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JP2005266195A - Liquid crystal display device - Google Patents

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Publication number
JP2005266195A
JP2005266195A JP2004077503A JP2004077503A JP2005266195A JP 2005266195 A JP2005266195 A JP 2005266195A JP 2004077503 A JP2004077503 A JP 2004077503A JP 2004077503 A JP2004077503 A JP 2004077503A JP 2005266195 A JP2005266195 A JP 2005266195A
Authority
JP
Japan
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liquid crystal
electrode
substrate
display device
crystal display
Prior art date
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Pending
Application number
JP2004077503A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhito Kume
康仁 久米
Kazuhiko Tamai
和彦 玉井
Noriaki Onishi
憲明 大西
Nobuaki Yamada
信明 山田
Sunao Kurihara
直 栗原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2004077503A priority Critical patent/JP2005266195A/en
Priority to US10/980,867 priority patent/US7697099B2/en
Priority to TW093133897A priority patent/TWI332586B/en
Priority to KR1020040089631A priority patent/KR100677806B1/en
Priority to CN2004100905433A priority patent/CN100407011C/en
Publication of JP2005266195A publication Critical patent/JP2005266195A/en
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device in which a liquid crystal is aligned with sufficient stability and which is manufactured with a process simpler than any conventional process by using a comparatively simple construction with a groove structure for alignment control mounted only on a substrate of one side. <P>SOLUTION: The liquid crystal display device has a first substrate 110a, a second substrate 110b placed so as to face the first substrate, a liquid crystal layer 120 interposed between the first and second substrates, a first electrode 111 formed on the first substrate, a second electrode 131 formed on the second substrate, an interlayer insulating film 115 placed between the first electrode and the first substrate, and a groove structure 115a formed on the interlayer insulating film. The liquid crystal display device is equipped with a plurality of pixels each including the first electrode, the second electrode and the liquid crystal layer disposed between the first and second electrodes. A shading region surrounds each of the plurality of pixels, and the groove structure is arranged regularly in the shading region. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、液晶表示装置に関し、特に、携帯情報端末(例えばPDA)、携帯電話、車載用液晶ディスプレイ、デジタルカメラ、パソコン、アミューズメント機器、テレビなどに好適に用いられる液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device suitably used for a personal digital assistant (for example, PDA), a mobile phone, an in-vehicle liquid crystal display, a digital camera, a personal computer, an amusement device, a television, and the like.

近年、液晶表示装置は、薄型で低消費電力であるという特長を生かして、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話、電子手帳などの情報機器、あるいは液晶モニターを備えたカメラ一体型VTRなどに広く用いられている。   In recent years, liquid crystal display devices have been widely used for information devices such as notebook personal computers, mobile phones, electronic notebooks, or camera-integrated VTRs equipped with a liquid crystal monitor, taking advantage of their thinness and low power consumption. ing.

高コントラスト化および広視野角化を実現できる表示モードとして、垂直配向型液晶層を利用した垂直配向モードが注目されている。垂直配向型液晶層は、一般に、垂直配向膜と誘電異方性が負の液晶材料とを用いて形成される。   As a display mode capable of realizing a high contrast and a wide viewing angle, a vertical alignment mode using a vertical alignment type liquid crystal layer has attracted attention. The vertical alignment type liquid crystal layer is generally formed using a vertical alignment film and a liquid crystal material having negative dielectric anisotropy.

例えば、特許文献1には、画素電極に液晶層を介して対向する対向電極に設けた開口部の周辺に斜め電界を発生させ、開口部内で垂直配向状態にある液晶分子を中心に周りの液晶分子を傾斜配向させることによって、視角特性が改善された液晶表示装置が開示されている。   For example, Patent Document 1 discloses that an oblique electric field is generated around an opening provided in a counter electrode facing a pixel electrode via a liquid crystal layer, and liquid crystal around the liquid crystal molecules in a vertically aligned state in the opening. A liquid crystal display device in which viewing angle characteristics are improved by tilting molecules is disclosed.

しかしながら、特許文献1に記載されている構成では、画素内の全領域に斜め電界を形成することが難しく、その結果、電圧に対する液晶分子の応答が遅れる領域が画素内に発生し、残像現象が現れるという問題が生じる。   However, in the configuration described in Patent Document 1, it is difficult to form an oblique electric field in the entire region in the pixel. As a result, a region in which the response of the liquid crystal molecules to the voltage is delayed occurs in the pixel, and an afterimage phenomenon occurs. The problem of appearing arises.

この問題を解決するために、特許文献2は、画素電極または対向電極に規則的に配列した開口部を設けることによって、放射状傾斜配向を呈する複数の液晶ドメインを画素内に有する液晶表示装置を開示している。   In order to solve this problem, Patent Document 2 discloses a liquid crystal display device having a plurality of liquid crystal domains exhibiting a radially inclined alignment in a pixel by providing openings regularly arranged in the pixel electrode or the counter electrode. doing.

さらに、特許文献3には、画素内に規則的に複数の凸部を設けることによって、凸部を中心に出現する傾斜状放射配向の液晶ドメインの配向状態を安定化する技術が開示されている。また、この文献には、凸部による配向規制力とともに、電極に設けた開口部による斜め電界を利用して液晶分子の配向を規制することによって、表示特性を改善できることを開示している。   Furthermore, Patent Document 3 discloses a technique for stabilizing the alignment state of a liquid crystal domain having an inclined radial alignment that appears around a convex portion by providing a plurality of convex portions regularly in a pixel. . Further, this document discloses that the display characteristics can be improved by regulating the alignment of liquid crystal molecules using an oblique electric field by an opening provided in the electrode, together with the alignment regulating force by the convex part.

また、特許文献4には、画素内(少なくとも表示のための電圧が印加される領域内)に溝構造体を設け、この溝構造体の側面部の配向規制力を利用して分割された領域に軸対称配向ドメインを形成する液晶表示装置に関する技術開示が開示されている。この技術をプラズマアドレス型の液晶表示装置に適用すると、液晶層の厚さが大きい溝構造体部分に電圧がかかりやすくなるため、低駆動電圧化や応答速度を改善できる。   Further, in Patent Document 4, a groove structure is provided in a pixel (at least in a region to which a voltage for display is applied), and the region is divided by using the alignment regulating force of the side surface portion of the groove structure. Discloses a technical disclosure relating to a liquid crystal display device in which an axially symmetric alignment domain is formed. When this technique is applied to a plasma addressed liquid crystal display device, a voltage is easily applied to the groove structure portion where the thickness of the liquid crystal layer is large, so that the drive voltage can be reduced and the response speed can be improved.

一方、近年、屋外または屋内のいずれにおいても高品位な表示が可能な液晶表示装置が提案されている(例えば特許文献5および特許文献6)。この液晶表示装置は、半透過型液晶表示装置と呼ばれ、画素内に反射モードで表示を行う反射領域と、透過モードで表示を行う透過領域とを有している。   On the other hand, in recent years, liquid crystal display devices capable of high-quality display both outdoors and indoors have been proposed (for example, Patent Document 5 and Patent Document 6). This liquid crystal display device is referred to as a transflective liquid crystal display device, and has a reflective region in a pixel for displaying in a reflective mode and a transmissive region for displaying in a transmissive mode.

現在市販されている半透過型液晶表示装置は、ECBモードやTNモードなどが利用されているが、上記特許文献3には、垂直配向モードを透過型液晶表示装置だけでなく、半透過型液晶表示装置に適用した構成も開示されている。また、特許文献7には、垂直配向型液晶層の半透過型液晶表示装置において、透過領域の液晶層の厚さを反射領域の液晶層の厚さの2倍にするために設ける絶縁層に形成した凹部によって液晶の配向(多軸配向)を制御する技術が開示されている。凹部は例えば正八角形に形成され、液晶層を介して凹部に対向する位置に突起(凸部)またはスリット(電極開口部)が形成された構成が開示されている(例えば、特許文献7の図3および図16参照)。   The transflective liquid crystal display devices currently on the market use the ECB mode, the TN mode, and the like. However, in Patent Document 3, the vertical alignment mode is not limited to the transmissive liquid crystal display device but also the transflective liquid crystal. A configuration applied to a display device is also disclosed. Further, in Patent Document 7, in a semi-transmissive liquid crystal display device having a vertical alignment type liquid crystal layer, an insulating layer provided in order to make the thickness of the liquid crystal layer in the transmissive region twice the thickness of the liquid crystal layer in the reflective region. A technique for controlling the alignment (multiaxial alignment) of liquid crystals by the formed recesses is disclosed. A configuration is disclosed in which the recess is formed in, for example, a regular octagon, and a protrusion (projection) or a slit (electrode opening) is formed at a position facing the recess via the liquid crystal layer (for example, FIG. 3 and FIG. 16).

また、反射モードにおける表示品位を改善するために、拡散反射特性が優れた拡散反射層を形成する技術が検討されている。例えば、特許文献8には2層の感光性樹脂膜を用いたフォトリソグラフィ工程を経て、反射電極の表面にランダム配置された微細な凹凸形状を形成することによって、良好な拡散反射特性を得る技術が開示されている。さらに、特許文献9には、製造プロセスの簡略化を目的として、1層の感光性樹脂を用いて、コンタクトホールおよび微細な凹凸を形成するためのフォトマスクを介して露光し、これを現像することによって、微細な凹凸形状を有する反射電極を形成する技術が開示されている。
特開平6−301036号公報 特開2000−47217号公報 特開2003−167253号公報 特開2000−98393号公報 特許第29555277号公報 米国特許第6195140号明細書 特開2002−350853号公報 特開平6−75238号公報 特開平9−90426号公報
Further, in order to improve display quality in the reflection mode, a technique for forming a diffuse reflection layer having excellent diffuse reflection characteristics has been studied. For example, Patent Document 8 discloses a technique for obtaining good diffuse reflection characteristics by forming fine irregularities randomly arranged on the surface of the reflective electrode through a photolithography process using a two-layer photosensitive resin film. Is disclosed. Further, in Patent Document 9, for the purpose of simplifying the manufacturing process, a single layer of photosensitive resin is used to expose and develop a contact hole and a photomask for forming fine irregularities. Thus, a technique for forming a reflective electrode having a fine uneven shape is disclosed.
JP-A-6-301036 JP 2000-47217 A JP 2003-167253 A JP 2000-98393 A Japanese Patent No. 29555277 US Pat. No. 6,195,140 JP 2002-350853 A JP-A-6-75238 Japanese Patent Laid-Open No. 9-90426

特許文献2または特許文献3に開示されている技術は、画素内に凸部または開口部を設けて複数の液晶ドメインを形成し(すなわち、画素分割し)、液晶分子に対する配向規制力を強めているが、本発明者の検討によると、十分な配向規制力を得るためには、液晶層の両側(互いに対向する一対の基板の液晶層側)に、凸部や開口部などの配向規制構造を形成することが必要であり、製造工程が複雑になるという課題がある。また、画素内に配向規制構造を設けると、画素の有効開口率の低下を招いたり、画素内の凸部の周辺から光漏れが発生するためにコントラスト比が低下することもある。配向規制構造を両方の基板に設ける場合には、基板のアライメントマージンの影響を受けるので、有効開口率の低下および/またはコントラスト比の低下はさらに顕著になる。   In the technique disclosed in Patent Document 2 or Patent Document 3, a plurality of liquid crystal domains are formed by providing convex portions or openings in a pixel (that is, divided into pixels), and the alignment regulation force on liquid crystal molecules is strengthened. However, according to the study of the present inventors, in order to obtain a sufficient alignment regulating force, alignment regulating structures such as convex portions and openings are formed on both sides of the liquid crystal layer (the liquid crystal layer side of a pair of substrates facing each other). There is a problem that the manufacturing process becomes complicated. In addition, when the alignment regulating structure is provided in the pixel, the effective aperture ratio of the pixel may be reduced, or the contrast ratio may be reduced due to light leakage from the periphery of the convex portion in the pixel. In the case where the alignment regulation structure is provided on both the substrates, since it is affected by the alignment margin of the substrates, the effective aperture ratio and / or the contrast ratio are further reduced.

また、特許文献4に記載されている技術を用いると、画素内(または少なくとも表示のための電圧が印加される領域内)に溝構造体が形成されるので、溝構造体の傾斜部の近傍で電圧無印加時に光漏れが生じコントラスト比が低下する、あるいは、有効開口率が低下するという問題がある。   Further, when the technique described in Patent Document 4 is used, a groove structure is formed in the pixel (or at least in a region to which a voltage for display is applied), so that the vicinity of the inclined portion of the groove structure is formed. Thus, there is a problem that light leakage occurs when no voltage is applied, resulting in a decrease in contrast ratio or a decrease in effective aperture ratio.

また、特許文献6に開示されている技術では、多軸配向を制御するために設けられる凹部と反対側に凸部または電極開口部を配置することが必要となり、上記従来技術と同様の問題が発生する。   Further, in the technique disclosed in Patent Document 6, it is necessary to arrange a convex part or an electrode opening on the side opposite to the concave part provided in order to control the multiaxial orientation. Occur.

また、例えば、半透過型液晶表示装置の反射モードの表示品位を改善するために、特許文献7または8に記載されている方法を用いて反射電極を形成すると、製造プロセスが複雑になるという問題がある。すなわち、配向規制のための凸部だけでなく、拡散反射特性を改善するための微細な凹凸を形成する必要が生じ、液晶表示装置のコストアップにつながる。   In addition, for example, when the reflective electrode is formed using the method described in Patent Document 7 or 8 in order to improve the display quality of the reflective mode of the transflective liquid crystal display device, the manufacturing process becomes complicated. There is. That is, it is necessary to form not only convex portions for regulating the orientation but also fine irregularities for improving the diffuse reflection characteristics, leading to an increase in the cost of the liquid crystal display device.

本発明は上記の諸点に鑑みてなされたものであって、その目的は、片側の基板上にのみ配向制御のための溝構造体を設けた比較的簡便な構成で、液晶の配向を十分に安定化できるとともに、従来よりも簡便なプロセスで製造できる液晶表示装置およびその製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above points, and its purpose is to provide a relatively simple configuration in which a groove structure for alignment control is provided only on one substrate, and the alignment of liquid crystals is sufficiently achieved. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device that can be stabilized and manufactured by a simpler process than before and a manufacturing method thereof.

本発明の液晶表示装置は、第1基板と、前記第1基板に対向するように設けられた第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた液晶層と、前記第1基板上に形成された第1電極と、前記第2基板上に形成され第2電極と、前記第1電極と前記第1基板との間に設けられ溝構造体を有する層間絶縁膜とを有し、それぞれが、前記第1電極と、前記第2電極と、前記第1電極と前記第2電極の間に設けられた前記液晶層とを含む複数の画素を備え、前記複数の画素のそれぞれの周囲に遮光領域を有し、前記溝構造体は少なくとも前記遮光領域に規則的に配置されていることを特徴とする。前記溝構造体は一体に形成された溝であっても良いし、互いに分断された複数の溝で構成されてもよい。   The liquid crystal display device of the present invention includes a first substrate, a second substrate provided to face the first substrate, a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate, An interlayer insulating film having a first electrode formed on the first substrate, a second electrode formed on the second substrate, and a groove structure provided between the first electrode and the first substrate. Each including a plurality of pixels including the first electrode, the second electrode, and the liquid crystal layer provided between the first electrode and the second electrode, A light shielding region is provided around each pixel, and the groove structure is regularly arranged at least in the light shielding region. The groove structure may be an integrally formed groove or a plurality of grooves separated from each other.

ある実施形態において、前記第1電極に電気的に接続された複数のスイッチング素子を前記第1基板上にさらに有し、前記スイッチング素子の少なくとも一部は前記層間絶縁膜に覆われている。   In one embodiment, a plurality of switching elements electrically connected to the first electrode are further provided on the first substrate, and at least a part of the switching elements is covered with the interlayer insulating film.

ある実施形態において、前記液晶層は、垂直配向型液晶層であり、少なくとも所定の電圧を印加した時に、互いに異なる方向に配向した液晶分子を含む少なくとも1つの液晶ドメインを形成する。   In one embodiment, the liquid crystal layer is a vertical alignment type liquid crystal layer, and forms at least one liquid crystal domain including liquid crystal molecules aligned in different directions when at least a predetermined voltage is applied.

ある実施形態において、前記第1電極および/または前記第2電極は、所定の位置に形成された複数の開口部または切欠き部を有する。   In one embodiment, the first electrode and / or the second electrode has a plurality of openings or notches formed at predetermined positions.

ある実施形態において、前記第1電極および/または前記第2電極は、所定の位置に形成された少なくとも2つの開口部および少なくとも1つの切欠き部を有する。   In one embodiment, the first electrode and / or the second electrode has at least two openings and at least one notch formed at predetermined positions.

ある実施形態において、前記複数の開口部または切欠き部は、前記第1電極にのみ形成されている。   In one embodiment, the plurality of openings or notches are formed only in the first electrode.

ある実施形態において、前記液晶層は、垂直配向型液晶層であり、少なくとも所定の電圧を印加した時に、それぞれが軸対称配向を呈する少なくとも2つの液晶ドメインを形成し、前記少なくとも2つの液晶ドメインのそれぞれの軸対称配向の中心軸は、前記複数の開口部内またはその近傍に形成される。   In one embodiment, the liquid crystal layer is a vertical alignment type liquid crystal layer, and forms at least two liquid crystal domains each exhibiting axial symmetry alignment when at least a predetermined voltage is applied. The central axis of each axially symmetric orientation is formed in or near the plurality of openings.

ある実施形態において、前記液晶層は、垂直配向型液晶層であり、少なくとも所定の電圧を印加した時に、それぞれが軸対称配向を呈する少なくとも2つの液晶ドメインを形成し、前記溝構造体は、前記少なくとも2つの液晶ドメインの内の互いに隣接する一対の液晶ドメインの境界にも配置されている。   In one embodiment, the liquid crystal layer is a vertical alignment type liquid crystal layer, and forms at least two liquid crystal domains each having an axially symmetric alignment when at least a predetermined voltage is applied. It is also arranged at the boundary between a pair of liquid crystal domains adjacent to each other in at least two liquid crystal domains.

ある実施形態において、前記複数の画素のそれぞれ内に、更なる遮光領域を有し、前記境界に配置された前記溝構造体は、前記更なる遮光領域に設けられている。前記更なる遮光領域は、例えば、補助容量配線によって構成される。   In one embodiment, each of the plurality of pixels has a further light shielding region, and the groove structure arranged at the boundary is provided in the further light shielding region. The further light shielding region is constituted by, for example, an auxiliary capacitance wiring.

ある実施形態において、前記第1電極は、透過領域を規定する透明電極と反射領域を規定する反射電極とを含む。   In one embodiment, the first electrode includes a transparent electrode that defines a transmissive region and a reflective electrode that defines a reflective region.

ある実施形態において、前記溝構造体は、前記透過領域と前記反射領域との境界にも配置されている。   In one embodiment, the groove structure is also disposed at a boundary between the transmission region and the reflection region.

ある実施形態において、前記第1基板および前記第2基板を介して互いに対向するように配置された一対の偏光板を有し、前記第1基板および/または前記第2基板と前記一対の偏光板との間に少なくとも1つの2軸性光学異方性媒体層をさらに有する。   In one embodiment, the first substrate and / or the second substrate and the pair of polarizing plates have a pair of polarizing plates disposed so as to face each other with the first substrate and the second substrate interposed therebetween. And at least one biaxial optically anisotropic medium layer.

ある実施形態において、前記第1基板および前記第2基板を介して互いに対向するように配置された一対の偏光板をさらに有し、前記第1基板および/または前記第2基板と前記一対の偏光板との間に少なくとも1つの1軸性光学異方性媒体層をさらに有する。   In one embodiment, the liquid crystal display device further includes a pair of polarizing plates disposed so as to face each other with the first substrate and the second substrate interposed therebetween, and the first substrate and / or the second substrate and the pair of polarizations It further has at least one uniaxial optically anisotropic medium layer between the plates.

本発明による液晶表示装置の製造方法は、第1基板と、前記第1基板に対向するように設けられた第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた液晶層と、前記第1基板上に形成された第1電極と、前記第1電極に電気的に接続された回路要素と、前記第2基板上に形成され第2電極と、前記第1電極と前記第1基板との間に設けられ溝構造体を有する層間絶縁膜とを有し、それぞれが、前記第1電極と、前記第2電極と、前記第1電極と前記第2電極の間に設けられた前記液晶層とを含む複数の画素を備え、前記複数の画素の周囲に遮光領域を有し、前記溝構造体は少なくとも前記遮光領域に規則的に配置されている液晶表示装置の製造方法であって、第1基板上に回路要素を形成する工程と、前記回路要素を覆うポジ型の感光性樹脂膜を形成する工程と、前記感光性樹脂膜を露光する工程であって、露光量が互いに異なる所定の領域を形成する工程と、露光された前記感光性樹脂膜を現像することによって、前記回路要素の一部を露出するコンタクトホールと前記溝構造体とを有する前記層間絶縁膜を形成する工程と、前記層間絶縁膜上に第1電極を形成する工程とを包含することを特徴とする。   A method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention includes a first substrate, a second substrate provided to face the first substrate, and a liquid crystal provided between the first substrate and the second substrate. A first electrode formed on the first substrate; a circuit element electrically connected to the first electrode; a second electrode formed on the second substrate; and the first electrode; An interlayer insulating film provided between the first substrate and having a groove structure, each of which is between the first electrode, the second electrode, and the first electrode and the second electrode. A liquid crystal display device comprising: a plurality of pixels including the liquid crystal layer provided; a light shielding region around each of the plurality of pixels; and the groove structure regularly disposed at least in the light shielding region A method of forming a circuit element on a first substrate, and a positive type covering the circuit element A step of forming a photosensitive resin film; a step of exposing the photosensitive resin film; forming a predetermined region having different exposure amounts; and developing the exposed photosensitive resin film A step of forming the interlayer insulating film having a contact hole exposing a part of the circuit element and the groove structure, and a step of forming a first electrode on the interlayer insulating film. And

ある実施形態において、前記層間絶縁層を形成する工程は、表面が実質的に平坦な第1領域と、表面が凹凸形状を有する第2領域とを形成する工程を含み、前記第1電極を形成する工程は、前記第1領域の前記層間絶縁膜上に透明電極を形成する工程と、前記第2領域の前記層間絶縁膜上に反射電極を形成する工程とを包含する。   In one embodiment, the step of forming the interlayer insulating layer includes a step of forming a first region having a substantially flat surface and a second region having a concavo-convex shape, and forming the first electrode. The step of forming includes a step of forming a transparent electrode on the interlayer insulating film in the first region and a step of forming a reflective electrode on the interlayer insulating film in the second region.

ある実施形態において、前記露光工程は、第1フォトマスクを用いて、前記第2領域および前記溝構造体となる領域とその他の領域とを形成する第1露光工程と、前記その他の領域に、第2フォトマスクを用いて、前記第1領域および前記コンタクトホールを形成する第2露光工程とを含む。   In one embodiment, the exposure step uses a first photomask to form the second region and the region to be the groove structure and other regions, and the other region, And a second exposure step of forming the first region and the contact hole using a second photomask.

ある実施形態において、前記第1電極および/または前記第2電極を形成する工程は、導電膜を形成する工程と、前記導電膜をパターニングする工程とを包含し、前記パターニングする工程は、前記第1電極および/または前記第2電極の所定の位置に複数の開口部または切欠き部を形成する工程を包含する。   In one embodiment, the step of forming the first electrode and / or the second electrode includes a step of forming a conductive film and a step of patterning the conductive film. The step of patterning includes the step of forming the first electrode. Including a step of forming a plurality of openings or notches at predetermined positions of one electrode and / or the second electrode.

本発明の液晶表示装置は、第1電極(例えば画素電極)が形成されている第1基板の液晶層側に溝構造体が設けられている。この溝構造体は第1基板と第1電極との間に設けられた層間絶縁膜に形成されており、少なくとも画素の周辺の遮光領域に配置されている。溝構造体の傾斜側面にアンカリング作用(配向規制力)によって、液晶分子が電界によって傾く方向が規定され、その結果、少なくとも所定の電圧(閾値以上の電圧)が印加されたとき、溝構造体によって実質的に包囲された領域に、配向方向が互いに異なる液晶分子を含む少なくとも1つの液晶ドメインが安定に形成される。従って、従来よりも簡単な構成で、液晶分子の配向を十分に安定化でき、従来と同等以上の表示品位が得られる。さらに、溝構造体は層間絶縁膜に形成されているので、従来よりも簡便なプロセスで製造できる。また、画素外に配置された溝構造体の近傍からの光漏れはコントラスト比の低下に影響しない。当然のことながら、画素外の液晶層に表示のための電圧を印加する必要が無いので、画素外に配置された溝構造体上に画素電極を形成する必要は特に無く、隣接する画素電極間の短絡を防止できる範囲で、画素電極を互いに近づけて配置することができるので、高い有効開口率を得ることできる。   In the liquid crystal display device of the present invention, the groove structure is provided on the liquid crystal layer side of the first substrate on which the first electrode (for example, pixel electrode) is formed. The groove structure is formed in an interlayer insulating film provided between the first substrate and the first electrode, and is disposed at least in a light shielding region around the pixel. The direction in which the liquid crystal molecules are tilted by the electric field is defined by the anchoring action (alignment regulating force) on the inclined side surface of the groove structure, and as a result, when at least a predetermined voltage (voltage above the threshold) is applied, the groove structure Thus, at least one liquid crystal domain including liquid crystal molecules having different alignment directions is stably formed in a region substantially surrounded by. Accordingly, the orientation of the liquid crystal molecules can be sufficiently stabilized with a simpler structure than before, and a display quality equal to or higher than that of the conventional one can be obtained. Furthermore, since the trench structure is formed in the interlayer insulating film, it can be manufactured by a simpler process than before. In addition, light leakage from the vicinity of the groove structure disposed outside the pixel does not affect the reduction in contrast ratio. As a matter of course, since it is not necessary to apply a voltage for display to the liquid crystal layer outside the pixel, it is not particularly necessary to form a pixel electrode on the groove structure disposed outside the pixel, and between adjacent pixel electrodes. Since the pixel electrodes can be arranged close to each other within a range in which the short circuit can be prevented, a high effective aperture ratio can be obtained.

さらに、第1電極および/または第2電極に開口部または切欠き部を設けると、開口部または切欠き部の周辺に生成される斜め電界の影響によって液晶分子の配向をさらに安定化できる。液晶層としては、垂直配向型液晶層を好適に用いることができ、溝構造体(および開口部または切欠き部)によって、安定な軸対称配向ドメインを形成することができる。なお、各画素に少なくとも1つの液晶ドメインが形成されればよいが、画素の大きさや形状に応じて、2以上の液晶ドメインを形成しても良く、典型的な長方形の画素に対しては、2以上の液晶ドメインを形成することが好ましい。   Furthermore, when the opening or notch is provided in the first electrode and / or the second electrode, the orientation of the liquid crystal molecules can be further stabilized by the influence of an oblique electric field generated around the opening or notch. As the liquid crystal layer, a vertical alignment type liquid crystal layer can be preferably used, and a stable axially symmetric alignment domain can be formed by the groove structure (and the opening or notch). Note that at least one liquid crystal domain may be formed in each pixel, but two or more liquid crystal domains may be formed depending on the size and shape of the pixel. For a typical rectangular pixel, It is preferable to form two or more liquid crystal domains.

画素内に2以上の液晶ドメインを形成する場合、互いに隣接する一対の液晶ドメインの境界にも溝構造体を配置してもよい。このとき、画素内に更なる遮光領域(例えば補助容量配線)を有する場合、溝構造体を更なる遮光領域に設けることによって、光漏れによるコントラスト比の低下を抑制することができる。   When two or more liquid crystal domains are formed in a pixel, a groove structure may be arranged at the boundary between a pair of adjacent liquid crystal domains. At this time, in the case where the pixel has a further light-shielding region (for example, auxiliary capacitance wiring), by providing the groove structure in the further light-shielding region, it is possible to suppress a decrease in contrast ratio due to light leakage.

開口部は、軸対称配向ドメインの中心軸の位置を固定・安定化させる効果を有する。開口部は、第1電極または第2電極の一方に設けてもよいが、第1電極および第2電極の両方に設けることによって、中心軸の位置を固定・安定化する効果を大きくすることができる。第1電極と第2電極に設ける開口部は、基板法線方向から見たときに互いに略重なる位置に設けることが好ましい。一方、切欠き部は、第1電極にのみ設けることが好ましい。なお、電極に形成される開口部や切欠き部は、溝構造体や凸部などの構造的な配向規制構造と異なり、それぞれの電極をパターニングする工程で形成され得るので、製造工程が増えることがない。本発明によると、第2基板に溝構造体や凸部などの配向規制構造を設けることなく、安定な軸対称配向ドメインを形成することができる。   The opening has an effect of fixing and stabilizing the position of the central axis of the axially symmetric alignment domain. The opening may be provided in one of the first electrode and the second electrode, but providing the opening in both the first electrode and the second electrode can increase the effect of fixing and stabilizing the position of the central axis. it can. The openings provided in the first electrode and the second electrode are preferably provided at positions that overlap each other when viewed from the normal direction of the substrate. On the other hand, the notch is preferably provided only in the first electrode. In addition, the openings and notches formed in the electrodes can be formed in the process of patterning each electrode, unlike the structural orientation regulating structure such as the groove structure and the convex part, which increases the number of manufacturing processes. There is no. According to the present invention, a stable axially symmetric alignment domain can be formed without providing an alignment regulating structure such as a groove structure or a convex portion on the second substrate.

本発明による実施形態の液晶表示装置は、第1基板(例えばTFT側ガラス基板)と、第1基板に対向するように設けられた第2基板(例えばカラーフィルタ側ガラス基板)と、これらの基板の間に設けられた液晶層(例えば垂直配向型液晶層)と、第1基板上に形成された第1電極(例えば画素電極)と、第2基板上に形成され第2電極(例えば対向電極)と、第1電極と第1基板との間に設けられ溝構造体を有する層間絶縁膜とを有する。液晶表示装置が有する複数の画素のそれぞれは、第1電極と、第2電極と、第1電極と第2電極の間に設けられた液晶層とを含み、複数の画素のそれぞれの周囲には遮光領域が設けられており、溝構造体は少なくとも遮光領域に規則的に配置されている。遮光領域は、例えば、第1基板に設けられるスイッチング素子(例えばTFT)に接続されるゲート信号配線やソース信号配線などによって規定される。   A liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention includes a first substrate (for example, a TFT side glass substrate), a second substrate (for example, a color filter side glass substrate) provided to face the first substrate, and these substrates. A liquid crystal layer (for example, a vertical alignment type liquid crystal layer) provided between the first substrate, a first electrode (for example, a pixel electrode) formed on the first substrate, and a second electrode (for example, a counter electrode) formed on the second substrate. And an interlayer insulating film having a groove structure provided between the first electrode and the first substrate. Each of the plurality of pixels included in the liquid crystal display device includes a first electrode, a second electrode, and a liquid crystal layer provided between the first electrode and the second electrode. A light shielding region is provided, and the groove structures are regularly arranged at least in the light shielding region. The light shielding region is defined by, for example, a gate signal wiring or a source signal wiring connected to a switching element (for example, TFT) provided on the first substrate.

本発明は、垂直配向型液晶層を用い、それぞれの画素に複数の軸対称配向ドメインを形成する場合に、特に、広視野角で高コントラスト比な表示が可能な液晶表示装置を実現できる。従って、以下では、垂直配向型液晶層を用いた液晶表示装置(いわゆるVAモードの液晶表示装置)を例に本発明の実施形態を説明するが、本発明はこれに限られず、少なくとも所定の電圧を印加した時に、互いに異なる方向に配向した液晶分子を含む少なくとも1つの液晶ドメインが画素内に形成される液晶表示装置に適用できる。画素内に複数の液晶ドメインが形成される場合は、各液晶ドメイン内の液晶分子の配向方向は1つの方向であってもよい。なお、視野角特性の観点からは、液晶分子の配向方向が4方向以上の液晶ドメインを有することが好ましく、以下では軸対称配向ドメインを例示する。   The present invention can realize a liquid crystal display device capable of displaying with a wide viewing angle and a high contrast ratio, particularly when a vertical alignment type liquid crystal layer is used and a plurality of axially symmetric alignment domains are formed in each pixel. Therefore, in the following, an embodiment of the present invention will be described taking a liquid crystal display device using a vertical alignment type liquid crystal layer (so-called VA mode liquid crystal display device) as an example. However, the present invention is not limited to this, and at least a predetermined voltage is described. Can be applied to a liquid crystal display device in which at least one liquid crystal domain including liquid crystal molecules aligned in different directions is formed in a pixel. When a plurality of liquid crystal domains are formed in a pixel, the alignment direction of the liquid crystal molecules in each liquid crystal domain may be one direction. From the viewpoint of viewing angle characteristics, the liquid crystal molecules preferably have liquid crystal domains having four or more alignment directions, and an axially symmetric alignment domain is exemplified below.

また、以下の実施形態では、透過型と半透過型の液晶表示装置を例示するが、反射型表示装置に適用できる。   In the following embodiments, transmissive and transflective liquid crystal display devices are exemplified, but the present invention can be applied to reflective display devices.

以下に、図面を参照しながら本発明による実施形態の液晶表示装置の構成を具体的に説明する。   The configuration of the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings.

(透過型液晶表示装置)
まず、本発明による実施形態の透過型液晶表示装置100の構成を図1を参照しながら説明する。図1は、透過型液晶表示装置100の1つの画素の構成を模式的に示す図であり、(a)は、平面図であり、(b)は図1(a)中の1B−1B’線に沿った断面図である。
(Transmission type liquid crystal display)
First, the configuration of a transmissive liquid crystal display device 100 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a diagram schematically showing the configuration of one pixel of the transmissive liquid crystal display device 100, (a) is a plan view, and (b) is 1B-1B ′ in FIG. 1 (a). It is sectional drawing along a line.

液晶表示装置100は、透明基板(例えばガラス基板)110aと、透明基板110aに対向するように設けられた透明基板110bと、透明基板110aと110bとの間に設けられた垂直配向型の液晶層120とを有する。基板110aおよび110b上の液晶層120に接する面には垂直配向膜(不図示)が設けられており、電圧無印加時には、液晶層120の液晶分子は、垂直配向膜の表面に対して略垂直に配向している。液晶層120は、誘電異方性が負のネマティック液晶材料を含み、必要に応じて、カイラル剤を更に含む。   The liquid crystal display device 100 includes a transparent substrate (for example, a glass substrate) 110a, a transparent substrate 110b provided to face the transparent substrate 110a, and a vertical alignment type liquid crystal layer provided between the transparent substrates 110a and 110b. 120. A vertical alignment film (not shown) is provided on the surfaces of the substrates 110a and 110b in contact with the liquid crystal layer 120. When no voltage is applied, the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 120 are substantially perpendicular to the surface of the vertical alignment film. Oriented. The liquid crystal layer 120 includes a nematic liquid crystal material having negative dielectric anisotropy, and further includes a chiral agent as necessary.

液晶表示装置100は、透明基板110a上に形成された画素電極111と、透明基板110b上に形成された対向電極131とを有し、画素電極111と対向電極131との間に設けられた液晶層120とが画素を規定する。ここでは、画素電極111および対向電極131のいずれも透明導電層(例えばITO層)で形成されている。なお、典型的には、透明基板110bの液晶層120側には、画素に対応して設けられるカラーフィルタ130(複数のカラーフィルタをまとめて全体をカラーフィルタ層130ということもある。)と、隣接するカラーフィルタ130の間に設けられるブラックマトリクス(遮光層)132とが形成され、これらの上に対向電極131が形成されるが、対向電極131上(液晶層120側)にカラーフィルタ層130やブラックマトリクス132を形成しても良い。   The liquid crystal display device 100 includes a pixel electrode 111 formed on the transparent substrate 110a and a counter electrode 131 formed on the transparent substrate 110b, and a liquid crystal provided between the pixel electrode 111 and the counter electrode 131. Layer 120 defines the pixel. Here, both the pixel electrode 111 and the counter electrode 131 are formed of a transparent conductive layer (for example, an ITO layer). Typically, on the liquid crystal layer 120 side of the transparent substrate 110b, a color filter 130 provided corresponding to the pixel (a plurality of color filters may be collectively referred to as the color filter layer 130), and A black matrix (light-shielding layer) 132 provided between adjacent color filters 130 is formed, and a counter electrode 131 is formed thereon. The color filter layer 130 is formed on the counter electrode 131 (the liquid crystal layer 120 side). Alternatively, the black matrix 132 may be formed.

液晶表示装置100は、それぞれの画素の周辺に遮光領域を有し、この遮光領域内の透明基板110a上に溝構造体115aを有している。溝構造体115aは、透明基板110a上に形成された回路要素(スイッチング素子などの能動素子だけでなく、配線や電極を含む:ここでは不図示)を覆うように形成された層間絶縁膜115に形成されている。例えば、後述するように、回路要素としてTFTを有する透過型液晶表示装置において層間絶縁膜を設けると、画素電極をゲート信号配線および/またはソース信号配線と一部重畳させて形成することが可能となり、開口率を向上することができる。   The liquid crystal display device 100 has a light shielding region around each pixel, and has a groove structure 115a on the transparent substrate 110a in the light shielding region. The groove structure 115a is formed on the interlayer insulating film 115 formed so as to cover circuit elements (including not only active elements such as switching elements but also wires and electrodes: not shown here) formed on the transparent substrate 110a. Is formed. For example, as will be described later, when an interlayer insulating film is provided in a transmissive liquid crystal display device having a TFT as a circuit element, the pixel electrode can be partially overlapped with the gate signal wiring and / or the source signal wiring. , The aperture ratio can be improved.

ここで、遮光領域とは、透明基板110a上の画素電極111の周辺領域に形成される、例えばTFTやゲート信号配線、ソース信号配線、または、透明基板110b上に形成されるブラックマトリクスによって遮光される領域であり、この領域は表示に寄与しない。従って、遮光領域に配置された溝構造体115aは表示に悪影響を及ぼすことが無い。   Here, the light shielding region is shielded by, for example, a TFT, a gate signal wiring, a source signal wiring, or a black matrix formed on the transparent substrate 110b, which is formed in the peripheral region of the pixel electrode 111 on the transparent substrate 110a. This area does not contribute to display. Therefore, the groove structure 115a arranged in the light shielding region does not adversely affect the display.

ここで例示した溝構造体115aは、画素を包囲するように連続した一本の溝として設けられているが、これに限らず複数の溝に分断されていても良い。この溝構造体115aは液晶ドメインの画素の外延近傍に形成される境界を規定するように作用するので、ある程度の長さを有することが好ましい。例えば、溝構造体を複数の溝で構成した場合、個々の溝の長さは、隣接する溝の間の長さよりも長いことが好ましい。   The groove structure 115a illustrated here is provided as a single continuous groove so as to surround the pixel, but is not limited thereto, and may be divided into a plurality of grooves. Since the groove structure 115a acts so as to define a boundary formed in the vicinity of the extension of the pixels in the liquid crystal domain, it is preferable that the groove structure 115a has a certain length. For example, when the groove structure is composed of a plurality of grooves, the length of each groove is preferably longer than the length between adjacent grooves.

ここで例示した画素電極111は、所定の位置に形成された、2つの開口部114および4つの切欠き部113を有している。この液晶層に所定の電圧を印加すると、それぞれが軸対称配向を呈する2つの液晶ドメインが形成され、これら液晶ドメインのそれぞれの軸対称配向の中心軸は、開口部114内またはその近傍に形成される。後に説明するように、画素電極111に設けた開口部114が軸対称配向の中心軸の位置を固定するように作用する。切欠き部113は軸対称配向ドメインの境界付近に設けられ、液晶分子が電界によって倒れる方向を規定し、軸対称配向ドメインを形成するように作用する。開口部114および切欠き部113の周辺には、画素電極111と対向電極113との間に印加される電圧によって、斜め電界が形成され、この斜め電界によって液晶分子が傾斜する方向が規定される結果、上述のように作用する。また、ここでは、切欠き部113は、画素(ここでは全体が透過領域)に形成される液晶ドメインの中心軸に対応する開口部(ここでは図1中の右側の開口部)114を中心に点対称に配置された4つの切欠き部113を含んでいる。   The pixel electrode 111 illustrated here has two openings 114 and four notches 113 formed at predetermined positions. When a predetermined voltage is applied to the liquid crystal layer, two liquid crystal domains each having an axially symmetric orientation are formed, and the central axis of each of the liquid crystal domains is formed in or near the opening 114. The As will be described later, the opening 114 provided in the pixel electrode 111 acts to fix the position of the central axis of the axially symmetric orientation. The notch 113 is provided in the vicinity of the boundary of the axially symmetric alignment domain, and defines the direction in which the liquid crystal molecules are tilted by the electric field, and acts to form the axially symmetric alignment domain. An oblique electric field is formed around the opening 114 and the notch 113 by a voltage applied between the pixel electrode 111 and the counter electrode 113, and a direction in which liquid crystal molecules are inclined is defined by the oblique electric field. As a result, it operates as described above. Here, the notch 113 is centered on an opening 114 (here, the opening on the right side in FIG. 1) corresponding to the central axis of the liquid crystal domain formed in the pixel (here, the entire transmission region). It includes four notches 113 arranged symmetrically with respect to a point.

このような切欠き部113を設けることによって、電圧印加時に液晶分子が倒れる方向が規定され、2つの液晶ドメインが形成される。なお、図1中、画素電極111の左側に切欠き部を設けていない理由は、図示した画素電極111の左側に位置する画素電極(不図示)の右端に設けた切欠き部によって同様の作用が得られるので、画素の有効開口率を低下する切欠き部を画素電極111の左端では省略している。ここでは、上述した溝構造体115aによる配向規制力も得られるので、画素電極111の左端に切欠き部を設けなくとも、切欠き部を設けた場合と同様に安定した液晶ドメインが形成されるのに加え、有効開口率が向上するという効果が得られる。   By providing such a notch 113, the direction in which the liquid crystal molecules fall when a voltage is applied is defined, and two liquid crystal domains are formed. In FIG. 1, the reason why the notch is not provided on the left side of the pixel electrode 111 is that the notch provided at the right end of the pixel electrode (not shown) located on the left side of the illustrated pixel electrode 111 has the same effect. Therefore, a notch that reduces the effective aperture ratio of the pixel is omitted at the left end of the pixel electrode 111. Here, since the alignment regulating force by the groove structure 115a described above can also be obtained, a stable liquid crystal domain can be formed as in the case where the notch is provided without providing the notch on the left end of the pixel electrode 111. In addition, the effect of improving the effective aperture ratio can be obtained.

ここでは、4つの切欠き部113を形成したが、切欠き部は、隣接する液晶ドメインの間に少なくとも1つ設ければよく、例えば、ここでは、画素の中央部に細長い切欠き部を設けて、他を省略しても良い。   Here, four cutout portions 113 are formed, but at least one cutout portion may be provided between adjacent liquid crystal domains. For example, here, a long and thin cutout portion is provided at the center of the pixel. Others may be omitted.

軸対称配向ドメインの中心軸を固定するために設ける開口部114の形状は、例示したように円形であるこが好ましいがこれに限られない。ただし、全方位的にほぼ等しい配向規制力を発揮させるためには、4角形以上の多角形であることが好ましく、正多角形であることが好ましい。軸対称配向ドメイン内の液晶分子が電界によって倒れる方向を規定するように作用する切欠き部113の形状は、隣接する軸対称配向に対してほぼ等しい配向規制力を発揮するように設定され、例えば4角形が好ましい。   The shape of the opening 114 provided to fix the central axis of the axially symmetric orientation domain is preferably circular as illustrated, but is not limited thereto. However, in order to exert substantially the same orientation regulating force in all directions, the polygon is preferably a quadrilateral or more, and is preferably a regular polygon. The shape of the notch 113 acting so as to define the direction in which the liquid crystal molecules in the axially symmetric alignment domain are tilted by the electric field is set so as to exert an alignment regulating force substantially equal to the adjacent axially symmetric alignment. A quadrangle is preferred.

液晶層120の厚さdt(セルギャップともいう。)を規定するための支持体133を遮光領域(ここではブラックマトリクス132によって規定される領域)に形成すれば、表示品位を低下させることが無いので好ましい。支持体133は、透明基板110aおよび110bのどちらに形成しても良く、例示したように、遮光領域に設けられた溝構造体115aの底部の上に設ける場合に限られない。溝構造体115aの底部の上に支持体133を形成する場合は、支持体133の高さから溝構造体115aの深さ(溝構造体115aが形成されている部分の層間絶縁膜115の厚さとその他の領域の層間絶縁膜115の厚さとの差)を差し引いた値が液晶層120の厚さとなるように設定される。溝構造体115aが形成されていない領域に支持体133を設ける場合には、支持体133の高さが液晶層120の厚さとなるように設定される。支持体133は、例えば、感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ工程で形成することができる。   If a support 133 for defining the thickness dt (also referred to as a cell gap) of the liquid crystal layer 120 is formed in a light shielding region (here, a region defined by the black matrix 132), display quality is not deteriorated. Therefore, it is preferable. The support 133 may be formed on either of the transparent substrates 110a and 110b, and is not limited to the case where the support 133 is provided on the bottom of the groove structure 115a provided in the light shielding region as illustrated. When the support 133 is formed on the bottom of the groove structure 115a, the depth of the groove structure 115a from the height of the support 133 (the thickness of the interlayer insulating film 115 in the portion where the groove structure 115a is formed). And the difference between the thickness of the interlayer insulating film 115 in other regions) and the thickness of the liquid crystal layer 120 are set. When the support body 133 is provided in a region where the groove structure 115 a is not formed, the height of the support body 133 is set to be the thickness of the liquid crystal layer 120. The support 133 can be formed by a photolithography process using a photosensitive resin, for example.

この液晶表示装置100においては、画素電極111および対向電極131に所定の電圧(閾値電圧以上の電圧)を印加すると、2つの開口部114内またはその近傍にそれぞれの中心軸が安定化された2つの軸対称配向が形成され、画素電極11の長手方向の中央部に設けた一対の切欠き部が隣接する2つの液晶ドメイン内の液晶分子が電界で倒れる方向を規定し、溝構造体115aおよび画素電極111のコーナ部に設けられた切欠き部113が液晶ドメインの画素の外延近傍の液晶分子が電界で倒れる方向を規定する。溝構造体115aと開口部114および切欠き部113による配向規制力が協同的に作用し、液晶ドメインの配向を安定化すると考えられる。   In this liquid crystal display device 100, when a predetermined voltage (a voltage equal to or higher than the threshold voltage) is applied to the pixel electrode 111 and the counter electrode 131, the respective central axes are stabilized in or near the two openings 114. Two axially symmetric orientations are formed, and a pair of notches provided at the center in the longitudinal direction of the pixel electrode 11 define the direction in which liquid crystal molecules in two adjacent liquid crystal domains are tilted by an electric field, and the groove structure 115a and The notch 113 provided in the corner portion of the pixel electrode 111 defines the direction in which the liquid crystal molecules near the extension of the pixel in the liquid crystal domain are tilted by the electric field. It is considered that the alignment regulating force by the groove structure 115a, the opening 114, and the notch 113 acts cooperatively to stabilize the alignment of the liquid crystal domain.

なお、透明基板110aの液晶層120側には、例えばTFTなどのアクティブ素子およびTFTに接続されたゲート信号配線およびソース信号配線などの回路要素(いずれも不図示)が設けられる。また、透明基板110aと、透明基板110a上に形成された回路要素および上述した画素電極111、層間絶縁膜115、支持体133および配向膜などをまとめてアクティブマトリクス基板ということがある。一方、透明基板110bと透明基板110b上に形成されたカラーフィルタ層130、ブラックマトリクス132、対向電極131および配向膜などをまとめて対向基板またはカラーフィルタ基板ということがある。   Note that, on the liquid crystal layer 120 side of the transparent substrate 110a, for example, an active element such as a TFT and circuit elements (not shown) such as a gate signal wiring and a source signal wiring connected to the TFT are provided. In addition, the transparent substrate 110a, the circuit elements formed on the transparent substrate 110a, the pixel electrode 111, the interlayer insulating film 115, the support 133, the alignment film, and the like described above may be collectively referred to as an active matrix substrate. On the other hand, the transparent substrate 110b and the color filter layer 130, the black matrix 132, the counter electrode 131, the alignment film, and the like formed on the transparent substrate 110b may be collectively referred to as a counter substrate or a color filter substrate.

また、上記の説明では省略したが、液晶表示装置100は、透明基板110aおよび110bを介して互いに対向するように配置された一対の偏光板をさらに有する。一対の偏光板は典型的には透過軸が互いに直交するように配置される。さらに、後述するように、2軸性光学異方性媒体層および/または1軸性光学異方性媒体層を設けても良い。   Further, although omitted in the above description, the liquid crystal display device 100 further includes a pair of polarizing plates arranged so as to face each other through the transparent substrates 110a and 110b. The pair of polarizing plates are typically arranged so that the transmission axes are orthogonal to each other. Furthermore, as described later, a biaxial optically anisotropic medium layer and / or a uniaxial optically anisotropic medium layer may be provided.

次に、図2Aおよび図2Bを参照しながら、透過型液晶表示装置100に好適に用いられるアクティブマトリクス基板の構造の一例を説明する。図2Aはアクティブマトリクス基板の部分拡大図であり、図2Bは、図2A中のX−X’線に沿った断面図である。図2Aおよび図2Bに示したアクティブマトリクス基板は、切欠き部113の数が少ない点において、図1に示したアクティブマトリクス基板と異なるが、他の構成は同じであってよい。   Next, an example of the structure of an active matrix substrate that is preferably used in the transmissive liquid crystal display device 100 will be described with reference to FIGS. 2A and 2B. 2A is a partially enlarged view of the active matrix substrate, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line X-X ′ in FIG. 2A. The active matrix substrate shown in FIGS. 2A and 2B is different from the active matrix substrate shown in FIG. 1 in that the number of notches 113 is small, but other configurations may be the same.

図2Aおよび図2Bに示すアクティブマトリクス基板は、例えばガラス基板からなる透明基板110aを有し、透明基板110a上には、ゲート信号線2およびソース信号線3が互いに直交するように設けられている。これらの信号配線2および3の交差部の近傍にTFT4が設けられており、TFT4のドレイン電極5は画素電極111に接続されている。   The active matrix substrate shown in FIGS. 2A and 2B has a transparent substrate 110a made of, for example, a glass substrate, and the gate signal lines 2 and the source signal lines 3 are provided on the transparent substrate 110a so as to be orthogonal to each other. . A TFT 4 is provided in the vicinity of the intersection of these signal wires 2 and 3, and the drain electrode 5 of the TFT 4 is connected to the pixel electrode 111.

アクティブマトリクス基板は、ゲート信号線2、ソース信号線3やTFT4を覆う層間絶縁膜115を有し、溝構造体115aは層間絶縁膜115に形成されている。従って、溝構造体115aは、例えば、感光性樹脂膜115を用いて層間絶縁膜115を形成する際に、コンタクトホールを形成するプロセスと同じフォトリソグラフィプロセスで形成することが可能で、従来よりも簡便なプロセスで製造することができる。   The active matrix substrate has an interlayer insulating film 115 that covers the gate signal line 2, the source signal line 3, and the TFT 4, and the trench structure 115 a is formed in the interlayer insulating film 115. Therefore, for example, when forming the interlayer insulating film 115 using the photosensitive resin film 115, the groove structure 115a can be formed by the same photolithography process as the process of forming the contact hole. It can be manufactured by a simple process.

画素電極111は、ITOなどの透明導電層から形成され透明電極であり、層間絶縁膜115上に形成されている。層間絶縁膜115のコンタクトホール内に形成されたコンタクト部111aでドレイン電極5に接続されている。画素電極111の所定の領域には、上述したように軸対称配向ドメインの配向を制御するために切欠き部113および開口部114が設けられている。ここでは、層間絶縁膜115に形成された溝構造体115aの傾斜側面にまで画素電極111を延設した例を示したが、これに限られず、溝構造体115a内に画素電極111を形成しなくても良い。但し、以下に説明する理由から画素電極111は溝構造体115aの側面部まで形成することが好ましく、溝構造体115aの側面の一部を覆うことが好ましい。   The pixel electrode 111 is a transparent electrode formed from a transparent conductive layer such as ITO, and is formed on the interlayer insulating film 115. A contact portion 111 a formed in the contact hole of the interlayer insulating film 115 is connected to the drain electrode 5. In the predetermined region of the pixel electrode 111, as described above, the notch 113 and the opening 114 are provided in order to control the orientation of the axially symmetric orientation domain. Here, an example in which the pixel electrode 111 is extended to the inclined side surface of the groove structure 115a formed in the interlayer insulating film 115 is shown, but the present invention is not limited to this, and the pixel electrode 111 is formed in the groove structure 115a. It is not necessary. However, for the reason described below, the pixel electrode 111 is preferably formed up to the side surface portion of the groove structure 115a, and preferably covers a part of the side surface of the groove structure 115a.

画素電極111が溝構造体115aの傾斜側面に設けられていないと、画素電極111の端部での液晶分子の配向乱れが生じやすくなり、また,溝構造体115aの内部を全て覆った場合には、等電位線が溝構造体115aの表面に沿って平行に形成されるため、溝構造体115aによる壁面効果(段差の効果)が十分に発揮されないことがある。従って、画素電極111は、溝構造体115aの側面部あるいはその一部を覆うように延設することが好ましい。   If the pixel electrode 111 is not provided on the inclined side surface of the groove structure 115a, the alignment of liquid crystal molecules at the end of the pixel electrode 111 is likely to be disturbed, and when the entire groove structure 115a is covered. Since the equipotential lines are formed in parallel along the surface of the groove structure 115a, the wall surface effect (step difference effect) by the groove structure 115a may not be sufficiently exhibited. Therefore, the pixel electrode 111 is preferably extended so as to cover the side surface portion or a part of the groove structure 115a.

画素電極111は次段のゲート信号線上にゲート絶縁膜9を介して重畳させている。また、TFT4はゲート信号線2から分岐したゲート電極10の上部にゲート絶縁膜9、半導体層12、チャネル保護層13およびn+−Si層11(ソース・ドレイン電極)が積層された構造を有している。 The pixel electrode 111 is superimposed on the gate signal line of the next stage through the gate insulating film 9. The TFT 4 has a structure in which a gate insulating film 9, a semiconductor layer 12, a channel protective layer 13, and an n + -Si layer 11 (source / drain electrodes) are stacked on the gate electrode 10 branched from the gate signal line 2. doing.

なお、ここではボトムゲート型のTFTの構成例を示したが、これに限られず、トップゲート型のTFTを用いることもできる。また、TFT以外のスイッチング素子(例えばMIM)を用いることもできる。   Note that although a configuration example of a bottom-gate TFT is shown here, the present invention is not limited to this, and a top-gate TFT can also be used. In addition, a switching element (for example, MIM) other than the TFT can be used.

液晶表示装置100では、溝構造体115aが形成された層間絶縁膜115上に設けられた画素電極111に切欠き部113および開口部114を形成し、対向基板110b側には配向規制構造を設けていない。本実施形態によると、このような単純な構成で安定な軸対称配向ドメインを形成できるという利点が得られる。しかしながら、これに限られず、例えば図2Cに示す液晶表示装置100’のように、対向基板110b側にも配向規制構造を設けてもよい。このような構成を採用することによって、液晶分子の配向をさらに安定化させることができる。   In the liquid crystal display device 100, the notch 113 and the opening 114 are formed in the pixel electrode 111 provided on the interlayer insulating film 115 in which the groove structure 115a is formed, and the alignment regulating structure is provided on the counter substrate 110b side. Not. According to the present embodiment, there is an advantage that a stable axially symmetric alignment domain can be formed with such a simple configuration. However, the present invention is not limited to this. For example, an alignment regulating structure may be provided on the counter substrate 110b side as in the liquid crystal display device 100 'illustrated in FIG. 2C. By adopting such a configuration, the alignment of liquid crystal molecules can be further stabilized.

液晶表示装置100’は、対向電極131に開口部114’を有している点以外は、液晶表示装置100と実質的に同じ構成を有しており、液晶表示装置100と共通の構成要素は共通の参照符号で示し、ここでは説明を省略する。   The liquid crystal display device 100 ′ has substantially the same configuration as the liquid crystal display device 100 except that the counter electrode 131 has an opening 114 ′. Common reference numerals are used and description thereof is omitted here.

液晶表示装置100’の対向基板131に形成された開口部114’は、基板法線方向から見たときに、画素電極111に形成された開口部114と略重なる位置に設けられており、液晶表示装置100’の平面図は、図1(a)と実質的同じである。このように配置された開口部114’は、画素電極111に形成された開口部114とともに軸対称配向の中心軸を固定・安定するように作用する。その結果、軸対称配向ドメインの配向がさらに安定化される。   The opening 114 ′ formed in the counter substrate 131 of the liquid crystal display device 100 ′ is provided at a position substantially overlapping the opening 114 formed in the pixel electrode 111 when viewed from the normal direction of the substrate. The plan view of the display device 100 ′ is substantially the same as FIG. The opening 114 ′ arranged in this way acts to fix and stabilize the central axis of the axially symmetric orientation together with the opening 114 formed in the pixel electrode 111. As a result, the orientation of the axially symmetric orientation domain is further stabilized.

なお、対向基板110b側には、溝構造体や凸部などの構造的な配向規制構造を設けないことが好ましい。溝構造体などを形成するためには、電極に形成される開口部や切欠き部と異なり、製造工程が増えるのでコストアップの要因となるので好ましくない。また、切欠き部113は、中心軸を固定する作用を有する開口部と異なり、溝構造体115aの側面のアンカリング作用と協同して液晶分子が電界によって倒れる方向を規定するように設けられるので、溝構造体115aと同じ基板110aにのみ設けることが好ましい。   Note that it is preferable not to provide a structural alignment regulating structure such as a groove structure or a convex portion on the counter substrate 110b side. In order to form a groove structure or the like, unlike an opening or a notch formed in an electrode, the number of manufacturing steps increases, which is a factor in increasing costs, which is not preferable. Further, unlike the opening having the function of fixing the central axis, the notch 113 is provided so as to define the direction in which the liquid crystal molecules are tilted by the electric field in cooperation with the anchoring action of the side surface of the groove structure 115a. It is preferable to provide only on the same substrate 110a as the groove structure 115a.

(半透過型液晶表示装置)
次に、図3を参照しながら、本発明による実施形態の半透過型液晶表示装置200の構成を説明する。
(Transflective liquid crystal display device)
Next, the configuration of the transflective liquid crystal display device 200 according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

本発明による実施形態の透過型液晶表示装置200の1つの画素の構成を模式的に示す図であり、(a)は、平面図であり、(b)は図3(a)中の3B−3B’線に沿った断面図である。   It is a figure which shows typically the structure of one pixel of the transmissive liquid crystal display device 200 of embodiment by this invention, (a) is a top view, (b) is 3B- in FIG. 3 (a). It is sectional drawing along line 3B '.

液晶表示装置200は、透明基板(例えばガラス基板)210aと、透明基板210aに対向するように設けられた透明基板210bと、透明基板210aと210bとの間に設けられた垂直配向型の液晶層220とを有する。両方の基板210aおよび210b上の液晶層220に接する面には垂直配向膜(不図示)が設けられており、電圧無印加時には、液晶層220の液晶分子は、垂直配向膜の表面に対して略垂直に配向している。液晶層220は、誘電異方性が負のネマティック液晶材料を含み、必要に応じて、カイラル剤を更に含む。   The liquid crystal display device 200 includes a transparent substrate (for example, a glass substrate) 210a, a transparent substrate 210b provided to face the transparent substrate 210a, and a vertical alignment type liquid crystal layer provided between the transparent substrates 210a and 210b. 220. A vertical alignment film (not shown) is provided on the surfaces of both the substrates 210a and 210b in contact with the liquid crystal layer 220. When no voltage is applied, the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 220 are in contact with the surface of the vertical alignment film. Oriented substantially vertically. The liquid crystal layer 220 includes a nematic liquid crystal material having a negative dielectric anisotropy, and further includes a chiral agent as necessary.

液晶表示装置200は、透明基板210a上に形成された画素電極211と、透明基板210b上に形成された対向電極231とを有し、画素電極211と対向電極231との間に設けられた液晶層220とが画素を規定する。透明基板210a上には、後述するようにTFTなどの回路要素が形成されている。透明基板210aおよびこの上に形成された構成要素をまとめてアクティブマトリクス基板210aということがある。   The liquid crystal display device 200 includes a pixel electrode 211 formed on the transparent substrate 210a and a counter electrode 231 formed on the transparent substrate 210b, and a liquid crystal provided between the pixel electrode 211 and the counter electrode 231. Layer 220 defines the pixel. Circuit elements such as TFTs are formed on the transparent substrate 210a as will be described later. The transparent substrate 210a and the components formed thereon may be collectively referred to as an active matrix substrate 210a.

また、典型的には、透明基板210bの液晶層220側には、画素に対応して設けられるカラーフィルタ230(複数のカラーフィルタをまとめて全体をカラーフィルタ層230ということもある。)と、隣接するカラーフィルタ230の間に設けられるブラックマトリクス(遮光層)232とが形成され、これらの上に対向電極231が形成されるが、対向電極131上(液晶層120側)にカラーフィルタ層230やブラックマトリクス232を形成しても良い。透明基板210bおよびこの上に形成された構成要素をまとめて対向基板(カラーフィルタ基板)基板210bということがある。   Further, typically, a color filter 230 (corresponding to a plurality of color filters may be collectively referred to as the color filter layer 230) provided corresponding to the pixel on the liquid crystal layer 220 side of the transparent substrate 210b. A black matrix (light shielding layer) 232 provided between adjacent color filters 230 is formed, and a counter electrode 231 is formed thereon, and the color filter layer 230 is formed on the counter electrode 131 (the liquid crystal layer 120 side). Alternatively, a black matrix 232 may be formed. The transparent substrate 210b and the components formed thereon may be collectively referred to as a counter substrate (color filter substrate) substrate 210b.

画素電極211は、透明導電層(例えばITO層)から形成された透明電極211aと、金属層(例えば、Al層、Alを含む合金層、およびこれらのいずれかを含む積層膜)から形成された反射電極211bとを有する。その結果、画素は透明電極211aによって規定される透明領域Aと、反射電極211bによって規定される反射領域Bとを含む。透明領域Aは透過モードで表示を行い、反射領域Bは反射モードで表示を行う。   The pixel electrode 211 is formed of a transparent electrode 211a formed from a transparent conductive layer (for example, an ITO layer) and a metal layer (for example, an Al layer, an alloy layer including Al, and a laminated film including any of these). A reflective electrode 211b. As a result, the pixel includes a transparent area A defined by the transparent electrode 211a and a reflective area B defined by the reflective electrode 211b. The transparent area A displays in the transmissive mode, and the reflective area B displays in the reflective mode.

液晶表示装置200は、それぞれの画素の周辺に遮光領域を有し、この遮光領域の透明基板210a上に溝構造体215aを有している。溝構造体215aは、透明基板210a上に形成された回路要素(スイッチング素子などの能動素子だけでなく、配線や電極を含む:ここでは不図示)を覆うように形成された層間絶縁膜215に形成されている。例えば、後述するように、回路要素としてTFTを有する液晶表示装置において層間絶縁膜を設けると、画素電極をゲート信号配線および/またはソース信号配線と一部重畳させて形成することが可能となり、透過領域の開口率を向上することができる。   The liquid crystal display device 200 has a light shielding region around each pixel, and has a groove structure 215a on the transparent substrate 210a in the light shielding region. The groove structure 215a is formed on the interlayer insulating film 215 formed so as to cover circuit elements (including not only active elements such as switching elements but also wires and electrodes: not shown here) formed on the transparent substrate 210a. Is formed. For example, as will be described later, when an interlayer insulating film is provided in a liquid crystal display device having a TFT as a circuit element, the pixel electrode can be formed so as to partially overlap with the gate signal wiring and / or the source signal wiring. The aperture ratio of the region can be improved.

また、画素の周辺の遮光領域は表示に寄与しないので、遮光領域に形成された溝構造体215aは表示に悪影響を及ぼすことが無い。ここで例示した溝構造体215aは、画素を包囲するように連続した一本の溝として設けられているが、これに限らず複数の溝に分断されていても良い。この溝構造体215aは液晶ドメインの画素の外延近傍に形成される境界を規定するように作用するので、ある程度の長さを有することが好ましい。例えば、溝構造体215aを複数の溝で構成した場合、個々の溝の長さは、隣接する溝の間の長さよりも長いことが好ましい。   Further, since the light shielding area around the pixel does not contribute to display, the groove structure 215a formed in the light shielding area does not adversely affect the display. The groove structure 215a illustrated here is provided as a single continuous groove so as to surround the pixel. However, the groove structure 215a is not limited to this and may be divided into a plurality of grooves. Since the groove structure 215a acts so as to define a boundary formed in the vicinity of the extension of the pixel in the liquid crystal domain, it preferably has a certain length. For example, when the groove structure 215a is constituted by a plurality of grooves, the length of each groove is preferably longer than the length between adjacent grooves.

液晶表示装置200における溝構造体215aは、さらに、透過領域Aと反射領域Bとの境界にも配置されている。この溝構造体215aは、互いに隣接する、透過領域Aに形成される液晶ドメインと反射領域Bに形成される液晶ドメインとの境界における液晶分子の配向方向を規定するように作用する。この溝構造体215aによる配向規制力は、透過領域Aと反射領域Bとの境界に設けられた一対の切欠き部213による斜め電界と協同的に作用し、液晶ドメイン内の液晶分子を軸対称状に配向させる。なお、溝構造体215aを透過領域Aと反射領域Bとの境界にも配置すると、透過モードの表示のコントラスト比が低下することがあるので、省略してもよい。ここで、透過領域Aに形成され互いに隣接する液晶ドメインの境界に溝構造体215aを設けていないのは、透過モードの表示のコントラスト比の低下を抑制するためであるが、必要に応じて、ここにも溝構造体215aを設けても良い。画素内に配置される溝構造体215aは画素の周辺に配置される溝構造体215aと一体に形成されても良いし、分断されていてもよい。   The groove structure 215a in the liquid crystal display device 200 is further disposed at the boundary between the transmission region A and the reflection region B. The groove structure 215a acts so as to define the alignment direction of the liquid crystal molecules at the boundary between the liquid crystal domain formed in the transmission region A and the liquid crystal domain formed in the reflection region B, which are adjacent to each other. The alignment regulating force by the groove structure 215a acts cooperatively with an oblique electric field by a pair of notches 213 provided at the boundary between the transmission region A and the reflection region B, and the liquid crystal molecules in the liquid crystal domain are axially symmetric. Orientate in a shape. Note that if the groove structure 215a is also disposed at the boundary between the transmissive region A and the reflective region B, the contrast ratio of the transmissive mode display may be reduced, and may be omitted. Here, the reason why the groove structure 215a is not provided at the boundary between the liquid crystal domains that are formed in the transmissive region A and adjacent to each other is to suppress a decrease in the contrast ratio of the display in the transmissive mode. A groove structure 215a may also be provided here. The groove structure 215a arranged in the pixel may be formed integrally with the groove structure 215a arranged around the pixel, or may be divided.

ここで例示した画素電極211は、所定の位置に形成された、3つの開口部214および4つの切欠き部213を有している。この液晶層に所定の電圧を印加すると、それぞれが軸対称配向を呈する3つの液晶ドメインが形成され、これら液晶ドメインのそれぞれの軸対称配向の中心軸は、開口部214内またはその近傍に形成される。後に説明するように、画素電極211に設けた開口部214が軸対称配向の中心軸の位置を固定するように作用し、切欠き部213が軸対称配向ドメイン内の液晶分子が電界によって倒れる方向を規定するように作用する。開口部214および切欠き部213の周辺には、画素電極211と対向電極213との間に印加される電圧によって、斜め電界が形成され、この斜め電界によって液晶分子が傾斜する方向が規定される結果、上述のように作用する。また、ここでは、切欠き部213は、画素の透過領域Aに形成される液晶ドメインの中心軸に対応する開口部(ここでは図1中の右側の開口部)214を中心に点対称に配置された4つの切欠き部213を含んでいる。このような切欠き部213を設けることによって、電圧印加時に液晶分子が倒れる方向が規定され、3つの液晶ドメインが形成される。開口部214や切欠き部213の配置およびこれらの好ましい形状については、上述した透過型液晶表示装置100の場合と同様である。図3には、透過領域Aに2つの液晶ドメインを形成し、反射領域Bに1つの液晶ドメインを形成する例を示したが、これに限定されない。なお、個々の液晶ドメインは略正方形の形状にすることが、視野角特性および配向の安定性の観点から好ましい。   The pixel electrode 211 exemplified here has three openings 214 and four notches 213 formed at predetermined positions. When a predetermined voltage is applied to the liquid crystal layer, three liquid crystal domains each having an axially symmetric orientation are formed, and the central axis of each of the liquid crystal domains is formed in or near the opening 214. The As will be described later, the opening 214 provided in the pixel electrode 211 acts to fix the position of the central axis of the axially symmetric alignment, and the notch 213 is a direction in which the liquid crystal molecules in the axially symmetric alignment domain are tilted by the electric field. Acts to prescribe. An oblique electric field is formed around the opening 214 and the notch 213 by a voltage applied between the pixel electrode 211 and the counter electrode 213, and a direction in which liquid crystal molecules are inclined is defined by the oblique electric field. As a result, it operates as described above. Further, here, the notch 213 is arranged symmetrically with respect to the opening 214 (here, the opening on the right side in FIG. 1) 214 corresponding to the central axis of the liquid crystal domain formed in the transmission region A of the pixel. 4 cutouts 213 formed therein. By providing such a notch 213, the direction in which the liquid crystal molecules fall when a voltage is applied is defined, and three liquid crystal domains are formed. The arrangement of the openings 214 and the notches 213 and their preferred shapes are the same as those of the transmissive liquid crystal display device 100 described above. Although FIG. 3 shows an example in which two liquid crystal domains are formed in the transmission region A and one liquid crystal domain is formed in the reflection region B, the present invention is not limited to this. In addition, it is preferable that each liquid crystal domain has a substantially square shape from the viewpoint of viewing angle characteristics and alignment stability.

液晶層220の厚さdt(セルギャップともいう。)を規定するための支持体233を遮光領域(ここではブラックマトリクス232によって規定される領域)に形成すれば、表示品位を低下させることが無いので好ましい。支持体233は、透明基板210aおよび210bのどちらに形成しても良く、例示したように、遮光領域に設けられた溝構造体215aの底部の上に設ける場合に限られない。溝構造体215aの底部の上に支持体233を形成する場合は、支持体233の高さから溝構造体215aの深さ(溝構造体215aが形成されている部分の層間絶縁膜215の厚さとその他の領域の層間絶縁膜215の厚さとの差)を差し引いた値が液晶層220の厚さとなるように設定される。溝構造体215aが形成されていない領域に支持体233を設ける場合には、支持体233の高さが液晶層220の厚さとなるように設定される。   If the support 233 for defining the thickness dt (also referred to as a cell gap) of the liquid crystal layer 220 is formed in the light-shielding region (here, the region defined by the black matrix 232), the display quality is not deteriorated. Therefore, it is preferable. The support 233 may be formed on either of the transparent substrates 210a and 210b, and is not limited to the case where the support 233 is provided on the bottom of the groove structure 215a provided in the light shielding region as illustrated. When the support 233 is formed on the bottom of the groove structure 215a, the depth of the groove structure 215a from the height of the support 233 (the thickness of the interlayer insulating film 215 in the portion where the groove structure 215a is formed). And the difference between the thickness of the interlayer insulating film 215 in other regions) and the thickness of the liquid crystal layer 220 are set. In the case where the support 233 is provided in a region where the groove structure 215 a is not formed, the height of the support 233 is set to be the thickness of the liquid crystal layer 220.

この液晶表示装置200においては、画素電極211および対向電極231に所定の電圧(閾値電圧以上の電圧)を印加すると、3つの開口部214内またはその近傍にそれぞれの中心軸が安定化された3つの軸対称配向が形成され、画素電極211に設けた4つの切欠き部213が隣接する3つの液晶ドメイン内の液晶分子が電界で倒れる方向を規定し、画素の周辺に配置された溝構造体215aが液晶ドメインの画素の外延近傍に形成される境界を安定化する。また、透過領域Aと反射領域Bとの境界にも配置された溝構造体215aは、透過領域Aに形成される液晶ドメインと反射領域Bに形成される液晶ドメインとの境界を安定化する。   In this liquid crystal display device 200, when a predetermined voltage (a voltage equal to or higher than the threshold voltage) is applied to the pixel electrode 211 and the counter electrode 231, the respective central axes are stabilized in or near the three openings 214. Groove structure in which three axially symmetric orientations are formed, and the four notches 213 provided in the pixel electrode 211 define the direction in which the liquid crystal molecules in the three adjacent liquid crystal domains are tilted by an electric field, and are arranged around the pixel 215a stabilizes the boundary formed in the vicinity of the extension of the pixels in the liquid crystal domain. Further, the groove structure 215a disposed also at the boundary between the transmissive region A and the reflective region B stabilizes the boundary between the liquid crystal domain formed in the transmissive region A and the liquid crystal domain formed in the reflective region B.

次に、透過モードの表示と反射モードの表示の両方を行うことができる半透過型液晶表示装置200に特有の好ましい構成を説明する。   Next, a preferable configuration unique to the transflective liquid crystal display device 200 capable of performing both transmission mode display and reflection mode display will be described.

透過モードの表示では、表示に用いられる光は液晶層220を一回通過するだけであるのに対し、反射モードの表示では、表示に用いられる光は液晶層220を2回通過する。したがって、図3(b)に模式的に示したように、透過領域Aの液晶層220の厚さdtを反射領域Bの液晶層220の厚さdrの約2倍に設定することが好ましい。このように設定することによって、両表示モードの光に対して液晶層220が与えるリタデーションを略等しくすることができる。dt=0.5drが最も好ましいが、0.3dt<dr<0.7dtの範囲内にあれば両方の表示モードで良好な表示を実現できる。勿論、用途によっては、dt=drであってもよい。   In the transmission mode display, the light used for display passes through the liquid crystal layer 220 only once, whereas in the reflection mode display, the light used for display passes through the liquid crystal layer 220 twice. Therefore, as schematically shown in FIG. 3B, it is preferable to set the thickness dt of the liquid crystal layer 220 in the transmissive region A to about twice the thickness dr of the liquid crystal layer 220 in the reflective region B. By setting in this way, the retardation that the liquid crystal layer 220 gives to the light in both display modes can be made substantially equal. Although dt = 0.5dr is most preferable, good display can be realized in both display modes as long as it is within the range of 0.3dt <dr <0.7dt. Of course, dt = dr may be used depending on the application.

液晶表示装置200においては、反射領域Bの液晶層220の厚さを透過領域Aの液晶層の厚さよりも小さくするために、ガラス基板210bの反射領域Bにのみ透明誘電体層234を設けている。このような構成を採用すると、反射電極211bの下に絶縁膜などを用いて段差を設ける必要がないので、アクティブマトリクス基板210aの製造を簡略化できるという利点が得られる。さらに、液晶層220の厚さを調整するための段差を設けるための絶縁膜上に反射電極211bを設けると、絶縁膜の斜面(テーパ部)を覆う反射電極によって透過表示に用いられる光が遮られる、あるいは、絶縁膜の斜面に形成された反射電極で反射される光は、内部反射を繰り返すので、反射表示にも有効に利用されない、という問題が発生するが、上記構成を採用するとこれらの問題の発生が抑制され、光の利用効率を改善することができる。   In the liquid crystal display device 200, in order to make the thickness of the liquid crystal layer 220 in the reflective region B smaller than the thickness of the liquid crystal layer in the transmissive region A, the transparent dielectric layer 234 is provided only in the reflective region B of the glass substrate 210b. Yes. By adopting such a configuration, there is no need to provide a step using an insulating film or the like under the reflective electrode 211b, so that there is an advantage that the manufacturing of the active matrix substrate 210a can be simplified. Further, when the reflective electrode 211b is provided over the insulating film for providing a step for adjusting the thickness of the liquid crystal layer 220, light used for transmissive display is blocked by the reflective electrode that covers the inclined surface (tapered portion) of the insulating film. However, since the light reflected by the reflective electrode formed on the slope of the insulating film repeats internal reflection, there is a problem that it is not effectively used for reflective display. Occurrence of problems can be suppressed and light utilization efficiency can be improved.

さらに、この透明誘電体層234に光を散乱する機能(拡散反射機能)を有するものを用いると、反射電極211bに拡散反射機能を付与しなくても、良好なペーパーホワイトに近い白表示を実現できる。透明誘電体層234に光散乱能を付与しなくても、反射電極211bの表面に凹凸形状を付与することによって、ペーパーホワイトに近い白表示を実現することもできるが、凹凸の形状によっては軸対称配向の中心軸の位置が安定し無い場合がある。これに対し、光散乱能を有する透明誘電体層234と平坦な表面を有する反射電極211bとを用いれば、反射電極211bに形成する開口部214によって中心軸の位置をより確実に安定化できるという利点が得られる。なお、反射電極211bに拡散反射機能を付与するために、その表面に凹凸を形成する場合、凹凸形状は干渉色が発生しないように連続した波状とすることが好ましく、軸対称配向の中心軸を安定化できるように設定することが好ましい。   Furthermore, if the transparent dielectric layer 234 having a function of scattering light (diffuse reflection function) is used, a good white display close to paper white can be realized without providing the reflection electrode 211b with a diffuse reflection function. it can. Even if the transparent dielectric layer 234 is not provided with a light scattering ability, a white display close to paper white can be realized by providing an uneven shape on the surface of the reflective electrode 211b. The position of the central axis of the symmetric orientation may not be stable. On the other hand, if the transparent dielectric layer 234 having light scattering ability and the reflective electrode 211b having a flat surface are used, the position of the central axis can be more reliably stabilized by the opening 214 formed in the reflective electrode 211b. Benefits are gained. In addition, in order to provide a diffuse reflection function to the reflective electrode 211b, when forming unevenness on the surface, the uneven shape is preferably a continuous wave shape so that no interference color is generated, and the central axis of the axially symmetric orientation is It is preferable to set so that it can be stabilized.

また、透過モードでは表示に用いられる光はカラーフィルタ層230を一回通過するだけであるのに対し、反射モードの表示では、表示に用いられる光はカラーフィルタ層230を2回通過する。従って、カラーフィルタ層230として、透過領域Aおよび反射領域Bに同じ光学濃度のカラーフィルタ層を用いると、反射モードにおける色純度および/または輝度が低下することがある。この問題の発生を抑制するために、反射領域のカラーフィルタ層の光学濃度を透過領域のカラーフィルタ層よりも小さくすることが好ましい。なお、ここでいう光学濃度は、カラーフィルタ層を特徴付ける特性値であり、カラーフィルタ層の厚さを小さくすれば、光学濃度を小さくできる。あるいは、カラーフィルタ層の厚さをそのままで、例えば添加する色素の濃度を低下させて、光学濃度を小さくすることもできる。   In the transmissive mode, light used for display passes through the color filter layer 230 only once, whereas in reflective mode display, light used for display passes through the color filter layer 230 twice. Therefore, when a color filter layer having the same optical density is used for the transmission region A and the reflection region B as the color filter layer 230, color purity and / or luminance in the reflection mode may be lowered. In order to suppress the occurrence of this problem, it is preferable to make the optical density of the color filter layer in the reflective region smaller than that in the transmissive region. The optical density here is a characteristic value characterizing the color filter layer, and the optical density can be reduced by reducing the thickness of the color filter layer. Alternatively, the optical density can be reduced by reducing the concentration of the added dye, for example, while maintaining the thickness of the color filter layer.

次に、図4および図5を参照しながら、半透過型液晶表示装置に好適に用いられるアクティブマトリクス基板の構造の一例を説明する。図4はアクティブマトリクス基板の部分拡大図であり、図5は、液晶表示装置の断面図であり、図4中のX−X’線に沿った断面図に相当する。図4および図5に示したアクティブマトリクス基板は、透過領域Aに1つの液晶ドメインを形成する構成を有している点(すなわち、開口部214および切欠き部213の数が少ない点)において、図3に示したアクティブマトリクス基板と異なるが、他の構成は同じであってよく、共通の構成要素は共通の参照符号で示す。   Next, an example of the structure of an active matrix substrate that is preferably used in a transflective liquid crystal display device will be described with reference to FIGS. 4 is a partially enlarged view of the active matrix substrate, and FIG. 5 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device, which corresponds to a cross-sectional view taken along line X-X ′ in FIG. 4. The active matrix substrate shown in FIGS. 4 and 5 has a configuration in which one liquid crystal domain is formed in the transmissive region A (that is, the number of openings 214 and notches 213 is small). Although different from the active matrix substrate shown in FIG. 3, other configurations may be the same, and common components are denoted by common reference numerals.

図4および図5に示すアクティブマトリクス基板は、例えばガラス基板からなる透明基板210aを有し、透明基板210a上には、ゲート信号線2およびソース信号線3が互いに直交するように設けられている。これらの信号配線2および3の交差部の近傍にTFT4を設けられており、TFT4のドレイン電極5は画素電極211に接続されている。   The active matrix substrate shown in FIGS. 4 and 5 includes a transparent substrate 210a made of, for example, a glass substrate, and the gate signal line 2 and the source signal line 3 are provided on the transparent substrate 210a so as to be orthogonal to each other. . A TFT 4 is provided in the vicinity of the intersection of these signal lines 2 and 3, and the drain electrode 5 of the TFT 4 is connected to the pixel electrode 211.

画素電極211は、ITOなどの透明導電層から形成された透明電極211aと、Alなどから形成された反射電極211bとを有し、透明電極211aが透過領域Aを規定し、反射電極211bが反射領域Bを規定する。なお、必要に応じて反射電極211b上に透明導電層を形成していても良い。   The pixel electrode 211 includes a transparent electrode 211a formed from a transparent conductive layer such as ITO, and a reflective electrode 211b formed from Al or the like. The transparent electrode 211a defines the transmission region A, and the reflective electrode 211b reflects. Region B is defined. Note that a transparent conductive layer may be formed over the reflective electrode 211b as necessary.

画素電極211は、層間絶縁膜215上に形成されており、画素電極211(透明電極211a)は、層間絶縁膜215のコンタクトホール29内に形成されたコンタクト部211cで、ドレイン電極5に接続された接続電極25と接続されている。反射電極211bは透明電極211aに接続されている。   The pixel electrode 211 is formed on the interlayer insulating film 215, and the pixel electrode 211 (transparent electrode 211 a) is connected to the drain electrode 5 at a contact portion 211 c formed in the contact hole 29 of the interlayer insulating film 215. The connection electrode 25 is connected. The reflective electrode 211b is connected to the transparent electrode 211a.

なお、図5に示したように、画素電極211は、層間絶縁膜215に形成された溝構造体215aの斜面上にも延設されてもよいし、溝構造体215aの斜面上にまで延設しなくてもよい。   As shown in FIG. 5, the pixel electrode 211 may also be extended on the slope of the groove structure 215a formed in the interlayer insulating film 215, or may extend to the slope of the groove structure 215a. It does not have to be installed.

画素電極211の所定の領域には、上述したように軸対称配向ドメインの配向を制御するために切欠き部213および開口部214が設けられている。なお、接続電極25は、ゲート絶縁膜9を介して対向するように設けられた補助容量配線(補助容量電極)30と補助容量を構成する。補助容量配線は、例えば、反射電極211bの下部にゲート信号配線2と平行に設けられる。補助容量配線30には、例えば、カラーフィルタ側基板に設けられる対向電極と同じ信号(共通信号)が与えられる。ここでは、補助容量配線30を反射電極211bの下側に設けたが、透過領域Aと反射領域Bとの境界に補助容量配線30を設け、透過領域Aと反射領域Bとの境界に配置される溝構造体215aの近傍からの光漏れを抑制するようにしてもよい。   In a predetermined region of the pixel electrode 211, as described above, the notch 213 and the opening 214 are provided in order to control the orientation of the axially symmetric orientation domain. The connection electrode 25 constitutes an auxiliary capacitance with the auxiliary capacitance wiring (auxiliary capacitance electrode) 30 provided so as to face each other with the gate insulating film 9 interposed therebetween. For example, the auxiliary capacitance line is provided in parallel with the gate signal line 2 below the reflective electrode 211b. For example, the auxiliary capacitor wiring 30 is supplied with the same signal (common signal) as that of the counter electrode provided on the color filter side substrate. Here, the auxiliary capacitance line 30 is provided below the reflective electrode 211b. However, the auxiliary capacitance line 30 is provided at the boundary between the transmission region A and the reflection region B, and is arranged at the boundary between the transmission region A and the reflection region B. Light leakage from the vicinity of the groove structure 215a may be suppressed.

本実施形態の半透過型液晶表示装置の反射電極211bは、凹凸形状の表面を有しており、優れた拡散反射特性を有している。反射電極211bの表面の凹凸形状は、層間絶縁膜215の表面に形成された凹凸形状を反映したものである。   The reflective electrode 211b of the transflective liquid crystal display device of this embodiment has an uneven surface, and has excellent diffuse reflection characteristics. The uneven shape on the surface of the reflective electrode 211 b reflects the uneven shape formed on the surface of the interlayer insulating film 215.

層間絶縁膜215には、溝構造体215aが形成されており、さらに、表面が実質的に平坦な領域(「第1領域」ということがある)と、表面が凹凸形状を有する領域(「第2領域」ということがある)とを有している。表面が平坦な第1領域上には透明電極211aが形成され、凹凸を有する第2領域上には反射電極211bが形成される。溝構造体215aと、表面に凹凸形状を有する領域215cとを備える層間絶縁膜215は、後述するように、単一の感光性樹脂膜から一連のフォトリソグラフィプロセスで形成することが可能であり、従来よりも簡便なプロセスで製造することができる。   In the interlayer insulating film 215, a groove structure 215a is formed, and further, a region having a substantially flat surface (sometimes referred to as “first region”) and a region having a concavo-convex shape (“first region”). 2 areas). A transparent electrode 211a is formed on the first region having a flat surface, and a reflective electrode 211b is formed on the second region having irregularities. The interlayer insulating film 215 including the groove structure 215a and the region 215c having an uneven shape on the surface can be formed from a single photosensitive resin film by a series of photolithography processes, as will be described later. It can be manufactured by a simpler process than before.

画素電極211は次段のゲート信号線2上にゲート絶縁膜9を介して重畳させている。また、TFT4はゲート信号線2から分岐したゲート電極10の上部にゲート絶縁膜9、半導体層12、チャネル保護層13およびn+−Si層11(ソース・ドレイン電極)が積層された構造を有している。 The pixel electrode 211 is superimposed on the gate signal line 2 in the next stage via the gate insulating film 9. The TFT 4 has a structure in which a gate insulating film 9, a semiconductor layer 12, a channel protective layer 13, and an n + -Si layer 11 (source / drain electrodes) are stacked on the gate electrode 10 branched from the gate signal line 2. doing.

なお、ここではボトムゲート型のTFTの構成例を示したが、これに限られず、トップゲート型のTFTを用いることもできる。また、TFT以外のスイッチング素子(例えばMIM)を用いることもできる。   Note that although a configuration example of a bottom-gate TFT is shown here, the present invention is not limited to this, and a top-gate TFT can also be used. In addition, a switching element (for example, MIM) other than the TFT can be used.

上述したように、図3に示した構成を有する液晶表示装置200は、液晶表示装置100と同様に、片側の基板上にのみ軸対称配向の配向規制構造(画素電極211に形成された切欠き部213、開口部214および溝構造体215a)を設けた比較的簡単な構成で、液晶の配向を十分に安定化できるという効果を有する。なお、図2Cに示した透過型液晶表示装置100’のように、半透過型液晶表示装置200においても、対向基板側に配向規制構造を設けることによって、配向をさらに安定化することができる。但し、上述した理由から、対向基板に設ける配向規制構造は、軸対称配向の中心軸を固定するための開口部だけにすることが好ましい。   As described above, the liquid crystal display device 200 having the configuration shown in FIG. 3 is similar to the liquid crystal display device 100 in that the alignment regulating structure (notch formed in the pixel electrode 211) has an axially symmetric orientation only on one substrate. With a relatively simple configuration provided with the portion 213, the opening 214, and the groove structure 215a), the liquid crystal alignment can be sufficiently stabilized. Note that, in the transflective liquid crystal display device 200 as in the transmissive liquid crystal display device 100 ′ illustrated in FIG. 2C, the alignment can be further stabilized by providing the alignment regulating structure on the counter substrate side. However, for the reasons described above, it is preferable that the orientation regulating structure provided on the counter substrate is only an opening for fixing the central axis of the axially symmetric orientation.

さらに、液晶表示装置200は、透明誘体層234および/またはカラーフィルタ層230を上述のように構成することによって、透過モードおよび反射モードでの表示の明るさや色純度を向上することができる。   Furthermore, the liquid crystal display device 200 can improve display brightness and color purity in the transmissive mode and the reflective mode by configuring the transparent attractant layer 234 and / or the color filter layer 230 as described above.

次に、図6を参照しながら、溝構造体215aの表示領域内における全体的な配置の例を説明する。   Next, an example of the overall arrangement of the groove structure 215a in the display area will be described with reference to FIG.

透明基板210a上のほぼ全面に亘って層間絶縁膜215aが形成されている。層間絶縁膜215は、上述したように、透明基板210a上に形成されている回路要素(TFTやゲート信号配線、ソース信号配線など)を覆うように形成されており、層間絶縁膜215上に形成される画素電極211とTFTのドレイン電極とを電気的に接続するためのコンタクトホールを除いて、ほぼ全面に形成されている。溝構造体215aは、少なくともマトリクス状に配置された画素電極211の周辺に配置され、ここでは、互いに交差する溝(一方はソース信号配線に平行に配置され、他方はゲート信号配線と平行に配置される)が一体に形成された格子状の溝構造体215aが設けられている。図6には示していないが、上述したように、透明電極211aと反射電極211bとの境界にも溝構造体215aを配置してもよい。このように画素内に溝構造体215aを配置する場合、溝構造体215aの近傍からの光漏れを抑制するために、補助容量配線などの金属配線の上に配置することが好ましい。   An interlayer insulating film 215a is formed over almost the entire surface of the transparent substrate 210a. As described above, the interlayer insulating film 215 is formed so as to cover circuit elements (TFT, gate signal wiring, source signal wiring, etc.) formed on the transparent substrate 210a, and is formed on the interlayer insulating film 215. The pixel electrode 211 and the drain electrode of the TFT are formed on almost the entire surface except for a contact hole for electrically connecting the pixel electrode 211 to the TFT drain electrode. The groove structure 215a is disposed at least around the pixel electrodes 211 arranged in a matrix, and here, the grooves intersecting each other (one is disposed in parallel with the source signal wiring and the other is disposed in parallel with the gate signal wiring). ) Is integrally formed with a grid-like groove structure 215a. Although not shown in FIG. 6, as described above, the groove structure 215a may also be disposed at the boundary between the transparent electrode 211a and the reflective electrode 211b. When the groove structure 215a is arranged in the pixel as described above, it is preferable to arrange the groove structure 215a on a metal wiring such as an auxiliary capacitance wiring in order to suppress light leakage from the vicinity of the groove structure 215a.

層間絶縁膜215の厚さは、2.0μm以上3.5μm以下であることが好ましく、溝構造体215aの十分な配向規制力を得るために、その深さは0.5μm以上あることが好ましい。また、ソース信号配線やゲート信号配線上の層間絶縁膜215の厚さを2.0μm以上とすれば、溝構造体215aの傾斜側面に画素電極211を延設しても、これらの信号線と画素電極との間に形成される寄生容量を十分に小さくすることができ、表示に悪影響を及ぼすことがないので好ましい。また、溝構造体215aの傾斜側面の角度(基板表面に対する角度)は、5°以上70°以下であることが好ましく、この角度範囲であれば、表面に垂直配向膜を安定に成膜して、しかも、電圧印加時に液晶分子を効果的に傾斜配向させることができるようになる。   The thickness of the interlayer insulating film 215 is preferably 2.0 μm or more and 3.5 μm or less, and the depth is preferably 0.5 μm or more in order to obtain a sufficient alignment regulating force of the groove structure 215a. . Further, if the thickness of the interlayer insulating film 215 on the source signal wiring and the gate signal wiring is 2.0 μm or more, even if the pixel electrode 211 extends on the inclined side surface of the trench structure 215a, This is preferable because the parasitic capacitance formed between the pixel electrode and the pixel electrode can be sufficiently reduced and does not adversely affect the display. In addition, the angle of the inclined side surface of the groove structure 215a (angle with respect to the substrate surface) is preferably 5 ° or more and 70 ° or less, and within this angle range, a vertical alignment film can be stably formed on the surface. In addition, the liquid crystal molecules can be effectively tilted and aligned when a voltage is applied.

次に、図7を参照しながら、溝構造体215aを有する層間絶縁膜215の形成方法を詳細に説明する。なお、図7において、透明基板210aおよびその上に形成されたTFT、信号配線などの回路要素をまとめて「回路基板210A」と呼ぶことにする。   Next, a method for forming the interlayer insulating film 215 having the groove structure 215a will be described in detail with reference to FIG. In FIG. 7, the transparent substrate 210a and circuit elements such as TFTs and signal wirings formed thereon are collectively referred to as “circuit substrate 210A”.

まず、図7(a)に示すように、TFTなどの所定の回路要素が形成された回路基板210Aを用意し、回路要素を覆うように、ポジ型の感光性樹脂膜(例えば、東京応化社製、OFPR−800)を形成する。感光性樹脂膜の厚さは例えば4.5μmである。   First, as shown in FIG. 7A, a circuit board 210A on which predetermined circuit elements such as TFTs are formed is prepared, and a positive photosensitive resin film (for example, Tokyo Ohka Co., Ltd.) is provided so as to cover the circuit elements. Manufactured, OFPR-800). The thickness of the photosensitive resin film is, for example, 4.5 μm.

次に、図7(b)に示すように、感光性樹脂膜を露光する。このとき、露光量が互いに異なる所定の領域を形成する。すなわち、溝構造体215aとなる領域(例えば、ソース信号配線やゲート信号配線などによって遮光される領域)、表面に凹凸を形成する領域(反射電極を形成する領域)、コンタクトホールを形成する領域毎に露光量を変える。   Next, as shown in FIG. 7B, the photosensitive resin film is exposed. At this time, predetermined regions having different exposure amounts are formed. That is, for each region to be a trench structure 215a (for example, a region shielded from light by a source signal wiring or a gate signal wiring), a region for forming unevenness on a surface (a region for forming a reflective electrode), and a region for forming a contact hole Change the exposure amount.

具体的には、反射領域に形成する凸部(凹凸表面の内の凸部)に対応する位置および透過領域に形成する平坦部に対応する位置に遮光部52aを有し、溝構造体215aに対応する位置および反射領域に形成する凹部を含む他の領域が透光部52bであるフォトマスク52を介して、感光性樹脂膜215を露光する。反射領域に形成する凸部に対応する遮光部52aの形状は、例えば、円形状あるいは多角形であり、所定の中心間隔(5〜30μm)と所定の密度でランダムに配置されている。凸部の配置は干渉色を発生しない程度にランダムであれば良い。光源としては、例えば超高圧水銀灯(例えば、i線の照度:20〜50mW)を用い、均一に露光する(照射時間:1〜4秒)。露光量は例えば、20〜100mJ/cm2程度が好ましい。また、透過部52bの透過率を調整することによって、溝構造体215aを形成する位置の露光量と反射領域に形成する凹部に対応する位置の露光量とを異ならせることが好ましい。例えば、反射領域の凹部に対応する位置の露光量をi線換算で50mJ/cm2程度の比較的低い露光量とし、溝構造体を形成する位置の露光量を100mJ/cm2程度以上とすることによって、反射領域に形成する凹部よりも深い溝構造体を形成することができる。 Specifically, the light shielding portion 52a is provided at a position corresponding to the convex portion (the convex portion of the concavo-convex surface) formed in the reflection region and at a position corresponding to the flat portion formed in the transmission region, and the groove structure 215a The photosensitive resin film 215 is exposed through the photomask 52 in which the corresponding position and the other region including the concave portion formed in the reflection region are the light transmitting portions 52b. The shape of the light-shielding part 52a corresponding to the convex part formed in the reflection region is, for example, a circular shape or a polygonal shape, and is randomly arranged with a predetermined center interval (5 to 30 μm) and a predetermined density. The arrangement of the convex portions may be random as long as no interference color is generated. As the light source, for example, an ultrahigh pressure mercury lamp (for example, illuminance of i-line: 20 to 50 mW) is used, and exposure is performed uniformly (irradiation time: 1 to 4 seconds). For example, the exposure amount is preferably about 20 to 100 mJ / cm 2 . In addition, it is preferable that the exposure amount at the position where the groove structure 215a is formed differs from the exposure amount at the position corresponding to the concave portion formed in the reflection region by adjusting the transmittance of the transmission part 52b. For example, the exposure amount at the position corresponding to the concave portion of the reflection region is set to a relatively low exposure amount of about 50 mJ / cm 2 in terms of i-line, and the exposure amount at the position where the groove structure is formed is set to about 100 mJ / cm 2 or more. Accordingly, it is possible to form a groove structure deeper than the concave portion formed in the reflective region.

次に、図7(c)に示すように、コンタクトホール部に対応した透光部62bを有し、他を遮光部62aとするフォトマスク62を用いて均一に露光する(照射時間:10〜15秒)。露光量は、例えば、200〜500mJ/cm2程度が好ましい。 Next, as shown in FIG. 7C, uniform exposure is performed using a photomask 62 having a light transmitting portion 62b corresponding to the contact hole portion and the other being a light shielding portion 62a (irradiation time: 10 to 10). 15 seconds). The amount of exposure is preferably about 200 to 500 mJ / cm 2 , for example.

次に、図7(d)に示すように、例えば、TMAH(テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド)系現像液を用いて所定の条件にて現像処理を行う。例えば、高露光量の領域の樹脂膜が完全除去され(コンタクトホールが形成され)、未露光領域の樹脂膜では約90%が残膜し(平坦部および凸部が形成され)、低露光領域の樹脂膜では約40%が残膜する(溝構造体215aおよび反射領域に形成する凹部が形成される)。   Next, as shown in FIG. 7D, for example, development processing is performed under predetermined conditions using a TMAH (tetramethylammonium hydroxide) developer. For example, the resin film in the high exposure region is completely removed (contact holes are formed), and about 90% of the resin film in the unexposed region remains (flat portions and convex portions are formed), and the low exposure region About 40% of the resin film remains (the groove structure 215a and the recess formed in the reflective region are formed).

更に、図7(e)に示すように、必要に応じて、乾燥と焼成を行う。焼成は、例えば200℃で行われる。焼成を行うことによって、複数の微細な凸部を形成された反射領域215c’の樹脂が熱ダレ現象などによって、滑らかな凹凸形状215cが得られる。反射電極211bの表面を滑らかな凹凸形状とすることによって、干渉色の発生が抑制された良好な拡散反射特性を得ることができる。   Further, as shown in FIG. 7E, drying and baking are performed as necessary. Firing is performed at 200 ° C., for example. By performing the baking, a smooth uneven shape 215c is obtained due to a thermal sag phenomenon or the like of the resin in the reflective region 215c 'formed with a plurality of fine protrusions. By making the surface of the reflective electrode 211b smooth and uneven, it is possible to obtain good diffuse reflection characteristics in which the generation of interference colors is suppressed.

このように、感光性樹脂膜215にし対して、連続した一括露光工程を行い、その後の現像工程を行うことにより、溝構造体215aおよび、微細凹凸形状を有する領域215cとコンタクトホール29を有する層間絶縁膜215が得られる。   In this way, a continuous batch exposure process is performed on the photosensitive resin film 215, and a subsequent development process is performed, so that the groove structure 215a and the interlayer 215c having the fine unevenness and the contact hole 29 are provided. An insulating film 215 is obtained.

なお、上記の露光工程では、透光部と遮光部とを有するフォトマスクを用いて、領域毎に照射時間を調節することによって露光量が異なる領域を形成する方法を説明したが、連続的に変化する濃淡パターンを有するグレースケールマククを用いて露光することによって、形状が連続的に変化する表面を有する層間絶縁膜を形成することもできる。   In the above exposure process, the method of forming regions with different exposure amounts by adjusting the irradiation time for each region using a photomask having a light transmitting portion and a light shielding portion has been described. An interlayer insulating film having a surface whose shape continuously changes can also be formed by performing exposure using a grayscale mask having a changing shading pattern.

さらに、露光工程において、溝構造体を形成する領域のみを遮光部とする第3のフォトマスクを用い、コンタクトホールを形成するための露光工程の前に、溝構造体形成のための露光を連続して行うことも可能である。   Further, in the exposure process, a third photomask having only a region where the groove structure is to be formed as a light shielding portion is used, and the exposure for forming the groove structure is continuously performed before the exposure process for forming the contact hole. It is also possible to do this.

次に、図7(f)に示すように、上述したような工程を経て得られた層間絶縁膜215上に、画素電極211を形成する。例えば、透明電極211aは、透明導電膜(例えば、ITO膜など)をスパッタリング法で所定の膜厚(例えば100nm)に堆積し、パターニングすることによって得られる。反射電極211bは、反射電極膜(例えばAl薄膜など)をスパッタリング法で所定の膜厚(例えば180nm)に堆積し、パターニングすることによって形成される。それぞれの電極211aおよび211bを形成する際に、開口部および/または切欠き部を形成する。   Next, as shown in FIG. 7F, a pixel electrode 211 is formed on the interlayer insulating film 215 obtained through the above-described steps. For example, the transparent electrode 211a is obtained by depositing and patterning a transparent conductive film (for example, an ITO film) to a predetermined film thickness (for example, 100 nm) by a sputtering method. The reflective electrode 211b is formed by depositing a reflective electrode film (for example, an Al thin film) to a predetermined film thickness (for example, 180 nm) by sputtering and patterning. When forming each electrode 211a and 211b, an opening part and / or a notch part are formed.

なお、本実施形態によると、層間絶縁膜層215aに溝構造体215aと反射電極部の微細凹凸形状とが形成され、その上層に画素電極が形成されることから、溝構造体215aの特に画素側の傾斜側面にも画素電極を配置することが可能となる。   According to the present embodiment, the groove structure 215a and the fine uneven shape of the reflective electrode portion are formed in the interlayer insulating film layer 215a, and the pixel electrode is formed on the upper layer, so that the pixel of the groove structure 215a is particularly formed. It is possible to dispose the pixel electrode also on the inclined side surface.

なお、反射電極211b上に、必要に応じて、透明電極膜を形成してもよい。反射電極211b上に透明導電膜を形成することによって、反射領域と透過領域との電位差(電極電位差)のずれを低減することができる。反射電極211b上に形成する透明電極膜の材料は、透明電極211aと同じ材料であることが好ましい。   In addition, you may form a transparent electrode film on the reflective electrode 211b as needed. By forming a transparent conductive film over the reflective electrode 211b, it is possible to reduce a difference in potential difference (electrode potential difference) between the reflective region and the transmissive region. The material of the transparent electrode film formed on the reflective electrode 211b is preferably the same material as the transparent electrode 211a.

上述したように、本実施形態の製造方法によると、単一の感光性樹脂膜に対してフォトリソグラフィプロセスを行うだけで、拡散反射特性を発現するための凹凸や、配向制御構造としての溝構造体を形成することが可能であり、コスト低減が効果的に行える。   As described above, according to the manufacturing method of the present embodiment, the uneven structure for expressing the diffuse reflection characteristics and the groove structure as the orientation control structure can be obtained by simply performing the photolithography process on the single photosensitive resin film. A body can be formed, and cost reduction can be effectively performed.

以下、上述のようにして得られたアクティブマトリクス基板と対向する対向基板(CF基板)に垂直配向膜を所定の条件で成膜した後、シール樹脂を介してこれらを互いに貼り合せ、その間隙に誘電異方性が負の液晶材料の封入することによって、本実施形態の液晶表示装置を得ることができる。これらの工程は公知の方法で実行されるので説明を省略する。   Hereinafter, after forming a vertical alignment film on a counter substrate (CF substrate) facing the active matrix substrate obtained as described above under a predetermined condition, these are bonded to each other through a seal resin, and the gap is formed in the gap. By enclosing a liquid crystal material having a negative dielectric anisotropy, the liquid crystal display device of this embodiment can be obtained. Since these steps are performed by a known method, description thereof is omitted.

なお、ここでは、半透過型液晶表示装置の製造方法の例を説明したが、層間絶縁膜層の形成時に、液晶ドメインの配向規制構造の1つである溝構造体とコンタクトホールなどを一括して連続プロセスにおいて作製する技術は、透過型液晶表示装置や反射型液晶表示装置の場合にももちろん適用でき、従来よりも簡便なプロセスで、コスト低減や作製時のタクトタイムの短縮などの効果を奏する。   Although an example of a method for manufacturing a transflective liquid crystal display device has been described here, a groove structure and a contact hole, which are one of the alignment regulation structures of the liquid crystal domain, are collectively used when forming an interlayer insulating film layer. The technology that is manufactured in a continuous process can also be applied to transmissive liquid crystal display devices and reflective liquid crystal display devices. Of course, this is a simpler process than conventional methods, and has the effect of reducing costs and shortening the tact time during production. Play.

〔動作原理〕
図8を参照しながら、垂直配向型液晶層を有する本発明の実施形態の液晶表示装置が優れた広視野角特性を有する理由を説明する。
〔Operating principle〕
The reason why the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention having the vertical alignment type liquid crystal layer has excellent wide viewing angle characteristics will be described with reference to FIG.

図8は、層間絶縁膜16に形成された溝構造体16aおよび画素電極6に設けた開口部15による配向規制力の作用を説明するための図であり、(a)は電圧無印加時、(b)は電圧印加時の液晶分子の配向状態を模式的に示している。図8(b)に示した状態は中間調を表示している状態である。   FIG. 8 is a diagram for explaining the action of the alignment regulating force due to the groove structure 16a formed in the interlayer insulating film 16 and the opening 15 provided in the pixel electrode 6, and FIG. (B) schematically shows the alignment state of liquid crystal molecules when a voltage is applied. The state shown in FIG. 8B is a state where a halftone is displayed.

図8に示した液晶表示装置は、透明基板1上に、溝構造体16aを有する層間絶縁膜16、開口部15を有する画素電極6、配向膜22をこの順に有している。透明基板1上にはスイッチング素子などの回路要素(不図示)が形成されている。他方の透明基板17上には、カラーフィルタ層18、対向電極19および配向膜32がこの順で形成されている。両基板間に設けられた液晶層20は、負の誘電異方性を有する液晶分子21を含む。   The liquid crystal display device shown in FIG. 8 has, on the transparent substrate 1, an interlayer insulating film 16 having a groove structure 16a, a pixel electrode 6 having an opening 15, and an alignment film 22 in this order. Circuit elements (not shown) such as switching elements are formed on the transparent substrate 1. On the other transparent substrate 17, the color filter layer 18, the counter electrode 19, and the alignment film 32 are formed in this order. The liquid crystal layer 20 provided between the two substrates includes liquid crystal molecules 21 having negative dielectric anisotropy.

図8(a)に示すように、電圧無印加時には、液晶分子21は垂直配向膜22および32の配向規制力により基板表面に対して略垂直に配向する。なお、図8(a)では簡単のために省略しているが、溝構造体16aの傾斜側面による配向規制力によって、その近傍の液晶分子は溝構造体16aの中心線に向かって傾斜するように配向している。溝構造体16aを覆うように垂直配向膜12が形成されているので、液晶分子21は溝構造体16aの傾斜側面に対して垂直に配向するような規制力を受ける。また、開口部15の近傍の液晶分子21も開口部15に対応して形成される段差(配向膜12の表面に形成される段差)による配向規制力を受け、開口部15の中心に向かって僅かに傾斜している。   As shown in FIG. 8A, when no voltage is applied, the liquid crystal molecules 21 are aligned substantially perpendicular to the substrate surface by the alignment regulating force of the vertical alignment films 22 and 32. Although omitted in FIG. 8A for simplicity, liquid crystal molecules in the vicinity of the groove structure 16a are inclined toward the center line of the groove structure 16a due to the alignment regulating force due to the inclined side surface of the groove structure 16a. Oriented. Since the vertical alignment film 12 is formed so as to cover the groove structure 16a, the liquid crystal molecules 21 are subjected to a regulating force that aligns perpendicularly to the inclined side surface of the groove structure 16a. Further, the liquid crystal molecules 21 in the vicinity of the opening 15 are also subjected to the alignment regulating force due to the step formed corresponding to the opening 15 (step formed on the surface of the alignment film 12), and toward the center of the opening 15. Slightly inclined.

一方、電圧印加時には、図8(b)に示すように、誘電異方性が負の液晶分子21は分子長軸が電気力線に対して垂直になろうとするので、開口部15の周辺に形成される斜め電界によって、液晶分子21が倒れる方向が規定されることになる。従って、例えば、開口部15を中心とする軸対称状に配向することになる。この軸対称配向ドメイン内では液晶ダイレクタは全方位(基板面内の方位)に配向しているため、視野角特性が優れる。一方、溝構造体16a上および近傍の液晶分子21は、溝構造体16aの中心線上で基板面に対して垂直に配向する液晶分子21に向かって傾斜する。図8(b)に示した液晶分子21の傾斜方向は、電圧無印加時に溝構造体16aの傾斜側面および開口部15に対応する段差による配向規制力によって規定される傾斜方向と一致している。   On the other hand, when a voltage is applied, as shown in FIG. 8B, the liquid crystal molecules 21 having a negative dielectric anisotropy tend to have the molecular long axis perpendicular to the lines of electric force. The direction in which the liquid crystal molecules 21 are tilted is defined by the formed oblique electric field. Therefore, for example, it is oriented in an axially symmetrical manner with the opening 15 as the center. In this axially symmetric alignment domain, the liquid crystal directors are aligned in all directions (directions in the substrate plane), so that viewing angle characteristics are excellent. On the other hand, the liquid crystal molecules 21 on and in the vicinity of the groove structure 16a are inclined toward the liquid crystal molecules 21 aligned perpendicular to the substrate surface on the center line of the groove structure 16a. The tilt direction of the liquid crystal molecules 21 shown in FIG. 8B coincides with the tilt direction defined by the alignment regulating force due to the step corresponding to the tilted side surface and the opening 15 of the groove structure 16a when no voltage is applied. .

ここでは、開口部15の周りに形成される斜め電界の作用を説明したが、画素電極6のエッジ部に形成される切欠き部の近傍においても、同様に斜め電界が形成され、液晶分子21が電界によって傾く方向が規定される。   Here, the action of the oblique electric field formed around the opening 15 has been described, but an oblique electric field is similarly formed in the vicinity of the notch formed at the edge of the pixel electrode 6, and the liquid crystal molecules 21. The direction in which is tilted by the electric field is defined.

次に、図9を参照しながら、本発明による実施形態の液晶表示装置のさらに具体的な構成例を説明する。   Next, a more specific configuration example of the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

図9に示す液晶表示装置は、バックライトと、半透過型液晶パネル50と、半透過型液晶パネル50を介して互いに対向するように設けられた一対の偏光板40および43と、偏光板40および43と液晶パネル50との間に設けられた1/4波長板41および44と、1/4波長板41および44と液晶パネル50との間に設けられた光学異方性が負の位相差板42および45とを有している。液晶パネル50は、透明基板(アクティブマトリクス基板)1と透明基板(対向基板)17との間に垂直配向型液晶層20とを有している。液晶パネル50として、ここでは、図3に示した液晶表示装置200と同様の構成を有するものを用いる。   The liquid crystal display device shown in FIG. 9 includes a backlight, a transflective liquid crystal panel 50, a pair of polarizing plates 40 and 43 provided so as to face each other through the transflective liquid crystal panel 50, and the polarizing plate 40. Quarter wave plates 41 and 44 provided between the liquid crystal panel 50 and the liquid crystal panel 50, and the optical anisotropy provided between the quarter wave plates 41 and 44 and the liquid crystal panel 50 is negative. The phase difference plates 42 and 45 are included. The liquid crystal panel 50 includes a vertical alignment type liquid crystal layer 20 between a transparent substrate (active matrix substrate) 1 and a transparent substrate (counter substrate) 17. Here, a liquid crystal panel 50 having the same configuration as that of the liquid crystal display device 200 shown in FIG. 3 is used.

図9に示した液晶表示装置の表示動作を以下に簡単に説明する。   The display operation of the liquid crystal display device shown in FIG. 9 will be briefly described below.

反射モード表示については、上側からの入射光は偏光板43を通り、直線偏光となる。この直線偏光は、偏光板43の透過軸と1/4波長板44との遅相軸とが45°になるように1/4波長板44に入射すると円偏光となり、基板17上に形成したカラーフィルタ層(不図示)を透過する。なお、ここでは法線方向から入射する光に対して位相差を与えない位相差板45を用いている。   For the reflection mode display, incident light from above passes through the polarizing plate 43 and becomes linearly polarized light. This linearly polarized light becomes circularly polarized light when it enters the quarter wavelength plate 44 so that the transmission axis of the polarizing plate 43 and the slow axis of the quarter wavelength plate 44 are 45 °, and is formed on the substrate 17. It passes through a color filter layer (not shown). Here, a phase difference plate 45 that does not give a phase difference to light incident from the normal direction is used.

電圧無印加時には、液晶層20中の液晶分子は基板面に略垂直に配向しているために入射光は位相差がほぼ0で透過し、下側の基板1に形成した反射電極により反射される。反射された円偏光は再び液晶層20中を通過してカラーフィルタ層を通り、再度、光学異方性が負の位相差板45を円偏光で通り、1/4波長板44を経て、最初に入射して偏光板43を透過した際の偏光方向と直交する偏光方向の直線偏光に変換されて偏光板43に到達するために、光は偏光板43を透過できず黒表示となる。   When no voltage is applied, since the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 20 are aligned substantially perpendicular to the substrate surface, the incident light is transmitted with a phase difference of approximately 0 and is reflected by the reflective electrode formed on the lower substrate 1. The The reflected circularly polarized light passes through the liquid crystal layer 20 again, passes through the color filter layer, passes again through the retardation plate 45 having negative optical anisotropy as circularly polarized light, passes through the quarter-wave plate 44, and then first. The light is converted into linearly polarized light having a polarization direction orthogonal to the polarization direction when passing through the polarizing plate 43 and reaches the polarizing plate 43, so that light cannot pass through the polarizing plate 43 and is displayed in black.

一方、電圧印加時には、液晶層20中の液晶分子は基板面に垂直な方向から水平方向に傾くため、入射した円偏光は液晶層20の複屈折により楕円偏光となり、下側の基板1に形成した反射電極により反射される。反射された光は液晶層20で偏光状態がさらに崩され、再び液晶層20中を通過してカラーフィルタ層を通り、再度、光学異方性が負の位相差板45を通り、1/4波長板44に楕円偏光として入射するため、偏光板43に到達するときに全ての光が入射時の偏光方向と直交した直線偏光とはならず、一部の光が偏光板43を透過する。特に、印加電圧を調節することで液晶分子の傾く方向が制御できて、反射光が偏光板43を透過できる光量が変調され、階調表示が可能となる。   On the other hand, when a voltage is applied, the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 20 are inclined in the horizontal direction from the direction perpendicular to the substrate surface, so that the incident circularly polarized light becomes elliptically polarized light due to the birefringence of the liquid crystal layer 20 and is formed on the lower substrate 1. Reflected by the reflected electrode. The reflected light is further broken in the polarization state by the liquid crystal layer 20, passes through the liquid crystal layer 20 again, passes through the color filter layer, passes through the retardation plate 45 having negative optical anisotropy again, and becomes 1/4. Since the light is incident on the wave plate 44 as elliptically polarized light, all the light does not become linearly polarized light orthogonal to the polarization direction at the time of incidence when reaching the polarizing plate 43, and part of the light is transmitted through the polarizing plate 43. In particular, by adjusting the applied voltage, the direction in which the liquid crystal molecules are tilted can be controlled, and the amount of light that can be reflected by the polarizing plate 43 is modulated, thereby enabling gradation display.

また、透過モードの表示については、上下2枚の偏光板43および偏光板40は各々その透過軸が直交するように配置されており、光源から出射された光は偏光板40で直線偏光となり、この直線偏光は、偏光板40の透過軸と1/4波長板41との遅相軸が45°になるように1/4波長板41に入射すると円偏光になり光学異方性が負の位相差板42を経て下側の基板1の透過領域Aに入射する。なお、ここでは法線方向から入射する光に対して位相差を与えない位相差板42を用いている。   Regarding the display of the transmission mode, the two upper and lower polarizing plates 43 and 40 are arranged so that their transmission axes are orthogonal to each other, and the light emitted from the light source becomes linearly polarized light by the polarizing plate 40, This linearly polarized light becomes circularly polarized light and has a negative optical anisotropy when incident on the ¼ wavelength plate 41 so that the slow axis between the transmission axis of the polarizing plate 40 and the ¼ wavelength plate 41 is 45 °. The light enters the transmission region A of the lower substrate 1 through the phase difference plate 42. Here, a phase difference plate 42 that does not give a phase difference to light incident from the normal direction is used.

電圧無印加時には、液晶層20中の液晶分子は基板面に略垂直に配向しているため、入射光は位相差がほぼ0で透過し、下側の基板1に円偏光の状態で入射し、円偏光の状態で液晶層20および上側の基板17を経て上側の光学異方性が負の位相差板45を透過して1/4波長板44に到る。ここで、下側の1/4波長板41と上側の1/4波長板44の遅相軸が90°交差して配置することで、上側の1/4波長板44からは偏光板40での直線偏光と直交した直線偏光となり、偏光板43で吸収されて黒表示となる。   When no voltage is applied, the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 20 are aligned substantially perpendicular to the substrate surface, so that incident light is transmitted with a phase difference of approximately 0 and is incident on the lower substrate 1 in a circularly polarized state. In the state of circular polarization, the light passes through the liquid crystal layer 20 and the upper substrate 17 and passes through the retardation plate 45 having the negative optical anisotropy to reach the quarter-wave plate 44. Here, the slow axis of the lower ¼ wavelength plate 41 and the upper ¼ wavelength plate 44 intersect each other by 90 °, so that the upper ¼ wavelength plate 44 is separated by the polarizing plate 40. The linearly polarized light is orthogonal to the linearly polarized light, and is absorbed by the polarizing plate 43 to display black.

一方、電圧印加時には、液晶層20中の液晶分子21は基板面に垂直な方向から水平方向に傾くために液晶表示装置への入射した円偏光は液晶層20の複屈折により楕円偏光となり、上側のCF基板16や上側の光学異方性が負の位相差板45および1/4波長板44を楕円偏光として偏光板43に到るために入射時の偏光成分と直交した直線偏光にはならず、偏光板43を通して光が透過する。特に、印加電圧を調節することで液晶分子の傾く方向が制御できて、反射光が偏光板43を透過できる光量が変調され、階調表示が可能となる。   On the other hand, when a voltage is applied, since the liquid crystal molecules 21 in the liquid crystal layer 20 are inclined in the horizontal direction from the direction perpendicular to the substrate surface, the circularly polarized light incident on the liquid crystal display device becomes elliptically polarized light due to the birefringence of the liquid crystal layer 20, and the upper side. Since the CF substrate 16 and the retardation plate 45 and the quarter wavelength plate 44 having negative optical anisotropy on the upper side reach the polarizing plate 43 as elliptically polarized light, the linearly polarized light orthogonal to the polarization component at the time of incidence is not obtained. Instead, light passes through the polarizing plate 43. In particular, by adjusting the applied voltage, the direction in which the liquid crystal molecules are tilted can be controlled, and the amount of light that can be reflected by the polarizing plate 43 is modulated, thereby enabling gradation display.

光学異方性が負の位相差板は液晶分子が垂直配向状態での視野角を変化させた場合の位相差の変化量を最小に抑え、広視野角側での黒浮きを抑える。また、光学異方性が負の位相差板と1/4波長板を一体化させた2軸性位相差板を用いても良い。   A retardation plate having a negative optical anisotropy minimizes the amount of change in retardation when the viewing angle is changed in a vertically aligned state of liquid crystal molecules, and suppresses black floating on the wide viewing angle side. Further, a biaxial retardation plate in which a retardation plate having negative optical anisotropy and a quarter wavelength plate are integrated may be used.

本発明のように電圧無印加時に黒表示を行い、電圧印加時に白表示となるノーマリーブラックモードを軸対称配向ドメインで行った場合、液晶表示装置(パネル)の上下に一対の1/4波長板を設けることによって、偏光板に起因する消光模様を解消させて明るさを改善することも可能となる。また、上下の偏光板の透過軸を互いに直交して配置してノーマリーブラックモードを軸対称配向ドメインで行った場合には、原理的にはクロスニコルに配置した一対の偏光板と同程度の黒表示を実現できることから、極めて高いコントラスト比を実現できると共に、全方位的な配向に導かれた広い視野角特性が達成できる。   When a normally black mode in which black display is performed when no voltage is applied and white display is performed when a voltage is applied as in the present invention is performed in an axially symmetric alignment domain, a pair of quarter wavelengths are formed above and below the liquid crystal display device (panel). By providing the plate, it is possible to improve the brightness by eliminating the extinction pattern caused by the polarizing plate. In addition, when the normally black mode is performed in the axially symmetric alignment domain by arranging the transmission axes of the upper and lower polarizing plates orthogonally to each other, in principle, the same degree as that of a pair of polarizing plates arranged in crossed Nicols. Since a black display can be realized, an extremely high contrast ratio can be realized, and a wide viewing angle characteristic led to an omnidirectional orientation can be achieved.

以下に、本発明に関しての具体例を記載して説明する。   Below, the specific example regarding this invention is described and demonstrated.

(実施例)
図6示した構成を有するアクティブマトリクス基板と、対向側にはカラーフィルタ層、透明誘電体層234層、対向電極が積層されたカラーフィルタ基板を配置して液晶表示装置を構成した。
(Example)
A liquid crystal display device was configured by arranging an active matrix substrate having the configuration shown in FIG. 6 and a color filter substrate in which a color filter layer, a transparent dielectric layer 234 layer, and a counter electrode were laminated on the opposite side.

なお、本実施例のアクティブマトリクス基板の製造プロセスにおいて、溝構造体を有する層間絶縁膜は、上述したプロセスで、以下の露光条件で形成した。   In the manufacturing process of the active matrix substrate of this example, the interlayer insulating film having the groove structure was formed by the above-described process under the following exposure conditions.

ポジ型感光性樹脂膜に凹凸形状および溝構造体を形成するための第1露光工程は、第1のフォトマスク52を用いて、低露光量条件(80mJ/cm2)で実行し、コンタクトホールを形成するための第2露光工程は、第2のフォトマスク62を用いて高露光量条件(350mJ/cm2)で実行した。この後、上述した一連の工程を実行することにより、本実施例のアクティブマトリクス基板を得た。 The first exposure step for forming the concavo-convex shape and the groove structure on the positive photosensitive resin film is performed using the first photomask 52 under the low exposure amount condition (80 mJ / cm 2 ), and the contact hole The second exposure step for forming the film was performed using the second photomask 62 under a high exposure amount condition (350 mJ / cm 2 ). Then, the active matrix substrate of the present example was obtained by executing the series of steps described above.

一方、カラーフィルタ基板は、反射領域に透明誘電体層の段差を配置し、表示画素外の遮光層部に液晶層厚を規定するために設けた支持体(誘電体)を形成した。   On the other hand, in the color filter substrate, a step of the transparent dielectric layer is arranged in the reflection region, and a support (dielectric) provided to define the liquid crystal layer thickness in the light shielding layer portion outside the display pixel is formed.

アクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板に垂直配向膜を所定の条件で形成した(ラビング処理は施さない)後、互いの基板をシール樹脂を介して貼り合わせ、誘電率異方性が負の液晶材料(屈折率異方性Δn;0.1、誘電率異方性Δε;−4.5)を注入、封止して液晶表示パネルを作製した。本実施例では、透過領域の液晶層厚dtを4μm、反射領域の液晶層厚drを2.1μmとした。   After forming a vertical alignment film on the active matrix substrate and the color filter substrate under predetermined conditions (no rubbing treatment), the substrates are bonded together with a seal resin, and a liquid crystal material having a negative dielectric anisotropy ( Refractive index anisotropy Δn; 0.1 and dielectric anisotropy Δε; −4.5) were injected and sealed to prepare a liquid crystal display panel. In this example, the liquid crystal layer thickness dt in the transmissive region was 4 μm, and the liquid crystal layer thickness dr in the reflective region was 2.1 μm.

次いで、この液晶表示パネルの両面に以下の用に光学フィルムを配置し、液晶表示装置を得た。   Subsequently, an optical film was disposed on both sides of the liquid crystal display panel for the following, to obtain a liquid crystal display device.

本実施例の液晶表示装置の構成は、観察者側から順に偏光板(観察側)、1/4波長板(位相差板1)、光学異方性が負の位相差板(位相差板2(NR板))、液晶層(上側;カラーフィルタ基板、下側;アクティブマトリクス基板)、光学異方性が負の位相差板(位相差板3(NR板))、1/4波長板(位相差板4)、偏光板(バックライト側)の積層構造とした。なお、液晶層の上下の1/4波長板(位相差板1と位相差板4)では互いの遅相軸を直交させ、各々の位相差を140nmとした。光学異方性が負の位相差板(位相差板2と位相差板3)は各々の位相差を135nmとした。また、2枚の偏光板(観察側、バックライト側)では、吸収軸を直交させて配置した。   The configuration of the liquid crystal display device of the present embodiment includes a polarizing plate (observation side), a quarter-wave plate (retardation plate 1), and a retardation plate with negative optical anisotropy (retardation plate 2) in this order from the viewer side. (NR plate)), liquid crystal layer (upper side: color filter substrate, lower side: active matrix substrate), retardation plate with negative optical anisotropy (retardation plate 3 (NR plate)), quarter wavelength plate ( The phase difference plate 4) and the polarizing plate (backlight side) were laminated. In addition, in the upper and lower quarter-wave plates (the phase difference plate 1 and the phase difference plate 4) of the liquid crystal layer, their slow axes were orthogonal to each other, and each phase difference was set to 140 nm. Retardation plates having negative optical anisotropy (retardation plate 2 and retardation plate 3) each have a retardation of 135 nm. The two polarizing plates (observation side and backlight side) were arranged with their absorption axes orthogonal to each other.

得られた液晶表示装置に駆動信号を印加(液晶層に4V印加)して、表示特性を評価した。   A drive signal was applied to the obtained liquid crystal display device (4 V was applied to the liquid crystal layer) to evaluate display characteristics.

透過表示での視角−コントラストの特性結果を図10に示す。透過表示での視野角特性はほぼ、全方位的で対称な特性を示し、CR>10の領域は±80°と良好であり、透過コントラストも正面で300:1以上と高いものであった。   A viewing angle-contrast characteristic result in the transmissive display is shown in FIG. The viewing angle characteristics in the transmissive display are almost omnidirectional and symmetric, the CR> 10 region is as good as ± 80 °, and the transmissive contrast is as high as 300: 1 or more in the front.

一方、反射表示の特性は、分光測色計(ミノルタ社製CM2002)で評価し、標準拡散板を基準にして約8.6%(開口率100%換算値)、反射表示のコントラスト値は21であり、従来の液晶表示装置に比べて高いコントラストを示し良好であった。   On the other hand, the characteristics of the reflective display are evaluated by a spectrocolorimeter (CM 2002 manufactured by Minolta Co., Ltd.), about 8.6% (converted value of aperture ratio 100%) based on the standard diffusion plate, and the contrast value of the reflective display is 21. Therefore, the contrast was high as compared with the conventional liquid crystal display device.

(比較例)
実施例の液晶パネルと同様の構成を有する液晶パネルを用いてECBモードのホモジニアス配向の液晶表示パネルを作製した。比較例の液晶パネルには、溝構造体や、画素電極の開口部または切欠き部を形成していない。また、比較例の液晶パネルは、実施例の液晶パネルの垂直配向膜に代えて水平配向膜を用い、液晶層には、誘電率異方性が正の液晶材料(Δn;0.07、Δε;8.5)を注入し、ホモジニアス配向の液晶層を形成した。透過領域の液晶層厚dtを4.3μm、反射領域の液晶層厚drを2.3μmとした。
(Comparative example)
An ECB mode homogeneous alignment liquid crystal display panel was manufactured using a liquid crystal panel having the same configuration as the liquid crystal panel of the example. In the liquid crystal panel of the comparative example, the groove structure and the opening or notch of the pixel electrode are not formed. In addition, the liquid crystal panel of the comparative example uses a horizontal alignment film instead of the vertical alignment film of the liquid crystal panel of the embodiment, and the liquid crystal layer has a liquid crystal material (Δn; 0.07, Δε having positive dielectric anisotropy). 8.5) was injected to form a homogeneously oriented liquid crystal layer. The liquid crystal layer thickness dt in the transmissive region was 4.3 μm, and the liquid crystal layer thickness dr in the reflective region was 2.3 μm.

この液晶表示パネルの両面に偏光板、1/4波長板などの位相差板を含む複数の光学層から形成された光学フィルムを配置して比較例の液晶表示装置を得た。   A liquid crystal display device of a comparative example was obtained by arranging optical films formed of a plurality of optical layers including retardation plates such as polarizing plates and quarter-wave plates on both surfaces of the liquid crystal display panel.

この比較例の液晶表示装置に駆動信号を印加(液晶層に4V印加)して実施例と同じ評価方法に従って表示特性を評価した。   A drive signal was applied to the liquid crystal display device of this comparative example (4 V was applied to the liquid crystal layer), and display characteristics were evaluated according to the same evaluation method as in the example.

透過表示での視野角特性はCR>10の領域は±30°となり、階調反転も顕著であった。また、透過コントラストは140:1であった。一方、反射表示の特性は、標準拡散板を基準にして約9.3%(開口率100%換算値)、反射表示のコントラスト値は8であり、表示画像は垂直モードの実施例に比べて白ボケした低いコントラストであった。   The viewing angle characteristics in transmissive display were ± 30 ° in the region of CR> 10, and the gradation inversion was significant. The transmission contrast was 140: 1. On the other hand, the characteristics of the reflective display are about 9.3% (value converted to 100% aperture ratio) with respect to the standard diffusion plate, the contrast value of the reflective display is 8, and the display image is compared with the embodiment in the vertical mode. White contrast was low and blurred.

このように、本発明の実施形態による液晶表示装置は、従来のホモジニアス配向の液晶表示装置や従来から公知の技術と比較して、垂直配向モードを透過表示および反射表示に適用したことで透過および反射の両表示においても良好なコントラスト比が得られる。   As described above, the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention has a transmissive and reflective display by applying the vertical alignment mode to the transmissive display and the reflective display as compared with the conventional homogeneous liquid crystal display device and the conventionally known technology. A good contrast ratio can be obtained in both reflection displays.

さらに、本発明の実施形態では、片側の基板(例示ではアクティブマトリクス基板)にのみ液晶ドメイン配向の規制構造(溝構造体および開口部または切欠き部)を配置させ、しかも、溝構造体を層間絶縁膜層に、反射部の微細凹凸形状形成やコンタクトホール形成工程と一括で連続形成することができるので、製造プロセスを簡略化することができる。また、溝構造体や開口部または切欠き部の配向規制力によって、ラビングレス工程で電圧印加時に液晶分子が倒れる方向を規制することが可能である。また、本発明の実施形態で例示したように、液晶ドメインの配向規制構造を設けることによって、電圧印加時に軸対称配向を呈する液晶ドメインが画素毎に複数形成されるので、全方位的に広い視野角特性が実現できる。   Furthermore, in the embodiment of the present invention, the restriction structure (groove structure and opening or notch) of the liquid crystal domain alignment is disposed only on one side substrate (illustratively, active matrix substrate), and the groove structure is disposed between Since the insulating film layer can be continuously formed in a batch with the formation of the fine irregularities of the reflecting portion and the contact hole forming step, the manufacturing process can be simplified. Further, the direction in which the liquid crystal molecules fall when a voltage is applied in the rubbing-less process can be regulated by the alignment regulating force of the groove structure, the opening, or the notch. In addition, as exemplified in the embodiment of the present invention, by providing a liquid crystal domain alignment regulating structure, a plurality of liquid crystal domains that exhibit axial symmetry when a voltage is applied are formed for each pixel. Angular characteristics can be realized.

上述したように、本発明による液晶表示装置は、優れた表示品位の液晶表示装置を比較的簡単な構成で実現できる。本発明は、透過型液晶表示装置および半透過型(透過・反射両用)型液晶表示装置に好適に適用される。特に、半透過型液晶表示装置は、携帯電話などのモバイル機器の表示装置として好適に利用される。   As described above, the liquid crystal display device according to the present invention can realize a liquid crystal display device with excellent display quality with a relatively simple configuration. The present invention is suitably applied to a transmissive liquid crystal display device and a transflective (transmission / reflection) liquid crystal display device. In particular, the transflective liquid crystal display device is suitably used as a display device for mobile devices such as mobile phones.

本発明による実施形態の透過型液晶表示装置100の1つの画素の構成を模式的に示す図であり、(a)は、平面図であり、(b)は図1(a)中の1B−1B’線に沿った断面図である。It is a figure which shows typically the structure of one pixel of the transmissive liquid crystal display device 100 of embodiment by this invention, (a) is a top view, (b) is 1B- in FIG. 1 (a). It is sectional drawing along a 1B 'line. 本発明による実施形態の他の透過型液晶表示装置のアクティブマトリクス基板の構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the structure of the active matrix substrate of the other transmissive liquid crystal display device of embodiment by this invention. 図2Aに示したアクティブマトリクス基板の構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure of the active matrix substrate shown to FIG. 2A. 本発明による実施形態の他の透過型液晶表示装置の構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure of the other transmissive liquid crystal display device of embodiment by this invention. 本発明による実施形態の半透過型液晶表示装置200の1つの画素の構成を模式的に示す図であり、(a)は平面図であり、(b)は図3(a)中の3B−3B’線に沿った断面図である。It is a figure which shows typically the structure of one pixel of the transflective liquid crystal display device 200 of embodiment by this invention, (a) is a top view, (b) is 3B- in FIG. 3 (a). It is sectional drawing along line 3B '. 本発明による実施形態の半透過型液晶表示装置のアクティブマトリクス基板の構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the structure of the active matrix substrate of the transflective liquid crystal display device of embodiment by this invention. 図4に示したアクティブマトリクス基板を備える液晶表示装置の構成を模式的に示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration of a liquid crystal display device including the active matrix substrate illustrated in FIG. 4. 本発明による実施形態の半透過型液晶表示装置における溝構造体の表示領域内における全体的な配置の例を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically the example of the whole arrangement | positioning in the display area of the groove structure in the transflective liquid crystal display device of embodiment by this invention. (a)から(f)は、アクティブマトリクス基板の製造方法を説明するための模式図である。(A) to (f) are schematic views for explaining a method of manufacturing an active matrix substrate. 本発明による実施形態の液晶表示装置の動作原理を説明する概略図であり、(a)は電圧無印加時、(b)電圧印加時をそれぞれ示す。It is the schematic explaining the operation | movement principle of the liquid crystal display device of embodiment by this invention, (a) shows the time at the time of no voltage application, and (b) at the time of voltage application, respectively. 本発明による実施形態の液晶表示装置の構成一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of a structure of the liquid crystal display device of embodiment by this invention. 本発明による実施例の液晶表示装置の視角−コントラスト比特性を示す図である。It is a figure which shows the viewing angle-contrast ratio characteristic of the liquid crystal display device of the Example by this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 TFT(アクティブマトリクス)基板
2 ゲート信号線
3 ソース信号線
4 TFT
5 ドレイン電極
6 画素電極
7 透明電極
8 反射電極
9 ゲート絶縁膜
10 ゲート電極
11 ソース・ドレイン電極(n+−Si層)
12 半導体層
13 チャンネル保護層
15 開口部
16 層間絶縁膜
16a 溝構造体
17 透明基板(対向(CF)基板)
18 カラーフィルタ層
19 対向電極
20 液晶層
21 液晶分子
22、32 配向膜
29 コンタクトホール
50 液晶パネル
40、43 偏光板
41、44 1/4波長版
42、45 光学異方性が負の位相差板(NR板)
100、100’ 透過型液晶表示装置
110a アクティブマトリクス基板
110b 対向基板(カラーフィルタ基板)
111 画素電極
113 切欠き部
114 開口部
115 層間絶縁膜
115a 溝構造体
130 カラーフィルタ層
131 対向電極
133 支持体
200 半透過型液晶表示装置
210a アクティブマトリクス基板
210b 対向基板(カラーフィルタ基板)
211 画素電極
211a 透明電極
211b 反射電極
211c コンタクトホール
213 切欠き部
214 開口部
215 層間絶縁膜
215a 溝構造体
230 カラーフィルタ層
231 対向電極
232 透明誘電体層(反射部段差)
233 支持体
1 TFT (active matrix) substrate 2 Gate signal line 3 Source signal line 4 TFT
5 Drain electrode 6 Pixel electrode 7 Transparent electrode 8 Reflective electrode 9 Gate insulating film 10 Gate electrode 11 Source / drain electrode (n + -Si layer)
12 Semiconductor Layer 13 Channel Protection Layer 15 Opening 16 Interlayer Insulating Film 16a Groove Structure 17 Transparent Substrate (Counter (CF) Substrate)
18 Color filter layer 19 Counter electrode 20 Liquid crystal layer 21 Liquid crystal molecule 22, 32 Alignment film 29 Contact hole 50 Liquid crystal panel 40, 43 Polarizing plate 41, 44 1/4 wavelength plate 42, 45 Retardation plate with negative optical anisotropy (NR board)
100, 100 'Transmission type liquid crystal display device 110a Active matrix substrate 110b Counter substrate (color filter substrate)
111 pixel electrode 113 notch 114 opening 115 interlayer insulating film 115a groove structure 130 color filter layer 131 counter electrode 133 support 200 transflective liquid crystal display device 210a active matrix substrate 210b counter substrate (color filter substrate)
211 pixel electrode 211a transparent electrode 211b reflective electrode 211c contact hole 213 notch 214 opening 215 interlayer insulating film 215a groove structure 230 color filter layer 231 counter electrode 232 transparent dielectric layer (reflection part step)
233 Support

Claims (17)

第1基板と、前記第1基板に対向するように設けられた第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた液晶層と、前記第1基板上に形成された第1電極と、前記第2基板上に形成され第2電極と、前記第1電極と前記第1基板との間に設けられ溝構造体を有する層間絶縁膜とを有し、
それぞれが、前記第1電極と、前記第2電極と、前記第1電極と前記第2電極の間に設けられた前記液晶層とを含む複数の画素を備え、前記複数の画素のそれぞれの周囲に遮光領域を有し、前記溝構造体は少なくとも前記遮光領域に規則的に配置されている、液晶表示装置。
A first substrate, a second substrate provided to face the first substrate, a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate, and formed on the first substrate. A first electrode; a second electrode formed on the second substrate; and an interlayer insulating film provided between the first electrode and the first substrate and having a trench structure.
Each includes a plurality of pixels including the first electrode, the second electrode, and the liquid crystal layer provided between the first electrode and the second electrode, and each of the periphery of the plurality of pixels. The liquid crystal display device has a light shielding region, and the groove structures are regularly arranged at least in the light shielding region.
前記第1電極に電気的に接続された複数のスイッチング素子を前記第1基板上にさらに有し、前記スイッチング素子の少なくとも一部は前記層間絶縁膜に覆われている、請求項1に記載の液晶表示装置。   2. The device according to claim 1, further comprising a plurality of switching elements electrically connected to the first electrode on the first substrate, wherein at least a part of the switching elements is covered with the interlayer insulating film. Liquid crystal display device. 前記液晶層は、垂直配向型液晶層であり、少なくとも所定の電圧を印加した時に、互いに異なる方向に配向した液晶分子を含む少なくとも1つの液晶ドメインを形成する、請求項1または2に記載の液晶表示装置。   3. The liquid crystal according to claim 1, wherein the liquid crystal layer is a vertical alignment type liquid crystal layer and forms at least one liquid crystal domain including liquid crystal molecules aligned in different directions when at least a predetermined voltage is applied. Display device. 前記第1電極および/または前記第2電極は、所定の位置に形成された複数の開口部または切欠き部を有する、請求項1から3のいずれかに記載の液晶表示装置。   4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the first electrode and / or the second electrode has a plurality of openings or notches formed at predetermined positions. 5. 前記第1電極および/または前記第2電極は、所定の位置に形成された少なくとも2つの開口部および少なくとも1つの切欠き部を有する、請求項4に記載の液晶表示装置。   5. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the first electrode and / or the second electrode has at least two openings and at least one notch formed at predetermined positions. 6. 前記複数の開口部または切欠き部は、前記第1電極にのみ形成されている、請求項4または5に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the plurality of openings or notches are formed only in the first electrode. 前記液晶層は、垂直配向型液晶層であり、少なくとも所定の電圧を印加した時に、それぞれが軸対称配向を呈する少なくとも2つの液晶ドメインを形成し、前記少なくとも2つの液晶ドメインのそれぞれの軸対称配向の中心軸は、前記複数の開口部内またはその近傍に形成される、請求項4から6のいずれかに記載の液晶表示装置。   The liquid crystal layer is a vertical alignment type liquid crystal layer, and forms at least two liquid crystal domains each exhibiting axial symmetry when at least a predetermined voltage is applied, and the axial symmetry of each of the at least two liquid crystal domains. 7. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the central axis is formed in or near the plurality of openings. 前記液晶層は、垂直配向型液晶層であり、少なくとも所定の電圧を印加した時に、それぞれが軸対称配向を呈する少なくとも2つの液晶ドメインを形成し、
前記溝構造体は、前記少なくとも2つの液晶ドメインの内の互いに隣接する一対の液晶ドメインの境界にも配置されている、請求項1から7のいずれかに記載の液晶表示装置。
The liquid crystal layer is a vertical alignment type liquid crystal layer, and forms at least two liquid crystal domains each exhibiting axially symmetric alignment when at least a predetermined voltage is applied,
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the groove structure is also disposed at a boundary between a pair of adjacent liquid crystal domains in the at least two liquid crystal domains.
前記複数の画素のそれぞれ内に、更なる遮光領域を有し、前記境界に配置された前記溝構造体は、前記更なる遮光領域に設けられている、請求項8に記載の液晶表示装置。   9. The liquid crystal display device according to claim 8, wherein each of the plurality of pixels has a further light shielding region, and the groove structure disposed at the boundary is provided in the further light shielding region. 前記第1電極は、透過領域を規定する透明電極と反射領域を規定する反射電極とを含む、請求項1から9のいずれかに記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the first electrode includes a transparent electrode that defines a transmissive region and a reflective electrode that defines a reflective region. 前記溝構造体は、前記透過領域と前記反射領域との境界にも配置されている、請求項10に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 10, wherein the groove structure is also disposed at a boundary between the transmission region and the reflection region. 前記第1基板および前記第2基板を介して互いに対向するように配置された一対の偏光板を有し、前記第1基板および/または前記第2基板と前記一対の偏光板との間に少なくとも1つの2軸性光学異方性媒体層をさらに有する、請求項1から11のいずれかに記載の液晶表示装置。   A pair of polarizing plates arranged to face each other with the first substrate and the second substrate interposed therebetween, and at least between the first substrate and / or the second substrate and the pair of polarizing plates The liquid crystal display device according to claim 1, further comprising one biaxial optically anisotropic medium layer. 前記第1基板および前記第2基板を介して互いに対向するように配置された一対の偏光板をさらに有し、前記第1基板および/または前記第2基板と前記一対の偏光板との間に少なくとも1つの1軸性光学異方性媒体層をさらに有する、請求項1から11のいずれかに記載の液晶表示装置。   It further has a pair of polarizing plates arranged so as to face each other with the first substrate and the second substrate interposed therebetween, and between the first substrate and / or the second substrate and the pair of polarizing plates. The liquid crystal display device according to claim 1, further comprising at least one uniaxial optically anisotropic medium layer. 第1基板と、前記第1基板に対向するように設けられた第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた液晶層と、前記第1基板上に形成された第1電極と、前記第1電極に電気的に接続された回路要素と、前記第2基板上に形成され第2電極と、前記第1電極と前記第1基板との間に設けられ溝構造体を有する層間絶縁膜とを有し、それぞれが、前記第1電極と、前記第2電極と、前記第1電極と前記第2電極の間に設けられた前記液晶層とを含む複数の画素を備え、前記複数の画素の周囲に遮光領域を有し、前記溝構造体は少なくとも前記遮光領域に規則的に配置されている液晶表示装置の製造方法であって、
第1基板上に回路要素を形成する工程と、
前記回路要素を覆うポジ型の感光性樹脂膜を形成する工程と、
前記感光性樹脂膜を露光する工程であって、露光量が互いに異なる所定の領域を形成する工程と、
露光された前記感光性樹脂膜を現像することによって、前記回路要素の一部を露出するコンタクトホールと前記溝構造体とを有する前記層間絶縁膜を形成する工程と、
前記層間絶縁膜上に第1電極を形成する工程と、
を包含する、液晶表示装置の製造方法。
A first substrate, a second substrate provided to face the first substrate, a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate, and formed on the first substrate. A first electrode; a circuit element electrically connected to the first electrode; a second electrode formed on the second substrate; and a groove provided between the first electrode and the first substrate. A plurality of interlayer insulating films each having a structure, each including the first electrode, the second electrode, and the liquid crystal layer provided between the first electrode and the second electrode. A method of manufacturing a liquid crystal display device comprising pixels, having a light shielding region around the plurality of pixels, wherein the groove structure is regularly arranged at least in the light shielding region,
Forming a circuit element on the first substrate;
Forming a positive photosensitive resin film covering the circuit element;
A step of exposing the photosensitive resin film, the step of forming predetermined regions having different exposure amounts;
Developing the exposed photosensitive resin film to form the interlayer insulating film having a contact hole exposing a part of the circuit element and the groove structure;
Forming a first electrode on the interlayer insulating film;
A method for manufacturing a liquid crystal display device.
前記層間絶縁層を形成する工程は、表面が実質的に平坦な第1領域と、表面が凹凸形状を有する第2領域とを形成する工程を含み、
前記第1電極を形成する工程は、前記第1領域の前記層間絶縁膜上に透明電極を形成する工程と、前記第2領域の前記層間絶縁膜上に反射電極を形成する工程とを包含する、請求項14に記載の液晶表示装置の製造方法。
The step of forming the interlayer insulating layer includes a step of forming a first region having a substantially flat surface and a second region having a concavo-convex shape on the surface,
The step of forming the first electrode includes a step of forming a transparent electrode on the interlayer insulating film in the first region and a step of forming a reflective electrode on the interlayer insulating film in the second region. The manufacturing method of the liquid crystal display device of Claim 14.
前記露光工程は、第1フォトマスクを用いて、前記第2領域および前記溝構造体となる領域とその他の領域とを形成する第1露光工程と、
前記その他の領域に、第2フォトマスクを用いて、前記第1領域および前記コンタクトホールを形成する第2露光工程とを含む、請求項15に記載の液晶表示装置の製造方法。
The exposure step uses a first photomask to form the second region and the region to be the groove structure and other regions,
The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 15, further comprising: a second exposure step of forming the first region and the contact hole using a second photomask in the other region.
前記第1電極および/または前記第2電極を形成する工程は、導電膜を形成する工程と、前記導電膜をパターニングする工程とを包含し、前記パターニングする工程は、前記第1電極および/または前記第2電極の所定の位置に複数の開口部または切欠き部を形成する工程を包含する、請求項14から16のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。   The step of forming the first electrode and / or the second electrode includes a step of forming a conductive film and a step of patterning the conductive film. The step of patterning includes the first electrode and / or The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 14, comprising a step of forming a plurality of openings or notches at predetermined positions of the second electrode.
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