instrument.

次に再び焼成温度近くまで、第1の昇温速度の3倍以上の第2の昇温速度、すなわち、30〜200℃/分で急速均一加熱を行い、次いで空気ジェットを吹き付けることにより、第1の冷却速度の6倍以上の300〜2000℃/分の第2の冷却速度で急冷して低融点ガラスの表面に圧縮応力を与えることによりアニールする。   Next, a second uniform heating rate of 3 times or more of the first heating rate, that is, rapid uniform heating at 30 to 200 ° C./min, and then blowing an air jet to near the firing temperature again, Annealing is performed by quenching at a second cooling rate of 300 to 2000 ° C./min, which is 6 times or more the cooling rate of 1, and applying a compressive stress to the surface of the low melting point glass.

低融点ガラスに急速加熱を加えることにより、低融点ガラスの表面温度は内部温度より高くなる。この際に低融点ガラスに発生する応力は表面が圧縮、内部が引張りとなるので、低融点ガラス自体の破壊の危険はない。次に、低融点ガラス全体が均一に最高温度に達した後に急冷すると、最初は表面のほうが内部より温度降下が速く熱応力は表面が引張り、内部が圧縮となる。しかし、低融点ガラスが焼成温度近くの高温にあるときは、熱応力はごく僅かな時間で緩和され、表面と内部の温度差の存在にかかわらずに応力のない状態となる。そして、冷却率を一定にして上記表面と内部の温度差を一定に保つと低融点ガラスは応力のない状態で温度降下して、最後に室温になって、上記温度差がなくなったときに、高温時の温度差に起因する熱応力を緩和した分だけ低融点ガラスの表面に圧縮応力、内部に引張り応力が存在することとなり、低融点ガラスが強化されることとなる。   By applying rapid heating to the low melting point glass, the surface temperature of the low melting point glass becomes higher than the internal temperature. At this time, the stress generated in the low melting point glass is compressed on the surface and pulled on the inside, so there is no risk of destruction of the low melting point glass itself. Next, when the entire low-melting glass reaches the maximum temperature uniformly and then rapidly cools, the surface first has a temperature drop faster than the inside, and the thermal stress is pulled on the surface and the inside is compressed. However, when the low-melting glass is at a high temperature close to the firing temperature, the thermal stress is relaxed in a very short time, and it becomes a stress-free state regardless of the existence of a temperature difference between the surface and the interior. And when the cooling rate is kept constant and the temperature difference between the surface and the interior is kept constant, the low melting point glass drops in temperature without stress, finally reaches room temperature, and when the temperature difference disappears, As the thermal stress caused by the temperature difference at high temperature is relaxed, the low-melting glass has a compressive stress and a tensile stress inside, thereby strengthening the low-melting glass.

本実施の形態によれば、SnOとPとMnOを所定組成含有する無鉛低融点ガラスを接合材として用いることにより、従来の酸化鉛系の低融点ガラスに比べ焼成温度をより低温にして400℃より低くすることができるので、光学素子に設けられた反射防止膜を劣化させることがない。これにより、光デバイスの信頼性を向上させることできる。また、無鉛の低融点ガラスを用いるので、環境に優しい光デバイスを提供できる。 According to the present embodiment, by using lead-free low-melting glass containing SnO, P 2 O 5 and MnO in a predetermined composition as a bonding material, the firing temperature is lowered as compared with conventional lead oxide-based low-melting glass. Therefore, the antireflection film provided on the optical element is not deteriorated. Thereby, the reliability of the optical device can be improved. In addition, since lead-free low-melting glass is used, an environmentally friendly optical device can be provided.

なお、本発明の光デバイスは、光学素子1をホルダ2に低融点ガラス3で固定するだけではなく、例えば偏光子と検光子の組み合わせからなる光アイソレータや光フィルタ等のあらゆる光デバイスに応用することが可能である。   The optical device of the present invention is applied not only to the optical element 1 to the holder 2 with the low melting point glass 3, but also to any optical device such as an optical isolator or optical filter composed of a combination of a polarizer and an analyzer. It is possible.

図2は、本実施の形態に係る光デバイスの構造を示す模式断面図である。低融点ガラス3の外気露出表面に被覆部材5を設けた以外は、実施の形態1と同様の構造を有する。本実施の形態に係る光デバイスは、実施の形態1における効果に加え、以下の効果を有する。すなわち、被覆部材5は、外気に露出した低融点ガラス3の表面を、湿度等の、低融点ガラス3を劣化させる可能性のあるものから保護することができる。これにより、高湿度環境における光デバイスの劣化を抑制して、光デバイスの光学特性の信頼性をさらに向上させることができる。この被覆部材5はリング状で、ホルダ2と同様に、Fe−Ni合金の他、ステンレス鋼、銅合金、真鍮、アルミニウム合金などあらゆる金属、また、金属に限らず、アルミナ、ジルコニア等の各種セラミックから選定できる他、各種金属を蒸着するなどの方法でも成形可能である。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the structure of the optical device according to the present embodiment. Except that the covering member 5 is provided on the outside air exposed surface of the low melting point glass 3, it has the same structure as that of the first embodiment. The optical device according to the present embodiment has the following effects in addition to the effects of the first embodiment. That is, the covering member 5 can protect the surface of the low-melting glass 3 exposed to the outside air from those that may deteriorate the low-melting glass 3 such as humidity. Thereby, degradation of the optical device in a high humidity environment can be suppressed, and the reliability of the optical characteristics of the optical device can be further improved. This covering member 5 is ring-shaped and, like the holder 2, in addition to Fe—Ni alloy, any metal such as stainless steel, copper alloy, brass, aluminum alloy, and various ceramics such as alumina, zirconia, etc. In addition, it can be formed by a method such as vapor deposition of various metals.

図3は本実施の形態に係る光デバイスの他の実施形態である、光アイソレータの構造を示す模式断面図である。   FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the structure of an optical isolator which is another embodiment of the optical device according to the present embodiment.

ファラデー回転子11、該ファラデー回転子11の一方側に偏光子12、他方側に検光子13を配置し、ファラデー回転子11の外周に磁石14、ファラデー回転子11はホルダ15、偏光子12はホルダ16、検光子13はホルダ17にそれぞれ取り付けられ、ホルダ16とホルダ17はケース18により連結されている。ファラデー回転子11には、例えばBi置換ガーネット厚膜を使用し、偏光子12及び検光子13には赤外偏光ガラス(コーニング社製、商品名ポーラコア)、ホルダ16及びホルダ17にはニッケル−鉄合金、低融点ガラスG2及びG3には本発明の低融点ガラスを、ホルダ15はニッケル−鉄合金、そして低融点ガラスG1には本発明の低融点ガラスを用いている。ケース18とホルダ16及びホルダ17の固定は、Y1,Y2の接合箇所をYAGレーザーで溶接している。   A Faraday rotator 11, a polarizer 12 on one side of the Faraday rotator 11, an analyzer 13 on the other side, a magnet 14 on the outer periphery of the Faraday rotator 11, a holder 15 for the Faraday rotator 11, and a polarizer 12 for the polarizer 12. The holder 16 and the analyzer 13 are respectively attached to a holder 17, and the holder 16 and the holder 17 are connected by a case 18. The Faraday rotator 11 uses, for example, a Bi-substituted garnet thick film, the polarizer 12 and the analyzer 13 are infrared polarizing glasses (product name: Polar Core), and the holder 16 and the holder 17 are nickel-iron. The low melting point glass of the present invention is used for the alloy, the low melting point glass G2 and G3, the nickel-iron alloy is used for the holder 15, and the low melting point glass of the present invention is used for the low melting point glass G1. The case 18, the holder 16 and the holder 17 are fixed by welding Y1 and Y2 joints with a YAG laser.

本発明に用いる低融点ガラスは、SnOとPとMnOを含有するものである。低軟化性のSnO−P系ガラスにMnOを添加することにより、酸化鉛系に比べより低温での焼成を可能とし、焼成温度を400℃より低くし、さらに耐水性の向上および熱膨張係数の低下を図ることができる。これはMnOの一部がMnに変化し、3価の陽イオン酸化物として働き、Pが作るネットワーク構造に組み込まれたため、構造が強固になり、耐水性の向上および熱膨張係数の低下に寄与するものと考えられる。また、マンガンイオンが高酸化数になることによって、スズイオンの価数変化を抑制する効果が考えられる。その結果、不熔解の化合物の生成が抑えられ、安定した融体を得ることができる。 The low melting point glass used in the present invention contains SnO, P 2 O 5 and MnO. By adding MnO to the low softening SnO—P 2 O 5 glass, firing at a lower temperature is possible compared to the lead oxide system, the firing temperature is lower than 400 ° C., and water resistance is improved and heat is reduced. The expansion coefficient can be reduced. This is because part of MnO is changed to Mn 2 O 3 , works as a trivalent cation oxide, and is incorporated into the network structure formed by P 2 O 5 , so that the structure becomes stronger, water resistance is improved, and heat is increased. It is thought that it contributes to the reduction of the expansion coefficient. Moreover, the effect which suppresses the valence change of a tin ion can be considered because manganese ion becomes a high oxidation number. As a result, generation of insoluble compounds can be suppressed, and a stable melt can be obtained.

ここで、上記ファラデー回転子11、偏光子12及び検光子13は、引張応力に弱い脆性材料であり、ガラスの表面に生じている微小傷が、わずかな引張力でも、応力集中のために破壊する原因となる。しかしながら、圧縮力に付いては、逆に脆性材料の長所であるが非常に強いという特性を有し、また、本発明の低融点ガラスの焼成温度は400℃より低いので、ファラデー回転子11、偏光子12及び検光子13には、ホルダの収縮力により圧縮力がかかり、又、ファラデー回転子11、偏光子12及び検光子13との中間層として低融点ガラスが緩衝材として存在するので、その圧縮力によりファラデー回転子11、偏光子12及び検光子13の破壊が生じない。   Here, the Faraday rotator 11, the polarizer 12, and the analyzer 13 are brittle materials that are weak against tensile stress, and micro-scratches generated on the surface of the glass break down due to stress concentration even with a slight tensile force. Cause. However, the compressive force, on the other hand, is an advantage of the brittle material but has a very strong characteristic, and since the firing temperature of the low melting point glass of the present invention is lower than 400 ° C., the Faraday rotator 11, Since the polarizer 12 and the analyzer 13 are subjected to compressive force due to the contraction force of the holder, and a low melting point glass exists as a buffer material as an intermediate layer between the Faraday rotator 11, the polarizer 12 and the analyzer 13, The Faraday rotator 11, polarizer 12 and analyzer 13 are not destroyed by the compressive force.

また、ファラデー回転子11、偏光子12及び検光子13の光学面には反射防止膜を形成する場合があり、また該反射防止膜の劣化を抑制することも可能である。   In some cases, an antireflection film may be formed on the optical surfaces of the Faraday rotator 11, the polarizer 12, and the analyzer 13, and the deterioration of the antireflection film may be suppressed.

(実施例1)
以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明する。
Example 1
Hereinafter, the present invention will be described in detail using examples.

実施例として反射防止膜付の光学素子に外径1.8mmで熱膨張係数が88×10-7/℃の円筒形ガラスレンズ、ホルダに熱膨張係数97×10-7/℃のFe−Ni合金、低融点ガラスに、焼成温度が330〜380℃の本発明の低融点ガラスを用い、試料A〜Dの光デバイスを作製した。 As an example, an optical element with an antireflection film is a cylindrical glass lens having an outer diameter of 1.8 mm and a thermal expansion coefficient of 88 × 10 −7 / ° C., and a holder is Fe—Ni having a thermal expansion coefficient of 97 × 10 −7 / ° C. Optical devices of Samples A to D were prepared using the low melting point glass of the present invention having a firing temperature of 330 to 380 ° C. as the alloy and the low melting point glass.

比較例として低融点ガラスに酸化鉛を含有した焼成温度が450℃と460℃のものを用いた以外は、実施例と同様の方法により試料E、Fの光デバイスを作製した。   As comparative examples, optical devices of Samples E and F were produced by the same method as in the Examples, except that low-melting glass containing lead oxide and having a firing temperature of 450 ° C. and 460 ° C. was used.

評価結果は実施例及び比較例の試料をそれぞれ100個ずつ作製し、作製後の反射防止膜の反射率測定を行った。次に、85℃、85%の恒温恒湿試験に投入し、2000時間後の反射率を測定し、投入前からの反射率変動値に変換した。その結果を表1に示す。

Figure 2006309193
As evaluation results, 100 samples of each of the examples and comparative examples were produced, and the reflectance of the antireflection film after production was measured. Next, the sample was put into a constant temperature and humidity test at 85 ° C. and 85%, and the reflectance after 2000 hours was measured and converted into a reflectance fluctuation value from before the introduction. The results are shown in Table 1.
Figure 2006309193

表1に示すように、本発明の範囲内の低融点ガラスを用いた試料(No.A〜D)はすべて0.2%以下の反射率変動に抑えられているが、比較例の試料(No.E、F)においては、0.2%を超える反射率変動のものが、半数程度も発生した。   As shown in Table 1, all the samples (Nos. A to D) using the low-melting glass within the scope of the present invention are suppressed to reflectivity fluctuations of 0.2% or less. In Nos. E and F), about half of the reflectance fluctuations exceeded 0.2%.

この結果より、本発明の光デバイスは従来の光デバイスに比べ、反射率変動が小さく信頼性が向上した。   As a result, the optical device of the present invention has less reflectance fluctuation and improved reliability as compared with the conventional optical device.

(実施例2)
次に、図3に示すファラデー回転子11、該ファラデー回転子11の一方側に偏光子12、他方側に検光子13を配置し、ファラデー回転子11の外周に磁石14、ファラデー回転子11はホルダ15、偏光子12はホルダ16、検光子13はホルダ17にそれぞれ取り付けられ、ホルダ16とホルダ17はケース18により連結されている。
(Example 2)
Next, a Faraday rotator 11 shown in FIG. 3, a polarizer 12 on one side of the Faraday rotator 11, and an analyzer 13 on the other side, a magnet 14 on the outer periphery of the Faraday rotator 11, and the Faraday rotator 11 are The holder 15 and the polarizer 12 are attached to the holder 16, and the analyzer 13 is attached to the holder 17. The holder 16 and the holder 17 are connected by a case 18.

ファラデー回転子11には、例えばBi置換ガーネット厚膜を使用し、偏光子12及び検光子13には赤外偏光ガラス(コーニング社製、商品名ポーラコア)、ホルダ16及びホルダ17にはニッケル−鉄合金、低融点ガラスG2及びG3には本発明の低融点ガラスを、ホルダ15はニッケル−鉄合金、そして低融点ガラスG1には本発明の低融点ガラスを用いている。ケース18とホルダ16及びホルダ17の固定は、Y1,Y2の接合箇所をYAGレーザーで溶接した光アイソレータのサンプルを作成した。   The Faraday rotator 11 uses, for example, a Bi-substituted garnet thick film, the polarizer 12 and the analyzer 13 are infrared polarizing glasses (product name: Polar Core), and the holder 16 and the holder 17 are nickel-iron. The low melting point glass of the present invention is used for the alloy, the low melting point glass G2 and G3, the nickel-iron alloy is used for the holder 15, and the low melting point glass of the present invention is used for the low melting point glass G1. The case 18 and the holder 16 and the holder 17 were fixed by creating a sample of an optical isolator in which the joints of Y1 and Y2 were welded with a YAG laser.

ここで、低融点ガラスを本発明実施例として、上記実施例1の試料Cを用いたものと、比較例として、上記実施例1の試料Eを用いたものの2種類とし、それぞれ低融点ガラスの焼成温度354℃、450℃として各50個作成した。   Here, there are two types of low melting point glass, one using the sample C of the above example 1 as an example of the present invention and one using the sample E of the above example 1 as a comparative example. 50 pieces each were produced with a firing temperature of 354 ° C. and 450 ° C.

作成したサンプルのファラデー回転子16、偏光子17及び検光子18の割れ発生を100倍の金属顕微鏡で確認した。その結果を表2に示す。

Figure 2006309193
The generation of cracks in the Faraday rotator 16, polarizer 17 and analyzer 18 of the prepared sample was confirmed with a 100-fold metal microscope. The results are shown in Table 2.
Figure 2006309193

以上より、比較例の試料Eを用いた光アイソレータでは、50個中8個の割れを確認できたが、本発明実施例の試料Cを用いた光アイソレータでは、50個中割れの発生はなかった。   As described above, in the optical isolator using the sample E of the comparative example, 8 out of 50 cracks could be confirmed, but in the optical isolator using the sample C of the embodiment of the present invention, there was no occurrence of 50 internal cracks. It was.

本発明の実施の形態1に係る光デバイスの構造の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of the structure of the optical device which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態2に係る光デバイスの構造の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of the structure of the optical device which concerns on Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る光アイソレータの構造の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of the structure of the optical isolator which concerns on Embodiment 1 of this invention. 従来の光デバイスの構造の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of the structure of the conventional optical device.

符号の説明Explanation of symbols

1:光学素子
2:ホルダ
3:接合材
4:反射防止膜
5:被覆部材
11:ファラデー回転子
12:偏光子
13:検光子
14:磁石
15:ホルダ
16:ホルダ
17:ホルダ
18:ケース
1: Optical element 2: Holder 3: Bonding material 4: Antireflection film 5: Cover member 11: Faraday rotator 12: Polarizer 13: Analyzer 14: Magnet 15: Holder 16: Holder 17: Holder 18: Case

Claims (7)

光学素子が接合材によりホルダに固定されてなる光デバイスであって、
該接合材が、SnOを30〜70mol%、Pを20〜50mol%、MnOを5〜30mol%含む無鉛低融点ガラスである
光デバイス。
An optical device in which an optical element is fixed to a holder by a bonding material,
The bonding material, 30~70mol% of SnO, 20 to 50 mol% of P 2 O 5, the optical device is a lead-free low-melting-point glass containing 5 to 30 mol% of MnO.
上記接合材中のSnOとPの含有率が合計70mol%以上である
ことを特徴とする請求項1記載の光デバイス。
The optical device according to claim 1, wherein the total content of SnO and P 2 O 5 in the bonding material is 70 mol% or more.
ファラデー回転子の一方側に偏光子、他方側に検光子を有し、
上記ファラデー回転子の外周に磁石を有し、
上記各光学素子の側面が上記接合材により上記ホルダに接合されている
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光デバイス。
Having a polarizer on one side of the Faraday rotator and an analyzer on the other side,
Having a magnet on the outer periphery of the Faraday rotator,
The optical device according to claim 1, wherein a side surface of each optical element is bonded to the holder by the bonding material.
光学素子がホルダの固定面に固定されてなる光デバイスの製造方法であって、
上記光学素子の被固定面と上記ホルダの固定面の少なくとも一方に、無鉛低融点ガラスから成る接合材を接触させ、次いで該接合材を第1の昇温速度で焼成温度以上に昇温した後第1の冷却速度で冷却して上記光学素子を上記ホルダに固定する接合工程と、
次いで第1の昇温速度よりも速い第2の昇温速度で上記の焼成温度まで昇温した後第1の冷却速度よりも速い第2の冷却速度で冷却するアニール工程とを有する
光デバイスの製造方法。
An optical device manufacturing method in which an optical element is fixed to a fixed surface of a holder,
After a bonding material made of lead-free low-melting glass is brought into contact with at least one of the fixed surface of the optical element and the fixing surface of the holder, and then the bonding material is heated to a firing temperature or higher at a first heating rate. A bonding step of cooling at a first cooling rate and fixing the optical element to the holder;
And an annealing step in which the temperature is raised to the firing temperature at a second heating rate faster than the first heating rate and then cooled at a second cooling rate faster than the first cooling rate. Production method.
上記接合材としてSnOを30〜70mol%、Pを20〜50mol%、MnOを5〜30mol%含む無鉛低融点ガラスを用い、
上記接合材の溶融温度が400℃以下である
ことを特徴とする請求項4記載の光デバイスの製造方法。
SnO and 30~70mol%, 20~50mol% of P 2 O 5, the lead-free low-melting-point glass containing MnO 5 to 30 mol% used as the bonding material,
The method for manufacturing an optical device according to claim 4, wherein the melting temperature of the bonding material is 400 ° C. or less.
一方面側を偏光子、他方面側を検光子で挟持したファラデー回転子を
還元雰囲気中もしくは減圧雰囲気中で上記接合材によりホルダに接合する
ことを特徴とする請求項4または請求項5に記載の光デバイスの製造方法。
6. The Faraday rotator sandwiched by a polarizer on one side and an analyzer on the other side is joined to the holder by the joining material in a reducing atmosphere or a reduced pressure atmosphere. Optical device manufacturing method.
超音波振動によって上記接合材をホルダに含浸させながら、
上記偏光子、検光子、ファラデー回転子のそれぞれをホルダに接合する
ことを特徴とする請求項4〜請求項6のいずれかに記載の光デバイスの製造方法。














While impregnating the bonding material into the holder by ultrasonic vibration,
The method of manufacturing an optical device according to claim 4, wherein each of the polarizer, the analyzer, and the Faraday rotator is joined to a holder.














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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP4827983B1 (en) * 2010-09-10 2011-11-30 パナソニック株式会社 Laser light source device

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