[go: up one dir, main page]

JP2005325292A - 近赤外線吸収色素及び近赤外線遮断フィルター - Google Patents

近赤外線吸収色素及び近赤外線遮断フィルター Download PDF

Info

Publication number
JP2005325292A
JP2005325292A JP2004146317A JP2004146317A JP2005325292A JP 2005325292 A JP2005325292 A JP 2005325292A JP 2004146317 A JP2004146317 A JP 2004146317A JP 2004146317 A JP2004146317 A JP 2004146317A JP 2005325292 A JP2005325292 A JP 2005325292A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
formula
infrared absorbing
absorbing dye
anion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004146317A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaaki Tamura
正明 田村
Yasufumi Yamaguchi
容史 山口
Hideo Yamamoto
秀雄 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Carlit Co Ltd
Original Assignee
Japan Carlit Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Carlit Co Ltd filed Critical Japan Carlit Co Ltd
Priority to JP2004146317A priority Critical patent/JP2005325292A/ja
Publication of JP2005325292A publication Critical patent/JP2005325292A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Optical Filters (AREA)

Abstract

【課題】 耐熱性、耐湿性に優れ、時間経過とともに分解しにくいため近赤外線吸収能力が低下することがなく長期安定性に優れ、樹脂への溶解性が高く樹脂中に均一に分散・溶解させやすく、850nm付近の近赤外線吸収能力が充分にあるため別種の近赤外線吸収色素を第2成分として加える必要がなく、安価な近赤外線吸収色素を提供すること。
【解決手段】 次の式(1)
【化10】
Figure 2005325292

(式中、R〜Rのうち少なくとも一つは、1以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたハロゲン化アルキル基を示し、他は、同一または異なっていてもよいアルキル基、アルキレン基、シアノアルキル基、水酸基、スルホン酸基、アルキルスルホン酸基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子及びフェニルアルキル基からなる群から選ばれる基を示し、Aは、同一又は異なっていてもよいアニオンを示す)
で表されるジイモニウム塩を含む近赤外線吸収色素。
【選択図】 図1

Description

本発明は、近赤外光領域の光を吸収を有する近赤外線吸収色素に関し、更に詳細には、耐熱性、耐湿性に優れた近赤外線吸収色素及びこれを利用した近赤外線遮断フィルターに関する。
近年、ディスプレイの大型化、薄型化の要求が高まる中、プラズマディスプレイパネル(以下、「PDP」と略記する)が一般に広く普及し始めている。
このPDPからは、使用中に近赤外線が放出され、近赤外線リモコンを使用した電子機器が誤動作を起こしてしまうことがあり、近赤外線吸収色素を用いたフィルターで近赤外線を遮断する必要があるとされている。
また、光学レンズ、自動車用ガラス、建材用ガラス等の用途にも近赤外線遮断フィルターが広く利用されている。
これらの用途に用いられる近赤外線遮断フィルターは、可視光領域の光を透過させつつ、効果的に近赤外光領域の光を吸収するとともに、高い耐熱性、耐湿性が求められる。
従来より、近赤外領域の光を効果的に吸収する色素として、ジイモニウム塩化合物が知られており、これを含有する各種近赤外線遮断フィルターが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
この特許文献1中に例示されたジイモニウム塩系の近赤外線吸収色素の中でも比較的耐熱性、耐湿性に優れたものとして、例えばジイモニウム塩カチオンの末端の窒素への置換基がn−ブチル基であるN,N,N’,N’−テトラキス{p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル}−p−フェニレンジイモニウム塩が知られており、一般的に用いられている。
しかしながら、上記色素を用いてもなお耐熱性、耐湿性が不十分であり、該色素が含有されてなる近赤外線遮断フィルターは、時間の経過とともに色素が分解し、近赤外線吸収能力が低下するという問題点があった。また、分解により生成したアミニウム塩が可視光領域に吸収を生じることから、可視光透過率が低下し、近赤外線遮断フィルター自体が黄色に呈色し、色調を損なってしまうという問題点があった。
また、イモニウム塩カチオンの末端の窒素への置換基がアルキル基である上記色素は、樹脂への溶解性が低いため、樹脂中に均一に分散・溶解させ難いという問題点もあった。
さらに、これらの問題点の他にも、従来のジイモニウム塩を単独で近赤外線吸収色素として用いた場合は、850nm付近の近赤外線吸収能力が不足する場合があり、例えばPDP用の近赤外線遮断フィルターには、この吸収を補うためフタロシアニン化合物等の別の近赤外線吸収色素を第2成分として加える必要があった。
特開平10−180922号公報
本発明はかかる技術背景に鑑みてなされたものであり、その課題は、耐熱性、耐湿性及び安定性に優れ、樹脂中に均一に分散・溶解させやすく、しかも別種の近赤外線吸収色素加える必要がない近赤外線吸収色素を見出し、これを用いた近赤外線遮断フィルターを提供することにある。
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、カチオン側の末端の窒素に特定の置換基が結合したジイモニウム塩を使用することによって、上記課題が解決できることを見出し本発明に至った。
すなわち本発明は、式(1)
Figure 2005325292
(式中、R〜Rのうち少なくとも一つは、1以上の水素原子がハロゲン原原子で置換されたハロゲン化アルキル基を示し、他は、同一又は異なっていてもよいアルキル基、アルキレン基、シアノアルキル基、水酸基、スルホン酸基、アルキルスルホン酸基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子及びフェニルアルキル基からなる群から選ばれる基を示し、Aは、同一又は異なっていてもよいアニオンを示す)
で表されるジイモニウム塩を含む近赤外線吸収色素を提供するものである。
また、上記近赤外線吸収色素を含有させてなる近赤外線遮断フィルターを提供するものである。
本発明によれば、耐熱性、耐湿性に優れ、時間経過とともに分解しにくいため近赤外線吸収能力が低下することがなく長期安定性に優れた近赤外線吸収色素を得ることができる。そしてこのものは、樹脂への溶解性が高く樹脂中に均一に分散・溶解させやすいと共に、850nm付近の近赤外線吸収能力が充分にあるため別種の近赤外線吸収色素を第2成分として加える必要がない優れたものである。
本発明の近赤外線吸収色素の有効成分は、上記式(1)で表されるジイモニウム塩であり、式(1)中、R〜Rの少なくとも1つは、1以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたハロゲン化アルキル基であることが必須である。式(1)中のかかるハロゲン化アルキル基は、同一であっても異なっていてもよい。上記式(1)で表されるジイモニウム塩のR〜Rにおいて、2個以上がハロゲン化アルキル基である場合は、その炭素数は、同一であっても異なっていてもよいが、好ましくは同一である。なお、式(1)で表されるジイモニウム塩は、通常考えられるその他の共鳴構造をも含んでいるものとする。
上記ハロゲン化アルキル基の好ましいものとしては、下記式(2)
−C2n+1−m ・・・・・・(2)
(式中、Xはハロゲン原子を示し、nは1〜12の自然数、mは1〜25の自然数を示す)
で表されるものが挙げられる。
上記のハロゲン化アルキル基において、その炭素数は、1〜12個の範囲であり、好ましくは1〜6個である。ハロゲン化アルキル基の炭素数が12個を超えると、ジイモニウム塩の質量吸光係数が低下してしまう場合がある。
ハロゲン化アルキル基のハロゲン原子としては、特に限定はなく、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素の何れでもよいが、ジイモニウム塩の安定性を上げる効果に優れる点から、特にフッ素原子が好ましい。ハロゲン原子は、1種であっても2種以上であってもよい。
かかるハロゲン化アルキル基の好ましい具体例としては、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、3,3,3,−トリフルオロプロピル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、5,5,5−トリフルオロペンチル基、6,6,6−トリフルオロヘキシル基、8,8,8−トリフルオロオクチル基、2−メチル−3,3,3−トリフルオロプロピル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロオクチル基、2−トリフルオロ−ペルフルオロプロピル基等のフッ化アルキル基;トリクロロメチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、3,3,3−トリクロロプロピル基、4,4,4−トリクロロブチル基、5,5,5−トリクロロペンチル基、6,6,6−トリクロロヘキシル基、8,8,8−トリクロロオクチル基、2−メチル−3,3,3−トリクロロプロピル基、ペルクロロエチル基、ペルクロロプロピル基、ペルクロロブチル基、ペルクロロヘキシル基、ペルクロロオクチル基、2−トリクロロ−ペルクロロプロピル基等の塩化アルキル基;トリブロモメチル基、2,2,2−トリブロモエチル基、3,3,3−トリブロモプロピル基、4,4,4−トリブロモブチル基、5,5,5−トリブロモペンチル基、6,6,6−トリブロモヘキシル基、8,8,8−トリブロモオクチル基、2−メチル−3,3,3−トリブロモプロピル基、ペルブロモエチル基、ペルブロモプロピル基、ペルブロモブチル基、ペルブロモヘキシル基、ペルブロモオクチル基、2−トリブロモ−ペルブロモプロピル基等の臭化アルキル基等が挙げられる。
このうち、特に好ましい具体例としては、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、3,3,3,−トリフルオロプロピル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基等が挙げられる。
本発明においては、式(1)中のR〜Rの少なくとも1つが、ハロゲン化アルキル基であることが必須であり、好ましくは式(2)のハロゲン化アルキル基であるが、8個のうち4個以上が上記式(2)で表されるハロゲン化アルキル基であることがより好ましい。更には全ての置換基が、上記式(2)で表されるハロゲン化アルキル基であることが、耐熱性、耐湿性、溶解性が良好で、850nm付近の吸収が大きいため特に好ましい。また、全ての置換基が上記式(2)で表される同一のハロゲン化アルキル基であることが更に好ましい。
一方、式(1)中のR〜Rにおいて、ハロゲン化アルキル基以外の置換基は、アルキル基、アルキレン基、シアノアルキル基、水酸基、スルホン酸基、アルキルスルホン酸基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子又はフェニルアルキル基である。
上記アルキル基としては特に限定はないが、炭素数が1〜12個のアルキル基が好ましく、1〜8個が特に好ましく、2〜6個が更に好ましい。かかるアルキル基は、直鎖であっても分岐を有していてもよい。具体的には例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ドデシル基等が挙げられ、特に好ましい具体例としては、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基、イソアミル基等が挙げられる。
また、上記アルキレン基としては特に限定はないが、炭素数が1〜12個のアルキレン基が好ましい。かかるアルキレン基は、直鎖であっても分岐を有していてもよく、二重結合の数と位置にも特に限定はない。特に好ましい具体例としては、アリル基等が挙げられる。
上記シアノアルキル基としては特に限定はないが、炭素数が1〜12個のシアノアルキル基であることが好ましく、置換されているシアノ基の数は、1〜3個が好ましい。特に好ましい具体例としては、プロピルニトリル基、ブチロニトリル基、ペンチルニトリル基、1−メチルーブチロニトリル基、1−メチルーブチロニトリル基等が挙げられる。
上記アルキルスルホン酸基としては特に限定はないが、炭素数が1〜6個のアルキルスルホン酸基が好ましい。特に好ましい具体例としては、メチルスルホン酸基、エチルスルホン酸基、プロピルスルホン酸基、ブチルスルホン酸基等が挙げられる。
上記アルコキシ基としては特に限定はないが、炭素数が1〜12個のアルコキシ基が好ましい。特に好ましい具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
上記アリール基としては特に限定はないが、置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基、トリル基、フリル基、ピリジル基等が挙げられる。特に好ましい具体例としてはフェニル基、トリル基等が挙げられる。
式(1)中、ハロゲン化アルキル基以外の置換基としてのハロゲン原子としては特に限定はないが、塩素原子、フッ素原子等が好ましい。
式(1)中のフェニルアルキル基としては、アルキル基の炭素数が、1〜18個のものが好ましく、1〜8個のものが特に好ましい。更にフェニル基は、置換基を有していなくてもよいが、アルキル基、水酸基、スルホン酸基、アルキルスルホン酸基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基及びハロゲンからなる群から選ばれる少なくとも1種の置換基を有していてもよい。
かかるフェニルアルキル基として具体的には、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニル−α−メチルプロピル基、フェニル−β−メチルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基、フェニルオクチル基等が挙げられる。最も好ましいものとして、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
一方、本発明の式(1)において、Aで示されるアニオンについては特に限定はないが、下の式(3)で示されるスルホンイミドアニオンが、耐熱性、耐湿性をより向上させるので特に好ましい。
Figure 2005325292
(式中、R’及びR”は、それぞれ同一又は異なっていてもよいフルオロアルキル基を示すか、又はそれらが一緒になって形成するフルオロアルキレン基を示す)
式(3)中のR’及びR”は、それぞれ同一でも異なっていてもよいフルオロアルキル基又はそれらが一緒になって形成されるフルオロアルキレン基であれば、置換されているフッ素原子の数や炭素数には特に限定はないが、好ましいR’及びR”の例としては、同一でも異なっていてもよい炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基が挙げられる。すなわち、好ましい一例としては、式(4)で表されるアニオンが挙げられる。
Figure 2005325292
(式中、n及びn’は、1〜8の整数を示す)
ここで、nとn’としては、更に好ましくは1〜4の整数である。好ましい具体例としては、例えば、パーフルオロアルカンスルホニル基が同一(n=n’)である、ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド、ビス(ペンタフルオロエタンスルホン)イミド等や、パーフルオロアルカンスルホニル基が異なる(n≠n’)ペンタフルオロエタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド、トリフルオロメタンスルホンヘプタフルオロプロパンスルホンイミド、ノナフルオロブタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド等が挙げられ、これらの中でも、パーフルオロアルカンスルホニル基が同一(n=n’)で、かつnとn’が、1又は2であるビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド又はビス(ペンタフルオロエタンスルホン)イミドが、近赤外線吸収能力の点で更に好ましい。
また、式(3)中のアニオンにおけるR’及びR”の好ましい別の有機基としては、これらが一緒になって形成される炭素数2〜12のフルオロアルキレン基が挙げられる。フルオロアルキレン基のフッ素の数と水素の数には特に限定はないが、特に好ましくは、これらが一緒になって形成される炭素数2〜12のパーフルオロアルキレン基が挙げられる。すなわち、耐熱性、耐湿性の点で、特に好ましいアニオンとして、式(5)で表されるアニオンが挙げられる。
Figure 2005325292
(式中、mは、2〜12の整数を示す)
ここで、mは好ましくは、2〜8であり、更に好ましくは、mが3である。すなわち具体的には、下記の式(6)で表される1,3−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミドが挙げられる。
Figure 2005325292
更に、本発明の式(1)で示される近赤外線吸収色素に用いられるアニオンAとしては、ヘキサフルオロアンチモン酸アニオン、ヘキサフルオロ燐酸アニオン、テトラフルオロホウ酸アニオン及び過塩素酸アニオンからなる群から選ばれる1種又は2種以上のアニオンも耐熱性や耐湿性が優れたものになるので好ましい。
また、式(1)中のAとして、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、テトラフルオロエタンスルホン酸アニオン、パーフルオロブタンスルホン酸アニオン及びトリフルオロ酢酸アニオンからなる群から選ばれる1種又は2種以上の有機アニオンであることも、耐熱性や耐湿性が優れたものになる点で好ましい。
式(1)において、かかるアニオンAは単独で用いても、2種よりなる複塩であっても良い。また、2種以上よりなる混合物であってもよい。
次に、本発明の近赤外線吸収色素の有効成分であるジイモニウム塩(1)製造方法の一例を示せば次の通りである。
すなわち、ウルマン反応及び還元反応で得られる、下記式(7)で表されるアミノ体を、N−メチル−2−ピロリドン(以下、「NMP」と略記する)、ジメチルホルムアミド(以下、「DMF」と略記する)等の極性溶剤中、対応する1−ヨードフルオロアルカン等のヨウ化ハロゲン化アルカンと、脱ヨウ素化剤としてアルキル金属の炭酸塩を加え、30℃〜150℃、好ましくは70〜120℃で反応させ、下記式(8)で示される、ハロゲン化アルキル置換体を得る。このとき、対応するヨウ化ハロゲン化アルカンの一部を、対応するヨードアルカン;アルコキシヨード;ヨウ化ベンゼン;ヨウ化ベンジル、ヨウ化フェネチル等のフェニル−1−ヨードアルカン等に代えてもよい。
Figure 2005325292
Figure 2005325292
(式中、R〜Rは、前記した意味を有する)
次いで、上記式(8)で示されるハロゲン化アルキル置換体及び対応するアニオンAの銀塩を、NMP、DMF、アセトニトリル等の有機溶媒中、温度30〜150℃、好ましくは40〜80℃で反応させ、析出した銀を濾別した後、水、酢酸エチル、ヘキサン等の溶媒を加え生じた沈殿を濾過して、上記式(1)で表されるジイモニウム塩を得る。
ジイモニウム塩(1)において、、R〜Rが、2種以上の異なる置換基である場合は、置換基の数に対応するモル数のヨウ化ハロゲン化アルカン化合物を添加し、反応後、順次対応するモル数の異種のヨウ化ハロゲン化アルカン;対応するヨードアルカン;アルコキシヨード;ヨウ化ベンゼン;ヨウ化ベンジル、ヨウ化フェネチル等のフェニル−1−ヨードアルカン等を加え反応させ、前記と同様に処理することによっても得られるし、異種の上記ヨウ化物を同時に加えても得ることができる。
かくして得られるジイモニウム塩(1)は、本発明の近赤外線吸収色素の有効成分として、更にアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリイソシアナート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、エポキシ系樹脂等の樹脂等と混合することによって、近赤外線遮断フィルターを得ることができる。
このとき、本発明の近赤外線吸収色素のみを1種又は2種以上用いることも可能であるが、波長850nm付近の近赤外線遮断性能が若干不足する場合には、更に、フタロシアニン系色素類、ジチオール系金属錯体等の公知色素類を添加させてもよい。また耐光性を向上させるために、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系等の紫外線吸収色素を、更に添加させてもよい。また必要に応じて、可視光領域に吸収を持つ公知色素を添加させて色調を調えてもよい。
本発明の近赤外線遮断フィルターの近赤外線透過率は、本発明の近赤外線吸収色素の上記樹脂に対する混合率を変えることで制御できるが、上記樹脂100重量部に対し、本発明の近赤外線吸収色素を、0.01重量部〜30重量部の範囲で混合することが好ましい。0.01重量部未満の場合には近赤外線遮断能力が不十分の場合があり、30重量部より多い場合には可視光線透過率も低下してしまう場合がある。
本発明の近赤外線遮断フィルターの製造方法は特に限定はないが、キャスト法、溶融押し出し法等の公知の製造方法が挙げられる。
このうちキャスト法は、本発明の近赤外線吸収色素を、樹脂及び溶剤を混合させた溶液中に溶解又は分散させた後、ポリエステルやポリカーボネート等の透明なフィルム、パネル、ガラス基板等の支持体上に、該溶液を塗布、乾燥させてフィルム状に成膜させる方法である。
上記キャスト法に用いられる溶媒としては特に限定はないが、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等の有機溶剤又はこれらを混合させた溶媒を用いることができる。
溶融押し出し法は、本発明の近赤外線吸収色素と樹脂とを溶融、混練した後、押し出し成型によりパネル状に成型させる方法である。
従来、ハロゲン化アルキル基を末端基として有しないジイモニウム塩を含む近赤外線吸収色素は、それ単独の使用では、850nm付近の近赤外線吸収能力が不足する場合があり、例えばPDP用等の近赤外線遮断フィルターでは、この吸収能力不足を補うために、更にフタロシアニン化合物等の第2の色素類を加える必要があった。これに対し、本発明のハロゲン化アルキル基を末端基として有するジイモニウム塩(1)を含む近赤外線吸収色素は、吸収波長が短波長側にシフトしているため、第2の色素類の添加量を削減するか又は無添加でも要求性能を満たす近赤外線吸収能力が得られる。
また、本発明のハロゲン化アルキル基を末端基として有するジイモニウム塩(1)が高い耐熱性、耐湿性を示す理由は明らかではないが、可視光線領域(480nm付近)に吸収を有し、黄色に呈色させてしまうアミニウム塩化合物が分解により生成しにくいためと考えられる。
次に、実施例を挙げて本発明を更に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は「重量部」を示す。
実 施 例 1
(1)DMF100部にN,N,N’,N’−テトラキス(p−アミノフェニル)−p−フェニレンジアミン10部、1−ヨード−4,4,4−トリフルオロブタン63部及び炭酸カリウム30部を加え、120℃で10時間反応させた。
次いで、上記反応液を水500部中に加え、生じた沈殿を濾過し、メチルアルコール500部で洗浄後、100℃で乾燥し、N,N,N’,N’−テトラキス{p−ジ(4,4,4−トリフルオロブチル)アミノフェニル}−p−フェニレンジアミン24.1部を得た。
(2)得られたN,N,N’,N’−テトラキス{p−ジ(4,4,4−トリフルオロブチル)アミノフェニル}−p−フェニレンジアミン24.1部に、DMF200部とヘキサフルオロアンチモン酸酸銀12.9部を加えて、60℃で3時間反応させ、生成した銀を濾別した。
次いで、該濾液に水200部を添加し、生成させた沈殿を濾過後、乾燥させて、ヘキサフルオロアンチモン酸−N,N,N’,N’−テトラキス{p−ジ(4,4,4−トリフルオロブチル)アミノフェニル}−p−フェニレンジイモニウムの近赤外線吸収色素28.0部を得た。
(3)アクリルラッカー系樹脂(総研化学(株)社製、登録商標サーモラックLP−45M)30部に、メチルエチルケトン34部及びトルエン34部を加えて得た溶液中に、上記近赤外線吸収色素2部を溶解させた。この溶液を隙間寸法46μmのバーコーターを使用して、市販の汎用ポリメタクリル樹脂フィルム(厚み125μm)上に塗布した。次いで、温度100℃で3分間乾燥させて、近赤外線遮断フィルターを得た。
実 施 例 2〜4
実施例1で用いた1−ヨード−4,4,4−トリフルオロブタン63部に代えて、同じモル数の表1に示した化合物を用いた以外は、実施例1と同様にして表1記載の近赤外線吸収色素を得た。次いで、得られた近赤外線吸収色素を用いて、それぞれ実施例1と同様にして近赤外線遮断フィルターを得た。
実 施 例 5
実施例1と同様にして得たN,N,N’,N’−テトラキス{p−ジ(4,4,4−トリフルオロブチル)アミノフェニル}−p−フェニレンジアミン24.1部に、アセトン250部とビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸銀14.5部を加えて、60℃で3時間反応させ、生成した銀を濾別した。
次いで、該濾液に水200部を添加し、生成させた沈殿を濾過後、乾燥させて、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸−N,N,N’,N’−テトラキス{p−ジ(4,4,4−トリフルオロブチル)アミノフェニル}−p−フェニレンジイモニウムの近赤外線吸収色素29.9部を得た。次いで、得られた近赤外線吸収色素を用いて実施例1と同様にして近赤外線遮断フィルターを得た。
実 施 例 6〜8
実施例5で用いた1−ヨード−4,4,4−トリフルオロブタン63部に代えて、同じモル数の表1に示した化合物を用いた以外は、実施例5と同様にして表1記載の近赤外線吸収色素を得た。次いで、得られた近赤外線吸収色素を用いて、それぞれ実施例1と同様にして近赤外線遮断フィルターを得た。
実 施 例 9〜12
実施例5で用いた1−ヨード−4,4,4−トリフルオロブタン63部に代えて、同じモル数の表1に示した化合物を用い、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸銀14.5部に代えて、同じモル数の1,3−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸銀を用いた以外は、実施例5と同様にして表1記載の近赤外線吸収色素を得た。次いで、得られた近赤外線吸収色素を用いて、それぞれ実施例1と同様にして近赤外線遮断フィルターを得た。
比 較 例 1
実施例1で用いた1−ヨード−4,4,4−トリフルオロブタン63部に代えて、同じモル数の1−ヨードブタンを用いた以外は、実施例1と同様にして表1記載の近赤外線吸収色素を得た。また実施例1と同様にして近赤外線遮断フィルターを得た。
Figure 2005325292
評 価 例
<極大吸収波長とモル吸光係数>
実施例1〜5及び比較例1で合成した近赤外線吸収色素の極大吸収波長(以下、「λmax」と略記する)と、λmaxにおけるモル吸光係数(以下、「ε」と略記する)を表2に示す。また、実施例1と比較例1の近赤外線遮断フィルターの透過率の波長依存性を、それぞれ図1及び図2に示す。
Figure 2005325292
図1と図2を比較すると、実施例1の本発明の近赤外線吸収色素では、比較例1の色素に比較して、λmaxが短波長側にシフトしており、750nm〜900nmの吸収が増加していた。また、表1から分かるように、実施例1〜5の本発明の近赤外線吸収色素では、比較例1の色素に比較して、λmaxが短波長側にシフトしていた。このことから、本発明の近赤外線吸収色素は、更にフタロシアニン系色素等の他の色素を加える必要がないことが分かった。また、実施例1〜5の近赤外線吸収色素ではεが大きく、近赤外線を充分に遮蔽できるものであることが分かった。
<80℃耐熱性試験>
実施例1〜4及び比較例1の近赤外線遮断フィルターを、温度80℃の雰囲気下で保存して耐熱性試験を行い、波長1000nmにおける初期の吸光度を100%とし、所定時間経過後の吸光度の百分率を色素残存率として算出した。また、波長480nmにおける光線透過率を測定した。これらの結果を表3に示す。
Figure 2005325292
<105℃耐熱性試験>
実施例5〜12及び比較例1の近赤外線遮断フィルターを、温度105℃の雰囲気下で保存して耐熱性試験を行い、波長1000nmにおける初期の吸光度を100%とし、所定時間経過後の吸光度の百分率を色素残存率として算出した。また、波長480nmにおける光線透過率を測定した。これらの結果を表4に示す。
Figure 2005325292
<耐湿性試験>
実施例1〜4及び比較例1の近赤外線遮断フィルターを、温度60℃、湿度95%の雰囲気下に保存して、上記耐熱性試験と同様に色素残存率及び光線透過率を測定した。これらの結果を表5に示す。
Figure 2005325292
表3ないし表5に示すように、従来の近赤外線吸収色素を用いた近赤外線遮断フィルター(比較例1)は、色素が時間の経過と共に分解し、波長1000nm付近の近赤外線領域の吸光度が低下してしまった。更には経時で可視光透過率が低下し、黄色に呈色して色調を損なってしまった。これに比して、実施例1〜12の近赤外線吸収色素を含有させた近赤外線遮断フィルターは、近赤外線領域の吸光度の低下が少なく、色素の分解による可視光領域の呈色も発生しにくかった。これより、実施例1〜12の近赤外線吸収色素は、比較例1の色素に比較して、耐熱性、耐湿性が共に高いことが分かった。
本発明のジイモニウム塩(1)を有効成分とする近赤外線吸収色素は、耐熱性、耐湿性に優れ、長期間にわたって近赤外線吸収能力が低下しないものであり、本発明の近赤外線吸収色素を含有させた近赤外線遮断フィルターは、種々の用途に用いることができる。
そして、上記近赤外線遮断フィルターは、例えばPDP用、自動車ガラス用、建材ガラス用等として用いられるが、特にPDP用近赤外線遮断フィルター用として好適である。
実施例1で作製した近赤外線遮断フィルターの光線透過率を示す図である。 比較例1で作製した近赤外線遮断フィルターの光線透過率を示す図である。 以 上

Claims (12)

  1. 次の式(1)
    Figure 2005325292
    (式中、R〜Rのうち少なくとも一つは、1以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたハロゲン化アルキル基を示し、他は、同一または異なっていてもよいアルキル基、アルキレン基、シアノアルキル基、水酸基、スルホン酸基、アルキルスルホン酸基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子及びフェニルアルキル基からなる群から選ばれる基を示し、Aは、同一又は異なっていてもよいアニオンを示す)
    で表されるジイモニウム塩を含む近赤外線吸収色素。
  2. 1以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたハロゲン化アルキル基が次の式(2)、

    −C2n+1−m ・・・・・・(2)

    (式中、Xはハロゲン原子を示し、nは1〜12の自然数、mは1〜25の自然数を示す)
    で表されるジイモニウム塩を含む近赤外線吸収色素。
  3. 式(1)において、R〜Rの全てが、式(2)で表されるハロゲン化アルキル基である請求項1記載の近赤外線吸収色素。
  4. 式(2)において、Xがフッ素原子である請求項2又は請求項3記載の近赤外線吸収色素。
  5. 式(1)において、Aが次の式(3)
    Figure 2005325292
    (式中、R’及びR”は、それぞれ同一又は異なっていてもよいフルオロアルキル基を示すか、又はそれらが一緒になって形成するフルオロアルキレン基を示す)
    で表されるアニオンである請求項1ないし請求項3の何れかの請求項記載の近赤外線吸収色素。
  6. 式(3)においてR’及びR”が、それぞれ同一又は異なっていてもよい炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基である請求項5記載の近赤外線吸収色素。
  7. 式(3)においてR’及びR”が、共にトリフルオロメチル基またはペンタフルオロエチル基である請求項5記載の近赤外線吸収色素。
  8. 式(3)においてR’及びR”が一緒になって形成するフルオロアルキレン基が、炭素数2〜12のパーフルオロアルキレン基である請求項5記載の近赤外線吸収色素。
  9. 式(3)においてR’及びR”が一緒になって形成するフルオロアルキレン基が、ヘキサフルオロプロピレン基である請求項5記載の近赤外線吸収色素。
  10. 式(1)においてAが、ヘキサフルオロアンチモン酸アニオン、ヘキサフルオロ燐酸アニオン、テトラフルオロホウ酸アニオン及び過塩素酸アニオンからなる群から選ばれる1種又は2種以上のアニオンである請求項1ないし請求項4の何れかの請求項記載の近赤外線吸収色素。
  11. 式(1)においてAが、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、テトラフルオロエタンスルホン酸アニオン、パーフルオロブタンスルホン酸アニオン及びトリフルオロ酢酸アニオンからなる群から選ばれる1種又は2種以上のアニオンである請求項1ないし請求項4の何れかの請求項記載の近赤外線吸収色素。
  12. 請求項1ないし請求項11の何れかの請求項記載の近赤外線吸収色素を含有してなる近赤外線遮断フィルター。

JP2004146317A 2004-05-17 2004-05-17 近赤外線吸収色素及び近赤外線遮断フィルター Pending JP2005325292A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004146317A JP2005325292A (ja) 2004-05-17 2004-05-17 近赤外線吸収色素及び近赤外線遮断フィルター

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004146317A JP2005325292A (ja) 2004-05-17 2004-05-17 近赤外線吸収色素及び近赤外線遮断フィルター

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005325292A true JP2005325292A (ja) 2005-11-24

Family

ID=35471884

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004146317A Pending JP2005325292A (ja) 2004-05-17 2004-05-17 近赤外線吸収色素及び近赤外線遮断フィルター

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005325292A (ja)

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006184828A (ja) * 2004-12-28 2006-07-13 Toyobo Co Ltd 近赤外線吸収フィルム及びその製造方法、並びに近赤外線吸収フィルター
JP2006298989A (ja) * 2005-04-18 2006-11-02 Japan Carlit Co Ltd:The ジイモニウム塩化合物並びにこれを利用する近赤外線吸収色素および近赤外線遮断フィルター
WO2007073000A1 (en) * 2005-12-22 2007-06-28 Fujifilm Corporation Method for producing polyaniline compound
WO2007097368A1 (ja) * 2006-02-22 2007-08-30 Hitachi Maxell, Ltd ジイモニウム塩化合物、およびこれ含む近赤外線吸収組成物、並びに近赤外線吸収フィルタ、ディスプレイ用前面板
WO2007145289A1 (ja) * 2006-06-14 2007-12-21 Hitachi Maxell, Ltd. ジイモニウム塩化合物、およびこれを含む近赤外線吸収組成物、並びに近赤外線吸収フィルタ、ディスプレイ用前面板
WO2007148595A1 (ja) * 2006-06-20 2007-12-27 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha ジイモニウム化合物及びその用途
WO2008010501A1 (fr) * 2006-07-21 2008-01-24 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Film absorbant le proche infrarouge et filtre optique pour panneau d'affichage à plasma les utilisant
WO2008038569A1 (fr) * 2006-09-28 2008-04-03 Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo Filtre optique
JP2008260738A (ja) * 2007-04-13 2008-10-30 Fujifilm Corp トリアリールアミン誘導体
WO2009017160A1 (ja) * 2007-07-31 2009-02-05 Sony Chemical & Information Device Corporation 接着剤組成物
JP2010018773A (ja) * 2008-06-12 2010-01-28 Nippon Shokubai Co Ltd 近赤外線吸収粘着剤組成物
WO2010073857A1 (ja) 2008-12-25 2010-07-01 株式会社Adeka シアニン化合物を用いた近赤外線吸収材料及びシアニン化合物
WO2010095349A1 (ja) * 2009-02-20 2010-08-26 株式会社日本触媒 近赤外線吸収粘着剤組成物
JP2011026377A (ja) * 2009-07-22 2011-02-10 Japan Carlit Co Ltd:The 近赤外線吸収色素及び近赤外線遮断フィルター
JP2016104839A (ja) * 2014-12-01 2016-06-09 三菱化学株式会社 赤外線吸収色素組成物、赤外線吸収膜及び積層体
WO2019021665A1 (ja) * 2017-07-27 2019-01-31 日本板硝子株式会社 光学フィルタ
WO2019021666A1 (ja) * 2017-07-27 2019-01-31 日本板硝子株式会社 光学フィルタ及びカメラ付き情報端末
JP2019028420A (ja) * 2017-10-20 2019-02-21 日本板硝子株式会社 光学フィルタ
US10858519B2 (en) 2016-01-15 2020-12-08 Toyo Ink Sc Holdings Co., Ltd. Near-infrared absorbing composition for solid-state imaging device and filter
US12287501B2 (en) 2019-05-23 2025-04-29 Nippon Sheet Glass Company, Limited Light-absorbing composition, light-absorbing film, and optical filter

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04168031A (ja) * 1990-10-31 1992-06-16 Sekisui Plastics Co Ltd 樹脂容器の成形用型およびこれを用いた成形方法
JPH0624146A (ja) * 1992-05-12 1994-02-01 Canon Inc 赤外吸収化合物及びそれを用いた光記録媒体
JPH06220420A (ja) * 1993-01-21 1994-08-09 Canon Inc 赤外吸収化合物及びそれを用いた光記録媒体
JP2000081511A (ja) * 1998-06-30 2000-03-21 Nippon Kayaku Co Ltd 赤外線カットフィルタ―
JP2000211239A (ja) * 1999-01-22 2000-08-02 Canon Inc 近赤外吸収化合物を含有する被記録媒体および該媒体を用いた画像形成方法
JP2000227515A (ja) * 1998-12-03 2000-08-15 Toyobo Co Ltd 近赤外線吸収フィルタ−
JP2002200711A (ja) * 2000-12-28 2002-07-16 Nisshinbo Ind Inc 近赤外線吸収材料
JP2002303720A (ja) * 1998-12-03 2002-10-18 Toyobo Co Ltd 近赤外線吸収フィルター
JP2003055643A (ja) * 2001-08-10 2003-02-26 Nagase Chemtex Corp 近赤外線吸収剤の製造方法
JP2003096040A (ja) * 2001-07-04 2003-04-03 Nippon Kayaku Co Ltd ジイモニウム塩化合物、それを用いる近赤外線吸収フィルター

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04168031A (ja) * 1990-10-31 1992-06-16 Sekisui Plastics Co Ltd 樹脂容器の成形用型およびこれを用いた成形方法
JPH0624146A (ja) * 1992-05-12 1994-02-01 Canon Inc 赤外吸収化合物及びそれを用いた光記録媒体
JPH06220420A (ja) * 1993-01-21 1994-08-09 Canon Inc 赤外吸収化合物及びそれを用いた光記録媒体
JP2000081511A (ja) * 1998-06-30 2000-03-21 Nippon Kayaku Co Ltd 赤外線カットフィルタ―
JP2000227515A (ja) * 1998-12-03 2000-08-15 Toyobo Co Ltd 近赤外線吸収フィルタ−
JP2002303720A (ja) * 1998-12-03 2002-10-18 Toyobo Co Ltd 近赤外線吸収フィルター
JP2000211239A (ja) * 1999-01-22 2000-08-02 Canon Inc 近赤外吸収化合物を含有する被記録媒体および該媒体を用いた画像形成方法
JP2002200711A (ja) * 2000-12-28 2002-07-16 Nisshinbo Ind Inc 近赤外線吸収材料
JP2003096040A (ja) * 2001-07-04 2003-04-03 Nippon Kayaku Co Ltd ジイモニウム塩化合物、それを用いる近赤外線吸収フィルター
JP2003055643A (ja) * 2001-08-10 2003-02-26 Nagase Chemtex Corp 近赤外線吸収剤の製造方法

Cited By (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006184828A (ja) * 2004-12-28 2006-07-13 Toyobo Co Ltd 近赤外線吸収フィルム及びその製造方法、並びに近赤外線吸収フィルター
JP2006298989A (ja) * 2005-04-18 2006-11-02 Japan Carlit Co Ltd:The ジイモニウム塩化合物並びにこれを利用する近赤外線吸収色素および近赤外線遮断フィルター
WO2007073000A1 (en) * 2005-12-22 2007-06-28 Fujifilm Corporation Method for producing polyaniline compound
WO2007097368A1 (ja) * 2006-02-22 2007-08-30 Hitachi Maxell, Ltd ジイモニウム塩化合物、およびこれ含む近赤外線吸収組成物、並びに近赤外線吸収フィルタ、ディスプレイ用前面板
JP5015911B2 (ja) * 2006-02-22 2012-09-05 日本カーリット株式会社 ジイモニウム塩化合物、およびこれ含む近赤外線吸収組成物、並びに近赤外線吸収フィルタ、ディスプレイ用前面板
WO2007145289A1 (ja) * 2006-06-14 2007-12-21 Hitachi Maxell, Ltd. ジイモニウム塩化合物、およびこれを含む近赤外線吸収組成物、並びに近赤外線吸収フィルタ、ディスプレイ用前面板
JP5250415B2 (ja) * 2006-06-20 2013-07-31 日本化薬株式会社 ジイモニウム化合物及びその用途
WO2007148595A1 (ja) * 2006-06-20 2007-12-27 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha ジイモニウム化合物及びその用途
JPWO2008010501A1 (ja) * 2006-07-21 2009-12-17 日本化薬株式会社 近赤外線吸収フィルム及びこれを用いたプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ
WO2008010501A1 (fr) * 2006-07-21 2008-01-24 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Film absorbant le proche infrarouge et filtre optique pour panneau d'affichage à plasma les utilisant
WO2008038569A1 (fr) * 2006-09-28 2008-04-03 Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo Filtre optique
JP5216997B2 (ja) * 2006-09-28 2013-06-19 株式会社林原 光学フィルター
JP2008260738A (ja) * 2007-04-13 2008-10-30 Fujifilm Corp トリアリールアミン誘導体
US7759504B2 (en) 2007-04-13 2010-07-20 Fujifilm Corporation Triarylamine derivative
WO2009017160A1 (ja) * 2007-07-31 2009-02-05 Sony Chemical & Information Device Corporation 接着剤組成物
JPWO2009017160A1 (ja) * 2007-07-31 2010-10-21 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 接着剤組成物
JP2010018773A (ja) * 2008-06-12 2010-01-28 Nippon Shokubai Co Ltd 近赤外線吸収粘着剤組成物
WO2010073857A1 (ja) 2008-12-25 2010-07-01 株式会社Adeka シアニン化合物を用いた近赤外線吸収材料及びシアニン化合物
KR20110108329A (ko) 2008-12-25 2011-10-05 가부시키가이샤 아데카 시아닌 화합물을 이용한 근적외선 흡수재료 및 시아닌 화합물
US8460858B2 (en) 2008-12-25 2013-06-11 Adeka Corporation Near-infrared-ray absorbing material containing cyanine compound, and cyanine compound
WO2010095349A1 (ja) * 2009-02-20 2010-08-26 株式会社日本触媒 近赤外線吸収粘着剤組成物
JP2011026377A (ja) * 2009-07-22 2011-02-10 Japan Carlit Co Ltd:The 近赤外線吸収色素及び近赤外線遮断フィルター
JP2016104839A (ja) * 2014-12-01 2016-06-09 三菱化学株式会社 赤外線吸収色素組成物、赤外線吸収膜及び積層体
US10858519B2 (en) 2016-01-15 2020-12-08 Toyo Ink Sc Holdings Co., Ltd. Near-infrared absorbing composition for solid-state imaging device and filter
WO2019021665A1 (ja) * 2017-07-27 2019-01-31 日本板硝子株式会社 光学フィルタ
WO2019021666A1 (ja) * 2017-07-27 2019-01-31 日本板硝子株式会社 光学フィルタ及びカメラ付き情報端末
JP2019028162A (ja) * 2017-07-27 2019-02-21 日本板硝子株式会社 光学フィルタ
JP2019028163A (ja) * 2017-07-27 2019-02-21 日本板硝子株式会社 光学フィルタ、カメラモジュール、及び情報端末
US11585968B2 (en) 2017-07-27 2023-02-21 Nippon Sheet Glass Company, Limited Optical filter and camera-equipped information device
US11592603B2 (en) 2017-07-27 2023-02-28 Nippon Sheet Glass Company, Limited Optical filter
US11885993B2 (en) 2017-07-27 2024-01-30 Nippon Sheet Glass Company, Limited Optical filter and method of manufacturing
US12072517B2 (en) 2017-07-27 2024-08-27 Nippon Sheet Glass Company, Limited Light-absorbing composition and method of manufacturing
JP2019028420A (ja) * 2017-10-20 2019-02-21 日本板硝子株式会社 光学フィルタ
US12287501B2 (en) 2019-05-23 2025-04-29 Nippon Sheet Glass Company, Limited Light-absorbing composition, light-absorbing film, and optical filter

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005325292A (ja) 近赤外線吸収色素及び近赤外線遮断フィルター
JP4168031B2 (ja) 近赤外線吸収色素及び近赤外線遮断フィルター
JP4635007B2 (ja) フィルタ、及びシアニン化合物
CN114637066B (zh) 滤光片以及成像装置
KR101709800B1 (ko) 근적외선 흡수 색소 및 근적외선 차단 필터
JP2008050599A (ja) フタロシアニン化合物
JP5536394B2 (ja) フタロシアニン化合物
WO2003032028A1 (fr) Film absorbant de rayonnement infrarouge proche
JP4740631B2 (ja) ジイモニウム塩化合物並びにこれを利用する近赤外線吸収色素および近赤外線遮断フィルター
JPH07178861A (ja) 近赤外線吸収板
JP5015911B2 (ja) ジイモニウム塩化合物、およびこれ含む近赤外線吸収組成物、並びに近赤外線吸収フィルタ、ディスプレイ用前面板
WO2019230570A1 (ja) 近赤外線吸収色素、光学フィルタおよび撮像装置
KR20110053981A (ko) 프탈로시아닌 화합물
KR20120087877A (ko) 프탈로시아닌 화합물
JPH0772332A (ja) 熱線遮断機能を有する偏光板
JP4813789B2 (ja) ジイモニウム塩化合物、該化合物を含有する近赤外線吸収剤および近赤外線カットフィルター
JP5534731B2 (ja) 近赤外線吸収色素及び近赤外線遮断フィルター
KR20090022692A (ko) 시아닌 색소 화합물 및 이를 함유한 플라즈마 디스플레이패널용 광학필터
JP2003096040A (ja) ジイモニウム塩化合物、それを用いる近赤外線吸収フィルター
JP5606492B2 (ja) フタロシアニン化合物
JP5288360B2 (ja) フタロシアニン化合物の製造方法及びこれより得られた該化合物の混合物
JP3940786B2 (ja) 赤外線吸収フィルター及びプラズマディスプレイパネル用フィルター
JP2007297333A (ja) ジイモニウム塩化合物、及びこれを含む近赤外線吸収組成物、並びに近赤外線吸収フィルタ、ディスプレイ用前面板
JP3781466B2 (ja) 近赤外線吸収化合物およびその製造方法
JPH08225752A (ja) 近赤外線吸収化合物およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070413

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100302

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100506

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Effective date: 20100506

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100824

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110118