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JP2005340011A - Electro-optical device and electronic apparatus - Google Patents

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JP2005340011A
JP2005340011A JP2004157829A JP2004157829A JP2005340011A JP 2005340011 A JP2005340011 A JP 2005340011A JP 2004157829 A JP2004157829 A JP 2004157829A JP 2004157829 A JP2004157829 A JP 2004157829A JP 2005340011 A JP2005340011 A JP 2005340011A
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JP
Japan
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layer
electro
optical device
functional layer
organic
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2004157829A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takahiro Iwashita
貴弘 岩下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2004157829A priority Critical patent/JP2005340011A/en
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Abstract

【課題】 発光素子の光取り出し効率を向上させることができ、かつ簡便な製造プロセスにより製造可能な電気光学装置、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の有機EL装置は、平坦化絶縁膜240上に積層された画素電極141、有機機能層140、及び共通電極154を具備した有機EL素子200を備えており、有機機能層140の下層側に、反射層141aが設けられ、該反射層141aが平面視で前記有機機能層140の外側まで延出されるとともに、当該延出部分にて前記有機機能層140側に臨む斜面部141a1を形成している。係る斜面部141a1は、前記平坦化絶縁膜240表面の凸状部240aに反射層141aが一部乗り上げることにより形成されている。
【選択図】 図4
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electro-optical device that can improve the light extraction efficiency of a light-emitting element and can be manufactured by a simple manufacturing process, and a manufacturing method thereof.
An organic EL device according to the present invention includes an organic EL element including a pixel electrode, an organic functional layer, and a common electrode laminated on a planarization insulating film, and the organic functional layer is provided. A reflective layer 141a is provided on the lower layer side of 140, and the reflective layer 141a extends to the outside of the organic functional layer 140 in a plan view, and a slope portion facing the organic functional layer 140 side in the extended portion 141a1 is formed. The sloped portion 141a1 is formed by partially reflecting the reflective layer 141a on the convex portion 240a on the surface of the planarizing insulating film 240.
[Selection] Figure 4

Description

本発明は、電気光学装置及び電子機器に関するものである。   The present invention relates to an electro-optical device and an electronic apparatus.

平面型の表示装置(フラットパネルディスプレイ)として、陽極と陰極との間に有機発光材料からなる発光層を形成した、有機EL(エレクトロルミネッセンス)素子が知られている。有機化合物を含んだ従来の発光素子(有機エレクトロルミネッセンス素子;有機EL素子)の構造は、陽極/正孔注入層/有機発光層/電子注入層/陰極というそれぞれの機能層が積層された構成である。この有機化合物を含む発光層において生じた光は、等方的に発光するため、それぞれの機能層が平面状に積層される従来の構造では積層平面の法線方向に発光した光は直接ないし所定の反射面で反射させることで基板の外部に取り出すことが可能であるが、積層平面に略平行方向に発光した光は基板の外側に取り出すのが困難であり、これが発光素子の効率を低下させる原因となっていた。
そこで、特許文献1では、画素の領域内に凹凸を設けることで光の取り出し効率を高めることが提案されている。また特許文献2では、画素周辺部の反射電極をエッチングする際に反射壁面を形成することで光の取り出し効率を高めることが提案されている。
特開2002−202737号公報 特開2002−17273号公報
As a flat display device (flat panel display), an organic EL (electroluminescence) element in which a light emitting layer made of an organic light emitting material is formed between an anode and a cathode is known. The structure of a conventional light emitting device (organic electroluminescence device; organic EL device) containing an organic compound is a structure in which respective functional layers of anode / hole injection layer / organic light emitting layer / electron injection layer / cathode are laminated. is there. Since the light generated in the light emitting layer containing the organic compound emits isotropically, in the conventional structure in which the respective functional layers are laminated in a planar shape, the light emitted in the normal direction of the laminated plane is directly or predetermined. However, it is difficult to extract the light emitted in a direction substantially parallel to the lamination plane to the outside of the substrate, which reduces the efficiency of the light emitting element. It was the cause.
Therefore, in Patent Document 1, it is proposed to increase the light extraction efficiency by providing irregularities in the pixel region. Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-228707 proposes to increase the light extraction efficiency by forming a reflective wall surface when etching the reflective electrode around the pixel.
JP 2002-202737 A JP 2002-17273 A

上記各特許文献に開示されている技術によれば、機能層の面方向に伝搬する光を部分的にでも取り出すことが可能であるため、確かに発光効率の向上は可能であると考えられる。しかし、特許文献1に記載の技術では、画素内に発光部分と非発光部分とが設けられるため、発光部分での光取り出し効率は向上するものの、非発光部分を含めた画素全体の効率はそれほど向上しないという課題がある。また特許文献2に記載の技術では、光の取り出し効率が反射壁面のテーパー角度に依存するため、製造時に前記テーパー角度を高精度に管理する必要があり、製造の困難性が高くなるという課題がある。さらに、テーパー角度が大きい場合には、発光素子を構成する機能層を形成するに際して、開口領域の側面において膜厚が薄くなって輝度ムラが生じたり、電極間の短絡が生じるという問題がある。   According to the technology disclosed in each of the above patent documents, light propagating in the surface direction of the functional layer can be extracted even partially, so it is considered that the luminous efficiency can surely be improved. However, in the technique described in Patent Document 1, since the light emitting portion and the non-light emitting portion are provided in the pixel, the light extraction efficiency in the light emitting portion is improved, but the efficiency of the entire pixel including the non-light emitting portion is not so much. There is a problem of not improving. Further, in the technique described in Patent Document 2, since the light extraction efficiency depends on the taper angle of the reflecting wall surface, it is necessary to manage the taper angle with high accuracy during the production, which increases the difficulty of production. is there. Further, when the taper angle is large, there is a problem in that when the functional layer constituting the light emitting element is formed, the film thickness becomes thin on the side surface of the opening region, resulting in luminance unevenness or short circuit between the electrodes.

本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであって、製造プロセスの負荷を増大させることなく発光素子の光取り出し効率を向上させることができる電気光学装置を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and an object thereof is to provide an electro-optical device capable of improving the light extraction efficiency of a light-emitting element without increasing the load of a manufacturing process. It is said.

本発明は、上記課題を解決するために、基体上に、第1電極と、発光層を含む機能層と、透光性を有する第2電極とを順に積層してなる発光素子が設けられた電気光学装置であって、前記機能層の基体側に、前記発光層で生じた光を反射させる反射層が設けられ、該反射層の基体側には、表面に凸状部を有する絶縁膜が設けられており、前記反射層が、平面視で前記機能層の外側まで延出されるとともに、当該延出部分にて前記機能層側に臨む斜面部を形成しており、前記斜面部が、前記反射層の延出部分と平面的に重なって配置された前記凸状部に起因して形成されていることを特徴とする電気光学装置を提供する。
この構成によれば、機能層の外側まで延出された反射層の一部が、直接又は他の部材を介して前記絶縁膜の凸状部上に配されていることで、反射層の延出部分が斜面部を構成している。そして係る斜面部が形成されていることで、機能層で生じた光のうち該機能層の面方向に散乱する成分を、斜面部で反射させることにより基体鉛直方向に取り出すことが可能になっている。これにより、機能層で生じた光を効率よく表示光に利用することができ、明るい表示を得られる電気光学装置となる。また、従来技術では、反射層をエッチングして画素周縁部にテーパー形状を形成しており、係る従来技術ではテーパー角度をエッチング条件により管理するため、角度管理が困難であったが、本発明では、絶縁膜上に形成した凸状部に反射層を乗り上げさせて斜面部を形成するため、傾斜角度の管理に際して反射層のエッチング条件を考慮する必要はなく、簡便な工程で製造可能なものとなっている。
In order to solve the above problems, the present invention is provided with a light emitting element in which a first electrode, a functional layer including a light emitting layer, and a second electrode having translucency are sequentially stacked on a substrate. In the electro-optical device, a reflective layer that reflects light generated in the light emitting layer is provided on a base side of the functional layer, and an insulating film having a convex portion on a surface is provided on the base side of the reflective layer. The reflective layer extends to the outside of the functional layer in plan view, and forms a sloped portion facing the functional layer side in the extended portion, and the sloped portion is An electro-optical device is provided that is formed due to the convex portion disposed so as to overlap with an extension portion of a reflective layer in a planar manner.
According to this configuration, a part of the reflective layer extended to the outside of the functional layer is disposed on the convex portion of the insulating film directly or via another member, so that the reflective layer extends. The protruding part forms a slope. And by forming such a slope part, it becomes possible to take out the component scattered in the surface direction of the functional layer out of the light generated in the functional layer in the vertical direction of the substrate by reflecting the slope part. Yes. As a result, the light generated in the functional layer can be efficiently used as display light, and the electro-optical device can obtain a bright display. In the prior art, the reflective layer is etched to form a tapered shape at the peripheral edge of the pixel. In the prior art, since the taper angle is managed according to the etching conditions, the angle management is difficult. In addition, since the slope layer is formed by running the reflective layer on the convex portion formed on the insulating film, it is not necessary to consider the etching conditions of the reflective layer when managing the tilt angle, and it can be manufactured by a simple process. It has become.

本発明の電気光学装置では、前記斜面部が、前記機能層を平面視で取り囲むように配置されていることが好ましい。この構成によれば、機能層の面方向へ散乱する光を、それを取り囲む斜面部で効率よく反射させて取り出すことができるため、光の損失を最小限に抑えることができ、高輝度の表示を得ることができる。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, it is preferable that the slope portion is disposed so as to surround the functional layer in a plan view. According to this configuration, the light scattered in the surface direction of the functional layer can be efficiently reflected and extracted by the slope portion surrounding the functional layer, so that the loss of light can be minimized and a high luminance display can be achieved. Can be obtained.

本発明の電気光学装置では、前記斜面部が、前記第2電極と前記機能層との界面より前記第2電極側へ突出していることが好ましい。このような構成とすることで、機能層の面方向へ散乱する光の大部分を前記斜面部にて反射させることができ、光の取り出し効率を高めることができる。斜面部の高さが機能層の層厚より低い場合、斜面部の外側に漏れ出る光量が多くなる。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, it is preferable that the slope portion protrudes toward the second electrode from the interface between the second electrode and the functional layer. By setting it as such a structure, most light scattered in the surface direction of a functional layer can be reflected in the said slope part, and the extraction efficiency of light can be improved. When the height of the slope portion is lower than the thickness of the functional layer, the amount of light leaking outside the slope portion increases.

本発明の電気光学装置では、前記基体上に、前記発光素子を取り囲む隔壁部材が立設されており、前記反射層の斜面部と、前記隔壁部材とが平面的に重なって配置されていることが好ましい。このような構成とすることで、隔壁部材に囲まれる領域の底面部を平坦面にて形成することが可能になり、係る底面部に機能層を形成する場合の機能層の平坦性を向上させることができる。その結果、機能層の膜厚の不均一に起因する点欠陥や明るさのばらつきを低減し、高画質の表示を提供しうるものとなる。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, a partition member that surrounds the light emitting element is erected on the base, and the inclined surface portion of the reflective layer and the partition member are disposed so as to overlap in a plane. Is preferred. With such a configuration, it is possible to form the bottom surface portion of the region surrounded by the partition wall member with a flat surface, and improve the flatness of the functional layer when the functional layer is formed on the bottom surface portion. be able to. As a result, it is possible to reduce point defects and brightness variations caused by non-uniformity of the functional layer thickness and provide a high-quality display.

本発明の電気光学装置では、前記絶縁膜の基体側に、前記発光素子と電気的に接続された回路層が設けられており、前記絶縁膜表面の凸状部が、前記回路層に設けられた導電部材に起因して形成されている構成とすることもできる。この構成によれば、前記回路層に形成される配線等による凹凸形状を利用して前記凸状部を形成するので、凸状部の形成自体が容易であるとともに、凸状部の突出高さ等の調整も容易になる。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, a circuit layer electrically connected to the light emitting element is provided on the base side of the insulating film, and a convex portion on the surface of the insulating film is provided in the circuit layer. It can also be set as the structure formed resulting from the electrically-conductive member. According to this configuration, since the convex portion is formed by using the concave and convex shape due to the wiring or the like formed in the circuit layer, the convex portion itself is easily formed and the protruding height of the convex portion is Etc. can be adjusted easily.

本発明の電気光学装置では、前記絶縁膜表面の凸状部が、前記回路層に設けられた導電部材のうち、前記反射層に最も近接して配置された導電部材に起因するものであってもよい。この構成によれば、最表面側の導電部材の厚さや形成範囲によって凸状部の形成高さや平面領域等を制御できるので、凸状部の形状制御が容易になり、係る凸状部により形成される反射層の傾斜角度の調整等も容易になる。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the convex portion on the surface of the insulating film is caused by the conductive member disposed closest to the reflective layer among the conductive members provided on the circuit layer. Also good. According to this configuration, since the formation height and the planar area of the convex portion can be controlled by the thickness and the formation range of the conductive member on the outermost surface side, the shape control of the convex portion is facilitated, and the convex portion is formed. Adjustment of the inclination angle of the reflection layer to be performed is facilitated.

本発明の電気光学装置では、前記反射層に最も近接して配置された導電部材が、前記回路層に設けられた導電部材のうち、最大の厚さを有していることが好ましい。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, it is preferable that the conductive member disposed closest to the reflective layer has the maximum thickness among the conductive members provided in the circuit layer.

本発明の電気光学装置では、前記反射層に最も近接して配置された導電部材が、平面視で前記機能層をほぼ取り囲むように配置されていることが好ましい。この構成によれば、前記機能層を取り囲むように反射層の斜面部を形成できるため、機能層の面方向へ散乱する光の取り出し効率が高まり、表示の明るさを向上させることができる。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, it is preferable that the conductive member disposed closest to the reflective layer is disposed so as to substantially surround the functional layer in a plan view. According to this configuration, since the slope portion of the reflective layer can be formed so as to surround the functional layer, the extraction efficiency of light scattered in the surface direction of the functional layer is increased, and the brightness of the display can be improved.

本発明の電気光学装置では、前記回路層が、層間絶縁膜を介して複数の前記導電部材を積層した構造を備えており、複数層の前記導電部材が平面的に重なって配置された位置に、前記凸状部が形成されていることが好ましい。この構成によれば、より容易に凸状部を基体鉛直方向へ突出させることができ、所望の高さの斜面部を形成するのがさらに容易になる。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the circuit layer has a structure in which a plurality of the conductive members are stacked with an interlayer insulating film interposed therebetween, and the plurality of layers of the conductive members are arranged in a planar manner. The convex portion is preferably formed. According to this configuration, the convex portion can be more easily protruded in the vertical direction of the base body, and it becomes easier to form a slope portion having a desired height.

本発明の電気光学装置では、前記積層して配置された複数の導電部材に起因して前記凸状部が形成され、該凸状部が、平面視略枠状を成して前記機能層を取り囲んでおり、前記凸状部の平面領域における前記導電部材の積層数が同一である構成とすることもできる。この構成によれば、機能層を取り囲む導電部材の積層数が、機能層の周囲で一定であるので、係る導電部材の積層構造に起因して形成される凸状部の高さも、機能層の周囲でほぼ一定の高さとなる。したがって、反射層の斜面部における反射特性が機能層の周囲で均一なものとなり、斜面部で反射されて基体鉛直方向に取り出される光の強度を均一化することができる。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the convex portion is formed due to the plurality of conductive members arranged in a stacked manner, and the convex portion has a substantially frame shape in plan view, and the functional layer is formed. It is also possible to have a configuration in which the number of conductive members stacked is the same in the planar region of the convex portion. According to this configuration, since the number of conductive members surrounding the functional layer is constant around the functional layer, the height of the convex portion formed due to the laminated structure of the conductive member is also the height of the functional layer. It becomes almost constant height around. Therefore, the reflection characteristics at the slope portion of the reflection layer are uniform around the functional layer, and the intensity of light reflected by the slope portion and extracted in the vertical direction of the substrate can be made uniform.

本発明の電気光学装置における導電部材の具体的態様としては、前記積層して配置された複数の導電部材が、それぞれの層において前記機能層を取り囲む平面視略枠状であることが好ましい。本発明の電気光学装置では、前記平面視略枠状を成す導電部材の少なくとも一部が、他の部位と絶縁されたダミー部材であってもよい。   As a specific aspect of the conductive member in the electro-optical device according to the aspect of the invention, it is preferable that the plurality of stacked conductive members have a substantially frame shape in a plan view surrounding the functional layer in each layer. In the electro-optical device according to the aspect of the invention, at least a part of the conductive member having a substantially frame shape in a plan view may be a dummy member that is insulated from other portions.

本発明の電気光学装置では、前記回路層に、前記第2電極と電気的に接続された導電部材が設けられている構成とすることもできる。この構成によれば、透光性導電材料により形成されるため電圧降下が生じやすい前記第2電極における電圧降下を防止するための構造を具備したものとすることができ、均一な明るさの表示を得られる電気光学装置とすることができる。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the circuit layer may include a conductive member that is electrically connected to the second electrode. According to this configuration, it is possible to provide a structure for preventing a voltage drop in the second electrode, which is likely to cause a voltage drop because it is formed of a light-transmitting conductive material, and to display a uniform brightness. The electro-optical device can be obtained.

本発明の電気光学装置では、前記発光素子が、有機発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする。この構成によれば、明るく高画質の表示が可能な有機EL装置が提供される。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the light-emitting element is an organic electroluminescence element including an organic light-emitting layer. According to this configuration, an organic EL device capable of displaying bright images with high image quality is provided.

次に、本発明の電子機器は、先に記載の本発明の電気光学装置を備えたことを特徴とする。この構成によれば、明るく高画質の表示が可能な表示部を具備した電子機器が提供される。   Next, an electronic apparatus according to the invention includes the electro-optical device according to the invention described above. According to this configuration, an electronic apparatus including a display unit that can display bright and high-quality images is provided.

以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

(第1の実施形態)
まず、本発明の第1の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。以下では、本発明の電気光学装置の一実施の形態として、有機EL素子を画素として基体上に配列してなる有機EL装置(有機エレクトロルミネッセンス装置)を例示して説明する。この有機EL装置は、例えば電子機器等の表示手段として好適に用いることができるものである。
(First embodiment)
First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Hereinafter, as an embodiment of the electro-optical device of the present invention, an organic EL device (organic electroluminescence device) in which organic EL elements are arranged on a substrate as pixels will be described as an example. This organic EL device can be suitably used as display means for electronic devices, for example.

<有機EL装置の構成>
図1は、本実施形態の有機EL装置の回路構成図、図2は、同、平面構成図、図3は、同装置の画素領域71の断面構造を示す図、図4は、図3に示す有機EL素子を拡大して示す部分断面構成図である。
図1に示すように、有機EL装置70は、基板上に複数の走査線131と、これら走査線131に対して交差する方向に延びる複数の信号線132と、これら信号線132と並列に延びる複数の電源線133とがそれぞれ配線されたもので、走査線131及び信号線132の各交点毎に画素領域71が設けられた構成を備えている。
<Configuration of organic EL device>
1 is a circuit configuration diagram of the organic EL device of the present embodiment, FIG. 2 is a plan configuration diagram thereof, FIG. 3 is a diagram showing a cross-sectional structure of a pixel region 71 of the device, and FIG. It is a partial section lineblock diagram expanding and showing the organic EL element to show.
As shown in FIG. 1, the organic EL device 70 includes a plurality of scanning lines 131 on the substrate, a plurality of signal lines 132 extending in a direction intersecting the scanning lines 131, and the signal lines 132 extending in parallel. A plurality of power supply lines 133 are wired, and a pixel region 71 is provided at each intersection of the scanning lines 131 and the signal lines 132.

信号線132に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、及びアナログスイッチ等を備えるデータ側駆動回路72が設けられている。一方、走査線131に対しては、シフトレジスタ及びレベルシフタ等を備える走査側駆動回路73が設けられている。また、画素領域71の各々には、走査線131を介して走査信号が供給されるゲート電極を含むスイッチング用TFT(薄膜トランジスタ)142と、このスイッチング用TFT(薄膜トランジスタ)142を介して信号線132から供給される画像信号(電力)を保持する保持容量capと、保持容量capによって保持された画像信号が供給されるゲート電極を含む駆動用TFT143と、この駆動用TFT143を介して電源線133に電気的に接続したときに電源線133から駆動電流が流れ込む画素電極141(第1電極)と、この画素電極141と共通電極(第2電極)154との間に挟み込まれる発光部140と、が設けられている。そして、前記画素電極141と共通電極154と、発光部140とによって構成される素子が有機EL素子である。   For the signal line 132, a data side driving circuit 72 including a shift register, a level shifter, a video line, an analog switch, and the like is provided. On the other hand, for the scanning line 131, a scanning side driving circuit 73 including a shift register, a level shifter, and the like is provided. Each pixel region 71 includes a switching TFT (thin film transistor) 142 including a gate electrode to which a scanning signal is supplied via a scanning line 131, and a signal line 132 via the switching TFT (thin film transistor) 142. A holding capacitor cap that holds the supplied image signal (power), a driving TFT 143 that includes a gate electrode to which the image signal held by the holding capacitor cap is supplied, and the power supply line 133 is electrically connected to the driving TFT 143. A pixel electrode 141 (first electrode) through which a driving current flows from the power supply line 133 when connected electrically, and a light emitting unit 140 sandwiched between the pixel electrode 141 and the common electrode (second electrode) 154. It has been. An element formed by the pixel electrode 141, the common electrode 154, and the light emitting unit 140 is an organic EL element.

このような構成のもとに、走査線131が駆動されてスイッチング用TFT142がオンとなると、そのときの信号線132の電位が保持容量capに保持され、該保持容量capの状態に応じて、駆動用TFT143のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用TFT143のチャネルを介して電源線133から画素電極141に電流が流れ、さらに発光部140を通じて共通電極154に電流が流れることにより、発光部140は、これを流れる電流量に応じて発光するようになる。   Under such a configuration, when the scanning line 131 is driven and the switching TFT 142 is turned on, the potential of the signal line 132 at that time is held in the holding capacitor cap, and depending on the state of the holding capacitor cap, The on / off state of the driving TFT 143 is determined. Then, a current flows from the power supply line 133 to the pixel electrode 141 through the channel of the driving TFT 143, and further, a current flows to the common electrode 154 through the light emitting unit 140, so that the light emitting unit 140 responds to the amount of current flowing therethrough. Lights up.

図1に示す回路構成を具備した有機EL装置70は、図2に示すように、電気絶縁性および透光性を有する基板201上に、スイッチング用TFT(図示せず)に接続された画素電極が基板201上にマトリクス状に配置されてなる平面視略矩形の画素部3(図2中の一点鎖線枠内)を具備して構成される。画素部3は、中央部分の表示領域4(画素部3内の一点鎖線枠内)と、表示領域4の周囲に配置されたダミー領域5とに区画されている。表示領域4には、それぞれ画素電極を有する3色の表示ドットR、G、Bが、紙面の縦方向および横方向にそれぞれ離間してマトリクス状に配置されている。本実施形態の場合、前記各表示ドットに対応して画素領域71が設けられている。
また、図2における表示領域4の左右には走査線駆動回路73が配置される一方、図2における表示領域4の上下にはデータ線駆動回路72が配置されている。これら走査線駆動回路73、データ線駆動回路72はダミー領域5の周縁部に配置されている。
As shown in FIG. 2, an organic EL device 70 having the circuit configuration shown in FIG. 1 has a pixel electrode connected to a switching TFT (not shown) on a substrate 201 having electrical insulation and translucency. Is configured to include a pixel portion 3 (inside the one-dot chain line frame in FIG. 2) having a substantially rectangular shape in a plan view arranged in a matrix on the substrate 201. The pixel unit 3 is divided into a display region 4 in the center part (within a one-dot chain line in the pixel unit 3) and a dummy region 5 arranged around the display region 4. In the display area 4, display dots R, G, and B of three colors each having a pixel electrode are arranged in a matrix so as to be separated from each other in the vertical direction and the horizontal direction on the paper surface. In the present embodiment, a pixel region 71 is provided corresponding to each display dot.
Further, scanning line driving circuits 73 are arranged on the left and right sides of the display area 4 in FIG. 2, while data line driving circuits 72 are arranged on the upper and lower sides of the display area 4 in FIG. The scanning line driving circuit 73 and the data line driving circuit 72 are arranged at the peripheral edge of the dummy region 5.

さらに、図2におけるデータ線駆動回路72の上側には、検査回路90が配設されている。この検査回路90は、有機EL装置70の作動状況を検査する回路であって、例えば検査結果を外部に出力する検査情報出力手段(図示せず)を備え、製造途中や出荷時の表示装置の品質、欠陥を検査できるようになっている。なお、この検査回路90も、ダミー領域5の下層側に配置されている。また、基板201には、フレキシブルプリント基板等からなる駆動用外部基板101が接続され、駆動用外部基板101上に外部駆動回路100が搭載されている。   Further, an inspection circuit 90 is disposed above the data line driving circuit 72 in FIG. The inspection circuit 90 is a circuit that inspects the operating state of the organic EL device 70, and includes, for example, inspection information output means (not shown) for outputting the inspection result to the outside, and is a display device at the time of manufacture or at the time of shipment. Quality and defects can be inspected. The inspection circuit 90 is also arranged on the lower layer side of the dummy region 5. Further, a driving external substrate 101 made of a flexible printed circuit board or the like is connected to the substrate 201, and the external driving circuit 100 is mounted on the driving external substrate 101.

次に、図3及び図4を用いて有機EL装置70の断面構造について説明する。
図3は、図2の表示領域4に設けられた画素領域71の断面構成図である。有機EL装置70の画素領域71には、ガラス等の透光性を有する基板201上に、駆動用TFT143が設けられており、駆動用TFT143を覆って形成された複数の絶縁膜を介した基板201上に、有機EL素子200が形成されている。有機EL素子200は、基板201上に立設されたバンク(隔壁部材)150に囲まれる区画領域151内に設けられた有機機能層140を主体としてなり、この有機機能層140を画素電極(第1電極)141と共通電極(第2電極)154との間に挟持した構成を備える。
Next, the cross-sectional structure of the organic EL device 70 will be described with reference to FIGS.
FIG. 3 is a cross-sectional configuration diagram of the pixel region 71 provided in the display region 4 of FIG. In the pixel region 71 of the organic EL device 70, a driving TFT 143 is provided on a light-transmitting substrate 201 such as glass, and the substrate is interposed through a plurality of insulating films formed to cover the driving TFT 143. An organic EL element 200 is formed on 201. The organic EL element 200 mainly includes an organic functional layer 140 provided in a partition region 151 surrounded by a bank (partition wall member) 150 erected on the substrate 201, and the organic functional layer 140 is used as a pixel electrode (first electrode). 1 electrode) 141 and a common electrode (second electrode) 154.

駆動用TFT143は、下地絶縁膜215を介して基板201上にパターン形成された半導体層210を備えており、この半導体層210に形成されたソース領域143a、ドレイン領域143b、及びチャネル領域143cと、半導体層表面に形成されたゲート絶縁膜220を介してチャネル領域143cに対向するゲート電極143Aとを主体として構成されている。符号231を付して示す部材は、ゲート電極143Aと同層に設けられた導電部材であり、他の配線とは電気的に絶縁されたダミー部材であってもよく、あるいは図1に示した保持容量capの電極等を構成するものであってもよい。   The driving TFT 143 includes a semiconductor layer 210 patterned on the substrate 201 with a base insulating film 215 interposed therebetween, and a source region 143a, a drain region 143b, a channel region 143c formed in the semiconductor layer 210, and The gate electrode 143A is opposed to the channel region 143c through the gate insulating film 220 formed on the semiconductor layer surface. The member denoted by reference numeral 231 is a conductive member provided in the same layer as the gate electrode 143A, and may be a dummy member that is electrically insulated from other wirings, or as shown in FIG. It may constitute an electrode or the like of the storage capacitor cap.

半導体層210及びゲート絶縁膜220上には、これらを覆う形にて層間絶縁膜230が形成されており、この層間絶縁膜230を貫通して半導体層210に達するコンタクトホール232,234内に、それぞれソース電極236、ドレイン電極238が埋設され、各々の電極はソース領域143a、ドレイン領域143bに導電接続されている。層間絶縁膜230には、下層側に設けられた前記導電部材231に起因する凸状部230aが形成されており、係る凸状部230a上に、前記ソース電極236及びドレイン電極238と同層の導電部材239が設けられている。係る導電部材239は、凸状部230a上に形成されているので、この凸状部230aの突出形状に起因して、同一層に形成されたソース電極236、ドレイン電極238等よりも基板鉛直方向に突出されている。この導電部材239は、画素を駆動するTFT142,143等と接続される配線を成すものであってもよく、他の配線と電気的に絶縁されたダミー部材であってもよい。   An interlayer insulating film 230 is formed on the semiconductor layer 210 and the gate insulating film 220 so as to cover them. In the contact holes 232 and 234 that penetrate the interlayer insulating film 230 and reach the semiconductor layer 210, A source electrode 236 and a drain electrode 238 are buried, and each electrode is conductively connected to the source region 143a and the drain region 143b. In the interlayer insulating film 230, a convex portion 230a caused by the conductive member 231 provided on the lower layer side is formed. On the convex portion 230a, the same layer as the source electrode 236 and the drain electrode 238 is formed. A conductive member 239 is provided. Since the conductive member 239 is formed on the convex portion 230a, the vertical direction of the substrate is higher than the source electrode 236, the drain electrode 238 and the like formed in the same layer due to the protruding shape of the convex portion 230a. Is protruding. The conductive member 239 may be a wiring connected to the TFTs 142, 143 and the like that drive the pixels, or may be a dummy member that is electrically insulated from other wiring.

ソース電極236及びドレイン電極238を覆う層間絶縁膜230上には保護絶縁膜235が形成され、保護絶縁膜235を覆って平坦化絶縁膜240が形成されている。平坦化絶縁膜240に貫設されたコンタクトホール240bに画素電極141の一部が埋設されている。そして、この画素電極141のコンタクトホール240bに埋設された部分がドレイン電極238に導電接続されることで、駆動用TFT143と画素電極141(有機EL素子200)とが電気的に接続されている。本実施形態の場合、画素電極141は、アルミニウムや銀等の光反射性の金属膜からなる反射層141aと、ITO(インジウム錫酸化物)等の透光性導電膜からなる透明電極141bとを積層した構造を備える。   A protective insulating film 235 is formed over the interlayer insulating film 230 covering the source electrode 236 and the drain electrode 238, and a planarizing insulating film 240 is formed so as to cover the protective insulating film 235. A part of the pixel electrode 141 is embedded in a contact hole 240 b penetrating the planarization insulating film 240. The portion embedded in the contact hole 240b of the pixel electrode 141 is conductively connected to the drain electrode 238, so that the driving TFT 143 and the pixel electrode 141 (organic EL element 200) are electrically connected. In the present embodiment, the pixel electrode 141 includes a reflective layer 141a made of a light-reflective metal film such as aluminum or silver, and a transparent electrode 141b made of a light-transmitting conductive film such as ITO (indium tin oxide). It has a laminated structure.

平坦化絶縁膜240の形成領域のうち、後述の有機機能層140が形成されるべき領域は平坦領域とされる一方、前記導電部材239に対応する領域には、導電部材239の突出形状に倣って基板鉛直方向に突出する凸状部240aが形成されている。そして、上記画素電極141は、上記平坦化絶縁膜240の平坦領域に形成されるとともに、その外周部を凸状部240aに乗り上げている。その結果、画素電極141は画素領域71の中央部分では平坦面を成し、その外周部に基板鉛直方向に立ち上がる斜面部を有する形状となっている。   Of the formation region of the planarization insulating film 240, a region where an organic functional layer 140 (to be described later) is to be formed is a flat region, while a region corresponding to the conductive member 239 follows the protruding shape of the conductive member 239. Thus, a convex portion 240a protruding in the vertical direction of the substrate is formed. The pixel electrode 141 is formed in a flat region of the planarization insulating film 240, and its outer peripheral portion runs over the convex portion 240a. As a result, the pixel electrode 141 forms a flat surface at the center of the pixel region 71 and has a shape having an inclined portion rising in the vertical direction of the substrate at the outer periphery thereof.

平坦化絶縁膜240上には、画素電極141の周縁部に一部乗り上げるようにして無機絶縁材料からなる無機バンク(第1隔壁層)149が形成されている。また、無機バンク149上には、有機材料からなるバンク(第2隔壁層)150が積層され、この有機EL装置70における隔壁部材を成している。本実施形態の有機EL装置70では、画素電極141の周縁部に設けられた斜面部において光を反射させるようになっているため、上記無機バンク149及びバンク150は、いずれも透光性を有する材料により形成されることが好ましく、無機バンク149では酸化シリコンや酸化窒化シリコン、バンク150ではアクリル樹脂等の透明樹脂材料を用いることが好ましい。   On the planarization insulating film 240, an inorganic bank (first partition wall layer) 149 made of an inorganic insulating material is formed so as to partially run on the peripheral edge of the pixel electrode 141. Further, a bank (second partition layer) 150 made of an organic material is laminated on the inorganic bank 149 to form a partition member in the organic EL device 70. In the organic EL device 70 according to the present embodiment, light is reflected at the slope portion provided at the peripheral portion of the pixel electrode 141, and therefore both the inorganic bank 149 and the bank 150 have translucency. The inorganic bank 149 is preferably made of silicon oxide or silicon oxynitride, and the bank 150 is preferably made of a transparent resin material such as acrylic resin.

上記有機EL素子200は、画素電極141の平面領域のうち、平坦面を成して形成された領域に、正孔注入層(電荷輸送層)や発光層、電子注入層等を含む有機機能層140を積層し、さらにバンク150を覆う共通電極154を前記有機機能層140上に形成することで構成されている。有機機能層140は、画素電極141を覆い、バンク150の下層側に設けられた無機バンク149の内側に形成されている。有機機能層140の具体的な構成については、後段の製造方法の説明において詳述している。   The organic EL element 200 includes an organic functional layer including a hole injection layer (charge transport layer), a light emitting layer, an electron injection layer, and the like in a region formed as a flat surface in the planar region of the pixel electrode 141. 140, and a common electrode 154 covering the bank 150 is formed on the organic functional layer 140. The organic functional layer 140 covers the pixel electrode 141 and is formed inside an inorganic bank 149 provided on the lower layer side of the bank 150. The specific configuration of the organic functional layer 140 is described in detail in the description of the subsequent manufacturing method.

本実施形態の有機EL装置70は、有機EL素子200が配設された側から光を取り出すトップエミッション型であるので、基板201としては、ガラス等の透明基板のほか、不透明基板も用いることができる。不透明基板としては、例えばアルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、また熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂、さらにはそのフィルム(プラスチックフィルム)などが挙げられる。   Since the organic EL device 70 of this embodiment is a top emission type that extracts light from the side where the organic EL element 200 is disposed, the substrate 201 may be an opaque substrate in addition to a transparent substrate such as glass. it can. Examples of opaque substrates include ceramics such as alumina, metal sheets such as stainless steel that have been subjected to insulation treatment such as surface oxidation, thermosetting resins and thermoplastic resins, and films thereof (plastic films). It is done.

共通電極154は、有機機能層140とバンク150の上面、さらにはバンク150の側面部を形成する壁面を覆った状態で基板201上に形成されている。この共通電極154を形成するための材料としては透光性導電材料が用いられる。係る透光性導電材料としてはITOが好適であるが、他の透光性導電材料であっても構わない。   The common electrode 154 is formed on the substrate 201 so as to cover the organic functional layer 140 and the upper surfaces of the banks 150 and the wall surfaces forming the side portions of the banks 150. As a material for forming the common electrode 154, a translucent conductive material is used. As the translucent conductive material, ITO is suitable, but other translucent conductive materials may be used.

共通電極154の上層側には、陰極保護層を形成してもよい。係る陰極保護層を設けることで、製造プロセス時に共通電極154が腐食されるのを防止する効果が得られ、無機化合物、例えば、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン窒酸化物等のシリコン化合物により形成できる。このように共通電極154を無機化合物からなる陰極保護層で覆うことにより、無機酸化物からなる共通電極154への酸素等の侵入を良好に防止することができる。なお、この陰極保護層は、平面的には、図2に示した基板201の外周部まで延設され、その厚みは10nmから300nm程度とされる。   A cathode protective layer may be formed on the upper layer side of the common electrode 154. By providing such a cathode protective layer, an effect of preventing the common electrode 154 from being corroded during the manufacturing process can be obtained, and an inorganic compound such as silicon oxide, silicon nitride, silicon nitride oxide or the like can be used. Can be formed. Thus, by covering the common electrode 154 with the cathode protective layer made of an inorganic compound, intrusion of oxygen or the like into the common electrode 154 made of an inorganic oxide can be satisfactorily prevented. In addition, this cathode protective layer is extended to the outer peripheral part of the board | substrate 201 shown in FIG. 2 planarly, and the thickness shall be about 10 nm to 300 nm.

上記構成を備えた本実施形態の有機EL装置70では、図4の拡大断面図に示すように、平坦化絶縁膜240の表面に凸状部240aが形成され、それに乗り上げた反射層141aの周縁部に斜面部141a1が形成されている。また反射層141aに積層された透明電極141bも同様の形状である。また、画素電極141の外周側から中央部へ延出された無機バンク149の周縁部も、反射層141aの斜面部141a1に倣う傾斜形状とされている。そして、有機機能層140は、無機バンク149の内側の平坦面を成す画素電極141上に形成されている。有機機能層140は、本実施形態の場合、画素電極141上に正孔注入層140Aと発光層140Bとを順に積層した構成を備えている。   In the organic EL device 70 of the present embodiment having the above configuration, as shown in the enlarged cross-sectional view of FIG. 4, a convex portion 240a is formed on the surface of the planarization insulating film 240, and the periphery of the reflective layer 141a that rides on the convex portion 240a. An inclined surface 141a1 is formed in the part. The transparent electrode 141b laminated on the reflective layer 141a has the same shape. In addition, the peripheral edge of the inorganic bank 149 extending from the outer peripheral side of the pixel electrode 141 to the central portion is also inclined so as to follow the inclined surface 141a1 of the reflective layer 141a. The organic functional layer 140 is formed on the pixel electrode 141 that forms a flat surface inside the inorganic bank 149. In the case of this embodiment, the organic functional layer 140 has a configuration in which a hole injection layer 140A and a light emitting layer 140B are sequentially stacked on the pixel electrode 141.

係る構成において、有機機能層140の発光層140Bにおいて生じる光は、発光位置から等方的に散乱するため、従来構成の如く反射層及び有機機能層が平面形状である場合には、基板201の法線方向(図示上方向)に散乱する光は、直接又は反射層で反射した後に表示光として取り出すことが可能であるが、基板201の面方向(図示左右方向)に散乱する光は、そのまま画素外へ放射されてしまうため、表示に寄与する光として取り出すことができなかった。また先の特許文献2に記載の技術では、画素の周縁部にテーパー部を形成し、上記面方向に散乱する光を取り出すようになっているが、テーパー角度の管理が困難である等の製造上の課題を有していた。   In such a configuration, light generated in the light emitting layer 140B of the organic functional layer 140 isotropically scatters from the light emitting position. Therefore, when the reflective layer and the organic functional layer have a planar shape as in the conventional configuration, Light scattered in the normal direction (upward direction in the figure) can be taken out as display light directly or after being reflected by the reflective layer, but the light scattered in the surface direction (left and right direction in the figure) of the substrate 201 remains as it is. Since it is emitted outside the pixel, it cannot be extracted as light contributing to display. In the technique described in Patent Document 2, a tapered portion is formed at the peripheral portion of the pixel so that light scattered in the surface direction is extracted. However, it is difficult to manage the taper angle. Had the above challenges.

これに対して、本発明の有機EL装置70では、上記の如く反射層141aの周縁部に、平坦化絶縁膜240に形成された凸状部240aに倣う斜面部141a1が形成される一方、有機機能層140は、斜面部141a1の内側で平面形状を成して形成されているので、有機機能層140の法線方向に散乱する光(図4に示す光Ld)を良好に表示光として取り出せるのは勿論のこと、有機機能層140の面方向に散乱する光(図4に示す光Lr)も、有機機能層140を取り囲むように配された反射層141aの斜面部141a1により反射させ、観察者側(図示上方)へ取り出すことができるようになっている。   On the other hand, in the organic EL device 70 of the present invention, the slope portion 141a1 that follows the convex portion 240a formed on the planarization insulating film 240 is formed on the peripheral portion of the reflective layer 141a as described above. Since the functional layer 140 is formed in a planar shape inside the slope portion 141a1, light scattered in the normal direction of the organic functional layer 140 (light Ld shown in FIG. 4) can be extracted as display light. Of course, the light scattered in the surface direction of the organic functional layer 140 (light Lr shown in FIG. 4) is also reflected by the inclined surface 141a1 of the reflective layer 141a disposed so as to surround the organic functional layer 140, and observed. It can be taken out to the person side (upward in the figure).

このように、上記構成を備えた有機EL素子200によれば、有機機能層140で生じた光を高効率に出力することができるので、明るい表示を得ることができる。有機EL素子200では、同一の輝度を得るための消費電力を従来に比して低減でき、換言すれば、同一の注入電流に対して明るい表示を得られるものである。また、有機機能層140は全体が平面形状を成しているため、基板面方向で均一な膜厚に形成しやすく、斜面上に形成する場合のように画素領域内に点欠陥を生じるという問題も生じない。そして、大型ディプレイ用途等で大型の画素領域71を形成した場合にも画素領域内で輝度のばらつきが生じ難く、高輝度高画質の表示を提供することができる。   Thus, according to the organic EL element 200 having the above-described configuration, the light generated in the organic functional layer 140 can be output with high efficiency, so that a bright display can be obtained. In the organic EL element 200, the power consumption for obtaining the same luminance can be reduced as compared with the conventional case. In other words, a bright display can be obtained with respect to the same injected current. In addition, since the organic functional layer 140 has a planar shape as a whole, it is easy to form a uniform film thickness in the substrate surface direction, and a point defect is generated in the pixel region as in the case of being formed on a slope. Does not occur. In addition, even when the large pixel region 71 is formed for a large display application or the like, it is difficult for luminance variations to occur in the pixel region, and a display with high luminance and high image quality can be provided.

また、本実施形態の場合、面方向に散乱する光を鉛直方向へ取り出す構造は、反射層141の平面領域内に斜面部141a1として形成されているが、反射層141の下層側に設けた凸状部240aの形状に起因して形成されるものであるので、従来技術のように反射層をエッチングしてテーパーを形成する場合のようにエッチング条件の高精度制御によりテーパー角度を制御する必要はない。本実施形態で斜面部141a1の傾斜角度を変更する場合、例えば凸状部240aの下層側に配されている導電部材239や導電部材231の膜厚を変更するのみで足りるため、極めて容易に斜面部141a1の傾斜角度を調整することができる。   In the case of the present embodiment, the structure for taking out light scattered in the surface direction in the vertical direction is formed as a sloped portion 141a1 in the plane area of the reflective layer 141, but is provided on the lower layer side of the reflective layer 141. Therefore, it is necessary to control the taper angle by high-precision control of the etching conditions as in the case of forming the taper by etching the reflective layer as in the prior art. Absent. In the present embodiment, when the inclination angle of the slope portion 141a1 is changed, for example, it is only necessary to change the film thickness of the conductive member 239 or the conductive member 231 disposed on the lower layer side of the convex portion 240a. The inclination angle of the portion 141a1 can be adjusted.

上記有機EL素子200においては、有機機能層140で発光した光のうち、有機機能層140の面方向に散乱する光は、上記の如く反射層141の斜面部141a1にて反射されて有機EL素子200から射出される。したがって係る光Lrの取り出し効率を高めるためには、この斜面部141a1は、有機機能層140の膜厚に対して十分な高さを有して形成されていることが好ましい。   In the organic EL element 200, among the light emitted from the organic functional layer 140, the light scattered in the surface direction of the organic functional layer 140 is reflected by the inclined surface portion 141a1 of the reflective layer 141 as described above, and the organic EL element. Ejected from 200. Therefore, in order to increase the extraction efficiency of the light Lr, it is preferable that the inclined surface portion 141 a 1 is formed to have a sufficient height with respect to the film thickness of the organic functional layer 140.

<平面構成の形態>
本実施形態では、画素領域71の断面構成図を参照して有機EL装置の構成及び作用に付き説明したが、本実施形態において上記画素領域71の平面構成は種々の構成を採用することができる。図5及び図6は、当該画素領域71における走査線131、信号線132、及び電源線133の配置についての複数の形態を示す概略平面図である。なお、図5及び図6では、説明に不要な構成要素の表示は省略している。
<Plane configuration form>
In the present embodiment, the configuration and operation of the organic EL device have been described with reference to the cross-sectional configuration diagram of the pixel region 71. However, in the present embodiment, various configurations can be adopted as the planar configuration of the pixel region 71. . 5 and 6 are schematic plan views showing a plurality of forms of the arrangement of the scanning lines 131, the signal lines 132, and the power supply lines 133 in the pixel region 71. FIG. In FIG. 5 and FIG. 6, display of components that are not necessary for description is omitted.

図5(a)、図5(b)は、本実施形態に係る画素領域71の平面構成を示している。この図では、図示左右方向に延びる走査線131と直交する向きに、互いに平行に延びる信号線132と電源線133とが配置されている。そして、走査線131と、信号線132、電源線133に囲まれた矩形状の領域内に、有機機能層140が設けられるようになっている。また有機機能層140の下層に設けられる画素電極141は、図5に示すように、その周縁部と前記走査線131、信号線132、電源線133とが一部平面的に重なるように配置される。   5A and 5B show a planar configuration of the pixel region 71 according to this embodiment. In this figure, a signal line 132 and a power supply line 133 extending in parallel with each other are arranged in a direction orthogonal to the scanning line 131 extending in the horizontal direction in the figure. The organic functional layer 140 is provided in a rectangular region surrounded by the scanning lines 131, the signal lines 132, and the power supply lines 133. Further, as shown in FIG. 5, the pixel electrode 141 provided in the lower layer of the organic functional layer 140 is arranged so that the peripheral portion thereof partially overlaps the scanning line 131, the signal line 132, and the power supply line 133 in a plane. The

図5(a)では、走査線131と平面的に重なる上層側に、信号線132、電源線133と同層のダミー配線134が形成されており、図5(b)では、信号線132、電源線133と平面的に重なる下層側に、走査線131と同層のダミー配線135が形成されている。これらのダミー配線134,135は、実質的に配線として機能せず、他の配線(走査線131、信号線132、電源線133等)とは電気的に絶縁されている導電部材を指すものである。   In FIG. 5A, the signal line 132 and the dummy wiring 134 in the same layer as the power supply line 133 are formed on the upper layer side overlapping the scanning line 131 in a plane, and in FIG. A dummy wiring 135 in the same layer as the scanning line 131 is formed on the lower layer side overlapping the power supply line 133 in a plan view. These dummy wires 134 and 135 do not substantially function as wires, and indicate conductive members that are electrically insulated from other wires (scanning line 131, signal line 132, power supply line 133, etc.). is there.

図3に示した断面構成図における凸状部240aは、その下層側に複数層の導電部材が積層されることにより基板鉛直方向に突出されているものである。したがって、係る凸状部240aの平面的な位置を図5(a)にて示すならば、ダミー配線134と走査線131とが平面的に重なって配された部位に相当し、図3の導電部材231に図5(a)の走査線131が対応し、導電部材239にはダミー配線134が対応している。また、図5(b)に示す形態では、凸状部240aの位置は、ダミー配線135と信号線132、電源線133とが平面的に重なって配された部位に相当し、図3の導電部材231に図5(b)のダミー配線135が対応し、導電部材239には信号線132又は電源線133が対応する。   The convex portion 240a in the cross-sectional configuration diagram shown in FIG. 3 projects in the substrate vertical direction by laminating a plurality of layers of conductive members on the lower layer side. Therefore, if the planar position of the convex portion 240a is shown in FIG. 5A, it corresponds to a portion where the dummy wiring 134 and the scanning line 131 are arranged in a planar manner, and the conductive portion of FIG. The scanning line 131 in FIG. 5A corresponds to the member 231, and the dummy wiring 134 corresponds to the conductive member 239. In the form shown in FIG. 5B, the position of the convex portion 240a corresponds to a portion where the dummy wiring 135, the signal line 132, and the power supply line 133 overlap each other in a plane, and the conductive portion in FIG. The dummy wiring 135 in FIG. 5B corresponds to the member 231, and the signal line 132 or the power supply line 133 corresponds to the conductive member 239.

また、図5(a)において、画素電極141の周縁部は信号線132又は電源線133とも平面的に重なって形成されており、この領域でも、先の凸状部240aに対応する部位(複数層の導電部材が積層された部位)ほどではないが、平坦化絶縁膜240の表面が基板鉛直方向に突出されるので、係る突出部位に一部乗り上げることで、画素電極141は有機機能層140側に臨む斜面部を有することとなる。また図5(b)の走査線131と画素電極141とが平面的に重なっている部位でも同様である。   In FIG. 5A, the peripheral edge of the pixel electrode 141 is formed so as to overlap with the signal line 132 or the power line 133 in a planar manner, and even in this region, a portion (plurality) corresponding to the above-described convex portion 240a. Although the surface of the planarization insulating film 240 protrudes in the vertical direction of the substrate, the pixel electrode 141 can be partially moved over the organic functional layer 140, although the surface of the planarization insulating film 240 protrudes in the vertical direction of the substrate. It will have the slope part which faces the side. The same applies to a portion where the scanning line 131 and the pixel electrode 141 in FIG.

したがって、図5(a)及び図5(b)に示す画素領域71においては、画素電極141の周縁部に形成された斜面部が有機機能層140を取り囲むように形成されており、有機機能層140の層厚方向に散乱する光のみならず、同層の面方向に散乱する光も、前記画素電極141に含まれる反射層141aの斜面部によって反射させることで基板鉛直方向に取り出すことができるようになっており、有機機能層140で生じた光を極めて効率よく表示光として利用できるようになっている。   Therefore, in the pixel region 71 shown in FIGS. 5A and 5B, the slope formed on the peripheral edge of the pixel electrode 141 is formed so as to surround the organic functional layer 140, and the organic functional layer is formed. Not only the light scattered in the layer thickness direction of 140 but also the light scattered in the surface direction of the same layer can be taken out in the vertical direction of the substrate by being reflected by the inclined portion of the reflective layer 141a included in the pixel electrode 141. Thus, the light generated in the organic functional layer 140 can be used as display light very efficiently.

次に、図6に示す形態について説明する。図6に示す形態においても、画素領域71の基本的な平面構成は同様であり、有機機能層140を取り囲む格子状に、走査線131、信号線132及び電源線133が設けられている。そして、図6(a)に示す形態は、図5に示したようなダミー配線134,135が設けられていない形態であり、図6(b)に示す形態は、ダミー配線134,135の双方が設けられている形態である。   Next, the form shown in FIG. 6 will be described. Also in the form shown in FIG. 6, the basic planar configuration of the pixel region 71 is the same, and the scanning lines 131, the signal lines 132, and the power supply lines 133 are provided in a lattice shape surrounding the organic functional layer 140. The form shown in FIG. 6A is a form in which the dummy wirings 134 and 135 as shown in FIG. 5 are not provided, and the form shown in FIG. Is provided.

図6(a)に示す形態においては、有機機能層140を取り囲む配線の上層または下層には、それと重なる他の配線が形成されていないため、図3に示した凸状部240aのように顕著に突出する部位は、走査線131と、信号線132(又は電源線133)との交点部以外では形成されないが、先に記載したように、係る構成であっても、配線が設けられていることにより、平坦化絶縁膜240の表面を部分的に突出させることはでき、係る突出部位に乗り上げるように画素電極141を形成するならば、有機機能層140側に臨む斜面部を形成することが可能である。したがって図6(a)に示す形態においても、有機機能層140を取り囲むように画素電極141(反射層141a)の斜面部が配され、有機機能層140の面方向に散乱する光を前記斜面部で反射させて表示光として取り出せるようになっている。   In the form shown in FIG. 6A, no other wiring overlapping therewith is formed in the upper layer or the lower layer of the wiring surrounding the organic functional layer 140, so that it is prominent like the convex portion 240a shown in FIG. The portion protruding in the line is not formed except at the intersection of the scanning line 131 and the signal line 132 (or the power line 133), but as described above, wiring is provided even in such a configuration. Thus, the surface of the planarization insulating film 240 can be partially protruded. If the pixel electrode 141 is formed so as to run over the protruding portion, a sloped portion facing the organic functional layer 140 side can be formed. Is possible. Therefore, also in the embodiment shown in FIG. 6A, the slope portion of the pixel electrode 141 (reflective layer 141a) is arranged so as to surround the organic functional layer 140, and the light scattered in the surface direction of the organic functional layer 140 is emitted from the slope portion. It can be reflected and taken out as display light.

一方、図6(b)に示す形態は、有機機能層140の周囲を取り囲む配線形成領域のほぼ全域において、複数層の導電部材が積層された構造を備えている。この構成によれば、図3に示した凸状部240aが有機機能層140を取り囲むように配されるため、有機機能層140の面方向に散乱した光は、画素電極141の斜面部において極めて効率よく反射され、表示に寄与する光として利用される。したがって係る形態によれば、さらに高輝度の表示を得ることができる。   On the other hand, the form shown in FIG. 6B has a structure in which a plurality of conductive members are stacked in almost the entire wiring formation region surrounding the organic functional layer 140. According to this configuration, since the convex portion 240a shown in FIG. 3 is arranged so as to surround the organic functional layer 140, the light scattered in the surface direction of the organic functional layer 140 is extremely scattered on the slope portion of the pixel electrode 141. Reflected efficiently and used as light contributing to display. Therefore, according to such an embodiment, a display with higher luminance can be obtained.

<有機EL装置の製造方法>
以下、本実施形態の有機EL装置70の製造方法の概略を図面を参照して説明する。本実施形態では、液滴吐出ヘッドから所定の液体材料を吐出して基板上に選択的に配置する液滴吐出法を用いて有機機能層140を形成する場合を例示する。
<Method for manufacturing organic EL device>
Hereinafter, an outline of a method for manufacturing the organic EL device 70 of the present embodiment will be described with reference to the drawings. In the present embodiment, the case where the organic functional layer 140 is formed by using a droplet discharge method in which a predetermined liquid material is discharged from a droplet discharge head and selectively disposed on a substrate is illustrated.

<液滴吐出ヘッド>
まず、有機EL装置70の具体的な製造方法の説明に先立ち、液滴吐出法に用いられる吐出ヘッドの一例について説明する。図7(a)、(b)に示すように吐出ヘッド34は、例えばステンレス製のノズルプレート12と振動板13とを備え、両者を仕切部材(リザーバプレート)14を介して接合したものである。ノズルプレート12と振動板13との間には、仕切部材14によって複数のキャビティ15…とリザーバ16とが形成されており、これらキャビティ15…とリザーバ16とは流路17を介して連通している。
<Droplet ejection head>
First, an example of an ejection head used for a droplet ejection method will be described prior to a description of a specific method for manufacturing the organic EL device 70. As shown in FIGS. 7A and 7B, the ejection head 34 includes, for example, a stainless nozzle plate 12 and a diaphragm 13, which are joined via a partition member (reservoir plate) 14. . A plurality of cavities 15 and reservoirs 16 are formed between the nozzle plate 12 and the diaphragm 13 by the partition member 14, and the cavities 15 and the reservoirs 16 communicate with each other via a flow path 17. Yes.

各キャビティ15とリザーバ16の内部とは液体材料で満たされるようになっており、これらの間の流路17はリザーバ16からキャビティ15に液体材料を供給する供給口として機能するようになっている。また、ノズルプレート12には、キャビティ15から液体材料を噴射するための孔状のノズル18が縦横に整列した状態で複数形成されている。一方、振動板13には、リザーバ16内に開口する孔19が形成されており、この孔19には図示略の液状体タンクがチューブを介して接続され、液体材料の供給を行うようになっている。
また、振動板13のキャビティ15に向く面と反対の側の面上には、図7(b)に示すように圧電素子(ピエゾ素子)20が接合されている。この圧電素子20は、一対の電極21、21間に挟持され、通電により外側に突出するようにして撓曲するよう構成されたものである。
Each cavity 15 and the inside of the reservoir 16 are filled with a liquid material, and a flow path 17 between them functions as a supply port for supplying the liquid material from the reservoir 16 to the cavity 15. . The nozzle plate 12 is formed with a plurality of hole-shaped nozzles 18 for injecting a liquid material from the cavity 15 in a state of being aligned vertically and horizontally. On the other hand, a hole 19 that opens into the reservoir 16 is formed in the diaphragm 13, and a liquid tank (not shown) is connected to the hole 19 via a tube to supply a liquid material. ing.
Further, a piezoelectric element (piezo element) 20 is joined to the surface of the diaphragm 13 opposite to the surface facing the cavity 15 as shown in FIG. The piezoelectric element 20 is sandwiched between a pair of electrodes 21 and 21 and is configured to bend so as to protrude outward when energized.

このような構成のもとに圧電素子20を接合された振動板13は、圧電素子20と一体になって同時に外側へ撓曲し、これによりキャビティ15の容積を増大させる。すると、キャビティ15内とリザーバ16内とが連通しており、リザーバ16内に液体材料が充填されている場合には、キャビティ15内に増大した容積分に相当する液体材料が、リザーバ16から流路17を介して流入する。
そして、このような状態から圧電素子20への通電を解除すると、圧電素子20と振動板13はともに元の形状に戻る。よって、キャビティ15も元の容積に戻ることから、キャビティ15内部の液体材料の圧力が上昇し、ノズル18から所定量の液体材料の液滴22が吐出される。
The diaphragm 13 to which the piezoelectric element 20 is bonded in such a configuration is integrally bent with the piezoelectric element 20 and bent outward at the same time, thereby increasing the volume of the cavity 15. Then, the cavity 15 and the reservoir 16 communicate with each other, and when the reservoir 16 is filled with the liquid material, the liquid material corresponding to the increased volume in the cavity 15 flows from the reservoir 16. It flows in through the path 17.
When the energization to the piezoelectric element 20 is released from such a state, both the piezoelectric element 20 and the diaphragm 13 return to their original shapes. Therefore, since the cavity 15 also returns to its original volume, the pressure of the liquid material inside the cavity 15 rises, and a predetermined amount of the liquid material droplet 22 is discharged from the nozzle 18.

本実施形態に係る製造方法では、このように所定量の液滴を所定位置に吐出配置可能な液滴吐出ヘッド34を用いることで、バンク150に囲まれる領域内に、有機機能層140の形成材料を含む液体材料を選択的に配置し、所定膜厚の有機機能層140を形成する。   In the manufacturing method according to the present embodiment, the organic functional layer 140 is formed in the region surrounded by the bank 150 by using the droplet discharge head 34 that can discharge and arrange a predetermined amount of droplets at a predetermined position. A liquid material including the material is selectively disposed to form the organic functional layer 140 having a predetermined thickness.

なお、吐出ヘッドの吐出手段としては、前記の圧電素子(ピエゾ素子)20を用いた電気機械変換体以外でもよく、例えば、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いた方式や、帯電制御型、加圧振動型といった連続方式、静電吸引方式、さらにはレーザーなどの電磁波を照射して発熱させ、この発熱による作用で液状体を吐出させる方式を採用することもできる。   The ejection means of the ejection head may be other than the electromechanical transducer using the piezoelectric element (piezo element) 20, for example, a method using an electrothermal transducer as an energy generating element, a charge control type, It is also possible to employ a continuous method such as a pressure vibration type, an electrostatic suction method, or a method in which an electromagnetic wave such as a laser is irradiated to generate heat and a liquid material is discharged by the action of this heat generation.

<有機EL装置の製造方法>
次に、上述した液滴吐出ヘッドを用いた有機EL装置(有機エレクトロルミネッセンス装置)の製造方法について説明するが、以下に示す手順や液体材料の材料構成は一例であってこれに限定されるものではない。
<Method for manufacturing organic EL device>
Next, a method for manufacturing an organic EL device (organic electroluminescence device) using the above-described droplet discharge head will be described. However, the following procedure and the material configuration of the liquid material are examples and are limited to this. is not.

以下、上記有機EL装置70の製造方法について図8を参照しながら説明する。なお、図8には、説明を簡略化するために単一の画素領域71についてのみ図示しているが、有機EL装置70の各画素領域71は、共通の構成を具備しているものとする。   Hereinafter, a method for manufacturing the organic EL device 70 will be described with reference to FIG. In FIG. 8, only a single pixel region 71 is shown for the sake of simplicity, but each pixel region 71 of the organic EL device 70 has a common configuration. .

まず、図8(a)に示すように、基板201上に、駆動用TFT143や電極236,238、層間絶縁膜230等を含む回路層250を形成し、さらにその上に平坦化絶縁膜240と、反射層141aと、透明電極140bとを形成し、さらに無機バンク149、バンク150を形成したものを用意する。
なお、平坦化絶縁膜240には、下層側の回路層250に設けられた配線等の導電部材による凸形状に倣う凸状部240aが形成されており、反射層141a及び透明電極141bは凸状部240aに一部乗り上げて配置されている。無機バンク149及びバンク150は、凸状部240aに対応する領域に積層形成されている。
First, as shown in FIG. 8A, a circuit layer 250 including a driving TFT 143, electrodes 236 and 238, an interlayer insulating film 230, and the like is formed on a substrate 201, and further a planarization insulating film 240 and the like are formed thereon. Then, a reflection layer 141a and a transparent electrode 140b are formed, and an inorganic bank 149 and a bank 150 are further prepared.
Note that the planarization insulating film 240 is provided with a convex portion 240a that follows a convex shape by a conductive member such as a wiring provided in the lower circuit layer 250, and the reflective layer 141a and the transparent electrode 141b are convex. A part is placed on the part 240a. The inorganic bank 149 and the bank 150 are stacked in a region corresponding to the convex portion 240a.

トップエミッション型では、基板は不透明であってもよいため、アルミナ等のセラミックス、ステンレス等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂なども用いることができるが、従来から液晶装置等に用いられているガラス基板であってもよい。
反射層141aはアルミニウムや銀等の光反射性材料をスパッタ法などにより成膜し、パターニングすることで形成できる。透明電極141bはその形成材料としてITO等の透光性導電材料を用いて反射層141aと同様にして形成できる。
In the top emission type, since the substrate may be opaque, a ceramic sheet such as alumina, a metal sheet such as stainless steel that has been subjected to an insulation treatment such as surface oxidation, a thermosetting resin, a thermoplastic resin, or the like may be used. However, it may be a glass substrate conventionally used in a liquid crystal device or the like.
The reflective layer 141a can be formed by depositing and patterning a light reflective material such as aluminum or silver by sputtering or the like. The transparent electrode 141b can be formed in the same manner as the reflective layer 141a using a light-transmitting conductive material such as ITO as a forming material.

無機バンク149は、透明電極141b及び平坦化絶縁膜240を覆うように酸化シリコン膜を形成した後、公知のフォトリソグラフィ技術を用いて酸化シリコン膜をパターニングし、透明電極141bの表面を部分的に開口させることで形成できる。なお、無機バンク149の開口領域にて露出された透明電極141bの表面は、平坦面を成している。   In the inorganic bank 149, a silicon oxide film is formed so as to cover the transparent electrode 141b and the planarization insulating film 240, and then the silicon oxide film is patterned using a known photolithography technique to partially cover the surface of the transparent electrode 141b. It can be formed by opening. Note that the surface of the transparent electrode 141b exposed in the opening region of the inorganic bank 149 forms a flat surface.

バンク150は、アクリル、ポリイミド等の有機絶縁材料により形成することができる。バンク150の高さは、例えば1〜2μm程度に設定され、基板201上で有機EL素子の仕切部材として機能する。このような構成のもと、有機EL素子の正孔注入層や発光層の形成場所、すなわちこれらの形成材料の塗布位置とその周囲のバンク150との間に十分な高さの段差からなる開口部(区画領域)151が形成される。また、このバンク150を形成するに際しては、バンク150の壁面を、無機バンク149の開口部から若干外側へ後退させて形成するのがよい。すなわち、バンク150に囲まれる区画領域151内に無機バンク149を一部露出させておくことで、バンク150内での液体材料の濡れ広がりを良好なものとすることができる。   The bank 150 can be formed of an organic insulating material such as acrylic or polyimide. The height of the bank 150 is set to about 1 to 2 μm, for example, and functions as a partition member for the organic EL element on the substrate 201. With such a configuration, the hole injection layer and the light emitting layer of the organic EL element are formed, that is, an opening having a sufficiently high step between the application position of these forming materials and the surrounding bank 150. A part (partition area) 151 is formed. Further, when forming the bank 150, it is preferable that the wall surface of the bank 150 is formed slightly backward from the opening of the inorganic bank 149. That is, by partially exposing the inorganic bank 149 in the partition region 151 surrounded by the bank 150, the wetting and spreading of the liquid material in the bank 150 can be improved.

バンク150を形成したならば、次に、バンク150及び透明電極141bを含む基体上の領域に対して撥液処理を施す。バンク150は、有機EL素子を区画する仕切部材として機能するので、液滴吐出ヘッド34から吐出される液体材料に対して非親和性(撥液性)を示すものであることが好ましく、前記撥液処理により、バンク150に選択的に非親和性を発現させることができる。係る撥液処理として、例えばバンクの表面をフッ素系化合物などで表面処理するといった方法を採用できる。フッ素化合物としては、例えばCF、SF、CHFなどがあり、表面処理としては、例えばプラズマ処理、UV照射処理などが挙げられる。 After the bank 150 is formed, a liquid repellent treatment is performed on the region on the substrate including the bank 150 and the transparent electrode 141b. Since the bank 150 functions as a partition member for partitioning the organic EL element, the bank 150 preferably exhibits non-affinity (liquid repellency) with respect to the liquid material discharged from the droplet discharge head 34. By liquid treatment, non-affinity can be selectively expressed in the bank 150. As such liquid repellent treatment, for example, a method of treating the surface of the bank with a fluorine compound or the like can be employed. Examples of the fluorine compound include CF 4 , SF 6 , and CHF 3 , and examples of the surface treatment include plasma treatment and UV irradiation treatment.

このような撥液処理では、基体の一面側全体に処理を施したとしても、ITO膜等からなる無機材料の透明電極141b表面は有機材料からなるバンク150の表面よりも撥液化されにくく、バンク150の表面のみが選択的に撥液化され、バンク150に囲まれる領域内に液体材料に対する親和性の異なる複数の領域が形成される。なお、区画領域151内に表面特性(撥液/親液性)の異なる複数の領域を形成するには、上記撥液処理によるほか、バンク150の形成材料としてフッ素化合物等を混入した樹脂材料を用いることもできる。この場合、上記撥液処理を施すことなくバンク150表面に撥液性を発現させることができる。   In such a liquid repellent treatment, even if the entire surface of the substrate is treated, the surface of the transparent electrode 141b made of an inorganic material made of an ITO film or the like is less liable to be made liquid repellent than the surface of the bank 150 made of an organic material. Only the surface of 150 is selectively lyophobic, and a plurality of regions having different affinity for the liquid material are formed in the region surrounded by the bank 150. In addition, in order to form a plurality of regions having different surface characteristics (liquid repellency / lyophilicity) in the partition region 151, in addition to the liquid repellency treatment, a resin material mixed with a fluorine compound or the like as a material for forming the bank 150 is used. It can also be used. In this case, the liquid repellency can be expressed on the surface of the bank 150 without performing the liquid repellency treatment.

その後、図8(a)に示すように、基板201の上面を上に向けた状態で正孔注入層形成材料を含む液体材料114aを液滴吐出ヘッド34によりバンク150に囲まれた塗布位置に選択的に塗布する。正孔注入層を形成するための液体材料114aは、正孔注入層形成材料及び溶媒を含むものである。   Thereafter, as shown in FIG. 8A, the liquid material 114a containing the hole injection layer forming material is applied to the application position surrounded by the bank 150 by the droplet discharge head 34 with the upper surface of the substrate 201 facing upward. Apply selectively. The liquid material 114a for forming the hole injection layer includes a hole injection layer forming material and a solvent.

正孔注入層形成材料としては、ポリマー前駆体がポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、1,1−ビス−(4−N,N−ジトリルアミノフェニル)シクロヘキサン、トリス(8−ヒドロキシキノリノール)アルミニウム、バイトロンP、ポリスチレンスルフォン酸等を例示することができる。また、溶媒としては、イソプロピルアルコール、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−イミダゾリノン等の極性溶媒を例示することができる。   As the hole injection layer forming material, polyphenylene vinylene whose polymer precursor is polytetrahydrothiophenylphenylene, 1,1-bis- (4-N, N-ditolylaminophenyl) cyclohexane, tris (8-hydroxyquinolinol) Aluminum, Vitron P, polystyrene sulfonic acid, etc. can be illustrated. Examples of the solvent include polar solvents such as isopropyl alcohol, N-methylpyrrolidone, and 1,3-dimethyl-imidazolinone.

上述した正孔注入層形成材料を含む液体材料114aが液滴吐出ヘッド34より基板201上に吐出されると、流動性が高いため水平方向に広がろうとするが、塗布された位置を囲んでバンク150が形成されているので、液体材料114aはバンク150を越えてその外側に広がらないようになっている。また本実施形態では、透明電極141bの表面が親液領域となっており、その表面は凹面状を成しているので、透明電極141b上に塗布された液体材料114aは、透明電極141b上に良好に保持される。   When the liquid material 114a including the hole injection layer forming material described above is discharged onto the substrate 201 from the droplet discharge head 34, the liquid material 114a tends to spread in the horizontal direction due to its high fluidity, but surrounds the applied position. Since the bank 150 is formed, the liquid material 114a does not spread beyond the bank 150 to the outside thereof. In the present embodiment, the surface of the transparent electrode 141b is a lyophilic region, and the surface is concave, so that the liquid material 114a applied on the transparent electrode 141b is placed on the transparent electrode 141b. Holds well.

続いて、加熱あるいは光照射により液体材料114aの溶媒を蒸発させて透明電極141b上に固形の正孔注入層140Aを形成する(図8(b)参照)。または、大気環境下又は窒素ガス雰囲気下において所定温度及び時間(一例として200℃、10分)焼成するようにしてもよい。あるいは大気圧より低い圧力環境下(真空環境下)に配置することで溶媒を除去するようにしてもよい。
図8(b)に示すように、透明電極141b上に形成される正孔注入層140Aは、透明電極141bの表面が平坦面であることにより、良好な膜厚均一性を有して形成される。
Subsequently, the solvent of the liquid material 114a is evaporated by heating or light irradiation to form a solid hole injection layer 140A on the transparent electrode 141b (see FIG. 8B). Alternatively, firing may be performed at a predetermined temperature and time (for example, 200 ° C., 10 minutes) in an air environment or a nitrogen gas atmosphere. Or you may make it remove a solvent by arrange | positioning under the pressure environment (vacuum environment) lower than atmospheric pressure.
As shown in FIG. 8B, the hole injection layer 140A formed on the transparent electrode 141b is formed with good film thickness uniformity because the surface of the transparent electrode 141b is a flat surface. The

続いて、図8(b)に示すように、基板201の上面を上に向けた状態で液滴吐出ヘッド34から発光層形成材料と溶媒とを含む液体材料114bをバンク150内の正孔注入層140A上に選択的に塗布する。この発光層形成材料としては、例えば共役系高分子有機化合物の前駆体と、得られる発光層の発光特性を変化させるための蛍光色素とを含んでなるものを好適に用いることができる。共役系高分子有機化合物の前駆体は、蛍光色素等とともに液滴吐出ヘッド34から吐出されて薄膜に成形された後、加熱硬化されることによって共役系高分子有機EL層となる発光層を生成し得るものをいい、例えば前駆体のスルホニウム塩の場合、加熱処理されることによりスルホニウム基が脱離し、共役系高分子有機化合物となるもの等である。   Subsequently, as shown in FIG. 8B, the liquid material 114b containing the light emitting layer forming material and the solvent is injected from the droplet discharge head 34 with the upper surface of the substrate 201 facing upward to inject holes into the bank 150. Selectively apply on layer 140A. As this light emitting layer forming material, for example, a material containing a precursor of a conjugated polymer organic compound and a fluorescent dye for changing the light emission characteristics of the light emitting layer to be obtained can be suitably used. The precursor of the conjugated polymer organic compound is ejected from the droplet ejection head 34 together with a fluorescent dye, etc., formed into a thin film, and then cured by heating to produce a light emitting layer that becomes a conjugated polymer organic EL layer. For example, in the case of a precursor sulfonium salt, the sulfonium group is eliminated by heat treatment to become a conjugated polymer organic compound.

このような共役系高分子有機化合物は固体で強い蛍光を持ち、均質な固体超薄膜を形成することができる。しかも形成能に富みITO電極との密着性も高い。さらに、このような化合物の前駆体は、硬化した後は強固な共役系高分子膜を形成することから、加熱硬化前においては前駆体溶液を後述する液滴吐出パターニングに適用可能な所望の粘度に調整することができ、簡便かつ短時間で最適条件の膜形成を行うことができる。   Such a conjugated polymer organic compound is solid and has strong fluorescence, and can form a homogeneous solid ultrathin film. In addition, it has high forming ability and high adhesion to the ITO electrode. Furthermore, since the precursor of such a compound forms a strong conjugated polymer film after curing, the precursor solution can be applied to a droplet discharge patterning described later before heating and curing. Therefore, it is possible to form a film under optimum conditions in a simple and short time.

上記前駆体としては、例えばPPV(ポリ(パラ−フェニレンビニレン))またはその誘導体の前駆体が好ましい。PPVまたはその誘導体の前駆体は、水あるいは有機溶媒に可溶であり、また、ポリマー化が可能であるため光学的にも高品質の薄膜を得ることができる。さらに、PPVは強い蛍光を持ち、また二重結合のπ電子がポリマー鎖上で非極在化している導電性高分子でもあるため、高性能の有機EL素子を得ることができる。このようなPPVまたはPPV誘導体の前駆体として、例えばPPV(ポリ(パラ−フェニレンビニレン))前駆体、MO−PPV(ポリ(2,5−ジメトキシ−1,4−フェニレンビニレン))前駆体、CN−PPV(ポリ(2,5−ビスヘキシルオキシ−1,4−フェニレン−(1−シアノビニレン)))前駆体、MEH−PPV(ポリ[2−メトキシ−5−(2'−エチルヘキシルオキシ)]−パラ−フェニレンビニレン)前駆体等が挙げられる。   As the precursor, for example, PPV (poly (para-phenylene vinylene)) or a precursor thereof is preferable. A precursor of PPV or a derivative thereof is soluble in water or an organic solvent, and can be polymerized, so that a high-quality thin film can be obtained optically. Furthermore, since PPV has strong fluorescence and is also a conductive polymer in which double bond π electrons are non-polarized on the polymer chain, a high-performance organic EL device can be obtained. As precursors of such PPV or PPV derivatives, for example, PPV (poly (para-phenylene vinylene)) precursor, MO-PPV (poly (2,5-dimethoxy-1,4-phenylene vinylene)) precursor, CN, -PPV (poly (2,5-bishexyloxy-1,4-phenylene- (1-cyanovinylene))) precursor, MEH-PPV (poly [2-methoxy-5- (2'-ethylhexyloxy)]- Para-phenylene vinylene) precursor and the like.

PPVまたはPPV誘導体の前駆体は、前述したように水に可溶であり、成膜後の加熱により高分子化してPPV層を形成する。前記PPV前駆体に代表される前駆体の含有量は、液体材料組成物全体に対して0.01〜10.0wt%が好ましく、0.1〜5.0wt%がさらに好ましい。前駆体の添加量が少な過ぎると共役系高分子膜を形成するのに不十分であり、多過ぎると液体材料組成物の粘度が高くなり、液滴吐出法(インクジェット法)による精度の高いパターニングに適さない場合がある。   The precursor of the PPV or PPV derivative is soluble in water as described above, and is polymerized by heating after film formation to form a PPV layer. The content of the precursor typified by the PPV precursor is preferably 0.01 to 10.0 wt%, more preferably 0.1 to 5.0 wt% with respect to the entire liquid material composition. If the added amount of the precursor is too small, it is insufficient to form a conjugated polymer film. If the added amount is too large, the viscosity of the liquid material composition increases, and high-precision patterning by the droplet discharge method (inkjet method) is performed. May not be suitable.

さらに、発光層形成材料としては、少なくとも1種の蛍光色素を含むのが好ましい。これにより、発光層の発光特性を変化させることができ、例えば、発光層の発光効率の向上、または光吸収極大波長(発光色)を変えるための手段としても有効である。   Further, the light emitting layer forming material preferably contains at least one fluorescent dye. Thereby, the light emission characteristics of the light emitting layer can be changed. For example, it is effective as a means for improving the light emission efficiency of the light emitting layer or changing the light absorption maximum wavelength (light emission color).

蛍光色素としては、赤色発光層を形成する場合、赤色に発光するローダミンまたはローダミン誘導体を好ましく用いることができる。これらの蛍光色素は、低分子であるため水溶液に可溶であり、またPPVと相溶性がよく、均一で安定した発光層の形成が容易である。このような蛍光色素として具体的には、ローダミンB、ローダミンBベース、ローダミン6G、ローダミン101過塩素酸塩等が挙げられ、これらを2種以上混合したものであってもよい。また、緑色発光層を形成する場合、緑色に発光するキナクリドンおよびその誘導体を好ましく用いることができる。これらの蛍光色素は前記赤色蛍光色素と同様、低分子であるため水溶液に可溶であり、またPPVと相溶性がよく発光層の形成が容易である。さらに、青色発光層を形成する場合、青色に発光するジスチリルビフェニルおよびその誘導体を好ましく用いることができる。これらの蛍光色素は前記赤色蛍光色素と同様、低分子であるため水・アルコール混合溶液に可溶であり、またPPVと相溶性がよく発光層の形成が容易である。   As the fluorescent dye, rhodamine or a rhodamine derivative that emits red light can be preferably used when a red light emitting layer is formed. Since these fluorescent dyes are low in molecular weight, they are soluble in an aqueous solution, have good compatibility with PPV, and can easily form a uniform and stable light emitting layer. Specific examples of such fluorescent dyes include rhodamine B, rhodamine B base, rhodamine 6G, rhodamine 101 perchlorate and the like, and a mixture of two or more thereof may be used. Moreover, when forming a green light emitting layer, the quinacridone and its derivative which light-emit green can be used preferably. These fluorescent dyes, like the red fluorescent dyes, are low in molecular weight and therefore soluble in aqueous solutions, and are compatible with PPV and can easily form a light emitting layer. Furthermore, when forming a blue light emitting layer, distyryl biphenyl and its derivatives which emit blue light can be preferably used. These fluorescent dyes, like the red fluorescent dyes, are low in molecular weight and therefore are soluble in a water / alcohol mixed solution, and have good compatibility with PPV and facilitate the formation of a light emitting layer.

また、青色に発色する他の蛍光色素としては、クマリンおよびその誘導体を挙げることができる。これらの蛍光色素は、前記赤色蛍光色素と同様、低分子であるため水溶液に可溶であり、またPPVと相溶性がよく発光層の形成が容易である。   Further, as other fluorescent dyes that develop blue color, coumarin and its derivatives can be exemplified. These fluorescent dyes, like the above-mentioned red fluorescent dyes, are low in molecular weight and therefore are soluble in aqueous solutions, and have good compatibility with PPV and facilitate the formation of a light emitting layer.

これらの蛍光色素については、前記共役系高分子有機化合物の前駆体固型分に対し、0.5〜10wt%添加するのが好ましく、1.0〜5.0wt%添加するのがより好ましい。蛍光色素の添加量が多過ぎると発光層の耐候性および耐久性の維持が困難となり、一方、添加量が少なすぎると、前述したような蛍光色素を加えることによる効果が十分に得られないからである。
また、前記前駆体および蛍光色素については、極性溶媒に溶解または分散させて液体材料とし、この液体材料を液滴吐出ヘッド34から吐出するのが好ましい。極性溶媒は、前記前駆体、蛍光色素等を容易に溶解または均一に分散させることができるため、液滴吐出ヘッド34のノズル孔での発光層形成材料中の固型分が付着したり目詰りを起こすのを防止することができる。
These fluorescent dyes are preferably added in an amount of 0.5 to 10 wt%, more preferably 1.0 to 5.0 wt%, based on the solid precursor of the conjugated polymer organic compound. If the amount of fluorescent dye added is too large, it will be difficult to maintain the weather resistance and durability of the light-emitting layer. On the other hand, if the amount added is too small, the effects of adding the fluorescent dye as described above cannot be obtained sufficiently. It is.
The precursor and the fluorescent dye are preferably dissolved or dispersed in a polar solvent to form a liquid material, and this liquid material is preferably discharged from the droplet discharge head 34. Since the polar solvent can easily dissolve or uniformly disperse the precursor, the fluorescent dye, etc., the solid component in the light emitting layer forming material in the nozzle hole of the droplet discharge head 34 is attached or clogged. Can be prevented.

このような極性溶媒として具体的には、水、メタノール、エタノール等の水と相溶性のあるアルコール、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルイミダゾリン(DMI)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、キシレン、シクロヘキシルベンゼン、2,3−ジヒドロベンゾフラン等の有機溶媒または無機溶媒が挙げられ、これらの溶媒を2種以上適宜混合したものであってもよい。   Specific examples of such a polar solvent include water, alcohols compatible with water such as methanol and ethanol, N, N-dimethylformamide (DMF), N-methylpyrrolidone (NMP), dimethylimidazoline (DMI), Examples include organic solvents or inorganic solvents such as dimethyl sulfoxide (DMSO), xylene, cyclohexylbenzene, and 2,3-dihydrobenzofuran, and two or more of these solvents may be appropriately mixed.

更に、前記形成材料中に湿潤剤を添加しておくのが好ましい。これにより、形成材料が液滴吐出ヘッド34のノズル孔で乾燥・凝固することを有効に防止することができる。かかる湿潤剤としては、例えばグリセリン、ジエチレングリコール等の多価アルコールが挙げられ、これらを2種以上混合したものであってもよい。この湿潤剤の添加量としては、形成材料の全体量に対し、5〜20wt%程度とするのが好ましい。なお、その他の添加剤、被膜安定化材料を添加してもよく、例えば、安定剤、粘度調整剤、老化防止剤、pH調整剤、防腐剤、樹脂エマルジョン、レベリング剤等を用いることができる。   Furthermore, it is preferable to add a wetting agent to the forming material. Thereby, it is possible to effectively prevent the forming material from drying and solidifying in the nozzle holes of the droplet discharge head 34. Examples of the wetting agent include polyhydric alcohols such as glycerin and diethylene glycol, and a mixture of two or more of these may be used. The amount of the wetting agent added is preferably about 5 to 20 wt% with respect to the total amount of the forming material. In addition, you may add another additive and a film stabilization material, For example, a stabilizer, a viscosity modifier, an anti-aging agent, a pH adjuster, an antiseptic | preservative, a resin emulsion, a leveling agent etc. can be used.

上記、液体材料114bを液滴吐出ヘッド34から吐出することによる発光層の形成は、赤色の発色光を発光する発光層形成材料を含む液体材料、緑色の発色光を発光する発光層形成材料を含む液体材料、青色の発色光を発光する発光層形成材料を含む液体材料を、それぞれ対応する画素領域71(区画領域151)に吐出し塗布することによって行う。なお、各色に対応する画素領域71は、これらが規則的な配置となるように予め決められている。   The formation of the light emitting layer by discharging the liquid material 114b from the droplet discharge head 34 includes a liquid material including a light emitting layer forming material that emits red colored light, and a light emitting layer forming material that emits green colored light. The liquid material containing and the liquid material containing the light emitting layer forming material which emits blue colored light are discharged and applied to the corresponding pixel regions 71 (partition regions 151). The pixel areas 71 corresponding to the respective colors are determined in advance so that they are regularly arranged.

このようにして各色の発光層形成材料を含む液体材料114bを吐出し塗布したならば、液体材料114b中の溶媒を蒸発させる。この工程により、図8(c)に示すように正孔注入層140A上に固形の発光層140Bが形成され、これにより正孔注入層140Aと発光層140Bとからなる有機機能層140が得られる。この発光層140Bも正孔注入層140Aと同様に、均一な膜厚の平面形状を成して形成される。   When the liquid material 114b containing the light emitting layer forming material of each color is discharged and applied in this manner, the solvent in the liquid material 114b is evaporated. By this step, as shown in FIG. 8C, a solid light emitting layer 140B is formed on the hole injection layer 140A, and thereby an organic functional layer 140 composed of the hole injection layer 140A and the light emitting layer 140B is obtained. . Similar to the hole injection layer 140A, the light emitting layer 140B is formed in a planar shape with a uniform film thickness.

ここで、発光層形成材料を含む液体材料114b中の溶媒の蒸発については、必要に応じて加熱あるいは減圧等の処理を行うが、発光層形成材料は通常乾燥性が良好で速乾性であることから、特にこのような処理を行うことなく、したがって各色の発光層形成材料を順次吐出塗布することにより、その塗布順に各色の発光層140Bを形成することができる。   Here, regarding the evaporation of the solvent in the liquid material 114b containing the light emitting layer forming material, treatment such as heating or decompression is performed as necessary. However, the light emitting layer forming material usually has a good drying property and a fast drying property. Therefore, the light emitting layer 140B of each color can be formed in the order of application by sequentially discharging and applying the light emitting layer forming material of each color without performing such a process.

その後、図8(c)に示すように、基板201の表面全体に、あるいはストライプ状に、ITO等の透明導電材料からなる共通電極154を形成する。こうして、有機EL素子200を製造することができる。なお、本実施形態において有機EL素子200は、反射層141aと透明電極141bと正孔注入層140Aと発光層140Bと共通電極154とを含むものである。   Thereafter, as shown in FIG. 8C, a common electrode 154 made of a transparent conductive material such as ITO is formed on the entire surface of the substrate 201 or in a stripe shape. Thus, the organic EL element 200 can be manufactured. In this embodiment, the organic EL element 200 includes a reflective layer 141a, a transparent electrode 141b, a hole injection layer 140A, a light emitting layer 140B, and a common electrode 154.

このような有機EL素子の製造方法において、正孔注入層140Aや発光層140Bといった有機EL素子の構成要素となる薄膜は、液滴吐出ヘッドから吐出される液体材料により形成されるので、正孔注入層140Aや発光層140Bの形成材料となる液体材料のロスは少なく、正孔注入層140Aや発光層140Bは比較的安価にしかも安定して形成される。   In such an organic EL element manufacturing method, since the thin film that is a constituent element of the organic EL element such as the hole injection layer 140A and the light emitting layer 140B is formed of a liquid material discharged from the droplet discharge head, There is little loss of the liquid material used as the material for forming the injection layer 140A and the light emitting layer 140B, and the hole injection layer 140A and the light emitting layer 140B are formed relatively inexpensively and stably.

上記実施形態では、液滴吐出ヘッド34を用いた液滴吐出法により液体材料を塗布することで有機機能層140を形成する場合について説明したが、液滴吐出法に限らず、例えばスピンコート法、スリットコート(或いはカーテンコート)、ダイコート法など他の塗布方法を用いることもできる。また、液体材料の生成工程や成膜工程は大気環境下で行ってもよいし窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。なお、液体材料の調製工程や液滴吐出ヘッド34による成膜工程はクリーンルーム内でパーティクル及びケミカル的にクリーン度を維持された環境下で行うのが望ましい。   In the above-described embodiment, the case where the organic functional layer 140 is formed by applying a liquid material by a droplet discharge method using the droplet discharge head 34 has been described. Other coating methods such as slit coating (or curtain coating) and die coating can also be used. Further, the liquid material generation step and the film formation step may be performed in an air environment or in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas. In addition, it is desirable to perform the liquid material preparation process and the film forming process by the droplet discharge head 34 in an environment in which cleanliness is maintained in a clean room by particles and chemicals.

(第2の実施形態)
次に、本発明の第2実施形態について図9及び図10を参照して説明する。図9(a)は本実施形態に係る有機EL装置の画素領域71の概略平面構成を示す図であり、(b)は(a)図のA−A’線に沿う部分断面構成図である。図10は、図9に示す画素領域71の回路構成図である。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 9A is a diagram showing a schematic plan configuration of the pixel region 71 of the organic EL device according to the present embodiment, and FIG. 9B is a partial sectional configuration diagram taken along the line AA ′ in FIG. . FIG. 10 is a circuit configuration diagram of the pixel region 71 shown in FIG.

本実施形態の有機EL装置は、先の第1実施形態の有機EL装置に、さらに補助配線136が設けられている点に特徴を有しており、係る補助配線136と当該配線への接続構造以外の構成は第1実施形態とほぼ同様である。したがって、図9及び図10において、図1から図8と同一の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。   The organic EL device of this embodiment is characterized in that an auxiliary wiring 136 is further provided in the organic EL device of the first embodiment, and the auxiliary wiring 136 and a connection structure to the wiring are provided. Other configurations are substantially the same as those in the first embodiment. Therefore, in FIG. 9 and FIG. 10, the same components as those in FIG. 1 to FIG.

図9(a)に示すように、本実施形態に係る画素領域71には、走査線131と、それに直交して延びる信号線132及び電源線133とが設けられており、これらの配線に囲まれる平面視略矩形状の領域が有機機能層140が形成されるべき領域とされている。また、画素電極141は有機機能層140の平面領域を含み、その周縁部で走査線131、信号線132及び電源線133と一部平面的に重なる領域に形成される。そして本実施形態では、走査線131、信号線132及び電源線133と平面的に重なる平面視略格子状の補助配線136が設けられている。また補助配線136は、走査線131と信号線132との交差点の近傍に設けられる矩形状の中継電極141cとコンタクトホール141hを介して導電接続されている。   As shown in FIG. 9A, the pixel region 71 according to the present embodiment is provided with a scanning line 131, a signal line 132 and a power supply line 133 extending perpendicularly thereto, and is surrounded by these wirings. A region having a substantially rectangular shape in plan view is a region where the organic functional layer 140 is to be formed. Further, the pixel electrode 141 includes a planar region of the organic functional layer 140 and is formed in a region that partially overlaps the scanning line 131, the signal line 132, and the power supply line 133 at the periphery. In the present embodiment, auxiliary wiring 136 having a substantially lattice shape in plan view that overlaps the scanning line 131, the signal line 132, and the power supply line 133 in a plane is provided. The auxiliary wiring 136 is conductively connected to a rectangular relay electrode 141c provided near the intersection of the scanning line 131 and the signal line 132 via a contact hole 141h.

図9(b)は、上記補助配線136と中継電極141cとの導電接続構造における部分断面構造を示しており、同図に示すように、補助配線136は、信号線132、電源線133を覆って形成された層間絶縁膜241上に形成されており、補助配線136及び層間絶縁膜241を覆って層間絶縁膜242が形成されている。層間絶縁膜241と層間絶縁膜242とは、平坦化絶縁膜240を構成し、図示は省略したが、有機機能層140が形成されるべき領域に平坦面を形成する。
そして、層間絶縁膜242を貫通して補助配線136に達するコンタクトホール141hを介して補助配線136と中継電極141cとが導電接続されている。なお、中継電極141cは、層間絶縁膜242上の画素電極141と同層に形成され、画素電極141のパターニングの際に同時に形成できる。
FIG. 9B shows a partial cross-sectional structure in the conductive connection structure between the auxiliary wiring 136 and the relay electrode 141c. As shown in FIG. 9B, the auxiliary wiring 136 covers the signal line 132 and the power supply line 133. An interlayer insulating film 242 is formed to cover the auxiliary wiring 136 and the interlayer insulating film 241. The interlayer insulating film 241 and the interlayer insulating film 242 constitute a planarization insulating film 240, and although not shown, a flat surface is formed in a region where the organic functional layer 140 is to be formed.
The auxiliary wiring 136 and the relay electrode 141c are conductively connected through a contact hole 141h that passes through the interlayer insulating film 242 and reaches the auxiliary wiring 136. Note that the relay electrode 141c is formed in the same layer as the pixel electrode 141 on the interlayer insulating film 242, and can be formed at the same time when the pixel electrode 141 is patterned.

中継電極141cは、図示は省略したが、図3に示したバンク149,150を貫通して設けた貫通孔を介して共通電極154と導電接続されるようになっている。あるいは中継電極141cを設けない構成も適用でき、その場合には層間絶縁膜242、バンク149,150等を一括に貫通するコンタクトホールを形成し、係るコンタクトホールを介して共通電極154と補助配線136とを直接に導電接続する。   Although not shown, the relay electrode 141c is conductively connected to the common electrode 154 through a through hole provided through the banks 149 and 150 shown in FIG. Alternatively, a configuration in which the relay electrode 141c is not provided can be applied. In that case, a contact hole penetrating the interlayer insulating film 242, the banks 149, 150, and the like is formed, and the common electrode 154 and the auxiliary wiring 136 are formed through the contact hole. And are directly conductively connected.

図9に示す画素領域71の回路構成を図10に示す。同図に示すように、先の図1に示した回路構成に対して、走査線131と平行に延びる補助配線136が設けられたものとなっており、補助配線136は、有機機能層(発光部)140と接続された共通電極154に電気的に接続されている。補助配線136は、信号線132及び電源線133に平行に延在していてもよい。   FIG. 10 shows a circuit configuration of the pixel region 71 shown in FIG. As shown in the figure, an auxiliary wiring 136 extending in parallel with the scanning line 131 is provided for the circuit configuration shown in FIG. 1, and the auxiliary wiring 136 is an organic functional layer (light emitting element). Part) 140 is electrically connected to the common electrode 154 connected to 140. The auxiliary wiring 136 may extend in parallel to the signal line 132 and the power supply line 133.

上記構成を備えた本実施形態の有機EL装置では、共通電極154と導電接続される補助配線136が設けられていることで、特に大画面の表示装置を構成する場合に好適なものとなっている。つまり、トップエミッション型の有機EL装置では、表示面側(光射出側)に配される共通電極154がITO等の透光性導電材料により形成されるが、このような透光性導電材料は電気抵抗が大きく、特に大型の表示領域においてはその電圧降下が顕著に現れ、パネル中央部の画素における電流量が低下して輝度の低下を招く。そこで金属材料等の低抵抗材料により補助配線136を形成し、各画素領域71において共通電極154と接続しておけば、共通電極154における電圧降下を防止でき、パネル全面で均一な輝度の表示を得ることができる。   In the organic EL device of the present embodiment having the above-described configuration, the auxiliary wiring 136 that is conductively connected to the common electrode 154 is provided, which is particularly suitable when a large-screen display device is configured. Yes. That is, in the top emission type organic EL device, the common electrode 154 disposed on the display surface side (light emission side) is formed of a light-transmitting conductive material such as ITO. The electric resistance is large, and particularly in a large display area, the voltage drop is noticeable, and the current amount in the pixel at the center of the panel is reduced, leading to a reduction in luminance. Therefore, if the auxiliary wiring 136 is formed of a low-resistance material such as a metal material and is connected to the common electrode 154 in each pixel region 71, a voltage drop in the common electrode 154 can be prevented, and a uniform luminance display can be achieved on the entire panel surface. Can be obtained.

また、図9に示したように、本実施形態に係る画素領域71においては、信号線132及び電源線133と補助配線136とが平面的に重なって配置されている。これにより、信号線132、電源線133等が形成された領域においては、これらの配線の高さに補助配線136の高さが加わって、平坦化絶縁膜240を基板鉛直方向に大きく突出させることができ、より大きな高さを有る凸状部240aを平坦化絶縁膜240表面部に形成することができる。したがって、係る凸状部240aに乗り上げて形成される画素電極141の周縁部には、より大きな高さを有する斜面部が形成されることとなり、画素電極141に含まれる反射層141aの斜面部によって有機機能層140の面方向の散乱光を基板鉛直方向へ反射させる効果をより顕著なものとすることができる。   As shown in FIG. 9, in the pixel region 71 according to the present embodiment, the signal line 132, the power supply line 133, and the auxiliary wiring 136 are arranged so as to overlap in a plane. As a result, in the region where the signal line 132, the power supply line 133, and the like are formed, the height of the auxiliary wiring 136 is added to the height of these wirings, and the planarization insulating film 240 is greatly projected in the substrate vertical direction. Thus, the convex portion 240a having a larger height can be formed on the surface portion of the planarization insulating film 240. Accordingly, a slope portion having a larger height is formed at the peripheral edge portion of the pixel electrode 141 formed on the convex portion 240a, and the slope portion of the reflective layer 141a included in the pixel electrode 141 is formed. The effect of reflecting the scattered light in the surface direction of the organic functional layer 140 in the substrate vertical direction can be made more remarkable.

(電子機器)
図11は、本発明に係る電子機器の一例を示す斜視構成図である。
図11に示す映像モニタ1200は、先の実施形態の有機EL装置を備えた表示部1201と、筐体1202と、スピーカ1203等を備えて構成されている。そして、この映像モニタ1200は、先の有機EL装置により高輝度、高画質であり、かつムラの少ない表示が可能である。
(Electronics)
FIG. 11 is a perspective configuration diagram illustrating an example of an electronic apparatus according to the invention.
A video monitor 1200 illustrated in FIG. 11 includes a display unit 1201 including the organic EL device of the previous embodiment, a housing 1202, a speaker 1203, and the like. The video monitor 1200 can display with high brightness and high image quality and less unevenness by the above organic EL device.

上記実施の形態の有機EL装置は、上記映像モニタに限らず、携帯電話、電子ブック、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても、明るく高画質の表示が得られるものとなっている。   The organic EL device of the above embodiment is not limited to the video monitor, but is a mobile phone, electronic book, personal computer, digital still camera, viewfinder type or monitor direct-view type video tape recorder, car navigation device, pager, electronic notebook. , Calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, devices equipped with a touch panel, etc., can be suitably used as image display means, and any electronic device can obtain a bright and high-quality display. ing.

図1は、実施形態に係る有機EL装置の回路構成図。FIG. 1 is a circuit configuration diagram of an organic EL device according to an embodiment. 図2は、同、平面構成図。FIG. 2 is a plan configuration diagram of the same. 図3は、同、画素領域の部分断面構成図。FIG. 3 is a partial cross-sectional configuration diagram of the pixel region. 図4は、有機EL素子を拡大して示す断面構成図。FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing an organic EL element. 図5は、同、画素領域の平面構成図。FIG. 5 is a plan view of the pixel area. 図6は、画素領域の他の形態を示す平面構成図。FIG. 6 is a plan view showing another form of the pixel region. 図7は、液滴吐出ヘッドの概略構成図。FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a droplet discharge head. 図8は、第1実施形態に係る有機EL装置の製造工程を示す図。FIG. 8 is a view showing a manufacturing process of the organic EL device according to the first embodiment. 図9は、第2実施形態に係る画素領域を示す図。FIG. 9 is a diagram illustrating a pixel region according to the second embodiment. 図10は、同、画素領域の回路構成図。FIG. 10 is a circuit configuration diagram of the pixel region. 図11は、本発明に係る電子機器の一例を示す斜視構成図。FIG. 11 is a perspective configuration diagram illustrating an example of an electronic apparatus according to the invention.

符号の説明Explanation of symbols

70 有機EL装置(電気光学装置)、71 画素領域、131 走査線、132 信号線、133 電源線、140 有機機能層(機能層)、141 画素電極(第1電極)、141a 反射層、141b 透明電極、150 バンク(隔壁部材)、154 共通電極(第2電極)、142 スイッチング用TFT(スイッチング素子)、143 駆動用TFT(スイッチング素子)、200 有機EL素子(発光素子)、201 基板(基体)、240 平坦化絶縁膜、240a 凸状部、231 導電部材   70 organic EL device (electro-optical device), 71 pixel region, 131 scanning line, 132 signal line, 133 power supply line, 140 organic functional layer (functional layer), 141 pixel electrode (first electrode), 141a reflective layer, 141b transparent Electrode, 150 banks (partition member), 154 common electrode (second electrode), 142 switching TFT (switching element), 143 driving TFT (switching element), 200 organic EL element (light emitting element), 201 substrate (base) 240, planarization insulating film, 240a convex portion, 231 conductive member

Claims (15)

基体上に、第1電極と、発光層を含む機能層と、透光性を有する第2電極とを順に積層してなる発光素子が設けられた電気光学装置であって、
前記機能層の基体側に、前記発光層で生じた光を反射させる反射層が設けられ、該反射層の基体側には、表面に凸状部を有する絶縁膜が設けられており、
前記反射層が、平面視で前記機能層の外側まで延出されるとともに、当該延出部分にて前記機能層側に臨む斜面部を形成しており、
前記斜面部が、前記反射層の延出部分と平面的に重なって配置された前記絶縁膜の凸状部に起因して形成されていることを特徴とする電気光学装置。
An electro-optical device provided with a light emitting element in which a first electrode, a functional layer including a light emitting layer, and a second electrode having translucency are sequentially laminated on a substrate,
A reflective layer for reflecting light generated in the light emitting layer is provided on the base side of the functional layer, and an insulating film having a convex portion on the surface is provided on the base side of the reflective layer,
The reflective layer extends to the outside of the functional layer in plan view, and forms an inclined surface facing the functional layer side at the extended portion,
2. The electro-optical device according to claim 1, wherein the slope portion is formed due to a convex portion of the insulating film disposed so as to overlap with an extension portion of the reflective layer.
前記斜面部が、前記機能層を平面視で取り囲むように配置されていることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, wherein the slope portion is disposed so as to surround the functional layer in a plan view. 前記斜面部が、前記第2電極と前記機能層との界面より前記第2電極側へ突出していることを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置。   3. The electro-optical device according to claim 1, wherein the inclined portion protrudes toward the second electrode from an interface between the second electrode and the functional layer. 前記基体上に、前記発光素子を取り囲む隔壁部材が立設されており、
前記反射層の斜面部と、前記隔壁部材とが平面的に重なって配置されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の電気光学装置。
A partition member surrounding the light emitting element is erected on the base,
4. The electro-optical device according to claim 1, wherein the inclined surface portion of the reflective layer and the partition wall member are disposed so as to overlap in a planar manner.
前記絶縁膜の基体側に、前記発光素子と電気的に接続された回路層が設けられており、
前記絶縁膜表面の凸状部が、前記回路層に設けられた導電部材に起因して形成されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の電気光学装置。
A circuit layer electrically connected to the light emitting element is provided on the base side of the insulating film,
5. The electro-optical device according to claim 1, wherein the convex portion on the surface of the insulating film is formed due to a conductive member provided in the circuit layer.
前記絶縁膜表面の凸状部が、前記回路層に設けられた導電部材のうち、前記反射層に最も近接して配置された導電部材に起因するものであることを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置。   6. The convex portion on the surface of the insulating film is caused by a conductive member disposed closest to the reflective layer among conductive members provided on the circuit layer. The electro-optical device described. 前記反射層に最も近接して配置された導電部材が、前記回路層に設けられた導電部材のうち、最大の厚さを有していることを特徴とする請求項6に記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 6, wherein the conductive member disposed closest to the reflective layer has a maximum thickness among the conductive members provided in the circuit layer. . 前記反射層に最も近接して配置された導電部材が、平面視で前記機能層をほぼ取り囲むように配置されていることを特徴とする請求項6又は7に記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 6, wherein the conductive member disposed closest to the reflective layer is disposed so as to substantially surround the functional layer in a plan view. 前記回路層が、層間絶縁膜を介して複数の前記導電部材を積層した構造を備えており、
複数層の前記導電部材が平面的に重なって配置された位置に、前記凸状部が形成されていることを特徴とする請求項5から8のいずれか1項に記載の電気光学装置。
The circuit layer has a structure in which a plurality of the conductive members are stacked via an interlayer insulating film,
9. The electro-optical device according to claim 5, wherein the convex portion is formed at a position where the conductive members of a plurality of layers are arranged in a planar manner.
前記積層して配置された複数の導電部材に起因して前記凸状部が形成され、該凸状部が、平面視略枠状を成して前記機能層を取り囲んでおり、
前記凸状部の平面領域における前記導電部材の積層数が同一であることを特徴とする請求項8に記載の電気光学装置。
The convex portion is formed due to the plurality of conductive members arranged in a stacked manner, and the convex portion surrounds the functional layer in a substantially frame shape in plan view,
The electro-optical device according to claim 8, wherein the number of stacked conductive members in the planar area of the convex portion is the same.
前記積層して配置された複数の導電部材が、それぞれの層において前記機能層を取り囲む平面視略枠状であることを特徴とする請求項9に記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 9, wherein the plurality of conductive members arranged in a stacked manner have a substantially frame shape in plan view surrounding the functional layer in each layer. 前記平面視略枠状を成す導電部材の少なくとも一部が、他の部位と絶縁されたダミー部材であることを特徴とする請求項10に記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 10, wherein at least a part of the conductive member having a substantially frame shape in a plan view is a dummy member insulated from other portions. 前記回路層に、前記第2電極と電気的に接続された導電部材が設けられていることを特徴とする請求項5から11のいずれか1項に記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 5, wherein a conductive member electrically connected to the second electrode is provided in the circuit layer. 前記発光素子が、有機発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする請求項1から12のいずれか1項に記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, wherein the light-emitting element is an organic electroluminescence element including an organic light-emitting layer. 請求項1から12のいずれか1項に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.
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