JP2005217139A - Image acquiring device and image acquisition method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、回転する基板の画像を取得する技術に関する。 The present invention relates to a technique for acquiring an image of a rotating substrate.
従来より、半導体基板(以下、「基板」という。)の回路形成工程では、撮像部による撮像位置を基板上の所定位置に合わせて(すなわち、位置決めして)撮像を行い、取得された画像に基づいて回路パターンの検査に利用される各種測定値が求められる(基板上の所定位置に撮像部の撮像位置を合わせる手法の一例として、特許文献1参照。)。
Conventionally, in a circuit formation process of a semiconductor substrate (hereinafter referred to as “substrate”), an image is picked up by aligning an image pickup position by an image pickup unit with a predetermined position on the substrate (that is, positioning), and an acquired image is obtained. Based on this, various measurement values used for the inspection of the circuit pattern are obtained (see
一方で、回路形成工程のダマシン工程等では、化学機械的研磨(Chemical Mechanical Polishing、以下、「CMP」と略す。)が用いられ、CMP装置では研磨用プレートに基板の主面を接触させた状態で基板を回転することにより、基板の主面上に形成された膜の研磨が行われる。
ところで、撮像部の撮像位置を基板上の所定位置に合わせる従来の技術では、基板が静止していることが前提とされるため、CMPのように基板を回転させながら行う処理に利用するには処理を中断し、研磨プレート上から基板を離して撮像する必要が生じる。しかしながら、このような処理の中断はスループットの低下の要因となってしまう。 By the way, in the conventional technique for aligning the imaging position of the imaging unit with a predetermined position on the substrate, it is assumed that the substrate is stationary, so that it can be used for processing performed while rotating the substrate like CMP. It is necessary to interrupt the processing and take an image by separating the substrate from the polishing plate. However, such interruption of processing causes a decrease in throughput.
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、回転する基板上の所定位置の画像を精度よく取得することを主たる目的としている。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and has as its main purpose to acquire an image at a predetermined position on a rotating substrate with high accuracy.
請求項1に記載の発明は、基板の画像を取得する画像取得装置であって、基板を主面に垂直な軸を中心として一定の角速度で回転する基板回転部と、前記基板回転部が基板を回転する間に、前記基板の主面を撮像する撮像部と、前記基板回転部により回転する基板のエッジの通過を検出するエッジ通過検出部と、前記エッジ通過検出部からの出力に基づいて、基板が特定の向きとなる時刻から所定時間経過後に前記撮像部による撮像を実行する撮像制御部とを備える。
The invention according to
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の画像取得装置であって、前記エッジ通過検出部が、基板の外縁部に形成された切欠きの通過を検出する。 A second aspect of the present invention is the image acquisition device according to the first aspect, wherein the edge passage detection unit detects passage of a notch formed in an outer edge portion of the substrate.
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の画像取得装置であって、前記エッジ通過検出部が、基板に向けて光を出射する光源と、前記光源からの光の基板からの反射光を受光する受光部とを有し、前記撮像制御部が、前記受光部からの少なくとも1つの出力パルスの特性に基づく演算により切欠きの通過の検出時刻を求める。
Invention of Claim 3 is an image acquisition apparatus of
請求項4に記載の発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載の画像取得装置であって、基準パターンを示すテンプレート画像のデータ、および、基板上の特定の点の前記基準パターンに対する位置情報を記憶する記憶部と、前記撮像部により取得された画像と前記テンプレート画像との間におけるパターンマッチングを行うことにより、前記取得された画像中の前記特定の点に対応する点の位置を求める演算部とをさらに備える。 A fourth aspect of the present invention is the image acquisition device according to any one of the first to third aspects, wherein template image data indicating a reference pattern and a position of a specific point on the substrate with respect to the reference pattern are provided. A position of a point corresponding to the specific point in the acquired image is obtained by performing pattern matching between the storage unit that stores information and the image acquired by the imaging unit and the template image. And an arithmetic unit.
請求項5に記載の発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載の画像取得装置であって、前記基板回転部により回転する基板の主面を研磨する研磨部と、前記撮像部にて取得された画像に基づいて研磨の終点を検出する研磨終点検出部とをさらに備える。 According to a fifth aspect of the present invention, in the image acquisition device according to any one of the first to third aspects, the polishing unit that polishes the main surface of the substrate rotated by the substrate rotating unit, and the imaging unit A polishing end point detecting unit for detecting a polishing end point based on the acquired image;
請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の画像取得装置であって、前記研磨終点検出部が、前記撮像部にて取得された画像中の特定位置の画素の値に基づいて研磨の終点を検出する。
The invention according to
請求項7に記載の発明は、請求項5に記載の画像取得装置であって、基準パターンを示すテンプレート画像のデータ、および、基板上の特定の点の前記基準パターンに対する位置情報を記憶する記憶部と、前記撮像部により取得された画像と前記テンプレート画像との間におけるパターンマッチングを行うことにより、前記取得された画像中の前記特定の点に対応する点の位置を求める演算部とをさらに備え、前記研磨終点検出部が、前記取得された画像中の前記特定の点に対応する点の位置の画素の値に基づいて研磨の終点を検出する。 A seventh aspect of the present invention is the image acquisition device according to the fifth aspect of the present invention, which is a memory for storing template image data indicating a reference pattern and position information of the specific point on the substrate with respect to the reference pattern. And a calculation unit for obtaining a position of a point corresponding to the specific point in the acquired image by performing pattern matching between the image acquired by the imaging unit and the template image. The polishing end point detection unit detects a polishing end point based on a pixel value at a point position corresponding to the specific point in the acquired image.
請求項8に記載の発明は、基板の画像を取得する画像取得方法であって、a)基板を主面に垂直な軸を中心として一定の角速度で回転する工程と、b)回転する前記基板のエッジの通過をエッジ通過検出部にて検出する工程と、c)前記エッジ通過検出部からの出力に基づいて、前記基板が特定の向きとなる時刻から所定時間経過後に前記基板の主面を撮像部にて撮像する工程とを備える。 The invention according to claim 8 is an image acquisition method for acquiring an image of a substrate, wherein a) a step of rotating the substrate at a constant angular velocity about an axis perpendicular to the main surface, and b) the rotating substrate. C) detecting the passage of the edge by an edge passage detection unit; and c) based on the output from the edge passage detection unit, the main surface of the substrate after a predetermined time has elapsed from the time when the substrate is in a specific direction. And an image capturing unit.
請求項9に記載の発明は、請求項8に記載の画像取得方法であって、前記エッジ通過検出部が、前記基板の外縁部に形成された切欠きの通過を検出する。 The invention according to claim 9 is the image acquisition method according to claim 8, wherein the edge passage detection unit detects passage of a notch formed in an outer edge portion of the substrate.
請求項10に記載の発明は、請求項9に記載の画像取得方法であって、前記エッジ通過検出部が、前記基板に向けて光を出射するとともに前記基板からの反射光を受光して少なくとも1つの出力パルスを生成し、前記c)工程において、前記少なくとも1つの出力パルスの特性に基づく演算により切欠きの通過の検出時刻を求める。 The invention according to claim 10 is the image acquisition method according to claim 9, wherein the edge passage detection unit emits light toward the substrate and receives reflected light from the substrate. One output pulse is generated, and in step c), the detection time of passage of the notch is obtained by calculation based on the characteristics of the at least one output pulse.
請求項11に記載の発明は、請求項8ないし10のいずれかに記載の画像取得方法であって、前記b)工程よりも前に、基準パターンを示すテンプレート画像のデータ、および、前記基板上の特定の点の前記基準パターンに対する位置情報を準備する工程と、前記c)工程の後に、前記撮像部により取得された画像と前記テンプレート画像との間におけるパターンマッチングを行うことにより、前記取得された画像中の前記特定の点に対応する点の位置を求める工程とをさらに備える。
The invention according to
請求項12に記載の発明は、請求項8ないし10のいずれかに記載の画像取得方法であって、前記a)工程に並行して前記基板の前記主面を研磨する工程と、前記c)工程の後に、前記撮像部にて取得された画像に基づいて研磨の終点を検出する工程とをさらに備える。 The invention according to claim 12 is the image acquiring method according to any one of claims 8 to 10, wherein the main surface of the substrate is polished in parallel with the step a), and c) And a step of detecting an end point of polishing based on an image acquired by the imaging unit after the step.
本発明によれば、回転する基板上の所定位置の画像を精度よく取得することができる。 According to the present invention, an image of a predetermined position on a rotating substrate can be acquired with high accuracy.
また、請求項3および10の発明では、切欠きの通過の検出時刻を適切に求めることができる。 In the inventions of claims 3 and 10, the detection time of passage of the notch can be appropriately obtained.
また、請求項4および11の発明では、取得された画像における基板上の特定の点の位置を精度よく求めることができる。
In the inventions of
また、請求項5および12の発明では、研磨される基板上の所定位置の画像に基づいて研磨の終点を適切に検出することができる。 According to the fifth and twelfth aspects of the present invention, it is possible to appropriately detect the polishing end point based on an image at a predetermined position on the substrate to be polished.
また、請求項6の発明では、研磨の終点を容易に検出することができる。
In the invention of
また、請求項7の発明では、パターンを有する基板の研磨の終点を精度よく検出することができる。
In the invention of
図1は基板研磨システム1の構成を示す図である。図1の基板研磨システム1は、例えば回路形成工程におけるダマシン工程に用いられ、基板の主面上に形成された膜(回路パターンを構成する膜)に研磨(例えば、CMP)が施されるとともに研磨途上の基板の画像が取得され、取得された画像に基づいて研磨の終点が検出される。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of the
基板研磨システム1は、外縁部にV字状のノッチが形成された円板状の基板9を保持するとともに基板9を主面に垂直な回転軸J1を中心として回転する基板回転部11、基板9が回転する間に基板9の主面を撮像するヘッド部2、ヘッド部2を介して基板9の主面上に照射される照明用の光を出射する照明部3、回転する基板9のノッチの通過を検出するノッチセンサ4、ノッチセンサ4からノッチの通過を示す信号が入力されるストロボコントローラ5、各種演算処理を行うCPUや各種情報を記憶するメモリ等により構成されたコンピュータ6、並びに、基板研磨システム1の全体制御を担うもう1つのコンピュータ(以下、「全体制御部」という。)7を備える。
A
図2は基板9の研磨時における基板回転部11の近傍を示す図である。図2に示すように、基板回転部11において基板9は主面の中心が回転軸J1上に位置するようにしてトップリング110により吸着保持され、主面の一部が研磨プレート71(図1では図示を省略している。)の表面に当接する。基板回転部11は全体制御部7に接続されたモータ111を有し(図1参照)、モータ111が駆動されることにより基板9が一定の角速度で回転する。また、基板回転部11は図示省略の進退機構に支持されており、基板9の取り付けまたは取り外しの際には、進退機構が制御されて基板9が研磨プレート71上から退避する。なお、基板回転部11はコンピュータ6により直接制御されてもよい。
FIG. 2 is a view showing the vicinity of the
研磨プレート71はモータ711により回転し、その表面上には研磨剤(スラリーとも呼ばれる。)が供給される。これにより、基板回転部11により回転する基板9の主面が回転する研磨プレート71により研磨される。また、ヘッド部2はステージ21上において研磨プレート71に向かって進退可能に支持されており、基板9の研磨時には研磨プレート71の外側において基板9の下方へと移動し、基板9の下側の主面が撮像される。また、ノッチセンサ4はヘッド部2からずれた位置にて基板9の主面の外縁部に対向して設けられる。
The
図1の照明部3は、ストロボコントローラ5に接続されたランプ電源31を有し、ストロボコントローラ5からトリガ信号が入力されることによりフラッシュランプ32がフラッシュ光を出射する。フラッシュランプ32からの光はレンズ33を介してフィルタユニット34へと導かれる。フィルタユニット34には複数のフィルタ341が設けられ、図示省略のモータにより複数のフィルタ341のうち1つのフィルタ341aがフラッシュランプ32からの光の経路上に配置される。フィルタ341aを透過した光はレンズ35により光ファイバ36へと導かれてヘッド部2内に導入され、ヘッド部2による基板9の撮像に利用される。
The illumination unit 3 in FIG. 1 has a
図3は図2に示すヘッド部2の近傍を側方から見た図であり、図4は基板9側から見た場合のヘッド部2の内部構成を示す図である。図3に示すようにヘッド部2は基板9の下側の主面91に近接した状態で支持される。ヘッド部2は透光窓239、および、基板9側において透光窓239の周囲を囲む環状のノズル部22を有し、ノズル部22の内周面には複数の吐出口が形成される。ノズル部22は純水供給部221に接続されており、基板9の研磨時にはノズル部22の複数の吐出口から純水が吐出され、基板9の主面91上において透光窓239に対向する位置に付着するスラリー等が除去される。
3 is a diagram of the vicinity of the
図4に示すようにヘッド部2には、前述の照明部3からの光が光ファイバ36により導入され、レンズ231およびアパーチャ板232を介してミラー233へと導かれ、レンズ234に向けて反射される。レンズ234に入射した光はアパーチャ板235を介してハーフミラー236へと導かれ、レンズ237に向けて反射される。レンズ237からの光は、図3に示すようにプリズム238により基板9側へと導かれ、透光窓239を介して基板9の主面91上に照射される。
As shown in FIG. 4, the light from the illumination unit 3 is introduced into the
基板9からの反射光は透光窓239により取り込まれ、プリズム238およびレンズ237によりハーフミラー236へと導かれる。反射光の一部はハーフミラー236を透過し、アパーチャ板240およびレンズ241により撮像デバイス25に導かれて基板9の像が結像される。撮像デバイス25では受光した光が電気信号に変換され、図1のコンピュータ6へと出力される。レンズ237はレンズ移動機構26により図4中に符号291を付して示す矢印の方向に移動可能とされ、レンズ237およびレンズ移動機構26によりヘッド部2のオートフォーカス機構が構成される。
The reflected light from the substrate 9 is taken in by the
図5は図2に示すノッチセンサ4の近傍を側方から見た場合のノッチセンサ4の内部構成を示している。図5に示すようにノッチセンサ4は、基板9に向けて光を出射する2つの光源41(例えば、発光ダイオード(LED)を有する光源)を有し、光源41からの光は透光窓42を介して回転する基板9の外縁部へと照射される。通常、光源41からの光は基板9の下側の主面91により透光窓42の外周側または外側に向けて反射されるが、基板9のノッチがノッチセンサ4上を通過することにより光源41からの光が乱反射すると、基板9からの反射光は透光窓42により取り込まれ、レンズ43を介してフォトダイオード44により受光される。ノッチセンサ4においてもヘッド部2と同様に、基板9の主面91上においてノッチセンサ4に対向する位置を洗浄する環状のノズル部451、および、ノズル部451に純水を供給する純水供給部452が設けられる。
FIG. 5 shows the internal configuration of the
図6はノッチセンサ4およびストロボコントローラ5の回路構成を示すブロック図である。フォトダイオード44は、受光する光の量に応じて電気的な信号を出力し、プリアンプ46(例えば、I−Vアンプ)は出力信号を増幅する。コンパレータ47(例えば、アナログコンパレータ)は増幅された出力信号の電圧を所定の閾値電圧と比較し、出力信号の電圧が閾値電圧よりも小さい場合にはコンパレータ出力の最小電圧(Lowレベル)を出力し、閾値電圧よりも大きい場合にはコンパレータ出力の最大電圧(Highレベル)を出力する。なお、ノッチセンサ4では、必要に応じて可変抵抗等が設けられ、コンパレータ47の閾値電圧が調整可能とされてもよい。
FIG. 6 is a block diagram showing circuit configurations of the
ストロボコントローラ5はトリガ生成回路51およびI/Oインターフェイス52を有し、トリガ生成回路51はノッチセンサ4からの信号に基づいて照明部3およびコンピュータ6に対してトリガ信号591,592をそれぞれ出力する。なお、トリガ信号591は照明部3に対してフラッシュ光を出射させるためのものであり、トリガ信号592はコンピュータ6によりヘッド部2を介して基板9の画像データを取得するためのものであり、以下の説明において、それぞれストロボトリガ信号591およびカメラトリガ信号592と呼ぶ。I/Oインターフェイス52は、コンピュータ6に接続され、コンピュータ6からトリガ生成回路51に各種パラメータが入力される。
The
図7はトリガ生成回路51の構成を示す図である。図7に示すトリガ生成回路51はクロック発生部511を有し、クロック発生部511は水晶発信器から出力される所定の周波数のクロック信号CLKをノッチ信号インターフェイス512、アドレスカウンタ513、ノッチタイミング決定回路514、ノッチ信号条件レジスタ515、および、遅延時間設定レジスタ516に入力する。なお、CLKは水晶発信器から出力される信号をさらに分周して得られるものであってもよい。ノッチ信号インターフェイス512にはノッチセンサ4からの信号(図7において符号NT_INを付す。)が入力され、CLKとは非同期のNT_INをCLKに合わせてラッチして信号NT0を生成する。
FIG. 7 is a diagram showing the configuration of the
ノッチ信号条件レジスタ515には2つのレジスタ(以下、それぞれREG0およびREG1と呼ぶ。)が設けられ、遅延時間設定レジスタ516にも2つのレジスタ(以下、それぞれREG2およびREG3と呼ぶ。)が設けられる。また、ノッチ信号条件レジスタ515、遅延時間設定レジスタ516およびアドレスカウンタ513には、コンピュータ6から入力される各種パラメータを示す32ビットの(DT_OUT)データがI/Oインターフェイス52を介して入力される。(DT_OUT)データは、16個の書き込みデータ用のビットWDT、REG0への書き込み命令用のビットWT0、REG1への書き込み命令用のビットWT1、REG2への書き込み命令用のビットWT2、REG3への書き込み命令用のビットWT3、アドレスカウンタ513における処理のON/OFF命令用のビットENABLE等から構成される。例えば、WT0が0とされた後、WT0が1とされることにより、REG0に16ビットのWDTが示すデータが書き込まれる。
The notch
また、ノッチ信号条件レジスタ515および遅延時間設定レジスタ516からコンピュータ6には同じく32ビットの(DT_IN)データが必要に応じて出力され、(DT_IN)データに含まれる2組の16個の読み出しデータ用のビットRDTはREG0〜REG3のいずれかに記憶されたデータとされる。
Similarly, 32-bit (DT_IN) data is output from the notch
アドレスカウンタ513は、ENABLEが「1」とされた状態(ON状態)において、CLKをカウントする。ノッチタイミング決定回路514はノッチ信号インターフェイス512からの信号NT0の立ち上がりや立ち下がりのタイミングやこれらの個数に応じてノッチの検出時刻を示す値NT1を生成する。遅延加算回路517は、遅延時間設定レジスタ516から入力される値DLYをNT1に加算した(NT1+DLY)の値を出力し、一致検出回路518は(NT1+DLY)とアドレスカウンタ513からのカウンタ値COUNTとが一致した場合に信号CNT_EQおよび信号CNT_ENDを生成する。タイミング微調整回路519は照明部3およびコンピュータ6にストロボトリガ信号591およびカメラトリガ信号592をそれぞれ出力する。なお、トリガ生成回路51の具体的な動作は後述する。
The
図8はコンピュータ6の構成を示す図である。コンピュータ6は、各種演算処理を行うCPU611、基本プログラムを記憶するROM612および各種情報を記憶するRAM613をバスラインに接続した一般的なコンピュータシステムの構成となっている。バスラインにはさらに、情報記憶を行う固定ディスク614、各種情報の表示を行うディスプレイ615、操作者からの入力を受け付けるキーボード616aおよびマウス616b、光ディスク、磁気ディスク、光磁気ディスク等のコンピュータ読み取り可能な記録媒体から情報の読み取りを行う読取装置617、全体制御部7等に接続された通信部618、ヘッド部2から入力される電気信号を所定の形式の画像データに変換して画像メモリ621aに記憶するキャプチャボード621、ストロボコントローラ5との間でトリガ生成回路51の各種パラメータの入出力等を行うI/Oボード622、並びに、パターンマッチングを行う画像処理ボード623が、適宜、インターフェイス(I/F)を介する等して接続される。
FIG. 8 is a diagram showing the configuration of the
図9は、コンピュータ6が実現する機能構成を示すブロック図であり、図9において、処理部63の各構成が所定のプログラムに従ってCPU611等により実現される機能を示す。なお、処理部63の機能は専用の電気的回路により実現されてもよく、部分的に専用の電気的回路が用いられてもよい。また、図9の画像処理ボード623の機能がソフトウェア的に実現されてもよい。
FIG. 9 is a block diagram illustrating a functional configuration realized by the
図10は基板研磨システム1が基板9を研磨しつつ画像を取得する処理の流れを示す図である。以下、図9を参照しつつ図10に沿って基板9の研磨・画像取得処理について説明する。
FIG. 10 is a diagram showing a flow of processing in which the
基板研磨システム1では、まず、所定の参照基板を用いて基板9の処理に必要な各種情報が取得されて準備される(ステップS11)。ここで、参照基板は研磨対象の基板9と同じ回路パターンが形成されたものであり、参照基板を用いた事前準備により、基板9の研磨時において基板9上の所望の撮像位置の画像を取得するために利用される画像取得条件データ691、並びに、取得された画像における基板9上の所定の測定点の位置を特定する際に利用されるテンプレート画像データ692および測定点位置情報693が取得され、固定ディスク614に記憶される。なお、これらの情報を準備する処理については研磨・画像取得処理の説明後に詳述する。
In the
続いて、基板9が基板回転部11に固定されて研磨プレート71上に配置され、図2に示す状態とされる。また、コンピュータ6からトリガ生成回路51に画像取得条件データ691に基づく各種パラメータが入力されるとともに、図1のフィルタユニット34の複数のフィルタ341から基板9上に形成された膜の構造や研磨後の膜厚に応じた1つのフィルタ341aが選択されてフラッシュランプ32からの光の経路上に配置される。そして、全体制御部7により研磨プレート71上へのスラリーの供給および研磨プレート71の回転が開始されると同時に基板9が連続的に回転を始め、基板9の研磨が開始される(ステップS12)。すなわち、基板9の回転と並行して基板9の主面の研磨が行われる。また、全体制御部7からコンピュータ6に基板9の研磨の開始を示す信号が出力される。
Subsequently, the substrate 9 is fixed to the
図11は回転する基板9の主面91上を示す図であり、研磨プレート71側から見た図である。基板9は図11中の矢印991が示すように時計方向に一定の角速度(例えば、2πrad/s(60rpm))で回転しており、基板9のノッチ92がノッチセンサ4(図11において、符号4を付す二点鎖線の矩形にて示す。)に対向する位置を通過すると、図5の光源41から基板9に照射される光がノッチ92により乱反射され、その反射光がフォトダイオード44に受光される。
FIG. 11 is a diagram showing the
このとき、図11に示すように基板9のノッチ92は山形に切り欠かれて形成されたものであるため、ノッチ92の2つのエッジにそれぞれ対応する2つのパルスを示す信号がフォトダイオード44から出力される。出力信号は図6のプリアンプ46により増幅された後、コンパレータ47により閾値電圧と比較されて図12に示す2つのパルスを示す信号(以下、「ノッチ検出信号」という。)が生成され、基板9の外縁部に形成されたノッチ92の通過が検出される(ステップS13)。ノッチ検出信号はストロボコントローラ5に出力される。
At this time, as shown in FIG. 11, the
ストロボコントローラ5では、ノッチ検出信号が示す2つの出力パルスに基づいて基板9のノッチ92がノッチセンサ4に対向する位置を通過した時刻(以下、「ノッチ通過時刻」という。)が特定され、ノッチ通過時刻から画像取得条件データ691に基づく所定の遅延時間の経過後に、照明部3およびコンピュータ6に対してストロボトリガ信号591およびカメラトリガ信号592がそれぞれ出力される。ここで、遅延時間は、例えば、撮像時に図11中において符号29bを付す二点鎖線の矩形にて示す位置に存在する撮像領域が、ノッチ通過時刻に符号29aを付す位置に存在する場合には、撮像領域29aの中心と回転軸J1とを結ぶ線分93aと、撮像領域29bと回転軸J1とを結ぶ線分93bとのなす角をθとして、角θを基板9の角速度で割って得られる時間とおよそ同じ時間とされる。
The
カメラトリガ信号592は図9のキャプチャボード621に入力され、キャプチャボード621からヘッド部2にトリガ信号が出力されることにより基板9が撮像される。このとき、ストロボコントローラ5においてストロボトリガ信号591が出力された後、一定時間経過後にカメラトリガ信号592が出力されるため、照明部3からの照明光の基板9からの反射光が撮像デバイス25へと導かれた時点で撮像が行われる。このように、ストロボコントローラ5によりノッチセンサ4からの出力に基づいて、ノッチ通過時刻から所定の遅延時間経過後にヘッド部2による撮像が実行される(ステップS14)。
The
ヘッド部2からの画像信号はキャプチャボード621に出力され、基板9の主面91上の画像(以下、「取得画像」という。)のデータが画像メモリ621aに記憶される。取得画像データは画像処理ボード623に出力され、テンプレート画像データ692が示すテンプレート画像との間におけるパターンマッチングが行われる。なお、取得画像は必要に応じてディスプレイ615に表示される。
The image signal from the
図13は取得画像の一例を示す図であり、図14はテンプレート画像を示す図である。テンプレート画像は所定の基準パターンを示す画像であり、本実施の形態ではステップS11における処理により図14に示す基準パターン81を示す画像が準備される。画像処理ボード623では図13の取得画像と図14のテンプレート画像との間におけるパターンマッチングを行うことにより取得画像における基準パターン81の位置および傾きが特定され、その結果が処理部63に出力される。
FIG. 13 is a diagram illustrating an example of an acquired image, and FIG. 14 is a diagram illustrating a template image. The template image is an image showing a predetermined reference pattern, and in this embodiment, an image showing the
ここで、測定点位置情報693は基板9(または、参照基板)上の回路パターンにおいて、基準パターン81に対する測定点の相対的な位置を示すものであり、位置算出部631では基準パターンの位置および傾きの情報、並びに、測定点位置情報693に基づいて取得画像における測定点82の位置(すなわち、基準パターンに対する測定点に対応する点の位置)が算出される。このように、画像処理ボード623および位置算出部631により取得画像とテンプレート画像との間におけるパターンマッチングを行って取得画像中の測定点82の位置を求める処理が行われる(ステップS15)。
Here, the measurement
続いて、研磨終点検出部632が取得画像中の測定点82の位置の画素値を取得し、予め準備された判定値と比較される。判定値は照明部3において選択されたフィルタ341、あるいは、基板9上の膜の構造や研磨後の膜厚(これらの情報は、例えば、全体制御部7から予め入力される。)等に応じて予め準備された値であり、測定点82の画素値が判定値と比較されることにより基板9の研磨の終点に到達したか否かが判定される(ステップS16)。研磨の終点に未到達であると判定された場合には(ステップS17)、ノッチセンサ4により次の(すなわち、1回転後の)ノッチ92の通過が検出された後に(ステップS13)、ステップS14〜ステップS16が繰り返される。また、研磨の終点に到達したと判定された(すなわち、研磨の終点が検出された)場合には(ステップS17)、終点検出を示す信号が全体制御部7へと出力される。
Subsequently, the polishing end
なお、研磨の終点は測定点の画素値の変化に基づいて検出されてもよく、例えば、画素値の変化の特性から終点到達予定時刻が求められ、予定時刻に研磨が終点に到達したものとみなされてもよい。このように、研磨終点検出部632では基板9が1回転するごとにヘッド部2により取得される画像に基づいて(より具体的には、測定点の画素値に基づいて)研磨の終点が適切に検出される。
Note that the polishing end point may be detected based on a change in the pixel value of the measurement point. For example, the expected end point arrival time is obtained from the characteristics of the change in the pixel value, and the polishing has reached the end point at the scheduled time. May be considered. As described above, the polishing end
全体制御部7では終点検出信号に基づいてトップリング110を研磨プレート71上から退避し、研磨プレート71上へのスラリーの供給および研磨プレート71の回転を停止して研磨を終了するとともに、基板回転部11の回転も停止し(ステップS18)、基板研磨システム1における基板9の研磨・画像取得処理が終了する。
The
次にステップS14における図7のトリガ生成回路51内の処理について説明する。なお、前述のように画像取得条件データ691に基づく各種パラメータが入力されることにより、トリガ生成回路51では、ノッチ信号条件レジスタ515のREG0およびREG1、並びに、遅延時間設定レジスタ516のREG2およびREG3にデータが予め書き込まれている。
Next, the processing in the
図7に示すトリガ生成回路51では、入力されたノッチ検出信号NT_INがノッチ信号インターフェイス512によりクロック信号CLKにラッチされ、図12のNT_INがHighレベルである間、ラッチ後の信号NT0がアドレスカウンタ513およびノッチタイミング決定回路514に出力される。アドレスカウンタ513では、NT0の最初の立ち上がりが入力されることによりCLKのカウントが開始される。
In the
ここで、ノッチ信号条件レジスタ515に設けられたREG0およびREG1にはそれぞれ、ノッチタイミング決定回路514において異常なノッチ検出信号NT_IN(実際には、NT0として入力される。)を無視するための条件であるパルス最小間隔およびパルス最小幅が記憶され、パルス最小間隔を示す値NIおよびパルス最小幅を示す値NWがノッチタイミング決定回路514に入力される。パルス最小間隔およびパルス最小幅は、例えば、10マイクロ秒単位にて設定可能とされ、NT0により特定される2つのパルスの間隔が、REG0に設定されたパルス最小間隔よりも短い場合にはこれらの2つのパルスは異常なものとして無視される。また、NT0により特定される1つのパルスの幅が、REG1に設定されたパルス最小幅よりも短い場合にもこのパルスは異常なものとして無視される。これにより、トリガ生成回路51ではノイズ等によるノッチの誤検出が抑制される。
Here, each of REG0 and REG1 provided in the notch
ノッチタイミング決定回路514では、ノッチ92の通過の検出時刻を示す値が求められる。具体的には、NT0に含まれる各パルスに対してパルスの立ち上がりの時刻、および、立ち下がり時刻が特定される。そして、最初のパルスの立ち上がりの時刻、および、立ち下がり時刻を示す値がそれぞれA1およびA2であり、次のパルスの立ち上がりの時刻、および、立ち下がり時刻を示す値がそれぞれA3およびA4であるとすると、((A1+A2+A3+A4)/4)を計算することにより得られる値NT1がノッチ92の通過の検出時刻を示す値とされ、遅延加算回路517に出力される。
In the notch
また、基板9の保持位置の誤差により、ノッチセンサ4から1つのパルスのみを示す信号が出力された場合には、ノッチタイミング決定回路514では、1つのパルスの立ち上がりの時刻、および、立ち下がり時刻を示す値をそれぞれB1およびB2として((B1+B2)/2)を計算することにより得られる値がノッチ92の通過の検出時刻を示す値NT1とされる。
Further, when a signal indicating only one pulse is output from the
なお、3以上のパルスが検出された場合にはノッチタイミング決定回路514では、ノッチ92が検出されなかったものとみなされ値NT1は出力されない。また、既述のようにREG0に設定されたパルス最小間隔よりも短い間隔で発生した2つのパルスやREG1に設定されたパルス最小幅よりも短いパルスは適宜無視される。
When three or more pulses are detected, the notch
このように、トリガ生成回路51ではフォトダイオード44からの少なくとも1つの出力パルスの特性(パルスの個数、パルスの発生タイミング、パルス幅、パルス間隔等)に基づく演算によりノッチ92の通過の検出時刻が適切に求められる。
As described above, the
遅延加算回路517ではNT1に一定の遅延時間を示す値DLYを加算することにより(NT1+DLY)が出力される。具体的には、遅延時間設定レジスタ516のREG2およびREG3にはそれぞれ遅延時間の下位16ビットのデータ、および、遅延時間の上位4ビットのデータが記憶されており、REG2およびREG3に記憶された遅延時間(例えば、50マイクロ秒単位にて設定されており、20ビットで表される。)を示すDLYに、ノッチタイミング決定回路514からのNT1が加えられて一致検出回路518に出力される。
The
一致検出回路518では(NT1+DLY)とアドレスカウンタ513から入力されるカウンタ値COUNTとが一致すると、信号CNT_EQをタイミング微調整回路519に出力するとともに、アドレスカウンタ513に信号CNT_ENDを出力する。そして、シフトレジスタを有するタイミング微調整回路519ではCNT_EQが入力されることにより照明部3にストロボトリガ信号591が出力され、ストロボトリガ信号591の出力から一定時間後にカメラトリガ信号592が出力される。これにより、ノッチ92の通過の検出時刻から画像取得条件データ691に基づく遅延時間の経過後にヘッド部2による撮像が実行される。アドレスカウンタ513はCNT_ENDが入力されることにより、そのカウンタ値が初期値にリセットされる。
When the
次に、参照基板を用いて行われるステップS11の処理について説明する。まず、参照基板が基板回転部11に固定されて研磨プレート71上に移動し、基板9を研磨する際の角速度と同じ角速度にて回転を開始する。続いて、コンピュータ6から所定の初期設定用の各種パラメータが入力され、ノッチセンサ4がノッチの通過を検出した後、設定された遅延時間だけ遅れて画像が取得される。取得された画像はコンピュータ6のディスプレイ615に表示され、操作者により確認される。
Next, the process of step S11 performed using the reference substrate will be described. First, the reference substrate is fixed to the
操作者の操作により異なる位置の画像取得が指示された場合には、コンピュータ6において遅延時間が僅かに変更され、参照基板の主面上において直前に撮像された位置からずれた位置が撮像され、次の画像がディスプレイ615に表示される。操作者は表示された画像を確認し、所望の画像が取得されるまで遅延時間の変更と画像の取得が繰り返される。
When an image acquisition at a different position is instructed by the operator's operation, the delay time is slightly changed in the
所望の画像(以下、「参照画像」という。)が取得されると、操作者が参照画像中の基準パターンを選択するとともに測定点に対応する点を指定することにより、基準パターンを示すテンプレート画像データ692、および、基板9上の測定点の基準パターンに対する位置情報である測定点位置情報693が固定ディスク614に記憶されるとともに、参照画像が取得された際に入力された各種パラメータの情報も画像取得条件データ691として記憶され、基板9の研磨・画像取得処理に必要な各種情報が準備される。
When a desired image (hereinafter referred to as “reference image”) is acquired, the operator selects a reference pattern in the reference image and designates a point corresponding to the measurement point, thereby indicating a template image indicating the reference pattern.
なお、トリガ生成回路51に入力される各種パラメータの情報ではなく、参照基板上における参照画像の撮像位置を示す情報が画像取得条件データ691として記憶されてもよい。この場合、基板9の処理時にトリガ生成回路51に入力される各種パラメータは、コンピュータ6により参照基板上における参照画像の撮像位置とノッチの位置との間の関係や、基板9の回転の角速度等に基づいて適宜求められる。
Note that information indicating the imaging position of the reference image on the reference board may be stored as the image acquisition condition data 691 instead of the information on various parameters input to the
また、トリガ生成回路51において、ENABLEを「0」として(すなわち、アドレスカウンタ513がOFF状態で)コンピュータ6から画像取得信号をトリガ生成回路51に直接入力することにより、ストロボトリガ信号591およびカメラトリガ信号592が出力されて参照基板の画像が取得されてもよい。さらに、遅延時間は回路パターンの設計データに基づいて計算により求められてもよい。
In the
以上のように、図1の基板研磨システム1では回転する基板9のノッチ92の通過がノッチセンサ4により検出され、ノッチ92の通過時刻から所定の遅延時間経過後にヘッド部2により基板9の主面91が撮像される。すなわち、基板研磨システム1の一部である画像取得装置では、回転する基板9上の所定位置の画像を精度よく取得することが実現される。また、画像取得装置では取得画像と基準パターンを示すテンプレート画像との間におけるパターンマッチングが行われるとともに、基板9上の測定点の基準パターンに対する位置情報に基づく演算が行われ、これにより、取得画像における基板9上の測定点の位置を精度よく求めることができる。さらに、研磨終点検出部632では取得画像中の求められた測定点の位置の画素値に基づいてパターンを有する基板9の研磨の終点を精度よく検出することができる。
As described above, in the
図1の基板研磨システム1では、画像処理ボード623および位置算出部631が省略され、取得画像中の予め定められた位置の画素値に基づいて研磨の終点が検出されてもよい。例えば、回路パターンが未形成である基板9が研磨される際には、図10のステップS11では画像取得条件データ691のみが準備される。そして、基板回転部11による基板9の回転が開始されて基板9の研磨が開始されると(ステップS12)、基板9のノッチ92の通過がノッチセンサ4により検出され(ステップS13)、ノッチ92の通過時刻から所定時間経過後にヘッド部2による撮像が行われる(ステップS14)。
In the
続いて、ステップS15は省略され、研磨終点検出部632に取得画像中の特定位置の画素値(例えば、中央の画素値や中央近傍の画素群の値の平均値等)が入力され、この画素値に基づいて(予め準備された値と比較されたり、画素値の変化に基づいて)研磨の終点に到達したか否かが判定される(ステップS16)。そして、研磨の終点に未到達と判定された場合にはステップS13,S14,S16が繰り返され(ステップS17)、研磨の終点に到達と判定された(研磨の終点が検出された)場合には、研磨を終了するとともに基板9の回転も停止し(ステップS18)、基板9の研磨・画像取得処理が終了する。これにより、基板9にパターンがあまり存在しない場合に合わせて、ヘッド部2にて取得された画像に基づいて研磨の終点を容易に検出することが実現される。
Subsequently, step S15 is omitted, and a pixel value at a specific position in the acquired image (for example, an average value of a central pixel value or a pixel group value in the vicinity of the center, etc.) is input to the polishing end
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made.
上記実施の形態では基板9は円板状とされるが、矩形の基板が主面に垂直な軸を中心として回転され、回転中の矩形基板上の所定位置の画像が取得されてもよい。この場合、例えば矩形基板のコーナー部近傍におけるエッジの通過がノッチセンサ4により検出され、矩形基板が特定の向きとなる時刻(すなわち、一のコーナー部近傍がノッチセンサ4に対向する時刻)から所定の遅延時間経過後にヘッド部2による撮像が実行される。さらに、基板9の外縁部には、山形以外の形状の切欠きが形成されてもよい。なお、基板9は半導体基板に限定されず、ガラス基板やプリント配線基板等の他の種類の基板であってもよい。
In the above embodiment, the substrate 9 has a disk shape, but a rectangular substrate may be rotated around an axis perpendicular to the main surface, and an image at a predetermined position on the rotating rectangular substrate may be acquired. In this case, for example, the passage of the edge in the vicinity of the corner portion of the rectangular substrate is detected by the
ノッチセンサ4における受光部はフォトダイオードアレイであってもよい。この場合、複数のフォトダイオードからの出力が複数のプリアンプによりそれぞれ増幅され、複数のプリアンプからの出力が加算回路により加算されてノッチ検出信号が出力される。
The light receiving portion in the
画像取得条件データ691には、基板9の半径方向に関するヘッド部2の撮像位置の情報が含まれてもよく、この場合、研磨・画像取得処理の開始時にその情報に基づいてヘッド部2が対応する位置へと移動する。
The image acquisition condition data 691 may include information on the imaging position of the
図10に示す処理の流れは、可能な範囲内で適宜変更されてもよい。例えば、基板9の回転が開始された後に、外部からテンプレート画像データおよび測定点位置情報が入力されて準備されてもよい。すなわち、これらの情報はノッチの通過を検出する処理より前に準備されておればよい。 The processing flow shown in FIG. 10 may be appropriately changed within a possible range. For example, after rotation of the substrate 9 is started, template image data and measurement point position information may be input from the outside and prepared. That is, these pieces of information may be prepared before the process of detecting the passage of the notch.
上記実施の形態における画像取得装置としての機能は、特に研磨中の基板の画像を取得する用途に適しているが、基板を回転する他の種類の処理に適用されて回転する基板の画像が取得されてもよい。 The function as an image acquisition device in the above embodiment is particularly suitable for an application for acquiring an image of a substrate being polished, but is applied to other types of processing for rotating a substrate to acquire an image of a rotating substrate. May be.
2 ヘッド部
4 ノッチセンサ
5 ストロボコントローラ
9 基板
11 基板回転部
41 光源
44 フォトダイオード
71 研磨プレート
81 基準パターン
82 測定点
91 主面
92 ノッチ
614 固定ディスク
623 画像処理ボード
631 位置算出部
632 研磨終点検出部
692 テンプレート画像データ
693 測定点位置情報
J1 回転軸
S11〜S18 ステップ
2
Claims (12)
基板を主面に垂直な軸を中心として一定の角速度で回転する基板回転部と、
前記基板回転部が基板を回転する間に、前記基板の主面を撮像する撮像部と、
前記基板回転部により回転する基板のエッジの通過を検出するエッジ通過検出部と、
前記エッジ通過検出部からの出力に基づいて、基板が特定の向きとなる時刻から所定時間経過後に前記撮像部による撮像を実行する撮像制御部と、
を備えることを特徴とする画像取得装置。 An image acquisition device for acquiring an image of a substrate,
A substrate rotating unit that rotates the substrate at a constant angular velocity about an axis perpendicular to the main surface;
An imaging unit that images the main surface of the substrate while the substrate rotating unit rotates the substrate;
An edge passage detection unit that detects passage of an edge of the substrate rotated by the substrate rotation unit;
Based on the output from the edge passage detection unit, an imaging control unit that executes imaging by the imaging unit after a predetermined time has elapsed from the time when the substrate is in a specific orientation;
An image acquisition apparatus comprising:
前記エッジ通過検出部が、基板の外縁部に形成された切欠きの通過を検出することを特徴とする画像取得装置。 The image acquisition device according to claim 1,
The image acquisition apparatus, wherein the edge passage detection unit detects passage of a notch formed in an outer edge portion of a substrate.
前記エッジ通過検出部が、
基板に向けて光を出射する光源と、
前記光源からの光の基板からの反射光を受光する受光部と、
を有し、
前記撮像制御部が、前記受光部からの少なくとも1つの出力パルスの特性に基づく演算により切欠きの通過の検出時刻を求めることを特徴とする画像取得装置。 The image acquisition device according to claim 2,
The edge passage detection unit is
A light source that emits light toward the substrate;
A light receiving unit for receiving reflected light from the substrate of light from the light source;
Have
The image acquisition device, wherein the imaging control unit obtains a detection time of passage of a notch by calculation based on a characteristic of at least one output pulse from the light receiving unit.
基準パターンを示すテンプレート画像のデータ、および、基板上の特定の点の前記基準パターンに対する位置情報を記憶する記憶部と、
前記撮像部により取得された画像と前記テンプレート画像との間におけるパターンマッチングを行うことにより、前記取得された画像中の前記特定の点に対応する点の位置を求める演算部と、
をさらに備えることを特徴とする画像取得装置。 The image acquisition device according to any one of claims 1 to 3,
A storage unit that stores data of a template image indicating a reference pattern, and position information of a specific point on the substrate with respect to the reference pattern;
A calculation unit for obtaining a position of a point corresponding to the specific point in the acquired image by performing pattern matching between the image acquired by the imaging unit and the template image;
An image acquisition apparatus further comprising:
前記基板回転部により回転する基板の主面を研磨する研磨部と、
前記撮像部にて取得された画像に基づいて研磨の終点を検出する研磨終点検出部と、
をさらに備えることを特徴とする画像取得装置。 The image acquisition device according to any one of claims 1 to 3,
A polishing unit for polishing a main surface of the substrate rotated by the substrate rotating unit;
A polishing end point detection unit for detecting a polishing end point based on the image acquired by the imaging unit;
An image acquisition apparatus further comprising:
前記研磨終点検出部が、前記撮像部にて取得された画像中の特定位置の画素の値に基づいて研磨の終点を検出することを特徴とする画像取得装置。 The image acquisition device according to claim 5,
The image acquisition apparatus, wherein the polishing end point detection unit detects a polishing end point based on a value of a pixel at a specific position in the image acquired by the imaging unit.
基準パターンを示すテンプレート画像のデータ、および、基板上の特定の点の前記基準パターンに対する位置情報を記憶する記憶部と、
前記撮像部により取得された画像と前記テンプレート画像との間におけるパターンマッチングを行うことにより、前記取得された画像中の前記特定の点に対応する点の位置を求める演算部と、
をさらに備え、
前記研磨終点検出部が、前記取得された画像中の前記特定の点に対応する点の位置の画素の値に基づいて研磨の終点を検出することを特徴とする画像取得装置。 The image acquisition device according to claim 5,
A storage unit that stores data of a template image indicating a reference pattern, and position information of a specific point on the substrate with respect to the reference pattern;
A calculation unit for obtaining a position of a point corresponding to the specific point in the acquired image by performing pattern matching between the image acquired by the imaging unit and the template image;
Further comprising
The image acquisition device, wherein the polishing end point detection unit detects a polishing end point based on a value of a pixel at a position of a point corresponding to the specific point in the acquired image.
a)基板を主面に垂直な軸を中心として一定の角速度で回転する工程と、
b)回転する前記基板のエッジの通過をエッジ通過検出部にて検出する工程と、
c)前記エッジ通過検出部からの出力に基づいて、前記基板が特定の向きとなる時刻から所定時間経過後に前記基板の主面を撮像部にて撮像する工程と、
を備えることを特徴とする画像取得方法。 An image acquisition method for acquiring an image of a substrate,
a) rotating the substrate at a constant angular velocity about an axis perpendicular to the principal surface;
b) detecting the passage of the edge of the rotating substrate by an edge passage detector;
c) Based on the output from the edge passage detection unit, imaging the main surface of the substrate with an imaging unit after a predetermined time has elapsed from the time when the substrate is in a specific orientation;
An image acquisition method comprising:
前記エッジ通過検出部が、前記基板の外縁部に形成された切欠きの通過を検出することを特徴とする画像取得方法。 The image acquisition method according to claim 8,
The image acquisition method, wherein the edge passage detection unit detects passage of a notch formed in an outer edge portion of the substrate.
前記エッジ通過検出部が、前記基板に向けて光を出射するとともに前記基板からの反射光を受光して少なくとも1つの出力パルスを生成し、
前記c)工程において、前記少なくとも1つの出力パルスの特性に基づく演算により切欠きの通過の検出時刻を求めることを特徴とする画像取得方法。 The image acquisition method according to claim 9,
The edge passage detection unit emits light toward the substrate and receives reflected light from the substrate to generate at least one output pulse;
In the step c), the image acquisition method is characterized in that a notch passage detection time is obtained by calculation based on the characteristics of the at least one output pulse.
前記b)工程よりも前に、基準パターンを示すテンプレート画像のデータ、および、前記基板上の特定の点の前記基準パターンに対する位置情報を準備する工程と、
前記c)工程の後に、前記撮像部により取得された画像と前記テンプレート画像との間におけるパターンマッチングを行うことにより、前記取得された画像中の前記特定の点に対応する点の位置を求める工程と、
をさらに備えることを特徴とする画像取得方法。 The image acquisition method according to any one of claims 8 to 10,
Before the step b), preparing a template image data indicating a reference pattern and position information of the specific point on the substrate with respect to the reference pattern;
Step of obtaining a position of a point corresponding to the specific point in the acquired image by performing pattern matching between the image acquired by the imaging unit and the template image after the step c) When,
An image acquisition method further comprising:
前記a)工程に並行して前記基板の前記主面を研磨する工程と、
前記c)工程の後に、前記撮像部にて取得された画像に基づいて研磨の終点を検出する工程と、
をさらに備えることを特徴とする画像取得方法。 The image acquisition method according to any one of claims 8 to 10,
Polishing the main surface of the substrate in parallel with the step a);
A step of detecting an end point of polishing based on an image acquired by the imaging unit after the step c);
An image acquisition method further comprising:
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A762 | Written abandonment of application |
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