JP2006104238A - ラジカル重合開始剤及びそれを用いた重合体の製造方法 - Google Patents
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 34
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 34
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 29
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims abstract description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims abstract 2
- -1 methacrylate ester Chemical class 0.000 claims description 15
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 12
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 claims description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920000765 poly(2-oxazolines) Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical group NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 10
- 239000012327 Ruthenium complex Substances 0.000 abstract description 7
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 abstract description 7
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 abstract description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 abstract description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 19
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 7
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 5
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 5
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 5
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 5
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical class C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010560 atom transfer radical polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229910006400 μ-Cl Inorganic materials 0.000 description 4
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000010550 living polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 3
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUXJXWKCUUWCLX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-oxazoline Chemical compound CC1=NCCO1 GUXJXWKCUUWCLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N benzyl bromide Chemical compound BrCC1=CC=CC=C1 AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003303 ruthenium Chemical class 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N tetrabromomethane Chemical compound BrC(Br)(Br)Br HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSVFWMMPUJDVKH-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloropropan-2-one Chemical compound CC(=O)C(Cl)Cl CSVFWMMPUJDVKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoethane Chemical compound BrCCBr PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBBZLMLLFVFKJM-UHFFFAOYSA-N 1,2-diiodoethane Chemical compound ICCI GBBZLMLLFVFKJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKLSEIIDJBCSRK-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-2-ethenylbenzene Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1C=C KKLSEIIDJBCSRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMDQPBSDHHTRNI-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-3-ethenylbenzene Chemical compound ClCC1=CC=CC(C=C)=C1 HMDQPBSDHHTRNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRZHXNCATOYMJH-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-ethenylbenzene Chemical compound ClCC1=CC=C(C=C)C=C1 ZRZHXNCATOYMJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- CERJZAHSUZVMCH-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1-phenylethanone Chemical compound ClC(Cl)C(=O)C1=CC=CC=C1 CERJZAHSUZVMCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBNPDQQJYLNJPU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-bromopropanoyloxy)ethyl 2-bromopropanoate Chemical compound CC(Br)C(=O)OCCOC(=O)C(C)Br OBNPDQQJYLNJPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C=C DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVRCNEIYXSRHNT-UHFFFAOYSA-N 3-ethylpent-2-enamide Chemical compound CCC(CC)=CC(N)=O UVRCNEIYXSRHNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAGFQRLKWCCTQJ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylbenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 MAGFQRLKWCCTQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical class ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- MRLZZZRLKBIWGV-UHFFFAOYSA-N anthracen-1-ylmethyl 2-bromo-2-methylpropanoate Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(COC(=O)C(C)(Br)C)=CC=CC3=CC2=C1 MRLZZZRLKBIWGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006187 aquazol Polymers 0.000 description 1
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N bromoethane Chemical compound CCBr RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007385 chemical modification Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000006352 cycloaddition reaction Methods 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTGGMKXPQIAQNE-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2-chloro-2,4,4-trimethylpentanedioate Chemical compound COC(=O)C(C)(C)CC(C)(Cl)C(=O)OC WTGGMKXPQIAQNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- GPQWKLDEDGOJQH-UHFFFAOYSA-N ethane-1,1,1,2-tetramine Chemical compound NCC(N)(N)N GPQWKLDEDGOJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJMICNUGBHGMKQ-UHFFFAOYSA-N ethane-1,1,2-triamine Chemical compound NCC(N)N PJMICNUGBHGMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOLQWGVDEFWYNP-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-bromo-2-methylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)(C)Br IOLQWGVDEFWYNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 229940088644 n,n-dimethylacrylamide Drugs 0.000 description 1
- YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C=C YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- WQIQNKQYEUMPBM-UHFFFAOYSA-N pentamethylcyclopentadiene Chemical compound CC1C(C)=C(C)C(C)=C1C WQIQNKQYEUMPBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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Abstract
【課題】 複核錯体としてアルコキシ配位の2核ルテニウム錯体と活性有機ハロゲン化合物の組み合わせによるラジカル重合開始剤を提供する。さらにその開始剤を用いて末端に化学変換可能な官能基を有するポリマーの製造法を提供する。
【解決手段】 触媒活性を示す金属錯体として、金属錯体単独による活性制御を可能とする、特定なアルコキシ配位ルテニウム2核錯体とハロゲン化合物系とのラジカル重合開始剤を見出す。さらにその重合開始剤の存在下で、ラジカル重合性単量体を重合させることを特徴とする重合体を製造する。
【選択図】 図1
【解決手段】 触媒活性を示す金属錯体として、金属錯体単独による活性制御を可能とする、特定なアルコキシ配位ルテニウム2核錯体とハロゲン化合物系とのラジカル重合開始剤を見出す。さらにその重合開始剤の存在下で、ラジカル重合性単量体を重合させることを特徴とする重合体を製造する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、アルコキシルテニウム2核錯体と活性有機ハロゲン化合物からなるラジカル重合開始剤、ならびに、それを用いる重合体の製造方法に関する。より詳しくは、本発明はラジカル重合性単量体の種類、組み合わせに対して幅広い範囲で適用可能な上記ラジカル重合開始剤を使用し、分子量を制御しつつ、生成した重合体の化学変換を可能にする末端官能基をもつ重合体を製造する方法に関する。
従来のラジカル重合と異なり、ポリマー成長末端が化学変換可能な活性を有するリビングラジカル重合、例えば、原子移動ラジカル重合(ATRP)(非特許文献1参照)、ニトロキシドを介するラジカル重合(NMP)(非特許文献2参照)、硫黄類化合物経由可逆付加チェイントランスファーラジカル重合(RAFT)(非特許文献3参照)などは、ポリマーの分子量、モノマー残基序列、次元構造などを任意に制御できることから、この10年以来多くの注目を集めて来た。その中で、特に、金属錯体とハロゲン化合物との組み合わせによる原子移動ラジカル重合系はその広範に渡るモノマー種類の適応性が示され、それを用いるポリマーの精密制御方法は、ポリマーの合成だけではなく、基材表面・界面の化学修飾、デバイス構築にも広がるようになった。
ATRP法で用いられる金属錯体は、通常は銅、またはルテニウム錯体であり、かつそれらは一つの金属を有する単核金属化合物に限られている。ルテニウム単核錯体を用いる重合触媒系では、重合触媒活性を引き起こすために、ルテニウム錯体以外に、アルミニウム類金属化合物、またはアミン類配位子などを余分に使うことが要求される(例えば特許文献1及び2参照)。従って、重合反応において、モノマー種類などが変わると反応制御が困難となること、モノマー以外の化合物の混入によるポリマー精製が煩雑になることなど、多くの問題が問われている。また、ルテニウム錯体はイオン性ではなく、それに由来の重合溶剤への適応性にも限界が生じることもある。
一方、複核錯体として二つのルテニウム金属を一つの錯体分子中に有する2核ルテニウム錯体は、有機合成での環化付加反応に優れた触媒活性を示すことが知られている(非特許文献4参照)。このことは、2核のルテニウム錯体が二重結合を有する化合物について、普遍的な付加反応触媒活性をもたらすことが示唆されたと考えられる。しかしながら、従来の2核ルテニウム錯体はルテニウム−ルテニウム結合を有することを特徴とした。
このような技術背景から、本発明では、2核のルテニウム間をアルコキシで配位させた2核ルテニウム錯体の合成およびそれをラジカル重合触媒に展開することを検討し、本発明を完成するに至った。
ATRP法で用いられる金属錯体は、通常は銅、またはルテニウム錯体であり、かつそれらは一つの金属を有する単核金属化合物に限られている。ルテニウム単核錯体を用いる重合触媒系では、重合触媒活性を引き起こすために、ルテニウム錯体以外に、アルミニウム類金属化合物、またはアミン類配位子などを余分に使うことが要求される(例えば特許文献1及び2参照)。従って、重合反応において、モノマー種類などが変わると反応制御が困難となること、モノマー以外の化合物の混入によるポリマー精製が煩雑になることなど、多くの問題が問われている。また、ルテニウム錯体はイオン性ではなく、それに由来の重合溶剤への適応性にも限界が生じることもある。
一方、複核錯体として二つのルテニウム金属を一つの錯体分子中に有する2核ルテニウム錯体は、有機合成での環化付加反応に優れた触媒活性を示すことが知られている(非特許文献4参照)。このことは、2核のルテニウム錯体が二重結合を有する化合物について、普遍的な付加反応触媒活性をもたらすことが示唆されたと考えられる。しかしながら、従来の2核ルテニウム錯体はルテニウム−ルテニウム結合を有することを特徴とした。
このような技術背景から、本発明では、2核のルテニウム間をアルコキシで配位させた2核ルテニウム錯体の合成およびそれをラジカル重合触媒に展開することを検討し、本発明を完成するに至った。
J. Wangら、Macromolecules, 1995年、28巻、7901頁
C. J. Hawkerら、Macromolecules, 1996年、29巻、5245頁
A. Ajayghoshら、Macromolecules, 1998年、31巻、1463頁
H. Kondoら、J. Am. Chem. Soc. 2002年、123巻、500頁
特開平8−41117号公報
特開2002−80523号公報
本発明が解決しようとする課題は、複核錯体として、アルコキシ配位のルテニウム2核錯体と活性有機ハロゲン化合物の組み合わせによるラジカル重合開始剤を提供することにあり、さらにその開始剤を用いる重合反応から末端に化学変換可能な官能基を有するポリマーの製造法を提供する。
本発明では、触媒活性を示す金属錯体として、金属錯体単独による活性制御を可能とする、特定なアルコキシ配位ルテニウム2核錯体とハロゲン化合物系とのラジカル重合開始剤を見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は、シクロペンタジエニル基を有するアルコキシ配位ルテニウム2核錯体(以下、ルテニウム2核錯体という)(A)と、活性有機ハロゲン化合物(B)とからなることを特徴とするラジカル重合開始剤を提供する。
又、本発明は、上記重合開始剤の存在下で、少なくとも1種類、好ましくは2種類以上のラジカル重合性単量体を重合させることを特徴とする重合体の製造方法を提供する。
即ち、本発明は、シクロペンタジエニル基を有するアルコキシ配位ルテニウム2核錯体(以下、ルテニウム2核錯体という)(A)と、活性有機ハロゲン化合物(B)とからなることを特徴とするラジカル重合開始剤を提供する。
又、本発明は、上記重合開始剤の存在下で、少なくとも1種類、好ましくは2種類以上のラジカル重合性単量体を重合させることを特徴とする重合体の製造方法を提供する。
本発明は、上記金属2核錯体と上記活性有機ハロゲン化合物をラジカル重合開始剤として用いることで、その金属2核錯体の優れた触媒活性により、そのラジカル重合反応が室温以下でも進行することができる。
本発明では、金属錯体として、後出の一般式(化1)で示されるように、ペンタシクロペンタジエニル基が配位されたルテニウムとルテニウム間にアルコキシ基が配位され、繋げた4員環構造を有するルテニウム2核錯体(A)を用いられる。かかるルテニウム2核錯体では、2核金属を取り囲む周辺置換基は触媒活性に寄与するが、二つの5員環のシクロペンタジエニル類残基には五つの置換基が結合してもよく、その置換基としては、水素原子、メチル基、エチル基に代表されるアルキル基、好ましくは炭素数6以下のアルキル基、フェニル基に代表されるアリール基、フッ素、臭素、塩素などを取りあげることができる。また、錯体中の二つのシクロペンタジエニル類残基がペアとして、それは共に同一の構造の残基ペアでもよく、それぞれ異なる構造の残基からのペアでもよい。即ち、両方とも無置換基の残基のペアまたは同一置換基を有する残基ペア、または、無置換の残基と置換基を有する残基からのペアであってもよい。
尚、上記ルテニウム2核錯体においては、金属としてルテニウム金属であるが、他の遷移金属類も活性があれば同様に使用することができる。
尚、上記ルテニウム2核錯体においては、金属としてルテニウム金属であるが、他の遷移金属類も活性があれば同様に使用することができる。
本発明で用いられるルテニウム2核錯体(A)の代表的なものとしては、下記一般式(化1)で示される。
式中、ルテニウムに結合した2つのシクロペンタジエニル基は、同一構造のものでもよく、それぞれ異なる構造でもよいが、その置換基であるXとYは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基に代表されるアルキル基、フェニル基に代表されるアリール基、またはフッ素、臭素、塩素のハロゲン原子である。また、式中、R1とR2は同一構造でもよく、それぞれ異なる構造でもよいが、それらの構造は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、プロピル基、イソブチル基、ブチル基、フェニル基、トリフロロメチルメチレン基であるアルキル基またはアリール基である。
本発明のラジカル重合開始剤は、ルテニウム2核錯体(A)と活性有機ハロゲン化合物(B)と組み合わせることにより、ラジカル重合性モノマーの重合開始剤として優れた活性を有し、かつその錯体を用いることで、末端に化学変換が可能なポリマーをもたらすことができる特徴を有している。
また、本発明でのルテニウム2核錯体(A)を、有機ハロゲン化合物以外の様々な添加剤と併用することで、ラジカル重合反応への適応性を広げることができる。
また、本発明でのルテニウム2核錯体(A)を、有機ハロゲン化合物以外の様々な添加剤と併用することで、ラジカル重合反応への適応性を広げることができる。
本発明でのリビング重合開始剤は、ルテニウム2核錯体(A)と活性有機ハロゲン化合物(B)からの組み合わせから構成されるが、その有機ハロゲン化合物としては、該ルテニウム2核錯体に作用することによりラジカルを発生することが可能なものであり、例えばα−ハロゲノカルボニル類化合物、α−ハロゲノカルボン酸エステル類化合物またはポリハロゲン化アルカン類、ベンジルハライド類化合物、アルカンブロマイド、アルカンヨーダイドであればよい。より詳しくは、1,1−ジクロロアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトンなどのカルボニル類化合物、または、2−ブロモ−2−メチルプロパン酸エチル、2−ブロモ−2−メチルプロパン酸アントラセニルメチル、2−クロロ−2,4,4−トリメチルグルタル酸ジメチル、1,2−ビス(α−ブロモプロピオニルオキシ)エタンなどのエステル類、エチレンブロマイド、エチレンヨーダイドなどのアルカンハライド類、ベンジルクロライド、ベンジルブロマイドなどのベンジルハライド類、または四塩化炭素、四臭化炭素などのポリハロゲン類をあげることができる。
又、本発明で使用される活性有機ハロゲン化合物(B)としては、末端にハロゲン残基を有するポリマーを用いることもできる。かかるポリマーとしては、ポリエーテル類[−(CH2)n−O]p−(式中、n及びpは整数である)、例えば、末端にハロゲン化アセチル残基を有するポリグリコール、ポリテトラメチレンエーテル、また、末端に臭素、ヨウ素残基を有するポリオキサゾリン類、例えば、ポリメチルオキサゾリン、ポリエチルオキサゾリン、ポリフェニルオキサゾリン、などの一種で、又はそれらを組み合わせて使用することができる。
上記のポリマー類を含むラジカル重合開始剤によりラジカル重合性単量体をラジカル重合すれば、ラジカル重合性単量体をラジカル重合で得られるポリマー骨格にかかる末端にハロゲン残基を有するポリマーをブロックさせることができる。このようなブロックポリマーは、通常のラジカル重合開始剤を用いては得ることができない。
本発明でのルテニウム2核錯体(A)と活性有機ハロゲン化合物(B)の組み合わせでは、該錯体対有機ハロゲン化合物のモル比が1〜0.5の範囲での割合で使用することができるが、触媒活性の高さから考えた場合、有機ハロゲン化合物がかかる錯体より過剰であることが好ましい。
本発明でのラジカル重合開始剤はラジカル重合性モノマー全般の重合に適応できる。ラジカル重合性モノマーとしては、(メタ)アクリレート類、(メタ)アクリアミド類、スチレン類、ビニルピリジン類などを取りあげることができる。より詳しくは、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、t−ブチルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ジメチルアミノエチルメタクリレートなどのメタクリレート類モノマー、または、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ベンジルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ジメチルアミノエチルアクリレートなどのアクリレート類モノマー、または、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミドなどアクリルアミド類モノマー、または、スチレン、2−クロロメチルスチレン、3−クロロメチルスチレン、4−クロロメチルスチレン、p−メトキシスチレン、p−ビニル安息香酸、p−ビニルフェニルスルホン酸などスチレン類モノマー、またはp−ビニルピリジン、o−ビニルピリジンなどのビニルピリジン類モノマーを用いることができる。
本発明でのこれらのモノマーは単独または二種類以上のモノマーを同時に反応に用いることもできる。また、二種類以上のモノマーを重合反応の一定時間毎に加えて使用することもできる。例えば、第一モノマーが消費されてから次のモノマーを加えることで、得られるポリマーがジブロック、またはトリブロックまたはそれ以上のブロック共重合体の構造を取ることができる。
ラジカル重合性モノマーと本発明のラジカル重合開始剤を混合し、重合を行う際、該モノマー対ラジカル重合開始剤中のハロゲン化合物とのモル比は10〜5000であればよく、それが50〜1000であれば更に好ましい。
本発明でのラジカル重合開始剤を用いて重合反応を行う際、反応温度を室温以下または室温以上にも設定できるが、好ましくは、20℃前後の室温状態で反応を行うことができる。
その際の反応時間は、1〜24時間範囲で十分であるが、ラジカル重合開始剤の種類、ラジカル重合性モノマーの種類及び反応温度により設定することが望ましく、特に得られる重合体又は共重合体の分子量の制御に合わせて設定することがより重要である。その際の重合体又は共重合体の分子量は、特に制限されないが、数平均分子量1000〜1000000が好ましい。
その際の反応時間は、1〜24時間範囲で十分であるが、ラジカル重合開始剤の種類、ラジカル重合性モノマーの種類及び反応温度により設定することが望ましく、特に得られる重合体又は共重合体の分子量の制御に合わせて設定することがより重要である。その際の重合体又は共重合体の分子量は、特に制限されないが、数平均分子量1000〜1000000が好ましい。
本発明の共重合反応においては、溶媒なしでのバルク重合、又は溶媒存在下での溶液重合、又はアルコール類などの溶媒の存在下でのエマルジョン重合などの異なる重合方法が適用できる。
上記の重合反応に用いることができる溶媒としては、反応系に於いてラジカルを発生しない非活性のものであり、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アニソール、シアノベンゼン、ジメチルフォルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、メチルエチルケトン、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール等が挙げられる。
上記の重合反応に用いることができる溶媒としては、反応系に於いてラジカルを発生しない非活性のものであり、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アニソール、シアノベンゼン、ジメチルフォルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、メチルエチルケトン、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール等が挙げられる。
本発明でのラジカル重合開始剤を用いる場合、その主成分であるルテニウム2核錯体(A)の活性を制御するために、活性制御剤を用いることができる。活性制御剤としては、塩基性有機化合物であればよく、具体的にはピリジン類、アミン類化合物を用いることができる。その中でも、ピリジン、ビピリジン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、ジアミノエチルアミン、トリアミノエチルアミンなどを好適に用いることができる。
かかる活性制御剤を用いる場合、ルテニウム2核錯体(A)に対し、活性制御剤を0.2〜5等量を加えればよく、高めの触媒活性を考えた場合、それが0.5〜1.5等量であればより好適である。
かかる活性制御剤を用いる場合、ルテニウム2核錯体(A)に対し、活性制御剤を0.2〜5等量を加えればよく、高めの触媒活性を考えた場合、それが0.5〜1.5等量であればより好適である。
以下に実施例および比較例を持って本発明をより詳しく説明する。尚、例中のGPC測定法及びNMR測定の測定法は下記により行った。
(GPC測定法)
高速液体クロマトグラフィー(東ソー株式会社製HLC−8020)、UV及びRI検出器、TSKgel 2000xl+3000Hxl+5000Hxl+guardcolumnHxl−H、溶媒THF、流速:1.0ml/min、温度:40℃にて測定した。
(NMR測定法)
1H−,13C−NMRの測定は、日本電子(株)製のLambda600にて行った。
(GPC測定法)
高速液体クロマトグラフィー(東ソー株式会社製HLC−8020)、UV及びRI検出器、TSKgel 2000xl+3000Hxl+5000Hxl+guardcolumnHxl−H、溶媒THF、流速:1.0ml/min、温度:40℃にて測定した。
(NMR測定法)
1H−,13C−NMRの測定は、日本電子(株)製のLambda600にて行った。
合成例1
<末端に臭素が結合したポリメチルオキサゾリン(PMOX−Br)の合成>
容積50mlの反応容器内部を窒素ガスで置換した後、カチオン開環リビング重合開始剤である臭化ベンジル0.171g(1mmol)、N,N−ジメチルアセトアミド5mlを加え、室温で攪拌した。この溶液に、2−メチル−2−オキサゾリン2.17g(0.033mol)を加えた後、100℃で14時間攪拌しながら2−メチル−2−オキサゾリンをカチオン開環リビング重合させた。重合率は98%であった。
反応混合液の温度を室温に下げ、メタノール10mlを加えた後、反応混合液を減圧濃縮した。この濃縮液をジエチルエーテル100ml中に注いで、重合体を沈殿させた。得られた重合体のメタノール溶液を、ジエチルエーテル中に注いで再沈殿させ、吸引濾過後、濾過物を真空乾燥し、末端に臭素が結合したポリメチルオキサゾリン(PMOX−Br)6.2gを得た。収率は95%であった。
GPC測定からの数平均分子量は3000、分子量分布は1.27であった。
<末端に臭素が結合したポリメチルオキサゾリン(PMOX−Br)の合成>
容積50mlの反応容器内部を窒素ガスで置換した後、カチオン開環リビング重合開始剤である臭化ベンジル0.171g(1mmol)、N,N−ジメチルアセトアミド5mlを加え、室温で攪拌した。この溶液に、2−メチル−2−オキサゾリン2.17g(0.033mol)を加えた後、100℃で14時間攪拌しながら2−メチル−2−オキサゾリンをカチオン開環リビング重合させた。重合率は98%であった。
反応混合液の温度を室温に下げ、メタノール10mlを加えた後、反応混合液を減圧濃縮した。この濃縮液をジエチルエーテル100ml中に注いで、重合体を沈殿させた。得られた重合体のメタノール溶液を、ジエチルエーテル中に注いで再沈殿させ、吸引濾過後、濾過物を真空乾燥し、末端に臭素が結合したポリメチルオキサゾリン(PMOX−Br)6.2gを得た。収率は95%であった。
GPC測定からの数平均分子量は3000、分子量分布は1.27であった。
合成例2
<メトキシ配位ルテニウム2核錯体の合成>
この合成は三つのステップを経て合成されたが、反応1として[Cp*Ru(μ−Cl)Cl]2(Aと略す)の合成、反応2として[Cp*Ru(μ3−Cl)Cl]4(Bと略す)の合成、反応3として[Cp*Ru(μ−OMe)]2(Cと略す)の合成からなる。但しCp*はシクロペンタジエニル基の置換基が全てメチル基であることを示す。
<メトキシ配位ルテニウム2核錯体の合成>
この合成は三つのステップを経て合成されたが、反応1として[Cp*Ru(μ−Cl)Cl]2(Aと略す)の合成、反応2として[Cp*Ru(μ3−Cl)Cl]4(Bと略す)の合成、反応3として[Cp*Ru(μ−OMe)]2(Cと略す)の合成からなる。但しCp*はシクロペンタジエニル基の置換基が全てメチル基であることを示す。
<Aの合成>
([Cp*Ru(μ−Cl)Cl]2の合成)
100ml二口ナスフラスコにアルゴン気流下で三塩化ルテニウム2.01g(7.7mmol)、脱水エタノール40mlを入れ、さらにペンタメチルシクロペンタジエン3.1ml(19.8mmol)をシリンジで加えて80℃に加熱して還流させながら撹拌し、反応させた。3時間後、溶液を室温まで冷却したのち、さらに氷冷し、十分に溶液を冷やして生成物を析出させたのち、メンブランフィルターで反応溶液の濾過を行い、濾紙上の残留物として目的の生成物を得た。得られた生成物をそれぞれ50ml程度のエタノール、ジエチルエーテル及びヘキサンで順に洗浄し、錯体の精製を行った。得られた固体を減圧乾燥して目的の生成物を得た。
(生成物)
暗褐色固体:収率82%
融点 265−270℃(分解)(文献値272℃)
([Cp*Ru(μ−Cl)Cl]2の合成)
100ml二口ナスフラスコにアルゴン気流下で三塩化ルテニウム2.01g(7.7mmol)、脱水エタノール40mlを入れ、さらにペンタメチルシクロペンタジエン3.1ml(19.8mmol)をシリンジで加えて80℃に加熱して還流させながら撹拌し、反応させた。3時間後、溶液を室温まで冷却したのち、さらに氷冷し、十分に溶液を冷やして生成物を析出させたのち、メンブランフィルターで反応溶液の濾過を行い、濾紙上の残留物として目的の生成物を得た。得られた生成物をそれぞれ50ml程度のエタノール、ジエチルエーテル及びヘキサンで順に洗浄し、錯体の精製を行った。得られた固体を減圧乾燥して目的の生成物を得た。
(生成物)
暗褐色固体:収率82%
融点 265−270℃(分解)(文献値272℃)
<Bの合成>
([Cp*Ru(μ3−Cl)Cl]4の合成)
50mlシュレンクチューブに[Cp*Ru(μ−Cl)Cl]20.8mg(1.3mmol)、蒸留したテトラヒドロフラン20mlを入れ、容器内をアルゴン雰囲気に置換した。ここにアルゴン気流下でリチウムトリエチルボロンハイドライド(THF溶液、0.95M)をシリンジで2.8ml(2.6mmol、1eq vs Ru)滴下し、1時間撹拌した。反応後、いったん溶媒を減圧除去したのち、残留物にTHF約3mlを加え上澄みをシリンジで抜き取り、残留物を洗浄する作業を三回ほど繰り返して生成物を精製し、残った溶媒を除去、減圧乾燥して目的の生成物を得た。
(黄橙色固体)
黄橙色固体:収率37%
1H NMR(395.75MHz,C6D6)δ1.66(s,15H)
13C NMR(99.45MHz,C6D6)δ10.4,68.9
([Cp*Ru(μ3−Cl)Cl]4の合成)
50mlシュレンクチューブに[Cp*Ru(μ−Cl)Cl]20.8mg(1.3mmol)、蒸留したテトラヒドロフラン20mlを入れ、容器内をアルゴン雰囲気に置換した。ここにアルゴン気流下でリチウムトリエチルボロンハイドライド(THF溶液、0.95M)をシリンジで2.8ml(2.6mmol、1eq vs Ru)滴下し、1時間撹拌した。反応後、いったん溶媒を減圧除去したのち、残留物にTHF約3mlを加え上澄みをシリンジで抜き取り、残留物を洗浄する作業を三回ほど繰り返して生成物を精製し、残った溶媒を除去、減圧乾燥して目的の生成物を得た。
(黄橙色固体)
黄橙色固体:収率37%
1H NMR(395.75MHz,C6D6)δ1.66(s,15H)
13C NMR(99.45MHz,C6D6)δ10.4,68.9
<Cの合成>
([Cp*Ru(μ−OMe)]2の合成)
100mlシュレンクチューブに[Cp*Ru(μ−Cl)Cl]21.0g(1.68mmol)、炭酸カリウム3.0g(21.71mmol)を入れ、容器内を完全にアルゴン置換した。ここにアルゴン気流下で脱水メタノール30mlを加え、一昼夜撹拌し、反応を行って目的の生成物を得た。このとき、反応溶液は徐々に赤紫色に変化し、目的の錯体の生成が確認される。そののち、溶媒を減圧除去、窒素雰囲気のグローブボックス中において残留物を100mlのヘキサンで抽出し、セライト濾過を行い、錯体の精製を行った。濾液の溶媒を減圧除去して目的の生成物(メトキシ配位ルテニウム2核錯体)を得た。
(生成物)
赤紫色固体:収率38%
1H NMR(395.75MHz,CD2Cl2)δ1.65(s,15H),4.67(s,3H)
13C NMR(99.45MHz,CD2Cl2)δ11.5,70.4,70.5
([Cp*Ru(μ−OMe)]2の合成)
100mlシュレンクチューブに[Cp*Ru(μ−Cl)Cl]21.0g(1.68mmol)、炭酸カリウム3.0g(21.71mmol)を入れ、容器内を完全にアルゴン置換した。ここにアルゴン気流下で脱水メタノール30mlを加え、一昼夜撹拌し、反応を行って目的の生成物を得た。このとき、反応溶液は徐々に赤紫色に変化し、目的の錯体の生成が確認される。そののち、溶媒を減圧除去、窒素雰囲気のグローブボックス中において残留物を100mlのヘキサンで抽出し、セライト濾過を行い、錯体の精製を行った。濾液の溶媒を減圧除去して目的の生成物(メトキシ配位ルテニウム2核錯体)を得た。
(生成物)
赤紫色固体:収率38%
1H NMR(395.75MHz,CD2Cl2)δ1.65(s,15H),4.67(s,3H)
13C NMR(99.45MHz,CD2Cl2)δ11.5,70.4,70.5
実施例1
<ブチルアクリレート(BA)の重合>
アルゴン雰囲気下のアンプル管に合成例2で得た(C)錯体(0.019mmol)を入れ、CaH2で脱水し、減圧蒸留したBA(1.870mmol)を加えた。ラジカル重合開始剤としてエチルブロマイド0.038mmolと、溶媒として1,2−ジクロロエタン2mlを加えた。混合物を室温で24時間撹拌した。転化率は98%であることを確認した後、混合物をエーテルにて沈殿させ、吸引濾過、減圧乾燥した。得られたポリマーは、収率95%、GPC測定による数平均分子量12,000、分子量分布1.6であった。
ルテニウム2核錯体を含むラジカル重合開始剤により、BAの室温でのラジカル重合はほぼ定量的であることが確認された。
<ブチルアクリレート(BA)の重合>
アルゴン雰囲気下のアンプル管に合成例2で得た(C)錯体(0.019mmol)を入れ、CaH2で脱水し、減圧蒸留したBA(1.870mmol)を加えた。ラジカル重合開始剤としてエチルブロマイド0.038mmolと、溶媒として1,2−ジクロロエタン2mlを加えた。混合物を室温で24時間撹拌した。転化率は98%であることを確認した後、混合物をエーテルにて沈殿させ、吸引濾過、減圧乾燥した。得られたポリマーは、収率95%、GPC測定による数平均分子量12,000、分子量分布1.6であった。
ルテニウム2核錯体を含むラジカル重合開始剤により、BAの室温でのラジカル重合はほぼ定量的であることが確認された。
実施例2
<ポリメチルオキサゾリン(PMOX−Br)とポリメチルメタクリレート(PMMA)のブロック共重合体>
アルゴン雰囲気下、アンプル管に、ラジカル重合開始剤としてPMOX−Br(114mg、0.038mmol)と溶媒として1,2−ジクロロエタン2mlを加えた。PMOX−Brを溶解させた後、合成例2で得た(C)錯体(20mg、0.019mmol)を入れ、次いでCaH2で脱水し減圧蒸留したPMMA(3.80g、38mmol)を順次加えた。この混合物を室温(25℃)で15時間撹拌した。転化率が40%に達したことを確認した後、その混合物をGPCにて測定し、数平均分子量が61,000、 分子量分布が1.53であることがわかった。図1に得られたPMOX−Br−PMMAブロック共重合体のGPCの結果を示す。尚、該ブロック共重合体のGPCでは、合成例2のメトキシ配位ルテニウム2核錯体でのGPCのピークが消失している。
混合物をエーテルにて沈殿させ、吸引濾過、減圧乾燥した。収量1.7gであった。
<ポリメチルオキサゾリン(PMOX−Br)とポリメチルメタクリレート(PMMA)のブロック共重合体>
アルゴン雰囲気下、アンプル管に、ラジカル重合開始剤としてPMOX−Br(114mg、0.038mmol)と溶媒として1,2−ジクロロエタン2mlを加えた。PMOX−Brを溶解させた後、合成例2で得た(C)錯体(20mg、0.019mmol)を入れ、次いでCaH2で脱水し減圧蒸留したPMMA(3.80g、38mmol)を順次加えた。この混合物を室温(25℃)で15時間撹拌した。転化率が40%に達したことを確認した後、その混合物をGPCにて測定し、数平均分子量が61,000、 分子量分布が1.53であることがわかった。図1に得られたPMOX−Br−PMMAブロック共重合体のGPCの結果を示す。尚、該ブロック共重合体のGPCでは、合成例2のメトキシ配位ルテニウム2核錯体でのGPCのピークが消失している。
混合物をエーテルにて沈殿させ、吸引濾過、減圧乾燥した。収量1.7gであった。
本発明のラジカル重合開始剤により得られる重合体及び共重合体は、種々の用途、例えば塗料、成形材料、分散剤、インク用ベヒクル、繊維用処理剤、接着剤などに使用することができ、特にEL素子用顔料分散剤として有用である。
Claims (11)
- シクロペンタジエニル基を有するアルコキシ配位ルテニウム2核錯体(A)と、活性有機ハロゲン化合物(B)とからなることを特徴とするラジカル重合開始剤
- 前記アルコキシ配位ルテニウム2核錯体(A)が、その分子中にシクロペンタジエニル基を2個有し、且つ該シクロペンタジエニル基が、アルキル基、アリール基、又はハロゲンの置換基を有していてもよい請求項1に記載のラジカル重合開始剤
- 前記アルコキシ配位ルテニウム2核錯体(A)のアルコキシ基の炭素鎖が、炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン置換された炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基及びアルキル基置換されたフェニル基を有してもよいアルコキシ基を分子中に2個有するものである請求項1又は2に記載のラジカル重合開始剤
- 前記活性有機ハロゲン化合物(B)が、α−ハロゲノカルボニル化合物、α−ハロゲノカルボン酸エステルまたはモノハロゲン化アルカン、ポリハロゲン化アルカンである請求項1〜3のいずれかに記載の重合開始剤
- 前記活性有機ハロゲン化合物(B)が、末端にハロゲンが結合したポリエーテル、ポリオキサゾリンである請求項1〜3のいずれかに記載の重合開始剤
- 請求項1〜5に記載された重合開始剤の存在下で、少なくとも1種類のラジカル重合性単量体を重合させることを特徴とする重合体の製造方法
- ラジカル重合性単量体が、スチレン系単量体、メタクリル酸エステル系単量体、アクリル酸エステル系、および、(メタ)アクリルアミド系単量体からなる群から選ばれる少なくとも1種類のラジカル重合性単量体である請求項6に記載の重合体の製造方法
- ラジカル重合性単量体が、スチレン系単量体、メタクリル酸エステル系単量体、および、アクリル酸エステル系、および、(メタ)アクリルアミド系単量体からなる群から選ばれる少なくとも2種類のラジカル重合性単量体を用いて重合させる請求項6に記載の重合体の製造方法
- 前記重合体が、その片末端に前記活性有機ハロゲン化合物(B)に由来するハロゲン原子を有する請求項6〜7のいずれかに記載の重合体の製造方法
- 前記重合体が、1,000から1,000,000の任意の数平均分子量を有し、且つ分子量分布が2.0以下である請求項6〜9のいずれかに記載の重合体の製造方法
- 重合温度を室温以下で行うことからなる請求項6〜9のいずれかに記載の重合体の製造方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004289583A JP2006104238A (ja) | 2004-10-01 | 2004-10-01 | ラジカル重合開始剤及びそれを用いた重合体の製造方法 |
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ID=36374348
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JP (1) | JP2006104238A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2348655C1 (ru) * | 2007-10-23 | 2009-03-10 | Научно-исследовательский институт химии ГОУ ВПО "Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского" | Способ получения полиметилметакрилата |
-
2004
- 2004-10-01 JP JP2004289583A patent/JP2006104238A/ja active Pending
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