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JP2006165269A - Printed circuit board - Google Patents

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JP2006165269A
JP2006165269A JP2004354532A JP2004354532A JP2006165269A JP 2006165269 A JP2006165269 A JP 2006165269A JP 2004354532 A JP2004354532 A JP 2004354532A JP 2004354532 A JP2004354532 A JP 2004354532A JP 2006165269 A JP2006165269 A JP 2006165269A
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JP
Japan
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insulating layer
width direction
circuit board
thickness
printed circuit
Prior art date
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Pending
Application number
JP2004354532A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsuru Motogami
満 本上
Toshiki Naito
俊樹 内藤
Yoshihiko Takeuchi
嘉彦 竹内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP2004354532A priority Critical patent/JP2006165269A/en
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Abstract

【課題】 屈曲動作が速くても、十分な屈曲信頼性を得ることができ、しかも、導体パターンの破断を低減することのできる、配線回路基板を提供すること。
【解決手段】 フレキシブル配線回路基板1の屈曲部において、幅方向両端部におけるベース絶縁層2およびカバー絶縁層4の厚みの合計Teを、幅方向中央部におけるベース絶縁層2およびカバー絶縁層4の厚みの合計Tcに対して、厚く形成する。これによって、屈曲部において、速い屈曲動作で屈曲させても、厚みがより厚い幅方向両端部で、弛みの発生を防止しつつ、厚みがより薄い幅方向中央部で、良好な屈曲信頼性を確保することができる。その結果、屈曲動作が速くても、十分な屈曲信頼性を得ることができ、しかも、導体パターン3の破断を防止することができる。
【選択図】 図2
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed circuit board capable of obtaining sufficient bending reliability even when a bending operation is fast and reducing the breakage of a conductor pattern.
SOLUTION: At a bent portion of a flexible printed circuit board 1, a total Te of the thicknesses of a base insulating layer 2 and a cover insulating layer 4 at both end portions in the width direction is defined as the sum of the thicknesses of the base insulating layer 2 and the cover insulating layer 4 at the center portion in the width direction. It is formed thicker than the total thickness Tc. As a result, even if the bent portion is bent by a fast bending operation, good bending reliability is achieved at the central portion in the width direction while preventing the occurrence of slack at both ends in the width direction where the thickness is thicker. Can be secured. As a result, even if the bending operation is fast, sufficient bending reliability can be obtained, and breakage of the conductor pattern 3 can be prevented.
[Selection] Figure 2

Description

本発明は、配線回路基板、詳しくは、屈曲信頼性が要求されるフレキシブル配線回路基板などの配線回路基板に関する。   The present invention relates to a printed circuit board, and more particularly to a printed circuit board such as a flexible printed circuit board that requires bending reliability.

フレキシブル配線回路基板は、可撓性を有する配線回路基板であって、反復駆動される可動部材に対応して屈曲し、また、狭い空間に屈曲状態で配置できることから、ハードディスクドライブや光ディスクドライブなどの電子機器において、広く用いられている。
このようなフレキシブル配線回路基板において、屈曲信頼性を向上させるために、例えば、フレキシブル配線回路基板における屈曲部の絶縁層の厚みを、非屈曲部の絶縁層の厚みよりも薄くすることが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
特開2001−7452号公報
A flexible printed circuit board is a flexible printed circuit board that can be bent corresponding to a repetitively driven movable member and can be arranged in a bent state in a narrow space, such as a hard disk drive or an optical disk drive. Widely used in electronic equipment.
In such a flexible printed circuit board, in order to improve the bending reliability, for example, it has been proposed to make the thickness of the insulating layer of the bent portion of the flexible printed circuit board thinner than the thickness of the insulating layer of the non-bent portion. (For example, refer to Patent Document 1).
Japanese Patent Laid-Open No. 2001-7452

しかし、フレキシブル配線回路基板の屈曲部の絶縁層が薄い場合には、屈曲動作が速くなるに従って、屈曲部の薄い絶縁層に弛みが発生して、形状が不安定となる。そうすると、曲率半径の小さい部分が発生しやすくなり、そのような曲率半径の小さい部分において、導体パターンが破断するという不具合を生じる。
本発明の目的は、屈曲動作が速くても、十分な屈曲信頼性を得ることができ、しかも、導体パターンの破断を低減することのできる、配線回路基板を提供することにある。
However, when the insulating layer at the bent portion of the flexible printed circuit board is thin, as the bending operation becomes faster, the thin insulating layer at the bent portion is loosened and the shape becomes unstable. If it does so, it will become easy to generate | occur | produce the part with a small curvature radius, and the malfunction that a conductor pattern will fracture | rupture will arise in the part with such a small curvature radius.
An object of the present invention is to provide a printed circuit board that can obtain sufficient bending reliability even when the bending operation is fast, and can reduce breakage of a conductor pattern.

上記の目的を達成するため、本発明の配線回路基板は、ベース絶縁層と、前記ベース絶縁層の上に積層された導体パターンと、前記導体パターンを被覆するように、前記ベース絶縁層の上に積層されたカバー絶縁層とを備える配線回路基板において、前記配線回路基板の長手方向に対して、前記ベース絶縁層、前記導体パターンおよび前記カバー絶縁層が積層される積層方向に沿って交差する方向に屈曲する屈曲部を備え、前記屈曲部では、前記長手方向および前記積層方向に対して直交する幅方向の両端部における前記ベース絶縁層および前記カバー絶縁層の厚みの合計が、前記幅方向の中央部における前記ベース絶縁層および前記カバー絶縁層の厚みの合計に対して、厚く形成されていることを特徴としている。   In order to achieve the above object, a wired circuit board according to the present invention includes a base insulating layer, a conductor pattern laminated on the base insulating layer, and the base insulating layer so as to cover the conductor pattern. In the printed circuit board including the insulating cover layer laminated on the substrate, the longitudinal direction of the wired circuit board intersects with the lamination direction in which the insulating base layer, the conductor pattern, and the insulating cover layer are laminated. A bending portion that bends in a direction, wherein the sum of the thicknesses of the insulating base layer and the insulating cover layer at both ends in the width direction orthogonal to the longitudinal direction and the stacking direction is the width direction. The central insulating layer is formed thicker than the total thickness of the insulating base layer and the insulating cover layer.

また、本発明の配線回路基板では、前記屈曲部の前記幅方向の両端部における前記ベース絶縁層および前記カバー絶縁層の厚みの合計と、前記屈曲部の前記幅方向の中央部における前記ベース絶縁層および前記カバー絶縁層の厚みの合計との差が、2〜20μmであることが好適である。
また、本発明の配線回路基板では、前記屈曲部の前記幅方向の両端部における前記ベース絶縁層の厚みを、前記屈曲部の前記幅方向の中央部における前記ベース絶縁層の厚みよりも、厚くしてもよい。
In the wired circuit board according to the present invention, the base insulation at the central portion in the width direction of the bent portion and the total thickness of the base insulating layer and the cover insulating layer at both ends in the width direction of the bent portion. It is preferable that the difference between the total thickness of the layer and the insulating cover layer is 2 to 20 μm.
In the wired circuit board of the present invention, the thickness of the base insulating layer at both end portions in the width direction of the bent portion is larger than the thickness of the base insulating layer in the center portion in the width direction of the bent portion. May be.

また、本発明の配線回路基板では、前記屈曲部の前記幅方向の両端部における前記カバー絶縁層の厚みを、前記屈曲部の前記幅方向の中央部における前記カバー絶縁層の厚みよりも、厚くしてもよい。
また、本発明の配線回路基板では、前記屈曲部の前記幅方向の両端部が、前記幅方向の端縁から前記幅方向の内側に、それぞれ1〜200μmの部分であることが好適である。
In the wired circuit board of the present invention, the thickness of the insulating cover layer at both end portions in the width direction of the bent portion is larger than the thickness of the insulating cover layer in the center portion in the width direction of the bent portion. May be.
In the wired circuit board of the present invention, it is preferable that both end portions in the width direction of the bent portion are portions of 1 to 200 μm from the edge in the width direction to the inside in the width direction.

本発明の配線回路基板では、屈曲部において、幅方向の両端部におけるベース絶縁層およびカバー絶縁層の厚みの合計が、その幅方向の中央部におけるベース絶縁層およびカバー絶縁層の厚みの合計に対して、厚く形成されている。そのため、この屈曲部において、速い屈曲動作で屈曲させても、厚みがより厚い幅方向の両端部で、弛みの発生を防止しつつ、厚みがより薄い幅方向の中央部で、良好な屈曲信頼性を確保することができる。その結果、屈曲動作が速くても、十分な屈曲信頼性を得ることができ、しかも、導体パターンの破断を低減することができる。   In the printed circuit board according to the present invention, in the bent portion, the total thickness of the base insulating layer and the cover insulating layer at both ends in the width direction is the total thickness of the base insulating layer and the cover insulating layer in the center portion in the width direction. On the other hand, it is formed thick. For this reason, even if the bent portion is bent by a fast bending operation, it is possible to prevent the occurrence of slack at both end portions in the width direction where the thickness is thicker, and the good bending reliability in the center portion in the width direction where the thickness is thinner. Sex can be secured. As a result, even if the bending operation is fast, sufficient bending reliability can be obtained, and breakage of the conductor pattern can be reduced.

図1は、本発明の配線回路基板の第1実施形態のフレキシブル配線回路基板の屈曲部の要部平面図、図2は、図1に示すフレキシブル配線回路基板の屈曲部の要部断面図である。
図1に示すように、このフレキシブル配線回路基板1は、平面視において、特定方向に延びる略矩形平帯形状をなし、図2に示すように、ベース絶縁層2と、そのベース絶縁層2の上に積層された導体パターン3と、導体パターン3を被覆するように、ベース絶縁層2の上に積層されたカバー絶縁層4とを備えている。
FIG. 1 is a plan view of an essential part of a bent portion of a flexible printed circuit board according to a first embodiment of the wired circuit board of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view of an essential part of the bent portion of the flexible printed circuit board shown in FIG. is there.
As shown in FIG. 1, the flexible printed circuit board 1 has a substantially rectangular flat strip shape extending in a specific direction in plan view. As shown in FIG. 2, the base insulating layer 2 and the base insulating layer 2 A conductive pattern 3 laminated on top and a cover insulating layer 4 laminated on the base insulating layer 2 so as to cover the conductive pattern 3 are provided.

また、このフレキシブル配線回路基板1では、この屈曲部が、各層の積層方向(以下、「厚み方向」とする。)に沿って、フレキシブル配線回路基板1の長手方向(以下、「長手方向」とする。)に対して交差する方向に屈曲する。
ベース絶縁層2は、長手方向および厚み方向に直交する方向(以下、「幅方向」とする。)において、その幅方向両端部5が、その幅方向中央部6に対して、厚みが厚くなる、断面略凹形状に形成されている。
In the flexible printed circuit board 1, the bent portion is referred to as a longitudinal direction (hereinafter referred to as “longitudinal direction”) of the flexible printed circuit board 1 along the stacking direction of each layer (hereinafter referred to as “thickness direction”). Bend in the direction that intersects.
The base insulating layer 2 is thicker in the width direction both ends 5 than in the width direction central portion 6 in a direction perpendicular to the longitudinal direction and the thickness direction (hereinafter referred to as “width direction”). The cross section is formed in a substantially concave shape.

ベース絶縁層2の両端部5は、カバー絶縁層4が積層されている側に向かって断面略矩形状に突出するように形成されており、その幅方向内側面が、幅方向外側上方から幅方向内側下方に向かって傾斜するように形成されている。
ベース絶縁層2の各端部5は、フレキシブル配線回路基板1の幅方向端縁から幅方向内側に延びるように形成され、その幅(最大幅)W1は、例えば、1〜200μm、好ましくは、5〜100μmである。また、各端部5の厚みT1は、例えば、4〜90μm、好ましくは、6〜50μmである。
Both end portions 5 of the insulating base layer 2 are formed so as to protrude in a substantially rectangular cross section toward the side where the insulating cover layer 4 is laminated, and the inner side surface in the width direction has a width from the upper outer side in the width direction. It is formed so as to incline downward in the direction.
Each end portion 5 of the insulating base layer 2 is formed so as to extend inward in the width direction from the edge in the width direction of the flexible printed circuit board 1, and its width (maximum width) W1 is, for example, 1 to 200 μm, preferably 5 to 100 μm. Moreover, thickness T1 of each edge part 5 is 4-90 micrometers, for example, Preferably, it is 6-50 micrometers.

ベース絶縁層2の中央部6は、ベース絶縁層2の幅方向における各端部5の間であって、その厚みT2は、例えば、3〜40μm、好ましくは、5〜20μmである。
ベース絶縁層2において、各端部5の厚みT1と中央部6の厚みT2との差ΔT1-2は、例えば、1〜60μm、好ましくは、3〜30μmである。
導体パターン3は、図1に示すように、長手方向に沿って延びる複数の配線7からなり、各配線7は、幅方向において互いに間隔を隔てて配置されている。各配線7の幅は、例えば、10〜200μm、好ましくは、15〜50μmであり、各配線7の間隔は、例えば、10〜200μm、好ましくは、15〜50μmである。導体パターン3の厚みは、例えば、3〜50μm、好ましくは、5〜15μmである。
The central portion 6 of the base insulating layer 2 is between the end portions 5 in the width direction of the base insulating layer 2 and has a thickness T2 of, for example, 3 to 40 μm, or preferably 5 to 20 μm.
In the insulating base layer 2, the difference [Delta] T 1-2 and the thickness T2 of the thickness T1 and the central portion 6 of each end portion 5, for example, 1~60Myuemu, preferably from 3 to 30 .mu.m.
As shown in FIG. 1, the conductor pattern 3 is composed of a plurality of wirings 7 extending along the longitudinal direction, and the wirings 7 are spaced apart from each other in the width direction. The width of each wiring 7 is, for example, 10 to 200 μm, preferably 15 to 50 μm, and the interval between the wirings 7 is, for example, 10 to 200 μm, preferably 15 to 50 μm. The thickness of the conductor pattern 3 is 3-50 micrometers, for example, Preferably, it is 5-15 micrometers.

導体パターン3は、図2に示すように、ベース絶縁層2の幅方向における各端部5の間の中央部6に形成されている。
カバー絶縁層4は、導体パターン3を被覆しつつ、ベース絶縁層2の各端部5および中央部6にわたって積層されている。このカバー絶縁層4は、ベース絶縁層2の各端部5および中央部6の境界に対応して、段差8が形成される断面略凹形状に形成されている。
As shown in FIG. 2, the conductor pattern 3 is formed in the central portion 6 between the end portions 5 in the width direction of the base insulating layer 2.
The insulating cover layer 4 is laminated over the end portions 5 and the central portion 6 of the insulating base layer 2 while covering the conductor pattern 3. The insulating cover layer 4 is formed in a substantially concave shape in cross section where a step 8 is formed corresponding to the boundary between each end portion 5 and the central portion 6 of the insulating base layer 2.

また、カバー絶縁層4の厚みは、例えば、3〜20μm、好ましくは、5〜10μmである。
なお、カバー絶縁層4は、図示しないが、特定部分が開口されており、その開口部分から露出する各配線7が、外部端子と接続するための端子部とされている。
そして、このフレキシブル配線回路基板1では、ベース絶縁層2において、幅方向両端部5の厚みが、幅方向中央部6の厚みよりも、厚く形成されているので、フレキシブル配線回路基板1の幅方向両端部におけるベース絶縁層2およびカバー絶縁層4の厚みの合計Teが、幅方向中央部におけるベース絶縁層2およびカバー絶縁層4の厚みの合計Tcに対して、厚く形成されている。
The insulating cover layer 4 has a thickness of, for example, 3 to 20 μm, preferably 5 to 10 μm.
Although not shown, the cover insulating layer 4 has an opening at a specific portion, and each wiring 7 exposed from the opening serves as a terminal portion for connecting to an external terminal.
In this flexible printed circuit board 1, the width of both end portions 5 in the width direction is formed thicker than the thickness of the central portion 6 in the width direction in the insulating base layer 2. The total Te of the thicknesses of the base insulating layer 2 and the cover insulating layer 4 at both ends is thicker than the total thickness Tc of the base insulating layer 2 and the cover insulating layer 4 at the center in the width direction.

より具体的には、幅方向両端部におけるベース絶縁層2およびカバー絶縁層4の厚みの合計Teと、幅方向中央部におけるベース絶縁層2およびカバー絶縁層4の厚みの合計Tcとの差ΔTe-cが、例えば、2〜20μm、好ましくは、5〜10μmである。差ΔTe-cが、これより小さいと、弛みが生じやすくなる場合があり、一方、これより大きいと、反発力が大きくなり、柔軟性が低下する場合がある。 More specifically, the difference ΔT between the total Te of the thickness of the base insulating layer 2 and the cover insulating layer 4 at both ends in the width direction and the total Tc of the thickness of the base insulating layer 2 and the cover insulating layer 4 at the center in the width direction. ec is, for example, 2 to 20 μm, preferably 5 to 10 μm. If the difference ΔT ec is smaller than this, loosening may occur easily. On the other hand, if the difference ΔT ec is larger than this, the repulsive force may increase and the flexibility may decrease.

そのため、このフレキシブル配線回路基板1では、屈曲部において、速い屈曲動作で屈曲させても、厚みがより厚い幅方向両端部で、弛みの発生を防止しつつ、厚みがより薄い幅方向中央部で、良好な屈曲信頼性を確保することができる。その結果、屈曲動作が速くても、十分な屈曲信頼性を得ることができ、しかも、導体パターン3の破断を防止することができる。   Therefore, in this flexible printed circuit board 1, even if the bent portion is bent by a fast bending operation, it is possible to prevent the occurrence of slack at the thicker width direction both ends, while at the thinner widthwise central portion. Good bending reliability can be ensured. As a result, even if the bending operation is fast, sufficient bending reliability can be obtained, and breakage of the conductor pattern 3 can be prevented.

次に、このフレキシブル配線回路基板1の製造方法について、図3を参照して説明する。
この方法では、まず、図3(c)に示すように、支持基板9の上に、幅方向両端部5が幅方向中央部6に対して厚みが厚くなる断面略凹形状に、ベース絶縁層2を形成する。
支持基板9は、例えば、ステンレス、42アロイ、アルミニウム、銅−ベリリウム、りん青銅などからなる金属箔または金属薄板が用いられる。剛性、耐食性および加工性の観点から、好ましくは、ステンレス箔が用いられる。支持基板9の厚みは、例えば、10〜100μm、好ましくは、15〜30μmである。
Next, a method for manufacturing the flexible printed circuit board 1 will be described with reference to FIG.
In this method, first, as shown in FIG. 3C, the base insulating layer is formed on the support substrate 9 so as to have a substantially concave cross section in which the widthwise end portions 5 are thicker than the widthwise central portion 6. 2 is formed.
As the support substrate 9, for example, a metal foil or a metal thin plate made of stainless steel, 42 alloy, aluminum, copper-beryllium, phosphor bronze, or the like is used. From the viewpoint of rigidity, corrosion resistance and workability, a stainless steel foil is preferably used. The thickness of the support substrate 9 is, for example, 10 to 100 μm, preferably 15 to 30 μm.

また、ベース絶縁層2は、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの合成樹脂のフィルムが用いられる。好ましくは、ポリイミド樹脂フィルムが用いられる。
また、支持基板9の上に、上記したようにベース絶縁層2を形成するには、例えば、図3(a)に示すように、支持基板9の上に、感光性樹脂のワニス10を塗布する。感光性樹脂は、上記した合成樹脂において、感光性であるものが用いられる。好ましくは、感光性ポリイミド樹脂が用いられる。感光性樹脂のワニスは、好ましくは、ポリアミック酸樹脂(ポリイミド前駆体樹脂)のワニスが用いられる。
The insulating base layer 2 is made of, for example, a film of synthetic resin such as polyimide resin, polyamideimide resin, acrylic resin, polyether nitrile resin, polyether sulfone resin, polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, or polyvinyl chloride resin. Used. Preferably, a polyimide resin film is used.
Further, in order to form the insulating base layer 2 on the support substrate 9 as described above, for example, a varnish 10 of a photosensitive resin is applied on the support substrate 9 as shown in FIG. To do. As the photosensitive resin, the above-described synthetic resin that is photosensitive is used. Preferably, a photosensitive polyimide resin is used. As the photosensitive resin varnish, a polyamic acid resin (polyimide precursor resin) varnish is preferably used.

そして、図3(b)に示すように、ワニス10を、階調露光フォトマスク11を介して露光し、その後、図3(c)に示すように、現像することにより、断面略凹形状となるように、パターニングする。露光は、階調露光フォトマスク11を用いる階調露光方法が用いられる。また、現像は、現像液を用いる浸漬法やスプレー法などの現像方法が用いられる。   Then, as shown in FIG. 3B, the varnish 10 is exposed through the gradation exposure photomask 11, and then developed as shown in FIG. Then, patterning is performed. For the exposure, a gradation exposure method using a gradation exposure photomask 11 is used. For development, a developing method such as a dipping method using a developer or a spray method is used.

なお、図3(c)では、ネガ画像によるパターンニングが例示されているが、ネガ画像かポジ画像かは、ワニス10の種類による選択される。
また、この露光および現像において、幅方向両端部5が幅方向中央部6に対して厚みが厚くなる断面略凹形状にパターンニングするには、例えば、階調露光フォトマスク11において、幅方向中央部6に対向する部分の光の透過率を、全透過から全遮光までの間の半透過に調整するとともに、幅方向両端部5に対向する部分の光の透過率を、全透過(ネガ画像の場合)または全遮光(ポジ画像)にして、階調露光し、次いで、現像時に、幅方向中央部6のワニス10を、厚さ方向途中で残存させる。
In addition, in FIG.3 (c), the patterning by a negative image is illustrated, but it is selected by the kind of varnish 10 whether it is a negative image or a positive image.
Further, in this exposure and development, in order to pattern the both ends 5 in the width direction into a substantially concave shape with a thicker thickness than the central portion 6 in the width direction, for example, in the gradation exposure photomask 11, The light transmittance of the portion facing the portion 6 is adjusted to semi-transmission between the total transmission and the total light shielding, and the light transmittance of the portion facing the width direction both end portions 5 is adjusted to the total transmission (negative image). In the case of the above-mentioned case) or full shading (positive image), gradation exposure is performed, and then, at the time of development, the varnish 10 in the central portion 6 in the width direction is left in the middle of the thickness direction.

そして、図3(d)に示すように、ワニス10を、加熱により硬化させれば、幅方向両端部5が幅方向中央部6に対して厚みが厚くなる断面略凹形状に、ベース絶縁層2が形成される。
なお、このようなベース絶縁層2は、上記した方法以外にも、例えば、幅方向両端部5と同じ厚みで、均一な厚みのベース絶縁層2を形成した後、幅方向中央部6を、厚み方向途中までハーフエッチングすることにより、形成することもできる。
Then, as shown in FIG. 3D, when the varnish 10 is cured by heating, the base insulating layer has a substantially concave shape in cross section in which the widthwise end portions 5 are thicker than the widthwise central portion 6. 2 is formed.
In addition to the above-described method, the insulating base layer 2 is formed, for example, by forming the insulating base layer 2 with the same thickness as the both end portions 5 in the width direction and the uniform thickness, It can also be formed by half-etching halfway in the thickness direction.

また、例えば、エッチングされにくい第1ベース絶縁層を、幅方向中央部6と同じ厚みで形成し、その第1ベース絶縁層の上に、エッチングされやすい第2ベース絶縁層を、幅方向両端部5と同じ厚みとなるように形成して、ベース絶縁層2を形成した後、エッチングされやすい第2ベース絶縁層における幅方向中央部6をエッチングすることにより、形成することもできる。   Further, for example, a first base insulating layer that is difficult to be etched is formed with the same thickness as the widthwise central portion 6, and a second base insulating layer that is easily etched is formed on both ends of the width direction on the first base insulating layer. After the base insulating layer 2 is formed so as to have the same thickness as 5, the center portion 6 in the width direction of the second base insulating layer that is easily etched can be etched.

また、例えば、非感光性樹脂からなる第1ベース絶縁層を、幅方向中央部6と同じ厚みで形成した後、感光性樹脂からなる第2ベース絶縁層を、幅方向両端部5と同じ厚みとなるように、幅方向両端部5のみに形成されるパターンで、露光、現像および硬化することにより、形成することもできる。
そして、この方法では、次いで、図3(e)に示すように、ベース絶縁層2の幅方向中央部6の上に、導体パターン3を形成する。
Further, for example, after the first base insulating layer made of a non-photosensitive resin is formed with the same thickness as the widthwise central portion 6, the second base insulating layer made of a photosensitive resin is made the same thickness as the widthwise both ends 5. It can also be formed by exposing, developing and curing with a pattern formed only at both ends 5 in the width direction.
In this method, the conductor pattern 3 is then formed on the central portion 6 in the width direction of the base insulating layer 2 as shown in FIG.

導体パターン3としては、例えば、銅、ニッケル、金、はんだ、またはこれらの合金などの金属箔が用いられ、導電性、廉価性および加工性の観点から、好ましくは、銅箔が用いられる。
また、導体パターン3を形成するには、例えば、サブトラクティブ法やアディティブ法などの公知のパターンニング法が用いられる。
As the conductive pattern 3, for example, a metal foil such as copper, nickel, gold, solder, or an alloy thereof is used, and a copper foil is preferably used from the viewpoint of conductivity, inexpensiveness, and workability.
Moreover, in order to form the conductor pattern 3, well-known patterning methods, such as a subtractive method and an additive method, are used, for example.

すなわち、サブトラクティブ法では、まず、ベース絶縁層2の全面に、必要により接着剤層を介して、金属箔を積層する。次いで、その金属箔の表面に、導体パターン3に対応するパターンで、エッチングレジストを形成する。エッチングレジストは、ドライフィルムレジストなどから、露光および現像する公知の方法により形成する。その後、エッチングレジストから露出する金属箔をエッチングした後、エッチングレジストをエッチングまたは剥離により除去する。   That is, in the subtractive method, first, a metal foil is laminated on the entire surface of the base insulating layer 2 through an adhesive layer as necessary. Next, an etching resist is formed on the surface of the metal foil with a pattern corresponding to the conductor pattern 3. The etching resist is formed from a dry film resist or the like by a known method of exposing and developing. Then, after etching the metal foil exposed from the etching resist, the etching resist is removed by etching or peeling.

また、アディティブ法では、まず、ベース絶縁層2の全面に、種膜となる金属薄膜を形成する。金属薄膜は、クロム、ニッケル、銅およびこれらの合金などから、スパッタリング法などの薄膜形成法により形成する。次いで、金属薄膜の表面に、導体パターン3の反転パターンで、めっきレジストを形成する。めっきレジストは、ドライフィルムレジストなどから、露光および現像する公知の方法により形成する。その後、めっきレジストから露出するベース絶縁層の表面に、電解めっき、好ましくは、電解銅めっきにより、導体パターン3を形成する。その後、めっきレジストをエッチングまたは剥離により除去し、導体パターン3から露出する金属薄膜を、エッチングにより除去する。   In the additive method, first, a metal thin film serving as a seed film is formed on the entire surface of the base insulating layer 2. The metal thin film is formed from chromium, nickel, copper, and alloys thereof by a thin film forming method such as a sputtering method. Next, a plating resist is formed on the surface of the metal thin film with a reverse pattern of the conductor pattern 3. The plating resist is formed from a dry film resist or the like by a known method of exposure and development. Thereafter, the conductor pattern 3 is formed on the surface of the base insulating layer exposed from the plating resist by electrolytic plating, preferably electrolytic copper plating. Thereafter, the plating resist is removed by etching or peeling, and the metal thin film exposed from the conductor pattern 3 is removed by etching.

これによって、上記した配線7からなる導体パターン3が形成される。
その後、この方法では、図3(f)に示すように、導体パターン3を被覆するように、ベース絶縁層2の上に、カバー絶縁層4を形成する。
カバー絶縁層4は、ベース絶縁層2と同様の合成樹脂が用いられる。カバー絶縁層4の形成は、例えば、感光性樹脂のワニスを塗布して、乾燥後、露光後現像し、硬化させることにより、上記した図示しない開口部が形成されるように、形成することができる。
As a result, the conductor pattern 3 composed of the wiring 7 is formed.
Thereafter, in this method, as shown in FIG. 3 (f), the insulating cover layer 4 is formed on the insulating base layer 2 so as to cover the conductive pattern 3.
The insulating cover layer 4 is made of the same synthetic resin as the insulating base layer 2. The insulating cover layer 4 can be formed, for example, by applying a photosensitive resin varnish, drying, developing after exposure, and curing to form the opening not shown above. it can.

また、予め開口部が形成され、外形加工された合成樹脂のフィルムを、必要により接着剤層を介して、導体パターン3を含むベース絶縁層2の上に貼着することにより、形成することもできる。
その後、この方法では、図3(g)に示すように、支持基板9を、エッチングまたは剥離により除去することによって、フレキシブル配線回路基板1を得る。
Alternatively, it may be formed by pasting a synthetic resin film having an opening formed in advance and having an outer shape processed, if necessary, on the base insulating layer 2 including the conductor pattern 3 via an adhesive layer. it can.
Thereafter, in this method, as shown in FIG. 3G, the flexible printed circuit board 1 is obtained by removing the support substrate 9 by etching or peeling.

なお、支持基板9は、その目的および用途によっては、除去せずに、そのままベース絶縁層2を支持させておくこともできる。
また、上記した第1実施形態のフレキシブル配線回路基板1では、ベース絶縁層2を、その両端部5が、カバー絶縁層4が積層されている側に向かって突出する断面略凹形状に形成したが、例えば、図4に示す第2実施形態のフレキシブル配線回路基板1のように、ベース絶縁層2を、その両端部5が、カバー絶縁層4が積層されている側と反対側に向かって突出する断面略凹形状に形成してもよい。
Note that, depending on the purpose and application of the support substrate 9, the base insulating layer 2 can be supported as it is without being removed.
Further, in the flexible printed circuit board 1 of the first embodiment described above, the base insulating layer 2 is formed in a substantially concave shape in cross section in which both end portions 5 protrude toward the side where the cover insulating layer 4 is laminated. However, for example, as in the flexible printed circuit board 1 of the second embodiment shown in FIG. 4, the base insulating layer 2 has its both end portions 5 facing away from the side on which the cover insulating layer 4 is laminated. You may form in the cross-sectional substantially concave shape which protrudes.

なお、図4において、上記と同様の部材には同一の符号を付し、その説明を省略する。
図4において、このフレキシブル配線回路基板1では、ベース絶縁層2は、その両端部5において、カバー絶縁層4が積層されている側が、幅方向中央部6から続く平坦形状に形成される一方、その反対側が断面略矩形状に突出するように形成されている。
なお、このフレキシブル配線回路基板1では、ベース絶縁層2が上記のように形成されているので、カバー絶縁層4は、ベース絶縁層2の各端部5および中央部6の境界に対応する段差8が形成されずに、形成されている。
In FIG. 4, the same members as those described above are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
In FIG. 4, in this flexible printed circuit board 1, the insulating base 2 is formed in a flat shape in which both sides 5 are laminated with the insulating cover 4 on the side where the cover insulating layer 4 is laminated. The opposite side is formed so as to protrude into a substantially rectangular cross section.
In the flexible printed circuit board 1, since the insulating base layer 2 is formed as described above, the insulating cover layer 4 has steps corresponding to the boundaries between the end portions 5 and the central portion 6 of the insulating base layer 2. 8 is formed without being formed.

そして、この第2実施形態のフレキシブル配線回路基板1でも、ベース絶縁層2において、幅方向両端部5の厚みが、幅方向中央部6の厚みよりも、厚く形成されているので、フレキシブル配線回路基板1の幅方向両端部におけるベース絶縁層2およびカバー絶縁層4の厚みの合計が、幅方向中央部におけるベース絶縁層2およびカバー絶縁層4の厚みの合計に対して、厚く形成されている。   And also in the flexible printed circuit board 1 of this 2nd Embodiment, since the thickness of the width direction both ends 5 is formed thicker than the thickness of the width direction center part 6 in the base insulating layer 2, a flexible printed circuit The total thickness of the base insulating layer 2 and the cover insulating layer 4 at both ends in the width direction of the substrate 1 is formed thicker than the total thickness of the base insulating layer 2 and the cover insulating layer 4 at the center in the width direction. .

そのため、この第2実施形態のフレキシブル配線回路基板1でも、屈曲部において、速い屈曲動作で屈曲させても、厚みがより厚い幅方向両端部で、弛みの発生を防止しつつ、厚みがより薄い幅方向中央部で、良好な屈曲信頼性を確保することができる。その結果、屈曲動作が速くても、十分な屈曲信頼性を得ることができ、しかも、導体パターン3の破断を防止することができる。   Therefore, even in the flexible printed circuit board 1 according to the second embodiment, even if the bent portion is bent by a fast bending operation, the thickness is thinner while preventing the occurrence of slack at both ends in the width direction where the thickness is thicker. Good bending reliability can be secured at the center in the width direction. As a result, even if the bending operation is fast, sufficient bending reliability can be obtained, and breakage of the conductor pattern 3 can be prevented.

次に、この第2実施形態のフレキシブル配線回路基板1の製造方法について、図5を参照して説明する。
この方法では、まず、図5(a)に示すように、ベース絶縁層2を用意する。ベース絶縁層2は、上記した合成樹脂のフィルムとして用意する。なお、ベース絶縁層2は、得られたフレキシブル配線回路基板1の幅方向両端部5の厚みと同一の厚みで用意される。
Next, a method for manufacturing the flexible printed circuit board 1 of the second embodiment will be described with reference to FIG.
In this method, first, the base insulating layer 2 is prepared as shown in FIG. The base insulating layer 2 is prepared as a synthetic resin film. The insulating base layer 2 is prepared with the same thickness as that of the widthwise both ends 5 of the obtained flexible printed circuit board 1.

次いで、この方法では、図5(b)に示すように、上記と同様に、例えば、サブトラクティブ法やアディティブ法などの公知のパターンニング法によって、導体パターン3を形成する。
なお、ベース絶縁層2の上に導体パターン3を形成するには、例えば、予めベース絶縁層2の上に金属箔が積層されている二層基材を用意して、その二層基材の金属箔をサブトラクティブ法により、導体パターン3に形成することにより、形成することもできる。
Next, in this method, as shown in FIG. 5B, the conductor pattern 3 is formed by a known patterning method such as a subtractive method or an additive method, as described above.
In order to form the conductor pattern 3 on the base insulating layer 2, for example, a two-layer base material in which a metal foil is laminated on the base insulating layer 2 in advance is prepared, It can also be formed by forming a metal foil on the conductor pattern 3 by a subtractive method.

その後、図5(c)に示すように、上記と同様の方法により、導体パターン3を被覆するように、ベース絶縁層2の上に、カバー絶縁層4を形成する。
そして、この方法では、図5(d)に示すように、エッチングレジスト12で、ベース絶縁層2の幅方向中央部6が露出するように、その部分以外のフレキシブル配線回路基板1を被覆した後、幅方向中央部6が残存するようにハーフエッチング(ウエットエッチング)し、次いで、図5(e)に示すように、エッチングレジスト12を除去することにより、幅方向両端部5が幅方向中央部6に対して厚みが厚くなる断面略凹形状にベース絶縁層2を形成し、これによって、フレキシブル配線回路基板1を得る。
Thereafter, as shown in FIG. 5C, the insulating cover layer 4 is formed on the insulating base layer 2 so as to cover the conductive pattern 3 by the same method as described above.
And in this method, as shown in FIG.5 (d), after covering the flexible printed circuit board 1 other than the part with the etching resist 12, the width direction center part 6 of the base insulating layer 2 is exposed. Then, half etching (wet etching) is performed so that the central portion 6 in the width direction remains, and then the etching resist 12 is removed as shown in FIG. The base insulating layer 2 is formed in a substantially concave shape with a thickness that is thicker than that of the substrate 6, whereby the flexible printed circuit board 1 is obtained.

また、上記した第1実施形態および第2実施形態のフレキシブル配線回路基板1では、ベース絶縁層2を、その幅方向両端部5が幅方向中央部6に対して厚みが厚くなる断面略凹形状に形成したが、図6に示す第3実施形態のように、ベース絶縁層2の厚みを均一に形成するとともに、カバー絶縁層4を、その幅方向両端部13が幅方向中央部14に対して厚みが厚くなる断面略凹形状に形成してもよい。   Further, in the flexible printed circuit board 1 of the first and second embodiments described above, the base insulating layer 2 has a substantially concave cross section in which the widthwise end portions 5 are thicker than the widthwise center portion 6. However, as in the third embodiment shown in FIG. 6, the insulating base layer 2 is formed to have a uniform thickness, and the insulating cover layer 4 has both end portions 13 in the width direction with respect to the center portion 14 in the width direction. Alternatively, the cross section may be formed in a substantially concave shape in which the thickness increases.

なお、図6において、上記と同様の部材には同一の符号を付し、その説明を省略する。
図6において、このフレキシブル配線回路基板1では、ベース絶縁層2は、均一な厚みで形成されており、その厚みは、例えば、3〜30μm、好ましくは、5〜15μmである。
カバー絶縁層4の両端部13は、ベース絶縁層2と接触している側と反対側に向かって断面略矩形状に突出するように形成されており、その幅方向内側面が、幅方向外側上方から幅方向内側下方に向かって傾斜するように形成されている。
In FIG. 6, the same members as those described above are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
In FIG. 6, in the flexible printed circuit board 1, the base insulating layer 2 is formed with a uniform thickness, and the thickness is, for example, 3 to 30 μm, preferably 5 to 15 μm.
Both end portions 13 of the insulating cover layer 4 are formed so as to protrude in a substantially rectangular shape in cross section toward the side opposite to the side in contact with the insulating base layer 2, and the inner side surface in the width direction is the outer side in the width direction. It is formed so as to incline from the upper side toward the lower side in the width direction.

カバー絶縁層4の各端部13は、フレキシブル配線回路基板1の幅方向端縁から幅方向内側に延びるように形成され、その幅(最大幅)W2は、例えば、1〜200μm、好ましくは、5〜100μmである。また、各端部13の厚みT3は、例えば、6〜120μm、好ましくは、10〜60μmである。
カバー絶縁層4の中央部14は、ベース絶縁層2の幅方向における各端部13の間であって、その厚みT4は、例えば、5〜100μm、好ましくは、8〜50μmである。
Each end 13 of the insulating cover layer 4 is formed so as to extend inward in the width direction from the edge in the width direction of the flexible printed circuit board 1, and its width (maximum width) W2 is, for example, 1 to 200 μm, preferably 5 to 100 μm. Moreover, thickness T3 of each edge part 13 is 6-120 micrometers, for example, Preferably, it is 10-60 micrometers.
The central portion 14 of the insulating cover layer 4 is between the end portions 13 in the width direction of the insulating base layer 2 and has a thickness T4 of, for example, 5 to 100 μm, or preferably 8 to 50 μm.

カバー絶縁層4において、各端部13の厚みT3と中央部14の厚みT4との差ΔT3-4は、例えば、1〜70μm、好ましくは、2〜30μmである。
導体パターン3は、カバー絶縁層4の幅方向における各端部13の間の中央部14に形成されている。
なお、カバー絶縁層4は、図示しないが、特定部分が開口されており、その開口部分から露出する各配線7が、外部端子と接続するための端子部とされている。
In the insulating cover layer 4, the difference ΔT 3-4 between the thickness T3 of each end 13 and the thickness T4 of the central portion 14 is, for example, 1 to 70 μm, preferably 2 to 30 μm.
The conductor pattern 3 is formed in the central portion 14 between the end portions 13 in the width direction of the cover insulating layer 4.
Although not shown, the cover insulating layer 4 has an opening at a specific portion, and each wiring 7 exposed from the opening serves as a terminal portion for connecting to an external terminal.

そして、この第3実施形態のフレキシブル配線回路基板1では、カバー絶縁層4において、幅方向両端部13の厚みが、幅方向中央部14の厚みよりも、厚く形成されているので、この第3実施形態のフレキシブル配線回路基板1の幅方向両端部におけるベース絶縁層2およびカバー絶縁層4の厚みの合計Teが、幅方向中央部におけるベース絶縁層2およびカバー絶縁層4の厚みの合計Tcに対して、厚く形成されている。   And in the flexible printed circuit board 1 of this 3rd Embodiment, since the thickness of the width direction both ends 13 is formed thicker than the thickness of the width direction center part 14 in the cover insulating layer 4, this 3rd The total Te of the thickness of the base insulating layer 2 and the cover insulating layer 4 at both ends in the width direction of the flexible printed circuit board 1 of the embodiment is the total Tc of the thickness of the base insulating layer 2 and the cover insulating layer 4 at the center in the width direction. On the other hand, it is formed thick.

より具体的には、この第3実施形態のフレキシブル配線回路基板1も、上記と同様に、幅方向両端部におけるベース絶縁層2およびカバー絶縁層4の厚みの合計Teと、幅方向中央部におけるベース絶縁層2およびカバー絶縁層4の厚みの合計Tcとの差ΔTe-cが、例えば、2〜20μm、好ましくは、5〜10μmに設定されている。
そのため、この第3実施形態のフレキシブル配線回路基板1でも、屈曲部において、速い屈曲動作で屈曲させても、厚みがより厚い幅方向両端部で、弛みの発生を防止しつつ、厚みがより薄い幅方向中央部で、良好な屈曲信頼性を確保することができる。その結果、屈曲動作が速くても、十分な屈曲信頼性を得ることができ、しかも、導体パターン3の破断を防止することができる。
More specifically, the flexible printed circuit board 1 according to the third embodiment also has a total Te of the thicknesses of the base insulating layer 2 and the cover insulating layer 4 at both ends in the width direction, and a central portion in the width direction, as described above. The difference ΔT ec from the total thickness Tc of the base insulating layer 2 and the cover insulating layer 4 is set to 2 to 20 μm, preferably 5 to 10 μm, for example.
Therefore, even in the flexible printed circuit board 1 according to the third embodiment, even if the bent portion is bent by a fast bending operation, the thickness is thinner while preventing the occurrence of slack at both thicker end portions in the width direction. Good bending reliability can be secured at the center in the width direction. As a result, even if the bending operation is fast, sufficient bending reliability can be obtained, and breakage of the conductor pattern 3 can be prevented.

次に、この第3実施形態のフレキシブル配線回路基板1の製造方法について、図7を参照して説明する。
この方法では、まず、図7(a)に示すように、ベース絶縁層2を用意する。ベース絶縁層2は、上記した合成樹脂のフィルムとして用意する。
次いで、この方法では、図7(b)に示すように、上記と同様に、例えば、サブトラクティブ法やアディティブ法などの公知のパターンニング法によって、導体パターン3を形成する。
Next, a method for manufacturing the flexible printed circuit board 1 of the third embodiment will be described with reference to FIG.
In this method, first, an insulating base layer 2 is prepared as shown in FIG. The base insulating layer 2 is prepared as a synthetic resin film.
Next, in this method, as shown in FIG. 7B, the conductor pattern 3 is formed by a known patterning method such as a subtractive method or an additive method, as described above.

なお、ベース絶縁層2の上に導体パターン3を形成するには、例えば、予めベース絶縁層2の上に金属箔が積層されている二層基材を用意して、その二層基材の金属箔をサブトラクティブ法により、導体パターン3に形成することにより、形成することもできる。
そして、この方法では、図7(f)に示すように、導体パターン3を被覆するように、ベース絶縁層2の上に、幅方向両端部13が幅方向中央部14に対して厚みが厚くなる断面略凹形状に、カバー絶縁層4を形成する。
In order to form the conductor pattern 3 on the base insulating layer 2, for example, a two-layer base material in which a metal foil is laminated on the base insulating layer 2 in advance is prepared, It can also be formed by forming a metal foil on the conductor pattern 3 by a subtractive method.
In this method, as shown in FIG. 7 (f), both end portions 13 in the width direction are thicker than the central portion 14 in the width direction on the insulating base layer 2 so as to cover the conductor pattern 3. The insulating cover layer 4 is formed in a substantially concave shape.

このようにカバー絶縁層4を形成するには、例えば、図7(c)に示すように、導体パターン3を含むベース絶縁層2の上に、感光性樹脂のワニス15を塗布する。感光性樹脂は、上記と同様の感光性樹脂が用いられる。
そして、図7(d)に示すように、上記と同様に、ワニス15を、階調露光フォトマスク16を介して階調露光し、その後、図7(e)に示すように、上記と同様に、幅方向中央部14が残存するように現像することにより、断面略凹形状となるように、パターニングする。
In order to form the insulating cover layer 4 in this way, for example, as shown in FIG. 7C, a varnish 15 of a photosensitive resin is applied on the insulating base layer 2 including the conductor pattern 3. As the photosensitive resin, the same photosensitive resin as described above is used.
Then, as shown in FIG. 7D, the varnish 15 is subjected to gradation exposure through the gradation exposure photomask 16 as described above, and thereafter, as shown in FIG. In addition, by performing development so that the central portion 14 in the width direction remains, patterning is performed so that the cross section is substantially concave.

そして、図7(f)に示すように、ワニス15を、加熱により硬化させれば、幅方向両端部13が幅方向中央部14に対して厚みが厚くなる断面略凹形状に、カバー絶縁層4が形成され、これによって、フレキシブル配線回路基板1を得る。
なお、このようなカバー絶縁層4は、上記した方法と同様の方法、例えば、幅方向両端部13と同じ厚みで、均一な厚みのカバー絶縁層4を形成した後、幅方向中央部14を、厚み方向途中までハーフエッチングすることにより、形成することもできる。
Then, as shown in FIG. 7 (f), when the varnish 15 is cured by heating, the cover insulating layer has a substantially concave cross section in which the width direction end portions 13 are thicker than the width direction center portion 14. 4 is formed, whereby the flexible printed circuit board 1 is obtained.
The insulating cover layer 4 is formed by the same method as described above, for example, after forming the insulating cover layer 4 with the same thickness as the widthwise end portions 13 and a uniform thickness, It can also be formed by half-etching halfway in the thickness direction.

また、例えば、エッチングされにくい第1カバー絶縁層を、幅方向中央部14と同じ厚みで形成し、その第1カバー絶縁層の上に、エッチングされやすい第2カバー絶縁層を、幅方向両端部13と同じ厚みとなるように形成して、カバー絶縁層4を形成した後、エッチングされやすい第2カバー絶縁層における幅方向中央部14をエッチングすることにより、形成することもできる。   In addition, for example, a first cover insulating layer that is difficult to be etched is formed with the same thickness as the widthwise central portion 14, and a second cover insulating layer that is easily etched is formed on both ends of the width direction on the first cover insulating layer. After forming the cover insulating layer 4 to have the same thickness as 13, the width direction central portion 14 in the second cover insulating layer which is easily etched can be etched.

また、例えば、非感光性樹脂からなる第1カバー絶縁層を、幅方向中央部14と同じ厚みで形成した後、感光性樹脂からなる第2カバー絶縁層を、幅方向両端部13と同じ厚みとなるように、幅方向両端部13のみに形成されるパターンで、露光、現像および硬化することにより、形成することもできる。
なお、上記の説明では、第1実施形態、第2実施形態および第3実施形態において、フレキシブル配線回路基板1の屈曲部について説明したが、フレキシブル配線回路基板1は、すべてが屈曲部であってもよく、また、一部が屈曲部であってもよい。一部が屈曲部である場合には、その屈曲部以外の部分は、その目的および用途などにより、適宜、公知の構成が採用される。
Further, for example, after the first cover insulating layer made of a non-photosensitive resin is formed with the same thickness as the width direction center portion 14, the second cover insulating layer made of a photosensitive resin is made the same thickness as the width direction both end portions 13. It can also be formed by exposing, developing, and curing with a pattern formed only at both ends 13 in the width direction.
In the above description, the bent portion of the flexible printed circuit board 1 has been described in the first embodiment, the second embodiment, and the third embodiment. However, the flexible printed circuit board 1 is all bent portions. Moreover, a part may be a bending part. In the case where a part is a bent portion, a known configuration is appropriately adopted for the portion other than the bent portion depending on the purpose and application.

以下、実施例および比較例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。
実施例1
厚み20μmのステンレス箔からなる支持基板を用意して、その支持基板の全面に、感光性ポリアミック酸樹脂のワニスを塗布した後(図3(a)参照)、光半透過部分を有する階調露光フォトマスクを介して階調露光し(図3(b)参照)、現像することにより(図3(c)参照)、ワニスを、幅方向両端部が幅方向中央部に対して厚みが厚くなる断面略凹形状にパターンニングした。その後、ワニスを380℃で2時間硬化させることにより、幅方向両端部(幅方向端縁から幅方向内側へ50μmの部分)の厚さが20μm、幅方向中央部(幅方向両端部間の300μmの部分)の厚さが10μmのベース絶縁層を形成した(図3(d)参照)。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples.
Example 1
A support substrate made of a stainless steel foil having a thickness of 20 μm was prepared, and a photosensitive polyamic acid resin varnish was applied to the entire surface of the support substrate (see FIG. 3A), followed by gradation exposure having a light semi-transmissive portion. By gradation exposure through a photomask (see FIG. 3B) and development (see FIG. 3C), the varnish becomes thicker at both widthwise ends than the widthwise center. Patterned into a substantially concave cross section. Thereafter, the varnish is cured at 380 ° C. for 2 hours, so that the thickness at both end portions in the width direction (50 μm portion from the edge in the width direction to the inner side in the width direction) is 20 μm, and the central portion in the width direction (300 μm between both end portions in the width direction The base insulating layer having a thickness of 10 μm was formed (see FIG. 3D).

次いで、ベース絶縁層の全面に、厚み30nmのクロム薄膜および厚み150nmの銅薄膜を、スパッタリングにより順次形成することにより、金属薄膜を形成した後、金属薄膜の表面に、導体パターンの反転パターンで、ドライフィルムレジストからなる厚み20μmのめっきレジストを形成した。そして、電解銅めっきにより、厚み10μmの導体パターンを形成した後、めっきレジストを剥離し、導体パターンから露出する金属薄膜をエッチングした(図3(e)参照)。   Subsequently, a chromium thin film having a thickness of 30 nm and a copper thin film having a thickness of 150 nm are sequentially formed on the entire surface of the base insulating layer by sputtering, thereby forming a metal thin film. A plating resist having a thickness of 20 μm made of a dry film resist was formed. And after forming a 10-micrometer-thick conductor pattern by electrolytic copper plating, the plating resist was peeled and the metal thin film exposed from the conductor pattern was etched (refer FIG.3 (e)).

次いで、導体パターンを被覆するように、ベース絶縁層の全面に、感光性ポリアミック酸樹脂のワニスを塗布した後、フォトマスクを介して露光し、現像することにより、開口部を形成し、その後、硬化させることにより、厚み5μmのポリイミド樹脂からなるベース絶縁層を形成した(図3(f)参照)。
次いで、支持基板を除去することによって(図3(g)参照)、フレキシブル配線回路基板を得た。得られたフレキシブル配線回路基板において、幅方向両端部におけるベース絶縁層およびカバー絶縁層の厚みの合計は、25μmであり、幅方向中央部におけるベース絶縁層およびカバー絶縁層の厚みの合計は、15μmであった。
Next, a varnish of a photosensitive polyamic acid resin is applied to the entire surface of the base insulating layer so as to cover the conductor pattern, and then exposed through a photomask and developed to form an opening, and then By curing, a base insulating layer made of a polyimide resin having a thickness of 5 μm was formed (see FIG. 3F).
Subsequently, the flexible printed circuit board was obtained by removing the support substrate (see FIG. 3G). In the obtained flexible printed circuit board, the total thickness of the base insulating layer and the cover insulating layer at both ends in the width direction is 25 μm, and the total thickness of the base insulating layer and the cover insulating layer at the center in the width direction is 15 μm. Met.

実施例2
厚み25μmのポリイミド樹脂のフィルムからなるベース絶縁層の上に、厚み8μmの銅箔が積層されている二層基材を用意した。その二層基材の銅箔の上に、導体パターンに対応するパターンで、厚み10μmのエッチングレジストを形成した後、エッチングレジストから露出する金属箔をエッチングした後、エッチングレジストを剥離することにより、ベース絶縁層の上に、導体パターンを形成した(図5(b)参照)。
Example 2
A two-layer base material in which a copper foil having a thickness of 8 μm was laminated on a base insulating layer made of a polyimide resin film having a thickness of 25 μm was prepared. On the copper foil of the two-layer substrate, after forming an etching resist having a thickness of 10 μm in a pattern corresponding to the conductor pattern, etching the metal foil exposed from the etching resist, and then peeling the etching resist, A conductor pattern was formed on the base insulating layer (see FIG. 5B).

次いで、導体パターンを被覆するように、ベース絶縁層の全面に、感光性ポリアミック酸樹脂のワニスを塗布した後、フォトマスクを介して露光し、現像することにより、開口部を形成し、その後、硬化させることにより、厚み5μmのポリイミド樹脂からなるカバー絶縁層を形成した(図5(c)参照)。
その後、エッチングレジストで、ベース絶縁層の幅方向中央部が露出するように、その部分以外のフレキシブル配線回路基板を被覆した後(図5(d)参照)、幅方向中央部が残存するようにハーフエッチング(ウエットエッチング)し、次いで、エッチングレジストを除去することにより、幅方向両端部(幅方向端縁から幅方向内側へ50μmの部分)の厚さが25μm、幅方向中央部(幅方向両端部間の300μmの部分)の厚さが15μmの断面略凹形状にベース絶縁層を形成し、これによって、フレキシブル配線回路基板を得た(図5(e)参照)。得られたフレキシブル配線回路基板において、幅方向両端部におけるベース絶縁層およびカバー絶縁層の厚みの合計は、30μmであり、幅方向中央部におけるベース絶縁層およびカバー絶縁層の厚みの合計は、20μmであった。
Next, a varnish of a photosensitive polyamic acid resin is applied to the entire surface of the base insulating layer so as to cover the conductor pattern, and then exposed through a photomask and developed to form an opening, and then By curing, a cover insulating layer made of polyimide resin having a thickness of 5 μm was formed (see FIG. 5C).
Then, after covering the flexible printed circuit board other than that portion with an etching resist so that the central portion in the width direction of the base insulating layer is exposed (see FIG. 5D), the central portion in the width direction remains. Half-etching (wet etching) and then removal of the etching resist results in a thickness of 25 μm at both ends in the width direction (50 μm from the edge in the width direction to the inner side in the width direction) A base insulating layer was formed in a substantially concave cross section with a thickness of 15 μm between the portions), thereby obtaining a flexible printed circuit board (see FIG. 5E). In the obtained flexible printed circuit board, the total thickness of the base insulating layer and the cover insulating layer at both ends in the width direction is 30 μm, and the total thickness of the base insulating layer and the cover insulating layer at the center in the width direction is 20 μm. Met.

実施例3
厚み12.5μmのポリイミド樹脂のフィルムからなるベース絶縁層の上に、厚み8μmの銅箔が積層されている二層基材を用意した。その二層基材の銅箔の上に、導体パターンに対応するパターンで、厚み10μmのエッチングレジストを形成した後、エッチングレジストから露出する金属箔をエッチングした後、エッチングレジストを剥離することにより、ベース絶縁層の上に、導体パターンを形成した(図7(b)参照)。
Example 3
A two-layer base material was prepared in which a copper foil having a thickness of 8 μm was laminated on a base insulating layer made of a polyimide resin film having a thickness of 12.5 μm. On the copper foil of the two-layer substrate, after forming an etching resist having a thickness of 10 μm in a pattern corresponding to the conductor pattern, after etching the metal foil exposed from the etching resist, by peeling the etching resist, A conductor pattern was formed on the base insulating layer (see FIG. 7B).

次いで、導体パターンを被覆するように、ベース絶縁層の全面に、感光性ポリアミック酸樹脂のワニスを塗布した後(図7(c)参照)、光半透過部分を有する階調露光フォトマスクを介して階調露光し(図7(d)参照)、現像することにより(図7(e)参照)、ワニスを、幅方向両端部が幅方向中央部に対して厚みが厚くなる断面略凹形状にパターンニングした。その後、ワニスを380℃で2時間硬化させることにより、幅方向両端部(幅方向端縁から幅方向内側へ50μmの部分)の厚さが15μm、幅方向中央部(幅方向両端部間の300μmの部分)の厚さが5μmのカバー絶縁層を形成した(図7(f)参照)し、これによって、フレキシブル配線回路基板を得た。   Next, a varnish of a photosensitive polyamic acid resin is applied to the entire surface of the base insulating layer so as to cover the conductor pattern (see FIG. 7C), and then passed through a gradation exposure photomask having a light semi-transmissive portion. When the tone is exposed (see FIG. 7 (d)) and developed (see FIG. 7 (e)), the varnish has a substantially concave shape in which both end portions in the width direction are thicker than the central portion in the width direction. Patterned. Thereafter, the varnish is cured at 380 ° C. for 2 hours, so that the thickness of both end portions in the width direction (portion of 50 μm from the end in the width direction to the inner side in the width direction) is 15 μm, and the center portion in the width direction (300 μm between both end portions in the width direction A cover insulating layer having a thickness of 5 μm was formed (see FIG. 7F), thereby obtaining a flexible printed circuit board.

得られたフレキシブル配線回路基板において、幅方向両端部におけるベース絶縁層およびカバー絶縁層の厚みの合計は、27.5μmであり、幅方向中央部におけるベース絶縁層およびカバー絶縁層の厚みの合計は、17.5μmであった。
比較例1
厚み20μmのステンレス箔からなる支持基板の上に、幅方向にわたって均一な厚みを有する、厚さ10μmのポリイミド樹脂からなるベース絶縁層を形成した以外は、実施例1と同様の方法によって、フレキシブル配線回路基板を得た。
In the obtained flexible printed circuit board, the total thickness of the base insulating layer and the cover insulating layer at both ends in the width direction is 27.5 μm, and the total thickness of the base insulating layer and the cover insulating layer at the center in the width direction is 17.5 μm.
Comparative Example 1
A flexible wiring is formed by the same method as in Example 1 except that a base insulating layer made of a polyimide resin having a thickness of 10 μm and having a uniform thickness in the width direction is formed on a support substrate made of a stainless steel foil having a thickness of 20 μm. A circuit board was obtained.

評価
各実施例および比較例のフレキシブル配線回路基板を、曲率半径3mmで屈曲させて、屈曲速度25Hzの条件下で、IPC−240に準拠した屈曲試験を実施した。
その結果、比較例1は、8000万回で導体パターンの断線を生じたが、実施例1〜3は、1億回以上屈曲させても、導体パターンの断線を生じなかった。
Evaluation The flexible printed circuit board of each Example and Comparative Example was bent with a curvature radius of 3 mm, and a bending test based on IPC-240 was performed under the condition of a bending speed of 25 Hz.
As a result, in Comparative Example 1, the conductor pattern was disconnected 80 million times, but in Examples 1 to 3, the conductor pattern was not disconnected even when bent 100 million times or more.

本発明の配線回路基板の第1実施形態のフレキシブル配線回路基板の屈曲部の要部平面図である。It is a principal part top view of the bending part of the flexible wired circuit board of 1st Embodiment of the wired circuit board of this invention. 図1に示すフレキシブル配線回路基板の屈曲部の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the bending part of the flexible printed circuit board shown in FIG. 図1に示すフレキシブル配線回路基板の製造方法を示す工程図であって、(a)は、支持基板の上に感光性樹脂のワニスを塗布する工程、(b)は、ワニスを、階調露光フォトマスクを介して階調露光する工程、(c)は、ワニスを、幅方向両端部が幅方向中央部に対して厚みが厚くなる断面略凹形状に現像する工程、(d)は、ワニスを、加熱により硬化させる工程(e)は、ベース絶縁層の幅方向中央部の上に、導体パターンを形成する工程、(f)は、導体パターンを被覆するようにベース絶縁層の上にカバー絶縁層を形成する工程、(g)は、支持基板を除去する工程を示す。It is process drawing which shows the manufacturing method of the flexible printed circuit board shown in FIG. 1, Comprising: (a) is the process of apply | coating the varnish of photosensitive resin on a support substrate, (b) is gradation exposure of a varnish. The step of performing gradation exposure through a photomask, (c) is a step of developing the varnish into a substantially concave shape in cross section in which both end portions in the width direction are thicker than the center portion in the width direction, and (d) is a step of developing the varnish. (E) is a step of forming a conductor pattern on the central portion in the width direction of the base insulating layer, and (f) is a cover on the base insulating layer so as to cover the conductor pattern. Step (g) of forming an insulating layer shows a step of removing the support substrate. 本発明の配線回路基板の第2実施形態のフレキシブル配線回路基板の屈曲部の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the bending part of the flexible printed circuit board of 2nd Embodiment of the wired circuit board of this invention. 図4に示すフレキシブル配線回路基板の製造方法を示す工程図であって、(a)は、ベース絶縁層を用意する工程、(b)は、ベース絶縁層の上に導体パターンを形成する工程、(c)は、導体パターンを被覆するようにベース絶縁層の上にカバー絶縁層を形成する工程、(d)は、エッチングレジストで、ベース絶縁層の幅方向中央部が露出するように、その部分以外のフレキシブル配線回路基板を被覆する工程、(e)は、幅方向中央部が残存するようにハーフエッチング後、エッチングレジストを除去する工程を示す。FIG. 5 is a process diagram illustrating a method for manufacturing the flexible printed circuit board shown in FIG. 4, wherein (a) is a step of preparing a base insulating layer, (b) is a step of forming a conductor pattern on the base insulating layer; (C) is a step of forming a cover insulating layer on the base insulating layer so as to cover the conductor pattern, and (d) is an etching resist, so that the central portion in the width direction of the base insulating layer is exposed. The step of covering the flexible printed circuit board other than the portion, (e) shows the step of removing the etching resist after half etching so that the central portion in the width direction remains. 本発明の配線回路基板の第3実施形態のフレキシブル配線回路基板の屈曲部の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the bending part of the flexible printed circuit board of 3rd Embodiment of the wired circuit board of this invention. 図6に示すフレキシブル配線回路基板の製造方法を示す工程図であって、(a)は、ベース絶縁層を用意する工程、(b)は、ベース絶縁層の上に導体パターンを形成する工程、(c)は、導体パターンを含むベース絶縁層の上に感光性樹脂のワニスを塗布する工程、(d)は、ワニスを、階調露光フォトマスクを介して階調露光する工程、(e)は、ワニスを、幅方向両端部が幅方向中央部に対して厚みが厚くなる断面略凹形状に現像する工程、(f)は、ワニスを、加熱により硬化させる工程を示す。FIG. 7 is a process diagram illustrating a method for manufacturing the flexible printed circuit board shown in FIG. 6, wherein (a) is a step of preparing an insulating base layer, (b) is a step of forming a conductor pattern on the insulating base layer; (C) is a step of applying a photosensitive resin varnish on the base insulating layer including the conductor pattern, (d) is a step of gradation-exposing the varnish via a gradation exposure photomask, (e). Is a step of developing the varnish into a substantially concave cross section in which both end portions in the width direction are thicker than the center portion in the width direction, and (f) is a step of curing the varnish by heating.

符号の説明Explanation of symbols

1 フレキシブル配線回路基板
2 ベース絶縁層
3 導体パターン
4 カバー絶縁層
5 ベース絶縁層の幅方向両端部
6 ベース絶縁層の幅方向中央部
13 カバー絶縁層の幅方向両端部
14 カバー絶縁層の幅方向中央部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Flexible wiring circuit board 2 Base insulating layer 3 Conductor pattern 4 Cover insulating layer 5 The width direction both ends of a base insulating layer 6 The width direction center part of a base insulating layer 13 The width direction both ends of a cover insulating layer 14 The width direction of a cover insulating layer Center

Claims (5)

ベース絶縁層と、前記ベース絶縁層の上に積層された導体パターンと、前記導体パターンを被覆するように、前記ベース絶縁層の上に積層されたカバー絶縁層とを備える配線回路基板において、
前記配線回路基板の長手方向に対して、前記ベース絶縁層、前記導体パターンおよび前記カバー絶縁層が積層される積層方向に沿って交差する方向に屈曲する屈曲部を備え、
前記屈曲部では、前記長手方向および前記積層方向に対して直交する幅方向の両端部における前記ベース絶縁層および前記カバー絶縁層の厚みの合計が、前記幅方向の中央部における前記ベース絶縁層および前記カバー絶縁層の厚みの合計に対して、厚く形成されていることを特徴とする、配線回路基板。
In a printed circuit board comprising a base insulating layer, a conductor pattern laminated on the base insulating layer, and a cover insulating layer laminated on the base insulating layer so as to cover the conductor pattern,
A bending portion that bends in a direction intersecting with a lamination direction in which the base insulating layer, the conductor pattern, and the cover insulating layer are laminated with respect to the longitudinal direction of the wired circuit board,
In the bent portion, the total thickness of the base insulating layer and the cover insulating layer at both end portions in the width direction orthogonal to the longitudinal direction and the stacking direction is the base insulating layer in the center portion in the width direction and The printed circuit board is formed thicker than a total thickness of the insulating cover layers.
前記屈曲部の前記幅方向の両端部における前記ベース絶縁層および前記カバー絶縁層の厚みの合計と、前記屈曲部の前記幅方向の中央部における前記ベース絶縁層および前記カバー絶縁層の厚みの合計との差が、2〜20μmであることを特徴とする、請求項1に記載の配線回路基板。   The total thickness of the base insulating layer and the cover insulating layer at both end portions in the width direction of the bent portion, and the total thickness of the base insulating layer and the cover insulating layer at the center portion in the width direction of the bent portion. The printed circuit board according to claim 1, wherein a difference between the printed circuit board and the circuit board is 2 to 20 μm. 前記屈曲部の前記幅方向の両端部における前記ベース絶縁層の厚みが、前記屈曲部の前記幅方向の中央部における前記ベース絶縁層の厚みよりも、厚いことを特徴とする、請求項1または2に記載の配線回路基板。   The thickness of the base insulating layer at both end portions in the width direction of the bent portion is thicker than the thickness of the base insulating layer at the center portion in the width direction of the bent portion. 3. The printed circuit board according to 2. 前記屈曲部の前記幅方向の両端部における前記カバー絶縁層の厚みが、前記屈曲部の前記幅方向の中央部における前記カバー絶縁層の厚みよりも、厚いことを特徴とする、請求項1または2に記載の配線回路基板。   The thickness of the cover insulating layer at both end portions in the width direction of the bent portion is thicker than the thickness of the cover insulating layer in the center portion of the bent portion in the width direction. 3. The printed circuit board according to 2. 前記屈曲部の前記幅方向の両端部が、前記幅方向の端縁から前記幅方向の内側に、それぞれ1〜200μmの部分であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の配線回路基板。   The both end portions in the width direction of the bent portion are portions of 1 to 200 µm from the edge in the width direction to the inside in the width direction, respectively. Printed circuit board.
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