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JP2005169356A - Air knife drying device - Google Patents

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JP2005169356A
JP2005169356A JP2003416863A JP2003416863A JP2005169356A JP 2005169356 A JP2005169356 A JP 2005169356A JP 2003416863 A JP2003416863 A JP 2003416863A JP 2003416863 A JP2003416863 A JP 2003416863A JP 2005169356 A JP2005169356 A JP 2005169356A
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JP
Japan
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air knife
unit
tank
moving path
knife unit
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Application number
JP2003416863A
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Japanese (ja)
Inventor
Yusuke Terao
裕介 寺尾
Shunji Sueki
俊次 末木
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce mist sticking amount to a work in an air knife drying device wherein air is jetted from an air knife unit to the work moving in an air knife tank, while air in the air knife tank is discharged to the outside of the tank by a discharge unit. <P>SOLUTION: This air knife drying device is provided with a first upper air knife unit 20 and a first lower air knife unit 25 disposed at the upper and lower parts of a moving passage 60 respectively at an inlet 10a side in the air knife tank 10; a second upper air knife unit 40 and a second lower air knife unit 45 disposed at the upper and lower parts of the moving passage 60 respectively at an outlet 10b side; and the discharge unit 30 disposed near to the inlet 10a side of the first lower air knife unit 25. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、エアナイフユニットからのエアの噴出により、例えばウエットエッチング工程後の電子回路基板を乾燥させるようにしたエアナイフ乾燥装置に関し、特にミストの付着を抑える対策に関する。   The present invention relates to an air knife drying apparatus that dries an electronic circuit board after, for example, a wet etching process by ejecting air from an air knife unit, and particularly relates to measures for suppressing adhesion of mist.

例えば、液晶表示装置のTFT基板などの基板のウエットエッチング工程に使用されるウエットエッチング装置には、ドライエッチングなどの後工程に備えて、エッチング処理後に水洗処理された基板を乾燥させるようにしたエアナイフ乾燥装置が組み込まれており、このことで、例えば、次工程がドライエッチング処理である場合には、ドライエッチング装置の真空チャンバ内に洗浄液を持ち込んで汚染したり、膜残り不良などの不具合を生じたりしないようになされている。   For example, in a wet etching apparatus used in a wet etching process of a substrate such as a TFT substrate of a liquid crystal display device, an air knife that dries the washed substrate after the etching process in preparation for a subsequent process such as dry etching. For example, when the next process is a dry etching process, a cleaning liquid is brought into the vacuum chamber of the dry etching apparatus to cause contamination or a defect such as a defective film residue. It is made not to do.

従来のエアナイフ乾燥装置としては、図3の縦断側面図に模式的に示す従来例1のように、エアナイフ槽100内の入口100aから出口100bまでの移動路に沿って、複数本のローラ141を有するローラコンベヤ140により移動させられる基板130に対し、前記移動路の上下近傍に、それぞれ、エアなどの気体を噴出するエアナイフユニット110,115と、気体を吸引して排気する排気ユニット120,125とを互いに近接させて配置することで、エアナイフユニット110,115の噴出力と、排気ユニット120,125の吸引力との相乗作用により、基板130の表面に付着している水洗液を強力に除去するとともに、排気ユニット120,125により直ちにエアナイフ槽100の外に排出するようにしたもの(例えば、特許文献1)が知られている。   As a conventional air knife drying apparatus, a plurality of rollers 141 are provided along a moving path from the inlet 100a to the outlet 100b in the air knife tank 100 as in Conventional Example 1 schematically shown in the longitudinal side view of FIG. Air knife units 110 and 115 for ejecting a gas such as air, respectively, and exhaust units 120 and 125 for sucking and exhausting the gas in the vicinity of the upper and lower sides of the moving path with respect to the substrate 130 moved by the roller conveyor 140 having Are arranged close to each other, and the washing liquid adhering to the surface of the substrate 130 is strongly removed by the synergistic action of the jet power of the air knife units 110 and 115 and the suction force of the exhaust units 120 and 125. At the same time, the exhaust unit 120, 125 is used to immediately discharge the air knife tank 100 (eg, In Patent Document 1) is known.

また、特許文献2に記載されているように、図4の同じく縦断側面図に模式的に示す如く、エアナイフ槽200内の出口200b側(同図の左側)における移動路の上下にそれぞれエアナイフユニット210,215を配置する一方、エアナイフ槽200内の入口200a側(同図の右側)の底面部に排気ユニット220の吸引口220aを配置することで、エアナイフ槽200内に出口200b側から入口200a側底部に向かう気流が形成されるようにし、エアナイフユニット210,215の噴出力により基板表面から除去された水洗液を、そのミストがエアナイフ槽200内の上方空間に舞い上がるのを抑えつつ排出するようにしたもの(従来例2)もある。
特開平7−35478号公報(第2頁,図2) 特開2000−230783号公報(第4頁,図2)
Further, as described in Patent Document 2, as schematically shown in the same longitudinal side view of FIG. 4, air knife units are respectively provided above and below the moving path on the outlet 200b side (left side of the figure) in the air knife tank 200. While 210 and 215 are disposed, the suction port 220a of the exhaust unit 220 is disposed on the bottom surface of the air knife tank 200 on the inlet 200a side (the right side in the figure), whereby the inlet 200a from the outlet 200b side into the air knife tank 200 is disposed. An air flow toward the bottom of the side is formed, and the water washing liquid removed from the substrate surface by the jet output of the air knife units 210 and 215 is discharged while suppressing the mist from rising to the upper space in the air knife tank 200. There is also one (conventional example 2).
Japanese Patent Laid-Open No. 7-35478 (second page, FIG. 2) Japanese Patent Laid-Open No. 2000-230783 (page 4, FIG. 2)

しかしながら、従来例1(図3参照)の場合には、エアナイフユニット110,115と排気ユニット120,125との間の各空間領域以外の空間領域において、乱気流が発生しやすく、この乱気流によりミストが浮遊するために、基板130に対するミストの付着量が多いという欠点がある。   However, in the case of Conventional Example 1 (see FIG. 3), turbulence is likely to occur in a space region other than the space regions between the air knife units 110 and 115 and the exhaust units 120 and 125, and mists are generated by this turbulence. Since it floats, there is a drawback that the amount of mist attached to the substrate 130 is large.

一方、従来例2(図4参照)の場合には、エアナイフ槽200内の出口200b側で除去するために、その出口200b側において多くのミストが発生しやすく、その分だけ、やはり基板230に対するミストの付着量が多くなるという難点がある。   On the other hand, in the case of the conventional example 2 (see FIG. 4), since it is removed on the outlet 200b side in the air knife tank 200, a lot of mist is likely to be generated on the outlet 200b side. There is a drawback that the amount of mist attached increases.

本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、エアナイフ槽内を移動する水洗処理後の電子回路基板などのワークに対し、エアナイフユニットによりエアなどの気体を噴出する一方、エアナイフ槽内の気体を排気ユニットにより排気するようにしたエアナイフ乾燥装置において、エアナイフユニットおよび排気ユニットの配置を見直すことで、ワークに対するミストの付着量を少なくできるようにすることにある。   The present invention has been made in view of the above points, and its main purpose is to eject a gas such as air from an air knife unit to a work such as an electronic circuit board that has been washed in water and moves in an air knife tank. On the other hand, in the air knife drying apparatus in which the gas in the air knife tank is exhausted by the exhaust unit, the arrangement of the air knife unit and the exhaust unit is reviewed to reduce the amount of mist attached to the workpiece.

上記の目的を達成すべく、本発明では、エアナイフ槽内の出口側における移動路の上下にエアナイフユニットを配置するとともに、エアナイフ槽内の入口側における移動路の上下にエアナイフユニットを配置し、その入口側下部のエアナイフユニットの近傍に、排気ユニットを配置するようにした。   In order to achieve the above object, in the present invention, the air knife unit is arranged above and below the moving path on the outlet side in the air knife tank, and the air knife unit is arranged above and below the moving path on the inlet side in the air knife tank, An exhaust unit is arranged in the vicinity of the air knife unit at the lower part on the inlet side.

具体的には、入口および出口を有するエアナイフ槽と、このエアナイフ槽内における前記入口から前記出口までの移動路に沿ってワークを移動させる移動手段と、前記エアナイフ槽内の前記入口側における前記移動路の上方に配置されていて、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め下方に向けて噴出する第1上部エアナイフユニットと、前記エアナイフ槽内の前記入口側における前記移動路の下方に配置されていて、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め下方に向けて噴出する第1下部エアナイフユニットとを備えているものとする。さらに、前記エアナイフ槽内の前記出口側における前記移動路の上方に設けられていて、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め下方に向けて噴出する第2上部エアナイフユニットと、前記エアナイフ槽内の前記出口側における前記移動路の下方に配置されていて、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め上方に向けて噴出する第2下部エアナイフユニットとを備えるようにする。そして、前記第1下部エアナイフユニットの近傍でかつ該第1下部エアナイフユニットよりも前記入口側に配置されていて、前記エアナイフ槽内の気体を吸引して排気する排気ユニットを備えているものとする。   Specifically, an air knife tank having an inlet and an outlet, a moving means for moving a work along a moving path from the inlet to the outlet in the air knife tank, and the movement on the inlet side in the air knife tank A first upper air knife unit that is disposed above the path and jets gas toward the inlet side obliquely downward with respect to the workpiece on the movement path; and below the movement path on the inlet side in the air knife tank And a first lower air knife unit that ejects gas toward the inlet side obliquely downward with respect to the workpiece on the moving path. A second upper air knife unit that is provided above the moving path on the outlet side in the air knife tank, and ejects gas toward the inlet side obliquely downward with respect to the workpiece on the moving path; A second lower air knife unit which is disposed below the moving path on the outlet side in the air knife tank and which jets gas toward the inlet side obliquely upward toward the workpiece on the moving path. . And it shall be equipped with the exhaust unit which is arrange | positioned in the vicinity of the said 1st lower air knife unit and the said entrance side rather than this 1st lower air knife unit, and attracts | sucks and exhausts the gas in the said air knife tank. .

尚、上記の構成において、前記第1上部エアナイフユニットおよび前記第2上部エアナイフユニットの単位時間当りの各噴出量を、それぞれ、前記第1下部エアナイフユニットおよび前記第2下部エアナイフユニットの単位時間当りの各噴出量よりも大きくするようにしたり、さらには、前記排気ユニットの単位時間当りの排気量を、前記第1上部エアナイフユニットおよび前記第1下部エアナイフユニットならびに前記第2上部エアナイフユニットおよび前記第2下部エアナイフユニットの単位時間当りの総噴出量よりも大きくするようにすることができる。   In the above-described configuration, the amount of ejection per unit time of the first upper air knife unit and the second upper air knife unit is determined as the amount per unit time of the first lower air knife unit and the second lower air knife unit, respectively. The amount of exhaust per unit time of the exhaust unit may be set to be larger than each ejection amount, or the first upper air knife unit, the first lower air knife unit, the second upper air knife unit, and the second It can be made larger than the total ejection amount per unit time of the lower air knife unit.

また、本発明では、「エアナイフユニット」を、「エア(空気)」のみならず、「気体一般」を噴出するものとしている。   In the present invention, the “air knife unit” ejects not only “air” but also “general gas”.

本発明によれば、第1エアナイフユニットの噴出力と、排気ユニットの吸引力との相乗作用によりエアナイフ槽内の入口側で大半の液体をワークから除去することができるので、エアナイフ槽内の出口側におけるミストの発生量を少なくすることができ、しかも、第2エアナイフユニットの噴出力と、排気ユニットの吸引力とにより出口側から入口側下方に向かう気流を形成して乱流の発生を抑えることができるので、ミストの浮遊を抑えることができ、これらの結果、出口側におけるワークへのミストの付着量を減らすことができる。   According to the present invention, most of the liquid can be removed from the workpiece on the inlet side in the air knife tank by the synergistic action of the jet power of the first air knife unit and the suction force of the exhaust unit. The amount of mist generated on the side can be reduced, and the turbulent flow is suppressed by forming an air flow from the outlet side to the lower side of the inlet side by the jet output of the second air knife unit and the suction force of the exhaust unit. Therefore, the floating of the mist can be suppressed, and as a result, the amount of the mist attached to the workpiece on the outlet side can be reduced.

図1および図2は、それぞれ、本発明の実施形態に係るエアナイフ乾燥装置の全体構成を模式的に示す縦断側面図および縦断平面図であり、このエアナイフ乾燥装置は、液晶表示装置のTFT基板などの電子回路基板のエッチング工程で使用されるウエットエッチング装置の搬出側に組み込まれていて、ウエットエッチング装置本体においてエッチング処理された後、水洗装置において水洗液により水洗処理された基板から前記水洗液を除去して該基板を乾燥させるために用いられる。   1 and 2 are a longitudinal side view and a longitudinal plan view, respectively, schematically showing the overall configuration of an air knife drying apparatus according to an embodiment of the present invention. The air knife drying apparatus includes a TFT substrate of a liquid crystal display device, and the like. Embedded in the carry-out side of the wet etching apparatus used in the etching process of the electronic circuit board, and after being etched in the main body of the wet etching apparatus, the washing liquid is removed from the board that has been washed with the washing liquid in the washing apparatus. Used to remove and dry the substrate.

このエアナイフ乾燥装置は、略直方体をなすエアナイフ槽10を備えている。このエアナイフ槽10の相対向する両側壁(図1および図2の左右両側壁)には、それぞれ、該エアナイフ槽10内に基板70を導入するための入口10aと、基板70をエアナイフ槽10から導出するための出口10bとが設けられている。   The air knife drying apparatus includes an air knife tank 10 having a substantially rectangular parallelepiped shape. The opposite side walls (the left and right side walls in FIGS. 1 and 2) of the air knife tank 10 are respectively provided with an inlet 10a for introducing the substrate 70 into the air knife tank 10 and the substrate 70 from the air knife tank 10. An outlet 10b for leading is provided.

エアナイフ槽10内には、入口10aから出口10bに向かう移動方向(図1および図2の左方向。同各図に白抜きの矢印で示す方向)に所定間隔をおいて互いに平行に並ぶように配置された複数本のローラ51を有する移動手段としてのローラコンベヤ50が設けられている。そして、入口10aから導入された基板70は、このローラコンベヤ50により出口10bに向かって移動するようになっている。ここで、ローラコンベヤ50の複数本のローラ51により、基板70の移動路60が形成されている。   In the air knife tank 10, they are arranged in parallel with each other at a predetermined interval in the moving direction from the inlet 10a to the outlet 10b (the left direction in FIGS. 1 and 2; the direction indicated by the white arrow in each drawing). A roller conveyor 50 as a moving means having a plurality of rollers 51 arranged is provided. The substrate 70 introduced from the inlet 10a is moved toward the outlet 10b by the roller conveyor 50. Here, a moving path 60 of the substrate 70 is formed by the plurality of rollers 51 of the roller conveyor 50.

上記エアナイフ槽10内の入口10a側における移動路60の上方(図1の右側上方)には、第1上部エアナイフユニット20が設けられている。この第1上部エアナイフユニット20は、水平面内において移動路60に直交する方向(図2の上下方向)に対し傾けて配置されていて、エアを噴出するための細幅スリット状の噴出口20aを有する。噴出口20aの幅寸法(スリットの長さ方向寸法)は、移動路60上の基板70の幅寸法(図2の上下方向寸法)よりも少しだけ大きくされており、その噴出口20aは入口10a側斜め下方(図1の右斜め下方)に向けられている。   A first upper air knife unit 20 is provided above the moving path 60 on the inlet 10a side in the air knife tank 10 (upper right side in FIG. 1). The first upper air knife unit 20 is disposed in an inclined manner with respect to a direction (vertical direction in FIG. 2) perpendicular to the moving path 60 in a horizontal plane, and has a narrow slit-like jet outlet 20a for jetting air. Have. The width dimension of the jet outlet 20a (the length dimension of the slit) is slightly larger than the width dimension (vertical dimension of FIG. 2) of the substrate 70 on the moving path 60, and the jet outlet 20a is the inlet 10a. It is directed to the side obliquely downward (right diagonally downward in FIG. 1).

また、エアナイフ槽10内の入口10a側における移動路60の下方(図1の右側下方)には、第1下部エアナイフユニット25が設けられている。この第1下部エアナイフユニット25は、上下方向において第1上部エアナイフユニット20に重なるように、移動路60に直交する水平方向に対し第1上部エアナイフユニット20の場合と同じ角度だけ傾けて配置されていて、エアを噴出するための細幅スリット状の噴出口25aを有する。噴出口25aの幅寸法(スリットの長さ方向寸法)は、第1上部エアナイフユニット20の噴出口20aと略同じである。但し、この噴出口25aは、入口10a側斜め上方(図1の右斜め上方)に向けられており、第1上部エアナイフユニット20の噴出口20aから噴出したエアの吹き付けられる基板70の同じ部位に対し、その下面にエアを吹き付けるようになっている。   A first lower air knife unit 25 is provided below the moving path 60 on the inlet 10a side in the air knife tank 10 (lower right side in FIG. 1). The first lower air knife unit 25 is arranged so as to be inclined by the same angle as that of the first upper air knife unit 20 with respect to the horizontal direction perpendicular to the moving path 60 so as to overlap the first upper air knife unit 20 in the vertical direction. And a narrow slit-like jet outlet 25a for jetting air. The width dimension (the dimension in the length direction of the slit) of the spout 25a is substantially the same as the spout 20a of the first upper air knife unit 20. However, the jet outlet 25a is directed obliquely upward on the inlet 10a side (upward diagonally to the right in FIG. 1). On the other hand, air is blown on the lower surface.

一方、上記エアナイフ槽10内の出口10b側における移動路60の上方(図1の左側上方)には、第2上部エアナイフユニット40が設けられている。この第2上部エアナイフユニット40は、水平面内において移動路60に直交する方向(同図の上下方向)に対し、第1上部エアナイフユニット20の場合と略同じ角度だけ傾けて配置されていて、エアを噴出するための細幅スリット状の噴出口40aを有する。噴出口40aの幅寸法(スリットの長さ方向寸法)は、移動路60上の基板70の幅寸法よりも少しだけ大きくされており、その噴出口40aは、第1上部エアナイフユニット20の噴出口20aの場合と同様に、入口10a側斜め下方(図1の右斜め下方)に向けられている。   On the other hand, a second upper air knife unit 40 is provided above the moving path 60 on the outlet 10b side in the air knife tank 10 (upper left side in FIG. 1). The second upper air knife unit 40 is disposed at an angle substantially the same as that of the first upper air knife unit 20 with respect to a direction (vertical direction in the figure) perpendicular to the moving path 60 in the horizontal plane. Has a narrow slit-like jet outlet 40a. The width dimension of the spout 40a (the dimension in the length direction of the slit) is slightly larger than the width dimension of the substrate 70 on the moving path 60, and the spout 40a is a spout of the first upper air knife unit 20. Similarly to the case of 20a, it is directed obliquely downward on the inlet 10a side (downward diagonally to the right in FIG. 1).

また、エアナイフ槽10内の出口10b側における移動路60の下方(図1の左側下方)には、第2下部エアナイフユニット45が設けられている。この第2下部エアナイフユニット45は、上下方向において第2上部エアナイフユニット40に重なるように、移動路60に直交する水平方向に対し第2上部エアナイフユニット40の場合と同じ角度だけ傾けて配置されていて、エアを噴出するための細幅スリット状の噴出口45aを有する。噴出口45aの幅寸法(スリットの長さ方向寸法)は、第2上部エアナイフユニット40の噴出口40aと略同じである。また、この噴出口45aは、第1下部エアナイフユニット25の噴出口25aの場合と同じく、入口10a側斜め上方(図1の右斜め上方)に向けられており、第2上部エアナイフユニット40の噴出口40aから噴出したエアの吹き付けられる基板70の同じ部位に対し、その下面にエアを吹き付けるようになっている。   A second lower air knife unit 45 is provided below the moving path 60 on the outlet 10b side in the air knife tank 10 (lower left side in FIG. 1). The second lower air knife unit 45 is disposed so as to be inclined by the same angle as that of the second upper air knife unit 40 with respect to the horizontal direction orthogonal to the moving path 60 so as to overlap the second upper air knife unit 40 in the vertical direction. And a narrow slit-like jet outlet 45a for jetting air. The width dimension of the ejection port 45a (the dimension in the length direction of the slit) is substantially the same as that of the ejection port 40a of the second upper air knife unit 40. Further, as with the case of the jet outlet 25a of the first lower air knife unit 25, the jet outlet 45a is directed obliquely upward on the inlet 10a side (upper right diagonal in FIG. 1). Air is blown to the lower surface of the same portion of the substrate 70 to which the air jetted from the outlet 40a is blown.

そして、上記第1下部エアナイフユニット25の近傍でかつ該第1下部エアナイフユニット25よりも入口10a側(図1の右側)の位置には、エアナイフ槽10内のエアなどを吸引して排気する排気ユニット30が設けられている。この排気ユニット30は、第1下部エアナイフユニット25に対し略同じ水平面上に略平行に配置されていて、該第1下部エアナイフユニット25の噴出口25aよりも幅広のスリット状をなす吸引口30aを有する。この吸引口30aの幅寸法(スリットの長さ方向寸法)は、第1下部エアナイフユニット25の噴出口25aの場合と略同じであるが、その吸引口30aは、第1下部エアナイフユニット25の噴出口25aの場合とは異なり、出口10b側斜め上方に向けられている。また、この排気ユニット30は、移動路60上の基板70周りのエアを積極的に吸引できるように、該移動路60に吸引口25aを近接(例えば、数cm〜10cm程度)させて配置されている。尚、各エアナイフユニット20,25,40,45の噴出口20a,25a,40a,45aと、移動路60上の基板70の対応面との間の間隔寸法は、数mm程度となるようにされている。   Then, in the vicinity of the first lower air knife unit 25 and at a position closer to the inlet 10a than the first lower air knife unit 25 (on the right side in FIG. 1), the air in the air knife tank 10 is sucked and exhausted. A unit 30 is provided. The exhaust unit 30 is disposed substantially parallel to the first lower air knife unit 25 on substantially the same horizontal plane, and has a suction port 30a having a slit shape wider than the jet outlet 25a of the first lower air knife unit 25. Have. The suction port 30a has substantially the same width dimension (slit length dimension) as that of the jet port 25a of the first lower air knife unit 25, but the suction port 30a is a jet of the first lower air knife unit 25. Unlike the case of the outlet 25a, the outlet 10b is directed obliquely upward. The exhaust unit 30 is arranged with the suction port 25a close to the moving path 60 (for example, about several cm to 10 cm) so that air around the substrate 70 on the moving path 60 can be positively sucked. ing. In addition, the space | interval dimension between the jet nozzles 20a, 25a, 40a, 45a of each air knife unit 20, 25, 40, 45 and the corresponding surface of the board | substrate 70 on the movement path 60 is set to about several mm. ing.

次に、上記のように構成されたエアナイフ乾燥装置の作用について説明する。尚、第1上部エアナイフユニット20および第2上部エアナイフユニット40の単位時間当りの各噴出量は、第1下部エアナイフユニット25および第2下部エアナイフユニット45の単位時間当りの各噴出量よりも大きく設定(例えば、下部エアナイフユニット25,45の各噴出量が0.8m3 /minであるのに対し、上部エアナイフユニット20,40の各噴出量は1m3 /min)されており、また、排気ユニット30の単位時間当りの吸引量は、第1上部エアナイフユニット20および第1下部エアナイフユニット25ならびに第2上部エアナイフユニット40および第2下部エアナイフユニット45の単位時間当りの総噴出量よりも大きく設定(例えば、エアナイフユニット20,25,40,45の総噴出量が3.6m3 /minであるのに対し、排気ユニット30の吸引量は10m3 /min)されているものとする。 Next, the operation of the air knife drying device configured as described above will be described. Note that the ejection amounts per unit time of the first upper air knife unit 20 and the second upper air knife unit 40 are set larger than the ejection amounts per unit time of the first lower air knife unit 25 and the second lower air knife unit 45. (For example, each ejection amount of the lower air knife units 25 and 45 is 0.8 m 3 / min, whereas each ejection amount of the upper air knife units 20 and 40 is 1 m 3 / min), and the exhaust unit The suction amount per unit time of 30 is set larger than the total ejection amount per unit time of the first upper air knife unit 20 and the first lower air knife unit 25 and the second upper air knife unit 40 and the second lower air knife unit 45 ( for example, the total ejection amount of the air knife units 20,25,40,45 is 3.6 m 3 / While it is in, the suction amount of the exhaust unit 30 is assumed to be 10m 3 / min).

上記のエッチング装置本体においてエッチング処理された後、水洗装置において洗浄液を用いて水洗処理された基板70は、エアナイフ乾燥装置のエアナイフ槽10内に入口10aから導入されると、移動路60に沿ってローラコンベヤ50により出口10bに向かって移動する。   After the substrate 70 that has been etched in the etching apparatus main body and then washed in the water washing apparatus using the washing liquid is introduced from the inlet 10a into the air knife tank 10 of the air knife drying apparatus, the substrate 70 is moved along the moving path 60. The roller conveyor 50 moves toward the outlet 10b.

この基板70の上面に対しては、第1上部エアナイフユニット20から入口10a側斜め下方に向けてエアが噴出される。一方、基板70の下面に対しては、第1下部エアナイフユニット25から入口10a側斜め上方に向けてエアが噴出される。このとき、第1下部エアナイフユニット25の噴出量よりも第1上部エアナイフユニット20の噴出量の方が多いので、基板70がローラコンベヤ50上から浮き上がることはない。   Air is ejected from the first upper air knife unit 20 obliquely downward toward the inlet 10a toward the upper surface of the substrate 70. On the other hand, air is ejected from the first lower air knife unit 25 toward the inlet 10a side obliquely upward toward the lower surface of the substrate 70. At this time, since the ejection amount of the first upper air knife unit 20 is larger than the ejection amount of the first lower air knife unit 25, the substrate 70 does not float from the roller conveyor 50.

また、基板70に付着している水洗液は、第1上部エアナイフユニット20および第1下部エアナイフユニット25からそれぞれ噴出されるエアにより吹き飛ばされる一方、排気ユニット30にエアと共に吸引されることで、基板70から除去される。つまり、第1上部エアナイフユニット20および第1下部エアナイフユニット25と、排気ユニット30とが互いに近接しているので、基板70上の洗浄液には、エアナイフユニット20,25の噴出力と、排気ユニット30の吸引力とが集中して作用し、その両者の相乗効果により強力に除去される。   Further, the washing liquid adhering to the substrate 70 is blown away by the air ejected from the first upper air knife unit 20 and the first lower air knife unit 25, respectively, while being sucked together with the air into the exhaust unit 30, thereby the substrate. 70 is removed. That is, since the first upper air knife unit 20 and the first lower air knife unit 25 and the exhaust unit 30 are close to each other, the cleaning liquid on the substrate 70 contains the jet output of the air knife units 20 and 25 and the exhaust unit 30. The suction force acts in a concentrated manner and is strongly removed by the synergistic effect of both.

さらに、基板70上面の水洗液は、基板70とエアナイフ槽10の側壁との間の隙間を経由して、また、基板70下面の水洗液は、排気ユニット30の吸引口30aとの間の最短距離でもってそれぞれ排気ユニット30に吸引され、エアナイフ槽10内から速やかに排出される。   Further, the washing liquid on the upper surface of the substrate 70 passes through a gap between the substrate 70 and the side wall of the air knife tank 10, and the washing liquid on the lower surface of the substrate 70 is the shortest between the suction port 30 a of the exhaust unit 30. The air is sucked into the exhaust unit 30 at a distance and quickly discharged from the air knife tank 10.

そして、基板70の移動に伴い、第1上部エアナイフユニット20および第1下部エアナイフユニット25によりそれぞれエアの噴出される空間領域と、排気ユニット30によりエアの吸引される空間領域とが基板70の移動方向とは反対の方向(図1および図2の右方向)に順次移行することで、基板70上の洗浄液の大半が除去される。   As the substrate 70 moves, the space area where air is ejected by the first upper air knife unit 20 and the first lower air knife unit 25 and the space area where air is sucked by the exhaust unit 30 move. By sequentially shifting in the direction opposite to the direction (the right direction in FIGS. 1 and 2), most of the cleaning liquid on the substrate 70 is removed.

上記の基板70がエアナイフ槽10内の出口10b側に達すると、今度は、基板70の上面に対しては、第2上部エアナイフユニット40から入口10a側斜め下方に向けてエアが噴出される一方、基板70の下面に対しては、第2下部エアナイフユニット45から入口10a側斜め上方に向けてエアが噴出される。このときも、第2下部エアナイフユニット45の噴出量よりも第2上部エアナイフユニット40の噴出量の方が多いので、基板70がローラコンベヤ50上から浮き上がることはない。   When the above-described substrate 70 reaches the outlet 10b side in the air knife tank 10, this time, air is jetted from the second upper air knife unit 40 toward the inlet 10a side obliquely downward toward the upper surface of the substrate 70. The air is jetted from the second lower air knife unit 45 toward the inlet 10a side obliquely upward toward the lower surface of the substrate 70. Also at this time, since the ejection amount of the second upper air knife unit 40 is larger than the ejection amount of the second lower air knife unit 45, the substrate 70 does not float from the roller conveyor 50.

また、基板70の上面上に未だ残っている水洗液は、第2上部エアナイフユニット40から噴出されるエアにより吹き飛ばされて該基板70から除去され、一方、基板70の下面上に未だ残っている水洗液は、第2下部エアナイフユニット45から噴出されるエアにより吹き飛ばされて該基板70から除去される。   Further, the washing liquid still remaining on the upper surface of the substrate 70 is blown off by the air blown from the second upper air knife unit 40 and removed from the substrate 70, while still remaining on the lower surface of the substrate 70. The washing liquid is blown off by the air ejected from the second lower air knife unit 45 and removed from the substrate 70.

さらに、基板70の上面に付着している残りの水洗液は、基板70とエアナイフ槽10の側壁との間の隙間を経由して、また、基板70の下面に付着している残りの水洗液は、排気ユニット30の吸引口30aとの間の最短距離でもってそれぞれ排気ユニット30に吸引され、エアナイフ槽10内から速やかに排出される。   Further, the remaining washing liquid adhering to the upper surface of the substrate 70 passes through a gap between the substrate 70 and the side wall of the air knife tank 10 and also remains on the lower surface of the substrate 70. Are sucked into the exhaust unit 30 at the shortest distance from the suction port 30a of the exhaust unit 30 and quickly discharged from the air knife tank 10.

このとき、第2上部エアナイフユニット40および第2下部エアナイフユニット45と、排気ユニット30とが互いに離れているので、基板70上面の水洗液は、エアナイフ槽10内の主に上部空間を経由して、また、基板70下面の水洗液は、エアナイフ槽10内の主に下部空間を経由して、それぞれ、入口10a側下方の排気ユニット30に向かって流れる。これらの気流により、エアナイフ槽10内の出口10b側で発生したミストは、浮遊することなく円滑に排出される。   At this time, since the second upper air knife unit 40 and the second lower air knife unit 45 and the exhaust unit 30 are separated from each other, the washing liquid on the upper surface of the substrate 70 mainly passes through the upper space in the air knife tank 10. Further, the washing liquid on the lower surface of the substrate 70 flows toward the exhaust unit 30 below the inlet 10a side mainly through the lower space in the air knife tank 10, respectively. Due to these airflows, the mist generated on the outlet 10b side in the air knife tank 10 is smoothly discharged without floating.

以上のようにして、エアナイフ槽10内において洗浄液が除去されて乾燥した基板70は、出口10bから導出された後、次工程に移行されることとなる。   As described above, the substrate 70 dried by removing the cleaning liquid in the air knife tank 10 is led out from the outlet 10b and then transferred to the next step.

したがって、本実施形態によれば、エアナイフ槽10内の入口10a側において、第1上部および下部エアナイフユニット20,25の噴出力と、排気ユニット30の吸引力との相乗作用により、基板70上の大半の洗浄液を除去することができるので、エアナイフ槽10内の出口10b側において、第2上部および下部エアナイフユニット40,45の噴出力により除去されるべき水洗液を少量に抑えてミストの発生量を少なくすることができ、しかも、第2上部および下部エアナイフユニット40,45の噴出力と、排気ユニット30の吸引力とにより出口10b側から入口10a側下方に向かう気流を形成して乱流の発生を抑えることができるので、ミストの浮遊量および浮遊自体を抑えることができ、これらの結果、出口10b側における基板70へのミストの付着量を、従来の場合(図3および図4参照)に比べて減少させることができる。   Therefore, according to the present embodiment, on the inlet 10 a side in the air knife tank 10, the synergistic action of the jetting power of the first upper and lower air knife units 20 and 25 and the suction force of the exhaust unit 30 causes the above on the substrate 70. Since most of the cleaning liquid can be removed, on the outlet 10b side in the air knife tank 10, the amount of washing water to be removed by the jet power of the second upper and lower air knife units 40, 45 is suppressed to a small amount, and the amount of mist generated In addition, turbulent flow is formed by forming an air flow from the outlet 10b side to the lower side of the inlet 10a by the jet power of the second upper and lower air knife units 40 and 45 and the suction force of the exhaust unit 30. Since the generation can be suppressed, the amount of floating mist and the floating itself can be suppressed. The kick adhesion amount of the mist to the substrate 70 can be reduced as compared with the conventional case (see FIG. 3 and FIG. 4).

尚、上記の実施形態では、上下1組のエアナイフユニットを、それぞれ入口側および出口側の2箇所のみに配置するようにしているが、それらの間に1組以上のエアナイフユニットを追加して配置するようにしてもよい。   In the above embodiment, a pair of upper and lower air knife units are arranged at only two locations on the inlet side and the outlet side, respectively, but one or more air knife units are additionally arranged between them. You may make it do.

また、上記の実施形態では、液晶表示装置のTFT基板などの基板のウエットエッチング工程に使用されるウエットエッチング装置に組み込まれていて、エッチング処理後に液体としての水洗液により水洗処理された基板を乾燥させるようにしたエアナイフ乾燥装置の場合について説明しているが、本発明は、他の処理装置に組み込まれて、又は単独の装置として、ワーク表面に付着している所定の液体を除去して該ワークを乾燥させるようにした種々のエアナイフ乾燥装置に適用することができる。   Further, in the above embodiment, the substrate that has been incorporated in a wet etching apparatus used in a wet etching process of a substrate such as a TFT substrate of a liquid crystal display device, and has been subjected to a water washing treatment as a liquid after the etching treatment is dried. However, the present invention is incorporated in another processing apparatus or as a single apparatus by removing a predetermined liquid adhering to the work surface. The present invention can be applied to various air knife drying apparatuses that dry a workpiece.

本発明の実施形態に係るエアナイフ乾燥装置の全体構成を模式的に示す側面図である。It is a side view which shows typically the whole structure of the air knife drying apparatus which concerns on embodiment of this invention. エアナイフ乾燥装置の全体構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the whole structure of an air knife drying apparatus. 従来例1のエアナイフ乾燥装置の全体構成を模式的に示す図1相当図である。FIG. 2 is a view corresponding to FIG. 従来例2のエアナイフ乾燥装置の全体構成を模式的に示す図1相当図である。FIG. 2 is a view corresponding to FIG. 1 schematically showing the overall configuration of an air knife drying device of Conventional Example 2.

符号の説明Explanation of symbols

10 エアナイフ槽
10a 入口
10b 出口
20 第1上部エアナイフユニット
25 第1下部エアナイフユニット
30 排気ユニット
40 第2上部エアナイフユニット
45 第2下部エアナイフユニット
50 ローラコンベヤ(移動手段)
60 移動路
70 基板(ワーク)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Air knife tank 10a Inlet 10b Outlet 20 1st upper air knife unit 25 1st lower air knife unit 30 Exhaust unit 40 2nd upper air knife unit 45 2nd lower air knife unit 50 Roller conveyor (moving means)
60 travel path 70 substrate (work)

Claims (3)

入口および出口を有するエアナイフ槽と、
前記エアナイフ槽内における前記入口から前記出口までの移動路に沿ってワークを移動させる移動手段と、
前記エアナイフ槽内の前記入口側における前記移動路の上方に配置され、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め下方に向けて噴出する第1の上部エアナイフユニットと、
前記エアナイフ槽内の前記入口側における前記移動路の下方に配置され、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め下方に向けて噴出する第1の下部エアナイフユニットと、
前記エアナイフ槽内の前記出口側における前記移動路の上方に設けられ、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め下方に向けて噴出する第2の上部エアナイフユニットと、
前記エアナイフ槽内の前記出口側における前記移動路の下方に配置され、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め上方に向けて噴出する第2の下部エアナイフユニットと、
前記第1下部エアナイフユニットの近傍でかつ該第1下部エアナイフユニットよりも前記入口側に配置され、前記エアナイフ槽内の気体を吸引して排気する排気ユニットとを備えていることを特徴とするエアナイフ乾燥装置。
An air knife tank having an inlet and an outlet;
Moving means for moving a workpiece along a moving path from the inlet to the outlet in the air knife tank;
A first upper air knife unit which is disposed above the moving path on the inlet side in the air knife tank and jets gas toward the inlet side obliquely downward with respect to the work on the moving path;
A first lower air knife unit that is disposed below the moving path on the inlet side in the air knife tank and jets gas toward the inlet side obliquely downward with respect to the workpiece on the moving path;
A second upper air knife unit that is provided above the moving path on the outlet side in the air knife tank and jets gas toward the inlet side obliquely downward with respect to the work on the moving path;
A second lower air knife unit that is arranged below the moving path on the outlet side in the air knife tank and jets gas toward the inlet side obliquely upward with respect to the work on the moving path;
An air knife comprising: an exhaust unit that is disposed near the first lower air knife unit and closer to the inlet side than the first lower air knife unit, and that sucks and exhausts the gas in the air knife tank. Drying equipment.
請求項1に記載のエアナイフ乾燥装置において、
前記第1上部エアナイフユニットおよび前記第2上部エアナイフユニットの単位時間当りの各噴出量が、それぞれ、前記第1下部エアナイフユニットおよび前記第2下部エアナイフユニットの単位時間当りの各噴出量よりも大きくされていることを特徴とするエアナイフ乾燥装置。
In the air knife drying device according to claim 1,
The ejection amounts per unit time of the first upper air knife unit and the second upper air knife unit are made larger than the ejection amounts per unit time of the first lower air knife unit and the second lower air knife unit, respectively. An air knife drying device characterized by comprising:
請求項1又は2に記載のエアナイフ乾燥装置において、
前記排気ユニットの単位時間当りの排気量が、前記第1上部エアナイフユニットおよび前記第1下部エアナイフユニットならびに前記第2上部エアナイフユニットおよび前記第2下部エアナイフユニットの単位時間当りの総噴出量よりも大きくされていることを特徴とするエアナイフ乾燥装置。
In the air knife drying device according to claim 1 or 2,
The exhaust amount per unit time of the exhaust unit is larger than the total ejection amount per unit time of the first upper air knife unit and the first lower air knife unit and the second upper air knife unit and the second lower air knife unit. An air knife drying device characterized in that
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