JP2005275334A - 感光性組成物 - Google Patents
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Abstract
【課題】低収縮性、あるいは耐熱性、吸水性に優れた感光性組成物を提供する。
【解決手段】
(A)テルペン化合物をヒドロホルミル化し、還元し、アルコール化合物とした後、あるいは、テルペン化合物をホルムアルデヒド付加し、アルコール化合物とした後、さらにエポキシ化したオキサイド化合物、(B)光カチオン重合開始剤、ならびに、(A)′(A)の水酸基部分を(メタ)アクリル酸類と反応させエステル化したオキサイド化合物、(B)′光カチオン重合開始剤および/または光ラジカル重合開始剤を必須成分とすることを特徴とする感光性組成物。
【選択図】 なし
【解決手段】
(A)テルペン化合物をヒドロホルミル化し、還元し、アルコール化合物とした後、あるいは、テルペン化合物をホルムアルデヒド付加し、アルコール化合物とした後、さらにエポキシ化したオキサイド化合物、(B)光カチオン重合開始剤、ならびに、(A)′(A)の水酸基部分を(メタ)アクリル酸類と反応させエステル化したオキサイド化合物、(B)′光カチオン重合開始剤および/または光ラジカル重合開始剤を必須成分とすることを特徴とする感光性組成物。
【選択図】 なし
Description
本発明は、テルペン骨格含有感光性ポリマーを含有した感光性組成物に関するものである。
(メタ)アクリレート化合物及び/又はエポキシ化合物を原料とした放射線硬化性組成物に関しては、既にコーティング剤や塗料などの用途として、硬化性の速い、生産性の良好な材料として特許出願されている(特許文献1)。
しかしながら、これらの感光性組成物は、硬化収縮性、耐熱性、吸水性などの性能面で、十分な性能を有するものではない。
特開平4−11609号公報
しかしながら、これらの感光性組成物は、硬化収縮性、耐熱性、吸水性などの性能面で、十分な性能を有するものではない。
本発明の目的は、テルペン骨格を有する特殊なエポキシ化合物を感光性組成物に添加することにより、エポキシ化合物だけからなるだけでは発現することのできない、耐熱性、吸水性に優れた感光性組成物を提供することである。
本発明は、(A)テルペン化合物をヒドロホルミル化し、還元し、アルコール化合物とした後、あるいは、テルペン化合物をホルムアルデヒド付加し、アルコール化合物とした後、残った二重結合部分を、エポキシ化したオキサイド化合物、ならびに(B)光カチオン重合開始剤を必須成分とすることを特徴とする感光性組成物である。
(A)において、テルペン化合物として、容易に入手可能なリモネンが好ましい。
また、本発明は、(A)′テルペン化合物をヒドロホルミル化し、還元し、アルコール化合物とした後、あるいは、テルペン化合物をホルムアルデヒド付加し、アルコール化合物とした後、残った二重結合部分を、エポキシ化し、さらに、アルコール部分の水酸基部分を、(メタ)アクリル酸類と反応させエステル化した化合物、ならびに(B)′光カチオン重合開始剤および/または光ラジカル重合開始剤を必須成分とすることを特徴とする感光性組成物である。
(A)′においても、テルペン化合物として、容易に入手可能なリモネンが好ましい。
(A)において、テルペン化合物として、容易に入手可能なリモネンが好ましい。
また、本発明は、(A)′テルペン化合物をヒドロホルミル化し、還元し、アルコール化合物とした後、あるいは、テルペン化合物をホルムアルデヒド付加し、アルコール化合物とした後、残った二重結合部分を、エポキシ化し、さらに、アルコール部分の水酸基部分を、(メタ)アクリル酸類と反応させエステル化した化合物、ならびに(B)′光カチオン重合開始剤および/または光ラジカル重合開始剤を必須成分とすることを特徴とする感光性組成物である。
(A)′においても、テルペン化合物として、容易に入手可能なリモネンが好ましい。
テルペン骨格を有する特殊なエポキシ化合物を感光性組成物に添加することにより、エポキシ化合物だけからなる感光性組成物では発現することのできない、耐熱性、吸水性に優れ、解像性のよい感光性組成物を提供することができる。
本発明の感光性組成物は、様々な特性を生み出すことが可能で、それら特性の変化により、様々な用途に展開が可能となる。
本発明の感光性組成物は、様々な特性を生み出すことが可能で、それら特性の変化により、様々な用途に展開が可能となる。
本発明の(A)テルペン化合物をヒドロホルミル化し、還元し、アルコール化合物とした後、あるいは、テルペン化合物をホルムアルデヒド付加し、アルコール化合物とした後、残った二重結合部分を、エポキシ化したオキサイド化合物について説明する。
ここで、ヒドロホルミル化(hydroformylation)について、説明する。ヒドロホルミル化は、有機合成化学で使用される公知の合成方法(化1参照)で、オキソ合成とも呼ばれ、オレフィンと一酸化炭素と水素との接触反応によって、原オレフィンよりも炭素数が1個多い飽和アルデヒドを合成する反応である。
一方、二重結合を有するテルペン化合物のホルムアルデヒド付加反応について説明する。
オレフィンとホルムアルデヒドの反応では、二重結合の性質、反応条件によって反応生成物が異なることが知られている。
下記文献等の付加反応により、α−ピネンとホルムアルデヒドあるいは、リモネン(ジペンテン)とホルムアルデヒドの反応では、化2〜化4等の化合物が生成されることが確認されている。
α−ピネンの例でも明らかなように、ホルムアルデヒド付加反応においては、テルペン化合物の二重結合は残ることになり、この二重結合は、本発明の次のエポキシ化反応においてエポキシ化される。
参考文献:「α−ピネンとホルムアルデヒドの反応、日本化学雑誌、Vol.81、No.6、Page.931−933、1959」、「Terpene−formaldehyde reactions.II.d−Limonene、Journal of Organic Chemistry、Vol.33、No.3、Page.1156−1159、1968」等がある。
オレフィンとホルムアルデヒドの反応では、二重結合の性質、反応条件によって反応生成物が異なることが知られている。
下記文献等の付加反応により、α−ピネンとホルムアルデヒドあるいは、リモネン(ジペンテン)とホルムアルデヒドの反応では、化2〜化4等の化合物が生成されることが確認されている。
α−ピネンの例でも明らかなように、ホルムアルデヒド付加反応においては、テルペン化合物の二重結合は残ることになり、この二重結合は、本発明の次のエポキシ化反応においてエポキシ化される。
参考文献:「α−ピネンとホルムアルデヒドの反応、日本化学雑誌、Vol.81、No.6、Page.931−933、1959」、「Terpene−formaldehyde reactions.II.d−Limonene、Journal of Organic Chemistry、Vol.33、No.3、Page.1156−1159、1968」等がある。
本発明の(A)および(A)′のテルペン化合物について説明する。
テルペン化合物は、一般に植物の葉、樹、根などから得られる植物精油に含まれる化合物である。
ここでテルペンについて説明する。テルペンとは一般的に、イソプレン(C5H8)の重合体で、モノテルペン(C10H16)、セスキテルペン(C15H24)、ジテルペン(C20H32)等に分類される。
テルペン化合物とは、これらを基本骨格とする化合物であり、分子中に二重結合を有している。この中で、モノテルペンが本発明では好ましく用いられるが、鎖状のテルペン化合物でもよい。
本発明の二重結合を有するテルペン化合物は、上記ヒドロホルミル化反応では、ヒドロホルミル化反応に使用されるオレフィン化合物である。
また、二重結合のうち、すべてがヒドロホルミル化されるのではなく、本発明では、エポキシ化される二重結合を残していることが必要である。
テルペン化合物は、一般に植物の葉、樹、根などから得られる植物精油に含まれる化合物である。
ここでテルペンについて説明する。テルペンとは一般的に、イソプレン(C5H8)の重合体で、モノテルペン(C10H16)、セスキテルペン(C15H24)、ジテルペン(C20H32)等に分類される。
テルペン化合物とは、これらを基本骨格とする化合物であり、分子中に二重結合を有している。この中で、モノテルペンが本発明では好ましく用いられるが、鎖状のテルペン化合物でもよい。
本発明の二重結合を有するテルペン化合物は、上記ヒドロホルミル化反応では、ヒドロホルミル化反応に使用されるオレフィン化合物である。
また、二重結合のうち、すべてがヒドロホルミル化されるのではなく、本発明では、エポキシ化される二重結合を残していることが必要である。
また、ヒドロホルミル化反応とは別の、テルペン化合物をホルムアルデヒド付加した後、アルコール化合物とする反応においても、アルコール化合物化後、エポキシ化される二重結合を有することが必要である。
上記、2つの反応における、あるいはさらにエステル化した反応における、本発明の具体的なテルペン化合物としては、リモネン(化5)、ジペンテン、α−ピネン、β−ピネン、オシメン、ミルセン、β−テルピネン、3,8−p−メンタジエン、Δ3−カレン、Δ4−カレン、カンフェン、ターピノーレン、アロオシメン、ミルセン、α−セドレン、β−セドレン、α−カリオフィレン、β−カリオフィレン等が挙げられる。ここにおいて、先述したように、ヒドロホルミル化反応において、容易に入手可能なリモネンが好ましい。
本発明の還元反応について説明する。
本発明の還元反応は、上記ヒドロホルミル化で得られたアルデヒドを、水酸基にするものであり、一般的な還元反応であれば特に指定はない。
例えば、水素化ホウ素ナトリウムのような金属水素化物で還元してもよい。
本発明の還元反応は、上記ヒドロホルミル化で得られたアルデヒドを、水酸基にするものであり、一般的な還元反応であれば特に指定はない。
例えば、水素化ホウ素ナトリウムのような金属水素化物で還元してもよい。
本発明のエポキシ化について説明する。
本発明のエポキシ化は、上記ヒドロホルミル化反応、あるいはホルムアルデヒド付加反応において、反応に、使用された以外の二重結合で行われる反応であり、上記方法で還元されたテルペン化合物を、空気酸化あるいは酸化剤で酸化して得ることが出来る。
本発明のエポキシ化は、上記ヒドロホルミル化反応、あるいはホルムアルデヒド付加反応において、反応に、使用された以外の二重結合で行われる反応であり、上記方法で還元されたテルペン化合物を、空気酸化あるいは酸化剤で酸化して得ることが出来る。
本発明の(B)光カチオン重合開始剤について説明する。
光カチオン重合開始剤に関しては、例えば、(A)テルペン化合物をヒドロホルミル化し還元し、アルコール化合物とした後、あるいは、テルペン化合物をホルムアルデヒド付加し、アルコール化合物とした後、さらにエポキシ化したオキサイド化合物のようなエポキシ基を有する化合物に紫外線を照射した時に、重合を開始させるものであれば特に指定はない。
具体的には、p−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなどの芳香族ジアゾニウム、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートなどの芳香族スルホニウム塩、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェートなどの芳香族ヨードニウム塩、芳香族ヨードシル塩、芳香族スルホキソニウム塩などのオニウム塩類、メタロセン化合物などが挙げられる。これら光カチオン重合開始剤は単独もしくは併用して使用できる。
光カチオン重合開始剤に関しては、例えば、(A)テルペン化合物をヒドロホルミル化し還元し、アルコール化合物とした後、あるいは、テルペン化合物をホルムアルデヒド付加し、アルコール化合物とした後、さらにエポキシ化したオキサイド化合物のようなエポキシ基を有する化合物に紫外線を照射した時に、重合を開始させるものであれば特に指定はない。
具体的には、p−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなどの芳香族ジアゾニウム、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートなどの芳香族スルホニウム塩、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェートなどの芳香族ヨードニウム塩、芳香族ヨードシル塩、芳香族スルホキソニウム塩などのオニウム塩類、メタロセン化合物などが挙げられる。これら光カチオン重合開始剤は単独もしくは併用して使用できる。
本発明において、上記の(A)テルペン化合物をヒドロホルミル化し、還元し、アルコール化合物とした後、あるいは、テルペン化合物をホルムアルデヒド付加し、アルコール化合物とした後、残った二重結合部分を、エポキシ化したオキサイド化合物と(B)光カチオン重合開始剤における、配合割合は以下のようである。
(B)成分は、(A)成分100重量部に対して、0.01〜10重量部、好ましくは0.1〜5.0重量部、さらに好ましくは0.3〜4.0重量部である。(B)成分が0.01重量部未満では光カチオン重合が十分進行せず、一方、10重量部を超えると光カチオン重合以外の余分なものが添加されることになる。
(B)成分は、(A)成分100重量部に対して、0.01〜10重量部、好ましくは0.1〜5.0重量部、さらに好ましくは0.3〜4.0重量部である。(B)成分が0.01重量部未満では光カチオン重合が十分進行せず、一方、10重量部を超えると光カチオン重合以外の余分なものが添加されることになる。
本発明の(A)′テルペン化合物をヒドロホルミル化し、還元し、アルコール化合物とした後、あるいは、テルペン化合物をホルムアルデヒド付加し、アルコール化合物とした後、残った二重結合部分を、エポキシ化し、さらに、それらエポキシ化したオキサイド化合物の水酸基部分を、(メタ)アクリル酸類と反応させエステル化した化合物について説明する。
本発明の(A)′は、請求項1記載の(A)のエポキシ化されたオキサイド化合物のアルコール部分(水酸基部分)を、(メタ)アクリル酸類と反応させエステル化したオキサイド化合物のことである。
本発明の(メタ)アクリル酸類を使用したエステル化は、上記アルコール化合物とアクリル酸、メタクルル酸等のカルボン酸とを、室温等で、数時間、反応させ、エステル化合物を合成するものである。
また、上記記載のカルボン酸の酸塩化物、酸無水物等を使用してもよい。
また、上記記載のカルボン酸の酸塩化物、酸無水物等を使用してもよい。
エステル化の際のカルボン酸の仕込み比率は、原料である上記アルコール化合物に対し、100〜600重量%、好ましくは200〜300重量%である。カルボン酸が100重量%未満であるとエステル化反応が十分に進行しない可能性があり、一方、300重量%を越えると未反応のカルボン酸などが残存しコスト高となる可能性があるので好ましくない。
溶媒は、使用してもよいが、エステル化の際には、カルボン酸などが溶媒を兼ねるため、使用しなくてもよい。
触媒としては、硫酸、塩酸、p−トルエンスルホン酸、三フッ化ホウ素、酸性イオン交換樹脂、酵素などを使用できる。
本発明の(B)′光カチオン重合開始剤および/または光ラジカル重合開始剤について説明する。
光カチオン重合開始剤は、上記の(B)光カチオン重合開始剤と同様である。
光ラジカル重合開始剤に関しては、例えば、(A)′のような(メタ)アクリレート化合物である場合に使用される。
本発明の光ラジカル重合開始剤は、ラジカル重合する光開始剤であれば何でもよい。
具体的には、ベンジル、ベンゾイン、ベンジルアルキルケタノールなどのベンゾインエーテル系、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−t−ブチルトリクロロアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノンなどのアセトフェノン系、ベンゾフェノン、4−クロロベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸、4−4‘−ジアルキルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−アルキルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他、2−アルキルアントラキノンなどが挙げられる。
ただし、(A)′のような(メタ)アクリレート化合物は、エポキシ化合物でもあるので、光カチオン重合開始剤も併用される。
光カチオン重合開始剤は、上記の(B)光カチオン重合開始剤と同様である。
光ラジカル重合開始剤に関しては、例えば、(A)′のような(メタ)アクリレート化合物である場合に使用される。
本発明の光ラジカル重合開始剤は、ラジカル重合する光開始剤であれば何でもよい。
具体的には、ベンジル、ベンゾイン、ベンジルアルキルケタノールなどのベンゾインエーテル系、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−t−ブチルトリクロロアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノンなどのアセトフェノン系、ベンゾフェノン、4−クロロベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸、4−4‘−ジアルキルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−アルキルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他、2−アルキルアントラキノンなどが挙げられる。
ただし、(A)′のような(メタ)アクリレート化合物は、エポキシ化合物でもあるので、光カチオン重合開始剤も併用される。
本発明の(B)′成分は、(A)′成分100重量部に対して、0.01〜10重量部、好ましくは0.1〜5.0重量部、さらに好ましくは0.3〜4.0重量部である。(B)′成分が0.01重量部未満では光カチオン重合、光ラジカル重合が十分進行せず、一方、10重量部を超えると光カチオン重合、光ラジカル重合以外の余分なものが添加されることになる。
光カチオン重合開始剤と光ラジカル重合開始剤の併用割合は、(A)′成分のアクリレート化とエポキシ化の割合に応じて配合すればよい。
光カチオン重合開始剤と光ラジカル重合開始剤の併用割合は、(A)′成分のアクリレート化とエポキシ化の割合に応じて配合すればよい。
本発明の組成物には、上記(A)、(B)成分や(A)′、(B)′成分の必須成分の他に、必要に応じ、その他の添加剤として熱重合禁止剤、酸化防止剤、可塑剤、染料、顔料、樹脂化合物、適当な希釈溶剤などを添加することができる。
また、本発明の組成物は、上記(A)、(B)成分や(A)′、(B)′成分は、必要により、他の成分を混合し、ろ過することでも得ることができる。
このようにして得られた本発明の感光性組成物は、従来のエポキシ化合物からなる感光性組成物に比べ、低硬化収縮性、耐熱性、吸水性、解像性に優れている。
このようにして得られた本発明の感光性組成物は、従来のエポキシ化合物からなる感光性組成物に比べ、低硬化収縮性、耐熱性、吸水性、解像性に優れている。
また、また、本発明記載の(A)のアルコール化合物の水酸基部分を、例えば、メチルスルホキシドの存在下に苛性ソーダなどを添加して反応させることによりエピクロルヒドリンなどを反応させることにより、ジオキサイド化合物とし、それらジオキサイド化合物を感光性材料として、本発明の組成物に、混合し、使用することもできる。
以下、本発明を実施例により説明する。ただし本発明は実施例により限定されるものではない。
合成例1
(3−(4−メチル−3−シクロヘキセン−1−イル)−ブタノール(化6)の合成)
4.4リットルのステンレス鋼製オートクレーブ中で、リモネン1リットル(860g)及びトルエン1リットル(870g)をロジウム−2−エチルヘキサノエートの形状のロジウム86mg(≒0.8ミリモル)及びトリフェニルホスフィン19.7g(≒75ミリモル)を150℃及び280バールでCO/H2−混合物(1:1)と反応させた。
約3時間経過後、ガス吸収がもはや起こらなくなり、その後、オートクレーブの内容物を室温まで冷却させた。
さらに、12の理論段数のカラム中で30mmHg、塔頂温度35℃でトルエンを含有する上述の留出物を、126℃及び鑵温度約150℃で処理し、3−(4−メチル−3−シクロヘキセン−1−イル)−ブタルアルデヒド793gを得た。
ガスクロマトグラフィーにより測定された不飽和アルデヒドの純度は99.4%であった。
この合成された上記3−(4−メチル−3−シクロヘキセン−1−イル)−ブタルアルデヒド167g(≒1モル)をイソプロパノール200ミリリットル中の水素化ホウ素ナトリウム10.5gの混合物を30〜40℃で滴下した。滴下終了後、30分間、後攪拌し、10%の硫酸150mlを添加した。上層を分離し、飽和食塩溶液で中性に洗浄した。粗生成物をヒグリュー・カラムを介して蒸留し、化6の留分130g(収率77%)を得た。
得られた化6(3−(4−メチル−3−シクロヘキセン−1−イル)−ブタノール)の物性値は以丁の通りであった。
・nD(at 20℃)=1.487(屈折率)
・NMR(CCl4)δ:0.85ppm,d,3H;1.2−2.1ppm,m,13H;3.6ppm,t,2H;3.6ppm,s,
1HD20で交換可能5.3ppmm,m,1H
・IR(油)Å:3330,3010,2960,2910,2830,1445,1430,1375,1145,1045
合成例1
(3−(4−メチル−3−シクロヘキセン−1−イル)−ブタノール(化6)の合成)
4.4リットルのステンレス鋼製オートクレーブ中で、リモネン1リットル(860g)及びトルエン1リットル(870g)をロジウム−2−エチルヘキサノエートの形状のロジウム86mg(≒0.8ミリモル)及びトリフェニルホスフィン19.7g(≒75ミリモル)を150℃及び280バールでCO/H2−混合物(1:1)と反応させた。
約3時間経過後、ガス吸収がもはや起こらなくなり、その後、オートクレーブの内容物を室温まで冷却させた。
さらに、12の理論段数のカラム中で30mmHg、塔頂温度35℃でトルエンを含有する上述の留出物を、126℃及び鑵温度約150℃で処理し、3−(4−メチル−3−シクロヘキセン−1−イル)−ブタルアルデヒド793gを得た。
ガスクロマトグラフィーにより測定された不飽和アルデヒドの純度は99.4%であった。
この合成された上記3−(4−メチル−3−シクロヘキセン−1−イル)−ブタルアルデヒド167g(≒1モル)をイソプロパノール200ミリリットル中の水素化ホウ素ナトリウム10.5gの混合物を30〜40℃で滴下した。滴下終了後、30分間、後攪拌し、10%の硫酸150mlを添加した。上層を分離し、飽和食塩溶液で中性に洗浄した。粗生成物をヒグリュー・カラムを介して蒸留し、化6の留分130g(収率77%)を得た。
得られた化6(3−(4−メチル−3−シクロヘキセン−1−イル)−ブタノール)の物性値は以丁の通りであった。
・nD(at 20℃)=1.487(屈折率)
・NMR(CCl4)δ:0.85ppm,d,3H;1.2−2.1ppm,m,13H;3.6ppm,t,2H;3.6ppm,s,
1HD20で交換可能5.3ppmm,m,1H
・IR(油)Å:3330,3010,2960,2910,2830,1445,1430,1375,1145,1045
合成例2
(合成例1のオキサイド化合物(化7)の合成)
温度計、空気吹き込み管、還流冷却管、攪拌機を備えた、1L、四つ口フラスコに、
合成例1で得られた3−(4−メチル−3−シクロヘキセン−1−イル)−ブタノールを572g(約3.4モル)と炭酸ナトリウムの粉末を5g仕込み、100℃で攪拌しながら、空気を100ml/分のスピードで吹き込み24時間反応を行った。その後、150℃に温度を上げ1時間攪拌した。反応物は減圧蒸留し、未反応留分を留去した後、化7の留分466gを得た。ガスクロマトグラフィーによる純度は95%であった。
(合成例1のオキサイド化合物(化7)の合成)
温度計、空気吹き込み管、還流冷却管、攪拌機を備えた、1L、四つ口フラスコに、
合成例1で得られた3−(4−メチル−3−シクロヘキセン−1−イル)−ブタノールを572g(約3.4モル)と炭酸ナトリウムの粉末を5g仕込み、100℃で攪拌しながら、空気を100ml/分のスピードで吹き込み24時間反応を行った。その後、150℃に温度を上げ1時間攪拌した。反応物は減圧蒸留し、未反応留分を留去した後、化7の留分466gを得た。ガスクロマトグラフィーによる純度は95%であった。
合成例3
(化7のエステル化物の合成)
合成例2で得られた3−(4−メチル−3−シクロヘキセン−1−イル)−ブタノールのエポキシ化物(化7)を使用して、トルエン溶媒中、化7の水酸基をアクリル酸クロライドとトリエチルアミンを用いて、冷却しながら反応させ、トルエン層を分離後、洗浄して、トルエンをエバポレーターで除去し、化7のエステル化物を得た。
(化7のエステル化物の合成)
合成例2で得られた3−(4−メチル−3−シクロヘキセン−1−イル)−ブタノールのエポキシ化物(化7)を使用して、トルエン溶媒中、化7の水酸基をアクリル酸クロライドとトリエチルアミンを用いて、冷却しながら反応させ、トルエン層を分離後、洗浄して、トルエンをエバポレーターで除去し、化7のエステル化物を得た。
合成例4
(α−ピネンとホルムアルデヒドの反応およびそのエポキシ化)
(3−オキシメチル−2(10)−ピネン(化2)の合成およびそのエポキシ化)
10リットルステンレス製オートクレープにα−ピネン2400g、パラホルムアルデヒド500gを入れて180℃、9時間攪拌し、反応させた。反応後、内容物を取り出し、10%水酸化ナトリウム水溶液で3回洗った後、水洗を繰り返し、油層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して、クライゼンフラスコで減圧蒸留し、沸点100〜120℃/5mmHgで留分105gを得た。
この留分100gを無水フタル酸10g、ベンゼン50ccとともにあたためて第一アルコールを酸性フタル酸エステルとして単離した。収量は108gであった。
この酸性フタル酸エステル90gをエタノール性水酸化カリウムでケン化し、常法により処理し、表記化合物を得た。
この表記化合物を、合成例2と同様にエポキシ化し、3−オキシメチル−2(10)−ピネン(化2)のエポキシ化物を得た。
(α−ピネンとホルムアルデヒドの反応およびそのエポキシ化)
(3−オキシメチル−2(10)−ピネン(化2)の合成およびそのエポキシ化)
10リットルステンレス製オートクレープにα−ピネン2400g、パラホルムアルデヒド500gを入れて180℃、9時間攪拌し、反応させた。反応後、内容物を取り出し、10%水酸化ナトリウム水溶液で3回洗った後、水洗を繰り返し、油層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して、クライゼンフラスコで減圧蒸留し、沸点100〜120℃/5mmHgで留分105gを得た。
この留分100gを無水フタル酸10g、ベンゼン50ccとともにあたためて第一アルコールを酸性フタル酸エステルとして単離した。収量は108gであった。
この酸性フタル酸エステル90gをエタノール性水酸化カリウムでケン化し、常法により処理し、表記化合物を得た。
この表記化合物を、合成例2と同様にエポキシ化し、3−オキシメチル−2(10)−ピネン(化2)のエポキシ化物を得た。
(感光性組成物の製造)
実施例1
上記合成例2で得られた合成例1のオキサイド化合物(化7) 40g、光カチオン重合開始剤としてp−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート1gを混合し、混合物をフィルターを通して濾過し、本発明の感光性組成物を得た。
(硬化収縮率)
上記感光性組成物を25℃の恒温水槽に放置した後、ピクノメーターを用いて、比重D1を測定した。次に得られる塗膜の厚さが100μmになるようにガラス板に上記感光性組成物を挟み込み、メタルハライドランプで約1J/cm2照射した。JIS−Z8807−1976に準じ、この塗膜の固体比重D2を求め、下記計算式により硬化収縮率を求めた。
硬化収縮率の測定結果を表1に記載した。
硬化収縮率(%)=((D2−D1)/D2)×100
実施例1
上記合成例2で得られた合成例1のオキサイド化合物(化7) 40g、光カチオン重合開始剤としてp−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート1gを混合し、混合物をフィルターを通して濾過し、本発明の感光性組成物を得た。
(硬化収縮率)
上記感光性組成物を25℃の恒温水槽に放置した後、ピクノメーターを用いて、比重D1を測定した。次に得られる塗膜の厚さが100μmになるようにガラス板に上記感光性組成物を挟み込み、メタルハライドランプで約1J/cm2照射した。JIS−Z8807−1976に準じ、この塗膜の固体比重D2を求め、下記計算式により硬化収縮率を求めた。
硬化収縮率の測定結果を表1に記載した。
硬化収縮率(%)=((D2−D1)/D2)×100
さらに上記合成例2で得られた合成例1のオキサイド化合物(化7) 40g、光カチオン重合開始剤としてp−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート1gの混合物に、溶剤としてジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/ソルベントナフサ(50/50)50gを加え、反応温度70℃で機械攪拌を行い、6時間反応させ、樹脂Aを得た。
樹脂Aを50g、トリグリシジルイソシアヌレート15g、イルガキュア(チバガイギー社製光重合開始剤)10g、BYK357(ビッグケミー製消泡剤)1g、BYK054(ビッグケミー製表面平滑剤)1g、フタロシアニングリーン(山陽色素製)1g、タルク20g、硫酸バリウム10gを混合し、ニューロング精密工業社製スクリーン印刷機LS15GXを使用し、表面機械研磨を行った銅張積層板に膜厚40μmになるように塗布した。塗布した基板を70℃の乾燥機中に30分間放置し、平行光露光機で露光パターンフィルムを載せて250mJ/cm2の光量を露光した。露光後、1%炭酸ナトリウム水溶液で60秒間、1.5kg/cm2のスプレー圧で現像を行った。水洗後、160℃、1時間熱風乾燥機に入れ加熱硬化を行った。
得られた硬化膜を有する試験片について、ガラス転移温度(Tg)測定、吸水率、解像度の評価を行った。結果を表1に記載した。
試験方法および評価方法は次の通りである。
(ガラス転移温度(Tg)の測定)
塗膜を1度塗り、または2度塗りした基板から剥離し、JIS−C−6481の試験方法に従って、TMA引っ張り試験により測定を行った。
(吸水率測定)
サンプルを120℃乾燥機中で一晩置き、十分乾燥させた後、重量(W0)を測定した。
次にこのサンプルをプレッシャークッカー(121℃、2atm.)に1時間入れた。プレッシャークッカーから取り出した後、流水で3分間冷却し布で水分を拭き取り、2分間放置した後、重量(W1)を測定し、下式により吸水率を求めた。
吸水率(%)=(W1−W0)/W0×100
(解像度の評価)
レジスト硬化膜のライン幅が100、50、25μmの三種類の試験片を作製し、断面観察を行った。露光は200mJ/cm2とした。評価は、任意の20カ所を被検部分として選択し、顕微鏡で観察して、検査数に対する正常な部分の数で表示した。
樹脂Aを50g、トリグリシジルイソシアヌレート15g、イルガキュア(チバガイギー社製光重合開始剤)10g、BYK357(ビッグケミー製消泡剤)1g、BYK054(ビッグケミー製表面平滑剤)1g、フタロシアニングリーン(山陽色素製)1g、タルク20g、硫酸バリウム10gを混合し、ニューロング精密工業社製スクリーン印刷機LS15GXを使用し、表面機械研磨を行った銅張積層板に膜厚40μmになるように塗布した。塗布した基板を70℃の乾燥機中に30分間放置し、平行光露光機で露光パターンフィルムを載せて250mJ/cm2の光量を露光した。露光後、1%炭酸ナトリウム水溶液で60秒間、1.5kg/cm2のスプレー圧で現像を行った。水洗後、160℃、1時間熱風乾燥機に入れ加熱硬化を行った。
得られた硬化膜を有する試験片について、ガラス転移温度(Tg)測定、吸水率、解像度の評価を行った。結果を表1に記載した。
試験方法および評価方法は次の通りである。
(ガラス転移温度(Tg)の測定)
塗膜を1度塗り、または2度塗りした基板から剥離し、JIS−C−6481の試験方法に従って、TMA引っ張り試験により測定を行った。
(吸水率測定)
サンプルを120℃乾燥機中で一晩置き、十分乾燥させた後、重量(W0)を測定した。
次にこのサンプルをプレッシャークッカー(121℃、2atm.)に1時間入れた。プレッシャークッカーから取り出した後、流水で3分間冷却し布で水分を拭き取り、2分間放置した後、重量(W1)を測定し、下式により吸水率を求めた。
吸水率(%)=(W1−W0)/W0×100
(解像度の評価)
レジスト硬化膜のライン幅が100、50、25μmの三種類の試験片を作製し、断面観察を行った。露光は200mJ/cm2とした。評価は、任意の20カ所を被検部分として選択し、顕微鏡で観察して、検査数に対する正常な部分の数で表示した。
実施例2
上記合成例3で合成した化7のエポキシ化物40g、光カチオン重合開始剤としてp−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート0.5g、光ラジカル重合開始剤として、ベンゾイン0.5gを混合し、混合物をフィルターを通して濾過し、本発明の感光性組成物を得、実施例1と同様にして評価した。評価結果は表1に記載した。
上記合成例3で合成した化7のエポキシ化物40g、光カチオン重合開始剤としてp−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート0.5g、光ラジカル重合開始剤として、ベンゾイン0.5gを混合し、混合物をフィルターを通して濾過し、本発明の感光性組成物を得、実施例1と同様にして評価した。評価結果は表1に記載した。
実施例3
上記合成例4で得られた3−オキシメチル−2(10)−ピネン(化2)のエポキシ化物40g、光カチオン重合開始剤としてp−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート1gを混合し、混合物をフィルターを通して濾過し、本発明の感光性組成物を得、実施例1と同様にして評価した。評価結果は表1に記載した。
上記合成例4で得られた3−オキシメチル−2(10)−ピネン(化2)のエポキシ化物40g、光カチオン重合開始剤としてp−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート1gを混合し、混合物をフィルターを通して濾過し、本発明の感光性組成物を得、実施例1と同様にして評価した。評価結果は表1に記載した。
比較例1
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート40g、p−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート1gを混合し、本発明の感光性組成物を得、実施例1と同様にして評価した。評価結果は表1に記載した。
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート40g、p−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート1gを混合し、本発明の感光性組成物を得、実施例1と同様にして評価した。評価結果は表1に記載した。
本発明の感光性組成物は、フォトレジストなどの感光性材料として使用できるだけでなく、コーティング剤や塗料、インクをはじめ電気絶縁材料、プリント配線板製造時の感光性樹脂材料や、無電界めっきレジスト用樹脂などとしても利用できる。
Claims (4)
- (A)テルペン化合物をヒドロホルミル化し、還元し、アルコール化合物とした後、あるいは、テルペン化合物をホルムアルデヒド付加し、アルコール化合物とした後、残った二重結合部分を、エポキシ化したオキサイド化合物、ならびに(B)光カチオン重合開始剤を必須成分とすることを特徴とする感光性組成物。
- テルペン化合物が、リモネンである、請求項1記載の感光性組成物。
- (A)′テルペン化合物をヒドロホルミル化し、還元し、アルコール化合物とした後、あるいは、テルペン化合物をホルムアルデヒド付加し、アルコール化合物とした後、残った二重結合部分を、エポキシ化し、さらに、水酸基部分を、(メタ)アクリル酸類と反応させエステル化した化合物、ならびに(B)′光カチオン重合開始剤および/または光ラジカル重合開始剤を必須成分とすることを特徴とする感光性組成物。
- テルペン化合物が、リモネンである、請求項3記載の感光性組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004127368A JP2005275334A (ja) | 2004-03-25 | 2004-03-25 | 感光性組成物 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Country Status (1)
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JP (1) | JP2005275334A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103420945A (zh) * | 2012-05-14 | 2013-12-04 | 浙江新化化工股份有限公司 | 一种清洁的柠烯环氧化方法 |
JP2014205838A (ja) * | 2009-06-08 | 2014-10-30 | 三洋化成工業株式会社 | 感光性組成物の光硬化物の製造方法 |
CN111100237A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-05 | 无锡德贝尔光电材料有限公司 | 高折射率的碱水可溶性树脂与制备方法及高折射率光刻胶 |
-
2004
- 2004-03-25 JP JP2004127368A patent/JP2005275334A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN103420945A (zh) * | 2012-05-14 | 2013-12-04 | 浙江新化化工股份有限公司 | 一种清洁的柠烯环氧化方法 |
CN111100237A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-05 | 无锡德贝尔光电材料有限公司 | 高折射率的碱水可溶性树脂与制备方法及高折射率光刻胶 |
CN111100237B (zh) * | 2019-12-23 | 2022-03-11 | 无锡德贝尔光电材料有限公司 | 高折射率的碱水可溶性树脂与制备方法及高折射率光刻胶 |
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