JP2006018120A - Optical waveguide device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光導波路デバイスに関し、より詳細には、2次元的な屈折率分布に応じた多重散乱によりホログラフィックに波動を伝達させるホログラフィック波動伝達媒体を適用した光導波路デバイスに関する。 The present invention relates to an optical waveguide device, and more particularly to an optical waveguide device to which a holographic wave transmission medium that transmits waves holographically by multiple scattering according to a two-dimensional refractive index distribution is applied.
光通信分野においては、光の分岐、干渉を容易に実現できる光回路として、光導波路構造を利用した集積光部品が開発されてきた。光の波動としての性質を利用した集積光部品は、光導波路長の調整により光干渉計の作製を容易にしたり、半導体分野における回路加工技術を適用することにより、光部品の集積化が容易になる。 In the optical communication field, integrated optical components using an optical waveguide structure have been developed as an optical circuit that can easily realize branching and interference of light. Integrated optical components that utilize the properties of light waves make it easy to manufacture optical interferometers by adjusting the optical waveguide length, and to easily integrate optical components by applying circuit processing technology in the semiconductor field. Become.
このような光導波路構造は、光導波路中を伝搬する光を屈折率の空間的分布を利用して空間的な光閉じ込めを実現する「光閉じ込め構造」である。典型的な光導波路は、図1に示すように、基板101上に、屈折率N0クラッド層103と屈折率N1のコア部102とからなる2段階の屈折率分布を有する。また、屈折率N0の下部クラッド層、屈折率N1のコア部、および屈折率N2の上部クラッド層とからなる3段階の屈折率分布を有する光導波路が広く用いられている。従来の光導波路の利点は、2ないし3種類の材料から光導波路を作製することができるので、作製工程が簡便であることである。
Such an optical waveguide structure is an “optical confinement structure” that realizes spatial light confinement of light propagating through the optical waveguide by utilizing a spatial distribution of refractive index. As shown in FIG. 1, a typical optical waveguide has a two-stage refractive index distribution comprising a refractive index N 0 cladding layer 103 and a core portion 102 having a refractive index N 1 on a
代表的な集積光部品として導波路型光スイッチが知られている。導波路型光スイッチには、(1)アナログ的に光を偏向して出力ポートを選択する偏向器を用いたもの、(2)回折格子により偏向して出力ポートを選択するもの、(3)2入力2出力の光スイッチングエレメントを多段接続したものなどが知られている。図2に、従来の多段接続光スイッチの一例を示す図である(例えば、非特許文献1参照)。2入力2出力の光スイッチングエレメント121を8段縦続接続して、8×8光スイッチを構成している。光スイッチングエレメント121は、例えば、方向性結合器型、マッハツェンダ型、非対称X型などの素子が知られている。
A waveguide type optical switch is known as a typical integrated optical component. The waveguide type optical switch includes (1) one using a deflector that deflects light in an analog manner and selects an output port, (2) one that deflects by a diffraction grating and selects an output port, (3) A multi-stage connection of 2-input 2-output optical switching elements is known. FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a conventional multistage optical switch (see, for example, Non-Patent Document 1). An 8 × 8 optical switch is configured by cascading 8 stages of 2-input / 2-output
しかしながら、従来の多段接続光スイッチで構成された8×8光スイッチは、64個の光スイッチングエレメントを接続しなければならず、回路が大規模化するという問題があった。また、光回路の小型化のためには、光を導波路中に強く閉じ込める必要がある。従って、光導波路は、極めて大きな屈折率差を有する必要がある。例えば、従来のステップインデクッス型の光導波路では、比屈折率差が0.1%よりも大きな値となるように、屈折率の空間的分布を有するように光導波路を設計する。このような大きな屈折率差を利用して光閉じ込めを行うと、回路構成の自由度が制限されてしまうという問題があった。 However, the 8 × 8 optical switch configured by the conventional multistage connection optical switch has to connect 64 optical switching elements, and has a problem that the circuit becomes large. In order to reduce the size of the optical circuit, it is necessary to strongly confine light in the waveguide. Therefore, the optical waveguide needs to have a very large refractive index difference. For example, in a conventional step index type optical waveguide, the optical waveguide is designed so as to have a spatial distribution of the refractive index so that the relative refractive index difference becomes a value larger than 0.1%. When optical confinement is performed using such a large refractive index difference, there is a problem that the degree of freedom of circuit configuration is limited.
さらに、光導波路中での屈折率差を、局所的な紫外線照射、熱光学効果または電気光学効果などにより実現しようとしても、得られる屈折率の変化量は高々0.1%程度である。光の伝搬方向を変化させる場合には、光導波路の光路にそって徐々に向きを変化させざるを得ず、光回路長は必然的に極めて長いものとなり、その結果として光回路の小型化が困難になる。 Furthermore, even if the refractive index difference in the optical waveguide is to be realized by local ultraviolet irradiation, the thermo-optic effect, the electro-optic effect, or the like, the obtained refractive index variation is at most about 0.1%. When changing the propagation direction of light, the direction must be gradually changed along the optical path of the optical waveguide, and the optical circuit length is inevitably extremely long. As a result, miniaturization of the optical circuit is reduced. It becomes difficult.
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、ホログラフィック波動伝達媒体を適用し、光回路の小型化を図ることができる光導波路デバイスを提供することにある。 The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide an optical waveguide device that can be applied to a holographic wave transmission medium and can reduce the size of an optical circuit. is there.
本発明は、このような目的を達成するために、請求項1に記載の発明は、基板上に形成されたクラッド層と、該クラッド層に埋設されたコア部とからなる導波路により構成される光導波路デバイスにおいて、前記コア部は、前記導波路より屈折率の低い複数の散乱点により画定されるピクセル形状部と、位相調整手段を含む等幅部とを備えたことを特徴とする。 In order to achieve such an object, the present invention includes a waveguide comprising a clad layer formed on a substrate and a core portion embedded in the clad layer. In the optical waveguide device, the core portion includes a pixel shape portion defined by a plurality of scattering points having a refractive index lower than that of the waveguide, and a constant width portion including a phase adjusting unit.
請求項2に記載の発明は、基板上に形成されたクラッド層と、該クラッド層に埋設されたコア部とからなる導波路により構成される光導波路デバイスにおいて、Aを1以上の整数、BおよびCを2以上の整数とすると、A本の入力用光導波路と、該入力用光導波路に接続されたA入力B出力の光分岐手段と、該光分岐手段に接続され、各々の光導波路が位相調整手段を含むB本の光導波路アレイと、該光導波路アレイに接続され、前記コア部が前記導波路より屈折率の低い複数の散乱点により画定されるピクセル形状部からなるB入力C出力の光合波手段とを備えたことを特徴とする。 According to a second aspect of the present invention, there is provided an optical waveguide device including a waveguide including a clad layer formed on a substrate and a core portion embedded in the clad layer, wherein A is an integer of 1 or more, B And C are integers of 2 or more, A input optical waveguides, A input B output optical branching means connected to the input optical waveguides, and each optical waveguide connected to the optical branching means B input C comprising B optical waveguide arrays including phase adjusting means, and a pixel-shaped portion connected to the optical waveguide array, wherein the core portion is defined by a plurality of scattering points having a refractive index lower than that of the waveguide. Output optical multiplexing means.
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の前記光分岐手段は、前記コア部が前記導波路より屈折率の低い複数の散乱点により画定されるピクセル形状部からなることを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, the optical branching unit according to the second aspect is characterized in that the core portion includes a pixel shape portion defined by a plurality of scattering points having a refractive index lower than that of the waveguide. To do.
請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の導波路型光デバイスにおいて、A、BおよびCが互いに等しいことを特徴とする。 According to a fourth aspect of the present invention, in the waveguide type optical device according to the third aspect, A, B and C are equal to each other.
請求項5に記載の発明は、請求項1乃至4のいずれかに記載の光導波路デバイスにおいて、前記基板は、シリコン基板、石英基板のいずれかであり、前記光導波路は、石英系光導波路であり、前記位相調整手段は、クラッド層上に形成された薄膜ヒータであることを特徴とする。
The invention according to
以上説明したように、本発明によれば、ホログラフィック波動伝達媒体を適用して、位相調整手段と組み合わせることにより、光回路の小型化を図ることが可能となる。 As described above, according to the present invention, it is possible to reduce the size of the optical circuit by applying the holographic wave transmission medium and combining it with the phase adjusting means.
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について詳細に説明する。本実施形態の光導波路デバイスは、ホログラフィック波動伝達媒体により導波光の光路を制御する。ホログラフィック波動伝達媒体は、導波路より屈折率の低い複数の散乱点により画定され、2次元的な屈折率分布に応じた多重散乱によりホログラフィックに波動を伝達させる。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The optical waveguide device of this embodiment controls the optical path of guided light by a holographic wave transmission medium. The holographic wave transmission medium is defined by a plurality of scattering points having a refractive index lower than that of the waveguide, and transmits a wave to the holographic by multiple scattering according to a two-dimensional refractive index distribution.
最初に、本願発明に用いる波動伝達媒体の基本的概念について説明する。ここでは、光回路へ適用することから、波動伝達媒体中を伝搬する「波動」は「光」である。なお、波動伝達媒体にかかる理論は、一般の波動方程式に基づいて、媒質の特性を指定するものであり、一般の波動においても原理的に成り立ち得るものである。波動伝達媒体は、コヒーレントな光のパターンを入力して所望の光のパターンを出力させるために、波動伝達媒体中を伝搬する順伝搬光と逆伝搬光の位相差が、波動伝達媒体中の何れの場所においても小さくなるように屈折率分布が決定される。屈折率分布に応じた局所的なレベルのホログラフィック制御を多重に繰り返すことにより、所望の光のパターンが出力される。 First, the basic concept of the wave transmission medium used in the present invention will be described. Here, since it is applied to an optical circuit, the “wave” propagating in the wave transmission medium is “light”. The theory relating to the wave transmission medium specifies the characteristics of the medium based on a general wave equation, and can also hold in principle in general waves. In order to input a coherent light pattern and output a desired light pattern, the wave transmission medium has a phase difference between forward propagation light and back propagation light propagating in the wave transmission medium. The refractive index distribution is determined so as to be small even at the location. A desired light pattern is output by repeatedly repeating holographic control at a local level according to the refractive index distribution.
図3を参照して、本実施形態にかかる波動伝達媒体の基本構造を説明する。図3(a)に示したように、光回路基板1の中に、波動伝達媒体により構成される光回路の設計領域1−1が存在する。光回路の一方の端面は、入力光3−1が入射する入射面2−1である。入力光3−1は、波動伝達媒体で構成された空間的な屈折率分布を有する光回路中を多重散乱しながら伝搬し、他方の端面である出射面2−2から出力光3−2として出力される。図3(a)中の座標zは、光の伝搬方向の座標(z=0が入射面、z=zeが出射面)であり、座標xは、光の伝搬方向に対する横方向の座標である。なお、本実施形態では、波動伝達媒体は、誘電体からなるものと仮定し、空間的な屈折率分布は、波動伝達媒体を構成している誘電体の局所的な屈折率を後述する理論に基づいて設定することにより実現される。
With reference to FIG. 3, the basic structure of the wave transmission medium according to the present embodiment will be described. As shown in FIG. 3A, an optical circuit design area 1-1 constituted by a wave transmission medium exists in the
入力光3−1が形成している「場」(入力フィールド)は、光回路を構成する波動伝達媒体の屈折率の空間的分布に応じて変調され、出力光3−2の形成する「場」(出力フィールド)に変換される。換言すれば、本発明の波動伝達媒体は、その空間的な屈折率分布に応じて入力フィールドと出力フィールドとを相関づけるための(電磁)フィールド変換手段である。なお、これら入力フィールドおよび出力フィールドに対して、光回路中での伝搬方向(図中z軸方向)に垂直な断面(図中x軸に沿う断面)における光のフィールドを、その場所(x,z)における(順)伝搬像(伝搬フィールドあるいは伝搬光)と呼ぶ(図3(b)参照)。 The “field” (input field) formed by the input light 3-1 is modulated according to the spatial distribution of the refractive index of the wave transmission medium constituting the optical circuit, and the “field” formed by the output light 3-2. "(Output field). In other words, the wave transmission medium of the present invention is (electromagnetic) field conversion means for correlating the input field and the output field according to the spatial refractive index distribution. For these input field and output field, the light field in the cross section (cross section along the x axis in the figure) perpendicular to the propagation direction (z axis direction in the figure) in the optical circuit is represented by its location (x, This is called a (forward) propagation image (propagation field or propagation light) in z) (see FIG. 3B).
ここで、「フィールド」とは、一般に電磁場(電磁界)または電磁場のベクトルポテンシャル場を意味している。本実施形態における電磁場の制御は、光回路中に設けられた空間的な屈折率分布、すなわち誘電率の分布を変えることに相当する。誘電率はテンソルとして与えられるが、通常は偏光状態間の遷移はそれほど大きくないので、電磁場の1成分のみを対象としてスカラー波近似しても良い近似となる。そこで、本明細書では電磁場を複素スカラー波として扱う。なお、光の「状態」には、エネルギ状態(波長)と偏光状態とがあるため、「フィールド」を光の状態を表現するものとして用いる場合には、光の波長と偏光状態をも包含し得ることとなる。 Here, “field” generally means an electromagnetic field (electromagnetic field) or a vector potential field of an electromagnetic field. The control of the electromagnetic field in this embodiment corresponds to changing the spatial refractive index distribution provided in the optical circuit, that is, the dielectric constant distribution. Although the dielectric constant is given as a tensor, since the transition between the polarization states is usually not so large, it is an approximation that may be a scalar wave approximation for only one component of the electromagnetic field. Therefore, in this specification, the electromagnetic field is treated as a complex scalar wave. Since the “state” of light includes an energy state (wavelength) and a polarization state, when the “field” is used to express the state of light, the light wavelength and polarization state are also included. Will get.
また、通常、伝搬光の増幅や減衰を生じさせない光回路では、屈折率の空間的分布を決めると、焦点以外の入力光3−1の像(入力フィールド)は、出力光3−2の像(出力フィールド)に対して一意的に定まる。このような、出射面2−2側から入射面2−1側へと向かう光のフィールドを、逆伝搬像(逆伝搬フィールドあるいは逆伝搬光)と呼ぶ(図3(c)参照)。このような逆伝搬像は、光回路中の場所ごとに定義することができる。すなわち、光回路中での任意の場所における光のフィールドを考えたとき、その場所を仮想的な「入力光」の出射点として考えれば、上記と同様に出力光3−2の像に対して、その場所での逆伝搬像を考えることができる。このように、光回路中の各場所ごとに逆伝搬像が定義できる。 In general, in an optical circuit that does not cause amplification or attenuation of propagating light, when the spatial distribution of the refractive index is determined, an image (input field) of the input light 3-1 other than the focal point is an image of the output light 3-2. (Output field) is determined uniquely. Such a field of light traveling from the exit surface 2-2 side to the entrance surface 2-1 side is referred to as a back propagation image (a back propagation field or a back propagation light) (see FIG. 3C). Such a back propagation image can be defined for each place in the optical circuit. That is, when a light field at an arbitrary place in the optical circuit is considered, if the place is considered as an emission point of a virtual “input light”, the image of the output light 3-2 can be obtained in the same manner as described above. The back-propagation image at that location can be considered. In this way, a back propagation image can be defined for each location in the optical circuit.
特に、単一の光回路において、出射フィールドが入射フィールドの伝搬フィールドとなっている場合には、光回路の任意の点で、伝搬フィールドと逆伝搬フィールドとは一致する。なお、フィールドは、一般的に、対象とする空間全体の上の関数であるが、「入射フィールド」または「出射フィールド」という場合は、入射面あるいは出射面におけるフィールドの断面を意味している。また、「フィールド分布」という場合でも、ある特定の断面に関して議論を行う場合には、その断面についてのフィールドの断面を意味している。 In particular, in a single optical circuit, when the outgoing field is a propagation field of the incident field, the propagation field and the reverse propagation field coincide with each other at any point of the optical circuit. The field is generally a function over the entire target space, but the term “incident field” or “exit field” means a cross section of the field on the entrance surface or exit surface. In addition, even in the case of “field distribution”, when a discussion is made regarding a specific cross section, it means a cross section of the field with respect to that cross section.
屈折率分布の決定方法を説明するためには記号を用いるほうが見通しがよいので、各量を表すために以下のような記号を用いることとする。なお、対象とされる光(フィールド)は、単一状態の光には限定されないので、複数の状態の光が重畳された光を対象とされ得るべく、個々の状態の光にインデックスjを充てて一般的に表記する。 In order to explain the method of determining the refractive index distribution, it is better to use symbols, so the following symbols are used to represent each quantity. Note that the target light (field) is not limited to light in a single state. Therefore, an index j is assigned to light in each state so that light in which a plurality of states are superimposed can be targeted. In general.
・ψj(x):j番目の入射フィールド(複素ベクトル値関数であり、入射面において設定する強度分布および位相の分布、ならびに、波長および偏波により規定される。)
・φj(x):j番目の出射フィールド(複素ベクトル値関数であり、出射面において設定する強度分布および位相分布、ならびに、波長および偏波により規定される。)
なお、ψj(x)およびφj(x)は、回路中で強度増幅、波長変換、偏波変換が行われない限り、光強度の総和は同じ(あるいは無視できる程度の損失)であり、それらの波長も偏波も同じである。
・{ψj(x)、φj(x)}:入出力ペア(入出力のフィールドの組み。)
{ψj(x)、φj(x)}は、入射面および出射面における、強度分布および位相分布ならびに波長および偏波により規定される。
・{nq}:屈折率分布(光回路設計領域全体の値の組。)
与えられた入射フィールドおよび出射フィールドに対して屈折率分布を1つ与えたときに光のフィールドが決まるので、q番目の繰り返し演算で与えられる屈折率分布全体に対するフィールドを考える必要がある。そこで、(x,z)を不定変数として、屈折率分布全体をnq(x,z)と表しても良いが、場所(x,z)における屈折率の値nq(x,z)と区別するために、屈折率分布全体に対しては{nq}と表す。
・ncore:光導波路におけるコア部分のような、周囲の屈折率に対して高い屈折率の値を示す記号。
・nclad:光導波路におけるクラッド部分のような、ncoreに対して低い屈折率の値を示す記号。
・ψj(z,x,{nq}):j番目の入射フィールドψj(x)を屈折率分布{nq}中をzまで伝搬させたときの、場所(x,z)におけるフィールドの値。
・φj(z,x,{nq}):j番目の出射フィールドφj(x)を屈折率分布{nq}中をzまで逆伝搬させたときの、場所(x,z)におけるフィールドの値。
Ψ j (x): j-th incident field (complex vector value function, defined by intensity distribution and phase distribution set on the incident surface, and wavelength and polarization)
Φ j (x): j-th outgoing field (complex vector value function, defined by intensity distribution and phase distribution, wavelength and polarization set on the outgoing face)
Note that ψ j (x) and φ j (x) have the same total light intensity (or a negligible loss) unless intensity amplification, wavelength conversion, and polarization conversion are performed in the circuit. Their wavelength and polarization are the same.
{Ψ j (x), φ j (x)}: Input / output pair (a set of input / output fields)
{Ψ j (x), φ j (x)} is defined by the intensity distribution and the phase distribution, the wavelength and the polarization at the entrance surface and the exit surface.
{N q }: Refractive index distribution (a set of values for the entire optical circuit design area)
Since one field of light is determined when one refractive index distribution is given to a given incident field and outgoing field, it is necessary to consider a field for the entire refractive index distribution given by the qth iterative operation. Therefore, the entire refractive index distribution may be expressed as n q (x, z) with (x, z) as an indefinite variable, but the refractive index value n q (x, z) at the location (x, z) For distinction, {n q } is used for the entire refractive index distribution.
N core : A symbol indicating a high refractive index value with respect to the surrounding refractive index, such as a core portion in an optical waveguide.
N clad : a symbol indicating a low refractive index value with respect to n core , such as a clad portion in an optical waveguide.
Ψ j (z, x, {n q }): field at location (x, z) when the jth incident field ψ j (x) is propagated through the refractive index profile {n q } to z The value of the.
Φ j (z, x, {n q }): at the location (x, z) when the j-th outgoing field φ j (x) is propagated back to z in the refractive index profile {n q } The field value.
本実施形態において、屈折率分布は、すべてのjについてψj(ze,x,{nq})=φj(x)、またはそれに近い状態となるように{nq}が与えられる。 In the present embodiment, the refractive index distribution, all j for ψ j (z e, x, {n q}) is given = φ j (x), or the so close state {n q}.
「入力ポート」および「出力ポート」とは、入射端面および出射端面におけるフィールドの集中した「領域」であり、例えば、その部分に光ファイバを接続することにより、光強度をファイバに伝搬できるような領域である。ここで、フィールドの強度分布および位相分布は、j番目のものとk番目のものとで異なるように設計可能であるので、入射端面および出射端面に複数のポートを設けることができる。さらに、入射フィールドと出射フィールドの組を考えた場合、その間の伝搬により発生する位相が、光の周波数によって異なるので、周波数が異なる光(すなわち波長の異なる光)については、位相を含めたフィールド形状が同じであるか直交しているかの如何にかかわらず、異なるポートとして設定することができる。 “Input port” and “output port” are “areas” where the fields at the entrance end face and the exit end face are concentrated. For example, by connecting an optical fiber to the part, the optical intensity can be propagated to the fiber. It is an area. Here, since the field intensity distribution and phase distribution can be designed to be different for the j-th and k-th ones, a plurality of ports can be provided on the entrance end face and the exit end face. Furthermore, when considering a pair of an incident field and an outgoing field, the phase generated by the propagation between them differs depending on the frequency of light. Therefore, for light having different frequencies (that is, light having different wavelengths), the field shape including the phase is included. Regardless of whether they are the same or orthogonal, they can be configured as different ports.
ここで、電磁界は、実数ベクトル値の場で、かつ波長と偏光状態をパラメータとして有するが、その成分の値を一般な数学的取扱いが容易な複素数で表示し、電磁波の解を表記する。また、以下の計算においては、フィールド全体の強度は1に規格化されているものとする。図3(b)および図3(c)に示したように、j番目の入射フィールドψj(x)および出力フィールドφj(x)に対し、伝搬フィールドと逆伝搬フィールドとをそれぞれの場所の複素ベクトル値関数として、ψj(z,x,{n})およびφj(z,x,{n})と表記する。これらの関数の値は、屈折率分布{n}により変化するため、屈折率分布{n}がパラメータとなる。記号の定義により、ψj(x)=ψj(0,x,{n})、および、φj(x)=φj(ze,x,{n})となる。これらの関数の値は、入射フィールドψj(x)、出射フィールドφj(x)、および屈折率分布{n}が与えられれば、ビーム伝搬法などの公知の手法により容易に計算することができる。 Here, the electromagnetic field is a field of a real vector value, and has a wavelength and a polarization state as parameters, but the value of the component is displayed as a complex number that can be easily handled in a general mathematical manner, and represents the solution of the electromagnetic wave. In the following calculation, it is assumed that the strength of the entire field is normalized to 1. As shown in FIGS. 3B and 3C, with respect to the jth incident field ψ j (x) and the output field φ j (x), the propagation field and the back propagation field are set at the respective locations. As complex vector value functions, they are expressed as ψ j (z, x, {n}) and φ j (z, x, {n}). Since the values of these functions vary depending on the refractive index distribution {n}, the refractive index distribution {n} is a parameter. According to the definition of the symbols, ψ j (x) = ψ j (0, x, {n}) and φ j (x) = φ j (z e , x, {n}). The values of these functions can be easily calculated by a known method such as a beam propagation method, given an incident field ψ j (x), an outgoing field φ j (x), and a refractive index distribution {n}. it can.
以下に、空間的な屈折率分布を決定するための一般的なアルゴリズムを説明する。図4に、波動伝達媒体の空間的な屈折率分布を決定するための計算手順を示す。この計算は、繰り返し実行されるので、繰り返し回数をqで表し、(q−1)番目まで計算が実行されているときのq番目の計算の様子が図示されている。(q−1)番目の計算によって得られた屈折率分布{nq-1}をもとに、各j番目の入射フィールドψj(x)および出射フィールドφj(x)について、伝搬フィールドと逆伝搬フィールドとを数値計算により求め、その結果を各々、ψj(z,x,{nq-1})およびφj(z,x,{nq-1})と表記する(ステップS220)。 In the following, a general algorithm for determining the spatial refractive index distribution will be described. FIG. 4 shows a calculation procedure for determining the spatial refractive index distribution of the wave transmission medium. Since this calculation is repeatedly executed, the number of repetitions is represented by q, and the state of the qth calculation when the calculation is executed up to the (q−1) th is shown. Based on the refractive index distribution {n q-1 } obtained by the (q-1) th calculation, the propagation field and the jth incident field ψ j (x) and the outgoing field φ j (x) The back propagation field is obtained by numerical calculation, and the results are expressed as ψ j (z, x, {n q-1 }) and φ j (z, x, {n q-1 }), respectively (step S220). ).
これらの結果をもとに、各場所(z,x)における屈折率nq(z,x)を、次式により求める(ステップS240)。
nq(z,x)=nq-1(z,x)−αΣjIm[φj(z,x,{nq-1})*・ψj(z,x,{nq-1})] ・・・(1)
ここで、右辺第2項中の記号「・」は、内積演算を意味し、Im[]は、[]内のフィールド内積演算結果の虚数成分を意味する。なお、記号「*」は複素共役である。係数αは、nq(z,x)の数分の1以下の値をさらにフィールドの組の数で割った値であり、正の小さな値である。Σjは、インデックスjについて和をとるという意味である。
Based on these results, the refractive index n q (z, x) at each location (z, x) is obtained by the following equation (step S240).
n q (z, x) = n q-1 (z, x) −αΣ j Im [φ j (z, x, {n q-1 }) * · ψ j (z, x, {n q-1 })] (1)
Here, the symbol “·” in the second term on the right side means an inner product operation, and Im [] means an imaginary number component of the field inner product operation result in []. The symbol “*” is a complex conjugate. The coefficient α is a value obtained by dividing a value equal to or less than a fraction of n q (z, x) by the number of field pairs, and is a small positive value. Σ j means that the sum is taken for the index j.
ステップS220とS240とを繰り返し、伝搬フィールドの出射面における値ψj(ze,x,{n})と出射フィールドφj(x)との差の絶対値が、所望の誤差djよりも小さくなると(ステップS230:YES)計算が終了する。 Step S220 and S240 and repeats the value in the exit plane of the propagation field ψ j (z e, x, {n}) the absolute value of the difference between the exit field φ j (x) is than desired error d j When it becomes smaller (step S230: YES), the calculation ends.
以上の計算では、屈折率分布の初期値{n0}は適当に設定すればよいが、この初期値{n0}が予想される屈折率分布に近ければ、それだけ計算の収束は早くなる(ステップS200)。また、各jについてφj(z,x,{nq-1})およびψj(z,x,{nq-1})を計算するにあたっては、パラレルに計算が可能な計算機の場合は、jごと(すなわち、φj(z,x,{nq-1})およびψj(z,x,{nq-1})ごと)に計算すればよいので、クラスタシステム等を利用して計算の効率化を図ることができる(ステップS220)。また、比較的少ないメモリで計算機が構成されている場合は、式(1)のインデックスjについての和の部分で、各qで適当なjを選び、その分のφj(z,x,{nq-1})およびψj(z,x,{nq-1})のみを計算して、以降の計算を繰り返すことも可能である(ステップS220)。 In the above calculation, the initial value {n 0 } of the refractive index distribution may be set appropriately. However, if this initial value {n 0 } is close to the expected refractive index distribution, the calculation converges faster accordingly ( Step S200). When calculating φ j (z, x, {n q-1 }) and ψ j (z, x, {n q-1 }) for each j, , J (that is, φ j (z, x, {n q-1 }) and ψ j (z, x, {n q-1 })). Thus, calculation efficiency can be improved (step S220). If the computer is configured with a relatively small memory, an appropriate j is selected for each q in the sum of the index j in equation (1), and φ j (z, x, { It is also possible to calculate only n q-1 }) and ψ j (z, x, {n q-1 }) and repeat the subsequent calculations (step S220).
以上の演算において、φj(z,x,{nq-1})の値とψj(z,x,{nq-1})の値とが近い場合には、式(1)中のIm[φj(z,x,{nq-1})*・ψj(z,x,{nq-1})]は位相差に対応する値となり、この値を減少させることで所望の出力を得ることが可能である。 In the above operation, φ j (z, x, {n q-1}) in the case of values and ψ j (z, x, { n q-1}) and the value of the near, the formula (1) Im [φ j (z, x, {n q-1 }) * · ψ j (z, x, {n q-1 })] is a value corresponding to the phase difference, and by reducing this value, It is possible to obtain a desired output.
屈折率分布の決定は、波動伝達媒体に仮想的メッシュを定め、このメッシュによって画定される微小領域(ピクセル)の屈折率を、各ピクセルごとに決定することと言い換えることもできる。このような局所的な屈折率は、原理的には、その場所ごとに任意の(所望の)値とすることができる。最も単純な系は、低屈折率(nL)を有するピクセルと高屈折率(nH)を有するピクセルのみからなる系であり、これら2種のピクセルの空間的分布により全体的な屈折率分布が決定される。この場合、媒体中の低屈折率ピクセルが存在する場所を高屈折率ピクセルの空隙として観念したり、逆に、高屈折率ピクセルが存在する場所を低屈折率ピクセルの空隙として観念したりすることができる。すなわち、本発明の波動伝達媒体は、均一な屈折率を有する媒体中の所望の場所(ピクセル)を、これとは異なる屈折率のピクセルで置換したものと表現することができる。 The determination of the refractive index distribution can be rephrased as defining a virtual mesh in the wave transmission medium and determining the refractive index of a minute region (pixel) defined by the mesh for each pixel. In principle, such a local refractive index can be an arbitrary (desired) value for each location. The simplest system is a system consisting only of pixels having a low refractive index (n L ) and pixels having a high refractive index (n H ), and the overall refractive index distribution due to the spatial distribution of these two types of pixels. Is determined. In this case, the place where the low refractive index pixel exists in the medium is considered as a gap of the high refractive index pixel, and conversely, the place where the high refractive index pixel exists is considered as the gap of the low refractive index pixel. Can do. That is, the wave transmission medium of the present invention can be expressed as a desired place (pixel) in a medium having a uniform refractive index replaced with a pixel having a different refractive index.
上述した屈折率分布決定のための演算内容を要約すると次のようになる。波動をホログラフィックに伝達させ得る媒体(光の場合には誘電体)に、入力ポートと出力ポートとを設け、入力ポートから入射した伝搬光のフィールド分布1(順伝搬光)と、入力ポートから入射した光信号が出力ポートから出力される際に期待される出力フィールドを出力ポート側から逆伝搬させた位相共役光のフィールド分布2(逆伝搬光)と、を数値計算により求める。フィールド分布1およびフィールド分布2を、伝搬光と逆伝搬光の各点(x,z)における位相差をなくすように、媒体中での空間的な屈折率分布を求める。なお、このような屈折率分布を得るための方法として最急降下法を採用すれば、各点の屈折率を変数として最急降下法により得られる方向に屈折率を変化させることにより、屈折率を式(1)のように変化させることで、2つのフィールド間の差を減少させることができる。このような波動伝達媒体を、入力ポートから入射した光を所望の出力ポートに出射させる光部品に応用すれば、媒体内で生じる伝搬波同士の多重散乱による干渉現象により、実効的な光路長が長くなり、緩やかな屈折率変化(分布)でも充分に高い光信号制御性を有する光回路を構成することができる。
The calculation contents for determining the refractive index distribution described above are summarized as follows. An input port and an output port are provided in a medium capable of transmitting a wave in a holographic manner (dielectric in the case of light). Field distribution 1 (forward propagation light) of propagating light incident from the input port and from the input port A field distribution 2 (reverse propagation light) of phase conjugate light in which an output field expected when an incident optical signal is output from the output port is propagated backward from the output port side is obtained by numerical calculation. In the
図5に、本発明の一実施形態にかかる偏向器を用いた光スイッチを示す。入力用光導波路301から入力された光信号は、光分岐回路302により波長ごとに、複数の光導波路からなる導波路アレイ304に出力される。導波路アレイ304には、おのおの光変調手段303が設けられている。光変調手段303は、電気光学効果、熱光学効果などにより、導波路中の屈折率を変えて、透過する光信号の位相を変える。導波路アレイ304から出力された信号は、波動伝達媒体により構成され、偏向器として機能する光合波回路305に入力され、所定の出力用導波路306から出力される。
FIG. 5 shows an optical switch using a deflector according to an embodiment of the present invention. The optical signal input from the input
光合波回路305は、屈折率の低い複数の散乱点により画定されるピクセル形状部であり、上述したアルゴリズムを適用して、屈折率分布が計算されたホログラフィック波動伝達媒体である。約200回の繰り返しにより、図6に示した屈折率分布を有する光合波回路が得られる。ここで、図中の光回路設計領域1−1内の黒色部分は、コアに相当する高屈折率部(誘電体多重散乱部)1−11であり、黒色部以外の部分はクラッドに相当する低屈折率部1−12であり、導波路より屈折率の低い散乱点である。クラッドの屈折率は、石英ガラスの屈折率を想定し、コアの屈折率は、石英ガラスに対する比屈折率が0.75%だけ高い値を有する。光回路のサイズは縦200μm、横500mである。
The
なお、メッシュの最小寸法は、光信号の波長1.55μmに対して、光散乱が生じる形状として十分に小さい値を仮定し、実際の設計において計算機メモリの消費を抑えるために、最小寸法を0.2μmとする。 Note that the minimum dimension of the mesh is assumed to be a sufficiently small value as the shape in which light scattering occurs with respect to the wavelength of the optical signal of 1.55 μm, and the minimum dimension is set to 0 in order to suppress the consumption of computer memory in the actual design. .2 μm.
波動伝達媒体は、導波路アレイ304に接続される各々の入力ポートから入力された光信号を、光変調手段303の位相の組み合わせに応じて、所定の出力導波路306から出力するように設計されている。上述したアルゴリズムを用いることにより、位相の組み合わせ、すなわち入力の組み合わせに応じた、異なる向きの光ビーム、すなわち出力の組み合わせを実現することができる。また、上述したアルゴリズムを用いることにより、光ビームが出力導波路306に効率よく入射できるように、光合波回路305と出力導波路306の光学的結合も最適化することができる。このようにして、導波路アレイ304を透過する光信号を、各々の光変調手段303により位相を変化させることにより、所定の出力用導波路306に選択的に出力させることができる。
The wave transmission medium is designed to output an optical signal input from each input port connected to the
図7に、本発明の一実施形態にかかる光合分岐回路を用いた光スイッチを示す。入力用光導波路401から入力された光信号は、光合分岐回路402により、複数の光導波路からなる導波路アレイ404に出力される。導波路アレイ404には、おのおの光変調手段403が設けられている。光変調手段403は、電気光学効果、熱光学効果などにより、導波路中の屈折率を変えて、透過する光信号の位相を変える。導波路アレイ404から出力された信号は、波動伝達媒体により構成され、光合分岐回路405に入力され、所定の出力用導波路406から出力される。
FIG. 7 shows an optical switch using an optical coupling / branching circuit according to an embodiment of the present invention. The optical signal input from the input
光合分岐回路402および光合分岐回路405は、屈折率の低い複数の散乱点により画定されるピクセル形状部であり、上述したアルゴリズムを適用して、屈折率分布が計算されたホログラフィック波動伝達媒体である。図8に、光合分岐回路に適用される波動伝達媒体の屈折率分布を示す。ここで、図中の光回路設計領域1−1内の黒色部分は、コアに相当する高屈折率部(誘電体多重散乱部)1−11であり、黒色部以外の部分はクラッドに相当する低屈折率部1−12であり、導波路より屈折率の低い散乱点である。クラッドの屈折率は、石英ガラスの屈折率を想定し、コアの屈折率は、石英ガラスに対する比屈折率が0.75%だけ高い値を有する。光回路のサイズは、縦200μm、横500mである。
The optical coupling / branching
光合分岐回路402である波動伝達媒体は、入力用光導波路401から入力された光信号を、導波路アレイ404に出力するように設計されている。光合分岐回路405である波動伝達媒体は、導波路アレイ404に入力された光信号を、位相に応じて、所定の出力導波路406から出力するように設計されている。光合分岐回路402および光合分岐回路405は、上述したアルゴリズムを用いることにより、小型で低損失の光スイッチを実現することができる。一方、光変調手段403において電気光学効果、熱光学効果などにより、導波路中の屈折率を変えて、透過する光信号の位相を変える。上述したアルゴリズムで求められる波動伝達媒体よりも、集中定数的に、変調を加える従来の導波路の方が、効率よく変調することができる。従って、従来と比較しても、全体として小型で低損失の光スイッチを実現することができる。
The wave transmission medium that is the optical coupling / branching
1−1 光回路設計領域
1−2 基板
1−11 高屈折率部
1−12 低屈折率部
2−1 入射面
2−2,2−3 出射面
301,401 入力用光導波路
302 光分岐回路
303,403 光変調手段
304,404 導波路アレイ
305 光合波回路
306,406 出力用導波路
402,405 光合分岐回路
1-1 Optical Circuit Design Area 1-2 Substrate 1-11 High Refractive Index Section 1-12 Low Refractive Index Section 2-1 Incident Surface 2-2, 2-3
Claims (5)
前記導波路より屈折率の低い複数の散乱点により画定されるピクセル形状部と、
位相調整手段を含む等幅部と
を備えたことを特徴とする光導波路デバイス。 In an optical waveguide device configured by a waveguide including a clad layer formed on a substrate and a core portion embedded in the clad layer, the core portion includes:
A pixel shape defined by a plurality of scattering points having a lower refractive index than the waveguide;
An optical waveguide device comprising: an equal width portion including a phase adjusting means.
A本の入力用光導波路と、
該入力用光導波路に接続されたA入力B出力の光分岐手段と、
該光分岐手段に接続され、各々の光導波路が位相調整手段を含むB本の光導波路アレイと、
該光導波路アレイに接続され、前記コア部が前記導波路より屈折率の低い複数の散乱点により画定されるピクセル形状部からなるB入力C出力の光合波手段と
を備えたことを特徴とする光導波路デバイス。 In an optical waveguide device constituted by a waveguide composed of a clad layer formed on a substrate and a core portion embedded in the clad layer, A is an integer of 1 or more, and B and C are integers of 2 or more. ,
A input optical waveguides;
A input B output optical branching means connected to the input optical waveguide;
B optical waveguide arrays connected to the optical branching means, each optical waveguide including phase adjusting means;
B input C output optical multiplexing means comprising a pixel-shaped portion connected to the optical waveguide array, the core portion being defined by a plurality of scattering points having a refractive index lower than that of the waveguide. Optical waveguide device.
前記光導波路は、石英系光導波路であり、
前記位相調整手段は、クラッド層上に形成された薄膜ヒータであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の光導波路デバイス。
The substrate is either a silicon substrate or a quartz substrate,
The optical waveguide is a silica-based optical waveguide,
5. The optical waveguide device according to claim 1, wherein the phase adjusting means is a thin film heater formed on a clad layer.
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