JP2005097371A - Fluorine-containing resin composition and optical article and image display device using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光学特性及び耐汚染性に優れた周期的微細凹凸構造を効率よく形成することができるフッ素含有樹脂組成物、及び反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、光カード、光ディスク、偏光分離素子等の種々の光学的用途に好適に用いられる光学物品、並びに該光学物品を用いた画像表示装置に関する。 The present invention provides a fluorine-containing resin composition capable of efficiently forming a periodic fine concavo-convex structure excellent in optical characteristics and stain resistance, and an antireflection film, an antireflection film, an optical waveguide, a relief hologram, a lens, light The present invention relates to an optical article suitably used for various optical applications such as a card, an optical disk, and a polarization separation element, and an image display device using the optical article.
近年、可視光波長以下の周期的微細凹凸構造を有する光学物品は、反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、偏光分離素子等の種々の光学的用途への展開可能性において注目を集めている(非特許文献1参照)。
例えば、前記反射防止膜及び反射防止フィルムは、陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)及び液晶表示装置(LCD)のようなディスプレイ装置、ショウウインドウ等において外光の反射によるコントラストの低下や像の映り込みを防止するのに用いられている。また、太陽電池等において反射を防止して光の利用効率を高めるのに利用されている。
In recent years, optical articles having a periodic fine concavo-convex structure of a visible light wavelength or less have attracted attention in terms of the possibility of developing them in various optical applications such as antireflection films, antireflection films, optical waveguides, and polarization separation elements. (Refer nonpatent literature 1).
For example, the antireflection film and the antireflection film are used in display devices such as a cathode ray tube display (CRT), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a liquid crystal display (LCD), and in a show window. It is used to prevent contrast reduction and image reflection due to light reflection. Moreover, it is used in solar cells and the like to prevent reflection and increase the light utilization efficiency.
従来、反射防止膜及び反射防止フィルムとしては、支持体上に屈折率の異なる複数の層を適切な膜厚で蒸着、スパッタ、又は塗布により積層した多層膜が一般的である。該多層膜は、光学干渉の原理に基づき各層界面からの反射光を互いに相殺することによって反射防止を行うものであり、層数を増やすことにより低い反射率特性、及び低い反射率波長依存性を実現でき、コスト的な観点から1〜4層程度の層数のものが実用化されている。しかし、該多層膜は、平均反射率0.2〜0.3%程度が限界であり、反射率の波長依存性が大きいため、赤味や青味等の着色が問題になる。また、光の入射角によって反射率特性が大きく変化してしまうという欠点がある。 Conventionally, as an antireflection film and an antireflection film, a multilayer film in which a plurality of layers having different refractive indexes are laminated on a support by vapor deposition, sputtering, or coating is generally used. The multilayer film prevents reflection by canceling reflected light from the interface of each layer based on the principle of optical interference. By increasing the number of layers, low reflectance characteristics and low reflectance wavelength dependency are achieved. In terms of cost, one having about 1 to 4 layers has been put into practical use. However, the multilayer film has a limit of an average reflectance of about 0.2 to 0.3%, and the wavelength dependency of the reflectance is large. Therefore, coloring such as reddish and bluedish becomes a problem. In addition, there is a drawback that the reflectance characteristic changes greatly depending on the incident angle of light.
一方、反射防止の別の手段としては、サイズの大きな粒子をバインダーに混合し、皮膜表面に粗い凹凸構造を形成することによって反射光を散乱させる方法があり、前記多層膜による光学干渉方法と併用することも行われている。これらの方法は、比較的安価であるが粗い凹凸構造がヘイズの上昇及びコントラストの低下を招いてしまい、十分な反射防止効果が得られないという問題がある。 On the other hand, as another means for preventing reflection, there is a method of scattering reflected light by mixing a large particle in a binder and forming a rough uneven structure on the surface of the film, which is used in combination with the optical interference method by the multilayer film. It has also been done. These methods are relatively inexpensive but have a problem that a rough uneven structure causes an increase in haze and a decrease in contrast, and a sufficient antireflection effect cannot be obtained.
前記皮膜表面に可視光波長以下の周期的微細凹凸構造を形成した場合には可視光を散乱させることなく、低屈折率の表面を形成することができる。円錐、三角錐等の微細凹凸形状を付与することによって空気の屈折率から基材の屈折率まで厚み方向に屈折率を連続的に変化させることができ、明確な界面を形成せず、広い波長域にわたって低い反射率であり、かつ入射角依存性の少ない極めて優れた反射防止効果が得られることが知られている(非特許文献2参照)。なお、前記微細凹凸構造の断面が矩形等の場合には連続的な屈折率変化とはならないが、空気とマトリックスの混合により屈折率の低い層を形成する方法としては有効である。 When a periodic fine concavo-convex structure having a visible light wavelength or less is formed on the surface of the film, a surface having a low refractive index can be formed without scattering visible light. By providing a fine uneven shape such as a cone or a triangular pyramid, the refractive index can be continuously changed in the thickness direction from the refractive index of air to the refractive index of the base material, without forming a clear interface, and with a wide wavelength It is known that a very excellent antireflection effect is obtained with a low reflectance over a region and a small incidence angle dependency (see Non-Patent Document 2). Note that when the cross section of the fine concavo-convex structure is rectangular or the like, the refractive index does not change continuously, but it is effective as a method of forming a layer having a low refractive index by mixing air and a matrix.
前記微細凹凸構造の形成方法としては、バインダー量を減らして微粒子を充填する方法、エッチング方法(例えば、ホウ珪酸塩のゾルゲル反応で得られる皮膜を酸に浸漬し、酸の拡散に従って皮膜表面から内部に向かってホウ酸塩成分の溶出量を変化させる方法)等が従来から知られているが、これらの方法では微細凹凸形状の精密なコントロールが困難であり、精度にも問題がある。 As a method for forming the fine concavo-convex structure, a method of filling fine particles by reducing the amount of binder, an etching method (for example, a film obtained by sol-gel reaction of borosilicate is immersed in an acid, and the inside of the film from the film surface according to the diffusion of the acid The method of changing the elution amount of the borate component toward the surface) has been conventionally known. However, these methods have difficulty in precisely controlling the fine uneven shape and have a problem in accuracy.
近年、より確実な微細凹凸構造の形成方法として、電子線レジストやレーザーの2光束干渉露光方式による直接描画により、微細なレリーフ形状を形成する方法が開発されている(非特許文献1参照)。しかし、前記方法は、露光に時間がかかり、大面積、大量生産には適していないという問題がある。そこで、大面積加工、大量生産に適した方法として、射出成型法、プレス加工法等の形状転写法が提案されている(非特許文献3及び特許文献1参照)。これらの提案は、前記直接描画方法によってレジスト材料に微細な凹凸形状を形成したマスターを利用し、更に電鋳加工によりマスターと相補的な微細凹凸構造を有するスタンパー(金型)を作製し、これを利用して樹脂等に形状を転写するものである。
また、別の手段として樹脂の相分離を利用した方法についても報告されており、大面積加工が可能であり、安価に製造することが可能性である(特許文献2参照)。
In recent years, a method for forming a fine relief shape by direct drawing using an electron beam resist or laser two-beam interference exposure method has been developed as a more reliable method for forming a fine concavo-convex structure (see Non-Patent Document 1). However, this method has a problem that it takes time for exposure and is not suitable for large area and mass production. Therefore, shape transfer methods such as an injection molding method and a press processing method have been proposed as methods suitable for large area processing and mass production (see Non-Patent Document 3 and Patent Document 1). These proposals utilize a master in which a fine uneven shape is formed on a resist material by the direct drawing method, and further, by producing a stamper (die) having a fine uneven structure complementary to the master by electroforming. Is used to transfer the shape to a resin or the like.
As another means, a method using phase separation of a resin has also been reported, and large area processing is possible and it is possible to manufacture at low cost (see Patent Document 2).
したがって、周期的微細凹凸構造は優れた光学特性を発現し、安価であり、大面積加工も可能になりつつあるが、微細凹凸構造への油滴の染み込み等が生じ易く、外部環境にさらされる条件で使用するためには耐汚染性の向上が大きな問題であり、その早期解決が強く望まれているのが現状である。 Therefore, the periodic fine concavo-convex structure exhibits excellent optical characteristics, is inexpensive, and is capable of processing a large area, but the fine concavo-convex structure is likely to soak oil droplets and is exposed to the external environment. In order to use it under conditions, the improvement of the stain resistance is a big problem, and at present the early solution is strongly desired.
本発明は、前記従来における諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、光学特性及び耐汚染性に優れた可視光波長以下の周期的微細凹凸構造を形成することができるフッ素含有樹脂組成物、及び反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、光カード、光ディスク、偏光分離素子等の種々の光学的用途に好適な光学物品、並びにそれを用いた画像表示装置を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to solve the conventional problems and achieve the following objects. That is, the present invention relates to a fluorine-containing resin composition capable of forming a periodic fine concavo-convex structure having a visible light wavelength or less excellent in optical characteristics and stain resistance, and an antireflection film, an antireflection film, an optical waveguide, a relief, and the like. An object of the present invention is to provide an optical article suitable for various optical applications such as a hologram, a lens, an optical card, an optical disk, and a polarization separation element, and an image display device using the optical article.
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
<1> フッ素含有化合物を少なくとも含み、光学物品の微細凹凸構造を形成するのに用いられることを特徴とするフッ素含有樹脂組成物である。
<2> フッ素含有化合物が、下記一般式(1)で表されるフルオロアルキル基を有する前記<1>に記載のフッ素含有樹脂組成物である。
−(CF2)nX 一般式(1)
ただし、前記一般式(1)中、Xは、フッ素原子又は水素原子を表す。nは、整数を表す。
<3> フッ素含有化合物が、フッ素含有モノマー、フッ素含有シランカップリング剤、フッ素含有界面活性剤及びフッ素含有ポリマーから選択される少なくともいずれかである前記<1>から<2>のいずれかに記載のフッ素含有樹脂組成物である。
<4> フッ素含有ポリマーが、フルオロアルキル基含有モノマーの重合体、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ(オキシアルキレン)基含有モノマーとの共重合体、及びフルオロアルキル基含有モノマーと架橋反応性基含有モノマーとの共重合体のいずれかを含む前記<3>に記載のフッ素含有樹脂組成物である。
<5> フッ素含有化合物が、添加剤及びバインダーのいずれかとして配合される前記<1>から<4>のいずれかに記載のフッ素含有樹脂組成物である。
<6> 前記<1>から<5>のいずれかに記載のフッ素含有樹脂組成物を用いて微細凹凸構造が形成され、表面にフッ素原子を含むことを特徴とする光学物品である。
<7> 表面から10nm以内の深さにおけるフッ素原子濃度が20原子個数%以上である前記<6>に記載の光学物品である。
<8> 表面張力が25mN/m以下である前記<6>から<7>のいずれかに記載の光学物品である。
<9> 微細凹凸構造における凹凸高さが50〜1000nm、凹凸周期が10〜400nmである前記<6>から<8>のいずれかに記載の光学物品である。
<10> 微細凹凸構造の屈折率をnとした時、次式、凹凸周期<400/n(nm)を満たす前記<6>から<9>のいずれかに記載の光学物品である。
<11> 450〜650nmの波長領域での鏡面平均反射率が2%以下である前記<6>から<10>のいずれかに記載の光学物品である。
<12> 光学物品に形成する微細凹凸構造と相補的な微細凹凸構造を有するスタンパーを作製し、該スタンパーをフッ素含有樹脂組成物から形成される層に圧接させて該スタンパーの微細凹凸構造を転写してなる前記<6>から<11>のいずれかに記載の光学物品である。
<13> 光学物品が、反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、光カード、光ディスク及び偏光分離素子から選択されるいずれかである前記<6>から<12>のいずれかに記載の光学物品である。
<14> 前記<6>から<13>のいずれかに記載の光学物品を配置したことを特徴とする画像表示装置である。
Means for solving the problems are as follows. That is,
<1> A fluorine-containing resin composition comprising at least a fluorine-containing compound and used for forming a fine relief structure of an optical article.
<2> The fluorine-containing resin composition according to <1>, wherein the fluorine-containing compound has a fluoroalkyl group represented by the following general formula (1).
- (CF 2) n X Formula (1)
However, in said general formula (1), X represents a fluorine atom or a hydrogen atom. n represents an integer.
<3> The <1> or <2>, wherein the fluorine-containing compound is at least one selected from a fluorine-containing monomer, a fluorine-containing silane coupling agent, a fluorine-containing surfactant, and a fluorine-containing polymer. The fluorine-containing resin composition.
<4> A fluorine-containing polymer is a polymer of a fluoroalkyl group-containing monomer, a copolymer of a fluoroalkyl group-containing monomer and a poly (oxyalkylene) group-containing monomer, and a fluoroalkyl group-containing monomer and a crosslinking reactive group-containing monomer The fluorine-containing resin composition according to <3>, including any one of the copolymers.
<5> The fluorine-containing resin composition according to any one of <1> to <4>, wherein the fluorine-containing compound is blended as any one of an additive and a binder.
<6> An optical article characterized in that a fine concavo-convex structure is formed using the fluorine-containing resin composition according to any one of <1> to <5>, and the surface contains fluorine atoms.
<7> The optical article according to <6>, wherein the fluorine atom concentration at a depth of 10 nm or less from the surface is 20 atomic percent or more.
<8> The optical article according to any one of <6> to <7>, wherein the surface tension is 25 mN / m or less.
<9> The optical article according to any one of <6> to <8>, wherein the concavo-convex height in the fine concavo-convex structure is 50 to 1000 nm and the concavo-convex cycle is 10 to 400 nm.
<10> The optical article according to any one of <6> to <9>, wherein the refractive index of the fine concavo-convex structure is n, and satisfies the following formula: concavo-convex cycle <400 / n (nm).
<11> The optical article according to any one of <6> to <10>, wherein a mirror surface average reflectance in a wavelength region of 450 to 650 nm is 2% or less.
<12> A stamper having a fine concavo-convex structure complementary to the fine concavo-convex structure formed on the optical article is manufactured, and the stamper is pressed against a layer formed from the fluorine-containing resin composition to transfer the fine concavo-convex structure of the stamper. The optical article according to any one of <6> to <11>.
<13> Any one of <6> to <12>, wherein the optical article is any one selected from an antireflection film, an antireflection film, an optical waveguide, a relief hologram, a lens, an optical card, an optical disk, and a polarization separation element It is an optical article as described in above.
<14> An image display device comprising the optical article according to any one of <6> to <13>.
本発明のフッ素含有樹脂組成物は、フッ素含有化合物を少なくとも含み、光学物品の微細凹凸構造を形成するのに用いられる。前記フッ素含有化合物は、表面張力が低く、微細凹凸構造のように液滴の染み込みやすい構造であっても、液滴の侵入を確実に防止できる。したがって、光学特性及び耐汚染性に優れた微細凹凸構造を形成することができ、種々の光学的用途に好適に用いることができる The fluorine-containing resin composition of the present invention contains at least a fluorine-containing compound and is used to form a fine uneven structure of an optical article. Even if the fluorine-containing compound has a low surface tension and a structure in which liquid droplets are likely to penetrate, such as a fine concavo-convex structure, entry of liquid droplets can be reliably prevented. Therefore, a fine concavo-convex structure excellent in optical characteristics and stain resistance can be formed, and can be suitably used for various optical applications.
本発明の光学物品は、本発明の前記フッ素含有樹脂組成物を用いて微細凹凸構造が形成され、表面にフッ素原子を含む。本発明の光学物品においては、光学特性及び耐汚染性に優れた微細凹凸構造を有しているので、反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、光カード、光ディスク及び偏光分離素子等の種々の光学的用途に好適である。 The optical article of the present invention has a fine relief structure formed using the fluorine-containing resin composition of the present invention, and contains fluorine atoms on the surface. Since the optical article of the present invention has a fine concavo-convex structure excellent in optical characteristics and stain resistance, an antireflection film, an antireflection film, an optical waveguide, a relief hologram, a lens, an optical card, an optical disk, and polarization separation It is suitable for various optical uses such as elements.
本発明の画像表示装置は、本発明の前記光学物品を配置したものである。本発明の画像表示装置においては、周囲の風景映り込みが殆どなく、快適な視認性を示しかつ充分な防汚性を有するものであり、特に液晶表示装置として好適である。 The image display device of the present invention is one in which the optical article of the present invention is arranged. In the image display device of the present invention, there is almost no reflection of the surrounding scenery, it shows a comfortable visibility and has a sufficient antifouling property, and is particularly suitable as a liquid crystal display device.
本発明によると、従来における諸問題を解決でき、反射防止性能が高く、優れた耐汚染性を有し、反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、光カード、光ディスク及び偏光分離素子等の種々の光学的用途に好適に用いられる光学物品を提供できる。また、本発明の画像表示装置は、前記光学物品を装着しているので、視認性が良好であり、汚れがつきにくく高品質な画像を表示することができ、特に液晶表示装置として好適である。 According to the present invention, conventional problems can be solved, antireflection performance is high, antifouling property is high, antireflection film, antireflection film, optical waveguide, relief hologram, lens, optical card, optical disk, and polarization An optical article suitably used for various optical applications such as a separation element can be provided. In addition, since the image display device of the present invention is equipped with the optical article, the image display device has good visibility, can be hardly stained, and can display a high-quality image, and is particularly suitable as a liquid crystal display device. .
(フッ素含有樹脂組成物)
本発明のフッ素含有樹脂組成物は、光学物品の微細凹凸構造を形成するのに用いられ、フッ素含有化合物を少なくとも含み、更に必要に応じてその他の成分を含んでなる。
なお、本明細書において、「(数値1)〜(数値2)」という記載は、「(数値1)以上(数値2)以下」の意味を表す。
(Fluorine-containing resin composition)
The fluorine-containing resin composition of the present invention is used to form a fine concavo-convex structure of an optical article and contains at least a fluorine-containing compound and further contains other components as necessary.
In this specification, the description “(numerical value 1) to (numerical value 2)” means “(numerical value 1) or more and (numerical value 2) or less”.
前記フッ素含有化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記一般式(1)で表されるフルオロアルキル基を有するものが好適である。
−(CF2)nX 一般式(1)
ただし、前記一般式(1)中、Xは、フッ素原子又は水素原子を表す。
nは、整数を表し、1〜20が好ましく、3〜10がより好ましく、4〜8が更に好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as said fluorine-containing compound, According to the objective, it can select suitably, For example, what has the fluoroalkyl group represented by following General formula (1) is suitable.
- (CF 2) n X Formula (1)
However, in said general formula (1), X represents a fluorine atom or a hydrogen atom.
n represents an integer, preferably 1 to 20, more preferably 3 to 10, and still more preferably 4 to 8.
前記フッ素含有化合物としては、フッ素を含有していれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フッ素含有モノマー、フッ素含有シランカップリング剤、フッ素含有界面活性剤及びフッ素含有ポリマーから選択される少なくともいずれかが好ましい。前記フッ素含有化合物であるフッ素含有モノマー及びフッ素含有ポリマーの少なくともいずれかは、非フッ素含有バインダー(バインダー樹脂)に対して添加剤として少量添加してもよく、フッ素含有ポリマーをバインダーの主成分(50質量%以上)として用いてもよく、また、2種類のフッ素含有化合物を併用しても良い。 The fluorine-containing compound is not particularly limited as long as it contains fluorine, and can be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include a fluorine-containing monomer, a fluorine-containing silane coupling agent, a fluorine-containing surfactant, and fluorine. At least one selected from the containing polymer is preferable. At least one of the fluorine-containing monomer and the fluorine-containing polymer, which is the fluorine-containing compound, may be added in a small amount as an additive to the non-fluorine-containing binder (binder resin). (Mass% or more), or two kinds of fluorine-containing compounds may be used in combination.
前記フッ素含有モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フルオロアルキル基置換ビニルモノマー、フルオロアルキル基置換の開環重合性モノマー、などが挙げられる。
前記フルオロアルキル基置換ビニルモノマーとしては。例えば、フルオロアルキル基置換(メタ)アクリレート誘導体、フルオロアルキル基置換(メタ)アクリルアミド誘導体、フルオロアルキル基置換ビニルエーテル誘導体、フルオロアルキル基置換スチレン誘導体などが挙げられる。
前記フルオロアルキル基置換の開環重合性モノマーとしては、例えば、フルオロアルキル基置換エポキシ誘導体、フルオロアルキル基置換オキセタン誘導体、フルオロアルキル基置換オキサゾリン誘導体、などが挙げられる。
これらの中でも、フルオロアルキル基置換ビニルモノマーが好ましく、フルオロアルキル基置換(メタ)アクリレート誘導体が特に好ましい。
The fluorine-containing monomer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include a fluoroalkyl group-substituted vinyl monomer and a fluoroalkyl group-substituted ring-opening polymerizable monomer.
As the fluoroalkyl group-substituted vinyl monomer. Examples include fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylate derivatives, fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylamide derivatives, fluoroalkyl group-substituted vinyl ether derivatives, fluoroalkyl group-substituted styrene derivatives.
Examples of the fluoroalkyl group-substituted ring-opening polymerizable monomer include fluoroalkyl group-substituted epoxy derivatives, fluoroalkyl group-substituted oxetane derivatives, and fluoroalkyl group-substituted oxazoline derivatives.
Among these, fluoroalkyl group-substituted vinyl monomers are preferable, and fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylate derivatives are particularly preferable.
前記フルオロアルキル基置換(メタ)アクリレート誘導体としては、下記一般式(2)で表わされる化合物が好適に挙げられる。 Preferred examples of the fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylate derivative include compounds represented by the following general formula (2).
mは、1〜6の整数を表し、1〜3が好ましく、1又は2がより好ましい。
nは、1〜20の整数を表し、3〜10が好ましく、4〜8がより好ましい。
m represents an integer of 1 to 6, preferably 1 to 3, and more preferably 1 or 2.
n represents an integer of 1 to 20, preferably 3 to 10, and more preferably 4 to 8.
前記フルオロアルキル基置換(メタ)アクリレート誘導体としては、具体的には、以下に示すものが好適に挙げられる。 Specific examples of the fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylate derivative include those shown below.
前記フッ素含有シランカップリング剤としては、例えば、フルオロアルキル基置換シランカップリング剤が好適であり、下記一般式(3)で表されるものが特に好ましい。
(Rf)3R1 bSiXc 一般式(3)
前記一般式(3)において、Rfは、エーテル結合又はエステル結合を1個以上含んでいても良い炭素数1〜20のフッ素置換アルキル基を表し、例えば、3,3,3−トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル基、3−トリフルオロメトキシプロピル基、3−トリフルオロアセトキシプロピル基、等が挙げられる。
R1は、炭素数1〜10のアルキル基を表し、例えば、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基、等を表す。
Xは、水酸基、又は加水分解性基を表し、該加水分解性基としては、加水分解性を有する基であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルコキシ基、ハロゲン原子、RCOO(ただし、Rは、水素原子、又は炭素数1〜10のアルキル基を表す)、などが挙げられる。
前記アルコキシ基としては、直鎖、分岐及び環状のいずれでもよく、炭素数は通常1〜20程度であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、i−プロピルオキシ基、ブトキシ基、i−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基、などが挙げられる。
前記ハロゲン原子としては、例えば、Cl、Br、I等が挙げられる。
前記RCOOとしては、例えば、CH3COO、C2H5COO等が挙げられる。
a、b、cは、a+b+c=4であり、かつa≧1、c≧1を満たす整数を表し、a=1、b=0、c=3が好ましい。
As the fluorine-containing silane coupling agent, for example, a fluoroalkyl group-substituted silane coupling agent is suitable, and those represented by the following general formula (3) are particularly preferred.
(Rf) 3 R 1 b SiX c General formula (3)
In the general formula (3), Rf represents a C1-C20 fluorine-substituted alkyl group which may contain one or more ether bonds or ester bonds, for example, a 3,3,3-trifluoropropyl group. , Tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl group, 3-trifluoromethoxypropyl group, 3-trifluoroacetoxypropyl group, and the like.
R 1 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and represents, for example, a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group, or the like.
X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, and the hydrolyzable group is not particularly limited as long as it is a hydrolyzable group and can be appropriately selected according to the purpose. For example, an alkoxy group , Halogen atoms, RCOO (where R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms), and the like.
The alkoxy group may be linear, branched or cyclic, and usually has about 1 to 20 carbon atoms. For example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, i-propyloxy group, butoxy group, i -Butoxy group, t-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, 3,7-dimethyloctyloxy group, And a lauryloxy group.
Examples of the halogen atom include Cl, Br, I, and the like.
Examples of the RCOO, for example, CH 3 COO, include C 2 H 5 COO and the like.
a, b, and c are integers satisfying a + b + c = 4 and satisfying a ≧ 1, c ≧ 1, and preferably a = 1, b = 0, and c = 3.
前記一般式(3)で表わされるフッ素含有シランカップリング剤としては、例えば、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリアセトキシシラン、ジメチル−3,3,3−トリフルオロプロピルメトキシシラン、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン、等が挙げられる。 Examples of the fluorine-containing silane coupling agent represented by the general formula (3) include 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltriacetoxysilane, dimethyl-3, Examples include 3,3-trifluoropropylmethoxysilane, tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyltriethoxysilane, and the like.
前記フッ素含有シランカップリング剤の添加量は、前記バインダー樹脂100質量部に対し0.01〜10質量部が好ましく、0.1〜5質量部がより好ましい。 The addition amount of the fluorine-containing silane coupling agent is preferably 0.01 to 10 parts by mass and more preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin.
前記フッ素含有界面活性剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フルオロアルキル基を有するアニオン性界面活性剤、フルオロアルキル基を有するカチオン界面活性剤、などが好適に挙げられる。 The fluorine-containing surfactant is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include an anionic surfactant having a fluoroalkyl group and a cationic surfactant having a fluoroalkyl group. Preferably mentioned.
前記フルオロアルキル基を有するアニオン性界面活性剤としては、例えば、炭素数2〜10のフルオロアルキルカルボン酸又はその金属塩、パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、3−[オメガ−フルオロアルキル(C6〜C11)オキシ]−1−アルキル(C3〜C4)スルホン酸ナトリウム、3−[オメガ−フルオロアルカノイル(C6〜C8)−N−エチルアミノ]−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキル(C11〜C20)カルボン酸又はその金属塩、パーフルオロアルキルカルボン酸(C7〜C13)又はその金属塩、パーフルオロアルキル(C4〜C12)スルホン酸又はその金属塩、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、N−プロピル−N−(2ヒドロキシエチル)パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキル(C6〜C10)スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル(C6〜C10)−N−エチルスルホニルグリシン塩、モノパーフルオロアルキル(C6〜C16)エチルリン酸エステル、などが挙げられる。
前記フルオロアルキル基を有するアニオン性界面活性剤は、市販品を用いてもよく、該市販品としては、例えば、サーフロンS−111、S−112、S−113(以上商品名、旭硝子社製)、フロラードFC−93、FC−95、FC−98、FC−29(以上商品名、住友3M社製)、ユニダインDS−101、DS−l02(以上商品名、ダイキン工業社製)、メガファックF−ll0、F−l20、F−113、F−191、F−812、F−833(以上商品名、大日本インキ社製)、エクトップEF−102、l03、104、105、112、123A、123B、306A、501、201、204(以上商品名、トーケムプロダクツ社製)、フタージェントF−100、F150(以上商品名、ネオス社製)、などが挙げられる。
Examples of the anionic surfactant having a fluoroalkyl group include a fluoroalkylcarboxylic acid having 2 to 10 carbon atoms or a metal salt thereof, disodium perfluorooctanesulfonylglutamate, 3- [omega-fluoroalkyl (C 6- C 11) oxy] -1-alkyl (C 3 ~C 4) sulfonate, sodium 3- [omega - fluoroalkanoyl (C 6 ~C 8) -N- ethylamino] -1-sodium sulfonic acid, fluoroalkyl (C 11 ~C 20) carboxylic acids or metal salts thereof, perfluoroalkyl carboxylic acids (C 7 ~C 13) or metal salts thereof, perfluoroalkyl (C 4 ~C 12) sulfonic acid or metal salts thereof, perfluoroalkyl Octanesulfonic acid diethanolamide, N-propyl-N- (2-hydride Kishiechiru) perfluorooctane sulfonamide, perfluoroalkyl (C 6 -C 10) sulfonamide propyl trimethyl ammonium salts, perfluoroalkyl (C 6 -C 10)-N-ethylsulfonyl glycine salts, monoperfluoroalkyl (C 6 -C 16) ethyl phosphoric acid ester, and the like.
As the anionic surfactant having a fluoroalkyl group, a commercially available product may be used. Examples of the commercially available product include Surflon S-111, S-112, and S-113 (trade names, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.). , FLORARD FC-93, FC-95, FC-98, FC-29 (above trade name, manufactured by Sumitomo 3M), Unidyne DS-101, DS-102 (above trade name, manufactured by Daikin Industries), MegaFuck F -L0, F-120, F-113, F-191, F-812, F-833 (above trade name, manufactured by Dainippon Ink and Company), Xtop EF-102, 103, 104, 105, 112, 123A, 123B, 306A, 501, 201, 204 (above trade names, manufactured by Tochem Products), Fantent F-100, F150 (above trade names, manufactured by Neos), and the like. It is.
前記フルオロアルキル基を有するカチオン界面活性剤としては、例えば、フルオロアルキル基を有する脂肪族一級、二級又は二級アミン酸、パーフルオロアルキル(C6〜C10)スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩等の脂肪族4級アンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、塩化ベンゼトニウム、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩、などが挙げられる。
前記フルオロアルキル基を有するカチオン界面活性剤は、市販品を用いてもよく、該市販品としては、例えば、サーフロンS−l21(旭硝子社製)、フロラードFC−135(住友3M社製)、ユニダインDS−202(ダイキン工業社製)、メガファックF−150、F−824(以上商品名、大日本インキ社製)、エクトップEF−l32(トーケムプロダクツ社製)、フタージェントF−300(ネオス社製)、などが挙げられる。
Examples of the cationic surfactant having a fluoroalkyl group include aliphatic primary, secondary or secondary amine acids having a fluoroalkyl group, and perfluoroalkyl (C 6 -C 10 ) sulfonamidopropyltrimethylammonium salts. Examples include aliphatic quaternary ammonium salts, benzalkonium salts, benzethonium chloride, pyridinium salts, imidazolinium salts, and the like.
As the cationic surfactant having a fluoroalkyl group, a commercially available product may be used. Examples of the commercially available product include Surflon S-121 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Florard FC-135 (manufactured by Sumitomo 3M Company), Unidyne. DS-202 (manufactured by Daikin Industries, Ltd.), MegaFac F-150, F-824 (above trade names, manufactured by Dainippon Ink, Inc.), Xtop EF-132 (manufactured by Tochem Products), and Footgent F-300 ( Neos)).
前記フッ素含有4級アンモニウム塩化合物の中でも、下記一般式(4)で表される化合物が特に好ましい。 Among the fluorine-containing quaternary ammonium salt compounds, a compound represented by the following general formula (4) is particularly preferable.
前記一般式(4)において、Rfは、パーフルオロアルキル基を表す。該パーフルオロアルキル基としては、炭素数が3〜30のものが好ましく、3〜15のものがより好ましく、例えば、CnF2n−1(ただし、nは、1〜30、好ましくは3〜15の整数を表す。)などが挙げられ、具体的には、例えば、CF3(CF2)5−、CF3(CF2)6−、CF3(CF2)7−、CF3(CF2)8−、CF3(CF2)9−、CF3(CF2)10−、CF3(CF2)11−、CF3(CF2)12−、CF3(CF2)13−、CF3(CF2)14−、CF3(CF2)15−、CF3(CF2)16−、CF3(CF2)17−、(CF3)2CF(CF2)6−、などが好適に挙げられる。 In the general formula (4), Rf represents a perfluoroalkyl group. The perfluoroalkyl group preferably has 3 to 30 carbon atoms, more preferably 3 to 15 carbon atoms, for example, C n F 2n-1 (where n is 1 to 30, preferably 3 to 3). Specifically, for example, CF 3 (CF 2 ) 5 —, CF 3 (CF 2 ) 6 —, CF 3 (CF 2 ) 7 —, CF 3 (CF 2) 8 -, CF 3 ( CF 2) 9 -, CF 3 (CF 2) 10 -, CF 3 (CF 2) 11 -, CF 3 (CF 2) 12 -, CF 3 (CF 2) 13 -, CF 3 (CF 2 ) 14- , CF 3 (CF 2 ) 15- , CF 3 (CF 2 ) 16- , CF 3 (CF 2 ) 17- , (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 6- , etc. Are preferable.
前記一般式(4)において、Yは、対イオンを表す。該対イオンとしては、例えば、ハロゲンイオン、硫酸イオン、硝酸イオン、リン酸イオン、チオシアン酸イオン、有機酸イオン、などが挙げられる。これらの中でも、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、等のハロゲンイオンが特に好ましい。 In the general formula (4), Y represents a counter ion. Examples of the counter ion include halogen ions, sulfate ions, nitrate ions, phosphate ions, thiocyanate ions, organic acid ions, and the like. Among these, halogen ions such as fluorine, chlorine, bromine and iodine are particularly preferable.
前記一般式(4)において、Xは、二価有機基を表す。該二価有機基としては、例えば、−SO2−、−CO−、−(CH2)x−、−SO2N(R6)−(CH2)x−、−(CH2)x−CH(OH)−(CH2)x−、などが挙げられる。ここで、xは、1〜6の整数を表す。R6は、炭素数1〜10のアルキル基を表す。これらの中でも、−SO2−、−CO−、−(CH2)2−、−SO2N(C2H5)−(CH2)2−、又は−CH2CH(OH)CH2−が好ましく、−SO2−、又は−CO−が特に好ましい。
前記一般式(4)において、mは、1以上の整数を表し、1〜20が好ましく、1〜10がより好ましい。
In the general formula (4), X represents a divalent organic group. Examples of the divalent organic group, for example, -SO 2 -, - CO - , - (CH 2) x -, - SO 2 N (R 6) - (CH 2) x -, - (CH 2) x- CH (OH) - (CH 2 ) x-, and the like. Here, x represents an integer of 1 to 6. R 6 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Among these, —SO 2 —, —CO—, — (CH 2 ) 2 —, —SO 2 N (C 2 H 5 ) — (CH 2 ) 2 —, or —CH 2 CH (OH) CH 2 — Are preferred, and —SO 2 — or —CO— is particularly preferred.
In the said General formula (4), m represents an integer greater than or equal to 1, 1-20 are preferable and 1-10 are more preferable.
前記一般式(4)において、R2は、水素原子、フッ素原子、又は炭化水素基を表す。また、R3〜R5は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、又は炭化水素基を表す。該炭化水素基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、などが挙げられる。これらは、置換基で更に置換されていてもよい。
前記アルキル基としては、炭素数1〜10のものが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、n−デシル基、イソデシル基、などが挙げられ、これらは置換基で更に置換されていてもよい。前記アルケニル基としては、炭素数2〜10のものがより好ましく、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、などが挙げられ、これらは置換基で更に置換されていてもよい。前記アリール基としては、炭素数6〜24のものがより好ましく、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、スチリル基、メシチル基、シンナミル基、フェネチル基、ベンズヒドリル基、などが挙げられ、これらは置換基で更に置換されていてもよい。
In the general formula (4), R 2 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a hydrocarbon group. R 3 to R 5 may be the same as or different from each other, and each represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a hydrocarbon group. There is no restriction | limiting in particular as this hydrocarbon group, Although it can select suitably according to the objective, For example, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, etc. are mentioned. These may be further substituted with a substituent.
As the alkyl group, those having 1 to 10 carbon atoms are preferable, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, n-hexyl group, Examples include isohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, n-decyl group, isodecyl group, and the like, which may be further substituted with a substituent. As the alkenyl group, those having 2 to 10 carbon atoms are more preferable, and examples thereof include a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, a hexenyl group, and an octenyl group. And may be further substituted. As said aryl group, a C6-C24 thing is more preferable, For example, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a cumenyl group, a styryl group, a mesityl group, a cinnamyl group, a phenethyl group, a benzhydryl group etc. are mentioned. These may be further substituted with a substituent.
前記フッ素含有界面活性剤の添加量は、前記バインダー樹脂100質量部に対し0.01〜10質量部が好ましく、0.1〜5質量部がより好ましい。 The addition amount of the fluorine-containing surfactant is preferably 0.01 to 10 parts by mass and more preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin.
次に、前記フッ素含有ポリマーとしては、例えば、フルオロアルキル基含有モノマーの重合体、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ(オキシアルキレン)基含有モノマーとの共重合体、及びフルオロアルキル基含有モノマーと架橋反応性基含有モノマーとの共重合体のいずれかが好ましい。 Next, examples of the fluorine-containing polymer include polymers of fluoroalkyl group-containing monomers, copolymers of fluoroalkyl group-containing monomers and poly (oxyalkylene) group-containing monomers, and crosslinking reactions with fluoroalkyl group-containing monomers. Any copolymer with a functional group-containing monomer is preferred.
前記フッ素含有ポリマーは、例えば、前記フッ素含有モノマーのみの重合単位によって構成されていてもよいが、共重合可能な他のモノマーとの共重合体であっても良い。
前記共重合可能な他のモノマーとしては、例えば、PolymerHandbook 2nd ed.,J.Brandrup,Wiley lnterscience(1975)Chapter 2 1〜483頁に記載のものを用いることができる。
前記共重合可能な他のモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、イタコン酸ジアルキル類、フマール酸のジアルキルエステル類又はモノアルキルエステル類、クロトン酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレン、などが挙げられる。
などが挙げられる。
The fluorine-containing polymer may be composed of, for example, polymerized units of only the fluorine-containing monomer, but may be a copolymer with another copolymerizable monomer.
Examples of the other copolymerizable monomer include Polymer Handbook 2nd ed. , J .; Brandrup, Wiley lnterscience (1975) Chapter 2 pages 1-483 can be used.
Examples of the other copolymerizable monomer include (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylamides, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, dialkyl itaconates, and fumaric acid. And dialkyl esters or monoalkyl esters, crotonic acid, itaconic acid, acrylonitrile, methacrylonitrile, maleronitrile, styrene, and the like.
Etc.
前記(メタ)アクリル酸エステル類としては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、クロルエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、メトキシベンジル(メタ)アクリレート、フルフリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、末端(メタ)アクリロイル化シリコーンマクロマー、などが挙げられる。該末端(メタ)アクリロイル化シリコーンマクロマーとしては、市販品を用いることができ、例えば、サイラプレーン0721、同0725(以上商品名、チッソ株式会社製)、AK−5、AK−30、AK−32(以上商品名、東亜合成株式会社製)、等が挙げられる。 Examples of the (meth) acrylic acid esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, chloroethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, Methylolpropane mono (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, methoxybenzyl (meth) acrylate, furfuryl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, methacryloyloxypropyl Trimethoxysilane, terminal (meth) acryloylated silicone macromer, and the like. As the terminal (meth) acryloylated silicone macromer, commercially available products can be used. For example, Silaplane 0721, 0725 (above, trade name, manufactured by Chisso Corporation), AK-5, AK-30, AK-32 (The trade name, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
前記(メタ)アクリルアミド類としては、例えば、(メタ)アクリルアミド、N−アルキル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジアルキル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−2−アセトアミドエチル−N−アセチル(メタ)アクリルアミド、などが挙げられる。前記N−アルキル(メタ)アクリルアミドとしては、アルキル基の炭素数が1〜3のものが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。前記N,N−ジアルキル(メタ)アクリルアミドとしては、アルキル基の炭素数が1〜6のものが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、などが挙げられる。 Examples of the (meth) acrylamides include (meth) acrylamide, N-alkyl (meth) acrylamide, N, N-dialkyl (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl-N-methyl (meth) acrylamide, and N-2. -Acetamidoethyl-N-acetyl (meth) acrylamide, etc. are mentioned. As said N-alkyl (meth) acrylamide, that whose carbon number of an alkyl group is 1-3 is preferable, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc. are mentioned. The N, N-dialkyl (meth) acrylamide is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group and an ethyl group.
前記アリル化合物としては、例えば、アリルエステル類(例えば、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど)、アリルオキシエタノールなどが挙げられる。 Examples of the allyl compound include allyl esters (eg, allyl acetate, allyl caproate, allyl caprylate, allyl laurate, allyl palmitate, allyl stearate, allyl benzoate, allyl acetoacetate, allyl lactate, etc.) Examples include allyloxyethanol.
前記ビニルエーテル類としては、例えば、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、1−メチル−2,2−ジメチルプロピルビニルエーテル、2−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、などが挙げられる。 Examples of the vinyl ethers include hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, decyl vinyl ether, ethyl hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, 1-methyl-2,2-dimethylpropyl vinyl ether, 2-ethylbutyl vinyl ether, Examples thereof include hydroxyethyl vinyl ether, diethylene glycol vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether, butylaminoethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether, and the like.
前記ビニルエステル類としては、例えば、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、などが挙げられる。 Examples of the vinyl esters include vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl trimethyl acetate, vinyl diethyl acetate, vinyl valate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl dichloroacetate, vinyl methoxyacetate, vinyl butoxyacetate. Vinyl lactate, vinyl-β-phenylbutyrate, vinylcyclohexylcarboxylate, and the like.
前記イタコン酸ジアルキル類としては、例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチル、などが挙げられる。
前記フマール酸のジアルキルエステル類又はモノアルキルエステル類としては、例えば、ジブチルフマレートなどが挙げられる。
Examples of the dialkyl itaconates include dimethyl itaconate, diethyl itaconate, dibutyl itaconate, and the like.
Examples of the dialkyl ester or monoalkyl ester of fumaric acid include dibutyl fumarate.
本発明で他のバインダーに少量添加して用いられるフッ素含有ポリマーは、前記ポリ(オキシアルキレン)基含有モノマーと共重合されたフッ素含有共重合体が好ましい。
前記ポリ(オキシアルキレン)基としては、一般式:−(OR)xで表わされるものが好ましい。
前記一般式中、Rは、2〜4個の炭素原子を有するアルキレン基を表し、例えば、−CH2CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH(CH3)CH2−、−CH(CH3)CH(CH3)−、などが挙げられる。
The fluorine-containing polymer used by adding a small amount to another binder in the present invention is preferably a fluorine-containing copolymer copolymerized with the poly (oxyalkylene) group-containing monomer.
As said poly (oxyalkylene) group, what is represented by general formula:-(OR) x is preferable.
In the general formula, R represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, for example, —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 —, —CH (CH 3 ) CH 2 —, -CH (CH 3) CH (CH 3) -, and the like.
前記ポリ(オキシアルキレン)基におけるオキシアルキレン単位としては、ポリ(オキシプロピレン)におけるように同一であってもよく、また、互いに異なる2種以上のオキシアルキレンが不規則に分布されたものであっても良く、直鎖又は分岐状のオキシプロピレン単位及びオキシエチレン単位のいずれかであったり、直鎖又は分岐状のオキシプロピレン単位のブロック及びオキシエチレン単位のブロックのいずれかであっても構わない。 The oxyalkylene unit in the poly (oxyalkylene) group may be the same as in poly (oxypropylene), or two or more different oxyalkylenes are randomly distributed. Alternatively, either a linear or branched oxypropylene unit or an oxyethylene unit, or a linear or branched oxypropylene unit block or an oxyethylene unit block may be used.
前記ポリ(オキシアルキレン)鎖は、1つ又はそれ以上の連結基(例えば、−CONH−Ph−NHCO−、−S−など:ただし、Phは、フェニレン基を表す)で連結されたものも含むことができる。連結基が3価以上の原子価を有する場合には、分岐状のオキシアルキレン単位が得られる。
また、前記ポリ(オキシアルキレン)基を有する重合単位を含む共重合体を用いる場合には、ポリ(オキシアルキレン)基の質量平均分子量(Mw)は250〜3000が好ましい。
The poly (oxyalkylene) chain includes those linked by one or more linking groups (for example, -CONH-Ph-NHCO-, -S-, etc., where Ph represents a phenylene group). be able to. When the linking group has a valence of 3 or more, a branched oxyalkylene unit is obtained.
Moreover, when using the copolymer containing the polymer unit which has the said poly (oxyalkylene) group, the mass average molecular weight (Mw) of a poly (oxyalkylene) group has preferable 250-3000.
前記ポリ(オキシアルキレン)(メタ)アクリレートとしては、市販のヒドロキシポリ(オキシアルキレン)材料、例えば、商品名“プルロニック”[Pluronic(旭電化工業(株)製)、アデカポリエーテル(旭電化工業(株)製)“カルボワックス”[Carbowax(グリコ・プロダクス)]、“トリトン”[Toriton(ローム・アンド・ハース(Rohm and Haas製))及びP.E.G(第一工業製薬(株)製)として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリド又は無水アクリル酸等と反応させることによって製造することができる。また別に、公知の方法で製造したポリ(オキシアルキレン)ジアクリレート等を用いることもできる。
また、例えば、PE−300、同PE−600(以上商品名、第一工業製薬(株)社製)等の市販のオキシアルキレン鎖含有マクロマーを使用しても良い。
Examples of the poly (oxyalkylene) (meth) acrylate include commercially available hydroxypoly (oxyalkylene) materials such as “Pluronic” (Pluronic (manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.)), Adeka polyether (Asahi Denka Kogyo ( "Carbowax" [Carbowax (Glico Products)], "Triton" (Toriton (Rohm and Haas)) and P.I. E. What is sold as G (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) can be manufactured by reacting with acrylic acid, methacrylic acid, acrylic chloride, methacrylic chloride or acrylic acid anhydride by a known method. Separately, poly (oxyalkylene) diacrylate produced by a known method can also be used.
Moreover, you may use commercially available oxyalkylene chain containing macromers, such as PE-300 and the same PE-600 (above a brand name, Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. product).
以下に、前記ポリ(オキシアルキレン)基を含有するフルオロアルキル基含有モノマーの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、前記ポリ(オキシアルキレン)基は、重合度Xが異なるものの混合物であることが多く、具体例として示す化合物においても重合度の平均に近い整数で重合度を表している。 Specific examples of the fluoroalkyl group-containing monomer containing the poly (oxyalkylene) group are shown below, but the present invention is not limited thereto. The poly (oxyalkylene) group is often a mixture of those having different degrees of polymerization X, and the degree of polymerization is expressed by an integer close to the average of the degrees of polymerization in the compounds shown as specific examples.
前記フルオロアルキル基を有する重合体はフルオロアルキル基含有モノマーを必須の構成成分として適宜他のモノマーを共重合することにより合成される。
前記フルオロアルキル基含有モノマーの含有量は、50〜100質量%が好ましく、70〜100質量%がより好ましく、80〜100質量%が更に好ましい。前記フルオロアルキル基含有モノマーの含有量が50質量%未満であると、十分な表面エネルギー低下効果が得られず、光学物品の防汚性が不十分となることがある。
The polymer having a fluoroalkyl group is synthesized by appropriately copolymerizing another monomer with a fluoroalkyl group-containing monomer as an essential component.
50-100 mass% is preferable, as for content of the said fluoroalkyl group containing monomer, 70-100 mass% is more preferable, and 80-100 mass% is still more preferable. When the content of the fluoroalkyl group-containing monomer is less than 50% by mass, a sufficient surface energy reduction effect cannot be obtained, and the antifouling property of the optical article may be insufficient.
また、前記フルオロアルキル基含有モノマーと前記(ポリ)オキシアルキレン基含有モノマーとを共重合させる場合には、該(ポリ)オキシアルキレン基含有モノマーの含有量は0.1〜50質量%が好ましく、1〜30質量%がより好ましく、0.5〜10質量%が更に好ましい。 When the fluoroalkyl group-containing monomer and the (poly) oxyalkylene group-containing monomer are copolymerized, the content of the (poly) oxyalkylene group-containing monomer is preferably 0.1 to 50% by mass, 1-30 mass% is more preferable, and 0.5-10 mass% is still more preferable.
また、光学物品の耐久性を高めるために、前記フルオロアルキル基含有重合体は架橋反応性基を有していることが好ましい。架橋反応性基はバインダーの主成分を構成するポリマー及びモノマーの少なくともいずれかの架橋反応性基と反応する基であることが好ましい。 In order to enhance the durability of the optical article, the fluoroalkyl group-containing polymer preferably has a crosslinking reactive group. The crosslinkable group is preferably a group that reacts with at least one of the polymer and monomer constituting the main component of the binder.
前記フルオロアルキル基含有共重合体中への架橋反応性基の導入方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、(1)グリシジル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン等の2種類の反応性の異なる基を含有するモノマーをラジカル重合法又はイオン重合法等によって一方の重合性基のみ重合させる方法、(2)予め、水酸基等の反応性基含有共重合体を合成した後、高分子反応によって架橋反応性基を導入する方法、等が挙げられる。 The method for introducing a crosslinking reactive group into the fluoroalkyl group-containing copolymer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, (1) glycidyl (meth) acrylate, allyl Monomers containing two different groups of reactivity, such as (meth) acrylate, glycidyloxypropyltrimethoxysilane, (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, allyltrimethoxysilane, etc. by radical polymerization or ionic polymerization Examples include a method in which only one polymerizable group is polymerized, and (2) a method in which a reactive group-containing copolymer such as a hydroxyl group is synthesized in advance and then a crosslinking reactive group is introduced by a polymer reaction.
例えば、前記フッ素含有共重合体への(メタ)アクリロイル基の導入方法としては、下記(i)〜(vi)のような方法が挙げられる。
(i)水酸基、アミノ基等の求核基を有するポリマーを合成した後に、(メタ)アクリル酸クロリド、(メタ)アクリル酸無水物、(メタ)アクリル酸とメタンスルホン酸の混合酸無水物等を作用させる方法、(ii)上記求核基を有するポリマーに、硫酸等の触媒存在下、(メタ)アクリル酸を作用させる方法、(iii)上記求核基を有するポリマーにメタクリロイルオキシプロピルイソシアネート等のイソシアネート基と(メタ)アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、(iv)エポキシ基を有するポリマーを合成した後に(メタ)アクリル酸を作用させる方法、(v)カルボキシル基を有するポリマーにグリシジルメタクリレート等のエポキシ基と(メタ)アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、(vi)3−クロロプロピオン酸エステル部位を有するビニルモノマーを重合させた後で脱塩化水素を行う方法。
なお、他の官能基の導入に関しても官能基の安定性に応じて上記いずれかの方法を選択することにより行うことができる。
For example, methods for introducing the (meth) acryloyl group into the fluorine-containing copolymer include the following methods (i) to (vi).
(I) After synthesizing a polymer having a nucleophilic group such as a hydroxyl group and an amino group, (meth) acrylic acid chloride, (meth) acrylic anhydride, mixed acid anhydride of (meth) acrylic acid and methanesulfonic acid, etc. (Ii) a method in which (meth) acrylic acid is allowed to act on the polymer having the nucleophilic group in the presence of a catalyst such as sulfuric acid, (iii) methacryloyloxypropyl isocyanate, etc. on the polymer having the nucleophilic group (Iv) A method in which (meth) acrylic acid is allowed to act after synthesizing a polymer having an epoxy group, (v) Glycidyl methacrylate on a polymer having a carboxyl group A method of allowing a compound having both an epoxy group and a (meth) acryloyl group to act, etc. (vi) - method for performing dehydrochlorination after obtained by polymerizing a vinyl monomer having a chloropropionic acid ester moiety.
In addition, other functional groups can be introduced by selecting any one of the above methods according to the stability of the functional group.
前記架橋反応性基の導入率は、前記フッ素含有共重合体のフッ素含有モノマーに対し、1〜80mol%が好ましく、5〜60mol%がより好ましく、10〜50mol%が更に好ましい。 The introduction rate of the crosslinking reactive group is preferably from 1 to 80 mol%, more preferably from 5 to 60 mol%, still more preferably from 10 to 50 mol%, based on the fluorine-containing monomer of the fluorine-containing copolymer.
以上のようにして得られる、前記フッ素含有ポリマーである共重合体の質量平均分子量(Mw)は、1000〜500万が好ましく、2000〜50万がより好ましく、5000〜10万が更に好ましい。
前記質量平均分子量(Mw)が1000未満であると、十分な被膜硬度が得られず光学物品の耐傷性が不足したり、フッ素含有ポリマー成分の脱落により持続的な防汚効果が得られないことがあり、500万を超えると、溶剤溶解性が低下して扱いにくくなったり、フッ素含有樹脂組成物の保存安定性が低下することがある。
1000-5 million are preferable, as for the mass mean molecular weight (Mw) of the copolymer which is the said fluorine-containing polymer obtained as mentioned above, 2000-500,000 are more preferable, 5000-100000 are still more preferable.
When the mass average molecular weight (Mw) is less than 1000, sufficient film hardness cannot be obtained, and the scratch resistance of the optical article is insufficient, or a continuous antifouling effect cannot be obtained due to dropping off of the fluorine-containing polymer component. If it exceeds 5,000,000, the solvent solubility may be reduced, making it difficult to handle, or the storage stability of the fluorine-containing resin composition may be reduced.
以下に、前記フッ素含有共重合体の好ましい例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、式中のx、y、zで表される数字は、各モノマー成分のモル比を表す。Mwは、質量平均分子量を表わす。 Although the preferable example of the said fluorine-containing copolymer is shown below, this invention is not limited to these. In addition, the number represented by x, y, z in a formula represents the molar ratio of each monomer component. Mw represents a mass average molecular weight.
前記フッ素含有共重合体は、種々の重合方法、例えば、溶液重合、懸濁重合、知沈殿重合、塊状重合、乳化重合等によって合成することができる。また、これらの手法によって水酸基含有重合体等の前駆体を合成した後、前記高分子反応によって(メタ)アクリロイル基等を導入することにより合成することができる。前記重合反応は、回分式、半連続式、連続式等の公知の操作で行うことができる。 The fluorine-containing copolymer can be synthesized by various polymerization methods such as solution polymerization, suspension polymerization, intelligent precipitation polymerization, bulk polymerization, and emulsion polymerization. Moreover, after synthesizing a precursor such as a hydroxyl group-containing polymer by these methods, it can be synthesized by introducing a (meth) acryloyl group or the like by the polymer reaction. The said polymerization reaction can be performed by well-known operation, such as a batch type, a semi-continuous type, and a continuous type.
前記重合の開始方法はラジカル開始剤を用いる方法、光又は放射線を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば、鶴田禎二「高分子合成方法」改定版(日刊工業新聞社刊、1971)、大津隆行、木下雅悦共著「高分子合成の実験法」化学同人、昭和47年刊、124〜154頁に記載されている。 Examples of the polymerization initiation method include a method using a radical initiator and a method of irradiating light or radiation. These polymerization methods and polymerization initiation methods are described in, for example, Tsuruta Junji “Polymer Synthesis Method” revised edition (published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1971), Takayuki Otsu, Masato Kinoshita, “Experimental Method for Polymer Synthesis” , Published in 1972, pages 124-154.
前記重合方法の中でも、特にラジカル開始剤を用いた溶液重合法が好ましい。該溶液重合法で用いられる溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノールなどが挙げられる。これらは1種単独あるいは2種以上の混合物でも良いし、水との混合溶媒としても良い。
前記重合温度は生成するポリマーの分子量、開始剤の種類などと関連して設定する必要があり0℃以下から100℃以上まで可能であるが、50〜100℃の範囲で重合を行うことが好ましい。反応時間は、通常5〜30時間程度である。
Among the polymerization methods, a solution polymerization method using a radical initiator is particularly preferable. There is no restriction | limiting in particular as a solvent used by this solution polymerization method, According to the objective, it can select suitably, For example, ethyl acetate, butyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, dioxane, N , N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, benzene, toluene, acetonitrile, methylene chloride, chloroform, dichloroethane, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol and the like. These may be used alone or as a mixture of two or more, or as a mixed solvent with water.
The polymerization temperature needs to be set in relation to the molecular weight of the polymer to be produced, the type of initiator, etc., and can be from 0 ° C. or lower to 100 ° C. or higher, but it is preferable to perform polymerization in the range of 50 to 100 ° C. . The reaction time is usually about 5 to 30 hours.
得られたポリマーは精製を行わずに、そのまま使用することもできるが再沈澱による精製を行うことが好ましい。再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。 The obtained polymer can be used as it is without purification, but it is preferable to carry out purification by reprecipitation. As the reprecipitation solvent, isopropanol, hexane, methanol and the like are preferable.
本発明においては、前記フッ素含有化合物(フッ素含有モノマー、フッ素含有ポリマー等)をバインダーに添加して用いることができる。
前記バインダーとしては、熱又は活性エネルギー線の作用により硬化する公知のモノマー、オリゴマー又はプレポリマー、あるいは熱可塑性樹脂等を使用することができるが、製造時の形状転写性と形成された形状の強度・耐熱性・耐候性の両立の観点から、好ましくは硬化性樹脂であり、低硬化収縮性の観点からより好ましくはプレポリマーであり、迅速硬化性の観点から、活性エネルギー線の作用により硬化する樹脂が特に好ましい。
In the present invention, the fluorine-containing compound (fluorine-containing monomer, fluorine-containing polymer, etc.) can be added to a binder and used.
As the binder, known monomers, oligomers, prepolymers, or thermoplastic resins that are cured by the action of heat or active energy rays can be used, but shape transferability during production and strength of the formed shape can be used. -From the viewpoint of achieving both heat resistance and weather resistance, preferably a curable resin, more preferably a prepolymer from the viewpoint of low curing shrinkage, and curing by the action of active energy rays from the viewpoint of rapid curability. Resins are particularly preferred.
前記硬化性樹脂としては、1分子中に2つ以上のエチレン性不飽和基(例えば((メタ)アクリロイル基、ビニル基、ビニルオキシ基、アリル基等)、開環重合性基(例えばエポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基等)、反応性シリル基(例えばアルコキシシリル基、アセトキシシリル基、ヒドロキシシリル基等)、重付加反応性基(例えば、イソシアネート基+水酸基等、ビニル基+ヒドロシリル基等)、重縮合反応性基(例えば、多塩基酸あるいはその無水物、N−メチロール基、アルデヒド基/カルボニル基+活性メチレン/ヒドラジン基等)等を有するモノマー、オリゴマー、又はプレポリマーが挙げられる。また、ブロックイソシアネートのように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を有するものであっても良いが、活性エネルギー線の作用により迅速に硬化するものとしては、エチレン性不飽和基または開環重合性基を有する化合物が好ましく、本発明では特にエチレン性不飽和基を有する化合物が好ましい。 Examples of the curable resin include two or more ethylenically unsaturated groups (for example, ((meth) acryloyl group, vinyl group, vinyloxy group, allyl group, etc.), ring-opening polymerizable group (for example, epoxy group, Oxetanyl group, oxazolyl group, etc.), reactive silyl group (eg, alkoxysilyl group, acetoxysilyl group, hydroxysilyl group, etc.), polyaddition reactive group (eg, isocyanate group + hydroxyl group, vinyl group + hydrosilyl group, etc.), Monomers, oligomers, or prepolymers having a polycondensation reactive group (for example, polybasic acid or anhydride thereof, N-methylol group, aldehyde group / carbonyl group + active methylene / hydrazine group, etc.), etc. Like a blocked isocyanate, it may have a functional group that exhibits crosslinkability as a result of a decomposition reaction, As those which cure quickly by the action of sexual energy ray, a compound having an ethylenically unsaturated group or a ring-opening polymerizable group is preferable, in particular compounds having an ethylenically unsaturated group in the present invention is preferred.
前記1分子中に2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物としては、例えば、多価アルコールの(メタ)アクリル酸エステル類(例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラ(メタ)アクリレート、ポリウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート等)、ビニルベンゼン又はその誘導体(例えば、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン等)、ビニルスルホン(例えば、ジビニルスルホン等)、アクリルアミド(例えば、メチレンビスアクリルアミド等)、メタクリルアミド、などが挙げられる。 Examples of the compound having two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule include (meth) acrylic acid esters of polyhydric alcohols (for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane). Diacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol Penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetra (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate Polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, etc.), vinylbenzene or derivatives thereof (for example, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone, etc.) Vinyl sulfone (for example, divinyl sulfone), acrylamide (for example, methylenebisacrylamide), methacrylamide, and the like.
前記1分子中に複数の開環重合性基を有する化合物としては、例えば、上記化合物のエチレン性不飽和基を開環重合性基(例えば、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基等)に置き換えた化合物、グリシジル(メタ)アクリレート、等が挙げられる。また、市販品としては例えば、デナコールEX314,同411,同421,同521,同611,同612等(以上、ナガセ化成工業株式会社製)、セロキサイド、GT301,同401等(以上、ダイセル工業株式会社製)等が挙げられる。 As the compound having a plurality of ring-opening polymerizable groups in one molecule, for example, the ethylenically unsaturated group of the above compound was replaced with a ring-opening polymerizable group (for example, epoxy group, oxetanyl group, oxazolyl group, etc.). Compounds, glycidyl (meth) acrylate, and the like. Examples of commercially available products include Denacol EX 314, 411, 421, 521, 611, 612, etc. (manufactured by Nagase Kasei Kogyo Co., Ltd.), Celoxide, GT301, 401, etc. Company-made).
また、本発明においては、前記微細凹凸構造(フッ素含有樹脂層)を形成するバインダーの主成分(50質量%以上)として、前記フッ素含有化合物(フッ素含有モノマー及びフッ素含有ポリマーのいずれか)を用いることができる。この場合、別途、前記フッ素含有界面活性剤等を添加する必要はないが、防汚性の効果を高めるために併用することもできる。
前記フッ素含有ポリマーの添加量は、フッ素含有樹脂組成物に対し、固形分で0.5〜70質量%が好ましく、1〜60質量%がより好ましい。
前記フッ素含有化合物をバインダーとして用いる場合には、十分な力学特性を発現できる必要があり、良好な硬化反応性を有するフッ素含有プレポリマーが好適である。
前記バインダーの添加量は、フッ素含有樹脂組成物に対し、固形分で10〜80質量%が好ましく、20〜70質量%がより好ましい。
In the present invention, the fluorine-containing compound (any of fluorine-containing monomer and fluorine-containing polymer) is used as the main component (50% by mass or more) of the binder that forms the fine uneven structure (fluorine-containing resin layer). be able to. In this case, it is not necessary to add the fluorine-containing surfactant or the like separately, but it can be used in combination in order to enhance the antifouling effect.
The addition amount of the fluorine-containing polymer is preferably 0.5 to 70% by mass, more preferably 1 to 60% by mass in terms of solid content with respect to the fluorine-containing resin composition.
When using the said fluorine-containing compound as a binder, it needs to be able to express sufficient mechanical characteristics, and the fluorine-containing prepolymer which has favorable hardening reactivity is suitable.
The amount of the binder added is preferably 10 to 80% by mass and more preferably 20 to 70% by mass in terms of solid content with respect to the fluorine-containing resin composition.
前記フッ素含有化合物をバインダーとして用いる場合には、フッ素含有共重合体中の架橋反応性基含有モノマーの含有率は30mol%〜95mol%が好ましく、40mol%〜90mol%がより好ましく、45〜80mol%が更に好ましい。 When the fluorine-containing compound is used as a binder, the content of the crosslinking reactive group-containing monomer in the fluorine-containing copolymer is preferably 30 mol% to 95 mol%, more preferably 40 mol% to 90 mol%, and 45 to 80 mol%. Is more preferable.
前記フッ素含有プレポリマーとしては、フッ素含有アルキル基を有するモノマーと架橋反応性基含有モノマーとを共重合してなる共重合体として用いた化合物が挙げられるが、中でも架橋反応性基含有モノマーとしては、架橋基含率の高いもの(例えば、前記P−29等)を好適に利用することができる。 Examples of the fluorine-containing prepolymer include a compound used as a copolymer obtained by copolymerizing a monomer having a fluorine-containing alkyl group and a crosslinking reactive group-containing monomer. Among them, as the crosslinking reactive group-containing monomer, Those having a high cross-linking group content (for example, P-29 and the like) can be suitably used.
また、パーフルオロオレフィン(フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等、好ましくはヘキサフルオロプロピレン)とビニルエーテル類、ビニルエステル類等の共重合体において、同様に架橋反応性基含有モノマーを有する構造も好適である。 Similarly, in copolymers of perfluoroolefin (fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, hexafluoropropylene, etc., preferably hexafluoropropylene) and vinyl ethers, vinyl esters, etc. A structure having a reactive group-containing monomer is also suitable.
以下、フッ素含有樹脂層のバインダーとして好適に利用できるフッ素含有プレポリマーの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, although the specific example of the fluorine-containing prepolymer which can be utilized suitably as a binder of a fluorine-containing resin layer is shown, this invention is not limited to these.
前記フッ素含有ポリマーとしては、特に制限はなく、前記した一般的合成法に従って合成することができるが、ガスモノマーであるパーフルオロオレフィンを使用する場合にはオートクレーブを使用して合成が行われる。この際、反応圧力は、適宜選定可能であるが、通常は、0.1〜10MPaが好ましく、0.1〜3MPaがより好ましい。 There is no restriction | limiting in particular as said fluorine-containing polymer, Although it can synthesize | combine according to the above-mentioned general synthesis method, when using perfluoroolefin which is a gas monomer, it synthesize | combines using an autoclave. In this case, the reaction pressure can be appropriately selected, but usually 0.1 to 10 MPa is preferable, and 0.1 to 3 MPa is more preferable.
なお、前記フッ素含有ポリマー層においては、前記フッ素含有化合物、非フッ素系バインダー素材等を適宜選択して2種類以上組み合わせて用いても良い。
前記架橋性基を有するフッ素含有ポリマーは、ポリマーに架橋性基を有するので後述する硬化剤の添加量を多くしなくても高い硬度が得られる。したがって、架橋性基を有するフッ素含有ポリマーの添加量は、フッ素含有樹脂組成物に対し、固形分で20〜95質量%が好ましく、30〜80質量%がより好ましい。
In the fluorine-containing polymer layer, the fluorine-containing compound, the non-fluorine binder material and the like may be appropriately selected and used in combination of two or more.
Since the fluorine-containing polymer having a crosslinkable group has a crosslinkable group in the polymer, high hardness can be obtained without increasing the amount of a curing agent to be described later. Therefore, the addition amount of the fluorine-containing polymer having a crosslinkable group is preferably 20 to 95% by mass and more preferably 30 to 80% by mass with respect to the fluorine-containing resin composition.
本発明のフッ素含有樹脂組成物には、前記フッ素含有化合物に加えて、硬度、脆性、基材への密着性、防塵性(帯電防止性)、離型性等の観点から、更に必要に応じて、硬化剤、微粒子、界面活性剤、離型剤等の各種添加剤を配合することができる。 In addition to the fluorine-containing compound, the fluorine-containing resin composition of the present invention is further required from the viewpoints of hardness, brittleness, adhesion to a substrate, dustproof property (antistatic property), releasability and the like. In addition, various additives such as a curing agent, fine particles, a surfactant, and a release agent can be blended.
前記硬化剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、分子中にエチレン性不飽和基(例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、ビニルオキシ基、アリル基等)、開環重合性基(例えば、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基等)、反応性シリル基(例えば、アルコキシシリル基、アセトキシシリル基、ヒドロキシシリル基等)、重付加反応性基(例えば、イソシアネート基+水酸基等、ビニル基+ヒドロシリル基等)、重縮合反応性基(例えば、多塩基酸又はその無水物、N−メチロール基、アルデヒド基又はカルボニル基及び活性メチレン基又はヒドラジン基等)、などを有するモノマー、オリゴマー、又はプレポリマーが好適に挙げられる。
また、ブロックイソシアネートのように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を有するものも好適に挙げることができるが、好ましくは活性エネルギー線の作用により迅速に硬化するものであり、特にエチレン性不飽和基又は開環重合性基を有する化合物が好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as said hardening | curing agent, According to the objective, it can select suitably, For example, ethylenically unsaturated group (For example, (meth) acryloyl group, a vinyl group, a vinyloxy group, an allyl group etc. in a molecule | numerator etc. ), Ring-opening polymerizable group (for example, epoxy group, oxetanyl group, oxazolyl group, etc.), reactive silyl group (for example, alkoxysilyl group, acetoxysilyl group, hydroxysilyl group, etc.), polyaddition reactive group (for example, Isocyanate group + hydroxyl group, vinyl group + hydrosilyl group, etc.), polycondensation reactive group (for example, polybasic acid or its anhydride, N-methylol group, aldehyde group or carbonyl group and active methylene group or hydrazine group), Suitable examples include monomers, oligomers, and prepolymers having the following.
Moreover, although there can be suitably mentioned those having a functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as blocked isocyanate, it is preferably cured rapidly by the action of active energy rays, and particularly ethylenic. A compound having an unsaturated group or a ring-opening polymerizable group is preferred.
前記エチレン性不飽和基を有する硬化剤としては、例えば、多価アルコールの(メタ)アクリル酸エステル類、ビニルベンゼン又はその誘導体、ビニルスルホン、(メタ)アクリルアミド、などが挙げられる。
前記多価アルコールの(メタ)アクリル酸エステル類としては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラ(メタ)アクリレート、ポリウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、などが挙げられる。前記ビニルベンゼン又はその誘導体としては、例えば、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノンなどが挙げられる。前記ビニルスルホンとしては、例えば、ジビニルスルホンなどが挙げられる。前記(メタ)アクリルアミドとしては、例えば、メチレンビスアクリルアミド、メタクリルアミド、などが挙げられる。
Examples of the curing agent having an ethylenically unsaturated group include (meth) acrylic acid esters of polyhydric alcohols, vinyl benzene or derivatives thereof, vinyl sulfone, (meth) acrylamide, and the like.
Examples of the (meth) acrylic acid esters of the polyhydric alcohol include, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate), and pentaerythritol tri (meth) acrylate. , Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3 -Cyclohexanetetra (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate , And the like. Examples of the vinylbenzene or derivatives thereof include 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone, and the like. Examples of the vinyl sulfone include divinyl sulfone. Examples of the (meth) acrylamide include methylene bisacrylamide and methacrylamide.
前記開環重合性基を有する硬化剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記エチレン性不飽和基を有する硬化剤を開環重合性基(例えば、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基)に置換した化合物、グリシジル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
前記開環重合性基を有する硬化剤としては、市販品を用いることができ、例えば、デナコールEX314,同411,同421,同521,同611,同612等(以上、ナガセ化成工業株式会社製)、セロキサイド、GT301、GT401等(以上、ダイセル工業株式会社製)、などが挙げられる。
The curing agent having a ring-opening polymerizable group is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, the curing agent having an ethylenically unsaturated group may be a ring-opening polymerizable group (for example, A compound substituted with an epoxy group, an oxetanyl group or an oxazolyl group), glycidyl (meth) acrylate, or the like.
As the curing agent having a ring-opening polymerizable group, a commercially available product can be used. For example, Denacol EX314, 411, 421, 521, 611, 612, etc. (above, manufactured by Nagase Chemical Industries, Ltd.) ), Celoxide, GT301, GT401 and the like (manufactured by Daicel Industries, Ltd.).
前記硬化剤の配合量は、フッ素含有樹脂組成物に対し、固形分で1〜97質量%が好ましく、1〜70質量%がより好ましく、5〜50質量%が更に好ましく、10〜30質量%が特に好ましい。 The compounding amount of the curing agent is preferably 1 to 97% by mass, more preferably 1 to 70% by mass, still more preferably 5 to 50% by mass, and more preferably 10 to 30% by mass with respect to the fluorine-containing resin composition. Is particularly preferred.
前記微粒子としては、例えば、SiO2、MgF2、TiO2、ZrO2、Al2O3、In2O3、ZnO、SnO2、Sb2O3、ITO等の無機微粒子が好適である。これらの中でも、SiO2が特に好ましい。
前記微粒子としては、市販品を用いることができ、例えば、日産化学工業株式会社製スノーテックスIPA−ST、同MIBK−ST、日本エアロジル株式会社製AEROSIL300、同AEROSIL130、同AEROSIL50、等が挙げられる。
前記微粒子の粒子径は1〜100nmが好ましく、1〜50nmがより好ましく、5〜30nmが更に好ましい。
前記バインダーを形成する樹脂とより強固に結合させるため、前記微粒子の表面を(メタ)アクリロイル基、エポキシ基等の反応性基によって修飾したものを使用することが好適である。前記微粒子の表面修飾は、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基等の官能基を有するシランカップリング剤を用いて行うことができる。
前記微粒子の添加量は、前記フッ素含有樹脂組成物の全固形分に対し1〜50質量%が好ましく、5〜40質量%がより好ましく、10〜30質量%が更に好ましい。
As the fine particles, for example, inorganic fine particles such as SiO 2 , MgF 2 , TiO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , ZnO, SnO 2 , Sb 2 O 3 and ITO are suitable. Among these, SiO 2 is particularly preferable.
As the fine particles, commercially available products can be used, and examples thereof include Snowtex IPA-ST and MIBK-ST manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., AEROSIL300, AEROSIL130 and AEROSIL50 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.
The particle diameter of the fine particles is preferably 1 to 100 nm, more preferably 1 to 50 nm, and still more preferably 5 to 30 nm.
In order to bond the resin more strongly with the resin forming the binder, it is preferable to use the fine particles whose surface is modified with a reactive group such as a (meth) acryloyl group or an epoxy group. The surface modification of the fine particles can be performed using a silane coupling agent having a functional group such as a (meth) acryloyl group or an epoxy group.
1-50 mass% is preferable with respect to the total solid of the said fluorine-containing resin composition, and, as for the addition amount of the said fine particle, 5-40 mass% is more preferable, and 10-30 mass% is still more preferable.
前記界面活性剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記フッ素系界面活性剤及びシリコーン系界面活性剤のいずれも使用することができる。
前記フッ素系界面活性剤としては、上記と同じものを用いることができる。
前記シリコーン系界面活性剤としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー等の各種の置換基で側鎖や主鎖の末端が変性されたポリジメチルシロキサン等が挙げられる。
前記界面活性剤の添加量は、フッ素含有樹脂組成物の全固形分に対し0.001〜10質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましく、0.5〜5質量%が更に好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as said surfactant, According to the objective, it can select suitably, For example, both the said fluorosurfactant and silicone type surfactant can be used.
As the fluorine-based surfactant, the same ones as described above can be used.
Examples of the silicone surfactant include polydimethylsiloxane in which side chains and main chain ends are modified with various substituents such as oligomers such as ethylene glycol and propylene glycol.
0.001-10 mass% is preferable with respect to the total solid of a fluorine-containing resin composition, and, as for the addition amount of the said surfactant, 0.01-5 mass% is more preferable, and 0.5-5 mass% is still more. preferable.
前記微細凹凸構造を形状転写法により形成する場合には樹脂層には離型剤成分が含まれていることが好ましい。前記離型剤成分としては、シリコーン系素材が好ましい。該離型剤成分としては、市販品を用いることができ、例えば、AK−5、AK−30、AK−32(いずれも東亜合成株式会社製)、サイラプレーンFM0275、サイラプレーンFM0721(いずれも、チッソ株式会社製)、KF−100T、X−22−169AS、KF−102、X−22−3701IE、X−22−164B、X−22−164C、X−22−5002、X−22−173B、X−22−174D、X−22−167B、X−22161AS(いずれも、信越化学工業株式会社製)、RMS033(アズマックス株式会社製)、などが挙げられる。 When the fine concavo-convex structure is formed by a shape transfer method, the resin layer preferably contains a release agent component. As the release agent component, a silicone material is preferable. As the release agent component, commercially available products can be used. For example, AK-5, AK-30, AK-32 (all manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.), Silaplane FM0275, Silaplane FM0721 (both Manufactured by Chisso Corporation), KF-100T, X-22-169AS, KF-102, X-22-3701IE, X-22-164B, X-22-164C, X-22-5002, X-22-173B, X-22-174D, X-22-167B, X-22161AS (all manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), RMS033 (manufactured by Asmax Co., Ltd.), and the like.
前記離型剤成分の添加量は、前記フッ素含有樹脂組成物の全固形分に対し1〜20質量%が好ましく、2〜15質量%がより好ましく、3〜10質量%が更に好ましい。 1-20 mass% is preferable with respect to the total solid of the said fluorine-containing resin composition, 2-15 mass% is more preferable, and, as for the addition amount of the said mold release agent component, 3-10 mass% is still more preferable.
本発明のフッ素含有樹脂組成物には、更に必要に応じて硬化触媒又は開始剤を配合することができる。例えば、エチレン性不飽和基の重合を開始するためにはラジカル重合開始剤が添加される。該ラジカル重合開始剤としては、熱の作用によりラジカルを発生する重合開始剤、又は活性エネルギー線の作用によりラジカルを発生する重合開始剤のいずれの使用も可能である。 If necessary, the fluorine-containing resin composition of the present invention may further contain a curing catalyst or an initiator. For example, a radical polymerization initiator is added to initiate the polymerization of ethylenically unsaturated groups. As the radical polymerization initiator, either a polymerization initiator that generates radicals by the action of heat or a polymerization initiator that generates radicals by the action of active energy rays can be used.
前記熱の作用によりラジカル重合を開始する化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、有機過酸化物、無機過酸化物、有機アゾ化合物、ジアゾ化合物、などが好適である。前記有機過酸化物としては、例えば、過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、等が挙げられる。前記無機過酸化物として、例えば、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等が挙げられる。前記有機アゾ化合物としては、例えば、2−アゾービスーイソブチロニトリル、2−アゾービスープロピオニトリル、2−アゾ−ビスーシクロヘキサンジニトリル等が挙げられる。前記ジアゾ化合物としては、例えば、ジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム、等が挙げられる。 The compound that initiates radical polymerization by the action of heat is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include organic peroxides, inorganic peroxides, organic azo compounds, and diazo compounds. Is preferred. Examples of the organic peroxide include benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, butyl hydroperoxide, and the like. Examples of the inorganic peroxide include hydrogen peroxide, ammonium persulfate, and potassium persulfate. Examples of the organic azo compound include 2-azo-bis-isobutyronitrile, 2-azo-bis-propionitrile, 2-azo-bis-cyclohexanedinitrile, and the like. Examples of the diazo compound include diazoaminobenzene, p-nitrobenzenediazonium, and the like.
前記活性エネルギー線の作用によりラジカル重合を開始する化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、などが挙げられる。前記アセトフェノン類としては、例えば、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン等が挙げられる。前記ベンゾイン類としては、例えば、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等が挙げられる。前記ベンゾフェノン類としては、例えば、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン、p−クロロベンゾフェノン等が挙げられる。前記ホスフィンオキシド類としては、例えば、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド等が挙げられる。
なお、これらの光ラジカル重合開始剤と併用して増感色素も好ましく用いることができる。
The compound that initiates radical polymerization by the action of the active energy ray is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, Anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums and the like can be mentioned. Examples of the acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone, Examples include 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone. Examples of the benzoins include benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether. Examples of the benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone, p-chlorobenzophenone, and the like. Examples of the phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
In addition, a sensitizing dye can also be preferably used in combination with these photo radical polymerization initiators.
前記熱又は活性エネルギー線の作用によってラジカル重合を開始する化合物の添加量としては、炭素−炭素二重結合の重合が開始する量であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記フッ素含有樹脂組成物の全固形分に対し0.1〜15質量%が好ましく、0.5〜5質量%がより好ましい。 The amount of the compound that initiates radical polymerization by the action of heat or active energy rays is not particularly limited as long as the polymerization of carbon-carbon double bonds is initiated, and may be appropriately selected according to the purpose. However, 0.1-15 mass% is preferable with respect to the total solid of the said fluorine-containing resin composition, and 0.5-5 mass% is more preferable.
一方、イオン重合性化合物、又はゾルゲル素材の反応を開始するためには、適宜公知の触媒を配合することができる。該触媒としては、酸触媒又は塩基触媒が挙げられる。前記酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸等の無機ブレンステッド酸類、シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有機ブレンステッド酸類、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等のルイス酸類、などが挙げられる。前記塩基触媒としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類、トリエチルアミン、ピリジン、テトラメチルエチレンジアミン等の有機塩基類、などが挙げられる。
前記硬化触媒の添加量は、前記触媒の種類、硬化反応性部位の違いなどによって異なり一概には規定することはできないが、前記フッ素含有樹脂組成物の全固形分に対し0.1〜15質量%が好ましく、0.5〜5質量%がより好ましい。
On the other hand, in order to start the reaction of the ion polymerizable compound or the sol-gel material, a known catalyst can be appropriately blended. Examples of the catalyst include an acid catalyst and a base catalyst. Examples of the acid catalyst include inorganic Bronsted acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid, organic Bronsted acids such as oxalic acid, acetic acid, formic acid, methanesulfonic acid and paratoluenesulfonic acid, dibutyltin dilaurate, dibutyltin diacetate And Lewis acids such as dibutyltin dioctate, triisopropoxyaluminum, and tetrabutoxyzirconium. Examples of the base catalyst include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, and ammonia, and organic bases such as triethylamine, pyridine, and tetramethylethylenediamine.
The addition amount of the curing catalyst varies depending on the type of the catalyst, the difference in the curing reactive site, etc., and cannot be unconditionally specified, but is 0.1 to 15 mass relative to the total solid content of the fluorine-containing resin composition. % Is preferable, and 0.5 to 5% by mass is more preferable.
また、前記フッ素含有樹脂組成物の保存安定性の観点から活性エネルギー線の作用によって酸又は塩基等の硬化促進剤を発生する化合物を使用しても良い。これらの化合物を使用する場合には、活性エネルギー線の照射によって皮膜の硬化が可能になるという利点がある。 Moreover, you may use the compound which generate | occur | produces hardening accelerators, such as an acid or a base, by the effect | action of an active energy ray from a viewpoint of the storage stability of the said fluorine-containing resin composition. When these compounds are used, there is an advantage that the film can be cured by irradiation with active energy rays.
前記活性エネルギー線の作用により酸を発生する化合物としては、例えば、有機エレクトロニクス材料研究会(ぶんしん出版)編「イメージング用有機材料」p187〜198、及び特開平10−282644号公報等に記載の化合物を使用することができる。該化合物としては、具体的には、RSO3 −(ただし、Rは、アルキル基、又はアリール基を表す)、AsF6 −、SbF6 −、PF6 −、BF4 −等をカウンターイオンとするジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等の各種オニウム塩、トリハロメチル基が置換したオキサジアゾール誘導体、S−トリアジン誘導体等の有機ハロゲン化物、有機酸のo−ニトロベンジルエステル、ベンゾインエステル、イミノエステル、ジスルホン化合物等が挙げられる。これらの中でも、オニウム塩類、スルホニウム塩、ヨードニウム塩類が好適である。
前記活性エネルギー線の作用で塩基を発生する化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ニトロベンジルカルバメート類、ジニトロベンジルカルバメート類、等が挙げられる。
これらの活性エネルギー線の作用により、酸又は塩基を発生する化合物と併用して増感色素も好適に用いることができる。前記活性エネルギー線の作用によって硬化反応を促進する化合物、又は増感色素の添加量は、前記フッ素含有樹脂組成物中の全固形分に対し0.1〜15質量%が好ましく、0.5〜5質量%がより好ましい。
Examples of the compound that generates an acid by the action of the active energy ray include those described in “Organic Materials for Imaging” p187 to 198 edited by Organic Electronics Materials Research Group (Bunshin Publishing) and Japanese Patent Laid-Open No. 10-282644. Compounds can be used. Specifically, as the compound, RSO 3 − (wherein R represents an alkyl group or an aryl group), AsF 6 − , SbF 6 − , PF 6 − , BF 4 − and the like are used as counter ions. Various onium salts such as diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, arsonium salts, organic halides such as oxadiazole derivatives substituted with a trihalomethyl group, S-triazine derivatives, organic acids o-Nitrobenzyl ester, benzoin ester, imino ester, disulfone compound and the like. Among these, onium salts, sulfonium salts, and iodonium salts are preferable.
The compound that generates a base by the action of the active energy ray is not particularly limited and can be appropriately selected from known compounds according to the purpose. For example, nitrobenzyl carbamates, dinitrobenzyl carbamates, etc. Is mentioned.
A sensitizing dye can also be suitably used in combination with a compound that generates an acid or a base by the action of these active energy rays. The amount of the compound that accelerates the curing reaction by the action of the active energy rays or the addition amount of the sensitizing dye is preferably 0.1 to 15% by mass with respect to the total solid content in the fluorine-containing resin composition, 0.5 to 5 mass% is more preferable.
また、ゾルゲル素材、アミノプラスト等脱水縮合性化合物を用いる場合、硬化を促進する目的で適宜脱水剤を使用しても良い。該脱水剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルボン酸オルトエステル(例えば、オルト蟻酸メチル、オルト蟻酸エチル、オルト酢酸メチル等)、酸無水物(例えば、無水酢酸等)、等が挙げられる。
前記脱水剤の添加量は、前記フッ素含有樹脂組成物の全固形分100質量部に対して0.5〜500質量部が好ましく、5〜200質量部がより好ましく、10〜100質量部が更に好ましい。
Further, when a dehydrating condensable compound such as a sol-gel material or aminoplast is used, a dehydrating agent may be appropriately used for the purpose of accelerating curing. There is no restriction | limiting in particular as this dehydrating agent, According to the objective, it can select suitably, For example, carboxylic acid orthoester (For example, a methyl orthoformate, an orthoformate ethyl, ortho orthomethyl etc.), an acid anhydride (for example, , Acetic anhydride, etc.).
The addition amount of the dehydrating agent is preferably 0.5 to 500 parts by mass, more preferably 5 to 200 parts by mass, and further more preferably 10 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the fluorine-containing resin composition. preferable.
本発明のフッ素含有樹脂組成物は、前記フッ素含有化合物を必須成分として、更に必要に応じてその他の成分を適宜配合して製造することができる。この場合、前記成分のいずれかが液状化合物である場合、該成分を溶剤として他の成分を溶解することができれば、別途溶剤を添加する必要はないが、このケースにあてはまらない場合には溶剤を用いて各構成成分を溶解することによりフッ素含有樹脂組成物を製造することができる。 The fluorine-containing resin composition of the present invention can be produced by using the above-mentioned fluorine-containing compound as an essential component and further blending other components as necessary. In this case, when any of the above components is a liquid compound, it is not necessary to add a solvent separately if other components can be dissolved using the component as a solvent, but if this is not the case, the solvent is not added. A fluorine-containing resin composition can be produced by dissolving each constituent component.
前記フッ素含有樹脂組成物に使用する溶剤としては、該組成物が沈殿を生じることなく、均一に溶解又は分散されるものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等)、エステル類(例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル等)、エーテル類(例えば、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール等)、芳香族炭化水素類(例えば、トルエン、キシレン等)、水、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。 The solvent used in the fluorine-containing resin composition is not particularly limited as long as the composition is uniformly dissolved or dispersed without causing precipitation, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, ketones (for example, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc.), esters (for example, ethyl acetate, butyl acetate, etc.), ethers (for example, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, etc.), alcohols (for example, Methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, ethylene glycol, etc.), aromatic hydrocarbons (eg, toluene, xylene, etc.), water, and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
本発明のフッ素含有樹脂組成物は、光学特性及び防汚性に優れた微細凹凸構造を有し、種々の分野に好適に使用することができるが、以下の光学物品として特に好適に使用することができる。 The fluorine-containing resin composition of the present invention has a fine concavo-convex structure excellent in optical properties and antifouling properties, and can be suitably used in various fields, but is particularly preferably used as the following optical article. Can do.
(光学物品)
本発明の光学物品は、本発明の前記フッ素含有樹脂組成物を用いて形成される微細凹凸構造を有し、更に必要に応じてその他の部材を有する。
(Optical article)
The optical article of the present invention has a fine concavo-convex structure formed using the fluorine-containing resin composition of the present invention, and further includes other members as necessary.
前記光学物品としては、可視光波長以下の周期的微細凹凸構造を利用した光学素子であれば特に制限はなく、微細凹凸のサイズ、形状に応じて適宜選択することができ、例えば、反射防止膜、反射防止フィルム、偏光分離素子、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、光カード、光ディスク等の各種用途が挙げられる。これらの中でも、反射防止膜、反射防止フィルム等の反射防止材料用途に特に好適に用いられる。なお、光学物品の用途の詳細については、菊田久雄 電子情報通信学会論文 J83−C(3),p.173−181(2000)、などに詳細に記載されている。 The optical article is not particularly limited as long as it is an optical element using a periodic fine concavo-convex structure of a visible light wavelength or less, and can be appropriately selected according to the size and shape of the fine concavo-convex, for example, an antireflection film And various uses such as an antireflection film, a polarization separation element, an optical waveguide, a relief hologram, a lens, an optical card, and an optical disk. Among these, it is particularly suitably used for antireflection material applications such as an antireflection film and an antireflection film. For details on the use of the optical article, see Hisao Kikuta J83-C (3), p. 173-181 (2000), and the like.
前記光学物品の最表面における微細凹凸構造の凹凸周期(Λ)は10〜400nmが好ましく、また、微細凹凸構造層の屈折率をnとした時、Λ<400/n(nm)がより好ましい。このような条件では可視光の散乱が起こらない。
前記微細凹凸の高さ(深さ)は、50〜1000nmが好ましく、200〜1000nmがより好ましく、300〜1000nmが更に好ましい。
The concavo-convex period (Λ) of the fine concavo-convex structure on the outermost surface of the optical article is preferably 10 to 400 nm, and Λ <400 / n (nm) is more preferable when the refractive index of the fine concavo-convex structure layer is n. Under such conditions, no visible light scattering occurs.
The height (depth) of the fine irregularities is preferably 50 to 1000 nm, more preferably 200 to 1000 nm, and still more preferably 300 to 1000 nm.
前記微細凹凸構造の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、反射防止膜の用途に用いる場合には、円錐型、三角錘型、釣り鐘型、空気界面側がすぼまった一軸方向に波打った型等の形状によって、空気界面(屈折率約1)から支持体までの平均屈折率が連続的に変化する構造が好ましく、これらの中でも、円錐型、三角錘型、釣り鐘型のように微細凹凸構造に方向性のないものがより好ましく、円錐型、三角錘型のように厚み方向の屈折率の連続変化が直線的(一次関数)であるものが特に好ましい。
なお、断面が矩形の微細凹凸構造等で、厚み方向の屈折率の連続変化がない形状は、反射防止膜においては好ましい形態ではないが多層膜の低屈折率層として利用することができる。
The shape of the fine concavo-convex structure is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, when used for an antireflection film, a conical shape, a triangular pyramid shape, a bell shape, an air interface A structure in which the average refractive index from the air interface (refractive index of about 1) to the support continuously changes depending on the shape of the undulated uniaxially shaped side is preferable. Among these, a cone type, Those with a fine concavo-convex structure with no directionality such as a triangular pyramid type and a bell shape are more preferable, and those with a continuous change in refractive index in the thickness direction are linear (linear function) such as a cone type and a triangular pyramid type. Particularly preferred.
Note that a shape having a fine concavo-convex structure with a rectangular cross section and the like in which there is no continuous change in the refractive index in the thickness direction can be used as a low refractive index layer of a multilayer film although it is not a preferable form in an antireflection film.
本発明の光学物品(微細凹凸構造膜、例えば、反射防止膜、反射防止フィルム)の反射率は低いほど好ましく、具体的には450〜650nmの波長領域での鏡面平均反射率は2%以下が好ましく、1%以下がより好ましく、0.5%以下が更に好ましい。
ここで、前記450〜650nmの波長領域での鏡面平均反射率は、例えば、分光光度計を用いて、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における分光反射率を測定し、450〜650nmの鏡面平均反射率を算出して求めることができる。
The reflectance of the optical article of the present invention (fine concavo-convex structure film such as an antireflection film or antireflection film) is preferably as low as possible. Specifically, the mirror surface average reflectance in the wavelength region of 450 to 650 nm is 2% or less. Preferably, it is 1% or less, more preferably 0.5% or less.
Here, the specular average reflectance in the wavelength region of 450 to 650 nm is measured by measuring the spectral reflectance at an incident angle of 5 ° in the wavelength region of 380 to 780 nm using a spectrophotometer, for example, and 450 to 650 nm. It is possible to calculate and obtain the mirror surface average reflectance.
前記微細凹凸構造は、液滴の濡れ性を強調する方向に作用することが知られている(例えば、表面 35(12)巻、629頁(1997)等に詳細に記載されている。)。即ち、固体の表面張力が液滴の表面張力に対して十分に低くない場合(具体的には、平らな表面における液滴の接触角が90°未満の場合)、微細凹凸構造は液滴をより濡らす方向に作用することになる。逆に、固体の表面張力が十分に低い場合には液滴はより弾かれる方向になる。表面張力の高い水を弾く表面を作るのは比較的容易であるが、表面張力の低い油滴を弾くのはより困難である。 The fine concavo-convex structure is known to act in the direction of enhancing the wettability of droplets (for example, described in detail in Surface 35 (12), page 629 (1997)). That is, when the surface tension of the solid is not sufficiently low relative to the surface tension of the droplet (specifically, when the contact angle of the droplet on a flat surface is less than 90 °), It will act in the direction of more wetting. On the other hand, when the surface tension of the solid is sufficiently low, the droplet is more repelled. Although it is relatively easy to create a surface that repels water with high surface tension, it is more difficult to repel oil droplets with low surface tension.
本発明において、前記微細凹凸構造において問題となる防汚性(特に油滴の侵入)を改良するために、微細凹凸構造を表面張力の低いフッ素含有樹脂層とする。該微細凹凸構造の表面張力は25mN/m以下が好ましく、20mN/m以下がより好ましく、15mN/m以下が更に好ましい。
前記表面張力が、25mN/mを超えると、光学物品の防汚性が不十分となることがある。
In the present invention, in order to improve the antifouling property (particularly the penetration of oil droplets) which is a problem in the fine concavo-convex structure, the fine concavo-convex structure is a fluorine-containing resin layer having a low surface tension. The surface tension of the fine concavo-convex structure is preferably 25 mN / m or less, more preferably 20 mN / m or less, and even more preferably 15 mN / m or less.
When the surface tension exceeds 25 mN / m, the antifouling property of the optical article may be insufficient.
前記フッ素含有樹脂組成物の屈折率(微細凹凸を付与しない時の屈折率)は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、1.25〜1.70が好ましく、1.30〜1.60がより好ましく、1.40〜1.55が更に好ましい。前記屈折率が高ければ高いほど、可視光を散乱させないための最適な微細凹凸周期を短くする必要があるため、製造的に難度が高くなることがある一方、屈折率を下げれば、耐傷性等の皮膜特性を両立するのが難しくなることがある。 The refractive index of the fluorine-containing resin composition (refractive index when fine irregularities are not imparted) is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, preferably 1.25 to 1.70. 30 to 1.60 is more preferable, and 1.40 to 1.55 is still more preferable. The higher the refractive index, the shorter the optimum fine irregularity period for preventing the scattering of visible light, which may increase the difficulty of manufacturing. On the other hand, if the refractive index is lowered, scratch resistance, etc. It may be difficult to achieve both film properties.
本発明の光学物品は、表面にフッ素原子を含有してなり、該フッ素原子の含有率は、20原子個数%以上が好ましく、30〜75原子個数%がより好ましい。
前記フッ素原子の含有率が、20原子個数%未満であると、光学物品の防汚性が不十分となることがある。
前記フッ素原子の含有率は、例えば、X線光電子分光法により好適に測定することができる。なお、前記X線光電子分光法(XPS)は、例えば、公知のX線光電子分光(XPS)装置(例えば、PHI社製1600S型X線光電子分光装置など)を用いて行うことができ、前記フッ素原子含有率はフッ素原子に起因するピークを分離することにより、測定することができる。
The optical article of the present invention contains fluorine atoms on the surface, and the fluorine atom content is preferably 20 atomic percent or more, more preferably 30 to 75 atomic percent.
When the fluorine atom content is less than 20 atomic percent, the antifouling property of the optical article may be insufficient.
The fluorine atom content can be suitably measured by, for example, X-ray photoelectron spectroscopy. The X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) can be performed using, for example, a known X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) apparatus (for example, a 1600S type X-ray photoelectron spectrometer manufactured by PHI), and the fluorine The atomic content can be measured by separating peaks caused by fluorine atoms.
前記フッ素原子の前記微細凹凸構造における存在領域としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記微細凹凸構造の表面から数nm程度の表面層であることが好ましく、該粒子表面から0〜10nmの表面層であることがより好ましい。 The existence region of the fluorine concavo-convex structure of the fluorine atom is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose, but is preferably a surface layer of about several nm from the surface of the micro concavo-convex structure, The surface layer is more preferably 0 to 10 nm from the particle surface.
前記微細凹凸形状の形成方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から目的に応じて適宜選択することができるが、安価であり、大面積加工の安定製造の観点から、相補的な微細凹凸構造を有するスタンパーを圧接して樹脂に形状を転写する方法、又は2種類の樹脂等の相分離を利用し、適切な溶剤を用いて1成分のみを溶出することにより微細凹凸構造を形成する方法等が好適に挙げられ、これらの中でも、特にスタンパーを用いた形状転写法が好ましい。 The method for forming the fine concavo-convex shape is not particularly limited and can be appropriately selected from known methods according to the purpose, but is inexpensive and complementary from the viewpoint of stable production of large-area processing. Forming a fine relief structure by pressing a stamper with a fine relief structure and transferring the shape to the resin, or using a phase separation of two types of resins and eluting only one component using an appropriate solvent Among them, a shape transfer method using a stamper is particularly preferable.
前記形状転写法に利用されるスタンパーは、感光性樹脂に対するレーザー干渉露光法や電子線露光法によって微細凹凸形状を有する原型を作製し、更に該原型に対してNi等で電鋳加工する等公知の手法によって作製することができる。形状転写は未硬化又は半硬化の樹脂、又は熱可塑性樹脂に該スタンパーを圧接することにより行うことができる。前記形状転写を行う際の温度条件、及び圧力条件については特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、該温度条件としては、50〜250℃が好ましく、50〜200℃がより好ましく、50〜150℃が更に好ましい。該圧力条件としては、0.1〜15MPaが好ましく、0.5〜10MPaがより好ましく、1〜5MPaが更に好ましい。 A stamper used for the shape transfer method is known in which a prototype having a fine irregular shape is produced by a laser interference exposure method or an electron beam exposure method for a photosensitive resin, and further electroformed with Ni or the like on the prototype. It can produce by the method of. Shape transfer can be performed by pressing the stamper to an uncured or semi-cured resin or a thermoplastic resin. There are no particular limitations on the temperature conditions and pressure conditions when performing the shape transfer, and they can be appropriately selected according to the purpose. The temperature conditions are preferably 50 to 250 ° C, more preferably 50 to 200 ° C. Preferably, 50 to 150 ° C is more preferable. As this pressure condition, 0.1-15 MPa is preferable, 0.5-10 MPa is more preferable, 1-5 MPa is still more preferable.
前記スタンパーとしては、金属ロールの周囲に装着したエンボスロールを利用すれば、ロール−トウ−ロールのプロセスでの大面積加工が可能になる。 As the stamper, if an embossing roll mounted around a metal roll is used, large-area processing can be performed in a roll-to-roll process.
前記紫外線硬化樹脂に対して形状転写を行う場合には、(1)未硬化又は半硬化の樹脂を支持体に塗設した上に、前記スタンパーで圧接し、更に支持体の裏側から紫外線を照射して形状を転写しながら樹脂層を硬化させた後、スタンパーを剥離する方法、(2)未硬化又は半硬化の樹脂層にスタンパーを圧接して形状転写を行い、スタンパーを剥離した後に、紫外線照射を行って樹脂層を硬化させる方法、などがあり、本発明ではいずれの形態も好ましく用いられる。 When shape transfer is performed on the ultraviolet curable resin, (1) an uncured or semi-cured resin is coated on the support, pressed with the stamper, and further irradiated with ultraviolet light from the back side of the support. After the resin layer is cured while transferring the shape, the stamper is peeled off. (2) After the stamper is pressed against the uncured or semi-cured resin layer and the stamper is peeled off, the ultraviolet ray is removed. There is a method of curing the resin layer by irradiation, and any form is preferably used in the present invention.
各層の硬化は電離放射線及び熱の少なくともいずれかの作用によって行われる。電離放射線の照射は、高圧水銀ランプを用いて行うことが好ましい。この際、紫外線照射は所定の酸素濃度の下で行うことが好ましい。該酸素濃度は、0.5%以下が好ましく、0.3%以下がより好ましく、0.2%以下が更に好ましい。前記照射エネルギーは、硬化反応が十分に進むのに必要な量であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、300mJ/cm2〜1500mJ/cm2が好ましく、400mJ/cm2〜1000mJ/cm2がより好ましく、500mJ/cm2〜800mJ/cm2が更に好ましい。 Each layer is cured by the action of ionizing radiation and / or heat. The irradiation with ionizing radiation is preferably performed using a high-pressure mercury lamp. At this time, the ultraviolet irradiation is preferably performed under a predetermined oxygen concentration. The oxygen concentration is preferably 0.5% or less, more preferably 0.3% or less, and still more preferably 0.2% or less. The irradiation energy is not particularly limited as long as it is an amount necessary for the curing reaction to proceed sufficiently, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, 300 mJ / cm 2 to 1500 mJ / cm 2 is preferable, and 400 mJ / Cm 2 to 1000 mJ / cm 2 is more preferable, and 500 mJ / cm 2 to 800 mJ / cm 2 is still more preferable.
前記加熱を行う場合には、加熱温度は30〜200℃が好ましく、80〜180℃がより好ましく、100〜150℃が更に好ましい。加熱時間は30秒〜100時間が好ましく、1分〜1時間がより好ましく、2分〜15分が更に好ましい。 In the case of performing the heating, the heating temperature is preferably 30 to 200 ° C, more preferably 80 to 180 ° C, and further preferably 100 to 150 ° C. The heating time is preferably 30 seconds to 100 hours, more preferably 1 minute to 1 hour, and even more preferably 2 minutes to 15 minutes.
前記スタンパーを圧接して形状を転写する前に前記紫外線照射又は加熱の手段によって樹脂を部分硬化させてもよい。また、形状転写時には光及び熱の2つのエネルギーを同時に与えて硬化反応を行っても良く、一方のみのエネルギーで硬化させても良い。形状形成後に完全硬化させる際も、上記の光及び熱の少なくともいずれかを加える方法を利用できる。 The resin may be partially cured by the ultraviolet irradiation or heating means before pressing the stamper to transfer the shape. Moreover, at the time of shape transfer, the curing reaction may be performed by simultaneously applying two energies of light and heat, or the curing may be performed with only one energy. The method of applying at least one of the above light and heat can also be used when completely curing after forming the shape.
本発明の光学物品を多層構成とする場合には、各層を順次十分硬化させた後に上層を塗設することが好ましい。 When the optical article of the present invention has a multi-layer structure, it is preferable to coat the upper layer after each layer is sufficiently cured in sequence.
−反射防止膜−
本発明の光学物品としての反射防止膜は、本発明の前記フッ素含有樹脂組成物を用いて形成される微細凹凸構造を有する樹脂膜からなる。
この場合、支持体の上に微細凹凸形状を保有する樹脂層を形成してから、装置(例えば、ディスプレイ等の画像表示装置)に配置して用いられることが好ましいが、微細凹凸構造層を装置に直接配置しても構わない。
-Antireflection film-
The antireflection film as the optical article of the present invention is composed of a resin film having a fine concavo-convex structure formed using the fluorine-containing resin composition of the present invention.
In this case, it is preferable that a resin layer having a fine concavo-convex shape is formed on the support and then used by being placed in a device (for example, an image display device such as a display). You may arrange directly.
前記反射防止膜は、偏光板、ディスプレイ装置、例えば、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような画像表示装置に適用する。前記反射防止膜は、微細凹凸構造が空気界面側になるように配置する。前記反射防止膜が支持体上に設けられ、反射防止フィルムとして用いられる場合は、支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して使用する。
前記反射防止膜は、前記画像表示装置以外にも、ケースカバー、光学用レンズ、眼鏡用レンズ、ウインドウシールド、ライトカバー、ヘルメットシールドにも利用できる。
The antireflection film is applied to a polarizing plate, a display device, for example, an image display device such as a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), or a cathode ray tube display device (CRT). To do. The antireflection film is arranged so that the fine uneven structure is on the air interface side. When the antireflection film is provided on a support and used as an antireflection film, the support side is adhered to an image display surface of an image display device.
In addition to the image display device, the antireflection film can be used for a case cover, an optical lens, a spectacle lens, a window shield, a light cover, and a helmet shield.
前記反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。本発明の反射防止膜は表面に可視光波長以下の周期的微細凹凸構造が付与されてなるものであるが、これに加えて更に可視光波長以上のなだらかな凹凸構造を付与することによりアンチグレア機能も付与できる(即ち、これは、大きななだらかな凹凸形状の上に微細凹凸構造が付与されてなるものである)。該なだらかな凹凸形状は、相補的な形状を有するスタンパーを用いる方法、微粒子により大きな凹凸構造を有する表面を形成した後に、スタンパーを圧接する方法、微粒子を利用して大きな凹凸構造を形成し、更に相分離を利用して小さな凹凸構造の形成する方法などによって作製することができる。 The antireflection film may have an antiglare function for scattering external light. The antireflection film of the present invention is provided with a periodic fine concavo-convex structure having a visible light wavelength or less on the surface, and in addition to this, by providing a gentle concavo-convex structure having a visible light wavelength or more, an antiglare function is provided. (That is, this is a structure in which a fine uneven structure is provided on a large gentle uneven shape). The gentle concavo-convex shape includes a method using a stamper having a complementary shape, a method in which a surface having a large concavo-convex structure is formed by fine particles, and a method of pressing a stamper, and forming a large concavo-convex structure using fine particles. It can be produced by a method of forming a small uneven structure using phase separation.
前記反射防止膜のヘイズ(アンチグレア機能がない場合)は、3%以下が好ましく、1%以下がより好ましく、0.5%以下が更に好ましい。前記反射防止膜の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度で、1H以上が好ましく、2H以上がより好ましく、3H以上が更に好ましい。
前記反射防止膜がアンチグレア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、3〜30%が好ましく、5〜20%がより好ましく、7〜20%が更に好ましい。
The haze (when there is no antiglare function) of the antireflection film is preferably 3% or less, more preferably 1% or less, and still more preferably 0.5% or less. The strength of the antireflection film is 1H or higher, preferably 1H or higher, more preferably 2H or higher, and still more preferably 3H or higher, with a pencil hardness of 1 kg.
When the antireflection film has an antiglare function, the haze of the antireflection film is preferably 3 to 30%, more preferably 5 to 20%, and still more preferably 7 to 20%.
前記反射防止層(微細凹凸構造層)は、CRT画像表示面やレンズ表面に直接設けてもよいが、通常は支持体上に微細凹凸構造層を設けて、例えば、反射防止フィルム等としてから各種機器に装着されることが好ましい。 The antireflection layer (fine concavo-convex structure layer) may be provided directly on the CRT image display surface or the lens surface. Usually, a fine concavo-convex structure layer is provided on the support, for example, as an antireflection film or the like. It is preferable to be mounted on the device.
−反射防止フィルム−
本発明の光学物品としての反射防止フィルムは、支持体と、該支持体上に前記フッ素含有樹脂組成物から形成される微細凹凸構造層(反射防止層)を設けたものであり、更に必要に応じてハードコート層、防湿層、帯電防止層、下塗り層等の層を設けてもよい。
-Antireflection film-
The antireflection film as the optical article of the present invention is provided with a support and a fine uneven structure layer (antireflection layer) formed from the fluorine-containing resin composition on the support, and further required. Accordingly, layers such as a hard coat layer, a moisture-proof layer, an antistatic layer, and an undercoat layer may be provided.
前記支持体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ガラス板よりもプラスチックフイルムの方が、成形性、量産性などの点から好ましい。
前記プラスチックフイルム材料としては、例えば、セルロースエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテルケトン、などが挙げられる。
前記セルロースエステルとしては、例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース等が挙げられる。前記ポリエステルとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート等が挙げられる。前記ポリスチレンとしては、例えば、シンジオタクチックポリスチレン等が挙げられる。前記ポリオレフィンとしては、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン等が挙げられる。
これらの中でも、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートが特に好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as said support body, Although it can select suitably according to the objective, A plastic film is more preferable than points, such as a moldability and mass-productivity, than a glass plate.
Examples of the plastic film material include cellulose ester, polyamide, polycarbonate, polyester, polystyrene, polyolefin, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyetherimide, polymethylmethacrylate, polyetherketone, and the like.
Examples of the cellulose ester include triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose, and the like. Examples of the polyester include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, and polybutylene terephthalate. It is done. Examples of the polystyrene include syndiotactic polystyrene. Examples of the polyolefin include polypropylene, polyethylene, and polymethylpentene.
Among these, triacetyl cellulose, polycarbonate, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are particularly preferable.
前記支持体には、赤外線吸収剤又は紫外線吸収剤を添加してもよく、赤外線吸収剤又は紫外線吸収剤の支持体における添加量は、0.01〜20質量%が好ましく、0.05〜10質量%がより好ましい。
前記支持体の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、50〜200μmが好ましい。
An infrared absorber or an ultraviolet absorber may be added to the support, and the amount of the infrared absorber or the ultraviolet absorber added to the support is preferably 0.01 to 20% by mass, and 0.05 to 10%. The mass% is more preferable.
There is no restriction | limiting in particular in the thickness of the said support body, According to the objective, it can select suitably, For example, 50-200 micrometers is preferable.
スタンパーを用いて樹脂層に微細凹凸形状を形成する際、支持体側から活性エネルギー線を照射して樹脂層を硬化させる方法を選択する場合には支持体には、紫外線吸収剤等、活性エネルギー線を吸収する物質を添加しないことが望ましく、また、支持体も該露光波長域に吸収を持たないものを選択することがましい。 When forming a fine concavo-convex shape on the resin layer using a stamper, when selecting a method of irradiating active energy rays from the support side to cure the resin layer, the support has active energy rays such as an ultraviolet absorber. It is desirable not to add a substance that absorbs light, and it is preferable to select a support that does not absorb in the exposure wavelength region.
高強度化、低熱膨張性等の観点から無機化合物の粒子を支持体に添加してもよい。無機化合物としては、例えば、SiO2、TiO2、BaSO4、CaCO3、タルク、カオリン、などが挙げられる。 From the viewpoints of increasing the strength and reducing the thermal expansion, inorganic compound particles may be added to the support. Examples of inorganic compounds include SiO 2 , TiO 2 , BaSO 4 , CaCO 3 , talc, kaolin, and the like.
前記支持体には、表面処理を実施してもよい。該表面処理としては、例えば、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処理、などが挙げられる。これらの中でも、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理、火焔処理が好ましく、グロー放電処理、紫外線処理が特に好ましい。 The support may be subjected to a surface treatment. Examples of the surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment, ozone oxidation treatment, and the like. It is done. Among these, glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment, and flame treatment are preferable, and glow discharge treatment and ultraviolet treatment are particularly preferable.
前記支持体の光透過率は、80%以上が好ましく、86%以上がより好ましい。前記支持体のヘイズは、2.0%以下が好ましく、1.0%以下がより好ましい。前記支持体の屈折率は、1.4〜1.7が好ましく、反射防止膜用途とする場合、前記樹脂層との屈折率差が小さいものが好ましい。 The light transmittance of the support is preferably 80% or more, and more preferably 86% or more. The haze of the support is preferably 2.0% or less, and more preferably 1.0% or less. The support preferably has a refractive index of 1.4 to 1.7, and when used as an antireflection film, a support having a small refractive index difference from the resin layer is preferable.
前記支持体上に形成される前記微細凹凸構造層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(米国特許2681294号明細書記載)による塗布により形成することができる。二層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許2761791号、同2941898号、同3508947号、同3526528号の各明細書及び原崎勇次著、コーティング工学、253頁、朝倉書店(1973)に記載がある。 The fine concavo-convex structure layer formed on the support is formed by a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method or an extrusion coating method (US Pat. No. 2,681,294). It can be formed by coating according to the description. Two or more layers may be applied simultaneously. The methods of simultaneous application are described in US Pat. Nos. 2,761,789, 2,941,898, 3,508,947, and 3,526,528 and Yuji Harasaki, Coating Engineering, page 253, Asakura Shoten (1973).
前記ハードコート層は、支持体に耐傷性を付与するために設けられ、支持体とその上の層との接着を強化する機能をも有する。
前記ハードコート層は、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー、シリカ系化合物を用いて形成することができる。なお、顔料をハードコート層に添加してよい。前記アクリル系ポリマーとしては、多官能アクリレートモノマー(例えば、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート)の重合反応により合成することが好ましい。前記ウレタン系ポリマーとしては、例えば、メラミンポリウレタンなどが挙げられる。前記シリコーン系ポリマーとしては、例えば、シラン化合物(例えば、テトラアルコキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン)と反応性基(例えば、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基)を有するシランカップリング剤との共加水分解物が好適に挙げられる。二種類以上のポリマーを組み合わせて用いてもよい。前記シリカ系化合物としては、コロイダルシリカが好適に挙げられる。
前記ハードコート層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度で、H以上が好ましく、2H以上がより好ましく、3H以上が更に好ましい。支持体の上には、前記ハードコート層に加えて、接着層、シールド層、帯電防止層を設けてもよい。該シールド層は、電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
The hard coat layer is provided for imparting scratch resistance to the support, and also has a function of strengthening the adhesion between the support and the layer thereon.
The hard coat layer can be formed using an acrylic polymer, a urethane polymer, an epoxy polymer, a silicone polymer, or a silica compound. A pigment may be added to the hard coat layer. The acrylic polymer is preferably synthesized by a polymerization reaction of a polyfunctional acrylate monomer (for example, polyol acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate). Examples of the urethane polymer include melamine polyurethane. Examples of the silicone polymer include co-hydrolysis of a silane compound (eg, tetraalkoxysilane, alkyltrialkoxysilane) and a silane coupling agent having a reactive group (eg, epoxy group, (meth) acryloyl group). A thing is mentioned suitably. Two or more kinds of polymers may be used in combination. As said silica type compound, colloidal silica is mentioned suitably.
The strength of the hard coat layer is a pencil hardness of 1 kg load, preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and further preferably 3H or higher. In addition to the hard coat layer, an adhesive layer, a shield layer, and an antistatic layer may be provided on the support. The shield layer is provided to shield electromagnetic waves and infrared rays.
(画像表示装置)
前記画像表示装置は、前記光学物品としての本発明の前記反射防止膜及び本発明の前記反射防止フィルムのいずれかを配置してなり、更に必要に応じてその他の部材を有する。
前記画像表示装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、液晶表示装置(LCD)、などが挙げられる。これらの中でも、液晶表示装置が特に好ましい。
(Image display device)
The image display device includes any one of the antireflection film of the present invention and the antireflection film of the present invention as the optical article, and further includes other members as necessary.
There is no restriction | limiting in particular as said image display apparatus, According to the objective, it can select suitably, For example, a cathode-ray tube display apparatus (CRT), a plasma display (PDP), an electroluminescent display (ELD), a liquid crystal display apparatus ( LCD). Among these, a liquid crystal display device is particularly preferable.
前記液晶表示装置としては、互いに対向して配される一対の基板間に液晶が封入されてなり、該液晶表示装置における液晶としては、例えば、STN型、TN型、GH型、ECB型、強誘電性液晶、反強誘電性液晶、VA型、ASM型、その他種々のものが好適に挙げられる。 As the liquid crystal display device, liquid crystal is sealed between a pair of substrates arranged opposite to each other. As the liquid crystal in the liquid crystal display device, for example, STN type, TN type, GH type, ECB type, strong Preferred examples include dielectric liquid crystals, antiferroelectric liquid crystals, VA type, ASM type, and other various types.
本発明の液晶表示装置の基本的な構成態様としては、例えば、(1)薄膜トランジスタ(以下、「TFT」と称することがある。)等の駆動素子と画素電極(導電層)とが配列形成された駆動側基板と、カラーフィルタ及び対向電極(導電層)を備えるカラーフィルタ側基板とをスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成されるもの、(2)カラーフィルタが前記駆動側基板に直接形成されたカラーフィルタ一体型駆動基板と、対向電極(導電層)を備える対向基板とをスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成されるもの等が挙げられる。 As a basic configuration mode of the liquid crystal display device of the present invention, for example, (1) a driving element such as a thin film transistor (hereinafter sometimes referred to as “TFT”) and a pixel electrode (conductive layer) are arranged and formed. The drive side substrate and the color filter side substrate including the color filter and the counter electrode (conductive layer) are arranged to face each other with a spacer interposed therebetween, and a liquid crystal material is sealed in the gap portion, (2) A color filter integrated drive substrate in which a color filter is directly formed on the drive side substrate and a counter substrate having a counter electrode (conductive layer) are arranged to face each other with a spacer interposed therebetween, and a liquid crystal material is sealed in the gap portion. And the like.
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこの実施例に何ら限定されるものではない。 Hereinafter, although the Example of this invention is described, this invention is not limited to this Example at all.
(合成例1)
−フッ素含有共重合体(P−2)の合成−
攪拌機及び還流冷却器を備えた反応器中に、1H,1H,7H−ドデカフルオロヘプチルアクリレート39.93g、ジメチル2,2’−アゾビスイソブチレート1.1g、及び2−ブタノン30gを加え、窒素雰囲気下、78℃にて6時間加熱して反応を完結させた。以上により、下記構造式で表されるフッ素含有共重合体(P−2)を合成した。
得られたフッ素含有共重合体(P−2)の質量平均分子量(Mw)は、2.9×104であった。
(Synthesis Example 1)
-Synthesis of fluorine-containing copolymer (P-2)-
In a reactor equipped with a stirrer and a reflux condenser, 39.93 g of 1H, 1H, 7H-dodecafluoroheptyl acrylate, 1.1 g of dimethyl 2,2′-azobisisobutyrate, and 30 g of 2-butanone are added, The reaction was completed by heating at 78 ° C. for 6 hours under a nitrogen atmosphere. As described above, a fluorine-containing copolymer (P-2) represented by the following structural formula was synthesized.
The obtained fluorine-containing copolymer (P-2) had a mass average molecular weight (Mw) of 2.9 × 10 4 .
(合成例2)
−フッ素含有共重合体(P-13)の合成−
攪拌機及び還流冷却器を備えた反応器中に、1H,1H,7H−ドデカフルオロヘプチルアクリレート31.98g、ブレンマーAP−400(商品名、日本油脂株式会社製)7.95g、ジメチル2,2’−アゾビスイソブチレート1.1g、及び2−ブタノン30gを加え、窒素雰囲気下、78℃にて6時間に加熱して反応を完結させた。以上により、下記構造式で表されるフッ素含有共重合体(P−13)を合成した。
得られたフッ素含有共重合体(P−13)の質量平均分子量(Mw)は、3.4×104であった。
(Synthesis Example 2)
-Synthesis of fluorine-containing copolymer (P-13)-
In a reactor equipped with a stirrer and a reflux condenser, 1H, 1H, 7H-dodecafluoroheptyl acrylate 31.98 g, Blemmer AP-400 (trade name, manufactured by NOF Corporation), 7.95 g of dimethyl 2,2 ′ -1.1 g of azobisisobutyrate and 30 g of 2-butanone were added, and the reaction was completed by heating at 78 ° C for 6 hours under a nitrogen atmosphere. As described above, a fluorine-containing copolymer (P-13) represented by the following structural formula was synthesized.
The obtained fluorine-containing copolymer (P-13) had a mass average molecular weight (Mw) of 3.4 × 10 4 .
(合成例3)
−フッ素含有共重合体(P−37)の合成−
合成例2で得られたフッ素含有ポリマー溶液71gに、2−イソシアナートエチルメタクリレート2.81g、及びジブチルチンジラウレート0.1gを加え、室温下にて12時間反応させた。以上により、下記構造式で表わされるフッ素含有共重合体(P−37)を合成した。
得られたフッ素含有共重合体含有溶液のIRスペクトルよりイソシアネート基が完全に消費され、ウレタン結合による新たなピークが観測され、ポリマーの質量平均分子量は3.7×104であった。
(Synthesis Example 3)
-Synthesis of fluorine-containing copolymer (P-37)-
To 71 g of the fluorine-containing polymer solution obtained in Synthesis Example 2, 2.81 g of 2-isocyanatoethyl methacrylate and 0.1 g of dibutyltin dilaurate were added and reacted at room temperature for 12 hours. As described above, a fluorine-containing copolymer (P-37) represented by the following structural formula was synthesized.
From the IR spectrum of the obtained fluorine-containing copolymer-containing solution, the isocyanate groups were completely consumed, a new peak due to urethane bonds was observed, and the mass average molecular weight of the polymer was 3.7 × 10 4 .
(合成例4)
−フッ素含有共重合体(PP−1)の合成−
内容量100mlのステンレススチール製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル40ml、ヒドロキシエチルビニルエーテル14.7g、及び過酸化ジラウロイル0.55gを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更に、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)25gをオートクレーブ中に導入して65℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が65℃に達した時点の圧力は0.54MPaであった。該温度を保持し8時間反応を続け、圧力が0.32MPaに達した時点で加熱をやめて放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。
得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。次いで、このポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから2回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後、ヘキサフルオロプロピレンとヒドロキシエチルビニルエーテルのモル比1:1のフッ素含有共重合体28gを得た。得られたフッ素含有共重合体の屈折率は1.406であった。
次に、該フッ素含有共重合体20gをN,N−ジメチルアセトアミド100mlに溶解し氷冷下、アクリル酸クロライド11.4gを滴下した後、室温にて10時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、水洗、有機層を抽出後、濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させた。以上により下記構造式で表わされるフッ素含有共重合体(PP−1)を19g得た。
得られたポリマーの数平均分子量(Mn)は3.1万であり、屈折率は1.421であった。
(Synthesis Example 4)
-Synthesis of fluorine-containing copolymer (PP-1)-
In an autoclave with a stirrer made of stainless steel having an internal volume of 100 ml, 40 ml of ethyl acetate, 14.7 g of hydroxyethyl vinyl ether and 0.55 g of dilauroyl peroxide were charged, and the inside of the system was deaerated and replaced with nitrogen gas. Furthermore, 25 g of hexafluoropropylene (HFP) was introduced into the autoclave and the temperature was raised to 65 ° C. The pressure when the temperature in the autoclave reached 65 ° C. was 0.54 MPa. The reaction was continued for 8 hours while maintaining the temperature, and when the pressure reached 0.32 MPa, the heating was stopped and the mixture was allowed to cool. When the internal temperature dropped to room temperature, unreacted monomers were driven out, the autoclave was opened, and the reaction solution was taken out.
The obtained reaction solution was poured into a large excess of hexane, and the polymer was precipitated by removing the solvent by decantation. The polymer was then dissolved in a small amount of ethyl acetate and the remaining monomer was completely removed by reprecipitation from hexane twice. After drying, 28 g of a fluorine-containing copolymer having a molar ratio of hexafluoropropylene and hydroxyethyl vinyl ether of 1: 1 was obtained. The refractive index of the obtained fluorine-containing copolymer was 1.406.
Next, 20 g of the fluorine-containing copolymer was dissolved in 100 ml of N, N-dimethylacetamide, and 11.4 g of acrylic acid chloride was added dropwise under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 10 hours. Ethyl acetate was added to the reaction solution, washed with water, and the organic layer was extracted and concentrated. The resulting polymer was reprecipitated with hexane. As a result, 19 g of a fluorine-containing copolymer (PP-1) represented by the following structural formula was obtained.
The number average molecular weight (Mn) of the obtained polymer was 31,000, and the refractive index was 1.421.
なお、後述する実施例で用いたフッ素含有ポリマー「P−38」、「P−30」についても同様の方法により合成することができる。 The fluorine-containing polymers “P-38” and “P-30” used in the examples described later can also be synthesized by the same method.
(合成例5)
−バインダー樹脂Aの合成−
特開2003−82043号公報の実施例1に記載の方法に従って、下記構造式で表されるバインダー樹脂Aを合成した。
即ち、冷却器、滴下ロート及び温度計付きの2リットルのフラスコに、トルエン40g、メチルエチルケトン40gをアゾ系の重合開始剤と共に仕込み、2−ヒドロキシメチルメタクリレート20.8g、メチルメタクリレート39.0g、イソボルニルメタクリレート45.0g、トルエン20g、及びメチルエチルケトン20gの混合液を滴下ロートで滴下させながら100℃の温度下で8時間反応させた後、室温まで冷却した。これに、2−イソシアネートエチルメタクリレート(昭和電工製、カレンズMOI(商品名))23.4g、トルエン20g、及びメチルエチルケトン20gの混合液を加えて、ラウリン酸ジブチル錫を触媒として付加反応させた。
得られた反応生成物のIR分析により、イソシアネートの吸収ピークの消失を確認し、反応を終了した。得られたバインダー樹脂A溶液の固形分は38.2質量%、質量平均分子量(Mw)はポリスチレン換算で30,000であり、炭素間二重結合(C=C)の導入量は12.5%であった。
(Synthesis Example 5)
-Synthesis of binder resin A-
A binder resin A represented by the following structural formula was synthesized according to the method described in Example 1 of JP-A-2003-82043.
That is, a 2-liter flask equipped with a condenser, a dropping funnel and a thermometer was charged with 40 g of toluene and 40 g of methyl ethyl ketone together with an azo polymerization initiator, 20.8 g of 2-hydroxymethyl methacrylate, 39.0 g of methyl methacrylate, A mixture of 45.0 g of nyl methacrylate, 20 g of toluene, and 20 g of methyl ethyl ketone was reacted at a temperature of 100 ° C. for 8 hours while being dropped with a dropping funnel, and then cooled to room temperature. A mixed liquid of 23.4 g of 2-isocyanatoethyl methacrylate (manufactured by Showa Denko, Karenz MOI (trade name)), 20 g of toluene, and 20 g of methyl ethyl ketone was added thereto, and an addition reaction was performed using dibutyltin laurate as a catalyst.
By IR analysis of the obtained reaction product, the disappearance of the absorption peak of isocyanate was confirmed, and the reaction was completed. The solid content of the obtained binder resin A solution was 38.2% by mass, the mass average molecular weight (Mw) was 30,000 in terms of polystyrene, and the introduction amount of carbon-carbon double bonds (C = C) was 12.5. %Met.
(実施例1)
−フッ素含有樹脂組成物の調製−
合成例1のフッ素含有共重合体「P−37」1質量部、硬化剤としてのDPHA(商品名、日本化薬社製、多官能硬化剤KAYARAD)94質量部、離型剤としてのRMS033(商品名、アズマックス社製 メタクリロイル変性シリコーンオイル)5質量部、及び光ラジカル重合開始剤としてのイルガキュア(IRG)907(商品名、チバスペシャリティーケミカル社製)5質量部を、メチルエチルケトンに30質量%(固形分)となるように溶解し、実施例1のフッ素含有樹脂組成物を調製した。
(Example 1)
-Preparation of fluorine-containing resin composition-
1 part by mass of the fluorine-containing copolymer “P-37” of Synthesis Example 1, 94 parts by mass of DPHA (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., polyfunctional curing agent KAYARAD) as a curing agent, RMS033 (as a release agent) Trade name, 5 parts by mass of Azmax methacryloyl-modified silicone oil) and 5 parts by mass of Irgacure (IRG) 907 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as photo-radical polymerization initiator were added to 30% by mass of methyl ethyl ketone ( The fluorine-containing resin composition of Example 1 was prepared.
(実施例2)
−フッ素含有樹脂組成物の調製−
合成例1のフッ素含有共重合体「P−37」1質量部、合成例5のバインダー樹脂A 64質量部、硬化剤としてのDPHA(商品名、日本化薬社製、多官能硬化剤KAYARAD)30質量部、離型剤としてのRMS033(商品名、アズマックス社製 メタクリロイル変性シリコーンオイル)5質量部、及び光ラジカル重合開始剤としてのイルガキュア(IRG)907(商品名、チバスペシャリティーケミカル社製)5質量部を、メチルエチルケトンに30質量%(固形分)となるように溶解し、実施例2のフッ素含有樹脂組成物を調製した。
(Example 2)
-Preparation of fluorine-containing resin composition-
1 part by mass of the fluorine-containing copolymer “P-37” of Synthesis Example 1, 64 parts by mass of Binder Resin A of Synthesis Example 5, DPHA as a curing agent (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., polyfunctional curing agent KAYARAD) 30 parts by mass, 5 parts by mass of RMS033 (trade name, methacryloyl-modified silicone oil manufactured by Asmax Co., Ltd.) as a release agent, and Irgacure (IRG) 907 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as a photo radical polymerization initiator 5 mass parts was melt | dissolved in methyl ethyl ketone so that it might become 30 mass% (solid content), and the fluorine-containing resin composition of Example 2 was prepared.
(実施例3)
−フッ素含有樹脂組成物の調製−
フッ素含有共重合体「P−38」1質量部、合成例5のバインダー樹脂A 64質量部、硬化剤としてのDPHA(商品名、日本化薬社製、多官能硬化剤KAYARAD)30質量部、離型剤としてのRMS033(商品名、アズマックス社製 メタクリロイル変性シリコーンオイル)5質量部、及び光ラジカル重合開始剤としてのイルガキュア(IRG)907(商品名、チバスペシャリティーケミカル社製)5質量部を、メチルエチルケトンに30質量%(固形分)となるように溶解し、実施例3のフッ素含有樹脂組成物を調製した。
(Example 3)
-Preparation of fluorine-containing resin composition-
1 part by mass of the fluorine-containing copolymer “P-38”, 64 parts by mass of the binder resin A of Synthesis Example 5, 30 parts by mass of DPHA (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., polyfunctional curing agent KAYARAD), 5 parts by mass of RMS033 (trade name, methacryloyl-modified silicone oil manufactured by Asmax Co., Ltd.) as a release agent and 5 parts by mass of Irgacure (IRG) 907 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as a photo radical polymerization initiator The fluorine-containing resin composition of Example 3 was prepared by dissolving in methyl ethyl ketone at 30% by mass (solid content).
(実施例4)
−フッ素含有樹脂組成物の調製−
フッ素含有共重合体「P−30」50質量部、硬化剤としてのDPHA(商品名、日本化薬社製、多官能硬化剤KAYARAD)45質量部、離型剤としてのRMS033(商品名、アズマックス社製 メタクリロイル変性シリコーンオイル)5質量部、及び光ラジカル重合開始剤としてのイルガキュア(IRG)907(商品名、チバスペシャリティーケミカル社製)5質量部を、メチルエチルケトンに30質量%(固形分)となるように溶解し、実施例4のフッ素含有樹脂組成物を調製した。
Example 4
-Preparation of fluorine-containing resin composition-
Fluorine-containing copolymer “P-30” 50 parts by mass, DPHA as a curing agent (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., polyfunctional curing agent KAYARAD) 45 parts by mass, RMS033 as a release agent (trade name, Azmax) 5 parts by mass of methacryloyl-modified silicone oil (trade name) and 5 parts by mass of Irgacure (IRG) 907 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as a photo radical polymerization initiator, and 30% by mass (solid content) in methyl ethyl ketone Thus, the fluorine-containing resin composition of Example 4 was prepared.
(実施例5)
−フッ素含有樹脂組成物の調製−
合成例4のフッ素含有共重合体「PP−1」70質量部、フッ素含有共重合体「P−38」1質量部、硬化剤としてのDPHA(商品名、日本化薬社製、多官能硬化剤KAYARAD)45質量部、離型剤としてのRMS033(商品名、アズマックス社製 メタクリロイル変性シリコーンオイル)5質量部、及び光ラジカル重合開始剤としてのイルガキュア(IRG)907(商品名、チバスペシャリティーケミカル社製)5質量部を、メチルエチルケトンに30質量%(固形分)となるように溶解し、実施例4のフッ素含有樹脂組成物を調製した。
(Example 5)
-Preparation of fluorine-containing resin composition-
70 parts by mass of the fluorine-containing copolymer “PP-1” of Synthesis Example 4, 1 part by mass of the fluorine-containing copolymer “P-38”, DPHA as a curing agent (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., multifunctional curing 45 parts by weight of the agent KAYARAD, 5 parts by weight of RMS033 (trade name, methacryloyl-modified silicone oil manufactured by Asmax Co., Ltd.) as a release agent, and Irgacure (IRG) 907 (trade name, Ciba Specialty Chemicals) as a radical photopolymerization initiator 5 parts by mass) were dissolved in methyl ethyl ketone so as to be 30% by mass (solid content) to prepare a fluorine-containing resin composition of Example 4.
(比較例1)
−フッ素含有樹脂組成物の調製−
合成例5のバインダー樹脂A 67質量部、硬化剤としてのDPHA(商品名、日本化薬社製、多官能硬化剤KAYARAD)28質量部、離型剤としてのKF−860(商品名、信越シリコーン株式会社製 アミノ変性シリコーンオイル)5質量部、及び光ラジカル重合開始剤としてのイルガキュア(IRG)184(商品名、チバスペシャリティーケミカル社製)5質量部を、メチルエチルケトンに30質量%(固形分)となるように溶解し、比較例1のフッ素含有樹脂組成物を調製した。
(Comparative Example 1)
-Preparation of fluorine-containing resin composition-
67 parts by mass of binder resin A in Synthesis Example 5, 28 parts by mass of DPHA (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., polyfunctional curing agent KAYARAD) as a curing agent, KF-860 (trade name, Shin-Etsu Silicone) as a release agent 30 parts by mass (solid content) of methyl ethyl ketone with 5 parts by mass of amino-modified silicone oil (trade name) and 5 parts by mass of Irgacure (IRG) 184 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as a photo-radical polymerization initiator The fluorine-containing resin composition of Comparative Example 1 was prepared.
(比較例2)
−フッ素含有樹脂組成物の調製−
合成例5のバインダー樹脂A 39質量部、硬化剤としてのDPHA(商品名、日本化薬社製、多官能硬化剤KAYARAD)17質量部、シリカ微粒子分散物としてのMEK−ST(商品名、日産化学工業社製 シリカ微粒子分散物)39質量部、離型剤としてのKF−860(商品名、信越シリコーン社製 アミノ変性シリコーンオイル)5質量部、及び光ラジカル重合開始剤としてのイルガキュア(IRG)184(商品名、チバスペシャリティーケミカル社製)5質量部を、メチルエチルケトンに30質量%(固形分)となるように溶解し、比較例2のフッ素含有樹脂組成物を調製した。
(Comparative Example 2)
-Preparation of fluorine-containing resin composition-
39 parts by mass of binder resin A in Synthesis Example 5, 17 parts by mass of DPHA (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., polyfunctional curing agent KAYARAD) as a curing agent, MEK-ST (trade name, Nissan as silica fine particle dispersion) Silica fine particle dispersion manufactured by Chemical Industry Co., Ltd.) 39 parts by mass, 5 parts by mass of KF-860 (trade name, amino-modified silicone oil manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) as a release agent, and Irgacure (IRG) as a photo radical polymerization initiator 5 parts by mass of 184 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) was dissolved in methyl ethyl ketone so as to be 30% by mass (solid content) to prepare a fluorine-containing resin composition of Comparative Example 2.
−反射防止フィルムの作製−
厚み100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上に実施例1〜5及び比較例1〜2の各フッ素含有樹脂組成物をバーコーターを用いて膜厚3μmになるように塗布した後、90℃にて5分間乾燥した。
次に、該フィルムの樹脂層塗布面上に、周期約250nm×高さ約250nmの円錐形状の周期的微細凹凸構造を有するNi材質のスタンパーを押し当て、1MPaの圧力をかけて1分間スタンパーとフィルムを圧接した後、PETフィルムの裏面から750mJ/cm2のエネルギーで紫外線を照射して樹脂層を硬化させた。その後、フィルムとスタンパーを剥離し、更に、窒素雰囲気下(酸素濃度0.1%)、樹脂層の表面から750mJ/cm2のエネルギーで紫外線を照射して、表面に微細凹凸構造の形成された実施例1〜5及び比較例1〜2の各反射防止フィルムを作製した。
-Production of antireflection film-
After applying each fluorine-containing resin composition of Examples 1-5 and Comparative Examples 1-2 on a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm to a thickness of 3 μm using a bar coater, at 90 ° C. Dry for 5 minutes.
Next, a stamper made of Ni material having a periodic fine concavo-convex structure of a cone shape having a period of about 250 nm × a height of about 250 nm is pressed on the resin layer application surface of the film, and a stamper is applied for 1 minute under a pressure of 1 MPa. After pressure-contacting the film, the resin layer was cured by irradiating ultraviolet rays with energy of 750 mJ / cm 2 from the back surface of the PET film. Thereafter, the film and the stamper were peeled off, and further, an ultraviolet ray was irradiated from the surface of the resin layer with an energy of 750 mJ / cm 2 in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration 0.1%) to form a fine uneven structure on the surface. Each antireflection film of Examples 1-5 and Comparative Examples 1-2 was produced.
<反射防止フィルムの性能評価>
得られた実施例1〜5及び比較例1〜2の反射防止フィルムについて、以下のようにして、鏡面平均反射率、耐傷性、指紋付着性、マジック付着性、表面張力、及びフッ素含有率を評価した。結果を表2に示す。
<Performance evaluation of antireflection film>
About the antireflection films of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 thus obtained, the mirror surface average reflectance, scratch resistance, fingerprint adhesion, magic adhesion, surface tension, and fluorine content were as follows. evaluated. The results are shown in Table 2.
(1)鏡面平均反射率
分光光度計(日本分光株式会社製、V−550)を用いて、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における分光反射率を測定し、450〜650nmの鏡面平均反射率で結果を表した。
(1) Specular Average Reflectance Using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, V-550), the spectral reflectance at an incident angle of 5 ° is measured in a wavelength region of 380 to 780 nm, and a specular surface of 450 to 650 nm. Results were expressed as average reflectance.
(2)耐傷性試験
膜表面をスチールウール#0000を用いて、200gの荷重下で10回擦った後、傷のつくレベルを下記の基準に従って評価した。
〔評価基準〕
◎・・・全く傷がつかない。
○・・・わずかに傷がついた。
△・・・細かい傷が目立つ。
×・・・傷が著しい。
(2) Scratch resistance test The film surface was rubbed 10 times under a load of 200 g using steel wool # 0000, and then the level of scratching was evaluated according to the following criteria.
〔Evaluation criteria〕
◎ ・ ・ ・ No scratches.
○ ・ ・ ・ Slightly scratched.
Δ: Fine scratches are noticeable.
X: Scratches are remarkable.
(3)指紋付着性評価
各反射防止フィルムを温度25℃、湿度60%RHで2時間調湿した後、反射防止フィルム表面に指紋を付着させてから、それをベンコットン(商品名、旭化成(株)製)で拭き取ったときの状態を観察して、以下のように指紋付着性を評価した。
〔評価基準〕
◎・・・簡単に指紋が拭き取れる。
〇・・・普通にふいて指紋が拭き取れる。
△・・・しっかり擦れば指紋が拭き取れる。
×・・・指紋が拭き取れずに残る。
(3) Fingerprint adhesion evaluation Each antireflection film was conditioned at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH for 2 hours, and then a fingerprint was attached to the surface of the antireflection film. The state when the product was wiped off was observed, and the fingerprint adhesion was evaluated as follows.
〔Evaluation criteria〕
◎ ・ ・ ・ Fingerprints can be easily wiped off.
〇 ... Wipe it normally to wipe off fingerprints.
Δ: Fingerprints can be wiped off by rubbing firmly.
X: Fingerprints remain without being wiped off.
(4)マジック付着性評価
各反射防止フィルムを温度25℃、湿度60%RHで2時間調湿した後、サンプル表面にマジック(マッキ−極細(商品名;ZEBRA株式会社製))を付着させてから、それをベンコットン(旭化成株式会社製)で拭き取ったときの状態を観察して、以下のようにマジック付着性を評価した。
〔評価基準〕
◎・・・簡単にマジックが拭き取れる。
〇・・・普通にふいてマジックが拭き取れる。
△・・・しっかり擦ればマジックが拭き取れる。
×・・・マジックが拭き取れずに残る。
(4) Magic adhesion evaluation Each antireflection film was conditioned at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH for 2 hours, and then a magic (Macchi-extra fine (trade name; manufactured by ZEBRA)) was attached to the sample surface. Then, the state when the cloth was wiped with Ben Cotton (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) was observed, and the magic adhesion was evaluated as follows.
〔Evaluation criteria〕
◎ ・ ・ ・ Magic can be easily wiped off.
〇 ・ ・ ・ Magic can be wiped off by wiping normally.
Δ: Magic can be wiped off by rubbing firmly.
X ... Magic remains without being wiped off.
(5)表面張力の測定
各フッ素含有樹脂組成物をバーコーターを用いて2μmの膜厚となるように厚さ100nmのPETフィルム上に塗布した後、窒素雰囲気下(酸素濃度0.1%)、750mJ/cm2のエネルギーで紫外線を照射して塗布膜を硬化させたサンプルを作製した。該サンプルについて、表面張力既知の水及びヨウ化メチレンの接触角を協和界面化学株式会社製接触角計 CA−DT・A型を用いて測定し、表面張力を求めた。
(5) Measurement of surface tension Each fluorine-containing resin composition was applied onto a PET film having a thickness of 100 nm using a bar coater so as to have a film thickness of 2 μm, and then in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration 0.1%). A sample was prepared by irradiating ultraviolet rays with an energy of 750 mJ / cm 2 to cure the coating film. About this sample, the contact angle of water and methylene iodide having a known surface tension was measured using a contact angle meter CA-DT • A manufactured by Kyowa Interface Chemical Co., Ltd. to determine the surface tension.
(6)フッ素含有率の測定
各反射防止フィルムの微細凹凸構造中のフッ素含有率は、X線光電子分光法(XPS)により、下記の測定装置及び測定条件に従って測定した。なお、フッ素原子は反射防止フィルムの表面から数nm程度の極表面の領域に存在していた。
〔測定装置及び測定条件〕
測定装置:1600S型X線光電子分光装置(PHI社製)
X線源 :MgKα(400W)
分析領域:0.8×2.0mm
前処理 :試料をアルミニウム製皿にのせて、表面を平滑にして測定した。
表面フッ素原子濃度の算出には、PHI社製の相対感度因子を用いた。なお、フッ素含有率の結果は、atomic%(原子個数%)である。
(6) Measurement of fluorine content The fluorine content in the fine concavo-convex structure of each antireflection film was measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) according to the following measuring apparatus and measurement conditions. In addition, the fluorine atom existed in the region of the extreme surface about several nm from the surface of the antireflection film.
[Measurement equipment and measurement conditions]
Measuring apparatus: 1600S type X-ray photoelectron spectrometer (PHI)
X-ray source: MgKα (400W)
Analysis area: 0.8 × 2.0mm
Pretreatment: The sample was placed on an aluminum dish and the surface was smoothed for measurement.
For calculation of the surface fluorine atom concentration, a relative sensitivity factor manufactured by PHI was used. The result of the fluorine content is atomic% (number of atoms%).
(実施例6)
−画像表示装置の作製−
得られた実施例1〜5及び比較例1〜2の各反射防止フィルムをパーソナルコンピューターPC9821NS/340W(日本電気株式会社製)の液晶ディスプレイ表面に貼り付け、画像表示装置サンプルを作成した。
(Example 6)
-Production of image display device-
The obtained antireflection films of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 2 were attached to the surface of a liquid crystal display of a personal computer PC9821NS / 340W (manufactured by NEC Corporation) to prepare an image display device sample.
作製した各画像表示装置サンプルの風景映り込み程度を目視にて評価した。その結果、実施例1〜5の反射防止フィルムを設けた画像表示装置は、周囲の風景映り込みが殆どなく、快適な視認性を示しかつ充分な防汚性を有するものであった。これに対し、比較例1〜2の反射防止フィルムを設けた画像表示装置は、周囲の映り込みは同様に低減できるものの防汚性に劣るものであった。 The degree of landscape reflection of each image display device sample produced was visually evaluated. As a result, the image display devices provided with the antireflection films of Examples 1 to 5 were hardly visible in the surrounding scenery, showed comfortable visibility, and had sufficient antifouling properties. On the other hand, the image display devices provided with the antireflection films of Comparative Examples 1 and 2 were inferior in antifouling property although the surrounding reflections could be similarly reduced.
本発明のフッ素含有樹脂組成物は、光学特性及び耐汚染性に優れた可視光波長以下の周期的微細凹凸構造を有する光学物品を製造するのに好適に用いられる。本発明の光学物品は、反射防止性能が高く、優れた耐汚染性を有するので、反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、光カード、光ディスク及び偏光分離素子等の種々の光学的用途に好適に用いられる。また、本発明の画像表示装置は、前記光学物品を配置しているので、視認性が良好であり、汚れがつきにくく高品質な画像を表することができ、特に液晶表示装置として好適である。
The fluorine-containing resin composition of the present invention is suitably used for producing an optical article having a periodic fine concavo-convex structure having a visible light wavelength or less that is excellent in optical properties and stain resistance. Since the optical article of the present invention has high antireflection performance and excellent anti-contamination properties, various optical articles such as an antireflection film, an antireflection film, an optical waveguide, a relief hologram, a lens, an optical card, an optical disk, and a polarization separation element are used. It is suitably used for optical applications. In addition, since the optical article is disposed in the image display device of the present invention, the visibility is good, and the image display device can display a high-quality image that is not easily soiled, and is particularly suitable as a liquid crystal display device. .
Claims (14)
−(CF2)nX 一般式(1)
ただし、前記一般式(1)中、Xは、フッ素原子又は水素原子を表す。nは、整数を表す。 The fluorine-containing resin composition according to claim 1, wherein the fluorine-containing compound has a fluoroalkyl group represented by the following general formula (1).
- (CF 2) n X Formula (1)
However, in said general formula (1), X represents a fluorine atom or a hydrogen atom. n represents an integer.
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