JP2005099393A - Color filter substrate and display device using the same - Google Patents
Color filter substrate and display device using the same Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005099393A JP2005099393A JP2003332665A JP2003332665A JP2005099393A JP 2005099393 A JP2005099393 A JP 2005099393A JP 2003332665 A JP2003332665 A JP 2003332665A JP 2003332665 A JP2003332665 A JP 2003332665A JP 2005099393 A JP2005099393 A JP 2005099393A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color filter
- color
- substrate
- light shielding
- tft
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 93
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 30
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 11
- 239000003086 colorant Substances 0.000 abstract description 4
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 description 20
- 239000010408 film Substances 0.000 description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 5
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 4
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 4
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000001443 photoexcitation Effects 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010040844 Skin exfoliation Diseases 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
Description
本発明は、カラーフィルタ基板に関する。また、本発明は、カラーフィルタ基板を用いた、TFT(Thin Film Transistor)型液晶表示装置などの表示装置に関する。 The present invention relates to a color filter substrate. The present invention also relates to a display device such as a TFT (Thin Film Transistor) type liquid crystal display device using a color filter substrate.
図7は、従来のカラー液晶表示装置を模式的に示す断面図である。図7に示すカラー液晶表示装置は、ガラス基板1上にカラーフィルタ2が形成されたカラーフィルタ基板100と、ガラス基板3上にアクティブ素子としてのTFTが形成されたTFT基板20と、両基板100,20に挟まれた液晶層30とを有する。カラーフィルタ基板100には、赤、緑、青の各サブ画素を光学的に分離し、またTFTを遮光するための遮光層、すなわちBM(ブラックマスクまたはブラックマトリクス)が形成されている。
FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a conventional color liquid crystal display device. The color liquid crystal display device shown in FIG. 7 includes a
しかし、図7に示すように、バックライトからの光BLがBMで反射して、TFTのチャネルへ入射することがある。あるいは、観察者側から入射した光がBMを透過して、TFTのチャネルへ入射することがある。TFTのチャネルへ外光が入射した場合、光励起による電流が発生し、電荷が蓄積されることによって、TFTの保持特性が悪化する。すなわち、TFTのOFF電流特性が悪化する。光励起によって発生する電流に場所的な不均一性があった場合、表示にカスミと呼ばれるムラが発生して表示品位を低下させる。 However, as shown in FIG. 7, the light BL from the backlight may be reflected by the BM and enter the TFT channel. Alternatively, light incident from the viewer side may pass through the BM and enter the TFT channel. When external light is incident on the channel of the TFT, a current is generated by photoexcitation, and charges are accumulated, thereby deteriorating the retention characteristics of the TFT. That is, the OFF current characteristics of the TFT deteriorate. When the current generated by the photoexcitation has a local non-uniformity, unevenness called “mist” is generated in the display, and the display quality is lowered.
TFTに対する遮光を確実にした液晶表示装置が、例えば特許文献1に開示されている。特許文献1の図1に示す液晶表示装置では、黒色のフォトレジストが選択エッチングされて、TFT20上にブラックマトリクス38の第1の突起部38Aが形成されている。さらに、カラーフィルタ基板13には、第1の突起部38Aに対向する位置に、赤、緑、青の三色のカラーフィルタ46R,46G,46Bを積層した第2の突起部50が形成されている。これにより、TFT20に対する遮光が確実になり、外光によるTFT20の動作不良を防止することができる(特許文献1の段落〔0040〕、〔0059〕、〔0060〕および〔0064〕参照)。
For example,
しかし、特許文献1ではBMをTFT基板側に形成するBM on TFT 方式を前提としており、TFT基板側のTFT素子上にBMが形成されている。この方式は、従来の一般的な方式と異なるので、カラーフィルタ基板やTFT基板の作製に新しいプロセスが必要となる。具体的には、特許文献1の液晶表示装置では、TFT基板側のTFT素子上に形成されたBMと、カラーフィルタ基板側のTFT遮光部上に形成された積層カラーフィルタとを突き合わせることで、セルギャップを制御するスペーサの役割を持たせている。そのため、TFT基板側のTFT素子上に形成されるBMの頂部までの高さと、カラーフィルタ基板側のTFT遮光部上に形成された積層カラーフィルタの頂部までの高さとの和を、セルギャップに対応するように、厳密に制御する必要がある。
However,
なお、特許文献1に記載の液晶表示装置では、カラーフィルタ基板にBMが形成されていないので、同文献は、バックライトからの光等がBMで反射して、TFTのチャネルへ入射するという課題を示唆していない。
In the liquid crystal display device described in
本発明の目的の1つは、BMを透過する光に対する遮光能力を上げることによって、アクティブ素子の動作不良を防止すること、すなわち透過光によるカスミを抑制することである。本発明の他の目的は、BMで反射されたバックライト光によるカスミを抑制することである。 One of the objects of the present invention is to prevent malfunction of the active element by increasing the light blocking ability with respect to the light transmitted through the BM, that is, to suppress the fog caused by the transmitted light. Another object of the present invention is to suppress fog caused by backlight light reflected by the BM.
本発明では、BM上に2色のカラーフィルタによる色重ねを設けることで、可視領域のスペクトルを吸収し、BMを透過する光やBMでの反射光に対する遮光能力を上げている。例えば、絵素部に使用する3色のカラーフィルタのうち2色をTFT遮光部上で重ね合わせることにより、十分な遮光能力を持った色重ねをTFT遮光部に形成する。 In the present invention, by providing color overlap with two color filters on the BM, the spectrum in the visible region is absorbed, and the light blocking ability for light transmitted through the BM and reflected light from the BM is increased. For example, by superimposing two colors of the three color filters used in the picture element portion on the TFT light shielding portion, a color superposition having a sufficient light shielding capability is formed on the TFT light shielding portion.
本発明のカラーフィルタ基板は、半導体層を有するアクティブ素子が形成された素子基板に対向配置されるカラーフィルタ基板であって、透明基板と、前記透明基板上に形成され、かつ前記アクティブ素子に対向する位置に配置される遮光層と、前記透明基板上に形成された少なくとも2色のカラーフィルタとを有し、前記少なくとも2色のカラーフィルタのうちの2色のカラーフィルタが、前記遮光層上に積層されている。前記少なくとも2色のカラーフィルタは、赤,緑および青の3色のカラーフィルタであっても良い。 The color filter substrate of the present invention is a color filter substrate disposed opposite to an element substrate on which an active element having a semiconductor layer is formed, and is formed on the transparent substrate and opposed to the active element. And at least two color filters formed on the transparent substrate, and two color filters of the at least two color filters are disposed on the light shielding layer. Are stacked. The at least two color filters may be three color filters of red, green and blue.
前記遮光層上に積層された前記2色のカラーフィルタは、前記遮光層に隣接するカラーフィルタと同じ色のカラーフィルタであっても良い。または、前記遮光層上に積層された前記2色のカラーフィルタのうちの1色のカラーフィルタは、前記遮光層に隣接するカラーフィルタと異なる色のカラーフィルタであっても良い。 The two color filters stacked on the light shielding layer may be the same color filter as the color filter adjacent to the light shielding layer. Alternatively, the color filter of one color among the two color filters stacked on the light shielding layer may be a color filter having a different color from the color filter adjacent to the light shielding layer.
前記遮光層上に積層された前記2色のカラーフィルタは、赤および青の2色のカラーフィルタであっても良い。 The two color filters stacked on the light shielding layer may be red and blue color filters.
本発明の表示装置は、半導体層を有するアクティブ素子が形成された素子基板と、前記アクティブ素子に対向する位置に前記遮光膜が配置された本発明のカラーフィルタ基板と、前記素子基板および前記カラーフィルタ基板の間隙に介在する表示媒体層とを有する。「表示媒体層」とは、互いに対向する電極間の電位差により光透過率が変調される層、または互いに対向する電極間を流れる電流により自発光する層である。表示媒体層は、例えば液晶層、無機または有機エレクトロルミネッセンス(EL)層(白色発光層)などである。 The display device of the present invention includes an element substrate on which an active element having a semiconductor layer is formed, a color filter substrate of the present invention in which the light-shielding film is disposed at a position facing the active element, the element substrate, and the color And a display medium layer interposed in the gap of the filter substrate. The “display medium layer” is a layer whose light transmittance is modulated by a potential difference between electrodes facing each other, or a layer that emits light by current flowing between electrodes facing each other. The display medium layer is, for example, a liquid crystal layer, an inorganic or organic electroluminescence (EL) layer (white light emitting layer), or the like.
本発明によれば、外光の入射やバックライト光の反射、液晶セル内部の多重反射などによるカスミを抑制し、表示品位の低下を防ぐことができる。特許文献1では、外光によるTFT素子の動作不良を防ぐのは、主にTFT基板側のTFT素子上に形成されるBMであり、カラーフィルタ基板側のTFT遮光部上に形成される色重ねは、遮光性を向上させると共に、セルギャップを確保するためのものである。本発明では、カラーフィルタ基板側のTFT遮光部に形成される色重ねは、TFT素子への遮光を確実にし、表示品位の低下を防ぐためのものである。言い換えれば、色重ねを形成する目的は、外光を透過させず、また反射を引起すことのない十分な遮光能力をTFT遮光部に与えることである。したがって、特許文献1では、セルギャップに応じて、TFT基板側のTFT素子上に形成されるBMの頂部までの高さと、カラーフィルタ基板側のTFT遮光部上に形成される色重ねの頂部までの高さを厳密に制御する必要があるが、本発明ではその必要はない。
According to the present invention, it is possible to suppress the fogging due to the incidence of external light, the reflection of backlight light, the multiple reflection inside the liquid crystal cell, and the like, and the deterioration of display quality can be prevented. In
また、本発明では、従来通り、BMをカラーフィルタ基板側に形成する方式を前提としているので、各色フィルタの形成材料を使用し、各色フィルタの形成とともに色重ねが形成される。したがって、TFT基板およびカラーフィルタ基板の製造において、色重ねを形成するための特別な工程が必要となることはなく、また製造プロセスを変更する必要がないので、特許文献1の液晶表示装置と比較して製造プロセスが簡便である。 Further, according to the present invention, since a method for forming the BM on the color filter substrate side is premised as before, the color filter forming material is used, and the color overlap is formed together with the formation of each color filter. Therefore, in the manufacture of the TFT substrate and the color filter substrate, there is no need for a special process for forming a color overlay, and there is no need to change the manufacturing process. Thus, the manufacturing process is simple.
本発明によれば、遮光層(BM)を透過した光および遮光層で反射された光によるアクティブ素子の動作不良を防止することができるので、カスミによる表示品位の低下を防ぐことができる。 According to the present invention, it is possible to prevent the malfunction of the active element due to the light transmitted through the light shielding layer (BM) and the light reflected by the light shielding layer, so that it is possible to prevent deterioration in display quality due to fog.
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。以下の実施形態では、透過型の液晶表示装置を例に説明するが、本発明の表示装置は、カラーフィルタ基板およびアクティブ素子基板を有する表示装置に広く適用することができる。例えば、反射型または透過反射両用型の液晶表示装置、有機EL表示装置や無機EL表示装置にも適用することができる。また、以下の実施形態では、スイッチング素子としてTFT(Thin Film Transistor)を用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置について説明するが、本発明の液晶表示装置は、半導体層を有するアクティブ素子が形成された表示装置に広く適用することができる。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following embodiments, a transmissive liquid crystal display device will be described as an example. However, the display device of the present invention can be widely applied to display devices having a color filter substrate and an active element substrate. For example, the present invention can be applied to a reflection type or a transflective liquid crystal display device, an organic EL display device, and an inorganic EL display device. In the following embodiments, an active matrix type liquid crystal display device using a TFT (Thin Film Transistor) as a switching element will be described. The liquid crystal display device of the present invention is a display in which an active element having a semiconductor layer is formed. Can be widely applied to the device.
図1は、本実施形態の液晶表示装置の一画素を模式的に示す平面図である。図2は、図1のII−II線断面図であり、図3は、図1のIII −III 線断面図である。なお、画素は、赤、緑および青の各サブ画素から構成されている。 FIG. 1 is a plan view schematically showing one pixel of the liquid crystal display device of the present embodiment. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II in FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line III-III in FIG. The pixel is composed of red, green, and blue sub-pixels.
本実施形態の液晶表示装置は、カラーフィルタ基板10と、半導体層4を有するTFTが形成されたTFT基板20と、両基板に挟まれた液晶層8とを有する。TFT基板20のガラス基板3上には、行方向に延びる複数の走査配線(不図示)と、行方向に対して略直交する列方向に延びる複数の信号配線7と、走査配線と信号配線7との交差部近傍に設けられた(言い換えればマトリクス状に配置された)TFTとが形成されている。なお、列方向および行方向は、両者の方向が相対的に異なることを単に示すにすぎず、基板の横方向や縦方向を規定するものではなく、基板の長手方向や短手方向を規定するものでもない。
The liquid crystal display device of this embodiment includes a
TFTは、走査配線に接続されたゲート電極5と、ゲート電極5を覆うゲート絶縁膜6と、ゲート絶縁膜6を介してゲート電極5上に形成された半導体層4と、信号配線7に接続されたソース電極と、画素電極(不図示)に接続されたドレイン電極8とを有する。なお、図2および図3では、信号配線およびソース電極に参照符号7を付している。
The TFT is connected to the
カラーフィルタ基板10は、ガラス基板1と、ガラス基板1上に形成されたBMと、赤,緑および青の各カラーフィルタ2R,2G,2Bとを有する。各カラーフィルタ2R,2G,2Bは、赤、緑および青の各サブ画素に対向するように配置されている。BMは、赤、緑および青の各サブ画素を区切る領域およびTFTの領域に対向する位置に配置された遮光層であり、ガラス基板1側から入射した光がTFTの半導体層4(チャネル)に入射するのを防ぐ。
The
BM上には、2色のカラーフィルタが積層されている。本実施形態では、赤のカラーフィルタ2Rと青のカラーフィルタ2BがBM上に積層されている。図4は、各色のカラーフィルタによる可視光領域での透過光スペクトルを示すグラフである。図4に示すように、赤色フィルタ2Rによる透過光スペクトルと青色フィルタ2Bによる透過光スペクトルを重ね合わせた場合、透過光をほぼ遮ることが可能となる。
Two color filters are stacked on the BM. In this embodiment, a
図5は、各色のカラーフィルタおよびこれらを組み合わせた場合のOD(Optical Density) 値を示すグラフである。カラーフィルタとして、凸版印刷社製7B18カラーフィルタを用いた。BMの遮光能力として、OD値が3.5以上であることが実使用上、理想的であるとされている。本実施形態のBMは3. 5のOD値を持つ。したがって、ガラス基板1側から入射した光については、BM上にカラーフィルタが積層されていない場合でも、通常の使用では十分遮光することができる。
FIG. 5 is a graph showing color filters of respective colors and OD (Optical Density) values when these are combined. A 7B18 color filter manufactured by Toppan Printing Co., Ltd. was used as the color filter. As the light shielding ability of BM, an OD value of 3.5 or more is considered ideal in practical use. The BM of this embodiment has an OD value of 3.5. Therefore, the light incident from the
しかし、液晶表示装置を車載した場合には、太陽光がガラス基板1側から直接入射するので、BMの遮光能力をさらに高める必要がある。また、BMで反射されたバックライトからの光BLは、BM上にカラーフィルタが積層されていない場合には、そのままTFTの半導体層4(チャネル)に入射するので、表示にカスミが発生するおそれがある。BM上に単層のカラーフィルタが積層されている場合にも、単層のカラーフィルタのOD値はせいぜい1.01であるので、車載等の厳しい条件下では、カラーフィルタによる遮光性の増加は必ずしも十分とは言えない。
However, when the liquid crystal display device is mounted on the vehicle, sunlight directly enters from the
本実施形態では、赤のカラーフィルタ2Rと青のカラーフィルタ2BがBM上に積層されている。この二層のカラーフィルタのOD値が2.97であるので、BMのOD値との和が6.47となり、車載等の厳しい条件下でも十分な表示品位を確保することができる。また、バックライトからの光BLがBMで反射された反射光が二層のカラーフィルタを2回透過するので、BMへ入射するバックライト光およびBMで反射したバックライト光に対する総合的な遮光能力は、カラーフィルタ本来のOD値の自乗倍となる。したがって、赤のカラーフィルタ2Rと青のカラーフィルタ2Bを組み合わせることによって、8.82のOD値に相当する遮光性が得られるので、車載等の厳しい条件下でも反射光によるカスミを十分に抑制できる。
In this embodiment, a
BM上に赤,緑および青の三層のカラーフィルタ2R,2G,2Bを積層した場合には、OD値が3. 52であるので、遮光性は十分である。しかし、カラーフィルタ基板10側に形成された三層のカラーフィルタ2R,2G,2Bにより、ラビング処理を行っても三層構造部の影になる部分(三層構造部の周囲)がラビングされず、ラビング処理されなかった配向膜部分で液晶分子が所定方向に整列できなくなるという問題を生じる。
When three layers of red, green, and
本実施形態では、赤のカラーフィルタ2Rと青のカラーフィルタ2Bを組み合わせているが、赤のカラーフィルタ2Rと緑のカラーフィルタ2Gとの組合わせ、青のカラーフィルタ2Bと緑のカラーフィルタ2Gとの組合わせでも、遮光能力は大幅に向上する。
In the present embodiment, the
次に、本実施形態の液晶表示装置の製造方法について説明する。図6は、本実施形態のカラーフィルタ基板10の製造工程を示す平面図である。カラーフィルタ基板10の製造方法について、図6を参照しなから説明する。まず、エッチング法などにより、ガラス基板1上にBMを形成する。具体的には、スパッタリングなどによりガラス基板1上に形成された金属膜、例えばクロム膜に対して、ポジレジスト塗布、マスク露光、現像、エッチングおよび剥離処理を施す。なお、クロム膜の片面または両面に酸化膜を積層させた低反射クロム膜を用いても良い。
Next, a manufacturing method of the liquid crystal display device of this embodiment will be described. FIG. 6 is a plan view showing a manufacturing process of the
スピンコーティング方式やフィルムラミネート方式などにより、緑のサブ画素に対向する位置に、緑のカラーフィルタ2Gを形成する(図6(a)参照)。このとき、BM上にはカラーフィルタ2Gが積層されていない。次に、赤のサブ画素および全てのTFTに対向する位置に、赤のカラーフィルタ2Rを形成する(図6(b)参照)。これにより、全てのTFTに対向する位置に設けられた各BM上に、赤のカラーフィルタ2Rが積層される。さらに、青のサブ画素および全てのTFTに対向する位置に、青のカラーフィルタ2Bを形成する(図6(c)参照)。これにより、全てのTFTに対向する位置に設けられた各BM上に、赤のカラーフィルタ2Rおよび青のカラーフィルタ2Bが順次積層される。
A
図2に示すように、図1のII−II線断面部分では、BM上に積層された2色のカラーフィルタ2R,2Bは、BMに隣接する赤および青のカラーフィルタ2R,2Bと同じ色のカラーフィルタである。一方、図3に示すように、図1のIII −III 線断面部分では、BM上に積層された2色のカラーフィルタ2R,2Bのうちの1色のカラーフィルタは、BMに隣接する赤および緑のカラーフィルタ2R,2Gと異なる色のカラーフィルタ、すなわち青のカラーフィルタ2Bである。
As shown in FIG. 2, the two
なお、本実施形態では、BMのうちTFTに対向する位置のBMのみに、2色のカラーフィルタ2R,2Bを積層させたが、赤、緑および青の各サブ画素を区切る領域に対向する位置のBMについて、2色のカラーフィルタを積層させても良い。
In the present embodiment, the two
さらに、化学蒸気堆積(CVD) 法やスパッタ法などにより、カラーフィルタ2R,2G,2B上に、ITO(インジウム錫酸化物)などの透明電極(不図示)を形成する。印刷法、スピンコート法やインクジェット法などにより、透明電極上にポリイミド系やポリアミド系の配向膜(不図示)を形成し、ラビング処理を行なう。
Further, a transparent electrode (not shown) such as ITO (indium tin oxide) is formed on the
次に、TFT基板20の製造方法について簡単に説明する。フォトリソグラフィ法などにより、ガラス基板3上に走査配線およびゲート電極5を形成し、これらを覆うゲート絶縁膜6を形成する。さらに、半導体層4を形成し、リンなどの不純物をドーピングして、チャネルを形成する。信号配線(不図示)、ソース電極7、ドレイン電極8および画素電極を形成した後、ポリイミド系やポリアミド系の配向膜(不図示)を形成し、ラビング処理を行なう。
Next, a method for manufacturing the
フォトリソグラフィ法などにより、カラーフィルタ基板10またはTFT基板20に柱状スペーサ(不図示)を形成した後、カラーフィルタ基板10とTFT基板20とを貼り合わせる。柱状スペーサにより規定された両基板の間隙に液晶材料を注入し、シール材により注入口を封口することにより、液晶層30が形成される。さらに、両ガラス基板1,3の外側面のそれぞれに、位相差層および偏光層(いずれも不図示)を順次貼り合わせる。観察者に対して反対側(TFT基板側)に、光源としてのバックライト(不図示)を配置して、本実施形態の液晶表示装置が得られる。
After columnar spacers (not shown) are formed on the
本実施形態では、赤,緑,青の3色のカラーフィルタを用いているが、マゼンタ,イエロー,シアンの3色のカラーフィルタを用いても良く、さらに4色以上のカラーフィルタを用いても良い。例えば、シアン,マゼンダ,イエロー,緑の4色のカラーフィルタを用いても良い。また、カラーフィルタ基板の画素配列は、実施形態で示したストライプ配列に限られず、デルタ配列、モザイク配列、スクエア配列などの他の画素配列が採用され得る。 In this embodiment, three color filters of red, green, and blue are used, but three color filters of magenta, yellow, and cyan may be used, and four or more color filters may be used. good. For example, four color filters of cyan, magenta, yellow, and green may be used. The pixel arrangement of the color filter substrate is not limited to the stripe arrangement shown in the embodiment, and other pixel arrangements such as a delta arrangement, a mosaic arrangement, and a square arrangement may be adopted.
(比較例)
図8は、図7に示す液晶表示装置におけるカラーフィルタ基板100の製造工程を示す平面図である。カラーフィルタ基板100の製造方法について、図8を参照しなから説明する。まず、実施形態と同様にして、ガラス基板1上にBMを形成した後、緑のサブ画素およびこのサブ画素の電極に接続されたTFTに対向する位置に、緑のカラーフィルタ2Gを形成する(図8(a)参照)。次に、赤のサブ画素およびこのサブ画素の電極に接続されたTFTに対向する位置に、赤のカラーフィルタ2Rを形成する(図8(b)参照)。さらに、青のサブ画素およびこのサブ画素の電極に接続されたTFTに対向する位置に、青のカラーフィルタ2Bを形成する(図8(c)参照)。実施形態と同様にして、透明電極および配向膜を形成し、ラビング処理を行なう。
(Comparative example)
FIG. 8 is a plan view showing a manufacturing process of the
本比較例のカラーフィルタ基板100は、TFTに対向する位置のBM上に、3色のカラーフィルタ2R,2G,2Bのうちのいずれか1色のカラーフィルタが積層されている。しかし、図5に示すように、単層のカラーフィルタのOD値はせいぜい1.01であるので、車載等の厳しい条件下ではカラーフィルタによる遮光性の増加は必ずしも十分とは言えない。したがって、観察者側から入射し、BMを透過した外光によって、TFTのOFF電流特性が悪化して、表示にカスミが発生するおそれがある。
In the
本発明のカラーフィルタ基板は、カラー表示装置、特にカラー液晶表示装置に用いることができる。 The color filter substrate of the present invention can be used for a color display device, particularly a color liquid crystal display device.
4 半導体層
10 カラーフィルタ基板
20 TFT基板
30 液晶層
2R 赤のカラーフィルタ
2G 緑のカラーフィルタ
2B 青のカラーフィルタ
Claims (7)
透明基板と、前記透明基板上に形成され、かつ前記アクティブ素子に対向する位置に配置される遮光層と、前記透明基板上に形成された少なくとも2色のカラーフィルタとを有し、前記少なくとも2色のカラーフィルタのうちの2色のカラーフィルタが、前記遮光層上に積層されている、カラーフィルタ基板。 A color filter substrate disposed opposite to an element substrate on which an active element having a semiconductor layer is formed,
A transparent substrate; a light shielding layer formed on the transparent substrate and disposed at a position facing the active element; and at least two color filters formed on the transparent substrate; A color filter substrate in which two color filters of color filters are laminated on the light shielding layer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003332665A JP2005099393A (en) | 2003-09-25 | 2003-09-25 | Color filter substrate and display device using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003332665A JP2005099393A (en) | 2003-09-25 | 2003-09-25 | Color filter substrate and display device using the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005099393A true JP2005099393A (en) | 2005-04-14 |
Family
ID=34460892
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003332665A Pending JP2005099393A (en) | 2003-09-25 | 2003-09-25 | Color filter substrate and display device using the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005099393A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100225858A1 (en) * | 2009-03-06 | 2010-09-09 | Beijing Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Liquid crystal display, color filter substrate and manufacturing method thereof |
WO2011058596A1 (en) | 2009-11-10 | 2011-05-19 | パナソニック株式会社 | Organic electroluminescence display apparatus |
KR101266345B1 (en) * | 2008-07-29 | 2013-05-22 | 샤프 가부시키가이샤 | Color conversion organic el display |
CN105116651A (en) * | 2015-09-01 | 2015-12-02 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Boa type liquid crystal panel |
KR20190081577A (en) * | 2017-12-29 | 2019-07-09 | 엘지디스플레이 주식회사 | Display device |
-
2003
- 2003-09-25 JP JP2003332665A patent/JP2005099393A/en active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101266345B1 (en) * | 2008-07-29 | 2013-05-22 | 샤프 가부시키가이샤 | Color conversion organic el display |
US20100225858A1 (en) * | 2009-03-06 | 2010-09-09 | Beijing Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Liquid crystal display, color filter substrate and manufacturing method thereof |
US8390770B2 (en) | 2009-03-06 | 2013-03-05 | Beijing Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Liquid crystal display, color filter substrate and manufacturing method thereof |
WO2011058596A1 (en) | 2009-11-10 | 2011-05-19 | パナソニック株式会社 | Organic electroluminescence display apparatus |
US8748875B2 (en) | 2009-11-10 | 2014-06-10 | Panasonic Corporation | Organic electro-luminescence display device |
CN105116651A (en) * | 2015-09-01 | 2015-12-02 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Boa type liquid crystal panel |
WO2017035911A1 (en) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Boa-type liquid crystal panel |
CN105116651B (en) * | 2015-09-01 | 2019-07-02 | 深圳市华星光电技术有限公司 | BOA type LCD panel |
KR20190081577A (en) * | 2017-12-29 | 2019-07-09 | 엘지디스플레이 주식회사 | Display device |
KR102494467B1 (en) | 2017-12-29 | 2023-01-31 | 엘지디스플레이 주식회사 | Display device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8704990B2 (en) | Electro-optical display apparatus | |
KR102122402B1 (en) | COT Structure Liquid Crystal Display Device and method of fabricating the same | |
US7688408B2 (en) | Liquid crystal device and electronic apparatus | |
JP5519979B2 (en) | Semiconductor thin film transistor substrate and manufacturing method thereof | |
JP5151903B2 (en) | Color filter substrate, manufacturing method thereof, and liquid crystal display device | |
KR101848827B1 (en) | Liquid crystal display device | |
KR20160015504A (en) | Liquid crystal display panel and manufacturing method thereof | |
US8698152B2 (en) | Display panel and thin film transistor substrate | |
JP2007256371A (en) | Color filter, manufacturing method thereof, and liquid crystal display device | |
KR102362091B1 (en) | Display device, optical mask and manufacturing of display device usinh the same | |
US10197842B2 (en) | Liquid crystal display device | |
US20050007524A1 (en) | Flat panel display with a non-matrix light shielding structure | |
US20110080543A1 (en) | Color filter substrate and liquid crystal display device | |
JP4092309B2 (en) | Liquid crystal display | |
US8587752B2 (en) | Liquid crystal display device with light shielding covering two-layered common electrode | |
US9423656B2 (en) | Liquid crystal display and method for fabricating the same | |
JP2005099393A (en) | Color filter substrate and display device using the same | |
US8179514B2 (en) | Liquid crystal display device with first and second protruding walls surrounding spherical spacers | |
KR102244836B1 (en) | Array Substrate Including Color Filter | |
JP5128305B2 (en) | Liquid crystal display | |
JP2002090720A (en) | Liquid crystal display device | |
JP4131520B2 (en) | Liquid crystal display | |
JP2009229485A (en) | Display element | |
KR102438251B1 (en) | Liquid crystal display device and method for fabricating the same | |
JP2002014373A (en) | Liquid crystal display device |