JP2006102737A - 微粒子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】微粒子製造用材料を熱プラズマ炎24中に導入することにより気相状態の混合物にし、前記気相状態の混合物を急冷することにより、微粒子を生成することを特徴とする微粒子の製造方法であって、 前記微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入する過程が、前記微粒子製造用材料を、可燃性材料中に分散させてスラリーにし、このスラリーを液滴化させて前記熱プラズマ炎中に導入するものであることを特徴とする微粒子の製造方法。 熱プラズマ炎中に導入する材料の形態としては、粉粒体状,コロイド溶液状,溶液状等も有効である。
【選択図】図1
Description
より具体的には、本発明に係る微粒子の製造方法によれば、従来知られている半導体基板,プリント基板,各種電気絶縁部品などの電気絶縁材料等への利用に加えて、燃料電池の電極や電解質材料および各種触媒などの新規な分野への応用が可能な高い機能性を有する微粒子を製造することが可能である。
以下、本発明に係る微粒子の製造方法を実施するための第一の実施形態として、スラリーを用いて微粒子を製造する製造方法および製造装置について、添付の図面を用いて詳細に説明する。
さらに、水酸化物としてはZr(OH)4、炭酸化合物としてはCaCO3、ハロゲン化物としてはMgF2、硫化物としてはZnS、窒化物としてはTiN、炭化物としてはSiC、水素化物としてはTiH2等を挙げることができる。
なお、気相状態の混合物をチャンバ16内で効率的に急冷するために、チャンバ16内に冷却用のガスを吹き込むこと、あるいは生成された微粒子がチャンバ16内壁に付着するのを防止するためにチャンバ16の内壁に沿ってガスを吹き込むことが好ましい。
次に、本発明の第二の実施形態として、コロイド溶液を用いて微粒子を製造する製造方法について説明する。
本実施形態に係る微粒子の製造方法により製造される微粒子は、その粒度分布幅が狭い、すなわち均一な粒径を有し、粗大粒子の混入が少なく、具体的には、その平均粒径は3〜70nmである。
次に、本発明の第三の実施形態として、溶媒に原材料を溶解させた溶液を使用する微粒子の製造方法について説明する。なお、本実施形態において使用する原材料(微粒子製造用原材料)の形態は、固体,液体、その他どのようなものであっても構わない。
本実施形態に係る微粒子の製造方法に用いる微粒子製造装置も、前述した第一の実施形態で使用した微粒子製造装置(図1参照)と同様の構成をとることができる。そこで、上述した微粒子製造装置を用いる微粒子の製造方法について、以下に説明する。
ここで、金属塩としては、原子番号3〜6,11〜15,19〜34,37〜52,55〜60,62〜79および81〜83の元素よりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属元素を含むイオン性化合物から選択すればよい。具体的には、硝酸アルミニウム,硝酸亜鉛,硝酸イットリウム,硝酸ジルコニウム、酢酸ジルコニウム,塩化チタン等を挙げることができる。
本実施形態に係る微粒子の製造方法により製造される微粒子は、その粒度分布幅が狭い、すなわち均一な粒径を有し、粗大粒子の混入が少なく、具体的には、その平均粒径は3〜100nmである。
次に、本発明の第四の実施形態として、粉末原材料を(溶媒等を用いずに)分散させて熱プラズマ炎中に導入する微粒子の製造方法について説明する。
本実施形態に係る微粒子の製造方法に用いる微粒子製造装置は、前述した第一〜第三の実施形態において使用した微粒子製造装置(図1参照)の原材料供給装置14を、粉末原材料を使用するのに適した装置に変更した微粒子製造装置を使用して、微粒子を製造する。但し、ここでも、上述した第一〜第三の実施形態と同様に、粉末原材料が熱プラズマ炎中に導入される際に、分散されている必要がある。
以下、まず、本実施形態に用いる微粒子製造装置について説明する。
外管172の外挿固定された端部と反対側の端部は、その形状が円錐台形状であり、その内部にも円錐台形状の空間である分散室174を有する。また、その端部には分散部170で分散された粉末原材料を搬送する搬送管182が接続される。
微粒子製造用材料として使用する粉末原材料には、自身が燃焼することによって熱プラズマ炎を安定化させる可燃性材料を添加・混合することができる。このとき、粉末原材料と可燃性材料との質量比は適宜選択してよく、例えば、粉末原材料と可燃性材料との質量比を95:5とするとよい。また、ここで、粉末原材料は、熱プラズマ炎中で蒸発させることができるものであり、その粒径が10μm以下程度であることが好ましい。
また、可燃性材料としては、生成される微粒子中に不純物として残らない元素、例えばC,H,O,Nで構成されるものが好適に用い得る。具体的には、例えば、クエン酸,グリセリン,エチレングリコール等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
上記混合物は、プラズマトーチ12内の熱プラズマ炎24中に散布される。散布された粉末原材料が、蒸発した気相状態の混合物となり、その後、チャンバ16内で急冷されることにより、上記気相状態の混合物の微粒子が生成される。
先に説明した図1に示した微粒子製造装置を用い、原材料としてスラリーを用いる際の実施例を説明する。
先に説明した図1に示した微粒子製造装置を用い、原材料としてコロイド溶液を用いる際の実施例を説明する。
以後は、実施例1と同様の方法で微粒子を生成させた。また、プラズマトーチの駆動条件等も、実施例1と同様とした。
本実施例において製造される微粒子の平均粒径は、15nmであった。
先に説明した図1に示した微粒子製造装置を用い、原材料として溶媒に原材料を溶解させた溶液を用いる際の実施例を説明する。
また、可燃性材料としては、実施例1で用いたと同じケロシン(和光純薬工業株式会社製、ケロシン(Sp.Gr.0.78〜0.79))を用いた。ケロシンの添加量は、粉末原材料を含む水溶液の総質量に対するケロシン量[wt%]で15[wt%]とした。
以後は、実施例1と同様の方法で微粒子を生成させた。また、プラズマトーチの駆動条件等も、実施例1と同様とした。
本実施例において製造される微粒子の平均粒径は、15nmであった。
先に説明した図1に示した微粒子製造装置において、材料供給装置を図3に示したものに置き換えた装置を用い、原材料として可燃性材料を含む粉末原材料を用いる際の実施例を説明する。
また、プラズマトーチの駆動条件等も、実施例1と同様とした。
本実施例において製造される微粒子の平均粒径は、15nmであった。
12 プラズマトーチ
12a 石英管
12b 高周波発振用コイル
12c プラズマガス導入口
12d 導入管
14 原材料供給装置
14a スラリー
14b 容器
14c 攪拌機
14d ポンプ
14e 噴霧ガス供給源
16 チャンバ
18 微粒子
20 回収部
20a 回収室
20b フィルター
20c 回収室上部に設けられた管
22 プラズマガス供給源
24 熱プラズマ炎
26 管
140 原材料供給装置
142 貯蔵槽
144 粉末原材料
146 攪拌軸
148 攪拌羽根
150a,150b オイルシール
152a,152b 軸受
154a,154b モータ
160 スクリューフィーダ
162 スクリュー
164 (スクリューの)軸
166 ケーシング
170 分散部
172 外管
174 分散室
176 回転ブラシ
178 気体供給口
180 気体通路
182 搬送管
Claims (18)
- 微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入することにより気相状態の混合物にし、
前記気相状態の混合物を急冷することにより、微粒子を生成することを特徴とする微粒子の製造方法であって、
前記微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入する過程が、
前記微粒子製造用材料を、可燃性材料中に分散させてスラリーにし、
このスラリーを液滴化させて前記熱プラズマ炎中に導入するものであることを特徴とする微粒子の製造方法。 - 微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入することにより気相状態の混合物にし、
前記気相状態の混合物を急冷することにより、微粒子を生成することを特徴とする微粒子の製造方法であって、
前記微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入する過程が、
前記微粒子製造用材料を分散媒と可燃性材料とを用いてスラリーにし、
このスラリーを液滴化させて前記熱プラズマ炎中に導入するものであることを特徴とする微粒子の製造方法。 - 微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入することにより気相状態の混合物にし、
前記気相状態の混合物を急冷することにより、微粒子を生成することを特徴とする微粒子の製造方法であって、
前記微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入する過程が、
前記微粒子製造用材料を分散媒中に分散させた後、さらに可燃性材料を加えてスラリーにし、
このスラリーを液滴化させて前記熱プラズマ炎中に導入するものであることを特徴とする微粒子の製造方法。 - 微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入することにより気相状態の混合物にし、
前記気相状態の混合物を急冷することにより、微粒子を生成することを特徴とする微粒子の製造方法であって、
前記微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入する過程が、
前記微粒子製造用材料を分散媒中に懸濁させてコロイド溶液とし、
このコロイド溶液を液滴化させて前記熱プラズマ炎中に導入するものであることを特徴とする微粒子の製造方法。 - 微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入することにより気相状態の混合物にし、
前記気相状態の混合物を急冷することにより、微粒子を生成することを特徴とする微粒子の製造方法であって、
前記微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入する過程が、
前記微粒子製造用材料を可燃性材料中に懸濁させてコロイド溶液とし、
このコロイド溶液を液滴化させて前記熱プラズマ炎中に導入するものであることを特徴とする微粒子の製造方法。 - 微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入することにより気相状態の混合物にし、
前記気相状態の混合物を急冷することにより、微粒子を生成することを特徴とする微粒子の製造方法であって、
前記微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入する過程が、
前記微粒子製造用材料を分散媒と可燃性材料中に懸濁させてコロイド溶液とし、
このコロイド溶液を液滴化させて前記熱プラズマ炎中に導入するものであることを特徴とする微粒子の製造方法。 - 微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入することにより気相状態の混合物にし、
前記気相状態の混合物を急冷することにより、微粒子を生成することを特徴とする微粒子の製造方法であって、
前記微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入する過程が、
前記微粒子製造用材料を分散媒中に懸濁させた後、さらに可燃性材料を加えてコロイド溶液とし、
このコロイド溶液を液滴化させて前記熱プラズマ炎中に導入するものであることを特徴とする微粒子の製造方法。 - 微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入することにより気相状態の混合物にし、
前記気相状態の混合物を急冷することにより、微粒子を生成することを特徴とする微粒子の製造方法であって、
前記微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入する過程が、
前記微粒子製造用材料を溶媒中に溶解させて溶液にし、
この溶液を液滴化させて前記熱プラズマ炎中に導入するものであることを特徴とする微粒子の製造方法。 - 微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入することにより気相状態の混合物にし、
前記気相状態の混合物を急冷することにより、微粒子を生成することを特徴とする微粒子の製造方法であって、
前記微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入する過程が、
前記微粒子製造用材料を可燃性材料を用いて溶解させて溶液とし、
この溶液を液滴化させて前記熱プラズマ炎中に導入するものであることを特徴とする微粒子の製造方法。 - 微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入することにより気相状態の混合物にし、
前記気相状態の混合物を急冷することにより、微粒子を生成することを特徴とする微粒子の製造方法であって、
前記微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入する過程が、
前記微粒子製造用材料を溶媒と可燃性材料とを用いて溶解させて溶液とし、
この溶液を液滴化させて前記熱プラズマ炎中に導入するものであることを特徴とする微粒子の製造方法。 - 微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入することにより気相状態の混合物にし、
前記気相状態の混合物を急冷することにより、微粒子を生成することを特徴とする微粒子の製造方法であって、
前記微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入する過程が、
前記微粒子製造用材料を溶媒中に溶解させた後、さらに可燃性材料を加えて溶液とし、
この溶液を液滴化させて前記熱プラズマ炎中に導入するものであることを特徴とする微粒子の製造方法。 - 微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入することにより気相状態の混合物にし、
前記気相状態の混合物を急冷することにより、微粒子を生成することを特徴とする微粒子の製造方法であって、
前記微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入する過程が、
前記微粒子製造用材料をキャリアガスと可燃性材料とを用いて分散させ、
この分散させた微粒子製造用材料を前記熱プラズマ炎中に導入するものであることを特徴とする微粒子の製造方法。 - 前記可燃性材料は、熱プラズマを安定させるような作用を有するものである請求項1〜3,5〜7,9〜12のいずれかに記載の微粒子の製造方法。
- 前記スラリーに、界面活性剤,高分子,カップリング剤よりなる群より選ばれる1種または2種以上の混合物を添加することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の微粒子の製造方法。
- 前記コロイド溶液に、界面活性剤,高分子,カップリング剤よりなる群より選ばれる1種または2種以上の混合物を添加することを特徴とする請求項4〜7のいずれかに記載の微粒子の製造方法。
- 前記溶液に、界面活性剤,高分子,カップリング剤よりなる群より選ばれる1種または2種以上の混合物を添加することを特徴とする請求項8〜11のいずれかに記載の微粒子の製造方法。
- 前記分散させた微粒子製造用材料に、界面活性剤,高分子,カップリング剤よりなる群より選ばれる1種または2種以上の混合物を添加することを特徴とする請求項12に記載の微粒子の製造方法。
- 前記微粒子を構成する成分は、原子番号3〜6,11〜15,19〜34,37〜52,55〜60,62〜79および81〜83の元素よりなる群から選ばれる少なくとも1種を含む、単体酸化物,複合酸化物,複酸化物,酸化物固溶体,金属,合金,水酸化物,炭酸化合物,ハロゲン化物,硫化物,窒化物,炭化物,水素化物,金属塩または金属有機化合物である請求項1〜17のいずれかに記載の微粒子の製造方法。
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Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008117655A1 (ja) * | 2007-03-23 | 2008-10-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | 光触媒用三酸化タングステン粉末の製造方法、光触媒用三酸化タングステン粉末および光触媒製品 |
WO2009013997A1 (ja) * | 2007-07-23 | 2009-01-29 | Taiyo Nippon Sanso Corporation | 金属超微粉の製造方法 |
WO2009031316A1 (ja) | 2007-09-05 | 2009-03-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | 可視光応答型光触媒粉末とそれを用いた可視光応答型の光触媒材料、光触媒塗料および光触媒製品 |
WO2009031317A1 (ja) | 2007-09-05 | 2009-03-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | 可視光応答型光触媒粉末とその製造方法、およびそれを用いた可視光応答型の光触媒材料、光触媒塗料、光触媒製品 |
WO2009096177A1 (ja) | 2008-01-28 | 2009-08-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | 可視光応答型光触媒粉末とそれを用いた可視光応答型の光触媒材料、光触媒塗料、光触媒製品 |
JP2010047839A (ja) * | 2009-09-01 | 2010-03-04 | Napura:Kk | コンポジット構造を有するナノ球状粒子、粉末、及び、その製造方法 |
WO2010032445A1 (ja) | 2008-09-16 | 2010-03-25 | 株式会社 東芝 | 親水性フィルムとそれを用いた部材および構造物 |
JP2011168412A (ja) * | 2010-02-16 | 2011-09-01 | Nisshin Engineering Co Ltd | 一酸化珪素微粒子の製造方法および一酸化珪素微粒子 |
JP2011213524A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Nisshin Engineering Co Ltd | 珪素/炭化珪素複合微粒子の製造方法 |
US8273169B2 (en) | 2008-03-04 | 2012-09-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Aqueous dispersion liquid and coating material, film, and product using the same |
JP2016034639A (ja) * | 2011-08-23 | 2016-03-17 | 株式会社東芝 | 陽イオン吸着剤の製造方法 |
JPWO2014002695A1 (ja) * | 2012-06-28 | 2016-05-30 | 日清エンジニアリング株式会社 | 炭化チタン微粒子の製造方法 |
US9457377B2 (en) | 2008-03-04 | 2016-10-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Hydrophilic member and hydrophilic product using the same |
KR20180009052A (ko) * | 2016-04-14 | 2018-01-25 | 주식회사 풍산홀딩스 | 열플라즈마를 이용한 균일한 산소 패시베이션 층을 갖는 은나노 금속분말의 제조방법 및 이를 제조하기 위한 장치 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04282872A (ja) * | 1991-03-11 | 1992-10-07 | Mitsubishi Electric Corp | 光電変換回路 |
JPH05186864A (ja) * | 1991-08-30 | 1993-07-27 | Toyonobu Yoshida | 粉末供給装置 |
JPH0629099A (ja) * | 1992-01-30 | 1994-02-04 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 誘導プラズマ装置 |
JPH07124503A (ja) * | 1993-11-01 | 1995-05-16 | Mitsubishi Chem Corp | 二流体ノズル及びこれを用いる噴霧乾燥方法 |
JP2002052350A (ja) * | 2000-08-10 | 2002-02-19 | Nippon Steel Corp | 二流体ノズル |
JP2005170760A (ja) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Nisshin Seifun Group Inc | 微粒子及びその製造方法 |
-
2005
- 2005-02-22 JP JP2005046086A patent/JP4794869B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04282872A (ja) * | 1991-03-11 | 1992-10-07 | Mitsubishi Electric Corp | 光電変換回路 |
JPH05186864A (ja) * | 1991-08-30 | 1993-07-27 | Toyonobu Yoshida | 粉末供給装置 |
JPH0629099A (ja) * | 1992-01-30 | 1994-02-04 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 誘導プラズマ装置 |
JPH07124503A (ja) * | 1993-11-01 | 1995-05-16 | Mitsubishi Chem Corp | 二流体ノズル及びこれを用いる噴霧乾燥方法 |
JP2002052350A (ja) * | 2000-08-10 | 2002-02-19 | Nippon Steel Corp | 二流体ノズル |
JP2005170760A (ja) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Nisshin Seifun Group Inc | 微粒子及びその製造方法 |
Cited By (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008117655A1 (ja) * | 2007-03-23 | 2008-10-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | 光触媒用三酸化タングステン粉末の製造方法、光触媒用三酸化タングステン粉末および光触媒製品 |
JP5306181B2 (ja) * | 2007-03-23 | 2013-10-02 | 株式会社東芝 | 光触媒用三酸化タングステン粉末の製造方法、光触媒用三酸化タングステン粉末および光触媒製品 |
US8003563B2 (en) | 2007-03-23 | 2011-08-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for producing tungsten trioxide powder for photocatalyst, tungsten trioxide powder for photocatalyst, and photocatalyst product |
WO2009013997A1 (ja) * | 2007-07-23 | 2009-01-29 | Taiyo Nippon Sanso Corporation | 金属超微粉の製造方法 |
US8882878B2 (en) | 2007-07-23 | 2014-11-11 | Taiyo Nippon Sanso Corporation | Method of producing ultra-fine metal particles |
WO2009031317A1 (ja) | 2007-09-05 | 2009-03-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | 可視光応答型光触媒粉末とその製造方法、およびそれを用いた可視光応答型の光触媒材料、光触媒塗料、光触媒製品 |
US9670369B2 (en) | 2007-09-05 | 2017-06-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Visible-light-responsive photocatalyst powder, and visible-light-responsive photocatalytic material, photocatalytic coating material and photocatalytic product each using the same |
US9598584B2 (en) | 2007-09-05 | 2017-03-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Visible-light-responsive photocatalyst powder, method of manufacturing the same, and visible-light-responsive photocatalytic material, photocatalytic coating material and photocatalytic product each using the same |
WO2009031316A1 (ja) | 2007-09-05 | 2009-03-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | 可視光応答型光触媒粉末とそれを用いた可視光応答型の光触媒材料、光触媒塗料および光触媒製品 |
WO2009096177A1 (ja) | 2008-01-28 | 2009-08-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | 可視光応答型光触媒粉末とそれを用いた可視光応答型の光触媒材料、光触媒塗料、光触媒製品 |
US8173573B2 (en) | 2008-01-28 | 2012-05-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Visible light response-type photocatalyst powder, visible light response-type photocatalyst material using the visible light response-type photocatalyst powder, photocatalyst coating material, and photocatalyst product |
US9457377B2 (en) | 2008-03-04 | 2016-10-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Hydrophilic member and hydrophilic product using the same |
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JP2010047839A (ja) * | 2009-09-01 | 2010-03-04 | Napura:Kk | コンポジット構造を有するナノ球状粒子、粉末、及び、その製造方法 |
JP2011168412A (ja) * | 2010-02-16 | 2011-09-01 | Nisshin Engineering Co Ltd | 一酸化珪素微粒子の製造方法および一酸化珪素微粒子 |
JP2011213524A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Nisshin Engineering Co Ltd | 珪素/炭化珪素複合微粒子の製造方法 |
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