JP2005233698A - Semiconductor device and failure detection method used therefor - Google Patents
Semiconductor device and failure detection method used therefor Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005233698A JP2005233698A JP2004040719A JP2004040719A JP2005233698A JP 2005233698 A JP2005233698 A JP 2005233698A JP 2004040719 A JP2004040719 A JP 2004040719A JP 2004040719 A JP2004040719 A JP 2004040719A JP 2005233698 A JP2005233698 A JP 2005233698A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor device
- voltage measurement
- voltage
- failure detection
- detection method
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 7
- 238000007689 inspection Methods 0.000 abstract description 25
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
Abstract
Description
本発明は半導体装置及びそれに用いる故障検出方法に関し、特に大規模なアナログ集積回路において、内部にある多数のポイントの電圧を測定、報告することでその集積回路の故障を検出する方法に関する。 The present invention relates to a semiconductor device and a failure detection method used therefor, and more particularly to a method of detecting a failure of an integrated circuit by measuring and reporting voltages at a large number of points in a large-scale analog integrated circuit.
近年、集積回路の進歩はめざましく、高周波回路等のアナログ回路においても、大規模な集積化が可能となってきている。例えば、携帯電話の送受信回路が全てワンチップに収まるほどの集積度が実現可能となってきている。さらに、集積度が多い分、入出力端子の数も格段に増加しており、ピン数が81ピンに達するものもある。 In recent years, progress in integrated circuits has been remarkable, and large-scale integration has become possible even in analog circuits such as high-frequency circuits. For example, it has become possible to achieve such a degree of integration that all transmission / reception circuits of a mobile phone can be accommodated in a single chip. Furthermore, as the degree of integration increases, the number of input / output terminals has also increased dramatically, with some pins reaching 81 pins.
しかしながら、上記のような集積回路では、小型化の要求が強く、パッケージのサイズを小さくする必要があるため、BGA(Ball Grid Array)等の高密度実装技術が使われている。 However, in the integrated circuit as described above, there is a strong demand for miniaturization, and it is necessary to reduce the size of the package. Therefore, a high-density mounting technique such as BGA (Ball Grid Array) is used.
従来のアナログ集積回路では、BGA等の高密度実装技術が用いられているが、このような実装方法では、パッケージを基板に実装してしまうと、半田付け部分を外部から検査することが不可能であるため、集積回路の故障を検出することがますます困難になってきている。 In conventional analog integrated circuits, high-density mounting technology such as BGA is used. However, with such a mounting method, if the package is mounted on the substrate, it is impossible to inspect the soldered portion from the outside. Therefore, it is becoming increasingly difficult to detect failures in integrated circuits.
上述した従来のアナログ集積回路では、集積回路の故障を検出することがますます困難になってきているため、今後、外部から容易に故障の検出が可能な方法が必要になる。 In the conventional analog integrated circuit described above, it is becoming increasingly difficult to detect a failure in the integrated circuit, and in the future, a method capable of easily detecting the failure from the outside will be required.
ディジタル回路においては、内部で所定のテストパターンを動作させることによって、ある程度、故障を検出し、外部のCPU(中央処理装置)等に通知することが可能である。しかしながら、アナログ集積回路では、そのような方法を使用することができない。 In a digital circuit, it is possible to detect a failure to some extent by operating a predetermined test pattern inside and notify an external CPU (central processing unit) or the like. However, such methods cannot be used in analog integrated circuits.
また、アナログ集積回路では、故障検出の方法によっては、性能劣化等の悪影響を及ぼす恐れがあるため、故障検出方法としては、極力、アナログ信号に影響を与えない方法が望ましい。さらに、アナログ集積回路では、故障検出に要する回路規模、配線量を必要最低限に抑える必要がある。 Further, in an analog integrated circuit, depending on the failure detection method, there is a risk of adverse effects such as performance degradation. Therefore, as the failure detection method, a method that does not affect the analog signal as much as possible is desirable. Furthermore, in an analog integrated circuit, it is necessary to minimize the circuit scale and wiring amount required for failure detection.
上記の特許文献1に記載の技術では、外部から容易に故障の検出を可能としているが、アナログ回路の検査用の入力電圧を発生可能な電圧発生回路、もしくはアナログ回路の出力電圧を測定可能な電圧測定回路を搭載しなければならず、回路規模や配線量を必要最低限に抑えることはできない。
In the technique described in
そこで、本発明の目的は上記の問題点を解消し、大規模なアナログ集積回路の故障検出を容易に実行することができる半導体装置及びそれに用いる故障検出方法を提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor device and a failure detection method used therefor that can solve the above-described problems and can easily detect a failure of a large-scale analog integrated circuit.
本発明による半導体装置は、回路内部に電圧測定用の配線が配設された半導体装置であって、前記回路内部に設けられた複数の電圧測定点と、前記複数の電圧測定点をそれぞれ前記電圧測定用の配線に接続する複数のスイッチ手段と、前記複数のスイッチ手段各々を外部からの制御コマンドに応じて排他的に順次オンする制御回路と、前記電圧測定用の配線上の電圧をディジタルデータに変換する変換手段とを備え、前記ディジタルデータを外部に順次出力している。 A semiconductor device according to the present invention is a semiconductor device in which wiring for voltage measurement is provided in a circuit, wherein a plurality of voltage measurement points provided in the circuit and the plurality of voltage measurement points are respectively connected to the voltage. A plurality of switch means connected to the measurement wiring, a control circuit for sequentially turning on each of the plurality of switch means in response to an external control command, and a voltage on the voltage measurement wiring are converted into digital data. Conversion means for converting the digital data to the digital data.
本発明による故障検出方法は、回路内部に電圧測定用の配線が配設された半導体装置の故障検出方法であって、前記回路内部に設けられた複数の電圧測定点と、前記複数の電圧測定点をそれぞれ対応するスイッチ手段にて前記電圧測定用の配線に接続し、前記スイッチ手段各々を外部からの制御コマンドに応じて排他的に順次オンすることで前記電圧測定用の配線上に生ずる電圧をディジタルデータに変換して外部に順次出力している。 A failure detection method according to the present invention is a failure detection method for a semiconductor device in which wiring for voltage measurement is provided in a circuit, and a plurality of voltage measurement points provided in the circuit and the plurality of voltage measurements. The voltage generated on the voltage measurement wiring by connecting the points to the voltage measurement wiring by corresponding switch means, and sequentially turning on each of the switch means in response to an external control command. Is converted into digital data and sequentially output to the outside.
すなわち、本発明の半導体装置は、集積回路内部に、多数の電圧測定点を設け、それら各電圧測定点を、集積回路内部に張り巡らされた電圧測定用の配線に各々スイッチを介して接続している。本発明の半導体装置では、これらのスイッチを、外部からの制御コマンドによって排他的に順次オンする制御回路を備え、電圧測定用配線上の電圧をA/D変換器でディジタルデータに変換して外部に順次出力している。 That is, in the semiconductor device of the present invention, a large number of voltage measurement points are provided in the integrated circuit, and each of these voltage measurement points is connected to a voltage measurement wiring extending inside the integrated circuit through a switch. ing. The semiconductor device of the present invention includes a control circuit for sequentially turning on these switches in response to an external control command, and converts the voltage on the voltage measurement wiring into digital data by an A / D converter. Are output sequentially.
これによって、本発明の半導体装置では、必要最小限度の回路規模と配線量とで、集積回路内の多数の検査ポイントの電圧値を測定し、外部に報告することが可能となるので、大規模なアナログ集積回路の故障検出が容易に実行可能となる。 Thus, in the semiconductor device of the present invention, it is possible to measure the voltage values of a large number of inspection points in the integrated circuit with the necessary minimum circuit scale and wiring amount, and to report to the outside. This makes it possible to easily detect a failure in an analog integrated circuit.
また、本発明の半導体装置では、上記の各スイッチが、それぞれシリーズに接続されたDフリップフロップの出力によってオンオフ制御されており、制御回路から供給されるシフトクロックによって1カ所のスイッチのみがオンするように、各Dフリップフロップの出力信号がシフトされる。 In the semiconductor device of the present invention, each of the above switches is on / off controlled by the output of the D flip-flop connected in series, and only one switch is turned on by the shift clock supplied from the control circuit. Thus, the output signal of each D flip-flop is shifted.
さらに、本発明の半導体装置では、集積回路の外部にCPU等の制御手段を配設し、そのCPUから制御回路に制御コマンドを送信することで、故障検出動作を開始させている。 Furthermore, in the semiconductor device of the present invention, control means such as a CPU is provided outside the integrated circuit, and a failure detection operation is started by transmitting a control command from the CPU to the control circuit.
さらにまた、本発明の半導体装置では、上記のCPUが、集積回路から外部に順次出力されるディジタルデータを受信し、予め決められた許容できるデータの範囲に入っているかどうかを判定することで、その集積回路の故障を判定している。 Furthermore, in the semiconductor device of the present invention, the CPU receives digital data sequentially output from the integrated circuit to the outside, and determines whether it is within a predetermined allowable data range, The failure of the integrated circuit is determined.
ここで、本発明の半導体装置では、上記の複数の検査ポイントがフローティング状態かどうかを識別するために、電圧測定用配線をわざと抵抗で電源かグランドにつないだ状態で上記の故障検出を行っている。 Here, in the semiconductor device of the present invention, in order to identify whether or not the plurality of inspection points are in a floating state, the failure detection is performed with the voltage measurement wiring intentionally connected to the power source or the ground with a resistor. Yes.
本発明は、以下に述べるような構成及び動作とすることで、大規模なアナログ集積回路の故障検出を容易に実行することができるという効果が得られる。 According to the present invention, the configuration and operation described below can provide an effect that a failure detection of a large-scale analog integrated circuit can be easily performed.
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する。図1は本発明の一実施例による半導体装置(集積回路)の構成を示すブロック図である。図1において、集積回路1は大規模なアナログ集積回路等の内部回路11と、内部回路11に配設された複数の電圧検査ポイント(T1 〜TN )12−1〜12−Nと、複数の電圧検査ポイント(T1 〜TN )12−1〜12−Nに対応する組み合わせ回路13−1〜13−Nと、A/D(アナログ/ディジタル)変換器14と、コントローラ15とから構成されている。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor device (integrated circuit) according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, an
図2は図1の組み合わせ回路13−1〜13−Nの構成例を示すブロック図である。図2において、組み合わせ回路13はアナログスイッチ131と、Dフリップフロップ132とから構成されている。尚、図示していないが、組み合わせ回路13−1〜13−Nはこの組み合わせ回路13と同様の構成となっている。
FIG. 2 is a block diagram illustrating a configuration example of the combinational circuits 13-1 to 13-N in FIG. In FIG. 2, the
図3は本発明の一実施例による集積回路1における故障検出の動作を示すタイムチャートである。これら図1〜図3を参照して集積回路1における故障検出の動作について説明する。尚、各電圧検査ポイント(T1 〜TN )12−1〜12−Nの電圧をV1 〜VN とする。
FIG. 3 is a time chart showing a failure detection operation in the integrated
これらの電圧検査ポイント(T1 〜TN )12−1〜12−Nは、組み合わせ回路13−1〜13−Nのアナログスイッチ131を介して、共通の電圧測定用配線101に接続されている。アナログスイッチ131は対応するDフリップフロップ132の出力Q,QBによってオンオフ制御されている。例えば、Q出力が“1”の場合にはオンになり、“0”の場合にはオフになるように制御される。
These voltage inspection points (T1 to TN) 12-1 to 12-N are connected to the common
このようなアナログスイッチ131とDフリップフロップ132との組み合わせ回路13−1〜13−Nが各電圧検査ポイント(T1 〜TN )12−1〜12−Nに対応して設けられており、各組み合わせ回路13−1〜13−NのDフリップフロップ132はシリーズに接続されている(従属接続されている)。
Combination circuits 13-1 to 13-N of such analog switches 131 and D flip-
各組み合わせ回路13−1〜13−NのDフリップフロップ132は、コントローラ15の出力するイネーブル(Enable)信号102が“1”の場合に動作する。イネーブル信号102が“0”の場合には、最初の組み合わせ回路13−1のDフリップフロップ132を除いて全てリセットされ、対応するアナログスイッチ131はオフになる。
The D flip-
最初の組み合わせ回路13−1のDフリップフロップ132だけは、イネーブル信号102が“0”の時にはセットされ、対応するアナログスイッチ131はオンである。すなわち、通常の状態では、電圧検査ポイント(T1 )12−1だけが電圧測定用配線101に接続されている。性能の劣化を防ぐため、電圧検査ポイント(T1 )12−1は、例えば電源やグランドといった測定の影響を受けにくいポイントにすべきである。
Only the D flip-
上記の各組み合わせ回路13−1〜13−NのDフリップフロップ132は、イネーブル信号102が“1”の時に、クロック(Clock)2信号103の立ち上がりエッジによって、手前のDフリップフロップ132からの状態をシフトするように動作する。これによって、上記の各組み合わせ回路13−1〜13−Nでは、アナログスイッチ131が手前から順次排他的にオンになる。
When the enable
このようにして、コントローラ15の働きによって、各電圧検査ポイント(T1 〜TN )12−1〜12−Nの電圧が順次、電圧測定用配線101に現れることとなる。A/D変換器14はこの電圧を4ビットのディジタル信号に変換し、その変換結果を外部からのクロックであるクロック1信号105に同期して、データ線104を介して外部[例えば、CPU(中央処理装置)]に出力する。
In this way, the voltage at each of the voltage inspection points (T1 to TN) 12-1 to 12-N appears in the
上記の動作は、外部のCPU等からの検査コマンドによって、コントローラ15を起動することで開始される。この検査コマンドは、データ戦104、クロック1信号105、ストローブ(STROBE)線106の3線シリアルバスによって、外部のCPU等からコントローラ15に送信される。
The above operation is started by activating the controller 15 by an inspection command from an external CPU or the like. This inspection command is transmitted to the controller 15 from an external CPU or the like via a 3-wire serial bus including a
データ線104は双方向であり、検査コマンドを受ける場合には、外部のCPU等からコントローラ15に信号が通り、電圧検査ポイント(T1 〜TN )12−1〜12−Nの電圧のディジタルデータが逆に、コントローラ15からデータ線104を介して外部のCPU等の制御手段に送信される。
The
このように、本実施例では、外部から検査コマンドを集積回路1に送信することによって、集積回路1内部の多数の電圧検査ポイント(T1 〜TN )12−1〜12−Nの電圧を収集することができる。
As described above, in this embodiment, by transmitting a test command from the outside to the
図4は本発明の一実施例による制御手段に予め記憶された電圧検査ポイント(T1 〜TN )12−1〜12−Nの電圧の正常値に対応する最小値(Min)と最大値(Max)とを示す図である。この図3を参照してCPU等の制御手段の動作について説明する。以下、CPUにおける動作について説明する。 FIG. 4 shows a minimum value (Min) and a maximum value (Max) corresponding to normal values of voltages at voltage test points (T1 to TN) 12-1 to 12-N stored in advance in the control means according to an embodiment of the present invention. ). The operation of a control means such as a CPU will be described with reference to FIG. Hereinafter, the operation of the CPU will be described.
CPU内には、図4に示すように、予め各電圧検査ポイント(T1 〜TN )12−1〜12−Nの電圧の正常値に対応する最小値(Min)と最大値(Max)とが記憶されている。このようなデータは、例えば設計時に決定され、工場出荷時に不揮発メモリ(図示せず)等に書込まれる。 In the CPU, as shown in FIG. 4, a minimum value (Min) and a maximum value (Max) corresponding to normal values of the voltages at the voltage inspection points (T1 to TN) 12-1 to 12-N are previously stored. It is remembered. Such data is determined at the time of design, for example, and written in a nonvolatile memory (not shown) or the like at the time of factory shipment.
CPUは検査コマンドを集積回路1に送信した後、同じ3線シリアルバスを通じて、集積回路1から各電圧検査ポイント(T1 〜TN )12−1〜12−Nの測定電圧のディジタル値を受信し、図示せぬメモリに蓄える。A/D変換器14のワード長が4ビットの場合には、データが図4に示すテーブル用に16進コードで記載することができる。
After the CPU transmits the inspection command to the
図5は図1に示す集積回路1の故障検出動作を示すフローチャートである。これら図1〜図5を参照して本発明の一実施例において、上記のCPUにて集積回路1の故障を検出する動作について説明する。
FIG. 5 is a flowchart showing a failure detection operation of the
CPUは検査が開始されると、上述した処理によって各電圧検査ポイント(T1 〜TN )12−1〜12−Nの測定電圧の値を順次読出す(図5ステップS1,S2)。 When the inspection is started, the CPU sequentially reads the measured voltage values at the voltage inspection points (T1 to TN) 12-1 to 12-N by the above-described processing (steps S1 and S2 in FIG. 5).
CPUは読出した各電圧検査ポイント(T1 〜TN )12−1〜12−Nの測定電圧の値を、予め不揮発メモリに記憶されている最大値(Max)及び最小値(Min)と比較し、この範囲(最小値≦データ≦最大値)を超えるものがあれば(図5ステップS3)、故障と判断する(図5ステップS7)。 The CPU compares the measured voltage values of the read voltage inspection points (T1 to TN) 12-1 to 12-N with the maximum value (Max) and the minimum value (Min) previously stored in the nonvolatile memory, If there is something exceeding this range (minimum value ≦ data ≦ maximum value) (step S3 in FIG. 5), it is determined that there is a failure (step S7 in FIG. 5).
また、CPUは読出した各電圧検査ポイント(T1 〜TN )12−1〜12−Nの測定電圧の値を、予め不揮発メモリに記憶されている最大値(Max)及び最小値(Min)と比較し、この範囲(最小値≦データ≦最大値)を超えるものがなければ(図5ステップS3〜S5)、正常と判断する(図5ステップS6)。 Further, the CPU compares the read measurement voltage values of the respective voltage inspection points (T1 to TN) 12-1 to 12-N with the maximum value (Max) and the minimum value (Min) stored in the nonvolatile memory in advance. If there is nothing exceeding this range (minimum value ≦ data ≦ maximum value) (steps S3 to S5 in FIG. 5), it is determined as normal (step S6 in FIG. 5).
このように、本実施例では、必要最小限度の回路規模及び配線量で、集積回路1内の多数の電圧検査ポイント(T1 〜TN )12−1〜12−Nの電圧値を測定し、外部に報告することができるので、大規模なアナログ集積回路の故障検出を容易に実行することができる。
As described above, in this embodiment, the voltage values of a large number of voltage test points (T1 to TN) 12-1 to 12-N in the
図6は本発明の他の実施例による半導体装置(集積回路)の構成を示すブロック図である。図6において、本発明の他の実施例は集積回路2内に切換スイッチ21と抵抗22,23とを設けた以外は図1に示す本発明の他の実施例による集積回路1と同様の構成となっており、同一構成要素には同一符号を付してある。本発明の他の実施例では、上記のような構成とすることで、より故障検出の幅をもたせている。
FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor device (integrated circuit) according to another embodiment of the present invention. 6, another embodiment of the present invention has the same configuration as that of the
本発明の一実施例では、例えば電圧検査ポイント(Ti)12−iがハイインピーダンスの入力端子であり、その端子が半田付け不良だったとする。このような場合には、電圧検査ポイント(Ti)12−iがフローティング状態になるため、電源電圧が不定になり、たまたま正常範囲の電圧になってしまう可能性がある。 In one embodiment of the present invention, for example, it is assumed that the voltage inspection point (Ti) 12-i is a high impedance input terminal, and that terminal is poorly soldered. In such a case, since the voltage inspection point (Ti) 12-i is in a floating state, there is a possibility that the power supply voltage becomes unstable and happens to be in the normal range.
このような理由で故障検出に失敗する場合を防ぐ方法として、本実施例では、図6に示すように、切換スイッチ24と抵抗25,26とを介して、わざと電源もしくはグランドラインにつないだ状態で測定を行うことが考えられる。 In this embodiment, as a method for preventing a failure in failure detection due to such a reason, as shown in FIG. 6, a state where the power supply or the ground line is intentionally connected via the changeover switch 24 and resistors 25 and 26. It is conceivable to perform measurement with
例えば、正しく半田付けがされていて、外部のバイアスがかかっていれば、少々の抵抗で電源やグランドに接続されても、電圧値はあまり変わらない。これに対して、半田不良で繋がっていない場合には、電源かグランドに張り付くので、故障を検出することが可能である。 For example, if soldering is performed correctly and an external bias is applied, the voltage value does not change much even if it is connected to the power supply or the ground with a few resistors. On the other hand, when the connection is not established due to a defective solder, it sticks to the power supply or the ground, so that a failure can be detected.
1,2 集積回路
11 内部回路
12−1〜12−N 電圧検査ポイント(T1 〜TN )
13−1〜13−N 組み合わせ回路
14 A/D変換器
15 コントローラ
131 アナログスイッチ
132 Dフリップフロップ
1, 2 Integrated circuit
11 Internal circuit 12-1 to 12-N Voltage inspection point (T1 to TN)
13-1 to 13-N combinational circuit
14 A / D converter
15 Controller
131 Analog switch
132 D flip-flop
Claims (14)
14. The failure detection method according to claim 13, wherein the voltage measurement wiring is connected to one of a power supply and a ground to achieve the stable voltage state.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004040719A JP2005233698A (en) | 2004-02-18 | 2004-02-18 | Semiconductor device and failure detection method used therefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004040719A JP2005233698A (en) | 2004-02-18 | 2004-02-18 | Semiconductor device and failure detection method used therefor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005233698A true JP2005233698A (en) | 2005-09-02 |
Family
ID=35016828
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004040719A Pending JP2005233698A (en) | 2004-02-18 | 2004-02-18 | Semiconductor device and failure detection method used therefor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005233698A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014150340A (en) * | 2013-01-31 | 2014-08-21 | Toppan Printing Co Ltd | CMOS integrator |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04102080A (en) * | 1990-08-21 | 1992-04-03 | Toshiba Corp | Semiconductor evaluation circuit |
JPH05288812A (en) * | 1992-04-14 | 1993-11-05 | Toshiba Corp | Integrated circuit element and electronic device using same |
JPH07159493A (en) * | 1993-12-09 | 1995-06-23 | Kawasaki Steel Corp | Semiconductor device inspection method |
JP2000323990A (en) * | 1999-05-06 | 2000-11-24 | Nec Yamagata Ltd | Device and method for testing a/d converter |
-
2004
- 2004-02-18 JP JP2004040719A patent/JP2005233698A/en active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04102080A (en) * | 1990-08-21 | 1992-04-03 | Toshiba Corp | Semiconductor evaluation circuit |
JPH05288812A (en) * | 1992-04-14 | 1993-11-05 | Toshiba Corp | Integrated circuit element and electronic device using same |
JPH07159493A (en) * | 1993-12-09 | 1995-06-23 | Kawasaki Steel Corp | Semiconductor device inspection method |
JP2000323990A (en) * | 1999-05-06 | 2000-11-24 | Nec Yamagata Ltd | Device and method for testing a/d converter |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014150340A (en) * | 2013-01-31 | 2014-08-21 | Toppan Printing Co Ltd | CMOS integrator |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3088727B2 (en) | Quiescent current measuring device | |
JP2008538863A (en) | Supply voltage monitoring | |
CN107807323B (en) | Circuit board health monitoring method, detection device and detection system | |
US8575978B2 (en) | Semiconductor device, electronic device, and method of testing the semiconductor device | |
US7221170B2 (en) | Semiconductor test circuit | |
JP2005233698A (en) | Semiconductor device and failure detection method used therefor | |
JPWO2008152695A1 (en) | Electronic device, test method for electronic device | |
US20170163250A1 (en) | Delay circuit and test method of delay circuit | |
JP4557526B2 (en) | Semiconductor integrated circuit and failure detection method for semiconductor integrated circuit | |
JP2008522148A (en) | Integrated circuit self-test architecture | |
JP2005322768A (en) | Semiconductor integrated circuit | |
US20080028104A1 (en) | Semiconductor device and operation control method of semiconductor device | |
TWI748431B (en) | A burn in board with a subsystem | |
JP6507672B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device and test method of semiconductor integrated circuit device | |
US9083348B1 (en) | Method and apparatus for tuning delay | |
JP2002170400A (en) | Semiconductor storage device and inspection device for semiconductor storage device | |
JP4690731B2 (en) | Semiconductor device, test apparatus and test method thereof. | |
JP2006170898A (en) | Test circuit of semiconductor device | |
KR20070007627A (en) | Semiconductor device, test board, test system of semiconductor device and test method of semiconductor device | |
JP2008122310A (en) | Device tester, and timing calibration method | |
KR0134695B1 (en) | Solder Condition Check Device | |
JP3190827B2 (en) | Semiconductor device and test method therefor | |
US6750670B2 (en) | Integrated test circuit | |
JP2008309741A (en) | Semiconductor device and evaluation method thereof | |
KR100215510B1 (en) | Method and device for pin contact test in pcb automatic measuring and testing apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070115 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090630 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090707 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091104 |