JP2005134521A - 光学素子 - Google Patents

Abstract

【課題】高温条件及び高温高湿度条件における、温度追従性能を有する光学補償フィルムの光学補償効果の劣化を軽減した光学素子を実現する。
【解決手段】光学素子１０は、偏光板７と、保護層３と、光学補償フィルム８と、ガラス板６とからなる。偏光板７に保護層３が設けられ、この保護層３と光学補償フィルム８の液晶性化合物層５の面とが粘着剤層４ｂにより貼合されており、光学補償フィルム８の高分子フィルム層１ａとの面とガラス板６とが粘着層剤４ａにより貼合されている。保護層３は、偏光板７と粘着剤層４ｂとの間に形成され、偏光板７の光学特性及び液晶性化合物層５の光学特性を損ねることなく、高分子フィルム層１ｂから液晶性化合物層５への接着性向上剤、ブロッキング防止剤又は可塑剤等の移行を抑制する。
【選択図】図１

Description

本発明は液晶表示素子に用いる光学素子に係るものであり、詳しくは温度追従型の液晶性化合物層を有する光学補償フィルムを含む光学素子に関する。

従来、ポリカーボネートに代表される一軸性及びニ軸性の高分子位相差フィルムが、液晶表示素子の光学補償（位相差補償）効果を発揮することが知られている。しかし、従来の高分子位相差フィルムが補償する位相差値は温度変化によって変化することはなかった。従って、ポリカーボネート等の高分子位相差フィルムにより液晶表示素子の光学補償を行っている液晶ディスプレイは温度が変動する条件下では、温度によっては視野角やコントラストが悪くなるといった問題があった。

近年では、温度変化に伴って変化する液晶表示素子の位相差値と同様に、補償すべき位相差値を温度変化に伴って変化させる（温度追従性能を有する）ことで、広範囲な温度において良好な位相差値の補償を可能とする温度追従型の光学補償フィルムが開発されている。しかしながら、上記温度追従型の光学補償フィルムは、液晶性化合物層の架橋密度が低いため、外部から液晶性化合物層に侵入した物質によって液晶性化合物層の液晶配向が乱されやすく、液晶ディスプレイの表示品質が低下するといった問題があった。

特許文献１には、基材フィルムとしてのアセチルセルローズ系フィルムと液晶表示装置上の粘着層との間に、硬化塗膜層を設けることが記載されているが、温度追従型の光学補償フィルムに用いることの記載はない。
特許第３４０４７８６号公報

本発明の課題は、上記問題を解決するために、偏光板及び／又は基材フィルムと、液晶性化合物層との間での物質の移行を抑制し、液晶性化合物層の液晶分子の配向の均一性を保持することにより、温度追従性能を有する光学補償フィルムにおける光学補償効果の劣化を軽減した光学素子を実現することを目的とする。

本発明者らは前記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、光学素子において液晶性化合物層への物質の移行を抑制する保護層を設けることにより前記問題点を解決するに至った。即ち本発明は、
（１）高分子フィルム層／偏光素子／高分子フィルム層／保護層／粘着剤層／温度追従性液晶性化合物層／ラビング処理された高分子フィルム層より構成されることを特徴とする光学素子、
（２）保護層が紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物からなることを特徴とする請求項１に記載の光学素子、
（３）高分子フィルムがセルロース誘導体を主成分とすることを特徴とする請求項１及び２記載の光学素子、
に関するものである。

偏光板の支持体や基板を構成するセルロース誘導体を主成分とするフィルムは通常可塑剤としてトリフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート、エチルフタリルエチルグリコレート等を含むため、これらの可塑剤による液晶性化合物層の液晶分子の配向の乱れが顕著であった。本発明によれば、光学素子に含まれる偏光板及び／または基板から液晶性化合物層へこれらの可塑剤等が移行することを抑制できるので液晶性化合物層の液晶分子の配向の均一性を保持し、光学補償効果の劣化を軽減することができる。その結果、光学素子の光学補償の耐久性を向上させると共に、この光学素子を用いた液晶ディスプレイの表示品質の低下を防ぐことができる。

また、本発明によれば、液晶性化合物層の液晶分子の配向を乱す可塑剤等の移行が顕著になる高温条件下または高温高湿条件下においても、これらの可塑剤等の液晶化合物層への移行を抑制出来ることから、光学素子の光学補償の耐久性を向上させることができる。従って、この光学素子を用いることにより、例えば、車内や屋外といったような長時間高温高湿条件下となり、かつ温度が変化しやすい使用条件下においても高い表示品質を有する液晶ディスプレイが実現できる。

以下、図を参照して本発明の好適な実施の形態について説明する。
図１は本発明の光学素子１０の構成の一例を示す模式図である。光学素子１０は、偏光板７と、保護層３と、光学補償フィルム８と、粘着剤層４ｂとからなる。

光学補償フィルム８は、広い温度範囲で光学補償効果を発揮する温度追従型の光学補償フィルムであり、液晶性化合物層５及び液晶性化合物層５の基板である高分子フィルム層１ａから構成される。液晶性化合物層５の面が粘着剤層４ｂにより、保護層３と貼合されている。

光学素子１０を液晶表示素子と組み合わせる場合には、光学補償フィルム８の高分子フィルム層１ａの面が粘着剤層４ａにより液晶表示素子を構成するガラス板６と貼合される。

液晶性化合物層５に用いられる液晶性化合物は、液晶分子が側鎖型に配向し、それにより複屈折性を有し、液晶表示素子の位相差値を補償するものであり、低い架橋密度の高分子液晶物質からなる。ここで、低い架橋密度とは、５５℃以上で１０^７Ｐａ・ｓよりも低い動粘度となるように架橋されたことを意味する。また、高分子液晶物質としては、５０℃より低い、好ましくは−５０℃〜＋３５℃、より好ましくは０℃〜＋３５℃のＴｇ（ガラス転移温度）を有し、かつ６０℃〜１３０℃、より好ましくは８０℃〜１３０℃のＴｃ（透明温度）を有するものである。また、高分子液晶物質は、ＴｇからＴｃの温度範囲でネマチック又はディスコティックネマチック相をもち、０〜３００°の捩れ構造を形成している。

上述した、高分子液晶物質のＴｇ、Ｔｃの値は、本発明の光学素子と組み合わされる液晶表示素子は−５０℃〜＋３５℃のＴｇにおいて適切な動粘度を有し、液晶表示素子のＴｃが８０℃〜１３０℃である場合について述べたものであり、本発明は上記範囲に限定されるものではない。高分子液晶物質のＴｃは、液晶表示素子と組合わせる際、その液晶表示素子の液晶物質のＴｃとの差が−３０℃〜＋３０℃、好ましくは−２０℃〜＋２０℃、より好ましくは−１０℃〜＋１０℃の範囲となれば良い。なぜならば、高分子液晶物質のＴｃと液晶表示素子のＴｃとが近い値であることにより、液晶表示素子の位相差値の温度依存性と、液晶性化合物層の位相差値の温度依存性とをより近いものにすることができるからである。また、同様に高分子液晶物質のＴｇも、組み合される液晶表示素子のＴｇと近い値であることが好ましい。

また、液晶性化合物層の機械的弾性を十分に高くする上で、高分子液晶物質の動粘度が作動温度範囲において常に１００Ｐａ・ｓを越えることが好ましい。

高分子液晶物質としては、液晶ガラス、液晶側鎖型ポリマー（例えば、ポリエーテル、ポリ（メタ）アクリレート、ポリビニルエーテル、ポリシロキサン）が挙げられる。例えば、上述したＴｃ値、Ｔｇ値、粘度要求を容易に充足するものとして活性化モノマー機構に従って重合される液晶性ポリエーテルが特に好ましい。特にＯＨ含有化合物、及びメソゲン基含有モノエポキシドを含むモノマー混合物を重合することにより得られるポリエーテルであることが好ましい。

高分子フィルム層１ａを形成する高分子フィルムとしては、光学補償フィルム８の光学特性を低下させない程度の平滑性を有するものが好ましい。そのような高分子フィルムとしては例えば、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース誘導体を主成分とするフィルムや、ノルボルネン誘導体などのシクロオレフィンポリマーを主成分とするフィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルを主成分とするフィルム、ポリカーボネートおよびその誘導体を主成分とするフィルム、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリアルキレンおよびその誘導体を主成分とするフィルム等が挙げられる。これらのフィルムは、一軸、若しくは二軸に延伸されていても良い。

偏光板７は、偏光素子２の両面に支持体としての高分子フィルム層１ｂ、１ｃが貼り合わされた構成であり、偏光板７の片面、高分子フィルム層１ｂ面に保護層３が貼合されている。偏光素子２は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム等の高分子フィルムにヨウ素または二色性染料が吸着され配向されてなるものである。高分子フィルム層１ｂ、１ｃを形成する高分子フィルムとしては、高分子フィルム層１ａと同様の高分子フィルムが挙げられる。また、それらの内、セルロース誘導体を主成分とするフィルムは透明性が高い点で好ましく、特にトリアセチルセルロースは汎用性、偏光素子２との組み合わせの容易性の点から好適に用いられる。なお、高分子フィルム層１ａ、１ｂ、１ｃはそれぞれ異なる高分子フィルムであっても良いし、同一の高分子フィルムであっても良い。

また、高分子フィルム層１ｂ、１ｃは、通常接着性向上剤、ブロッキング防止剤、可塑剤等を含んでいる。特にトリアセチルセルロースのようなセルロース誘導体を主成分とするフィルムは成形性、可とう性を付与するために通常、トリフェニルフォスフェート（以下、ＴＰＰと称する。）やビフェニルジフェニルフォスフェートやエチルフタリルエチルグリコレート等のフタル酸エステル等の可塑剤等を含有している。これら接着性向上剤、ブロッキング防止剤、可塑剤等は経時変化、特に高温条件下、高温高湿条件下における経時変化に伴って高分子フィルム層１ｂ、１ｃの表面に移行する。これらの接着性向上剤、ブロッキング防止剤、可塑剤等は、液晶性化合物層５に侵入すると、液晶性化合物層５の液晶分子の配向を乱す原因となる。

粘着剤層４ａ、４ｂは、例えばアクリル系粘着剤を使用する。粘着剤層４ａ、４ｂはそれぞれ異なる粘着剤であり、粘着剤層４ａは液晶性化合物の自由度を阻害しないための架橋度の低い粘着剤を、粘着剤層４ｂはガラス面との接着力を上げることのできる添加剤を含んだ粘着剤であることが好ましい。

保護層３は、偏光板７と粘着剤層４ｂとの間に形成され、偏光板７の光学特性及び液晶性化合物層５の光学特性を損ねることなく、偏光板７を構成する高分子フィルム層１ｂの表面から液晶性化合物層５への物質（上述した粘着性向上剤、ブロッキング防止剤、可塑剤等）の移行を抑制する。

保護層３としては、高分子フィルム層１ｂに金属酸化物を蒸着させたものや、紫外線硬化型樹脂組成物を硬化させたものや、高分子化合物層を形成させたものが挙げられるが、紫外線硬化型樹脂組成物を硬化させたものが上述した可塑剤、ブロッキング防止剤、接着性向上剤の移行の抑制効果に優れ、保護層３としての形成も容易であることから好適に用いられる。

保護層３として用いられる紫外線硬化型組成物としては種々の（メタ）アクリレート化合物と光重合開始剤とからなるものが好適である。（メタ）アクリレート化合物としては例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートとの反応生成物、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートとイソホロンジイソシアネートとの反応生成物、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリス（メタアクリロキシエチル）イソシアヌレート、グリセロールトリグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸との反応生成物、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸との反応生成物、トリグリセロールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジグリシジルと（メタ）アクリル酸との反応生成物、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸との反応生成物、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸との反応生成物、ビス（アクリロキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（メタアクリロキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸との反応生成物、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクタン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−シアノエチル（メタ）アクリレート、ブチルグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸との反応生成物、ブトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート等が挙げられるが、偏光板７の高分子フィルム層１ｂから液晶性化合物層５への可塑剤の移行を抑えるために分子内に２つ以上の（メタ）アクリル基を有するアクリレート化合物を含む紫外線硬化型樹脂組成物を選ぶのが好ましい。

上記のような紫外線硬化型組成物を保護層３とすることにより、紫外線による硬化後の保護層３は各々の（メタ）アクリレート化合物が密に重合しているため、高分子フィルム層１ｂから液晶性化合物層５への物質の移行を効果的に抑制することができる。特に、ビスフェノールＡと（メタ）アクリル酸との反応生成物ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸との反応生成物のように、ビスフェノールＡまたはその誘導体と（メタ）アクリル酸との反応生成物からなる（メタ）アクリレート化合物を含む紫外線硬化型樹脂組成物は、高分子フィルム層１ｂから液晶性化合物層５への物質の移行をより効果的に抑制することができるため、保護層３として好適に用いられる。

また、紫外線硬化型樹脂組成物が保護層３として用いられる場合には、該紫外線硬化型樹脂組成物を紫外線により硬化させる為に、光重合開始剤が添加される。使用しうる光重合開始剤としては例えば、２−ベンジルー２−ジメチルアミノー１（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンー１、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロパン−１、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）―フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１フェニルプロパン−１−オン又はジエトキシアセトフェノン等のアセトフェノン系化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル又は２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン等のベンゾイン化合物、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド又は３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、チオキサンソン、２−クロルチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、２，４−ジメチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４−ジクロオチオキサンソン、２，４−ジエチルチオキサンソン又は２，４−ジイソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系化合物等が挙げられる。これらの光重合開始剤は１種類で使用してもよく、複数種類で使用してもよい。複数種類で使用する場合には、任意の割合で混合して使用することが可能である。

また、光重合開始剤として、ベンゾフェノン系化合物やチオキサンソン系化合物を用いる場合には、光重合反応を促進させるために、助剤を併用することも可能である。このような助剤としては例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−メチルジエタノールアミン、ジエチルアミノエチルメタアクリレート、ミヒラーケトン、４，４−ジエチルアミノフェノン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ｎ−ブトキシエチル又は４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等のアミン系化合物が挙げられる。

光重合開始剤または助剤を使用した場合、光重合開始剤および助剤は重合しないため保護層３内にそのまま存在することとなる。そして、これらの光重合開始剤および助剤が液晶性化合物５内に移行し、液晶分子の配向を乱す可能性もある。従って、光重合開始剤の添加量は、液晶性化合物層５の液晶分子の配向に影響を与えない範囲で使用することが好ましく、その量は、紫外線硬化型樹脂組成物中の（メタ）アクリレート化合物１００重量部に対して、好ましくは０．５重量部以上１０重量部以下、より好ましくは２重量部以上８重量部以下程度がよい。また、助剤は光重合開始剤に対して、重量比で０．５倍から２倍量程度がよい。

また、上述した紫外線硬化型樹脂組成物を保護層３として用いる場合には、保護層３としての機能を損なうものでなければ、他の化合物を添加することも可能である。そのような化合物としては、前記記載の（メタ）アクリレート化合物以外の分子内に（メタ）アクリル基若しくは（メタ）アクリロイル基を１つ以上有する（メタ）アクリレート化合物、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアクリル酸などの高分子化合物等が挙げられる。

次いで、紫外線硬化型樹脂組成物を用いた場合を例に挙げて保護層３を作製する方法を説明する。まず紫外線硬化型樹脂組成物を直接または下記に例示されるような溶剤を用いて希釈し、高分子フィルム層１ｂに塗布する。その後加熱等により溶剤を除去し、紫外線を照射することにより保護層３を得ることができる。塗布する際に用いられる紫外線硬化型樹脂組成物用の溶剤としては該組成物の溶解性、塗布時の基板上への濡れ性に優れているものであれば特に制限はない。そのような溶剤としては例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アニソール、ジオキサン又はテトラヒドロフラン等のエーテル類、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、３−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン又は２，６−ジメチル−４−ヘプタノン等のケトン類、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、シクロヘキサノール又はイソプロピルアルコール等のアルコール類、メチルセロソルブ、酢酸メチルセロソルブ等のセロソルブ類、酢酸エチル、酢酸ブチル又は乳酸ブチル等のエステル類が挙げられるがこれらに限定されるものではない。また、溶剤は単一でも混合物でもよい。紫外線硬化型組成物を溶解する際の濃度は溶剤溶解性、高分子フィルム層１ｂ上への濡れ性、塗布後の厚みなどによって異なるが、好ましくは５〜９５重量％、より好ましくは１０〜８０重量％程度である。

また、紫外線硬化型樹脂組成物が高分子フィルム層１ｂ上へ塗布される際、高分子フィルム層１ｂ上への濡れ性が乏しい場合や、形成された紫外線硬化型樹脂組成物層の表面性が悪い場合は、それらを改善する為に紫外線硬化型樹脂組成物中に種々のレベリング剤が添加されてもよい。レベリング剤としては、例えばＳＨ２９ＰＡ（東レダウコ−ニング社製）、ＢＹＫ−３３３（ビッグケミー社製）等のいわゆるシリコン系化合物、メガファックＦ−４７０（大日本インキ社製）等のいわゆるフッ素原子含有化合物、ポリフロー７７（共栄社油脂社製）等のアクリル酸共重合物、ブレンアクトＫＰ−５５（味の素社製）等のいわゆるチタネート系化合物等の種々の化合物を用いることができる。これらのレベリング剤の添加量は、紫外線硬化型樹脂組成物１００重量部中に０．０００１重量部以上０．００５重量部以下、より好ましくは紫外線硬化型樹脂組成物１００重量部中に０．０００１重量部以上０．００３重量部以下程度がよい。

紫外線硬化型樹脂組成物を高分子フィルム層上に塗布する方法は特に限定されないが、例えば、スピンコート方式、ワイヤーバーコート方式、グラビアコート方式、マイクログラビアコート方式、マレンダーコート方式、スプレーコート方式、メイスカスコート方式等による方法が挙げられる。本発明の保護層３の厚さは特に限定しないが、好ましくは１〜１０μｍ、より好ましくは３〜６μｍ程度が良く、保護層３の厚さは溶液の濃度や塗布方法、塗布条件を調節することにより達成される。塗布した紫外線硬化型樹脂組成物を硬化するには、該組成物に紫外線を照射させる。該組成物は紫外線照射により十分に重合し、未反応成分が極力少ないことが好ましい。紫外線の照射量は該組成物の種類、添加物量、硬化物層の厚さによって異なるが、１００〜１５００Ｊ／ｃｍ^２程度が良い。

上記のような光学素子１０において、偏光板７の高分子フィルム層１ｂ面と、光学補償フィルム８の液晶性化合物層５面との間に保護層３を設けたことにより、偏光板７の高分子フィルム層１ｂに含まれる物質が液晶性化合物層５へ移行することを抑制することができる。この物質の移行は特に高温条件下または高温高湿条件下においておこりやすいが、前記保護層３により高温条件下及び高温高湿条件下においても物質の移行を抑制することができる。従って、高温条件下、高温高湿条件下においても液晶性化合物層５の位相差値や配向性等の光学特性の変化を抑え、長期間安定した光学特性を維持できる。

なお、本発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく種々の態様での実施が可能である。上記実施の形態においては、高分子フィルム層１ｂと液晶性化合物層５との間に保護層３を設けることとしたが、例えば、高分子フィルム層１ａと液晶性化合物層５との間に保護層３を設けることとしても良い。その場合には、高分子フィルム層１ａに含まれる物質（粘着性向上剤、ブロッキング防止剤、可塑剤等）が液晶性化合物層５に移行し、液晶性化合物層５の液晶分子の配向を乱すことを抑制することができる。また例えば、高分子フィルム層１ｂと液晶性化合物層５との間、及び高分子フィルム層１ａと液晶性化合物層５との間の両方に保護層３を設けることとしても良い。その場合には、高分子フィルム１ｂ及び高分子フィルム１ａに含まれる物質が液晶性化合物層５に移行することを抑制することができ、光学補償フィルム８の光学特性の劣化をより効果的に防ぐことができる。

以下実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。
実施例１
ポリビニルアルコールフィルム（厚さ３０μｍ）（商品名ＶＦＰＳ クラレ社製）にヨウ素もしくは２色性染料を吸着させ配向させて得られた偏光素子に、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚さ８０μｍ）（商品名ＴＤ−８０ 富士写真フイルム社製）と別途にあらかじめＴＡＣ面にハードコート（ＨＣ）層を塗布されたＨＣ−ＴＡＣ（厚さ８０μｍ）（商品名ＣＨ（Ｏ）ＤＷ 大日本印刷社製）を各々片面に貼りつけてなる偏光板を作製。このＣＨ（Ｏ）ＤＷのＨＣ層を保護層として利用した。

ラビング処理されたＴＡＣフィルムＴＤ−８０をガラス板にアクリル系粘着剤により貼り付け、該ＴＡＣフィルムＴＤ−８０−上に光重合開始剤２−ベンジルー２−ジメチルアミノー１（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンー１（商品名イルガキュアー３６９ チバスペシャルティケミカルズ社製）を２重量％、液晶層に捩れ構造を持たせるためにキラルドーパント（商品名ＺＬＩ４５７１ メルク社製）を０．３５重量％を含む化合物[２，３−ジヒドロキシプロピル２−メチル−プロペノエート、９−オキシラニルノニル２−メチル−２−プロペノエート及び４−メトキシヘニル４−（４−オキシラニルブトキシ）ベンゾエートとの重合物]からなる液晶性ポリエーテル５０重量％のメトキシベンゼン溶液をスピンコートにて塗布し、４０℃で３０分乾燥後、６０℃で３０分放置して高分子液晶物質を含む光学補償フィルムを作製した。光学補償フィルムの高分子液晶物質層面と、偏光板上の前記保護層面とをアクリル系粘着剤を介して貼り合わせ、本発明の光学素子を作製した。高温高湿条件下での本発明の光学素子の位相差値変化を測定した。位相差値は、自動複屈折測定装置（大塚電子社製ＲＥＴＳ−１１００）で測定した。

比較例１
ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素もしくは２色性染料を吸着させ配向させて得られた偏光素子の両面に、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを貼り付けて、保護層を設けない偏光板を作製する。それ以外は実施例１における光学素子と同様の構成の光学素子を準備し、実施例１と同様に位相差値変化を測定した。

図２は、実施例１と比較例１における高温高湿条件下での位相差値変化を測定した結果を示すグラフである。図２に示すグラフにおいて縦軸は位相差値変化量を示し、横軸は試験時間を示している。ここで、位相差値変化量は、試験前（０Ｈｒ）における光学素子の位相差値に対する割合（％）で表わされている。このグラフから、実施例１（保護層あり）は比較例１（保護層なし）よりも位相差値変化量が大幅に少ないことが分かる。即ち、保護層を設けることにより高温高湿条件下での位相差値変化量の耐久性が改善されることが分かる。

本発明にかかる光学素子１０の構成の一例を示す模式図である。 高温高湿試験における光学素子の位相差値の変化を示すグラフである。

符号の説明

１ａ、１ｂ、１ｃ 高分子フィルム層
２ 偏光素子
３ 保護層
４ａ、４ｂ 粘着剤層
５ 液晶性化合物層
６ ガラス板
７ 偏光板
８ 光学補償フィルム
１０ 光学素子

Claims (3)

1. 高分子フィルム層／偏光素子／高分子フィルム層／保護層／粘着剤層／温度追従性液晶性化合物層／ラビング処理された高分子フィルム層より構成されることを特徴とする光学素子。
2. 保護層が紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物からなることを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
3. 高分子フィルムがセルロース誘導体を主成分とすることを特徴とする請求項１及び２記載の光学素子。

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