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JP2005302566A - Organic EL element manufacturing method, organic EL element, and electronic apparatus - Google Patents

Organic EL element manufacturing method, organic EL element, and electronic apparatus Download PDF

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JP2005302566A
JP2005302566A JP2004117873A JP2004117873A JP2005302566A JP 2005302566 A JP2005302566 A JP 2005302566A JP 2004117873 A JP2004117873 A JP 2004117873A JP 2004117873 A JP2004117873 A JP 2004117873A JP 2005302566 A JP2005302566 A JP 2005302566A
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JP
Japan
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organic
layer
organic layer
substrate
electrode
Prior art date
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Application number
JP2004117873A
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Inventor
Masayuki Mitsuya
将之 三矢
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

【課題】有機材料と有機溶媒の溶解性を考慮することなく、簡単な湿式の製造プロセスで、有機EL素子の積層構造を構築することが可能な有機EL素子の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】第1の電極と、第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極に狭持された有機層を有する有機EL素子の製造方法において、第1の有機材料の液状体を基材に配して第1の有機層を形成する第1の有機層形成工程と、基板上に塗布された光架橋材料の表面に、前記第1の有機層の表面を重ねて載置した後、光を照射して前記1の有機層の表面を光架橋させて、有機溶媒に対して不溶化させる表面改質工程と、前記表面が光架橋された前記第1の有機層上に、第2の有機材料を有機溶媒に溶解させた液状体を配して第2の有機層を形成する第2の有機層形成工程と、を含むものである。
【選択図】 図1
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an organic EL element capable of constructing a laminated structure of organic EL elements by a simple wet manufacturing process without considering the solubility of organic materials and organic solvents. And
In a method of manufacturing an organic EL element having an organic layer sandwiched between a first electrode, a second electrode, and the first electrode and the second electrode, the first organic material A first organic layer forming step of forming a first organic layer by disposing a liquid material on a substrate, and a surface of the first organic layer superimposed on a surface of a photocrosslinking material applied on a substrate After the mounting, a surface modification step of irradiating light to photocrosslink the surface of the first organic layer to insolubilize it in an organic solvent, and on the first organic layer whose surface is photocrosslinked And a second organic layer forming step of forming a second organic layer by arranging a liquid obtained by dissolving the second organic material in an organic solvent.
[Selection] Figure 1

Description

有機EL素子の製造方法、有機EL素子、および電子機器に関し、有機EL素子を湿式法で作製する有機EL素子の製造方法、有機EL素子、および電子機器に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an organic EL element, an organic EL element, and an electronic apparatus, and more particularly to a method for manufacturing an organic EL element, an organic EL element, and an electronic apparatus for producing an organic EL element by a wet method.

有機EL素子は、薄型、全固体型、面状自発光及び高速応答であるといった特徴を有する発光素子であり、フラットディスプレイパネルやバックライトへの応用が期待されることから、近年各方面で盛んに研究が行われている。以前、有機EL素子は、無機物を用いた無機EL素子に比べて素子特性が著しく劣っていたが、1987年にコダック社のTangらが有機物層を積層構成にする方法を発表してから[C.W.Tang and S.A.Vanslyke:Appl.Lett.,51(1987)913]素子特性が向上し、急速に発展している。また、近年、有機EL素子をディスプレイパネルに用いた、商品も発売されつつある。有機EL素子は、有機材料を含む複数の薄膜を第1の電極と第2の電極で挟んだ構造を有しており、2つの電極から注入したキャリヤが有機薄膜中で再結合することにより発光する素子である。   Organic EL elements are light-emitting elements that have the characteristics of being thin, all-solid-state, planar self-luminous, and high-speed response, and are expected to be applied to flat display panels and backlights. Research has been conducted. In the past, organic EL elements were significantly inferior to inorganic EL elements using inorganic substances, but since 1987 Kodak's Tang et al. Announced a method for stacking organic layers [C . W. Tang and S.M. A. Vanslyke: Appl. Lett. , 51 (1987) 913] Device characteristics have been improved and rapidly developed. In recent years, products using organic EL elements for display panels have been released. The organic EL element has a structure in which a plurality of thin films containing an organic material are sandwiched between a first electrode and a second electrode, and light is emitted by recombination of carriers injected from the two electrodes in the organic thin film. It is an element to do.

湿式法で積層型の有機EL素子を製造する場合に、水溶性と脂溶性の溶液から形成される有機薄膜の溶解性の差を利用する方法がある。具体的には、例えば、正孔注入/輸送層を、陽極上にPEDOTやPANIなどの水溶性の溶液を塗布して形成する。PEDOTやPANI薄膜はキシレンやトルエン等の溶媒に不溶である。次に、有機EL材料をキシレンやトルエン等の溶媒に溶解させた脂溶性の溶液を塗布して発光層を形成する。水溶性の導電性高分子は、チオフェン系、アニリン系、ピロール系等と利用できる材料が限られている。   When manufacturing a laminated organic EL element by a wet method, there is a method of using a difference in solubility between organic thin films formed from a water-soluble and a fat-soluble solution. Specifically, for example, the hole injection / transport layer is formed by applying a water-soluble solution such as PEDOT or PANI on the anode. PEDOT and PANI thin films are insoluble in solvents such as xylene and toluene. Next, a light-soluble layer in which an organic EL material is dissolved in a solvent such as xylene or toluene is applied to form a light emitting layer. As the water-soluble conductive polymer, materials that can be used such as thiophene, aniline, and pyrrole are limited.

また、特許文献1では、発光層を有機溶媒に溶解させた溶液状態で形成し、つぎに、発光層を構成する有機物に対して溶解範囲外の溶解度パラメータを有する有機溶媒に正孔ブロック層を構成する有機物を溶解してなる溶液状態の正孔ブロック層を、正孔ブロック層に対して陽極側に位置させた溶液状態の発光層に積層する技術が開示されている。   Further, in Patent Document 1, the light emitting layer is formed in a solution state dissolved in an organic solvent, and then the hole blocking layer is formed in an organic solvent having a solubility parameter outside the solubility range with respect to the organic matter constituting the light emitting layer. A technique is disclosed in which a solution-state hole blocking layer obtained by dissolving an organic material to be formed is stacked on a solution-state light-emitting layer positioned on the anode side with respect to the hole blocking layer.

特開2002−319487号公報JP 2002-319487 A

しかしながら、従来技術においては、有機層と当該有機層を溶解させない溶媒を選択して使用する必要があるため、使用可能な有機材料および溶媒の組み合わせが限られてしまうという問題がある。例えば、特性が優れた有機材料であっても不溶な溶媒がないため使用できない場合があり、有機材料の選択の幅が狭くなってしまう。   However, in the prior art, since it is necessary to select and use an organic layer and a solvent that does not dissolve the organic layer, there is a problem that combinations of usable organic materials and solvents are limited. For example, even an organic material having excellent characteristics may not be used because there is no insoluble solvent, and the range of selection of the organic material becomes narrow.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、有機材料と溶媒の溶解性を考慮することなく、簡単な湿式の製造プロセスで、有機EL素子の積層構造を構築することが可能な有機EL素子の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and is an organic material capable of constructing a laminated structure of organic EL elements by a simple wet manufacturing process without considering the solubility of organic materials and solvents. It is an object to provide a method for manufacturing an EL element.

上記課題を解決して、上記目的を達成するために、本発明は、第1の電極と、第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極に狭持された有機層を有する有機EL素子の製造方法において、第1の有機材料の液状体を基材に配して第1の有機層を形成する第1の有機層形成工程と、基板上に塗布された光架橋材料の表面に、前記第1の有機層の表面を重ねて載置した後、光を照射して前記1の有機層の表面を光架橋させて、有機溶媒に対して不溶化させる表面改質工程と、前記表面が光架橋された前記第1の有機層上に、第2の有機材料を有機溶媒に溶解させた液状体を配して、第2の有機層を形成する第2の有機層形成工程と、を含むことを特徴とする。   In order to solve the above problems and achieve the above object, the present invention provides a first electrode, a second electrode, and an organic layer sandwiched between the first electrode and the second electrode. In a method for manufacturing an organic EL device, a first organic layer forming step of forming a first organic layer by disposing a liquid material of a first organic material on a substrate, and a photocrosslinking material applied on a substrate A surface modification step in which the surface of the first organic layer is placed on the surface of the substrate, and then light-irradiated to photocrosslink the surface of the first organic layer and insolubilize in the organic solvent. The second organic layer is formed by disposing a liquid material obtained by dissolving a second organic material in an organic solvent on the first organic layer whose surface is photocrosslinked. And a process.

これにより、第1の有機層の表面を、光架橋させて有機溶媒に対して不溶化させた後、第1の有機層上に、第2の有機層材料を有機溶媒に溶解させた液状体を配することとしたので、第1の有機層は、有機溶媒に対して溶け出すことがなく、第2の有機層を好適に積層することができ、有機材料と溶媒の溶解性を考慮することなく、簡単な湿式の製造プロセスで、有機EL素子の積層構造を構築することが可能となる。また、第1有機層の表面のみを光架橋させて改質しているので、第1の有機層の機能を劣化させることもない。   Thus, after the surface of the first organic layer is photocrosslinked and insolubilized in the organic solvent, a liquid material in which the second organic layer material is dissolved in the organic solvent is formed on the first organic layer. Since the first organic layer does not dissolve in the organic solvent, the second organic layer can be suitably stacked, and the solubility of the organic material and the solvent is taken into consideration. In addition, it is possible to construct a laminated structure of organic EL elements with a simple wet manufacturing process. In addition, since only the surface of the first organic layer is modified by photocrosslinking, the function of the first organic layer is not deteriorated.

また、本発明の好ましい態様によれば、前記第1の有機層は、正孔注入/輸送層であり、前記第2の有機層は、発光層であることが望ましい。これにより、正孔注入/輸送層と発光層の積層構造を、簡単な湿式の製造プロセスで構築することができる。   According to a preferred aspect of the present invention, it is desirable that the first organic layer is a hole injection / transport layer and the second organic layer is a light emitting layer. Thereby, the laminated structure of the hole injection / transport layer and the light emitting layer can be constructed by a simple wet manufacturing process.

また、本発明の好ましい態様によれば、前記第1の有機層は、発光層であり、前記第2の有機層は、電子輸送層であることが望ましい。これにより、発光層と電子輸送層の積層構造を、簡単な湿式の製造プロセスで構築することができる。   According to a preferred aspect of the present invention, it is desirable that the first organic layer is a light emitting layer and the second organic layer is an electron transport layer. Thereby, the laminated structure of a light emitting layer and an electron carrying layer can be constructed | assembled with a simple wet manufacturing process.

また、本発明の好ましい態様によれば、前記表面改質工程では、前記基板に対して、前記第1の有機層が形成された基材を加圧することが望ましい。これにより、第1の有機層と光架橋材料とが十分に密着して、第1の有機層の表面の光架橋の効率を上げることができる。   According to a preferred aspect of the present invention, in the surface modification step, it is desirable to pressurize the substrate on which the first organic layer is formed on the substrate. Thereby, the first organic layer and the photocrosslinking material are sufficiently adhered, and the photocrosslinking efficiency of the surface of the first organic layer can be increased.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、前記第1の電極と、前記第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極に狭持された有機層を有する有機EL素子の製造方法において、第1の有機材料の液状体を前記第1の電極上に配して第1の有機層を形成する第1の有機層形成工程と、基板上に塗布された光架橋材料の表面に、前記第1の有機層の表面を重ねて載置した後、光を照射して前記1の有機層の表面を光架橋させて、前記第1の有機層の表面を有機溶媒に対して不溶化させる第1の表面改質工程と、前記表面が光架橋された前記第1の有機層上に、第2の有機材料を前記第1の所定の有機溶媒に溶解させた液状体を配して、第2の有機層を形成する第2の有機層形成工程と、基板上に塗布された光架橋材料の表面に、前記第2の有機層の表面を重ねて載置した後、光を照射して前記2の有機層の表面を光架橋させて、前記第2の有機層の表面を有機溶媒に対して不溶化させる第2の表面改質工程と、前記表面が光架橋された前記第2の有機層上に、第3の有機材料を有機溶媒に溶解させた液状体を配して、第3の有機層を形成する第3の有機層形成工程と、を含むことを特徴とする。   In order to solve the above-described problems and achieve the object, the present invention provides an organic layer sandwiched between the first electrode, the second electrode, and the first electrode and the second electrode. A first organic layer forming step of forming a first organic layer by disposing a liquid material of a first organic material on the first electrode, and applying the coating on the substrate After the surface of the first organic layer is placed on the surface of the photocrosslinked material, the surface of the first organic layer is photocrosslinked by irradiating light. A first surface modification step for insolubilizing the surface with an organic solvent, and a second organic material dissolved in the first predetermined organic solvent on the first organic layer whose surface is photocrosslinked A second organic layer forming step of forming the second organic layer by disposing the liquid material, and the surface of the photocrosslinking material applied on the substrate After the surface of the second organic layer is placed on top of each other, the surface of the second organic layer is photocrosslinked by irradiating light to insolubilize the surface of the second organic layer in an organic solvent. A second surface modification step, and a liquid obtained by dissolving a third organic material in an organic solvent is disposed on the second organic layer whose surface is photocrosslinked to form a third organic layer And a third organic layer forming step for forming the layer.

これにより、第1の有機層の表面を、光架橋させて有機溶媒に対して不溶化させた後、第1の有機層上に、第2の有機層材料を有機溶媒に溶解させた液状体を配することとしたので、第1の有機層は、有機溶媒に対して溶け出すことがなく、第2の有機層を好適に積層することができる。また、第2の有機層の表面を、光架橋させて有機溶媒に対して不溶化させた後、第2の有機層上に、第3の有機層材料を有機溶媒に溶解させた液状体を配することとしたので、第2の有機層は、有機溶媒に対して溶け出すことがなく、第3の有機層を好適に積層することができる。この結果、有機材料と溶媒の溶解性を考慮することなく、簡単な湿式の製造プロセスで、有機EL素子の積層構造を構築することが可能となる。   Thus, after the surface of the first organic layer is photocrosslinked and insolubilized in the organic solvent, a liquid material in which the second organic layer material is dissolved in the organic solvent is formed on the first organic layer. Since the first organic layer does not dissolve in the organic solvent, the second organic layer can be suitably stacked. In addition, after the surface of the second organic layer is photocrosslinked and insolubilized in the organic solvent, a liquid material in which the third organic layer material is dissolved in the organic solvent is disposed on the second organic layer. Therefore, the second organic layer does not dissolve in the organic solvent, and the third organic layer can be suitably stacked. As a result, it is possible to construct a laminated structure of organic EL elements by a simple wet manufacturing process without considering the solubility of the organic material and the solvent.

また、本発明の好ましい態様によれば、前記第1の有機層は、正孔注入/輸送層であり、前記第2の有機層は、発光層であり、前記第3の有機層は、電子輸送層であることが望ましい。これにより、正孔注入/輸送層、発光層、および電子輸送層の積層構造を、簡単な湿式の製造プロセスで構築することができる。   According to a preferred aspect of the present invention, the first organic layer is a hole injection / transport layer, the second organic layer is a light emitting layer, and the third organic layer is an electron. A transport layer is desirable. Thereby, a laminated structure of the hole injection / transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer can be constructed by a simple wet manufacturing process.

また、本発明の好ましい態様によれば、有機EL素子は、本発明の有機EL素子の製造方法で製造されたことが望ましい。これにより、有機材料と溶媒の溶解性を考慮することなく、簡単な湿式の製造プロセスで製造された有機EL素子を提供することができる。   Moreover, according to the preferable aspect of this invention, it is desirable for the organic EL element to be manufactured with the manufacturing method of the organic EL element of this invention. Thereby, the organic EL element manufactured with the simple wet manufacturing process can be provided, without considering the solubility of an organic material and a solvent.

また、本発明の好ましい態様によれば、本発明の有機EL素子を電子機器に搭載することが望ましい。これにより、有機材料と溶媒の溶解性を考慮することなく、簡単な湿式の製造プロセスで製造された有機EL素子を搭載した電子機器を提供することができる。   Moreover, according to the preferable aspect of this invention, it is desirable to mount the organic EL element of this invention in an electronic device. Thereby, an electronic device equipped with an organic EL element manufactured by a simple wet manufacturing process can be provided without considering the solubility of the organic material and the solvent.

以下に、この発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施例によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施例における構成要素には、当業者が容易に想定できるものまたは実質的に同一のものが含まれる。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that the present invention is not limited to the embodiments. In addition, constituent elements in the following embodiments include those that can be easily assumed by those skilled in the art or those that are substantially the same.

図1は、本発明の実施例1に係る有機EL素子100の構成を示す要部断面図である。この有機EL素子100は、基体101上に陽極(第1電極)102と、陰極(第2電極)105とを有し、これら陽極102と陰極105との間に、有機層を備えたものである。有機層は、正孔注入/輸送層103と、発光層104とが積層されて構成される。この有機EL素子100は、発光層104で発光した光を基体側から出射するボトムエミッション方式となっている。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing a main part of a configuration of an organic EL element 100 according to Example 1 of the present invention. The organic EL element 100 has an anode (first electrode) 102 and a cathode (second electrode) 105 on a base 101, and an organic layer is provided between the anode 102 and the cathode 105. is there. The organic layer is configured by laminating a hole injection / transport layer 103 and a light emitting layer 104. The organic EL element 100 is of a bottom emission type in which light emitted from the light emitting layer 104 is emitted from the substrate side.

基板101は、ガラス基板等の透明基板(図示せず)上にTFT素子からなる駆動素子(図示せず)や各種配線(図示せず)等を形成して構成されたもので、これら駆動素子や各種配線の上に絶縁層や平坦化膜を介して陽極102を形成したものである。   The substrate 101 is configured by forming drive elements (not shown) made of TFT elements, various wirings (not shown), etc. on a transparent substrate (not shown) such as a glass substrate. In addition, the anode 102 is formed on various wirings through an insulating layer or a planarizing film.

陽極102は、基板101上にパターニングされて形成され、かつ、TFT素子からなる駆動素子や前記各種配線等と接続されたもので、本実施例では、ITO(Indium Tin Oxide)によって形成されている。   The anode 102 is formed by patterning on the substrate 101 and is connected to a driving element made of a TFT element and the various wirings. In this embodiment, the anode 102 is made of ITO (Indium Tin Oxide). .

正孔注入/輸送層103は、陽極102が形成された基板101の全面に形成されている。正孔注入/輸送層103は、陽極102から注入した正孔を発光層104に輸送する。正孔注入/輸送層103の形成材料としては、アリールアミン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポリアニリン誘導体+有機酸、ポリチオフェン誘導体+ポリマー酸等を使用することができる。   The hole injection / transport layer 103 is formed on the entire surface of the substrate 101 on which the anode 102 is formed. The hole injection / transport layer 103 transports holes injected from the anode 102 to the light emitting layer 104. As a material for forming the hole injection / transport layer 103, arylamine derivatives, phthalocyanine derivatives, polyaniline derivatives + organic acids, polythiophene derivatives + polymer acids, and the like can be used.

発光層104は、正孔注入/輸送層103上に形成されており、陰極105から注入される電子と、正孔注入/輸送層103から注入される正孔が結合して所定帯域の波長の光を発光する。この発光層104の材料としては具体的には、ポリフルオレン誘導体(PF)、(ポリ)パラパラフェニレンビニレン誘導体(PPV)、ポリパラフェニレン誘導体(PPP)、ポリビニルカルバゾール(PVK)、ポリチオフェン誘導体、プリメチルフェニルシラン(PMPS)などのポリシラン系などの高分子有機材料が好適に用いられる。   The light emitting layer 104 is formed on the hole injecting / transporting layer 103, and the electrons injected from the cathode 105 and the holes injected from the hole injecting / transporting layer 103 are combined to have a wavelength of a predetermined band. Emits light. Specific examples of the material of the light emitting layer 104 include polyfluorene derivatives (PF), (poly) paraparaphenylene vinylene derivatives (PPV), polyparaphenylene derivatives (PPP), polyvinyl carbazole (PVK), polythiophene derivatives, and premethyl. A polymer organic material such as polysilane such as phenylsilane (PMPS) is preferably used.

また、これらの高分子有機材料に、ペニレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子有機材料や、ルブレン、ペリレン、9,10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6,キナクリドン等の低分子有機材料をドープして用いることもできる。   In addition, these high molecular organic materials include high molecular organic materials such as penylene dyes, coumarin dyes, rhodamine dyes, rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, Nile red, coumarin 6, A low molecular organic material such as quinacridone can also be used by doping.

陰極105は、発光層104上にLiF層と、Ca層と、およびAl層とが積層されて形成されたものである。この陰極105上には、不図示の封止層が形成される。   The cathode 105 is formed by laminating a LiF layer, a Ca layer, and an Al layer on the light emitting layer 104. A sealing layer (not shown) is formed on the cathode 105.

上記構成の有機EL素子100の製造方法を図2を参照して説明する。図2は、有機EL素子100の製造工程を説明するための説明図である。   A method of manufacturing the organic EL element 100 having the above configuration will be described with reference to FIG. FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining a manufacturing process of the organic EL element 100.

[基板処理工程]
従来と同様にして、ガラスからなる基板101上にTFT素子や各種配線等を形成し、さらに、層間絶縁層や平坦化膜を形成した後、蒸着法等によってITOを成膜し、さらにパターニングすることによって陽極102を形成する。これにより、図2−1に示すように、基板101上に陽極102が形成される。この後、陽極102が形成された基板を洗浄後、大気圧において酸素プラズマ処理を行い、基板表面を親水性に改質する。これにより、陽極102の仕事関数を上げることができる。
[Substrate processing process]
In the same manner as in the prior art, TFT elements and various wirings are formed on a glass substrate 101, and further, an interlayer insulating layer and a planarizing film are formed, and then ITO is formed by vapor deposition, and further patterned. Thus, the anode 102 is formed. As a result, the anode 102 is formed on the substrate 101 as shown in FIG. Thereafter, after cleaning the substrate on which the anode 102 is formed, oxygen plasma treatment is performed at atmospheric pressure to modify the substrate surface to be hydrophilic. Thereby, the work function of the anode 102 can be raised.

[正孔注入/輸送層形成工程]
つぎに、陽極102が形成された基板101の全面に、正孔注入/輸送層材料を溶媒または分散媒に溶解または分散させた液状体をスピンコーティング法により、所定の膜厚に成膜して、図2−2に示すように、正孔注入/輸送層103を形成する。この後、正孔注入/輸送層103の表面の改質処理を行う。まず、正孔注入/輸送層103を成膜した基板101を反転させて、図2−3に示すように、基板110に塗布されている光架橋材料120の表面に、正孔注入/輸送層103の表面を重ねて、不図示の加圧機構で基板101を加圧しながら、光を照射する。これにより、正孔注入/輸送層103の表面103aが光架橋して改質され、有機溶媒に対して不溶化することができる。
[Hole injection / transport layer formation process]
Next, a liquid material in which the hole injection / transport layer material is dissolved or dispersed in a solvent or dispersion medium is formed on the entire surface of the substrate 101 on which the anode 102 is formed to a predetermined film thickness by spin coating. As shown in FIG. 2B, the hole injection / transport layer 103 is formed. Thereafter, the surface of the hole injection / transport layer 103 is modified. First, the substrate 101 on which the hole injection / transport layer 103 is formed is inverted, and the hole injection / transport layer is formed on the surface of the photocrosslinking material 120 applied to the substrate 110 as shown in FIG. The surface of 103 is overlapped, and light is irradiated while pressurizing the substrate 101 with a pressurizing mechanism (not shown). As a result, the surface 103a of the hole injection / transport layer 103 can be photocrosslinked and modified and insolubilized in the organic solvent.

[発光層形成工程]
つぎに、表面改質された正孔注入/輸送層103上に、発光層材料を溶媒に溶解させた液状体をスピンコーティング法により所定の膜厚により形成した後、焼成処理を行って溶媒を蒸発させて、図2−5に示すように、発光層104を形成する。
[Light emitting layer forming step]
Next, a liquid material in which a light emitting layer material is dissolved in a solvent is formed on the surface-modified hole injection / transport layer 103 with a predetermined film thickness by a spin coating method, and then a baking treatment is performed to remove the solvent. By evaporating, as shown in FIG. 2-5, the light emitting layer 104 is formed.

[陰極形成工程]
つぎに、発光層104上に真空蒸着法で、LiF、Ca、Alを順次積層させて、図2−6に示すように、LiF層、Ca層、Al層からなる陰極105を形成する。
[Cathode formation process]
Next, LiF, Ca, and Al are sequentially stacked on the light-emitting layer 104 by a vacuum deposition method to form a cathode 105 composed of a LiF layer, a Ca layer, and an Al layer, as shown in FIG. 2-6.

(実験例1)
[基板処理工程]
ガラスからなる基板101上にTFT素子や各種配線等を形成し、さらに、層間絶縁層や平坦化膜を形成した後、蒸着法等によってITOを成膜し、さらにパターニングすることによって陽極102を形成した。この後、陽極102が形成された基板を洗浄後、大気圧において酸素プラズマ処理を行い、基板表面を親水性に改質した。
(Experimental example 1)
[Substrate processing process]
A TFT element and various wirings are formed on a substrate 101 made of glass, and further, an interlayer insulating layer and a flattening film are formed. Then, ITO is formed by vapor deposition or the like, and further, an anode 102 is formed by patterning. did. Thereafter, after cleaning the substrate on which the anode 102 was formed, oxygen plasma treatment was performed at atmospheric pressure to modify the substrate surface to be hydrophilic.

[正孔注入/輸送層形成工程]
つぎに、陽極102が形成された基板101に、[化1]に示す正孔注入/輸送層材料をクロロホルムに1.5wt%の濃度で溶解させた液状体をスピンコーティングして、50nmの薄膜を形成して正孔注入/輸送層103を形成した。この後、正孔注入/輸送層103を形成した基板101を反転させて、基板120に塗布されている、芳香族ビスアジド(光架橋開始剤)が含有した光架橋材料120の表面に、正孔注入/輸送層103の表面を重ねて、不図示の加圧機構で基板101を加圧しながら、窒素雰囲気下で紫外線を照射した。これにより、正孔注入/輸送層103の表面103aが光架橋して改質され、トルエン、キシレン、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、THF等の有機溶媒に対して不溶な層を形成することができた。[化2]で示す正孔注入/輸送層材料を使用した場合も同様の効果が得られることを確認した。
[Hole injection / transport layer formation process]
Next, the substrate 101 on which the anode 102 is formed is spin-coated with a liquid material in which the hole injection / transport layer material shown in [Chemical Formula 1] is dissolved in chloroform at a concentration of 1.5 wt% to form a 50 nm thin film. Then, a hole injection / transport layer 103 was formed. Thereafter, the substrate 101 on which the hole injection / transport layer 103 is formed is inverted, and holes are formed on the surface of the photocrosslinking material 120 containing aromatic bisazide (photocrosslinking initiator) applied to the substrate 120. The surface of the injection / transport layer 103 was overlapped, and ultraviolet rays were irradiated in a nitrogen atmosphere while pressing the substrate 101 with a pressurization mechanism (not shown). As a result, the surface 103a of the hole injection / transport layer 103 is photocrosslinked and modified, and a layer insoluble in organic solvents such as toluene, xylene, chloroform, methylene chloride, dichloroethane, and THF can be formed. It was. It was confirmed that the same effect was obtained when the hole injection / transport layer material represented by [Chemical Formula 2] was used.

Figure 2005302566
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Figure 2005302566
Figure 2005302566

[発光層形成]
[化3]に示す発光層材料を1.5wt%のクロロホルムに溶解させた液状体を、スピンコーティングにより、[化1]の正孔注入/輸送層材料で形成された正孔注入/輸送層103の表面に約80nmの膜厚で成膜した。この際、正孔注入/輸送層103は相溶することがなかった。この後、窒素雰囲気下において、130℃で30分焼成処理を行い、正孔注入/輸送層103上に発光層104を成膜した。[化3]に示す発光層材料の替わりに、[化4]に示す発光層材料を使用した場合にも同様の効果が得られることを確認した。
[Light emitting layer formation]
A hole injecting / transporting layer formed of the hole injecting / transporting layer material of [Chemical Formula 1] by spin coating a liquid material obtained by dissolving the light emitting layer material shown in [Chemical Formula 3] in 1.5 wt% chloroform. A film having a thickness of about 80 nm was formed on the surface of 103. At this time, the hole injection / transport layer 103 was not compatible. Thereafter, baking treatment was performed at 130 ° C. for 30 minutes in a nitrogen atmosphere, and the light emitting layer 104 was formed on the hole injection / transport layer 103. It was confirmed that the same effect was obtained when the light emitting layer material shown in [Chemical Formula 4] was used instead of the light emitting layer material shown in [Chemical Formula 3].

Figure 2005302566
Figure 2005302566

Figure 2005302566
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[陰極形成]
発光層104上に、真空蒸着装置の真空度を10−7〜10−8Torrとして、LiFを4nm、Caを10nm、Alを200nmと順に積層して、陰極103を形成した。この結果、高い発光輝度の有機EL素子を得ることができた。
[Cathode formation]
On the light emitting layer 104, the vacuum degree of the vacuum evaporation apparatus was set to 10 −7 to 10 −8 Torr, and LiF 4 nm, Ca 10 nm, and Al 200 nm were stacked in this order to form the cathode 103. As a result, an organic EL element with high emission luminance was obtained.

以上説明したように、実施例1によれば、基板101上に形成した正孔注入/輸送層103の表面を基板110上に塗布された光架橋材料120の表面に重ねて載置し、所定時間光を照射して、正孔注入/輸送層103の表面を光架橋させて溶媒に対して不溶化させた後、正孔注入/輸送層103上に、溶媒に発光層形成材料を溶解させた液状体を塗布することとしたので、正孔注入/輸送層103は、溶媒に対して溶け出すことがなく、発光層105を好適に積層することができ、有機材料と溶媒の溶解性を考慮することなく、簡単な湿式の製造プロセスにおいて、有機EL素子の積層構造を構築することが可能となる。付言すると、湿式法で作製する有機EL素子として、正孔注入/輸送層材料として使用できる材料は、PEDOTやポリチオフェン、ポリアニリン等の水溶性材料に限られていたが、本実施例によれば、有機溶媒に可溶な有材料を使用することが可能となり、材料選択の幅を広げることができる。   As described above, according to the first embodiment, the surface of the hole injection / transport layer 103 formed on the substrate 101 is placed on the surface of the photocrosslinking material 120 applied on the substrate 110, and the predetermined amount is set. After irradiation with light for a time, the surface of the hole injection / transport layer 103 was photocrosslinked and insolubilized in the solvent, and then the light emitting layer forming material was dissolved in the solvent on the hole injection / transport layer 103 Since the liquid material is applied, the hole injection / transport layer 103 does not dissolve in the solvent, and the light emitting layer 105 can be suitably stacked, taking into consideration the solubility of the organic material and the solvent. Therefore, it is possible to construct a laminated structure of organic EL elements in a simple wet manufacturing process. In addition, materials that can be used as the hole injection / transport layer material as the organic EL device produced by the wet method were limited to water-soluble materials such as PEDOT, polythiophene, and polyaniline, but according to this example, It becomes possible to use a material soluble in an organic solvent, and the range of material selection can be expanded.

また、正孔注入/輸送層103の最表面のみを光架橋させて改質しているので、正孔注入/輸送層103の正孔注入/輸送機能や電子ブロック機能等の機能を劣化させることを防止することができる。   Further, since only the outermost surface of the hole injection / transport layer 103 is modified by photocrosslinking, the hole injection / transport layer 103 has functions such as a hole injection / transport function and an electron blocking function. Can be prevented.

また、光架橋材料120が塗布されている基板110に対して、正孔注入/輸送層103が形成された基板101を加圧しているので、正孔注入/輸送層103と光架橋材料とが十分に密着して、正孔注入/輸送層の表面の光反応の効率を上げることができる。   Further, since the substrate 101 on which the hole injection / transport layer 103 is formed is pressed against the substrate 110 on which the photocrosslinking material 120 is applied, the hole injection / transport layer 103 and the photocrosslinking material are Adhering sufficiently, the efficiency of the photoreaction on the surface of the hole injection / transport layer can be increased.

図3は、本発明の実施の形態に係る有機EL素子200の構成を示す要部断面図である。図3において、図1と同等機能を有する部位には同一符号を付しており、共通する部分の説明は省略する。   FIG. 3 is a cross-sectional view of a main part showing the configuration of the organic EL element 200 according to the embodiment of the present invention. 3, parts having the same functions as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description of common parts is omitted.

実施例2の有機EL素子200は、発光層104の上に、電子輸送層201を積層した構成である。電子輸送層201は、陰極105から注入される電子を発光層104まで輸送し、また、陽極102側から移動してきた正孔・励起子をブロックする機能を有する。この電子輸送層201の材料としては、アルミ錯体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナントロリン誘導体等の有機材料を使用することができる。   The organic EL element 200 of Example 2 has a configuration in which the electron transport layer 201 is laminated on the light emitting layer 104. The electron transport layer 201 has a function of transporting electrons injected from the cathode 105 to the light emitting layer 104 and blocking holes and excitons that have moved from the anode 102 side. As a material for the electron transport layer 201, an organic material such as an aluminum complex, an oxadiazole derivative, a triazole derivative, or a phenanthroline derivative can be used.

上記構成の有機EL素子200の製造方法を図4を参照して説明する。図4は、有機EL素子200の製造工程を説明するための説明図である。   A method of manufacturing the organic EL element 200 having the above configuration will be described with reference to FIG. FIG. 4 is an explanatory diagram for explaining a manufacturing process of the organic EL element 200.

[基板処理工程]
ガラスからなる基板101上にTFT素子や各種配線等を形成し、さらに、層間絶縁層や平坦化膜を形成した後、蒸着法等によってITOを成膜し、さらにパターニングすることによって陽極102を形成する。これにより、図4−1に示すように、基板101上に陽極102が形成される。この後、陽極102が形成された基板を洗浄後、大気圧において酸素プラズマ処理を行い、基板表面を親水性に改質する。これにより、陽極102の仕事関数を上げることができる。
[Substrate processing process]
A TFT element and various wirings are formed on a substrate 101 made of glass, and further, an interlayer insulating layer and a flattening film are formed. Then, ITO is formed by vapor deposition or the like, and further, an anode 102 is formed by patterning. To do. As a result, an anode 102 is formed on the substrate 101 as shown in FIG. Thereafter, after cleaning the substrate on which the anode 102 is formed, oxygen plasma treatment is performed at atmospheric pressure to modify the substrate surface to be hydrophilic. Thereby, the work function of the anode 102 can be raised.

[正孔注入/輸送層形成工程]
つぎに、陽極102が形成された基板101の全面に、正孔注入/輸送層材料を溶媒または分散媒に溶解または分散させた液状体をスピンコーティング法により、所定の膜厚に成膜して、図4−2に示すように、正孔注入/輸送層103を形成する。この後、正孔注入/輸送層103の表面の改質処理を行う。まず、ホール注入・輸送層103を成膜した基板101を反転させて、図4−3に示すように、基板110に塗布されている光架橋材料120の表面に、正孔注入/輸送層103の表面を重ねて、不図示の加圧機構で基板101を加圧しながら、光を照射する。これにより、正孔注入/輸送層103の表面103aが光架橋して改質され、有機溶媒に対して不溶な層を形成することができた。
[Hole injection / transport layer formation process]
Next, a liquid material in which the hole injection / transport layer material is dissolved or dispersed in a solvent or dispersion medium is formed on the entire surface of the substrate 101 on which the anode 102 is formed to a predetermined film thickness by spin coating. As shown in FIG. 4B, the hole injection / transport layer 103 is formed. Thereafter, the surface of the hole injection / transport layer 103 is modified. First, the substrate 101 on which the hole injection / transport layer 103 is formed is inverted, and the hole injection / transport layer 103 is formed on the surface of the photocrosslinking material 120 applied to the substrate 110 as shown in FIG. The light is irradiated while pressing the substrate 101 with a pressing mechanism (not shown). As a result, the surface 103a of the hole injection / transport layer 103 was photocrosslinked and modified, and a layer insoluble in the organic solvent could be formed.

[発光層形成工程]
つぎに、表面改質された正孔注入/輸送層103上に、発光層材料を溶媒に溶解させた液状体をスピンコーティング法により所定の膜厚により形成した後、溶媒を蒸発させて、図4−5に示すように、発光層104を形成する。この後、発光層104の表面の改質処理を行う。まず、発光層104を形成した基板101を反転させて、図4−6に示すように、基板110に塗布されている光架橋材料120の表面に、発光層104の表面を重ねて、不図示の加圧機構で基板101を加圧しながら、光を照射する。これにより、発光層104の表面104aが光架橋して改質され、有機溶媒に対して不溶な層を形成することができる。
[Light emitting layer forming step]
Next, on the surface-modified hole injection / transport layer 103, a liquid material in which a light emitting layer material is dissolved in a solvent is formed with a predetermined film thickness by a spin coating method, and then the solvent is evaporated, As shown in 4-5, the light emitting layer 104 is formed. Thereafter, the surface of the light emitting layer 104 is modified. First, the substrate 101 on which the light emitting layer 104 is formed is inverted, and the surface of the light emitting layer 104 is overlapped with the surface of the photocrosslinking material 120 applied to the substrate 110 as shown in FIG. While the substrate 101 is pressed by the pressurizing mechanism, light is irradiated. Thereby, the surface 104a of the light emitting layer 104 is photocrosslinked and modified, and a layer insoluble in the organic solvent can be formed.

[電子輸送層形成工程]
表面改質された発光層104上に、電子輸送層形成材料を溶媒に溶解させた液状体をスピンコーティングして所定の膜厚に成膜した後、焼成処理を行って、図4−8に示すように、電子輸送層201を形成する。
[Electron transport layer formation process]
On the surface-modified light-emitting layer 104, a liquid material in which an electron transport layer forming material is dissolved in a solvent is spin-coated to form a film having a predetermined thickness, and then a baking process is performed. As shown, an electron transport layer 201 is formed.

[陰極形成工程]
つぎに、電子輸送層201上に真空蒸着法で、LiF、Ca、Alを順次積層させて、図4−9に示すように、LiF層、Ca層、Al層からなる陰極105を形成する。
[Cathode formation process]
Next, LiF, Ca, and Al are sequentially stacked on the electron transport layer 201 by a vacuum deposition method, thereby forming a cathode 105 composed of a LiF layer, a Ca layer, and an Al layer, as shown in FIG.

(実験例)
[基板処理工程]
ガラスからなる基板101上にTFT素子や各種配線等を形成し、さらに、層間絶縁層や平坦化膜を形成した後、蒸着法等によってITOを成膜し、さらにパターニングすることによって陽極102を形成する。この後、陽極102が形成された基板を洗浄後、大気圧において酸素プラズマ処理を行い、基板表面を親水性に改質する。
(Experimental example)
[Substrate processing process]
A TFT element and various wirings are formed on a substrate 101 made of glass, and further, an interlayer insulating layer and a flattening film are formed. Then, ITO is formed by vapor deposition or the like, and further, an anode 102 is formed by patterning. To do. Thereafter, after cleaning the substrate on which the anode 102 is formed, oxygen plasma treatment is performed at atmospheric pressure to modify the substrate surface to be hydrophilic.

[正孔注入/輸送層形成工程]
つぎに、陰極102が形成された基板に、上記[化1]に示す正孔注入/輸送層材料をクロロホルムに1.5wt%の濃度で溶解させた液状体をスピンコーティングして、50nmの薄膜を形成した。この後、[化1]に示す正孔注入/輸送層材料が形成された基板101を反転させて、基板110に塗布されている、芳香族ビスアジド(光架橋開始剤)を含有した光架橋材料120の表面に、正孔注入/輸送層103の表面を重ねて、不図示の加圧機構で基板101を加圧しながら、窒素雰囲気化で所定時間、紫外線を照射する。これにより、正孔注入/輸送層103の表面103aが光架橋して改質され、トルエン、キシレン、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、THF等の有機溶媒に対して不溶な層を数nm程度形成することができた。
[Hole injection / transport layer formation process]
Next, the substrate on which the cathode 102 is formed is spin-coated with a liquid material in which the hole injection / transport layer material shown in [Chemical Formula 1] is dissolved in chloroform at a concentration of 1.5 wt%, and a 50 nm thin film is formed. Formed. Thereafter, the substrate 101 on which the hole injection / transport layer material shown in [Chemical Formula 1] is formed is inverted, and the photocrosslinking material containing aromatic bisazide (photocrosslinking initiator) applied to the substrate 110 is used. The surface of the hole injection / transport layer 103 is superposed on the surface of 120, and ultraviolet rays are irradiated for a predetermined time in a nitrogen atmosphere while pressurizing the substrate 101 with a pressurizing mechanism (not shown). As a result, the surface 103a of the hole injection / transport layer 103 is photocrosslinked and modified, and a layer insoluble in an organic solvent such as toluene, xylene, chloroform, methylene chloride, dichloroethane, and THF is formed to have a thickness of about several nm. I was able to.

[発光層形成]
[化3]に示す発光層材料を1.5wt%のクロロホルムに溶解させた液状体を、スピンコーティングにより、[化1]に示す正孔注入/輸送層材料で形成された正孔注入/輸送層103の表面に約80nmの膜厚で成膜して発光層104を形成した。この際、正孔注入/輸送層103は相溶することがなかった。この後、発光層104が形成された基板101を反転させて、この後、発光層104が形成された基板101を反転させて、基板110に塗布されている、芳香族ビスアジド(光架橋開始剤)を含有した光架橋材料120の表面に、正孔注入/輸送層103の表面を重ねて、不図示の加圧機構で基板101を加圧しながら、紫外線を照射する。これにより、発光層104の表面104aが光架橋して改質され、トルエン、キシレン、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、THF等の有機溶媒に対して不溶な層を数nm程度形成することができた。
[Light emitting layer formation]
A liquid in which the light emitting layer material shown in [Chemical Formula 3] is dissolved in 1.5 wt% chloroform is spin-coated to form a hole injection / transport layer formed of the hole injection / transport layer material shown in [Chemical Formula 1]. A light emitting layer 104 was formed by forming a film with a thickness of about 80 nm on the surface of the layer 103. At this time, the hole injection / transport layer 103 was not compatible. Thereafter, the substrate 101 on which the light-emitting layer 104 is formed is inverted, and then the substrate 101 on which the light-emitting layer 104 is formed is inverted, and an aromatic bisazide (photocrosslinking initiator) applied to the substrate 110. The surface of the hole injection / transport layer 103 is superimposed on the surface of the photocrosslinking material 120 containing), and ultraviolet rays are irradiated while pressing the substrate 101 with a pressurizing mechanism (not shown). As a result, the surface 104a of the light-emitting layer 104 was photocrosslinked and modified, and a layer insoluble in an organic solvent such as toluene, xylene, chloroform, methylene chloride, dichloroethane, and THF could be formed to a few nm. .

[電子輸送層形成工程]
[化5]に示す電子輸送材料をトルエンに溶解させた液状体を、発光層104上に成膜した。この際、[化3]に示す発光層材料で形成された発光層104は相溶することがなかった。この後、窒素雰囲気下において、130℃で30分で焼成処理を行い、発光層104上に電子輸送層201を成膜した。
[Electron transport layer formation process]
A liquid material in which the electron transport material shown in [Chemical Formula 5] was dissolved in toluene was formed on the light-emitting layer 104. At this time, the light emitting layer 104 formed of the light emitting layer material shown in [Chemical Formula 3] was not compatible. Thereafter, a baking treatment was performed at 130 ° C. for 30 minutes in a nitrogen atmosphere, and the electron transport layer 201 was formed over the light-emitting layer 104.

Figure 2005302566
Figure 2005302566

[陰極形成]
真空蒸着装置の真空到達度を10−7〜10−8Torrとして、LiFを4nm、Caを10nm、Alを200nmと順に積層して、陰極103を形成した。この結果、高い発光輝度の有機EL素子を得ることができた。
[Cathode formation]
The vacuum reach of the vacuum deposition apparatus was 10 −7 to 10 −8 Torr, and LiF 4 nm, Ca 10 nm, and Al 200 nm were stacked in this order to form the cathode 103. As a result, an organic EL element with high emission luminance was obtained.

以上説明したように、実施例2によれば、基板101上に形成された発光層104の表面を、基板110に塗布されている光架橋材料120の表面に重ねて載置し、所定時間光を照射して、発光層104の表面を光架橋させて改質し、有機溶媒に対して不溶化させた後、発光層104上に、有機溶媒に電子輸送層材料を溶解させた液状体を塗布することとしたので、発光層104は、有機溶媒に対して溶け出すことがなく、電子輸送層201を好適に積層することができ、有機材料と有機溶媒の溶解性を考慮することなく、簡単な湿式の製造プロセスで、正孔注入/輸送層・発光層・電子輸送層からなる有機EL素子の積層構造を構築することが可能となる。   As described above, according to the second embodiment, the surface of the light emitting layer 104 formed on the substrate 101 is placed on the surface of the photocrosslinking material 120 applied to the substrate 110, and light is applied for a predetermined time. The surface of the light emitting layer 104 is photocrosslinked and modified to be insolubilized in an organic solvent, and then a liquid material in which an electron transport layer material is dissolved in the organic solvent is applied on the light emitting layer 104. Therefore, the light emitting layer 104 does not dissolve in the organic solvent, the electron transport layer 201 can be suitably stacked, and it is simple without considering the solubility of the organic material and the organic solvent. It is possible to construct a laminated structure of an organic EL element composed of a hole injection / transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer by a simple wet manufacturing process.

なお、上記実施例1および実施例2では、ボトムエミッション方式の有機EL素子について説明したが、トップエミッション方式にしても良い。また、本発明は上記実施例1および実施例2に限定されるものではなく、これらの実施例を組み合わせて実施することが可能である。   In the first and second embodiments, the bottom emission type organic EL element has been described. However, a top emission type may be used. In addition, the present invention is not limited to the first embodiment and the second embodiment, and these embodiments can be implemented in combination.

(電子機器への適用例)
つぎに、本発明に係る有機EL素子を適用可能な電子機器の具体例について図5を参照して説明する。図5−1は、本発明に係る有機EL素子を可搬型のパーソナルコンピュータ(いわゆるノート型パソコン)300の表示部に適用した例を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ300は、キーボード301を備えた本体部302と、本発明に係る有機EL素子を適用した表示部303とを備えている。図5−2は、本発明に係る有機EL素子を携帯電話機400の表示部に適用した例を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機400は、複数の操作ボタン401のほか、受話口402、送話口403とともに、本発明に係る有機EL素子を適用した表示部404を備えている。
(Application example to electronic equipment)
Next, a specific example of an electronic apparatus to which the organic EL element according to the present invention can be applied will be described with reference to FIG. FIG. 5A is a perspective view showing an example in which the organic EL element according to the present invention is applied to a display unit of a portable personal computer (so-called notebook personal computer) 300. As shown in the figure, the personal computer 300 includes a main body 302 provided with a keyboard 301 and a display unit 303 to which the organic EL element according to the present invention is applied. FIG. 5B is a perspective view illustrating an example in which the organic EL element according to the present invention is applied to the display unit of the mobile phone 400. As shown in the figure, the cellular phone 400 includes a plurality of operation buttons 401, a receiving mouth 402, a mouthpiece 403, and a display unit 404 to which the organic EL element according to the present invention is applied.

本発明に係る有機EL素子は、上述した携帯電話機やノートパソコン以外にも、PDA(Personal Digital Assistants)と呼ばれる携帯型情報機器、パーソナルコンピュータ、ワークステーション、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、およびPOS端末機などの電子機器に広く適用することができる。   The organic EL device according to the present invention includes a portable information device called PDA (Personal Digital Assistants), a personal computer, a workstation, a digital still camera, an in-vehicle monitor, a digital video camera, in addition to the above-described mobile phone and laptop computer. The present invention can be widely applied to electronic devices such as televisions, viewfinder type, monitor direct view type video tape recorders, car navigation devices, pagers, electronic notebooks, calculators, word processors, workstations, video phones, and POS terminals.

本発明の有機EL素子は、有機EL表示装置、エレクトロミック調光ガラス、電子ペーパー、照明装置、およびプリンタヘッド等に広く利用可能である。また、本発明に係る電子機器は、携帯電話機、PDA(Personal Digital Assistants)と呼ばれる携帯型情報機器、携帯型パーソナルコンピュータ、パーソナルコンピュータ、ワークステーション、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、テレビ電話機、およびPOS端末機などの電子機器に広く利用することができる。   The organic EL element of the present invention can be widely used in organic EL display devices, electrochromic glass, electronic paper, lighting devices, printer heads, and the like. The electronic device according to the present invention includes a mobile phone, a portable information device called PDA (Personal Digital Assistants), a portable personal computer, a personal computer, a workstation, a digital still camera, an in-vehicle monitor, a digital video camera, and a television. It can be widely used in electronic devices such as a viewfinder type, monitor direct view type video tape recorder, car navigation device, pager, electronic notebook, calculator, word processor, video phone, and POS terminal.

実施例1に係る有機EL素子の構成を示す要部断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view of a main part showing the configuration of the organic EL element according to Example 1. 実施例1に係る有機EL素子の製造工程を説明するための説明図。FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a manufacturing process of the organic EL element according to Example 1. 実施例1に係る有機EL素子の製造工程を説明するための説明図。FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a manufacturing process of the organic EL element according to Example 1. 実施例1に係る有機EL素子の製造工程を説明するための説明図。FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a manufacturing process of the organic EL element according to Example 1. 実施例1に係る有機EL素子の製造工程を説明するための説明図。FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a manufacturing process of the organic EL element according to Example 1. 実施例1に係る有機EL素子の製造工程を説明するための説明図。FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a manufacturing process of the organic EL element according to Example 1. 実施例1に係る有機EL素子の製造工程を説明するための説明図。FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a manufacturing process of the organic EL element according to Example 1. 実施例2に係る有機EL素子の構成を示す要部断面図。FIG. 6 is a cross-sectional view of a principal part showing a configuration of an organic EL element according to Example 2. 実施例2に係る有機EL素子の製造工程を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the manufacturing process of the organic EL element which concerns on Example 2. FIG. 実施例2に係る有機EL素子の製造工程を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the manufacturing process of the organic EL element which concerns on Example 2. FIG. 実施例2に係る有機EL素子の製造工程を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the manufacturing process of the organic EL element which concerns on Example 2. FIG. 実施例2に係る有機EL素子の製造工程を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the manufacturing process of the organic EL element which concerns on Example 2. FIG. 実施例2に係る有機EL素子の製造工程を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the manufacturing process of the organic EL element which concerns on Example 2. FIG. 実施例2に係る有機EL素子の製造工程を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the manufacturing process of the organic EL element which concerns on Example 2. FIG. 実施例2に係る有機EL素子の製造工程を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the manufacturing process of the organic EL element which concerns on Example 2. FIG. 実施例2に係る有機EL素子の製造工程を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the manufacturing process of the organic EL element which concerns on Example 2. FIG. 実施例2に係る有機EL素子の製造工程を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the manufacturing process of the organic EL element which concerns on Example 2. FIG. 実施例に係る有機EL素子を備えたパソコンの斜視図。The perspective view of the personal computer provided with the organic EL element which concerns on an Example. 実施例に係る有機EL素子を備えた携帯電話機の斜視図。The perspective view of the mobile telephone provided with the organic EL element which concerns on an Example.

符号の説明Explanation of symbols

100 有機EL素子、101 基板、102 陽極(第1電極)、103 陰極(第2電極)、103 正孔注入/輸送層、104 有機層、105 陰極、110 基板、120 光架橋材料、200 有機EL素子、201 電子輸送層、300 パーソナルコンピュータ、301 キーボード、302 本体部、303 表示部、400 携帯電話機、401 操作ボタン、402 受話口、403 送話口、404 表示部   100 organic EL element, 101 substrate, 102 anode (first electrode), 103 cathode (second electrode), 103 hole injection / transport layer, 104 organic layer, 105 cathode, 110 substrate, 120 photocrosslinking material, 200 organic EL Element, 201 Electron transport layer, 300 Personal computer, 301 Keyboard, 302 Main unit, 303 Display unit, 400 Mobile phone, 401 Operation button, 402 Earpiece, 403 Mouthpiece, 404 Display unit

Claims (8)

第1の電極と、第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極に狭持された有機層を有する有機EL素子の製造方法において、
第1の有機材料の液状体を基材に配して第1の有機層を形成する第1の有機層形成工程と、
基板上に塗布された光架橋材料の表面に、前記第1の有機層の表面を重ねて載置した後、光を照射して前記1の有機層の表面を光架橋させて、有機溶媒に対して不溶化させる表面改質工程と、
前記表面が光架橋された前記第1の有機層上に、第2の有機材料を有機溶媒に溶解させた液状体を配して、第2の有機層を形成する第2の有機層形成工程と、
を含むことを特徴とする有機EL素子の製造方法。
In a method for manufacturing an organic EL element having an organic layer sandwiched between a first electrode, a second electrode, and the first electrode and the second electrode,
A first organic layer forming step of forming a first organic layer by disposing a liquid material of a first organic material on a substrate;
After the surface of the first organic layer is placed on the surface of the photocrosslinking material applied on the substrate, the surface of the first organic layer is photocrosslinked by irradiating light, and the organic solvent is used. A surface modification step for insolubilization,
A second organic layer forming step of forming a second organic layer by disposing a liquid in which a second organic material is dissolved in an organic solvent on the first organic layer whose surface is photocrosslinked When,
The manufacturing method of the organic EL element characterized by including.
前記第1の有機層は、正孔注入/輸送層であり、前記第2の有機層は、発光層であることを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子の製造方法。   2. The method of manufacturing an organic EL element according to claim 1, wherein the first organic layer is a hole injection / transport layer, and the second organic layer is a light emitting layer. 前記第1の有機層は、発光層であり、前記第2の有機層は、電子輸送層であることを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子の製造方法。   2. The method of manufacturing an organic EL element according to claim 1, wherein the first organic layer is a light emitting layer, and the second organic layer is an electron transport layer. 前記表面改質工程では、前記基板に対して、前記第1の有機層が形成された基材を加圧することを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1つに記載の有機EL素子の製造方法。   The organic EL according to any one of claims 1 to 3, wherein, in the surface modification step, a substrate on which the first organic layer is formed is pressed against the substrate. Device manufacturing method. 前記第1の電極と、前記第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極に狭持された有機層を有する有機EL素子の製造方法において、
第1の有機材料の液状体を前記第1の電極上に配して第1の有機層を形成する第1の有機層形成工程と、
基板上に塗布された光架橋材料の表面に、前記第1の有機層の表面を重ねて載置した後、光を照射して前記1の有機層の表面を光架橋させて、前記第1の有機層の表面を有機溶媒に対して不溶化させる第1の表面改質工程と、
前記表面が光架橋された前記第1の有機層上に、第2の有機材料を有機溶媒に溶解させた液状体を配して、第2の有機層を形成する第2の有機層形成工程と、
基板上に塗布された光架橋材料の表面に、前記第2の有機層の表面を重ねて載置した後、光を照射して前記2の有機層の表面を光架橋させて、前記第2の有機層の表面を有機溶媒に対して不溶化させる第2の表面改質工程と、
前記表面が光架橋された前記第2の有機層上に、第3の有機材料を有機溶媒に溶解させた液状体を配して、第3の有機層を形成する第3の有機層形成工程と、
を含むことを特徴とする有機EL素子の製造方法。
In the method of manufacturing an organic EL element having an organic layer sandwiched between the first electrode, the second electrode, the first electrode, and the second electrode,
A first organic layer forming step of forming a first organic layer by disposing a liquid material of a first organic material on the first electrode;
After the surface of the first organic layer is placed on the surface of the photocrosslinking material applied on the substrate, the surface of the first organic layer is photocrosslinked by irradiating light. A first surface modification step for insolubilizing the surface of the organic layer in an organic solvent;
A second organic layer forming step of forming a second organic layer by disposing a liquid in which a second organic material is dissolved in an organic solvent on the first organic layer whose surface is photocrosslinked When,
After the surface of the second organic layer is placed on the surface of the photocrosslinking material applied on the substrate, the surface of the second organic layer is photocrosslinked by irradiating light, and the second A second surface modification step for insolubilizing the surface of the organic layer in an organic solvent;
A third organic layer forming step of forming a third organic layer by disposing a liquid in which a third organic material is dissolved in an organic solvent on the second organic layer whose surface is photocrosslinked When,
The manufacturing method of the organic EL element characterized by including.
前記第1の有機層は、正孔注入/輸送層であり、前記第2の有機層は、発光層であり、前記第3の有機層は、電子輸送層であることを特徴とする請求項5に記載の有機EL素子の製造方法。   The first organic layer is a hole injection / transport layer, the second organic layer is a light emitting layer, and the third organic layer is an electron transport layer. 5. A method for producing an organic EL device according to 5. 請求項1〜請求項6のいずれか1つに記載の有機EL素子の製造方法で製造されたことを特徴とする有機EL素子。   An organic EL device manufactured by the method for manufacturing an organic EL device according to claim 1. 請求項7に記載の有機EL素子を搭載したことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the organic EL element according to claim 7.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8430706B2 (en) 2006-09-27 2013-04-30 Seiko Epson Corporation Organic electroluminescent device and method of manufacturing organic electroluminescent device
US8461572B2 (en) 2008-05-15 2013-06-11 Denso Corporation Organic luminescent device and manufacturing method thereof
KR101553930B1 (en) * 2006-08-11 2015-09-17 세이코 엡슨 가부시키가이샤 Organic electroluminescent device method for manufacturing the organic electroluminescent device and electronic apparatus

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