JP2005169356A - Air knife drying device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、エアナイフユニットからのエアの噴出により、例えばウエットエッチング工程後の電子回路基板を乾燥させるようにしたエアナイフ乾燥装置に関し、特にミストの付着を抑える対策に関する。 The present invention relates to an air knife drying apparatus that dries an electronic circuit board after, for example, a wet etching process by ejecting air from an air knife unit, and particularly relates to measures for suppressing adhesion of mist.
例えば、液晶表示装置のTFT基板などの基板のウエットエッチング工程に使用されるウエットエッチング装置には、ドライエッチングなどの後工程に備えて、エッチング処理後に水洗処理された基板を乾燥させるようにしたエアナイフ乾燥装置が組み込まれており、このことで、例えば、次工程がドライエッチング処理である場合には、ドライエッチング装置の真空チャンバ内に洗浄液を持ち込んで汚染したり、膜残り不良などの不具合を生じたりしないようになされている。 For example, in a wet etching apparatus used in a wet etching process of a substrate such as a TFT substrate of a liquid crystal display device, an air knife that dries the washed substrate after the etching process in preparation for a subsequent process such as dry etching. For example, when the next process is a dry etching process, a cleaning liquid is brought into the vacuum chamber of the dry etching apparatus to cause contamination or a defect such as a defective film residue. It is made not to do.
従来のエアナイフ乾燥装置としては、図3の縦断側面図に模式的に示す従来例1のように、エアナイフ槽100内の入口100aから出口100bまでの移動路に沿って、複数本のローラ141を有するローラコンベヤ140により移動させられる基板130に対し、前記移動路の上下近傍に、それぞれ、エアなどの気体を噴出するエアナイフユニット110,115と、気体を吸引して排気する排気ユニット120,125とを互いに近接させて配置することで、エアナイフユニット110,115の噴出力と、排気ユニット120,125の吸引力との相乗作用により、基板130の表面に付着している水洗液を強力に除去するとともに、排気ユニット120,125により直ちにエアナイフ槽100の外に排出するようにしたもの(例えば、特許文献1)が知られている。
As a conventional air knife drying apparatus, a plurality of
また、特許文献2に記載されているように、図4の同じく縦断側面図に模式的に示す如く、エアナイフ槽200内の出口200b側(同図の左側)における移動路の上下にそれぞれエアナイフユニット210,215を配置する一方、エアナイフ槽200内の入口200a側(同図の右側)の底面部に排気ユニット220の吸引口220aを配置することで、エアナイフ槽200内に出口200b側から入口200a側底部に向かう気流が形成されるようにし、エアナイフユニット210,215の噴出力により基板表面から除去された水洗液を、そのミストがエアナイフ槽200内の上方空間に舞い上がるのを抑えつつ排出するようにしたもの(従来例2)もある。
しかしながら、従来例1(図3参照)の場合には、エアナイフユニット110,115と排気ユニット120,125との間の各空間領域以外の空間領域において、乱気流が発生しやすく、この乱気流によりミストが浮遊するために、基板130に対するミストの付着量が多いという欠点がある。
However, in the case of Conventional Example 1 (see FIG. 3), turbulence is likely to occur in a space region other than the space regions between the
一方、従来例2(図4参照)の場合には、エアナイフ槽200内の出口200b側で除去するために、その出口200b側において多くのミストが発生しやすく、その分だけ、やはり基板230に対するミストの付着量が多くなるという難点がある。
On the other hand, in the case of the conventional example 2 (see FIG. 4), since it is removed on the
本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、エアナイフ槽内を移動する水洗処理後の電子回路基板などのワークに対し、エアナイフユニットによりエアなどの気体を噴出する一方、エアナイフ槽内の気体を排気ユニットにより排気するようにしたエアナイフ乾燥装置において、エアナイフユニットおよび排気ユニットの配置を見直すことで、ワークに対するミストの付着量を少なくできるようにすることにある。 The present invention has been made in view of the above points, and its main purpose is to eject a gas such as air from an air knife unit to a work such as an electronic circuit board that has been washed in water and moves in an air knife tank. On the other hand, in the air knife drying apparatus in which the gas in the air knife tank is exhausted by the exhaust unit, the arrangement of the air knife unit and the exhaust unit is reviewed to reduce the amount of mist attached to the workpiece.
上記の目的を達成すべく、本発明では、エアナイフ槽内の出口側における移動路の上下にエアナイフユニットを配置するとともに、エアナイフ槽内の入口側における移動路の上下にエアナイフユニットを配置し、その入口側下部のエアナイフユニットの近傍に、排気ユニットを配置するようにした。 In order to achieve the above object, in the present invention, the air knife unit is arranged above and below the moving path on the outlet side in the air knife tank, and the air knife unit is arranged above and below the moving path on the inlet side in the air knife tank, An exhaust unit is arranged in the vicinity of the air knife unit at the lower part on the inlet side.
具体的には、入口および出口を有するエアナイフ槽と、このエアナイフ槽内における前記入口から前記出口までの移動路に沿ってワークを移動させる移動手段と、前記エアナイフ槽内の前記入口側における前記移動路の上方に配置されていて、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め下方に向けて噴出する第1上部エアナイフユニットと、前記エアナイフ槽内の前記入口側における前記移動路の下方に配置されていて、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め下方に向けて噴出する第1下部エアナイフユニットとを備えているものとする。さらに、前記エアナイフ槽内の前記出口側における前記移動路の上方に設けられていて、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め下方に向けて噴出する第2上部エアナイフユニットと、前記エアナイフ槽内の前記出口側における前記移動路の下方に配置されていて、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め上方に向けて噴出する第2下部エアナイフユニットとを備えるようにする。そして、前記第1下部エアナイフユニットの近傍でかつ該第1下部エアナイフユニットよりも前記入口側に配置されていて、前記エアナイフ槽内の気体を吸引して排気する排気ユニットを備えているものとする。 Specifically, an air knife tank having an inlet and an outlet, a moving means for moving a work along a moving path from the inlet to the outlet in the air knife tank, and the movement on the inlet side in the air knife tank A first upper air knife unit that is disposed above the path and jets gas toward the inlet side obliquely downward with respect to the workpiece on the movement path; and below the movement path on the inlet side in the air knife tank And a first lower air knife unit that ejects gas toward the inlet side obliquely downward with respect to the workpiece on the moving path. A second upper air knife unit that is provided above the moving path on the outlet side in the air knife tank, and ejects gas toward the inlet side obliquely downward with respect to the workpiece on the moving path; A second lower air knife unit which is disposed below the moving path on the outlet side in the air knife tank and which jets gas toward the inlet side obliquely upward toward the workpiece on the moving path. . And it shall be equipped with the exhaust unit which is arrange | positioned in the vicinity of the said 1st lower air knife unit and the said entrance side rather than this 1st lower air knife unit, and attracts | sucks and exhausts the gas in the said air knife tank. .
尚、上記の構成において、前記第1上部エアナイフユニットおよび前記第2上部エアナイフユニットの単位時間当りの各噴出量を、それぞれ、前記第1下部エアナイフユニットおよび前記第2下部エアナイフユニットの単位時間当りの各噴出量よりも大きくするようにしたり、さらには、前記排気ユニットの単位時間当りの排気量を、前記第1上部エアナイフユニットおよび前記第1下部エアナイフユニットならびに前記第2上部エアナイフユニットおよび前記第2下部エアナイフユニットの単位時間当りの総噴出量よりも大きくするようにすることができる。 In the above-described configuration, the amount of ejection per unit time of the first upper air knife unit and the second upper air knife unit is determined as the amount per unit time of the first lower air knife unit and the second lower air knife unit, respectively. The amount of exhaust per unit time of the exhaust unit may be set to be larger than each ejection amount, or the first upper air knife unit, the first lower air knife unit, the second upper air knife unit, and the second It can be made larger than the total ejection amount per unit time of the lower air knife unit.
また、本発明では、「エアナイフユニット」を、「エア(空気)」のみならず、「気体一般」を噴出するものとしている。 In the present invention, the “air knife unit” ejects not only “air” but also “general gas”.
本発明によれば、第1エアナイフユニットの噴出力と、排気ユニットの吸引力との相乗作用によりエアナイフ槽内の入口側で大半の液体をワークから除去することができるので、エアナイフ槽内の出口側におけるミストの発生量を少なくすることができ、しかも、第2エアナイフユニットの噴出力と、排気ユニットの吸引力とにより出口側から入口側下方に向かう気流を形成して乱流の発生を抑えることができるので、ミストの浮遊を抑えることができ、これらの結果、出口側におけるワークへのミストの付着量を減らすことができる。 According to the present invention, most of the liquid can be removed from the workpiece on the inlet side in the air knife tank by the synergistic action of the jet power of the first air knife unit and the suction force of the exhaust unit. The amount of mist generated on the side can be reduced, and the turbulent flow is suppressed by forming an air flow from the outlet side to the lower side of the inlet side by the jet output of the second air knife unit and the suction force of the exhaust unit. Therefore, the floating of the mist can be suppressed, and as a result, the amount of the mist attached to the workpiece on the outlet side can be reduced.
図1および図2は、それぞれ、本発明の実施形態に係るエアナイフ乾燥装置の全体構成を模式的に示す縦断側面図および縦断平面図であり、このエアナイフ乾燥装置は、液晶表示装置のTFT基板などの電子回路基板のエッチング工程で使用されるウエットエッチング装置の搬出側に組み込まれていて、ウエットエッチング装置本体においてエッチング処理された後、水洗装置において水洗液により水洗処理された基板から前記水洗液を除去して該基板を乾燥させるために用いられる。 1 and 2 are a longitudinal side view and a longitudinal plan view, respectively, schematically showing the overall configuration of an air knife drying apparatus according to an embodiment of the present invention. The air knife drying apparatus includes a TFT substrate of a liquid crystal display device, and the like. Embedded in the carry-out side of the wet etching apparatus used in the etching process of the electronic circuit board, and after being etched in the main body of the wet etching apparatus, the washing liquid is removed from the board that has been washed with the washing liquid in the washing apparatus. Used to remove and dry the substrate.
このエアナイフ乾燥装置は、略直方体をなすエアナイフ槽10を備えている。このエアナイフ槽10の相対向する両側壁(図1および図2の左右両側壁)には、それぞれ、該エアナイフ槽10内に基板70を導入するための入口10aと、基板70をエアナイフ槽10から導出するための出口10bとが設けられている。
The air knife drying apparatus includes an
エアナイフ槽10内には、入口10aから出口10bに向かう移動方向(図1および図2の左方向。同各図に白抜きの矢印で示す方向)に所定間隔をおいて互いに平行に並ぶように配置された複数本のローラ51を有する移動手段としてのローラコンベヤ50が設けられている。そして、入口10aから導入された基板70は、このローラコンベヤ50により出口10bに向かって移動するようになっている。ここで、ローラコンベヤ50の複数本のローラ51により、基板70の移動路60が形成されている。
In the
上記エアナイフ槽10内の入口10a側における移動路60の上方(図1の右側上方)には、第1上部エアナイフユニット20が設けられている。この第1上部エアナイフユニット20は、水平面内において移動路60に直交する方向(図2の上下方向)に対し傾けて配置されていて、エアを噴出するための細幅スリット状の噴出口20aを有する。噴出口20aの幅寸法(スリットの長さ方向寸法)は、移動路60上の基板70の幅寸法(図2の上下方向寸法)よりも少しだけ大きくされており、その噴出口20aは入口10a側斜め下方(図1の右斜め下方)に向けられている。
A first upper
また、エアナイフ槽10内の入口10a側における移動路60の下方(図1の右側下方)には、第1下部エアナイフユニット25が設けられている。この第1下部エアナイフユニット25は、上下方向において第1上部エアナイフユニット20に重なるように、移動路60に直交する水平方向に対し第1上部エアナイフユニット20の場合と同じ角度だけ傾けて配置されていて、エアを噴出するための細幅スリット状の噴出口25aを有する。噴出口25aの幅寸法(スリットの長さ方向寸法)は、第1上部エアナイフユニット20の噴出口20aと略同じである。但し、この噴出口25aは、入口10a側斜め上方(図1の右斜め上方)に向けられており、第1上部エアナイフユニット20の噴出口20aから噴出したエアの吹き付けられる基板70の同じ部位に対し、その下面にエアを吹き付けるようになっている。
A first lower air knife unit 25 is provided below the moving
一方、上記エアナイフ槽10内の出口10b側における移動路60の上方(図1の左側上方)には、第2上部エアナイフユニット40が設けられている。この第2上部エアナイフユニット40は、水平面内において移動路60に直交する方向(同図の上下方向)に対し、第1上部エアナイフユニット20の場合と略同じ角度だけ傾けて配置されていて、エアを噴出するための細幅スリット状の噴出口40aを有する。噴出口40aの幅寸法(スリットの長さ方向寸法)は、移動路60上の基板70の幅寸法よりも少しだけ大きくされており、その噴出口40aは、第1上部エアナイフユニット20の噴出口20aの場合と同様に、入口10a側斜め下方(図1の右斜め下方)に向けられている。
On the other hand, a second upper
また、エアナイフ槽10内の出口10b側における移動路60の下方(図1の左側下方)には、第2下部エアナイフユニット45が設けられている。この第2下部エアナイフユニット45は、上下方向において第2上部エアナイフユニット40に重なるように、移動路60に直交する水平方向に対し第2上部エアナイフユニット40の場合と同じ角度だけ傾けて配置されていて、エアを噴出するための細幅スリット状の噴出口45aを有する。噴出口45aの幅寸法(スリットの長さ方向寸法)は、第2上部エアナイフユニット40の噴出口40aと略同じである。また、この噴出口45aは、第1下部エアナイフユニット25の噴出口25aの場合と同じく、入口10a側斜め上方(図1の右斜め上方)に向けられており、第2上部エアナイフユニット40の噴出口40aから噴出したエアの吹き付けられる基板70の同じ部位に対し、その下面にエアを吹き付けるようになっている。
A second lower air knife unit 45 is provided below the moving
そして、上記第1下部エアナイフユニット25の近傍でかつ該第1下部エアナイフユニット25よりも入口10a側(図1の右側)の位置には、エアナイフ槽10内のエアなどを吸引して排気する排気ユニット30が設けられている。この排気ユニット30は、第1下部エアナイフユニット25に対し略同じ水平面上に略平行に配置されていて、該第1下部エアナイフユニット25の噴出口25aよりも幅広のスリット状をなす吸引口30aを有する。この吸引口30aの幅寸法(スリットの長さ方向寸法)は、第1下部エアナイフユニット25の噴出口25aの場合と略同じであるが、その吸引口30aは、第1下部エアナイフユニット25の噴出口25aの場合とは異なり、出口10b側斜め上方に向けられている。また、この排気ユニット30は、移動路60上の基板70周りのエアを積極的に吸引できるように、該移動路60に吸引口25aを近接(例えば、数cm〜10cm程度)させて配置されている。尚、各エアナイフユニット20,25,40,45の噴出口20a,25a,40a,45aと、移動路60上の基板70の対応面との間の間隔寸法は、数mm程度となるようにされている。
Then, in the vicinity of the first lower air knife unit 25 and at a position closer to the
次に、上記のように構成されたエアナイフ乾燥装置の作用について説明する。尚、第1上部エアナイフユニット20および第2上部エアナイフユニット40の単位時間当りの各噴出量は、第1下部エアナイフユニット25および第2下部エアナイフユニット45の単位時間当りの各噴出量よりも大きく設定(例えば、下部エアナイフユニット25,45の各噴出量が0.8m3 /minであるのに対し、上部エアナイフユニット20,40の各噴出量は1m3 /min)されており、また、排気ユニット30の単位時間当りの吸引量は、第1上部エアナイフユニット20および第1下部エアナイフユニット25ならびに第2上部エアナイフユニット40および第2下部エアナイフユニット45の単位時間当りの総噴出量よりも大きく設定(例えば、エアナイフユニット20,25,40,45の総噴出量が3.6m3 /minであるのに対し、排気ユニット30の吸引量は10m3 /min)されているものとする。
Next, the operation of the air knife drying device configured as described above will be described. Note that the ejection amounts per unit time of the first upper
上記のエッチング装置本体においてエッチング処理された後、水洗装置において洗浄液を用いて水洗処理された基板70は、エアナイフ乾燥装置のエアナイフ槽10内に入口10aから導入されると、移動路60に沿ってローラコンベヤ50により出口10bに向かって移動する。
After the
この基板70の上面に対しては、第1上部エアナイフユニット20から入口10a側斜め下方に向けてエアが噴出される。一方、基板70の下面に対しては、第1下部エアナイフユニット25から入口10a側斜め上方に向けてエアが噴出される。このとき、第1下部エアナイフユニット25の噴出量よりも第1上部エアナイフユニット20の噴出量の方が多いので、基板70がローラコンベヤ50上から浮き上がることはない。
Air is ejected from the first upper
また、基板70に付着している水洗液は、第1上部エアナイフユニット20および第1下部エアナイフユニット25からそれぞれ噴出されるエアにより吹き飛ばされる一方、排気ユニット30にエアと共に吸引されることで、基板70から除去される。つまり、第1上部エアナイフユニット20および第1下部エアナイフユニット25と、排気ユニット30とが互いに近接しているので、基板70上の洗浄液には、エアナイフユニット20,25の噴出力と、排気ユニット30の吸引力とが集中して作用し、その両者の相乗効果により強力に除去される。
Further, the washing liquid adhering to the
さらに、基板70上面の水洗液は、基板70とエアナイフ槽10の側壁との間の隙間を経由して、また、基板70下面の水洗液は、排気ユニット30の吸引口30aとの間の最短距離でもってそれぞれ排気ユニット30に吸引され、エアナイフ槽10内から速やかに排出される。
Further, the washing liquid on the upper surface of the
そして、基板70の移動に伴い、第1上部エアナイフユニット20および第1下部エアナイフユニット25によりそれぞれエアの噴出される空間領域と、排気ユニット30によりエアの吸引される空間領域とが基板70の移動方向とは反対の方向(図1および図2の右方向)に順次移行することで、基板70上の洗浄液の大半が除去される。
As the
上記の基板70がエアナイフ槽10内の出口10b側に達すると、今度は、基板70の上面に対しては、第2上部エアナイフユニット40から入口10a側斜め下方に向けてエアが噴出される一方、基板70の下面に対しては、第2下部エアナイフユニット45から入口10a側斜め上方に向けてエアが噴出される。このときも、第2下部エアナイフユニット45の噴出量よりも第2上部エアナイフユニット40の噴出量の方が多いので、基板70がローラコンベヤ50上から浮き上がることはない。
When the above-described
また、基板70の上面上に未だ残っている水洗液は、第2上部エアナイフユニット40から噴出されるエアにより吹き飛ばされて該基板70から除去され、一方、基板70の下面上に未だ残っている水洗液は、第2下部エアナイフユニット45から噴出されるエアにより吹き飛ばされて該基板70から除去される。
Further, the washing liquid still remaining on the upper surface of the
さらに、基板70の上面に付着している残りの水洗液は、基板70とエアナイフ槽10の側壁との間の隙間を経由して、また、基板70の下面に付着している残りの水洗液は、排気ユニット30の吸引口30aとの間の最短距離でもってそれぞれ排気ユニット30に吸引され、エアナイフ槽10内から速やかに排出される。
Further, the remaining washing liquid adhering to the upper surface of the
このとき、第2上部エアナイフユニット40および第2下部エアナイフユニット45と、排気ユニット30とが互いに離れているので、基板70上面の水洗液は、エアナイフ槽10内の主に上部空間を経由して、また、基板70下面の水洗液は、エアナイフ槽10内の主に下部空間を経由して、それぞれ、入口10a側下方の排気ユニット30に向かって流れる。これらの気流により、エアナイフ槽10内の出口10b側で発生したミストは、浮遊することなく円滑に排出される。
At this time, since the second upper
以上のようにして、エアナイフ槽10内において洗浄液が除去されて乾燥した基板70は、出口10bから導出された後、次工程に移行されることとなる。
As described above, the
したがって、本実施形態によれば、エアナイフ槽10内の入口10a側において、第1上部および下部エアナイフユニット20,25の噴出力と、排気ユニット30の吸引力との相乗作用により、基板70上の大半の洗浄液を除去することができるので、エアナイフ槽10内の出口10b側において、第2上部および下部エアナイフユニット40,45の噴出力により除去されるべき水洗液を少量に抑えてミストの発生量を少なくすることができ、しかも、第2上部および下部エアナイフユニット40,45の噴出力と、排気ユニット30の吸引力とにより出口10b側から入口10a側下方に向かう気流を形成して乱流の発生を抑えることができるので、ミストの浮遊量および浮遊自体を抑えることができ、これらの結果、出口10b側における基板70へのミストの付着量を、従来の場合(図3および図4参照)に比べて減少させることができる。
Therefore, according to the present embodiment, on the
尚、上記の実施形態では、上下1組のエアナイフユニットを、それぞれ入口側および出口側の2箇所のみに配置するようにしているが、それらの間に1組以上のエアナイフユニットを追加して配置するようにしてもよい。 In the above embodiment, a pair of upper and lower air knife units are arranged at only two locations on the inlet side and the outlet side, respectively, but one or more air knife units are additionally arranged between them. You may make it do.
また、上記の実施形態では、液晶表示装置のTFT基板などの基板のウエットエッチング工程に使用されるウエットエッチング装置に組み込まれていて、エッチング処理後に液体としての水洗液により水洗処理された基板を乾燥させるようにしたエアナイフ乾燥装置の場合について説明しているが、本発明は、他の処理装置に組み込まれて、又は単独の装置として、ワーク表面に付着している所定の液体を除去して該ワークを乾燥させるようにした種々のエアナイフ乾燥装置に適用することができる。 Further, in the above embodiment, the substrate that has been incorporated in a wet etching apparatus used in a wet etching process of a substrate such as a TFT substrate of a liquid crystal display device, and has been subjected to a water washing treatment as a liquid after the etching treatment is dried. However, the present invention is incorporated in another processing apparatus or as a single apparatus by removing a predetermined liquid adhering to the work surface. The present invention can be applied to various air knife drying apparatuses that dry a workpiece.
10 エアナイフ槽
10a 入口
10b 出口
20 第1上部エアナイフユニット
25 第1下部エアナイフユニット
30 排気ユニット
40 第2上部エアナイフユニット
45 第2下部エアナイフユニット
50 ローラコンベヤ(移動手段)
60 移動路
70 基板(ワーク)
DESCRIPTION OF
60
Claims (3)
前記エアナイフ槽内における前記入口から前記出口までの移動路に沿ってワークを移動させる移動手段と、
前記エアナイフ槽内の前記入口側における前記移動路の上方に配置され、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め下方に向けて噴出する第1の上部エアナイフユニットと、
前記エアナイフ槽内の前記入口側における前記移動路の下方に配置され、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め下方に向けて噴出する第1の下部エアナイフユニットと、
前記エアナイフ槽内の前記出口側における前記移動路の上方に設けられ、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め下方に向けて噴出する第2の上部エアナイフユニットと、
前記エアナイフ槽内の前記出口側における前記移動路の下方に配置され、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め上方に向けて噴出する第2の下部エアナイフユニットと、
前記第1下部エアナイフユニットの近傍でかつ該第1下部エアナイフユニットよりも前記入口側に配置され、前記エアナイフ槽内の気体を吸引して排気する排気ユニットとを備えていることを特徴とするエアナイフ乾燥装置。 An air knife tank having an inlet and an outlet;
Moving means for moving a workpiece along a moving path from the inlet to the outlet in the air knife tank;
A first upper air knife unit which is disposed above the moving path on the inlet side in the air knife tank and jets gas toward the inlet side obliquely downward with respect to the work on the moving path;
A first lower air knife unit that is disposed below the moving path on the inlet side in the air knife tank and jets gas toward the inlet side obliquely downward with respect to the workpiece on the moving path;
A second upper air knife unit that is provided above the moving path on the outlet side in the air knife tank and jets gas toward the inlet side obliquely downward with respect to the work on the moving path;
A second lower air knife unit that is arranged below the moving path on the outlet side in the air knife tank and jets gas toward the inlet side obliquely upward with respect to the work on the moving path;
An air knife comprising: an exhaust unit that is disposed near the first lower air knife unit and closer to the inlet side than the first lower air knife unit, and that sucks and exhausts the gas in the air knife tank. Drying equipment.
前記第1上部エアナイフユニットおよび前記第2上部エアナイフユニットの単位時間当りの各噴出量が、それぞれ、前記第1下部エアナイフユニットおよび前記第2下部エアナイフユニットの単位時間当りの各噴出量よりも大きくされていることを特徴とするエアナイフ乾燥装置。 In the air knife drying device according to claim 1,
The ejection amounts per unit time of the first upper air knife unit and the second upper air knife unit are made larger than the ejection amounts per unit time of the first lower air knife unit and the second lower air knife unit, respectively. An air knife drying device characterized by comprising:
前記排気ユニットの単位時間当りの排気量が、前記第1上部エアナイフユニットおよび前記第1下部エアナイフユニットならびに前記第2上部エアナイフユニットおよび前記第2下部エアナイフユニットの単位時間当りの総噴出量よりも大きくされていることを特徴とするエアナイフ乾燥装置。
In the air knife drying device according to claim 1 or 2,
The exhaust amount per unit time of the exhaust unit is larger than the total ejection amount per unit time of the first upper air knife unit and the first lower air knife unit and the second upper air knife unit and the second lower air knife unit. An air knife drying device characterized in that
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