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JP2006131770A - Conductive silicone material and conductive coating film - Google Patents

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JP2006131770A
JP2006131770A JP2004322800A JP2004322800A JP2006131770A JP 2006131770 A JP2006131770 A JP 2006131770A JP 2004322800 A JP2004322800 A JP 2004322800A JP 2004322800 A JP2004322800 A JP 2004322800A JP 2006131770 A JP2006131770 A JP 2006131770A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
silicone material
silane compound
conductive silicone
conductive
Prior art date
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Pending
Application number
JP2004322800A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomoyuki Iwasaki
智之 岩崎
Masaaki Yamatani
正明 山谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2004322800A priority Critical patent/JP2006131770A/en
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Abstract

【課題】
イオン伝導性置換基を有するオルガノポリシロキサンからなる導電性シリコーン材料であって、特にコーティング剤として製膜性が良好であり、かつ耐熱性に優れ、表面抵抗値の経時変化が少ない伝導性シリコーン材料、および該材料からなる導電性コーティング膜を提供する。
【解決手段】
メルカプト基を有しないシラン化合物Aおよびメルカプト基を有するシラン化合物Bを、反応系に供給し、共加水分解および重縮合を進行させて、オルガノポリシロキサンのゾル溶液を得る工程と、
該ゾル溶液を乾燥させて固化させて固化物を得る工程と、
該固化物のメルカプト基を酸化させる工程と
を含む方法によって得られるオルガノポリシロキサンからなる導電性シリコーン材料、ならびに該導電性シリコーン材料からなる導電性コーティング膜。
【選択図】 なし
【Task】
Conductive silicone material comprising an organopolysiloxane having an ion-conductive substituent, particularly good film-forming properties as a coating agent, excellent heat resistance, and little change in surface resistance over time And a conductive coating film made of the material.
[Solution]
Supplying a silane compound A having no mercapto group and a silane compound B having a mercapto group to a reaction system to advance cohydrolysis and polycondensation to obtain a sol solution of organopolysiloxane;
A step of drying and solidifying the sol solution to obtain a solidified product;
A conductive silicone material comprising an organopolysiloxane obtained by a method comprising a step of oxidizing a mercapto group of the solidified product, and a conductive coating film comprising the conductive silicone material.
[Selection figure] None

Description

本発明は、イオン伝導性置換基を有するオルガノポリシロキサンからなる導電性シリコーン材料、および該材料からなる導電性コーティング膜に関する。   The present invention relates to a conductive silicone material made of an organopolysiloxane having an ion conductive substituent, and a conductive coating film made of the material.

イオン伝導体ないしは高分子固体電解質からなる膜として、パーフルオロアルキルスルホン酸膜等が使用されているが、この膜には耐熱性が不十分であるという問題がある。この問題を解決し、耐熱性を向上させた膜を得るために、有機−無機複合材料を用いることが検討されているが、該膜の材料として好適な有機−無機複合材料は、未だ開発されていない。   A perfluoroalkyl sulfonic acid membrane or the like is used as a membrane made of an ionic conductor or a polymer solid electrolyte, but this membrane has a problem of insufficient heat resistance. In order to solve this problem and obtain a film having improved heat resistance, it has been studied to use an organic-inorganic composite material. However, an organic-inorganic composite material suitable as a material for the film has not yet been developed. Not.

具体的には、有機−無機複合材料からなる高分子固体電解質膜として、例えば、メチルハイドロジェンシリコーンに、メタクリル酸ポリエチレンオキシドをグラフト重合させた反応生成物と無機イオン塩とからなるものや(特許文献1)、オルガノポリシロキサンの存在下、(メタ)アクリル酸アルキルエステル等を重合することによって得られる重合体に、リチウム電解質塩を含有する有機電解液を含浸させてなるもの(特許文献2)が提案されている。しかしながら、これらの有機−無機複合材料は、有機成分と無機成分との相溶性が悪く、そのために製造が困難であるという問題を有していた。   Specifically, as a polymer solid electrolyte membrane made of an organic-inorganic composite material, for example, a product made of a reaction product obtained by graft-polymerizing polyethylene oxide methacrylate to methyl hydrogen silicone and an inorganic ion salt (patents) Document 1), which is obtained by impregnating a polymer obtained by polymerizing an alkyl (meth) acrylate in the presence of an organopolysiloxane with an organic electrolyte containing a lithium electrolyte salt (Patent Document 2) Has been proposed. However, these organic-inorganic composite materials have a problem that the compatibility between the organic component and the inorganic component is poor, and therefore, the production is difficult.

また、最近では特定のシラン化合物を加水分解および重縮合しつつ、メルカプト基を有するアルコキシシランを後から加え、これらの化合物の加水分解および重縮合を続行させることにより各成分が均一に混合したゾル溶液を得た後に、該ゾル溶液を乾燥させ固化させることにより得られる固化物のメルカプト基をスルホン酸基へと酸化して製造される複合材料も報告されている(特許文献3)。この複合材料は、作業性、相溶性等がある程度改良されているが、特にコーティング膜としては製膜性に劣り、さらに得られた膜の表面抵抗値が経時で変化する等の問題があり、コーティング膜に用いる複合材料として不適切であった。   Recently, a sol in which each component is uniformly mixed by adding alkoxysilane having a mercapto group later while hydrolyzing and polycondensing a specific silane compound, and continuing hydrolysis and polycondensation of these compounds. A composite material produced by oxidizing a mercapto group of a solidified product obtained by drying and solidifying the sol solution to a sulfonic acid group after obtaining the solution is also reported (Patent Document 3). This composite material has improved workability, compatibility, etc. to some extent, especially as a coating film is inferior in film formability, and there is a problem that the surface resistance value of the obtained film changes over time, It was inappropriate as a composite material used for a coating film.

特開昭63−55810号公報JP-A 63-55810 特開平11−232925号公報JP-A-11-232925 特開2004−107597号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-107597

本発明は、イオン伝導性置換基を有するオルガノポリシロキサンからなる導電性シリコーン材料であって、特にコーティング剤として製膜性が良好であり、かつ耐熱性に優れ、表面抵抗値の経時変化が少ない伝導性シリコーン材料、および該材料からなる導電性コーティング膜を提供することを目的とする。   The present invention is a conductive silicone material comprising an organopolysiloxane having an ion conductive substituent, and particularly has good film-forming properties as a coating agent, excellent heat resistance, and little change in surface resistance over time. It is an object to provide a conductive silicone material and a conductive coating film made of the material.

本発明は第一に、(i)一般式(1):
Si(OR)4−m−n (1)
(式中、Rは非置換の一価炭化水素基であり、Rは置換の一価炭化水素基であり、Rは非置換または置換の炭素原子数1〜3のアルキル基であり、mは0〜2の整数であり、nは0または1であり、但し、m+nは1〜3の整数である)
で表されるメルカプト基を有しないシラン化合物Aおよび一般式(2):
HS−Y−Si(OR) 3−p (2)
(式中、Yは非置換または置換の炭素原子数1〜5のアルキレン基であり、RおよびRは独立に非置換または置換の炭素原子数1〜3のアルキル基であり、pは2または3である)
で表されるメルカプト基を有するシラン化合物Bを、反応系に供給し、共加水分解および重縮合を進行させて、オルガノポリシロキサンのゾル溶液を得る工程と、
(ii)該ゾル溶液を乾燥させて固化させて固化物を得る工程と、
(iii)該固化物のメルカプト基を酸化させる工程と
を含む方法によって得られるオルガノポリシロキサンからなる導電性シリコーン材料、
を提供する。
The present invention firstly (i) general formula (1):
R m R 1 n Si (OR 2) 4-m-n (1)
(Wherein R is an unsubstituted monovalent hydrocarbon group, R 1 is a substituted monovalent hydrocarbon group, R 2 is an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, m is an integer of 0 to 2, n is 0 or 1, provided that m + n is an integer of 1 to 3)
Silane compound A having no mercapto group represented by the general formula (2):
HS-Y-Si (OR 3 ) p R 4 3-p (2)
Wherein Y is an unsubstituted or substituted alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, R 3 and R 4 are independently an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and p is 2 or 3)
A step of supplying a silane compound B having a mercapto group represented by formula (1) to a reaction system and advancing cohydrolysis and polycondensation to obtain a sol solution of organopolysiloxane;
(ii) drying and solidifying the sol solution to obtain a solidified product;
(iii) a conductive silicone material comprising an organopolysiloxane obtained by a method comprising a step of oxidizing a mercapto group of the solidified product,
I will provide a.

また、本発明は第二に、(I)平均組成式(3):
SiO{4−(q+r+s+t+u)}/2(OR)(OH) (3)
(式中、Rは非置換の一価炭化水素基であり、Rは置換の一価炭化水素基であり、Rは式:HS−Y−(式中、Yは非置換または置換の炭素原子数1〜5のアルキレン基である)で表されるメルカプト基を有する基であり、Rは非置換または置換の炭素原子数1〜6の一価炭化水素基であり、qは0.5≦q≦1.8の数であり、rは0≦r≦1.0の数であり、sは0<s≦1.0の数であり、tは0<t≦1.0の数であり、uは0<u≦1.0の数であり、但し、0.5≦q+r+s≦1.8の数であり、0<t+u≦1.0の数であり、かつ0.5<q+r+s+t+u≦2.8の数である)
で表されるメルカプト基を有するシリコーンオリゴマーCに、酸、金属βジケトン錯体、またはこれらの混合物(以下、「酸または金属βジケトン錯体」という)を混合し、液状混合物を得る工程と、
(II)該液状混合物を加熱して固化させて固化物を得る工程と、
(III)該固化物のメルカプト基を酸化させる工程と
を含む方法によって得られる導電性シリコーン材料、
を提供する。
In addition, the present invention secondly (I) average composition formula (3):
R 5 q R 6 r R 7 s SiO {4- (q + r + s + t + u)} / 2 (OR 8 ) t (OH) u (3)
(Wherein R 5 is an unsubstituted monovalent hydrocarbon group, R 6 is a substituted monovalent hydrocarbon group, R 7 is of the formula HS-Y— (where Y is unsubstituted or substituted) R 8 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and q is a group having a mercapto group represented by: 0.5 ≦ q ≦ 1.8, r is a number 0 ≦ r ≦ 1.0, s is a number 0 <s ≦ 1.0, t is a number 0 <t ≦ 1.0, and u is 0 < u ≦ 1.0, where 0.5 ≦ q + r + s ≦ 1.8, 0 <t + u ≦ 1.0, and 0.5 <q + r + s + t + u ≦ 2.8)
A step of mixing an acid, a metal β-diketone complex, or a mixture thereof (hereinafter referred to as “acid or metal β-diketone complex”) with a silicone oligomer C having a mercapto group represented by:
(II) heating and solidifying the liquid mixture to obtain a solidified product;
(III) a conductive silicone material obtained by a method comprising a step of oxidizing a mercapto group of the solidified product,
I will provide a.

さらに、本発明は第三に、前記導電性シリコーン材料からなる導電性コーティング膜を提供する。   Furthermore, the present invention thirdly provides a conductive coating film made of the conductive silicone material.

本発明の導電性シリコーン材料は、イオン伝導性置換基を有するオルガノポリシロキサンからなる導電性シリコーン材料であって、特にコーティング剤として製膜性が良好であり、かつイオン伝導性、耐熱性、耐水性、作業性等に優れ、表面抵抗値の経時変化が少ない導電性シリコーン材料である。この導電性シリコーン材料は、導電性コーティング膜の作製にも有用である。   The conductive silicone material of the present invention is a conductive silicone material composed of an organopolysiloxane having an ion conductive substituent, and particularly has good film-forming properties as a coating agent, and has ion conductivity, heat resistance and water resistance. It is a conductive silicone material that excels in workability, workability, etc. and has little change in surface resistance over time. This conductive silicone material is also useful for producing a conductive coating film.

[導電性コーティング材料]
本発明の導電性コーティング材料は、高抵抗率計等を用いて、温度25℃、相対湿度40%の条件下で、10Vの電圧を印加して測定した表面抵抗値が、通常、1×10Ω未満、典型的には1×10〜5×10Ωとなるものである。また、該導電性シリコーン材料は、製造直後の表面抵抗値Aと製造から10日経過後の表面抵抗値Aとの比A/Aが3以下であり、好ましくは0.5〜2.5であり、表面抵抗値の経時変化が少ないものである。
[Conductive coating material]
The conductive coating material of the present invention usually has a surface resistance value measured by applying a voltage of 10 V under the conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 40% using a high resistivity meter or the like. It is less than 9 Ω, typically 1 × 10 5 to 5 × 10 8 Ω. The conductive silicone material has a ratio A / A 0 between the surface resistance value A 0 immediately after production and the surface resistance value A after 10 days from production of 3 or less, preferably 0.5 to 2.5, The change in resistance value with time is small.

<導電性コーティング材料の製造方法1>
本発明の導電性コーティング材料は、例えば、上述のとおり、(i)上記一般式(1)で表されるシラン化合物Aと上記一般式(2)で表されるシラン化合物Bとを、反応系に供給し、共加水分解および重縮合を進行させて、オルガノポリシロキサンのゾル溶液を得る工程と、
(ii)該ゾル溶液を乾燥させて固化させて固化物を得る工程と、
(iii)該固化物のメルカプト基を酸化させる工程と
を含む方法によって製造することができる。
<Method 1 for producing conductive coating material>
For example, as described above, the conductive coating material of the present invention comprises (i) a reaction system comprising a silane compound A represented by the general formula (1) and a silane compound B represented by the general formula (2). A process of cohydrolysis and polycondensation to obtain an organopolysiloxane sol solution;
(ii) drying and solidifying the sol solution to obtain a solidified product;
(iii) oxidizing the mercapto group of the solidified product.

各工程の詳細は以下のとおりである。   Details of each step are as follows.

−工程(i)−
工程(i)において、前記シラン化合物Aとシラン化合物Bとを反応系に供給する方法は、両シラン化合物が反応系に供給されれば特に限定されず、例えば、事前に両シラン化合物を混合してから供給しても、各々、別個の供給手段(例えば、反応容器または反応管に接続された供給管等)から供給してもよい。その際、両シラン化合物は、例えば、滴下、噴射、噴霧、流入等、いかなる形態によって反応系に供給してもよい。シラン化合物Aとシラン化合物Bの供給に当り、両化合物のいずれか一方の加水分解および/または重縮合が進行する時間はなるべくないように注意する。シラン化合物Aとシラン化合物Bとは実質的に一緒に加水分解し、重縮合が進行する必要がある。
-Step (i)-
In step (i), the method of supplying the silane compound A and the silane compound B to the reaction system is not particularly limited as long as both silane compounds are supplied to the reaction system. For example, both silane compounds are mixed in advance. Alternatively, they may be supplied from separate supply means (for example, a supply tube connected to a reaction vessel or a reaction tube). In this case, both silane compounds may be supplied to the reaction system in any form such as dropping, jetting, spraying, inflow, or the like. In supplying the silane compound A and the silane compound B, care should be taken to minimize the time during which hydrolysis and / or polycondensation of either one of both compounds proceeds. Silane compound A and silane compound B are substantially hydrolyzed together and polycondensation needs to proceed.

前記共加水分解および重縮合は、通常、水および加水分解触媒の存在下で進行する。両シラン化合物は、一度に全量を反応系に供給してもよいし、まず一部を反応系に供給してもよいが、該シラン化合物は均一に混合された状態で、水および加水分解触媒と接触し、加水分解および重縮合が進行する。   The cohydrolysis and polycondensation usually proceed in the presence of water and a hydrolysis catalyst. Both silane compounds may be supplied to the reaction system all at once, or a part of the silane compounds may be supplied to the reaction system, but the silane compound is uniformly mixed with water and the hydrolysis catalyst. And the hydrolysis and polycondensation proceed.

前記反応系とは、シラン化合物A、シラン化合物B、水および加水分解触媒が相互に接触し、該シラン化合物の共加水分解、重縮合が行われる場所を意味し、バッチ式でも連続式でもよく、特に限定されないが、具体的には、例えば、バッチ式の反応容器、連続式の反応管やラインが挙げられる。   The reaction system means a place where the silane compound A, the silane compound B, water and a hydrolysis catalyst are in contact with each other, and the co-hydrolysis and polycondensation of the silane compound are performed. Specific examples include, but are not limited to, batch-type reaction vessels, continuous reaction tubes and lines.

前記共加水分解および重縮合の工程の具体例としては、バッチ処理で行う場合、反応容器等に両シラン化合物を一度に全量仕込み、十分に攪拌しながら、該両シラン化合物に、水および加水分解触媒を添加する方法;反応容器等に水および加水分解触媒を仕込み、十分に攪拌しながら、両シラン化合物を事前に混合して、あるいは別個に添加する方法等が挙げられる。連続プロセスで行う場合、例えば、連続的なライン工程において、該工程に設けられた供給管等(即ち、供給手段から水、加水分解触媒等をラインへと供給するための手段)から、シラン化合物A、シラン化合物B、水および加水分解触媒をライン中で均一に混合される形態でラインに供給する方法等が挙げられる。このライン中で均一に混合される形態とは、例えば、まずシラン化合物Aとシラン化合物Bとをラインに供給し、両シラン化合物が該ラインを流通する過程で十分に混合され、その混合された状態のシラン化合物に対して、供給管等から水および加水分解触媒が供給する等の形態である。   As a specific example of the co-hydrolysis and polycondensation step, when batch processing is performed, both silane compounds are charged in a reaction vessel or the like in a single volume, and the two silane compounds are mixed with water and hydrolysis while stirring sufficiently. A method of adding a catalyst; a method in which water and a hydrolysis catalyst are charged in a reaction vessel or the like, and both silane compounds are mixed in advance or added separately with sufficient stirring. In the case of a continuous process, for example, in a continuous line process, a silane compound from a supply pipe or the like provided in the process (that is, a means for supplying water, hydrolysis catalyst, etc. from the supply means to the line) Examples thereof include a method of supplying A, silane compound B, water and a hydrolysis catalyst to the line in a form in which they are uniformly mixed in the line. For example, the silane compound A and the silane compound B are first supplied to the line, and the two silane compounds are sufficiently mixed in the process of passing through the line. For the silane compound in the state, water and a hydrolysis catalyst are supplied from a supply pipe or the like.

前記共加水分解および重縮合により生成する前記オルガノポリシロキサンはゾル溶液の状態で得られる。このゾル溶液において、オルガノポリシロキサンの濃度は、5〜50質量%、特に10〜30質量%程度であることが望ましい。   The organopolysiloxane produced by the cohydrolysis and polycondensation is obtained in the form of a sol solution. In this sol solution, the concentration of the organopolysiloxane is preferably about 5 to 50% by mass, particularly about 10 to 30% by mass.

工程(i)で用いられる各成分の詳細は以下のとおりである。   Details of each component used in the step (i) are as follows.

・シラン化合物A
前記シラン化合物Aは、上記一般式(1)で表されるメルカプト基を有しないものである。
・ Silane compound A
The silane compound A does not have a mercapto group represented by the general formula (1).

上記一般式(1)中、Rは、非置換の一価炭化水素基を表し、その炭素原子数は、通常、1〜10であるが、好ましくは1〜6である。この非置換の一価炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基等のアルキル基;ビニル基、アリル基、5−ヘキセニル基、9−デセニル基等のアルケニル基;フェニル基等のアリール基等が挙げられ、好ましくは、メチル基、プロピル基、ヘキシル基、フェニル基である。特に、導電性シリコーン材料において要求される特性が、主として、耐候性である場合にはメチル基が好ましく、撥水性である場合には長鎖(例えば、炭素原子数5〜10)アルキル基が好ましく、可撓性である場合にはフェニル基が好ましい。   In the general formula (1), R represents an unsubstituted monovalent hydrocarbon group, and the number of carbon atoms is usually 1 to 10, but preferably 1 to 6. Examples of the unsubstituted monovalent hydrocarbon group include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, t-butyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group, and decyl group; An alkenyl group such as a vinyl group, an allyl group, a 5-hexenyl group, and a 9-decenyl group; an aryl group such as a phenyl group, and the like are preferable, and a methyl group, a propyl group, a hexyl group, and a phenyl group are preferable. In particular, when the properties required for the conductive silicone material are mainly weather resistant, a methyl group is preferable, and when it is water-repellent, a long chain (for example, 5 to 10 carbon atoms) alkyl group is preferable. In the case of flexibility, a phenyl group is preferred.

は置換の一価炭化水素基を表し、その炭素原子数は、通常、1〜10であるが、好ましくは1〜3である。この置換の一価炭化水素基としては、例えば、前記Rで表される非置換の一価炭化水素基として例示した基において、水素原子の一部または全部を下記の置換基で置換したものが挙げられる。置換基は、メルカプト基またはメルカプト基を有する基以外であって、例えば、(i)フッ素、塩素等のハロゲン原子、(ii)グリシジルオキシ基、エポキシシクロヘキシル基等のエポキシ官能基、(iii)メタクリル基、アクリル基等の(メタ)アクリル官能基、(iv)アミノ基、アミノエチルアミノ基、フェニルアミノ基、ジブチルアミノ基等のアミノ官能基、(v)(ポリオキシアルキレン)アルキルエーテル基等のアルキルエーテル官能基、(vi)カルボキシル基、スルホニル基等のアニオン性官能基、(vii)−N(CH)X(式中、Xはハロゲン原子を表す)等の第4級アンモニウム塩構造を含有する官能基等が挙げられる。Rで表される置換の一価炭化水素基の具体例としては、トリフルオロプロピル基、パーフルオロブチルエチル基、パーフルオロオクチルエチル基、3−クロロプロピル基、2−(クロロメチルフェニル)エチル基、3−グリシジロキシプロピル基、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基、5,6−エポキシヘキシル基、9,10−エポキシデシル基、3−アクリロキシプロピル基、3−メタクリロキシプロピル基、アクリロキシメチル基、メタクリロキシメチル基、11−アクリロキシウンデシル基、11−メタクリロキシウンデシル基、3−アミノプロピル基、N−(2−アミノエチル)アミノプロピル基、3−(N−フェニルアミノ)プロピル基、3−ジブチルアミノプロピル基、3−メルカプトプロピル基、2−(4−メルカプトメチルフェニル)エチル基、ポリオキシエチレンオキシプロピル基、3−ヒドロキシカルボニルプロピル基、3−トリブチルアンモニウムプロピル基等が挙げられる。特に、導電性シリコーン材料からなる導電性コーティング膜と基材との密着性をより向上させる場合には、エポキシ官能基、アミノ官能基等が好ましい。導電性シリコーン材料中にビニル重合体が含まれる場合であって、シラン化合物が組成物中のビニル重合体とのより緊密なブロック化を行う場合には、ラジカル共重合が可能な(メタ)アクリル官能基が好ましい。また、シラン化合物がビニル重合体とシロキサン結合以外の結合で架橋を行う場合には、ビニル重合体中に含有される官能基と反応可能な官能基が好ましく、具体的には、例えば、エポキシ基(例えば、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシ基等の官能基と反応する)、アミノ基(例えば、エポキシ基、酸無水物基等の官能基と反応する)等が挙げられる。 R 1 represents a substituted monovalent hydrocarbon group, and the number of carbon atoms is usually 1 to 10, but preferably 1 to 3. As this substituted monovalent hydrocarbon group, for example, in the group exemplified as the unsubstituted monovalent hydrocarbon group represented by R, a part or all of the hydrogen atoms are substituted with the following substituents. Can be mentioned. The substituent is a mercapto group or a group having a mercapto group other than, for example, (i) a halogen atom such as fluorine or chlorine, (ii) an epoxy functional group such as a glycidyloxy group or an epoxycyclohexyl group, and (iii) methacrylic group. Groups, (meth) acrylic functional groups such as acrylic groups, (iv) amino functional groups such as amino groups, aminoethylamino groups, phenylamino groups, dibutylamino groups, (v) (polyoxyalkylene) alkyl ether groups, etc. Quaternary ammonium salt structures such as alkyl ether functional groups, (vi) anionic functional groups such as carboxyl groups and sulfonyl groups, and (vii) -N (CH 3 ) 3 X (wherein X represents a halogen atom) And the like. Specific examples of the substituted monovalent hydrocarbon group represented by R 1 include a trifluoropropyl group, a perfluorobutylethyl group, a perfluorooctylethyl group, a 3-chloropropyl group, and 2- (chloromethylphenyl) ethyl. Group, 3-glycidyloxypropyl group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, 5,6-epoxyhexyl group, 9,10-epoxydecyl group, 3-acryloxypropyl group, 3-methacryloxy Propyl group, acryloxymethyl group, methacryloxymethyl group, 11-acryloxyundecyl group, 11-methacryloxyundecyl group, 3-aminopropyl group, N- (2-aminoethyl) aminopropyl group, 3- ( N-phenylamino) propyl group, 3-dibutylaminopropyl group, 3-mercaptopropyl group, 2- (4-mer Captomethylphenyl) ethyl group, polyoxyethyleneoxypropyl group, 3-hydroxycarbonylpropyl group, 3-tributylammoniumpropyl group and the like can be mentioned. In particular, an epoxy functional group, an amino functional group, or the like is preferable when the adhesion between the conductive coating film made of a conductive silicone material and the substrate is further improved. When a vinyl polymer is contained in the conductive silicone material, and the silane compound is more closely blocked with the vinyl polymer in the composition, a (meth) acryl capable of radical copolymerization is possible. Functional groups are preferred. In addition, when the silane compound is crosslinked with a bond other than the vinyl polymer and the siloxane bond, a functional group capable of reacting with a functional group contained in the vinyl polymer is preferable. Specifically, for example, an epoxy group (For example, it reacts with a functional group such as a hydroxy group, an amino group, or a carboxy group), an amino group (for example, reacts with a functional group such as an epoxy group or an acid anhydride group), and the like.

は非置換または置換の、炭素原子数1〜3のアルキル基を表す。このアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基である。 R 2 represents an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, and a methyl group and an ethyl group are preferable.

前記シラン化合物Aとしては、例えば、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、3−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the silane compound A include trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, Phenyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyl Diethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropyl Methyl diethoxy silane, 3- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, and the like.

これらのシラン化合物Aは、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   These silane compounds A may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

・シラン化合物B
前記シラン化合物Bは、上記一般式(2)で表されるメルカプト基を有するものである。
・ Silane compound B
The silane compound B has a mercapto group represented by the general formula (2).

上記一般式(2)中、Yは非置換または置換の、炭素原子数1〜5、好ましくは1〜3のアルキレン基を表す。このアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンテン基等が挙げられる。   In the general formula (2), Y represents an unsubstituted or substituted alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms. Examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, and a pentene group.

およびRは、独立に、非置換または置換の、炭素原子数1〜3のアルキル基を表す。このアルキル基としては、Rで例示したものが挙げられる。 R 3 and R 4 independently represent an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Examples of this alkyl group include those exemplified for R 2 .

前記シラン化合物Bとしては、例えば、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトエチルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトメチルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルエチルジエトキシシラン、γ−メルカプトエチルエチルジエトキシシラン、γ−メルカプトメチルエチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトペンチルトリエトキシシラン、γ−メルカプトペンチルトリメトキシシラン等が挙げられ、好ましくは、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランである。   Examples of the silane compound B include γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptoethylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptomethylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylethyldiethoxysilane, and γ-mercaptoethylethyldiethoxysilane. , Γ-mercaptomethylethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopentyltriethoxysilane, γ-mercaptopentyltrimethoxysilane, etc., preferably γ -Mercaptopropyltrimethoxysilane.

これらのシラン化合物Bは、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   These silane compounds B may be used alone or in combination of two or more.

前記シラン化合物Bの使用量は、特に限定されないが、前記シラン化合物A10質量部に対して、好ましくは1〜10質量部である。かかる範囲を満たすと、均一で安定なゾル溶液の調製が容易であり、電気伝導度が高く均一な導電性シリコーン材料が得やすい。また、均一で安定なゾル溶液の調製が一層容易となり、導電性シリコーン材料の耐水性と耐熱性が向上することから、シラン化合物Bの使用量は、より好ましくは1〜8質量部である。さらに、耐水性と耐熱性が著しく向上し、かつ十分に高い電気伝導度が得られることから、シラン化合物Bの使用量は、特に好ましくは1.5〜6質量部である。   Although the usage-amount of the said silane compound B is not specifically limited, Preferably it is 1-10 mass parts with respect to the said silane compound A10 mass parts. When this range is satisfied, it is easy to prepare a uniform and stable sol solution, and it is easy to obtain a uniform conductive silicone material having high electrical conductivity. Moreover, since the preparation of a uniform and stable sol solution becomes easier and the water resistance and heat resistance of the conductive silicone material are improved, the amount of the silane compound B used is more preferably 1 to 8 parts by mass. Furthermore, since water resistance and heat resistance are remarkably improved and sufficiently high electric conductivity is obtained, the amount of the silane compound B used is particularly preferably 1.5 to 6 parts by mass.

共加水分解および重縮合は、有機溶媒中で行っても、有機溶媒を用いないで行ってもよい。有機溶媒としては、親水性有機溶媒が好ましく、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール等のアルコール、あるいはこれらの混合物等が挙げられる。反応溶液中のシラン化合物Aおよびシラン化合物Bの合計濃度は、15〜100質量%でよい。また、シラン化合物Aおよびシラン化合物Bは、これらの親水性有機溶媒に溶解させてから反応系に供給することが好ましい。これらの中でも、水の添加量を少なくでき、後述の工程(ii)においてゾル溶液を乾燥させて固化物を得る際に、乾燥時間を短縮できることから、メタノールが好ましい。   Cohydrolysis and polycondensation may be carried out in an organic solvent or without using an organic solvent. The organic solvent is preferably a hydrophilic organic solvent, and examples thereof include alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, and isopropanol, or mixtures thereof. The total concentration of silane compound A and silane compound B in the reaction solution may be 15 to 100% by mass. In addition, the silane compound A and the silane compound B are preferably supplied to the reaction system after being dissolved in these hydrophilic organic solvents. Among these, methanol is preferable because the amount of water added can be reduced and the drying time can be shortened when the sol solution is dried to obtain a solidified product in step (ii) described later.

・加水分解触媒/水
前記共加水分解および重縮合において用いられる加水分解触媒は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の加水分解触媒として従来用いられてきた公知の触媒を用いればよいが、例えば、塩酸、硝酸、硫酸等の無機酸;酢酸、モノクロロ酢酸、p−トルエンスルホン酸等の有機酸;アセチルアセトナトアルミニウム等の金属βジケトン錯体等が挙げられる。
Hydrolysis catalyst / water The hydrolysis catalyst used in the co-hydrolysis and polycondensation is not particularly limited, and a known catalyst that has been conventionally used as a hydrolysis catalyst for a hydrolyzable silane compound may be used. Examples thereof include inorganic acids such as hydrochloric acid, nitric acid and sulfuric acid; organic acids such as acetic acid, monochloroacetic acid and p-toluenesulfonic acid; and metal β-diketone complexes such as acetylacetonatoaluminum.

これらの他にも、前記加水分解触媒として、共加水分解および重縮合を促進する作用以外に、プロトン源となり、導電性シリコーン材料の表面抵抗値を低下させる作用も有することから、亜リン酸、リン酸、亜リン酸エステル、リン酸エステル等のリン化合物;オレイン酸、ステアリン酸等の水への溶解性が小さい有機酸;導電性シリコーン材料を構成するオルガノポリシロキサンの三次元網状構造から溶出しにくいプロトン酸部位(即ち、プロトンを供与できる部位)を有する、ジエチルホスフェイトトリエトキシシラン等の高分子化合物;前記三次元網状構造中で物理的に相互作用し保持される固体酸等も好適に用いられる。固体酸としては、例えば、α−Zr(HPO)・nHO、γ−Zr(PO)(HPO)・2HO、SnO・2HO、Sb・5.4HO等の水和酸化物、HSiW1240・nHO、HPW1240・nHO等のヘテロポリ酸等が挙げられる。これらの中でも、亜リン酸、リン酸、リン酸メチルエステル、リン酸プロピルエステル、リン酸ドデシルエステル、リン酸フェニルエステル、リン酸ジメチルエステル、リン酸ジドデシルエステル等の炭素原子数1〜30のリン酸エステル、亜リン酸メチルエステル、亜リン酸ドデシルエステル、亜リン酸ジエチルエステル、亜リン酸ジイソプロピル、亜リン酸ジドデシルエステル等の炭素原子数1〜30の亜リン酸エステル等のリン化合物;ナフィオン(登録商標)に代表されるパーフルオロカーボンスルホン酸ポリマー、分子鎖側鎖にリン酸基を有するポリアクリレートおよびポリメタクリレート(特開2001-114834号公報参照)、スルホン化ポリエーテルエーテルケトン(特開平6-93111号公報参照)、スルホン化ポリエーテルスルホン(特開平10-45913号公報参照)、スルホン化ポリスルホン(特開平9-245818号公報参照)等の耐熱性芳香族高分子のスルホン化物等のプロトン酸部位を有する高分子化合物、タングストリン酸、タングステンペルオキソ錯体等の固体酸等が特に好ましい。 In addition to these, as the hydrolysis catalyst, in addition to the action of promoting cohydrolysis and polycondensation, it also serves as a proton source and has the action of reducing the surface resistance value of the conductive silicone material, so phosphorous acid, Phosphorus compounds such as phosphoric acid, phosphite, and phosphoric acid esters; organic acids with low solubility in water such as oleic acid and stearic acid; elution from the three-dimensional network structure of organopolysiloxane that constitutes the conductive silicone material Polymer compounds such as diethyl phosphate triethoxysilane having a proton acid site that is difficult to form (ie, a site capable of donating protons); solid acids that are physically interacted and retained in the three-dimensional network structure are also suitable. Used for. Examples of the solid acid include α-Zr (HPO 4 ) 2 .nH 2 O, γ-Zr (PO 4 ) (H 2 PO 4 ) .2H 2 O, SnO 2 .2H 2 O, Sb 2 O 5. Examples thereof include hydrated oxides such as 5.4H 2 O, and heteropolyacids such as H 4 SiW 12 O 40 · nH 2 O and H 3 PW 12 O 40 · nH 2 O. Among these, phosphorous acid, phosphoric acid, phosphoric acid methyl ester, phosphoric acid propyl ester, phosphoric acid dodecyl ester, phosphoric acid phenyl ester, phosphoric acid dimethyl ester, phosphoric acid dododecyl ester and the like having 1 to 30 carbon atoms Phosphorus compounds such as phosphites having 1 to 30 carbon atoms, such as phosphate esters, phosphite methyl esters, phosphite dodecyl esters, phosphite diethyl esters, diisopropyl phosphites, phosphite didodecyl esters, etc. A perfluorocarbon sulfonic acid polymer represented by Nafion (registered trademark), polyacrylates and polymethacrylates having a phosphate group in the side chain of the molecular chain (see JP 2001-114834 A), sulfonated polyether ether ketone (special No. 6-93111), sulfonated polyethersulfone (Japanese Patent Laid-Open No. 10-459) 13), sulfonated polysulfone (see JP-A-9-245818) and the like, sulfonated products of heat-resistant aromatic polymers and the like, polymer compounds having proton acid sites, tungstophosphoric acid, tungsten peroxo complexes, etc. A solid acid or the like is particularly preferable.

これらの加水分解触媒は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   These hydrolysis catalysts may be used alone or in combination of two or more.

この加水分解触媒の使用量は、有効量でよく、シラン化合物Aとシラン化合物Bとの合計100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、特に好ましくは0.1〜5質量部である。適切な触媒量により、共加水分解および重縮合が適切に進行し、導電性シリコーン材料から導電性コーティング膜を作製する際に、被膜形成が良好に行われるだけでなく、十分なポットライフを確保できる。   The amount of the hydrolysis catalyst used may be an effective amount, and is preferably 0.01 to 10 parts by mass, particularly preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the silane compound A and the silane compound B. With appropriate catalyst amount, co-hydrolysis and polycondensation proceed properly, and when making conductive coating film from conductive silicone material, not only film formation is performed well, but also sufficient pot life is ensured it can.

また、水の使用量は、共加水分解および重縮合が十分に進行する量であれば特に限定されないが、通常、シラン化合物Aとシラン化合物Bとの合計100質量部に対して、5〜100質量部であり、好ましくは10〜50質量部である。   Further, the amount of water used is not particularly limited as long as cohydrolysis and polycondensation are sufficiently advanced. Usually, the amount of water used is 5 to 100 with respect to 100 parts by mass in total of silane compound A and silane compound B. It is a mass part, Preferably it is 10-50 mass parts.

上記の共加水分解および重縮合が終了した後に、反応系に上記プロトン源となる化合物を添加してプロトン伝導性を付与または向上させてもよい。   After the completion of the cohydrolysis and polycondensation, a compound serving as the proton source may be added to the reaction system to impart or improve proton conductivity.

−工程(ii)−
工程(ii)では、前記工程(i)で得られたゾル溶液を、好ましくは、60〜150℃で乾燥させることにより、固化物を得る。この乾燥において、ゾル溶液中の溶媒が留去されるだけでなく、生成したオルガノポリシロキサン中に残存するアルコキシ基の縮合により硬化反応が進行する。
-Step (ii)-
In step (ii), the sol solution obtained in step (i) is preferably dried at 60 to 150 ° C. to obtain a solidified product. In this drying, not only the solvent in the sol solution is distilled off, but also a curing reaction proceeds by condensation of the alkoxy groups remaining in the produced organopolysiloxane.

−工程(iii)−
工程(iii)では、前記工程(ii)で得られた固化物のメルカプト基を酸化させることにより導電性シリコーン材料が得られる。メルカプト基は、例えば、過酸化水素、硝酸等のオキソ酸、過マンガン酸、FeCl、CuO、濃硫酸等の酸化剤、好ましくは15質量%の濃度に希釈した過酸化水素水により、スルホン酸基等のイオン伝導性を有する官能基へと酸化させればよい。具体的には、上述のとおり、ゾル溶液から膜等の固化物を製造した後、この固化物を、例えば、前記酸化剤を含有した溶液に浸漬することにより行うことができる。
-Step (iii)-
In the step (iii), a conductive silicone material is obtained by oxidizing the mercapto group of the solidified product obtained in the step (ii). The mercapto group is a sulfonic acid by, for example, an oxo acid such as hydrogen peroxide or nitric acid, an oxidizing agent such as permanganic acid, FeCl 3 , CuO, or concentrated sulfuric acid, preferably a hydrogen peroxide solution diluted to a concentration of 15% by mass. What is necessary is just to oxidize to functional groups which have ion conductivity, such as a group. Specifically, as described above, after a solidified product such as a film is produced from the sol solution, the solidified product can be immersed in a solution containing the oxidizing agent, for example.

以上の工程により得られる、導電性シリコーン材料を構成するオルガノポリシロキサンは、通常、三次元網状構造からなるものである。   The organopolysiloxane constituting the conductive silicone material obtained by the above steps is usually composed of a three-dimensional network structure.

<導電性コーティング材料の製造方法2>
本発明の導電性コーティング材料は、例えば、上述のとおり、
(I)上記平均組成式(3)で表されるシリコーンオリゴマーCに酸または金属βジケトン錯体を混合し、液状混合物を得る工程と、
(II)該液状混合物を加熱して固化させて固化物を得る工程と、
(III)該固化物のメルカプト基を酸化させる工程と
を含む方法によっても製造することができる。
<Method 2 for producing conductive coating material>
The conductive coating material of the present invention is, for example, as described above,
(I) a step of mixing an acid or a metal β-diketone complex with the silicone oligomer C represented by the average composition formula (3) to obtain a liquid mixture;
(II) heating and solidifying the liquid mixture to obtain a solidified product;
(III) It can also be produced by a method comprising a step of oxidizing the mercapto group of the solidified product.

各工程の詳細は以下のとおりである。   Details of each step are as follows.

−工程(I)−
工程(I)において、前記シリコーンオリゴマーCに酸または金属βジケトン錯体を混合する方法は、特に限定されない。混合は、バッチ式でも連続式でも行うことができ、例えば、反応容器、反応管、ライン等を用いる。より具体的には、バッチ式の反応容器、連続式の反応管やラインが挙げられる。また、シリコーンオリゴマーC、および酸または金属βジケトン錯体は、例えば、滴下、噴射、噴霧、流入等、いかなる形態によって混合場所に供給してもよい。この供給において、シリコーンオリゴマーC、および酸または金属βジケトン錯体は、いずれも、そのままの状態であっても、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール等のアルコール、水等の溶媒に溶解させた状態であってもよい。
-Process (I)-
In the step (I), the method of mixing the silicone oligomer C with an acid or a metal β-diketone complex is not particularly limited. Mixing can be performed either batchwise or continuously. For example, a reaction vessel, a reaction tube, a line, or the like is used. More specifically, a batch type reaction vessel, a continuous type reaction tube and a line can be mentioned. Further, the silicone oligomer C and the acid or metal β-diketone complex may be supplied to the mixing place by any form such as dripping, jetting, spraying, inflowing or the like. In this supply, the silicone oligomer C and the acid or metal β-diketone complex are all dissolved in an alcohol such as methanol, ethanol, n-propanol and isopropanol, or a solvent such as water, even if they are as they are. It may be in the state.

工程(I)の具体例としては、バッチ処理で行う場合、反応容器等にシリコーンオリゴマー、および酸または金属βジケトン錯体を仕込み、十分に攪拌する方法が挙げられる。連続プロセスで行う場合、例えば、連続的なライン工程において、該工程に設けられた供給管等から、シリコーンオリゴマーC、および酸または金属βジケトン錯体をライン中で均一に混合される形態でラインに供給する方法が挙げられる。このライン中で均一に混合される形態とは、例えば、シリコーンオリゴマーC、および酸または金属βジケトン錯体が該ラインを流通する過程で十分に混合されることである。これらのシリコーンオリゴマーC、および酸または金属βジケトン錯体の混合により液状混合物が得られる。   As a specific example of the step (I), when batch processing is performed, a method in which a silicone oligomer and an acid or a metal β-diketone complex are charged into a reaction vessel or the like and sufficiently stirred can be mentioned. In the case of a continuous process, for example, in a continuous line process, the silicone oligomer C and the acid or metal β-diketone complex are uniformly mixed in the line from a supply pipe provided in the process. The method of supplying is mentioned. The form uniformly mixed in this line means that, for example, the silicone oligomer C and the acid or metal β-diketone complex are sufficiently mixed in the course of flowing through the line. A liquid mixture is obtained by mixing these silicone oligomer C and acid or metal β-diketone complex.

工程(I)で用いられる各成分の詳細は以下のとおりである。   Details of each component used in the step (I) are as follows.

・シリコーンオリゴマーC
前記シリコーンオリゴマーCは、上記平均組成式(3)で表されるメルカプト基を有するものである。このシリコーンオリゴマーCは、如何なる方法で製造されたものであってもよいが、前記シラン化合物Aと前記シラン化合物Bとを共加水分解および重縮合することにより、容易に製造することができる。
・ Silicone oligomer C
The silicone oligomer C has a mercapto group represented by the average composition formula (3). The silicone oligomer C may be produced by any method, but can be easily produced by cohydrolyzing and polycondensing the silane compound A and the silane compound B.

上記平均組成式(3)中、Rは非置換の一価炭化水素基を表し、その炭素原子数は、通常、1〜10であるが、好ましくは1〜6である。この非置換の一価炭化水素基としては、前記Rで例示したものが挙げられる。 In the average composition formula (3), R 5 represents an unsubstituted monovalent hydrocarbon group, and the number of carbon atoms is usually 1 to 10, preferably 1 to 6. Examples of the unsubstituted monovalent hydrocarbon group include those exemplified for R.

は置換の一価炭化水素基を表し、その炭素原子数は、通常、1〜10であるが、好ましくは1〜3である。この置換の一価炭化水素基としては、前記R1で例示したものが挙げられる。 R 6 represents a substituted monovalent hydrocarbon group, and the number of carbon atoms is usually 1 to 10, but preferably 1 to 3. Examples of the substituted monovalent hydrocarbon group include those exemplified for R 1 .

は式:HS−Y−(式中、Yは前記と同じである)で表されるメルカプト基を有する基を表す。このメルカプト基を有する基は、特に限定されないが、例えば、γ−メルカプトプロピル基、γ−メルカプトエチル基、γ−メルカプトメチル基、γ−メルカプトペンチル基等が挙げられ、好ましくは、γ−メルカプトプロピル基である。 R 7 represents a group having a mercapto group represented by the formula: HS—Y— (wherein Y is as defined above). The group having a mercapto group is not particularly limited, and examples thereof include γ-mercaptopropyl group, γ-mercaptoethyl group, γ-mercaptomethyl group, γ-mercaptopentyl group, and preferably γ-mercaptopropyl group. It is a group.

は非置換または置換の炭素原子数1〜6、好ましくは1〜3の一価炭化水素基を表す。この一価炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基;アリル基、ビニル基等のアルケニル基;フェニル基等のアリール基等が挙げられる。 R 8 represents an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6, preferably 1 to 3 carbon atoms. Examples of the monovalent hydrocarbon group include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, pentyl group and hexyl group; alkenyl groups such as allyl group and vinyl group; phenyl group and the like. An aryl group etc. are mentioned.

OR基は加水分解性基を表し、その具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、イソプロペノキシ基、フェノキシ基等のヒドロカルビルオキシ基等を挙げることができる。これらの中でも、共加水分解および重縮合の反応性、エマルジョン中での安定性が良好であることから、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基が好ましい。 OR 8 group represents a hydrolyzable group, and specific examples thereof include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group, isopropenoxy group, phenoxy group and the like. And hydrocarbyloxy groups. Among these, a methoxy group, an ethoxy group, and an isopropoxy group are preferable because the reactivity of cohydrolysis and polycondensation and the stability in an emulsion are good.

qは0.5≦q≦1.8の数であり、好ましくは0.6≦q≦1.8の数である。qが0.5未満である場合には、上記平均組成式(3)中のRの含有率が低く、導電性シリコーン材料が硬くなり過ぎ、クラックが発生し易い。qが1.8を超える場合には、該式中の鎖状単位の含有率が高く、導電性シリコーン材料がゴム性を帯び、耐擦傷性が劣ることがある。 q is a number satisfying 0.5 ≦ q ≦ 1.8, preferably 0.6 ≦ q ≦ 1.8. When q is less than 0.5, the content of R 5 in the average composition formula (3) is low, the conductive silicone material becomes too hard, and cracks are likely to occur. When q exceeds 1.8, the content of chain units in the formula is high, the conductive silicone material is rubbery, and the scratch resistance may be inferior.

rは0≦r≦1.0の数である。rが1.0を超える場合には、上記平均組成式(3)中の嵩高いRの含有率が高くなり、導電性シリコーン材料の硬度を維持するのが困難であり、耐候性も低下することがある。 r is a number satisfying 0 ≦ r ≦ 1.0. When r exceeds 1.0, the bulky R 6 content in the above average composition formula (3) becomes high, it is difficult to maintain the hardness of the conductive silicone material, and the weather resistance also decreases. There is.

sは0<s≦1.0の数であり、好ましくは0.01≦s≦0.9の数である。sが1.0を超える場合には、上記平均組成式(3)中の嵩高いRの含有率が高くなり、導電性シリコーン材料の硬度を維持するのが困難であり、耐候性も低下することがある。また、該式中にメルカプト基を有することが導電性シリコーン材料の表面抵抗値を低下させるためには必須であるので、sは0を超えなければならない。 s is a number 0 <s ≦ 1.0, and preferably 0.01 ≦ s ≦ 0.9. When s exceeds 1.0, the bulky R 6 content in the above average composition formula (3) becomes high, it is difficult to maintain the hardness of the conductive silicone material, and the weather resistance also decreases. There is. In addition, since it is essential to have a mercapto group in the formula in order to reduce the surface resistance value of the conductive silicone material, s must exceed 0.

tは0<t≦1.0の数であり、好ましくは0.05≦t≦0.8の数、より好ましくは0.2≦t≦0.7の数である。tが1.0を超える場合には、導電性シリコーン材料中のヒドロカルビルオキシ基が経時的に反応し、安定性の面で劣ることがある。   t is a number satisfying 0 <t ≦ 1.0, preferably a number satisfying 0.05 ≦ t ≦ 0.8, and more preferably a number satisfying 0.2 ≦ t ≦ 0.7. When t exceeds 1.0, the hydrocarbyloxy group in the conductive silicone material reacts with time and may be inferior in terms of stability.

uは0<u≦1.0の数であり、好ましくは0.05≦u≦0.8の数、より好ましくは0.2≦u≦0.7の数である。uが1.0を超える場合には、導電性シリコーン材料中のシラノール基が経時的に反応し、安定性の面で劣ることがある。   u is a number 0 <u ≦ 1.0, preferably 0.05 ≦ u ≦ 0.8, more preferably 0.2 ≦ u ≦ 0.7. When u exceeds 1.0, silanol groups in the conductive silicone material react with time and may be inferior in terms of stability.

これらのq、r、s、t、uは、0.5≦q+r+s≦1.8の数であり、かつ0<t+u≦1.0の数であることが必須である。q+r+sが0.5未満である場合には、導電性シリコーン材料が硬くなり過ぎ、クラックが発生し易い。q+r+sが1.8を超える場合には、導電性シリコーン材料がゴム性を帯び、耐擦傷性が劣ることがある。また、架橋可能な置換基の総数を表すt+uは、0<t+u≦1.0の範囲を満たす数であることが必須である。t+uが0である場合には、導電性シリコーン材料は硬化せず、1.0を超える場合には、該シリコーン材料を構成する分子が小さくなり、水溶性に富むものとなるため好ましくない。さらに、q+r+s+t+uは、0.5<q+r+s+t+u≦2.8の数であることが必須であり、0.6≦q+r+s+t+u≦2.5の数であることが好ましい。   These q, r, s, t, and u are numbers satisfying 0.5 ≦ q + r + s ≦ 1.8, and it is essential that 0 <t + u ≦ 1.0. When q + r + s is less than 0.5, the conductive silicone material becomes too hard and cracks are likely to occur. When q + r + s exceeds 1.8, the conductive silicone material may be rubbery and have poor scratch resistance. Moreover, it is essential that t + u representing the total number of crosslinkable substituents is a number satisfying the range of 0 <t + u ≦ 1.0. When t + u is 0, the conductive silicone material is not cured, and when it exceeds 1.0, the molecules constituting the silicone material become small and water-soluble, which is not preferable. Furthermore, q + r + s + t + u must be a number of 0.5 <q + r + s + t + u ≦ 2.8, and preferably a number of 0.6 ≦ q + r + s + t + u ≦ 2.5.

これらのシリコーンオリゴマーCは、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   These silicone oligomers C may be used alone or in combination of two or more.

シリコーンオリゴマーC、および酸または金属βジケトン錯体の混合は、通常、これら二成分のみで行われるが、必要に応じて、溶媒中で行ってもよい。溶媒としては、親水性有機溶媒が好ましく、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール等のアルコール、あるいはこれらの混合物等が挙げられる。これらの中でも、後述の工程(II)において液状混合物を加熱して固化物を得る際に、乾燥時間を短縮できることから、メタノールが好ましい。   The mixing of the silicone oligomer C and the acid or metal β-diketone complex is usually performed only with these two components, but may be performed in a solvent as necessary. The solvent is preferably a hydrophilic organic solvent, and examples thereof include alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, and isopropanol, or mixtures thereof. Among these, methanol is preferable because the drying time can be shortened when the solid mixture is obtained by heating the liquid mixture in the step (II) described later.

・酸または金属βジケトン錯体
酸または金属βジケトン錯体とは、上述のとおり、酸、金属βジケトン錯体またはこれらの混合物である。ここで、酸の具体例としては、上記で加水分解触媒として例示した化合物中の酸が挙げられる。酸または金属βジケトン錯体は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
Acid or metal β diketone complex The acid or metal β diketone complex is an acid, a metal β diketone complex, or a mixture thereof, as described above. Here, specific examples of the acid include acids in the compounds exemplified above as the hydrolysis catalyst. The acid or metal β diketone complex may be used alone or in combination of two or more.

この酸または金属βジケトン錯体の使用量は、特に限定されないが、シリコーンオリゴマーC100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、特に好ましくは0.1〜5質量部である。かかる範囲を満たすと、導電性シリコーン材料から導電性コーティング膜を作製する際に、被膜形成が良好に行われるだけでなく、十分なポットライフを確保できる。   The amount of the acid or metal β-diketone complex used is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 10 parts by mass, particularly preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silicone oligomer C. When this range is satisfied, when a conductive coating film is produced from a conductive silicone material, not only film formation is performed well, but a sufficient pot life can be secured.

なお、製造方法1に関して説明したプロトン源となる化合物を、必要に応じて、上記の酸または金属βジケトン錯体とは別途用いてもよい。   In addition, you may use separately the compound used as the proton source demonstrated regarding the manufacturing method 1 with said acid or metal beta diketone complex as needed.

−工程(II)−
工程(II)では、前記工程(I)で得られた液状混合物を、好ましくは、60〜150℃で加熱することにより、固化物を得る。
-Process (II)-
In step (II), the liquid mixture obtained in step (I) is preferably heated at 60 to 150 ° C. to obtain a solidified product.

−工程(III)−
工程(III)では、前記工程(II)で得られた固化物を用いる以外は、前記工程(iii)と同様にして、導電性シリコーン材料を得る。
-Process (III)-
In step (III), a conductive silicone material is obtained in the same manner as in step (iii) except that the solidified product obtained in step (II) is used.

[導電性シリコーン材料の用途]
本発明の導電性シリコーン材料は、例えば、液晶、有機EL、PDP等のディスプレイ、タッチパネル表面の埃付着防止等の分野において、導電性コーティング膜等の用途に用いられることが好ましい。
[Use of conductive silicone materials]
The conductive silicone material of the present invention is preferably used for applications such as a conductive coating film in fields such as liquid crystal, organic EL, PDP and other displays, and dust adhesion prevention on the touch panel surface.

[導電性コーティング膜の製造方法]
前記導電性シリコーン材料の好適な用途である導電性コーティング膜を製造する際、その製造方法は特に限定されないが、例えば、得られたゾル溶液ないしは液状混合物を、例えば、ドクターブレード、バーコーター等を用いて、テフロン(登録商標)シート、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ガラス板等の材質の基体(支持体)の上に塗布するか、あるいはこれらの材質からなる浅い型に薄く流し込み、室温(例えば25℃)で風乾させるか、ないしは穏やかに加温(例えば80℃)して乾燥させればよい。この導電性コーティング膜の厚さは、用途により異なるが、通常、乾燥状態で、0.01〜100μm、特に0.1〜50μmである。
[Method for producing conductive coating film]
When producing a conductive coating film, which is a suitable application of the conductive silicone material, the production method is not particularly limited. For example, the obtained sol solution or liquid mixture is used, for example, a doctor blade, a bar coater, or the like. Use it on a substrate (support) made of a material such as a Teflon (registered trademark) sheet, polyethylene terephthalate film, or glass plate, or pour it thinly into a shallow mold made of these materials at room temperature (for example, 25 ° C.) It may be air-dried or heated gently (eg, 80 ° C.) and dried. The thickness of the conductive coating film varies depending on the application, but is usually 0.01 to 100 μm, particularly 0.1 to 50 μm in a dry state.

以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されない。なお、実施例において、「部」は質量部を表す。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely using an Example, this invention is not limited to these Examples at all. In the examples, “parts” represents parts by mass.

<実施例1>
テトラエトキシシラン(信越化学(株)製)89部、フェニルトリエトキシシラン(信越化学(株)製)38部、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株)製)38部、およびメタノール224部を混合した。この混合溶液に、水35部、および85質量%リン酸水溶液をリン酸として0.2部となる量を添加し、室温にて1日撹拌を継続した。得られた溶液を、ガラス板上にバーコーター(No.20)で塗布した。その後、ガラス板上の塗膜を80℃で1時間加熱して硬化させ、25℃、相対湿度50%の恒温恒湿室で1日間静置し、コーティング膜を作製した。このコーティング膜を15質量%過酸化水素水中に14時間浸漬し、酸化処理し、その後、水洗し、25℃、相対湿度50%の恒温恒湿室で、1日かけて風乾した。得られた酸化処理コーティング膜の表面抵抗値を、下記の測定方法に従って測定した。結果を表1に示す。
<Example 1>
89 parts of tetraethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 38 parts of phenyltriethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 38 parts of γ-mercaptopropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and methanol 224 The parts were mixed. To this mixed solution, 35 parts of water and an amount of 0.2 part of 85 mass% phosphoric acid aqueous solution as phosphoric acid were added, and stirring was continued at room temperature for 1 day. The resulting solution was applied onto a glass plate with a bar coater (No. 20). Thereafter, the coating film on the glass plate was cured by heating at 80 ° C. for 1 hour, and allowed to stand in a constant temperature and humidity chamber at 25 ° C. and a relative humidity of 50% for 1 day to prepare a coating film. This coating film was immersed in 15% by mass hydrogen peroxide for 14 hours, oxidized, washed with water, and air-dried in a constant temperature and humidity room at 25 ° C. and a relative humidity of 50% for 1 day. The surface resistance value of the obtained oxidation-treated coating film was measured according to the following measurement method. The results are shown in Table 1.

・表面抵抗値の測定方法
高抵抗率計(三菱化学(株)製、商品名:Hiresta-Up MODEL MCP-HT450)を使用し、25℃、相対湿度40%の恒温恒湿室で、印加電圧を10Vとして、製造直後のコーティング膜の表面抵抗値(初期)Aを測定した。また、コーティング膜を製造してから10日間、25℃、相対湿度50%の環境下で保存し、その後のコーティング膜の表面抵抗値Aを測定した。
・ Measurement method of surface resistance value Using a high resistivity meter (trade name: Hiresta-Up MODEL MCP-HT450, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), applied voltage in a constant temperature and humidity chamber at 25 ° C and relative humidity of 40% Was 10 V, and the surface resistance value (initial) A 0 of the coating film immediately after production was measured. In addition, the coating film was stored for 10 days in an environment of 25 ° C. and a relative humidity of 50%, and then the surface resistance value A of the coating film was measured.

<実施例2>
実施例1において、リン酸の代わりに1M硝酸水溶液を硝酸として0.2部となる量を用いた以外は実施例1と同様にして、酸化処理コーティング膜を作製し、その表面抵抗値を測定した。結果を表1に示す。
<Example 2>
In Example 1, an oxidation-treated coating film was produced in the same manner as in Example 1 except that 1 part nitric acid aqueous solution was used instead of phosphoric acid in an amount of 0.2 part as nitric acid, and the surface resistance value was measured. The results are shown in Table 1.

<実施例3>
実施例1において、85質量%リン酸水溶液の添加量をリン酸として0.2部から1.7部に変更した以外は実施例1と同様にして、酸化処理コーティング膜を作製し、その表面抵抗値を測定した。結果を表1に示す。
<Example 3>
In Example 1, except that the amount of 85 mass% phosphoric acid aqueous solution was changed from 0.2 parts to 1.7 parts as phosphoric acid, an oxidation-treated coating film was prepared and the surface resistance value was measured. did. The results are shown in Table 1.

<実施例4>
メチルトリメトキシシラン(信越化学(株)製)52部、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株)製)55部、メタノール216部を混合した。この混合溶液に、水25部、および85質量%リン酸水溶液をリン酸として1.1部となる量を添加し、室温にて1日撹拌を継続した。その後、得られた溶液を用いて、実施例1と同様にして、酸化処理コーティング膜を作製し、その表面抵抗値を測定した。結果を表1に示す。
<Example 4>
52 parts of methyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 55 parts of γ-mercaptopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 216 parts of methanol were mixed. To this mixed solution, 25 parts of water and an amount of 1.1 parts of 85 mass% phosphoric acid aqueous solution as phosphoric acid were added, and stirring was continued at room temperature for 1 day. Thereafter, using the obtained solution, an oxidation-treated coating film was produced in the same manner as in Example 1, and the surface resistance value was measured. The results are shown in Table 1.

<実施例5>
メチルトリメトキシシラン(信越化学(株)製)771部、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株)製)371部、およびメタノール148部を混合した。この混合溶液に、0.05N塩酸水79部とメタノール296部との混合溶液を、室温で、1時間かけて滴下した。この溶液を、70℃のメタノール還流下で、2時間熟成した後、該溶液に1質量%酢酸ソーダ−メタノール溶液75部を添加し、さらに同温で2時間熟成した。蛇管冷却器を備えたエステルアダプターを付け、オイルバスで加熱し、内温が120℃となるまで溶媒を留去し、シリコーンオリゴマーを得た。
このシリコーンオリゴマー100部に、85質量%リン酸水溶液をリン酸として1部となる量を添加し、30分振とうした。その後、得られた液状混合物を用いて、実施例1と同様にして、酸化処理コーティング膜を作製し、その表面抵抗値を測定した。結果を表1に示す。
<Example 5>
771 parts of methyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 371 parts of γ-mercaptopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and 148 parts of methanol were mixed. To this mixed solution, a mixed solution of 79 parts of 0.05N hydrochloric acid and 296 parts of methanol was added dropwise at room temperature over 1 hour. This solution was aged for 2 hours under reflux of methanol at 70 ° C., and then 75 parts of a 1 mass% sodium acetate-methanol solution was added to the solution, and further aged for 2 hours at the same temperature. An ester adapter equipped with a serpentine cooler was attached and heated in an oil bath, and the solvent was distilled off until the internal temperature reached 120 ° C. to obtain a silicone oligomer.
To 100 parts of this silicone oligomer, an amount of 1 part of 85 mass% phosphoric acid aqueous solution as phosphoric acid was added and shaken for 30 minutes. Then, using the obtained liquid mixture, an oxidation treatment coating film was produced in the same manner as in Example 1, and the surface resistance value was measured. The results are shown in Table 1.

<比較例1>
テトラエトキシシラン(信越化学(株)製)89部とメタノール48部とを混合した。この混合溶液に水8部、および1M硝酸水溶液を硝酸として0.2部となる量を添加し、室温にて1時間撹拌を継続した。得られた混合溶液に、フェニルトリエトキシシラン(信越化学(株)製)38部とメタノール66部とを混合して添加し、約30分撹拌した。その後、この溶液に、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株)製)38部、メタノール110部および水27部を添加し、室温にて1日撹拌を継続した。得られた溶液を、ガラス板上にバーコーター(No.20)で塗布した。その後、ガラス板上の塗膜を80℃で1時間加熱して硬化させ、25℃、相対湿度50%の恒温恒湿室で1日間静置し、コーティング膜を作製した。この膜の表面抵抗値を、上述の測定方法に従って測定した。結果を表1に示す。
<Comparative Example 1>
89 parts of tetraethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 48 parts of methanol were mixed. To this mixed solution, 8 parts of water and 0.2 parts of 1M nitric acid aqueous solution as nitric acid were added, and stirring was continued at room temperature for 1 hour. To the obtained mixed solution, 38 parts of phenyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 66 parts of methanol were mixed and added, and stirred for about 30 minutes. Thereafter, 38 parts of γ-mercaptopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 110 parts of methanol and 27 parts of water were added to this solution, and stirring was continued at room temperature for 1 day. The resulting solution was applied on a glass plate with a bar coater (No. 20). Thereafter, the coating film on the glass plate was cured by heating at 80 ° C. for 1 hour, and allowed to stand in a constant temperature and humidity chamber at 25 ° C. and a relative humidity of 50% for 1 day to prepare a coating film. The surface resistance value of this film was measured according to the measurement method described above. The results are shown in Table 1.

<比較例2>
比較例1で作製したコーティング膜を15質量%過酸化水素水中に14時間浸漬し、酸化処理し、その後、水洗し、25℃、相対湿度50%の恒温恒湿室で、1日かけて風乾した。この酸化処理コーティング膜の表面抵抗値を、上述の測定方法に従って測定した。結果を表1に示す。
<Comparative example 2>
The coating film prepared in Comparative Example 1 was immersed in 15% by mass hydrogen peroxide for 14 hours, oxidized, then washed with water, and air-dried in a constant temperature and humidity room at 25 ° C. and 50% relative humidity for 1 day. did. The surface resistance value of the oxidation-treated coating film was measured according to the measurement method described above. The results are shown in Table 1.

<比較例3>
比較例2において、硝酸の代わりに85質量%リン酸水溶液をリン酸として0.2部となる量を用いた以外は比較例2と同様にして、酸化処理コーティング膜を作製し、その表面抵抗値を測定した。結果を表1に示す。
<Comparative Example 3>
In Comparative Example 2, an oxidation treatment coating film was prepared in the same manner as in Comparative Example 2 except that 85 parts by mass of phosphoric acid aqueous solution instead of nitric acid was used in an amount of 0.2 part as phosphoric acid. It was measured. The results are shown in Table 1.

Figure 2006131770
Figure 2006131770

注)
・表中の各成分の使用量の単位は「質量部」である。
・表中の「硝酸」は1M硝酸水溶液中の硝酸の量であり、「リン酸」は85質量%リン酸水溶液中のリン酸の量であり、「水」は1M硝酸水溶液またはリン酸水溶液中に含有される水以外の別添された水の量である。
note)
-The unit of use amount of each component in the table is "part by mass".
・ "Nitric acid" in the table is the amount of nitric acid in 1M nitric acid aqueous solution, "phosphoric acid" is the amount of phosphoric acid in 85 mass% phosphoric acid aqueous solution, and "water" is 1M nitric acid aqueous solution or phosphoric acid aqueous solution It is the amount of water attached separately from the water contained therein.

<評価>
比較例1から明らかなように、単にシラン化合物を逐次的に添加し、加水分解しただけでは表面抵抗値は1010Ωを超える。また、比較例2、3から明らかなように、酸化処理を行ってもメルカプトシランを後から添加した場合には、コーティング膜の製造直後(初期)は良好な表面抵抗値を示すが、製造から10日後には5倍以上の数値となり、経時的な変化が顕著である。
一方、本発明の請求項1または3の要件を満たす実施例では、コーティング膜の製造直後の表面抵抗値Aは8.0×10Ω以下と良好であり、またコーティング膜の製造から10日後の表面抵抗値Aも2.1×10Ω以下であり、製造直後の表面抵抗値Aと比べて多少変化するものの、その比A/Aは3以下であるから、経時的にも比較的安定である。
<Evaluation>
As is clear from Comparative Example 1, the surface resistance value exceeds 10 10 Ω simply by adding silane compounds sequentially and hydrolyzing. Further, as is clear from Comparative Examples 2 and 3, when mercaptosilane was added later even after the oxidation treatment, a good surface resistance value was exhibited immediately after the production of the coating film (initial). After 10 days, the value is 5 times or more, and the change with time is remarkable.
On the other hand, in the example satisfying the requirements of claim 1 or 3 of the present invention, the surface resistance value A 0 immediately after the production of the coating film is as good as 8.0 × 10 7 Ω or less, and 10 days after the production of the coating film. The surface resistance value A is 2.1 × 10 8 Ω or less, and changes slightly compared to the surface resistance value A 0 immediately after manufacture, but the ratio A / A 0 is 3 or less, so it is relatively stable over time. It is.

Claims (8)

(i)一般式(1):
Si(OR)4−m−n (1)
(式中、Rは非置換の一価炭化水素基であり、Rは置換の一価炭化水素基であり、Rは非置換または置換の炭素原子数1〜3のアルキル基であり、mは0〜2の整数であり、nは0または1であり、但し、m+nは1〜3の整数である)
で表されるメルカプト基を有しないシラン化合物Aおよび一般式(2):
HS−Y−Si(OR) 3−p (2)
(式中、Yは非置換または置換の炭素原子数1〜5のアルキレン基であり、RおよびRは独立に非置換または置換の炭素原子数1〜3のアルキル基であり、pは2または3である)
で表されるメルカプト基を有するシラン化合物Bを、反応系に供給し、共加水分解および重縮合を進行させて、オルガノポリシロキサンのゾル溶液を得る工程と、
(ii)該ゾル溶液を乾燥させて固化させて固化物を得る工程と、
(iii)該固化物のメルカプト基を酸化させる工程と
を含む方法によって得られるオルガノポリシロキサンからなる導電性シリコーン材料。
(i) General formula (1):
R m R 1 n Si (OR 2) 4-m-n (1)
(Wherein R is an unsubstituted monovalent hydrocarbon group, R 1 is a substituted monovalent hydrocarbon group, R 2 is an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, m is an integer of 0 to 2, n is 0 or 1, provided that m + n is an integer of 1 to 3)
Silane compound A having no mercapto group represented by the general formula (2):
HS-Y-Si (OR 3 ) p R 4 3-p (2)
Wherein Y is an unsubstituted or substituted alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, R 3 and R 4 are independently an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and p is 2 or 3)
A step of supplying a silane compound B having a mercapto group represented by formula (1) to a reaction system and advancing cohydrolysis and polycondensation to obtain a sol solution of organopolysiloxane;
(ii) drying and solidifying the sol solution to obtain a solidified product;
(iii) A conductive silicone material comprising an organopolysiloxane obtained by a method comprising a step of oxidizing a mercapto group of the solidified product.
前記シラン化合物Bの量が、前記シラン化合物A10質量部に対して、1〜10質量部である請求項1に係る導電性シリコーン材料。   The conductive silicone material according to claim 1, wherein the amount of the silane compound B is 1 to 10 parts by mass with respect to 10 parts by mass of the silane compound A. (I)平均組成式(3):
SiO{4−(q+r+s+t+u)}/2(OR)(OH) (3)
(式中、Rは非置換の一価炭化水素基であり、Rは置換の一価炭化水素基であり、Rは式:HS−Y−(式中、Yは非置換または置換の炭素原子数1〜5のアルキレン基である)で表されるメルカプト基を有する基であり、Rは非置換または置換の炭素原子数1〜6の一価炭化水素基であり、qは、0.5≦q≦1.8の数であり、rは0≦r≦1.0の数であり、sは0<s≦1.0の数であり、tは0<t≦1.0の数であり、uは0<u≦1.0の数であり、但し、0.5≦q+r+s≦1.8の数であり、0<t+u≦1.0の数であり、かつ0.5<q+r+s+t+u≦2.8の数である)
で表されるメルカプト基を有するシリコーンオリゴマーCに、酸、金属βジケトン錯体、またはこれらの混合物を混合し、液状混合物を得る工程と、
(II)該液状混合物を加熱して固化させて固化物を得る工程と、
(III)該固化物のメルカプト基を酸化させる工程と
を含む方法によって得られる導電性シリコーン材料。
(I) Average composition formula (3):
R 5 q R 6 r R 7 s SiO {4- (q + r + s + t + u)} / 2 (OR 8 ) t (OH) u (3)
(Wherein R 5 is an unsubstituted monovalent hydrocarbon group, R 6 is a substituted monovalent hydrocarbon group, R 7 is of the formula HS-Y— (where Y is unsubstituted or substituted) R 8 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and q is a group having a mercapto group represented by: , 0.5 ≦ q ≦ 1.8, r is a number 0 ≦ r ≦ 1.0, s is a number 0 <s ≦ 1.0, t is a number 0 <t ≦ 1.0, and u is 0 <Number of u ≦ 1.0, where 0.5 ≦ q + r + s ≦ 1.8, 0 <t + u ≦ 1.0, and 0.5 <q + r + s + t + u ≦ 2.8)
A step of mixing an acid, a metal β-diketone complex, or a mixture thereof with the silicone oligomer C having a mercapto group represented by
(II) heating and solidifying the liquid mixture to obtain a solidified product;
(III) A conductive silicone material obtained by a method comprising a step of oxidizing a mercapto group of the solidified product.
前記シリコーンオリゴマーCが、請求項1に記載のシラン化合物Aとシラン化合物Bとの共加水分解および重縮合によって得られる請求項3に係る導電性シリコーン材料。   The conductive silicone material according to claim 3, wherein the silicone oligomer C is obtained by cohydrolysis and polycondensation of the silane compound A and the silane compound B according to claim 1. 前記固化物のメルカプト基を酸化させる工程が、前記固化物と過酸化水素水とを接触させる段階を含む請求項1〜4のいずれか一項に係る導電性シリコーン材料。   The conductive silicone material according to any one of claims 1 to 4, wherein the step of oxidizing the mercapto group of the solidified product includes a step of bringing the solidified product and hydrogen peroxide solution into contact with each other. 前記導電性シリコーン材料の製造直後の表面抵抗値Aと製造から10日経過後の表面抵抗値Aとの比A/Aが3以下である請求項1〜5のいずれか一項に係る導電性シリコーン材料。 The ratio A / A 0 between the surface resistance value A 0 immediately after the production of the conductive silicone material and the surface resistance value A after 10 days from the production is 3 or less, the conductivity according to any one of claims 1 to 5. Silicone material. 温度25℃、相対湿度40%の条件下で、10Vの電圧を印加して測定した表面抵抗値が1×10Ω未満である請求項1〜6のいずれか一項に係る導電性シリコーン材料。 The conductive silicone material according to any one of claims 1 to 6, wherein a surface resistance value measured by applying a voltage of 10 V under conditions of a temperature of 25 ° C and a relative humidity of 40% is less than 1 x 10 9 Ω. . 請求項1〜7に記載の導電性シリコーン材料からなる導電性コーティング膜。   A conductive coating film comprising the conductive silicone material according to claim 1.
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JP2007326895A (en) * 2006-06-06 2007-12-20 Shin Etsu Chem Co Ltd Organic resin flame retardant additive, flame retardant resin composition and molded product thereof
JP2010007032A (en) * 2008-06-30 2010-01-14 Tohoku Univ Water-soluble silicon compound and process of manufacturing water-soluble silicon compound
US7838616B2 (en) 2006-11-02 2010-11-23 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Perfluoropolyether rubber composition and ion-conducting polymer electrolyte membrane

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