JP2006021104A - Droplet discharge device - Google Patents
Droplet discharge device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006021104A JP2006021104A JP2004200550A JP2004200550A JP2006021104A JP 2006021104 A JP2006021104 A JP 2006021104A JP 2004200550 A JP2004200550 A JP 2004200550A JP 2004200550 A JP2004200550 A JP 2004200550A JP 2006021104 A JP2006021104 A JP 2006021104A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- feature point
- area
- droplet discharge
- substrate
- functional liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 94
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 74
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 38
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 11
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 9
- 238000013461 design Methods 0.000 claims description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 12
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 27
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 25
- 230000006870 function Effects 0.000 description 21
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 19
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 13
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 7
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008676 import Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
【課題】 基板のサイズの変化、リニアスケールなどの精度変化、装置自体の精度変化が発生しても、機能液の吐出位置精度を保持できる液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器を提供する。
【解決手段】 ワークWをエリア毎に区画して、このエリア毎に検出開始位置を示す特徴点54を配置しておき、この特徴点54を検出する特徴点検出部70と、特徴点検出部70の位置検出結果に基づいて機能液の吐出を駆動制御する。この特徴点54の検出に基づいて、特徴点検出部70による検出内容をエリア毎に配置された特徴点54をリセットしてから、印字開始位置を決める。
【選択図】 図4
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a droplet discharge apparatus capable of maintaining the discharge position accuracy of a functional liquid even when a change in the size of a substrate, a change in accuracy of a linear scale, etc., or a change in the accuracy of the apparatus itself occurs, Provide devices and electronic equipment.
A workpiece W is divided into areas, feature points 54 indicating detection start positions are arranged for the respective areas, a feature point detecting unit 70 for detecting the feature points 54, and a feature point detecting unit. Based on the position detection result of 70, the ejection of the functional liquid is driven and controlled. Based on the detection of the feature point 54, the detection point by the feature point detection unit 70 is reset for the feature point 54 arranged for each area, and then the print start position is determined.
[Selection] Figure 4
Description
本発明は、液滴吐出ヘッドに配列されたノズルから機能液を選択的に吐出することにより、基板上に描画を行なう液滴吐出方法、液滴吐出装置、及び電気光学装置、並びに電子機器に関するものである。 The present invention relates to a droplet discharge method, a droplet discharge device, an electro-optical device, and an electronic apparatus that perform drawing on a substrate by selectively discharging a functional liquid from nozzles arranged in a droplet discharge head. Is.
従来、インクジェット方式の印刷ヘッドを用いた液滴吐出装置は、微小な液滴をドット状に精度良く吐出することができるので、各種部品の製造分野で応用が期待されている。ここで、例えば有機EL表示装置や液晶表示装置などの製造方法にも用いられ、ガラス基板上に、発光材料や、フィルタ材料などの機能液を吐出して、有機EL表示装置における画素の形成や、液晶表示装置におけるフィルタエレメントの形成が行なわれている。この場合、バンクで区切られた微小な部分に機能液を吐出するために、高精度な液滴吐出方法と、液滴吐出装置とが必要であった。 2. Description of the Related Art Conventionally, a droplet discharge device using an ink jet print head is expected to be applied in the field of manufacturing various parts because it can accurately discharge minute droplets in a dot shape. Here, for example, it is also used in a manufacturing method of an organic EL display device or a liquid crystal display device, and a functional liquid such as a light emitting material or a filter material is discharged onto a glass substrate to form pixels in the organic EL display device. A filter element is formed in a liquid crystal display device. In this case, in order to discharge the functional liquid to the minute portions separated by the banks, a highly accurate droplet discharge method and a droplet discharge device are required.
例えば、特許文献1に開示されているように、これら有機EL装置や、液晶表示装置の製造方法には、エンコーダ(リニアエンコーダ又はロータリーエンコーダ)を使用して、ガラス基板の位置検出を行い、この位置検出結果(エンコーダ信号の出力)に基づいて、吐出位置制御を行なっていた(例えば、特許文献1参照)。 For example, as disclosed in Patent Document 1, in the manufacturing method of these organic EL devices and liquid crystal display devices, an encoder (linear encoder or rotary encoder) is used to detect the position of the glass substrate. Based on the position detection result (output of the encoder signal), the discharge position control is performed (for example, refer to Patent Document 1).
ところが、このような有機EL表示装置や、液晶表示装置などを製造する場合、上記のように、エンコーダがガラス基板の領域にわたって移動走査して、この移動走査によって得られるリニアスケールからのフィードバックパルスの分周クロックの情報を検出していた。さらに、この検出結果から液滴吐出ヘッドの位置を制御して機能液を吐出する方法であって、このように、あらかじめガラス基板の所定方向の全領域を検出してから機能液の着弾位置を決める方法であった。 However, when manufacturing such an organic EL display device, a liquid crystal display device, etc., as described above, the encoder moves and scans over the region of the glass substrate, and feedback pulses from the linear scale obtained by the moving scan are obtained. Information on the divided clock was detected. Further, according to this detection result, the position of the droplet discharge head is controlled to discharge the functional liquid, and thus the landing position of the functional liquid is determined after detecting the entire area of the glass substrate in a predetermined direction in advance. It was a way to decide.
ここで、有機EL表示装置や、液晶表示装置などで用いられるようなガラス基板は、サイズが大きいために、温度変化による熱膨張でガラス基板にサイズ変化を生じたり、リニアスケールの伸び・縮みの変化を生じたり、装置自体の機械精度の変化などが生じて、結果的に誤差が発生してしまう恐れがあった。このような誤差があった場合に、ガラス基板の所定方向の全領域を検出してから機能液の着弾位置を決める方法だと、個々の描画領域の狙った位置に対して、ずれた位置に機能液が着弾してしまう恐れがあった。従って、このような機能液の着弾位置をより精度よく加工できる液滴吐出方法と、液滴吐出装置とが必要であった。 Here, glass substrates used in organic EL display devices, liquid crystal display devices, and the like are large in size, so that the glass substrate undergoes a size change due to thermal expansion due to a temperature change, or the linear scale expands or contracts. There is a risk that an error may occur as a result of a change or a change in the machine accuracy of the apparatus itself. If there is such an error, the method of deciding the landing position of the functional liquid after detecting the entire area of the glass substrate in the predetermined direction will be shifted from the target position of each drawing area. There was a risk of the functional fluid landing. Therefore, a droplet discharge method and a droplet discharge device that can process the landing position of such a functional liquid with higher accuracy are required.
本発明の目的は、基板のサイズの変化、リニアスケール等の精度変化、装置自体の精度変化が発生しても、機能液の吐出位置精度を保持できる液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器を提供することである。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a droplet discharge device capable of maintaining the discharge position accuracy of a functional liquid even when a change in the size of a substrate, a change in accuracy of a linear scale, or a change in the accuracy of the device itself occurs, and a method for manufacturing an electro-optical device It is to provide an electro-optical device and an electronic apparatus.
本発明の描画位置補正方法は、液滴吐出ヘッドに配列されたノズルから機能液を選択的に吐出することにより、基板上に描画を行う描画位置補正方法であって、前記液滴吐出ヘッドをキャリッジに搭載したヘッドユニットと、複数の描画領域と、これを区画する非描画領域とが配置された前記基板と、前記基板をエリア毎に区画し、前記エリアに検出開始位置を示す特徴点を備え、前記ヘッドユニットと、前記基板とを相対的に移動させる移動工程と、前記エリア毎に配置された特徴点を検出する検出工程と、前記検出工程で検出された特徴点の位置と、基板設計値情報とに基づいて補正位置を按分補正する工程と、描画する工程と、を備えたことを特徴とする。 The drawing position correction method of the present invention is a drawing position correction method for drawing on a substrate by selectively discharging a functional liquid from nozzles arranged in a droplet discharge head. A head unit mounted on a carriage, a plurality of drawing regions, and a substrate on which a non-drawing region that divides the head is arranged, and a feature point that divides the substrate for each area and indicates a detection start position in the area. A moving step of relatively moving the head unit and the substrate, a detecting step of detecting a feature point arranged for each area, a position of the feature point detected in the detecting step, and a substrate It is characterized by comprising a step of correcting the correction position on the basis of the design value information and a step of drawing.
この発明によれば、エリア毎に特徴点を配置しておいて、配置された特徴点の設計値情報と、検出された特徴点の位置とを比較して補正値をエリア毎に取得してから、液滴吐出装置を制御してエリア毎に吐出位置補正をしてから機能液滴を吐出する。このことによって、基板のサイズが変化しても、また、基板が熱膨張して変形しても、エリア毎に吐出位置制御を行なう方法なので、機能液を狙った位置に着弾できる。 According to the present invention, feature points are arranged for each area, and the correction value is obtained for each area by comparing the design value information of the arranged feature points with the position of the detected feature point. Then, the droplet discharge device is controlled to correct the discharge position for each area, and then the functional droplet is discharged. As a result, even if the size of the substrate is changed or the substrate is thermally expanded and deformed, the ejection position is controlled for each area, so that the functional liquid can be landed on the target position.
本発明の描画位置補正方法は、特徴点の位置を検出し、按分して、吐出する工程と、を備え、吐出しながら特徴点を検出することが望ましい。 The drawing position correction method of the present invention preferably includes a step of detecting, distributing, and discharging the positions of feature points, and detecting the feature points while discharging.
この発明によれば、より微細な吐出位置制御を行なう方法なので、機能液を狙った位置に着弾できる。 According to the present invention, since the finer discharge position control is performed, the functional liquid can be landed on the target position.
本発明の電気光学装置の製造方法は上記の描画位置補正方法によって製造されたことを特徴とする。 The method of manufacturing an electro-optical device according to the present invention is manufactured by the above drawing position correction method.
この発明によれば、基板が大きくなっても機能液の吐出精度を維持できる液滴吐出方法なので、電気光学装置を精度よく製造することが可能となる。 According to the present invention, since the droplet discharge method can maintain the discharge accuracy of the functional liquid even when the substrate becomes large, the electro-optical device can be manufactured with high accuracy.
本発明の液滴吐出装置は、液滴吐出ヘッドに配列されたノズルから機能液を選択的に吐出することにより、基板上に描画を行う液滴吐出装置であって、前記液滴吐出ヘッドをキャリッジに搭載したヘッドユニットと、複数の描画領域と、これを区画する非描画領域とが配置された前記基板と、前記ヘッドユニットと、前記基板とを、相対的に移動させる移動機構と、前記基板をエリア毎に区画し、前記エリアに検出開始位置を示す特徴点を有し、当該特徴点は、前記エリア毎に配置されており、前記特徴点の位置を検出する特徴点検出部と、前記特徴点検出部の位置検出結果に基づき、描画位置を按分しながらエリア毎に補正し、描画することを特徴とする。 The droplet discharge device of the present invention is a droplet discharge device that performs drawing on a substrate by selectively discharging a functional liquid from nozzles arranged in the droplet discharge head. A head unit mounted on a carriage; a plurality of drawing regions; and a non-drawing region partitioning the substrate, the substrate, the head unit, and a moving mechanism for relatively moving the substrate; A feature point detector that divides the substrate into areas, has feature points indicating detection start positions in the areas, the feature points are arranged for the areas, and detects the positions of the feature points; Based on the position detection result of the feature point detection unit, the drawing position is divided and corrected for each area, and the drawing is performed.
この発明によれば、機械精度の変化があっても特徴点の位置を検出しながら按分して補正する吐出制御装置なので、精度良く描画ができる。 According to the present invention, even if there is a change in machine accuracy, the discharge control device corrects the feature points while detecting the positions of the feature points, so that drawing can be performed with high accuracy.
本発明の液滴吐出装置は、前記特徴点は、前記描画領域にスルーホールが形成されていることが望ましい。 In the droplet discharge device of the present invention, it is preferable that the feature point is that a through hole is formed in the drawing region.
この発明によれば、穴を特徴点にして特徴点位置検出ができるので、薄い基板または自由に曲がる基板および透明な基板などにもこの装置が使用できる。 According to the present invention, since the position of the feature point can be detected using the hole as a feature point, this apparatus can be used for a thin substrate, a freely bent substrate, a transparent substrate, and the like.
本発明の液滴吐出装置は、前記特徴点は、前記非描画領域にマークが形成されていることをが望ましい。 In the droplet discharge device according to the aspect of the invention, it is preferable that the feature point is a mark formed in the non-drawing region.
この発明によれば、マークを特徴点にして特徴点位置検出ができるから、ワーク(ガラス基板等の基板)が大きくなってもマークの位置検出をすればよいので、この装置が使用できる。 According to the present invention, since the position of the feature point can be detected using the mark as the feature point, the position of the mark can be detected even if the workpiece (substrate such as a glass substrate) becomes large, so this apparatus can be used.
本発明の液滴吐出装置は、前記特徴点は、前記非描画領域にコーナが形成されていることが望ましい。 In the droplet discharge device according to the aspect of the invention, it is preferable that the feature point has a corner formed in the non-drawing region.
この発明によれば、コーナを特徴点にして特徴点位置検出ができるから、ワークが貼り合わせた状態であってもこのコーナの段差部を位置検出できるので、この装置が使用できる。 According to the present invention, the feature point position can be detected by using the corner as a feature point. Therefore, the position of the step portion of the corner can be detected even when the workpiece is bonded, so that the apparatus can be used.
本発明の電気光学装置は液滴吐出装置で製造されたことを特徴とする電気光学装置。 The electro-optical device of the present invention is manufactured using a droplet discharge device.
この発明によれば、基板が大きくなっても機能液の吐出精度を維持できる液滴吐出方法で製造することができるので、電気光学装置を精度よく製造することが可能となる。なお、電気光学装置としては、液晶表示装置、有機EL(Electro−Luminescence)表示装置、電子放出装置、PDP(Plasma・Display・Panel)装置、および電気泳動表示装置等が考えられる。また、電子放出装置はいわゆるFED(Field・Emission・Display)装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成、および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。 According to the present invention, the electro-optical device can be manufactured with high accuracy because the droplet can be manufactured by the droplet discharge method that can maintain the discharge accuracy of the functional liquid even when the substrate becomes large. Examples of the electro-optical device include a liquid crystal display device, an organic EL (Electro-Luminescence) display device, an electron emission device, a PDP (Plasma / Display / Panel) device, and an electrophoretic display device. The electron emission device is a concept including a so-called FED (Field, Emission, Display) device. Further, as the electro-optical device, a device including metal wiring formation, lens formation, resist formation, light diffuser formation, and the like can be considered.
本発明の電子機器は、上記の電気光学装置を搭載したことを特徴とする。 An electronic apparatus according to the present invention includes the electro-optical device described above.
この発明によれば、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他に、各種の電気製品がこれに該当する。 According to the present invention, the electronic apparatus corresponds to various electric products in addition to a mobile phone and a personal computer equipped with a so-called flat panel display.
以下、本発明を具体化した液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器について、添付図面に沿って詳細に説明する。本実施形態の液滴吐出装置は、いわゆるフラットパネルディスプレイの一種である有機EL装置の製造ラインに組み込まれるものであり、有機EL装置の各画素となる発光素子(成膜部)を形成するものである。
(第1実施形態)
Hereinafter, a droplet discharge device, an electro-optical device manufacturing method, an electro-optical device, and an electronic apparatus that embody the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The droplet discharge device according to the present embodiment is incorporated in a production line of an organic EL device which is a kind of so-called flat panel display, and forms a light emitting element (film forming portion) that becomes each pixel of the organic EL device. It is.
(First embodiment)
ここでは先ず、液滴吐出装置の説明に先立ち、有機EL装置の構造および製造工程について簡単に説明する。 Here, prior to the description of the droplet discharge device, the structure and manufacturing process of the organic EL device will be briefly described.
図1は、有機EL装置の断面図を示した図である。また、図2はR、G、B画素の配列を示す説明図である。 FIG. 1 is a cross-sectional view of an organic EL device. FIG. 2 is an explanatory diagram showing the arrangement of R, G, and B pixels.
図1に示すように、有機EL装置701は、基板711、回路素子部721、画素電極731、バンク部741、発光素子751、陰極761(対向電極)、および封止用基板771から構成された有機EL素子702に、フレキシブル基板(図示省略)の配線および駆動IC(図示省略)を接続したものである。
As shown in FIG. 1, the
図1に示すように、有機EL素子702の基板711上には、回路素子部721が形成され、回路素子部721上には、複数の画素電極731が整列している。そして、各画素電極731間には、バンク部741が格子状に形成されており、バンク部741により生じた凹部開口744に、発光素子751が形成されている。バンク部741および発光素子751の上部全面には、陰極761が形成され、陰極761の上には、封止用基板771が積層されている。
As shown in FIG. 1, a
有機EL素子702の製造プロセスは、バンク部741を形成するバンク部形成工程と、発光素子751を適切に形成するためのプラズマ処理工程と、発光素子751を形成する発光素子形成工程と、陰極761を形成する対向電極形成工程と、封止用基板771を陰極761上に積層して封止する封止工程とを備えている。すなわち、有機EL素子702は、予め回路素子部721および画素電極731が形成された基板711(ワークW)の所定位置にバンク部741を形成した後、プラズマ処理、発光素子751および陰極761(対向電極)の形成を順に行い、さらに、封止用基板771を陰極761上に積層して封止することにより製造される。なお、有機EL素子702は、大気中の水分等の影響を受けて劣化しやすいため、有機EL素子702の製造は、ドライエアーまたは不活性ガス(窒素、アルゴン、ヘリウム等)雰囲気で行うことが好ましい。
A manufacturing process of the
また、各発光素子751は、正孔注入/輸送層752およびR(赤)・G(緑)・B(青)のいずれかの色に着色された発光層753から成る成膜部で構成されており、発光素子形成工程には、正孔注入/輸送層752を形成する正孔注入/輸送層形成工程と、3色の発光層753を形成する発光層形成工程と、が含まれている。この場合、上記バンク部741により形成した多数の凹部開口744に対し、3色の発光層753の配列は、例えば図2に示すように、ストライプ配列(図2(a))、モザイク配列(図2(b))およびデルタ配列(図2(c))が知られている。
Each
そして、有機EL装置701は、有機EL素子702を製造した後、有機EL素子702の陰極761にフレキシブル基板の配線を接続すると共に、駆動ICに回路素子部721の配線を接続することにより製造される。
The
液滴吐出装置1は、注入/輸送層形成工程に用いるものと、発光層形成工程に用いるものとがあるが、装置自体は同一構造のものが用いられるため、ここでは、R・G・B3色の発光層753を形成するための液滴吐出装置1を例に挙げて、詳細に説明する。
The droplet discharge device 1 includes a device used in the injection / transport layer forming step and a device used in the light emitting layer forming step. However, since the device itself has the same structure, R, G, and B3 are used here. The droplet discharge device 1 for forming the color
図3は液滴吐出装置1の平面模式図である。 FIG. 3 is a schematic plan view of the droplet discharge device 1.
図3に示すように、液滴吐出装置1は、機台2と、機台2上の全域に広く載置された描画装置3と、描画装置3に添設するように機台2上に載置したヘッド機能回復装置4とを有している。描画装置3によりワークW上の描画領域W1に対して機能液による描画を行うと共に、ヘッド機能回復装置4により適宜、描画装置3に備える機能液滴吐出ヘッド5の機能回復処理(メンテナンス)を行うようにしている。
As shown in FIG. 3, the droplet discharge device 1 is mounted on the
描画装置3は、X軸テーブル(主走査手段)12およびX軸テーブル12に直交するY軸テーブル13からなるX・Y移動機構11と、Y軸テーブル13に移動自在に取り付けたメインキャリッジ14と、メインキャリッジ14に垂設したヘッドユニット15とを備えている。ヘッドユニット15には、サブキャリッジ16を介して、R色、G色およびB色の3つのノズル列6が配列された機能液滴吐出ヘッド5が搭載されている。
The
X軸テーブル12には、ワークテーブル10に設置されたワークWの位置を読み取るためのリニアスケール52aが搭載されており、リニアセンサ51a(SCAN用)がワークテーブル10に搭載されている。また、Y軸テーブル13には、ヘッドユニット15に設置されたヘッド5の現在位置を読み取るためのリニアスケール52bが搭載されており、リニアセンサ51b(FEED用)がメインキャリッジ14に搭載されている。
The X-axis table 12 is mounted with a
この場合、基板であるワークWは、透光性(透明)のガラス基板で構成されており、X軸テーブル12に搬入した段階で、これに臨む一対のワーク認識カメラ18,18で一対の特徴点54,54を認識することにより、X軸テーブル12に位置決めされた状態でセットされる。また、ワークWには、マトリクス状に配置されると共に機能液が吐出される(描画が行われる)描画領域W1と、当該描画領域W1を区画すると共に非描画領域W2とが配置されている。なお、サブキャリッジ16には、3つのノズル列6が配列された機能液滴吐出ヘッド5が1つ搭載されているが、これら3つのノズル列6を異なる機能液滴吐出ヘッド5に配列したものを搭載しても良い。また、各色に対応するノズル列6が複数列で構成されていても良い。
In this case, the workpiece W, which is a substrate, is composed of a light-transmitting (transparent) glass substrate, and when it is loaded into the X-axis table 12, a pair of features are detected by a pair of
Y軸テーブル13上に特徴点検出部70が配置されていて、ワークWがX軸方向に移動すると、特徴点検出部70が、ワークWに設けられた特徴点54の位置を検出するように構成されている。ここで使用した特徴点検出部70はCCDカメラ71である。
When the
ヘッド機能回復装置4は、機台2上に載置した移動テーブル21と、移動テーブル21上に載置した保管ユニット22、吸引ユニット23およびワイピングユニット24とを備えている。保管ユニット22は、装置の稼動停止時に、機能液滴吐出ヘッド5のノズル5aの乾燥を防止すべくこれを封止する。吸引ユニット23は、機能液滴吐出ヘッド5から機能液を強制的に吸引すると共に、機能液滴吐出ヘッド5の全ノズル5aからの機能液の捨て吐出を受けるフラッシングボックスの機能を有している。ワイピングユニット24は、主に、機能液吸引を行った後の機能液滴吐出ヘッド5のノズル面5bをワイピング(拭き取り)するように構成されている。
The head
保管ユニット22には、例えば機能液滴吐出ヘッド5に対応する封止キャップ26が昇降自在に設けられており、装置の稼動停止時にヘッドユニット(の機能液滴吐出ヘッド5)15に臨んで上昇し、機能液滴吐出ヘッド5のノズル面5bに封止キャップ26を密接させて、これを封止する。これにより、機能液滴吐出ヘッド5のノズル面5bにおける機能液の気化が抑制され、いわゆるノズル詰まりが防止されるように構成されている。
The storage unit 22 is provided with, for example, a sealing
同様に、吸引ユニット23には、例えば機能液滴吐出ヘッド5に対応する吸引キャップ27が、昇降自在に設けられており、ヘッドユニット(の機能液滴吐出ヘッド5)15に機能液の充填を行う場合や、機能液滴吐出ヘッド5内で増粘した機能液を除去する場合に、吸引キャップ27を機能液滴吐出ヘッド5に密着させて、ポンプ吸引を行う。また、機能液の吐出(描画)を休止するときには、吸引キャップ27を機能液滴吐出ヘッド5から僅かに離間させておいて、フラッシング(捨て吐出)を行う。これにより、ノズル詰まりが防止され或いはノズル詰まりの生じた機能液滴吐出ヘッド5の機能回復が図られるように構成されている。
Similarly, for example, a
ワイピングユニット24には、例えば、ワイピングシート28が繰出し且つ巻取り自在に設けられており、繰り出したワイピングシート28を送りながら、且つ移動テーブル21によりワイピングユニット24をX軸方向に移動させながら、機能液滴吐出ヘッド5のノズル面5bを拭き取るようになっている。これにより、機能液滴吐出ヘッド5のノズル面5bに付着した機能液が取り除かれ、機能液吐出時の飛行曲がり等が防止される。
In the
なお、ヘッド機能回復装置4として、上記の各ユニットに加え、機能液滴吐出ヘッド5から吐出された機能液の飛行状態を検査する吐出検査ユニットや、機能液滴吐出ヘッド5から吐出された機能液の重量を測定する重量測定ユニット等を、搭載することが好ましい。さらに、同図では省略したが、この液滴吐出装置1には、各機能液滴吐出ヘッド5に機能液を供給する機能液供給機構や、上記の描画装置3や機能液滴吐出ヘッド5等の構成装置を統括制御する制御装置(制御手段:後述する)などが組み込まれている。
As the head
X軸テーブル12は、X軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のX軸スライダ31を有し、これに吸着テーブル33およびθテーブル34等から成るセットテーブル32を移動自在に搭載して、構成されている。同様に、Y軸テーブル13は、Y軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のY軸スライダ36を有し、これにθテーブル37を介して上記のメインキャリッジ14を移動自在に搭載して、構成されている。
The X-axis table 12 has a motor-driven
この場合、X軸テーブル12は、機台2上に直接支持される一方、Y軸テーブル13は、機台2上に立設した左右の支柱38,38に支持されている。X軸テーブル12とヘッド機能回復装置4とは、X軸方向に相互に平行に配設されており、Y軸テーブル13は、X軸テーブル12とヘッド機能回復装置4の移動テーブル21とを跨ぐように延在している。
In this case, the X-axis table 12 is directly supported on the
そして、Y軸テーブル13は、これに搭載したヘッドユニット(機能液滴吐出ヘッド5)15を、ヘッド機能回復装置4の直上部に位置する機能回復エリア41と、X軸テーブル12の直上部に位置する描画エリア42との相互間で、適宜移動させる。すなわち、Y軸テーブル13は、機能液滴吐出ヘッド5の機能回復を行う場合には、ヘッドユニット15を機能回復エリア41に臨ませ、またX軸テーブル12に導入したワークWに描画を行う場合には、ヘッドユニット15を描画エリア42に臨ませる。また、Y軸テーブル13の端部には、ワークW上のエリア毎に設けられた特徴点54を検出するように、特徴点検出部70が搭載されている。
The Y-axis table 13 includes a head unit (functional liquid droplet ejection head 5) 15 mounted on the Y-axis table 13 at a
一方、X軸テーブル12の他方の端部は、ワークWをX軸テーブル12にセット(載せ代える)するための移載エリア43となっており、移載エリア43には、上記一対のワーク認識カメラ18,18が配設されている。そして、この一対のワーク認識カメラ18,18により、吸着テーブル33上に供給されたワークWの2箇所の特徴点54,54が同時に認識され、この認識結果に基づいて、ワークWのアライメントが為される。
On the other hand, the other end of the X-axis table 12 serves as a
液滴吐出装置(描画装置3)1では、X軸方向へのワークWの移動を主走査とし、Y軸方向への機能液滴吐出ヘッド(ヘッドユニット15)5の移動を副走査として、ワークW上をX軸方向に走査することによって、各エリア毎の特徴点54の位置検出が行われるように特徴点検出部70が配置されている。
In the droplet discharge device (drawing device 3) 1, the movement of the workpiece W in the X-axis direction is a main scan, and the movement of the functional droplet discharge head (head unit 15) 5 in the Y-axis direction is a sub-scan. The
描画エリア42に導入したワークWに描画を行う場合には、機能液滴吐出ヘッド(ヘッドユニット15)5を描画エリア42に臨ませておいて、X軸テーブル12による主走査(ワークWの往復移動)に同期して、上記の特徴点検出部70の検出結果に基づき、各エリア毎に吐出位置の補正をしながら機能液滴吐出ヘッド5を吐出駆動(機能液の選択的吐出)させる。また、Y軸テーブル13により適宜、副走査(ヘッドユニット15の移動)が行われる。この一連の動作により、ワークWの描画領域W1に所望の機能液の選択的吐出、すなわち描画が行われる。
When drawing on the workpiece W introduced into the
また、機能液滴吐出ヘッド5の機能回復を行う場合には、移動テーブル21により吸引ユニット23を機能回復エリア41に移動させると共に、Y軸テーブル13によりヘッドユニット15を機能回復エリア41に移動させ、機能液滴吐出ヘッド5のフラッシング或いはポンプ吸引を行う。また、ポンプ吸引を行った場合には、続いて移動テーブル21によりワイピングユニット24を機能回復エリア41に移動させ、機能液滴吐出ヘッド5のワイピングを行う。同様に、作業が終了して装置の稼動を停止する時には、保管ユニット22により、機能液滴吐出ヘッド5にキャッピングが行われる。
Further, when performing functional recovery of the functional liquid
図4は、ワークWに特徴点54が配置された状態を示す平面図である。 FIG. 4 is a plan view showing a state in which the feature points 54 are arranged on the workpiece W. FIG.
図4に示すように、ワークWはエリア1からエリア12まで区画形成されていて、12箇所のエリアが設けられている。この12箇所に区画形成されたエリアの周囲には特徴点54がパターン形成法(スパッタリング法、真空蒸着法などの薄膜形成法)により形成されていて、ワークW上に設けられている。ここで、液滴吐出ヘッド5およびワークWがX軸方向に移動走査する。この移動走査方向が、SCAN方向である。同様に、液滴吐出ヘッド5およびワークWがY軸方向に移動走査する。この移動走査方向が、FEED方向である。
As shown in FIG. 4, the work W is partitioned from area 1 to
ワークW上の特徴点54の検出を行う場合には、描画するときと同様に、ワークWを臨むように特徴点検出部70を描画エリア42に配置し、X軸テーブル12による主走査(ワークWの往復移動)のときに、特徴点検出部70が各エリア毎の特徴点54の位置(X、Y方向の位置)を検出するように構成されている。なお、ここで、ワークWは大きさが1500mm×1500mmのガラス基板が使用され、主に、液晶表示装置、有機EL表示装置などの製造に用いられる。ここで、ワークWは図4に示す各エリア毎に区画されていて、この区画されたエリアには例えば、有機EL素子のような各チップが複数配置されている。さらに、このチップには例えば、有機EL素子を構成する各画素が配列されている。
When the
図5は、特徴点54の位置を検出するときの模式図であって、(a)は側断面図、(b)は平面図である。
5A and 5B are schematic diagrams when the position of the
図5(a)に示すように、ワークWには特徴点54が形成されていて(図4参照)、この特徴点54がCCDカメラ71により画像が取得される。この取得された画像は、画像処理部215により画像処理されて図示しないモニタに表示される。このとき、例えば図5(b)に示すように、特徴点54が本来の位置に対して、CCDカメラ71によって取得された位置(実際の位置)が、ずれていたときには、そのズレ量が定量的に検出されて、X方向にずれた場合のズレ量Xと、Y方向にずれた場合のズレ量Yが求められる。なお、このズレ量をエリア毎に求めることで、各エリア毎のズレ量が全て把握できる。
As shown in FIG. 5A, a
このような構成により、ワークW上を特徴点検出部70が走査して、エリア1から順番にエリア12までの(図4に示す)特徴点54の位置を検出して、各エリア毎の印字開始位置を取得しておき、各エリア毎の位置検出結果をRAM230にあるワークエリアブロック231のそれぞれに格納する。
With such a configuration, the
図6は、液滴吐出装置1の制御ブロック図である。 FIG. 6 is a control block diagram of the droplet discharge device 1.
ここで、液滴吐出装置1の制御構成について、図6を参照して説明する。液滴吐出装置1は、インタフェース111を有し、ホストコンピュータ300から送信された吐出パターンデータ(各ノズル5aの機能液の吐出・非吐出を決定するためのデータ)、駆動波形データ(各ノズル5aの圧電素子を駆動するために印加される波形データ)および各種制御データを取得するように構成されている。
Here, the control configuration of the droplet discharge device 1 will be described with reference to FIG. The droplet discharge device 1 includes an
液滴吐出装置1内部における処理状況等に関するデータをホストコンピュータ300に対して出力するデータ入出力部110と、電源スイッチ121を有し、電源の供給および切断を行なう電源部120と、リニアセンサ51およびリニアスケール52を有し、ワークWの現在位置を検出するリニアエンコーダ50と、CCDカメラまたはレーザ変位計測器71を有し、ワークWの特徴点54を検出する特徴点検出部70と、機能液滴吐出ヘッド5を有し、ワークW上に描画を行なう描画部140と、キャリッジモータ151および送りモータ152並びに特徴点検出部キャリッジモータ153を有し、機能液滴吐出ヘッド5が搭載されたメインキャリッジ14(ヘッドユニット15)およびワークWを移動・搬送する搬送部150(移動機構)と、ヘッドドライバ161、キャリッジモータドライバ162および送りモータドライバ163並びに特徴点検出部キャリッジモータドライバ164を有し、各部を駆動する駆動部160と、各部と接続され、液滴吐出装置1全体を制御する制御部200と、によって構成されている。
A data input /
制御部200は、CPU210、ROM220、RAM230および入出力制御装置(以下、「IOC:Input・Output・Controller」という)250を備え、互いに内部バス260により接続されている。ROM220は、各ノズル5a(ノズル列6)の吐出を駆動制御するためのプログラムの他、CPU210で処理する各種プログラムを記憶する制御プログラムブロック221と、各種テーブルを含む制御データを記憶する制御データブロック222とを有している。
The
制御部200に備えられた画像処理部215は、特徴点検出部70から検出された特徴点54の画像を処理するとともに、図示しないモニタにて画像を表示することができるように構成されている。
The
RAM230は、フラグ等として使用されるワークエリアブロック231の他、ホストコンピュータ300より送信された吐出パターンデータを記憶する吐出パターンデータブロック232を有し、制御処理のための作業領域として使用される。また、RAM230は電源が切断されても記憶したデータを保持しておくように常にバックアップされている。
The
IOC250には、CPU210の機能を補うと共に各種周辺回路とのインタフェース信号を取り扱うための論理回路が、ゲートアレイやカスタムLSIなどにより構成されて組み込まれている。これにより、IOC250は、ホストコンピュータ300からの吐出パターンデータや制御データをそのまま或いは加工して内部バス260に取り込むと共に、CPU210と連動して、CPU210から内部バス260に出力されたデータや制御信号を、そのまま或いは加工して駆動部160に出力する。
In the
そして、CPU210は、上記の構成により、ROM220内の制御プログラムにしたがって、IOC250を介してホストコンピュータ300および液滴吐出装置1内の各部から各種信号・データを入力して、RAM230内の各種データを処理し、IOC250を介して液滴吐出装置1内の各部に、各種信号・データを出力することにより、各ノズル5aからの機能液の吐出タイミングを駆動制御し、ワークW上に描画を行う。なお、本実施形態では、ノズル列6方向におけるノズル間隔を画素ピッチに合わせることで、ノズル列6毎に吐出タイミングの駆動制御を行うように構成されている。
Then, according to the control program in the
一方、ホストコンピュータ300は、吐出パターンデータ、駆動波形データおよび各種制御データを出力すると共に、液滴吐出装置1から送信された装置内部における処理状況等に関するデータを入力するインタフェース310と、CPU、ROMおよびRAM等のメモリを有している。また、パソコン全体を制御する中央制御部320と、ウィンドウズ(登録商標)等のOS330と、液滴吐出装置1を制御するためのドライバ340とを備えている。また、中央制御部320内(RAM等)には、リニアスケール52のマーク位置と当該マーク位置に対応する吐出・非吐出を決定するための対応テーブル350を有しており、当該対応テーブル350を参照して、各ノズル列6からの機能液の吐出タイミングを決定するための吐出パターンデータを生成する。
On the other hand, the
なお、ホストコンピュータ300から送信された吐出パターンデータに基づいて機能液の吐出を駆動制御するのではなく、液滴吐出装置1内に上記の対応テーブル350を記憶しておき、これに基づいて、各ノズル列6の機能液の吐出・非吐出を決定する構成としても良い。
In addition, rather than drivingly controlling the discharge of the functional liquid based on the discharge pattern data transmitted from the
第1実施形態における液滴吐出装置1の構成は以上のようであって、図3、図4、図5、図7を参照しながら、特徴点54の位置を検出して補正する方法について説明をする。
The configuration of the droplet discharge device 1 in the first embodiment is as described above, and a method for detecting and correcting the position of the
図3に示すように、メインキャリッジ14が描画領域42から離れているときに、ワークWがワークテーブル10上にセットされ、送りモータ152により主走査方向(X軸方向)にワークテーブル10が移動する。ここで、ワークWが描画エリア42に達したら、特徴検出部キャリッジモータ153により副走査方向(Y軸方向)に特徴点検出部70を移動させて特徴点54を検出する。なお、特徴点検出部70は、図5(a)、図5(b)に示すCCDカメラ71を採用して図4に示すパターンを例に特徴点54の検出を行う。ここで、特徴点54の検出において、位置情報の実測値は、リニアエンコーダ50bに備えられたリニアセンサ51bからのフィードバックパルスをカウントして得られる。
As shown in FIG. 3, when the
図7は、ワークWのエリア毎の特徴点54の位置を検出して補正演算する工程を示すフローチャートである。
FIG. 7 is a flowchart showing a process of detecting and correcting the position of the
特徴点検出部70がワークW(ガラス基板)の表面上に設けられたエリア毎の特徴点54の位置を検出してから、その検出された位置情報を格納するまでの工程を図7に示す。なお、ここではワークWに描画を行なうための描画工程については説明を省略する。
FIG. 7 shows a process from when the feature
描画エリア42にワークWがセットされると、ステップS1では、駆動部160に備えられた特徴点検出部キャリッジモータドライバ164によって、搬送部150に備えられた特徴点検出部キャリッジモータ153が駆動して、特徴点検出部70が図4に示すエリア毎に走査移動する。同様に、X方向に走査移動する。
When the workpiece W is set in the
ステップS2では、特徴点検出部70が特徴点54の位置情報を表す検出信号を取得して、この取得された検出信号がIOC250に送信される。この検出信号は、IOC250から制御部200に備えられた画像処理部215にさらに送信されて、画像処理部215が画像処理をして、特徴点54を画像認識する。CCD71に撮像された画像を図示しないモニタに表示する。
In step S <b> 2, the feature
ステップS3では、実測の特徴点54の位置情報をリニアセンサ51bからのフィードバックパルスをカウントして得る。すなわち、CCD71が画像を撮像したときの位置をリニアセンサ51bからのフィードバックパルスをカウントして得るとともに、その画像内で特徴点54の画像認識を行って、画像の基準位置に対する特徴点54の画像認識位置に相対位置(X1、Y1)を算出し、基準位置(X0、Y0)と、相対位置(X1、Y1)とから、特徴点54の位置情報(位置座標)(x、y)(=X0+X1、Y0+Y1)を求める。または、CCD71が撮像した画像の中心に特徴点54があるか否かを画像認識で判断し、特徴点54があった場合はその画像を撮像したときの位置を特徴点54の位置情報(X、Y)として、算出する。
In step S3, position information of the actually measured
ステップS4では、特徴点54のワーク設計値情報(本来の位置)と、検出された特徴点の位置情報を比較する。ここで、ワーク設計値情報(本来の位置)と、検出された特徴点の位置情報とが照合(補正値無し)していたら、ステップS6に進む。
In step S4, the workpiece design value information (original position) of the
ステップS5では、ステップS4でワーク設計値情報(本来の位置)と、検出された特徴点の位置情報とが照合せずにズレていたときに、このズレ量(補正値)をエリア補正値演算する。このときに求められるズレ量は、図5(b)に示すように、エリア毎の特徴点54のX方向のズレ量Xと、Y方向のズレ量Yとであって、これらズレ量がX方向の補正値とY方向の補正値となり、この補正値はエリア毎に演算される。
In step S5, when the workpiece design value information (original position) and the detected feature point position information are not matched in step S4, the deviation amount (correction value) is calculated as an area correction value calculation. To do. As shown in FIG. 5B, the amount of deviation obtained at this time is the amount of deviation X in the X direction of the
ステップS6では、演算して求められたエリア毎の補正値をRAM230に備えられたワークエリアブロック231に格納し、補正値から演算子、印字開始位置、吐出間隔の情報をエリア毎にワークエリアブロック231に保存する。配置された特徴点54のうち、少なくとも対角の2点の特徴点54の位置を求め、領域内におけるドットの吐出開始位置(終了位置)X、Yの補正値を按分して求める。
In step S6, the correction value for each area obtained by calculation is stored in the work area block 231 provided in the
ステップS7では、上記の方法で特徴点検出部70がワークWの全エリアを走査して、特徴点54の位置情報の取得を終了したら、ヘッドユニット15に設けられた液滴吐出ヘッド5によって、ワークW上に描画を開始できる。
In step S7, when the feature
なお、ここでは特徴点54をパターン形成法によって形成したが、バンプを形成するパターンを特徴点54に採用しても同様にできる。 Here, the feature points 54 are formed by the pattern forming method, but the same can be achieved by adopting the pattern for forming the bumps as the feature points 54.
以上のような第1実施形態では、次のような効果が得られる。
(1)本実施形態では、温度などの影響で生じるガラス基板が変形や、リニアスケールの伸縮や、装置自体の機械精度の変化(ピッチング、ヨーイング)などによって誤差が発生しても、ガラス基板をエリア毎に区画して、各エリア毎に補正値を求め、この補正値を制御部にフィードバックをしてから、各エリア毎に印字開始位置を決める方法にした。このことによって、液滴を吐出する吐出位置を精度良く制御することができるので、描画精度が向上できる。しかも、将来において、現状のガラス基板よりサイズが大きくなっても、この方法であれば、エリア毎に印字開始位置を決めることになるので、ガラス基板の大きさに依存することがない。したがって、描画精度を維持できる。このような、液滴吐出方法と、液滴吐出装置1とを提供できる。
(第2実施形態)
In the first embodiment as described above, the following effects are obtained.
(1) In this embodiment, even if an error occurs due to deformation of the glass substrate caused by temperature or the like, expansion / contraction of the linear scale, changes in the mechanical accuracy of the apparatus itself (pitching, yawing), the glass substrate A method for determining the print start position for each area is obtained by dividing each area, obtaining a correction value for each area, and feeding back the correction value to the control unit. As a result, the discharge position for discharging the droplets can be controlled with high accuracy, so that the drawing accuracy can be improved. In addition, even if the size becomes larger than the current glass substrate in the future, this method determines the printing start position for each area, and thus does not depend on the size of the glass substrate. Therefore, drawing accuracy can be maintained. Such a droplet discharge method and the droplet discharge apparatus 1 can be provided.
(Second Embodiment)
次に、第2実施形態を図面に基づいて説明する。
なお、前述の第1実施形態と同じ部品および同様な機能を有する部品には同一符号を付し、その説明を省略する。
Next, a second embodiment will be described based on the drawings.
In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the component same as the above-mentioned 1st Embodiment, and the component which has the same function, The description is abbreviate | omitted.
図8は、第2実施形態のタイリング基板W3の特徴点54を検出するときの模式図である。
FIG. 8 is a schematic diagram when the
ここで、図8に示すタイリング基板W3は、ベース基板W4上にパターニング基板W5が接着剤により貼り合わせられている。このベース基板W4と、パターニング基板W5とは材質がガラスであって、これらガラスの貼り合わせにはUV(紫外線)硬化型の接着剤が使用された。図8に示すように、ベース基板W4上にはパターニング基板W5が一枚づつ計8枚貼り付けられていて、パターニング基板W5が各エリアを区画するように構成されている。ここで、このときのベース基板W4とパターニング基板W5との段差を特徴点54とする。なお、ベース基板W4と、パターニング基板W5の厚さは各々0.4mm〜0.7mmである。ここで、液滴吐出ヘッド5およびタイリング基板W3がX軸方向に移動走査する。この移動走査方向が、SCAN方向である。同様に、液滴吐出ヘッド5およびタイリング基板W3がY軸方向に移動走査する。この移動走査方向が、FEED方向である。
Here, in the tiling substrate W3 shown in FIG. 8, the patterning substrate W5 is bonded to the base substrate W4 with an adhesive. The base substrate W4 and the patterning substrate W5 are made of glass, and a UV (ultraviolet) curable adhesive was used for bonding these glasses. As shown in FIG. 8, a total of eight patterning substrates W5 are pasted on the base substrate W4 one by one, and the patterning substrate W5 is configured to partition each area. Here, the step between the base substrate W4 and the patterning substrate W5 at this time is defined as a
図9は、第2実施形態のレーザ変位計測器71で、特徴点54を検出するときの模式図である。
FIG. 9 is a schematic diagram when the
図9に示すように、ワークWと特徴点検出部70(レーザ変位計測器71)とが対峙して配置されている。ここで、レーザ変位計測器71からワークW上に向けてレーザ光R1が出射されると、ワークW上で反射した反射光R2がレーザ変位計測器71に入射するように構成されている。。なお、ワークWとレーザ変位計測器71とが矢印方向に相対的に移動することで、各検出地点でのワークWとレーザ変位計測器71との間隔H(変位量)を取得するように構成されている。なお、ここで使用したレーザ変位計測器は、波長が670nmで可視光半導体レーザである(オムロン株式会社製)。
As shown in FIG. 9, the workpiece W and the feature point detector 70 (laser displacement measuring instrument 71) are arranged to face each other. Here, when the laser light R <b> 1 is emitted from the laser
第2実施形態におけるタイリング基板W3と、特徴点検出部70との構成は以上のようであって、図8、図9を参照しながら、その動作について説明する。
The configuration of the tiling substrate W3 and the feature
エリア1〜エリア8までの各エリアをエリア毎にレーザ変位計測器71が、X軸方向にSCANして、段差のある個所の特徴点54の位置情報を各エリア毎に求める。同様に、エリア1〜エリア8までの各エリアをエリア毎にレーザ変位計測器71が、Y軸方向にFEEDして、段差のある個所の特徴点54の位置情報を各エリア毎に求める。
The laser
上記によって求められた特徴点54の各エリア毎の位置情報(X軸方向、Y軸方向)を、図7に示すフローチャートにしたがって、第1実施形態と同様に演算処理が行なわれる。
The position information (X-axis direction and Y-axis direction) for each area of the
以上のような第2実施形態では、第1実施形態で得られた効果以外に、次のような効果が得られる。
(2)基板同士を接着剤などで貼り合わせたタイリング基板W3の構成では、接着剤とガラス基板との熱膨張の違いなどで生じる影響で誤差が生じてしまうため、描画位置を予め想定するのは困難であった。しかし、貼り合わせの段差部を特徴点54にして、エリア毎の位置情報を取得して、補正してから描画する方法にしたことによって、基板同士の貼り合わせ精度を考慮しなくても良いので描画精度を維持できる。つまり、このような液滴吐出方法と、液滴吐出装置1とを提供できる。
(第3実施形態)
In the second embodiment as described above, the following effects can be obtained in addition to the effects obtained in the first embodiment.
(2) In the configuration of the tiling substrate W3 in which the substrates are bonded to each other with an adhesive or the like, an error occurs due to an effect caused by a difference in thermal expansion between the adhesive and the glass substrate. It was difficult. However, since the stepped portion of the bonding is used as the
(Third embodiment)
次に、第3実施形態を図面に基づいて説明する。
なお、前述の第1実施形態および第2実施形態と同じ部品および同様な機能を有する部品には同一符号を付し、その説明を省略する。
Next, a third embodiment will be described based on the drawings.
In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the component which has the same function and the same function as above-mentioned 1st Embodiment and 2nd Embodiment, and the description is abbreviate | omitted.
図10は、第3実施形態のフレキシブルテープ回路基板の特徴点54を検出するときの模式図である。
FIG. 10 is a schematic diagram when the
ここで、図10に示すフレキシブルテープ回路基板は、材質が樹脂製であって自由に曲げることができる高分子材料である。図10に示すように、フレキ基板(以下、単にフレキ基板という)W6の上に形成されているスルーホール(穴)を特徴点54とする。この特徴点54はエリア1〜エリア3の各エリア毎に備えられている。なお、フレキ基板W6の厚さは0.2mm〜0.5mmであって、長さが300m〜400mである。また、このフレキ基板W6は、片面だけでなく両面に描画することも可能である。
Here, the flexible tape circuit board shown in FIG. 10 is a polymer material that is made of resin and can be bent freely. As shown in FIG. 10, a through hole (hole) formed on a flexible substrate (hereinafter simply referred to as a flexible substrate) W <b> 6 is defined as a
フレキ基板W6はテープ形状であるため、描画時にはフレキ基板W6を走査することは困難であるので、液滴吐出ヘッド5をY軸方向に移動させて、フレキ基板W6上に描画することになる。つまり、特徴点54の位置情報を取得する場合でも、描画するときと同様に、レーザ変位計測器71をY軸方向に移動させて、フレキ基板W6上を走査する。
Since the flexible substrate W6 has a tape shape, it is difficult to scan the flexible substrate W6 at the time of drawing. Therefore, the
このとき、図9、図10に示すように、レーザ変位計測器71でスルーホールの特徴点54を検出することになる。ここで、特徴点54が穴であるため入社光R1が通過してしまい、反射光R2がレーザ変位計測器71に受光されないので、間隔Hを求めることはできない。逆に、X軸方向またはY軸方向にレーザ変位計測器71が移動走査することで、フレキ基板W6上で反射した反射光R2がレーザ変位計測器71で受光することができる。このとき、間隔Hを求めることができる。このようにして、スルーホールを特徴点54にした場合でもこの特徴点54の有無をレーザ変位計測器71で検出することによって、各エリア毎の特徴点54の位置情報(X軸方向、Y軸方向)が取得できるように構成されている。
At this time, as shown in FIGS. 9 and 10, the laser
第3実施形態におけるフレキ基板W6の構成は以上のようであって、図10を参照しながら、その動作について説明する。 The configuration of the flexible substrate W6 in the third embodiment is as described above, and the operation thereof will be described with reference to FIG.
エリア1〜エリア3までの各エリアをエリア毎にレーザ変位計測器71が、X軸方向にSCANして、特徴点54の位置情報を各エリア毎に求める。同様に、エリア1〜エリア3までの各エリアをエリア毎にレーザ変位計測器71が、Y軸方向にFEEDして、特徴点54の位置情報を各エリア毎に求める。
The laser
上記によって求められた特徴点54の各エリア毎の位置情報(X軸方向、Y軸方向)を、図7に示すフローチャートにしたがって、第1実施形態と同様に演算処理を行なう。
The position information (X-axis direction and Y-axis direction) for each area of the
以上のような第3実施形態では、第1および第2実施形態で得られた効果以外に、次のような効果が得られる。
(3)基板を自由に曲げることができるようなフレキ基板W6において、両面描画を考慮して裏面側に既に描画済みであるような場合、フレキ基板W6を固定した際に裏面側配線パターンによる段差の影響が懸念される。このため、フレキ基板W6の厚みのバラツキおよび変形などの影響が生じて、描画位置がバラツクことが予測されるが、スルーホールなどを特徴点54として設け、しかも、この特徴点54から位置情報を取得してから補正して描画する方法にしたことによって、これらの影響を回避できる。つまり、片面描画の場合でも描画精度が向上するが、両面描画においても裏面側の段差の影響を受けることがなくて描画できるので、描画精度が向上する。つまり、このような液滴吐出方法と、液滴吐出装置1とを提供できる。
In the third embodiment as described above, the following effects are obtained in addition to the effects obtained in the first and second embodiments.
(3) In the flexible substrate W6 in which the substrate can be bent freely, when the flexible substrate W6 is already drawn on the back side in consideration of double-sided drawing, the step due to the back side wiring pattern is fixed when the flexible substrate W6 is fixed. Is concerned about the impact of For this reason, it is predicted that the drawing position will vary due to the influence of the thickness variation and deformation of the flexible substrate W6. However, a through hole is provided as the
なお、上記の実施形態ではワークWとしてガラス基板や、樹脂製のフィルム状のテープ基板を用いた場合を例に挙げたが、これに限らず、温度変化により熱膨張や変形を生じる基板であれば、本発明を適用可能である。 In the above embodiment, the case where a glass substrate or a resinous film-like tape substrate is used as the workpiece W has been described as an example. However, the present invention is not limited thereto, and the substrate may cause thermal expansion or deformation due to a temperature change. For example, the present invention is applicable.
また、本発明は、電気光学装置(デバイス)として、上記の有機EL装置701に限らず、液晶表示装置、電子放出装置、PDP(Plasma・Display・Panel)装置、および電気泳動表示装置等にも適用可能である。また、電子放出装置はいわゆるFED(Field・Emission・Display)装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成、および光拡散体形成等を包含する装置も考えられる。
Further, the present invention is not limited to the above-described
また、上記の電気光学装置を搭載した電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品等が挙げられる。本実施形態の電子機器の具体例について説明する。図11は携帯電話の一例を示した斜視図である。図11において、600は携帯電話本体を示し、601は液晶表示装置を備えた液晶表示部を示している。なお、本実施形態の電子機器は液晶装置を備えるものとしたが、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマ型表示装置等、他の電気光学装置を備えた電子機器とすることもできる。
In addition, examples of the electronic apparatus equipped with the electro-optical device include a mobile phone equipped with a so-called flat panel display, a personal computer, and various electric products. A specific example of the electronic apparatus of this embodiment will be described. FIG. 11 is a perspective view showing an example of a mobile phone. In FIG. 11,
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。以下に変形例を示す。 It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and modifications, improvements, and the like within the scope that can achieve the object of the present invention are included in the present invention. A modification is shown below.
(変形例1)第1実施形態で、エリアを1〜12までのエリア数12にしたが、これにこだわるものではない。例えば、1〜16までのエリア数16、またはそれ以上にエリアの数を増やしても良い。 (Modification 1) In the first embodiment, the number of areas is 12 in the range of 1 to 12, but this is not particular. For example, the number of areas may be increased to 16 or more areas from 1 to 16.
このようにすれば、第1実施形態よりエリアの数が多くなって、特徴点54がより多く配置されることになるので、吐出位置の検出と補正とに多少の時間がかかるかも知れないが、第1実施形態よりエリアの面積が狭くなることによって、より精度の高い吐出位置の制御ができるので、精度の高い描画ができる。このような液滴吐出方法と、液滴吐出装置1とを提供できる。 By doing this, the number of areas is increased and more feature points 54 are arranged than in the first embodiment, so that it may take some time to detect and correct the ejection position. Since the area of the area is narrower than that in the first embodiment, the discharge position can be controlled with higher accuracy, so that drawing with higher accuracy can be performed. Such a droplet discharge method and the droplet discharge device 1 can be provided.
(変形例2)第1実施形態〜第3実施形態で、特徴点検出部70にCCDカメラまたはレーザ変位計測器71を採用したが、これにこだわるものではない。例えば、フォトセンサなどを採用しても良い。
(Modification 2) In the first to third embodiments, the CCD camera or the laser
このようにすれば、前述の第1実施形態〜第3実施形態と同種の効果が得られる。 In this way, the same kind of effect as in the first to third embodiments described above can be obtained.
(変形例3)第1実施形態〜第3実施形態で、特徴点検出部70をY軸テーブル13上に配置したが、これにこだわるものではない。例えば、メインキャリッジ14上に配置しても良い。
(Modification 3) Although the feature
このようにすれば、前述の第1実施形態〜第3実施形態と同種の効果が得られる。 In this way, the same kind of effect as in the first to third embodiments described above can be obtained.
1…液滴吐出装置、3…描画装置、5…機能液滴吐出ヘッド、6…ノズル列、54…特徴点、70…特徴点検出部、71…CCDカメラまたはレーザ変位計測器、153…特徴点検出部キャリッジモータ、164…特徴点検出部キャリッジモータドライバ、215…画像処理部、231…ワークエリアブロック、H…変位量、W…ワーク、W1…描画領域、W2…非描画領域、X…X方向のズレ量、Y…Y方向のズレ量、600…携帯電話、601…液晶表示装置を備えた液晶表示部。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Droplet discharge device, 3 ... Drawing apparatus, 5 ... Functional droplet discharge head, 6 ... Nozzle row, 54 ... Feature point, 70 ... Feature point detection part, 71 ... CCD camera or laser displacement measuring device, 153 ... Feature Point detection unit carriage motor, 164 ... feature point detection unit carriage motor driver, 215 ... image processing unit, 231 ... work area block, H ... displacement amount, W ... work, W1 ... drawing area, W2 ... non-drawing area, X ... A displacement amount in the X direction, a Y displacement amount in the Y direction, a 600 mobile phone, and a liquid crystal display unit including a liquid crystal display device.
Claims (9)
前記液滴吐出ヘッドをキャリッジに搭載したヘッドユニットと、
複数の描画領域と、これを区画する非描画領域とが配置された前記基板と、
前記基板をエリア毎に区画し、前記エリアに検出開始位置を示す特徴点を備え、
前記ヘッドユニットと、前記基板とを相対的に移動させる移動工程と、
前記エリア毎に配置された特徴点を検出する検出工程と、
前記検出工程で検出された特徴点の位置と、基板設計値情報とに基づいて補正位置を按分補正する工程と、
描画する工程と、
を備えたことを特徴とする描画位置補正方法。 A drawing position correction method for drawing on a substrate by selectively discharging a functional liquid from nozzles arranged in a droplet discharge head,
A head unit having the droplet discharge head mounted on a carriage;
The substrate on which a plurality of drawing areas and a non-drawing area that divides the drawing area are arranged,
The substrate is divided into areas, and feature points indicating detection start positions in the areas are provided.
A moving step of relatively moving the head unit and the substrate;
A detection step of detecting feature points arranged for each area;
A step of equally correcting the correction position based on the position of the feature point detected in the detection step and the board design value information;
Drawing process;
A drawing position correcting method characterized by comprising:
特徴点の位置を検出し、按分して、吐出する工程と、を備え
吐出しながら特徴点を検出することを特徴とする描画位置補正方法。 The drawing position correction method according to claim 1,
A drawing position correction method comprising: detecting a feature point position, distributing the feature point, and discharging the feature point.
前記液滴吐出ヘッドをキャリッジに搭載したヘッドユニットと、
複数の描画領域と、これを区画する非描画領域とが配置された前記基板と、
前記ヘッドユニットと、前記基板とを、相対的に移動させる移動機構と、
前記基板をエリア毎に区画し、前記エリアに検出開始位置を示す特徴点を有し、当該特徴点は、前記エリア毎に配置されており、前記特徴点の位置を検出する特徴点検出部と、
前記特徴点検出部の位置検出結果に基づき、描画位置を按分しながらエリア毎に補正し、
描画することを特徴とする液滴吐出装置。 A droplet discharge device that performs drawing on a substrate by selectively discharging a functional liquid from nozzles arranged in a droplet discharge head,
A head unit having the droplet discharge head mounted on a carriage;
The substrate on which a plurality of drawing areas and a non-drawing area that divides the drawing area are arranged,
A moving mechanism for relatively moving the head unit and the substrate;
A feature point detector that divides the substrate into areas and has a feature point indicating a detection start position in the area, the feature point being arranged for each area, and detecting the position of the feature point; ,
Based on the position detection result of the feature point detection unit, correct the drawing position for each area,
A droplet discharge device characterized by drawing.
前記特徴点は、前記描画領域にスルーホールが形成されていることを特徴とする液滴吐出装置。 The droplet discharge device according to claim 4,
The feature point is that the through-hole is formed in the drawing region.
前記特徴点は、前記非描画領域にマークが形成されていることを特徴とする液滴吐出装置。 The droplet discharge device according to claim 4,
The feature point is that the mark is formed in the non-drawing area.
前記特徴点は、前記非描画領域にコーナが形成されていることを特徴とする液滴吐出装置。 The droplet discharge device according to claim 4,
The feature point is that the corner is formed in the non-drawing region.
An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 8.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004200550A JP2006021104A (en) | 2004-07-07 | 2004-07-07 | Droplet discharge device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004200550A JP2006021104A (en) | 2004-07-07 | 2004-07-07 | Droplet discharge device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006021104A true JP2006021104A (en) | 2006-01-26 |
Family
ID=35794761
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004200550A Withdrawn JP2006021104A (en) | 2004-07-07 | 2004-07-07 | Droplet discharge device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006021104A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007313453A (en) * | 2006-05-26 | 2007-12-06 | Tokyo Electron Ltd | Coating method and coating apparatus |
WO2012173075A1 (en) * | 2011-06-17 | 2012-12-20 | シャープ株式会社 | Film substrate and method for testing film substrate |
JP2014151261A (en) * | 2013-02-07 | 2014-08-25 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Adjustment method for substrate manufacturing apparatus, substrate manufacturing method, and the substrate manufacturing apparatus |
JP2021171663A (en) * | 2020-04-17 | 2021-11-01 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Stage device and printing apparatus |
KR20220089440A (en) * | 2020-12-21 | 2022-06-28 | 세메스 주식회사 | Maintenance unit and apparatus for treating substrate including the same |
-
2004
- 2004-07-07 JP JP2004200550A patent/JP2006021104A/en not_active Withdrawn
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007313453A (en) * | 2006-05-26 | 2007-12-06 | Tokyo Electron Ltd | Coating method and coating apparatus |
KR101377766B1 (en) * | 2006-05-26 | 2014-03-24 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | Coating method and coating apparatus |
WO2012173075A1 (en) * | 2011-06-17 | 2012-12-20 | シャープ株式会社 | Film substrate and method for testing film substrate |
JP2014151261A (en) * | 2013-02-07 | 2014-08-25 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Adjustment method for substrate manufacturing apparatus, substrate manufacturing method, and the substrate manufacturing apparatus |
JP2021171663A (en) * | 2020-04-17 | 2021-11-01 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Stage device and printing apparatus |
KR20220089440A (en) * | 2020-12-21 | 2022-06-28 | 세메스 주식회사 | Maintenance unit and apparatus for treating substrate including the same |
KR102510910B1 (en) | 2020-12-21 | 2023-03-15 | 세메스 주식회사 | Maintenance unit and apparatus for treating substrate including the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100766988B1 (en) | Work, electro-optical apparatus, and electronic instrument | |
JP4093167B2 (en) | Droplet ejection device, electro-optical device manufacturing method, electro-optical device, and electronic apparatus | |
US7090728B2 (en) | Film forming apparatus, head cleaning method, device manufacturing system, and device | |
KR100952380B1 (en) | Impact dot measuring method and impact dot measuring device and droplet discharging device, manufacturing method of electro-optical device, electro-optical device and electronic device | |
JP4058453B2 (en) | Droplet applicator | |
JP4691975B2 (en) | Work gap adjustment method, work gap adjustment device, droplet discharge device, and electro-optical device manufacturing method | |
WO2007132705A1 (en) | Liquid-drop discharging and drawing device | |
JP5359973B2 (en) | Droplet discharge device | |
JP2008145625A (en) | Drawing system, liquid drawing method, color filter manufacturing method, organic EL device manufacturing method | |
JP2010214350A (en) | Method and device for inspecting droplet discharging head and droplet discharging apparatus | |
JP4168728B2 (en) | Method for correcting dot position of droplet discharge device, droplet discharge method, and electro-optical device manufacturing method | |
JP2008233833A (en) | Droplet ejection device, electro-optical device manufacturing method, electro-optical device, and electronic apparatus | |
JP2008100138A (en) | Droplet ejection device, electro-optical device manufacturing method, electro-optical device, and electronic apparatus | |
JP4320560B2 (en) | Droplet discharge device | |
JP4320561B2 (en) | Droplet discharge device | |
JP2004216737A (en) | Processing accuracy inspection device of work processing device, drawing accuracy inspection device of droplet discharge device, droplet discharge device and work, electro-optical device, method of manufacturing electro-optical device, and electronic device | |
JP4539316B2 (en) | Head position correction method, head position correction apparatus, droplet discharge apparatus, and electro-optical device manufacturing method | |
JP4661840B2 (en) | Alignment mask and dot position recognition method | |
JP2006021104A (en) | Droplet discharge device | |
JP4352758B2 (en) | Droplet discharge device | |
JP4604533B2 (en) | Coordinate accuracy confirmation method and electro-optic device manufacturing method | |
JP2005044525A (en) | Electro-optical device manufacturing method, electro-optical device, and electronic apparatus | |
JP4534546B2 (en) | Droplet ejection device, position adjustment method, and electro-optic device manufacturing method | |
JP2019209672A (en) | Ink jet device and method of manufacturing function element using the same | |
JP2004093369A (en) | Work gap measuring method and work gap measuring device, drawing method and drawing device, electro-optical device and manufacturing method thereof, and electronic equipment |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060710 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070403 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081219 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090728 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090915 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091102 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20091225 |