[go: up one dir, main page]

JP2005135958A - 真空ピンセット - Google Patents

真空ピンセット Download PDF

Info

Publication number
JP2005135958A
JP2005135958A JP2003367156A JP2003367156A JP2005135958A JP 2005135958 A JP2005135958 A JP 2005135958A JP 2003367156 A JP2003367156 A JP 2003367156A JP 2003367156 A JP2003367156 A JP 2003367156A JP 2005135958 A JP2005135958 A JP 2005135958A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
suction
wafer
adapter
vacuum
divided
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003367156A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaaki Kanazawa
全彰 金澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd, Kansai Nippon Electric Co Ltd filed Critical Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2003367156A priority Critical patent/JP2005135958A/ja
Publication of JP2005135958A publication Critical patent/JP2005135958A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Manipulator (AREA)

Abstract

【課題】 ウェーハ、特に機械的強度の低い薄ウェーハに割れや傷を発生させることなく、安定して吸着保持することができる真空ピンセットを提供する。
【解決手段】 本発明の真空ピンセット1は、ピンセット本体2と吸着アダプタ3とで構成されている。吸着アダプタ3は、ウェーハの吸着または離脱を行なう吸引口8が開口された吸着チップ9と、ピンセット本体2の前側に装着される筒状体による連結管10と、吸着チップ9と連結管10の間に介在され、吸着チップ9と一体化した扁平な筒状体による吸引導管11とで構成されている。この連結管10と吸引導管11の軸心には、吸着チップ9の吸引口8と連通させる吸引流路12が穿設されている。さらに、吸着チップ9の吸着面には、細かく分割された多数の分割吸着溝13が形成されている。
【選択図】 図1

Description

本発明は、半導体ウェーハを真空吸着する真空ピンセットに関し、特に、薄ウェーハに割れや傷を生ずることなく安定して真空吸着できる真空ピンセットに関する。
半導体製造工程では、半導体ウェーハ(以下、ウェーハと言う)に種々の処理を行なうために、複数枚のウェーハが収納されたキャリアから半導体製造装置のボートへの移し替えが行なわれる。このとき、ウェーハの移し替えには、ウェーハを真空圧により吸着保持する真空ピンセットが使用され、例えば、特開9−139420号公報に開示されている。
図8(a)〜(c)は、従来の真空ピンセットの平面図、吸着アダプタの拡大平面図及びE−E断面図である。図8に示す従来の真空ピンセット81は、ピンセット本体82と吸着アダプタ83とで構成されている。
図8(a)に示すように、ピンセット本体82は、内部に流路の形成されたハンドル部84と、流路の開閉操作を行なう開閉弁の操作ボタン85とを有している。また、ピンセット本体82の前側には吸着アダプタ83が装着され、ピンセット本体82の後側には吸引ホース86を介して真空ポンプ87が接続されている。
一方、吸着アダプタ83は、図8(b)、(c)で詳細を示すように、ウェーハの吸着または離脱を行なう吸引口88が開口された吸着チップ89と、ピンセット本体82の前側に装着される筒状体による連結管90と、吸着チップ89と連結管90の間に介在され、吸着チップ89と一体化した扁平な筒状体による吸引導管91とで構成されている。この連結管90と吸引導管91の軸心には、吸着チップ89の吸引口88と連通させる吸引流路92が穿設されている。さらに、吸着チップ89には、ウェーハを吸着するための櫛歯状の吸着溝93が形成されている。この真空ピンセット81における、操作ボタン85による吸着方式としては、操作ボタン85を押さないとき開閉弁を吸着可能な状態にしたノーマルオープン形式のもの、または、操作ボタン85を押さないとき開閉弁を吸着不能な状態にしたノーマルクローズ形式とすることができる。また、耐熱性、耐薬品性および耐磨耗性に優れるという点から、吸着チップ89の吸着面板は全芳香族系ポリイミド樹脂材で形成され、吸着面板を除く吸着チップ89及び吸引導管91はカーボン繊維入りのポリエーテルエーテルケトンで形成されている。
特開平9−139420号公報(第2,3頁、0002段落〜0020段落、図1,図2)
しかし、従来の真空ピンセット81には、以下のような問題があった。近年、LSIパッケージのさらなる薄型化が要求され、これに対応して従来の300μm程度から50〜100μm程度まで厚さを薄くした薄ウェーハが使用されるようになっている。このようにウェーハの厚さが薄くなると、機械的強度が低下して工程中のストレスにより割れやすくなるため、取扱いに細心の注意を払う必要がある。
従来の真空ピンセット81では、取り扱うウェーハなどの被吸着部材に対して電気的及び機械的な性能を損なうようなダメージを与えないために、吸着チップ89を構成する部材は、上述したように耐熱性、耐薬品性および耐磨耗性に優れた合成樹脂材を用いた構成になっている。しかし、このような構成であっても、吸着溝93の幅が大きく形成されているため、ウェーハの広い面積に亘って強い吸引ストレスが作用し、ウェーハ全体が下側に引っ張られる。その結果、厚さ100μm以下の薄ウェーハはこの吸引力に耐えられずに割れたり傷が入り、製品歩留りが大きく低下するという問題があった。
本発明は、上記問題点を解決するために考えられたもので、ウェーハ、特に機械的強度の低い薄ウェーハに割れや傷を発生させることなく、安定して吸着保持することができる真空ピンセットを提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の請求項1記載の真空ピンセットは、内部に吸引流路が形成され、前記吸引流路を開閉操作する開閉弁が装着されたピンセット本体と、前記吸引流路に連結する吸引口を介して半導体ウェーハを真空吸着する吸着アダプタで構成された真空ピンセットであって、前記吸着アダプタの吸着面に、細かく分割された分割吸着溝が形成されていることを特徴とする。この構成によれば、細かく分割された分割吸着溝で半導体ウェーハを吸着するので、半導体ウェーハにかかる吸着ストレスが分散され、厚さ100μm以下の薄ウェーハであっても割れや傷を発生させることなく、安定して吸着保持できる。
また、請求項2記載の真空ピンセットは、請求項1記載の真空ピンセットであって、前記分割吸着溝の外側に、前記分割吸着溝よりも大きな幅を有する幅広吸着溝が形成されていることを特徴とする。この構成によれば、分割吸着溝で薄ウェーハを吸着し、幅広吸着溝で通常ウェーハを吸着するので、吸着アダプタを交換することなく、重量の異なる薄ウェーハと通常ウェーハを吸着保持できる。
また、請求項3記載の真空ピンセットは、請求項1又は2記載の真空ピンセットであって、前記吸着アダプタの吸着面が、前記吸着アダプタの両面に形成されていることを特徴とする。この構成によっても、分割吸着溝で薄ウェーハを吸着し、幅広吸着溝で通常ウェーハを吸着するので、吸着アダプタを交換することなく、重量の異なる薄ウェーハと通常ウェーハを個別又は同時に吸着保持できる。
また、請求項4記載の真空ピンセットは、請求項1〜3記載の真空ピンセットであって、前記ピンセット本体の吸引流路に、半導体ウェーハの吸着状態の良否を検出する圧力センサが設置されていることを特徴とする。この構成によれば、半導体ウェーハの吸着不良を確実に検出できるので、割れや傷を未然に防止できる。
また、請求項5記載の真空ピンセットは、請求項1〜3記載の真空ピンセットであって、前記ピンセット本体の吸引流路に、半導体ウェーハの吸着状態の良否を検出する圧力センサが設置されていることを特徴とする。この構成によっても、半導体ウェーハの吸着不良を確実に検出できるので、割れや傷を未然に防止できる。
また、請求項6記載の真空ピンセットは、請求項1〜5記載の真空ピンセットであって、前記分割吸着溝が、四角形状、円形状、十字形状であることを特徴とする。この構成によれば、いずれの形状も半導体ウェーハにかかる吸着ストレスが分散されるので、厚さ100μm以下の薄ウェーハであっても割れや傷を発生させることなく、安定して吸着保持できる。
以上説明したように、本発明の真空ピンセットは、吸着アダプタの吸着面に細かく分割された分割吸着溝を形成したので、ウェーハにかかる吸引ストレスを分散することができ、厚さが100μm以下の薄ウェーハを吸着する場合であっても割れや傷の発生を防止することができ、製品歩留りが向上する。
また、分割吸着溝の外側に、分割吸着溝よりも幅の大きな幅広吸着溝を形成したり、この分割吸着溝や幅広吸着溝を吸着アダプタの両面に形成したので、吸着アダプタを交換することなく、重量の異なる薄ウェーハや通常ウェーハを個別又は同時に吸着することができ、作業効率が向上する。
また、吸着アダプタの吸着面又はピンセット本体の吸引流路に圧力センサを設けたので、作業者が確実にウェーハの吸着状態の良否を知ることができ、誤ってウェーハを落下させて破損させることがなくなり、製品歩留りが向上する。
以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照して説明する。図1(a)〜(c)は、本発明の第1実施例である真空ピンセットの平面図、吸着アダプタの拡大平面図及びA−A断面図である。
図1(a)に示すように、本実施例の真空ピンセット1は、ピンセット本体2と吸着アダプタ3とで構成されている。ピンセット本体2は、内部に流路の形成されたハンドル部4と、流路の開閉操作を行なう開閉弁の操作ボタン5とを有している。また、ピンセット本体2の前側には吸着アダプタ3が装着され、ピンセット本体2の後側には吸引ホース6を介して真空ポンプ7が接続されている。一方、吸着アダプタ3は、図1(b)、(c)で詳細を示すように、ウェーハの吸着または離脱を行なう吸引口8が開口された吸着チップ9と、ピンセット本体2の前側に装着される筒状体による連結管10と、吸着チップ9と連結管10の間に介在され、吸着チップ9と一体化した扁平な筒状体による吸引導管11とで構成されている。この連結管10と吸引導管11の軸心には、吸着チップ9の吸引口8と連通させる吸引流路12が穿設されている。
さらに、吸着チップ9の吸着面には、細かく分割された多数の分割吸着溝13が形成されている。このようにすれば、吸着チップ9の吸着面に吸引部と非吸引部が交互に形成されたことになり、ウェーハにかかる吸引ストレスが分散され、ウェーハ全体が下側に強く引っ張られることがなくなる。これにより、厚さ100μm以下の薄ウェーハを吸着する場合であっても、割れや傷を効果的に防止することができる。
次に、本発明の第2実施例である真空ピンセットについて、図2(a)、(b)の吸着アダプタの拡大平面図及びB−B断面図を用いて説明する。なお、図2(a)、(b)において、上述した第1実施例と同一の構成には同一の符号を付して説明を省略する。
この実施例において上述した第1実施例と相違するところは、吸着アダプタ21における吸着チップ9の吸着面に細かく分割された多数の分割吸着溝13を形成し、さらに分割吸着溝13の外側に、分割吸着溝13よりも幅の大きな幅広吸着溝22を形成したことである。この幅広吸着溝22は分割吸着溝13と異なる吸引流路23に吸引口24を介して連通されている。そして、薄ウェーハを吸着するときには吸引流路12を開放し、また通常ウェーハを吸着するときには吸引流路23を開放する。このようにすれば、吸着アダプタ21を交換することなく、重量の異なる薄ウェーハと通常ウェーハを吸着保持できる。
次に、本発明の第3実施例である真空ピンセットについて、図3(a)〜(c)の吸着アダプタの表面側、裏面側の拡大平面図及びC−C断面図を用いて説明する。なお、図3(a)〜(c)において、上述した第1実施例と同一の構成には同一の符号を付して説明を省略する。
この実施例において上述した第1実施例と相違するところは、吸着アダプタ31における吸着チップ9の吸着面の表面側に細かく分割された多数の分割吸着溝13を形成し、さらに吸着面の裏面側に分割吸着溝13よりも大きな幅を有する櫛歯状の幅広吸着溝32を形成したことである。この櫛歯状の幅広吸着溝32は、分割吸着溝13と異なる吸引流路33に吸引口34を介して連通されている。そして、薄ウェーハを吸着するときには吸引流路12を開放し、また通常ウェーハを吸着するときには吸引流路33を開放する。このようにすれば、吸着アダプタ31を交換することなく、重量の異なる薄ウェーハと通常ウェーハを個別又は同時に吸着保持できる。
次に、本発明の第4実施例である真空ピンセットについて、図4(a)〜(c)の吸着アダプタの表面側、裏面側の拡大平面図及びD−D断面図を用いて説明する。この実施例は、上述した第2実施例の変形例である。
この実施例において上述した第2実施例と相違するところは、吸着アダプタ41における吸着チップ9の吸着面に細かく分割された多数の分割吸着溝13を形成し、さらに分割吸着溝13の外側に、分割吸着溝13よりも大きな幅を有する幅広吸着溝22を形成し、さらにこの分割吸着溝13と幅広吸着溝22を吸着チップ9の吸着面の表面側と裏面側に形成したことである。また、分割吸着溝13と幅広吸着溝22は、異なる吸引流路12、23と吸引口8、24を介して連通されている。そして、薄ウェーハを吸着するときには吸引流路12を開放し、また通常ウェーハを吸着するときには吸引流路23を開放する。このようにすれば、吸着アダプタ41を交換することなく、重量の異なる薄ウェーハと通常ウェーハを個別又は同時に吸着保持できる。
次に、本発明の第5実施例である真空ピンセットについて、図5(a)、(b)の真空ピンセットの平面図、一部断面側面図を用いて説明する。なお、図5(a)、(b)において、上述した第1実施例と同一の構成には同一の符号を付して説明を省略する。
真空ピンセット51にウェーハを吸着する際、吸引ホース6の破損やピンセット本体2への吸着アダプタ3の取り付け不良によるシール性の低下、又はウェーハの反りの影響等により、ウェーハが正常に吸着されていない場合がある。そして、作業者がそのことに気付かずにウェーハの移し替えを行い、真空ピンセット51からウェーハを落下させて破損させてしまうことがある。これを防止するために、本実施例では、真空ピンセット51における吸着アダプタ3の吸着面に受圧材52、圧力センサ53及び弾性材54を設け、さらにピンセット本体2に圧力センサ53の電気信号に応じて制御信号を出力する制御部55と、制御部55の制御信号に応じてウェーハ吸着状態の良否を表示する表示部56が、新しく設けられている。
通常、受圧材52は、弾性材54により吸着アダプタ3の吸着面より突き出た位置に設置されている。そして、ウェーハが真空ピンセット51に吸着されると、吸着アダプタ9の吸着面に設けた受圧材52がウェーハから圧力を受け、圧電素子等からなる圧力センサ53にその圧力が加わり電気信号に変換された後、制御部54に送られる。制御部54ではこの電気信号を予め設定した設定値と比較し、所定値以上であればウェーハの吸着状態が正常であると判断する。逆に、所定値より低い場合はウェーハの吸着状態が異常であると判断する。これらの結果は、制御信号として表示部55に送られ、表示部55に設けたLEDを赤や青に点灯させる。これにより、作業者が確実にウェーハの吸着状態の良否を知ることができ、吸着が悪い状態で誤ってウェーハを移し替えることがなくなり、ウェーハの落下や破損を防止できる。
また、本実施例の他の構成として、図6の真空ピンセット61の一部断面側面図に示すように、ピンセット本体2の吸引流路12の開閉操作を行なう開閉弁の操作ボタン5と吸着アダプタ3の間に、圧力センサ62、制御部63及び表示部64を設け、ウェーハを吸着した際の吸引圧力異常の有無を検出するようにしてもよい。ウェーハの吸着状態が悪い場合は吸引圧力が低下するので、このような構成によっても、確実にウェーハ吸着状態の良否を検出することができる。また、表示部64の代わりに警報部を設け、ウェーハ吸着異常の有無を音により作業者に知らせることもできる。
以上、上述した本発明の真空ピンセットでは、薄ウェーハを吸着するための分割吸着溝として四角形状のものについて説明したが、形状はこれに限定されるものではない。吸引力が分散される形状のものであればよく、例えば、図7(a)、(b)に示すように、円形状の分割吸着溝71、十字形状の分割吸着溝72を形成するようにしてもよい。
吸着アダプタの吸着面に細かく分割された分割吸着溝を形成することによって、ウェーハにかかる吸引ストレスを分散することができ、厚さが100μm以下の薄ウェーハを吸着する場合であっても割れや傷の発生を防止することができ、製品歩留りを向上できる。
本発明の第1実施例の真空ピンセットの平面図、吸着アダプタの拡大平面図及びA−A断面図 本発明の第2実施例の真空ピンセットにおける吸着アダプタの拡大平面図及びB−B断面図 本発明の第3実施例の真空ピンセットにおける吸着アダプタの表面側、裏面側の拡大平面図及びC−C断面図 本発明の第4実施例の真空ピンセットにおける吸着アダプタの表面側、裏面側の拡大平面図及びD−D断面図 本発明の第5実施例の真空ピンセットの平面図、一部断面側面図 本発明の第5実施例の変形例を示す真空ピンセットの一部断面側面図 本発明の真空ピンセットにおける分割吸着溝の他の形状例 従来の真空ピンセットの平面図、吸着アダプタの拡大平面図及びE−E断面図
符号の説明
1 本発明の第1実施例の真空ピンセット
2 ピンセット本体
3 吸着アダプタ
4 ハンドル部
5 操作ボタン
6 吸引ホース
7 真空ポンプ
8 吸引口
9 吸着チップ
10 連結管
11 吸引導管
12 吸引流路
13 分割吸着溝
21 本発明の第2実施例の真空ピンセットの吸着アダプタ
22 幅広吸着溝
23 吸引流路
24 吸引口
31 本発明の第3実施例の真空ピンセットの吸着アダプタ
32 櫛歯状の幅広吸着溝
33 吸引流路
34 吸引口
41 本発明の第4実施例の真空ピンセットの吸着アダプタ
51 本発明の第5実施例の真空ピンセット
52 受圧材
53 圧力センサ
54 弾性材
55 制御部
56 表示部
61 本発明の第5実施例の他の真空ピンセット
62 圧力センサ
63 制御部
64 表示部
71 円形状の分割吸着溝
72 十字形状の分割吸着溝
81 従来の真空ピンセット
82 ピンセット本体
83 吸着アダプタ
84 ハンドル部
85 操作ボタン
86 吸引ホース
87 真空ポンプ
88 吸引口
89 吸着チップ
90 連結管
91 吸引導管
92 吸引流路
93 櫛歯状の吸着溝

Claims (6)

  1. 内部に吸引流路が形成され、前記吸引流路を開閉操作する開閉弁が装着されたピンセット本体と、前記吸引流路に連結する吸引口を介して半導体ウェーハを真空吸着する吸着アダプタで構成された真空ピンセットにおいて、前記吸着アダプタの吸着面に、細かく分割された分割吸着溝が形成されていることを特徴とする真空ピンセット。
  2. 前記分割吸着溝の外側に、前記分割吸着溝よりも大きな幅を有する幅広吸着溝が形成されていることを特徴とする請求項1記載の真空ピンセット。
  3. 前記吸着アダプタの吸着面が、前記吸着アダプタの両面に形成されていることを特徴とする請求項1又は2記載の真空ピンセット。
  4. 前記吸着アダプタの吸着面に、半導体ウェーハの吸着状態の良否を検出する圧力センサが設置されていることを特徴とする請求項1〜3記載の真空ピンセット。
  5. 前記ピンセット本体の吸引流路に、半導体ウェーハの吸着状態の良否を検出する圧力センサが設置されていることを特徴とする請求項1〜3記載の真空ピンセット。
  6. 前記分割吸着溝が、四角形状、円形状、十字形状であることを特徴とする請求項1〜5記載の真空ピンセット。
JP2003367156A 2003-10-28 2003-10-28 真空ピンセット Pending JP2005135958A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003367156A JP2005135958A (ja) 2003-10-28 2003-10-28 真空ピンセット

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003367156A JP2005135958A (ja) 2003-10-28 2003-10-28 真空ピンセット

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005135958A true JP2005135958A (ja) 2005-05-26

Family

ID=34645248

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003367156A Pending JP2005135958A (ja) 2003-10-28 2003-10-28 真空ピンセット

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005135958A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010225671A (ja) * 2009-03-19 2010-10-07 Toyota Motor Corp ワーク搬送用機器およびワーク搬送方法
CN102259762A (zh) * 2011-07-18 2011-11-30 浙江索日光电科技有限公司 太阳能硅片吸笔
JP2012232823A (ja) * 2011-04-28 2012-11-29 Yanmar Co Ltd 選果システム
JP2014050940A (ja) * 2012-09-10 2014-03-20 Toyota Motor Corp ロボットハンド及び搬送装置
CN104008993A (zh) * 2014-06-19 2014-08-27 成都聚合科技有限公司 一种吸取硅电池片的真空吸笔
KR20160047907A (ko) * 2014-10-23 2016-05-03 주식회사 쿠온솔루션 웨이퍼 이송 장치

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010225671A (ja) * 2009-03-19 2010-10-07 Toyota Motor Corp ワーク搬送用機器およびワーク搬送方法
JP2012232823A (ja) * 2011-04-28 2012-11-29 Yanmar Co Ltd 選果システム
CN102259762A (zh) * 2011-07-18 2011-11-30 浙江索日光电科技有限公司 太阳能硅片吸笔
JP2014050940A (ja) * 2012-09-10 2014-03-20 Toyota Motor Corp ロボットハンド及び搬送装置
CN104008993A (zh) * 2014-06-19 2014-08-27 成都聚合科技有限公司 一种吸取硅电池片的真空吸笔
KR20160047907A (ko) * 2014-10-23 2016-05-03 주식회사 쿠온솔루션 웨이퍼 이송 장치
KR101684739B1 (ko) * 2014-10-23 2016-12-20 주식회사 쿠온솔루션 웨이퍼 이송 장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4740414B2 (ja) 基板搬送装置
US6467827B1 (en) IC wafer handling apparatus incorporating edge-gripping and pressure or vacuum driven end-effectors
TW200811391A (en) Purge gas unit and purge gas supply integrated unit
WO2013183741A1 (ja) 基板検査装置
WO2007114331A1 (ja) 薄板収納容器
JP2005135958A (ja) 真空ピンセット
US9162342B2 (en) Carrier head and carrier head unit
CN100440427C (zh) 等离子体处理室
JP2007115600A (ja) 燃料電池用セパレータ並びにその搬送方法及び搬送装置
JP2023508728A (ja) ダイアフラムポンプ漏れ検出
JP2007214529A (ja) ベルヌーイチャック
JPH1145930A (ja) 吸着ヘッド
US20070084562A1 (en) Plasma processing chamber
JP2007329297A (ja) 薄膜状物体の保持装置及び薄膜状物体を保持するためのハンド
JP5329916B2 (ja) 半導体ウエハの支持具
JP2002184835A (ja) 吸着パッド
CN214643745U (zh) 真空吸附式环形末端夹持器
JPH05315434A (ja) 半導体ウェーハ保持具
KR20120045758A (ko) 비접촉식 이송장치
CN221596415U (zh) 一种晶圆吸附结构及晶圆吸附手指
JP2008226976A (ja) 基板等の取扱装置及び基板等の取扱方法
JPS62219634A (ja) 真空保持装置
KR20080068319A (ko) 기판 반송 장치
CN216288364U (zh) 多点式平面真空吸盘
JP2009115663A (ja) 搬送装置、ハンドラおよび試験装置

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20050513