JP2006299045A - 医療材料用高分子化合物及び該高分子化合物を用いたバイオチップ用基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板表面にアルキレングリコール残基を有するエチレン系不飽和重合性モノマー、生理活性物質を固定化する官能基を有するエチレン系不飽和重合性モノマー及び疎水性ユニットを有するエチレン系不飽和重合性モノマーを共重合して得られる医療材料用高分子化合物および該医療材料用高分子化合物を含む層を基板表面に形成したバイオチップ用基板。
Description
(1)アルキレングリコール残基を有するエチレン系不飽和重合性モノマー(a)、生理活性物質を固定化する官能基を有するエチレン系不飽和重合性モノマー(b)及び疎水性ユニットを有するエチレン系不飽和重合性モノマー(c)を共重合して得られることを特徴とする医療材料用高分子化合物、
(2)アルキレングリコール残基を有するエチレン系不飽和重合性モノマー(a)が下記の一般式[1]で表されるモノマーである(1)記載の医療材料用高分子化合物、
(3)アルキレングリコール残基を有するエチレン系不飽和重合性モノマー(a)がメトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレートまたはエトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレートである(1)記載の医療材料用高分子化合物、
(4)前記メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレートまたはエトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレートのエチレングリコールの平均連鎖が3〜100である(3)記載の医療材料用高分子化合物、
(5)生理活性物質を固定化する官能基を有するエチレン系不飽和重合性モノマー(b)の官能基がアルデヒド基、活性エステル基、エポキシ基、ビニルスルホン基、ビオチンから選ばれる少なくとも一つの官能基である(1)〜(4)いずれか記載の医療材料用高分子化合物、
(6)生理活性物質を固定化する官能基を有するエチレン系不飽和重合性モノマー(b)が下記の一般式[2]で表される活性エステル基を有するモノマーである(1)〜(4)いずれか記載の医療材料用高分子化合物、
(式中R3は水素原子またはメチル基を示し、Yは炭素数1〜10のアルキレングリコール残基またはアルキル基を示す。Wは活性エステル基を示す。qは1〜20の整数を示す。qが2以上20以下の整数である場合、繰り返されるYは、それぞれ同一であっても、または異なるアルキレングリコール残基の連鎖であってもよい。)
(7)前記活性エステル基がp−ニトロフェニルエステル基又はN−ヒドロキシスクシンイミドエステル基である(5)または(6)記載の医療材料用高分子化合物、
(8)疎水性ユニットを有するエチレン系不飽和重合性モノマー(c)の疎水性ユニットがアルキル基である(1)〜(7)いずれか記載の医療材料用高分子化合物、
(9)疎水性ユニットを有するエチレン系不飽和重合性モノマー(c)の疎水性ユニットが炭素数3〜20アルキル基である(1)〜(8)いずれか記載の医療材料用高分子化合物、
(10)前記疎水性ユニットを有するエチレン系不飽和重合性モノマー(c)がn―ブチルメタクリレート、n−ドデシルメタクリレート、n−オクチルメタクリレート、及びシクロヘキシルメタクリレートから選ばれる少なくとも一つのモノマーである(9)記載の医療材料用高分子化合物、
(11)(1)〜(10)いずれか記載の医療材料用高分子化合物を含む医療材料用表面コーティング材料、
(12)(1)〜(11)いずれか記載の医療材料用高分子化合物を含む層を基板表面に形成したバイオチップ用基板、
(13)前記基板がプラスチック製である(12)記載のバイオチップ用基板、
(14)前記プラスチックが飽和環状ポリオレフィンである(13)記載のバイオチップ用基板、
(15)(12)〜(14)いずれか記載のバイオチップ用基板に生理活性物質を固定化したバイオチップ、
(16)前記生理活性物質が核酸、アプタマー、タンパク質、オリゴペプチド、糖鎖、及び糖タンパク質から選ばれる少なくとも一つの生理活性物質である(15)記載のバイオチップ、
である。
アルキレングリコール残基を有するエチレン系不飽和重合性モノマー(a)としては、例えばメトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートおよびその水酸基の一置換エステル、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートおよびその水酸基の一置換エステル、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールを側鎖とする(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール (メタ)アクリレート、エトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等が挙げられるが、生理活性物質の非特異的吸着の少なさ及び入手性からメトキシポリエチレングリコールメタクリレートまたはエトキシポリエチレングリコールメタクリレートが好ましい。
2’−アゾビスイソブチルニトリル(以下「AIBN」という)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1 −カルボニトリル)等のアゾ化合物、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウリル等の有機過酸化物等を挙げることができる。
0.01molのポリエチレングリコールモノメタクリレート(日本油脂株式会社製Blenmer PE−200)を20mLのクロロホルムに溶解させた後、−30℃まで冷却した。−30℃に保ちながらこの溶液に、予め作製しておいた0.01molのp−ニトロフェニルクロロフォーメート(Aldrich社製)と0.01molのトリエチルアミン(和光純薬工業株式会社製)及びクロロホルム20mLの均一溶液をゆっくりと滴下した。−30℃にて1時間反応させた後、室温でさらに2時間溶液を攪拌した。その後反応液から塩をろ過により除去し、溶媒を留去してp−ニトロフェニルオキシカルボニル−ポリエチレングリコールメタクリレート(MEONP)を得た。得られたモノマーを重クロロホルム溶媒中1H―NMRで測定し、エチレングリコール残基が4.5単位含まれていることを確認した。
ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(別名メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、以下PEGMAと記載、数平均分子量Mn=約1100、Aldrich社製)、p−ニトロフェニルオキシカルボニル−ポリエチレングリコールメタクリレート(以下MEONPと記載)、シクロヘキシルメタクリレート(以下CHMと記載、東京化成株式会社製)をエタノールに溶解させ、モノマー混合溶液を作製した。総モノマー濃度は0.8mol/L、それぞれのモル比はPEGMA、MEONP、CHMの順に25:5:70である。そこにさらに0.002mol/Lになるように2、2−アゾビスイソブチロニトリル(以下AIBNと記載、和光純薬工業株式会社製)を添加し、均一になるまで撹拌した。その後、アルゴンガス雰囲気下、60℃で4時間反応させた後、反応溶液をジエチルエーテル中に滴下し、沈殿を収集した。得られた高分子化合物を重エタノール溶媒中1H―NMRで測定し、3.4ppm付近に現れるPEGMAの末端メトキシ基に帰属されるピーク、7.6および8.4ppm付近に現れるMEONPのベンゼン環に帰属されるピーク、4.7ppm付近に現れるCHMのメタクリル基に結合したシクロヘキシル基のCHに帰属されるピーク、それぞれの積分値より、この高分子化合物の組成比を算出した。表1に結果を示した。
高分子化合物の合成例1と同様にPEGMA、MEONP、CHMをエタノールに溶解させ、モノマー混合溶液を作製した。総モノマー濃度は0.5mol/L、それぞれのモル比はPEGMA、MEONP、CHMの順に45:5:50である。そこにさらに0.002mol/LになるようにAIBNを添加し、均一になるまで撹拌した。その後、アルゴンガス雰囲気下、60℃で4時間反応させた後、反応溶液をジエチルエーテル中に滴下し、沈殿を収集した。得られた高分子化合物を高分子化合物の合成例1と同様に重エタノール溶媒中1H―NMRで測定し、この高分子化合物の組成比を算出した。表1に結果を示した。
高分子化合物の合成例1と同様にPEGMA、MEONP、CHMをエタノールに溶解させ、モノマー混合溶液を作製した。総モノマー濃度は0.4mol/L、それぞれのモル比はPEGMA、MEONP、CHMの順に65:5:30である。そこにさらに0.002mol/LになるようにAIBNを添加し、均一になるまで撹拌した。その後、アルゴンガス雰囲気下、60℃で4時間反応させた後、反応溶液をジエチルエーテル中に滴下し、沈殿を収集した。得られた高分子化合物を高分子化合物の合成例1と同様に重エタノール溶媒中1H―NMRで測定し、この高分子化合物の組成比を算出した。表1に結果を示した。
PEGMA、MEONP、n―ブチルメタクリレート(以下BMAと記載、関東化学株式会社製)をエタノールに溶解させ、モノマー混合溶液を作製した。総モノマー濃度は1.0mol/L、それぞれのモル比はPEGMA、MEONP、BMAの順に25:5:70である。そこにさらに0.002mol/LになるようにAIBNを添加し、均一になるまで撹拌した。その後、アルゴンガス雰囲気下、60℃で4時間反応させた後、反応溶液をジエチルエーテル中に滴下し、沈殿を収集した。得られた高分子化合物を高分子化合物の合成例1と同様に重エタノール溶媒中1H―NMRで測定し、3.4ppm付近に現れるPEGMAの末端メトキシ基に帰属されるピーク、7.6および8.4ppm付近に現れるMEONPのベンゼン環に帰属されるピーク、1.4〜1.7ppm付近に現れるBMAのメチレン基に帰属されるピーク、それぞれの積分値より、この高分子化合物の組成比を算出した。表1に結果を示した。
飽和環状ポリオレフィン樹脂をスライドガラス形状(寸法:76mm×26mm×1mm)に加工して固相基板を作成した。この固相基板を高分子化合物の合成例1−4にてえられた高分子化合物の0.3重量%エタノール溶液に浸漬、乾燥することにより、基板表面にアルキレングリコール残基を有するエチレン系不飽和重合性モノマー、生理活性物質を固定化する官能基を有するエチレン系不飽和重合性モノマー及び疎水性ユニットを有するエチレン系不飽和重合性モノマーからなる高分子化合物を含む層を導入した。
(ノンコート基板)
飽和環状ポリオレフィン樹脂をスライドガラス形状(寸法:76mm×26mm×1mm)に加工して固相基板を作成した。
(アルデヒド基板)
飽和環状ポリオレフィン樹脂をスライドガラス形状(寸法:76mm×26mm×1mm)に加工して固相基板を作成した。酸素雰囲気下のプラズマ処理によって基板表面に酸化処理を施した。この基板を2体積%の3−アミノプロピルトリメトキシシランのエタノール溶液に浸漬した後、純水洗浄し、45℃にて2時間熱処理することによりアミノ基を導入し、さらに1体積%のグルタルアルデヒド水溶液に浸漬した後、純水洗浄することでアルデヒド基を導入した。
特許文献2(特表2004−531390号公報)の実施例Xに従いアミン反応性スライドガラス基板を作製した。
工程1(1次抗体の固定化)
次に実施例、比較例で得られた基板上でサンドイッチ法を実施した。詳細はまず、該基板に自動スポッターにより炭酸バッファ(和光純薬製pH9.5)で3.3μmol/リットルに調製された一次抗体である抗マウスIgG2aをスポット後、室温の環境下に24時間静置することにより一次抗体を固定化した。
その後、実施例1から4の基板は0.1mol/リットルのエタノールアミン(和光純薬製、鹿特級)、0.1mol/リットルのトリスバッファ(SIGMA製)水溶液(pH9.5)に1時間浸漬することにより残りの活性エステル部を失活させた。また、比較例1の基板は市販の吸着防止剤であるブロックエース(大日本製薬株式会社製)を4倍希釈した溶液に2時間浸漬することにより吸着防止処理を施した基板で行った。比較例2の基板は市販の吸着防止剤であるブロックエース(大日本製薬株式会社製)を4倍希釈した溶液に2時間浸漬することにより吸着防止処理を施した。
その後、PBSバッファ(日水製薬製:組織培養用ダルベッコPBS(−)を1リットル中9.6gを溶解したバッファ)で10%に希釈したFBS(子牛血清)溶液を作製した。この溶液中に抗原であるマウス IgG2aを添加し20nmol/リットルとした溶液を作製した。この溶液をPBSバッファ(日水製薬製:組織培養用ダルベッコPBS(−)を1リットル中9.6gを溶解したバッファ)で10%に希釈したFBS(子牛血清)で1倍、2倍、3倍、4倍希釈溶液を作製した。これらの希釈溶液および抗原であるマウス IgG2aを含まない10%FBS溶液を37℃にて2時間、基板と接触させることにより抗原抗体反応を実施した。抗原抗体反応後0.05wt%の非イオン性界面活性剤Tween20(ロシュ・ダイアグノスティックス株式会社製)を添加した1×SSCバッファ(Zymed Laboratories, Inc.製SSC20×Bufferを希釈して使用)で室温にて5分間洗浄した。
洗浄後、二次抗体であるビオチン標識抗マウス IgG2aをPBSバッファ(日水製薬製:組織培養用ダルベッコPBS(−)を1リットル中9.6gを溶解したバッファ)に添加することにより20nmol/リットルの溶液を作製した。この溶液と基板とを37℃にて2時間、抗原抗体反応を実施した。抗原抗体反応後0.05wt%の非イオン性界面活性剤Tween20(ロシュ・ダイアグノスティックス株式会社製)を添加した1×SSCバッファ(Zymed Laboratories, Inc.製SSC20×Bufferを希釈して使用)で室温にて5分間洗浄した。
最後にCy5標識されたストレプトアビジンをPBSバッファ(日水製薬製:組織培養用ダルベッコPBS(−)を1リットル中9.6gを溶解したバッファ)に添加することにより20nmol/リットルの溶液を作製した。この溶液と基板とを37℃にて30分反応させた後、0.05wt%の非イオン性界面活性剤Tween20(ロシュ・ダイアグノスティックス株式会社製)を添加した1×SSCバッファ(Zymed Laboratories, Inc.製SSC20×Bufferを希釈して使用)で室温にて5分間洗浄することにより標識化をした。
Claims (16)
- アルキレングリコール残基を有するエチレン系不飽和重合性モノマー(a)、生理活性物質を固定化する官能基を有するエチレン系不飽和重合性モノマー(b)及び疎水性ユニットを有するエチレン系不飽和重合性モノマー(c)を共重合して得られることを特徴とする医療材料用高分子化合物。
- アルキレングリコール残基を有するエチレン系不飽和重合性モノマー(a)がメトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレートまたはエトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレートである請求項1記載の医療材料用高分子化合物。
- 前記メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレートまたはエトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレートのエチレングリコールの平均連鎖が3〜100である請求項3記載の医療材料用高分子化合物。
- 生理活性物質を固定化する官能基を有するエチレン系不飽和重合性モノマー(b)の官能基がアルデヒド基、活性エステル基、エポキシ基、ビニルスルホン基、ビオチンから選ばれる少なくとも一つの官能基である請求項1〜4いずれか記載の医療材料用高分子化合物。
- 前記活性エステル基がp−ニトロフェニルエステル基又はN−ヒドロキシスクシンイミドエステル基である請求項5または6記載の医療材料用高分子化合物。
- 疎水性ユニットを有するエチレン系不飽和重合性モノマー(c)の疎水性ユニットがアルキル基である請求項1〜7いずれか記載の医療材料用高分子化合物。
- 疎水性ユニットを有するエチレン系不飽和重合性モノマー(c)の疎水性ユニットが炭素数3〜20のアルキル基である請求項1〜8いずれか記載の医療材料用高分子化合物。
- 前記疎水性ユニットを有するエチレン系不飽和重合性モノマー(c)がn―ブチルメタクリレート、n−ドデシルメタクリレート、n−オクチルメタクリレート、及びシクロヘキシルメタクリレートから選ばれる少なくとも一つのモノマーである請求項9記載の医療材料用高分子化合物。
- 請求項1〜10いずれか記載の医療材料用高分子化合物を含む医療材料用表面コーティング材料。
- 請求項1〜11いずれか記載の医療材料用高分子化合物を含む層を基板表面に形成したバイオチップ用基板。
- 前記基板がプラスチック製である請求項12記載のバイオチップ用基板。
- 前記プラスチックが飽和環状ポリオレフィンである請求項13記載のバイオチップ用基板。
- 請求項12〜14いずれか記載のバイオチップ用基板に生理活性物質を固定化したバイオチップ。
- 前記生理活性物質が核酸、アプタマー、タンパク質、オリゴペプチド、糖鎖、及び糖タンパク質から選ばれる少なくとも一つの生理活性物質である請求項15記載のバイオチップ。
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