JP2005343073A - Method for producing structure having release layer capable of adjusting release force - Google Patents
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Abstract
【目的】
自由に剥離力を調整できる剥離層を有する構造体を作成することを目的とする。
【構成】
シリコーン組成物からなる剥離層を有する構造体において、当該剥離層に電子線を照射することにより剥離力を調節することのできる構造体の製造方法。さらに、シリコーン組成物中、一分子中に一個または二個以上のラジカル反応性基を有するシリコーンを10〜100重量%含有することを特徴とする上記構造体の製造方法。さらに、ラジカル反応性基が、アクリル基、メタクリロイル基、スチリル基、ビニル基、アルケリル基から選択されることを特徴とする上記構造体の製造方法。【the purpose】
An object is to create a structure having a release layer that can freely adjust the release force.
【Constitution】
A structure having a release layer made of a silicone composition, wherein the release force can be adjusted by irradiating the release layer with an electron beam. Furthermore, 10-100 weight% of silicone which has a 1 or 2 or more radical reactive group in 1 molecule in a silicone composition is contained, The manufacturing method of the said structure characterized by the above-mentioned. Furthermore, the radical reactive group is selected from an acryl group, a methacryloyl group, a styryl group, a vinyl group, and an alkenyl group.
Description
本発明は、剥離紙、粘着ラベル、粘着テープ、多層ラベル等に代表される、剥離層を有する構造体およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a structure having a release layer, represented by a release paper, an adhesive label, an adhesive tape, a multilayer label and the like, and a method for producing the structure.
近年、粘着剤、粘着テープに対する需要が多様化し、様々な用途に、様々な粘着剤、粘着テープが使用されている。その中で、一般的な粘着剤では粘着し難いシリコーンなどにもよく接着し、耐熱、耐寒をはじめ、電気絶縁性、耐薬品性、耐候性に優れた特徴のあるシリコーン系粘着剤は非常に需要が多い。現在、粘着テープの剥離 ライナーに使用されている剥離剤は、シリコーンが殆どであり、往々にして非常に低い剥離力を有する。 In recent years, the demand for adhesives and adhesive tapes has diversified, and various adhesives and adhesive tapes are used for various applications. Among them, silicone adhesives that adhere well to silicone, etc., which are difficult to stick with ordinary adhesives, have excellent characteristics such as heat resistance, cold resistance, electrical insulation, chemical resistance, and weather resistance. There is much demand. Currently, most of the release agent used for the release liner of the adhesive tape is silicone, and often has a very low release force.
しかし、感応性粘着剤から容易に剥離しない剥離剤の求められる重要な応用分野もある。例えば高速稼働する工業的なラベル貼付には、重剥離特性あるいは可変的な剥離特性を持つ剥離剤が要求される。ラベルが剥離紙から尚早に剥離するのを回避する為にはシリコーンの重剥離剤が望ましい。可変的な剥離特性は、両面剥離性の積層品、つまり片面には軽剥離性シリコーンを、もう片面には重剥離性シリコーンを塗工することにより剥離力に差をつけた積層体を提供する場合に有用である。 However, there are also important fields of application where a release agent that does not easily release from a sensitive adhesive is required. For example, for industrial labeling that operates at high speed, a release agent having heavy release characteristics or variable release characteristics is required. A silicone heavy release agent is desirable to avoid premature release of the label from the release paper. Variable release characteristics provide a double-sided peelable laminate, that is, a laminate with a different peel force by applying lightly peelable silicone on one side and heavy peelable silicone on the other. Useful in cases.
そこで、シリコーン組成物の剥離力の剥離力調節添加物として、非官能性およびビニル官能性のシリコーン樹脂が使用する方法が知られている。ビニル官能性シリコーンとSiH官能性シリコーン架橋剤との、樹脂および/或いは液体混合物は、貴金属触媒の存在下で、公知のヒドロシリル化付加反応により硬化する。シリコーン組成物の主成分に添加されるビニル官能性シリコーン樹脂の量を変化させることで、所与の系から様々な水準の剥離力が獲得され得る。 Accordingly, a method is known in which non-functional and vinyl-functional silicone resins are used as additives for adjusting the peeling force of the silicone composition. Resin and / or liquid mixtures of vinyl functional silicones and SiH functional silicone crosslinkers are cured by known hydrosilylation addition reactions in the presence of noble metal catalysts. By varying the amount of vinyl functional silicone resin added to the main component of the silicone composition, various levels of peel force can be obtained from a given system.
特開平06-166820号公報には、ビニル変性シリコーンを主体とするシリコーン剥離塗料中に、その剥離力を調節し得る熱付加過熱硬化性の剥離塗料組成物を提供する、三官能性あるいは四官能性のシロキサン単位を含むエポキシ官能性シリコーン樹脂を添加することによって、剥離力を調節する方法が開示されている。 JP-A-06-166820 discloses a trifunctional or tetrafunctional silicone-based release coating composition that can adjust the release force in a silicone release coating mainly composed of vinyl-modified silicone. A method for adjusting the peel force by adding an epoxy-functional silicone resin containing a functional siloxane unit is disclosed.
特開平11-100551公報には、アルケニル官能性ポリオルガノシロキサンと、不相溶性の基0.1〜60モル%を有するSiH官能性オルガノシロキサンを包含する組成物の架橋により得られるシリコーン組成物において、アルケニル官能性ポリオルガノシロキサンを包含するシリコーンコーティング組成物との不相溶性の程度を調節する方法が開示されている。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-100551 discloses a silicone composition obtained by crosslinking a composition comprising an alkenyl functional polyorganosiloxane and an SiH functional organosiloxane having an incompatible group of 0.1 to 60 mol%. Disclosed are methods for adjusting the degree of incompatibility with silicone coating compositions including alkenyl functional polyorganosiloxanes.
特開平10-195388公報には、シリコーン剥離コーティング用の剥離調節剤として、フルオロシリコーン樹脂とアルケニル官能オルガノポリシロキサンの混合物を含む剥離調節剤を用いて剥離力を調節する方法を開示している。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-195388 discloses a method for adjusting the peeling force using a release regulator containing a mixture of a fluorosilicone resin and an alkenyl functional organopolysiloxane as a release regulator for a silicone release coating.
特開平09-278893公報には、パーフルオロアルキル基及び少なくとも3つのケイ素結合された水素原子を有するフルオロシリコーン化合物、並びに、少なくとも1つのアルケニル基を有するMQ樹脂からなる、剥離改質剤を配合した組成物を用いて剥離力を調節する方法を開示している。 In JP 09-278893 A, a release modifier comprising a perfluoroalkyl group and a fluorosilicone compound having at least three silicon-bonded hydrogen atoms and an MQ resin having at least one alkenyl group was blended. Disclosed is a method for adjusting peel force using a composition.
さらに特開平07-002976公報には、紫外硬化性エポキシシリコーン剥離剤用の剥離力調節方法として、エポキシ官能性シリコーン樹脂とエポキシ末端液体ジメチルシリコーンとの或る独自の組み合わせにより、剥離力を調節する方法が開示されている。 Further, JP-A 07-002976 discloses a method for adjusting the peeling force by a unique combination of an epoxy-functional silicone resin and an epoxy-terminated liquid dimethyl silicone as a peeling force adjusting method for an ultraviolet curable epoxy silicone release agent. A method is disclosed.
しかし、これら熱硬化または紫外線硬化によって剥離力を調節する方法によって作製された剥離組成物は、その組成に基づく一定の範囲内でしか剥離力の調整ができず、異なる剥離力の剥離シートが求められるときは、随時組成物の組成をかえたものを作製しなければいけない。
本発明は、自由に剥離力を調整できる剥離層を有する構造体を作成することを目的とする。 An object of this invention is to produce the structure which has a peeling layer which can adjust peeling force freely.
上記問題を解決するために、本発明において、シリコーン組成物による剥離層に電子線を照射する手段を用いた。本発明の構造体は、紫外線硬化によって得られるシリコーン組成物による剥離層に、電子線を照射することにより剥離力を増加させることができる。これは従来のシリコーン組成物の組成比、添加剤を入れるなどの原材料からの剥離力の調節方法ではなく、ある一定の剥離力を持ったものから、容易に様々な剥離力を調節出来る。
また加速電圧、照射線量の違いによって剥離力の調節をすることもできる。
In order to solve the above problem, in the present invention, a means for irradiating the release layer made of the silicone composition with an electron beam was used. The structure of the present invention can increase the peeling force by irradiating a release layer made of a silicone composition obtained by ultraviolet curing with an electron beam. This is not a conventional method for adjusting the peeling force from the raw material such as the composition ratio of the silicone composition or the addition of additives, but various peeling forces can be easily adjusted from those having a certain peeling force.
Also, the peeling force can be adjusted depending on the difference in acceleration voltage and irradiation dose.
即ち、本発明は、シリコーン組成物からなる剥離層を有する構造体において、当該剥離層に電子線を照射することにより剥離力を調節することのできる構造体の製造方法に関する。
また、本発明は、シリコーン組成物中、一分子中に一個または二個以上のラジカル反応性基を有するシリコーンを10〜100重量%含有することを特徴とする上記構造体の製造方法に関する。
また、本発明は、ラジカル反応性基が、アクリル基、メタクリロイル基、スチリル基、ビニル基、アルケリル基から選択されることを特徴とする上記構造体の製造方法に関する。
さらに本発明は、上記構造体が両面テープに応用されることを特徴とする構造体の製造方法に関する。
That is, the present invention relates to a structure having a release layer made of a silicone composition, and a method for producing a structure in which the release force can be adjusted by irradiating the release layer with an electron beam.
The present invention also relates to a method for producing the above structure, wherein the silicone composition contains 10 to 100% by weight of silicone having one or more radical reactive groups in one molecule.
The present invention also relates to a method for producing the above structure, wherein the radical reactive group is selected from an acryl group, a methacryloyl group, a styryl group, a vinyl group, and an alkenyl group.
Furthermore, this invention relates to the manufacturing method of the structure characterized by the above-mentioned structure being applied to a double-sided tape.
本発明の剥離構造体は、組成を大幅に変化させることなく、電子線照射により自由に剥離力を調整できることが可能である。 The peeling structure of the present invention can freely adjust the peeling force by electron beam irradiation without significantly changing the composition.
まず、本発明の剥離構造体に用いられる基材としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、アセテート、セロハン、ポリカーボネート、ポリテトラフルオロエチレン、ポリイミド、ポリスチレン等のプラスチックフィルム;クラフト紙、グラシン紙、クレープ紙等の紙;レーヨン等の布;アルミニウム等の金属;これらの複合体等を使用することができる。すなわち、従来から用いられているプラスチックフィルム、紙、不織布、織布、発泡体等を用いることができる。 First, as a base material used for the peeling structure of the present invention, plastic films such as polyethylene, polypropylene, polyester, polyvinyl chloride, acetate, cellophane, polycarbonate, polytetrafluoroethylene, polyimide, polystyrene; kraft paper, glassine paper Paper such as crepe paper; cloth such as rayon; metal such as aluminum; and composites of these can be used. That is, conventionally used plastic film, paper, non-woven fabric, woven fabric, foam and the like can be used.
これら基材に剥離層となるシリコーン組成物を塗布する方法としては、ロール塗布、グラビア塗布、ワイヤードクター塗布、エアーナイフ塗布、ディッピング塗布等の公知の方法を採用することができる。 As a method for applying a silicone composition to be a release layer to these substrates, known methods such as roll coating, gravure coating, wire doctor coating, air knife coating, dipping coating, and the like can be employed.
剥離層を構成する紫外線硬化型シリコーン組成物としては、一般的には一分子中に一個または二個以上のラジカル反応性基(アクリル基、メタクリロイル基、スチリル基、ビニル基、アルケニル基等)を有するシリコーンを好適に用いることができる。
これらラジカル反応性基を有するシリコーンの含有量としては、全シリコーン組成物中10〜100重量%であることが好ましい。
As an ultraviolet curable silicone composition constituting the release layer, generally one or two or more radical reactive groups (acrylic group, methacryloyl group, styryl group, vinyl group, alkenyl group, etc.) are contained in one molecule. The silicone which has can be used suitably.
The content of the silicone having these radical reactive groups is preferably 10 to 100% by weight in the total silicone composition.
紫外線硬化型シリコーン組成物には、ポリシロキサンの側鎖、片末端、両末端、または側鎖と両末端の両方にラジカル反応性基を導入したものなどがある。
Examples of the ultraviolet curable silicone composition include those having a radical reactive group introduced into the side chain, one end, both ends, or both the side chain and both ends of polysiloxane.
シリコーン組成物に電子線を照射すると、シリコーン組成物中の結合(−Si−O−O−Si−)が電子線によって切断され、シリコンオキサイドラジカル(Si−O・)が生じる。このシリコンオキサイドラジカル(Si−O・)が粘着層と何らかの反応が起こるためで、剥離力が増加すると考えられる。 When the silicone composition is irradiated with an electron beam, a bond (—Si—O—O—Si—) in the silicone composition is broken by the electron beam, and a silicon oxide radical (Si—O.) Is generated. This silicon oxide radical (Si—O.) Is considered to cause some reaction with the adhesive layer, which is considered to increase the peeling force.
シリコーン組成物には、これらシリコーンのいずれかを単独で、またはこれらの二種以上を混合して使用することができ、また、重合度や度単官能含有量の異なるシリコーンや官能基の異なるシリコーンを混合しても良い。また、ラジカル反応型(付加型、重合型)の他に、ヒロドシリル化反応型やカチオン重合型であっても良い。また、上記シリコーン以外に、必要に応じて、酸素硬化阻害抑制剤、反応希釈剤、有機溶剤、レベリング剤、充填剤、帯電防止剤、消泡剤、顔料、染料などを通常の範囲で添加しても良い。 In the silicone composition, any one of these silicones can be used alone, or a mixture of two or more of these silicones can be used. Silicones with different degrees of polymerization and monofunctional content or silicones with different functional groups can be used. May be mixed. In addition to the radical reaction type (addition type, polymerization type), a hydrosilylation reaction type or a cationic polymerization type may be used. In addition to the above silicone, oxygen curing inhibition inhibitors, reaction diluents, organic solvents, leveling agents, fillers, antistatic agents, antifoaming agents, pigments, dyes, etc. may be added within the normal range as necessary. May be.
ラジカル重合開始剤としては、光開裂型と水素引き抜き型に大別して例示することができる。前者の例として、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α−アクリルベンゾイン等のベンゾイン系、ベンジル、2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパンー1−オン(イルガキュア907:チバスペシャルティケミカルズ社製)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−1−ブタノン(イルガキュア369:チバスペシャルティケミカルズ社製)、ベンジルメチルケタール(イルガキュア651:チバスペシャルティケミカルズ社製)、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(イルガキュア184:チバスペシャルティケミカルズ社製)、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(ダロキュア1173:メルク社製)、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン(ダロキュア1116:メルク社製)、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、4−(2−アクリロイル−オキシエトキシ)フェニル−2−ヒドロキシ−2−プロピルケトン、ジエトキシアセトフェノン(ZLI3331:チバスペシャルティケミカルズ社製)、エサキュアーKIP100(ラムベルティ社製)、ルシリンTPO( BASF社製)、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド(BAPO1:チバスペシャルティケミカルズ社製)、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド(BAPO2:チバスペシャルティケミカルズ社製)、BTTB(日本油脂(株)製)、CGI1700(チバスペシャルティケミカルズ社製)等が例示される。後者の例として、ベンゾフェノン、p−メチルベンゾフェノン、p−クロルベンゾフェノン、テトラクロロベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4' −メチル−ジフェニルサルファイド、2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4ジエチルチオキサントン、2,4ジクロロチオキサントン、アセトフェノン等のアリールケトン系開始剤、4,4' −ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4' −ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、p−ジメチルアミノアセトフェノン等のジアルキルアミノアリールケトン系開始剤、チオキサントン、キサントン系のおよびそのハロゲン置換系の多環カルボニル系開始剤等が例示される。 Examples of radical polymerization initiators can be broadly classified into photocleavage types and hydrogen abstraction types. Examples of the former include benzoin such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, α-acryl benzoin, benzyl, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one (Irgacure 907: Ciba Specialty) Chemicals), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone (Irgacure 369: Ciba Specialty Chemicals), benzylmethyl ketal (Irgacure 651: Ciba Specialty Chemicals) 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184: manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (Darocur 1173: Merck) 1- (4-Isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one (Darocur 1116: manufactured by Merck & Co.), 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-) Propyl) ketone, 4- (2-acryloyl-oxyethoxy) phenyl-2-hydroxy-2-propylketone, diethoxyacetophenone (ZLI3331: manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Esacure KIP100 (manufactured by Ramberty), Lucillin TPO (BASF) Bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide (BAPO1: manufactured by Ciba Specialty Chemicals), bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine Fin oxide (BAPO : Manufactured by Ciba Specialty Chemicals Inc.), manufactured by BTTB (NOF (Ltd.)), CGI1700 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Inc.) and the like. Examples of the latter include benzophenone, p-methylbenzophenone, p-chlorobenzophenone, tetrachlorobenzophenone, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyl-diphenyl sulfide, 2-isopropylthioxanthone , 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4 diethylthioxanthone, 2,4 dichlorothioxanthone, aryl ketone initiators such as acetophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (dimethylamino) Dialkylaminoaryl ketone initiators such as benzophenone, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, p-dimethylaminoacetophenone, thioxanthone, xanthone-based and halogens thereof Polycyclic carbonyl-based initiators such substitution system is illustrated.
これらの単独または適宣組み合わせて用いる事も出来る。これらの開始剤は組成物中0.1〜30重量%の範囲で用いる事が出来るが、好ましくは1〜15重量%の範囲で用いる事が出来る。 These can be used alone or in combination. These initiators can be used in the range of 0.1 to 30% by weight in the composition, but preferably in the range of 1 to 15% by weight.
粘着剤としては、従来からこの種の材料として使用されているいずれの材料も使用することができ、感圧性接着剤として通常用いられている、ゴム系、アクリル系、ビニル系、シリコーン系等が用いられ、例えば「接着ハンドブック」(第2版、昭和55年、日刊工業新聞社発行)に掲載されているものを使用することができる。 As the pressure-sensitive adhesive, any material conventionally used as this type of material can be used, and rubber-based, acrylic-based, vinyl-based, silicone-based, etc., which are usually used as pressure-sensitive adhesives, are used. For example, what is published in "Adhesion Handbook" (2nd edition, 1975, published by Nikkan Kogyo Shimbun) can be used.
基本骨格としては、弾性体である樹脂、粘着付与剤、可塑剤およびその他充填剤、可塑剤である。感圧性接着剤の樹脂としては、例えば、天然ゴム、合成イソプレンゴム、再生ゴム、アクリル酸エステル、スチレン−アクリル酸エステル、スチレン−ブタジエン、エチレン−酢酸ビニル、酢酸ビニル、酢酸ビニル−アクリル酸エステル、エチレン−塩化ビニル、エチレン−アクリル酸エステル、エチレン−アクリル酸、ブタジエン、ウレタン、スチレン−イソプレン、アクリロニトリル−ブタジエン、イソブチレン、ビニルエーテル等の重合体が挙げられる。 The basic skeleton includes an elastic resin, a tackifier, a plasticizer and other fillers, and a plasticizer. Examples of the resin of the pressure sensitive adhesive include natural rubber, synthetic isoprene rubber, recycled rubber, acrylic ester, styrene-acrylic ester, styrene-butadiene, ethylene-vinyl acetate, vinyl acetate, vinyl acetate-acrylic ester, Examples thereof include polymers such as ethylene-vinyl chloride, ethylene-acrylic acid ester, ethylene-acrylic acid, butadiene, urethane, styrene-isoprene, acrylonitrile-butadiene, isobutylene, and vinyl ether.
感圧性接着剤の粘着付与剤としては、例えば、テルペン樹脂、脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、クロマン−インデン樹脂、スチレン系樹脂、フェノール樹脂、テルペン−フェノール樹脂、ロジン誘導体等が挙げられる。感圧性接着剤の可塑剤としては、主として、常温で液体の可塑剤が使用され、例えば、鉱油、ラノリン、液状ポリブテン、液状ポリアクリレート等が挙げられる。感圧性接着剤のその他の充填剤および添加剤としては、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、クレー、水酸化アルミニウム、顔料、ゴム用酸化防止剤等が挙げられる。これら感圧性接着剤における、弾性体である樹脂、接着付与剤、可塑剤あるいはその他充填剤、添加剤は、上記の1種類または2種類以上の混合物として使用することができる。感圧性接着剤は、水性エマルジョン型、水溶性型、ホットメルト型、無用剤型または有機溶剤型として基材上に塗工することができる。電子線硬化型粘着剤を使用することもできる。 Examples of pressure-sensitive adhesive tackifiers include terpene resins, aliphatic petroleum resins, aromatic petroleum resins, chroman-indene resins, styrene resins, phenol resins, terpene-phenol resins, and rosin derivatives. It is done. As the plasticizer of the pressure-sensitive adhesive, a plasticizer that is liquid at room temperature is mainly used, and examples thereof include mineral oil, lanolin, liquid polybutene, and liquid polyacrylate. Other fillers and additives for pressure sensitive adhesives include zinc oxide, calcium carbonate, clay, aluminum hydroxide, pigments, rubber antioxidants, and the like. In these pressure-sensitive adhesives, the elastic resin, adhesion-imparting agent, plasticizer, other fillers, and additives can be used as one or a mixture of two or more of the above. The pressure sensitive adhesive can be applied on the substrate as an aqueous emulsion type, water soluble type, hot melt type, useless type or organic solvent type. An electron beam curable pressure-sensitive adhesive can also be used.
電子線照射には、カーテン方式あるいはスキャン方式、ダブルスキャン方式等を採用した電子線照射装置を利用することができる。電子線の加速電圧は、10〜1000KV、特に50〜300KVとすることが好ましく、電子線照射量は、1000kGy以下であることが望ましい。加速電圧が10KV未満では、エネルギーの透過率が不足する場合があり、1000KVを越えると経済的に好ましくない場合がある。また、電子線が1000kGyを超えると基材が劣化し好ましくない場合がある。電子線の照射方向は、基材側、剥離層側のどちらからでもかまわない。 An electron beam irradiation apparatus employing a curtain method, a scan method, a double scan method, or the like can be used for electron beam irradiation. The acceleration voltage of the electron beam is preferably 10 to 1000 KV, particularly 50 to 300 KV, and the electron beam irradiation amount is preferably 1000 kGy or less. If the acceleration voltage is less than 10 KV, the energy transmittance may be insufficient, and if it exceeds 1000 KV, it may be economically undesirable. Moreover, when an electron beam exceeds 1000 kGy, a base material may deteriorate and it may be unpreferable. The electron beam irradiation direction may be from either the substrate side or the release layer side.
電子線照射による硬化は、ラジカル反応であり、雰囲気中の酸素濃度に依存するので、窒素、ヘリウム、二酸化炭素などの不活性ガスによる置換を行ない、酸素濃度600ppm以下、好ましくは400ppm以下に抑制した雰囲気中で照射することが好ましい。
Curing by electron beam irradiation is a radical reaction and depends on the oxygen concentration in the atmosphere. Therefore, substitution with an inert gas such as nitrogen, helium or carbon dioxide was performed, and the oxygen concentration was suppressed to 600 ppm or less, preferably 400 ppm or less. Irradiation is preferably performed in an atmosphere.
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。
シリコーン組成物X−62−7028A(信越化学工業株式会社製)100部に対し、光反応開始剤ダロキュア1173(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社製)5部を加え分散させて、紫外線型シリコーン組成物を作製した。この紫外線硬化型シリコーン組成物を厚さ40μmのポリプロピレン(PP)フィルム基材にロールコーターにより厚さ1μmとなるように塗工し、128W/cmのメタルハライドランプで30mJ/cm2の露光量で硬化させ剥離シートを作製した。
作製した剥離シートに真空管型電子線照射装置(Min−EB機、東洋インキ株式会社製とキュアトロン、日新ハイボルテージ社製)を用いて電子線を照射した。電子線の照射条件は、加速電圧50kV、150kV、照射線量:20kGy、40kGy、70kGy、100kGy、照射雰囲気:窒素ガス雰囲気(酸素濃度200ppm)とした。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
To 100 parts of silicone composition X-62-7028A (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 5 parts of photoreaction initiator Darocur 1173 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) is added and dispersed to obtain an ultraviolet-type silicone composition. Was made. This ultraviolet curable silicone composition is applied to a polypropylene (PP) film substrate having a thickness of 40 μm with a roll coater so as to have a thickness of 1 μm, and cured with a 128 W / cm metal halide lamp at an exposure amount of 30 mJ / cm 2. A release sheet was prepared.
The produced release sheet was irradiated with an electron beam using a vacuum tube type electron beam irradiation device (Min-EB machine, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd. and Curetron, manufactured by Nissin High Voltage). The electron beam irradiation conditions were acceleration voltage 50 kV, 150 kV, irradiation dose: 20 kGy, 40 kGy, 70 kGy, 100 kGy, irradiation atmosphere: nitrogen gas atmosphere (oxygen concentration 200 ppm).
得られた剥離シートを以下の通りに評価した。
〔剥離力の評価〕
剥離シートのシリコーン剥離層上に、1インチ幅の東洋インキ株式会社製両面粘着テープDouble−Faceを貼り合わせ、5kgロールで一往復圧着し、40℃で16時間経過後、JIS K−6848に準じて180°剥離により剥離力を測定した。剥離速度は300mm/分とした。
剥離力の測定結果を表1に示す。
The obtained release sheet was evaluated as follows.
[Evaluation of peel strength]
A double-sided adhesive tape Double-Face made by Toyo Ink Co., Ltd. with a width of 1 inch is pasted on the silicone release layer of the release sheet, and then reciprocated once with a 5 kg roll. After 16 hours at 40 ° C., according to JIS K-6848 The peeling force was measured by 180 ° peeling. The peeling speed was 300 mm / min.
The measurement results of the peeling force are shown in Table 1.
表1に示すように、未照射物と比べて電子線を照射することにより剥離力が増大した。また、加速電圧、照射線量の増加によって、剥離力が増大していた。これらの結果より、加速電圧、照射線量によって、剥離力の調節ができることが示された。
As shown in Table 1, the peeling force increased by irradiating the electron beam as compared with the unirradiated material. In addition, the peeling force increased with increasing acceleration voltage and irradiation dose. From these results, it was shown that the peeling force can be adjusted by the acceleration voltage and the irradiation dose.
Claims (4)
A structure manufacturing method, wherein the structure according to any one of claims 1 to 3 is applied to a double-sided tape.
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